DE1012378B - Halbleiteranordnung mit p-n-UEbergang - Google Patents
Halbleiteranordnung mit p-n-UEbergangInfo
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- DE1012378B DE1012378B DES38554A DES0038554A DE1012378B DE 1012378 B DE1012378 B DE 1012378B DE S38554 A DES38554 A DE S38554A DE S0038554 A DES0038554 A DE S0038554A DE 1012378 B DE1012378 B DE 1012378B
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- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
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- H01J37/02—Details
- H01J37/04—Arrangements of electrodes and associated parts for generating or controlling the discharge, e.g. electron-optical arrangement or ion-optical arrangement
- H01J37/147—Arrangements for directing or deflecting the discharge along a desired path
- H01J37/15—External mechanical adjustment of electron or ion optical components
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- H10P14/61—
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- H10W74/131—
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- H10W74/43—
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- Formation Of Insulating Films (AREA)
Description
DEUTSCHES
Die bekannten Anordnungen mit p-n-Übergang oder mehreren p-n-Übergängen, z. B. Flächenrichtleiter,
Flächentransistoren, z. B. mit p-n-p- oder n-p-n-Übergängen, oder auch Spitzentransistoren mit mindestens
zwei auf die Oberfläche des Halbleiterkristalls aufgesetzten Emitter- und Kollektorelektroden haben den
Nachteil, daß die Oberflächenisolation dieser Einrichtungen an den p-n-Übergängen mit der Zeit absinkt.
Dies scheint daher zu rühren, daß sich allmählich die Oberfläche mit einer Feuchtigkeitsschicht überzieht.
Diese Wirkung tritt auch dann ein, wenn der Halbleiterkörper in ein Schutzgehäuse eingebaut ist oder
mit einer Isolationsschicht überzogen ist. Die Feuchtigkeit dringt auch durch kleinste Risse einer sonst
gut elektrisch isolierenden und an sich feuchtigkeitsundurchlässigen Schutzschicht hindurch. Der Erfindung
liegt die Erkenntnis zugrunde, daß das Ausbreiten einer Feuchtigkeitsschicht an den p-n-Übergängen
besonders dadurch begünstigt wird, daß an diesen Stellen bei elektrischer Belastung der Anordnung
hohe elektrische Felder auftreten, welche die Feuchtigkeit anziehen.
Die Erfindung bezieht sich auf solche Halbleiteranordnungen mit p-n-Übergang, vorzugsweise Richtleiter
oder Transistor.
Erfindungsgemäß wird der obige Nachteil bei solcher Halbleiteranordnung dadurch vermieden, daß
seine Oberfläche mindestens an der Stelle bzw. an den Stellen, an der bzw. an denen sich ein p-n-Übergang
befindet, vollständig mit einem Stoff einer hohen Dielektrizitätskonstante und/oder eines hohen Dipolmoments
abgedeckt ist und außerdem von einem isolierenden und feuchtigkeitsundurchlässigen Schutzstoff
umgeben und/oder in ein vakuumdicht geschlossenes Gefäß eingebaut ist. Durch solche Abdeckstoffe
wird die Ausbreitung eines elektrischen Feldes vermindert. Statt dessen oder außerdem kann auch eine
hochpermeable Substanz, z. B. Bariumtitanat od. dgl., an einer derartigen Stelle der Oberfläche einer Halbleiteranordnung
angeordnet werden. Durch diese wird der elektrische Kraftfluß zwischen den beiden Seiten
des p-n-Überganges gebündelt und die Feldstärke erniedrigt. Gemäß einer besonderen Ausbildung des
Erfindungsgedankens wird eine solche Schicht während elektrischer Belastung der Halbleiteranordnung
auf deren Oberfläche aufgetragen, damit sich die Teilchen der Schutzschicht in der Weise ausrichten
können, daß die für das Auftreten der Feuchtigkeit schädliche Feldstärke möglichst stark reduziert wird.
Unter Umständen kann die Halbleiteranordnung sogar während des Auftragens der Schicht überbelastet
werden. Die Schicht besteht beispielsweise aus Wachs oder Lack oder einer polymerisierenden Substanz, in
die permanente Dipole oder im elektrischen Feld sich Halbleiteranordnung mit p-n-Übergang
Anmelder:
Siemens & Halske Aktiengesellschaft,
Siemens & Halske Aktiengesellschaft,
Berlin und München,
München 2, Witteisbacherplatz 2
München 2, Witteisbacherplatz 2
Dr. Walter Heywang, Karlsruhe,
ist als Erfinder genannt worden
ist als Erfinder genannt worden
bildende Dipole eingelagert sind, welche durch das angelegte elektrische Feld polarisiert werden. Gegebenenfalls
erfolgt das Aufbringen der Schicht und/ oder das Anlegen des Feldes unter erhöhter Temperatur.
Zweckmäßigerweise wird die hochpermeable bzw. Dipolschicht durch eine weitere Schutzschicht
bedeckt, welche gegebenenfalls in an sich bekannter Weise die gesamte Halbleiteroberfläche einhüllt. Das
Ganze kann zur Sicherheit zusätzlich noch in ein hochevakuiertes, gegebenenfalls gegettertes und
vakuumdicht geschlossenes Gehäuse gesetzt werden.
In der Zeichnung ist eine Ausführungsform der Anordnung nach der Erfindung beispielsweise dargestellt,
η und ρ bedeuten die beiden entgegengesetzt leitenden Zonen eines Germaniumrichtleiterkristalls. Wenn der
Richtleiter in Sperrichtung belastet ist, herrscht unmittelbar an der Oberfläche an der Stelle des Überganges
von der n- zur p-Zone eine sehr große Feldstärkendichte, welche dazu geeignet ist, Wassermoleküle
anzuziehen und eine Wasserschicht an dieser Stelle zu erzeugen. Fig. 1 zeigt eine solche bekannte
Anordnung mit gestreuten Kraftlinien 3. Erfindungsgemäß (Fig. 2) wird an dieser Stelle des Kristalls
eine Schicht von in einer mindestens bei erhöhter Temperatur plastischen Masse 1 suspendiertem
Bariumtitanatpulver 2 angeordnet, das sich in der in der Zeichnung angedeuteten Weise auf der Oberfläche
anlagert und dessen permanente Polarisation sich parallel zu den Kraftlinen 3 ausrichtet. Die
Bariumtitanatteilchen sind im Überschuß vorhanden, damit sie mindestens an der n-p-Oberfläche einen gut
■zusammenhängenden Film ergeben.
Hierdurch wird das elektrische Feld in die so entstandene Bariumtitanatschicht hineingezogen. Außerdem
ist durch die hohe Dielektrizitätskonstante die Feldstärke als Ganzes erheblich verringert. Über der
Bariumtitanat enthaltenden Schicht 1 ist außerdem
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eine übliche elektrisch isolierende, feuchtigkeitsundurchlässige Schutzschicht 4, beispielsweise eine
Lackschicht oder eine aufgedampfte Ouarzschicht, angeordnet. Während des Auftragens der Bariumtitanatschicht
ist der Richtleiter in Sperrichtung stark ber lastet und das Ganze auf eine erhöhte Temperatur gebracht.
Claims (6)
1. Halbleiteranordnung mit p-n-Übergang, vorzugsweise
Richtleiter oder Transistor, dadurch gekennzeichnet, daß seine Oberfläche mindestens an
der Stelle bzw. an den Stellen, an der bzw. an denen sich ein p-n-Übergang befindet, vollständig
mit einem Stoff einer hohen Dielektrizitätskonstanten und/oder einem hohen Dipolmoment abgedeckt
ist und außerdem von einem isolierenden und feuchtigkeitsundurchlässigen Schutzstoff umgeben
und/oder in ein vakuumdicht geschlossenes Gefäß eingebaut ist.
2. Anordnung nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß der Stoff ein Titanat, beispielsweise
Bariumtitanat ist.
3. Anordnung nach Anspruch 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet, daß der Stoff in Wachs, Lack oder
eine polymerisierende Substanz eingebettet ist.
4. Verfahren zum Aufbringen der hochpermeablen Schicht nach einem der Ansprüche 1 bis 3,
dadurch gekennzeichnet, daß der Richtleiter während des Auftragens der Deckschicht in Sperrrichtung
belastet, gegebenenfalls mindestens zeitweilig überlastet wird.
5. Verfahren zum Aufbringen der Deckschicht nach einem der Ansprüche 1 bis 3 oder nach An ·
Spruch 4, dadurch gekennzeichnet, daß das Aufbringen bei erhöhter Temperatur stattfindet.
6. Anordnung nach einem der Ansprüche 1 bis 4, dadurch gekennzeichnet, daß sie in einem evakuierten,
gegebenenfalls gegetterten und vakuumdicht geschlossenen Gefäß angeordnet ist.
In Betracht gezogene Druckschriften:
USA.-Patentschriften Nr. 2 669 692, 2 592 683.
USA.-Patentschriften Nr. 2 669 692, 2 592 683.
Hierzu 1 Blatt Zeichnungen
© 709 588/202 7.57
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Publications (1)
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