DE102006023232B4

DE102006023232B4 - Plasmaprozessleistungsversorgungssystem mit ereignisgesteuerter Datenspeicherung und Verfahren dazu

Info

Publication number: DE102006023232B4
Application number: DE102006023232A
Authority: DE
Inventors: Markus Winterhalter; Ekkehard Mann
Original assignee: Huettinger Elektronik GmbH and Co KG
Current assignee: Trumpf Huettinger GmbH and Co KG
Priority date: 2006-05-18
Filing date: 2006-05-18
Publication date: 2011-04-14
Anticipated expiration: 2026-05-19
Also published as: DE102006023232A1; US8190969B2; US20070294608A1

Abstract

Verfahren zur Datenspeicherung in einem Plasmaprozessleistungsversorgungssystem (1), bei dem
a. Daten des Plasmaprozessleistungsversorgungssystems (1), des Plasmaprozesses oder Umgebungsparameter in einem ersten Speicher (11) gespeichert werden;
b. Durch eine Auswerteeinrichtung (15) aus Signalen von Sensoren und/oder Messeinrichtungen der Eintritt eines vorgegebenen Ereignisses bestimmt wird;
c. Beim Erkennen des Eintritts des vorgegebenen Ereignisses oder nach Ablauf einer vorgegebenen Zeit nach Erkennen des Eintritts des vorgegebenen Ereignisses zumindest einige der in dem ersten Speicher (11) gespeicherten Daten in einem zweiten, größeren Speicher (13) gespeichert werden.

Description

Die Erfindung betrifft ein Verfahren zur Datenspeicherung in einem Plasmaprozessleistungsversorgungssystem und ein Plasmaprozessleistungsversorgungssystem.
Wenn neue Plasmaprozesse in Betrieb genommen werden und noch nicht viel Erfahrung mit den neuen Verhältnissen vorhanden ist, ist es wünschenswert, die Umstände beim Eintritt eines bestimmten Ereignisses und das Verhalten des Plasmaprozesses beim Eintritt des Ereignisses analysieren zu können, um so gezielt nach Fehlern suchen zu können und den Prozess entwickeln und optimieren zu können. Dies kann beispielsweise dadurch erfolgen, dass Daten, die mit dem Plasmaprozess zusammenhängen, erfasst werden.
Aus der US 6,868,310 B2 ist ein vorherschauendes Fehlererkennungssystem für ein Leistungssystem bekannt. Das Leistungssystem umfasst mehrere Module, die mit einem Systemmonitor verbunden sind. Der Systemmonitor sammelt Daten über die Betriebsparameter jedes Moduls und Umgebungsgrößen. Die Daten werden durch den Systemmonitor analysiert, um in Abhängigkeit von den Parametern Ereignisse zu definieren. Die Parameter werden dann mit einem Regelsatz verglichen, um zu bestimmen, ob eine Warnung oder eine Fehleranzeige generiert werden soll. Die Datenmenge, die an den Systemmonitor übertragen werden kann, steht und fällt mit der Qualität der Datenausgabeschnittstelle der Module. Ein Prozess kann daher unter Umständen nur unzureichend analysiert werden.
Insbesondere ist in der US 6,868,310 B2 eine Datenerfassung zu Prozessanalyse nicht angedacht.
Aus der US 6,776,872 B2 ist es bekannt, mit einem Plasmaprozess im Zusammenhang stehende Parameter, beispielsweise Temperatur der Vakuumkammer, Plasmadichte etc. mittels Sensoren zu erfassen. Diese Sensordaten sowie weitere die zu bearbeitenden Waver betreffenden Daten werden in einer Datenbank gespeichert. Eine Kopie dieser Daten wird in einem zweiten Speicher gespeichert. Die kopierten Daten werden durch eine Auswerteeinrichtung analysiert. Das Kopieren der Daten erfolgt, wenn ein Datensammler gerade nicht beansprucht wird, jedes Mal wenn Daten von einem Sensor erhalten werden oder wenn die Bearbeitung eines Wavers beendet ist.
Aus der DE 102 60 614 A1 ist es bekannt, mit einer Echtzeitmessungs-Analyseeinrichtung Lerndaten zu erzeugen. Die Lerndaten werden an eine Plasmaparameter-Steuereinrichtung übertragen. Diese kann Prozesslaufdaten mit den Lerndaten vergleichen und Plasmaparameter-Steuersignale auf der Basis des Vergleichsergebnisses erzeugen. Die Lerndaten werden während einer spezifischen Lernperiode erzeugt, bevor ein Erzeugungsprozess startet. Alternativ können Lerndaten kontinuierlich während des Herstellungsprozesses erzeugt werden.
Aufgabe der vorliegenden Erfindung ist es, ein Verfahren und ein Plasmaprozessleistungsversorgungssystem bereitzustellen, die eine schnelle Prozessentwicklung eines Vakuumplasmaprozesses ermöglichen.
Diese Aufgabe wird erfindungsgemäß gelöst durch ein Verfahren mit den Merkmalen des Anspruchs 1.
Die Verwendung eines kleinen Speichers hat den Vorteil, dass dieser relativ schnell beschrieben werden kann. Dies bedeutet, dass Daten mit einer hohen (zeitlichen) Auflösung gespeichert werden können. Viele dieser Daten sind jedoch unwichtig und können überschrieben werden. Es ist häufig nicht notwendig, alle diese Daten permanent zu speichern. Deshalb ist es auch nicht notwendig, alle diese Daten an einen externen, großen Speicher zu übergeben. Bei der Auswertung von Daten (zu speichernde Daten, gespeicherte Daten oder auch aktuelle, nicht für eine Speicherung vorgesehene Daten) kann es jedoch zu Ereignissen kommen, die dazu führen, dass eine Aktion vom Plasmaprozessleistungsversorgungssystem, insbesondere dessen Generator, ausgeführt werden muss. Beispielsweise kann vorgesehen sein, dass der Generator bei einem Kurzschluss oder beim Auftreten eines Arcs im Plasmaprozess die Leistungsabgabe unterbricht oder drosselt. Wenn die Umstände, die zu dem Kurzschluss führten oder die zu einem Arc führten, analysiert werden sollen, so ist es vorteilhaft, wenn Daten, insbesondere Daten des Plasmaprozessleistungsversorgungssystems, des Plasmaprozesses oder Umgebungsparameter, die in zeitlicher Nähe zu dem Ereignis stehen, übertragen werden. Diese Daten können dann auch zu einem späteren Zeitpunkt verwendet werden, um die Umstände des Ereignisses zu analysieren. Die Erfindung betrifft also eine ereignisgesteuerte Datenspeicherung.
Sämtliche Daten fortlaufend zu übertragen ist nicht realistisch, da damit die Schnittstellen überfordert sind. Die Schnittstellen sind für derartige Datenmengen – jedenfalls heutzutage – zu langsam.
Besondere Vorteile ergeben sich, wenn der erste Speicher ein flüchtiger Speicher ist und der zweite Speicher ein permanenter Speicher ist. Die Daten in einem flüchtigen Speicher können sehr schnell gespeichert werden und der flüchtige Speicher ist kostengünstig. Die Daten in dem flüchtigen Speicher können jedoch verloren gehen, wenn das System abgeschaltet wird. Es ist daher vorteilhaft, wichtige in dem ersten Speicher gespeicherte Daten an einen permanenten Speicher, der beim Ausschalten des Systems nicht gelöscht wird, zu übergeben.
Bei einer Verfahrensvariante kann vorgesehen sein, dass die Daten von einer Steuerung in dem ersten Speicher gespeichert werden. Durch die Steuerung kann ausgewählt werden, welche Daten gespeichert werden. Außerdem können bereits durch die Steuerung verarbeitete und ermittelte Daten gespeichert werden, die für die Analyse eines Ereignisses notwendig sein können.
Eine besonders bevorzugte Verfahrensvariante sieht vor, dass in dem ersten Speicher Daten in vorgegebenen zeitlichen Abständen gespeichert werden, insbesondere in Abständen ≤ 50 ms, vorzugsweise ≤ 20 ms. Dadurch lässt sich der Ablauf eines Vorgangs im Plasmaprozess beziehungsweise im Plasmaprozessleistungsversorgungssystem abspeichern und anschließend analysieren. Insbesondere ist es möglich, eine große Anzahl von Daten pro Zeiteinheit, also Daten mit einer hohen zeitlichen Dichte, über die Historie eines Ereignisses (und möglicherweise auch das Verhalten nach Eintritt des Ereignisses) zu speichern.
Besonders bevorzugt ist es, wenn die Daten in dem ersten Speicher nach dem FIFO-Prinzip gespeichert werden. Dadurch wird sichergestellt, dass die Daten in der zeitlichen Reihenfolge in den zweiten Speicher geschrieben werden, in der sie auch aufgezeichnet wurden und so chronologisch zur Verfügung stehen.
Besonders bevorzugt ist es, wenn der erste Speicher als Ringspeicher ausgebildet ist. Dies bedeutet, dass der Speicherplatz und dadurch auch die Datenmenge gering gehalten werden kann. Dadurch wird sichergestellt, dass die jeweils aktuellsten Daten beim Eintritt des Ereignisses zur Verfügung stehen.
In einem Ringspeicher sind Daten nur eine begrenzte Zeit verfügbar, wenn die kontinuierliche Speicherung von Daten nicht unterbrochen wird. Bei bestimmten Ereignissen, beispielsweise Unterbrechung der Leistungsabgabe eines Generators an einen Plasmaprozess, wird eine Steuerung die Daten im Ringspeicher nicht weiter überschreiben, da eine weitere Aufzeichnung keinen Sinn machen würde. Bei anderen Ereignissen, beispielsweise beim Erkennen eines Arcs, wird aber die Leistungsabgabe nach einer kurzen Unterbrechung wieder fortgesetzt und mit der Beschreibung des Ringspeichers fortgefahren. In solchen Fällen ist auf die Daten im Ringspeicher nur solange ein Zugriff möglich, solange dieser nicht wieder überschrieben wird. Deshalb ist es von Vorteil, wenn beim oder nach Eintritt des Ereignisses die Daten des Ringspeichers in den zweiten Speicher gespeichert werden, so dass sie auch später noch für eine Analyse verfügbar sind.
Besonders vorteilhaft ist es, wenn die Daten des ersten Speichers erst nach Ablauf einer vorgegebenen Zeit nach Erkennen des Eintritts des vorgegebenen Ereignisses an den zweiten Speicher übermittelt und in dem zweiten Speicher gespeichert werden. Dadurch ist es möglich, in dem ersten Speicher auch noch nach Eintritt des Ereignisses Daten aufzunehmen und diese dann zusammen mit den Daten vor Eintritt des Ereignisses an den zweiten Speicher zu übermitteln. Dadurch ist es dann nicht mehr nur möglich, zu ermitteln, was zu dem Ereignis geführt hat, sondern auch zu ermitteln, was das Ereignis bewirkt hat. Somit lässt sich die Reaktion des Systems und/oder des Plasmaprozesses auf das Ereignis bestimmen. Diese Information kann dann für die weitere Prozessentwicklung verwendet werden.
Bei einer Verfahrensvariante kann vorgesehen sein, dass der Eintritt eines vorgegebenen Ereignisses bestimmt wird, indem die Signale der Sensoren und/oder Messeinrichtungen mit einem Auswertealgorithmus ausgewertet werden und das Ergebnis der Auswertung mit einem oder mehreren vorgegebenen Ereignissen verglichen wird. Die Daten können dabei von Sensoren stammen, beispielsweise zur Spannungs- und Stromüberwachung an verschiedenen Stellen eines Generators, von einer Leistungsmessung mit Hilfe von Richtkopplern, Phasenmessungen etc. Weiterhin können Daten von Sensoren berücksichtigt werden, die außerhalb des Generators liegen, beispielsweise Spannungs-, Strom- und Phasensensoren in unmittelbarer Nähe einer Plasmakammer, vor, nach oder in einem Anpassungsglied zwischen einem Generator und einer Plasmakammer. Externe Sensoren können auch Lichtsensoren und Drucksensoren in oder an der Plasmakammer sein. Die vorgegebenen Ereignisse sind vorzugsweise solche Ereignisse, die zu einer Aktion seitens des Generators führen.
Besonders bevorzugt ist es, wenn die vorgegebenen Ereignisse einstellbar sind. Es können somit nicht nur fest (beispielsweise werksseitig) vorgegebene Ereignisse analysiert werden, sondern es können durch einen Benutzer auch Ereignisse definiert werden, deren Eintritt dann überprüft wird.
Wenn die vorgegebenen Ereignisse klassifizierbar sind, können auch Ereignisse definiert werden, die ”gerade noch zu keiner Aktion” führen. Dadurch können beispielsweise die Häufigkeit und die Umstände des Eintretens eines ”Beinahe-Ereignisses” ermittelt werden. Ein Ereignis kann beispielsweise auch eine Sollwertänderung sein.
Die Datenablage kann erleichtert werden, wenn die Daten zu Datensätzen zusammengefasst werden. Beispielsweise können im ersten Speicher alle zu einem Zeitpunkt ermittelten Daten zu einem Datensatz zusammengefasst werden. Mehrere solcher Datensätze können dann beim Eintritt des Ereignisses zusammen an den zweiten Speicher übertragen werden. Alle diese zu einem Ereignis gehörenden Daten können dann im zweiten Speicher zu einem übergeordneten Datensatz zusammengefasst werden. Dies ermöglicht es wiederum, Datensätze nach Ereignissen geordnet abzulegen und zu analysieren.
Eine genauere Analyse kann erfolgen, wenn die Daten mit einem Zeitstempel abgespeichert werden. Ein Zeitstempel kann zusammen mit den Daten in einem Datensatz abgelegt werden. Weiterhin ist es denkbar, einen Datensatz mit einem Zeitstempel zu versehen.
Bei einer bevorzugten Verfahrensvariante kann vorgesehen sein, dass der Beginn und/oder das Ende der Datenspeicherung in dem ersten Speicher konfigurierbar sind. Der Beginn und das Ende der Speicherung kann beispielsweise durch externe Ereignisse ausgelöst werden, beispielsweise durch eine Sollwertänderung der Leistungsabgabe des Generators des Plasmaprozessleistungsversorgungssystems.
Weitere Vorteile ergeben sich, wenn eine Datenmenge vor und/oder nach dem Eintritt des vorgegebenen Ereignisses, die in dem zweiten Speicher gespeichert wird, eingestellt wird. Dadurch lassen sich die Abläufe vor und nach dem Eintritt eines Ereignisses mit hoher Genauigkeit erfassen.
In den Rahmen der Erfindung fällt außerdem ein Plasmaprozessleistungsversorgungssystem mit den Merkmalen des Anspruchs 10. Bei der Steuerung kann es sich um die Steuerung eines Leistungsgenerators des Plasmaprozessleistungsversorgungssystems handeln. Je nach Ausgestaltung des Leistungsgenerators kann es sich bei dem Plasmaprozessleistungsversorgungssystem um ein Hochfrequenz-(HF), Mittelfrequenz-(MF) oder Gleichstrom-(DC) Plasmaprozessleistungsversorgungssystem handeln. Die Datenübertragungsverbindung kann ein- oder bidirektional sein. Weiterhin kann sie als Draht- oder drahtlose Verbindung, beispielsweise Funk- oder optische Verbindung, ausgebildet sein. Die Sensoren können interne Größen des Plasmaprozessleistungsversorgungssystems, einschließlich der Plasmakammer, oder Umgebungsgrößen erfassen. Insbesondere kann es sich um Sensoren handeln, die dem Generator, der Verbindung zwischen Generator und Plasmakammer oder der Plasmakammer zugeordnet sind. Der Plasmakammer können beispielsweise Licht- und/oder Drucksensoren zugeordnet sein.
Es ist eine Auswerteeinrichtung vorgesehen, die aus den Signalen der Sensoren und/oder Messeinrichtungen den Eintritt eines vorgegebenen Ereignisses ermittelt. Nur wenn ein solches Ereignis eintritt, werden die Daten vom ersten Speicher in den zweiten Speicher übergeben. Dadurch kann die Datenmenge, die in dem zweiten Speicher gespeichert wird, begrenzt werden.
Besonders bevorzugt ist es, wenn der erste Speicher ein flüchtiger Speicher und der zweite Speicher ein nicht-flüchtiger Speicher ist. Indern flüchtigen Speicher können Daten mit einer hohen zeitlichen Auflösung relativ schnell, d. h. in geringen zeitlichen Abständen, gespeichert werden. Nicht benötigte Daten werden relativ schnell wieder überschrieben. Nur benötigte, für die Bewertung eines Ereignisses interessante Daten werden an den zweiten Speicher übermittelt, wo sie auch über einen längeren Zeitraum gespeichert werden können und beispielsweise erst nach Beendigung eines Testlaufs eines Plasmaprozesses analysiert werden können.
Vorzugsweise ist der erste Speicher ein Ringspeicher (FIFO-Speicher). Dadurch werden die ältesten Daten jeweils durch die neuesten Daten überschrieben. Auf diese Art und Weise können die Daten unmittelbar vor und/oder unmittelbar nach Eintritt eines Ereignisses gespeichert und ausgelesen werden.
Bei einer bevorzugten Ausführungsform kann vorgesehen sein, dass der zweite Speicher Bestandteil eines externen Plasmaprozessüberwachungssystems ist. Dadurch ist es zum einen möglich, von dem Plasmaprozessleistungsversorgungssystem entfernt eine Analyse der Daten durchzuführen und zum anderen kann dadurch sichergestellt werden, dass bei einer Abschaltung des Plasmaprozessleistungsversorgungssystems die Daten in dem zweiten Speicher nicht verloren gehen.
Gemäß einer Weiterbildung kann vorgesehen sein, dass das Plasmaprozessüberwachungssystem ein Computer mit Festplatte ist. Dabei kann es sich um einen so genannten PC, der an ein Stromversorgungsnetz angeschlossen ist, oder einen batterie- oder akkubetriebenen Computer, beispielsweise ein so genanntes Laptop oder Notebook, handeln.
Die Analyse der Daten kann mit einer hohen Genauigkeit erfolgen, wenn Mittel zur Vorgabe von Ereignissen und/oder zur Klassifizierung von Ereignissen und/oder zur Konfiguration eines Speichermodus des ersten Speichers und/oder zur Bestimmung der im zweiten Speicher zu speichernden Datenmenge vor und nach Eintritt des vorgegebenen Ereignisses vorgesehen sind.
Weitere Merkmale und Vorteile der Erfindung ergeben sich aus der nachfolgenden Beschreibung von Ausführungsbeispielen der Erfindung, anhand der Figuren der Zeichnung, die erfindungswesentliche Einzelheiten zeigen, und aus den Ansprüchen. Die einzelnen Merkmale können je einzeln für sich oder zu mehreren in beliebiger Kombination bei einer Variante der Erfindung verwirklicht sein.
Bevorzugte Ausführungsbeispiele der Erfindung sind in der Zeichnung schematisch dargestellt und werden nachfolgend mit Bezug zu den Figuren der Zeichnung näher erläutert. Es zeigt:
1 eine schematische Darstellung eines Plasmaprozessleistungsversorgungssystems;
2 eine schematische Darstellung eines Verfahrensablaufs.
In der 1 ist ein Plasmaprozessleistungsversorgungssystem 1 gezeigt, welches einen Leistungsgenerator 2 umfasst, der an ein Spannungsversorgungsnetz 3 angeschlossen ist. Der Leistungsgenerator 2 generiert Leistung zur Versorgung eines Plasmaprozesses, der in einer Plasmakammer 4 abläuft. Die Plasmakammer 4 weist eine oder mehrere Elektroden 5 auf. Zur Anpassung der Impedanz des Plasmaprozesses an den Leistungsgenerator 2 ist ein Impedanzanpassungsnetzwerk 6 zwischen den Leistungsgenerator 2 und die Plasmakammer 4 geschaltet. In dem Plasmaprozessleistungsversorgungssystem 1 sind mehrere Sensoren beziehungsweise Messeinrichtungen vorgesehen. Beispielsweise können Sensoren 7 im Impedanzanpassungsnetzwerk 6 vorgesehen sein oder können Messeinrichtungen 8 zur Messung des Stroms, der Spannung und/oder der Leistung, die in die Plasmakammer 4 geliefert werden, vorgesehen sein. Weiterhin können Sensoren 9 an der Plasmakammer 4 selbst vorgesehen sein. Die von den Sensoren 7, 9 beziehungsweise Messeinrichtungen 8 aufgenommenen Daten werden an eine Steuerung 10 des Leistungsgenerators 2 übermittelt, wobei die Leistungsabgabe durch die Steuerung 10 anhand der aufgenommenen Daten gesteuert und/oder geregelt werden kann. Im Leistungsgenerator 2, insbesondere in dessen Steuerung 10, ist ein erster Speicher 11 vorgesehen, der als Ringspeicher ausgebildet ist. Dies bedeutet, dass die neuesten Daten jeweils die ältesten im Speicher 11 gespeicherten Daten überschreiben. Die im ersten Speicher 11 gespeicherte Datenmenge ist somit begrenzt. Vorzugsweise handelt es sich bei dem ersten Speicher um einen flüchtigen Speicher, dessen Dateninhalt beim Abschalten des Leistungsgenerators 2 verloren gehen kann.
Ein Plasmaprozessüberwachungssystems 12 weist einen zweiten Speicher 13 auf, der als permanenter Speicher ausgebildet ist. Zwischen dem ersten Speicher 11 und dem zweiten Speicher 13 besteht eine Datenübertragungsverbindung 14, die zumindest eine Übertragung von Daten von dem ersten Speicher 11 an den zweiten Speicher 13 erlaubt. Im Plasmaprozessüberwachungssystem 12 kann eine Analyse der im zweiten Speicher 13 gespeicherten Daten erfolgen. Im Leistungsgenerator 2, insbesondere in dessen Steuerung 10, ist weiterhin eine Auswerteeinrichtung 15 vorgesehen, die ermittelt, ob ein vorgegebenes Ereignis eingetreten ist. Nur wenn dies der Fall ist, werden die Daten von dem ersten Speicher 11 an den zweiten Speicher 13 übermittelt. Es handelt sich also um eine ereignisgesteuerte Datenspeicherung.
In der 2 ist ein Verfahrensablauf schematisch dargestellt. In einem ersten Schritt 20 werden Daten von Sensoren 7, 9 beziehungsweise Messeinrichtungen 8 aufgenommen. Diese Daten beziehungsweise ein Teil dieser Daten wird in einem ersten Speicher 11 gemäß Schritt 21 gespeichert. Im Schritt 22 wird ermittelt, ob ein im Schritt 23 vorgegebenes Ereignis eingetreten ist. Bejahendenfalls wird im Schritt 24 eine Datenübermittlung vom Speicher 11 an den Speicher 13 durchgeführt.
Anschließend können im Schritt 25 die im zweiten Speicher 13 gespeicherten Daten analysiert und ausgewertet werden.

Claims

Verfahren zur Datenspeicherung in einem Plasmaprozessleistungsversorgungssystem (1), bei dem a. Daten des Plasmaprozessleistungsversorgungssystems (1), des Plasmaprozesses oder Umgebungsparameter in einem ersten Speicher (11) gespeichert werden; b. Durch eine Auswerteeinrichtung (15) aus Signalen von Sensoren und/oder Messeinrichtungen der Eintritt eines vorgegebenen Ereignisses bestimmt wird; c. Beim Erkennen des Eintritts des vorgegebenen Ereignisses oder nach Ablauf einer vorgegebenen Zeit nach Erkennen des Eintritts des vorgegebenen Ereignisses zumindest einige der in dem ersten Speicher (11) gespeicherten Daten in einem zweiten, größeren Speicher (13) gespeichert werden.
Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, dass die Daten von einer Steuerung (10) in dem ersten Speicher (11) gespeichert werden.
Verfahren nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass in dem ersten Speicher (11) Daten in vorgegebenen zeitlichen Abständen gespeichert werden.
Verfahren nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass die Daten in dem ersten Speicher (11) nach dem FIFO-Prinzip gespeichert werden.
Verfahren nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass der Eintritt eines vorgegebenen Ereignisses bestimmt wird, indem die Signale der Sensoren und/oder Messeinrichtungen mit einem Auswertealgorithmus ausgewertet werden und das Ergebnis der Auswertung mit einem oder mehreren vorgegebenen Ereignissen verglichen wird.
Verfahren nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass die Daten zu Datensätzen zusammengefasst werden.
Verfahren nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass die Daten mit einem Zeitstempel abgespeichert werden.
Verfahren nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass der Beginn und/oder das Ende der Datenspeicherung in dem ersten Speicher (11) konfigurierbar ist.
Verfahren nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass eine Datenmenge vor und/oder nach dem Eintritt des vorgegebenen Ereignisses, die in dem zweiten Speicher (13) gespeichert wird, eingestellt wird.
Plasmaprozessleistungsversorgungssystem mit einer Steuerung (10), die mit einem oder mehreren Sensoren (7, 9) und/oder Messeinrichtungen (8) in Verbindung steht, einem ersten Speicher (11) und einem zweiten Speicher (13), wobei zwischen dem ersten Speicher (11) und dem zweiten Speicher (13) eine Datenübertragungsverbindung (14) vorgesehen ist, über die ereignisabhängig Daten aus dem ersten Speicher (11) in den zweiten Speicher (13) übermittelt werden, wobei eine Auswerteeinrichtung (15) vorgesehen ist, die aus den Signalen der Sensoren (7, 9) und/oder Messeinrichtungen (8) den Eintritt eines vorgegebenen Ereignisses ermittelt, das zur Übermittlung der Daten aus dem ersten Speicher (11) in den zweiten Speicher (13) führt.
Plasmaprozessleistungsversorgungssystem nach Anspruch 10, dadurch gekennzeichnet, dass der erste Speicher (11) ein flüchtiger Speicher und der zweite Speicher (13) ein nichtflüchtiger Speicher ist.
Plasmaprozessleistungsversorgungssystem nach einem der Ansprüche 10 oder 11, dadurch gekennzeichnet, dass der erste Speicher (11) ein Ringspeicher ist.
Plasmaprozessleistungsversorgungssystem nach einem der vorhergehenden Ansprüche 10–12, dadurch gekennzeichnet, dass der zweite Speicher (13) Bestandteil eines externen Plasmaprozessüberwachungssystems (12) ist.
Plasmaprozessleistungsversorgungssystem nach Anspruch 13, dadurch gekennzeichnet, dass das Plasmaprozessüberwachungssystem (12) ein Computer mit Festplatte ist.