CN203077077U - 一种用于抛光曲面釉砖的弹性磨块 - Google Patents
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Abstract
本实用新型公开了一种用于抛光曲面釉砖的弹性磨块,包括夹持头、磨削组件,该夹持头上设置有一工作面,该工作面为一朝外凸的曲面;所述磨削组件包括排列在工作面上的若干排抛光单元,任意一排抛光单元均包括至少两个弹性抛光块。本实用新型通过将工作面设置为一朝外凸的曲面,当弹性磨块摆动时或随着磨头旋转时,可使磨削组件与釉砖的凹面进行良好的接触,从而提高抛光效果,而且,由于弹性抛光块具有良好的弹性,可便于顺利地抛光釉砖,进一步提高抛光效果,以提高产品的质量。
Description
技术领域
本实用新型涉及磨块领域,具体涉及一种用于抛光曲面釉砖的弹性磨块。
背景技术
众所周知的,磨块安装在抛光机磨头上,以用于对釉砖进行抛光。而现有的磨块一般包括夹持头、安装在夹持头上的磨削组件;所述夹持头上设置有工作面,该工作面为呈矩形的安装平面;所述磨削组件包括排布在工作面上的两排抛光件。而当磨块摆动抛光时,由于磨块的工作面为一呈矩形的安装平面,导致磨削组件无法与釉砖的凹面进行良好的接触,从而影响抛光效果。
实用新型内容
为了克服现有技术的不足,本实用新型的目的在于提供一种用于抛光曲面釉砖的弹性磨块,其通过将工作面设置为一朝外凸的曲面,可使磨削组件与釉砖的凹面进行良好的接触,从而提高抛光效果。
为解决上述问题,本实用新型所采用的技术方案如下:
一种用于抛光曲面釉砖的弹性磨块,包括夹持头、磨削组件,该夹持头上设置有一工作面,该工作面为一朝外凸的曲面;所述磨削组件包括排列在工作面上的若干排抛光单元,任意一排抛光单元均包括至少两个弹性抛光块。
所述工作面为球面或椭球面。
任意一排抛光单元均包括三个弹性抛光块。
所述抛光单元的排数为4-10排。
相比现有技术,本实用新型的有益效果在于:
本实用新型通过将工作面设置为一朝外凸的曲面,当弹性磨块摆动时或随着磨头旋转时,可使磨削组件与釉砖的凹面进行良好的接触,从而提高抛光效果,而且,由于弹性抛光块具有良好的弹性,可便于顺利地抛光釉砖,进一步提高抛光效果,以提高产品的质量。
附图说明
图1为本实用新型的结构示意图;
图2为本实用新型的侧视图;
图3为本实用新型的另一种弹性磨块的结构示意图;
图4为本实用新型的又一种弹性磨块的结构示意图;
其中,1、夹持头;2、工作面;3、弹性抛光块。
具体实施方式
下面,结合附图以及具体实施方式,对本实用新型做进一步描述,以便于更清楚的理解本实用新型所要求保护的技术思路。
如图1、2所示,为本实用新型的一种用于抛光曲面釉砖的弹性磨块,包括夹持头1、磨削组件;所述夹持头1上设置有一工作面2,该工作面2为一朝外凸的曲面;优选的,所述工作面2为球面或椭球面。所述磨削组件包括排列在工作面2上的若干排抛光单元,任意一排抛光单元均包括至少两个弹性抛光块3。具体的,所述抛光单元的排数为6,任意一排抛光单元均包括三个弹性抛光块3。其中,本实用新型所述的釉砖为釉面瓷砖。
当然,所述抛光单元的排数并不仅限于6排,可依实际需求设定,例如如图3所示设置为8排,或者如图4所示设置为4排。而优选的,所述抛光单元的排数为4-10排,以便于优化其性能和控制成本。
而在实际使用时,可将多个弹性磨块圆周排列在磨头上,而弹性磨块随着磨头的转动做旋转运动,同时也进行摆动运动,可利用其上的磨削组件对曲面釉砖进行抛光。
本实用新型通过将工作面2设置为一朝外凸的曲面,当弹性磨块摆动时或随着磨头旋转时,可使磨削组件与釉砖的凹面进行良好的接触,从而提高抛光效果,而且,由于弹性抛光块3具有良好的弹性,以便于顺利地抛光釉砖,进一步提高釉砖的抛光效果,以提高产品的质量。
上述实施方式仅为本实用新型的优选实施方式,不能以此来限定本实用新型保护的范围,本领域的技术人员在本实用新型的基础上所做的任何非实质性的变化及替换均属于本实用新型所要求保护的范围。
Claims (4)
1.一种用于抛光曲面釉砖的弹性磨块,其特征在于:包括夹持头、磨削组件,该夹持头上设置有一工作面,该工作面为一朝外凸的曲面;所述磨削组件包括排列在工作面上的若干排抛光单元,任意一排抛光单元均包括至少两个弹性抛光块。
2.如权利要求1所述的用于抛光曲面釉砖的弹性磨块,其特征在于:所述工作面为球面或椭球面。
3.如权利要求1所述的用于抛光曲面釉砖的弹性磨块,其特征在于:任意一排抛光单元均包括三个弹性抛光块。
4.如权利要求1所述的用于抛光曲面釉砖的弹性磨块,其特征在于:所述抛光单元的排数为4-10排。
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Publications (1)
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- 2013-01-31 CN CN 201320057588 patent/CN203077077U/zh not_active Expired - Lifetime
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