具体实施方式
下面结合具体实施方式对本发明提供的电路板及电路板制作方法作进一步说明。
本发明具体实施方式提供的的电路板的制作方法包括以下步骤。
第一步,请参阅图1,提供铜箔10。
本实施方式中,所述铜箔10呈片状。所述铜箔10可通过对卷状铜箔原材料依据具体需求进行裁切而成。
第二步,请参阅图2,将上侧感光树脂20形成在所述铜箔10的一表面上。
第三步,请参阅图3,在所述上侧感光树脂20内开设上侧沟槽21。
本实施方式中,在所述上侧感光树脂20开设两条上侧沟槽21。本实施方式中,所述上侧沟槽21均自所述上侧感光树脂20背离所述铜箔10的表面向所述上侧感光树脂20内开设。所述两条上侧沟槽21延伸方向一致(均垂直于图面向里),且相互平行。每条所述上侧沟槽21均贯穿所述上侧感光树脂20。部分所述铜箔10从每条所述上侧沟槽21露出。本实施方式中,所述上侧沟槽21垂直于其延伸方向的截面呈倒梯形。所述上侧沟槽21的槽宽自所述上侧感光树脂20背离所述铜箔10的表面向所述铜箔10逐渐减小。所述上侧沟槽21可通过曝光显影形成。
第四步,请参阅图4,将所述铜箔10制作形成导电图形30。
本实施方式中,所述导电图形30包括一条信号线31、两条接地线32及多条导线33。所述信号线31位于所述两条接地线32之间。所述两条接地线32将所述多条导线33与所述信号线31间隔。所述导电图形30的间隙露出部分所述上侧感光树脂20。
本实施方式中,所述信号线31及所述接地线32的延伸方向与所述上侧沟槽21的延伸方向一致。每条所述接地线32均与一条所述上侧沟槽21对应。本实施方式中,所述信号线31与所述接地线32相互平行。所述信号线31分别与每条所述接地线32间隔相同距离。
本实施方式中,所述导电图形30可通过蚀刻形成。
第五步,请参阅图5,在所述导电图形30上压合下侧感光树脂40。
所述下侧感光树脂40包覆所述导电图形30。所述下侧感光树脂40填满所述导电图形30的间隙,并与所述上侧感光树脂20粘结形成介电层41。所述导电图形30位于所述介电层41厚度方向的中心线上。所述导电图形30在其厚度方向关于所述介电层41厚度方向的中心线对称。
第六步,请参阅图6,在所述下侧感光树脂40内开设下侧沟槽42。
本实施方式中,在所述下侧感光树脂40开设两条下侧沟槽42。所述下侧沟槽42的开设方向与所述上侧沟槽21的开设方向相反。本实施方式中,所述下侧沟槽42自所述下侧感光树脂40背离所述导电图形30的表面向所述下侧感光树脂40内开设。每条所述下侧沟槽42均贯穿所述下侧感光树脂40。所述两条下侧沟槽42的延伸方向与所述两条接地线32的延伸方向一致。每条所述下侧沟槽42对应一条接地线32。每条所述接地线32从对应的下侧沟槽42露出。每条所述下侧沟槽42还对应一条所述上侧沟槽21。每条所述下侧沟槽42与其对应的上侧沟槽21之间的偏位公差小于或等于75微米。本实施方式中,所述下侧沟槽42垂直于其延伸方向的截面呈梯形。所述下侧沟槽42的槽宽自所述下侧感光树脂40背离所述导电图形30的表面向所述导电图形30逐渐减小。所述下侧沟槽42的槽宽减小方向与所述上侧沟槽21的槽宽减小方向相反。所述下侧沟槽42可通过曝光显影形成。
第七步,请参阅图7,在所述上侧沟槽21填入上侧导电材料51及在所述下侧沟槽42内填入下侧导电材料52;并在所述上侧感光树脂20上形成上侧屏蔽层61,及在所述下侧感光树脂40上形成下侧屏蔽层62。
所述上侧导电材料51填满所述上侧沟槽21。所述上侧屏蔽层61覆盖所述上侧感光树脂20。所述上侧屏蔽层61与所述上侧导电材料51电导通。本实施方式中,所述上侧导电材料51与所述上侧屏蔽层61同时形成。本实施方式中,所述上侧导电材料51包括晶种层511及电镀层512。所述晶种层511形成在所述上侧沟槽21的表面。所述电镀层512形成在所述晶种层511的表面,并填满所述上侧沟槽21。所述上侧屏蔽层61包括晶种层611及电镀层612。所述晶种层611形成在所述上侧感光树脂20表面。所述电镀层612形成在所述晶种层611的表面。本实施方式中,所述晶种层511,611同时形成且为一体结构。所述电镀层512,612同时形成且为一体结构。
所述下侧导电材料52填满所述下侧沟槽42。所述下侧屏蔽层62覆盖所述下侧感光树脂40。所述下侧屏蔽层62与所述下侧导电材料52电导通。本实施方式中,所述下侧导电材料52与所述下侧屏蔽层62同时形成。本实施方式中,所述下侧导电材料52包括晶种层521及电镀层522。所述晶种层521形成在所述下侧沟槽42的表面。所述电镀层522形成在所述晶种层521的表面并填满所述下侧沟槽42。所述下侧屏蔽层62包括晶种层621及电镀层622。所述晶种层621形成在所述下侧感光树脂40的表面。所述电镀层622形成在所述晶种层621的表面。本实施方式中,所述晶种层521,621同时形成且为一体结构。所述电镀层522,622同时形成且为一体结构。
本实施方式中,所述上侧屏蔽层61及下侧屏蔽层62的厚度相同。
所述下侧屏蔽层62、所述下侧导电材料52、所述接地线32、所述上侧导电材料51及所述上侧屏蔽层61围成一个闭合的屏蔽套筒70。所述信号线31位于所述屏蔽套筒70内,以避免所述导线33与所述信号线31之间的电磁干扰,同时将信号传输电磁场集中在屏蔽套筒内,从而提高信号传输速度。本实施方式中,所述信号线31位于所述屏蔽套筒70的中心轴上,以进一步提升电磁屏蔽效果及提高信号传输速度。
本实施方式中,所述上侧导电材料51,上侧屏蔽层61,下侧导电材料52及下侧屏蔽层62可通过如下方式形成。
首先,在所述上侧沟槽21表面形成晶种层511。在所述上侧感光树脂20表面形成晶种层611。在所述下侧沟槽42表面形成晶种层521。在所述下侧感光树脂40表面形成晶种层621。所述晶种层511,611,521,及621可通过化学镀、蒸镀、溅镀等无电解电镀方式形成。
接着,在所述晶种层511表面电镀形成电镀层512。所述电镀层512填满所述上侧沟槽21。在所述晶种层611表面电镀形成电镀层612。在所述晶种层521表面电镀形成电镀层522。所述电镀层522填满所述下侧沟槽42。在所述晶种层621表面电镀形成电镀层622。
其他实施方式中,所述上侧导电材料51及上侧屏蔽层61,所述下侧屏蔽层62及下侧屏蔽层62可不同时形成。此时,首先,在所述上侧沟槽21及下侧沟槽42中分别填入导电材料51,52;接着,分别在上侧感光树脂20表面及上侧沟槽21中的导电材料表面,下侧感光树脂40表面及下侧沟槽42中的导电材料表面形成晶种层;最后,在所述晶种层表面形成电镀层,以形成上侧屏蔽层61及下侧屏蔽层62
第八步,请参阅图8,在所述上侧屏蔽层61表面形成上侧保护层81;及在所述下侧屏蔽层62表面形成下侧保护层82。
所述上侧保护层81覆盖所述上侧屏蔽层61。所述下侧屏蔽层62覆盖所述下侧屏蔽层62。本实施方式中,所述上侧保护层81的厚度与所述下侧保护层82的厚度相同。
可以理解的是,其他实施方式中,也可不形成所述上侧保护层81及下侧保护层82。
本发明具体实施方式还提供一种电路板100。所述电路板100可通过上述电路板制作方法制得。
请再次参阅图8,所述电路板100包括导电图形30、上侧感光树脂20、上侧导电材料51、上侧屏蔽层61、上侧保护层81、下侧感光树脂40、下侧导电材料52、下侧屏蔽层62及下侧保护层82。
所述导电图形30位于所述电路板100厚度方向的中部。本实施方式中,所述导电图形30包括一条信号线31、两条接地线32及多条导线33。所述信号线31位于所述两条接地线32之间。所述导线33相对所述信号线31位于所述两条接地线32之外。本实施方式中,所述信号线31及所述接地线32的延伸方向一致(均垂直于图面向里)。所述信号线31与所述接地线32相互平行。所述信号线31分别与每条所述接地线32间隔相同距离。
所述上侧感光树脂20形成在所述下侧感光树脂40上。所述上侧感光树脂20覆盖所述导电图形30。所述上侧感光树脂20内开设有上侧沟槽21。本实施方式中,所述上侧感光树脂20开设有两条上侧沟槽21。所述两条上侧沟槽21延伸方向与所述接地线32的延伸方向一致。每条所述上侧沟槽21均对应一条所述接地线32。每条所述上侧沟槽21均贯穿所述上侧感光树脂20,其对应的接地线32从所述上侧沟槽21露出。本实施方式中,所述上侧沟槽21垂直于其延伸方向的截面呈倒梯形。所述上侧沟槽21的槽宽自所述上侧感光树脂20背离所述导电图形30的表面向所述导电图形30逐渐减小。
所述上侧导电材料51填满所述上侧沟槽21。本实施方式中,所述上侧导电材料51包括晶种层511及电镀层512。所述晶种层511形成在所述上侧沟槽21的表面。所述电镀层512形成在所述晶种层511的表面,并填满所述上侧沟槽21。
所述上侧屏蔽层61覆盖所述上侧感光树脂20,并与所述上侧导电材料51电连接。所述上侧屏蔽层61包括晶种层611及电镀层612。所述晶种层611形成在所述上侧感光树脂20表面。所述电镀层612形成在所述晶种层611的表面。本实施方式中,所述晶种层611,511为一体结构。所述电镀层612,512为一体结构。
所述上侧保护层81覆盖所述上侧屏蔽层61。
所述下侧感光树脂40覆盖所述导电图形30,填满所述导电图形30的间隙,并与所述上侧感光树脂20粘结形成介电层41。所述导电图形30位于所述介电层41厚度方向的中心线上。所述导电图形30在其厚度方向关于所述介电层41厚度方向的中心线对称。所述下侧感光树脂40对应所述接地线32开设有下侧沟槽42。本实施方式中,所述下侧感光树脂40开设有两条下侧沟槽42。每条所述下侧沟槽42均贯穿所述下侧感光树脂40。所述两条下侧沟槽42的延伸方向与所述两条接地线32的延伸方向一致。每条所述下侧沟槽42对应一条接地线32。每条所述下侧沟槽42露出其对应的接地线32。每条所述下侧沟槽42还对应一条所述上侧沟槽21。每条所述下侧沟槽42与其对应的上侧沟槽21之间的偏位公差小于或等于75微米。本实施方式中,所述下侧沟槽42垂直于其延伸方向的截面呈梯形。所述下侧沟槽42的槽宽自所述下侧感光树脂40背离所述导电图形30的表面向所述导电图形30逐渐减小。所述下侧沟槽42的槽宽减小方向与所述上侧沟槽21的槽宽减小方向相反。
所述下侧导电材料52填满所述下侧沟槽42。本实施方式中,所述下侧导电材料52包括晶种层521及电镀层522。所述晶种层521形成在所述下侧沟槽42的表面。所述电镀层522形成在所述晶种层521的表面并填满所述下侧沟槽42。
所述下侧屏蔽层62覆盖所述下侧感光树脂40,并与所述下侧导电材料52电导通。本实施方式中,所述下侧屏蔽层62包括晶种层621及电镀层622。所述晶种层621形成在所述下侧感光树脂40的表面。所述电镀层622形成在所述晶种层621的表面。本实施方式中,所述晶种层521,621为一体结构。所述电镀层522,622为一体结构。所述下侧屏蔽层62的厚度与所述上侧屏蔽层61的厚度相同。
所述下侧保护层82覆盖所述下侧屏蔽层62。所述下侧保护层82的厚度与所述上侧保护层81的厚度相同。
所述下侧屏蔽层62、所述下侧导电材料52、所述接地线32、所述上侧导电材料51及所述上侧屏蔽层61围成一个闭合的屏蔽套筒70。所述信号线31位于所述屏蔽套筒70内,以避免所述导线33与所述信号线31之间的电磁干扰,同时将信号传输电磁场集中在屏蔽套筒内,从而提高信号传输速度。本实施方式中,所述信号线31位于所述屏蔽套筒70的中心轴上,以进一步提升电磁屏蔽效果及提高信号传输速度。
可以理解的是,其他实施方式中,所述电路板100也可不包括上侧保护层81及下侧保护层82。
相较于现有技术,本发明提供的电路板及电路板制作方法,由于所述下侧屏蔽层、所述下侧导电材料、所述接地线、所述上侧导电材料及所述上侧屏蔽层围成一个闭合的屏蔽套筒,且所述信号线位于所述屏蔽套筒内,可以导电图形的其他导线与所述信号线之间的电磁干扰,以及将信号传输电磁场集中在屏蔽套筒内,从而提高信号传输速度。
可以理解的是,对于本领域的普通技术人员来说,可以根据本发明的技术构思做出其它各种相应的改变与变形,而所有这些改变与变形都应属于本发明权利要求的保护范围。