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CN113064300A - 一种彩膜基板、彩膜基板的制作方法及液晶显示面板 - Google Patents

一种彩膜基板、彩膜基板的制作方法及液晶显示面板 Download PDF

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CN113064300A
CN113064300A CN202110330181.4A CN202110330181A CN113064300A CN 113064300 A CN113064300 A CN 113064300A CN 202110330181 A CN202110330181 A CN 202110330181A CN 113064300 A CN113064300 A CN 113064300A
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color filter
color film
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何政航
康报虹
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Mianyang HKC Optoelectronics Technology Co Ltd
Original Assignee
HKC Co Ltd
Mianyang HKC Optoelectronics Technology Co Ltd
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Abstract

本发明公开了一种彩膜基板、彩膜基板的制作方法及液晶显示面板，所述彩膜基板包括彩膜基板本体；所述彩膜基板本体的周边区域设置有至少一第一对位标记层，以及和所述第一对位标记层同层设置的遮光层；其中，所述第一对位标记层的厚度低于所述遮光层的厚度。在彩膜基板本体上设置具有阶梯差的遮光层和第一对位标记层，第一对位标记层的厚度低于遮光层的厚度，如此形成厚度较低的第一对位标记层，在制作彩膜基板时，第一对位标记层的标记图案不容易塌方，防止第一对位标记层的标记图案出现模糊的状况，有利于阵列基板与彩膜基板的精准对组。

Description

一种彩膜基板、彩膜基板的制作方法及液晶显示面板
技术领域
本发明属于显示技术领域，尤其涉及一种彩膜基板、彩膜基板的制作方法及液晶显示面板。
背景技术
COA(color filter on Array)技术是将彩色滤光层制备在阵列基板上的技术以形成COA型阵列基板。由于COA结构的液晶显示面板中不存在彩色滤光片基板与薄膜晶体管阵列基板的对位问题，因此可以降低可以降低液晶显示面板制备过程中对盒制程的难度；为了获得更好的对组精度，在制作彩膜基板时通过制作BPS层(Black photo spacer，黑色光间隙粒子)代替BM(Black Matrix，黑矩阵)及PS(photo spacer，柱状隔垫物)，采用BPS替代BM+PS时，提高对组精度，但是在制作的过程中，在彩膜基板的本体上设置一层基底膜层(即BPS膜层)，并通过对基底膜层的处理会得到遮光层和与遮光层厚度相同的标记层，但是经由上述过程制备的遮光层和标记层，二者的厚度是原来BM层厚度的二倍。由于经过上述过程制备的标记层的厚度较大，在标记层上设计图案后，标记层上的图案的四周由于重力的影响而产生塌方的问题，如此就形成了较为模糊的彩膜基板标记层，在与COA型阵列基板的阵列标记对组时，影响彩膜基板与COA型阵列基板对组的精度，进而出现对组偏差的问题，影响COA型阵列基板与彩膜基板的对组精度。
发明内容
本发明实施例的主要目的在于提出一种彩膜基板、彩膜基板的制作方法及液晶显示面板，旨在对以上彩膜基板的标记层向外塌方影响对组精度的缺陷进行了改善。
本发明解决上述技术问题的技术方案是，提供一种彩膜基板，所述彩膜基板包括彩膜基板本体；所述彩膜基板本体的周边区域设置有至少一第一对位标记层，以及和所述第一对位标记层同层设置的遮光层；其中，所述第一对位标记层的厚度低于所述遮光层的厚度。
进一步地，所述第一对位标记层包括第一标记层和第二标记层，所述第二标记层与所述第一标记层并列设在所述彩膜基板本体上；所述第二标记层的厚度小于或等于所述第一标记层的厚度。
进一步地，，所述第一对位标记层的材料与所述遮光层的材料为同一种材料；且所述第一对位标记层与所述遮光层均通过同一道光罩图像化处理形成的
进一步地，所述彩膜基板包括隔垫物，所述隔垫物与所述遮光层并列设在所述彩膜基板本体上，所述隔垫物的厚度大于所述遮光层的厚度。
本发明还提出了一种彩膜基板的制作方法，用于制造如上述的彩膜基板，所述彩膜基板的制作方法包括如下步骤：
形成一彩膜基板本体；
在所述彩膜基板本体上形成基底膜层；
在所述基底膜层上采用具有至少三种透光率的光罩对所述基底膜层进行曝光处理；
蚀刻经过曝光处理的所述基底膜层，以在所述彩膜基板本体上形成遮光层及第一对位标记层，其中，所述遮光层的厚度大于所述第一对位标记层的厚度。
进一步地，所述遮光层对应所述光罩的透过率小于所述第一对位标记层对应所述光罩的透过率。
进一步地，在所述基底膜层上设置具有至少三种透光率的光罩，并对所述光罩曝光形成所述第一对位标记层的步骤包括：
采用紫外光朝向所述光罩照射，紫外光透过光罩照射在基底膜层上；
在曝光后的基底膜层上添加碱性的显示液；
对基底膜层进行蚀刻。
进一步地，蚀刻经过曝光处理的所述基底膜层，以在所述彩膜基板本体上形成第一对位标记层的步骤包括：
蚀刻经过曝光处理的所述基底膜层，在所述彩膜基板本体上形成隔垫物，在所述隔垫物的两侧形成遮光层及第一对位标记层。
本发明还提出了一种液晶显示面板，所述液晶显示面板包括：
阵列基板，所述阵列基板上设有第二对组标记；
如上所述的彩膜基板，所述彩膜基板设置在所述阵列基板上，将所述彩膜基板的第一对位标记层与所述第二对组标记对位设置，用于所述彩膜基板与所述阵列基板准确对组。
进一步地，所述阵列基板包括：
玻璃基板，所述第二对组标记设在所述玻璃基板上；
三基色色阻，所述三基色色阻设在所述玻璃基板上。
本发明提供一种彩膜基板、彩膜基板的制作方法及液晶显示面板；在所述彩膜基板本体上设置具有阶梯差的所述遮光层和第一对位标记层，所述第一对位标记层的厚度低于所述遮光层的厚度，如此形成厚度较低的第一对位标记层，在制作彩膜基板时，第一对位标记层的标记图案不容易塌方，防止所述第一对位标记层的标记图案出现模糊的状况，有利于阵列基板与彩膜基板的精准对组。
附图说明
图1为本发明所述彩膜基板的结构示意图；
图2为本发明所述彩膜基板与所述阵列基板对组的结构示意图；
图3为本发明所述一种彩膜基板的制作方法的其中一实施列流程示意图；
图4为本发明所述一种彩膜基板的制作方法的其中一实施列流程示意图。
附图标号说明：
标号 名称 标号 名称
100 彩膜基板 31 遮光层
11 彩膜基板本体 41 隔垫物
21 第一对位标记层 51 阵列基板
具体实施方式
为了使本发明的目的、技术方案及优点更加清楚明白，以下结合附图及实施例，对本发明进行进一步详细说明。应当理解，此处所描述的具体实施例仅仅用以解释本发明，并不用于限定本发明。
下面将结合本发明实施例中的附图，对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本发明的一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例，本领域普通技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本发明保护的范围。
需要说明，本发明实施例中所有方向性指示(诸如上、下、左、右、前、后……)仅用于解释在某一特定姿态(如附图所示)下各部件之间的相对位置关系、运动情况等，如果该特定姿态发生改变时，则该方向性指示也相应地随之改变。
另外，在本发明中涉及“第一”、“第二”等的描述仅用于描述目的，而不能理解为指示或暗示其相对重要性或者隐含指明所指示的技术特征的数量。由此，限定有“第一”、“第二”的特征可以明示或者隐含地包括至少一个该特征。另外，各个实施例之间的技术方案可以相互结合，但是必须是以本领域普通技术人员能够实现为基础，当技术方案的结合出现相互矛盾或无法实现时应当认为这种技术方案的结合不存在，也不在本发明要求的保护范围之内。
如图1所示，一种彩膜基板100，所述彩膜基板100包括彩膜基板本体11；所述彩膜基板本体11的周边区域设置有至少一第一对位标记层21，以及和所述第一对位标记层21同层设置的遮光层31；其中，所述第一对位标记层21的厚度低于所述遮光层31的厚度。
需要说明的是，本实施例中，传统的彩膜基板由于彩膜标记的厚度较大，在制作完成后，彩膜标记的边缘位置容易发生塌方，形成较为模糊的彩膜标记；在与阵列基板对组时，影响彩膜基板与阵列基板对组的精度，进而造成对组偏差的问题。本发明提供一种彩膜基板100，在所述彩膜基板本体11上设置具有阶梯差的所述遮光层31和第一对位标记层21，所述第一对位标记层21的厚度低于所述遮光层31的厚度，如此形成厚度较低的第一对位标记层21，防止所述第一对位标记层21的标记图案出现模糊的状况，有利于阵列基板与彩膜基板100的精准对组。
在一种可实施的方式中，在制作彩膜基板100时，在彩膜基板本体11沉淀一层基底膜层，在基底膜层上通过图案化处理(蚀刻处理)形成遮光层31；通过对基底膜层进行减薄处理，并对所述基底膜层进行图案化处理得到较薄的第一对位标记层21；厚度较低的第一对位标记层21不容易发生塌方，不会发生模糊的状况，有利于在对组阵列基板时，准确抓取第一对位标记层21，进行准确对组操作。
在一种可实施的方式中，在制作遮光层31及第一对位标记层21时，采用不同透过率的同一光罩对基底膜层进行曝光处理，得到不同厚度的遮光层31及第一对位标记层21，所述第一对位标记层21的厚度低于所述遮光层21的厚度；所述第一对位标记层21对应光罩的透过率较大，曝光后，形成的所述第一对位标记层21的厚度较小；所述遮光层21对应光罩的透过率较小，曝光后，形成的所述遮光层21的厚度较大；较厚的所述遮光层21能够有效防止光的泄漏，厚度较薄的所述第一对位标记层21的标记图案清晰，在对组时容易被抓取，实现准确对组；
具体地，所述基底膜层为黑色的光间隙粒子形成的膜层，利用基底膜层形成的隔垫物可直接代替原本的BM+PS层，进而减少制成。
进一步地，所述第一对位标记层21包括第一标记层和第二标记层，所述第二标记层与所述第一标记层并列设在所述彩膜基板本体11上；所述第二标记层的厚度小于或等于所述第一标记层的厚度。
需要说明的是，本实施例中，在制作所述第一对位标记层21时，分别采用不同透过率的光罩对基膜进行曝光处理，得到不同厚度的标记层，在不同厚度的标记层上分别制作标记图案形成带有标记图案的第一标记层和第二标记层；所述第一标记层与所述第二标记层并列设在所述彩膜基板上；防止其中一所述第一标记层或第二标记层上的标记图案变模糊，对第一标记层或第二标记层抓取失败时，可以抓取其中图案未变模糊的第一标记层或第二标记层，如此就可抓取其中一清晰的图案信息进行对组；防止在对组时，图像抓取失败导致的阵列基板与彩膜基板100的对组精度低地问题。
在一种可行的实施方式中，所述第一对位标记层21包括至少三层标记层，所述标记层分别为所述第一标记层、所述第二标记层及第三标记层。
进一步地，所述第一对位标记层21的材料与所述遮光层31的材料为同一种材料；且所述第一对位标记层21与所述遮光层31均通过同一道光罩图像化处理形成的。
需要说明的是，本实施例中，所述第一对位标记层21的材料与所述遮光层31的材料为同一种材料，均为黑色的光间隙粒子。所述第一对位标记层21与所述遮光层31均通过同一道光罩图像化处理形成的，述第一对位标记层21对应光罩的透过率较大，曝光后，形成的所述第一对位标记层21的厚度较小；所述遮光层21对应光罩的透过率较小，曝光后，形成的所述遮光层21的厚度较大；较厚的所述遮光层21能够有效防止光的泄漏，厚度较薄的所述第一对位标记层21的标记图案清晰，在对组时容易被抓取，实现准确对组。
进一步地，如图1所示，所述彩膜基板100包括隔垫物41，所述隔垫物41与所述遮光层31并列设在所述彩膜基板本体11上，所述隔垫物的厚度大于所述遮光层的厚度。
需要说明的是，本实施例中，所述彩膜基板100还包括隔垫物41，隔垫物41与第一对位标记层21及遮光层31的材料均为黑色的光间隙粒子，所述隔垫物41为BPS用于替代原本的BM+PS；所述隔垫物41与所述第一对位标记层21并列设在所述彩膜基板本体11上；所述隔垫物41用于支撑在阵列基板与彩膜基板本体11之间，用于保证液晶盒的稳定性。
具体地，所述隔垫物41的材质与遮光层31的材质相同，在基底膜层上形成遮光层31时，同时形成隔垫物41，所述隔垫物41为BPS，所述隔垫物41呈柱状。为了设置更高的隔垫物41高度，将多个隔垫层的宽度从所述彩膜基板本体11往远离所述彩膜基板本体11的方向依次减小；所述隔垫物41的高度较高，使得彩膜基板100与阵列基本对组后，能够有较大的液晶储藏空间，且隔垫物41不容易塌方。所述隔垫物41包括高度不同的至少两层隔垫层，高度较高的隔垫层为主隔垫层，高度较低的隔垫层为辅隔垫层。
本发明还提出了一种彩膜基板的制作方法，用于制造如上所述的彩膜基板100，如图3所示，所述彩膜基板100的制作方法包括如下步骤：
步骤S10：形成一彩膜基板本体11；
步骤S20：在所述彩膜基板本体11上形成基底膜层；
步骤S30：在所述基底膜层上采用具有至少三种透光率的光罩对所述基底膜层进行曝光处理；
步骤S40：蚀刻经过曝光处理的所述基底膜层，以在所述彩膜基板本体11上形成遮光层31及第一对位标记层21，其中，所述遮光层31的厚度大于所述第一对位标记层21的厚度。
需要说明的是，本实施例中，形成一彩膜基板本体11，彩膜基板本体11上的遮光层31及第一对位标记层21通过涂布、曝光和显影三大工艺步骤制备而成的；通过沉积的方式直接在所述彩膜基板的本体11上沉积一层或一层以上的基底膜层；在所述基底膜层上采用至少三种透过率的光罩对所述基底膜层进行曝光处理，通过紫外灯对光罩进行照射，紫外光穿过至少三种透过率的光罩对基底膜层照射，第一对位标记层21对应光罩的透过率在0％至100％之间；而所述遮光层31对应光罩的透过率比所述第一对位标记层21对应光罩的透过率较小，蚀刻后，形成遮光层31的厚度大于形成第一对位标记层21的厚度。
在一种可行的实施方式中，若三种透过率分别为0％透过率、50％透过率及100透过率；通过0％透过率的光罩时，对应的基底膜层不会发生变化，形成遮光层31；透过50％透过率的光罩，对应的基底膜层部分发生反应，形成第一对位标记层21或形成膜厚较低的遮光层31，在膜厚较低的遮光层31上制作标记图案形成第一对位标记层21；透过100％透过率的光罩，对应的基底膜层全部发生反应，减少基底膜层的厚度或完全去基底膜层；蚀刻经过曝光处理的所述基底膜层，以在所述彩膜基板本体11上形成遮光层31或第一对位标记层21。
进一步地，所述遮光层31对应所述光罩的透过率小于所述第一对位标记层21对应所述光罩的透过率。
需要说明的是，本实施例中，所述遮光层31对应光罩的透过率小于所述第一对位标记层21对应光罩的透过率，在曝光时，遮光层31对应的光间隙粒子全部保留或小部分祛除，形成较厚的遮光层31；所述第一对位标记层21对应的光间隙粒子大部分被祛除，形成较薄的第一对位标记层21；故所述第一对位标记层21的厚度低于所述遮光层31，在第一对位标记层21形成图案标记时，图案标记不容易发生塌方，防止图像标记变模糊，在对组时，不容易被抓取。
进一步地，如图4所示，在所述基底膜层上设置具有至少三种透光率的光罩，并对所述光罩曝光形成所述第一对位标记层的步骤包括：
步骤S31：采用紫外光朝向所述光罩照射，紫外光透过光罩照射在基底膜层上；
步骤S32：在曝光后的基底膜层上添加碱性的显示液；
步骤S33：对基底膜层进行蚀刻。
需要说明的是，本实施例中，在基底膜层上设置光阻，将光罩设在光阻上，采用紫外光照射光罩，并通过光罩的透明区域及半透明区域照射在光阻上；在基底膜层沉积光阻，在光阻上盖设具有至少三种透过率的光罩，并通过光罩的透明区域及半透明区域照射在光阻上，对光阻以及基底膜层产生反应，祛除部分基底膜层；在曝光后的光阻上添加碱性的显示液；通过碱性的显示液对其中未被曝光的基底膜层进行溶解；对基底膜层进行蚀刻，将基底膜层蚀刻为设计的形状。
进一步地，蚀刻经过曝光处理的所述基底膜层，以在所述彩膜基板本体11上形成遮光层31及第一对位标记层21的步骤包括：
蚀刻经过曝光处理的所述基底膜层，在所述彩膜基板本体11上形成隔垫物41，在所述隔垫物41的两侧形成遮光层31及第一对位标记层21。
需要说明的是，本实施例中，在所述基底膜层上设置具有三种透光率的光罩，三种透光率的光罩分别对应不同位置的基底膜层，在曝光时，形成第一对位标记层21及隔垫物31，所述第一对位标记层21位于所述隔垫物31的两侧；在对应隔垫物31的光罩上设有三种不同透光率的光罩，曝光后，形成阶梯状的隔垫物31。
本发明还提出了一种液晶显示面板，如图2所示，所述液晶显示面板包括：
阵列基板51，所述阵列基板51上设有第二对组标记；
如上所述的彩膜基板100，所述彩膜基板100设置在所述阵列基板51上，将所述彩膜基板51的第一对位标记层21与阵列基板51的所述第二对组标记对位设置，用于所述彩膜基板100与所述阵列基板51准确对组。
需要说明的是，本实施例中，所述阵列基板51为COA型阵列基板，在所述阵列基板51与所述彩膜基板100对组时，通过抓取第一对位标记层21上的图案信息与第二对组标记的图案信息，将图案信息对应对组，实现阵列基板51与所述彩膜基板100之间的对组，通过抓取图案信息的清晰度实现阵列基板51与所述彩膜基板100准确对组。
在一种可行的实施方式中，所述第二对组标记的形成方式与第一对位标记层21的形成方式相同，所述第二对组标记包括至少两层的标记层，且标记层厚度不同；如此形成的第二对组标记其中一个标记层出现模糊问题时，能够准确抓取另一个标记层的团信息，进行准确对组。
进一步地，所述阵列基板包括：玻璃基板，所述第二对组标记设在所述玻璃基板上；三基色色阻，所述三基色色阻设在所述玻璃基板上；
需要说明的是，所述阵列基板包括：玻璃基板及三基色色阻；所述三基色色阻设在所述玻璃基板上，所述三基色色阻对应所述隔垫物设置。
进一步地，所述彩膜基板100在朝向所述阵列基板41的面上设有下配向层；所述阵列基板41在朝向所述彩膜基板100的面上设有上配向层；分别在所述下配向层与所述上配向层设置液晶，在所述彩膜基板与所述阵列基板41对组时，所述隔垫物第一对位标记层31将所述液晶分隔形成液晶盒。
需要说明的是，本实施例中，所述彩膜基板100在朝向所述阵列基板41的面上设有下配向层；所述阵列基板41在朝向所述彩膜基板100的面上设有上配向层；所述上配向层及下配向层用于夹住液晶，能够对液晶分子形成一个稳定的预倾角，进而使液晶分子排列整齐。
进一步地，所述液晶显示面板还包括：上偏光片，所述上偏光片设在所述彩膜基板100背离所述第一对位标记层21的面上；下偏光片，所述下偏光片设在所述阵列基板41背离所述彩膜基板100的面上。
需要说明的是，本实施例中，所述液晶显示面板包括上偏光片和下偏光片，所述上偏光片设在所述彩膜基板100背离所述第一对位标记层21的面上；述下偏光片设在所述阵列基板背离所述彩膜基板100的面上；所述上偏光片和下偏光片用于液晶显示面板的成像。
以上所述，仅为本发明较佳的具体实施方式，但本发明的保护范围并不局限于此，任何熟悉本技术领域的技术人员在本发明揭露的技术范围内，可轻易想到的变化或替换，都应涵盖在本发明的保护范围之内。因此，本发明的保护范围应该以权利要求的保护范围为准。

Claims (10)

1.一种彩膜基板，其特征在于，所述彩膜基板包括：
彩膜基板本体；所述彩膜基板本体的周边区域设置有至少一第一对位标记层，以及和所述第一对位标记层同层设置的遮光层；其中，所述第一对位标记层的厚度低于所述遮光层的厚度。
2.如权利要求1所述的彩膜基板，其特征在于，所述第一对位标记层包括第一标记层和第二标记层，所述第二标记层与所述第一标记层并列设在所述彩膜基板本体上；所述第二标记层的厚度小于或等于所述第一标记层的厚度。
3.如权利要求1所述的彩膜基板，其特征在于，所述第一对位标记层的材料与所述遮光层的材料为同一种材料；且所述第一对位标记层与所述遮光层均通过同一道光罩图像化处理形成的。
4.如权利要求1所述的彩膜基板，其特征在于，所述彩膜基板包括隔垫物，所述隔垫物与所述遮光层并列设在所述彩膜基板本体上，所述隔垫物的厚度大于所述遮光层的厚度。
5.一种彩膜基板的制作方法，其特征在于，用于制造如权利要求1-4任一项所述的彩膜基板，所述彩膜基板的制作方法包括如下步骤：
形成一彩膜基板本体；
在所述彩膜基板本体上形成基底膜层；
在所述基底膜层上采用具有至少三种透光率的光罩对所述基底膜层进行曝光处理；
蚀刻经过曝光处理的所述基底膜层，以在所述彩膜基板本体上形成遮光层及第一对位标记层，其中，所述遮光层的厚度大于所述第一对位标记层的厚度。
6.如权利要求5所述的彩膜基板的制作方法，其特征在于，所述遮光层对应所述光罩的透过率小于所述第一对位标记层对应所述光罩的透过率。
7.如权利要求5所述的彩膜基板的制作方法，其特征在于，在所述基底膜层上设置具有至少三种透光率的光罩，并对所述光罩曝光形成所述第一对位标记层的步骤包括：
采用紫外光朝向所述光罩照射，紫外光透过光罩照射在基底膜层上；
在曝光后的基底膜层上添加碱性的显示液；
对基底膜层进行蚀刻。
8.如权利要求5所述的彩膜基板的制作方法，其特征在于，蚀刻经过曝光处理的所述基底膜层，以在所述彩膜基板本体上形成第一对位标记层的步骤包括：
蚀刻经过曝光处理的所述基底膜层，在所述彩膜基板本体上形成隔垫物，在所述隔垫物的两侧形成遮光层及第一对位标记层。
9.一种液晶显示面板，其特征在于，所述液晶显示面板包括：
阵列基板，所述阵列基板上设有第二对组标记；
如权利要求1-4任一项所述的彩膜基板，所述彩膜基板设置在所述阵列基板上，将所述彩膜基板的第一对位标记层与所述第二对组标记对位设置，用于所述彩膜基板与所述阵列基板准确对组。
10.如权利要求9所述的液晶显示面板，其特征在于，所述阵列基板包括：
玻璃基板，所述第二对组标记设在所述玻璃基板上；
三基色色阻，所述三基色色阻设在所述玻璃基板上。
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Citations (14)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0446316A (ja) * 1990-06-14 1992-02-17 Fujitsu Ltd 補償用液晶パネルの製造方法
JPH086005A (ja) * 1994-06-15 1996-01-12 Casio Comput Co Ltd 液晶表示装置およびその製造方法
JPH0862597A (ja) * 1994-08-19 1996-03-08 Sony Corp カラーマトリクス表示パネル及びその製造方法
JP2000250021A (ja) * 1999-02-26 2000-09-14 Nec Corp カラー液晶表示パネルおよびその製造方法
JP2009192667A (ja) * 2008-02-13 2009-08-27 Epson Imaging Devices Corp 表示装置及び表示装置の製造方法
TW201115276A (en) * 2009-05-26 2011-05-01 Shinetsu Chemical Co Patterning process and resist composition
JP2012204640A (ja) * 2011-03-25 2012-10-22 Sumitomo Electric Ind Ltd アライメントマーク形成方法及び光半導体素子の製造方法
CN104731437A (zh) * 2015-04-17 2015-06-24 京东方科技集团股份有限公司 触控显示面板及其制作方法、显示装置
JP2015138181A (ja) * 2014-01-23 2015-07-30 凸版印刷株式会社 カラーフィルタ基板、液晶表示セルおよび液晶表示セルの製造方法
TW201624104A (zh) * 2014-12-26 2016-07-01 Ｈｏｙａ股份有限公司 光罩基底、相位偏移光罩、相位偏移光罩之製造方法及半導體裝置之製造方法
CN106773417A (zh) * 2017-01-17 2017-05-31 友达光电（昆山）有限公司 显示装置
CN108681142A (zh) * 2018-05-22 2018-10-19 惠科股份有限公司 一种显示面板的制作方法
CN210626821U (zh) * 2019-06-27 2020-05-26 北海惠科光电技术有限公司 一种显示面板及显示装置
CN112540483A (zh) * 2020-12-09 2021-03-23 惠科股份有限公司 显示面板及显示装置

Patent Citations (14)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0446316A (ja) * 1990-06-14 1992-02-17 Fujitsu Ltd 補償用液晶パネルの製造方法
JPH086005A (ja) * 1994-06-15 1996-01-12 Casio Comput Co Ltd 液晶表示装置およびその製造方法
JPH0862597A (ja) * 1994-08-19 1996-03-08 Sony Corp カラーマトリクス表示パネル及びその製造方法
JP2000250021A (ja) * 1999-02-26 2000-09-14 Nec Corp カラー液晶表示パネルおよびその製造方法
JP2009192667A (ja) * 2008-02-13 2009-08-27 Epson Imaging Devices Corp 表示装置及び表示装置の製造方法
TW201115276A (en) * 2009-05-26 2011-05-01 Shinetsu Chemical Co Patterning process and resist composition
JP2012204640A (ja) * 2011-03-25 2012-10-22 Sumitomo Electric Ind Ltd アライメントマーク形成方法及び光半導体素子の製造方法
JP2015138181A (ja) * 2014-01-23 2015-07-30 凸版印刷株式会社 カラーフィルタ基板、液晶表示セルおよび液晶表示セルの製造方法
TW201624104A (zh) * 2014-12-26 2016-07-01 Ｈｏｙａ股份有限公司 光罩基底、相位偏移光罩、相位偏移光罩之製造方法及半導體裝置之製造方法
CN104731437A (zh) * 2015-04-17 2015-06-24 京东方科技集团股份有限公司 触控显示面板及其制作方法、显示装置
CN106773417A (zh) * 2017-01-17 2017-05-31 友达光电（昆山）有限公司 显示装置
CN108681142A (zh) * 2018-05-22 2018-10-19 惠科股份有限公司 一种显示面板的制作方法
CN210626821U (zh) * 2019-06-27 2020-05-26 北海惠科光电技术有限公司 一种显示面板及显示装置
CN112540483A (zh) * 2020-12-09 2021-03-23 惠科股份有限公司 显示面板及显示装置

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