DE1062708B - Verfahren zur elektromechanischen Herstellung von Siebdruckschablonen - Google Patents

Description

Die Erfindung betrifft ein Verfahren zur elektromechanischen Herstellung von Siebdruckschablonen.

Bekannt ist die photomechanische Herstellung von Siebdruckschablonen, wobei von einem feinen, engmaschigen Sieb bzw. Netz oder Gewebe aus Seiden-, Kunststoff- oder Metallfaden ausgegangen wird, welches in einen Rahmen eingespannt ist. Das Gewebe wird mit einer lichtempfindlichen Gelatineschicht versehen, auf welche ein seitenrichtiges Diapositiv der zu reproduzierenden Bildvorlage kopiert wird. Die belichteten Stellen werden durch die Belichtung gehärtet und unempfindlich gegen Wasser oder Entwickler. Die vom Diapositiv nicht belichteten Teile werden beim Entwickeln gelöst und herausgewaschen. Dadurch wird das Sieb an den Stellen durchläsig, wo die Druckfarbe entsprechend der Vorlage beim Druck hindurchtreten soll.

Es gibt noch verschiedene Varianten dieses Verfahrens, die aber keine wesentlichen Unterschiede oder Vorteile ergeben.

Ferner ist eine elektrothermische Herstellung von Siebdruckschablonen bekannt. Hierbei wird eine Bildvorlage, die auch Halbtöne enthalten kann, photoelektrisch Zeile für Zeile abgetastet. Durch die hierbei entsprechend der wechselnden Schwärzung der abgetasteten Bildpunkte der Vorlage ausgelösten schwankenden Photoströme werden die Dichte und Intensität von Funkendurchschlägen zwischen einer leitenden Unterlage und einer zellenförmig geführten spitzen Elektrode gesteuert, zwischen denen eine brennbare dünne Kunststoffolie geführt ist. Durch die Funkenentladungen findet infolge Verbrennung eine Perforation der Folie statt, deren Dichte und Lochdurchmesser mit wachsender Vorlagenschwärzung zunehmen. Beim Druckvorgang tritt durch die Löcher der Siebdruckfolie mehr oder weniger Farbe auf das Druckpapier hindurch. Mit diesem Verfahren ist eine Reproduktion von Quasi-Halbtönen möglich.

Durch die modernen elektronischen Klischiermaschinen, bei denen eine Bildvorlage punktweise in aufeinanderfolgenden Zeilen photoelektrisch abgetastet und durch die in Abhängigkeit von der Bildhelligkeit schwankenden photoelektrischen Ströme die Eindringtiefe eines Gravierwerkzeuges in eine Druckformplatte gesteuert wird, ist es möglich, die Herstellung von Siebdruckschablonen elektromechanisch durchzuführen.

Erfindungsgemäß geschieht dies in der Weise, daß eine dünne Folie aus Kunststoff oder Metall auf eine zerspanbare oder brennbare Unterlage fest aufgebracht wird, daß in. die Folie zusammen mit der Unterlage mittels einer elektronischen Klischiermaschine ein Klischee graviert wird, derart, daß die Folie dabei durchlöchert wird, und daß nach beendeter Gravur Verfahren zur elektromechanischen
Herstellung von Siebdrucfcschablonen

Anmelder:
Fa. Dr.-Ing. Rudolf Hell, Kiel, Grenzstr. 1-5

Dipl.-Ing. Heinz Taudt, Kiel,
ist als Erfinder genannt worden

die Siebdruckfolie wieder von der Unterlage entfernt wird.

Nach einem weiteren Erfindungsgedanken wird für das in die dünne Folie zu schneidende Klischee vorzugsweise ein Raster nach Art des autotypischen Tiefdruckrasters verwendet.

An Hand der Fig. 1 und 2 wird die Erfindung näher erläutert, von denen

Fig. 1 einen Ausschnitt aus der gravierten Siebdruckschablone in Aufsicht und
Fig. 2 die Siebdruckschablone und die Unterlage im Schnitt zeigt.

In Fig. 1 ist ein Siebdruckraster nach Art des autotypischen Tiefdruck-Kreuzrasters dargestellt. Dies besteht aus über Eck gestellten quadratförmigen Rasterelementen 1 verschieden großer Flächen, deren Mittelpunkte ein quadratisches Netz bilden.

Beim Drucken tritt die Druckfarbe durch die Öffnungen der Rasterelemente auf das Druckpapier. Die Fläche der Rasterelemente ist der Schwärzung der Bildvorlagenpunkte proportional. Mit zunehmender Helligkeit, also abnehmender Schwärzung, werden die Rasterelemente immer kleiner, so daß bei Weißflächen noch kleine Schwarzpunkte auf das Druckpapier gelangen. Mit abnehmender Helligkeit, also zunehmender Schwärzung, werden die Rasterelemente immer größer, so daß mehr Druckfarbe auf das Druckpapier gelangt. Die Rasterelemente dürfen aber im Gegensatz zum Hochdruck nicht so weit wachsen, daß sich benachbarte überschneiden, sondern nur bis zu einer maximalen Größe derart, daß noch schmale Stege 2 von ¹Z₄ bis V₅ der größten Näpfchenbreite stehenbleiben. Dies ist wichtig, damit die zu gravierende Siebdruckschablone in den Schatten ihren Zusammenhalt bewahrt. Der mittlere Grauton (50% Schwarz bzw. Weiß) wird dann erhalten, wenn die

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Claims (2)

Fläche der Rasterelemente annähernd gleich der Fläche der (veränderlichen) Stegumrandung ist, die iron Farbe frei bleibt. Die Rasterelemente sind über Eck gestellt, damit die Vorzugsrichtungen der Rasterung, die parallel zu den Kanten der Rasterelemente laufen, mit den Druckbildkanten Winkel von 45 bzw. 135° bilden, wodurch sie weniger störend in Erscheinung treten. Die Rasterelemente können auch kreis- oder ovalförmig sein. Fig. 2 zeigt die dünne Siebdruckfolie 3 aus Metall oder Kunststoff, welche zur Stützung auf eine stärkere zerspanbare oder brennbare Unterlage 4 so aufgebracht ist, daß sie später wieder entfernt werden kann. Die Siebdruckfolie 3 ist so dünn bzw. die minimale Eindringtiefe des Gravierstichels so groß, daß die Folie in den Lichtern 5 gerade eben noch durch den Stichel durchstoßen wird. In den Schatten 6 wird jedoch nur so tief graviert, daß zwischen den einzelnen Rasterpunkten noch schmale Stege 7 stehenbleiben, was durch eine Gravierstrombegrenzung erreicht wird. Die Unterlage 4 dient dazu, der dünnen Siebdruckfolie einen festen Halt zu geben und die Stichelspitze aufzufangen. Der Stichel schneidet auf der Unterlage ein Klischee mit veränderlicher Tiefe .der Rasterelemente entsprechend der veränderlichen Eindringtiefe der Stichelspitze. Dieses Unterlagenklischee, dessen Herstellung sich nicht umgehen läßt, wird nicht verwendet und nach beendeter Gravur wieder entfernt. Wenn von einer positiven Bildvorlage, ausgegangen wird und ein positiver Druck verlangt wird, so muß die Klischiermaschine eine elektronische Tonwertumkehrstufe enthalten, ähnlich wie dies bei einem BiIdtelegraphiegerät der Fall ist. Die Photozelle der lichtelektrischen Abtasteinrichtung reagiert auf helle Bildpunkte mit großem Photostrom, der das elektromagnetische Antriebssystem der Graviervorrichtung so steuern muß, daß die Eindringtiefe des Gravierstichels umgekehrt proportional dem Photostrom ist. Dagegen ist es ohne Umkehrstufe möglich, von einem Negativ ein positives Druckbild zu erhalten, und umgekehrt. Die Gravur kann in bekannter Weise im Paralleloder Diagonalschnitt erfolgen. Der erstere kommt in Betracht, wenn ein keilförmiger Gravierstichel verwendet wird, welcher bei seiner periodischen Auf- und Abbewegung, welche in bekannter Weise durch eine dem Bildsignal überlagerte Rasterfrequenz erzeugt wird, rhombusförmige Flächenelemente aus dem Druckformmaterial herausschneidet. Die Rasterelemente aufeinanderfolgender Zeilen müssen dabei jeweils um den halben Abstand zweier benachbarter Elemente versetzt werden, so daß sie über bzw. unter den Lücken zwischen den Rasterelementen der vorangehenden Zeile liegen. Der Zeilenabstand ist dann (bei einem quadratischen Rasternetz) gleich der Hälfte des Abstandes zweier benachbarter Rasterelemente in einer Zeile. Die Versetzung der Rasterelemente wird in bekannter Weise durch eine Phasenverschiebung der Rasterfrequenz um 180° nach der Gravur jeder Zeile erreicht. Beim Diagonalschnitt ist die Versetzung der Rasterelemente nicht erforderlich, da die Mittelpunkte ίο entsprechender Rasterelemente verschiedener Zeilen senkrecht übereinanderliegen. Quadratförmige Rasterelemente können aber nicht mit einem keilförmigen Stichel geschnitten werden, sondern müssen mit einem pyramidenstumpfförmigen Brennstichel mit quadratischem Querschnitt ausgebrannt werden. Dies ist jedoch nur in Kunststoffmaterial möglich. Das Ausbrennen der Rasterelemente ist andererseits auch beim Parallelschnitt möglich. Mit einem löffeiförmigen Stichel kann auch im Diagonalschnitt graviert ao werden. Die Siebdruckfolie kann auf die stützende Unterlage aufgeklebt, aufgewalzt, gelötet oder gegossen werden. Nach beendeter Gravur muß die fertige Siebdruckschablone von der Unterlage wieder entfernt werden. Dies geschieht im Falle des Klebens und Walzens dadurch, daß die Schablone abgezogen wird. Auch kann die Unterlage durch ein geeignetes Lösungsmittel, welches nicht die Schablone angreift, physikalisch oder chemisch aufgelöst werden. Im Falle des Lötens wird zum Zwecke der Trennung das Lot bis zum Fließen erwärmt. Falls die Unterlage aus einem leichtschmelzbaren Metall, z. B. Blei, auf die Folie aufgegossen wurde, wird die Unterlage zum Schmelzen gebracht. Besteht die Siebdruckfolie aus Metall, so ist eventuell nach ihrer Entfernung von der Unterlage ein kurzzeitiges Nachätzen erforderlich, um den Grat zu entfernen. Patentansprüche:

1. Verfahren zur elektromechanischen Herstellung von Siebdruckschablonen, dadurch gekennzeichnet, daß eine dünne Folie aus Kunststoff oder Metall auf eine zerspanbare oder brennbare Unterlage fest aufgebracht wird, daß in die Folie zusammen mit der Unterlage mittels einer elektronischen Klischiermaschine ein Klischee graviert wird, derart, daß die Folie dabei durchlöchert wird, und daß nach beendeter Gravur die Siebdruckfolie wieder von der Unterlage entfernt wird.

2. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß für das in die dünne Folie zu schneidende Klischee vorzugsweise ein Raster nach Art des autotypischen Tiefdruckrasters verwendet wird.

Hierzu 1 Blatt Zeichnungen