CN106356351A

CN106356351A - 基板结构及其制作方法

Info

Publication number: CN106356351A
Application number: CN201510413983.6A
Authority: CN
Inventors: 许诗滨; 许哲玮; 刘晋铭; 杨智贵
Original assignee: Phoenix Pioneer Technology Co Ltd
Current assignee: Phoenix Pioneer Technology Co Ltd
Priority date: 2015-07-15
Filing date: 2015-07-15
Publication date: 2017-01-25
Anticipated expiration: 2035-07-15
Also published as: CN106356351B; US20170019995A1; US9805996B2

Abstract

一种基板结构及其制作方法。基板结构包括一介电材料层、至少一导线层、一金属核心层以及至少一导电柱层。导线层设置于介电材料层的一表面。金属核心层嵌设于介电材料层内，其具有至少一金属块。导电柱层嵌设于介电材料层内并设置于金属核心层以及导线层之间。金属块具有一第一端以及相对于第一端的一第二端。第一端以及第二端其中之一与导电柱层电性连接，且第一端的一宽度与第二端的一宽度不同。

Description

基板结构及其制作方法

技术领域

本发明涉及一种基板结构及其制作方法。更详细地说，本发明涉及一种半导体基板结构及其制作方法。

背景技术

在新一代的电子产品中，用户不但追求更轻薄短小，更要求其具有多功能以及高性能。因此，电子产品制造商必须在集成电路（integrated circuit；IC）有限的区域中，容纳更多电子组件以达成高密度与微型化的要求。据此，电子产品制造商开发了新型封装技术，将电子组件埋入基板中，进而大幅缩小集成电路的封装体积，也缩短电子组件与基板的连接路径。此外，电子产品制造商使用增层技术（build-up）增加布线面积，以符合电子产品的轻薄短小与多功能的趋势。

在高阶技术的需求下，大部分高阶芯片采用覆晶封装（flip chip；FC）制作而成。进一步来说，一种称为芯片尺寸封装（chip scale package；CSP）的方式更是目前主要应用于需要高频／高速运作与轻薄短小的主流产品（例如，智能型移动电话、平板计算机、笔记本电脑或微型数字相机等产品）的封装技术。而对于封装用的基板来说，则朝向细密线路间距、高密度、薄型化、低成本化以及高电气特性发展。

一般使用玻璃纤维作为需大幅薄型化的基板结构中，玻璃纤维的成本过高，其刚性与散热性不如金属材料而使得含有玻璃纤维的基板容易产生翘曲变形，且含有玻璃纤维的基板的雷射钻孔难度也随之增加，进而造成雷射钻孔的孔型不佳而无法满足细密线路的布线要求。同时，反复使用雷射钻孔技术来形成雷射盲孔的叠层结构的加工时间长且制程复杂，因而使得含有玻璃纤维的基板结构不具产业优势。

因此，电子产品制造商在基板结构中使用金属材料来作为基板，以改善前述使用玻璃纤维作为基板的基板结构的缺陷。然而，由于金属材料的导电性因素，在使用金属材料的基板的叠层结构中，需要考虑各层间的通孔的绝缘设计，因而会增加制程的复杂程度。此外，使用金属材料的基板需在同一层结构中同时使用雷射钻孔技术来形成雷射盲孔并使用机械钻孔技术来形成通孔，如此一来将因对位误差所产生的偏移而无法满足细密线路的布线要求。

有鉴于此，如何提供一种具有刚性与散热性且满足细密线路间距、高密度、薄型化、低成本化以及高电气特性的基板结构，乃是业界亟待解决的问题。

发明内容

为提供一种具有刚性与散热性且满足细密线路间距、高密度、薄型化、低成本化以及高电气特性的基板结构，本发明提出如下技术方案：

本发明的一目的在于提供一种基板结构。该基板结构包括一介电材料层、一第一导线层、一第二导线层、一金属核心层、一第一导电柱层以及一第二导电柱层。该第一导线层以及该第二导线层分别设置于该介电材料层的一第一表面以及一第二表面。该金属核心层嵌设于该介电材料层内，其具有至少一金属块。该第一导电柱层嵌设于该介电材料层内并设置于该金属核心层以及该第一导线层之间，其具有至少一导电柱。该第二导电柱层嵌设于该介电材料层内并设置于该金属核心层以及该第二导线层之间，其具有至少一导电柱。该至少一金属块具有一第一端以及相对于该第一端的一第二端。该第一端以及该第二端分别与该第一导电柱层的至少一导电柱以及该第二导电柱层的至少一导电柱电性连接，且该第一端的一宽度与该第二端的一宽度不同。

其中，还包括一内接组件，嵌设于该介电材料层内，具有一导电极层，其中，该导电极层与该第一导电柱层以及该第二导电柱层其中之一电性连接。

其中，该第二端的宽度大于该第一端的宽度。

其中，该介电材料层为一铸模化合物（Molding Compound）层，该铸模化合物层具有酚醛基树脂（Novolac-based Resin）、环氧基树脂（Epoxy-based Resin）以及硅基树脂（Silicone-based Resin）其中之一。

本发明的另一目的在于提供一种基板结构的制作方法。该制作方法包括下列步骤：提供一金属板；蚀刻该金属板以形成一金属核心层，其中，该金属核心层具有多个金属块以及至少一耦接块，各金属块分别具有一第一端以及相对于该第一端的一第二端，且各金属块通过该至少一耦接块部份耦接；于该至少一耦接块以及各金属块上形成一介电材料层；蚀刻该金属核心层以移除该至少一耦接块，并使该第一端的一宽度与该第二端的一宽度不同；于各金属块上形成该介电材料层，使该介电材料层包覆该金属核心层；露出各金属块其中的一的第一端以及第二端；于各金属块其中之一的第一端上形成一第一导电柱层；于各金属块其中之一的第二端上形成一第二导电柱层；于该介电材料层的一第一表面上形成一第一导线层；以及于该介电材料层的一第二表面上形成一第二导线层。

其中，形成一介电材料层的步骤还包括下列步骤：

提供一铸模化合物；

加热该铸模化合物至一液体状态；

将呈现该液体状态的铸模化合物注入各金属块的第一端以及第二端，使呈现该液体状态的铸模化合物包覆该金属核心层；以及

固化呈现该液体状态的铸模化合物以形成一铸模化合物层。

其中，该金属板由铝、铜、不锈钢及其组合其中之一制成。

其中，该第二端的宽度大于该第一端的宽度。

本发明的又一目的在于提供一种基板结构。该基板结构包括一介电材料层、至少一导线层、一金属核心层以及至少一导电柱层。该至少一导线层设置于该介电材料层的一表面。该金属核心层嵌设于该介电材料层内，其具有至少一金属块。该导电柱层嵌设于该介电材料层内并设置于该金属核心层以及该至少一导线层之间。该至少一金属块具有一第一端以及相对于该第一端的一第二端。该第一端以及该第二端其中之一与接该至少一导电柱层电性连，且该第一端的一宽度与该第二端的一宽度不同。

其中，还包括一内接组件，嵌设于该介电材料层内，具有一导电极层，其中，该导电极层与该至少一导电柱层电性连接。

综上所述，本发明的基板结构及其制作方法利用金属材料的基板来取代含有玻璃纤维的基板，同时，以较简易的制作流程形成金属核心层、导电柱层与导线层，并取代传统的使用雷射钻孔技术来形成雷射盲孔并使用机械钻孔技术来形成通孔的流程。据此，本发明的基板结构及其制作方法可达成细密线路的布线要求，以缩小基板尺寸，同时增加电性与信号稳定性，以满足高电气特性，并兼具刚性与散热性。如此一来，将可缩短基板结构的加工时间并大幅降低制作成本。

在参阅附图及随后描述的实施方式后，所属技术领域人员便可了解本发明的其它目的、优点以及本发明的技术手段及实施方式。

附图说明

图1：本发明的第一实施例的基板结构的示意图。

图2：本发明的第二实施例的基板结构的示意图。

图3：本发明的第三实施例的基板结构的制作方法的流程图。

图4A至图4I：本发明的第三实施例的基板结构的制作示意图。

图5：形成介电材料层的流程图。

图6：本发明的第四实施例的基板结构的制作方法的流程图。

图7A至图7D：本发明的第四实施例的基板结构的制作示意图。

附图标记说明

10、20 基板结构

101 介电材料层

1011 第一表面

1013 第二表面

103 第一导线层

105 第二导线层

107A、107B、107C、107D 金属块

109 内接组件

1091 导电极层

111 第一导电柱层

113 第二导电柱层

201 第三导电柱层

203 第四导电柱层

205A、205B 环氧铸模化合物层

401 金属板

403A、403B 耦接块。

具体实施方式

以下将通过实施例来解释本发明内容，本发明的实施例并非用以限制本发明须在如实施例所述的任何特定的环境、应用或特殊方式方能实施。因此，关于实施例的说明仅为阐释本发明，而非用以限制本发明。需要说明的是，以下实施例及附图中，与本发明非直接相关的组件已省略而未绘示；且附图中各组件间的尺寸关系仅为容易了解，并非用以限制实际比例。

本发明的第一实施例如图1所示，为一基板结构10的示意图。基板结构10包括一介电材料层101、一第一导线层103、一第二导线层105、一金属核心层、一第一导电柱层111、一第二导电柱层113以及一内接组件109。介电材料层101具有一第一表面1011以及一第二表面1013。金属核心层具有多个金属块107A、107B、107C、107D。第一导电柱层111以及第二导电柱层113分别具有多个导电柱。内接组件109还包括一导电极层1091。

介电材料层101为一铸模化合物（Molding Compound）层，其具有酚醛基树脂（Novolac-based Resin）、环氧基树脂（Epoxy-based Resin）、硅基树脂（Silicone-based Resin）或其它适当的铸模化合物，但不以此为限。此外，在本实施例中，金属核心层具有四个金属块107A、107B、107C、107D。然而，在其它实施例中，根据基板结构10的不同用途与类型，金属核心层可具有任意数目的金属块，并不以本实施例所述的四个金属块107A、107B、107C、107D为限。类似地，在本实施例中，第一导电柱层111具有六个导电柱；第二导电柱层113具有二个导电柱。然而，在其它实施例中，根据基板结构10的不同用途与类型，第一导电柱层111以及第二导电柱层113可分别具有任意数目的导电柱，并不以本实施例所述的导电柱的数量为限。

金属块107A具有宽度为X1的一第一端以及相对于第一端的宽度为Y1的一第二端。类似地，金属块107B有宽度为X2的一第一端以及相对于第一端的宽度为Y2的一第二端。金属块107C具有宽度为X3的一第一端以及相对于第一端的宽度为Y3的一第二端。金属块107D具有宽度为X4的一第一端以及相对于第一端的宽度为Y4的一第二端。金属块107B、107D的第一端X2、X4与第一导电柱层111的导电柱电性连接；金属块107B、107D的第二端Y2、Y4与第二导电柱层113的导电柱电性连接。

在本实施例中，金属块107A的第二端的宽度Y1大于第一端的宽度X1；金属块107B的第二端的宽度Y2大于第一端的宽度X2；金属块107C的第二端的宽度Y3大于第一端的宽度X3；金属块107D的第二端的宽度Y4与第一端的宽度X4大约相同。换句话说，金属块107A、107B、107C的第一端的宽度X1、X2、X3分别与第二端的宽度Y1、Y2、Y3不同。

第一导电柱层111嵌设于介电材料层101内，并设置于金属核心层以及第一导线层103之间；同时，第一导电柱层111与金属核心层以及第一导线层103电性连接。类似地，第二导电柱层113嵌设于介电材料层101内，并设置于金属核心层以及第二导线层105之间；同时，第二导电柱层113与金属核心层以及第二导线层105电性连接。

金属块107A、107B、107C、107D以及内接组件109嵌设于介电材料层101内。第一导线层103设置于介电材料层101的第一表面1011。第二导线层105则设置于介电材料层101的第二表面1013。此外，金属块107A、107B、107C、107D设置于第一导电柱层111以及第二导电柱层113之间。在本实施例中，内接组件109的导电极层1091与第一导电柱层111电性连接。然而，在其它实施例中，内接组件109的导电极层1091可因应摆放位置的不同而与第二导电柱层113电性连接，并不以本实施例所述的与第一导电柱层111电性连接为限。

本发明的第二实施例如图2所示，为一基板结构20的示意图。基板结构20的一结构类似于本发明的第一实施例所述的基板结构10的结构，其差异在于基板结构20还包括一第三导电柱层201、一第四导电柱层203以及两个环氧铸模化合物层205A、205B。第三导电柱层201部份与第一导线层103电性连接，并设置于环氧铸模化合物层205A内。第四导电柱层203部份与第二导线层105电性连接，并设置于环氧铸模化合物层205B内。环氧铸模化合物层205A包覆第一导线层103；环氧铸模化合物层205B包覆第二导线层105。

需说明的是，前段所述的基板结构10、20都包括两个导线层，且其导线层分别与导电柱层的导电柱电性连接。然而，在其它实施例中，基板结构10、20可仅包括一个导线层，且其导线层与导电柱层的导电柱电性连接。所属技术领域人员可通过前述的说明了解基板结构10、20的导线层的数量以及导线层与导电柱层的导电柱电性连接的方式，故在此不再赘述。

本发明的第三实施例如图3所示，其为一种基板结构的制作方法的流程图。本实施例所述的制作方法可用于制作一基板结构，例如：第一实施例所述基板结构10。以下将通过图3以及图4A至图4I进一步说明本实施例的基板结构的制作方法。

首先，于步骤301中，提供如图4A绘示的一金属板401。其中，金属板401由铝、铜、不锈钢或其组合制成。

接着，于步骤303中，蚀刻金属板401以形成如图4B绘示的一金属核心层。其中，金属核心层具有多个金属块107A、107B、107C、107D以及两个耦接块403A、403B。金属块107A、107B、107C、107D分别具有一第一端以及相对于第一端的一第二端。同时，金属块107A与金属块107B通过耦接块403A部份耦接；金属块107B与金属块107C通过耦接块403B部份耦接。

于步骤305中，如图4C所示，将内接组件109放置于金属块107C与金属块107D之间。其中，内接组件109包括一导电极层1091。接着，于步骤307中，如图4D所示，于耦接块403A、403B以及金属块107A、107B、107C、107D上形成一介电材料层101。

于步骤309中，如图4E所示，蚀刻金属核心层以移除耦接块403A、403B，并分别使金属块107A、107B、107C的第一端的宽度与第二端的宽度不同。详细来说，金属块107A的第二端的宽度Y1大于第一端的宽度X1；金属块107B的第二端的宽度Y2大于第一端的宽度X2；金属块107C的第二端的宽度Y3大于第一端的宽度X3。

于步骤311中，如图4F所示，于金属块107A、107B、107C、107D上形成介电材料层101，使介电材料层101包覆金属核心层的金属块107A、107B、107C、107D。于步骤313中，如图4G所示，露出导电极层1091并选择性地露出金属块107A、107B、107C、107D的第一端以及第二端。其中，步骤313露出金属块107B、107D第一端以及第二端。

于步骤315中，如图4H所示，于导电极层1091与已露出第一端的金属块107B、107D上形成一第一导电柱层111；并于介电材料层101的一第一表面1011上形成一第一导线层103。详细来说，第一导电柱层111形成于金属块107A、107B、107C、107D其中之一的第一端上。最后，于步骤317中，如图4I所示，于已露出第二端的金属块107B、107D上形成一第二导电柱层113；并于介电材料层101的一第二表面1013上形成一第二导线层105。详细来说，第二导电柱层113形成于金属块107A、107B、107C、107D其中之一的第二端上。

此外，于金属块107A、107B、107C、107D上形成介电材料层101的步骤307与步骤311中，还包括如图5绘示的步骤。首先，于步骤501中，提供一铸模化合物。其中，铸模化合物可为酚醛基树脂、环氧基树脂、硅基树脂或其它适当的铸模化合物。于步骤503中，加热铸模化合物至一液体状态。接着，于步骤505中，将呈现液体状态的铸模化合物注入金属块107A、107B、107C、107D上，使呈现液体状态的铸模化合物包覆金属核心层的金属块107A、107B、107C、107D。最后，于步骤507中，固化呈现液体状态的铸模化合物以形成一铸模化合物层。换句话说，前述的铸模化合物层即为介电材料层101。

本发明的第四实施例如图6所示，其为一种基板结构的制作方法的流程图。本实施例所述的制作方法可用于制作一基板结构，例如：第二实施例所述基板结构20。其中，第6图所示的第四实施例的步骤601至步骤617与本发明的第三实施例的步骤301至步骤317相同，故在此不再赘述。以下将通过图6以及图7A至图7D进一步说明本实施例的基板结构的制作方法的后续步骤。

于步骤619中，于第一导线层103上形成如图7A绘示的一第三导电柱层201。其中，第三导电柱层201部份与第一导线层103电性连接。于步骤621中，于第二导线层105上形成如图7B绘示的一第四导电柱层203。其中，第四导电柱层203部份与第二导线层105电性连接。

接着，于步骤623中，形成如图7C绘示的一环氧铸模化合物层205A。其中，环氧铸模化合物层205A包覆第一导线层103。最后，于步骤625中，形成如第7D图绘示的一环氧铸模化合物层205B。其中，环氧铸模化合物层205B包覆第二导线层105。

上述的实施例仅用来例举本发明的实施状态，以及阐释本发明的技术特征，并非用来限制本发明的保护范围。本领域技术人员可轻易完成的改变或均等性的安排均属于本发明要求的保护范围，本发明的保护范围应以权利要求书中限定的为准。

Claims

1.一种基板结构，其特征在于：其包括：

一介电材料层；

一第一导线层，设置于该介电材料层的一第一表面；

一第二导线层，设置于该介电材料层的一第二表面；

一金属核心层，其嵌设于该介电材料层内，具有至少一金属块；

一第一导电柱层，其嵌设于该介电材料层内并设置于该金属核心层以及该第一导线层之间，具有至少一导电柱；以及

一第二导电柱层，其嵌设于该介电材料层内并设置于该金属核心层以及该第二导线层之间，具有至少一导电柱；

其中，该至少一金属块具有一第一端以及相对于该第一端的一第二端，该第一端以及该第二端分别与该第一导电柱层的至少一导电柱以及该第二导电柱层的至少一导电柱电性连接，且该第一端的一宽度与该第二端的一宽度不同。

2.如权利要求1所述的基板结构，其特征在于：还包括一内接组件，嵌设于该介电材料层内，具有一导电极层，其中，该导电极层与该第一导电柱层以及该第二导电柱层其中之一电性连接。

3.如权利要求1所述的基板结构，其特征在于：该第二端的宽度大于该第一端的宽度。

4.如权利要求1所述的基板结构，其特征在于：该介电材料层为一铸模化合物（Molding Compound）层，该铸模化合物层具有酚醛基树脂（Novolac-based Resin）、环氧基树脂（Epoxy-based Resin）以及硅基树脂（Silicone-based Resin）其中之一。

5.一种基板结构的制作方法，其特征在于：包括下列步骤：

提供一金属板；

蚀刻该金属板以形成一金属核心层，其中，该金属核心层具有多个金属块以及至少一耦接块，各金属块分别具有一第一端以及相对于该第一端的一第二端，且各金属块通过该至少一耦接块部份耦接；

于该至少一耦接块以及各金属块上形成一介电材料层；

蚀刻该金属核心层以移除该至少一耦接块，并使该第一端的一宽度与该第二端的一宽度不同；

于各金属块上形成该介电材料层，使该介电材料层包覆该金属核心层；

露出各金属块其中之一的第一端以及第二端；

于各金属块其中之一的第一端上形成一第一导电柱层；

于各金属块其中之一的第二端上形成一第二导电柱层；

于该介电材料层的一第一表面上形成一第一导线层；以及

于该介电材料层的一第二表面上形成一第二导线层。

6.如权利要求5所述的制作方法，其特征在于：形成一介电材料层的步骤还包括下列步骤：

提供一铸模化合物；

加热该铸模化合物至一液体状态；

固化呈现该液体状态的铸模化合物以形成一铸模化合物层。

7.如权利要求5所述的制作方法，其特征在于：该金属板由铝、铜、不锈钢及其组合其中之一制成。

8.如权利要求5所述的制作方法，其特征在于：该第二端的宽度大于该第一端的宽度。

9.一种基板结构，其特征在于：其包括：

一介电材料层；

至少一导线层，设置于该介电材料层的一表面；

一金属核心层，其嵌设于该介电材料层内，具有至少一金属块；以及

至少一导电柱层，其嵌设于该介电材料层内并设置于该金属核心层以及该至少一导线层之间；

其中，该至少一金属块具有一第一端以及相对于该第一端的一第二端，该第一端以及该第二端其中之一与该至少一导电柱层电性连接，且该第一端的一宽度与该第二端的一宽度不同。

10.如权利要求9所述的基板结构，其特征在于：还包括一内接组件，嵌设于该介电材料层内，具有一导电极层，其中，该导电极层与该至少一导电柱层电性连接。