CN206917828U - 用于腔室的排气装置及采用该装置的处理设备 - Google Patents

Abstract

本实用新型提供一种用于腔室的排气装置及采用该装置的处理设备。排气装置包括：多个第一真空泵，每一所述第一真空泵分别通过一第一管路与所述腔室的内部连通；第二真空泵，通过第二管路与每一所述第一管路相连通；多个电磁阀，设置于所述第二管路上，且不同所述电磁阀在所述第二管路上分别位于所述第二真空泵到不同所述第一管路的连通通路上。该装置通过设置电磁阀，利用电磁阀的打开和关闭，能够在腔室的内部形成涡流，实现对腔室的清洁。

Description

用于腔室的排气装置及采用该装置的处理设备

技术领域

本实用新型涉及显示器制造技术领域，尤其是指一种用于腔室的排气装置及采用该装置的处理设备。

背景技术

在显示器制造过程中，多种工序(如干法刻蚀)均需要在真空腔室内执行，为保证真空腔室内真空度的要求，以及实现真空腔室内反应所生成气体的排气，通常真空腔室上必须布设排气装置。

现有技术的排气装置仅具备抽气功能，使真空腔室内的气体排出，然而通常情况下真空腔室内会产生执行工序时的反应生成物，仅采用排气装置无法将反应生成物排出。

针对该一问题，通常采用定期开腔人工清洁的方式解决，但采用定期开腔清洁时，需要对真空腔室破真空处理，而频繁地开腔清洁操作，会影响设备稼动率和产能。另一方面，若长时间的不进行开腔清洁，反应生成物会沉积在腔室的内表面，工艺进行时会等离子的轰击会导致沉积物掉落，造成产品不良。

实用新型内容

本实用新型技术方案的目的是提供一种用于腔室的排气装置及采用该装置的处理设备，该排气装置不但具备气体排出功能，而且能够使腔室内的反应生成物排出，实现对腔室的清洁。

本实用新型实施例提供一种用于腔室的排气装置，其中，包括：

多个第一真空泵，每一所述第一真空泵分别通过一第一管路与所述腔室的内部连通；

第二真空泵，通过第二管路与每一所述第一管路相连通；

多个电磁阀，设置于所述第二管路上，且不同所述电磁阀在所述第二管路上分别位于所述第二真空泵到不同所述第一管路的连通通路上。

优选地，所述的排气装置，其中，每一所述第一真空泵分别通过第三管路与所述第二真空泵相连通。

优选地，所述的排气装置，其中，所述第一真空泵为分子式真空泵，所述第二真空泵为干式真空泵。

优选地，所述的排气装置，其中，所述第一真空泵的数量为多于两个，所述第二管路包括：

多个第一支路，每一第一支路连通其中两个所述第一管路；

连通每一所述第一支路的第二支路；

连通所述第二支路和所述第二真空泵的第三支路。

优选地，所述的排气装置，其中，多个所述电磁阀分别设置于所述第一支路上。

优选地，所述的排气装置，其中，所述第一支路和所述第二支路位于同一平面，所述第三支路垂直于所述第一支路和所述第二支路所在平面。

优选地，所述的排气装置，其中，所述排气装置还包括：

与每一所述电磁阀相连接的控制器，通过所述控制器控制每一所述电磁阀为导通或断开状态。

优选地，所述的排气装置，其中，所述第二管路上每一位置的内径均相同。

优选地，所述的排气装置，其中，所述第一真空泵的数量为四个，分别通过所述第一管路连通至所述腔室内部的其中一角落。

本实用新型具体实施例还提供一种处理设备，包括腔室，其中，还包括如上任一项所述的排气装置。

本实用新型的一个或多个实施例至少具有以下有益效果：

本实用新型实施例所述排气装置，通过设置电磁阀，利用电磁阀的打开和关闭，能够控制第二真空泵到相应第一管路的连通和阻断。基于该一设置结构，当第二真空泵对腔室抽气，多个第一真空泵均停止工作时，可以通过分时控制不同电磁阀开启和关闭，在腔室的内部形成涡流，以利用涡流的冲击力，使腔室内部的反应生成物，从腔室的内表面脱离，并通过第二真空泵从腔室内抽走，从而对腔室实现清洁。因此，该排气装置不但具备气体排出功能，而且能够使腔室内的反应生成物排出，实现对腔室的清洁。

附图说明

图1为本实用新型具体实施例所述排气装置在腔室上安装的结构示意图；

图2为图1所述排气装置中，第一管路和第二管路的平面结构示意图。

具体实施方式

下面将结合本实用新型实施例中的附图，对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例是本实用新型一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本实用新型中的实施例，本领域普通技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本实用新型保护的范围。

本实用新型具体实施例所述用于腔室的排气装置，其中，包括：

多个第一真空泵，每一所述第一真空泵分别通过一第一管路与所述腔室的内部连通；

第二真空泵，通过第二管路与每一所述第一管路相连通；

多个电磁阀，设置于所述第二管路上，且不同所述电磁阀在所述第二管路上分别位于所述第二真空泵到不同所述第一管路的连通通路上。

上述结构的排气装置，通过在第二管路上分别位于第二真空泵到不同第一管路的连连通路上设置电磁阀，利用电磁阀的打开和关闭，能够控制第二真空泵到相应第一管路的连通和阻断。基于该一设置结构，当第二真空泵对腔室抽气，多个第一真空泵均停止工作时，可以通过分时控制不同电磁阀开启和关闭，在腔室的内部形成涡流，以利用涡流的冲击力，使腔室内部的反应生成物，从腔室的内表面脱离，并通过第二真空泵从腔室内抽走，从而对腔室实现清洁。

图1为本实用新型具体实施例所述排气装置在腔室上安装的结构示意图，图2为图1实施例所述排气装置中，第一管路和第二管路的平面结构示意图。参阅图1和图2，本实用新型具体实施例中，所述排气装置包括：

多个第一真空泵10，每一第一真空泵10分别通过一第一管路100与腔室1的内部连通；

第二真空泵20，通过第二管路200与每一第一管路100相连通；

多个电磁阀30，设置于第二管路200上，且不同电磁阀30在第二管路200上分别位于第二真空泵20到不同第一管路100的连通通路上。

根据图1，本实用新型具体实施例中，第一真空泵10和第二真空泵20分别设置于腔室1的外部，第一真空泵10通过第一管路100连通至腔室1的内部。较佳地，第一管路100和第二管路200分别在腔室1的外部，沿腔室1的外壁面设置。

另外，本实用新型具体实施例中，每一第一真空泵10为分子式真空泵，第二真空泵20为干式真空泵。采用该排气装置，通过第一真空泵10与第二真空泵20的配合工作，实现腔室1内部的高真空状态，以满足相应的工艺处理条件。具体地，可以先通过第二真空泵20启动，对腔室1内部抽气，使腔室1的内部达到预设的低真空状态，之后多个第一真空泵10均启动，分别对腔室1内部抽气，使腔室1的内部达到预设的高真空状态。

具体地，第一真空泵10的数量为多于两个，本实用新型具体实施例中，第一真空泵10的数量为四个。较佳地，四个第一真空泵10分别设置于腔室1的同一侧面上的边角位置，用于连通至腔室1内部的其中一角落。

另外，第二管路200包括：

多个第一支路210，其中每一第一支路210连通至其中两个第一真空泵10；

连通每一第一支路210的第二支路220；

连通第二支路220和第二真空泵20的第三支路230。

其中，根据图1和图2，本实用新型具体实施例中，当第一真空泵10的数量为四个时，第一支路210的数量为两个，其中一第一支路210连通至其中两个第一管路100，另一第一支路210连通至另两个第一管路100，且两个第一支路210相互平行，分别垂直于第一管路100。另外，第二支路220设置于两个第一支路210之间，用于连通该两个第一支路210，且第二支路220可以分别垂直于两个第一支路210，第三支路230则连接至第二支路220与第二真空泵20之间。

较佳地两个第一支路210与第二支路220位于同一平面，而第三支路230垂直于第一支路210和第二支路220所在平面。

根据上述的设置方式，第一管路100与第一支路210、第一支路210与第二支路220、第二支路220与第三支路230分别构成为“T”型管路连接方式，以用于第一真空泵10或第二真空泵20与腔室1内部之间的气流流通。

较佳地，多个第一管路100的内径相同，第二管路200上每一位置的内径相同，也即第一支路210、第二支路220和第三支路230的内径分别相同，以保证腔体1内部处于工艺处理工作状态时的气流平稳。

根据图1，所述排气装置还包括连通每一第一真空泵10与第二真空泵20的第三管路300，用于将第一真空泵10工作时所抽出气体通过第二真空泵20排出。本实用新型实施例中，第三管路300通过连通第一真空泵10与第三支路230，实现第一真空泵10与第二真空泵20的连通。

另外，本实用新型具体实施例中，多个电磁阀30分别设置于第一支路210上。根据图1和图2，具体地，电磁阀30设置于用于第一管路100与第二支路220相连通的第一支路210的对应部分上，且较佳地，用于每一第一管路100与第二支路220相连通的第一支路210的对应部分上分别设置有电磁阀30。

基于电磁阀30的设置，本实用新型具体实施例所述排气装置，还进一步包括：

与每一电磁阀30相连接的控制器40，通过控制器40控制每一电磁阀30为导通或断开状态。

较佳地，每一电磁阀30分别连接一控制器，用于分别控制每一电磁阀30的导通或断开；本实用新型具体实施例中，如图1所示，控制器40控制器的数量可以为一个，能够分别向每一电磁阀30分别发送控制信号。

采用本实用新型具体实施例所述排气装置的腔室上，腔室的外部设置有输气管路，与腔室的内部连通，用于向腔室的内部输入气体。

结合图1和图2，基于本实用新型具体实施例所述排气装置，当安装于处理设备的腔室上，腔室内部处于工艺处理状态时，可以执行排气工作模式，具体工作方式为：

通过控制器40控制每一电磁阀30处于导通状态；

第二真空泵20启动，利用连通的第一管路100和第二管路200，对腔室1的内部抽气，使腔室1的内部达到预设的低真空状态；

多个第一真空泵10均启动，利用第一管路100对腔室1的内部抽气，并利用第一管路100、第二管路200和第三管路300，将从腔室1内部抽出的气体通过第二真空泵20抽出，使腔室1的内部达到预设的高真空状态。

采用上述的过程，由于与每一第一真空泵10分别连接第一管路100和第二管路200，用于分别开启排气，能够保证腔室1内部的气流更加稳定。

当安装于处理设备的腔室上，腔室内部处于非工艺处理状态时，可以执行清洁工作模式，具体工作方式为：

通过输气管路(图中未显示)向腔室1的内部输入气体，如可以输入氮气，使腔室1的内部气压为标准大气压；

第二真空泵20启动，同时控制器40发出控制信号，使四个电磁阀30的阀门依据预设规律进行导通和断开状态的切换，例如先以顺时针顺序依序导通预设时长再关闭，然后再以逆时针顺序依序导通预设时长再关闭，之后再以对角交替方式导通预设时长再关闭，采用该方式，分别进行顺时针、逆时针及对角交替的控制，使腔室1内的气流流动形成涡流，以利用涡流的冲击力，使腔室内部的反应生成物，从腔室的内表面脱离，并通过第二真空泵从腔室内抽走，从而对腔室实现清洁；

上述清洁过程结束后，通过控制器40控制每一电磁阀30处于导通状态，第二真空泵20继续抽气，使腔室1的内部达到预设的低真空状态；之后，多个第一真空泵10均启动，利用第一管路100对腔室1的内部抽气，且从腔室1内部抽出的气体利用第三管路300通过第二真空泵20抽出，使腔室1的内部达到预设的高真空状态，以为接下来的工艺处理工序作为准备。

因此，根据以上本实用新型具体实施例所述排气装置的工作过程，该排气装置不但具备气体排出功能，而且能够使腔室内的反应生成物排出，实现对腔室的清洁。

较佳地，由于四个第一真空泵10分别连通至腔室1内部的其中一角落，在对腔室1的内部进行清洁时，能够保证用于清洁的涡流达到腔室的角度位置，以实现全方位的清法。

本实用新型具体实施例另一方面还提供一种处理设备，包括腔室和以上所述的排气装置。

具体地，排气装置设置于腔室的外部，第一真空泵通过第一管路连通至腔室的内部，且第一管路和第二管路分别在腔室的外部，沿腔室的外壁面设置，且较佳地，第一管路和第二管路设置于腔室的一个外壁面上。

另外，本实用新型具体实施例所述处理设备中，腔室的外部还设置有输气管路，与腔室的内部连通，以用于在执行清洁工作模式时，先向腔体的内部输入气体，使腔体的内部处于标准气压状态，以用于产生达到清洁作用的涡流。

本实用新型具体实施例所述处理设备中，腔室上设置排气装置的具体方式可以结合图1和图2并参阅以上的描述，另外采用该排气装置时，分别进行排气工作和清洁工作的具体工作过程也可以参阅以上的描述，在此不再赘述。

较佳地，本实用新型具体实施例的处理设备可以为干法刻蚀设备，当然并不仅限于为干法刻蚀设备。

本实用新型具体实施例所述处理设备，采用该排气装置，不但能够用于处理设备在工艺处理时的抽真空，而且能够应用于非工艺处理时对腔室内部的清洁，避免频繁地开腔清洁操作，从而达到提高设备稼动率和产能的效果。

以上所述的是本实用新型的优选实施方式，应当指出对于本技术领域的普通人员来说，在不脱离本实用新型所述的原理前提下还可以作出若干改进和润饰，这些改进和润饰也在本实用新型的保护范围内。

Claims (10)

1.一种用于腔室的排气装置，其特征在于，包括：

多个第一真空泵，每一所述第一真空泵分别通过一第一管路与所述腔室的内部连通；

第二真空泵，通过第二管路与每一所述第一管路相连通；

多个电磁阀，设置于所述第二管路上，且不同所述电磁阀在所述第二管路上分别位于所述第二真空泵到不同所述第一管路的连通通路上。

2.根据权利要求1所述的排气装置，其特征在于，每一所述第一真空泵分别通过第三管路与所述第二真空泵相连通。

3.根据权利要求1所述的排气装置，其特征在于，所述第一真空泵为分子式真空泵，所述第二真空泵为干式真空泵。

4.根据权利要求1所述的排气装置，其特征在于，所述第一真空泵的数量为多于两个，所述第二管路包括：

多个第一支路，每一第一支路连通其中两个所述第一管路；

连通每一所述第一支路的第二支路；

连通所述第二支路和所述第二真空泵的第三支路。

5.根据权利要求4所述的排气装置，其特征在于，多个所述电磁阀分别设置于所述第一支路上。

6.根据权利要求4所述的排气装置，其特征在于，所述第一支路和所述第二支路位于同一平面，所述第三支路垂直于所述第一支路和所述第二支路所在平面。

7.根据权利要求1所述的排气装置，其特征在于，所述排气装置还包括：

与每一所述电磁阀相连接的控制器，通过所述控制器控制每一所述电磁阀为导通或断开状态。

8.根据权利要求1所述的排气装置，其特征在于，所述第二管路上每一位置的内径均相同。

9.根据权利要求1所述的排气装置，其特征在于，所述第一真空泵的数量为四个，分别通过所述第一管路连通至所述腔室内部的其中一角落。

10.一种处理设备，包括腔室，其特征在于，还包括权利要求1至9任一项所述的排气装置。