CN1639068A - 屏蔽阳光用锑锡氧化物微粒和用其的阳光屏蔽体形成用分散液及阳光屏蔽体和屏蔽阳光用透明基材 - Google Patents
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Abstract
探明了ATO微粒置于透明基材上或基材中时,可发挥高的可见光透过率和低的阳光透过率,及低雾度值等光学特性等的物理特性,和具有该物理特性的ATO微粒的制造。具有构成ATO微粒的微晶粒径是4~125nm,且前述微粒的比表面积为5~110m2/g等的物理特性的微粒可发挥前述光学特性,且其制造方法,例如,是向氯化锡水溶液中并行滴加氯化锑醇溶液,和碳酸氢铵水溶液后,充分洗涤生成的沉淀物后进行干燥,在大气环境气氛下进行焙烧制造该ATO微粒。
Description
技术领域
本发明涉及用于车辆、大厦、办事处、一般住宅等的窗、公共电话亭、陈列窗、照明用灯、透明容器等具有阳光屏蔽功能的玻璃、塑料,其他在需要阳光屏蔽功能的透明基材上,或混入这些基材中而形成的阳光屏蔽体、形成该阳光屏蔽体用的阳光屏蔽体形成用分散液,以及作为这些的原料的锑锡氧化物微粒。
背景技术
过去,是在玻璃等的透明基材的表面上制膜并作成反射热射线透明基材,所述的膜含有反射极大赋予热效果的红外线材料,然后使用这种反射热射线透明基材来进行作为从来自太阳光或电灯光等外部光源的光中除去·减少热成分的方法。但前述材料中使用着FeOx、CoOx、CrOx、TiOx等的金属氧化物或Ag、Au、Cu、Ni、Ai等具有大量自由电子的金属材料。
然而,这些材料除了对极大赋予热效果的红外线以外,同时还对可见光具有反射或吸收的性质,故存在可见光透过率降低的问题。可是在建材、交通工具、公共电话亭等的窗材使用的玻璃等的透明基材,因为需要可见光域的高透过率,所以使用前述材料时,膜厚度必须非常薄。因此,将前述材料在透明基材上进行成膜时,通常使用喷雾烧结或CVD法、或溅射法或真空蒸镀法等的物理成膜法。制膜成10nm水平的薄膜进行使用。
然而,这些成膜方法均需要庞大的装置或真空设备,在生产效率和占地面积大方面存在问题,并有膜制造成本高的缺点。另外,前述材料要想提高阳光屏蔽特性(屏蔽波长域300~2100nm光的特性)时,存在可见光域的反射率也同时升高的倾向,赋予类似镜子一样的耀眼外观而有损于美观。
为了改善上述问题,必须在透明基材上或基材中形成高可见光透过率和发挥高阳光屏蔽率的阳光屏蔽体。此外,例如用于窗材的阳光屏蔽体,除了上述的光学特性、电气特性以外,还要求膜的模糊度少等的性质。此外,该膜的模糊度采用称作雾度值的数值进行评价。雾度值定义为扩散透过光对全透过度的比例,该值高时使人觉得模糊。因此,对于要求透明性的窗材等期望不到1%的低雾度。
众所周知,锑锡氧化物(以下,简称ATO)是具有可见光透过功能和阳光屏蔽功能的材料之一。但,迄今对于发挥优异的可见光透过功能和阳光屏蔽功能的ATO的物理性能还没有研究,例如,特许文献1、特许文献2、特许文献3、特许文献4各公报所述的ATO均是有关导电性的内容。
(特许文献1)特许第2844011号公报
(特许文献2)特开平11-278826号公报
(特许文献3)特开平6-183708号公报
(特许文献4)特开平5-246710号公报
因此,本发明的目的在于通过在透明基材上形成或混入基材中成型成板状、片状、薄膜状等时发现,不仅具有高的可见光透过率和低的阳光透过率,而且可形成具有低雾度值这种光学特性的阳光屏蔽体的ATO的物理特性,从而提供具有该物理特性的ATO微粒,和含有该ATO微粒的、可采用简便的涂布法或混炼法形成阳光屏蔽体的阳光屏蔽体形成用分散液,以及含有具有该物理特性的ATO的阳光屏蔽体。
发明内容
为了达到上述目的,本发明者们对于通过在透明基材上形成或混入基材中成型成板状、片状、薄膜状等时,应当满足可形成即具有高的可见光透过率和低的阳光透过率又具有低雾度值的光学特性的阳光屏蔽体的ATO的主要条件进行了研究。
首先,含于阳光屏蔽体中的ATO微粒,存在着起因于与入射光的干扰效果、粉体粒子电子状态的光吸收,放出效果等而与入射的可见光或红外光进行相互作用,则引起透过、吸收、反射等的光学现象。此外,ATO微粒这样的复合氧化物微粒,可以通过其制造时的条件、制备具有微粒的表面状态或电子状态下的各种物理特性的微粒。基于这些的构思对具有各种物理特性的ATO微粒与阳光屏蔽功能关系进行了研究。
结果,发现ATO的微粒满足具有特定范围的微晶粒径,且具有特定范围的比表面积的物理特性时,含有该ATO微粒的阳光屏蔽体对可见光域具有极大的透光率,同时对接近可见光域的近红外域呈现强的等离子吸收并具有极小的透过率,且雾度值变为极低的现象,从而完成了本发明。
即,本发明的第1发明是屏蔽阳光用锑锡氧化物微粒,该屏蔽阳光用锑锡氧化物微粒的特征在于,
构成前述微粒的微晶粒径为4~125nm,且前述微粒的比表面积是5~110m2/g的屏蔽阳光用锑锡氧化物微粒。
通过采用适宜的方法在透明基材上或基材中形成该屏蔽阳光用锑锡氧化物微粒,则可形成即具有高的可见光透过率和低的阳光透过率,而且还具有低雾度值等的光学特性的阳光屏蔽体。
第2发明是第1发明所述的屏蔽阳光用锑锡氧化物微粒,该屏蔽阳光用锑锡氧化物微粒的特征在于,根据含前述锑锡氧化物微粒的粉体的L*a*b*表色体系的粉体色的L*是45~65、a*是-5~-1、b*是-11~-1。
通过采用适宜的方法在透明基材上或基材中形成有该粉末体色的屏蔽阳光用锑锡氧化物微粒,可以形成即具有高的可见光透过率和低的阳光透过率,又具有低雾度值等的光学特性的阳光屏蔽体。
第3发明是将第1或第2发明所述的屏蔽阳光用锑锡氧化物微粒分散在溶剂中的阳光屏蔽体形成用分散液,该阳光屏蔽体形成用分散液的特征在于,前述屏蔽阳光用锑锡氧化物微粒在前述溶剂中的分散粒径是130nm或130nm以下。
通过采用适宜的方法将该阳光屏蔽体形成用分散液涂布在透明基材上或混入基材中,可以形成即具有高的可见光透过率和低的阳光透过率,又具有低雾度值等的光学特性的阳光屏蔽体。
第4发明是第3发明所述的阳光屏蔽体形成用分散液,该阳光屏蔽体形成用分散液的特征在于,作为粘结剂,含有无机粘结剂和/或树脂粘结剂。
通过添中无机粘结剂和/或树脂粘结剂,可提高本发明涉及的ATO微粒对透明基材的粘附性,进而提高阳光屏蔽体的硬度。
第5发明是采用第3或第4发明所述的阳光屏蔽体形成用分散液而形成为特征的阳光屏蔽体。
该阳光屏蔽体即具有高的可见光透过率和低的阳光透过率,又具有低雾度值等的优异的光学特性。
第6发明是在第5发明所述的阳光屏蔽体上形成硅氧化物、锆氧化物、钛氧化物、或铝氧化物的膜为特征的阳光屏蔽体。
通过在阳光屏蔽体上形成硅氧化物、锆氧化物、钛氧化物或铝氧化物的膜,则提高阳光屏蔽体对透明基材的粘着力,从而可提高阳光屏蔽体的硬度和耐候性。
第7发明是第5或第6发明所述的阳光屏蔽体,是可见光透过率为70%或70%以上时的波长域300~2100nm的阳光透过率未满60%,且雾度值未满1%为特征的阳光屏蔽体。
阳光屏蔽体,当是70%或70%以上的可见光透过率,且在波长域300~2100nm中的阳光透过率未满60%,且雾度值未满1%时,则成为发挥实用上充分的透明性和阳光屏蔽效果的阳光屏蔽体。
第8发明是形成第5~第7任何一项发明所述的阳光屏蔽体为特征的屏蔽阳光用透明基材。
该屏蔽阳光用透明基材由于实用上发挥充分的透明性和阳光屏蔽效果,因此特别适用于车辆、大厦、办事处、一般住宅等的窗材等。
附图的简单说明
图1是有关ATO试料的微晶粒径、比表面积、分散粒径、粉体色和阳光屏蔽体试料的光学特性的一览表。
图2是ATO试料制造流程的一个例子。
实施发明的最佳方案
以下,对本发明的实施方案详细地进行说明。
首先,本发明者们考察了有关ATO微粒发挥阳光屏蔽效果的结晶程度的机理,对以该机理为基础对实现优选的阳光屏蔽效果的具体方法进行了研究,对该研究概要进行说明。
众所周知,一般的光与物质内的电子相互作用时,某些物质有固有的等离子频率,波长比该频率长的光被反射、波长短的光被透过。等离子频率ωp用式(1)表示。
ωp 2=nq2/εm(1)
式中,n是传导电子密度、q是电子的电荷、ε是介电常数、m是电子的有效质量。一般地,传导电子密度增加时等离子频率增大,故短波长侧的光被反射。传导电子密度在金属中是1022/cm3左右(台)、在ATO中是1020/cm3左右(台)、故金属从可见光域反射率就已经是高的了,而ATO则可透过可见光线而且从近红外线域反射率才增高,所以可以作为阳光屏蔽体使用。
因此,本发明者们认为通过控制ATO微粒的微晶粒径和比表面积,则有可能控制式(1)中的传导电子密度n和介电常数ε,或有可能把该ATO的微粒具有的等离子频率ωp设定在所期望的范围。此外,对于ATO微粒的比表面积对阳光屏蔽功能的影响进行研究观察时发现,设ATO微粒的粒径为r、比重为ρ时的、ATO的一定重量M的总遮断面积A可用式(2)表示。
A=πr2·M/ρ/(4πr3/3) (2)
从式(2)看出,一般粒径越小比表面积越增大,所以粒径r越小,即比面积越大则总遮断面积A越大。但粒径r太小时由于粒子的电子密度的变化等,却使阳光屏蔽功能降低,由此推断对阳光屏蔽功能来讲,粒径r即比表面积应有最佳范围。
另外,有关ATO微粒的微晶粒径对阳光屏蔽功能造成的影响,本发明中涉及的ATO微粒、比表面积越增大则微晶粒径越变小,在比表面积与微晶粒径之间存在相反的关系。详细情况尚不清楚,但可以推断微晶粒径和比表面积一样也对阳光屏蔽功能造成影响,而且微晶粒径对阳光屏蔽功能也有最佳范围。
根据以上的考察与研究结果,制造具有各种微晶粒径和比表面积的ATO,并对ATO的光学特性进行测定。
结果表明,ATO微粒的微晶粒径是4~125nm,优选的是5~80nm,更优选的是6~60nm,而且ATO微粒的比表面积是5~110m2/g,优选的是10~90m2/g,更优选的是20~70m2/g的情况。此外,还发现,使用该ATO微粒分散在溶剂中时的分散粒径为130nm或130nm以下的分散液形成的阳光屏蔽体,能发挥所期望的光学特性。即,ATO的微粒有这种范围的微晶粒径和比表面积、溶剂中的分散粒径为130nm或130nm以下时,由含有这些ATO的分散液所形成的阳光屏蔽体,认为在可见光域具有高的透过率,同时在接近可见光域的近红外域呈现强的等离子吸收并显示低的阳光透过率,而且发挥雾度值变得极低之类的优异效果。
此外,也发现要获得具备优异光学特性的本发明涉及的阳光屏蔽体,最好含具备上述粉体特性的ATO微粒的粉体,在国际照明委员会(CIE)推荐的L*a*b*表色体系中,满足L*为45~65、a*为-5~-1、b*为-11~-1的条件。
本发明中涉及的ATO试料的制造方法有各种的方法,有向锡化合物的水溶液中并行滴加锑化合物的醇溶液和碱溶液的方法,向含Sn(OC4H9)4与Sb(OC4H9)3的正丁醇溶液中添加这些化合物水解所需理论量的水量的约1.1倍的水和硝酸、盐酸等的酸,使Sn(OC4H9)4与Sb(OC4H9)3水解后,对生成的沉淀物进行干燥·烧结的方法等。这里,对向上述的锡化合物的水溶液中并行滴加锑化合物的醇溶液与碱溶液的方法参照示出制造流程的图2进行说明。
把氯化锡溶解于纯水,使水溶液的温度为50℃或50℃以下,准备锡化合物溶液1,把氯化锑溶解于醇准备锑化合物醇溶液2,再准备作为沉淀剂使用的碱水溶液3。这里,作为醇可以使用以甲醇、乙醇等为首的多种醇,作为碱水溶液3可以使用碳酸氢铵、氨水、氢氧化钠、氢氧化钾等的水溶液,但最优选碳酸氨铵或氨水。
各种溶液准备好后,向锡化合物溶液1中将锑化合物醇溶液2与碱水溶液3进行并行滴加4。此时,锑化合物醇溶液2的滴加量,按元素换算优选相对于锡滴加使锑含有量为1~20重量%。而,碱水溶液3的滴加量,只要是达到可以使前述氧化锡和前述氧化锑成为氢氧化物所需要的化学当量或其以上的量即可,但更优选的是当量~1.5倍量的范围。
锑化合物醇溶液2和碱溶液3的并行滴加时间,从生产效率考虑为60分钟以内,优选为30分钟以内。并行滴加结束后为了实现体系内的均匀化继续进行水溶液的搅拌,此时水溶液的温度与并行滴加时的温度相同,优选为50℃或50℃以下。搅拌的继续时间没有限定,但从生产效率的观点考虑是30分钟或30分钟以下,优选15分钟或15分钟以下。
通过并行滴加4完成共沉淀物生成5,收集该共沉淀物反复进行倾折6而充分洗涤,尤其是洗涤使残留氯离子达到0.15重量%或0.15重量%以下后,进行干燥7。这是因为作为不纯物的残留氯离子如果是0.15重量%或0.15重量%以下,则在下一个工序的焙烧工序中就不阻碍锑的固溶,从而可得到所期望的光学特性的缘故。此外,干燥温度或时间没有特殊限定。
将干燥后的共沉淀物在大气环境气氛下,于500~1000℃下进行30分钟~5小时焙烧8制造ATO9。在该焙烧中,通过控制焙烧温变,焙烧时间,可以控制ATO微粒的微晶粒径或比表面积,微晶粒径随焙烧温度升高,焙烧时间延长而增大,比表面积随焙烧温度升高而缩小,但焙烧温度未满500~1100℃,焙烧时间在30分钟~5小时内则可制得具有理想的微晶粒径和比表面积的ATO微粒。此外,通过采用适宜的方法在阳光屏蔽体上形成这种ATO微粒,或混炼到阳光屏蔽体中加工成板状、片状、薄膜状等,则可以形成即具有高的可见光透过率和低的阳光透过率,而且具有低雾度值这种光学特性的阳光屏蔽体。
本发明涉及的阳光屏蔽体形成用分散液,是将前述的ATO微粒分散在溶液中的分散液。此时的分散粒子的粒径最好是130nm或130nm以下。超过130nm粒径增大时不能得到所期望的光学特性。尤其是凝集的粗大化粒子增多时形成光散射源而雾度(浊度)增大,有时成分可见光透过率减少的原因所以不好。这里,所谓分散粒子的粒径是意味着溶剂中的ATO微粒的凝集粒子的粒径,可以使用市售的各种粒度分布计进行测定。例如,从ATO微粒分散在溶剂中的分散液中进行取样,可以使用以动态光散射法作为原理的大塚电子有限公司制,ESL-800进行测定。
溶剂没有特殊限制,可根据涂布或混入条件,涂布或混入环境适当地进行选择。此外,使该阳光屏蔽体形成用分散液含有后述的无机粘结剂和/或树脂粘结剂时,可根据粘结剂适当地进行选择。例如,可以使用水或乙醇、丙醇、丁醇、异丙醇、异丁醇、二丙酮醇等的醇类,甲基醚、乙基醚、丙基醚等的醚类,酯类,丙酮、甲乙酮、二乙基酮、环己酮、异丁基酮等的酮类的各种有机溶剂,还可以根据需要添加酸或碱进行pH调节。此外,为了进一步提高分散液中的ATO微粒的分散稳定性。避免凝集粗大化,添加各种表面活性剂,偶联剂等也是优选的构成。通过采用适宜的方法把该阳光屏蔽体形成用分散液涂布在透明基材上或混炼到基材中,可以形成即具有高的可见光透过率和低的阳光透过率,而且又具有低雾度值这种光学特性的阳光屏蔽体膜。
使阳光屏蔽体形成用分散液中含有的无机粘结剂或树脂粘结剂的种类没有特殊限定,但作为无机粘结剂可以使用硅、锆、钛、或铝的金属醇盐或这些的部分水解缩聚物或有机硅氮烷,作为树脂粘结剂可以使用丙烯酸类树脂等热塑性树脂、环氧树脂等热固性树脂等。
ATO微粒或粘结剂的分散方法,只要是使这些在分散液中不凝集而可以均匀分散的方法则没有特殊限定。例如使用球珠磨机、球磨机、混砂机、涂料摇动器、超声波均化器等的装置的方法可优选使用。
使用所制得的分散液在透明基材上形成被膜时的阳光屏蔽体的导电性,是沿着经由ATO微粒的接触处的导电通路进行导电,所以例如可以通过增减表面活性剂或偶联剂的量部分地切断导电通路,则可将阳光屏蔽体的表面电阻值控制在106Ω/□或106Ω/□以上。通过把表面电阻值控制在大约106Ω/□或106Ω/□以上,则可以控制阳光屏蔽体对电波的反射,例如,在设置有该阳光屏蔽体形成的透明基材的建筑物内外,可避免反射移动电话或TV、无线电等的电波而不能接收到信号,或避免引起电波障碍等的问题。
另外,作为控制导电性的其他方法,也可以采用向阳光屏蔽体形成用的分散液中加入无机粘结剂或树脂粘结剂,并增减其含量的方法。添加这种无机粘结剂或树脂粘结剂的方法,优选的是,在分散液固化后,即具有提高高密度堆积在基板上形成的ATO微粒对基材的粘附性,又具有提高膜硬度的效果。而,不在分散液中添加树脂粘结剂或无机粘结剂时所制得的膜,则成为在基材上只堆积上述ATO微粒的膜结构。只堆积该ATO微粒的膜当然其本身仍显示阳光屏蔽效果。而且无论是添加粘结剂的场合还是不加粘结剂的场合,该阳光屏蔽体都即具有高的可见光透过率和低的阳光透过率,而且也具有低雾度等优异的光学特性。
此外,向这样制得的阳光屏蔽体上再包覆含有硅、锆、钛、或铝的金属醇盐,这些的部分水解缩聚物构成的被膜作为第2层,并通过形成硅、锆、钛或铝的氧化物膜,则可以进一步提高以ATO微粒作为主要成分的阳光屏蔽体对基材的粘着力或膜的硬度、耐候性。
最优选向只堆积上述ATO微粒的阳光屏蔽体上再涂布含硅、锆、钛或铝的金属醇盐或这些的部分水解缩聚物等的无机粘结剂和/或树脂粘结剂的涂布液并形成被膜成为多层膜。通过制成这样的膜构成是为填补第1层的ATO微粒堆积的间隙而形成前述分散液成分,进一步降低阳光屏蔽体的雾度值,提高可见光透过率,并提高粒子对基材的粘附性的缘故。
作为在ATO微粒单质或以ATO微粒为主要成分的膜上粘结硅、锆、钛或铝的金属醇盐或这些的部分水解缩聚物构成的被膜的方法,从形成工序的容易程度或成本的观点考虑涂布法效果好。涂布法使用的涂布液是在水或醇中含有硅、锆、钛、铝的金属醇盐或这些的部分水解缩聚物1种或2种或2种以上的涂布液,按加热后得到的氧化物换算其含量优选的是全部溶液中的40重量%或40重量%以下。另外,也可以根据需要添加酸或碱进行pH调节。把这样的分散液往涂布以ATO微粒作为主要成分的阳光屏蔽体上形成第2层,再通过加热,则可容易地制作硅、锆、钛、铝等的氧化物被膜。除此之外,作为本发明的上述分散液中使用的粘结剂成分,或作为保护涂层用的涂布液,也可以使用有机硅氮烷溶液。
本发明中涉及的阳光屏蔽体形成用分散液和保护涂层用涂布液往基板上的涂布方法没有特殊限定。例如,旋转涂布法、棒涂布法、喷雾涂布法、浸渍涂布法、网版印刷法、辊涂布法、流涂等,只要是可以把上述分散液平坦且薄地均匀涂布的方法则可以是任何一种方法。另外,作为基材,例如混炼到树脂中时,只要是ATO微粒均匀分散在树脂中的方法则可以适宜选择公知的方法。此外,还可以在树脂熔点附近的温度下熔融混合后造粒,采用公知的各种方式成型加工成各种的形状。作为树脂,例如可列举PET树脂、丙烯酸类树脂、聚酰胺树脂、氯乙烯树脂、聚碳酸酯树脂、烯烃树脂、环氧树脂、聚酰亚胺树脂、氟树脂等。
阳光屏蔽体形成用分散液或保护涂层用涂布液含有作为无机粘结剂的硅、锆、钛或铝的金属醇盐及其水解聚合物时,涂布分散液后的基材加热温度优选100℃或100℃以上,更优选的是分散液中的溶剂沸点或沸点以上。这是因为通过100℃或100℃以上的加热,可以彻底完成涂膜中所含的醇盐或其水解聚合物的聚合反应,又可以避免分散液中所含的水或有机溶剂残留在阳光屏蔽体中,从而可避免这些成为加热后的阳光屏蔽体可见光透过率降低的原因的缘故。
阳光屏蔽体形成用分散液或保护涂层用涂布液含有树脂粘结剂时,可采用各自的固化方法进行固化。例如,若是紫外线固化树脂则可适宜照射紫外线,而若是常温固化树脂则可在涂布后原封不动地直接放置。因此,可对原有的窗玻璃现场涂布。
本发明中涉及的阳光屏蔽体由于分散有ATO微粒,故与采用物理成膜法制作的氧化物薄膜之类的结晶致密地填埋膜内的具有镜面状表面的膜相比,可见光域的反射少可避免呈现耀眼的外观。另一方面,阳光屏蔽体中的ATO,如上所述由于从可见光域到近红外域具有等离子频率,其所造成的等离子反射在近红外域增大。
此外,想进一步抑制本发明中涉及的阳光屏蔽体在可见光域的反射时,通过在分散有构成本发明中涉及的阳光屏蔽体的ATO微粒的膜上,或ATO微粒表面上形成如SiO2或MgF2之类的低折射率的膜,则可容易地得到视感反射率为1%或1%以下的多层膜。
此外,要对本发明中涉及的阳光屏蔽体赋予紫外线屏蔽功能时,可以向分散液中添加无机系的氧化钛或氧化锌、氧化铈等的微粒,或有机系的二苯甲酮或苯并三唑等的1种或2种或2种以上。
本发明中涉及的阳光屏蔽体形成用的分散液由于不是利用焙烧时的热分解涂布成分或利用化学反应形成作为目的的阳光屏蔽体的分散液,故可以形成特性稳定的均匀膜厚的阳光屏蔽体。
如以上详述的那样,通过使用本发明中涉及的ATO微粒,则使具有理想光学特性的阳光屏蔽体的制造成为可能,由于该ATO微粒是无机材料,因此与有机材料相比耐候性非常高,例如即使是用于太阳光线(紫外线)照晒的部位也几乎不产生颜色或诸功能的劣化。
如上所述那样形成的本发明中涉及的阳光屏蔽体,实现了可见光透过率为70%或70%以上时,发挥对波长域300~2100nm的红外光的阳光透过率未满60%、雾度值也未满1%这样的光学特性的阳光屏蔽体。发挥该光学特性的阳光屏蔽体,由于实用上发挥充分的透明性和阳光屏蔽效果,且该阳光屏蔽体形成的阳光屏蔽用透明基材,由于实用上发挥充分的透明性和阳光屏蔽效果,故可理想地适用于车辆、大厦、办事处、一般住宅等的窗等。
(实施例)
1)ATO(试料a~o)的制备
首先,准备氯化锡浓度为0.030g/ml,液温为25℃的氯化锡水溶液,和氯化锑浓度为0.034g/ml的氯化锑的甲醇溶液,以及碳酸氢铵浓度为0.176g/ml的碳酸氢铵的水溶液。然后,向前述氯化锡水溶液1500ml中并行滴加前述氯化锑甲醇溶液150ml和前述碳酸氢铵的水溶液334ml。滴加时间为30分钟,滴加结束后液温也仍为25℃再继续搅拌10分钟。所得到的沉淀物通过反复进行倾析充分洗涤后进行干燥,在大气环境气氛下进行焙烧制得图1所示的ATO试料a~o。
焙烧条件是,试料a在500℃1小时、试料b在500℃2小时、试料c在600℃1小时、试料d在700℃1小时、试料e在800℃1小时、试料f在900℃1小时、试料g在1000℃30分钟、试料h在400℃1小时、试料i在1100℃1小时、试料j在400℃2小时、试料k在500℃30分钟、试料1在500℃2小时、试料m在700℃1小时、试料n在700℃1小时、试料o在700℃1小时。此外,试料中的锑含量,试料a~k均是10重量%、试料1是8重量%、试料m是5.7重量%、试料n是7.5重量%、试料o是8.7重量%、所得到的ATO试料基本上呈暗青色。
2)物理特性的测定
有关制得的ATO试料a~o的物理特性的测定,微晶粒径通过使用SnO2(101)峰的Scherrer法测定,比表面积使用カルロエルバ公司制的装置采用氮吸附法测定,粉体色(照准光源D65,视野10°)使用日立制作所(株)制的分光光度计U-4000进行测定。把该测定结果示于图1。
3)阳光屏蔽体形成用分散液的制备
将加有所制得ATO试料a~o的各试料20重量%、甲苯70重量%、分散剂10重量%、还有填充率相当于63%的0.3mm氧化锆球珠的容器,使用涂料摇动器进行12小时分散处理。然后添加该分散液77.7重量%,作为粘结剂的丙烯酸系UV固化树脂(固体成分70%)22.3重量%,制得阳光屏蔽体形成用分散液。
4)阳光屏蔽体的形成
采用棒涂法把前述阳光屏蔽体形成用分散液涂布在50μm厚的PET薄膜上。涂布时使用型号60、24、6的三种棒。按三种膜厚进行涂布。将涂布的膜在80℃干燥30秒钟后,照射紫外光制得阳光屏蔽体试料A~O。
5)光学特性的测定
所制得的阳光屏蔽体试料A~O的光学特性,使用日立制作所(株)制的分光光度计U-4000进行测定。而,雾度值使用村上色彩技术研究所(株)制的HR-2000进行测定。
膜评价中,测定膜厚不同的三种阳光屏蔽体A~O的光学特性为3点标绘,由该3点标绘计算求出将可见光透过率规格化成75%时的阳光透过率和雾度值。
把所得的阳光屏蔽体试料A~O的光学特性的测定结果示于图1。
如图1所示,显示阳光透过率未满60%,且雾度值未满1%的优异光学特性的阳光屏蔽体是试料A~G和K~O。其中,试料C~E和L、M显示出阳光透过率未满56.6%,且雾度值为0.8%或0.8%以下的更优异的光学特性。
从以上的结果表明,ATO微粒的微晶粒径是4~125nm,优选5~80nm,更优选的是6~60nm,而且比表面积是5~110m2/g,优选10~90m2/g,更优选的是20~70m2/g的场合,所形成的阳光屏蔽体发挥理想的光学特性。
工业实用性
如以上所详述的那样,作为本发明中涉及的阳光屏蔽用锑锡氧化物微粒,通过采用适宜的方法使透明基材上或基材中形成构成前述微粒的微晶粒径是4~125nm,且前述微粒的比表面积是5~110m2/g的锑锡氧化物微粒,则可以形成即具有高的可见光透过率和低的阳光透过率,叉具有低雾度值等的光学特性的阳光屏蔽体。
Claims (8)
1.一种屏蔽阳光用锑锡氧化物微粒,作为屏蔽阳光用锑锡氧化物微粒的特征在于,构成前述微粒的微晶的粒径是4~125nm,而且前述微粒的比表面积是5~110m2/g。
2.按照权利要求1所述的屏蔽阳光用锑锡氧化物微粒,作为屏蔽阳光用锑锡氧化物微粒的特征在于,含有前述锑锡氧化物微粒的粉体根据L*a*b*表色体系的粉体色的L*是45~65、a*是-5~-1、b*是-11~-1。
3.一种阳光屏蔽体形成用分散液,该分散液是将权利要求1或2所述的屏蔽阳光用锑锡氧化物微粒分散在溶剂中的阳光屏蔽体形成用分散液,其特征在于,前述屏蔽阳光用锑锡氧化物微粒在前述溶剂中的分散粒子粒径是130nm或130nm以下。
4.按照权利要求3所述的阳光屏蔽体形成用分散液,作为阳光屏蔽体形成用分散液的特征在于,含有作为粘结剂的无机粘结剂和/或树脂粘结剂。
5.一种阳光屏蔽体,其特征在于,该阳光屏蔽体是使用权利要求3或4所述的阳光屏蔽体形成用的分散液形成的。
6.按照权利要求5所述的阳光屏蔽体,其特征在于,在该阳光屏蔽体上形成硅氧化物、锆氧化物、钛氧化物、或铝氧化物膜。
7.按照权利要求5或6所述的阳光屏蔽体,该阳光屏蔽体的特征在于,可见光透率为70%或70%以上时的波长域300~2100nm中的阳光透过率是不到60%,且雾度值是不到1%。
8.一种屏蔽阳光用透明基材,其特征在于,该基材形成权利要求5~7的任何一项所述的阳光屏蔽体。
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Cited By (3)
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|---|---|---|---|---|
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| CN103641157B (zh) * | 2013-12-04 | 2015-08-19 | 西南交通大学 | 一种制备低电阻纳米粉体的方法 |
Family Cites Families (17)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS597043A (ja) * | 1982-07-06 | 1984-01-14 | 株式会社豊田中央研究所 | 熱線遮蔽積層体 |
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| JPH08127860A (ja) | 1994-10-31 | 1996-05-21 | Sumitomo Metal Mining Co Ltd | 透明導電膜形成用処理液およびその処理液を用いた透明導電膜の作製方法ならびに得られた透明導電膜 |
| US5484694A (en) * | 1994-11-21 | 1996-01-16 | Eastman Kodak Company | Imaging element comprising an electrically-conductive layer containing antimony-doped tin oxide particles |
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| US5788887A (en) * | 1996-11-01 | 1998-08-04 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Antimony doped tin oxide electroconductive powder |
| JP2978146B2 (ja) | 1998-03-27 | 1999-11-15 | 大塚化学株式会社 | 導電性粉末及び透明導電性組成物 |
| US6218018B1 (en) * | 1998-08-21 | 2001-04-17 | Atofina Chemicals, Inc. | Solar control coated glass |
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Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN1827546B (zh) * | 2006-02-16 | 2012-06-20 | 雷亚林 | 一种屏蔽红外、远红外线及导电玻璃、陶瓷膜的制备方法 |
| CN104220376A (zh) * | 2012-03-29 | 2014-12-17 | 三菱综合材料株式会社 | 红外截止材料 |
| CN104220376B (zh) * | 2012-03-29 | 2016-02-10 | 三菱综合材料株式会社 | 红外截止材料 |
| CN108430925A (zh) * | 2015-09-30 | 2018-08-21 | 住友金属矿山株式会社 | 红外线吸收微粒及使用其的分散液、分散体、夹层透明基材、膜、玻璃及其制造方法 |
| CN108430925B (zh) * | 2015-09-30 | 2020-07-07 | 住友金属矿山株式会社 | 红外线吸收微粒及使用其的分散液、分散体、夹层透明基材、膜、玻璃及其制造方法 |
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