DE10033984A1 - Hybridlaminat und Verfahren zur Herstellung desselben - Google Patents
Hybridlaminat und Verfahren zur Herstellung desselbenInfo
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Abstract
Es wird ein Hybridlaminat offenbart, welches Folgendes umfasst: DOLLAR A eine einen Pulverpressling von ersten Pulvern enthaltende Substratschicht und eine in Kontakt mit der Substratschicht stehende und einen Pulverpressling zweiter Pulver enthaltende Funktionsmaterialschicht, dadurch gekennzeichnet, dass der Pulverpressling der ersten Pulver ein Glasmaterial umfasst; der Pulverpressling der zweiten Pulver ein keramisches Material mit mindestens einer spezifischen elektrischen Eigenschaft, ausgewählt aus Dielektrizität, Magnetismus, spezifischem Widerstand und Isolierung, umfasst; zumindest ein Teil der ersten Pulver sich in einem gesinterten Zustand befindet und die zweiten Pulver sich in einem ungesinterten Zustand befinden und durch Diffusion oder einen Fluss eines Teils des Materials der Substratschicht in die Funktionsmaterialschicht gebondet werden.
Description
Die vorliegende Erfindung betrifft Hybridlaminate und Verfahren zur Herstellung
derselben und betrifft insbesondere ein Hybridlaminat, das mit einer Funktionsma
terialschicht versehen ist, welche ein Keramikmaterial mit einer spezifischen elektri
schen Eigenschaft, beispielsweise Dielektrizität, Magnetismus, spezifischer elektri
scher Widerstand und Isolierung, umfasst, und das vorteilhaft für Elektronikbauele
mente, beispielsweise Mehrschichtleiterplatten und Elektronikbauelemente in Form
von Chips, verwendet werden kann, sowie ein Verfahren zur Herstellung dessel
ben.
Zu den die vorliegende Erfindung interessanten Laminaten zählen zum Beispiel ein
Bauteilkörper in Form eines Chip mit einem laminierten Aufbau, der in einer Mehr
schichtleiterplatte mit einem laminierten Aufbau oder in einem Elektronikbauele
ment vorgesehen ist. Der Innenaufbau dieser Mehrschichtleiterplatten und Bauteil
körper ist im Allgemeinen mit leitenden Innenelementen, beispielsweise Innenelek
troden oder Kontaktlochverbindungsteilen, versehen.
Wenn die für die eingangs beschriebenen Mehrschichtleiterplatten und Bauteilkör
per verwendeten Substrate aus einer Keramik bestehen, ist bei der Herstellung im
Allgemeinen ein Wärmebehandlungsschritt für das Substrat zum Sintern der Kera
mik erforderlich. Daher werden auch die leitenden Innenelemente während des
Wärmebehandlungsschritts für das Substrat wärmebehandelt.
Um den derzeitigen Anforderungen bezüglich höherer Frequenz und höherer Si
gnalgeschwindigkeit in dem Bereich der Elektronikvorrichtungen nachzukommen,
müssen Metalle mit geringem Widerstand, beispielsweise Silber, Gold und Kupfer,
als leitende Komponenten für die eingangs beschriebenen leitenden Innenelemente
verwendet werden.
Unter den so beschriebenen Umständen muss, um die mit leitenden Komponenten
aus Metallen geringen Widerstands, beispielsweise Silber, Gold und Kupfer, verse
henen leitenden Innenelemente gleichzeitig sinterbar zu machen, wenn das Sub
strat gesintert wird, das Substrat bei beispielsweise 1.000°C oder weniger sinterbar
sein. Daher wird als Bestandteilwerkstoff für das Substrat ein neben Keramik Glas
enthaltender Verbundwerkstoff, bei dem das Glas als Hilfsmittel zum Sintern einer
Keramik dient, vorteilhaft eingesetzt.
Durch Verwenden von Mehrschichtleiterplatten aus Glas-Keramik, die wie oben
beschrieben mit dem aus einem Verbund eines Glases und einer Keramik beste
henden Substrat versehen sind, können dicht gepackte Verdrahtungen und ein
Dünnschichtaufbau verwirklicht werden, wodurch in Reaktion auf jüngste Trends
hin zu kompakten und leichten Elektronikchipbauelementen den Forderungen, die
mit diesen Chipbauelementen zu bestückenden Leiterplatten kompakt und leicht zu
machen, ebenfalls vorteilhaft entsprochen werden kann.
In dieser Verbindung besteht eine Ausführung von Glas-Keramik-
Mehrschichtleiterplatten aus einer Glas-Keramik-Mehrschichtleiterplatte, die durch
gleichzeitiges Wärmebehandeln eines Substrats und eines Funktionsmaterials er
halten wird, wobei an einer ungesinterten Platte, die zu einem Substrat auszubil
dende Glaspulver und Keramikpulver enthält, Funktionsmaterial durch Beschichten
des Funktionsmaterialschlickers, der Pulver enthält, die aus Keramik mit spezifi
schen elektrischen Eigenschaften, beispielsweise Dielektrizität und Magnetismus,
bestehen, oder durch Laminieren einer durch Gießen gebildeten ungesinterten
Platte gebildet wird. Gemäß den oben beschriebenen Glas-Keramik-
Mehrschichtleiterplatten können diesen eine spezifische Funktion bzw. Mehrfach
funktionen gegeben werden.
Wenn die eingangs beschriebenen Glas-Keramik-Mehrschichtleiterplatten herge
stellt werden, wird das Funktionsmaterial gleichzeitig mit dem Substrat wärmebe
handelt. Daher wird eine entsprechende Menge an Glaspulvern, die gleich den in
dem Substrat enthaltenen sind, dem Funktionsmaterialschlicker zugegeben, um
Unterschiede bei den Ausdehnungskoeffizienten zwischen dem Substrat und dem
Funktionsmaterialschlicker während des Wärmebehandelns und Unterschiede bei
den Schwindungsfaktoren zwischen diesen während des Sinterns zu minimieren,
so dass das Auftreten von Mängeln, beispielsweise Abtrennungen an der Grenzflä
che verhindert wird.
Nach der Bildung eines Mutterlaminats durch Verwenden eines Herstellungsverfah
rens, das im Wesentlichen mit dem zur Erzeugung der Glas-Keramik-
Mehrschichtleiterplatte unter Verwendung des oben beschriebenen Funktionsmate
rialschlickers verwendeten Verfahren äquivalent ist, können zudem als Bauteilkör
per für eine Vielzahl von Elektronikbauelementen verwendete Chips durch Zu
schneiden des Mutterlaminats erhalten werden.
Fig. 8 ist ein in einer Querschnittansicht gezeigter Kondensator 1, der mittels des
oben beschriebenen Verfahrens hergestellt wurde.
Der Kondensator 1 ist mit einem Bauteilkörper 5 versehen, der aus einem Laminat
mit einer Funktionsmaterialschicht 2 und Substraten 3 und 4 besteht, die so ange
ordnet sind, dass sie mit beiden Seiten der Funktionsmaterialschicht 2 in Kontakt
stehen. Entlang der einzelnen Grenzflächen der Funktionsmaterialschicht 2 zu den
Substraten 3 und 4 sind Innenelektroden 6 und 7 als leitende Innenelemente so
ausgebildet, dass sie einander mit der Funktionsmaterialschicht 2 dazwischen ge
genüberliegen. Die Innenelektroden 6 und 7 erstrecken sich hin zu gegenüberlie
genden Kantenflächen 8 und 9 des Bauteilkörpers 5 und sind mit Außenelektroden
10 und 11 verbunden, die an den Kantenflächen 8 bzw. 9 ausgebildet sind.
Der oben beschriebene Bauteilkörper 5 wird durch Schneiden eines Mutterlaminats
erhalten, und das Mutterlaminat ist mit Elementen versehen, die jeweils der Funkti
onsmaterialschicht 2, den Substratschichten 3 und 4 und den Innenelektroden 6
und 7 entsprechen.
Die Substratschichten 3 und 4 enthalten in der Phase vor der Durchführung der
Wärmebehandlung Glaspulver und keramische Pulver. Die Funktionsmaterial
schicht 2 enthält zudem in einer Phase vor der Durchführung der Wärmebehand
lung Pulver, die aus einer dielektrischen Keramik mit einer dielektrischen Eigen
schaften bestehen. Das Mutterlaminat bzw. der Bauteilkörper 5 wird nach dem
Wärmebehandlungsschritt erhalten. Zur Minimierung der Unterschiede bei den
Ausdehnungskoeffizienten der Substrate 3 und 4 und der Funktionsmaterialschicht
2 während des Wärmebehandelns sowie der Unterschiede bei den Schwindungs
raten zwischen diesen während des Sinterns wird dem zu einer Funktionsmaterial
schicht 2 auszubildenden Funktionsmaterialschlicker eine entsprechende Menge
der Glaspulver, die gleich den in den Substraten 3 und 4 enthaltenen sind, zugege
ben.
Wie somit beschrieben wurde, enthält die Funktionsmaterialschicht 2 in dem Kon
densator 1 die dielektrische Keramik, so dass sie eine größere statische Kapazität
zwischen den Innenelektroden 6 und 7 liefert. Demgemäß weist die in der Funkti
onsmaterialschicht 2 enthaltene dielektrische Keramik vorzugsweise eine höhere
Dichte auf.
Zur Verringerung der Unterschiede bei den Ausdehnungskoeffizienten der Sub
strate 3 und 4 und der Funktionsmaterialschicht 2 während des Wärmebehandelns
und der Unterschiede bei den Schwindungsfaktoren zwischen diesen während des
Sinterns wird jedoch eine gewisse Menge an Glaspulvern, die die gleichen wie die
in den Substraten 3 und 4 enthaltenen sind, notwendigerweise der Funktionsmate
rialschicht 2 zugegeben. Daher wird die Dichte der in der Funktionsmaterialschicht
2 enthaltenen dielektrischen Keramik u. U. verringert und in manchen Fällen wird
eine für die Funktionsmaterialschicht 2 erforderliche dielektrische Eigenschaft u. U.
gemindert.
Zur Bewältigung der oben beschriebenen Probleme sieht eine bevorzugte Ausfüh
rung der vorliegenden Erfindung ein Hybridlaminat vor, welches Folgendes um
fasst: eine einen Pulverpressling von ersten Pulvern enthaltende Substratschicht
und eine in Kontakt mit der Substratschicht stehende und einen Pulverpressling
zweiter Pulver enthaltende Funktionsmaterialschicht, dadurch gekennzeichnet,
dass der Pulverpressling der ersten Pulver ein Glasmaterial umfasst, dass der Pul
verpressling der zweiten Pulver ein keramisches Material mit mindestens einer
spezifischen elektrischen Eigenschaft ausgewählt aus Dielektrizität, Magnetismus,
spezifischer Widerstand und Isolierung umfasst, dass zumindest ein Teil der ersten
Pulver sich in einem gesinterten Zustand befindet und dass die zweiten Pulver sich
in einem ungesinterten Zustand befinden und durch Diffusion oder einen Fluss ei
nes Teils des Materials der Substratschicht in die Funktionsmaterialschicht gebon
det werden.
Bei dem oben beschriebenen Hybridlaminat diffundiert bzw. fließt der Teil des Ma
terials der Substratschicht vorzugsweise über die gesamte Fläche der Funktions
materialschicht und alle zweiten Pulver werden vorzugsweise durch das Material
der Substratschicht miteinander gebondet.
Bei dem oben beschriebenen Hybridlaminat weist zumindest ein Teil der ersten
Pulver vorzugsweise einen Schmelzpunkt unterhalb einer Sintertemperatur zum
Sintern der zweiten Pulver auf.
Bei dem oben beschriebenen Hybridlaminat umfasst das Glasmaterial vorzugswei
se ein Material, das durch dessen durch Sintern verursachtes Schmelzen glasig
gesintert wurde.
Bei dem oben beschriebenen Hybridlaminat umfasst der Pulverpressling der ersten
Pulver weiterhin vorzugsweise ein keramisches Material.
Bei dem oben beschriebenen Hybridmaterial umfasst der Pulverpressling der er
sten Pulver vorzugsweise eine aluminiumoxidhaltige Beimischung und zumindest
eines von kristalliertem Anorthitglas, Borosilikatglas und kristallisiertem Cordierit
glas.
Das oben beschriebene Hybridlaminat karun einen eine Vielzahl von Substrat
schichten umfassenden Aufbau besitzen, bei dem die Vielzahl von Substratschich
ten mit der Funktionsmaterialschicht dazwischen laminiert sind, oder es kann einen
eine Vielzahl von Funktionsmaterialschichten umfassenden Aufbau besitzen, bei
dem die Vielzahl von Funktionsmaterialschichten mit den Substratschichten dazwi
schen laminiert sind. In letzterem Fall kann die Vielzahl der Funktionsmaterial
schichten eine erste und eine zweite Funktionsmaterialschicht umfassen und in der
ersten Funktionsmaterialschicht enthaltene keramische Pulver und die in der zwei
ten Funktionsmaterialschicht enthaltenen Pulver können sich bezüglich einer elek
trischen Eigenschaft von einander unterscheiden.
Wenn das erfindungsgemäße Hybridlaminat bei Elektronikbauelementen eingesetzt
wird, umfasst das Hybridlaminat weiterhin ein leitendes Element, das an dessen
Oberfläche und/oder an dessen Innenseite vorgesehen ist.
Eine weitere bevorzugte erfindungsgemäße Ausführung gibt ein Herstellungsver
fahren des oben beschriebenen Hybridlaminats zur Hand. Zur Lösung der oben
beschriebenen technischen Probleme umfasst das Verfahren zur Herstellung eines
Hybridlaminats einen ersten Schritt der Zubereitung erster Pulver, die ein Glasma
terial enthalten; einen zweiten Schritt der Zubereitung zweiter Pulver mit minde
stens einer spezifischen elektrischen Eigenschaft gewählt aus Dielektrizität, Ma
gnetismus, spezifischer Widerstand und Isolierung, die nicht bei einer Temperatur
gesintert werden, die zum Sintern zumindest eines Teils der ersten Pulver ausrei
chend ist; einen dritten Schritt der Herstellung eines Hybridlaminats in einem un
gesinterten Zustand, welches eine die ersten Pulver enthaltende Substratschicht in
einem ungesinterten Zustand und eine Funktionsmaterialschicht in einem ungesin
terten Zustand umfasst, die so angeordnet ist, dass sie in Kontakt mit der Substrat
schicht steht und die zweiten Pulver enthält; und einen vierten Schritt des Wärme
behandelns des Laminats in einem ungesinterten Zustand bei einer vorbestimmten
Temperatur, bei der zumindest ein Teil der ersten Pulver gesintert wird, und ein Teil
des Materials der Substratschicht in die Funktionsmaterialschicht diffundiert oder
fließt, so dass die zweiten Pulver ohne Sintern mit einander gebondet werden.
Bei dem ersten Schritt des Verfahrens zur Herstellung des oben beschriebenen
Hybridlaminats wird die Substratschicht vorzugsweise in einem Zustand einer er
sten ungesinterten Platte, die die ersten Pulver enthält, erzeugt.
Bei dem ersten Schritt des Verfahrens zur Herstellung des oben beschriebenen
Hybridlaminats wird die Funktionsmaterialschicht vorzugsweise in einem Zustand
einer zweiten ungesinterten Platte, die die zweiten Pulver enthält, erzeugt, und der
erste Schritt kann ferner einen Schritt des Laminierens der zweiten ungesinterten
Platte, so dass diese in Kontakt mit der ersten ungesinterten Platte steht, umfas
sen.
Gemäß dem obigen Aufbau und der obigen Anordnung kann zum Erhalt des Hy
bridlaminats Wärmebehandeln bei niedriger Temperatur durchgeführt werden und
da es bei der Funktionsmaterialschicht ausreichend ist, das Glasmaterial der Sub
stratschicht in einer Menge, die zum festen Bonden der das keramische Material
mit einer spezifischen elektrischen Eigenschaft enthaltenden zweiten Pulver mit
einander ausreicht, zu diffundieren bzw. fließen zu lassen, kann die Dichte des in
der Funktionsmaterialschicht enthaltenen keramischen Materials mit einer spezifi
schen elektrischen Eigenschaft erhöht werden. Daher kann die spezifische elektri
sche Eigenschaft des keramischen Materials in der Funktionsmaterialschicht maxi
mal ausgenützt werden, und wenn die Hybridlaminate der vorliegenden Erfindung
bei Elektronikbauteilen eingesetzt werden, können Elektronikbauteile mit einer aus
gezeichneten elektrischen Eigenschaft verwirklicht werden.
Da die Substratschicht zudem so vorgesehen ist, dass sie die für das Hybridlaminat
erforderliche mechanische Festigkeit liefert, und die Funktionsmaterialschicht so
vorgesehen ist, dass sie dem Hybridlaminat eine elektrische Eigenschaft verleiht,
kann dem Hybridlaminat optional eine spezifische elektrische Funktion oder eine
Anzahl elektrischer Funktionen verliehen werden. Daher können Elektronikbauteile
mit optionaler Funktion sowie Elektronikbauteile mit verschiedenen Funktionen
verwirklicht werden.
Wenn die Funktionsmaterialschicht beispielsweise aus einer ersten und einer
zweiten Funktionsmaterialschicht besteht und wenn ein in der ersten Funktions
materialschicht enthaltenes keramisches Material und ein in der zweiten Funkti
onsmaterialschicht enthaltenes keramisches Material bezüglich einer elektrischen
Eigenschaft zueinander unterschiedlich ausgelegt sind, kann mühelos ein Elektro
nikbauteil mit Hybrideigenschaften, beispielsweise eine LC-Filterkette, verwirklicht
werden.
Bezüglich einer Kombination eines in der Funktionsmaterialschicht enthaltenen ke
ramischen Materials und eines in dem Substratmaterial enthaltenen Glasmaterials
kann zudem bei Verwendung von den zwei oben erwähnten Materialien, die nicht
miteinander reagieren, der Funktionsmaterialschicht während des Wärmebehan
delns eine funktionsunterdrückende Schwindung gegeben werden und somit kann
ein Hybridlaminat mit ausgezeichneter Maßbeständigkeit erhalten werden.
Wenn ein Teil des Materials der Substratschicht so ausgelegt ist, dass es über die
gesamte Fläche der Funktionsmaterialschicht diffundiert und fließt, und alle zweiten
Pulver so ausgelegt sind, dass sie durch das Material der Substratschicht fest mit
einander gebondet sind, kann die mechanische Festigkeit der Funktionsmaterial
schicht weiter verbessert werden.
Wenn zumindest ein Teil der ersten Pulver so ausgelegt ist, dass es einen
Schmelzpunkt unterhalb einer Sintertemperatur für die zweiten Pulver aufweist,
können in einem oben beschriebenen Wärmebehandlungsschritt die zweiten Pulver
ohne Sintern durch Verwenden eines Teils des Materials der Substratschicht zu
verlässiger mit einander gebondet werden.
Wenn der in der Substratschicht enthaltene Pulverpressling der ersten Pulver in der
vorliegenden Erfindung zudem auch ein keramisches Material enthält, kann die
mechanische Festigkeit des Hybridlaminats weiter verbessert werden.
Andere Merkmale und Vorteile der vorliegenden Erfindung gehen aus der folgen
den Beschreibung der Erfindung, die auf dlie Begleitzeichnungen Bezug nimmt,
hervor.
Fig. 1 ist eine Querschnittansicht, die einen Teil einer Mehrschichtleiterplatte 21 als
Hybridlaminat gemäß einer ersten erfindungsgemäßen Ausführung zeigt.
Fig. 2 zeigt eine äquivalente Schaltung, die durch den in Fig. 2 gezeigten Teil der
Mehrschichtleiterplatte 21 verwirklicht wurde.
Fig. 3 ist eine Querschnittansicht eines Kondensators 41 gemäß einer zweiten er
findungsgemäßen Ausführung.
Fig. 4 ist eine Querschnittansicht eines Induktors 61 gemäß einer dritten erfin
dungsgemäßen Ausführung.
Fig. 5 ist eine Querschnittansicht eines Induktors 61a gemäß einer vierten erfin
dungsgemäßen Ausführung.
Fig. 6 ist eine Querschnittansicht eines Widerstands 81 gemäß einer fünften erfin
dungsgemäßen Ausführung.
Fig. 7 ist eine Kurve, die die Frequenzeigenschaften der Impedanz des in Fig. 4
gezeigten Induktors 61, der in Beispiel 2 hergestellt wurde, zeigt.
Fig. 8 ist eine Querschnittansicht eines Kondensators 1 des Stands der Technik,
der in der vorliegenden Erfindung von Interesse ist.
Fig. 1 ist eine Querschnittansicht, die einen Teil einer Mehrschichtleiterplatte 21
gemäß einer ersten erfindungsgemäßen Ausführung zeigt. Fig. 2 zeigt eine äqui
valente Schaltung, die durch den Teil der in Fig. 1 gezeigten Mehrschichtleiterplatte
21 verwirklicht wurde.
Die Mehrschichtleiterplatte 21 ist mit einem laminierten Aufbau versehen, der von
dessen Oberseite her eine Substratschicht 22, eine Funktionsmaterialschicht 23 in
Kontakt mit dieser, eine Substratschicht 24 in Kontakt mit dieser, eine Funktions
materialschicht 25 in Kontakt mit dieser und eine Substratschicht 26 in Kontakt mit
dieser umfasst.
Die Kondensatorelektroden 27 und 28 als Innenelektrodenelement sind so ausge
bildet, dass sie einander gegenüberliegen, mit der Funktionsmaterialschicht 23 da
zwischen. Entlang der Grenzfläche zwischen der Substratschicht 24 und der Funk
tionsmaterialschicht 25 sind zudem Induktorelektroden 29 und 30 als leitendes In
nenelement ausgebildet. Entlang der Grenzfläche zwischen der Funktionsmaterial
schicht 25 und der Substratschicht 26 ist weiterhin eine Erdungselektrode 31 als
leitendes Innenelement ausgebildet.
An einer Oberfläche der Mehrschichtleiterplatte 21, im Einzelnen an der Außenflä
che der Substratschicht 22, sind äußere Endelektroden 32 und 33 als leitendes äu
ßeres elektrisches Element ausgebildet.
Eine äußere Endelektrode 32 ist mit einer Kondensatorelektrode 27 mittels eines
Kontaktlochverbindungsteils 34 verbunden und die andere äußere Endelektrode 33
ist mit der anderen Kondensatorelektrode 28 mittels eines Kontaktlochverbin
dungsteils 35 verbunden. Die Kondensatorelektrode 27 ist mittels eines Kontakt
lochverbindungsteils 36 mit einem Ende einer Induktorelektrode 29 verbunden, und
das andere Ende dieser Induktorelektrode 29 ist mittels eines Kontaktlochverbin
dungsteils 37 mit der Erdungselektrode 31 verbunden. Die andere Kondensatore
lektrode 28 ist mittels eines Kontaktlochverbindungsteils 38 mit einem Ende der
anderen Induktorelektrode 30 verbunden, und das andere Ende der anderen In
duktorelektrode 30 ist mittels eines Kontaktlochverbindungsteils 39 mit der Er
dungselektrode 31 verbunden.
Wie so beschrieben verwirklicht die Mehrschichtleiterplatte 21 durch ihren in Fig. 1
gezeigten Teil eine in Fig. 2 gezeigte äquivalente Schaltung. In Fig. 2 ist die Kapa
zität C durch die Kondensatorelektroden 27 und 28 und die Induktivitäten L1 und L2
durch die Induktorelektroden 30 bzw. 29 gegeben.
Zur Herstellung der oben beschriebenen Mehrschichtleiterplatte 21 werden zu Sub
stratschichten 22, 24 und 26 auszubildende ungesinterte Platten sowie zu Funkti
onsmaterialschichten 23 und 25 auszubildende ungesinterte Platten erzeugt. Auf
den Oberflächen der genannten ungesinterten Platten sind die Kondensatorelektro
den 27 und 28, die Induktorelektroden 29 und 30 und die Erdungselektrode 31, die
die leitenden Innenelemente darstellen, ausgebildet, und in den genannten un
gesinterten Platten sind die Kontaktlochverbindungsteile 34 bis 39 als die leitenden
Innenelemente vorgesehen.
Als Nächstes werden diese ungesinterten Platten so laminiert, dass sie einen wie in
Fig. 1 gezeigten Querschnittaufbau aufweisen, und werden bei geeigneten Bedin
gungen nach dem Pressen wärmebehandelt. Danach werden die äußeren Ende
lektroden 32 und 33 als leitendes äußeres Element ausgebildet. Die äußeren En
delektroden 32 und 33 können in einer Phase vor der Durchführung des Wärmebe
handelns gebildet werden.
Die zu den Substratschichten 22, 24 und 26 auszubildenden ungesinterten Platten
enthalten Glaspulver und enthalten vorzugsweise auch keramische Pulver.
Ein aus den oben erwähnten Glaspulvern bestehendes Glasmaterial kann ein Ma
terial umfassen, das durch dessen Schmelzen beim Wärmebehandeln glasig
gesintert wurde. Als Glasmaterial kann beispielsweise kristallisiertes Anorthitglas
vorteilhaft verwendet werden, ferner können Borosilikatglas, kristallisiertes Cordie
ritglas oder dgl. verwendet werden.
Als das die oben erwähnten keramischen Pulver bildende Material kann beispiels
weise Aluminiumoxid vorteilhaft verwendet werden.
Um die ungesinterten Platten zu erhalten, die die oben beschriebenen Glaspulver
und keramischen Pulver enthalten, wird ein Schlicker durch Mischen eines Disper
giermediums, eines Bindemittels oder dgl. mit den Glaspulvern und den kerami
schen Pulvern zubereitet, und dann wird die Plattenbildung durch Aufbringen des
Schlickers unter Einsatz eines Schabmesserverfahrens durchgeführt.
Als oben erwähntes Dispergiermedium können Wasser, Toluol, ein Alkohol oder
eine Mischung derselben verwendet werden, und als Bindemittel können ein Buty
ralharz, ein Acrylharz, ein Urethanharz, Vinylacetatharz, Polyvinylalkohol oder dgl.
verwendet werden.
Bei Bedarf können dem oben beschriebenen Schlicker zudem Plastifizierungsmittel,
Dispergiermittel, Verformungsmittel oder dgl. zugegeben werden.
Zur Bildung der ungesinterten Platten gibt es neben dem Schabmesserverfahren andere Verfahren wie zum Beispiel Extrusion, Walzenbildung und Pulverpressbil
dung.
Die zu Funktionsmaterialschichten 23 und 25 auszubildenden ungesinterten Platten
enthalten Pulver, die aus einem keramischen Material mit einer spezifischen elek
trischen Eigenschaft bestehen.
Da die Kondensatorelektroden 27 und 28 an der Funktionsmaterialschicht 23 aus
gebildet werden, enthalten in der Ausführung die zu der Funktionsmaterialschicht
23 auszubildenden ungesinterten Platten dielektrische keramische Pulver, bei
spielsweise Bariumtitanatkeramikpulver, mit einer dielektrischen Eigenschaft.
Da die Induktorelektroden 29 und 30 an der Funktionsmaterialschicht 25 ausgebil
det werden, enthalten die zu der Funktionsmaterialschicht 25 auszubildenden un
gesinterten Platten magnetische keramische Pulver, beispielsweise Ferrit, mit einer
magnetischen Eigenschaft.
Die funktionalen keramischen Pulver mit diesen genannten elektrischen Eigen
schaften werden durch Zugabe eines Dispergiermediums und eines Bindemittels in
die Form eines Schlickers gebracht und werden dann durch Aufbringen des Schlic
kers mittels eines Schabmesserverfahrens zu den ungesinterten Platten ausgebil
det.
Ein in dem Schlicker für die Funktionsmaterialschichten 23 und 25 enthaltenes Bin
demittel und Dispergiermedium können zu dem in dem oben beschriebenen Schlic
ker für die Substratschichten 22, 24 und 26 enthaltenen Bindemittel und Disper
giermittel äquivalent sein bzw. sich hiervon unterscheiden.
Bezüglich der Bildung der ungesinterten Platten für die Funktionsmaterialschichten
23 und 25 können neben dem Schabmesserverfahren andere Verfahren wie zum
Beispiel Extrusion, Walzenbildung und Pulverpressbildung oder dgl. verwendet
werden.
Nach Erhalt der ungesinterten Platten zur Bildung der Funktionsmaterialschichten
23 und 25 kann anstelle der abwechselnden Laminierung dieser ungesinterten
Platten mit den zu den Substratschichten 22, 24 und 26 auszubildenden ungesin
terten Platten der Schlicker zur Bildung der Funktionsmaterialschichten 23 und 25
auf die zu Substratschichten 22, 24 und 26 auszubildenden ungesinterten Platten
mittels eines Verfahrens wie Spritzbeschichten, Walzenauftrag, Tauchbeschichten
und Drucken aufgetragen werden.
Eine bei dem Wärmebehandlungsschritt eingesetzte Temperatur sintert nicht die
funktionalen Keramikmaterialpulver, die jeweils in den Funktionsmaterialschichten
23 und 25 enthalten sind, sondern ermöglicht ein Schmelzen der in den Substrat
schichten 22, 24 und 26 enthaltenen Glaspulver. Daher werden durch diesen Wär
mebehandlungsschritt das in den Substratschichten 22, 24 und 26 und in den
Funktionsmaterialschichten 23 und 25 enthaltene Bindemittel oder dgl. entfernt.
Zudem wird das aus den in den Substratschichten 22, 24 und 26 enthaltenen
Glaspulvern bestehende Glas geschmolzen und somit werden die Substratschich
ten 22, 24 und 26 gefestigt. Gleichzeitig diffundieren oder fließen Teile des durch
die Verschmelzung der in den Substratschichten 22, 24 und 26 enthaltenen
Glaspulver erzeugten geschmolzenen Glases in die Funktionsmaterialschichten 23
und 25 und dringen überwiegend durch Kapillarwirkung ein. Dadurch füllt das ein
gedrungene Glas Zwischenräume zwischen den funktionalen Keramikmaterialpul
vern und bondet die keramischen Pulver des Funktionsmaterials miteinander.
Wenn die in den Funktionsmaterialschichten 23 und 25 enthaltenen keramischen
Pulver des Funktionsmaterials feiner werden, wird die einen viskosen Fluss des
Glases verursachende Kapillarwirkung größer und somit lässt sich mühelos ein
dichterer Füllzustand des Glases erreichen.
Die in Fig. 1 gezeigte Mehrschichtleiterplatte 21 wird wie hier beschrieben verwirk
licht.
Wie aus dem so beschriebenen Verfahren zur Herstellung der Mehrschichtleiter
platte 21 ersichtlich wird, ist eine Kombination mit ausgezeichneter Benetzbarkeit
zwischen den in den Funktionsmaterialschichten 23 und 25 enthaltenen funktiona
len keramischen Materialien und den in den Substratschichten 22, 24 und 26 ent
haltenen Glasmaterialien bevorzugt.
Das in die Funktionsmaterialschichten 23 und 25 diffundierende bzw. fließende
Glas kann mit den Funktionsmaterialien reagieren und als Folge kann in manchen
Fällen Flüssigphasensintern stattfinden. Durch die oben erwähnte Reaktion können
keine schweren Mängel auftreten; im Hinblick auf eine verbesserte Maßhaltigkeit
nach dem Sintern wird jedoch als funktionales keramisches Material bevorzugt ein
Material gewählt, das nicht zu einer Reaktion mit dem Glasmaterial neigt.
Bei der in Fig. 1 gezeigten Mehrschichtleiterplatte 21 kann zum Beispiel durch Ab
ändern eines Teils der Mehrschichtleiterplatte 21 eine LC-Filterkettenvorrichtung in
Form eines Chips gebildet werden. Eine LC-Filterkette mit einer zu der in Fig. 2 ge
zeigten äquivalenten Schaltung kann nämlich durch Eliminieren der äußeren En
delektroden 32 und 33 und der Kontaktlochverbindungsteile 34 und 35, die in Fig. 1
gezeigt werden, durch Bilden der äußeren Endelektroden an den Stellen, an denen
in Fig. 1 die Linien mit unterbrochenen Rand gezeigt werden, als Kantenseiten und
durch Verbindungen der Kondensatorelektroden 26 und 28 mit den jeweiligen äu
ßeren Endelektroden gebildet werden.
Fig. 3 ist eine Querschnittansicht, die einen Kondensator 41 gemäß einer zweiten
erfindungsgemäßen Ausführung zeigt.
Der Kondensator 41 ist mit einem Bauteilkörper 45 versehen, der aus einem Hy
bridlaminat mit einer Funktionsmaterialschicht 42 und an beiden Seiten der Funkti
onsmaterialschicht 42 ausgebildeten Substratschichten 43 und 44, so dass diese
mit ihr in Kontakt stehen, besteht.
Innenelektroden 46 und 47 werden als leitendes Innenelement entlang einzelner
Grenzflächen der Funktionsmaterialschicht 42 mit den Substratschichten 43 und 44
gebildet und werden so ausgebildet, dass sie einander gegenüberliegen, mit der
Funktionsmaterialschicht 42 dazwischen. Die Innenelektroden 46 und 47 erstrecken
sich jeweils zu gegenüberliegenden Kantenseiten 48 bzw. 49 des Bauteilkörpers 45
und sind mit Außenelektroden 50 und 51 verbunden, die an den Kantenseiten 48
und 49 als leitendes Außenelement ausgebildet sind.
Der Bauteilkörper 45 kann durch Schneiden eines Mutterlaminats erhalten werden,
und das Mutterlaminat weist Elemente auf, die jeweils der Funktionsmaterialschicht
42, den Substratschichten 43 und 44 und den Innenelektroden 46 und 47 entspre
chen.
Das Mutterlaminat zur Bildung des Bauteilkörpers 45 kann durch ein Verfahren, das
im Wesentlichen dem zur Erzeugung der oben beschriebenen Mehrschichtleiter
platte 21 verwendeten Verfahren ähnelt, erzeugt werden.
In einer Phase vor der Durchführung der Wärmebehandlung enthalten nämlich die
an dem Mutterlaminat vorgesehenen Substratschichten 43 und 44 Glaspulver und
keramische Pulver. In einer Phase vor der Durchführung der Wärmebehandlung
enthält die Funktionsmaterialschicht 42 zudem die aus einer dielektrischen Keramik
mit einer dielektrischen Eigenschaft bestehenden Pulver und kein Glasmaterial. Bei
dem Wärmebehandlungsschritt werden zumindest Teile der in den Substratschich
ten 43 und 44 enthaltenen Glaspulver gesintert, die in den Substratschichten 43
enthaltenen keramischen Pulver werden fest mit einander gebondet und die in der
Substratschicht 44 enthaltenen keramischen Pulver werden fest mit einander ge
bondet und Teile des in den Substratschichten 43 und 44 enthaltenen Glasmateri
als diffundieren oder fließen in die Funktionsmaterialschicht 42. Daher werden die
in der Funktionsmaterialschicht 42 enthaltenen dielektrischen keramischen Pulver
durch das Diffundieren oder Fließen des Glasmaterials in diese fest mit einander
gebondet, ohne gesintert zu werden.
Fig. 4 ist eine Querschnittansicht eines Induktors 61 gemäß einer dritten erfin
dungsgemäßen Ausführung.
Der Induktor 61 ist mit einem Bauteilkörper 66 versehen, der aus einem Hybridla
minat mit zwei Funktionsmaterialschichten 62 und 63, die so angeordnet sind, dass
sie miteinander in Kontakt stehen, und Substratschichten 64 und 65 besteht, die so
an Seiten der Funktionsmaterialschichten 62 und 63 ausgebildet, dass sie jeweils
mit diesen in Kontakt stehen.
Eine Induktorelektrode 67 ist entlang der Grenzfläche zwischen der Funktionsmate
rialschicht 62 und der Substratschicht 64 ausgebildet, eine Induktorelektrode 68 ist
entlang der Grenzfläche zwischen der Funktionsmaterialschicht 62 und der Funkti
onsmaterialschicht 63 ausgebildet und eine Induktorelektrode 69 ist entlang der
Grenzfläche zwischen der Funktionsmaterialschicht 63 und der Substratschicht 65
ausgebildet. Ferner ist ein Kontaktlochverbindungsteil 70 so ausgebildet, dass es in
die Funktionsmaterialschicht 62 eindringt, und ein Kontaktlochverbindungsteil 71 ist
so ausgebildet, dass es in die Funktionsschicht 63 eindringt.
Diese Induktorelektroden 67 bis 69 und die Kontaktlochverbindungsteile 70 und 71
werden als leitendes Innenelement verwendet, und die Induktorelektrode 67, das
Kontaktlochverbindungsteil 70, die Induktorelektrode 68, das Kontaktlochverbin
dungsteil 71 und die Induktorelektrode 69 werden sequentiell geschaltet. Dadurch
wird ein Induktorleiter 72 mit einem hervorstehenden Teil an einem Teil davon in
Form einer Spule gebildet. Die Enden des Induktorleiters 72 erstrecken sich hin zu
gegenüberliegenden Kantenseiten des Bauteilkörpers 66 und sind mit Außenelek
troden 75 und 76, die als Außenelektrode an den Kantenseiten 73 bzw. 74 ausge
bildet sind, verbunden.
Der oben beschriebene Bauteilkörper 66 lässt sich auch durch Schneiden eines
Mutterlaminats erhalten, und das Mutterlaminat ist mit Elementen versehen, die
jeweils den Funktionsmaterialschichten 62 und 63, den Substratschichten 64 und
65 und den Induktorelektroden 67 bis 69 und Kontaktlochverbindungsteilen 70 und
71 entsprechen.
Das Mutterlaminat zum Erhalten des so beschriebenen Bauteilkörpers 66 kann
durch ein Verfahren hergestellt werden, das im Wesentlichen dem zur Erzeugung
des Mutterlaminats für die Mehrschichtleiterplatte 21 oder den Bauteilkörper 45 äh
nelt.
In einer Phase vor der Durchführung der Wärmebehandlung enthalten nämlich die
Substratschichten 64 und 65 Glaspulver und keramische Pulver. In einer Phase vor
der Durchführung der Wärmebehandlung enthalten die Funktionsmaterialschichten
62 und 63 zudem aus einer magnetischen Keramik mit einer magnetischen Eigen
schaft bestehende Pulver und kein Glasmaterial. Bei dem Wärmebehandlungs
schritt diffundiert oder fließt das in den Substratschichten 64 und 65 enthaltene
Glasmaterial in die Funktionsmaterialschichten 62 und 63 und dadurch werden die
in den Funktionsmaterialschichten 62 und 63 enthaltenen magnetischen Pulver fest
miteinander gebondet.
Fig. 5 ist eine Querschnittansicht, die einen Induktor 61a gemäß einer vierten erfin
dungsgemäßen Ausführung zeigt. Da der in Fig. 5 gezeigte Induktor 61a mit einer
Anzahl von Elementen versehen ist, die den an dem in Fig. 4 gezeigten Induktor 61
entsprechen, bezeichnen die gleichen Bezugsziffern der in Fig. 4 gezeigten Ele
mente die gleichen Elemente und es wird auf eine doppelte Beschreibung verzich
tet.
Der in Fig. 5 gezeigte Induktor 61a ist dadurch gekennzeichnet, dass in einem
Bauteilkörper 66a andere Funktionsmaterialschichten 77 und 78 zwischen der
Funktionsmaterialschicht 62 und der Substratschicht 64 bzw. zwischen der Funkti
onsmaterialschicht 63 und der Substratschicht 65 vorgesehen sind.
Die Funktionsmaterialschichten 77 und 78, die zur Unterdrückung der Schwindung
während des Wärmebehandlungsschritts dienen, enthalten in einer Phase vor der
Durchführung der Wärmebehandlung keramische Pulver und keine Glaspulver. Als
in der Ausführung verwendete keramische Pulver können keramische Pulver mit
einer optionalen elektrischen Eigenschaft, wie zum Beispiel Dielektrizität, Magne
tismus, spezifischer Widerstand und Isolierung, solange verwendet werden können,
als die Keramik keinen nachteiligen Einfluss auf die für den Induktor 61a erforderli
che elektrische Eigenschaft hat. Ein Keramikmaterial mit einer isolierenden Eigen
schaft, beispielsweise Aluminiumoxid, kann bedenkenlos verwendet werden.
Bei dem Wärmebehandlungsschritt diffundieren oder fließen in den Substrat
schichten 64 und 65 enthaltene Glasmaterialien in die Funktionsmaterialschichten
77, 78, 62 und 63 und bonden die in den Funktionsmaterialschichten 77, 78, 62 und
63 enthaltenen keramischen Pulver fest miteinander.
Bei dem oben beschriebenen Wärmebehandlungsschritt zeigen die Schwindungs
unterdrückungsfunktionen der Funktionsmaterialschichten 77 und 78 spürbare Wir
kungen, insbesondere wenn die in den Substratschichten 64 und 65 enthaltenen
Glasmaterialien und die in den Funktionsmaterialschichten 62 und 63 enthaltenen
keramischen Materialien miteinander reagieren, und daher neigen die Funktions
materialschichten 62 und 63 zu einem Schwinden entlang der Ebenenrichtungen.
Da die in den Funktionsmaterialschichten 77 und 78 enthaltenen keramischen Pul
ver, beispielsweise Aluminiumoxid, kaum mit einem Glasmaterial reagieren, tritt
entlang der Ebenenrichtungen im Wesentlichen keine Schwindung der Funktions
materialschichten 77 und 78 auf, und daher wird eine Schwindung der mit den
Funktionsmaterialschichten 77 und 78 in Kontakt stehenden Funktionsmaterial
schichten 62 und 63 vorteilhaft unterdrückt.
Vorteilhaft ist, dass die oben beschriebenen Funktionsmaterialschichten 77 und 78
so vorgesehen werden, dass sie mit den Funktionsmaterialschichten 62 und 63 in
Kontakt stehen; die Funktionsmaterialschichten 77 und 78 können jedoch an ande
ren Teilen des Bauteilkörpers 66a vorgesehen werden. Zudem kann eine Funkti
onsmaterialschicht zur Unterdrückung einer Schwindung, beispielsweise die Funk
tionsmaterialschichten 77 und 78, auf der Mehrschichtleiterplatte 21, dem Konden
sator 41 oder dgl. aufgebracht werden.
Fig. 6 ist eine Querschnittansicht, die einen Widerstand 81 gemäß einer fünften
erfindungsgemäßen Ausführung zeigt.
Der Widerstand 81 ist mit einem Bauteilkörper 85 versehen, der aus einem Hybrid
laminat besteht, das eine Funktionsmaterialschicht 82 und Substratschichten 83
und 84 aufweist, welche so angeordnet sind, dass sie mit beiden Seiten der Funkti
onsmaterialschicht 82 in Kontakt stehen.
Zudem sind an gegenüberliegenden Kantenseiten 86 und 87 des Bauteilkörpers 85
Außenelektroden 88 und 89 ausgebildet, und die Außenelektroden 88 und 89 sind
jeweils mit Kantenseiten der Funktionsmaterialschicht 82 verbunden.
Der Bauteilkörper 85 kann durch Schneiden eines Mutterlaminats ähnlich dem des
oben beschriebenen Kondensators 41 oder dgl. erhalten werden, und das Mutter
laminat ist mit Elementen versehen, die jeweils der Funktionsmaterialschicht 82 und
den Substratschichten 83 und 84 entsprechen.
Bei dem Mutterlaminat zum Erhalt des Bauteilkörpers 85 enthalten die Substrat
schichten 83 und 84 in einer Phase vor Durchführung der Wärmebehandlung
Glaspulver und keramische Pulver. Die Funktionsmaterialschicht 82 enthält zudem
in einer Phase vor der Durchführung der Wärmebehandlung Pulver, die aus einer
Widerstandskeramik mit Widerstand bestehen, sowie kein Glasmaterial. Bei dem
Wärmebehandlungsschritt diffundieren bzw. fließen die in den Substratschichten 83
und 84 enthaltenen Glasmaterialien in die Funktionsmaterialschicht 82 und bonden
die in der Funktionsmaterialschicht 82 enthaltenen keramischen Pulver fest zu
sammen.
In den vorstehend beschriebenen Ausführungen ist nur eine Keramik mit einer spe
zifischen elektrischen Eigenschaft in den einzelnen Funktionsmaterialschichten 23,
25, 42, 62, 63, 77, 78 und 82 enthalten; es können jedoch eine Vielzahl von Kera
mikarten enthalten sein, und es können beispielsweise weiterhin dielektrische ke
ramische Pulver und magnetische keramische Pulver zusammengemischt und
hierin enthalten sein.
Als Nächstes wird die vorliegende Erfindung unter Bezug auf bestimmte Beispiele
beschrieben.
Beispiel 1 dient der Herstellung eines in Fig. 3 gezeigten Kondensators 41.
Zuerst wurden Silizium-Calcium-Aluminium-Magnesium(Si-Ca-Al-Mg)-Glaspulver
mit einem Korndurchmesser von etwa 5 µm und Aluminiumoxidpulver mit einem
Korndurchmesser von etwa 0,5 µm als Rohzutaten für die Substrate 43 und 44
hergestellt und wurden in einem Verhältnis von 60 Masseteilen der ersteren Pulver
und 40 Masseteilen der letzteren Pulver vermischt. Dann wurden dem Gemisch ein
Dispergiermittel und ein Bindemittel zugegeben und vermischt, wodurch ein Schlic
ker erhalten wurde.
Nach Entfernen von Luftbläschen aus dem Schlicker wurden durch Aufbringen des
Schlickers unter Verwendung eines Schabmesserverfahrens Platten gebildet und
dann wurden durch Trocknen erste ungesinterte Platten, die zu 300 µm starken
Substratschichten 43 und 44 ausgebildet werden sollten, gebildet.
Inzwischen wurde durch Verwendung von Titanatbarium-Keramikpulvern mit einem
Korndurchmesser von etwa 0,7 µm und einer dielektrischen Konstante (ε) von
1.700 als dielektrische keramische Pulver für eine Funktionsmaterialschicht 42 eine
zu einer 18 µm starken Funktionsmaterialschicht 42 auszubildende zweite un
gesinterte Platte durch ein Verfahren hergestellt, das dem zur Herstellung der oben
beschriebenen ersten ungesinterten Platten ähnelt.
Als Nächstes wurden auf beiden Seiten der zweiten ungesinterten Platte Innene
lektroden 46 und 47 durch Wärmebehandeln einer Silberpaste, so dass eine effek
tive gegenüberliegende Fläche der Elektroden 46 und 47 3 mm2 aufwies, gebildet.
Dann wurden die ersten ungesinterten Platten so laminiert, dass sie dazwischen die
zweite ungesinterte Platte aufwiesen, und wurden bei einem Druck von 1.000
kg/cm gepresst. Dann wurde ein so erhaltenes Mutterlaminat in einem ungesin
terten Zustand 2 Stunden lang bei 880°C wärmebehandelt.
Bei Beurteilung des Aussehens des wärmebehandelten Mutterlaminats lagen kein
Biegen des Ganzen bzw. Mängel, wie zum Beispiel Abtrennungen an den einzel
nen Grenzflächen der Funktionsmaterialschicht 42 zu den Substratschichten 43
und 44 vor, und es wurde demgemäß ein hochwertiges Mutterlaminat erhalten. Zu
dem betrug die Schwindung entlang der Ebenenrichtungen 1,2% und die Wasser
absorption 0%.
Durch Schneiden des Mutterlaminats nach der Wärmebehandlung wurde ferner ein
zu einem Bauteilkörper 45 zu bildender Chip erhalten und die Außenelektroden 50
und 51 wurden durch Wärmebehandeln einer Silberpaste an dem Bauteilkörper 45
angebracht, womit der Kondensator 41 fertig war. Mittels eines LCR-Messgeräts
wurde bei dem Kondensator 41 die Kapazität der Funktionsmaterialschicht 42 ge
messen und eine daraus gewonnene dielektrische Konstante (ε) betrug 170 bei 1
MHz.
Mittlerweile wurden als Vergleichsbeispiele 1 und 2 mit Ausnahme der Zugabe von
40 Volumenprozent und 50 Volumenprozent Borosilikatglaspulvern zu dem Schlic
ker zur Bildung von in Funktionsmaterialschichten auszubildenden ungesinterten
Platten Arbeitsschritte durchgeführt, die den in dem oben beschriebenen Beispiel
beschriebenen Arbeitsschritten ähnelten, wodurch wärmebehandelte Mutterlami
nate und Kondensatoren hergestellt wurden. Dann wurden Wasserabsorptionen,
Schwindungen und dielektrische Konstanten (ε) erhalten.
In der nachstehend gezeigten Tabelle 1 wurden Absorptionen, Schwindungen und
dielektrische Konstanten (ε) des Beispiels sowie der Vergleichsbeispiele 1 und 2
aufgeführt.
Wie aus Tabelle 1 hervorgeht, kann gemäß dem Beispiel auch bei gleicher Wärme
behandlungstemperatur wie in den Vergleichsbeispielen eine höhere dielektrische
Konstante (ε) erhalten werden, und eine Schwindung kann ebenfalls gegenüber
den Vergleichsbeispielen 1 und 2 unterdrückt werden.
Bei einem weiteren Vergleichsbeispiel wurde zudem eine Funktionsmaterialschicht
42 mit 30 Volumenprozent Glas darin durch Wärmebehandeln bei 880°C nicht ver
dichtet.
Weiterhin wurden in dem Fall, da ein anderes dielektrisches keramisches Pulver,
wie z. B. Titanatzirkonatbleipulver, als in dar Funktionsmaterialschicht 42 enthaltene
dielektrische keramische Pulver verwendet wurde, Ergebnisse erzielt, die im We
sentlichen den oben beschriebenen ähnelten.
Beispiel 2 dient der Erzeugung eines Induktors 61 mit einem in Fig. 4 gezeigten
Aufbau.
Zuerst wurden als erste ungesinterte Platten zur Bildung der Substrate 64 und 65
Materialien zubereitet, die den in Beispiel 1 zubereiteten ähnelten.
Inzwischen wurden durch Verwendung von Nickelzinkferritpulver mit einem Korn
durchmesser von etwa 0,5 µm als in den Funktionsmaterialschichten 62 und 63
enthaltene magnetische keramische Pulver die Ferritpulver und der Drucklack ge
mischt, wodurch ein Druckschlicker in Form einer Paste hergestellt wurde.
Als Nächstes wurden auf der zu einer Substratschicht 65 auszubildenden ungesin
terten Platte wiederholt ein Druckvorgang unter Verwendung einer Silberpaste und
ein Druckvorgang unter Verwendung des oben beschriebenen Druckschlickers
durchgeführt, so dass Induktorelektroden 37 bis 69 und Kontaktlochverbindungs
teile 70 und 71 zusätzlich zur Bildung der Funktionsmaterialschichten 62 und 63
gebildet wurden. Ein durch die Induktorelektroden 67 bis 69 und die Kontaktloch
verbindungsteile 70 und 71 gebildeter Induktorleiter war so ausgelegt, dass er 1,5
Windungen aufwies.
Als Nächstes wurde die zu dem anderen Substrat 64 auszubildende ungesinterte
Platte laminiert, um ein Hybridlaminat auszubilden, und das Hybridlaminat von der
zu der Substratschicht 65 auszubildenden ungesinterten Platte zu der in das ande
re Substrat 64 auszubildenden ungesinterten Platte wurde bei 100 kg/cm3 gepresst.
Als Nächstes wurde ein so erhaltenes Mutterlaminat in einem ungesinterten Zu
stand bei 880°C 2 Stunden lang in Luft wärmebehandelt.
Bei Beurteilung des Aussehens des wärmebehandelten Mutterlaminats lagen kein
Biegen des Ganzen bzw. Mängel, wie zum Beispiel Abtrennungen an den Grenz
flächen der Funktionsmaterialschicht 62 zu der Funktionsmaterialschicht 63 und
den Substratschichten 64 sowie an der Grenzfläche der Funktionsmaterialschicht
63 zu der Substratschicht 65 vor, und es wurde demgemäß ein ausgezeichnetes
Mutterlaminat erhalten. Zudem betrug die Schwindung entlang der Ebenenrichtun
gen 0,8% und die Wasserabsorption 0%.
Durch Schneiden des Mutterlaminats nach der Wärmebehandlung wurde ferner ein
zu einem Bauteilkörper 66 auszubildender Chip erhalten und die Außenelektroden
75 und 76 wurden durch Wärmebehandeln einer Silberpaste an dem Bauteilkörper
66 angebracht, womit der Induktor 61 fertig war. Die Frequenzeigenschaften der
Impedanz des Induktors 61 wurden gemessen und es wurden die Filtereigen
schaften beurteilt. In Fig. 7 wurde die Impedanz gegenüber der Frequenzänderung
gezeigt.
In Fig. 7 ist die Impedanz (Z) durch Z = R + jX wiedergegeben, und wenn die Impe
danz durch eine komplexe Zahl wiedergegeben wird, ist R ein echter Teil einer
komplexen Zahl und j ist ein imaginärer Teil einer komplexen Zahl. Werden Signale
mit einer Sinuskurve eingegeben, dann werden die gleichen Teile in Phase als R
gemessen und eine Phasenverschiebung wird als X gemessen und |Z| stellt die
Quadratwurzel von R2 + X2 dar, d. h. (R2 + X2)1/2.
Wie in Fig. 7 gezeigt kann gemäß dem in dem oben beschriebenen Beispiel erhal
tenen Induktor 61 eine Filterfunktion mit einer Impedanz von 17 Ω bei 100 MHz
verwirklicht werden.
In dem Fall, da ein anderes magnetisches keramisches Pulver, beispielsweise
Manganzinkferritpulver, als in den Funktionsmaterialschichten 62 und 63 enthalte
nes magnetisches keramisches Pulver verwendet wurde, wurden Ergebnisse er
zielt, die im Wesentlichen den oben beschriebenen ähnelten.
In der oben beschriebenen Ausführung betrug die Schwindung entlang der Ebenen
richtungen 0,8%; wenn jedoch ein für die Funktionsmaterialschichten 62 und 63
verwendetes Nickelzinkferrit ein geringeres Synthesemaß aufwies, lag die Schwin
dung entlang der Ebenenrichtungen in manchen Fällen nicht unter 5%. Der Grund
hierfür liegt darin, dass ein in die Funktionsmaterialschichten 62 und 63 diffundie
rendes oder fließendes Glasmaterial mit dem Ferritmaterial reagiert und es daher
zu einem Flüssigphasensintern kommt. Zur Unterdrückung der oben erwähnten
Schwindung und zur Verbesserung der Maßhaltigkeit wird vorzugsweise ein Aufbau
verwendet, der mit anderen Funktionsmaterialschichten 77 und 78, wie in Fig. 5
gezeigt, versehen ist. In dem in Fig. 5 gezeigten Aufbau wurde die Schwindung
entlang der Ebenenrichtungen auf etwa 0,5% gesenkt, wenn die Aluminiumoxid mit
einem Korndurchmesser von etwa 0,5 µm enthaltenden Funktionsmaterialschichten
77 und 78 jeweils zu einer Dicke von 8 µm ausgebildet wurden.
Beispiel 3 dient der Erzeugung eines Widerstands 81 mit einem in Fig. 6 gezeigten
Aufbau.
Als ungesinterte Platten zur Bildung der Substratschichten 83 und 84 wurden erste
ungesinterte Platten zubereitet, die den in Beispiel 1 zubereiteten ähnelten.
Inzwischen wurden als in der Funktionsmaterialschicht 82 enthaltene keramische
Widerstandspulver Rutheniumoxid (RuO) mit einem Korndurchmesser von etwa 1
µm mit Drucklack gemischt und damit ein Druckschlicker in Form einer Paste er
zeugt.
Als Nächstes wurden der Druckschlicker auf der gesamten Oberfläche der zu einer
Substratschicht 84 auszubildenden ungesinterten Platte mit einer Dicke von 18 µm
mittels Siebdruck aufgebracht und die zu dem anderen Substrat 83 auszubildende
ungesinterte Platte wurde auf der zu der Substratschicht 84 auszubildenden un
gesinterten Platte laminiert und dann bei 100 kg/cm3 gepresst.
Als Nächstes wurde ein so erhaltenes Mutterlaminat in einem ungesinterten Zu
stand bei 880°C 2 Stunden lang in Luft wärmebehandelt.
Bei Beurteilung des Aussehens des wärmebehandelten Mutterlaminats lagen kein
Biegen des Ganzen bzw. Mängel, wie zum Beispiel Abtrennungen an den Grenz
flächen der Funktionsmaterialschicht 82 zu den Substratschichten 83 und zu der
Substratschicht 84 vor, und es wurde demgemäß ein hochwertiges Mutterlaminat
erhalten. Zudem betrug die Schwindung entlang der Ebenenrichtungen 3,0% und
die Wasserabsorption 0%.
Durch Schneiden des Mutterlaminats nach der Wärmebehandlung wurde ferner ein
zu einem Bauteilkörper 66 auszubildender Chip erhalten und die Außenelektroden
88 und 89 wurden durch Wärmebehandeln einer Silberpaste an dem Bauteilkörper
66 angebracht, womit der Widerstand 81 fertig war. Der Widerstand des Wider
stands 81 wurde gemessen, um den spezifischen Volumenwiderstand zu erhalten,
und es wurde der Wert 0,03 Ω.mm erhalten.
Bei dem Fall, da andere keramische Widerstandspulver als RuO-Pulver als in der
Funktionsmaterialschicht 82 enthaltene keramische Widerstandspulver verwendet
wurden, wurden ebenfalls Ergebnisse erzielt, die im Wesentlichen den oben be
schriebenen ähnelten.
Bei den oben beschriebenen Beispielen 1 bis 3 wurden die Eigenschaften des
Kondensators 41, der Induktoren 61 und 61a oder des Widerstands 81, die jeweils
eine einzige Funktion hatten, beurteilt; die Beurteilung eines Elektronikbauelements
mit einer einzigen Funktion kann jedoch auf beispielsweise die in Fig. 1 gezeigte
Mehrschichtleiterplatte angewendet werden. Der Grund hierfür ist darin zu finden,
dass die Mehrschichtleiterplatte 21, andere Mehrschichtleiterplatten oder eine elek
tronische Hybridvorrichtung als eine Baugruppe gesehen werden können, die aus
einer Mehrzahl von Elektronikbauelementen mit je einer einzigen Funktion besteht.
Zwar wurde die Erfindung im einzelnen unter Bezug auf ihre bevorzugten Ausfüh
rungen gezeigt und beschrieben, doch für einen Fachmann ist ersichtlich, dass das
Vorstehende und andere Änderungen der Form und Einzelheiten ohne Abweichen
von der Wesensart der Erfindung erfolgen können.
Claims (13)
1. Hybridlaminat, welches Folgendes umfasst:
eine einen Pulverpressling von ersten Pulvern enthaltende Substratschicht und
eine in Kontakt mit der Substratschicht stehende und einen Pulverpressling zweiter Pulver enthaltende Funktionsmaterialschicht,
dadurch gekennzeichnet, dass
der Pulverpressling der ersten Pulver ein Glasmaterial umfasst;
der Pulverpressling der zweiten Pulver ein keramisches Material mit minde stens einer spezifischen elektrischen Eigenschaft ausgewählt aus Dielektrizität, Magnetismus, spezifischem Widerstand und Isolierung umfasst;
zumindest ein Teil der ersten Pulver sich in einem gesinterten Zustand befindet;
und die zweiten Pulver sich in einem ungesinterten Zustand befinden und durch Diffusion oder einen Fluss eines Teils des Materials der Substratschicht in die Funktionsmaterialschicht gebondet werden.
eine einen Pulverpressling von ersten Pulvern enthaltende Substratschicht und
eine in Kontakt mit der Substratschicht stehende und einen Pulverpressling zweiter Pulver enthaltende Funktionsmaterialschicht,
dadurch gekennzeichnet, dass
der Pulverpressling der ersten Pulver ein Glasmaterial umfasst;
der Pulverpressling der zweiten Pulver ein keramisches Material mit minde stens einer spezifischen elektrischen Eigenschaft ausgewählt aus Dielektrizität, Magnetismus, spezifischem Widerstand und Isolierung umfasst;
zumindest ein Teil der ersten Pulver sich in einem gesinterten Zustand befindet;
und die zweiten Pulver sich in einem ungesinterten Zustand befinden und durch Diffusion oder einen Fluss eines Teils des Materials der Substratschicht in die Funktionsmaterialschicht gebondet werden.
2. Hybridlaminat nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, dass der Teil des
Materials der Substratschicht über die gesamte Fläche der Funktionsmaterial
schicht diffundiert oder fließt und im Wesentlichen alle zweiten Pulver durch
das Material der Substratschicht miteinander gebondet werden.
3. Hybridlaminat nach Anspruch 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet, dass zumin
dest ein Teil der ersten Pulver einen Schmelzpunkt unterhalb einer Sintertem
peratur zum Sintern der zweiten Pulver aufweist.
4. Hybridlaminat nach einem der Ansprüche 1 bis 3, dadurch gekennzeichnet,
dass das Glasmaterial ein Material umfasst, das durch dessen durch Sintern
verursachtes Schmelzen glasig gesintert wurde.
5. Hybridlaminat nach einem der Ansprüche 1 bis 4, dadurch gekennzeichnet,
dass der Pulverpressling der ersten Pulver weiterhin ein keramisches Material
umfasst.
6. Hybridlaminat nach Anspruch 5, dadurch gekennzeichnet, dass der Pulver
pressling der ersten Pulver eine aluminiumoxidhaltige Beimischung und zumin
dest eines von kristalliertem Anorthitglas, Borosilikatglas und kristallisiertem
Cordieritglas umfasst.
7. Hybridlaminat nach einem der Ansprüche 1 bis 6, welches weiterhin eine Viel
zahl von Substratschichten umfasst, dadurch gekennzeichnet, dass die Vielzahl
von Substratschichten mit der Funktionsmaterialschicht dazwischen laminiert
sind.
8. Hybridlaminat nach einem der Ansprüche 1 bis 7, welches weiterhin eine Viel
zahl von Funktionsmaterialschichten umfasst, dadurch gekennzeichnet, dass
die Vielzahl von Funktionsmaterialschichten mit der Substratschicht dazwi
schen laminiert sind.
9. Hybridlaminat nach Anspruch 8, dadurch gekennzeichnet, dass die Vielzahl der
Funktionsmaterialschichten eine erste und eine zweite Funktionsmaterialschicht
umfassen und das in der ersten Funktionsmaterialschicht enthaltene kerami
sche Material und das in der zweiten Funktionsmaterialschicht enthaltene Mate
rial sich bezüglich einer elektrischen Eigenschaft von einander unterscheiden.
10. Hybridlaminat nach einem der Ansprüche 1 bis 9, welches weiterhin ein leiten
des Element umfasst, das an dessen Oberfläche und/oder an dessen Innen
seite vorgesehen ist, dadurch gekennzeichnet, dass die Substratschicht, die
Funktionsmaterialschicht und das leitende Element ein Elektronikbauelement
darstellen.
11. Verfahren zur Herstellung eines Hybridlaminats, welches Folgendes umfasst:
einen ersten Schritt der Zubereitung erster Pulver, die ein Glasmaterial enthal ten;
einen zweiten Schritt der Zubereitung zweiter Pulver mit mindestens einer elektrischen Eigenschaft gewählt aus Dielektrizität, Magnetismus, spezifischer Widerstand und Isolierung, die nicht bei einer Temperatur gesintert werden, bei der zumindest ein Teils der ersten Pulver gesintert wird;
einen dritten Schritt der Herstellung eines Hybridlaminats in einem ungesinter ten Zustand, welches eine die ersten Pulver enthaltende Substratschicht in ei nem ungesinterten Zustand und eine Funktionsmaterialschicht in einem un gesinterten Zustand umfasst, die so angeordnet ist, dass sie in Kontakt mit der Substratschicht steht und die zweiten Pulver enthält; und
einen vierten Schritt des Wärmebehandelns des Laminats in einem ungesin terten Zustand bei einer vorbestimmten Temperatur, bei der zumindest ein Teil der ersten Pulver gesintert wird und ein Teil des Materials der Substratschicht in die Funktionsmaterialschicht diffundiert oder fließt, so dass die zweiten Pul ver ohne Sintern mit einander gebondet werden.
einen ersten Schritt der Zubereitung erster Pulver, die ein Glasmaterial enthal ten;
einen zweiten Schritt der Zubereitung zweiter Pulver mit mindestens einer elektrischen Eigenschaft gewählt aus Dielektrizität, Magnetismus, spezifischer Widerstand und Isolierung, die nicht bei einer Temperatur gesintert werden, bei der zumindest ein Teils der ersten Pulver gesintert wird;
einen dritten Schritt der Herstellung eines Hybridlaminats in einem ungesinter ten Zustand, welches eine die ersten Pulver enthaltende Substratschicht in ei nem ungesinterten Zustand und eine Funktionsmaterialschicht in einem un gesinterten Zustand umfasst, die so angeordnet ist, dass sie in Kontakt mit der Substratschicht steht und die zweiten Pulver enthält; und
einen vierten Schritt des Wärmebehandelns des Laminats in einem ungesin terten Zustand bei einer vorbestimmten Temperatur, bei der zumindest ein Teil der ersten Pulver gesintert wird und ein Teil des Materials der Substratschicht in die Funktionsmaterialschicht diffundiert oder fließt, so dass die zweiten Pul ver ohne Sintern mit einander gebondet werden.
12. Verfahren zur Herstellung eines Hybridlaminats nach Anspruch 11, dadurch
gekennzeichnet, dass bei dem ersten Schritt die Substratschicht in einem Zu
stand einer ersten ungesinterten Platte, die die ersten Pulver enthält, erzeugt
wird.
13. Verfahren zur Herstellung eines Hybridlaminats nach Anspruch 12, dadurch
gekennzeichnet, dass bei dem ersten Schritt die Funktionsmaterialschicht in ei
nem Zustand einer zweiten ungesinterten Platte, die die zweiten Pulver enthält,
erzeugt wird, und der erste Schritt einen Schritt des Laminierens der zweiten
ungesinterten Platte umfasst, so dass diese in Kontakt mit der ersten ungesin
terten Platte steht.
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP21154699A JP3601679B2 (ja) | 1999-07-27 | 1999-07-27 | 複合積層体の製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| DE10033984A1 true DE10033984A1 (de) | 2001-03-08 |
Family
ID=16607623
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| DE10033984A Ceased DE10033984A1 (de) | 1999-07-27 | 2000-07-13 | Hybridlaminat und Verfahren zur Herstellung desselben |
Country Status (6)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US6306511B1 (de) |
| JP (1) | JP3601679B2 (de) |
| KR (1) | KR100344923B1 (de) |
| DE (1) | DE10033984A1 (de) |
| GB (1) | GB2354483B (de) |
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Legal Events
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|---|---|---|---|
| OP8 | Request for examination as to paragraph 44 patent law | ||
| 8125 | Change of the main classification |
Ipc: H05K 3/46 |
|
| R002 | Refusal decision in examination/registration proceedings | ||
| R003 | Refusal decision now final | ||
| R003 | Refusal decision now final |
Effective date: 20150106 |