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CN115201957A - 偏振膜、制造偏振膜的方法和包括偏振膜的显示装置 - Google Patents

偏振膜、制造偏振膜的方法和包括偏振膜的显示装置 Download PDF

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CN115201957A
CN115201957A CN202210324546.7A CN202210324546A CN115201957A CN 115201957 A CN115201957 A CN 115201957A CN 202210324546 A CN202210324546 A CN 202210324546A CN 115201957 A CN115201957 A CN 115201957A
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CN
China
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layer
polarizing
coating layer
film
polarizing film
Prior art date
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Pending
Application number
CN202210324546.7A
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Inventor
边炳勋
李德珍
郑又硕
洪孝性
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Samsung Display Co Ltd
Original Assignee
Samsung Display Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
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Publication date
Application filed by Samsung Display Co Ltd filed Critical Samsung Display Co Ltd
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Abstract

公开了偏振膜、制造偏振膜的方法和包括偏振膜的显示装置。偏振膜包括偏振层、在偏振层的一侧处并且吸收具有在紫外线区中的波长的光的涂覆层以及在偏振层的另一侧处的相位延迟层，其中涂覆层具有约15nm至约5μm的厚度。

Description

偏振膜、制造偏振膜的方法和包括偏振膜的显示装置
相关申请的交叉引用
本申请要求于2021年4月5日提交到韩国知识产权局的第10-2021-0044298号韩国专利申请的优先权及权益，该韩国专利申请的全部公开内容通过引用并入本文中。
技术领域
一个或多个实施方式涉及偏振膜、制造偏振膜的方法和包括利用(例如，使用)该方法制造的偏振膜的显示装置，并且更具体地，涉及具有优异或期望的紫外线阻挡效果并且能够实现薄显示装置的偏振膜、制造偏振膜的方法以及包括利用(例如，使用)该方法制造的偏振膜的显示装置。
背景技术
显示装置实现图像，并且可包括液晶显示器(LCD)、有机发光显示设备(OLED)、电泳显示器(EPD)和/或类似物。显示装置包括偏振膜以防止或阻止从外部引入的光从显示装置的前表面反射。
发明内容
本公开的一个或多个实施方式的各方面针对能够实现显示装置的具有优异或期望的紫外线阻挡效果的偏振膜、制造偏振膜的方法和包括利用(例如，使用)该方法制造的偏振膜的显示装置。然而，这些方面为实例，并不限制本公开的范围。
附加的方面将在以下详细描述中部分地阐述，并且部分地将通过该描述而显而易见，或者可通过实践本公开的实施方式而习得。
根据实施方式，偏振膜包括偏振层、在偏振层的一侧处(例如，上)并吸收具有在紫外线区(例如，紫外线波长区域)中的波长的光的涂覆层以及在偏振层的另一侧处(例如，上)的相位延迟层，其中涂覆层具有约15nm至约5μm的厚度。
涂覆层可包括(例如，为)聚乙烯醇类树脂和紫外线吸收单体。
紫外线吸收单体可包括(例如，为)选自苯并三唑类单体、三苯基三嗪类单体和二苯甲酮类单体中的至少一种。
基于100重量份的用于形成涂覆层的涂覆层组合物，涂覆层可包括约0.1至约20重量份的聚乙烯醇类树脂和紫外线吸收单体之和。
偏振膜还可包括在偏振层与相位延迟层之间的保护层。
根据实施方式，制造偏振膜的方法可包括将聚乙烯醇类树脂膜拉伸、将聚乙烯醇类树脂膜染色、分别在聚乙烯醇类树脂膜的一个表面和另一表面处(例如，上)联接(例如，附接)第一保护层和第二保护层、将第一保护层和第二保护层干燥、将第一保护层剥离、在聚乙烯醇类树脂膜的剥离了第一保护层的一个表面处(例如，上)形成用于吸收具有在紫外线区中的波长的光的涂覆层以及在聚乙烯醇类树脂膜的另一表面处(例如，上)联接(例如，附接)相位延迟层。
形成涂覆层可在联接(例如，附接)相位延迟层之前或之后执行。
形成涂覆层可包括通过将聚乙烯醇类树脂、紫外线吸收单体和溶剂混合来形成涂覆层组合物、将涂覆层组合物涂覆在聚乙烯醇类树脂膜的剥离了第一保护层的一个表面处(例如，上)以及将涂覆层组合物干燥。
基于100重量份的涂覆层组合物，涂覆层组合物可包括约0.1至约20重量份的聚乙烯醇类树脂和紫外线吸收单体之和。
联接(例如，附接)第一保护层可包括：通过在聚乙烯醇类树脂膜与第一保护层之间喷射去离子(DI)水，在聚乙烯醇类树脂膜的一个表面处(例如，上)联接(例如，附接)第一保护层。
联接(例如，附接)第二保护层可包括：通过在聚乙烯醇类树脂膜与第二保护层之间喷射粘合剂，在聚乙烯醇类树脂膜的另一表面处(例如，上)联接(例如，附接)第二保护层。
联接(例如，附接)第二保护层可包括：通过在聚乙烯醇类树脂膜与第二保护层之间喷射DI水，在聚乙烯醇类树脂膜的另一表面处(例如，上)联接(例如，附接)第二保护层，并且该方法还可包括将第二保护层剥离。
根据实施方式，显示装置可包括包含有显示元件的显示面板、在显示面板上的输入检测层、在输入检测层上的偏振膜、在偏振膜上的窗层、在输入检测层与偏振膜之间的第一粘合层以及在偏振膜与窗层之间的第二粘合层，其中偏振膜包括偏振层、在偏振层的一侧处(例如，上)并吸收具有在紫外线区中的波长的光的涂覆层以及在偏振层的另一侧处(例如，上)的相位延迟层，并且涂覆层具有约15nm至5μm的厚度。
第二粘合层可与涂覆层直接接触。
仅涂覆层可在第二粘合层与偏振层之间。
偏振膜还可包括在偏振层与相位延迟层之间的保护层。
显示装置还可包括在相位延迟层与偏振层之间的粘合膜，并且偏振层的表面可与粘合膜直接接触。
涂覆层可包括(例如，为)聚乙烯醇类树脂和紫外线吸收单体。
紫外线吸收单体可包括(例如，为)选自苯并三唑类单体、三苯基三嗪类单体和二苯甲酮类单体中的至少一种。
基于100重量份的用于形成涂覆层的涂覆层组合物，涂覆层可包括约0.1至约20重量份的聚乙烯醇类树脂和紫外线吸收单体之和。
通过实施方式的以下详细描述、附图和权利要求书，这些和/或其它方面将变得显而易见并且更容易领会。
这些一般和特定的实施方式可通过利用(例如，使用)系统、方法、计算机程序或其任何组合来进行。
附图说明
通过结合附图的以下描述，某些实施方式的以上和其它的方面和特征将更加显而易见，在附图中：
图1是示意性地示出根据实施方式的显示装置的堆叠结构的剖面视图；
图2和图3各自是示意性地示出根据实施方式的偏振膜的堆叠结构的剖面视图；
图4是根据实施方式的制造偏振膜的方法的流程图；
图5是示意性地示出根据实施方式的制造偏振膜的工艺的概念图；
图6是根据实施方式的制造偏振膜的方法的流程图；
图7是示意性地示出根据实施方式的制造偏振膜的工艺的概念图；
图8是根据实施方式的形成涂覆层的操作的流程图；
图9是根据实施方式的制造偏振膜的方法的流程图；
图10是示意性地示出根据实施方式的制造偏振膜的工艺的概念图；
图11是示出根据实施方式的涂覆层的紫外线波长区域的透射光谱的坐标图；
图12和图13各自是示出根据实施方式的偏振膜的日光暴露的透射率的变化的坐标图；
图14是示出CIE L*a*b*坐标系中的实施方式中的每个的反射光饱和度的坐标图；
图15是根据实施方式的显示装置的平面视图；
图16是示意性地示出沿图15中的线A-A'截取的显示装置的剖面的剖面视图；以及
图17是示意性地示出根据实施方式的显示装置的一部分的堆叠结构的剖面视图。
具体实施方式
现在将更加详细地参照实施方式，而实施方式的实例示出在附图中，其中在整个本公开中相似的附图标记是指相似的元件。在这方面，本实施方式可具有不同的形式和/或配置，并且不应被解释为限于本文中所阐述的描述。相应地，下面仅通过参照附图对实施方式进行描述以解释本公开的各方面。
由于本公开可具有各种修改的实施方式，因此在附图中示出了实施方式并且相对于实施方式进行了描述。通过参考参照附图描述的实施方式，本公开的方面、特征和/或特性以及实现它们的方法将为显而易见的。然而，本公开可以许多不同的形式和/或配置实施，并且不应被解释为限于本文中所阐述的实施方式。如本文中所使用的，当描述本公开的实施方式时，措辞“可(may)”的使用是指“本公开的一个或多个实施方式”。
下面将参照附图对本公开的一个或多个实施方式进行更详细地描述。相同或彼此对应的部件被赋予相同的附图标记，而与图编号无关，并且可不提供冗余解释。
虽然这样的措辞如“第一”、“第二”等可用于描述各种部件，但是这样的部件将不限于以上措辞。以上措辞仅用于将一个部件与另一部件区分开。
除非上下文另有明确指示，否则以单数使用的表述涵盖复数的表述。
将理解的是，本文中所使用的措辞“包括(comprises)”、“包括(comprising)”以及类似措辞说明所陈述的特征和/或元件的存在，但是不排除一个或多个其它特征和/或元件的存在或添加。
还将理解的是，当层、区域、区或元件被称为“形成”在另一层、区域、区或元件“上”时，其能直接或间接形成在另一层、区域、区或元件上。例如，其间可存在一个或多个居间层、区域、区或元件。
将理解的是，当层、区或部件被称为联接(例如，连接)到另一层、区或部件时，其能直接或间接联接(例如，连接)到另一层、区或部件。例如，可存在一个或多个居间层、区或部件。例如，当层、区域、区或元件、或者类似物被称为“电联接”或“电连接”时，它们可直接电联接或电连接，或者层、区域、区或元件可间接电联接或间接电连接，并且其间可存在一个或多个居间层、区域、区、部件或类似物。
在本公开中，措辞“和/或”包括相关联所列项目中的一个或多个的任何和所有组合。例如，“A和/或B”可包括“A”、“B”、或“A和B”。在整个本公开中，表述“a、b和c中的至少一个”指示仅a、仅b、仅c、a和b两者、a和c两者、b和c两者、a、b和c的全部、或者其任何变体。
此外，本文中所列举的任何数值范围旨在包括归入所列举的范围内的相同数值精度的所有子范围。例如，“1.0至10.0”的范围旨在包括所列举的最小值1.0与所列举的最大值10.0之间的所有子范围(并且包括所列举的最小值1.0和所列举的最大值10.0)，即，具有大于或等于1.0的最小值和小于或等于10.0的最大值的所有子范围，诸如，以2.4至7.6为例。本文中所列举的任何最大数值限制旨在包括归入其中的所有更低数值限制，并且本说明书中所列举的任何最小数值限制旨在包括归入其中的所有更高数值限制。相应地，申请人保留修改本说明书(包括权利要求书)的权利，以明确地列举归入在本文中明确列举的范围内的任何子范围。
在以下实例中，x轴、y轴和z轴不限于直角坐标系的三个轴，并且可被解释为更广泛的意义。例如，x轴、y轴和z轴可彼此正交(例如，垂直)，或者可表示彼此不正交(例如，不垂直)的不同方向。
在本公开中，当实施方式可不同地实现时，某一工艺顺序可与描述的顺序不同地执行。例如，两个连续描述的过程可基本上同时执行或者以与描述的顺序相反的顺序执行。
如本文中所使用的，措辞“基本上(substantially)”和类似措辞被用作近似的措辞而不被用作程度的措辞，并且旨在考虑本领域普通技术人员将认识到的测量值或计算值的固有偏差。此外，考虑到有关测量和与特定数量的测量相关联的误差(例如，测量系统的限制)，当措辞“约(about)”、“近似(approximately)”和类似措辞在本文中结合数值或数值范围使用时，包括所陈述的值并且意味着在如由本领域普通技术人员确定的针对特定值的可接受偏差范围内。例如，“约(about)”可意味着在一个或者多个标准偏差内，或者在所陈述的值的±30％、20％、10％、5％内。
为了解释的便利，附图中的元件的大小可被夸大或减小。例如，由于附图中的部件的大小和厚度可为了解释的便利而被夸大或减小，因此以下实施方式不限于此。
图1是示意性地示出根据实施方式的显示装置1的堆叠结构的剖面视图。
参照图1，根据实施方式的显示装置1可包括显示层DPL、输入检测层400、偏振膜500和窗层600。从显示层DPL、输入检测层400、偏振膜500和窗层600之中的至少一些元件可通过连续过程形成，或者至少一些元件可利用(例如，使用)粘合构件而彼此联接。在图1中，作为粘合构件，第一粘合层110可在输入检测层400与偏振膜500之间，并且第二粘合层120可在偏振膜500与窗层600之间。例如，第一粘合层110和第二粘合层120可包括(例如，为)光学透明粘合剂(OCA)。在本文中下面描述的粘合构件可包括(例如，为)普通粘合剂和/或压敏粘合剂。
显示层DPL可包括有机发光二极管(OLED)作为显示元件。显示层DPL可通过有机发光二极管来生成图像，并且将生成的图像显示到外部。
输入检测层400可直接排列在显示层DPL上。在本公开中，“特征B直接排列在特征A上”可是指在特征A与特征B之间不存在附加的粘合层或粘合构件的实施方式。在特征A形成之后，特征B可通过连续过程形成在于特征A中提供的基础表面上。
显示面板DP可包括显示层DPL和直接排列在显示层DPL上的输入检测层400，并且可由此限定。
输入检测层400可获得外部输入(例如，触摸事件)的坐标信息。根据实施方式的显示装置1还可包括在显示面板DP的下表面上的下膜700。在一些实施方式中，下膜700和显示面板DP可利用(例如，使用)压敏粘合层来彼此联接。在一些实施方式中，下膜700可包括(例如，为)聚萘二甲酸乙二醇酯、聚对苯二甲酸乙二醇酯、聚苯硫醚和/或类似物。
根据实施方式，显示面板DP可包括发射型(例如，发射种类或基于发射的)显示面板，但是不限于此。例如，显示面板DP可包括有机发光显示面板和/或量子点发光显示面板。有机发光显示面板的发射层可包括(例如，为)有机发光材料。量子点发光显示面板的发射层可包括量子点、量子点棒和/或类似物。在下文中，显示面板DP被描述为有机发光显示面板。
偏振膜500可减小从窗层600的上侧入射的外部光的反射率。根据实施方式，偏振膜500可包括涂覆层520(参见图2等)，涂覆层520(参见图2等)减小偏振膜500的厚度并且在阻挡从外部光之中的紫外线方面具有优异效果。下面将更详细地对偏振膜500进行描述。
图2和图3各自是示意性地示出根据实施方式的偏振膜500和500'的堆叠结构的剖面视图。
参照图2，根据实施方式的偏振膜500可包括偏振层510、涂覆层520、保护层530和相位延迟层550。
偏振层510可包括偏振器，并且可在与偏振轴(例如，偏振器的偏振轴)相同的方向上使从光源入射的光偏振。例如，偏振层510可包括膜型(例如，膜种类或基于膜的)偏振层，并且可包括(例如，为)拉伸的合成树脂膜。偏振层510可包括包含有偏振器和/或二色性染料的聚乙烯醇(PVA)膜。二色性染料可包括碘分子和/或染料分子。
偏振层510可通过在一个方向上拉伸PVA膜并将经拉伸的PVA膜浸入包括(例如，为)碘(碘分子)和/或二色性染料的溶液中来形成。在这种情况下，碘分子和/或二色性染料分子可在拉伸方向上平行地排列。碘分子和/或染料分子可具有二色性性能，并因此可吸收在拉伸方向上振动的光并透射在与拉伸方向正交(例如，垂直)的方向上振动的光。
涂覆层520可直接排列在偏振层510的一个表面上。这可是指涂覆层520如何直接形成在包括在偏振层510中的PVA膜上。可通过将聚合物树脂与紫外线吸收单体混合来提供涂覆层520。例如，聚合物树脂可包括(例如，为)PVA。例如，紫外线吸收单体可包括(例如，为)选自苯并三唑类单体、三苯基三嗪类单体和二苯甲酮类单体中的至少一种。这些紫外线吸收单体可防止或减少在PVA的OH基团和/或醇基团中的自由基由于UV吸收而形成的发生，并可因此防止或减少PVA变成多烯的发生。
在比较例中，当未提供阻挡紫外线的涂覆层520时，包括在PVA用其染色的二色性染料中的I1ˉ离子吸收紫外线，并然后散发热，I5ˉ吸收累积的热，并且发生如下面的[化学式1]中所示的化学反应。
[化学式1]I5ˉ→I3ˉ+I2
PVA的多烯基化可通过由这样的离子种类改性生成的I2而诱导。在一些实施方式中，紫外线可直接在PVA的OH键中形成自由基并诱导双键，从而诱导多烯基化。
因此，根据实施方式，偏振膜500包括直接在偏振层510的一个表面上的涂覆层520，并因此，可有效地防止或减少由于紫外线吸收而导致的PVA的多烯基化。
在比较例中，可假设为了阻挡照射在偏振层510上的紫外线，在偏振层510上可排列有诸如稍后将描述的保护层530的膜型(例如，膜种类或基于膜的)保护构件，从而实现了紫外线阻挡效果。然而，保护构件可包括(例如，为)诸如三乙酰纤维素(TAC)、环烯烃聚合物(COP)、聚(甲基丙烯酸甲酯)(PMMA)和/或聚对苯二甲酸乙二醇酯(PET)的材料，并因此，其厚度为大的并且整个偏振膜的厚度增加，这可作为减小显示装置的厚度的限制点。因此，在根据实施方式的偏振膜500中，包括(例如，为)包含有(例如，为)紫外线吸收单体的聚合物树脂的涂覆层520而不是保护层可利用(例如，使用)涂覆方法直接排列在偏振层510上，从而将保护构件的厚度减小到约1/2至约1/5或更小。例如，涂覆层520的厚度可为保护构件的厚度的约1/2至约1/5或更小。在一些实施方式中，涂覆层520的厚度可为保护构件的厚度的约1/5或更大至约1/2或更小。
在实施方式中，涂覆层520的厚度可为约15μm。在一些实施方式中，涂覆层520的厚度可为约15nm或更大至约15μm或更小。当利用(例如，使用)涂覆方法形成膜时，可实现的最大值或最大厚度可测量为约15μm，并且可实现的最小值或最小厚度可测量为约15nm，并因此，根据实施方式的涂覆层520可具有在约15nm至约15μm(包括在内)之间的厚度。除了PVA类树脂之外，涂覆层520还可包括紫外线吸收单体，并因此，根据紫外线吸收单体的重量份值，涂覆层520的厚度可被控制为具有在约15nm至约15μm之间的值。在实施方式中，发现的是，即使当涂覆层520的厚度实现为约5μm或更小时，也充分示出了通过本公开旨在的紫外线阻挡效果。因此，例如，涂覆层520可具有约15nm至约5μm的厚度。
保护层530可排列在偏振层510的另一表面侧上。保护层530可支承偏振层510以补充偏振层510的机械强度。此外，保护层530可防止或减少偏振层510根据温度和/或湿度的变化而变形的发生。在实施方式中，保护层530可排列在偏振层510的下表面上，或者可如图3中省略。在一些实施方式中，保护层530和偏振层510可利用(例如，使用)水性粘合材料而彼此粘合。在实施方式中，保护层530可包括(例如，为)TAC、COP、PMMA和/或类似物。
相位延迟层550可排列在保护层530的下表面上。粘合膜540可在保护层530与相位延迟层550之间。粘合膜540可包括压敏粘合剂(PSA)，例如，OCA。
相位延迟层550可包括延迟器。延迟器可包括膜型(例如，膜种类或基于膜的)延迟器和/或液体涂覆型(例如，液体涂覆种类或基于液体涂覆的)延迟器，并且可包括λ/2延迟器和/或λ/4延迟器。
同时，参照图3，在偏振膜500'中可省略保护层530。如图3中所示，偏振膜500'可包括在偏振层510的一个表面上的涂覆层520，并且用于联接(例如，附接)相位延迟层550的粘合膜540可直接排列在偏振层510的另一表面上。如参照图2所述，保护层530支承偏振层510以对偏振膜500分配和/或提供机械强度，但是保护层530本身比其它构件更厚，并因此可作为减小偏振膜500的厚度的限制点。因此，在图3的偏振膜500'中，相位延迟层550可直接联接(例如，直接附接)或联接(例如，附接)在偏振层510的另一表面上，从而减小偏振膜500'本身的厚度。
一起参照图2和图3，用于接合到窗层600的第二粘合层120可排列在涂覆层520上。第二粘合层120可直接排列在涂覆层520上，并且涂覆层520的一个表面可与第二粘合层120直接接触。这可是指附加的保护构件(诸如图2的保护层530)没有排列在涂覆层520上的实施方式。
图4是根据实施方式的制造偏振膜的方法的流程图，并且图5是示意性地示出根据实施方式的制造偏振膜的工艺的概念图。
参照图4和图5，首先，可执行制备(例如，形成)包括在偏振层510中的PVA类树脂膜并拉伸PVA类树脂膜的操作S51。如上所述，例如，根据实施方式的偏振层510可包括PVA类树脂。
然后，可执行将PVA类树脂膜染色的操作S52。染色操作S52可涉及二色性染料。二色性染料可包括碘分子和/或染料分子。
偏振层510可通过在一个方向上拉伸PVA类树脂膜并将经拉伸的PVA类树脂膜浸入碘和/或二色性染料的溶液中来形成。在这种情况下，碘分子和/或二色性染料分子可在拉伸方向上并排地排列。碘分子和染料分子表现出二色性性能，并因此可吸收在拉伸方向上振动的光，并且可透射在与拉伸方向正交(例如，垂直)的方向上振动的光。
然后，可执行在经染色的PVA类树脂膜的一个表面和另一表面处(例如，上)分别联接第一保护层TAC1和第二保护层TAC2(例如，将第一保护层TAC1和第二保护层TAC2附接到经染色的PVA类树脂膜的一个表面和另一表面)的操作S53。第一保护层TAC1为在随后形成涂覆层520的过程期间临时联接(例如，临时附接)的层，并且可凭借通过第一喷嘴53a将例如去离子(DI)水和/或类似物喷射到PVA类树脂膜(例如，经染色的PVA类树脂膜)的一个表面并且利用(例如，使用)经喷射的DI水作为介质来被联接(例如，附接)。DI水基本上不具有粘合力，并因此可在后续过程中容易利用(例如，使用)DI水来分离第一保护层TAC1。
第二保护层TAC2可凭借通过第二喷嘴53b将例如水性粘合剂喷射到PVA类树脂膜的另一表面并且利用(例如，使用)经喷射的水性粘合剂作为介质来被联接(例如，附接)。第二保护层TAC2可提供为上述图2的保护层530。
在将第一保护层TAC1和第二保护层TAC2联接(例如，附接)的操作S53之后，可执行将第一保护层TAC1和第二保护层TAC2干燥的操作S54。在该过程中，可将分别通过第一喷嘴53a和第二喷嘴53b喷射的DI水和水性粘合剂干燥。
然后，可执行将第一保护层TAC1剥离的操作S55。第一保护层TAC1在将第二保护层TAC2联接(例如，附接)的过程中执行支承PVA类树脂膜的功能，并且通过去除第一保护层TAC1，可直接在PVA类树脂膜上形成涂覆层520。
在比较例中，偏振膜可具有包括了紫外线阻挡材料的第一保护层TAC1，从而阻挡紫外线。然而，第一保护层TAC1具有为根据实施方式的涂覆层520的厚度的约2至5倍的厚度，并因此可用作减小偏振膜的厚度的限制点。
然后，可执行在PVA类树脂膜的剥离了第一保护层TAC1的一个表面上形成用于吸收具有在紫外线区中的波长的光的涂覆层520的操作S56。在实施方式中，形成涂覆层520的操作S56可在将相位延迟层550联接(例如，附接)的操作S57之前或之后执行。图4和图5示出了在将相位延迟层550联接(例如，附接)的操作S57之前执行形成涂覆层520的操作S56的过程。
在形成涂覆层520的操作S56之后，可执行在与形成有涂覆层520的表面相对的表面(例如，PVA类树脂膜的另一表面)上联接(例如，附接)相位延迟层550的操作S57。例如，当第二保护层TAC2在时，相位延迟层550可联接(例如，附接)到第二保护层TAC2的相对侧(例如，到保护层530的相对侧)。将相位延迟层550联接(例如，附接)的操作S57可包括用粘合膜540作为介质将相位延迟层550联接(例如，附接)在PVA类树脂膜的另一表面上。
图6是根据实施方式的制造偏振膜的方法的流程图，并且图7是示意性地示出根据实施方式的制造偏振膜的工艺的概念图。
图6和图7的制造工艺基本上与图4和图5的制造工艺相同，但是相对于执行形成涂覆层520的操作S56的点与上述工艺不同。例如，对于图6和图7的制造工艺中的其它操作，操作S56发生的顺序与图4和图5的制造工艺相比为不同的。
在本实施方式中，形成涂覆层520的操作S56可在将相位延迟层550联接(例如，附接)的操作S57之后执行。然而，在将相位延迟层550联接(例如，附接)的操作S57之后，可添加将用于将相位延迟层550联接(例如，附接)的粘合膜540干燥的过程，并且在将相位延迟层550层压的过程中，去除了(例如，剥离了)第一保护层TAC1的PVA类树脂膜的一个表面可能受损，并因此，在将相位延迟层550联接(例如，附接)的操作S57之前执行形成涂覆层520的操作S56可能为有利的。在一些实施方式中，将粘合膜540干燥的过程可在将相位延迟层550联接(例如，附接)的操作S57之后和在形成涂覆层520的操作S56之前执行。
图8是根据实施方式的形成涂覆层的操作的流程图。
参照图8，首先，可执行通过混合PVA类树脂、紫外吸收单体(例如，紫外线吸收单体)和溶剂来形成涂覆层组合物的操作S56-1。通过将PVA类树脂、紫外线吸收单体和溶剂放入罐中并将其搅拌，涂覆层组合物可形成液化组合物。
例如，PVA类树脂可包括选自PVA、聚乙烯乙酸酯以及乙酸乙烯酯与可共聚的单体的共聚物的皂化产物中的至少一种。PVA类树脂可与不饱和羧酸和/或其酯和/或α-烯烃形成共聚物，不饱和羧酸诸如乙烯(无水)马来酸、富马酸、巴豆酸、衣康酸、(甲基)丙烯酸和/或类似物，α-烯烃诸如乙烯、丙烯、(甲基)丙烯磺酸(苏打)((meth)allyl sulfonic acid(soda))、磺酸苏打(单烷基马来酸酯)(sulfonic acid soda(monoalkyl maleate))、二磺酸苏打烷基马来酸酯(disulfonic acid soda alkyl maleate)、N-羧甲基丙烯酰胺、丙烯酰胺烷基磺酸碱盐、N-乙烯基吡咯烷酮和/或类似物。在实施方式中，PVA类树脂可通过混合上述材料中的两种或更多种来利用(例如，使用)。
此外，PVA类树脂可包括改性PVA类树脂，改性PVA类树脂包括包含有亲水官能基团的侧链。例如，亲水官能基团可包括(例如，为)乙酰乙酰基、羰基或类似物。此外，可利用(例如，使用)通过将PVA类树脂缩醛化、聚氨酯化、醚化、接枝、磷酸酯化而生成的改性PVA。
例如，紫外线吸收单体可包括(例如，为)选自苯并三唑类单体、三苯基三嗪类单体和二苯甲酮类单体中的至少一种。
在实施方式中，基于100重量份的涂覆层组合物，涂覆层组合物可包括约0.1至约20重量份的PVA类树脂和紫外线吸收单体之和。在这种情况下，PVA类树脂可以比紫外线吸收单体更大的量被包括。在实施方式中，紫外线吸收单体可以约0.1至约5重量份的量被包括。例如，在涂覆层组合物中，溶剂可以超过约80重量份的大量被包括。根据实施方式，涂覆层520可具有约15nm至约15μm(包括在内)的厚度。在一些实施方式中，涂覆层520可具有约5μm或更小的厚度。为此，重要的是适当调整PVA类树脂和紫外线吸收单体与溶剂的重量比。当PVA类树脂和紫外线吸收单体以20重量份或更多的重量比被包括(例如，被共同包括)时，涂覆层组合物的铺展性不好，并因此，涂覆层可形成为具有大于15μm的厚度。
例如，溶剂可包括诸如乙二醇、甘油和/或类似物的多元醇和水作为塑化剂。
同时，还可包括具有作为与PVA类树脂的反应物的至少两个官能基团的化合物作为交联剂。例如，交联剂可包括(例如，为)烷基二胺(alkylenediamine)、异氰酸酯、环氧树脂、双醛(dialdehyde)、氨基甲醛树脂、二羧酸二酰肼(dicarboxylic acid dihydrazide)、水性二酰肼(aqueous dihydrazine)和/或诸如钠、钾、镁、钙、铝、铁、镍或类似物的二价或三价金属盐、和/或其氧化物。在实施方式中，交联剂可包括作为氨基甲醛树脂的三聚氰胺羟甲基(melamine methylol)。
在形成涂覆层组合物之后，可执行将涂覆层组合物涂覆或施涂在第一保护层TAC1被剥离的PVA类树脂膜的一个表面上的操作S56-2。在这种情况下，涂覆或施涂方法可包括各种合适的方法，诸如辊涂、微凹印涂覆、旋涂、线棒涂覆、浸涂、模具涂覆(die coating)、淋涂(curtain coating)、喷涂、刀(刮刀)涂覆(knife(comma)coating)、狭缝模具涂覆和/或类似方法。
然后，可执行将涂覆层组合物干燥的操作S56-3。可在干燥中利用(例如，使用)热风干燥方法，但是本公开不限于此。当涂覆层组合物干燥时，涂覆层520可提供在偏振层510(例如，PVA类树脂膜)的一个表面上。在一些实施方式中，可执行在涂覆层520上临时层压保护膜的操作。在将偏振膜500联接(例如，附接)到显示面板上的过程中，保护膜可防止或减少对偏振膜500的涂覆层520的损坏。
同时，在实施方式中，通过将紫外线吸收单体添加到作为与形成偏振层510的材料相同的材料的PVA类树脂来形成用于形成涂覆层520的涂覆层组合物。因此，当涂覆层520涂覆在偏振层510上时，涂覆层520可与偏振层510一体地提供为单个体。偏振层510和涂覆层520一体地提供为单个体可是指偏振层510和涂覆层520如何包括相同的PVA类树脂，并因此，偏振层510和涂覆层520可不被识别为彼此基本上不同的层。然而，除了PVA类树脂之外，涂覆层520还包括可通过成分分析发现的紫外线吸收单体。此外，当如图2、图3或类似图中所示地排列有用于在涂覆层520上直接联接(例如，附接)窗层600的第二粘合层120时，可推断的是用于阻挡紫外线的涂覆层520在偏振层510上。
图9是根据实施方式的制造偏振膜的方法的流程图，并且图10是示意性地示出根据实施方式的制造偏振膜的工艺的概念图。
图9和图10中所示的制造工艺与上述图4和图5的制造工艺基本上相同，但是与上述工艺的不同之处在于前者还包括剥离第二保护层TAC2的操作S58。因此，与图4和图5的描述重叠的图9和图10的描述可不重复，并且下面将主要对差异进行描述。
参照图9和图10，可执行将PVA类树脂膜拉伸的操作S51和将PVA类树脂膜染色的操作S52。然后，可执行将第一保护层TAC1和第二保护层TAC2联接(例如，附接)的操作S53。然而，在根据本实施方式的制造工艺中去除了第二保护层TAC2，并因此，与第一保护层TAC1一样，第二保护层TAC2可凭借通过第二喷嘴53b将例如DI水喷射在PVA类树脂膜的另一表面上并且利用(例如，使用)经喷射的DI水作为介质来被联接(例如，附接)。DI水基本上不具有粘合力，并因此，在后续过程中容易分离第二保护层TAC2。
在将第一保护层TAC1和第二保护层TAC2联接(例如，附接)的操作S53之后，可执行将第一保护层TAC1和第二保护层TAC2干燥的操作S54。在该过程中，可将通过第一喷嘴53a和第二喷嘴53b喷射的DI水干燥。
然后，可顺序地执行将第一保护层TAC1剥离的操作S55和形成涂覆层520的操作S56。在该过程中，第二保护层TAC2没有被去除并且可从下面支承PVA类树脂膜。
在形成涂覆层520之后，可执行将第二保护层TAC2剥离的操作S58。通过剥离第二保护层TAC2，可进一步减小偏振膜500'的厚度。
在另一实施方式中，为了使工艺简单，可在将第一保护层TAC1剥离的操作S55中一起将第二保护层TAC2剥离。例如，可同步地或同时地执行将第一保护层TAC1剥离的操作S55和将第二保护层TAC2剥离的操作S58。在一些实施方式中，将第一保护层TAC1剥离的操作S55和将第二保护层TAC2剥离的操作S58可同步地或同时地执行，并且形成涂覆层520的操作S56可在执行操作S55和S58之后执行。
然后，可执行以与上述图4等的工艺中的相同的方式在PVA类树脂膜的另一表面上将相位延迟层550联接(例如，附接)的操作S57。
图11是示出根据实施方式的涂覆层的紫外线波长区域的透射光谱的图。
参照图11，示出了分配了紫外线阻挡效果的涂覆层520的透射率根据波长的变化。紫外线波长区域中(例如，在约350nm至约400nm波长之间的波长区域中)的透射率被测量为约46.1％，并且在约300nm至350nm的波长区域中的透射率被测量为约5％。此外，可看到的是，在约300nm或更小的波长区域中的透射率几乎收敛到零。基本上，影响偏振层的热分解和显示层的劣化的紫外线波长区域在约300nm至约400nm之间，并因此，非常重要的是在相应波长区域中展示出如上所述的阻挡效果。
如上所述，可理解的是，即使存在具有约15μm或更小(例如，约5μm或更小)的小厚度的涂覆层520，也可将紫外线波长区域中的透射率显著减小到一半或更小。
图12和图13是示出根据实施方式的当暴露于日光时偏振膜的透射率的变化的坐标图，并且图14示出了在CIE L*a*b*坐标系上本公开的实施方式中的每个的反射光的饱和度。
图12至图14的实例A、实例B和实例C为具有如上所述的涂覆层的偏振膜的实施方式，并且比较例1、比较例2和比较例3为不具有涂覆层的偏振膜的比较例。在图12至图14中，测量了实例和比较例中的每个的相对于日光暴露的透射率的变化(日照计)。
图12示出了发光单次透射率。首先，在实例A、实例B和实例C中，透射率在初始测量的时间处被测量为约42.2％，并且当在10天之后测量透射率时，透射率与初始测量相同或略微增加约0.1％。另一方面，在比较例1、比较例2和比较例3中，可理解的是，透射率在初始测量的时间处被测量为约42.5％至约42.7％，并且在10天之后的透射率为约43.2％，其显著大于初始测量约0.5％至约0.7％。
此外，图13示出了发光偏振度。在实例A、实例B和实例C中，偏振度被测量为约99.99％，其几乎收敛到100％，并且在10天之后的偏振度相同保持在99.99％。另一方面，在比较例1、比较例2和比较例3中，可理解的是，偏振度在初始测量的时间处被测量为约99.89％，并且在10天之后的偏振度降低了几乎1％，至约99％。
参照图14，没有施涂有涂覆层的比较例示出了，与初始测量相比，在10天之后，反射光的饱和度的坐标从约a*＝-1，b*＝3显著改变为约a*＝-1，b*＝8。另一方面，发现的是，在初始测量的时间处和在10天之后，示例性实施方式中的每个的反射光的饱和度的坐标几乎没有变化。与比较例相比，在包括有涂覆层的实例中，即使在经过一时间之后，也保持了最接近作为初始基准点的a*＝0，b*＝0的状态，并且很少有反射光的饱和度的变化，并因此，可显示高品质的图像。例如，发现的是，在包括有涂覆层的实例中，反射光的饱和度的坐标最初被测量为处于约a*＝-1，b*＝4，并且在10天之后再次被测量为处于约a*＝-1，b*＝4。
通过上述图12至图14的实验可理解的是，根据实施方式的偏振膜具有涂覆层，以使得可有效地阻挡从日光入射的紫外线。此外，根据实施方式的偏振膜抑制了偏振层(例如，PVA树脂)的多烯基化，因此将偏振膜的偏振(例如，偏振度)保持在约100％。此外，涂覆层可形成为具有约15μm或更小(例如，约5μm或更小)的厚度，并因此，可减小偏振膜的厚度，并且进一步可减小显示装置的厚度。
图15是示意性地示出根据实施方式的显示装置的平面视图，并且图16是沿图15中的线A-A'截取的显示装置的剖面视图。
参照图15，显示装置可包括包含有发光元件的发光显示装置。例如，显示装置可包括利用(例如，使用)包括有机发射层的有机发光二极管的有机发光显示装置、利用(例如，使用)微发光二极管(LED)的微发光二极管显示装置、利用(例如，使用)包括量子点发射层的量子点发光二极管的量子点发光显示装置、和/或利用(例如，使用)包括无机半导体的无机发光器件的无机发光显示装置。
显示装置可包括具有刚性并因此可不容易弯折的刚性显示面板和/或容易可弯折、可折叠和/或可卷曲的柔性显示面板。例如，显示装置可包括可折叠和/或不可折叠的可折叠显示器、具有弯曲的显示表面的弯曲显示器、除了显示表面以外的区域被弯折的弯折显示器、可卷曲和/或可展开的可卷曲显示器、和/或可拉伸显示器。
显示装置可包括用于实现图像的显示区域DA和不用于实现图像的外围区域DPA。显示区域DA可包括主显示区域MDA和部件区域CA。主显示区域MDA和部件区域CA可单独或一起显示图像。外围区域DPA可为未排列显示元件的非显示区域的类型(例如，种类)。显示区域DA可部分或全部由外围区域DPA围绕。作为电子元件的部件可排列在部件区域CA下面。
部件可为利用(例如，使用)红外光或可见光的相机，并且可包括图像拾取设备。在一些实施方式中，部件可包括太阳能电池、闪光灯、照度传感器、接近传感器和/或虹膜传感器。在一些实施方式中，部件可具有接收声音的功能。为了尽可能地最小化或减少对部件的功能的限制，部件区域CA可包括光和/或声音可穿过的透射区域，光和/或声音从部件输出到外部或从外部朝向部件行进。
在实施方式中，部件区域CA可为具有比主显示区域MDA更大的透光率和/或声音透射率的区域。在实施方式中，当光穿过部件区域CA时，透光率可为约10％或更多，例如，约25％或更多、约30％或更多、约50％或更多、约75％或更多、约80％或更多、约85％或更多、或约90％或更多。
部件区域CA可排列在主显示区域MDA内部，并且由主显示区域MDA围绕(例如，部分或全部围绕)。此外，部件区域CA可提供为圆形(例如，在平面视图中可具有圆形形状)，并且可提供为单个或多个。在图15中，仅示出了一个部件区域CA，但是在另一实施方式中，可包括有两个或更多个部件区域CA。多个部件区域可具有彼此不同的功能。在实施方式中，可在一个部件区域中排列有相机，并且可在另一部件区域中排列有照度传感器、接近传感器和/或类似物。
在图15中，部件区域CA为圆形，但是本公开不限于此。例如，部件区域CA可具有椭圆形形状或诸如三角形形状、五边形形状或类似形状的多边形形状，并且可为在一个方向(例如，x方向)上延伸的条型(例如，具有条形形状和/或拉长形状)，并且可以各种合适的方式修改部件区域CA的位置和大小。
参照图16，显示装置1可包括显示面板DP和与显示面板DP重叠的部件20。在显示面板DP上还可排列有窗层以保护显示面板DP。
显示面板DP可包括与部件20重叠的部件区域CA和显示有主图像的主显示区域MDA。显示装置1可包括衬底100、排列在衬底100上的显示层DPL、输入检测层400、偏振膜500和排列在衬底100下面的下膜700。
显示层DPL可包括包含有作为显示元件的发光元件的显示元件层200以及诸如薄膜封装层300的封装构件和/或封装衬底。在一些实施方式中，主显示区域MDA和部件区域CA中的每个可具有排列在其中的子像素。
此外，部件区域CA的至少一部分可为从部件区域CA发射的光或信号、或者入射到部件20上(例如，从外部入射到部件20上)的光或信号可穿过的透射区域。
显示元件层200可由薄膜封装层300和/或封装衬底覆盖。在实施方式中，薄膜封装层300可包括至少一个无机封装层和至少一个有机封装层。当显示元件层200由封装衬底封装时，封装衬底可面对衬底100或与衬底100重叠，而显示元件层200介于封装衬底与衬底100之间。封装衬底与显示元件层200之间可存在间隙。封装衬底可包括(例如，为)玻璃。包括(例如，为)熔料和/或类似物的密封剂可排列在衬底100与封装衬底之间，并且密封剂可排列在上述外围区域DPA中。排列在外围区域DPA中的密封剂可围绕(例如，部分或全部围绕)显示区域DA，并且防止或阻止湿气通过显示区域DA的侧表面渗透。
输入检测层400可根据外部输入(例如，触摸事件)获得坐标信息。输入检测层400可包括触摸电极和联接(例如，连接)到触摸电极的线。输入检测层400可通过利用(例如，使用)自电容方法或互电容方法来检测外部输入。
输入检测层400可形成在薄膜封装层300上。在一些实施方式中，输入检测层400可单独形成在触摸衬底上，并且然后通过诸如OCA的粘合层联接到薄膜封装层300。在实施方式中，输入检测层400可直接形成在薄膜封装层300上，并且在这种情况下，粘合层可不在输入检测层400与薄膜封装层300之间。
偏振膜500可包括抗反射层。抗反射层可减小从外部朝向显示装置1入射的(外部)光的反射率。
在实施方式中，偏振膜500可包括偏振层。偏振膜500可具有与部件区域CA的一些或全部对应(例如，在平面视图中重叠)的开口500OP。因此，可显著改善透射区域的透光率。开口500OP可填充有透明材料，诸如光学透明树脂(OCR)。由于偏振膜500具有开口500OP，因此可改善部件区域CA的透光率。
窗层可排列在偏振膜500上以保护显示面板DP。可通过利用(例如，使用)OCA将窗层联接(例如，附接)到偏振膜500上。
下膜700可联接(例如，附接)在衬底100下面以支承并保护衬底100。下膜700可具有与部件区域CA对应的开口700OP。由于下膜700具有开口700OP，因此可改善部件区域CA的透光率。下膜700可包括(例如，为)聚对苯二甲酸乙二醇酯(PET)和/或聚酰亚胺(PI)。
图17是示意性地示出根据实施方式的显示装置的一部分的堆叠结构的剖面视图。
参照图17，显示装置可包括衬底100、排列在衬底100上的第一薄膜晶体管T1和第二薄膜晶体管T2以及存储电容器Cst以及电联接(例如，电连接)到第一薄膜晶体管T1和第二薄膜晶体管T2的有机发光二极管ED。此外，为了实现第一薄膜晶体管T1和第二薄膜晶体管T2以及存储电容器Cst，各种合适的绝缘层(例如，缓冲层111、第一栅极绝缘层112、第二栅极绝缘层113、层间绝缘层115、平坦化层118和像素限定层119)可在各种合适的导电层之间。
衬底100可包括(例如，为)诸如玻璃材料、金属和/或有机材料的材料。根据实施方式，衬底100可包括(例如，为)柔性材料。例如，衬底100可包括(例如，为)聚合物树脂，诸如聚醚砜、聚丙烯酸酯、聚醚酰亚胺、聚萘二甲酸乙二醇酯、PET、聚苯硫醚、聚芳酯、PI、聚碳酸酯和/或乙酸丙酸纤维素。
缓冲层111可定位在衬底100上，并减少或阻止异物、湿气和/或环境空气从衬底100下面的渗透，并且可在衬底100上提供平坦表面。缓冲层111可包括(例如，为)诸如氧化物和/或氮化物的无机材料、有机材料和/或有机和无机化合物，并且可具有无机材料和/或有机材料的单层或多层结构。衬底100与缓冲层111之间还可包括有用于阻止环境空气的渗透的阻挡层。缓冲层111可包括(例如，为)氧化硅(SiO2)、硅氮化物(SiNX)和/或氮氧化硅(SiON)。
第一薄膜晶体管T1和/或第二薄膜晶体管T2可排列在缓冲层111上。第一薄膜晶体管T1可包括半导体层A1、栅电极G1、源电极S1和漏电极D1，并且第二薄膜晶体管T2可包括半导体层A2、栅电极G2、源电极S2和漏电极D2。第一薄膜晶体管T1可联接(例如，连接)到有机发光二极管ED，并且用作用于驱动有机发光二极管ED的驱动薄膜晶体管。第二薄膜晶体管T2可联接(例如，连接)到数据线DL，并且用作开关薄膜晶体管。图17示出了两个薄膜晶体管，但是本公开不限于此。薄膜晶体管的数量可以各种合适的方式修改，例如，一个至七个薄膜晶体管。
半导体层A1和A2可包括(例如，为)非晶硅和/或多晶硅。在另一实施方式中，半导体层A1和A2可包括(例如，为)选自由铟(In)、镓(Ga)、锡(Sn)、锆(Zr)、钒(V)、铪(Hf)、镉(Cd)、锗(Ge)、铬(Cr)、钛(Ti)和锌(Zn)构成的集群中的至少一种材料的氧化物。半导体层A1和A2中的每个可包括沟道区域、掺杂有杂质的源区域和漏区域。
栅电极G1和G2可分别排列在半导体层A1和A2上，第一栅极绝缘层112介于栅电极G1和G2与半导体层A1和A2之间。栅电极G1和G2可包括(例如，为)钼(Mo)、铝(Al)、铜(Cu)、钛(Ti)和/或类似物，并且可具有单层或多层结构。例如，栅电极G1和G2中的每个可为单个Mo层。
第一栅极绝缘层112可包括(例如，为)SiO2、SiNX、SiON、氧化铝(Al2O3)、氧化钛(TiO2)、氧化钽(Ta2O5)、氧化铪(HfO2)和/或氧化锌(ZnO)。
第二栅极绝缘层113可覆盖栅电极G1和G2。第二栅极绝缘层113可包括(例如，为)SiO2、SiNX、SiON、Al2O3、TiO2、Ta2O5、HfO2和/或ZnO。
存储电容器Cst的第一存储电极CE1可与第一薄膜晶体管T1重叠。例如，第一薄膜晶体管T1的栅电极G1可用作存储电容器Cst的第一存储电极CE1。在另一实例中，存储电容器Cst可不与第一薄膜晶体管T1重叠，并且可与第一薄膜晶体管T1和第二薄膜晶体管T2分开(例如，在平面视图中间隔开)。
存储电容器Cst的第二存储电极CE2可与第一存储电极CE1重叠，第二栅极绝缘层113介于第二存储电极CE2与第一存储电极CE1之间。在这种情况下，第二栅极绝缘层113可用作存储电容器Cst的介电层。第二存储电极CE2可包括包含有(例如，为)Mo、Al、Cu、Ti和/或类似物的导电层，并且可具有包括(例如，为)上述材料的多层或单层结构。例如，第二存储电极CE2可包括单个Mo层、或Mo层、Al层和另一Mo层的多层。
层间绝缘层115可形成在衬底100的整个表面上并覆盖第二存储电极CE2。层间绝缘层115可包括(例如，为)SiO2、SiNX、SiON、Al2O3、TiO2、Ta2O5、HfO2和/或ZnO。
源电极S1和S2以及漏电极D1和D2可排列在层间绝缘层115上。源电极S1和S2以及漏电极D1和D2可包括(例如，为)包含有(例如，为)Mo、Al、Cu、Ti和/或类似物的导电材料，并且可具有包括(例如，为)上述材料的多层或单层结构。例如，源电极S1和S2以及漏电极D1和D2可具有Ti层、Al层和另一Ti层的多层结构。
平坦化层118可定位在源电极S1和S2以及漏电极D1和D2上，并且有机发光二极管ED可定位在平坦化层118上。有机发光二极管ED可包括像素电极210、包括有机发射层的中间层220和相对电极230。
平坦化层118可具有平坦的上表面，以使得像素电极210可形成为平坦的。平坦化层118可具有包括(例如，为)有机材料和/或无机材料的单层或多层结构。平坦化层118可包括(例如，为)诸如苯并环丁烯(BCB)、PI、六甲基二硅氧烷(HMDSO)、聚甲基丙烯酸甲酯(PMMA)和/或聚苯乙烯(PS)的通用聚合物、具有酚基类基团的聚合物衍生物、丙烯酰基类聚合物、酰亚胺类聚合物、芳醚基类聚合物、酰胺类聚合物、氟类聚合物、对二甲苯类聚合物、乙烯醇类聚合物及其任何共混物或组合物。同时，平坦化层118可包括(例如，为)SiO2、SiNX、SiON、Al2O3、TiO2、Ta2O5、HfO2和/或ZnO。在形成平坦化层118之后，可执行化学机械抛光以提供平坦的上表面。
平坦化层118可具有暴露第一薄膜晶体管T1的源电极S1和漏电极D1中的任何一个的开口，并且像素电极210可通过开口与源电极S1或漏电极D1直接接触，并且可电联接(例如，电连接)到第一薄膜晶体管T1。
像素限定层119可排列在像素电极210上(例如，在像素电极210的边侧上)。像素限定层119具有与每个子像素对应的开口119OP(例如，暴露像素电极210的至少中心部分的开口119OP)，从而限定像素。此外，像素限定层119可增加像素电极210的边缘与相对电极230之间的距离，从而防止或阻止在像素电极210的边缘与相对电极230之间发生电弧和/或类似情况。例如，像素限定层119可包括(例如，为)诸如PI、HMDSO和/或类似物的有机材料。
在像素限定层119上可排列有间隔件。间隔件可防止或减少掩模冲压的发生，而掩模冲压可能在形成有机发光二极管ED的中间层220所需的掩模工艺中发生。间隔件可包括(例如，为)诸如PI、HMDSO和/或类似物的有机材料。间隔件可与像素限定层119同步地或同时地形成，并且可包括(例如，为)与像素限定层119相同的材料。在这种情况下，可利用(例如，使用)半色调掩模。
有机发光二极管ED的中间层220可包括有机发射层。有机发射层可包括(例如，为)包含有(例如，为)发射红色光、绿色光、蓝色光或白色光的荧光材料和/或磷光材料的有机材料。有机发射层可包括(例如，为)低分子量有机材料和/或聚合物有机材料，并且选择性地，在有机发射层下方和上方还可排列有诸如空穴传输层(HTL)、空穴注入层(HIL)、电子传输层(ETL)、电子注入层(EIL)和/或类似层的功能层。每个中间层220可排列成对应于多个像素电极210中的对应的一个。然而，本公开不限于此。可进行各种合适的修改，例如，中间层220可包括在多个像素电极210上面的整体的层。
相对电极230可包括透光电极或反射电极。在一些实施方式中，相对电极230可为透明电极或半透明电极，并且可包括包含有(例如，为)锂(Li)、钙(Ca)、LiF/Ca、LiF/Al、Al、Ag、Mg及其任何化合物的具有低功函数的金属薄膜。此外，在金属薄膜上还可排列有包括(例如，为)氧化铟锡(ITO)、氧化铟锌(IZO)、ZnO和/或In2O3的透明导电氧化物(TCO)膜。相对电极230可排列在显示区域DA的整个表面上面，并且可排列在中间层220和像素限定层119上。相对电极230可在多个有机发光二极管ED的情况下一体地形成为单个体，并且对应于多个像素电极210。
在有机发光二极管ED上还可排列有用于封装显示区域DA的薄膜封装层300。薄膜封装层300可覆盖显示区域DA并保护有机发光二极管ED和/或类似物免受外部湿气和/或氧气的影响。薄膜封装层300可包括第一无机封装层310、有机封装层320和第二无机封装层330。
第一无机封装层310可覆盖相对电极230并包括(例如，为)陶瓷、金属氧化物、金属氮化物、金属碳化物、金属氮氧化物、In2O3、氧化锡(SnO2)、ITO、SiO2、SiNX和/或SiON。然而，在一些实施方式中，诸如覆盖层和/或类似物的其它层可在第一无机封装层310与相对电极230之间。由于第一无机封装层310沿其下方的结构形成，因此其上表面可能不平坦，如图17中所示。
有机封装层320可覆盖第一无机封装层310，并且与第一无机封装层310不同，其上表面可基本上平坦。例如，有机封装层320可在与显示区域DA对应的部分中具有基本上平坦的上表面。有机封装层320可包括(例如，为)选自由丙烯酰基、甲基丙烯酰基、聚酯、聚乙烯、聚丙烯、PET、聚萘二甲酸乙二醇酯、聚碳酸酯、PI、聚乙烯磺酸盐、聚甲醛、聚芳酯和HMDSO构成的集群中的一种或多种材料。
第二无机封装层330可覆盖有机封装层320并包括(例如，为)陶瓷、金属氧化物、金属氮化物、金属碳化物、金属氮氧化物、In2O3、SnO2、ITO、SiO2、SiNX和/或SiON。第二无机封装层330可在其位于显示区域DA外部的边缘处与第一无机封装层310直接接触，从而防止有机封装层320暴露于外部或减少有机封装层320暴露于外部。例如，第一无机封装层310和第二无机封装层330可封装有机封装层320。
如上所述，薄膜封装层300包括第一无机封装层310、有机封装层320和第二无机封装层330，并因此，即使当通过多层结构在薄膜封装层300内发生裂纹时，也可防止或阻止裂纹在第一无机封装层310与有机封装层320之间以及在有机封装层320与第二无机封装层330之间彼此联接(例如，连接)。因此，可防止或减少外部湿气或氧气渗透到显示区域DA中的通道的形成。
同时，在本实施方式中，薄膜封装层300示出为用于封装有机发光二极管ED的封装构件，但是本公开不限于此。例如，通过密封剂和/或熔料接合到衬底100的封装衬底可被利用(例如，使用)作为用于封装有机发光二极管ED的构件。
在本实施方式中，在薄膜封装层300或封装衬底上可排列有用于改善室外可见度的偏振膜500。如图2中所示，偏振膜500可包括在偏振层510上的涂覆层520。此外，代替图2的偏振膜500，可应用图3中所示的偏振膜500'。
如上所述，输入检测层400、用于联接(例如，附接)偏振膜500的第一粘合层110和/或类似物可进一步在偏振膜500与薄膜封装层300之间。
根据上述实施方式，可实现包括具有优异的紫外线阻挡效果并且能够实现薄的显示装置的偏振膜的显示装置、制造偏振膜的方法以及利用(例如，使用)该方法制造的偏振膜。然而，本公开的范围不限于此。
应理解的是，本文中描述的实施方式应仅被视为描述性意义，而不是出于限制的目的。每个实施方式内的特征或方面的描述通常应被视为适用于其它实施方式中的其它相似特征或方面。虽然已参照图对一个或多个实施方式进行了描述，但是本领域普通技术人员将理解的是，在不背离如由随附权利要求书及其等同物限定的精神和范围的情况下，其中可在形式和细节上进行各种适当的改变。

Claims (20)

1.一种偏振膜，包括：
偏振层；
涂覆层，所述涂覆层在所述偏振层的一侧处并且吸收具有在紫外线区中的波长的光；以及
相位延迟层，所述相位延迟层在所述偏振层的另一侧处，
其中，所述涂覆层具有15nm至5μm的厚度。
2.根据权利要求1所述的偏振膜，其中，所述涂覆层包括聚乙烯醇类树脂和紫外线吸收单体。
3.根据权利要求2所述的偏振膜，其中，所述紫外线吸收单体包括选自苯并三唑类单体、三苯基三嗪类单体和二苯甲酮类单体中的至少一种。
4.根据权利要求3所述的偏振膜，其中，基于100重量份的用于形成所述涂覆层的涂覆层组合物，所述涂覆层包括0.1至20重量份的所述聚乙烯醇类树脂和所述紫外线吸收单体之和。
5.根据权利要求1所述的偏振膜，还包括在所述偏振层与所述相位延迟层之间的保护层。
6.一种制造偏振膜的方法，所述方法包括：
将聚乙烯醇类树脂膜拉伸；
将所述聚乙烯醇类树脂膜染色；
分别在所述聚乙烯醇类树脂膜的一个表面和另一表面处联接第一保护层和第二保护层；
将所述第一保护层和所述第二保护层干燥；
将所述第一保护层剥离；
在所述聚乙烯醇类树脂膜的剥离了所述第一保护层的所述一个表面处形成用于吸收具有在紫外线区中的波长的光的涂覆层；以及
在所述聚乙烯醇类树脂膜的所述另一表面处联接相位延迟层。
7.根据权利要求6所述的方法，其中，形成所述涂覆层在联接所述相位延迟层之前或之后执行。
8.根据权利要求6所述的方法，其中，形成所述涂覆层包括：
通过将聚乙烯醇类树脂、紫外线吸收单体和溶剂混合来形成涂覆层组合物；
将所述涂覆层组合物涂覆在所述聚乙烯醇类树脂膜的剥离了所述第一保护层的所述一个表面处；以及
将所述涂覆层组合物干燥。
9.根据权利要求8所述的方法，其中，基于100重量份的所述涂覆层组合物，所述涂覆层组合物包括0.1至20重量份的所述聚乙烯醇类树脂和所述紫外线吸收单体之和。
10.根据权利要求6所述的方法，其中，形成所述涂覆层包括将所述涂覆层形成为具有15nm至5μm的厚度。
11.根据权利要求10所述的方法，其中，联接所述第二保护层包括：通过在所述聚乙烯醇类树脂膜与所述第二保护层之间喷射粘合剂，在所述聚乙烯醇类树脂膜的所述另一表面处联接所述第二保护层。
12.根据权利要求10所述的方法，其中，联接所述第二保护层包括：通过在所述聚乙烯醇类树脂膜与所述第二保护层之间喷射去离子水，在所述聚乙烯醇类树脂膜的所述另一表面处联接所述第二保护层，并且
其中，所述方法还包括将所述第二保护层剥离。
13.一种显示装置，包括：
显示面板，所述显示面板包括显示元件；
输入检测层，所述输入检测层在所述显示面板上；
偏振膜，所述偏振膜在所述输入检测层上；
窗层，所述窗层在所述偏振膜上；
第一粘合层，所述第一粘合层在所述输入检测层与所述偏振膜之间；以及
第二粘合层，所述第二粘合层在所述偏振膜与所述窗层之间，
其中，所述偏振膜包括：
偏振层；
涂覆层，所述涂覆层在所述偏振层的一侧处并且吸收具有在紫外线区中的波长的光；以及
相位延迟层，所述相位延迟层在所述偏振层的另一侧处，并且
所述涂覆层具有15nm至5μm的厚度。
14.根据权利要求13所述的显示装置，其中，所述第二粘合层与所述涂覆层直接接触。
15.根据权利要求14所述的显示装置，其中，仅所述涂覆层在所述第二粘合层与所述偏振层之间。
16.根据权利要求13所述的显示装置，其中，所述偏振膜还包括在所述偏振层与所述相位延迟层之间的保护层。
17.根据权利要求13所述的显示装置，还包括在所述相位延迟层与所述偏振层之间的粘合膜，
其中，所述偏振层的表面与所述粘合膜直接接触。
18.根据权利要求13所述的显示装置，其中，所述涂覆层包括聚乙烯醇类树脂和紫外线吸收单体。
19.根据权利要求18所述的显示装置，其中，所述紫外线吸收单体包括选自苯并三唑类单体、三苯基三嗪类单体和二苯甲酮类单体中的至少一种。
20.根据权利要求18所述的显示装置，其中，基于100重量份的用于形成所述涂覆层的涂覆层组合物，所述涂覆层包括0.1至20重量份的所述聚乙烯醇类树脂和所述紫外线吸收单体之和。
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