CN110568537A - 一种用于天文摄影的放射型渐变式抗光污染滤光镜 - Google Patents
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Abstract
本发明涉及一种用于天文摄影的放射型渐变式抗光污染滤光镜，属于光学过滤技术领域，本滤光镜包括基片、第一滤光层、第二滤光层、第三滤光层、第四滤光层和第五滤光层，所述第一滤光层盖设在所述基片的上表面，所述第二滤光层盖设在所述第一滤光层的上表面，所述第三滤光层盖设在所述第二滤光层的上表面，所述第四滤光层盖设在所述第三滤光层的上表面，所述第五滤光层盖设在所述第四滤光层的上表面，所述第一滤光层、所述第二滤光层、所述第三滤光层、所述第四滤光层和所述第五滤光层内的膜层密度均由一侧向另一侧逐渐减小。本发明效果是通过设置的多级滤光层，使得滤光强度逐渐减小，能够有效避免产生地面景物色偏的现象。
Description
技术领域
本发明属于光学过滤技术领域，具体涉及一种用于天文摄影的放射型渐变式抗光污染滤光镜。
背景技术
摄影滤光镜是摄影时放在照相机镜头前端或后端的一种玻璃或塑料镜片，能够对光的不同波段进行选择性吸收或反射。
其中，天文摄影最常用到的是抗光害滤光镜，但目前市场上的抗光污染滤光镜是整片滤光，会使地面景物产生色偏，从而降低成像质量。
发明内容
本发明为了解决上述技术问题提供一种用于天文摄影的放射型渐变式抗光污染滤光镜，通过设置的多级滤光层，使得滤光强度逐渐减小，能够有效避免产生地面景物色偏的现象。
本发明解决上述技术问题的技术方案如下：一种用于天文摄影的放射型渐变式抗光污染滤光镜，包括基片、第一滤光层、第二滤光层、第三滤光层、第四滤光层和第五滤光层，所述第一滤光层盖设在所述基片的上表面，所述第二滤光层盖设在所述第一滤光层的上表面，所述第三滤光层盖设在所述第二滤光层的上表面，所述第四滤光层盖设在所述第三滤光层的上表面，所述第五滤光层盖设在所述第四滤光层的上表面，所述第一滤光层、所述第二滤光层、所述第三滤光层、所述第四滤光层和所述第五滤光层内的膜层密度均由一侧向另一侧逐渐减小。
本发明的有益效果是：通过设置的第一滤光层、第二滤光层、第三滤光层、第四滤光层和第五滤光层，使得光波先经过第五滤光层过滤，再依次经过第四滤光层、第三滤光层、第二滤光层和第一滤光层逐级过滤，同时第一滤光层、第二滤光层、第三滤光层、第四滤光层和第五滤光层的膜层密度从左向右逐渐减小，形成渐变效果，从而能够有效避免因滤光片导致的地面景物色偏的现象，避免成像质量降低。
在上述技术方案的基础上，本发明还可以做如下改进。
进一步，还包括保护膜层，所述保护膜层盖设在所述第五滤光层上。
采用上述进一步方案的有益效果是：能够对滤光镜最外层的第五滤光层进行保护，避免第五滤光层刮花损坏。
进一步，还包括防反光膜层，所述防反光膜层盖设在所述基片远离所述第一滤光层的侧面上。
采用上述进一步方案的有益效果是：能够防止鬼影及炫光的形成。
进一步，所述第一滤光层过滤波长为435mm的光波，所述第一滤光层的厚度为327mm，所述第一滤光层由交替间隔设置的三层第一低折射率层和三层第一高折射率层组成，所述第一低折射率层和所述第一高折射率层的厚度为54.5mm。
采用上述进一步方案的有益效果是：能够过滤掉波长为435mm的光波。
进一步，所述第二滤光层过滤波长为546mm的光波，所述第二滤光层的厚度为410mm，所述第二滤光层由交替间隔设置的三层第二低折射率层和三层第二高折射率层组成，所述第二低折射率层和所述第二高折射率层的厚度为68.3mm。
采用上述进一步方案的有益效果是：能够过滤掉波长为546mm的光波。
进一步，所述第三滤光层过滤波长为578mm的光波，所述第三滤光层的厚度为433mm，所述第三滤光层由交替间隔设置的三层第三低折射率层和三层第三高折射率层组成，所述第三低折射率层和所述第三高折射率层的厚度为72.2mm。
采用上述进一步方案的有益效果是：能够过滤掉波长为578mm的光波。
进一步，所述第四滤光层过滤波长为595mm的光波，所述第四滤光层的厚度为446mm，所述第四滤光层由交替间隔设置的三层第四低折射率层和三层第四高折射率层组成，所述第四低折射率层和所述第四高折射率层的厚度为74.4mm。
采用上述进一步方案的有益效果是：能够过滤掉波长为595mm的光波。
进一步，所述第五滤光层过滤波长为616mm的光波，所述第五滤光层的厚度为462mm，所述第五滤光层由交替间隔设置的三层第五低折射率层和三层第五高折射率层组成，所述第五低折射率层和所述第五高折射率层的厚度为77mm。
采用上述进一步方案的有益效果是：能够过滤掉波长为616mm的光波。
进一步，所述第一低折射率层、所述第二低折射率层、所述第三低折射率层、所述第四低折射率层和所述第五低折射率层的材质为二氧化硅或氟化镁，所述第一高折射率层、所述第二高折射率层、所述第三高折射率层、所述第四高折射率层和所述第五高折射率层的材质为二氧化锆、二氧化钛或氧化锌中的一种。
采用上述进一步方案的有益效果是：过滤效果更好。
进一步，所述基片为光学玻璃基片或光学树脂基片。
采用上述进一步方案的有益效果是：利于进行透光。
附图说明
图1为本发明渐变式抗光污染滤光镜的正视图。
附图中，各标号所代表的部件列表如下：
1、基片，2、第一滤光层，3、第二滤光层，4、第三滤光层，5、第四滤光层，6、第五滤光层，7、保护膜层，8、防反光膜层。
具体实施方式
以下结合附图对本发明的原理和特征进行描述，所举实例只用于解释本发明，并非用于限定本发明的范围。
实施例
如图1所示，本发明提供一种用于天文摄影的放射型渐变式抗光污染滤光镜，包括基片1、第一滤光层2、第二滤光层3、第三滤光层4、第四滤光层5和第五滤光层6，其中基片1水平设置，第一滤光层2盖设在基片1的上表面，第二滤光层3盖设在第一滤光层2的上表面，第三滤光层4盖设在第二滤光层3的上表面，第四滤光层5盖设在第三滤光层4的上表面，第五滤光层6盖设在第四滤光层5的上表面。其中基片1在最下方，第一滤光层2、第二滤光层3、第三滤光层4、第四滤光层5和第五滤光层6按顺序依次堆叠设置，第一滤光层2、第二滤光层3、第三滤光层4、第四滤光层5和第五滤光层6内的膜层密度均由左向右逐渐减小。其中第一滤光层2、第二滤光层3、第三滤光层4、第四滤光层5和第五滤光层6的膜层密度减小方向相同，其中膜层密度是指各个滤光层各自物质的密度，使得第一滤光层2、第二滤光层3、第三滤光层4、第四滤光层5和第五滤光层6的密度高的一侧的透光率为0％-10％，密度低的一侧的透光率为90％-100％。光线先照射到第五滤光层6经过滤光后进入到第四滤光层5滤光，再依次经过第三滤光层4、第二滤光层3和第一滤光层2滤光后从基片1透射穿过，通过设置多层滤光层，使得滤光强度逐渐减弱，从而修正地面景物的色偏问题。
优选地，本实施例中还包括保护膜层7，保护膜层7盖设在第五滤光层6上，通过保护膜层7对最外层的第五滤光层6进行保护，避免第五滤光层6被刮花后影响滤光效果。其中保护膜层7通过镀膜机镀在第五滤光层6表面，其中保护膜层7为二氧化锆镀膜。
优选地，本实施例中还包括防反光膜层8，防反光膜层8盖设在基片1远离第一滤光层2的侧面上，其中防反光膜层8通过镀膜机镀在基片1的表面，通过设置的防反光膜层8能够防止鬼影和炫光的形成。其中防反光膜层8为氟化镁与二氧化钛复合镀膜。
具体地，本实施例中第一滤光层2过滤波长为435mm的光波，第一滤光层2的厚度为327mm，第一滤光层2由交替间隔设置的三层第一低折射率层和三层第一高折射率层组成，第一低折射率层和第一高折射率层的厚度为54.5mm。其中共有3层第一低折射率层和3层第一高折射率层。通过第一滤光层2主要过滤掉波长为435mm的光波。
具体地，本实施例中第二滤光层3过滤波长为546mm的光波，第二滤光层3的厚度为410mm，第二滤光层3由交替间隔设置的三层第二低折射率层和三层第二高折射率层组成，第二低折射率层和第二高折射率层的厚度为68.3mm。其中共有3层第二低折射率层和3层第二高折射率层。通过第二滤光层3主要过滤掉波长为546mm的光波。
具体地，本实施例中第三滤光层4过滤波长为578mm的光波，第三滤光层4的厚度为433mm，第三滤光层4由交替间隔设置的三层第三低折射率层和三层第三高折射率层组成，第三低折射率层和第三高折射率层的厚度为72.2mm。其中共有3层第三低折射率层和3层第三高折射率层。通过第三滤光层4主要过滤掉波长为578mm的光波。
具体地，本实施例中第四滤光层5过滤波长为595mm的光波，第四滤光层5的厚度为446mm，第四滤光层5由交替间隔设置的三层第四低折射率层和三层第四高折射率层组成，第四低折射率层和第四高折射率层的厚度为74.4mm。其中共有3层第四低折射率层和3层第四高折射率层。通过第四滤光层5主要过滤掉波长为595mm的光波。
具体地，本实施例中第五滤光层6过滤波长为616mm的光波，第五滤光层6的厚度为462mm，第五滤光层6由交替间隔设置的三层第五低折射率层和三层第五高折射率层组成，第五低折射率层和第五高折射率层的厚度为77mm。其中共有3层第五低折射率层和3层第五高折射率层。通过第五滤光层6主要过滤掉波长为616mm的光波。
具体地，本实施例中第一低折射率层、第二低折射率层、第三低折射率层、第四低折射率层和第五低折射率层的材质为二氧化硅或氟化镁，第一高折射率层、第二高折射率层、第三高折射率层、第四高折射率层和第五高折射率层的材质为二氧化锆、二氧化钛或氧化锌中的一种。
具体地，本实施例中基片1为光学玻璃基片或光学树脂基片。
本滤光镜可以采用镀膜机通过进行镀膜，其中将基片1放置到镀膜机中，将需要镀膜的靶材放入到镀膜机中，通过镀膜机将靶材镀设到基片1上得到渐变式的镀膜层结构，其中靶材为二氧化硅、氟化镁、二氧化锆、二氧化钛和氧化锌，通过交替镀膜得到本渐变式抗光污染滤光镜。
本滤光镜的原理是：通过设置不同厚度的高折射率层和低折射率层，使得不同波长的光波在对应的高折射率层和低折射率层之间进行折射，通过折射吸收后，从而不同厚度的滤光层对不同波长的光波过滤，同时经过多级设置的滤光层，使得滤光强度逐渐减弱，从而修正地面景物的色偏问题。
以上仅为本发明的较佳实施例，并不用以限制本发明，凡在本发明的精神和原则之内，所作的任何修改、等同替换、改进等，均应包含在本发明的保护范围之内。
Claims (10)
1.一种用于天文摄影的放射型渐变式抗光污染滤光镜，其特征在于，包括基片(1)、第一滤光层(2)、第二滤光层(3)、第三滤光层(4)、第四滤光层(5)和第五滤光层(6)，所述第一滤光层(2)盖设在所述基片(1)的上表面，所述第二滤光层(3)盖设在所述第一滤光层(2)的上表面，所述第三滤光层(4)盖设在所述第二滤光层(3)的上表面，所述第四滤光层(5)盖设在所述第三滤光层(4)的上表面，所述第五滤光层(6)盖设在所述第四滤光层(5)的上表面，所述第一滤光层(2)、所述第二滤光层(3)、所述第三滤光层(4)、所述第四滤光层(5)和所述第五滤光层(6)内的膜层密度均由一侧向另一侧逐渐减小。
2.根据权利要求1所述的用于天文摄影的放射型渐变式抗光污染滤光镜，其特征在于，还包括保护膜层(7)，所述保护膜层(7)盖设在所述第五滤光层(6)上。
3.根据权利要求1所述的用于天文摄影的放射型渐变式抗光污染滤光镜，其特征在于，还包括防反光膜层(8)，所述防反光膜层(8)盖设在所述基片(1)远离所述第一滤光层(2)的侧面上。
4.根据权利要求1所述的用于天文摄影的放射型渐变式抗光污染滤光镜，其特征在于，所述第一滤光层(2)过滤波长为435mm的光波，所述第一滤光层(2)的厚度为327mm，所述第一滤光层(2)由交替间隔设置的三层第一低折射率层和三层第一高折射率层组成，所述第一低折射率层和所述第一高折射率层的厚度为54.5mm。
5.根据权利要求4所述的用于天文摄影的放射型渐变式抗光污染滤光镜，其特征在于，所述第二滤光层(3)过滤波长为546mm的光波，所述第二滤光层(3)的厚度为410mm，所述第二滤光层(3)由交替间隔设置的三层第二低折射率层和三层第二高折射率层组成，所述第二低折射率层和所述第二高折射率层的厚度为68.3mm。
6.根据权利要求5所述的用于天文摄影的放射型渐变式抗光污染滤光镜，其特征在于，所述第三滤光层(4)过滤波长为578mm的光波，所述第三滤光层(4)的厚度为433mm，所述第三滤光层(4)由交替间隔设置的三层第三低折射率层和三层第三高折射率层组成，所述第三低折射率层和所述第三高折射率层的厚度为72.2mm。
7.根据权利要求6所述的用于天文摄影的放射型渐变式抗光污染滤光镜，其特征在于，所述第四滤光层(5)过滤波长为595mm的光波，所述第四滤光层(5)的厚度为446mm，所述第四滤光层(5)由交替间隔设置的三层第四低折射率层和三层第四高折射率层组成，所述第四低折射率层和所述第四高折射率层的厚度为74.4mm。
8.根据权利要求7所述的用于天文摄影的放射型渐变式抗光污染滤光镜，其特征在于，所述第五滤光层(6)过滤波长为616mm的光波，所述第五滤光层(6)的厚度为462mm，所述第五滤光层(6)由交替间隔设置的三层第五低折射率层和三层第五高折射率层组成，所述第五低折射率层和所述第五高折射率层的厚度为77mm。
9.根据权利要求8所述的用于天文摄影的放射型渐变式抗光污染滤光镜，其特征在于，所述第一低折射率层、所述第二低折射率层、所述第三低折射率层、所述第四低折射率层和所述第五低折射率层的材质为二氧化硅或氟化镁，所述第一高折射率层、所述第二高折射率层、所述第三高折射率层、所述第四高折射率层和所述第五高折射率层的材质为二氧化锆、二氧化钛或氧化锌中的一种。
10.根据权利要求1-9任一项所述的用于天文摄影的放射型渐变式抗光污染滤光镜，其特征在于，所述基片(1)为光学玻璃基片或光学树脂基片。
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| PB01 | Publication | ||
| PB01 | Publication | ||
| SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
| SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
| RJ01 | Rejection of invention patent application after publication | ||
| RJ01 | Rejection of invention patent application after publication |
Application publication date: 20191213 |