[go: up one dir, main page]

DE10031414B4 - Vorrichtung zur Vereinigung optischer Strahlung - Google Patents

Vorrichtung zur Vereinigung optischer Strahlung Download PDF

Info

Publication number
DE10031414B4
DE10031414B4 DE10031414A DE10031414A DE10031414B4 DE 10031414 B4 DE10031414 B4 DE 10031414B4 DE 10031414 A DE10031414 A DE 10031414A DE 10031414 A DE10031414 A DE 10031414A DE 10031414 B4 DE10031414 B4 DE 10031414B4
Authority
DE
Germany
Prior art keywords
plane
plate
active
parallel
active beam
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Fee Related
Application number
DE10031414A
Other languages
English (en)
Other versions
DE10031414A1 (de
Inventor
Mario Gerlach
Bastiaan Oostdijck
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Jenoptik AG
Carl Zeiss Jena GmbH
Original Assignee
VEB Carl Zeiss Jena GmbH
Carl Zeiss Jena GmbH
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by VEB Carl Zeiss Jena GmbH, Carl Zeiss Jena GmbH filed Critical VEB Carl Zeiss Jena GmbH
Priority to DE10031414A priority Critical patent/DE10031414B4/de
Priority to JP2001151400A priority patent/JP4849737B2/ja
Priority to US09/894,474 priority patent/US6608674B2/en
Publication of DE10031414A1 publication Critical patent/DE10031414A1/de
Application granted granted Critical
Publication of DE10031414B4 publication Critical patent/DE10031414B4/de
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Fee Related legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B27/00Optical systems or apparatus not provided for by any of the groups G02B1/00 - G02B26/00, G02B30/00
    • G02B27/28Optical systems or apparatus not provided for by any of the groups G02B1/00 - G02B26/00, G02B30/00 for polarising
    • G02B27/283Optical systems or apparatus not provided for by any of the groups G02B1/00 - G02B26/00, G02B30/00 for polarising used for beam splitting or combining

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Polarising Elements (AREA)
  • Laser Surgery Devices (AREA)
  • Radiation-Therapy Devices (AREA)
  • Lasers (AREA)

Abstract

Vorrichtung zur Vereinigung optischer Strahlung unter Ausnutzung der Polarisationseigenschaften des Lichtes, umfassend eine planparallele, optisch transparente Platte (1) einem Brechungsindex n, welche eine optisch wirksame, erste Fläche (2) die ein optischer Wirkstrahl (4) aftrifft, und eine zur ersten Fläche (2) parallele,optisch wirksame, zweite Fläche (3) umfaßt auf die ein optischer Zielstrahl (10) am Ort (5) des Austritts des Wirkstrahls (4) aus dieser zweiten Fläche (3) auftrifft,
wobei
a) die Planparallelplatte (1) so zu den zu koppelnden Strahlen (4; 10) oder Strahlengängen angeordnet ist, daß der Wirkstrahl (4) auf die erste Fläche (2) der Platte (1) und der Zielstrahl (10) auf die zweite Fläche (3) der Platte (1) jeweils unter einem Winkel α auftreffen,der nicht gleich aber annähernd gleich dem dem Brechungsindex n der Platte (1) entsprechenden Brewsterwinkel ist,
b) der Wirkstrahl (4) und der Zielstrahl (10) linear polarisiert sind, wobei die Polarisationsebene des Wirkstrahls (4) parallel zur Einfallsebene der Vorrichtung und die Polarisationsebene des Zielstrahls (10) senkrecht zur Einfallsebene der Vorrichtung verlaufen,
c) am Ort (6) es Eintritts des Wirkstrahls (4) in die Planparallelplatte (1) ein erster Teilstrahl (8) durch Reflexion erzeugt wird,
d) am Auftreffort des Zielstrahls (10) auf die Planparallelplatte (1) ein zweiter Teilstrahl (8.1) durch Reflexon erzeugt wird und
e) diesen Teilstrahlen (8; 8.1) jeweils Fotodetektoren (9; 13) zugeordnet sind die mit einer Verarbeitungseinheit (17) zur Erzeugung von Steuersignalen verbunden sind mit denen die auf die Platte (1) treffende Strahlung gesteuert oder geregelt wird.

Description

  • Die Erfindung bezieht sich auf eine Vorrichtung zur Vereinigung optischer Strahlung unter Ausnutzung der Polarisationseigenschaften des Lichtes.
  • Weite Anwendungsbereiche von Lasern als Strahlungsquellen im sichtbaren oder nicht sichtbaren Spektralbereich in Medizin und Technik erfordern eine optische Markierung der Bearbeitungszone durch einen Ziel- oder Markierungslaser, wobei die Wellenlänge des Ziellasers gewöhnlich im sichtbaren Spektralbereich liegt. Ein Wirkstrahl eines Wirkstrahllasers dient beispielsweise der Bestrahlung erkrankter Bereiche, beispielsweise in Innern des Auges. Wirklaserstrahl und Zielstrahl werden üblicherweise durch dichroitische optische Elemente vereinigt, und/oder es werden aus dem Wirkstrahl Strahlungsanteile ausgekoppelt, die u. a. Meßzwecken dienen.
  • Zur Anwendung kommen für solche optischen Elemente Strahlteilerwürfel oder teilreflektierende Planparallelplatten, die z. B. unter einem Winkel von 45° in dem entsprechenden Strahlengang angeordnet werden. Diese Elemente besitzen üblicherweise eine dielektrische Beschichtung zur Entspiegelung ihrer optisch wirksamen Flächen auf der Wellenlänge des Wirkstrahles. Im Gegensatz dazu wird die Einkopplung des Markierungslasers über dielektrische Schichten hohen Reflexionsgrades auf den Flächen vorgenommen. Reflektierte Anteile des Wirkstrahles, verursacht durch die Vereinigungsoptik, können zur Leistungsregelung und zur Leistungsüberwachung des Wirkstrahles genutzt werden.
  • Ein solches Element ist in DE 19816302 C1 im Zusammenhang mit einer Einrichtung zur Strahlentherapie von Gewebeteilen beschrieben. Bei dieser Einrichtung werden durch ein optisches Element, welches eine planparallele Platte darstellt, ein Ziel- und ein Wirk- oder Therapiestrahl vereinigt. Dieses Element besitzt zwei optisch wirksame Flächen, an denen die Vereinigung der Strahlen und die Auskopplung mindestens eines Teilstrahls aus dem Wirkstrahl stattfinden. Die ausgekoppelten Teilstrahlen werden Strahfungsempfängern zugeführt, deren Signale zu Regel- oder Überwachungszwecken nach einer entsprechenden Weiterverarbeitung benutzt werden.
  • Die Nachteile dieses Standes der Technik können etwa wie folgt dargelegt werden. Er erfordert Modifikationen der optischen Oberflächen der entsprechenden optischen Elemente zur Reduktion der Reflexions- und Koppelverluste. Die Realisierung erfolgt durch das Aufbringen dielektrischer Schichten, die den Reflexionsgrad der Oberflächen auf der Wellenlänge des Wirkstrahls vermindern und gleichzeitig den Reflexionsgrad der Markierungswellenlänge erhöhen. Dielektrische Schichten besitzen aber den Nachteil, daß sich die optischen Eigenschaften in Abhängigkeit von den Umgebungsbedingungen ändern. So können eine Änderung der Umgebungstemperatur oder der Luftfeuchtigkeit dazu führen, daß sich der Reflexionsgrad der Schicht, der Anteil der Streuverluste und die Wellenlängencharakteristik deutlich verändern. Das kann bei der Anwendung eines Koppelelementes nach dem Stand der Technik zu Leistungsverlusten, Fehlmessungen, Überwachungslücken und letztendlich, im Anwendungsfall bei medizinischen Geräten, zur Gefährdung von Personen führen. Die Aufkittung optischer Keile oder prismatischer Elemente soll die Orthogonalität zwischen dem einfallenden Strahl und der optischen Oberfläche sicherstellen, um Empfindlichkeit gegenüber Umweltbedingungen zu minimieren. Diese Maßnahmen führen jedoch im Weiteren die Nachteile mit sich, daß optische Abbildungsfehler, wie z. B. Astigmatismus, durch das Koppelelement erzeugt werden. Nach wie vor sind aber auf dem Koppelelement aufwendige dielektrische Beschichtungen erforderlich, durch die der Herstellungsaufwand vergrößert wird.
  • Zudem ist es aus der Druckschrift DE 4101044 C1 bereits bekannt, mit Hilfe einer planparallelen, optisch transparenten Platte und unter Ausnutzung der Polarisationseigenschaften des Lichts zwei Strahlengänge zu vereinigen, wobei das Licht dieser Strahlengänge von zwei Seiten und zwar jeweils im Brewsterwinkel auf die Platte trifft, das Licht des ersten Strahlengangs parallel zur Einfallsebene linear polarisiert ist und durch die Platte hindurchtritt und das Licht des zweiten Strahlengangs senkrecht zur Einfallsebene polarisiert ist und zum Teil an der Platte reflektiert wird.
  • Der Erfindung liegt die Aufgabe zugrunde, eine Vorrichtung zur Vereinigung optischer Strahlung zu schaffen, die ein konstruktiv einfach aufgebautes Koppelelement aufweist und die ein definiertes Auskoppeln von Strahlenanteilen bei vergleichsweise geringen Koppelverlusten erlaubt.
  • Erfindungsgemäß wird die Aufgabe mit den im ersten Patentanspruch dargelegten Mitteln gelöst. In den weiteren Ansprüchen werden Einzelheiten und weitere Ausführungen der Erfindung offenbart.
  • Damit der Wirkstrahl und der Zielstrahl den gleichen Verlauf und identische Wege besitzen, ist es günstig, wenn der Zielstrahl am Ort des Austritts des Wirkstrahls aus der zweiten Fläche der Planparallelplatte kollinear mit dem Wirkstrahln zusammengeführt wird.
  • Es ist weiterhin vorteilhaft, wenn in den Strahlengängen der Teilstrahlen Polarisations-, Absorptions-, holographische oder dielektrische Filter den Fotodetektoren vorgelagert sind.
  • Der Hauptvorteil der Vorrichtung ergibt sich aus dem Verzicht auf reflexmindernde dielektrische Schichten auf den optisch wirksamen Flächen der Planparallelplatte. Einerseits können Kosten und Zeit des Beschichtungsarbeitsganges gespart werden, zum anderen fallen alle Probleme, die im Zusammenhang mit dielektrischen Schichten auftreten, weg. Das bedeutet, daß sich ändernde Umweltbedingungen nicht zu einer Änderung der Schichteigenschaften führen können. Da der Reflexionsgrad der optischen Flächen nur von der Brechzahl des Glasmaterials, des Einfallswinkels und in geringem Maße von der Divergenz des Lasers abhängig ist, erweist sich das System als invariant gegenüber wechselnden Umweltbedingungen. Bei der vorgeschlagenen Anordnung wird eine größtmögliche Unabhängigkeit gegenüber Feuchtigkeits- und Temperatureinflüssen erreicht.
  • Die Erfindung soll nachstehend an einem Ausführungsbeispiel näher erläutert werden. In der Zeichnung zeigen
  • 1 die erfindungsgemäße Vorrichtung und
  • 2 den Reflexionsgrad an der Planparallelplatte als Funktion des Einfallwinkels.
  • Der prinzipielle Aufbau der erfindungsgemäßen Vorrichtung wird anhand der 1 erläutert. Diese umfaßt eine Planparallelplatte 1 aus einem, für die verwendete Wellenlänge optisch transparenten Werkstoff mit einem Brechungsindex n, beispielsweise aus Glas, Kunststoff oder Kristall, welche in eine optisch wirksame, erste Fläche 2 und , eine dazu parallele optisch wirksame, zweite Fläche 3 besitzt. Im in 1 dargestellten Ausführungsbeispiel trifft ein Wirkstrahl 4, welcher von einer nicht dargestellten Strahlungsquelle ausgesandt wird, unter einem Einfallswinkel α auf die erste Fläche 2, welcher nicht gleich aber annähernd dem Brechungsindex n der Platte 1 entsprechenden Brewsterwinkel ist. Von einem annähernd unter dem Brewsterwinkel auf eine Grenzfläche einfallenden Strahl schließen der an der Grenzfläche gebrochene und der an dieser Fläche reflektierte Strahl 8 annähernd einen Winkel von 90° ein. Dieser Wirkstrahl 4, welcher linear polarisiert ist und dessen Polarisationsebene parallel zur Einfallsebene der Vorrichtung (Planparallelplatte 1) verläuft, wird an der Fläche 2 der Planparallelplatte 1 gebrochen und verläßt diese Planparallelplatte 1 am Austrittsort 5 parallel versetzt zum am Eintrittsort 6 eintretenden Wirkstrahl 4 in Richtung zu einem Bestrahlungsort (Pfeil 7). Bei einem derart polarisierten Wirkstrahl 4 ist der an der Grenzfläche in die Planparallelplatte 1 eintretende Strahlanteil sehr groß gegenüber dem an dieser Grenzfläche reflektierten Strahl 8, so daß der größte Teil der einfallenden Strahlung des Wirkstrahls 4 durch die Planparallelplatte 1 hindurchgeht.
  • Der am Eintrittsort 6 reflektierte Anteil 8 des einfallenden Wirkstrahls 4 wird einem Fotoempfänger 9 zugeleitet. Da der Wirkstrahl 4 linear polarisiert ist und seine Polarisationsebene parallel zur Einfallsebene der Vorrichtung verläuft, erfährt dieser Strahl 4 beim Durchgang durch die Planparallelplatte 1 äußerst geringe Reflexionsverluste.
  • Am Austrittsort 5 des gebrochenen Anteils des Wirkstrahl 4 an der zweiten Fläche 3 der Planparallelplatte 1 wird in vorteilhafter Weise ein Zielstrahl 10 in den Strahl 4 eingekoppelt. Ein Anteil des Zielstrahls 10 wird an der Planparallelplatte 1 gebrochen und durchläuft die Platte und verläßt an einem Ort 11 auf der ersten Fläche die Planparallelplatte 1 als gebrochener Anteil 12 und kann ebenfalls einem Fotoempfänger 13 zugeführt werden.
  • Die Polarisationsebene des Zielstrahls 10 senkrecht zur Einfallsebene der Vorrichtung, damit der Strahl 10 an dieser zweiten Fläche 3 mit einem hohen Reflexionsgrad reflektiert wird. Der an der Planparallelplatte 1 reflektierte Anteil beträgt ca. 20 % bis 30 %, Der Rest durchläuft die Platte 1.
  • Bei der erfindungsgemäßen Vorrichtung ist die laterale Position der Planparallelplatte 1 so gewählt, daß der austretende Strahl aufgrund des optischen Strahlversatzes die Platte 1 im Zentrum (Austrittsort 5) verläßt. Aufgrund der Symmetriebedingungen ist somit sichergestellt, das auch restliche Front- und Rückseitenreflexionen an den Flächen 2 und 3 unabgeschattet ausgewertet werden können. Der Abstand der geometrisch parallel verlaufenden Front- und Rückseitenreflexe ist vom Winkel der Platte zur optischen Achse 15, dem Brechungsindex n der Planparallelplatte 1 sowie der Dicke der Platte 1 abhängig. Da aber der Brechungsindex n der Platte 1 den Brewsterwinkel und somit den Winkel zur optischen Achse 15, die parallel zum Strahl 4 verläuft, festlegt, kann der Abstand der austretenden Strahlen (reflektierter Anteil 8 und gebrochener Anteil 12) nur über die Plattendicke d eingestellt werden.
  • In 2 ist der Reflexionsgrad an der Planparallelplatte 1 als Funktion des Einfallswinkels des Wirkstrahls dargestellt. Deutlich ersichtlich ist das ausgeprägte Minimum des Reflexionsgrades in der Umgebung des Brewsterwinkels. Im Arbeitspunkt der Vorrichtung ist ohne zusätzliche Maßnahmen der Oberflächenentspiegelung ein Restreflexionsgrad von 0.05 % für den Wirkstrahl pro optischer Fläche zu erreichen.
  • Die Polarisationsebene des Zielstrahls 10 ist senkrecht zur Einfallsebene der Vorrichtung eingestellt. Da für diese die Brewsterbedingung nicht erfüllt ist, wird abhängig von der Brechzahl n der Planparallelplatte 1 der etwa 600- bis 1000-fache Reflexionsgrad im Vergleich zum Reflexionsgrad ersten Strahles 4 erreicht. Das bedeutet, daß der Zielstrahl 10 effizient durch ein optisches Bauelement in der Form der Planparallelplatte 1 in den Wirkstrahl 4 eingekoppelt werden kann, welches den Wirkstrahl 4 nahezu verlustfrei passieren läßt. Im Abstand der Strahlen der Restreflexion ist ein Fotoempfänger 9 zur Messung und Überwachung der Wirkstrahlleistung positioniert.
  • Um Fehlmessungen der Wirkstrahlleistung durch transmittierte Zieltrahlleistung zu verhindern, werden vor den Fotoempfängern, die mit einer Rechner- oder Auswerteeinheit 17 verbunden sind, ein oder mehrere Filter 16 angeordnet. Das Filter 16 blockt die transmittierte Zielstrahlleistung, während der reflektierte Anteil 8.1 des Wirkstrahls 4 nahezu verlustfrei den Fotoempfänger 9 erreicht. In einem anderen Anwendungsfall kann das Filter 16 auch für die Wellenlänge des Zielstrahls durchlässig sein und noch vorhandene Reste des Wirkstrahls 4 herausfiltern.
  • Diese extreme Aufspaltung der Reflexionsverhältnisse läßt sich nur unter Ausnutzung des Brewster'schen Gesetzes und unter Anwendung streng linear polarisierter Wirk- und Zielstrahlen 4 und 10 erreichen.

Claims (3)

  1. Vorrichtung zur Vereinigung optischer Strahlung unter Ausnutzung der Polarisationseigenschaften des Lichtes, umfassend eine planparallele, optisch transparente Platte (1) einem Brechungsindex n, welche eine optisch wirksame, erste Fläche (2) die ein optischer Wirkstrahl (4) aftrifft, und eine zur ersten Fläche (2) parallele, optisch wirksame, zweite Fläche (3) umfaßt auf die ein optischer Zielstrahl (10) am Ort (5) des Austritts des Wirkstrahls (4) aus dieser zweiten Fläche (3) auftrifft, wobei a) die Planparallelplatte (1) so zu den zu koppelnden Strahlen (4; 10) oder Strahlengängen angeordnet ist, daß der Wirkstrahl (4) auf die erste Fläche (2) der Platte (1) und der Zielstrahl (10) auf die zweite Fläche (3) der Platte (1) jeweils unter einem Winkel α auftreffen,der nicht gleich aber annähernd gleich dem dem Brechungsindex n der Platte (1) entsprechenden Brewsterwinkel ist, b) der Wirkstrahl (4) und der Zielstrahl (10) linear polarisiert sind, wobei die Polarisationsebene des Wirkstrahls (4) parallel zur Einfallsebene der Vorrichtung und die Polarisationsebene des Zielstrahls (10) senkrecht zur Einfallsebene der Vorrichtung verlaufen, c) am Ort (6) es Eintritts des Wirkstrahls (4) in die Planparallelplatte (1) ein erster Teilstrahl (8) durch Reflexion erzeugt wird, d) am Auftreffort des Zielstrahls (10) auf die Planparallelplatte (1) ein zweiter Teilstrahl (8.1) durch Reflexon erzeugt wird und e) diesen Teilstrahlen (8; 8.1) jeweils Fotodetektoren (9; 13) zugeordnet sind die mit einer Verarbeitungseinheit (17) zur Erzeugung von Steuersignalen verbunden sind mit denen die auf die Platte (1) treffende Strahlung gesteuert oder geregelt wird.
  2. Vorrichtung nach Anspruch 1, durch gekennzeichnet, daß der Zielstrahl (10) am Ort (5) es Austritts des Wirkstrahls (4) aus der zweiten Fläche (2) der Planparallelplatte (1) kollinear mit dem Wirkstrahl (4) zusammengeführt ist.
  3. Vorrichtung nach Anspruch 1 dadurch gekennzeichnet, daß in den Strahlengängen der Teilstrahlen (8; 8.1) Polarisations-, Absorptions-, holographische oder dielektrische Filter (16), den Fotodetektoren (9; 13) vorgelagert, vorgesehen sind.
DE10031414A 2000-06-28 2000-06-28 Vorrichtung zur Vereinigung optischer Strahlung Expired - Fee Related DE10031414B4 (de)

Priority Applications (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DE10031414A DE10031414B4 (de) 2000-06-28 2000-06-28 Vorrichtung zur Vereinigung optischer Strahlung
JP2001151400A JP4849737B2 (ja) 2000-06-28 2001-05-21 光線合一化装置
US09/894,474 US6608674B2 (en) 2000-06-28 2001-06-27 Device for combining optical radiation

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DE10031414A DE10031414B4 (de) 2000-06-28 2000-06-28 Vorrichtung zur Vereinigung optischer Strahlung

Publications (2)

Publication Number Publication Date
DE10031414A1 DE10031414A1 (de) 2002-01-17
DE10031414B4 true DE10031414B4 (de) 2004-02-12

Family

ID=7647051

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
DE10031414A Expired - Fee Related DE10031414B4 (de) 2000-06-28 2000-06-28 Vorrichtung zur Vereinigung optischer Strahlung

Country Status (3)

Country Link
US (1) US6608674B2 (de)
JP (1) JP4849737B2 (de)
DE (1) DE10031414B4 (de)

Families Citing this family (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE10332815B4 (de) * 2003-07-18 2020-10-22 Carl Zeiss Meditec Ag Verfahren und Vorrichtung zum Ausbilden gekrümmter Schnittflächen in einem transparenten Material
DE10334110A1 (de) 2003-07-25 2005-02-17 Carl Zeiss Meditec Ag Vorrichtung und Verfahren zum Ausbilden gekrümmter Schnittflächen in einem transparenten Material
DE102008056490A1 (de) 2007-11-07 2009-05-14 Carl Zeiss Meditec Ag Applikator für ein ophthalmologisches Behandlungsgerät
CN102289079B (zh) * 2011-07-22 2013-11-27 中国科学院长春光学精密机械与物理研究所 一种以布儒斯特角入射的波长合束镜装置
DE102011085046A1 (de) 2011-10-21 2013-04-25 Carl Zeiss Meditec Ag Erzeugung von Schnittflächen in einem transparenten Material mittels optischer Strahlung
DE102011085047A1 (de) 2011-10-21 2013-04-25 Carl Zeiss Meditec Ag Erzeugung von Schnitten in einem transparenten Material mittels optischer Strahlung
DE102017126221A1 (de) 2017-11-09 2019-05-09 Jenoptik Optical Systems Gmbh Verfahren, Vorrichtung und Strahlteiler zur Auskopplung eines Teilstrahls mit einem sehr kleinen prozentualen Strahlanteil aus einem optischen Strahl
JP7757395B2 (ja) 2020-09-21 2025-10-21 エーエムオー ディベロップメント エルエルシー 眼科用レーザシステムおよびその作動方法
CN116699781B (zh) * 2023-05-15 2024-01-30 北京创思工贸有限公司 一种光学胶合件的加工方法

Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE4101044C1 (en) * 1991-01-16 1991-12-05 Ant Nachrichtentechnik Gmbh, 7150 Backnang, De Optical switch with by=passing and through switching positions - has movable mirror to select positions and dielectric plane parallel plate as beam splitter
DE4218642C2 (de) * 1991-06-10 1994-09-08 Alps Electric Co Ltd Plattenförmiger Strahlteiler und optisches System zum Abtasten eines optomagnetischen Aufzeichnungsträgers mit diesem Strahlteiler
DE19816302C1 (de) * 1998-04-11 1999-11-25 Zeiss Carl Jena Gmbh Einrichtung zur Strahlentherapie von Gewebeteilen
US6074065A (en) * 1995-12-08 2000-06-13 Friedrich Luellau Polariser made from brewster plates

Family Cites Families (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
SU446981A1 (ru) * 1972-08-31 1976-07-05 Предприятие П/Я Г-4147 Лазерна офтальмологическа установка
DE3319203C2 (de) * 1983-05-27 1986-03-27 Fa. Carl Zeiss, 7920 Heidenheim Vorrichtung zur Dosismessung bei der Photokoagulation
JP2704684B2 (ja) * 1991-06-10 1998-01-26 アルプス電気株式会社 光分離素子とこれを使用した受光光学装置
DE19635998C1 (de) * 1996-09-05 1998-04-23 Zeiss Carl Jena Gmbh Anordnung zur Laserkoagulation von unterhalb der Fundusoberfläche liegenden Retinaschichten und Verfahren zur Ermittlung von Veränderungen in tiefen Gewebeschichten der Retina
US6128133A (en) * 1998-12-22 2000-10-03 Lucent Technologies Inc. Optical beamsplitter
JP3647351B2 (ja) 2000-03-22 2005-05-11 株式会社ニデック 眼科装置

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE4101044C1 (en) * 1991-01-16 1991-12-05 Ant Nachrichtentechnik Gmbh, 7150 Backnang, De Optical switch with by=passing and through switching positions - has movable mirror to select positions and dielectric plane parallel plate as beam splitter
DE4218642C2 (de) * 1991-06-10 1994-09-08 Alps Electric Co Ltd Plattenförmiger Strahlteiler und optisches System zum Abtasten eines optomagnetischen Aufzeichnungsträgers mit diesem Strahlteiler
US6074065A (en) * 1995-12-08 2000-06-13 Friedrich Luellau Polariser made from brewster plates
DE19816302C1 (de) * 1998-04-11 1999-11-25 Zeiss Carl Jena Gmbh Einrichtung zur Strahlentherapie von Gewebeteilen

Also Published As

Publication number Publication date
US6608674B2 (en) 2003-08-19
JP2002058696A (ja) 2002-02-26
US20020051291A1 (en) 2002-05-02
JP4849737B2 (ja) 2012-01-11
DE10031414A1 (de) 2002-01-17

Similar Documents

Publication Publication Date Title
DE3143422C2 (de) Überwachungsvorrichtung für Laserstrahl-Leiteinrichtung
EP3221742B1 (de) Strahlteiler und anordnung zur untersuchung einer mittels elektromagnetischer strahlung anregbaren probe
EP3652570B1 (de) Polarisatoranordnung und euv-strahlungserzeugungsvorrichtung mit einer polarisatoranordnung
DE10031414B4 (de) Vorrichtung zur Vereinigung optischer Strahlung
EP3236308A1 (de) Laservorrichtung
WO2004099856A1 (de) Aufteilungsvorrichtung für lichtstrahlen
CH652833A5 (en) Stereoscopic microscope
EP2706340A2 (de) Vorrichtung und verfahren zum prüfen der ausrichtung wenigstens einer optischen fläche eines optischen systems
EP3379294A1 (de) Senderoptik für ein lidar-system, lidar-system und arbeitsvorrichtung
DE69838834T2 (de) Mehrstufige kombinierte optische Vorrichtung
DE69914511T2 (de) Optisches abbildungssystem
EP2261589A1 (de) Lasergerät zur elektrooptischen Distanzmessung
DE4032967A1 (de) Verfahren und vorrichtung zur ueberwachung von faserlichtleitern
DE112017007786T5 (de) Laserstrahlprofil-Messvorrichtung
EP1384105B1 (de) Strahlformungsvorrichtung zur aenderung des strahlquerschnitts eines lichtstrahls
DE3912406B4 (de) Verfahren und Vorrichtung zum Abtasten mehrerer optischer Meßreflektoren
DE4015447C1 (en) Laser power meter - uses polarisation-sensitive semi-transparent mirrors as beam splitter and reflector for diversion of beam
DE19508100B4 (de) Vorrichtung zum Einkoppeln von Lichtstrahlen in eine Lichtleitfaser
DE6918690U (de) Laser-entfernungsmess- und zielgeraet
DE102005010557B4 (de) Optischer Multiplexer/Demultiplexer
DE102022110651B4 (de) Kompaktes optisches Spektrometer
DE102019121939A1 (de) System und verfahren zur verbesserung des signal-rausch-verhältnisses in einem laserabbildungssystem
EP4370965B1 (de) Vorrichtung zur strahlformung eines einfallenden laserstrahls
EP1647846B1 (de) Optisches Beobachtungsgerät mit einer Vorrichtung zum Schutz gegen einfallende Störstrahlung
EP3707552B1 (de) Verfahren und vorrichtung zur auskopplung eines teilstrahls mit einem sehr kleinen prozentualen strahlanteil aus einem optischen strahl

Legal Events

Date Code Title Description
OP8 Request for examination as to paragraph 44 patent law
8364 No opposition during term of opposition
R119 Application deemed withdrawn, or ip right lapsed, due to non-payment of renewal fee