DE10153273A1 - Niederohmiger elektrischer Widerstand und Verfahren zur Herstellung solcher Widerstände - Google Patents
Niederohmiger elektrischer Widerstand und Verfahren zur Herstellung solcher WiderständeInfo
- Publication number
- DE10153273A1 DE10153273A1 DE2001153273 DE10153273A DE10153273A1 DE 10153273 A1 DE10153273 A1 DE 10153273A1 DE 2001153273 DE2001153273 DE 2001153273 DE 10153273 A DE10153273 A DE 10153273A DE 10153273 A1 DE10153273 A1 DE 10153273A1
- Authority
- DE
- Germany
- Prior art keywords
- resistance
- resistors
- resistor
- strips
- layer
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Withdrawn
Links
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 title claims abstract description 31
- 239000002184 metal Substances 0.000 title claims abstract description 31
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 title claims abstract description 15
- 239000000956 alloy Substances 0.000 title claims abstract description 15
- 238000000034 method Methods 0.000 claims abstract description 26
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims abstract description 13
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 claims abstract description 8
- 239000011888 foil Substances 0.000 claims abstract description 7
- 238000000926 separation method Methods 0.000 claims abstract description 7
- 239000010949 copper Substances 0.000 claims description 16
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 14
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 claims description 14
- 230000001681 protective effect Effects 0.000 claims description 14
- 238000005520 cutting process Methods 0.000 claims description 11
- 239000004922 lacquer Substances 0.000 claims description 5
- 238000000151 deposition Methods 0.000 claims description 4
- 230000008021 deposition Effects 0.000 claims description 4
- 229910000881 Cu alloy Inorganic materials 0.000 claims 1
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 14
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 9
- 239000002313 adhesive film Substances 0.000 description 7
- ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N Tin Chemical compound [Sn] ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229920002120 photoresistant polymer Polymers 0.000 description 4
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000012790 adhesive layer Substances 0.000 description 2
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 2
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 2
- 238000001465 metallisation Methods 0.000 description 2
- 238000004080 punching Methods 0.000 description 2
- 230000006641 stabilisation Effects 0.000 description 2
- 238000011105 stabilization Methods 0.000 description 2
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 1
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 1
- 229910002065 alloy metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011324 bead Substances 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 238000003698 laser cutting Methods 0.000 description 1
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 1
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000000206 photolithography Methods 0.000 description 1
- 230000002787 reinforcement Effects 0.000 description 1
- 238000007650 screen-printing Methods 0.000 description 1
- 238000005476 soldering Methods 0.000 description 1
- 238000005494 tarnishing Methods 0.000 description 1
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01C—RESISTORS
- H01C17/00—Apparatus or processes specially adapted for manufacturing resistors
- H01C17/003—Apparatus or processes specially adapted for manufacturing resistors using lithography, e.g. photolithography
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01C—RESISTORS
- H01C1/00—Details
- H01C1/14—Terminals or tapping points or electrodes specially adapted for resistors; Arrangements of terminals or tapping points or electrodes on resistors
- H01C1/142—Terminals or tapping points or electrodes specially adapted for resistors; Arrangements of terminals or tapping points or electrodes on resistors the terminals or tapping points being coated on the resistive element
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01C—RESISTORS
- H01C17/00—Apparatus or processes specially adapted for manufacturing resistors
- H01C17/28—Apparatus or processes specially adapted for manufacturing resistors adapted for applying terminals
- H01C17/281—Apparatus or processes specially adapted for manufacturing resistors adapted for applying terminals by thick film techniques
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01C—RESISTORS
- H01C7/00—Non-adjustable resistors formed as one or more layers or coatings; Non-adjustable resistors made from powdered conducting material or powdered semi-conducting material with or without insulating material
- H01C7/003—Thick film resistors
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01C—RESISTORS
- H01C7/00—Non-adjustable resistors formed as one or more layers or coatings; Non-adjustable resistors made from powdered conducting material or powdered semi-conducting material with or without insulating material
- H01C7/06—Non-adjustable resistors formed as one or more layers or coatings; Non-adjustable resistors made from powdered conducting material or powdered semi-conducting material with or without insulating material including means to minimise changes in resistance with changes in temperature
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01R—MEASURING ELECTRIC VARIABLES; MEASURING MAGNETIC VARIABLES
- G01R1/00—Details of instruments or arrangements of the types included in groups G01R5/00 - G01R13/00 and G01R31/00
- G01R1/20—Modifications of basic electric elements for use in electric measuring instruments; Structural combinations of such elements with such instruments
- G01R1/203—Resistors used for electric measuring, e.g. decade resistors standards, resistors for comparators, series resistors, shunts
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Electromagnetism (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Apparatuses And Processes For Manufacturing Resistors (AREA)
- Non-Adjustable Resistors (AREA)
Abstract
Zur Herstellung niederohmiger elektrischer Widerstände aus einem Blech aus einer metallischen Widerstandslegierung wird auf eine Vielzahl photolithographisch definierter paralleler Streifen, die sich mit gleichmäßigen gegenseitgen Abständen über die gesamte Blechoberfläche erstrecken, galvanisch ein die Anschlusskontakte der Widerstände bildendes Metall abgeschieden. Zum Vereinzeln der Widerstände wird das galvanisierte Blech längs senkrecht zueinander verlaufender Schnittebenen zersägt, von denen die Schnittebenen der einen Gruppe jeweils einen der Anschlusskontaktstreifen in deren Längsrichtuntg zerteilen.
Description
- Die Erfindung betrifft einen niederohmigen elektrischen Widerstand und ein Verfahren zu seiner Herstellung gemäß dem Oberbegriff der unabhängigen Patentansprüche. Insbesondere handelt es sich um niederohmige Präzisionswiderstände für Strommesszwecke in SMD- oder Chipbauweise.
- Bei einem aus der EP 0841668 A1 bekannten Verfahren zum Herstellen von SMD-Messwiderständen mit Widerstandswerten im Milliohmbereich wird zunächst ein Laminat aus einem als Substrat dienenden Kupferblech, einer Folie aus einer Widerstandslegierung auf Cu-Basis und einer zwischen ihnen befindlichen wärmeleitenden Klebefolie gebildet. Auf der freien Oberseite der Legierungsfolie werden dann Anschlusskontaktbereiche für die einzelnen Widerstände photolithographisch definiert, galvanisch verkupfert und mit Nickel überzogen. Nach der galvanischen Metallisierung wird die eigentliche Struktur der Widerstände und ihrer Anschlusskontakte durch Ätzen erzeugt. Die Widerstandsstruktur kann die übliche Vierpol- und/oder Mäanderform haben. Das Vereinzeln der Widerstände kann mit einer Laserschneidanlage oder vorzugsweise durch Zerbrechen der Klebefolie nach beidseitigem Durchätzen der Metallschichten längs der vorgesehenen Trennlinien erfolgen. Dieses bekannte Verfahren ist relativ aufwendig. Vor allem aber ist es kaum möglich, durch das bisher notwendige Ätzen Widerstände mit genau definierten Widerstandswerten zu erzeugen. Besonders schwierig ist es, auf die Legierungsfolie aufgalvanisierte Anschlusskontakte durch Ätzen zu strukturieren, ohne das darunter befindliche Legierungsmetall anzugreifen, wobei die Präzision außerdem durch die für das Ätzen typische undefinierte Form der Stirnflächen der Anschlusskontakte beeinträchtigt wird, die nicht genau senkrecht zur Oberfläche, sondern mehr oder weniger konkav bis in die Legierungsoberfläche verlaufen.
- Bei einem anderen, aus der EP 0484756 B1 bekannten Verfahren zum Herstellen von SMD-Messwiderständen werden Anschlusskontakte einer auf ein Substrat geklebten, in üblicher Weise strukturierten Widerstandsfolie ggf. nach einer galvanischen Vorverzinnung der Anschlussbereiche als Paste im Siebdruckverfahren auf die Folie aufgebracht und dann in kompakte "Perlen" umgeschmolzen. Auch hier kann der gewünschte präzise Widerstandswert nur durch anschließendes Abgleichen erreicht werden. Das Vereinzeln dieser Widerstände erfolgt in der Praxis durch Stanzen, wie es auch bei vergleichbaren weiteren bekannten Bauelementen üblich ist.
- Der Erfindung liegt die Aufgabe zugrunde, ein Verfahren zum Herstellen von Präzisionswiderständen der betrachteten Art anzugeben, das einfacher ist als vergleichbare bekannte Verfahren und insbesondere die Bildung der Anschlusskontakte ohne Ätzen ermöglicht.
- Diese Aufgabe wird durch das in den Patentansprüchen angegebene Verfahren gelöst.
- Erfindungsgemäß können mit wenigen einfachen Arbeitsgängen Präzisionswiderstände im Milliohm-Bereich hergestellt werden, die mit Widerstandstoleranzen von maximal ± 5% keinen nachträglichen Abgleich erfordern. Weder die Anschlusskontakte noch die Legierungsbereiche müssen geätzt werden, womit die Nachteile der ätztechnischen Strukturierung vermieden werden, nämlich die Ausbildung auslaufender, nicht senkrechter Ätzflanken, die zu großen Schwankungen des Widerstandswertes und schlechter Reproduzierbarkeit führen.
- Vorteilhaft wirkt sich aus, dass erfindungsgemäß nach fotolithografischer Definition der Abscheidungsflächen die vergleichsweise dicken Kupfer-Kontaktschichten sehr genau galvanisch abgeschieden werden können, wobei insbesondere die zu der Hauptfläche des Bleches bzw. einer die Widerstandslage bildenden Folie senkrechte Ausbildung und die Position der dem aktiven Widerstandsbereich zugewandten Flanken wichtig sind.
- Die zweite Voraussetzung zur erfindungsgemäßen Herstellung genauer Widerstände ist die Erzeugung einer definierten Breite. Vorzugsweise wird dies durch Zersägen der galvanisierten Widerstandslage erreicht.
- Durch das Sägen ergibt sich eine wesentlich höhere Genauigkeit und Reproduzierbarkeit der Widerstände als bei anderen Trennverfahren wie Ätzen, Stanzen und z. B. auch bei der an sich ebenfalls möglichen Verwendung von Lasern. Außerdem kann durch das Sägen die Anzahl der bei einer gegebenen Nutzfläche herstellbaren Widerstände maximiert werden.
- Das Verfahren eignet sich u. a. für die Herstellung extrem niederohmiger Widerstände beispielsweise im Bereich von etwa 0,5 mΩ bis 5 mΩ in großen Stückzahlen, doch können auch Widerstände mit noch niedrigeren oder mit höheren Widerstandswerten hergestellt werden, z. B. 0,01-50 mΩ. Bei einer modifizierten Bauform mit besonders dünnen Widerstandsfolien kann der Widerstandswert auch problemlos noch weiter angehoben werden, z. B. bis auf 100 mΩ. Die Widerstände sind darüber hinaus flexibel und können je nach gewünschter Belastbarkeit fast beliebig groß oder klein hergestellt werden. Da der erfindungsgemäß hergestellte Widerstand im Wesentlichen nur aus Metall besteht und die bei den erwähnten bekannten Verfahren verwendete organische Kleberschicht entweder ganz entfällt oder, soweit vorhanden, keine Wärme ableiten muss, hat er den Vorteil hoher Temperaturbeständigkeit und hoher Belastbarkeit. In den für diesen Widerstand typischen Anwendungsfällen genügt es, die Verlustwärme über die Anschlusskontakte abzuleiten, beispielsweise in eine Schaltungsplatte, auf deren Oberfläche die Widerstände gemäß der SMD-Technik montiert werden.
- An den in der Zeichnung dargestellten Ausführungsbeispielen wird die Erfindung näher erläutert. Es zeigen
- Fig. 1 die verschiedenen Schritte oder Stufen des Verfahrens;
- Fig. 2 eine schematische schrägbildliche Darstellung eines erfindungsgemäß hergestellten Widerstands, und
- Fig. 3 eine modifizierte Bauform des Widerstands.
- Gemäß Fig. 1A) wird im ersten Verfahrensschritt ein blankes rechteckiges Blech 1 aus einer metallischen Widerstandslegierung mit eine Photoresistschicht 2 bedeckt, die in der bei der Photolithographie üblichen Weise durch eine Photomaske (nicht dargestellt) belichtet werden kann. Das Blech 1 kann in praktischen Fällen eine Nutzfläche von z. B. etwa 300 × 400 mm haben und zwischen 0,1 und 1 mm dick sein. Es besteht vorzugsweise aus einer der bewährten Widerstandslegierungen auf Cu-Basis wie z. B. CuMn12Ni od. dgl.
- Im nächsten Schritt gemäß Fig. 1B) wird in ebenfalls an sich bekannter Weise durch partielles Entfernen die photolithographische Struktur der Photoresistschicht 2 gebildet. Diese als Abdeckmaske dienende Struktur besteht aus einer Vielzahl sich über die gesamte Breite oder Länge der in der Zeichnung oberen Oberfläche des Bleches 1 oder wenigstens der zu nutzenden Oberfläche erstreckender paralleler Streifen 2', die in der Regel die gleiche Breite und gleiche, über die gesamte Streifenlänge gleichbleibende gegenseitige Abstände haben.
- Vor, nach oder gleichzeitig mit der photolithographischen Strukturierung der Photoresistschicht 2 wird die Unterseite des Bleches 1 mit einer Schutzfolie 3 bedeckt, die bei der anschließenden Galvanisierung eine Metallisierung der Blechunterseite verhindert.
- Fig. 1C) zeigt die Verfahrensstufe nach der galvanischen Abscheidung von Kupfer auf den zwischen den Streifen 2' der Abdeckmaske frei gelassenen Blechstreifen. Die abgeschiedenen Kupferstreifen 4 erstrecken sich folglich ebenfalls mit untereinander gleicher Breite und gleichen, über die gesamte Streifenlänge gleichbleibenden gegenseitigen Abständen über die gesamte Breite oder Länge der Nutzenoberfläche des Bleches 1.
- In der Verfahrensstufe gemäß Fig. 1D) sind die Photoresiststreifen 2' entfernt und durch Schutzlack ersetzt worden. Die Schutzlackstreifen 5 können beispielsweise von Hand durch Spachteln oder Rakeln aufgebracht werden. Sie verhindern eine Metallisierung der zwischen den Kupferstreifen 4 liegenden Bereiche des Bleches 1 bei einer nachfolgenden galvanischen Verstärkung der Kupferstreifen und schützen im übrigen später ebenso wie die Schutzfolie 3 die Oberfläche des Legierungsbereiches des fertigen Widerstands.
- Gemäß Fig. 1E) kann auf den Kupferstreifen 4 galvanisch weiteres Kupfer zur Verstärkung der Kontakte und/oder ein zusätzliches Metall abgeschieden werden. Durch eine Zinnschicht 6 auf der Kupferoberfläche wird diese vor Anlaufen geschützt und das spätere Auflöten des Widerstands auf eine Schaltungsplatte od. dgl. erleichtert. Die Streifen 4 mit der Zinnschicht 6 bilden die Anschlusskontakte der zu erzeugenden einzelnen Widerstände.
- Nun können die insoweit bereits fertig gestellten Präzisionswiderstände vereinzelt werden. Zu diesem Zweck wird das mit den Anschlusskontakten versehene Blech 1 längs senkrecht zu der Blechoberfläche und senkrecht zueinander verlaufender Gruppen von Schnittebenen zertrennt. Die Schnittebenen der einen dieser beiden Gruppen verlaufen parallel zu den Kupferstreifen 4 und somit zu einem der Ränder des Bleches 1 durch das gesamte Blech und liegen jeweils in der Mitte eines der Kupferstreifen 4, die dadurch jeweils in zwei gleiche Streifenteile zertrennt werden, längs der Pfeile 7 in Fig. 1E) und in Figur F). In Figur F) ist als letzte oder vorletzte Verfahrensstufe der vereinzelte Widerstand oder ein noch längs der zweiten Gruppe von Schnittebenen zu zerteilender Streifen dargestellt. Die Schnittebenen der zweiten Gruppe verlaufen parallel zu dem anderen Blechrand ebenfalls durch das gesamte Blech längs der seitlichen Ränder der einzelnen Widerstände.
- Diese Vereinzelung der Widerstände erfolgt am besten durch Zersägen an den einzelnen Schnittebenen. Das Sägen hat den Vorteil, dass sehr präzise die jeweils gewünschten Abmessungen der Widerstände mit zu der Blechebene genau senkrechten ebenen Schnittflächen gewährleistet werden können. Hierfür geeignete Präzisionssägemaschinen, die z. B. optisch mit dem galvanisierten Blech ausgerichtet (referenziert) werden können und mit hoher Genauigkeit im µm-Bereich arbeiten, sind an sich bekannt und im Handel erhältlich. Das Blech wird zum Zersägen zweckmäßig auf eine Unterlage geklebt, von deren Klebeschicht die vereinzelten Widerstände dann problemlos gelöst werden können. Zweckmäßig wird das galvanisierte Blech zunächst längs einer der beiden Gruppen von Schnittebenen in einzelne Streifen zersägt, die dann ihrerseits zur Bildung der einzelnen Widerstände zersägt werden. Je nach Art der Sägemaschine könnten theoretisch auch mehrere Streifen gleichzeitig abgesägt bzw. zersägt werden. Aus einem Blech mit dem oben als Beispiel erwähnten Nutzen von ca. 300 × 400 mm lassen sich auf die hier beschriebene Weise mehrere 10 000 Widerstände aussägen.
- Der nach dem letzten Verfahrensschritt entstandene einzelne Widerstand ist schematisch (nicht maßstabsgetreu) in Fig. 2 dargestellt. Der fertige Widerstand besteht aus dem rechteckigen Legierungsblechstück 1', an dessen entgegengesetzten Enden die rechteckigen Anschlusskontakte 4' und 4" mit den Zinnschichten 6', 6" aufgalvanisiert sind. Die durch das galvanische Abschneiden von Kupfer ggf. in mehreren Schichten gebildeten Anschlusskontakte sind vorzugsweise relativ dick, u. a. um guten Eingang und Ausgang des Stroms in die bzw. aus der Legierung zu gewährleisten. Beispielsweise kann die Dicke des Kupfers ungefähr 50-100 µm betragen.
- Wie ersichtlich ist, hat der Widerstand an den genannten entgegengesetzten Enden ebene Stirnflächen 7 der Anschlusskontakte und des Blechstücks 1' selbst, die genau senkrecht zu der Blechebene miteinander fluchten. Dasselbe gilt für die beiden seitlichen Stirnflächen 8 der Anschlusskontakte und des Blechstücks 1'. Zwischen den Anschlusskontakten befindet sich die Schutzlackschicht 5', während die den Kontakten abgewandte Oberfläche des Widerstands noch von der Schutzfolie 3' bedeckt sein kann.
- Der in Fig. 3 dargestellte modifizierte Widerstand unterscheidet sich von der Bauform nach Fig. 2 nur dadurch, dass anstelle des mit der Schutzfolie 3' bedeckten relativ dicken Blechstücks 1' eine wesentlich dünnere Widerstandsfolie 11 verwendet worden ist, die auf einer als Schutzfolie dienenden doppelseitig klebenden Klebefolie 13 befestigt worden ist. Die Widerstandsfolie 11, deren Dicke weniger als 100 µm z. B. bis herunter zu 20 µm betragen kann, ist zum Zweck der Handhabbarkeit, d. h. zur mechanischen Stabilisierung mittels der Schutz- und Klebefolie 13 auf einem Substrat 18 fixiert worden, bei dem es sich beispielsweise um ein 0,5 mm dickes Aluminiumblech handeln kann.
- Die Anschlusskontakte 14 mit den Zinnschichten 16 und die Schutzlackschicht 15 entsprechen der Ausführungsform nach Fig. 2, und auch die Herstellung des modifizierten Widerstands erfolgt im Wesentlichen nach dem anhand von Fig. 1 beschriebenen Verfahren mit der Maßgabe, dass im Schritt gemäß Fig. 1A anstelle des relativ dicken Bleches 1 das aus der dünnen Widerstandsfolie 11, der doppelseitigen Klebefolie 13 und dem Substrat 18 bestehende Laminat verwendet wird, wobei die Klebefolie 13 und das Substrat 18 die Schutzfolie 3 ersetzen können. Die Werte der auf diese Weise hergestellten Widerstände können typisch in der Größenordnung von 50 oder auch 100 mΩ liegen.
- Anstelle des aufgeklebten Aluminiumsubstrats 18 könnte die Handhabbarkeit einer ggf. sehr dünnen Widerstandsfolie wie der Folie 11 in Fig. 3 auch durch ein zur mechanischen Stabilisierung der Folie geeignetes nichtmetallisches Substrat ermöglicht werden, so dass sich ein Widerstand ergibt, der bis auf das dünnere Folienstück anstelle des Blechstücks 1' und das dickere nichtmetallische Substrat anstelle der Schutzfolie 3' dem Ausführungsbeispiel nach Fig. 2 entspricht (bzw. dem Ausführungsbeispiel nach Fig. 3, in dem die Klebefolie 13 und das Substrat 18 durch eine einzige Substratschicht ersetzt sind, auf die die Widerstandsfolie 11 aufgeklebt sein kann).
Claims (13)
1. Niederohmiger elektrischer Widerstand, bestehend aus
einem flachen rechteckigen Metallstück (1', 11) aus einer
Widerstandslegierung und auf die eine Hauptfläche des
Metallstücks an entgegengesetzten Enden aufgalvanisierten
Anschlusskontakten (4', 4", 14),
wobei die Stirnflächen (7) des Metallstücks (1', 11) und
der Anschlusskontakte (4', 4", 14) an diesen Enden und die
senkrecht zu diesen Stirnflächen (7) angrenzenden Seitenflächen
(8) des Metallstücks (1') und der Anschlusskontakte (4', 4",
14) jeweils senkrecht zu der Ebene der Hauptfläche des
Metallstücks (1', 11)miteinander fluchten.
2. Widerstand nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet,
dass sein Widerstandswert zwischen etwa 0,5 mΩ und etwa 5,0 mΩ
beträgt.
3. Widerstand nach Anspruch 1 oder 2, dadurch
gekennzeichnet, dass das Metallstück eine Folie (11) ist, die auf ihrer
den Anschlusskontakten (14) abgewandten Seite auf einem
Substrat (18) befestigt ist.
4. Widerstand nach Anspruch 3, dadurch gekennzeichnet,
dass die Folie (11) weniger als 100 µm dick ist.
5. Widerstand nach Anspruch 3 oder 4, dadurch
gekennzeichnet, dass sein Widerstandswert größer als 10 mΩ und
vorzugsweise größer als 50 mΩ ist.
6. Verfahren zur Herstellung niederohmiger elektrischer
Widerstände, bei dem auf photolithographisch definierte
Bereiche einer aus einer metallischen Widerstandslegierung in Form
eines Bleches (1) oder einer Folie (11) bestehenden Lage
galvanisch ein Metall zur Bildung von Anschlusskontakten (4) für
eine Vielzahl einzelner Widerstände abgeschieden und die mit den
Anschlusskontakten (4) versehene Lage (1, 11) in die einzelnen
Widerstände zerteilt wird, gekennzeichnet durch die
Verfahrensschritte
- photolithographische Erzeugung einer Abdeckmaske, die
durch eine Vielzahl sich über die eine Oberfläche der
Lage (1, 11) erstreckender paralleler Streifen (2') mit
gleichmäßigen gegenseitigen Abständen gebildet wird;
- Galvanisierung der Lage (1, 11) nur auf ihrer die
Abdeckmaske tragenden Oberfläche zur Abscheidung des
Anschlusskontaktmetalls auf den zwischen den parallelen
Maskenstreifen (2') liegenden Widerstandsstreifen; und
- Zertrennen der galvanisierten Lage (1, 11) längs
senkrecht zu deren Oberfläche und senkrecht zueinander
verlaufender Gruppen von Schnittebenen, von denen die einen
Schnittebenen (7) parallel zu den
Anschlusskontaktstreifen (4) je einen der Anschlusskontaktstreifen
zertrennen, während die anderen Schnittebenen die Widerstände
an ihren quer zu den Anschlusskontaktstreifen (4)
verlaufenden Rändern voneinander trennen.
7. Verfahren nach Anspruch 6, dadurch gekennzeichnet, dass
die galvanisierte Lage (1, 11) zum Vereinzeln der Widerstände
zersägt wird.
6. Verfahren nach Anspruch 6 oder 7, dadurch
gekennzeichnet, dass vor der Galvanisierung die Rückseite der Lage (1) mit
einer Schutzfolie (3) bedeckt wird.
9. Verfahren nach einem der Ansprüche 6 bis 8, dadurch
gekennzeichnet, dass nach der Abscheidung des
Anschlusskontaktmetalls die Maskenstreifen (2') entfernt und an ihrer Stelle ein
Schutzlack (5) aufgebracht wird.
10. Verfahren nach einem der Ansprüche 6 bis 9, dadurch
gekennzeichnet, dass auf die Anschlusskontaktstreifen (4) vor
dem Vereinzeln der Widerstände galvanisch mindestens eine
zusätzliche Schicht (6) aus demselben Metall oder aus einem
anderen Metall aufgebracht wird.
11. Verfahren nach einem der Ansprüche 6 bis 10, dadurch
gekennzeichnet, dass ein Blech (1) oder eine Folie (11) aus
einer Cu-Legierung zur Bildung der Anschlusskontaktstreifen
verkupfert wird und die Kupferstreifen (4) verzinnt werden.
12. Verfahren nach einem der Ansprüche 6 bis 11, dadurch
gekennzeichnet, dass Länge, Breite und Dicke der nach dem
Vereinzeln der Widerstände verbleibenden Blechstücke (1') und
der gegenseitige Abstand der verbleibenden Anschlusskontakte
(4', 4 ") für Widerstandswerte zwischen etwa 0,1 mΩ und etwa
5 mΩ bemessen werden.
13. Verfahren nach einem der Ansprüche 6 bis 11, dadurch
gekennzeichnet, dass die Abdeckmaske auf einer aus der
Widerstandslegierung bestehenden, weniger als 100 µm dicken Folie
erzeugt wird, die durch Befestigung auf einem Substrat (18)
handhabbar gemacht wird, und dass Länge, Breite und Dicke der
nach dem Vereinzeln der Widerstände verbleibenden Folienstücke
(11) für Widerstandswerte von mehr als 10 mΩ und vorzugsweise
mehr als 50 mΩ bemessen werden.
Priority Applications (5)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| DE2001153273 DE10153273A1 (de) | 2001-10-29 | 2001-10-29 | Niederohmiger elektrischer Widerstand und Verfahren zur Herstellung solcher Widerstände |
| ES02015940T ES2229026T3 (es) | 2001-08-10 | 2002-07-17 | Resistencia electrica de baja impedancia y procedimiento para su fabricacion. |
| DE2002501270 DE50201270D1 (de) | 2001-08-10 | 2002-07-17 | Niederohmiger elektrischer Widerstand und Verfahren zur Herstellung solcher Widerstände |
| AT02015940T ATE279779T1 (de) | 2001-08-10 | 2002-07-17 | Niederohmiger elektrischer widerstand und verfahren zur herstellung solcher widerstände |
| EP02015940A EP1283528B1 (de) | 2001-08-10 | 2002-07-17 | Niederohmiger elektrischer Widerstand und Verfahren zur Herstellung solcher Widerstände |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| DE2001153273 DE10153273A1 (de) | 2001-10-29 | 2001-10-29 | Niederohmiger elektrischer Widerstand und Verfahren zur Herstellung solcher Widerstände |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| DE10153273A1 true DE10153273A1 (de) | 2003-05-08 |
Family
ID=7704052
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| DE2001153273 Withdrawn DE10153273A1 (de) | 2001-08-10 | 2001-10-29 | Niederohmiger elektrischer Widerstand und Verfahren zur Herstellung solcher Widerstände |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| DE (1) | DE10153273A1 (de) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US9796348B2 (en) | 2011-07-28 | 2017-10-24 | Continental Teves Ag & Co. Ohg | Circuit for conducting an electric current |
-
2001
- 2001-10-29 DE DE2001153273 patent/DE10153273A1/de not_active Withdrawn
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US9796348B2 (en) | 2011-07-28 | 2017-10-24 | Continental Teves Ag & Co. Ohg | Circuit for conducting an electric current |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| DE2810054C2 (de) | Elektronische Schaltungsanordnung und Verfahren zu deren Herstellung | |
| DE4339551C1 (de) | Widerstand in SMD-Bauweise und Verfahren zu seiner Herstellung sowie Leiterplatte mit solchem Widerstand | |
| DE112006002516B4 (de) | Chip-Widertand und Befestigungsstruktur für einen Chip-Widerstand | |
| DE4310288B4 (de) | Oberflächenmontierbarer Widerstand | |
| DE69416550T2 (de) | Elektronisches Vielschichtbauteil, Verfahren zu seiner Herstellung und Verfahren zur Messung seiner Charakteristiken | |
| DE1965546C3 (de) | Halbleiterbauelement | |
| EP1941520B1 (de) | Widerstand, insbesondere smd-widerstand, und zugehöriges herstellungsverfahren | |
| DE69525868T2 (de) | Elektrische Verbindungsstruktur | |
| DE19536463A1 (de) | Laserdiodenbauelement mit Wärmesenke | |
| EP0046975A2 (de) | Elektrisches Netzwerk und Verfahren zu seiner Herstellung | |
| DE112009001287T5 (de) | Widerstand | |
| DE19927948A1 (de) | Chipthermistoren und Verfahren zum Herstellen derselben | |
| EP3599636A1 (de) | Keramischer schaltungsträger und elektronikeinheit | |
| EP0193127A1 (de) | Filmmontierter Schaltkreis und Verfahren zu seiner Herstellung | |
| DE102004002030A1 (de) | Verbundmaterial und Verfahren zu dessen Herstellung | |
| EP0519200B1 (de) | Verbindung von LLCCC-Bauelementen für die Raumfahrtelektronik | |
| EP0841668B1 (de) | Elektrischer Widerstand und Verfahren zu seiner Herstellung | |
| EP1371273A1 (de) | Verbund aus flächigen leiterelementen | |
| DE69837636T2 (de) | Herstellungsverfahren von elektronischen Komponenten | |
| DE20117650U1 (de) | Oberflächenmontierbarer elektrischer Widerstand | |
| DE19808932C2 (de) | Leiterplatte | |
| EP0234487B1 (de) | Dünnschichtschaltung und ein Verfahren zu ihrer Herstellung | |
| DE3545527A1 (de) | Flexible elektrische verbindungsvorrichtung und verfahren zu ihrer herstellung | |
| DE69227859T4 (de) | Verfahren zur Herstellung einer Verpackung zur Unterbringung von elektronischen Elementen | |
| EP1283528B1 (de) | Niederohmiger elektrischer Widerstand und Verfahren zur Herstellung solcher Widerstände |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| 8139 | Disposal/non-payment of the annual fee |