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CN1575870A - 基板清洗装置和基板清洗方法 - Google Patents

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CN1575870A
CN1575870A CNA2004100550686A CN200410055068A CN1575870A CN 1575870 A CN1575870 A CN 1575870A CN A2004100550686 A CNA2004100550686 A CN A2004100550686A CN 200410055068 A CN200410055068 A CN 200410055068A CN 1575870 A CN1575870 A CN 1575870A
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cleaning
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ultrasonic
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CNA2004100550686A
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岛井太
河田茂
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Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd
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Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd
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Abstract

提供一种基板清洗装置(方法)，可以不向基板表面的清洗水传送无用的超声波，高效率地进行清洗。从清洗液供给喷嘴(10)在与玻璃基板(W)的运送方向相反方向上供给到玻璃基板表面的清洗液流过玻璃基板(W)的表面，遍及基板全面。另一方面，配置在被运送的玻璃基板(W)下方的超声波振荡喷嘴(14)使超声波在玻璃板(W)上产生振荡时，将超声波传送到供给玻璃基板表面的清洗液，使清洗液振动，均匀高效率地清洗玻璃基板(W)的表面。

Description

基板清洗装置和基板清洗方法
技术领域
本发明涉及对玻璃基板和半导体晶片等的基板表面进行清洗的装置和清洗方法。
背景技术
在装入液晶显示装置中的玻璃基板上形成TFT阵列等。这种TFT阵列按与在玻璃基板上半导体集成电路的形成工序相同的方法来形成。然后在半导体集成电路的形成工序中形成抗蚀剂膜，这种抗蚀剂膜使用旋涂器等在玻璃基板表面上涂敷抗蚀剂液后经过烘干而形成。然后，在涂敷抗蚀剂前必须从玻璃基板的表面除去灰尘、异物。
作为清洗方法，已知在清洗液供给喷嘴中装入超声波元件，向清洗水提供超声波并喷射到基板表面的方法(专利文献1)，向基板表面以高压方向射流喷射离子水的方法(专利文献2)，将旋转的圆盘刷按压基板表面来除去污物的方法(专利文献3)。
专利文献
专利文献1：特开2001-179196号公报
专利文献2：特开平11-333387号公报
专利文献3：特开2002-233829号公报
在清洗液供给喷嘴中装入超声波元件的方式中，需要对用于产生清洗的全部清洗水传送来自超声波元件的振动，不能以100％的效率使超声波的效力产生作用，而且过大提高超声波元件的输出和清洗液摆脱的结果，使超声波元件损坏。
在将基板表面以高压方式射流喷射离子水的方法中，清洗液飞散的比例高，不能进行高效率的清洗。
此外，将圆盘刷按压基板表面的清洗法会损伤基板表面。
发明内容
为了解决上述课题，本发明的基板清洗装置在滚轮等构成的运送路径的上方，配置将沿一定方向流动的清洗水供给被运送的基板表面的清洗液供给部件，而且为了使供给到基板表面的清洗水产生振动而在基板下方配置超声波振荡构件。
上述超声波振荡构件的清洗液供给喷嘴从所述运送滚轮间向基板的下面使超声波振荡，向供给到基板表面的清洗水提供超声波，使清洗水振动来清洗基板表面。
根据上述清洗装置(方法)，可以不向基板表面的清洗水无用地传送超声波，可以高效率地进行清洗。
附图说明
图1是本发明的基板清洗装置的侧面图。
图2是该基板清洗装置的平面图。
图3是图1的A-A线放大剖面图。
图4是图3的B-B线剖面图。
图5是图1的主要部分放大图。
图6是图5的C-C方向向视图。
具体实施方式
以下，根据附图来说明本发明的实施方式。图1是本发明的基板清洗装置的侧面图，图2是该基板清洗装置的平面图，图3是图1的A-A线放大剖面图，图4是图3的B-B线剖面图，图5是图1的主要部分放大图，图6是图5的C-C方向向视图。
基板清洗装置包括形成隧道状的运送路径1。该运送路径1由左右的壁体2、2、从壁体2、2的上端向斜上方安装的左右顶板3、3、以及底板4构成，左右的顶板3、3间打开，在底板4中设置排水孔5。
在所述壁体2、2间按等间隔架设运送滚轮6…，通过电机7使这些运送滚轮6…旋转，从而运送玻璃基板W。
此外，在运送路径1内的上部 配置清洗液供给部件8。清洗液供给部件8在与运送方向垂直的方向上连续设置下方打开的三个箱9，在各箱9内配置四个清洗液供给喷嘴10。清洗液供给喷嘴10的个数是任意的，可通过玻璃基板的尺寸而增减。在需要的情况下，如图4所示，也可以将辅助清洗喷嘴11配置在清洗液供给喷嘴10的前后。
另一方面，在运送路径1内的下部配置超声波振荡构件12。超声波振荡构件12由箱状本体13、安装在该本体13中的超声波振荡喷嘴14构成，使超声波振荡喷嘴14面对着所述运送滚轮6…间。
所述超声波振荡构件12与所述清洗液供给部件8同样，在与运送方向垂直的方向上配置三个。这样，在宽度方向配置多个清洗液供给部件8和超声波振荡构件12的理由在于，维修和故障的对应容易，可以根据基板的尺寸进行增减，制作也简单等。
清洗液是臭氧水、碱离子水等较好，而且如果温度达到40～50℃，则分子的活动加快，清洗效率提高。超声波输出为28kHz～1MHz(更好是45kHz～100kHz)。
此外，将清洗液供给喷嘴14的上端部设定得比运送滚轮6的上端稍低。由此，清洗液供给喷嘴14的上端部靠近被运送的玻璃基板W的下表面，可以将超声波高效率地传送给玻璃基板。
以上，从清洗液供给喷嘴10在一定方向、即与玻璃基板W的运送方向相反方向上向玻璃基板表面供给清洗液。于是，清洗液流过玻璃基板W的表面，遍及基板全面。另一方面，从配置在被运送的玻璃基板W的下方的清洗液供给喷嘴14使超声波在玻璃板W上振荡时，将超声波传送给供给到玻璃基板表面的清洗液，使清洗液振动，均匀高效率地清洗玻璃基板。
如以上说明，根据本发明，在被运送的玻璃基板等的基板下方配置超声波振荡构件，将超声波产生的振动传送到供给基板表面的清洗水，所以只有与清洗有关的清洗水通过超声波而振动，超声波不传送到没在基板表面的清洗水，所以清洗效率大幅度提高。

Claims (3)

1.一种基板清洗装置，其特征在于，包括：基板的运送路径；为了对运送的基板表面供给沿一定方向上流动的清洗水而配置在基板上方的清洗液供给部件；以及为了使供给到基板表面的清洗水产生振动而配置在基板下方的超声波振荡构件。
2.加权利要求1所述的基板清洗装置，其特征在于，所述运送路径由多个运送滚轮构成，所述超声波振荡构件的超声波喷嘴面对着所述运送滚轮之间。
3.一种基板清洗方法，其特征在于：对运送的基板表面供给向运送方向上流侧流动的清洗水，并使用超声波振荡构件从运送的基板下面对供给到基板表面的清洗水提供超声波，使清洗水振动并清洗基板表面。
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Cited By (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN101516534B (zh) * 2006-10-20 2010-12-01 韩国机械研究院 超声波清洗组件
US8132580B2 (en) 2007-03-29 2012-03-13 Tokyo Electron Limited Substrate processing system and substrate cleaning apparatus including a jetting apparatus
CN102662267A (zh) * 2012-04-25 2012-09-12 深圳市华星光电技术有限公司 液晶面板的制作方法
CN103028564A (zh) * 2011-09-30 2013-04-10 金宝电子（中国）有限公司 溶液供应单元、清洁系统及其清洁方法
US9151980B2 (en) 2012-04-25 2015-10-06 Shenzhen China Star Optoelectronics Technology Co., Ltd. Method for manufacturing liquid crystal panel
CN105032835A (zh) * 2015-08-19 2015-11-11 京东方科技集团股份有限公司 超声波清洗装置
CN106066547A (zh) * 2016-07-11 2016-11-02 合肥通泰光电科技有限公司 一种超音波清洗液晶显示器胶框的工艺
CN107980033A (zh) * 2016-11-17 2018-05-01 深圳市柔宇科技有限公司 传送装置和玻璃清洗装置

Families Citing this family (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP4730771B2 (ja) 2005-08-23 2011-07-20 東京応化工業株式会社 処理液供給ノズル及び基板処理装置
KR101336996B1 (ko) * 2012-02-29 2013-12-04 주식회사 듀라소닉 대면적 패널용 초음파 세정장치
CN105750266A (zh) * 2016-04-27 2016-07-13 芜湖真空科技有限公司 Ito玻璃的清洗方法
TWI597799B (zh) * 2016-10-14 2017-09-01 盟立自動化股份有限公司 溼式製程設備
JP6763843B2 (ja) 2017-10-25 2020-09-30 株式会社カイジョー 超音波洗浄装置及び超音波洗浄システム
KR102545494B1 (ko) * 2022-11-02 2023-06-22 (주)늘푸른씨앤씨 데미스터 자동 세척장치
CN120460385B (zh) * 2025-06-24 2025-11-25 山东大学 一种高纯碳化硅颗粒超声清洗设备及方法

Family Cites Families (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2002159922A (ja) * 2000-11-29 2002-06-04 Sharp Corp 超音波洗浄装置

Cited By (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN101516534B (zh) * 2006-10-20 2010-12-01 韩国机械研究院 超声波清洗组件
US8132580B2 (en) 2007-03-29 2012-03-13 Tokyo Electron Limited Substrate processing system and substrate cleaning apparatus including a jetting apparatus
CN103028564A (zh) * 2011-09-30 2013-04-10 金宝电子（中国）有限公司 溶液供应单元、清洁系统及其清洁方法
CN102662267A (zh) * 2012-04-25 2012-09-12 深圳市华星光电技术有限公司 液晶面板的制作方法
WO2013159369A1 (zh) * 2012-04-25 2013-10-31 深圳市华星光电技术有限公司 液晶面板的制作方法
US9151980B2 (en) 2012-04-25 2015-10-06 Shenzhen China Star Optoelectronics Technology Co., Ltd. Method for manufacturing liquid crystal panel
CN105032835A (zh) * 2015-08-19 2015-11-11 京东方科技集团股份有限公司 超声波清洗装置
CN105032835B (zh) * 2015-08-19 2017-12-19 京东方科技集团股份有限公司 超声波清洗装置
CN106066547A (zh) * 2016-07-11 2016-11-02 合肥通泰光电科技有限公司 一种超音波清洗液晶显示器胶框的工艺
CN107980033A (zh) * 2016-11-17 2018-05-01 深圳市柔宇科技有限公司 传送装置和玻璃清洗装置

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