CN116162930B - 镀膜设备 - Google Patents
镀膜设备 Download PDFInfo
- Publication number
- CN116162930B CN116162930B CN202310211036.3A CN202310211036A CN116162930B CN 116162930 B CN116162930 B CN 116162930B CN 202310211036 A CN202310211036 A CN 202310211036A CN 116162930 B CN116162930 B CN 116162930B
- Authority
- CN
- China
- Prior art keywords
- coated
- product
- coating
- mounting
- driving
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C26/00—Coating not provided for in groups C23C2/00 - C23C24/00
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02E—REDUCTION OF GREENHOUSE GAS [GHG] EMISSIONS, RELATED TO ENERGY GENERATION, TRANSMISSION OR DISTRIBUTION
- Y02E60/00—Enabling technologies; Technologies with a potential or indirect contribution to GHG emissions mitigation
- Y02E60/10—Energy storage using batteries
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Coating Apparatus (AREA)
Abstract
本申请涉及一种镀膜设备。镀膜设备包括设备主体、调节组件以及安装部件，调节组件设于所述设备主体上，安装部件设于所述调节组件，且用于固定待镀膜产品。所述调节组件被配置为能够驱使所述安装部件沿第一方向移动，所述第一方向平行于所述安装部件的厚度方向。本申请的镀膜设备能够根据待镀膜产品的厚度等参数调节镀膜间距和镀膜倾角，适用性更广。
Description
技术领域
本申请涉及显示生产设备技术领域，特别是涉及一种镀膜设备。
背景技术
相关技术中，通常使用镀膜设备对待镀膜产品进行镀膜，以在待镀膜产品上形成镀膜层，然而，传统的镀膜设备的适用性较低。
发明内容
基于此，有必要针对利用传统的镀膜设备在待镀膜产品所形成的镀膜层的厚度的均匀性较差的问题，提供一种镀膜设备。
本申请提供了一种镀膜设备，包括：
设备主体；
调节组件，设于所述设备主体上；
安装部件，设于所述调节组件，且用于固定待镀膜产品；
所述调节组件被配置为能够驱使所述安装部件沿第一方向移动，所述第一方向平行于所述安装部件的厚度方向。
在其中一个实施例中，所述安装部件沿所述第一方向的最小位移值为Δh，其中，Δh≤50μm。
在其中一个实施例中，所述调节组件包括设于所述设备主体上的驱动件，所述驱动件与所述安装部件连接，以驱动所述安装部件沿所述第一方向移动。
在其中一个实施例中，所述驱动件包括沿所述第一方向延伸的螺旋千分尺。
在其中一个实施例中，所述调节组件包括沿第二方向间隔布设于所述设备主体的多个所述驱动件；
所述镀膜设备包括与所述驱动件一一对应的多个所述安装部件，所述驱动件与对应的所述安装部件连接，以驱动对应的所述安装部件沿所述第一方向移动；
所述第一方向与所述第二方向彼此垂直。
在其中一个实施例中，所述待镀膜产品具有曲面；
多个所述驱动件包括第一驱动件、第二驱动件和第三驱动件，所述第一驱动件通过对应的所述安装部件与所述待镀膜产品的中部连接，所述第二驱动件和所述第三驱动件分别通过对应的所述安装部件与所述待镀膜产品的相对两端连接。
在其中一个实施例中，所述调节组件还包括设于所述设备主体上的调节座，所述驱动件远离所述设备主体的一端穿过所述调节座，并与对应的所述安装部件连接；
每一所述驱动件连接于所述调节座。
在其中一个实施例中，所述调节座上设有沿所述第二方向延伸的滑轨，所述驱动件沿所述第二方向滑动地连接于所述滑轨。
在其中一个实施例中，所述滑轨上设有沿所述第二方向布设的调节刻度。
在其中一个实施例中，所述调节座上设有沿第三方向间隔布设且与所述驱动件一一对应的多个所述滑轨，所述驱动件沿所述第二方向滑动地连接于对应的所述滑轨；
所述第一方向、所述第二方向与所述第三方向两两垂直。
在其中一个实施例中，所述调节组件包括沿第三方向间隔布设的两组驱动组件，每一所述驱动组件包括沿所述第二方向间隔布设于所述设备主体的两个所述驱动件；
所述第一方向、所述第二方向与所述第三方向两两垂直。
在其中一个实施例中，所述待镀膜产品具有相背设置的安装侧和镀膜侧，所述待镀膜产品的所述安装侧固定于所述安装部件，且所述安装侧设有水平仪，所述水平仪用于量测所述待镀膜产品的镀膜倾角。
上述镀膜设备，可以理解的是，第一方向平行于安装部件的厚度方向，且平行于待镀膜产品的厚度方向，如此，可利用调节组件使安装部件第一方向相对于设备主体移动，以根据待镀膜产品的厚度等参数调节安装部件沿第一方向的位置，进而将镀膜间距调整至合适的值，以便在对靶材进行轰击的过程中在待镀膜产品上形成较为均匀的镀膜层。此外，利用本申请的镀膜设备，还可以调节待镀膜产品的镀膜倾角，根据待镀膜产品的结构特点设置合适的镀膜倾角，使得在对靶材进行轰击的过程中，能够在待镀膜产品上形成较为均匀的镀膜层，故本申请的镀膜设备能够根据待镀膜产品的厚度等参数调节镀膜间距和镀膜倾角，适用性更广。
附图说明
图1示出了本申请一实施例中的镀膜设备的结构示意图(固定同一待镀膜产品时)；
图2示出了本申请第一实施例中的调节组件、安装部件和待镀膜产品的结构示意图；
图3示出了本申请第二实施例中的调节组件、安装部件和待镀膜产品的结构示意图；
图4示出了本申请另一实施例中的调节组件的结构示意图；
图5示出了本申请一实施例中的镀膜设备的结构示意图(固定不同待镀膜产品时)；
图6示出了本申请第三实施例中的调节组件、安装部件和待镀膜产品的结构示意图；
图7示出了本申请第四实施例中的调节组件、安装部件和待镀膜产品的结构示意图；
图8示出了本申请一实施例的调节座的结构示意图；
图9示出了本申请另一实施例的调节座的结构示意图；
图10示出了本申请第五实施例中的调节组件、安装部件和待镀膜产品的结构示意图；
图11示出了本申请另一实施例的镀膜设备的结构示意图；
图12示出了利用本申请另一实施例的镀膜设备调节第一镀膜倾角的过程示意图；
图13示出了利用本申请另一实施例的镀膜设备调节第二镀膜倾角的过程示意图。
附图标记：10、镀膜设备；110、设备主体；120、调节组件；121、驱动件；1211、第一驱动件；1212、第二驱动件；1213、第三驱动件；122、调节座；1221、滑轨；1222、调节刻度；1223、过孔；123、连接板；124、螺栓；130、安装部件；131、安装部；132、安装侧；133、镀膜侧；S、水平面；20、待镀膜产品；21、曲面；30、靶材；40、掩膜。
具体实施方式
为使本申请的上述目的、特征和优点能够更加明显易懂，下面结合附图对本申请的具体实施方式做详细的说明。在下面的描述中阐述了很多具体细节以便于充分理解本申请。但是本申请能够以很多不同于在此描述的其它方式来实施，本领域技术人员可以在不违背本申请内涵的情况下做类似改进，因此本申请不受下面公开的具体实施例的限制。
在本申请的描述中，需要理解的是，术语“中心”、“纵向”、“横向”、“长度”、“宽度”、“厚度”、“上”、“下”、“前”、“后”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“顶”、“底”、“内”、“外”、“顺时针”、“逆时针”、“轴向”、“径向”、“周向”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本申请和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本申请的限制。
此外，术语“第一”、“第二”仅用于描述目的，而不能理解为指示或暗示相对重要性或者隐含指明所指示的技术特征的数量。由此，限定有“第一”、“第二”的特征可以明示或者隐含地包括至少一个该特征。在本申请的描述中，“多个”的含义是至少两个，例如两个，三个等，除非另有明确具体的限定。
在本申请中，除非另有明确的规定和限定，术语“安装”、“相连”、“连接”、“固定”等术语应做广义理解，例如，可以是固定连接，也可以是可拆卸连接，或成一体；可以是机械连接，也可以是电连接；可以是直接相连，也可以通过中间媒介间接相连，可以是两个元件内部的连通或两个元件的相互作用关系，除非另有明确的限定。对于本领域的普通技术人员而言，可以根据具体情况理解上述术语在本申请中的具体含义。
在本申请中，除非另有明确的规定和限定，第一特征在第二特征“上”或“下”可以是第一和第二特征直接接触，或第一和第二特征通过中间媒介间接接触。而且，第一特征在第二特征“之上”、“上方”和“上面”可是第一特征在第二特征正上方或斜上方，或仅仅表示第一特征水平高度高于第二特征。第一特征在第二特征“之下”、“下方”和“下面”可以是第一特征在第二特征正下方或斜下方，或仅仅表示第一特征水平高度小于第二特征。
需要说明的是，当元件被称为“固定于”或“设置于”另一个元件，它可以直接在另一个元件上或者也可以存在居中的元件。当一个元件被认为是“连接”另一个元件，它可以是直接连接到另一个元件或者可能同时存在居中元件。本文所使用的术语“垂直的”、“水平的”、“上”、“下”、“左”、“右”以及类似的表述只是为了说明的目的，并不表示是唯一的实施方式。
本申请的发明人经过研究发现，传统的镀膜设备中，镀膜设备包括设备主体和用于固定待镀膜产品的安装部，由于不同的待镀膜产品的厚度不同，导致不同的待镀膜产品需要不同的镀膜间距，或同一产品也存在厚度不同的区域，导致同一待镀膜产品也需要不同的镀膜间距，然而，传统的镀膜设备的安装部固定于设备主体，导致该镀膜设备无法针对待镀膜产品的厚度等参数调节待镀膜产品的镀膜间距，进而导致利用该镀膜设备无法适用于不同厚度的待镀膜产品，也无法针对同一待镀膜产品进行对应的调整，适用性较差。
本申请设计了一种镀膜设备，能够根据待镀膜产品的厚度等参数调节镀膜间距，适用性更广。
图1示出了本申请一实施例中的镀膜设备的结构示意图。
请参阅图1及图2，本申请一实施例提供的镀膜设备10，包括设备主体110、设于设备主体110上的调节组件120，以及设于调节组件的安装部件130。
安装部件130用于固定待镀膜产品20，安装部件130背离调节组件的一侧设有安装部131，待镀膜产品20可固定于安装部131。
安装部件130可以采用吸附的方式固定待镀膜产品20，也可以采用其他方式固定待镀膜产品20，在此不作具体限制。
可选地，可以将待镀膜产品20放置于安装部件130的安装部131，利用物理接触或压力差等方式，使待镀膜产品20与安装部件130的安装部131之间的空气挤压出来，形成负压来将待镀膜产品20吸附固定于安装部件130的安装部131。
可选地，安装部件130的材质可为硅胶、含氟橡胶等弹性体。
当然，本申请不限于此，也可在安装部件130设置吸附孔，通过在吸附孔处形成负压而将待镀膜产品20吸附固定于安装部件130的安装部131。比如，可通过真空装置使吸附孔处形成负压，而将待镀膜产品20吸附固定于安装部件130的安装部131。
待镀膜产品20可以玻璃或晶圆等，玻璃可以是一般玻璃或光学玻璃，玻璃也可以是2D/3D盖板玻璃，在此不作具体限制。
调节组件120被配置为能够驱使安装部件130沿第一方向F1移动，第一方向F1平行于安装部件130的厚度方向。
由于安装部件130用于固定待镀膜产品20，可以理解的是，第一方向F1平行于安装部件130的厚度方向，且平行于待镀膜产品20的厚度方向，如此，可利用调节组件120使安装部件130第一方向F1相对于设备主体110移动，以根据待镀膜产品20的厚度等参数调节安装部件130沿第一方向F1的位置，进而将镀膜间距T(镀膜间距T为待镀膜产品20与靶材30之间在第一方向F1上的间距)调整至合适的值，以便在对靶材30进行轰击的过程中在待镀膜产品20上形成较为均匀的镀膜层。此外，从溅镀数学模型与实验可知，镀膜层的均匀性与镀膜间距T有关，还与待镀膜产品20的镀膜倾角θ有关，其中，待镀膜产品20的镀膜倾角θ是指待镀膜产品20相对于水平面的角度。
相较于如图2所示的实施例，如图3所示的实施例中，待镀膜产品20的厚度更小(待镀膜产品20的厚度为待镀膜产品20在第一方向F1上的尺寸)，通过调节组件120可使如图2所示的实施例和如图3所示的实施例中对应的镀膜间距T彼此相等，以能够在不同厚度的待镀膜产品20上形成较为均匀且厚度合适的镀膜层。
利用本申请的镀膜设备，还可以调节待镀膜产品20的镀膜倾角θ，根据待镀膜产品20的结构特点设置合适的镀膜倾角θ，使得在对靶材30进行轰击的过程中，能够在待镀膜产品20上形成较为均匀的镀膜层，故本申请的镀膜设备能够根据待镀膜产品的厚度等参数调节镀膜间距T和镀膜倾角θ，适用性更广。
需要说明的是，在对靶材30进行轰击的过程中，形成的溅射材料包括垂直于待镀膜产品20的分量A和平行于待镀膜产品20的分量B，平行于待镀膜产品20的分量B不会沉积到待镀膜产品20上，垂直于待镀膜产品20的分量A会沉积到待镀膜产品20上而形成镀膜层，可以理解的是，镀膜倾角θ与该镀膜层的厚度呈正比，可根据待镀膜产品的厚度和/或需要的镀膜厚度等参数调节镀膜间距T和镀膜倾角θ，以在待镀膜产品20上形成较为均匀的镀膜层。
在一些实施例中，安装部件130沿第一方向F1的最小位移值为Δh，其中，Δh≤50μm。
安装部件130沿第一方向F1相对于设备主体110移动的过程中，由于Δh≤50μm，如此，可以提高安装部件130沿第一方向F1的移动的位移精度，有利于提高镀膜间距T和镀膜倾角θ的调节精度，进而有利于在待镀膜产品20上形成较为均匀的镀膜层。
在一些实施例中，调节组件120包括设于设备主体110上的驱动件121，驱动件121与安装部件130连接，以驱动安装部件130沿第一方向F1移动。
驱动件121可以是手动机构，也可以是电动机构，在此不作具体限制。
驱动件121可以旋转螺旋式、液压式或齿轮式等，以将绕平行第一方向F1的轴线的旋转运动转化为安装部件130沿第一方向F1的直线移动。
通过驱动件121带动安装部件130沿第一方向F1移动，可以调节安装部件130沿第一方向F1相对于设备主体110的位置。
在一些实施例中，请参阅图4，驱动件121包括沿第一方向F1延伸的螺旋千分尺。
示例地，螺旋千分尺的调节精度可为0.01mm，对应地，安装部件130沿第一方向F1的最小位移值Δh为0.01mm，可提高镀膜间距T和镀膜倾角θ的调节精度。
利用螺旋千分尺调节安装部件130沿第一方向F1相对于设备主体110的位置，有利于提高镀膜间距T和镀膜倾角θ的调节精度，进而有利于在待镀膜产品20上形成较为均匀的镀膜层。
在一些实施例中，调节组件120包括沿第二方向F2间隔布设于设备主体的多个驱动件121，镀膜设备10包括与驱动件121一一对应的多个安装部件130，驱动件121与对应的安装部件130连接，以驱动对应的安装部件130沿第一方向F1移动，第一方向F1与第二方向F2彼此垂直。也就是说，第二方向F2垂直于安装部件130的厚度方向。具体地，第二方向F2可平行于待镀膜产品20的纵长方向或宽度方向。
请参阅图1，多个安装部件130可用于固定同一待镀膜产品20，如此，可以针对该待镀膜产品20的厚度等参数，利用驱动件121调节对应的安装部件130沿第一方向F1的位置，使得该待镀膜产品20具有合适的镀膜间距T和镀膜倾角θ，有利于提高待镀膜产品20上形成的镀膜层的均匀性。
请参阅图5，可使多个安装部件130分别固定不同厚度的待镀膜产品20，即其中一些安装部件130用于固定其中一待镀膜产品20，另一些安装部件130用于固定另一待镀膜产品20。
如此，同时对两个或多个不同厚度的待镀膜产品20进行镀膜，使得两个或多个不同厚度的待镀膜产品20具有相同的镀膜间距T，以保证两个或多个不同厚度的待镀膜产品20上形成镀膜层的厚度趋于一致，且镀膜层的均匀性较高。
在一些实施例中，请参阅图6及图7，待镀膜产品20具有曲面21，多个驱动件121包括第一驱动件1211、第二驱动件1212和第三驱动件1213，第一驱动件1211通过对应的安装部件130与待镀膜产品20的中部连接，第二驱动件1212和第三驱动件1213分别通过对应的安装部件130与待镀膜产品20的相对两端连接。
如此，可以根据需要调节至少一个安装部件130沿第一方向F1的位置，使得待镀膜产品20的各个区域与靶材30之间在第一方向F1上的间距大致趋于一致，有利于提高待镀膜产品20上形成的镀膜层的均匀性。
在一些实施例中，请参阅图6-图9，调节组件120还包括设于设备主体110上的调节座122，驱动件121远离设备主体110的一端穿过调节座122，并与对应的安装部件130连接，每一驱动件121连接于调节座122。
驱动件121可通过连接组件连接于调节座122，比如连接组件包括连接板123和螺栓124，驱动件121穿过调节座122的一端穿设于连接板123，并连接于对应的安装部件130，连接板124通过螺栓124与调节座122连接(如图9所示)，以将驱动件121连接于调节座122。
在一些实施例中，如图8所示，调节座122上可以设置至少一个供驱动件121穿过的过孔1223，以便驱动件121穿过过孔1223与对应的安装部件130连接。
当然，本申请不限于此，也可以使驱动件121沿第二方向F2滑动地连接于调节座122，方便根据待镀膜产品20沿第二方向F2的尺寸调节相邻的两个驱动件121沿第二方向F2的间距，以便使镀膜设备10能够更好地适用于不同尺寸的待镀膜产品20。
在一些实施例中，调节座122上设有沿第二方向F2延伸的滑轨1221，驱动件121沿第二方向F2滑动地连接于滑轨1221。
可使多个驱动件121沿第二方向F2滑动地连接于同一滑轨1221，也可使多个驱动件121沿第二方向F2滑动地连接于不同的滑轨1221，在此不作具体限制。
如此，方便根据待镀膜产品20沿第二方向F2的尺寸调节相邻的两个驱动件121沿第二方向F2的间距，以便使镀膜设备10能够更好地适用于不同尺寸的待镀膜产品20。
具体到如图2所示的实施例中，两个驱动件121沿第二方向F2的间距为d1，相较于如图2所示的实施例，如图10所示的实施例中，待镀膜产品20沿第二方向F2的尺寸更大，两个驱动件121沿第二方向F2的间距为d2，d2大于d1，可见，该镀膜设备10能够更好地适用于不同尺寸的待镀膜产品20。
在一些实施例中，滑轨上设有沿第二方向布设F2的调节刻度1222。
方便根据调节刻度1222调节驱动件121沿第二方向F2的位置，以便驱动件121连接对应位置处的待镀膜产品20或连接待镀膜产品20的对应位置。
在一些实施例中，调节座122上设有沿第三方向F3间隔布设且与驱动件121一一对应的多个滑轨1221，驱动件121沿第二方向F2滑动地连接于对应的滑轨1221，第一方向F1、第二方向F2与第三方向F3两两垂直。
第二方向F2平行于待镀膜产品20的纵长方向和宽度方向中其中之一，第三方向F3平行于待镀膜产品20的纵长方向和宽度方向中其中之另一。
多个驱动件121上对应的安装部件130可同时固定一待镀膜产品20，也可以分别固定不同的待镀膜产品20，在此不作具体限制。
如此，利用该镀膜设备10能够根据待镀膜产品20的尺寸调节驱动件沿第二方向F2和沿第三方向F2的位置，也可更灵活地调节镀膜间距T和镀膜倾角θ，以适用于不规则形状的待镀膜产品20，提高镀膜设备10的适用性。
在一些实施例中，请参阅图11，调节组件120包括沿第三方向F3间隔布设的两组驱动组件，每一驱动组件包括沿第二方向F2间隔布设于设备主体110的两个驱动件121，第一方向F1、第二方向F2与第三方向F3两两垂直。
如此，待镀膜产品20沿第二方向F2的一侧具有第一边缘部23，待镀膜产品20沿第三方向F3的一侧具有第二边缘部24，同一驱动组件中的两个驱动件121之间沿第二方向F2的中心距为d3，两个驱动组件中相邻的两个驱动件121之间沿第三方向F3的中心距为d4。可利用该调节组件120调节第一边缘部23沿第一方向F1的位置，进而调节第一镀膜倾角θ1(如图12所示)，也可利用该调节组件120调节第二边缘部24沿第一方向F1的位置，进而调节第二镀膜倾角θ2(如图13所示)，如此，可根据需要改变第一镀膜倾角θ1和/或第二镀膜倾角θ2，以在待镀膜产品20上形成均匀的镀膜层。
在一些实施例中，如图2所示，待镀膜产品20具有相背设置的安装侧21和镀膜侧22，待镀膜产品20的安装侧21固定于安装部件130，且安装侧21设有水平仪，水平仪用于量测待镀膜产品20的镀膜倾角θ。
可以理解的是，安装部121设于安装侧21，通过水平仪获取待镀膜产品20相对于水平面S的角度，以便根据水平仪将待镀膜产品20的镀膜倾角θ调节至合适的角度，以在待镀膜产品20上形成均匀的镀膜层。
在一些实施例中，可在待镀膜产品20的安装侧21设置一温度传感器，温度传感器用于感测待镀膜产品20的温度，以便获知镀膜过程中待镀膜产品20的温度变化，为镀膜作业提供数据指导，温度传感器可以接触式温度传感器，温度传感器可以为热电偶测温仪、热敏传感器或热电阻温度传感器。
在一些实施例中，镀膜设备10还包括掩膜40，可通过调节掩膜40的开口率，进而调节待镀膜产品20上形成的镀膜层的均匀性。
在一些实施例中，镀膜设备10包括设备主体110、设于设备主体110上的调节组件120，以及设于调节组件的安装部件130。安装部件130用于固定待镀膜产品20，调节组件120包括沿第二方向F2间隔布设于设备主体的多个驱动件121，镀膜设备10包括与驱动件121一一对应的多个安装部件130，驱动件121与对应的安装部件130连接，以驱动对应的安装部件130沿第一方向F1移动，第一方向F1与第二方向F2彼此垂直。
多个安装部件130可用于固定同一待镀膜产品20，如此，可以针对该待镀膜产品20的厚度等参数，利用驱动件121调节对应的安装部件130沿第一方向F1的位置，使得该待镀膜产品20具有合适的镀膜间距T和镀膜倾角θ，有利于提高待镀膜产品20上形成的镀膜层的均匀性。
当然，也可使多个安装部件130分别固定不同厚度的待镀膜产品20，使得两个或多个不同厚度的待镀膜产品20具有相同的镀膜间距T，以保证两个或多个不同厚度的待镀膜产品20上形成镀膜层的厚度趋于一致，且镀膜层的均匀性较高。
以上所述实施例的各技术特征可以进行任意的组合，为使描述简洁，未对上述实施例中的各个技术特征所有可能的组合都进行描述，然而，只要这些技术特征的组合不存在矛盾，都应当认为是本说明书记载的范围。
以上所述实施例仅表达了本申请的几种实施方式，其描述较为具体和详细，但并不能因此而理解为对发明专利范围的限制。应当指出的是，对于本领域的普通技术人员来说，在不脱离本申请构思的前提下，还可以做出若干变形和改进，这些都属于本申请的保护范围。因此，本申请专利的保护范围应以所附权利要求为准。
Claims (9)
1.一种镀膜设备，其特征在于，包括：
设备主体；
调节组件，设于所述设备主体上；
安装部件，设于所述调节组件，且用于固定待镀膜产品；
所述调节组件被配置为能够驱使所述安装部件沿第一方向移动，所述第一方向平行于所述安装部件的厚度方向；
所述调节组件包括设于所述设备主体上的驱动件，所述驱动件与所述安装部件连接，以驱动所述安装部件沿所述第一方向移动；所述驱动件包括沿所述第一方向延伸的螺旋千分尺；所述调节组件包括沿第二方向间隔布设于所述设备主体的多个所述驱动件；所述镀膜设备包括与所述驱动件一一对应的多个所述安装部件，所述驱动件与对应的所述安装部件连接，以驱动对应的所述安装部件沿所述第一方向移动；所述第一方向与所述第二方向彼此垂直。
2.根据权利要求1所述的镀膜设备，其特征在于，所述安装部件沿所述第一方向的最小位移值为Δh，其中，Δh≤50μm。
3.根据权利要求1所述的镀膜设备，其特征在于，所述待镀膜产品具有曲面；
多个所述驱动件包括第一驱动件、第二驱动件和第三驱动件，所述第一驱动件通过对应的所述安装部件与所述待镀膜产品的中部连接，所述第二驱动件和所述第三驱动件分别通过对应的所述安装部件与所述待镀膜产品的相对两端连接。
4.根据权利要求1所述的镀膜设备，其特征在于，所述调节组件还包括设于所述设备主体上的调节座，所述驱动件远离所述设备主体的一端穿过所述调节座，并与对应的所述安装部件连接；
每一所述驱动件连接于所述调节座。
5.根据权利要求4所述的镀膜设备，其特征在于，所述调节座上设有沿所述第二方向延伸的滑轨，所述驱动件沿所述第二方向滑动地连接于所述滑轨。
6.根据权利要求5所述的镀膜设备，其特征在于，所述滑轨上设有沿所述第二方向布设的调节刻度。
7.根据权利要求5所述的镀膜设备，其特征在于，所述调节座上设有沿第三方向间隔布设且与所述驱动件一一对应的多个所述滑轨，所述驱动件沿所述第二方向滑动地连接于对应的所述滑轨；
所述第一方向、所述第二方向与所述第三方向两两垂直。
8.根据权利要求1所述的镀膜设备，其特征在于，所述调节组件包括沿第三方向间隔布设的两组驱动组件，每一所述驱动组件包括沿所述第二方向间隔布设于所述设备主体的两个所述驱动件；
所述第一方向、所述第二方向与所述第三方向两两垂直。
9.根据权利要求1-8任一项所述的镀膜设备，其特征在于，所述待镀膜产品具有相背设置的安装侧和镀膜侧，所述待镀膜产品的所述安装侧固定于所述安装部件，且所述安装侧设有水平仪，所述水平仪用于量测所述待镀膜产品的镀膜倾角。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CN202310211036.3A CN116162930B (zh) | 2023-03-07 | 2023-03-07 | 镀膜设备 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CN202310211036.3A CN116162930B (zh) | 2023-03-07 | 2023-03-07 | 镀膜设备 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| CN116162930A CN116162930A (zh) | 2023-05-26 |
| CN116162930B true CN116162930B (zh) | 2024-10-25 |
Family
ID=86411405
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| CN202310211036.3A Active CN116162930B (zh) | 2023-03-07 | 2023-03-07 | 镀膜设备 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| CN (1) | CN116162930B (zh) |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN114606468A (zh) * | 2022-03-11 | 2022-06-10 | 业成科技（成都）有限公司 | 非球面薄膜溅镀系统 |
Family Cites Families (13)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP3879009B2 (ja) * | 1995-01-30 | 2007-02-07 | キヤノンアネルバ株式会社 | スパッタリングカソード |
| JP4156714B2 (ja) * | 1998-08-06 | 2008-09-24 | キヤノンアネルバ株式会社 | 成膜処理装置 |
| JP2001172764A (ja) * | 1999-12-13 | 2001-06-26 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | スパッタリング方法及びスパッタリング装置 |
| DE10112978C2 (de) * | 2001-03-17 | 2003-06-12 | Karlsruhe Forschzent | Transportable Feinjustiervorrichtung |
| JP4721878B2 (ja) * | 2005-11-22 | 2011-07-13 | キヤノンアネルバ株式会社 | スパッタリング装置 |
| KR101429015B1 (ko) * | 2012-10-31 | 2014-08-12 | 주식회사 에이에스티젯텍 | Acf 폭방향 위치조절장치 |
| JP6685216B2 (ja) * | 2016-01-26 | 2020-04-22 | 東京エレクトロン株式会社 | 成膜装置、成膜方法、プログラム及びコンピュータ可読記憶媒体 |
| CN205529022U (zh) * | 2016-03-22 | 2016-08-31 | 鄂尔多斯市源盛光电有限责任公司 | 支撑针调整装置 |
| CN207068823U (zh) * | 2017-07-25 | 2018-03-02 | 昆山龙腾光电有限公司 | 一种芯片托盘平台的调整装置 |
| JP7329913B2 (ja) * | 2018-10-16 | 2023-08-21 | Ｊｓｗアフティ株式会社 | プラズマ成膜方法 |
| CN213150731U (zh) * | 2020-09-24 | 2021-05-07 | 北京北方华创微电子装备有限公司 | 用于半导体设备的托盘调平机构及半导体工艺设备 |
| KR102543415B1 (ko) * | 2020-11-27 | 2023-06-15 | 한국과학기술연구원 | 시소운동이 적용된 기판장착장치 |
| CN114318525A (zh) * | 2021-12-23 | 2022-04-12 | 北京北方华创微电子装备有限公司 | 半导体外延设备及调节其基座与预热环同轴度的方法 |
-
2023
- 2023-03-07 CN CN202310211036.3A patent/CN116162930B/zh active Active
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN114606468A (zh) * | 2022-03-11 | 2022-06-10 | 业成科技（成都）有限公司 | 非球面薄膜溅镀系统 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| CN116162930A (zh) | 2023-05-26 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US11413648B2 (en) | Slot die with variable manifolds and controlling method thereof | |
| CN108944102B (zh) | 具备印刷层的基材的制造方法、及具备印刷层的基材 | |
| TWI726056B (zh) | 形狀測定裝置 | |
| US11273597B2 (en) | Printer unit for a 3D-printing apparatus and method | |
| CN103430297B (zh) | 利用光学相干断层扫描的晶圆对准系统 | |
| US10866510B2 (en) | Overlay improvement in nanoimprint lithography | |
| US9182227B1 (en) | Clamps and methods of using clamps to measure angular positions of components | |
| CN116162930B (zh) | 镀膜设备 | |
| CN111712471B (zh) | 玻璃基板组及其制造方法 | |
| JP7404063B2 (ja) | 刃先調整装置、塗工装置、塗工装置の刃先調整方法 | |
| TW201418490A (zh) | 蒸鍍裝置及蒸鍍方法 | |
| CN104404452B (zh) | 一种真空镀膜系统的样品室结构 | |
| US20160290777A1 (en) | Device for measuring flatness of plate | |
| CN113394144B (zh) | 基板载体、成膜装置、基板载体的输送方法以及成膜方法 | |
| KR20180051261A (ko) | 변형 측정 장치 및 이를 이용한 변형 평가 방법 | |
| JP2005007848A (ja) | パターン形成装置及び方法 | |
| CN109996902A (zh) | 蒸镀掩模、蒸镀装置、蒸镀掩模的制造方法、电致发光显示装置的制造方法 | |
| KR20190116966A (ko) | 기판을 프로세싱하기 위한 장치, 기판을 프로세싱하기 위한 시스템, 및 이를 위한 방법들 | |
| CN220153546U (zh) | 间距测量装置 | |
| CN114501863B (zh) | 一种刮涂对位校准的装置及方法 | |
| TW201024079A (en) | Substrate alignment | |
| US7856873B2 (en) | Apparatus for reducing the friction between two bodies | |
| JP6917706B2 (ja) | 吸着圧力分布の測定方法 | |
| CN118758186B (zh) | 一种贴装件偏差的测量方法、补偿方法及测量系统 | |
| JP7343982B2 (ja) | 成膜装置 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| PB01 | Publication | ||
| PB01 | Publication | ||
| SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
| SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
| TA01 | Transfer of patent application right | ||
| TA01 | Transfer of patent application right |
Effective date of registration: 20240114 Address after: Building H3, K2 District, Shenchao Optoelectronic Technology Park, Minqing Road North, Longhua District, Shenzhen City, Guangdong Province, 518100 Applicant after: INTERFACE OPTOELECTRONICS (SHENZHEN) Co.,Ltd. Applicant after: Interface Technology (Chengdu) Co., Ltd. Applicant after: GENERAL INTERFACE SOLUTION Ltd. Address before: 611731 No. 689, Hezuo Road, West District, hi tech Zone, Chengdu, Sichuan Applicant before: Interface Technology (Chengdu) Co., Ltd. Applicant before: INTERFACE OPTOELECTRONICS (SHENZHEN) Co.,Ltd. Applicant before: Yicheng Photoelectric (Wuxi) Co.,Ltd. Applicant before: GENERAL INTERFACE SOLUTION Ltd. |
|
| GR01 | Patent grant | ||
| GR01 | Patent grant |