DE102007006192B4 - Method and device for determining a plurality of measured values - Google Patents
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Abstract
Verfahren zur Ermittlung einer Vielzahl von miteinander in Beziehung stehenden Messwerten, wobei – die einzelnen Messwerte M jeweils in Abhängigkeit eines Parameters P, der die Dimension n hat, ermittelt und als Datenpaare (M, P) gespeichert werden; – die Messwerte, die außerhalb eines wohldefinierten Qualitätsparameters liegen, als Ausreißer (4) identifiziert werden; wobei eine Glättungskurve (5) bestimmt wird, die die Datenpaare (M, P) in geeigneter Weise glättet, und der wohldefinierte Qualitätsparameter durch einen vorgegebenen Toleranzbereich der Glättungskurve definiert ist; – die Ausreißer (4) nachgemessen werden.Method for determining a plurality of interrelated measured values, wherein - the individual measured values M are respectively determined as a function of a parameter P having the dimension n and stored as data pairs (M, P); - the measured values which lie outside a well-defined quality parameter are identified as outliers (4); wherein a smoothing curve (5) is determined which smoothes the data pairs (M, P) appropriately, and the well-defined quality parameter is defined by a predetermined tolerance range of the smoothing curve; - the outliers (4) are measured.
Description
Die vorliegende Erfindung bezieht sich auf ein Verfahren sowie auf eine Vorrichtung zur Ermittlung einer Vielzahl von Messwerten, die miteinander in Beziehung stehen.The present invention relates to a method and a device for determining a plurality of measured values that are related to one another.
Bei dem Verfahren zur Herstellung einer Photomaske werden zunächst die erwünschten Strukturen auf der Photomaske durch allgemein bekannte Verfahren erzeugt. Bei einem sich anschließenden Inspektionsverfahren wird überprüft, ob die erzeugten Strukturen die vorgegebenen Anforderungen in Bezug auf beispielsweise die Strukturgröße erfüllen. Dies kann beispielsweise geschehen, indem die Linienbreite (”CD”, critical dimension) der erzeugten Linien jeweils in Abhängigkeit der Ortskoordinate gemessen wird. Üblicherweise wird die Linienbreite durch ein Rasterelektronenmikroskop gemessen. Dabei tritt bei ungefähr 3 bis 5% aller Messwerte eine Messungenauigkeit dadurch auf, dass der Elektronenstrahl defokussiert ist. Entsprechend treten bei der Messung Ausreißer auf. Üblicherweise ist es schwierig zu beurteilen, ob ungewöhnliche Messergebnisse auf das statistische Rauschen zurückzuführen sind oder tatsächlich fehlerhaft sind. Daher hat man herkömmlicherweise nach Durchführung einer Messung diese Ausreißer einzeln bestimmt und sodann verworfen.In the method of making a photomask, first, the desired patterns are formed on the photomask by well-known methods. In a subsequent inspection process, it is checked whether the structures produced meet the specified requirements in terms of, for example, the structure size. This can be done, for example, by measuring the line width ("CD", critical dimension) of the lines generated in each case as a function of the location coordinate. Usually, the line width is measured by a scanning electron microscope. At approximately 3 to 5% of all measured values, a measurement inaccuracy occurs because the electron beam is defocused. Accordingly, outliers occur during the measurement. It is usually difficult to judge whether unusual measurement results are due to statistical noise or are actually faulty. Therefore, conventionally, after performing a measurement, these outliers have been individually determined and then discarded.
Die
Der vorliegenden Erfindung liegt die Aufgabe zugrunde, ein verbessertes Verfahren bereitzustellen, durch das eine Vielzahl von miteinander in Beziehung stehenden Messwerten zuverlässig ermittelt werden kann.It is an object of the present invention to provide an improved method by which a plurality of interrelated measured values can be reliably determined.
Der vorliegenden Erfindung liegt ferner die Aufgabe zugrunde, eine entsprechende Vorrichtung zur Verfügung zu stellen.The present invention is also based on the object to provide a corresponding device.
Gemäß der vorliegenden Erfindung wird die Aufgabe durch ein Verfahren zur Ermittlung einer Vielzahl von miteinander in Beziehung stehenden Messwerten gelöst, bei dem die einzelnen Messwerte jeweils in Abhängigkeit eines Parameters P, der die Dimension n hat, ermittelt werden und als Datenpaare (M, P) gespeichert werden, die Messwerte, die außerhalb eines wohldefinierten Qualitätsparameters liegen, als Ausreißer identifiziert werden, und die Ausreißer nachgemessen werden.According to the present invention, the object is achieved by a method for determining a plurality of interrelated measured values, in which the individual measured values are respectively determined as a function of a parameter P having the dimension n and as data pairs (M, P). stored, the readings outside a well-defined quality parameter are identified as outliers, and the outliers are remeasured.
Gemäß der vorliegenden Erfindung wird eine Vielzahl von Messwerten, die miteinander in Beziehung stehen, ermittelt. Das heißt, die Messwerte stehen insofern miteinander in Beziehung, dass bereits eine Annahme besteht, wie groß der Messwert sein sollte. Bei einer Photomaske kann sich die Beziehung unter den Messwerten dadurch ergeben, dass die erzeugten Strukturen durch das selbe Herstellungsverfahren erzeugt worden sind und außerdem dieselben Größen aufweisen sollten. Bei einer Vielzahl von identischen Strukturen, die jeweils aus verschiedenen Proben erzeugt worden sind, ergibt sich die Beziehung dadurch, dass jeweils dieselbe Strukturgröße erzielt worden sein sollte, bzw. dass grobe Abweichungen der jeweiligen Strukturgrößen ebenfalls auf Ausreißer hinweisen. Eine derartige Beziehung kann sich ferner dann ergeben, wenn der Sollwert der Messgröße bekannt ist.According to the present invention, a plurality of measured values related to each other are detected. That is, the measured values are related to one another in that there is already an assumption as to how large the measured value should be. In a photomask, the relationship among the measured values may be that the produced structures are generated by the same manufacturing method and should also have the same sizes. In the case of a multiplicity of identical structures, which have been produced in each case from different samples, the relationship results from the fact that in each case the same structure size should have been achieved, or that large deviations of the respective feature sizes also indicate outliers. Such a relationship may also arise when the setpoint of the measurand is known.
Die einzelnen Messwerte werden jeweils in Abhängigkeit des Parameters P ermittelt. P kann beispielsweise, wenn verschiedene Strukturen auf einer einzigen Photomaske vermessen werden, die Ortskoordinate (x, y) oder (x, y, z) mit der Dimension 2 bzw. 3 sein. Wird jeweils die selbe Messgröße auf einer Vielzahl von verschiedenen Proben vermessen, so ist der Probenparameter P der Probenidentifikator PI und die Dimension des Parameters P ist gleich 1. Die Messwerte werden als Datenpaare (M, P) gespeichert. Beispielsweise können sie in geeigneter Weise aufgetragen werden, wobei eine (n + 1)-dimensionale Darstellung erhalten wird. Bei der Vermessung von Linienbreiten auf einer Photomaske ergibt sich beispielsweise eine dreidimensionale Darstellung von (x, y-Koordinate, CD).The individual measured values are determined in each case as a function of the parameter P. For example, if different structures are measured on a single photomask, P may be the spatial coordinate (x, y) or (x, y, z) of
Sodann wird eine Glättungskurve ermittelt, die die Datenpaare (M, P) in geeigneter Weise glättet. Wenn man sich vorstellt, dass sich die ermittelten Messwerte jeweils aus einem deterministischen Anteil und einem Rauschanteil zusammensetzen, so werden durch die Ermittlung der Glättungskurve wiederum Datenpaare (G, P) ermittelt, die den deterministischen Anteil der Messpaare wiedergeben. Stellt man sich das Verfahren bildlich vor, so wird die Glättungskurve über die (n + 1)-dimensionale Darstellung gelegt.Then, a smoothing curve is determined, which smoothes the data pairs (M, P) in a suitable manner. If one imagines that the measured values determined each consist of a deterministic portion and a noise component, the determination of the smoothing curve again determines pairs of data (G, P) which represent the deterministic portion of the pairs of measurements. If one imagines the process pictorially, then the smoothing curve is placed over the (n + 1) -dimensional representation.
Nachfolgend werden diejenigen Messwerte, die außerhalb eines wohldefinierten Qualitätsparameters liegen, identifiziert und nachgemessen. Der wohldefinierte Qualitätsparameter kann beispielsweise ein vorgegebener Toleranzbereich der Glättungskurve sein. Hierbei ist angenommen, dass durch die Vorgabe des Toleranzbereiches die übliche Messungenauigkeit d. h. das Rauschen erfasst werden kann. Alle Messwerte außerhalb dieser Glättungskurve werden nun dadurch identifiziert, dass sie außerhalb der Rauschtoleranz liegen. Nach der Erkennung werden sie nachgemessen. Entsprechend ist es möglich, durch ein automatisches Verfahren Ausreißer zu erkennen und sie durch die Messvorrichtung nachmessen zu lassen. Als Folge kann die Qualität der Messergebnisse besser beurteilt werden. Insbesondere werden letztendlich zuverlässigere Messergebnisse erhalten. Die Glättungskurve kann beispielsweise, je nach Dimension des Parameters, mit Hilfe eines TPS-Verfahrens, d. h. eines „thin plate spline”-Verfahrens oder eines Spline-Verfahrens ermittelt werden.Subsequently, those measured values which lie outside a well-defined quality parameter are identified and remeasured. The well-defined quality parameter may be, for example, a predetermined tolerance range of the smoothing curve. In this case, it is assumed that by specifying the tolerance range, the usual inaccuracy of measurement, ie the noise, can be detected. All readings outside this smoothing curve are now identified by being outside the noise tolerance. After recognition, they are measured. Accordingly, it is possible to detect outliers by an automatic procedure and to let them be measured by the measuring device. As a result, the quality of the measurement results can be better assessed. In particular, ultimately, more reliable Obtained measurement results. The smoothing curve can be determined, for example, depending on the dimension of the parameter, using a TPS method, ie a "thin plate spline" method or a spline method.
Wie vorstehend erwähnt, kann der wohldefinierte Qualitätsparameter ein vorgegebener Toleranzbereich der Glättungskurve sein. Der Qualitätsparameter kann jedoch auch weitere Qualitätsmerkmale umfassen. Beispielsweise kann er ein vorgegebener Toleranzbereich eines Referenzwertes sein. Der Referenzwert kann beispielsweise ein Sollwert sein. Der Qualitätsparameter kann jedoch auch ein vorgegebener Toleranzbereich einer Glättungskurve sein, die bei einer Referenz-Probe aufgenommen worden ist.As mentioned above, the well-defined quality parameter may be a predetermined tolerance range of the smoothing curve. However, the quality parameter may also include other quality characteristics. For example, it may be a predetermined tolerance range of a reference value. The reference value may be, for example, a desired value. However, the quality parameter may also be a predetermined tolerance range of a smoothing curve taken at a reference sample.
Die zu vermessende Größe kann dabei jede beliebige messbare Größe sein wie beispielsweise die Linienbreite (CD), die Lagegenauigkeit (registration), eine bestimmte Position, eine bestimmte Tiefe, das Transmissionsvermögen, eine Phasenverschiebung, ein Reflexionsvermögen oder eine Schichtdicke sein. Weiterhin kann die zu vermessende Größe aber auch eine zusammengesetzte Größe sein, die sich aus Größen zusammensetzt, die jeweils in der selben Messvorrichtung gemessen worden sind.The size to be measured can be any measurable size such as the line width (CD), the registration, a certain position, a certain depth, the transmittance, a phase shift, a reflectivity or a layer thickness. Furthermore, the size to be measured can also be a composite size, which is composed of sizes that have each been measured in the same measuring device.
Die vorliegende Erfindung stellt darüber hinaus eine Vorrichtung zur Ermittlung einer Vielzahl von Messwerten, die miteinander in Beziehung stehen, bereit, mit einer Messvorrichtung zum Messen einer Vielzahl von Messwerten jeweils in Abhängigkeit von einem Parameter P, der die Dimension n hat, einer Interpolationseinrichtung, die geeignet ist, die Messwerte in Abhängigkeit des Parameters P als Datenpaare (M, P) abzuspeichern, einer Entscheidungseinrichtung, die geeignet ist, die Messwerte, die außerhalb eines wohldefinierten Qualitätsparameters liegen, als Ausreißer zu identifizieren und die geeignet ist, der Messvorrichtung eine Information zu liefern, bezüglich welchen Parameter eine erneute Messung vorzunehmen ist, und einer Ausgabeeinrichtung, die geeignet ist eine Vielzahl von Messwerten in Abhängigkeit des Parameters P auszugeben.The present invention further provides an apparatus for acquiring a plurality of measured values related to each other, having a measuring device for measuring a plurality of measured values each in response to a parameter P having the dimension n, an interpolating device is suitable for storing the measured values as data pairs (M, P) as a function of the parameter P, a decision device which is capable of identifying the measured values which are outside a well-defined quality parameter as outliers and which is suitable for providing the measuring device with information in terms of which parameters a re-measurement is to be made, and an output device which is capable of outputting a plurality of measured values as a function of the parameter P.
Gemäß einer Ausführungsform der Erfindung kann die Interpolationseinrichtung geeignet sein, eine Glättungskurve zu ermitteln, die geeignet ist, die Datenpaare (M, P) in geeigneter Weise zu glätten, und der wohldefinierte Qualitätsparameter ist durch einen vorbestimmten Toleranzbereiches der Glättungskurve definiert.According to an embodiment of the invention, the interpolation means may be adapted to determine a smoothing curve suitable for smoothing the data pairs (M, P), and the well-defined quality parameter is defined by a predetermined tolerance range of the smoothing curve.
Die vorliegende Erfindung wird im Folgenden detailliert unter Bezugnahme auf die begleitenden Zeichnungen beschrieben werden. Es zeigen:The present invention will be described below in detail with reference to the accompanying drawings. Show it:
Wie sich aus der nachstehenden Beschreibung ergeben wird, ist es für die vorliegende Erfindung nicht erforderlich, dass sämtliche zu vermessende Strukturen sich auf ein und derselben Probe befinden. Es ist ebenso denkbar, dass ein und dieselbe Messgröße, die jeweils den selben Sollwert aufweisen sollte, auf eine Vielzahl von verschiedenen Proben bestimmt wird. Weiterhin ist, obwohl im vorliegenden Beispiel als Messgröße die Linienbreite beispielhaft angegeben ist, offensichtlich, dass die vorliegende Erfindung auf jede beliebige Messgröße angewendet werden kann. Beispiele umfassen alle möglichen Arten von Längen oder Tiefen oder Breiten, Schichtdicken oder andere physikalisch oder auch auf andere Weise messbare Größen.As will be apparent from the following description, it is not necessary for the present invention that all the structures to be measured are on the same sample. It is also conceivable that one and the same measured variable, which should each have the same nominal value, is determined on a multiplicity of different samples. Further, although the line width is exemplified as a measured quantity in the present example, it is obvious that the present invention can be applied to any measured quantity. Examples include all sorts of lengths or depths or widths, layer thicknesses, or other physically or otherwise measurable quantities.
Zur Durchführung des erfindungsgemäßen Verfahrens werden zunächst die einzelnen Messwerte jeweils ermittelt und in Abhängigkeit des Parameters P gespeichert. Dies kann beispielsweise in der in
Die vorliegende Erfindung ist nicht auf die Bestimmung einer Messgröße in Abhängigkeit der Ortskoordinate beschränkt. Beispielsweise kann auch die Abweichung eines Messwertes von einem Sollwert gegen den Sollwert aufgetragen werden, und diese Auftragung wird nach dem vorstehend beschriebenen Verfahren untersucht. Wie in
Weiterhin ist es gemäß der vorliegenden Erfindung möglich, dass ein und dieselbe Messgröße, die den selben Wert aufweisen sollte, auf einer Vielzahl von Proben vermessen werden soll. In diesem Fall ist der Parameter P der Probenidentifikator PI, d. h. beispielsweise die Nummer der Probe. Auch hier erfolgt die Ermittlung der Ausreißer
In der Interpolationseinrichtung
Claims (9)
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| DE102007006192.9A DE102007006192B4 (en) | 2007-02-07 | 2007-02-07 | Method and device for determining a plurality of measured values |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| DE102007006192.9A DE102007006192B4 (en) | 2007-02-07 | 2007-02-07 | Method and device for determining a plurality of measured values |
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| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| DE102007006192A1 DE102007006192A1 (en) | 2008-08-21 |
| DE102007006192B4 true DE102007006192B4 (en) | 2016-12-29 |
Family
ID=39627906
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| DE102007006192.9A Expired - Fee Related DE102007006192B4 (en) | 2007-02-07 | 2007-02-07 | Method and device for determining a plurality of measured values |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| DE (1) | DE102007006192B4 (en) |
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE102010011841B4 (en) * | 2010-03-11 | 2015-06-18 | Carl Zeiss Industrielle Messtechnik Gmbh | Method for validating a measurement result of a coordinate measuring machine |
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-
2007
- 2007-02-07 DE DE102007006192.9A patent/DE102007006192B4/en not_active Expired - Fee Related
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| Publication number | Publication date |
|---|---|
| DE102007006192A1 (en) | 2008-08-21 |
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