CN101476109B - 柔性高阻多层透明导电膜的制备方法 - Google Patents
柔性高阻多层透明导电膜的制备方法 Download PDFInfo
- Publication number
- CN101476109B CN101476109B CN2008100304143A CN200810030414A CN101476109B CN 101476109 B CN101476109 B CN 101476109B CN 2008100304143 A CN2008100304143 A CN 2008100304143A CN 200810030414 A CN200810030414 A CN 200810030414A CN 101476109 B CN101476109 B CN 101476109B
- Authority
- CN
- China
- Prior art keywords
- layer
- pet polyester
- polyester film
- indium tin
- film
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 title claims 7
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract 12
- GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N Titan oxide Chemical compound O=[Ti]=O GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract 12
- 229920006267 polyester film Polymers 0.000 claims abstract 9
- AMGQUBHHOARCQH-UHFFFAOYSA-N indium;oxotin Chemical compound [In].[Sn]=O AMGQUBHHOARCQH-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract 7
- 235000012239 silicon dioxide Nutrition 0.000 claims abstract 6
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 claims abstract 6
- 239000004408 titanium dioxide Substances 0.000 claims abstract 6
- 238000001755 magnetron sputter deposition Methods 0.000 claims abstract 5
- 238000000034 method Methods 0.000 claims abstract 5
- 229910001195 gallium oxide Inorganic materials 0.000 claims abstract 3
- 239000002245 particle Substances 0.000 claims abstract 2
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims 3
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims 3
- HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N Zinc Chemical compound [Zn] HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 2
- 229910000611 Zinc aluminium Inorganic materials 0.000 claims 2
- HXFVOUUOTHJFPX-UHFFFAOYSA-N alumane;zinc Chemical compound [AlH3].[Zn] HXFVOUUOTHJFPX-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 2
- AJNVQOSZGJRYEI-UHFFFAOYSA-N digallium;oxygen(2-) Chemical compound [O-2].[O-2].[O-2].[Ga+3].[Ga+3] AJNVQOSZGJRYEI-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 2
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 claims 2
- 229910052725 zinc Inorganic materials 0.000 claims 2
- 239000011701 zinc Substances 0.000 claims 2
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 claims 1
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 claims 1
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 claims 1
- 229920000728 polyester Polymers 0.000 abstract 3
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 abstract 2
- 238000000576 coating method Methods 0.000 abstract 2
- JYMITAMFTJDTAE-UHFFFAOYSA-N aluminum zinc oxygen(2-) Chemical compound [O-2].[Al+3].[Zn+2] JYMITAMFTJDTAE-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract 1
- 239000013078 crystal Substances 0.000 abstract 1
- 238000000151 deposition Methods 0.000 abstract 1
- 230000008021 deposition Effects 0.000 abstract 1
- 229910052738 indium Inorganic materials 0.000 abstract 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 abstract 1
- 239000000463 material Substances 0.000 abstract 1
Images
Landscapes
- Laminated Bodies (AREA)
- Non-Insulated Conductors (AREA)
- Physical Vapour Deposition (AREA)
Abstract
一种柔性高阻多层透明导电膜的制备方法，它采用中频磁控溅射技术在柔性基材PET聚酯膜的一面依次连续形成二氧化钛层、二氧化硅层、铟锡氧化物层、锌铝氧化物层或锌镓氧化物层；在铟锡氧化物层的成膜过程中，利用高能粒子连续轰击和沉积在PET聚酯膜上产生的热能，使温度达到120℃或更高并控制氧铟原子比在1.26-1.29而获得结晶结构的铟锡氧化物层；所述PET聚酯膜另一面与第二层PET聚酯膜的一面相粘接，第二层PET聚酯膜的另一面设置硬涂层；用中频磁控溅射技术在硬涂层上依次连续形成二氧化钛层、二氧化硅层。产品在较高温度时有良好的电阻稳定性和耐久性，生产流程短、效率高、成本低，制品在随后的工艺过程中不翘曲。
Description
技术领域
本发明涉及柔性基材高阻多层透明导电膜的制备方法，该膜可用于触摸屏(TP)、手写输入(PE)、电致发光显示(EL)、液晶显示(LCD)、有机发光显示(OLED)等。
背景技术
现有的柔性透明导电膜，表面电阻在200Ω/口左右，是比较稳定的。但随着表面电阻升高，特别是到了450-500Ω/口或更高阻值以后，则电阻值变得很不稳定，耐久性(能承受的点击次数)也很差，并且在随后的使用过程中出现翘曲等现象。发明专利CN1947204A提出了一个叠层结构和控制ITO膜的结晶及结晶粒度、结晶比例等技术，使表面电阻为200-300Ω/口的ITO膜稳定性、耐久性得到明显改善；但其有几点不足：一是ITO膜成膜后要在150℃处理1.5小时，这显然会影响生产效率、提高生产成本；二是介质层二氧化硅(SiO2)采用涂布和电子枪蒸发与ITO膜成膜技术不兼容，使工艺过程变的很繁杂，导致成品率低、成本提高；三是它的叠层体一侧没有防潮防湿层，在使用过程中受高温潮湿影响，使该侧吸潮吸湿，导致两层PET聚酯膜由于收缩率的差异而产生翘曲，影响后续生产过程的进行；并且，从膜系组成分析，透光率也不可能做得很高。日本专利HZ-194943A提出了一个改良方法，即在ITO成膜后再长时间热处理使其结晶化，改善其稳定性，具体是在150℃热处理24小时，显然该方法效率低下、成本极高。美国专利US2003/0012955A1则提出在ITO膜表面覆盖一层介质层，如SiOx或TiOx、TaOx、NbOx、SnOx等介质，其结果是表面接触电阻增大，对刻蚀也会带来麻烦。美国专利US2006/003188A1提出用含二氧化锡(SnO2)小于6％的铟锡氧化物(ITO)靶材在90℃-170℃溅射成膜，使ITO膜形成结晶结构，改善其性能；存在的缺点是要在较高温度下成膜，成膜过程要用PEM(plasma emission)或PIC(plasma impedance control)监控。
发明内容
本发明的目的是，针对现有技术产品存在的ITO高阻膜电阻不稳定、耐久性差等问题，提出一种柔性高阻多层透明导电膜的制备方法，所制得的产品在较高温度(150℃)时具有良好的电阻稳定性和耐久性，并且生产工艺流程短、生产效率高、成本低，制品在随后的工艺过程中不产生翘曲。
本发明的技术方案是，所述柔性高阻多层透明导电膜的制备方法为：采用中频磁控溅射技术在柔性基材PET聚酯膜1的一面依次连续形成二氧化钛层2、二氧化硅层3、铟锡氧化物层4、锌铝氧化物层或锌镓氧化物层5；
在铟锡氧化物层4的成膜过程中，利用所述二氧化钛层2和二氧化硅层3中频磁控溅射成膜时高能粒子连续轰击和沉积在PET聚酯膜1上产生的热能，使温度达到120℃或更高，从而获得结晶结构的铟锡氧化物层4；并控制氧铟原子比(O/In)在1.26-1.29范围，获得电阻稳定的铟锡氧化物层4；
所述柔性基材PET聚酯膜1另一面经粘结层6与第二层PET聚酯膜7的一面相粘接，并在该第二层PET聚酯膜7的另一面设置硬涂层8；
用中频磁控溅射技术在硬涂层8上依次连续形成二氧化钛层9、二氧化硅层10。
以下对本发明做出进一步说明。
参见图1，本发明方法制得的柔性高阻多层透明导电膜的结构为：它有柔性基材PET聚酯膜1，在该PET聚酯膜1的一面由内至外依次有作为增透和隔离层的二氧化钛(TiO2)层2、二氧化硅(SiO2)层3，透明导电结晶态铟锡氧化物(ITO)层4和顶层5，所述顶层为锌铝氧化物(ZAO)层或锌镓氧化物(ZGO)层5；所述PET聚酯膜1的另一面经粘结层6与第二层柔性基材PET聚酯膜7的一面相粘接，该第二层PET聚酯膜7的另一面由内至外依次设有硬涂层8和作为增透与防潮湿层的二氧化钛(TiO2)层9、二氧化硅(SiO2)层10。
众所周知，柔性高阻铟锡氧化物(ITO)膜高温电阻不稳定的原因主要有三个：一是在低温下形成的铟锡氧化物膜的电阻率受氧空位浓度支配，其氧铟原子比(O/In)的临界值是1.31，氧铟原子比大于1.31后电阻率急剧增大。因此，铟锡氧化物膜暴露在高温空气中会引起氧空位浓度急剧变化(O/In比值增大)，导致电阻变化；二是在PET聚酯膜上常规制备铟锡氧化物膜都是在常温(20℃)或更低温度下成膜，膜是非结晶结构，加之PET聚酯膜表面比较粗糙，膜结构疏松，有利于空气中氧气向膜层内部扩散，加速膜层内氧空位浓度的增大；三是PET聚酯膜很容易吸附水汽和氧气，这些水汽和氧气也会向铟锡氧化物膜层渗透扩散，使膜层的氧空位浓度增大。这种情况在高阻(例如350Ω/口-550Ω/口，此时电阻膜很薄，膜厚仅为15-18nm)时尤为明显。本发明针对性的采取了三个技术措施：一是用既有增透作用又有阻挡功能的二氧化钛层2和二氧化硅层3及锌铝氧化物层或锌镓氧化物层(顶层)5将铟锡氧化物层4包夹在中间，阻挡空气(氧)或其它污染杂质向铟锡氧化物(ITO)层4中扩散；二是采用中频磁控溅射技术依次连续一次形成二氧化钛层2、二氧化硅层3、铟锡氧化物层4、锌铝氧化物层或锌镓氧化物层(顶层)5，由于高能粒子连续轰击和沉积在PET聚酯膜1上，使其温度达到120℃，甚至更高，从而获得结晶结构的稳定铟锡氧化物层4，并且中频溅射技术成膜使所述各层膜都很緻密，更有效地阻挡了空气(氧)或其它杂质向铟锡氧化物层4的进入和扩散；三是控制铟锡氧化物层4的氧空位不在敏感区，即氧铟原子比(O/In)控制在1.26-1.29范围，这样即使有氧进入扩散，也不会大幅改变铟锡氧化物层4的电阻值。采取这样三个技术措施，能使铟锡氧化物层4在高温下氧空位浓度保持稳定，从而保证了电阻的高温稳定性。
本发明对提高所述柔性高阻多层透明导电膜的耐久性(寿命)采取了三个技术措施：(1)在该柔性高阻多层透明导电膜结构中设有一顶层，它为一高阻的锌铝氧化物(ZAO)层或锌镓氧化物(ZGO)层5，这层氧化物的表面电阻控制在大于1×104Ω/口；在这种情况下，所述顶层(ZAO或ZGO)在与铟锡氧化物层4并联形成的并联电阻比例不大于5％；以铟锡氧化物层4的表面电阻为500Ω/口为例，如果顶层的表面电阻控制为1×104Ω/口，则并联电阻为476Ω/口，顶层的表面电阻所占比例仅为4.8％；因此顶层(ZAO或ZGO)对铟锡氧化物层4既是一个扩散阻挡层，也是一个耐磨的耗尽层，直到这个顶层(ZAO或ZGO)耗尽，铟锡氧化物层4的表面电阻变化率也不会大于5％，这就有利于提高铟锡氧化物层4的使用寿命；(2)产品的二氧化钛层2、二氧化硅层3、铟锡氧化物层4和顶层(ZAO或ZGO)是采用中频磁控溅射方法依次连续(一次)成形，PET聚酯膜1的温度达到120℃或更高，铟锡氧化物层4和顶层(ZAO层或ZGO层)形成结晶结构，并且膜层緻密，硬度和耐磨性提高，因此其耐久性(寿命)提高；(3)所述柔性高阻多层透明导电膜利用了复合基膜的应力扩散机理，提高了产品的耐久性；由图1可知，当力作用在二氧化硅(SiO2)层10(防潮层)上时，较厚的第二层PET聚酯膜7承受了大部分应力，然后粘结层6又对应力起了缓冲作用，而传递到铟锡氧化物层4和顶层(ZAO层或ZGO层)的应力就已经很轻微了。由于铟锡氧化物层4被二氧化钛层2、二氧化硅层3和顶层(ZAO层或ZGO层)所包夹，它们有良好的附着和保护作用，使铟锡氧化物层4不直接与触摸屏的对电极(通常以玻璃为基材)接触，因此使耐久性(寿命)提高。
本发明中，所述柔性基材PET聚酯膜1的厚度可以是30μm-60μm，优选厚度为50μm，以保证其足够的柔韧性；做为增透和阻挡层的二氧化钛(TiO2)层2和二氧化硅(SiO2)层3的光学厚度可以分别是1/2λ0和1/4λ0(λ0＝550nm)，几何厚度可以分别为120nm-125nm和90nm-100nm；铟锡氧化物层4的厚度可以是13nm-22nm，表面电阻可以是350Ω/口-550Ω/口；锌铝氧化物层或锌镓氧化物层(顶层)5厚度可以是5nm-10nm，表面电阻是1×104Ω/口-8×104Ω/口。
所述柔性基材PET聚酯膜1另一面经粘结层6与第二层PET聚酯膜7相粘接，粘接的方法可以用常规的复合机进行复合。粘结层6的厚度可以是5μm-20μm，优选厚度为10μm-13μm，以保证有足够的弹性和应力缓冲性能；第二层PET聚酯膜7的厚度可以是115μm-155μm，优选为125μm，以保证足够的机械强度和弹性；所述第二层PET聚酯膜7另一面的硬涂层8的厚度可以是3μm-5μm，其硬度可以是铅笔硬度3H，它是一层有机物涂层；而随后的增透和防潮湿层，即二氧化钛层9和二氧化硅层10与前述的二氧化钛层2和二氧化硅层3一样，是采用中频磁溅射技术形成的，其厚度可以分别是120nm-125nm和90nm-100nm，既有增透作用，又能防止第二层PET聚酯膜7和有机硬涂层8吸潮湿。
由以上可知，本发明为一种柔性高阻多层透明导电膜，其稳定性和耐久性好，它的表面电阻在高阻范围内(350Ω/口-550Ω/口)有良好的高温稳定性(150℃，30分钟，表面电阻变化RT/R0小于1.1)；由于有两个减反射层，可见光透过率大于90％；由于采用中频磁控溅射技术成膜，改善了膜层结构和性能，又由于采用了阻挡层-高阻透明氧化物顶层和应力分散、缓冲等多层膜结构，其耐久性很好，使用硬度40的含聚氨酯橡胶棒(端头7R)，负荷为100克，进行100万次打点试验，表面电阻变化率(RT/R0)为1.0，即打点100万次后，表面电阻无变化。还由于最外层的防潮湿层的存在，防止了PET聚酯膜和有机硬涂层吸湿，在150℃、相对湿度大于80％的条件下保持1小时，未发现翘曲。
附图说明
图1是一种实施例产品的截面结构示意图，在图中：
1-PET聚酯膜， 2-二氧化钛层， 3-二氧化硅层，
4-铟锡氧化物层， 5-锌铝氧化物层或锌镓氧化物层(顶层)，
6-粘结层， 7-第二层PET聚酯膜，
8-硬涂层， 9-二氧化钛层， 10-二氧化硅层。
具体实施方式
本发明方法包括：
采用中频磁控溅射技术在柔性基材PET聚酯膜1的一面依次连续形成二氧化钛层2、二氧化硅层3、铟锡氧化物层4、锌铝氧化物层或锌镓氧化物层5；
在铟锡氧化物层4的成膜过程中，利用前述二氧化钛层2和二氧化硅层3中频磁控溅射成膜时高能粒子连续轰击和沉积在PET聚酯膜1上产生的热能，使温度达到120℃或更高，并控制氧铟原子比(O/In)在1.26-1.29范围，从而获得结晶结构的铟锡氧化物层4；
所述柔性基材PET聚酯膜1另一面经粘结层6与第二层PET聚酯膜7的一面相粘接，并在该第二层PET聚酯膜7的另一面设置硬涂层8；
用中频磁控溅射技术在硬涂层8上依次连续形成二氧化钛层9、二氧化硅层10。
所述柔性基材PET聚酯膜1另一面经粘结层6与第二层PET聚酯膜7的一面相粘接，其粘接的方法可以用常规的复合机进行复合。
所得产品的结构是，在PET聚酯膜1的一面由内至外依次有作为增透和隔离层的二氧化钛(TiO2)层2、二氧化硅(SiO2)层3、透明导电结晶态铟锡氧化物(ITO)层4和锌铝氧化物层或锌镓氧化物层(顶层)5；所述PET聚酯膜1的另一面经粘结层6与第二层柔性基材PET聚酯膜7的一面相粘接，该第二层PET聚酯膜7的另一面由内至外依次设有硬涂层8和作为增透与防潮湿层的二氧化钛(TiO2)层9、二氧化硅(SiO2)层10；其中，柔性基材PET聚酯膜1厚度50μm，二氧化钛层2厚度120nm，二氧化硅层3厚度95nm；透明导电结晶态铟锡氧化物(TTO)层4厚度15nm，表面电阻500Ω/口；锌铝氧化物层或锌镓氧化物层5的厚度5nm，表面电阻5×104Ω/口；粘结层6厚度10μm；第二层PET聚酯膜7厚度125μm；硬涂层8厚度3μm；二氧化钛层9厚度120nm，二氧化硅层10厚度95nm。
Claims (6)
1.一种柔性高阻多层透明导电膜的制备方法，其特征是，该方法为：
采用中频磁控溅射技术在柔性基材PET聚酯膜(1)的一面依次连续形成二氧化钛层(2)、二氧化硅层(3)、铟锡氧化物层(4)、锌铝氧化物层或锌镓氧化物层(5)；
在铟锡氧化物层(4)的成膜过程中，利用所述二氧化钛层(2)和二氧化硅层(3)中频磁控溅射成膜时高能粒子连续轰击和沉积在PET聚酯膜(1)上产生的热能，使温度达到120℃或更高，从而获得结晶结构的铟锡氧化物层(4)；并控制氧铟原子比在1.26-1.29范围，获得电阻稳定的铟锡氧化物层(4)；
所述柔性基材PET聚酯膜(1)另一面经粘结层(6)与第二层PET聚酯膜(7)的一面相粘接，并在该第二层PET聚酯膜(7)的另一面设置硬涂层(8)；用中频磁控溅射技术在硬涂层(8)上依次连续形成二氧化钛层(9)、二氧化硅层(10)。
2.根据权利要求1所述柔性高阻多层透明导电膜的制备方法，其特征是，采用的所述柔性基材PET聚酯膜(1)的厚度为30μm-60μm。
3.根据权利要求1所述柔性高阻多层透明导电膜的制备方法，其特征是，制得的所述二氧化钛层和二氧化硅层的光学厚度分别是1/2λ0和1/4λ0，几何厚度分别为120nm-125nm和90nm-100nm，λ0＝550nm。
4.根据权利要求1所述柔性高阻多层透明导电膜的制备方法，其特征是，制得的所述铟锡氧化物层(4)的厚度是13nm-22nm，表面电阻是350Ω/□-550Ω/□。
5.根据权利要求1所述柔性高阻多层透明导电膜的制备方法，其特征是，制得的所述锌铝氧化物层或锌镓氧化物层(5)厚度是5nm-10nm，表面电阻是1×104Ω/□-8×104Ω/□。
6.根据权利要求1所述柔性高阻多层透明导电膜的制备方法，其特征是，采用的所述第二层PET聚酯膜(7)的厚度是115μm-155μm。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CN2008100304143A CN101476109B (zh) | 2008-01-02 | 2008-01-02 | 柔性高阻多层透明导电膜的制备方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CN2008100304143A CN101476109B (zh) | 2008-01-02 | 2008-01-02 | 柔性高阻多层透明导电膜的制备方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| CN101476109A CN101476109A (zh) | 2009-07-08 |
| CN101476109B true CN101476109B (zh) | 2011-08-31 |
Family
ID=40836890
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| CN2008100304143A Expired - Fee Related CN101476109B (zh) | 2008-01-02 | 2008-01-02 | 柔性高阻多层透明导电膜的制备方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| CN (1) | CN101476109B (zh) |
Families Citing this family (9)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN102034565B (zh) * | 2009-10-06 | 2014-01-29 | 日油株式会社 | 透明导电性膜 |
| CN102074281A (zh) * | 2010-12-21 | 2011-05-25 | 苏州禾盛新型材料股份有限公司 | 射频等离子的透明导电膜 |
| CN102126321A (zh) * | 2010-12-21 | 2011-07-20 | 苏州禾盛新型材料股份有限公司 | Pet透明导电复合板材 |
| CN102324271A (zh) * | 2011-10-14 | 2012-01-18 | 南昌欧菲光科技有限公司 | 一种结晶型ito透明导电薄膜及其制备方法 |
| CN102723128B (zh) * | 2012-06-25 | 2015-02-18 | 深圳豪威真空光电子股份有限公司 | 柔性透明导电薄膜及其制造方法和触控面板 |
| CN103337279A (zh) * | 2013-06-26 | 2013-10-02 | 汕头万顺包装材料股份有限公司光电薄膜分公司 | 透明导电膜及具有该导电膜的触摸面板 |
| CN103777814B (zh) * | 2014-01-16 | 2017-06-16 | 京东方科技集团股份有限公司 | 一种显示面板及其制备方法和显示装置 |
| CN109280886A (zh) * | 2018-08-09 | 2019-01-29 | 滁州盛诺电子科技有限公司 | 一种高阻膜及其制备工艺和应用 |
| CN109725468A (zh) * | 2019-03-11 | 2019-05-07 | 广州市华惠材料科技有限公司 | 调光膜及其制备方法 |
Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6284382B1 (en) * | 1997-11-27 | 2001-09-04 | Sony Corporation | Antireflection film and manufacturing method thereof |
| CN1729310A (zh) * | 2002-11-01 | 2006-02-01 | 艾利丹尼森公司 | 用于平板显示器的透明导电膜 |
-
2008
- 2008-01-02 CN CN2008100304143A patent/CN101476109B/zh not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6284382B1 (en) * | 1997-11-27 | 2001-09-04 | Sony Corporation | Antireflection film and manufacturing method thereof |
| CN1729310A (zh) * | 2002-11-01 | 2006-02-01 | 艾利丹尼森公司 | 用于平板显示器的透明导电膜 |
Non-Patent Citations (1)
| Title |
|---|
| JP特开2006-32100A 2006.02.02 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| CN101476109A (zh) | 2009-07-08 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| CN101476109B (zh) | 柔性高阻多层透明导电膜的制备方法 | |
| TWI381401B (zh) | Transparent conductive film and manufacturing method thereof | |
| CN101542639B (zh) | 导电膜及导电膜的制造方法 | |
| JP6066154B2 (ja) | 透明導電性フィルムの製造方法 | |
| JP5101719B2 (ja) | 透明導電性フィルム、その製造方法及びそれを備えたタッチパネル | |
| JP5330400B2 (ja) | 改良された抵抗率を有する層で被覆したガラス基板 | |
| CN201156444Y (zh) | 柔性高阻多层透明导电膜 | |
| US20170227694A1 (en) | Infrared reflecting substrate | |
| WO2015159799A1 (ja) | 透明導電性フィルム | |
| US20060159932A1 (en) | Method of making low-E coating using ceramic zinc inclusive target, and target used in same | |
| US10175397B2 (en) | Optical film including an infrared absorption layer | |
| JP2010184478A (ja) | 多層フィルムおよびその製造方法 | |
| US9704610B2 (en) | Manganese tin oxide based transparent conducting oxide and transparent conductive film and method for fabricating transparent conductive film using the same | |
| JPH02194943A (ja) | 透明導電性積層体 | |
| JP6261540B2 (ja) | 透明導電性フィルム及びその製造方法 | |
| JP6511876B2 (ja) | 積層型透明導電膜 | |
| CN101582304A (zh) | 透明导电膜及其制造方法 | |
| JP2003109434A (ja) | 透明導電フィルム及びタッチパネル | |
| WO2014171149A1 (ja) | 透明導電体及びその製造方法 | |
| JP4358251B2 (ja) | 高抵抗化スズドープ酸化インジウム膜の成膜方法 | |
| JP2017057505A (ja) | 透明導電性フィルム及びその製造方法 | |
| US20150075603A1 (en) | Novel hydrophobic coatings and methods and compositions relating thereto | |
| JP2016177821A (ja) | 透明導電性フィルム | |
| CN108766631A (zh) | 一种复合薄膜 | |
| JPH0668713A (ja) | 透明導電膜 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| C06 | Publication | ||
| PB01 | Publication | ||
| C10 | Entry into substantive examination | ||
| SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
| C14 | Grant of patent or utility model | ||
| GR01 | Patent grant | ||
| C17 | Cessation of patent right | ||
| CF01 | Termination of patent right due to non-payment of annual fee |
Granted publication date: 20110831 Termination date: 20140102 |