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CN107922114A - 净化装置、净化储料器、以及清洁方法 - Google Patents

净化装置、净化储料器、以及清洁方法 Download PDF

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CN107922114A CN201680046974.0A CN201680046974A CN107922114A CN 107922114 A CN107922114 A CN 107922114A CN 201680046974 A CN201680046974 A CN 201680046974A CN 107922114 A CN107922114 A CN 107922114A
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purification
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Murata Machinery Ltd
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Abstract

为了提供能够将附着在容器的气体导入口或者净化喷嘴的周围的微粒除去的净化装置,净化装置(4)具备:能够吹出气体(G1)的喷嘴(31);以及在作为净化对象的容器(F)的底面(Fb)与喷嘴对置的状态下,使气体从喷嘴吹出的净化控制部(34)。

Description

净化装置、净化储料器、以及清洁方法
技术领域
本发明涉及净化装置、净化储料器、以及清洁方法。
背景技术
净化储料器保管收容晶片、掩模等各种物品的容器。关于该容器,存在前开式晶圆盒(FOUP)、标准机械接口晶圆盒(SMIF Pod)、掩模盒(Pod)等。关于净化储料器,在保管时利用净化装置朝容器内填充洁净干燥空气或氮气等净化气体,抑制收容物的污染或氧化等。净化装置具备供容器载置的净化口以及与容器的气体导入口连接的净化喷嘴,将净化气体从净化喷嘴朝容器的内部供给。当容器与净化装置连接时,有时会因气体导入口与净化喷嘴的接触等而产生微粒,且微粒附着在容器的气体导入口、净化喷嘴的内部、净化喷嘴的周围等。作为除去这样的微粒的方法,存在在容器被朝净化口运送前使净化喷嘴流过净化气体的方法(例如,参照专利文献1)。
现有技术文献
专利文献
专利文献1:日本特许第5557061号公报
发明内容
发明所要解决的课题
当像专利文献1那样流过净化气体的情况下,虽能够除去净化喷嘴的内部的微粒,但无法除去附着在容器的气体导入口或者净化喷嘴的周围的微粒。本发明就是鉴于上述情形而完成的,其目的在于提供一种能够除去附着在容器的气体导入口或者净化喷嘴的周围的微粒的净化装置、净化储料器以及清洁方法。
用于解决课题的手段
本发明的净化装置具备:喷嘴,能够吹出气体;以及净化控制部,在作为净化对象的容器的底面与喷嘴对置的状态下,使气体从喷嘴吹出。
并且,也可以形成为,喷嘴是与设置于容器的底面的气体导入口连接、并经由气体导入口朝容器的内部供给净化气体的净化喷嘴,作为气体吹出净化气体。并且,也可以形成为,净化控制部基于容器朝净化位置的输送信息(输送指令等信息)而使净化气体从净化喷嘴的吹出开始。并且,也可以形成为,在容器的输送开始后、气体导入口与净化喷嘴连接前,净化控制部使净化气体从净化喷嘴的吹出开始。并且,也可以形成为,净化控制部根据使容器从净化喷嘴的上方下降的移载装置的动作而使净化气体从净化喷嘴的吹出开始。并且,也可以形成为,净化控制部在气体导入口与净化喷嘴对置的状态下使净化气体从净化喷嘴的吹出开始。并且,也可以形成为,净化控制部在容器的气体导入口与净化喷嘴连接后也使净化气体从净化喷嘴的吹出继续进行,使净化气体朝容器的内部供给。也可以形成为,净化控制部在容器的气体导入口与喷嘴连接前后使净化气体的流量变化。
本发明的净化储料器具备上述的净化装置和保持由净化装置净化后的容器的搁架。本发明的清洁方法包括:在能够吹出气体的喷嘴与作为净化对象的容器的底面对置的状态下,使气体从喷嘴吹出。
发明效果
根据本发明,由于在作为净化对象的容器的底面与喷嘴对置的状态下使气体从喷嘴吹出,因此能够利用吹到容器的底面的气体将容器的底面的微粒除去,并且能够利用从容器的底面侧朝喷嘴侧返回的气体将喷嘴周围的微粒除去。
并且,在喷嘴是与设置于容器的底面的气体导入口连接、并经由气体导入口朝容器的内部供给净化气体的净化喷嘴,作为气体吹出净化气体的净化装置中,净化喷嘴兼作为清洁用的喷嘴,因此能够使装置结构变得简单。并且,即便当环境气体混入净化喷嘴的前端部的情况下,由于将该气体在净化前吹出,因此能够利用纯度高的净化气体进行净化。并且,在净化控制部基于容器朝净化位置的输送信息而使净化气体从净化喷嘴的吹出开始的净化装置中,能够根据输送信息准确地掌握容器与净化喷嘴之间的位置关系,能够高效且可靠地将微粒除去。并且,在容器的输送开始后、气体导入口与净化喷嘴连接前净化控制部使净化气体从净化喷嘴的吹出开始的净化装置中,与在容器的输送开始前使净化气体的吹出开始的净化装置相比较,能够减少净化气体的浪费。并且,在净化控制部在容器的底面与净化喷嘴对置的状态下使净化气体从净化喷嘴的吹出开始的净化装置中,与在容器的底面与净化喷嘴对置前吹出净化气体的净化装置相比较,能够减少净化气体的浪费。并且,在净化控制部根据使容器从净化喷嘴的上方下降的移载装置的动作而使净化气体从净化喷嘴的吹出开始的净化装置中,容器与净化喷嘴之间的间隔变短,能够高效且可靠地将微粒除去。并且,在净化控制部在容器的气体导入口与喷嘴连接后也使净化气体从净化喷嘴的吹出继续进行,使净化气体朝容器的内部供给的净化装置中,能够快速地从清洁的状态朝净化的状态过渡。并且,在净化控制部在容器的气体导入口与净化喷嘴连接前后使净化气体的流量变化的净化装置中,例如能够区分使用适合进行清洁的流量和适合进行净化的流量。
附图说明
图1是示出实施方式所涉及的净化储料器的图。
图2是示出实施方式所涉及的净化装置的动作的说明图。
图3是示出实施方式所涉及的净化储料器的动作的一例的时序图。
图4是示出实施方式所涉及的净化储料器的动作的其他例的时序图。
图5是示出开始净化气体的吹出的定时的例子的图。
图6是示出净化气体的流量的例子的图。
图7是示出变形例所涉及的净化装置的图。
具体实施方式
以下,参照附图对实施方式进行说明。在以下的各图中,使用XYZ坐标系对图中的方向进行说明。在该XYZ坐标系中,将铅垂方向设为Z方向,将水平方向设为X方向、Y方向。
图1的(A)是示出本实施方式所涉及的净化储料器1的一例的图,图1的(B)是示出容器F以及净化装置4的一例的图。净化储料器1例如是保管收容在半导体元件的制造中使用的晶片或者掩模等物品的容器F的自动仓库。容器F例如是FOUP、SMIF Pod、掩模盒等。掩模可以是在液浸曝光装置中使用的掩模,也可以是在EUV中使用的掩模。
如图1的(A)所示,净化储料器1具备框体2、多个保管搁架3、多个净化装置4、堆装起重机(输送装置)5以及储料器控制装置6。框体2具有能够相对于外部隔离的内部空间2a。框体2具备在框体2的外部与内部空间2a之间交接容器F的出入库口(未图示)。多个保管搁架3、多个净化装置4以及堆装起重机5配置在框体2的内部空间2a。储料器控制装置6可以配置在框体2的内部或者外部的任一部分。储料器控制装置6控制净化装置4以及堆装起重机5。另外,控制净化装置4的控制装置和控制堆装起重机5的控制装置可以分开设置。
堆装起重机5能够沿X方向、Y方向以及Z方向的各方向输送容器F,例如能够在出入库口与保管搁架3之间、或者从保管搁架3朝其他保管搁架3输送容器F。堆装起重机5例如具备行进台车10、支承柱11、支承台12以及移载装置13。行进台车10具有多个车轮14,沿着设置于框体2的底面的轨道15而沿水平方向(X方向)移动。
支承柱11设置成从行进台车10的上表面沿铅垂方向(Z方向)延伸。支承台12由支承柱11支承,且设置成能够沿着支承柱11而沿Z方向滑动。移载装置13例如具备能够伸缩的臂部和能够在上表面载置容器F的载置部。另外,关于堆装起重机5,代替载置容器F的堆装起重机,例如也可以是把持容器F上部的凸缘部23(参照图1的(B))而悬吊并输送容器F的装置、或者把持容器F的侧面而进行输送的装置。并且,在图1中图示出1台堆装起重机5,但在框体2内配置的堆装起重机5也可以为2台以上。
保管搁架3在高度方向(Z方向)排列配置有多层、在水平方向(X方向)排列配置有多列。在多个保管搁架3上分别能够载置容器F。多个保管搁架3分别是能够保持由净化装置4净化后的容器F的搁架。另外,根据容器F的保管状况,存在在一部分保管搁架3未载置容器F的情况。
在图1的(B)中,作为容器F的一例示出FOUP,容器F具备在前表面具有开口20的箱状的主体部21和封闭开口20的盖部22。晶片等物品经由开口20而被收容在容器F的内部Fa(内部空间、收容空间)。在主体部21的上部设置有凸缘部23。主体部21在其底面Fb侧具备定位用的凹部(未图示)。该凹部例如呈从主体部21的底面Fb的中心放射状地延伸的槽状。在输送容器F时,设置在移载装置13的载置台的定位用的销(未图示)进入该凹部,容器F相对于移载装置13的载置台被定位。
保管搁架3具有移载装置13的载置台能够沿铅垂方向通行的切口(未图示)。移载装置13通过使载置台从保管搁架3的上方朝下方通过切口部而移动,由此将容器F移载至保管搁架3的上表面。在保管搁架3的上表面设置有定位用的销(未图示)。在将容器F载置于保管搁架3时,保管搁架3的上表面的销进入容器F的底面Fb侧的凹部,容器F相对于保管搁架3被定位。容器F的主体部21在底面Fb侧具备气体导入口24以及气体排出口25。
在气体导入口24例如设置有气体导入口(在后面的图2中用标记41表示)、过滤器以及止回阀。气体导入口与主体部21的内部Fa和外部连通。气体导入口的内侧成为朝容器F的内部Fa供给的净化气体G1的流路,过滤器设置于该流路。过滤器例如是微粒过滤器,将通过气体导入口的气体所含的尘埃除去。气体导入口24的止回阀抑制气体从容器F的内部Fa经由气体导入口朝外部流出这一情况。在气体排出口25例如设置有排气口、止回阀以及过滤器。排气口与主体部21的内部Fa和外部连通。气体排出口25的止回阀抑制气体从容器F的外部经由排气口朝内部Fa流入这一情况。过滤器例如是微粒过滤器,将通过排气口的气体所含的尘埃除去。关于通过排气口的气体,在净化刚刚开始后,净化前的容器F中的内部Fa的环境气体的比率高,从净化开始起随着时间推移而净化气体G1的比率变高。
净化装置4具备净化喷嘴31、排气喷嘴32、流量控制装置33以及净化控制部34。净化喷嘴31以及排气喷嘴32设置在保管搁架3的上表面。净化喷嘴31以及排气喷嘴32配置成在将容器F载置于保管搁架3时分别与气体导入口、排气口连接。容器F的气体导入口在将容器F载置于保管搁架3时经由净化喷嘴31而与配管36连接,进一步经由流量控制装置33而与气体源37连接。排气喷嘴32经由配管38而与净化气体G1的排气路径(气体排气39)连接。
气体源37供给净化气体G1。净化气体G1的种类根据收容于容器F的收容物进行选择。例如能够使用相对于收容物的氧化抑制、抑制分子污染等的气体、使容器F内部的水分减少的气体等。例如,在收容物为硅晶片的情况下,作为净化气体G1能够使用氮气等非活性气体。通过朝容器F的内部Fa供给氮气,含氧的环境气体被从容器F的内部朝外部排气(除去),能够抑制(防止)硅晶片氧化。并且,在收容物为掩模的情况下,作为净化气体G1能够使用洁净干燥空气(CDA)等干燥气体。通过朝容器F的内部Fa供给洁净干燥空气,含水分的环境气体被从容器F的内部朝外部排气(除去),能够抑制(防止)水分附着于掩模。气体源37可以是净化储料器1的一部分,也可以是净化储料器1外部的装置,例如可以是设置有净化储料器1的工厂的设备。
在对容器F进行净化时,来自气体源37的净化气体G1经由流量控制装置33以及配管36而从容器F的气体导入口被朝内部Fa供给,填充至容器F的内部Fa。并且,内部Fa的气体从排气口被朝容器F的外部排出,并经由配管38而由气体排气39朝外部排气。另外,气体排气39也可以设置有利用泵等抽吸气体的装置。并且,容器F也可以不具备气体排出口25,在该情况下,净化装置4也可以不具备排气喷嘴32。例如,若容器F的内部Fa的圧力成为阈值以上,则容器F的内部Fa的气体从开口20与盖部22之间的间隙等朝外部泄漏,因此,即便在没有气体排出口25的情况下也能够将容器F的内部Fa的气体朝外部排气。
流量控制装置33控制与容器F连接的配管36(容器F的气体导入口与气体源37之间的流路)中的净化气体G1的流量。流量控制装置33例如是质量流量控制器,在其内部具有供净化气体G1流动的流路。在流量控制装置33内部的流路例如设置有利用了自发热型电阻的流量计、电磁阀等流量控制阀。流量控制装置33基于流量计的测定结果对电磁阀进行反馈控制,使其内部的净化气体G1的流量接近目标值。流量控制装置33通过控制配管36中的净化气体G1的流量来控制从气体源37朝净化喷嘴31供给的净化气体G1的流量。流量控制装置33与净化控制部34以能够通信的方式连接,基于从净化控制部34供给的控制信号而控制净化气体G1的流量。
储料器控制装置6通过朝净化控制部34供给控制指令来控制净化装置4。储料器控制装置6对堆装起重机5进行控制而使作为净化对象的容器F输送至净化装置4,并控制该净化装置4而使其执行针对容器F的净化。在保管搁架3设置有检测载置有容器F这一情况的在位传感器40(在货传感器)。在位传感器40是按钮传感器等接触型传感器,通过被容器F的底面压下而检测在保管搁架3载置有容器F这一情况。在位传感器40与净化控制部34以能够通信的方式连接,并将其检测结果朝净化控制部34供给。
在储料器控制装置6上连接有输入部以及显示部。该输入部例如是操作面板、触摸面板、键盘、鼠标、轨迹球等。输入部检测来自操作者的输入,并将所输入的信息朝储料器控制装置供给。并且,上述的显示部例如是液晶显示器等,显示从储料器控制装置6供给的图像。例如,储料器控制装置6使显示部显示表示净化储料器1的动作状况、各种设定、净化的状态的图像等。
图2是示出实施方式所涉及的净化装置的动作的说明图。图2的(A)示出容器F被朝净化装置4(净化位置)输送的过程的状态,图2的(B)示出容器F与净化装置4连接的过程的状态。如图2的(A)所示,在容器F的底面Fb,有时在气体导入口41或者其周围附着有微粒P。另外,气体导入口41的下端面构成底面Fb的一部分。并且,有时在净化喷嘴31或者其周围附着有微粒P。微粒P例如是在净化喷嘴31与容器F的气体导入口连接时因净化喷嘴31与容器F的气体导入口之间的接触而产生的微粒、或者是在容器F与净化喷嘴31以外的部件(例如输送路径的搁架、处理装置的搁架)接触时附着的微粒等。这样的微粒P有时侵入容器F的内部Fa而污染收容物。因此,本实施方式所涉及的净化装置4进行将附着在容器F的气体导入口或者净化喷嘴31的周围的微粒P除去的清洁(清洁处理)。
在该例子中,将在针对容器F的净化(净化处理)中朝容器F的内部供给净化气体G1(参照图1的(B))的净化喷嘴31也用作清洁用的喷嘴。如图2的(B)所示,在作为净化对象的容器F的底面Fb与净化喷嘴31对置的状态下净化控制部34使净化气体G1从净化喷嘴31吹出。在图2的(B)中,容器F由移载装置13(参照图1的(A))运送至净化位置的正上。在该状态下,关于容器F,通过借助移载装置13下降而被配置在气体导入口41与净化喷嘴31连接的位置,处于气体导入口41与净化喷嘴31对置的位置关系。
净化控制部34例如在移载装置13使容器F从净化喷嘴31的上方下降的期间通过控制流量控制装置33而使净化气体G1从净化喷嘴31吹出。净化气体G1在被从配管36吹出时将附着于配管36的内壁或者净化喷嘴31的内壁的微粒P吹飞,使其漂浮在周围环境中(净化喷嘴31与容器F的底面Fb之间的空间)。并且,所被吹出的净化气体G1到达容器F的底面Fb(气体导入口41以及其周围),将附着于该表面的微粒P吹飞,并使其漂浮在周围环境中。并且,所被吹出的净化气体G1被容器F的底面Fb遮挡而形成涡流等,由此形成从容器F侧朝净化喷嘴31侧返回的气流。该净化气体G1的气流将附着于净化喷嘴31的周围的微粒P吹飞,并使其漂浮在周围环境中。净化气体G1在容器F的底面Fb与净化喷嘴31的上表面以及净化喷嘴31的设置面3a(保管搁架3的上表面)之间的空间中朝侧方流动,将漂浮在周围环境中的微粒P朝侧方运送。
然而,标记GA是容器F的底面Fb与净化喷嘴31的上表面之间的缝隙。净化控制部34控制流量控制装置33,以便按照缝隙GA处于来自净化喷嘴31的净化气体G1到达容器F的底面Fb的等级的状态从净化喷嘴31吹出净化气体G1。并且,净化控制部34控制流量控制装置33,以便按照缝隙GA处于从净化喷嘴31到达底面Fb并折返的净化气体G1到达净化喷嘴31的周围的等级的状态从净化喷嘴31吹出净化气体G1。这样的缝隙GA根据净化气体G1的流速等确定,例如可以为50mm以下、可以为20mm以下、也可以为10mm以下。
如上所述,微粒P在水平方向被搬运至保管搁架3的外侧,被从容器F的底面Fb与净化喷嘴31之间的空间除去。图1的(A)所示的净化储料器1具备使框体2的内部空间2a的环境气体循环的循环系统(未图示),借助该循环系统来形成在内部空间2a从顶部侧朝地面侧流动的气流。被搬运至保管搁架3的外侧的微粒P由该气流朝地面侧搬运,并由上述的循环系统的过滤器捕捉,由此被从框体2的内部空间2a除去。
下面,基于上述的净化储料器1的动作,对实施方式所涉及的清洁方法以及净化方法进行说明。图3是示出实施方式所涉及的净化储料器1的动作的一例的时序图。在净化储料器1中,作为净化对象(保管对象)的容器F由顶部输送装置等搬运至出入库口。储料器控制装置6在步骤S1中指定作为容器F的输送目的地的净化装置4(保管搁架3),并将该输送容器F的指令(输送指令)朝堆装起重机5(在图3等中用“输送装置”表示)发送。输送装置在步骤S2中接收输送指令,在步骤S3中遵照输送指令而开始容器F的输送。
并且,储料器控制装置6对作为容器F的输送目的地的净化装置4的净化控制部34发送表示搬入作为净化对象的容器F的输送信息。净化控制部34在步骤S5中接收输送信息。输送装置在步骤S6中将容器F输送至净化喷嘴31的上方,净化控制部34基于来自储料器控制装置6的输送信息而在步骤S7中使净化气体G1从净化喷嘴31的吹出开始,开始进行清洁。例如,净化控制部34作为接收到输送信息的响应、或者以输送信息的接收作为触发条件,使净化气体G1从净化喷嘴31的吹出开始。这样,实施方式所涉及的清洁方法包含在能够吹出气体(例如净化气体G1)的喷嘴(例如净化喷嘴31)与作为净化对象的容器F的底面Fb对置的状态下使气体从喷嘴吹出的步骤。
输送装置在步骤S8中使载置有容器F的移载装置13的载置台下降,由此使容器F从净化喷嘴31的上方下降。容器F在以气体导入口41与净化喷嘴31对置的方式大致定位的状态下下降,定位用的销插入至底面Fb的凹部,由此与净化装置4(净化喷嘴31)准确地定位。输送装置在步骤S9中将容器F载置于保管搁架3,完成容器F与净化装置4的连接、即容器F的气体导入口41(参照图2的(B))与净化喷嘴31的连接。在输送装置进行步骤S6、S8、S9的处理的期间,净化控制部34继续进行净化气体G1的吹出,如在图2的(B)中说明过的那样,微粒P被除去。若在步骤S9中容器F与净化喷嘴的连接完成,则来自净化喷嘴31的净化气体G1被供给至容器F的内部Fa,清洁结束。
净化控制部34在容器F的气体导入口41与喷嘴连接后(步骤S9后)也使净化气体G1从净化喷嘴31的吹出继续进行(步骤S10),使净化气体G1朝容器F的内部供给。即,净化控制部34接续步骤S7以后的清洁而在步骤S10以后进行针对容器F的净化。这样,实施方式所涉及的净化方法包括对进行了上述的清洁的容器F进行净化。清洁作为净化的前处理(预净化)进行。另外,输送装置在步骤S11中从容器F退避,进行接下来的输送。
图4是示出净化储料器1的动作的其他例子的时序图。在图4的(A)的例子中,净化控制部34根据使容器F从净化喷嘴31的上方下降的移载装置13的动作而使净化气体G1从净化喷嘴的吹出开始。输送装置当在步骤S6中将容器F输送至净化喷嘴的上方后,在步骤S11中将动作信息朝储料器控制装置6发送。动作信息是表示处于输送过程的哪个阶段的信息,输送装置作为动作信息发送接下来通过移载装置13的下降而使容器下降的信息。储料器控制装置6在步骤S12中接收动作信息,在步骤S13中将动作信息朝净化控制部34发送。净化控制部34在步骤S14中接收动作信息,并基于动作信息而在步骤S7中使净化气体G1的吹出开始。例如,净化控制部34作为接收到动作信息这一情况的响应(以动作信息的接收作为触发条件)而使净化气体G1的吹出开始。输送装置在发送动作信息后,在步骤S8中使容器F从净化喷嘴31的上方下降,净化控制部34与容器F的下降并行地使净化气体G1吹出。
另外,储料器控制装置6在步骤S13中也可以代替动作信息而将使净化气体G1的吹出开始的指令朝净化控制部34发送。并且,输送装置发送动作信息的定时并不限于步骤S6之后,输送装置也可以定期地或者每当动作切换时就发送动作信息。储料器控制装置6也可以基于动作信息来判定(掌握)处于输送过程的哪个阶段,并基于该判定结果而朝净化控制部34发送使净化气体G1的吹出开始的指令。并且,输送装置可以将输送信息朝净化控制部34直接发送,也可以根据输送过程的阶段而将使净化气体G1的吹出开始的指令朝净化控制部34发送。
在图4的(A)的例子中,净化控制部34调整使净化气体G1吹出的定时。净化控制部34当在步骤S5中接收到输送信息后,在步骤S15中判定是否已经过了预先设定的预定时间。预定时间基于从输送装置开始输送起至输送过程达到预定阶段为止的时间设定。例如,上述的预定时间设定成从输送开始起至容器F被输送至净化喷嘴31的上方为止的时间。净化控制部34当判定为尚未经过预定时间的情况下(步骤S15:否),反复进行步骤S15的处理。净化控制部34当判定为已经过预定时间的情况下(步骤S15:是),在步骤S7中使净化气体G1的吹出开始。这样,净化控制部34通过步骤S15的处理而产生延迟,由此,与输送装置同步地开始净化气体G1的吹出。例如,净化控制部34与输送装置使容器F从净化喷嘴31的上方下降的动作同步地使净化气体G1的吹出开始。
图5是示出开始净化气体G1的吹出的定时的例子的图。在图5中,标记t0是容器F的输送开始的时刻,标记t1是容器F到达净化喷嘴31的上方的时刻,标记t2是输送装置开始使容器F从净化喷嘴31的上方下降的时刻,标记t3是净化喷嘴31与容器F的气体导入口41的连接完成的时刻。在图5中,将设定为不吹出净化气体G1的状态用关闭(OFF)表示,将设定为吹出净化气体G1的状态用开启(ON)表示。并且,在图5中,无视通信的延迟、流量控制装置33的响应性等,示意性地示出净化气体G1的吹出的设定。
在图5的(A)中,在与容器F的输送开始的时刻t0大致相同的时刻,净化气体G1的吹出从关闭切换为开启,直至净化喷嘴31与气体导入口41的连接完成的时刻t3以后为止,净化气体G1的吹出都维持开启状态。在图5的(B)中,在容器F的输送开始的时刻t0与容器F到达净化喷嘴31的上方的时刻t1之间的时刻,净化气体G1的吹出从关闭切换为开启。净化气体G1的吹出从关闭切换为开启的时刻例如设定成相对于时刻t1带有空余地而相比时刻t1稍稍靠前的时刻,以便在时刻t1成为吹出净化气体G1的状态。在图5的(C)中,在与时刻t1大致相同的时刻,净化气体G1的吹出从关闭切换为开启。在图5的(D)中,在时刻t1与输送装置开始使容器F从净化喷嘴31的上方下降的时刻t2之间的时刻,净化气体G1的吹出从关闭切换为开启。在图5的(E)中,在与时刻t2大致相同的时刻,净化气体G1的吹出从关闭切换为开启。在图5的(F)中,在时刻t2与净化喷嘴31同气体导入口41的连接完成的时刻t3之间的时刻,净化气体G1的吹出从关闭切换为开启。
如图5所示,开始净化气体G1的吹出的定时可以设定成相比净化喷嘴31与容器F的气体导入口41的连接完成靠前的期间中的任一时刻。其中,越是使开始净化气体G1的吹出的定时延迟,则越能够抑制清洁所需要的净化气体的消耗量。并且,容器F的底面Fb与净化喷嘴31之间的缝隙GA越窄,则底面Fb或者净化喷嘴31的周围的气流越强,因此能够将微粒P高效地除去。即,若使开始净化气体G1的吹出的定时延迟,则在缝隙GA窄的状态下选择性地进行清洁,能够兼顾与净化气体G1的消耗量之间的平衡而高效地进行除去。
图6是示出净化气体G1的流量的例子的图。在图6中,“L”表示将净化气体G1的流量缩小至最小时的流量(例如0),“M”表示净化用的流量,“H”是比“M”大的流量(例如流量控制装置33所容许的最大流量)。在图6中,示意性地示出流量阶段性地变化的情况。净化控制部34通过控制流量控制装置33而使净化气体G1的流量变化。在图6中,t10是净化气体G1的吹出被设定为开启的时刻,时刻t3是与图5同样净化喷嘴31与气体导入口41的连接完成的时刻。
在图6的(A)中,在时刻t10流量从L变化为M,且直至时刻t3以后为止流量都维持为M。若使用这样的净化气体G1的供给图案(流量的时间履历),则能够使流量的控制变得简单。在图6的(B)中,在时刻t10流量从L变化为H,在时刻t3流量从H变化为M,在时刻t3以后流量维持为M。从时刻t10至时刻t3为止的期间相当于利用净化气体G1进行清洁的期间,通过使该期间的流量相比净化用的流量(“M”)增加,能够将微粒P有效地除去。在图6的(C)中,直至时刻t3为止的图案都与图6的(B)同样,但在时刻t3流量从H变化为L,在时刻t11流量从L变化为M。即,在图6的(C)中,在净化喷嘴31与气体导入口41的连接完成的时间点、或者该时间点紧前使净化气体G1的吹出暂时停止,且从时刻t11开始进行净化。这样,也可以在进行清洁的期间与进行净化的期间之间存在休止期间(例如从时刻t3至时刻t11的期间)。并且,在图6的(B)中,也可以使流量在相比t3靠前的时间点连续地或者阶段性地变化,以便在时刻t3紧前流量变为M。并且,在进行清洁的期间流量也可以变化,例如可以间歇性地吹出净化气体G1。
接下来对变形例进行说明。图7是示出变形例所涉及的净化装置4B的图。该净化装置4B具备检测在上方配置有容器F这一情况的传感器45。传感器45例如是光学传感器。传感器45如图7的(A)所示朝上方照射检测光L1,在如图7的(B)所示在上方配置有容器F的状态下,检测由容器F的底面Fb反射、散射后的返回光L2。传感器45与净化控制部34以能够通信的方式连接,将其检测结果朝净化控制部34供给。净化控制部34基于传感器45的检测结果控制流量控制装置33,使净化气体G1从净化喷嘴31吹出。这样,通过使用传感器45的检测结果,即便不使用在图3、图4中说明过的输送信息或者动作信息也能够确定开始净化气体G1的吹出的定时。并且,也可以一并利用传感器45的检测结果和输送信息以及动作信息中的至少一方来确定开始净化气体G1的吹出的定时。另外,传感器45也可以是像激光测距仪那样能够测定至容器F的底面Fb为止的距离的传感器。若使用这样的传感器45的测定结果则能够求出缝隙GA的值,也能够根据缝隙GA的値来控制净化气体G1的吹出。
在上述的实施方式中,净化控制部34例如包含计算机系统。净化控制部34读取存储于存储装置(未图示)的控制程序,并根据该控制程序执行各种处理。该控制程序例如使计算机执行如下的控制:在能够吹出气体的喷嘴与作为净化对象的容器F的底面Fb对置的状态下,使气体从喷嘴吹出。该控制程序也可以记录于计算机可读取的存储介质而加以提供。
另外,在上述的实施方式中,作为在作为净化对象的容器F的底面Fb与喷嘴对置的状态下朝容器F吹出气体的喷嘴,使用净化喷嘴31,但该喷嘴也可以相对于净化喷嘴31分开设置,例如可以是清洁专用的喷嘴。在该情况下,从喷嘴吹出的气体可以是与净化气体G1相同组分的气体,也可以是与净化气体G1不同组分的气体(例如环境气体、空气)。另外,在上述的实施方式中,在将容器F的气体导入口41连接于净化喷嘴31时吹出净化气体G1,但也可以在将容器F(气体导入口41)从净化装置4(净化喷嘴31)卸下时,在容器F的底面Fb与净化喷嘴31对置的状态下,从净化喷嘴31吹出净化气体G1。在该情况下也能够从容器F的底面Fb、净化喷嘴31的周围将微粒P除去。
另外,也可以形成为,在净化喷嘴31与容器F的底面Fb对置、从净化喷嘴31吹出净化气体G1的状态下,堆装起重机5(输送装置)使容器F在水平方向与铅垂方向中的至少一方移动(振动)。例如,堆装起重机5也可以使容器F移动,以便利用来自净化喷嘴31的净化气体G1清扫容器F的底面Fb。
另外,在图1中,净化装置4设置于净化储料器1的保管搁架3,但也可以设置于净化储料器1的其他部分(例如出入库口)。并且,在图1中,净化装置4装配于净化储料器1,但也可以装配于不同于净化储料器1的装置。例如,净化装置4也可以装配于顶棚输送装置的临时放置场所(例如顶部缓存区、OHB;侧方轨道存储区、STS;下部轨道存储区、UTS)、使用容器F的收容物的处理装置的临时放置场所(工具暂存区)、变更容器F的收容物的顺序的变换器等的任一个。并且,在法规所允许的范围内,在本申请中援引日本专利申请即特愿2015-158043、以及上述的实施方式等中引用的所有的文献的内容而作为本申请的记载的一部分。
标记说明
1:净化储料器
3:保管搁架
4、4B:净化装置
5:堆装起重机(输送装置)
F:容器
P:微粒
13:移载装置
31:净化喷嘴
34:净化控制部
36:配管
41:气体导入口
G1:净化气体

Claims (10)

1.一种净化装置,具备:
喷嘴,能够吹出气体;以及
净化控制部,在作为净化对象的容器的底面与上述喷嘴对置的状态下,使上述气体从上述喷嘴吹出。
2.根据权利要求1所述的净化装置,其中,
上述喷嘴是与设置于上述容器的底面的气体导入口连接、并经由上述气体导入口朝上述容器的内部供给净化气体的净化喷嘴,作为上述气体吹出上述净化气体。
3.根据权利要求2所述的净化装置,其中,
上述净化控制部基于上述容器朝净化位置的输送信息而使上述净化气体从上述净化喷嘴的吹出开始。
4.根据权利要求2或3所述的净化装置,其中,
在上述容器的输送开始后、上述气体导入口与上述净化喷嘴连接前,上述净化控制部使上述净化气体从上述净化喷嘴的吹出开始。
5.根据权利要求2~4中任一项所述的净化装置,其中,
上述净化控制部在上述容器的底面与上述净化喷嘴对置的状态下使上述净化气体从上述净化喷嘴的吹出开始。
6.根据权利要求5所述的净化装置,其中,
上述净化控制部根据使上述容器从上述净化喷嘴的上方下降的移载装置的动作而使上述净化气体从上述净化喷嘴的吹出开始。
7.根据权利要求2~6中任一项所述的净化装置,其中,
上述净化控制部在上述容器的气体导入口与上述净化喷嘴连接后也使上述净化气体从上述净化喷嘴的吹出继续进行,使上述净化气体朝上述容器的内部供给。
8.根据权利要求7所述的净化装置,其中,
上述净化控制部在上述容器的气体导入口与上述净化喷嘴连接前后使上述净化气体的流量变化。
9.一种净化储料器,具备:
权利要求1~8中任一项所述的净化装置;以及
保持由上述净化装置净化后的上述容器的搁架。
10.一种清洁方法,包括:
在能够吹出气体的喷嘴与作为净化对象的容器的底面对置的状态下,使上述气体从上述喷嘴吹出。
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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2025176042A1 (zh) * 2024-02-21 2025-08-28 北京七星华创集成电路装备有限公司 片盒气体输送装置及半导体工艺设备

Families Citing this family (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP3343596B1 (en) * 2015-08-25 2022-01-12 Murata Machinery, Ltd. Purge device, purge stocker, and purge method
JP2018536984A (ja) * 2015-10-05 2018-12-13 ブルックス シーシーエス ゲーエムベーハーBrooks CCS GmbH 半導体システムにおける湿度制御
CN111052338B (zh) * 2017-09-08 2023-06-30 村田机械株式会社 保管系统及保管系统中的净化方法
KR102413791B1 (ko) * 2017-10-30 2022-06-28 삼성전자주식회사 기판 캐리어
KR102387245B1 (ko) * 2018-12-03 2022-04-19 주식회사 원익아이피에스 가스 공급 블록 및 가스 공급 블록을 포함하는 기판 처리 장치
US20240390954A1 (en) * 2021-10-01 2024-11-28 Murata Machinery, Ltd. Purge device
CN114366839B (zh) * 2022-03-03 2023-06-02 昆明学院 一种生防菌接种用消毒灭菌装置
CN115193853B (zh) * 2022-07-28 2023-09-05 广东韶钢松山股份有限公司 一种料仓清理装置及方法
TW202534847A (zh) * 2023-10-25 2025-09-01 德商布魯克斯自動化(德國)有限公司 用於半導體製造物件之存放器及用於操作存放器之方法

Citations (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN101618387A (zh) * 2008-07-03 2010-01-06 村田机械株式会社 吹净装置
CN101730933A (zh) * 2007-07-09 2010-06-09 近藤工业株式会社 向半导体晶片收纳容器内填充干燥空气或氮气的填充装置以及使用了该装置的晶片除静电装置
JP2010182747A (ja) * 2009-02-03 2010-08-19 Dan Takuma:Kk 保管システムおよび保管方法
CN103193052A (zh) * 2012-01-04 2013-07-10 株式会社大福 物品保管设备及物品保管方法
US20140000757A1 (en) * 2011-12-22 2014-01-02 Daifuku Co., Ltd. Inactive Gas Introducing Facility and Inactive Gas Introducing Method
US20150003941A1 (en) * 2013-06-26 2015-01-01 Daifuku Co., Ltd. Storage System and Storage Method
US20150117986A1 (en) * 2013-10-30 2015-04-30 Taiwan Semiconductor Manufacturing Co., Ltd Mechanisms for chraging gas into cassette pod

Family Cites Families (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP5557061B2 (ja) 2012-01-04 2014-07-23 株式会社ダイフク 物品保管設備

Patent Citations (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN101730933A (zh) * 2007-07-09 2010-06-09 近藤工业株式会社 向半导体晶片收纳容器内填充干燥空气或氮气的填充装置以及使用了该装置的晶片除静电装置
CN101618387A (zh) * 2008-07-03 2010-01-06 村田机械株式会社 吹净装置
US20100000625A1 (en) * 2008-07-03 2010-01-07 Fumiki Goto Purge apparatus
JP2010182747A (ja) * 2009-02-03 2010-08-19 Dan Takuma:Kk 保管システムおよび保管方法
US20140000757A1 (en) * 2011-12-22 2014-01-02 Daifuku Co., Ltd. Inactive Gas Introducing Facility and Inactive Gas Introducing Method
CN103193052A (zh) * 2012-01-04 2013-07-10 株式会社大福 物品保管设备及物品保管方法
JP2013139319A (ja) * 2012-01-04 2013-07-18 Daifuku Co Ltd 物品保管設備
US20150003941A1 (en) * 2013-06-26 2015-01-01 Daifuku Co., Ltd. Storage System and Storage Method
US20150117986A1 (en) * 2013-10-30 2015-04-30 Taiwan Semiconductor Manufacturing Co., Ltd Mechanisms for chraging gas into cassette pod

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2025176042A1 (zh) * 2024-02-21 2025-08-28 北京七星华创集成电路装备有限公司 片盒气体输送装置及半导体工艺设备

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