CN1438188A - 185纳米紫外光与膜脱气相结合的除超纯水中有机物方法 - Google Patents
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Abstract
一种185纳米紫外光与膜脱气相结合的除超纯水中有机物方法,它包括:水净化处理工艺,其特征在于:所述水净化处理工艺中,在185纳米紫外装置处理工序之后,为膜脱气处理工序。优点:本发明中在185纳米紫外线工序之后,为膜脱气处理工序,从中可以去除小分子不带电有机物和大部分二氧化碳,从而明显降低了超纯水中总有机碳含量,扩大了超纯水的用途,满足不同需求,而且工艺简便。
Description
本发明涉及一种将185纳米紫外有机物分解器和膜脱气装置相结合制造有机物含量低的超纯水的工艺方法。
超纯水主要用于大规模集成电路的生产和很多其他电子通讯器材制造业。超纯水中总有机物含量,通常以总有机碳(TOC)含量来衡量,保证超纯水中TOC指标对于超纯水制造工艺通常是有挑战性的。
因为185纳米紫外光可以打断有机物中大多数化学键,所以可以用185纳米紫外光分解纯水中残留有机物。纯水中残留有机物在185纳米紫外光作用下分解后可能以三种形式存在,即带电小分子有机物、不带电小分子有机物和被氧化成二氧化碳。
已知技术中在185纳米紫外后安装连续电除盐装置或混合离子交换装置以除去被分解的有机物。但是连续电除盐装置或混合离子交换装置只对清除带电有机物和二氧化碳有效,却不能清除不带电小分子有机物。因此,不能使有机物含量降低到较高水准。
本发明的目的是提供一种有机物含量低的超纯水工艺,该工艺简便,效果好。
为实现上述目的,本发明采用以下技术方案:这种185纳米紫外光与膜脱气相结合的除超纯水中有机物方法,它包括:水净化处理工艺,所述水净化处理工艺中,在185纳米紫外装置处理工序之后,为膜脱气处理工序。
本发明人利用了科学知识,即不带电小分子有机物具有挥发性,而脱气膜膜可以进行气水分离等技术方案,并将这些技术方案应用到超纯水制造工艺中,所以在185纳米紫外装置后安装膜脱气装置和连续电除盐装置或混合离子交换装置,利用膜脱气装置脱出小分子不带电有机物和大部分的二氧化碳,再用连续电除盐装置或混合离子交换装置清除带电有机物和残余二氧化碳。
另外,本发明中使用过的脱气装置以脱气装置为佳,在脱气过程中纯水不应该与空气接触。185纳米紫外装置只适用于经过净化处理,有机物含量较低的纯化水,纯化水中总有机碳含量小于500ppb。本实施中,膜脱气装置为已有产品,(见US5938922),工艺条件中,真空度为<50mmHg,其余为常规操作。
实施例一:城市自来水经过过滤、活性炭吸附器、双级反渗透、连续电除盐、185纳米紫外装置、精密混床,产品水总有机碳含量稳定值为12-26ppb。同源地下水经过过滤、双级反渗透、连续电除盐、185纳米紫外装置、膜脱气装置、精密混床。产品水总有机碳含量稳定值为0.1-0.2ppb。
实施例二:地下水自来水经过过滤、单级反渗透、连续电除盐、185纳米紫外装置、精密混床,产品水总有机碳含量稳定值为30-35ppb。同源地下水经过过滤、单级反渗透、185纳米紫外装置、膜脱气装置、连续电除盐、精密混床。产品水总有机碳含量稳定值为0.5±0.1ppb。
优点:本发明中在185纳米紫外线工序之后,为膜脱气处理工序,从中可以去除小分子不带电有机物和大部分二氧化碳,从而明显降低了超纯水中总有机碳含量,扩大了超纯水的用途,满足不同需求,而且工艺简便。
Claims (1)
1、一种185纳米紫外光与膜脱气相结合的除超纯水中有机物方法,它包括:水净化处理工艺,其特征在于:所述水净化处理工艺中,在185纳米紫外装置处理工序之后,为膜脱气处理工序。
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| CN 02103692 CN1438188A (zh) | 2002-02-10 | 2002-02-10 | 185纳米紫外光与膜脱气相结合的除超纯水中有机物方法 |
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| CN 02103692 Pending CN1438188A (zh) | 2002-02-10 | 2002-02-10 | 185纳米紫外光与膜脱气相结合的除超纯水中有机物方法 |
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Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN100417601C (zh) * | 2005-09-01 | 2008-09-10 | 上海化工研究院 | 一种去除重氧水中细菌和有机物的净化处理方法 |
| CN102933502A (zh) * | 2010-06-09 | 2013-02-13 | 株式会社神钢环境舒立净 | 淡水生成装置和淡水生成方法 |
| CN114291959A (zh) * | 2022-03-09 | 2022-04-08 | 中国电子工程设计院有限公司 | 一种有效去除总有机碳和弱离子化杂质的超纯水制备方法 |
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2002
- 2002-02-10 CN CN 02103692 patent/CN1438188A/zh active Pending
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| CN114291959B (zh) * | 2022-03-09 | 2022-07-01 | 中国电子工程设计院有限公司 | 一种有效去除总有机碳和弱离子化杂质的超纯水制备方法 |
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