CN108084887A - 一种氧化硅抛光液的制备方法 - Google Patents
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- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 title claims abstract description 45
- 238000005498 polishing Methods 0.000 title claims abstract description 21
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 title claims abstract description 21
- 239000012530 fluid Substances 0.000 title claims abstract description 14
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 title claims abstract description 13
- 238000003756 stirring Methods 0.000 claims abstract description 22
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 15
- HZAXFHJVJLSVMW-UHFFFAOYSA-N 2-Aminoethan-1-ol Chemical compound NCCO HZAXFHJVJLSVMW-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 10
- 239000003755 preservative agent Substances 0.000 claims abstract description 8
- 230000002335 preservative effect Effects 0.000 claims abstract description 8
- 239000000375 suspending agent Substances 0.000 claims abstract description 8
- GSEJCLTVZPLZKY-UHFFFAOYSA-N Triethanolamine Chemical compound OCCN(CCO)CCO GSEJCLTVZPLZKY-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 6
- 239000002518 antifoaming agent Substances 0.000 claims abstract description 6
- KGBXLFKZBHKPEV-UHFFFAOYSA-N boric acid Chemical compound OB(O)O KGBXLFKZBHKPEV-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 6
- 239000004327 boric acid Substances 0.000 claims abstract description 6
- 239000003995 emulsifying agent Substances 0.000 claims abstract description 5
- ONJQDTZCDSESIW-UHFFFAOYSA-N polidocanol Chemical group CCCCCCCCCCCCOCCOCCOCCOCCOCCOCCOCCOCCOCCO ONJQDTZCDSESIW-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- LRMHFDNWKCSEQU-UHFFFAOYSA-N ethoxyethane;phenol Chemical compound CCOCC.OC1=CC=CC=C1 LRMHFDNWKCSEQU-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 150000002191 fatty alcohols Chemical class 0.000 claims description 2
- 229940051841 polyoxyethylene ether Drugs 0.000 claims description 2
- 229920000056 polyoxyethylene ether Polymers 0.000 claims description 2
- 238000000034 method Methods 0.000 abstract description 5
- 230000008569 process Effects 0.000 abstract description 3
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 4
- 229920001285 xanthan gum Polymers 0.000 description 4
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N Alumina Chemical compound [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 3
- 229910052814 silicon oxide Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000002002 slurry Substances 0.000 description 3
- 230000009471 action Effects 0.000 description 2
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 2
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 2
- ZBHSAYWIYAVUOP-UHFFFAOYSA-N 2-(benzylamino)-1-[3-(trifluoromethyl)phenyl]ethanol Chemical group C=1C=CC(C(F)(F)F)=CC=1C(O)CNCC1=CC=CC=C1 ZBHSAYWIYAVUOP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QYYMDNHUJFIDDQ-UHFFFAOYSA-N 5-chloro-2-methyl-1,2-thiazol-3-one;2-methyl-1,2-thiazol-3-one Chemical group CN1SC=CC1=O.CN1SC(Cl)=CC1=O QYYMDNHUJFIDDQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910003978 SiClx Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000003082 abrasive agent Substances 0.000 description 1
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 1
- 239000000463 material Substances 0.000 description 1
- 230000007246 mechanism Effects 0.000 description 1
- 239000002105 nanoparticle Substances 0.000 description 1
- 239000007800 oxidant agent Substances 0.000 description 1
- 230000001590 oxidative effect Effects 0.000 description 1
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 1
- 229910010271 silicon carbide Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 1
- 239000002699 waste material Substances 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
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- C09G1/00—Polishing compositions
- C09G1/02—Polishing compositions containing abrasives or grinding agents
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Abstract
本发明公开了一种氧化硅抛光液的制备方法，包括以下步骤：按比例称取纯水1加入容器1内，开启搅拌；按比例称取氧化硅加入容器1中，搅拌10‑20min，使氧化硅充分分散在水中；按比例称取乳化剂，加入容器1内，搅拌20‑30min，使其完全溶解；按比例称取纯水2，取其中八成加热至60‑80℃开启搅拌；按比例称取悬浮剂加入容器2内，搅拌至完全透明；将容器2内溶液加入容器1内，搅拌5‑10min，此时溶液表面显得更为明亮；按比例依次称取硼酸、乙醇胺、三乙醇胺加入容器1内，充分搅拌；按比例称取防腐剂加入容器1内，充分搅拌；按比例称取水溶性消泡剂加入容器1内，充分搅拌。本发明氧化硅抛光液的制备方法工艺简单，经济性好，所制得的产品具有很好的稳定性。
Description
技术领域
本发明涉及抛光液制备技术领域，尤其涉及一种氧化硅抛光液的制备方法。
背景技术
CMP技术的概念是1965年由Monsanto首次提出。区别于传统的纯机械或纯化学的抛光方法，CMP通过化学的和机械的综合作用，从而避免了由单纯机械抛光造成的表面损伤和由单纯化学抛光易造成的抛光速度慢、表面平整度和抛光一致性差等缺点。它利用了磨损中的“软磨硬”原理，即用较软的材料来进行抛光以实现高质量的表面抛光。在一定压力及抛光浆料存在下，被抛光工件相对于抛光垫作相对运动，借助于纳米粒子的研磨作用与氧化剂的腐蚀作用之间的有机结合，在被研磨的工件表面形成光洁表面。抛光浆料研究的最终目的是找到化学作用和机械作用的最佳结合，以致能获得去除速率高、平面度好、膜厚均匀性好及选择性高的抛光浆料。此外还要考虑易清洗性、对设备的腐蚀性、废料的处理费用及安全性等问题。因此对抛光磨料比如氧化铝、氧化硅、碳化硅等磨料的配置进行研究有着非常重要的意义。
发明内容
本发明的目的在于提供一种工艺简单，经济性好，且所制得的产品稳定性好的氧化硅抛光液的制备方法。
为解决以上技术问题，本发明提供一种氧化硅抛光液的制备方法，包括以下步骤：
按比例称取纯水1加入容器1内，开启搅拌；
按比例称取氧化硅加入容器1中，搅拌10-20min，使氧化硅充分分散在水中；
按比例称取乳化剂，加入容器1内，搅拌20-30min，使其完全溶解；
按比例称取纯水2，取其中八成加热至60-80℃开启搅拌；
按比例称取悬浮剂加入容器2内，搅拌至完全透明；
将容器2内溶液加入容器1内，搅拌5-10min，此时溶液表面显得更为明亮；
按比例依次称取硼酸、乙醇胺、三乙醇胺加入容器1内，充分搅拌；
按比例称取防腐剂加入容器1内，充分搅拌；
按比例称取水溶性消泡剂加入容器1内，充分搅拌。
优选的，所述氧化硅的粒径在0.5-1.5μm。
优选的，所述的乳化剂为AEO-9(脂肪醇聚氧乙烯醚)、OP-10(聚氧乙烯辛基苯酚醚-10)的一种或混合使用。
优选的，所述悬浮剂为黄原胶。
优选的，所述防腐剂为卡松DL-20。
本发明氧化硅抛光液的制备方法工艺简单，经济性好，所制得的产品具有很好的稳定性。
具体实施方式
下面将结合具体实施例对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述。
实施例1
取40份的0.5μm氧化硅粉末，加入48.35份的纯水中至容器1，充分搅拌10min，加入0.6份AEO-9悬浮剂，充分搅拌20-30min，称取8份纯水至容器2，加热至60-80℃(容器2内加热或加热后倒入容器2内)，开启搅拌，同时称取黄原胶0.05份加入容器2内，搅拌至完全透明；将容器2溶液倒入容器1中，搅拌5-10min，加入三乙醇胺1份、乙醇胺0.8份、硼酸0.8份，充分搅拌10min，加入防腐剂0.2份、水溶性消泡剂0.2份，搅拌10-20min。
溶液充分搅拌，密封包装。
实施例2
取40份的0.5μm氧化硅粉末，加入46.8份的纯水中至容器1，充分搅拌10min，加入0.8份AEO-9悬浮剂，充分搅拌20-30min，称取8份纯水至容器2，加热至60-80℃(容器2内加热或加热后倒入容器2内)，开启搅拌，同时称取黄原胶0.1份加入容器2内，搅拌至完全透明；将容器2溶液倒入容器1中，搅拌5-10min，加入三乙醇胺1.5份、乙醇胺1份、硼酸1份，充分搅拌10min，加入防腐剂0.5份、水溶性消泡剂0.3份，搅拌10-20min。
溶液充分搅拌，密封包装。
实施例3
取40份的0.5μm氧化硅粉末，加入46.5份的纯水中至容器1，充分搅拌10min，加入1份AEO-9悬浮剂，充分搅拌20-30min，称取8份纯水至容器2，加热至60-80℃(容器2内加热或加热后倒入容器2内)，开启搅拌，同时称取黄原胶0.1份加入容器2内，搅拌至完全透明；将容器2溶液倒入容器1中，搅拌5-10min，加入三乙醇胺1份、乙醇胺1.5份、硼酸1.2份，充分搅拌10min，加入防腐剂0.5份、水溶性消泡剂0.2份，搅拌10-20min。
溶液充分搅拌，密封包装。
以上所述是本发明的优选实施方式，应当指出，对于本技术领域的普通技术人员来说，在不脱离本发明原理的前提下，还可以做出若干改进和润饰，这些改进和润饰也视为本发明的保护范围。
Claims (5)
1.一种氧化硅抛光液的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：
按比例称取纯水1加入容器1内，开启搅拌；
按比例称取氧化硅加入容器1中，搅拌10-20min，使氧化硅充分分散在水中；
按比例称取乳化剂，加入容器1内，搅拌20-30min，使其完全溶解；
按比例称取纯水2，取其中八成加热至60-80℃开启搅拌；
按比例称取悬浮剂加入容器2内，搅拌至完全透明；
将容器2内溶液加入容器1内，搅拌5-10min，此时溶液表面显得更为明亮；
按比例依次称取硼酸、乙醇胺、三乙醇胺加入容器1内，充分搅拌；
按比例称取防腐剂加入容器1内，充分搅拌；
按比例称取水溶性消泡剂加入容器1内，充分搅拌。
2.根据权利要求1所述的一种氧化硅抛光液的制备方法，其特征在于：所述氧化硅的粒径为0.5-1.5μm。
3.根据权利要求1所述的一种氧化硅抛光液的制备方法，其特征在于：所述的乳化剂为AEO-9(脂肪醇聚氧乙烯醚)、OP-10(聚氧乙烯辛基苯酚醚-10)的一种或混合使用。
4.根据权利要求1所述的一种氧化硅抛光液的制备方法，其特征在于：所述悬浮剂为黄原胶。
5.根据权利要求1所述的一种氧化硅抛光液的制备方法，其特征在于：所述防腐剂为卡松DL-20。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CN201711397147.9A CN108084887A (zh) | 2017-12-21 | 2017-12-21 | 一种氧化硅抛光液的制备方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CN201711397147.9A CN108084887A (zh) | 2017-12-21 | 2017-12-21 | 一种氧化硅抛光液的制备方法 |
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| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| CN108084887A true CN108084887A (zh) | 2018-05-29 |
Family
ID=62178306
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| CN201711397147.9A Pending CN108084887A (zh) | 2017-12-21 | 2017-12-21 | 一种氧化硅抛光液的制备方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| CN (1) | CN108084887A (zh) |
Citations (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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| CN1452535A (zh) * | 2000-04-28 | 2003-10-29 | 3M创新有限公司 | 研磨制品以及研磨玻璃的方法 |
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-
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