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DE1081306B - Photoelectric exposure meter or controller for photographic or cinematographic cameras - Google Patents

Photoelectric exposure meter or controller for photographic or cinematographic cameras

Info

Publication number
DE1081306B
DE1081306B DEV11106A DEV0011106A DE1081306B DE 1081306 B DE1081306 B DE 1081306B DE V11106 A DEV11106 A DE V11106A DE V0011106 A DEV0011106 A DE V0011106A DE 1081306 B DE1081306 B DE 1081306B
Authority
DE
Germany
Prior art keywords
bracket
measuring mechanism
exposure meter
controller according
photoelectric exposure
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
DEV11106A
Other languages
German (de)
Inventor
Erich Hahn
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Steinmeyer Mechatronik GmbH
Original Assignee
Feinmess Dresden GmbH
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Feinmess Dresden GmbH filed Critical Feinmess Dresden GmbH
Priority to DEV11106A priority Critical patent/DE1081306B/en
Publication of DE1081306B publication Critical patent/DE1081306B/en
Pending legal-status Critical Current

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Classifications

    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03BAPPARATUS OR ARRANGEMENTS FOR TAKING PHOTOGRAPHS OR FOR PROJECTING OR VIEWING THEM; APPARATUS OR ARRANGEMENTS EMPLOYING ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ACCESSORIES THEREFOR
    • G03B7/00Control of exposure by setting shutters, diaphragms or filters, separately or conjointly
    • G03B7/04Control effected by hand adjustment of a member that senses indication of a pointer of a built- in light-sensitive device, e.g. by restoring point to a fixed associated reference mark

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Exposure Control For Cameras (AREA)

Description

Die Erfindung bezieht sich auf einen Belichtungsmesser oder -regler für photographische oder kinematographische Aufnahmekameras.The invention relates to a light meter or regulator for photographic or cinematographic Recording cameras.

Es ist bekannt, einen oder mehrere die Belichtung beeinflussende Faktoren auf die Richtfedern des im Stromkreis des Photoelementes liegenden Meßwerkes einwirken zu lassen.It is known to have one or more factors influencing exposure on the directional springs of the im To allow the circuit of the photo element lying measuring mechanism to act.

Diese Methode läßt sich konstruktiv einfacher gestalten als die bekannten Methoden des im Ganzen verdrehbaren Meßwerkes oder die der Reglung des Photostromes durch elektrische Widerstände.This method is structurally simpler than the known methods of the whole rotatable measuring mechanism or the regulation of the photocurrent by electrical resistors.

Das Prinzip der Richtfederbeeinflussung beinhaltet aber darüber hinaus weitere bisher nicht erkannte Vorteile, deren Erkenntnis erfindungsgemäß zur Anwendung dieses Prinzipes in Verbindung mit Kernmagnetmeßwerken führt.The principle of the directional spring influence also includes others that have not yet been recognized Advantages, the recognition of which according to the invention for the application of this principle in connection with nuclear magnetic measuring mechanisms leads.

Die bekannten Belichtungsregler mit Mitteln zur Beeinflussung des Photostromes arbeiten nach der sogenannten Festwertmethode, wobei man Regelwiderstände oder Blenden vor dem Photoelement anwendet. The known exposure regulators with means for influencing the photocurrent work according to the so-called fixed value method, whereby one uses variable resistors or diaphragms in front of the photo element.

Es wird hierbei mit einem konstanten Arbeitspunkt des Meßwerkes gearbeitet. Deshalb ist die Skalencharakteristik bei dieser Methode uninteressant. Der nichtlineare Zusammenhang zwischen der zu messenden Leuchtdichte und dem Photostrom wird durch eine besondere Charakteristik des Regelwiderstandes bzw. durch entsprechende Steuerung der Photoelementenblende ausgeglichen.A constant working point of the measuring mechanism is used here. That is why the scale characteristic is uninteresting with this method. The non-linear relationship between the Luminance and the photocurrent are determined by a special characteristic of the rheostat or compensated for by appropriate control of the photo element diaphragm.

Die Festwertmethode hat den Nachteil, daß für eine große Anfangslichtempfindlichkeit des Belichtungsmessers bzw. -reglers mit einem sehr kleinen Photostromfestwert gearbeitet werden muß. Dadurch erhält man einmal einen sehr kleinen Zeigerausschlag für alle Werte, und zum anderen muß immer in der Nähe des Nullpunktes gearbeitet werden, wo Reibungsfehler und sonstige Unstetigkeiten stark in das Meßergebnis eingehen. Benutzt man jedoch, um diese Mängel zu vermeiden, einen großen Stromfestwert, so geht das auf Kosten der Anfangslichtempfindlichkeit.The fixed value method has the disadvantage that for a high initial light sensitivity of the exposure meter or regulator must be worked with a very small fixed photocurrent value. This gets one has a very small pointer deflection for all values, and on the other hand must always be close the zero point can be worked, where friction errors and other discontinuities strongly in the measurement result enter. However, if a large fixed current value is used in order to avoid these deficiencies, see above this is done at the expense of the initial sensitivity to light.

Die Mängel der Festwertmethode werden durch solche Anordnungen vermieden, die nach dem Zeigervollausschlagprinzip arbeiten, also keine den Photostrom beeinflussende Mittel aufweisen. Bekannte Methoden sind hierfür das Nachführzeigerprinzip oder die Methode der Verstellung des in seiner Gesamtheit drehbar gelagerten Meßwerkes. Bei Anwendung dieser Methoden muß jedoch die Skalencharakteristik des Meßwerkes, da nicht mehr an einem Arbeitspunkt gearbeitet wird, so beeinflußt werden, daß sich für jedes Intervall der zu messenden Leuchtdichte eine genügend große Änderung des Zeigerausschlages ergibt. Bei Außenmagnetmeßwerken ist das durch Anordnung von Zusatzpolen möglich.The shortcomings of the fixed value method are avoided by such arrangements that are based on the full pointer deflection principle work, so do not have any means that affect the photocurrent. Known methods for this are the tracking pointer principle or the method of adjusting the measuring mechanism, which is rotatably mounted in its entirety. When applied of these methods, however, the scale characteristics of the measuring mechanism must no longer apply an operating point is worked, can be influenced so that for each interval of the to be measured Luminance results in a sufficiently large change in the pointer deflection. With external magnetic measuring mechanisms this is possible by arranging additional poles.

Photoelektrisctier BelichtungsmesserPhotoelectrisctier light meter

oder -regler für photographische oderor regulator for photographic or

kinematographische Aufnahmekamerascinematographic recording cameras

Anmelder:Applicant:

VEB Feinmeß Dresden,
Dresden-N23, Kleiststr. 10
VEB Feinmeß Dresden,
Dresden-N23, Kleiststr. 10

Erich Hahn, Dresden,
ist als Erfinder genannt worden
Erich Hahn, Dresden,
has been named as the inventor

Will man der kleinen Abmessungen wegen, insbesondere bei eingebauten Belichtungsmessern oder Belichtungsreglern, ein Kernmagnetmeßwerk benutzen, so ist die Beeinflussung durch Zusatzpole nicht möglich.If you want to because of the small dimensions, in particular Use a nuclear magnetic measuring mechanism for built-in exposure meters or exposure regulators, influencing by additional poles is not possible.

Beim Kernmagnetmeßwerk verläuft die Induktion im Luftspalt nach der Sinusfunktion (homogenes Feld und gleichmäßiger Luftspalt vorausgesetzt).In the case of the magnetic core measuring mechanism, the induction in the air gap proceeds according to the sine function (homogeneous Field and uniform air gap provided).

Durch Veränderung des Winkels zwischen der Nullstellung der Drehspule und der Magnetisierungsrichtung des Kernes kann auch hier die Skalencharakteristik bekannterweise in weiten Grenzen verändert werden. Je nach Wahl des Winkels zwischen Nullstellung der Spule und der Magnetisierungsrichtung des Kernes kann die Maximalinduktion im Luftspalt und damit die Maximalempfindlichkeit des Meßwerkes an jede Stelle im Winkelbereich des Zeigerausschlages gelegt werden. Es ist jedoch nicht möglich, wie beim Außenmagnetwerk, den Skalenverlauf so zu gestalten, wie er sich als notwendig aus der Photostromcharakteristik des Photoelementes bei den üblichen Meßwerkinnenwiderständen von etwa 1000 bis 3000 Ω ergibt, nämlich hohe Anfangsempfindlichkeit, dann starke Abnahme der Empfindlichkeit und nach dem Ende des Zeigerausschlages zu wieder einen Anstieg der Empfindlichkeit.By changing the angle between the zero position of the moving coil and the direction of magnetization of the core, the scale characteristics known to be changed within wide limits. Depending on the choice of the angle between Zero position of the coil and the direction of magnetization of the core can reduce the maximum induction in the Air gap and thus the maximum sensitivity of the measuring mechanism at every point in the angular range of the Pointer deflection. However, as with the external magnet mechanism, it is not possible to use the scale progression to be designed in such a way as it is necessary from the photocurrent characteristics of the photo element results in the usual internal resistance of the measuring mechanism of approx. 1000 to 3000 Ω, namely high initial sensitivity, then a sharp decrease in sensitivity and after the end of the pointer deflection it increases again an increase in sensitivity.

Um hohe Anfangslichtempfindlichkeit des Belichtungsmessers bzw. -reglers zu erzielen, muß die Maximalempfindlichkeit des Meßwerkes an den Skalenanfang gelegt werden. Wegen des sinusförmigen Verlaufes der Induktion im Luftspalt ergibt sich damit am Skalenende eine starke Zusammendrängung der Intervalle.In order to achieve high initial light sensitivity of the exposure meter or regulator, the The maximum sensitivity of the measuring mechanism must be placed at the start of the scale. Because of the sinusoidal This results in the course of the induction in the air gap at the end of the scale a strong compression of the intervals.

009-508/126009-508 / 126

Ks gibt verschiedene Maßnahmen, um die starke Zusammendrängung der Intervalle am Skalenende zu vermeiden, wie Einschliffe am Kernmagneten oder ungleiche Magnetisierung, tlm eine von der Sinusform abweichende Feldverteilung zu erreichen. Diese Maßnahmen bringen jedoch in jedem Falle einen spürbaren Verlust der Anfangsempfindlichkeit des Meßwerkes.Ks are various measures to admit the strong compression of the intervals at the end of the scale avoid, such as grindings on the core magnet or unequal magnetization, tlm one of the sinusoidal shape to achieve different field distribution. However, these measures bring a noticeable effect in any case Loss of the initial sensitivity of the measuring mechanism.

Die Erfindung besteht nun darin, daß bei einem Belichtungsmesser oder -regler mit einem Drehspulmeßwerk, dessen Zeigerausschlag entsprechend einem odermehreren Belichtungsfaktoren durch Verschwenken der Gegenlager der Richtfpdern um die Achse der Drehspule beeinflußt wird," als Meßwerk ein Kernmagnetsystem verwendetist and dessen Zeiger im gesamten Meßbereich mit einer gehäusefesten Einstellmarke in einer solchen Stellung der Meßwerkspule zur Deckung gebracht wird, wctisich diese im Bereich der Maximalinduktion befindet." Dadurch werden alle Vorzüge der Festwertmethoderund der Vollausschlagmethode ausgenutzt und deren Nachteile vermieden.The invention consists in that in a light meter or regulator with a moving coil measuring mechanism, its pointer deflection according to one or more exposure factors by pivoting the counter bearing of the directional spring is influenced around the axis of the moving coil, "as a measuring mechanism a core magnet system and its pointer is used in the entire measuring range with a setting mark fixed to the housing in such a position of the measuring mechanism coil is brought to congruence, this wctisich in the area of Maximum induction is located. "This enables all the advantages of the fixed-value method and the full-scale method exploited and their disadvantages avoided.

Bei einer Anordnung gemäß der Erfindung wird bei der Messung immer auf die gleiche Stellung der Spule im Luftspalt eingeregelt, also immer der gleiche Arbeitspunkt im Luftspalt;-benutzt. Damit ist man von der Eigencharakteristik des Meßwerkes unabhängig. l"In an arrangement according to the invention, the measurement is always adjusted to the same position of the coil in the air gap, ie always the same working point in the air gap ; -used. This means that you are independent of the intrinsic characteristics of the measuring mechanism. l "

Das Drehmoment der Richtfedern ist proportional dem Verdrehungswinkel und somit auch der Verdrehungswinkel proportional dem durch die Drehspule fließenden Strom. Die Empfindlichkeit ist in allen Punkten gleich der Maximalempfindlichkeit in der Magnetisierungsrichtung.The torque of the straightening springs is proportional to the twist angle and thus also the twist angle proportional to the current flowing through the moving coil. The sensitivity is in all Points equal to the maximum sensitivity in the direction of magnetization.

Die beiden Richtfedern des Kernmagnetmeßwerkes werden gemäß der Erfindung durch einen Bügel verbunden und somit gemeinsam verstellt. Die Schwenkbewegung dieses Bügels wird durch Verstellung der die Belichtung beeinflussenden Einstellglieder (Blende, Belichtungszeit, Filmempfindlichkeit) erzeugt, wobei zweckmäßigerweise diese Einstellglieder über ein an sich bekanntes Differentialgetriebe auf den Bügel wirken.The two straightening springs of the Kernmagnetmeßwerkes are connected according to the invention by a bracket and thus adjusted together. The pivoting movement of this bracket is achieved by adjusting the the exposure influencing setting elements (aperture, exposure time, film speed) generated, whereby expediently these adjusting members on the bracket via a differential gear known per se works.

Um eine Anpassung an die unterschiedlichen Charakteristiken der Photoelemente zu erhalten, wird die Bewegung der Einstellglieder nicht direkt, sondern unter Zwischenschaltung einer Korrekturkurve übertragen. In order to adapt to the different characteristics of the photo elements, the movement of the adjusting elements is not transmitted directly, but with the interposition of a correction curve.

Für die Einstellung des Zeigers auf die gehäusefeste Marke braucht nur ein kleiner Ausschlagbereich des Zeigers sichtbar zu sein. Der nicht sichtbare Teil des Ausschlagbereiches kann durch Zeigeranschläge unterdrückt werden. Dadurch ist es möglich, zur Unterbringung einer größeren Anzahl von Intervallen bzw. zur Vergrößerung der Intervalle den Schwenkwinkel des die Richtfedern verbindenden Bügels größer als 90° zu machen, ohne daß die Gefahr eines Überschwingens der Spule über die neutrale Zone hinaus und damit eines Anschlages in entgegengesetzter Richtung besteht.Only a small deflection range is required to set the pointer to the mark fixed on the housing of the pointer to be visible. The invisible part of the deflection area can be prevented by pointer stops be suppressed. This makes it possible to accommodate a larger number of intervals or to enlarge the intervals, the pivoting angle of the bracket connecting the straightening springs to make greater than 90 ° without the risk of the coil overshooting the neutral zone addition and thus a stop in the opposite direction.

Da bei den für die Belichtungsmesser bzw. -regler verwendeten Meßwerken der Widerstand der Drehspule im allgemeinen die Größe von 1000 bis 3000 Ω besitzt, steigt bei größer werdender Helligkeit der Photostrom stärker an, als es der dem Strom proportionalen Skalencharakteristik entspricht. Um diesen Fehler auszugleichen, kann man den Widerstand des Außenkreises des Photoelementes soweit vergrößern, daß sich, für die geometrische Reihe der Helligkeitswerte ein annähernd linearer Anstieg des Photostromes ergibt, beispielsweise durch einen Reihenwiderstand von etwa 15 bis 25 kQ.As in the measuring mechanisms used for the exposure meters or controllers, the resistance of the moving coil generally has the size of 1000 to 3000 Ω, increases with increasing brightness The photocurrent increases more than it corresponds to the scale characteristic proportional to the current. To this one To compensate for errors, the resistance of the outer circle of the photo element can be increased to such an extent that that, for the geometric series of brightness values, there is an approximately linear increase in the photocurrent results, for example by a series resistance of about 15 to 25 kΩ.

Man kann aber auch nach einem weiteren Merkmal der Erfindung die dem zu messenden Licht ausgesetzte Fläche des Photoelementes durch eine Blende so weit verkleinern, daß sich für die geometrische Reihe der zu messenden Helligkeitswerte ein linearer Anstieg des Photostromes ergibt. Die Blende wird dabei durch eine Kurve gesteuert, die mit dem die Richtfedern verbindenden Bügel gekuppelt ist. Dadurch wird gegenüber der nach dem FestwertprinzipHowever, according to a further feature of the invention, the exposed light to be measured can also be used Reduce the area of the photo element by means of a diaphragm so that the geometric A series of brightness values to be measured results in a linear increase in the photocurrent. The aperture will controlled by a curve which is coupled to the bracket connecting the straightening springs. Through this is compared to the fixed value principle

ίο arbeitenden Blendenregelung noch folgender Vorteil zusätzlich zu den bereits eingangs geschilderten Vorteilen erzielt:ίο working aperture control still has the following advantage in addition to the advantages already outlined above:

Bei der nach dem Festwertprinzip arbeitenden Blendenregelung wird der Photostrom für alle Meßwerte auf einen Wert herabgesetzt, der dem Anfangsmeßwert gleich ist. Das bedeutet, daß dann, wenn mit kleinem Photostromfestwert, also großer Anfangsempfindlichkeit gearbeitet wird, die öffnung der Photoelementenblende bei großer Helligkeit außerordentlich klein wird. Ist der Photostromfestwert etwa 2 μΑ und die Beleuchtungsstärke auf dem Photoelement etwa 5000 Ix, so wird der Durchmesser der öffnung etwa 1 mm. Die Änderung des Durchmessers für die nächste Stufe der zu messenden Helligkeit beträgt dann nur etwa 0,2 mm. Es handelt sich also um Größenordnungen, die in den Toleranzen der Geräte untergehen. Dazu kommen bei den kleinen Durchmessern noch die Streuungen durch die inhomogene Lichtempfindlichkeit der Oberfläche des Photoelementes.With the aperture control, which works according to the fixed value principle, the photocurrent is used for all measured values is reduced to a value equal to the initial measured value. That means that if with small photocurrent fixed value, so high initial sensitivity is worked, the opening of the Photo element diaphragm becomes extremely small at high brightness. Is the fixed photocurrent value about 2 μΑ and the illuminance on the photo element about 5000 Ix, the diameter is the opening about 1 mm. The change in diameter for the next level of brightness to be measured is then only about 0.2 mm. So it is a matter of orders of magnitude that are within the tolerances of the devices go under. In addition, in the case of the small diameters, there are also the scattering due to the inhomogeneous ones Photosensitivity of the surface of the photo element.

Wird mit einem großen Photostromfestwert gearbeitet, so werden die Verhältnisse bezüglich Blendenöffnung bei großen Helligkeiten günstiger, jedoch fehlt hier dann die Anfangslichtempfindlichkeit.If a large fixed photocurrent value is used, the conditions with regard to the aperture are reduced cheaper at high brightness, but the initial sensitivity to light is missing here.

Die bekannte Festwertmethode mit Photoelementenblende hat also außer den eingangs genannten Mangeln noch den des beschränkten Meßumfanges.The known fixed value method with photo element diaphragm therefore has deficiencies in addition to the deficiencies mentioned at the beginning nor that of the limited scope of measurement.

Bei der erfindungsgemäßen Anordnung wird auch dieser Mangel beseitigt, indem die Öffnung der Photoelementenblende bei steigender Helligkeit nur so weit verkleinert zu werden braucht, daß sich, wie bereits erwähnt, für den Anstieg der zu messenden Helligkeit in geometrischer Reihe ein Anstieg des Photostromes in arithmetischer Reihe ergibt, folglich ist der Meßumfang in keiner Weise eingeschränkt.In the arrangement according to the invention, this deficiency is also eliminated by the opening of the photo-element diaphragm with increasing brightness only needs to be reduced so far that, as already, mentions an increase in the photocurrent for the increase in the brightness to be measured in a geometric series results in arithmetic series, consequently the scope of measurement is not restricted in any way.

In der Zeichnung sind zwei Ausführungsbeispiele des Erfindungsgedankens dargestellt.Two exemplary embodiments of the inventive concept are shown in the drawing.

Fig. 1 zeigt einen halbautomatischen Belichtungsmesser für eine kinematographische Aufnahmekamera ohne Photoelementenblende;Fig. 1 shows a semi-automatic light meter for a cinematographic recording camera without a photo-element shutter;

Fig. 2 zeigt einen halbautomatischen Belichtungsregler für eine kinematographische Aufnahmekamera mit zusätzlicher Photoelementenblende.2 shows a semi-automatic exposure regulator for a cinematographic recording camera with additional photo element aperture.

Beim Ausführungsbeispiel nach Fig. 1 sind die Objektivblendeneinstellung 1, die Bildfrequenzeinstellung 2 sowie die Einstellung 3 zur Berücksichtigung der Filmempfindlichkeit über ein in seiner Wirkung bekanntes Differentialgetriebe, bestehend aus den Zahnrädern 4, 5, 6 und 7, mit einer Kurvenscheibe 8 gekuppelt. Diese wirkt auf einen Stift 9 ein, der an einem Bügel 10 befestigt ist. Der Bügel 10, der die Richtfedern 13 der Meßwerkspule 14 verbindet, weist Ansätze 12 auf, an denen die Richtfedern gelagert sind. In der Zeichnung ist nur die vordere Richtfeder 13 und der vordere Ansatz 12 sichtbar, da die hintere Feder und der hintere Ansatz durch das Meß werk verdeckt sind.In the embodiment according to FIG. 1, the lens aperture setting is 1, the frame rate setting 2 as well as the setting 3 to take into account the film speed over a in its effect known differential gear, consisting of gears 4, 5, 6 and 7, with a cam disk 8 coupled. This acts on a pin 9 which is attached to a bracket 10. The bracket 10 that the Directional springs 13 of the measuring mechanism coil 14 connects, has lugs 12 on which the directional springs are mounted are. In the drawing, only the front straightening spring 13 and the front extension 12 is visible, since the rear The spring and the rear approach are covered by the measuring mechanism.

Auf einem am Meßwerk 11 befestigten Bolzen 15 ist eine Feder 16 gelagert, die sich an den am Meßwerk bzw. am Bügel 10 angeordneten Zapfen 17 und 18 abstützt. Durch diese Feder wird der Bügel 10 bzw.On a bolt 15 attached to the measuring mechanism 11, a spring 16 is mounted which is attached to the on the measuring mechanism or on the bracket 10 arranged pins 17 and 18 is supported. This spring makes the bracket 10 or

der an ihm befestigte Stift 9 an die Kurvenscheibe 8 gedruckt.the pin 9 attached to it is printed on the cam 8.

Mit 19 ist das Photoelement und mit 20 ein Reihenwiderstand bezeichnet.19 with the photo element and 20 with a series resistor.

Der Meßwerkzeiger 21, der mit einer gehäusefesten Marke 22 zur Deckung gebracht werden muß, ist in seinem im Sucher der Kamera sichtbaren Ausschlag durch die Anschläge 23 und 24 begrenzt.The measuring tool pointer 21, which must be brought into line with a mark 22 fixed to the housing, is shown in FIG its rash, which is visible in the viewfinder of the camera, is limited by stops 23 and 24.

Die Wirkungsweise der Anordnung ist folgende: Bildfrequenz und Filmempfindlichkeit werden vor der Messung mittels der Glieder 2 und 3 eingestellt und wirken über das Differentialgetriebe auf die Kurvenscheibe 8, die damit die entsprechende Grundeinstellung erhält. Bei der Messung wird durch Drehen des Objektivblendenringes 1 der Meßwerkzeiger 21 mit der Marke 22 zur Deckung gebracht. Der Blendenring 1 wirkt dabei ebenfalls über das Differentialgetriebe auf die Kurvenscheibe 8.The mode of operation of the arrangement is as follows: frame rate and film sensitivity are set in front of the Measurement set by means of members 2 and 3 and act on the cam disc via the differential gear 8, which thus receives the corresponding basic setting. When measuring, turning the lens aperture ring 1 of the measuring tool pointer 21 with the mark 22 brought to coincide. The aperture ring 1 acts on the cam 8 via the differential gear.

Durch die Drehung der Kurvenscheibe 8 wird der Bügel 10 bewegt, und dieser beeinflußt über die Riehtfedern 13 die Stellung der Meßwerkspule 14. Die Steigung der Kurve 8 ist der Charakteristik des Photoelementes 19 angepaßt.By rotating the cam 8, the bracket 10 is moved, and this influences the directional springs 13 the position of the measuring mechanism coil 14. The slope of curve 8 is the characteristic of the photo element 19 adapted.

Das in der Fig. 2 dargestellte Ausführungsbeispiel zeigt einen halbautomatischen Belichtungsregler mit vor dem Photoelement angeordneter Blende.The embodiment shown in FIG. 2 shows a semi-automatic exposure regulator aperture arranged in front of the photo element.

Am Kernmagnetsystem 11 ist wie im Ausführungsbeispiel nach Fig. 1 der Bügel 10 drehbar gelagert, an dem die Richtfedern 13 befestigt sind. Der am Bügel 10 befestigte Stift 9 ist formschlüssig mit einer Kurvenscheibe 25 verbunden. Vor dem Photoelement 19 ist um einen Bolzen 26 drehbar eine Blende 27 gelagert, die einen Stift 28 trägt, der durch eine Feder 29 gegen die Kurvenscheibe 25 gedrückt wird. Der Einstellring 30 für die Objektivblende ist über eine Koppelstange 31 mit einer Scheibe 32 verbunden, die die Filmempfindlichkeitswerte trägt. Die Scheibe 32 steht über eine nicht näher dargestellte Friktionskupplung mit der Einstellscheibe 33 in Verbindung, die ihrerseits mit der Kurvenscheibe 25 starr verbunden ist. Die ungleichen Abstände der Objektivblendenwerte auf dem Einstellring 30 werden durch ■entsprechende Lage der Koppelpunkte 35 und 34 der Koppelstange 31 in gleichmäßige Verdrehungswinkel der Scheibe 32 übersetzt.As in the exemplary embodiment according to FIG. 1, the bracket 10 is rotatably mounted on the core magnet system 11 which the directional springs 13 are attached. The attached to the bracket 10 pin 9 is form-fitting with a Cam 25 connected. In front of the photo element 19, a diaphragm 27 is rotatably mounted about a bolt 26, which carries a pin 28 which is pressed against the cam disk 25 by a spring 29. Of the Adjustment ring 30 for the lens diaphragm is connected via a coupling rod 31 to a disk 32 which carries the film speed values. The disk 32 is connected to the adjusting disk 33 via a friction clutch, not shown in detail, which in turn is rigidly connected to the cam 25. The unequal distances of the lens aperture values on the setting ring 30 are through ■ Corresponding position of the coupling points 35 and 34 of the coupling rod 31 in uniform angles of rotation the disk 32 translated.

Die Wirkungsweise der Anordnung ist folgende: Die Filmempfindlichkeit ist durch Verdrehung der Einstellscheibe 33 gegenüber der Scheibe 32 dem Belichtungsregler als Führungsgröße vorgegeben. Bei der Messung wird durch Drehen des Blendeneinstellringes 30 der Meßwerkzeiger 21 mit der gehäusefesten Marke 22 zur Deckung gebracht. Bei diesem Einstellvorgang wird durch die Verdrehung des Blendeneinstellringes 30 über die Koppelstange 31 die Scheibe 32, die Einstellscheibe 33 und schließlich die Kurve 25 gedreht. Diese nimmt über den Stift 9 den Bügel 10 mit, der über die Richtfedern 13 die Stellung des Meßwerkzeigers 21 beeinflußt. Gleichzeitig gleitet an der Kurve 25 der Stift 28 entlang, so daß die vor dem Photoelement 19 gelagerte Blende 27 das Photoelement mehr oder weniger abdeckt. Die Steigung der Kurve ist so abgestimmt, daß jeweils nur so viel von der Fläche des Photoelementes abgedeckt wird, als zur Erreichung eines dem Verdrehungswinkel des Bügels proportionalen Photostromes notwendig ist.The mode of operation of the arrangement is as follows: The film speed is achieved by twisting the Adjusting disk 33 is specified as a reference variable for the exposure controller in relation to disk 32. at the measurement is made by turning the aperture setting ring 30 of the measuring tool 21 with the fixed to the housing Brand 22 brought to cover. During this adjustment process, the aperture adjustment ring is turned 30 via the coupling rod 31, the disk 32, the adjusting disk 33 and finally the curve 25 rotated. This takes over the pin 9 with the bracket 10, which over the directional springs 13 the position of the Measuring tool 21 influenced. At the same time the pin 28 slides along the curve 25, so that the front of the Photo element 19 mounted aperture 27 covers the photo element more or less. The slope of the curve is coordinated in such a way that only as much of the area of the photo element is covered as for It is necessary to achieve a photocurrent proportional to the angle of rotation of the bracket.

Claims (6)

Patentansprüche:Patent claims: 1. Photoelektrischer Belichtungsmesser oder -regler für photographischeoder kinematographische Aufnahmekamera mit einem Drehspulmeßwerk, dessen Zeigerausschlag entsprechend einem oder mehreren Belichtungsfaktoren durch Verschwenken der Gegenlager der Richtfedern um die Achse der Drehspule beeinflußt wird, dadurch gekennzeichnet, daß als Meßwerk ein Kernmagnetsystem (11) verwendet ist und dessen Zeiger (21) im gesamten Meßbereich mit einer gehäusefesten Einstellmarke (22) in einer solchen Stellung der Meßwerkspule zur Deckung gebracht wird, wo sich diese im Bereich der Maximalinduktion des Luftspaltes befindet. 1. Photoelectric exposure meter or controller for photographic or cinematographic use Recording camera with a moving coil measuring mechanism whose pointer deflection corresponds to an or several exposure factors by pivoting the counter bearings of the straightening springs around the axis of the Moving coil is influenced, characterized in that a core magnet system (11) is used as the measuring mechanism and its pointer (21) with a setting mark fixed to the housing in the entire measuring range (22) in such a position of the measuring mechanism coil is brought to cover where it is in the area the maximum induction of the air gap. 2. Photoelektrischer Belichtungsmesser oder -regler nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die beiden Richtfedern (13) des Meßwerkes durch einen Bügel (10) verbunden sind, der von den die Belichtung beeinflussenden Einstellgliedern über eine Korrekturkurve (8) gesteuert wird, die zum Ausgleich der unterschiedlichen Charakteristiken der Photoelemente dient.2. Photoelectric exposure meter or controller according to claim 1, characterized in that that the two directional springs (13) of the measuring mechanism are connected by a bracket (10), which is of the setting elements influencing the exposure is controlled via a correction curve (8) which serves to compensate for the different characteristics of the photo elements. 3. Photoelektrischer Belichtungsmesser oder -regler nach Anspruch 1 und 2, dadurch gekennzeichnet, daß die die Belichtung beeinflussenden Einstellglieder über ein Differentialgetriebe auf die Korrekturkurve (8) und den die beiden Richtfedern (13) verbindenden Bügel (10) einwirken.3. Photoelectric exposure meter or controller according to claim 1 and 2, characterized in that that the setting elements influencing the exposure via a differential gear the correction curve (8) and the bracket (10) connecting the two straightening springs (13) act. 4. Photoelektrischer Belichtungsmesser oder -regler nach Anspruch 1 bis 3, dadurch gekennzeichnet, daß der Zeigerausschlag des Meßwerkes durch beiderseitige Anschläge (23 und 24) begrenzt und der Schwenkwinkel des Bügels (10) größer als der begrenzte Ausschlagbereich sind.4. Photoelectric exposure meter or controller according to claim 1 to 3, characterized in that that the pointer deflection of the measuring mechanism is limited by stops (23 and 24) on both sides and the pivot angle of the bracket (10) are greater than the limited deflection range. 5. Photoelektrischer Belichtungsmesser oder -regler nach Anspruch 1 bis 4, dadurch gekennzeichnet, daß der Schwenkwinkel des Bügels (10) größer als 90° ist.5. Photoelectric exposure meter or controller according to claim 1 to 4, characterized in that that the pivot angle of the bracket (10) is greater than 90 °. 6. Photoelektrischer Belichtungsmesser oder -regler nach Anspruch 1 oder einem oder mehreren der folgenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß die dem zu messenden Licht ausgesetzte Fläche des Photoelementes durch eine Blende (27) so weit verkleinert wird, daß sich für die geometrische Stufung der zu messenden Helligkeitswerte ein linearer Anstieg des Photostromes ergibt, wobei die Blende durch eine Kurve (25) gesteuert wird, die mit dem die Richtfedern (13) verbindenden Bügel (10) gekuppelt ist.6. Photoelectric exposure meter or controller according to claim 1 or one or more of the following claims, characterized in that the surface exposed to the light to be measured of the photo element is reduced so far by a diaphragm (27) that the geometric Grading of the brightness values to be measured results in a linear increase in the photocurrent, whereby the diaphragm is controlled by a curve (25) that connects with the directional springs (13) Bracket (10) is coupled. Hierzu 1 Blatt Zeichnungen1 sheet of drawings © 0Oi 508/126 4. © 0Oi 508/126 4.
DEV11106A 1956-08-25 1956-08-25 Photoelectric exposure meter or controller for photographic or cinematographic cameras Pending DE1081306B (en)

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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE1177475B (en) * 1961-02-07 1964-09-03 Elbe Kamera Gmbh Photographic camera with photoelectric exposure control device
DE1229383B (en) * 1963-01-14 1966-11-24 Kodak Ag Photographic camera with coupled light meter

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE1177475B (en) * 1961-02-07 1964-09-03 Elbe Kamera Gmbh Photographic camera with photoelectric exposure control device
DE1229383B (en) * 1963-01-14 1966-11-24 Kodak Ag Photographic camera with coupled light meter

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