CN104813496A - 电子器件 - Google Patents
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Abstract
本发明涉及包含式(I)的杂芳族化合物作为功能材料、特别是作为电子传输材料和作为发光体化合物的基质材料的电子器件。
Description
技术领域
本申请涉及包含至少一个有机层的电子器件,所述有机层又包含至少一种如下文所限定的式(I)化合物。所述式(I)化合物代表在所述电子器件中优选用作电子传输材料和/或用作发光体化合物的基质材料的功能材料。本发明还涉及式(I-1)化合物,其特别适用于电子器件中,特别是用于上述功能中。
根据本发明,术语电子器件一般被认为是指包含有机材料的电子器件。这类器件也被称为有机电子器件。为了本申请的目的,这个术语优选被认为是指OLED和有机电子器件的一些其它实施方式,其稍后公开于本申请中。
背景技术
OLED的一般结构和功能原理为本领域普通技术人员所知并且特别描述于US 4539507、US 5151629、EP 0676461和WO 1998/27136中。
特别是考虑到广泛的商业用途,例如在显示器中或作为光源的商业用途,关于电子器件的性能数据需要进一步改进。在这方面特别重要的是电子器件的寿命、效率和工作电压以及在发光中达到的色值。
用于改进这些参数的起点是选择适用于电子器件中的有机材料。通过合适材料的选择,电子器件的性能数据可受到至关重要的影响。
对于用作例如电子传输层中的电子传输化合物或用作发光层中的基质材料,根据现有技术已知多种材料。
这些材料例如包括LiQ、AlQ3和其它喹啉酸盐(US 4356429、US2007/0092753),和杂芳族化合物,例如三嗪(WO 2010/015306、WO2007/063754或WO 2008/056746)、咔唑(WO 2005/039246、US2005/0069729、JP 2004/288381、EP 1205527或WO 2008/086851),和酮、氧化膦、亚砜和砜(WO 2004/093207、WO 2010/006680或WO2005/003253)。
此外,现有技术公开了使用苯并咪唑衍生物和类似的杂芳族化合物作为电子传输材料和/或作为电子器件的发光层中的基质材料(WO2004/080975、US 2009/184633、JP 2008/130754和JP 2006/156847)。
然而,包含所述化合物的电子器件具有改进的潜力,特别是在效率、工作电压、寿命和可加工性方面情况如此。此处特别重要的是电子器件的寿命和工作电压。
此外,现有技术公开了包含苯并咪唑衍生物的OLED,其中两个苯并咪唑基团经由中心五元环彼此对称地键合(WO 2011/126225)。所述化合物用于电子传输层中或用于发光层中作为基质材料。
因此,具有高效率和低工作电压以及长寿命的电子器件、特别是OLED一直受到关注。
发明内容
令人惊讶的是,现在已发现,包含带有稠合上的杂环基团的苯并咪唑衍生物的电子器件具有上述性质并且因此实现所述技术目的,其中该稠合上的杂环基团具有又稠合上的芳族六元环。
因此,本发明涉及一种电子器件,其包含阳极、阴极和至少一个有机层,所述有机层包含至少一种式(I)化合物
其中:
E在每次出现时相同或不同地选自单键、B(R1)、C=O、N(R1)、P(R1)、P(=O)R1、O、S、S=O和S(=O)2,其中两个基团E不能都是单键;
T在每次出现时相同或不同地是CR1或N;
W是CR1或N;
Y是N(R1)、O或S;
Z在每次出现时相同或不同地是CR2或N;
R1在每次出现时相同或不同地是H,D,F,C(=O)R3,CN,Si(R3)3,N(R3)2,P(=O)(R3)2,S(=O)R3,S(=O)2R3,具有1至20个C原子的直链烷基或烷氧基基团,或具有3至20个C原子的支链或环状的烷基或烷氧基基团,或具有2至20个C原子的烯基或炔基基团,其中上述基团可各自被一个或多个基团R3取代,并且其中上述基团中的一个或多个CH2基团可被-R3C=CR3-、-C≡C-、Si(R3)2、C=O、C=NR3、-C(=O)O-、-C(=O)NR3-、NR3、P(=O)(R3)、-O-、-S-、SO或SO2代替,并且其中上述基团中的一个或多个H原子可被D、F或CN代替,或具有5至30个芳族环原子的芳族或杂芳族环系,所述环系在每种情况下可被一个或多个基团R3取代,或具有5至30个芳族环原子的芳氧基或杂芳氧基基团,所述基团可被一个或多个基团R3取代;
R2在每次出现时相同或不同地是H,D,F,C(=O)R3,CN,Si(R3)3,N(R3)2,P(=O)(R3)2,S(=O)R3,S(=O)2R3,具有1至20个C原子的直链烷基或烷氧基基团,或具有3至20个C原子的支链或环状的烷基或烷氧基基团,或具有2至20个C原子的烯基或炔基基团,其中上述基团可各自被一个或多个基团R3取代,并且其中上述基团中的一个或多个CH2基团可被-R3C=CR3-、-C≡C-、Si(R3)2、C=O、C=NR3、-C(=O)O-、-C(=O)NR3-、NR3、P(=O)(R3)、-O-、-S-、SO或SO2代替,并且其中上述基团中的一个或多个H原子可被D、F或CN代替,或具有5至30个芳族环原子的芳族或杂芳族环系,所述环系在每种情况下可被一个或多个基团R3取代,或具有5至30个芳族环原子的芳氧基或杂芳氧基基团,所述基团可被一个或多个基团R3取代,其中两个或更多个基团R2可彼此连接并且可形成脂族或杂脂族环;
R3在每次出现时相同或不同地是H,D,F,C(=O)R4,CN,Si(R4)3,N(R4)2,P(=O)(R4)2,S(=O)R4,S(=O)2R4,具有1至20个C原子的直链烷基或烷氧基基团,或具有3至20个C原子的支链或环状的烷基或烷氧基基团,或具有2至20个C原子的烯基或炔基基团,其中上述基团可各自被一个或多个基团R4取代,并且其中上述基团中的一个或多个CH2基团可被-R4C=CR4-、-C≡C-、Si(R4)2、C=O、C=NR4、-C(=O)O-、-C(=O)NR4-、NR4、P(=O)(R4)、-O-、-S-、SO或SO2代替,并且其中上述基团中的一个或多个H原子可被D、F或CN代替,或具有5至30个芳族环原子的芳族或杂芳族环系,所述环系在每种情况下可被一个或多个基团R4取代,或具有5至30个芳族环原子的芳氧基或杂芳氧基基团,所述基团可被一个或多个基团R4取代,其中两个或更多个基团R3可彼此连接并且可形成环;
R4在每次出现时相同或不同地是H,D,F,或具有1至20个C原子的脂族、芳族或杂芳族有机基团,其中一个或多个H原子还可被D或F代替;此处两个或更多个取代基R4可彼此连接并且可形成环;
n等于0或1;
其中所述式(I)化合物中的至少一个基团R1或R2选自具有5至40个芳族环原子的芳族或杂芳族环系,所述环系可被一个或多个基团R3取代。
根据本发明的化合物优选具有一种或多种下文示出的优点:
-根据本发明的化合物在用于电子器件中时,可实现器件的高功率效率和低工作电压。
-在使用根据本发明的化合物时,获得电子器件的高稳定性或长寿命。
-相比于根据现有技术已知的材料、特别是相比于具有咔唑骨架的基质材料,根据本发明的化合物具有显著更好的溶解性和成膜性质。
化学基团的一般定义遵循:
在本发明意义上的芳基基团含有6至60个芳族环原子;在本发明意义上的杂芳基基团含有5至60个芳族环原子,其中的至少一个是杂原子。所述杂原子优选地选自N、O和S。这代表了基本的定义。如果在本发明说明书中例如在芳族环原子数量或所存在杂原子方面表明了其它优选特征,则适用这些优选特征。
此处芳基基团或杂芳基基团被认为是指简单的芳族环,即苯,或者简单的杂芳族环,例如吡啶、嘧啶或噻吩,或者稠合(缩合)的芳族或杂芳族的多环,例如萘、菲、喹啉或咔唑。在本申请意义上的稠合(缩合)的芳族或杂芳族多环由两个或更多个彼此稠合的简单的芳族或杂芳族环组成。
在每种情况下可被上述基团取代并且可经由任何希望的位置与所述芳族或杂芳族环系连接的芳基或杂芳基基团,特别被认为是指衍生于如下物质的基团:苯、萘、蒽、菲、芘、二氢芘、苝、荧蒽、苯并蒽、苯并菲、并四苯、并五苯、苯并芘、呋喃、苯并呋喃、异苯并呋喃、二苯并呋喃、噻吩、苯并噻吩、异苯并噻吩、二苯并噻吩、吡咯、吲哚、异吲哚、咔唑、吡啶、喹啉、异喹啉、吖啶、菲啶、苯并-5,6-喹啉、苯并-6,7-喹啉、苯并-7,8-喹啉、吩噻嗪、吩嗪、吡唑、吲唑、咪唑、苯并咪唑、萘并咪唑、菲并咪唑、吡啶并咪唑、吡嗪并咪唑、喹喔啉并咪唑、唑、苯并唑、萘并唑、蒽并唑、菲并唑、异唑、1,2-噻唑、1,3-噻唑、苯并噻唑、哒嗪、苯并哒嗪、嘧啶、苯并嘧啶、喹喔啉、吡嗪、吩嗪、萘啶、氮杂咔唑、苯并咔啉、菲咯啉、1,2,3-三唑、1,2,4-三唑、苯并三唑、1,2,3-二唑、1,2,4-二唑、1,2,5-二唑、1,3,4-二唑、1,2,3-噻二唑、1,2,4-噻二唑、1,2,5-噻二唑、1,3,4-噻二唑、1,3,5-三嗪、1,2,4-三嗪、1,2,3-三嗪、四唑、1,2,4,5-四嗪、1,2,3,4-四嗪、1,2,3,5-四嗪、嘌呤、蝶啶、吲嗪和苯并噻二唑。
根据本发明的定义的芳氧基基团被认为是指经由氧原子键合的如上文所定义的芳基基团。类似的定义适用于杂芳氧基基团。
在本发明意义上的芳族环系在环系中含有6至60个C原子。在本发明意义上的杂芳族环系含有5至60个芳族环原子,其中的至少一个是杂原子。所述杂原子优选地选自N、O和/或S。在本发明意义上的芳族或杂芳族环系旨在被认为是指不必仅含有芳基或杂芳基基团的体系,而是其中多个芳基或杂芳基基团还可通过非芳族单元(优选小于非H原子的10%)连接,所述非芳族单元例如是sp3-杂化的C、Si、N或O原子,sp2-杂化的C或N原子,或者sp-杂化的C原子。因此,例如,和其中两个或更多个芳基基团例如通过直链或环状的烷基、烯基或炔基基团或通过甲硅烷基基团连接的体系一样,诸如9,9'-螺二芴、9,9'-二芳基芴、三芳基胺、二芳基醚、茋等的体系同样旨在被认为是在本发明意义上的芳族环系。此外,其中两个或更多个芳基或杂芳基基团通过单键彼此连接的体系,例如,诸如联苯、三联苯或二苯基三嗪的体系,也被认为是在本发明意义上的芳族或杂芳族环系。
在每种情况下还可被如上文所定义的基团取代并且可经由任何希望的位置与所述芳族或杂芳族基团连接的具有5-60个芳族环原子的芳族或杂芳族环系,特别被认为是指衍生于如下物质的基团:苯、萘、蒽、苯并蒽、菲、苯并菲、芘、苝、荧蒽、并四苯、并五苯、苯并芘、联苯、偶苯、三联苯、三聚苯、四联苯、芴、螺二芴、二氢菲、二氢芘、四氢芘、顺式或反式茚并芴、三聚茚、异三聚茚、螺三聚茚、螺异三聚茚、呋喃、苯并呋喃、异苯并呋喃、二苯并呋喃、噻吩、苯并噻吩、异苯并噻吩、二苯并噻吩、吡咯、吲哚、异吲哚、咔唑、吲哚并咔唑、茚并咔唑、吡啶、喹啉、异喹啉、吖啶、菲啶、苯并-5,6-喹啉、苯并-6,7-喹啉、苯并-7,8-喹啉、吩噻嗪、吩嗪、吡唑、吲唑、咪唑、苯并咪唑、萘并咪唑、菲并咪唑、吡啶并咪唑、吡嗪并咪唑、喹喔啉并咪唑、唑、苯并唑、萘并唑、蒽并唑、菲并唑、异唑、1,2-噻唑、1,3-噻唑、苯并噻唑、哒嗪、苯并哒嗪、嘧啶、苯并嘧啶、喹喔啉、1,5-二氮杂蒽、2,7-二氮杂芘、2,3-二氮杂芘、1,6-二氮杂芘、1,8-二氮杂芘、4,5-二氮杂芘、4,5,9,10-四氮杂苝、吡嗪、吩嗪、吩嗪、吩噻嗪、荧红环、萘啶、氮杂咔唑、苯并咔啉、菲咯啉、1,2,3-三唑、1,2,4-三唑、苯并三唑、1,2,3-二唑、1,2,4-二唑、1,2,5-二唑、1,3,4-二唑、1,2,3-噻二唑、1,2,4-噻二唑、1,2,5-噻二唑、1,3,4-噻二唑、1,3,5-三嗪、1,2,4-三嗪、1,2,3-三嗪、四唑、1,2,4,5-四嗪、1,2,3,4-四嗪、1,2,3,5-四嗪、嘌呤、蝶啶、吲嗪和苯并噻二唑,或这些基团的组合。
为了本发明的目的,其中单独的H原子或CH2基团还可被上文在所述基团定义下提及的基团取代的具有1至40个C原子的直链烷基基团或者具有3至40个C原子的支链或环状烷基基团或者具有2至40个C原子的烯基或炔基基团,优选被认为是指如下的基团:甲基、乙基、正丙基、异丙基、正丁基、异丁基、仲丁基、叔丁基、2-甲基丁基、正戊基、仲戊基、环戊基、新戊基、正己基、环己基、新己基、正庚基、环庚基、正辛基、环辛基、2-乙基己基、三氟甲基、五氟乙基、2,2,2-三氟乙基、乙烯基、丙烯基、丁烯基、戊烯基、环戊烯基、己烯基、环己烯基、庚烯基、环庚烯基、辛烯基、环辛烯基、乙炔基、丙炔基、丁炔基、戊炔基、己炔基或辛炔基。具有1至40个C原子的烷氧基或硫代烷基基团优选被认为是指甲氧基、三氟甲氧基、乙氧基、正丙氧基、异丙氧基、正丁氧基、异丁氧基、仲丁氧基、叔丁氧基、正戊氧基、仲戊氧基、2-甲基丁氧基、正己氧基、环己氧基、正庚氧基、环庚氧基、正辛氧基、环辛氧基、2-乙基己氧基、五氟乙氧基、2,2,2-三氟乙氧基、甲硫基、乙硫基、正丙硫基、异丙硫基、正丁硫基、异丁硫基、仲丁硫基、叔丁硫基、正戊硫基、仲戊硫基、正己硫基、环己硫基、正庚硫基、环庚硫基、正辛硫基、环辛硫基、2-乙基己硫基、三氟甲硫基、五氟乙硫基、2,2,2-三氟乙硫基、乙烯硫基、丙烯硫基、丁烯硫基、戊烯硫基、环戊烯硫基、己烯硫基、环己烯硫基、庚烯硫基、环庚烯硫基、辛烯硫基、环辛烯硫基、乙炔硫基、丙炔硫基、丁炔硫基、戊炔硫基、己炔硫基、庚炔硫基或辛炔硫基。
为了本申请的目的,两个或更多个基团可彼此形成环的表述旨在被认为尤其是指,两个基团是通过化学键彼此连接。这由下图示例:
然而,此外,上述表述也旨在被认为是指,在其中两个基团之一表示氢的情况下,第二基团键合在氢原子所键合的位置处,从而成环。这由下图示例:
根据一个优选的实施方式,所述式(I)化合物中的至少一个基团R1选自具有5至40个芳族环原子的芳族或杂芳族环系,所述环系可被一个或多个基团R3取代。
根据一个特别优选的实施方式,所述式(I)化合物中的至少一个基团R1或R2、优选至少一个基团R1,选自含有至少一个以下基团的基团:
-具有5至20个芳族环原子的杂芳基基团,其含有至少一个具有两个或更多个选自N、O和S的杂原子的杂芳族五元环;
-具有6至20个芳族环原子的杂芳基,其含有至少一个具有一个或多个选自N、O和S的杂原子的杂芳族六元环;和
-咔唑基团。
此处咔唑基团也被认为是指含有稠合上的基团的咔唑衍生物,例如茚并咔唑或吲哚并咔唑,以及其中芳族六元环中的一个或多个碳原子已经被氮代替的咔唑衍生物。
此外优选地,所述式(I)化合物中的至少一个基团R1或R2、特别优选地至少一个基团R1,选自式(Het-a)至(Het-e)的基团:
其中
Ar1是具有5至20个芳族环原子的芳族或杂芳族环系,所述环系可被一个或多个基团R3取代;
V在每次出现时相同或不同地是N或CR3;
k等于0或1;
并且虚线指示与所述化合物的其余部分键合的键;
并且其中式(Het-a)、(Het-d)和(Het-e)中的环中的至少一个基团V等于N。
根据一个优选的实施方式,所述式(I)化合物具有250至1500Da、特别优选地275至1250Da、非常特别优选地300至1000Da的分子量。
根据另一个优选的实施方式,所述式(I)化合物是不对称的,特别优选地以如下方式不对称:其关于任何希望的垂直于纸面的镜面不对称。这具有如下优点:所述化合物具有更好的溶解性。此外并且优选地与上述优点组合,这具有如下优点:所述化合物具有较高的T1能级。
根据一个优选的实施方式,n等于1。
此外优选的是,式(I)中不超过三个基团T等于N。此外优选地,不超过两个相邻基团T等于N。特别优选地,所有基团T等于CR1。
此外优选的是,式(I)中每个环不超过三个基团Z等于N。此外优选地,不超过两个相邻基团Z等于N。特别优选地,所有基团Z等于CR2。
此外,W优选等于CR1。
此外,E优选在每次出现时相同或不同地是单键、C=O、N(R1)、O、S、S=O或S(=O)2,其中两个基团E不能都是单键。
R1优选在每次出现时相同或不同地是H,D,CN,Si(R3)3,具有1至20个C原子的直链烷基或烷氧基基团,或具有3至20个C原子的支链或环状的烷基或烷氧基基团,或具有2至20个C原子的烯基或炔基基团,其中上述基团可各自被一个或多个基团R3取代,并且其中上述基团中的一个或多个CH2基团可被-R3C=CR3-、-C≡C-、Si(R3)2、C=O、C=NR3、-C(=O)O-、-C(=O)NR3-、NR3、P(=O)(R3)、-O-、-S-、SO或SO2代替,并且其中上述基团中的一个或多个H原子可被D、F或CN代替,或具有5至30个芳族环原子的芳族或杂芳族环系,所述环系在每种情况下可被一个或多个基团R3取代,或具有5至30个芳族环原子的芳氧基或杂芳氧基基团,所述基团可被一个或多个基团R3取代;
R1特别优选在每次出现时相同或不同地是H,D,具有1至10个C原子的直链烷基基团或者具有3至10个C原子的支链或环状的烷基基团,其中所述烷基基团可各自被一个或多个基团R3取代,或具有6至24个芳族环原子的芳族或杂芳族环系,所述环系可被一个或多个基团R3取代。
优选的是在两个或更多个基团R2之间不存在环形成。
R2优选在每次出现时相同或不同地是H,D,CN,Si(R3)3,具有1至20个C原子的直链烷基或烷氧基基团,或具有3至20个C原子的支链或环状的烷基或烷氧基基团,或具有2至20个C原子的烯基或炔基基团,其中上述基团可各自被一个或多个基团R3取代,并且其中上述基团中的一个或多个CH2基团可被-R3C=CR3-、-C≡C-、Si(R3)2、C=O、C=NR3、-C(=O)O-、-C(=O)NR3-、NR3、P(=O)(R3)、-O-、-S-、SO或SO2代替,并且其中上述基团中的一个或多个H原子可被D、F或CN代替,或具有5至30个芳族环原子的芳族或杂芳族环系,所述环系在每种情况下可被一个或多个基团R3取代,或具有5至30个芳族环原子的芳氧基或杂芳氧基基团,所述基团可被一个或多个基团R3取代;
R2特别优选在每次出现时相同或不同地是H,D,具有1至10个C原子的直链烷基基团或者具有3至10个C原子的支链或环状的烷基基团,其中所述烷基基团可各自被一个或多个基团R3取代,或具有6至24个芳族环原子的芳族或杂芳族环系,所述环系可被一个或多个基团R3取代。
R3优选在每次出现时相同或不同地是H,D,CN,Si(R4)3,具有1至20个C原子的直链烷基或烷氧基基团,或具有3至20个C原子的支链或环状的烷基或烷氧基基团,或具有2至20个C原子的烯基或炔基基团,其中上述基团可各自被一个或多个基团R4取代,并且其中上述基团中的一个或多个CH2基团可被-R4C=CR4-、-C≡C-、Si(R4)2、C=O、C=NR4、-C(=O)O-、-C(=O)NR4-、NR4、P(=O)(R4)、-O-、-S-、SO或SO2代替,并且其中上述基团中的一个或多个H原子可被D、F或CN代替,或具有5至30个芳族环原子的芳族或杂芳族环系,所述环系在每种情况下可被一个或多个基团R4取代,或具有5至30个芳族环原子的芳氧基或杂芳氧基基团,所述基团可被一个或多个基团R4取代;
R3特别优选在每次出现时相同或不同地是H,D,具有1至10个C原子的直链烷基基团或者具有3至10个C原子的支链或环状的烷基基团,其中所述烷基基团可各自被一个或多个基团R4取代,或具有6至24个芳族环原子的芳族或杂芳族环系,所述环系可被一个或多个基团R4取代。
所述式(I)化合物的优选实施方式符合下式(I-A)至(I-F)
其中
E1在每次出现时相同或不同地选自C=O、N(R1)、O和S;并且
其中存在的其余符号如上文所限定的;并且
其中式(I-A)至(I-F)的化合物中的至少一个基团R1或R2选自具有5至40个芳族环原子的芳族或杂芳族环系,所述环系可被一个或多个基团R3取代。
对于式(I-A)至(I-F),所述符号的上述优选实施方式也被视为优选的。
对于式(I-A)至(I-F),T特别优选等于CR1。
此外,对于式(I-A)至(I-F),Z特别优选等于CR1。
此外,对于式(I-A)至(I-F),W特别优选等于N。
此外,式(I-A)至(I-F)的化合物中的至少一个基团R1或R2、优选至少一个基团R1,特别优选选自含有至少一个以下基团的基团:
-具有5至20个芳族环原子的杂芳基基团,其含有至少一个具有两个或更多个选自N、O和S的杂原子的杂芳族五元环;
-具有6至20个芳族环原子的杂芳基基团,其含有至少一个具有一个或多个选自N、O和S的杂原子的杂芳族六元环;和
-咔唑基团。
此外,本发明涉及式(I-1)化合物,其代表式(I)的特定实施方式:
其中:
E2在每次出现时相同或不同地是单键、C=O、N(R1)、O或S,其中两个基团E2不能都是单键;
其余符号如上文所限定的;
并且其中至少一个基团R1选自如上文所限定的式(Het-a)至(Het-e)的基团。
对于式(I-1),所述符号的上述优选实施方式同样被视为优选的。
对于式(I-1),T特别优选等于CR1。
此外,对于式(I-1),Z特别优选等于CR1。
此外,对于式(I-1),Y特别优选等于NR1。
对于式(I-1),E2优选在每次出现时相同或不同地是单键、NR1、O或S,其中两个E2不能都是单键。
式(I-1)化合物的优选实施方式是以下式(I-1-A)至(I-1-F)的化合物
其中所述化合物可在所有自由位置处被基团R2取代,并且其中E3在每次出现时相同或不同地是C=O、N(R1)、O或S;并且
Y、R1、R2是如上文所限定的;并且其中
至少一个基团R1选自如上文所限定的式(Het-a)至(Het-e)的基团。
上述优选实施方式的基团同样被视为优选的。
特别地,对于式(I-1-A)至(I-1-F),基团R1和/或R2的优选实施方式被视为优选的。
此外,对于式(I-1-A)至(I-1-F),Y特别优选等于NR1。
式(I)化合物的实例描绘于下表中。
所述化合物可通过根据现有技术已知的合成步骤来制备。此处特别是使用金属催化的偶联反应,例如Buchwald偶联和Suzuki偶联。此外,此处使用缩合反应来形成杂芳族环。此外,此处还使用在缺电子杂芳族化合物上的亲核取代反应。
一种可行的用于制备式(I)化合物的优选路线示于下文方案1中。
方案1
在第一步骤中,经由缩合反应形成杂芳族五元环。示出咪唑环的合成,但也能够以这种方式或类似方式形成式(I)化合物中的其它杂芳族五元环。
在后续步骤中,可经由Buchwald偶联将芳基或杂芳基基团引入分子中,或者可通过苯并咪唑的氮原子上的脱质子化,经由亲核取代反应引入缺电子杂芳基基团。
以这种方式,可在骨架上引入多个不同的芳基或杂芳基基团。此处可进行多个上述偶联反应,或者可多次进行单一偶联反应,例如在存在两个氨基官能团的情况下的双重Buchwald偶联。
与方案1中所示的合成类似地,也可以使用所示取代基的变体来合成式(I)化合物。例如,可代替三嗪而引入类似的杂环基团,例如吡啶基和嘧啶基。同样,可代替苯基基团而引入联苯基、三联苯基、萘基、芴基、咔唑基和类似取代基。
此外,在偶联反应之后可接着进行其它官能化反应以获得最终的式(I)化合物。
另一种可行的用于制备式(I)化合物的方法示于下文方案2中。
方案2
这起始于带有伯氨基基团的杂环化合物。这些化合物可容易地制备或者在许多情况下也可购得。随后使这种化合物与二溴化物在Buchwald反应中反应。从而将咔唑衍生物键合至杂芳族骨架。
因此,本发明还涉及一种制备式(I-1)化合物的方法,其特征在于
首先,优选使用一种或多种缩合反应,制备杂芳族骨架,并且
随后,优选使用Buchwald偶联或亲核芳族取代反应,引入一个或多个芳基或杂芳基基团。
上述式(I-1)化合物,特别是被反应性离去基团例如溴、碘、氯、硼酸或硼酸酯取代的化合物,可用作单体以用于制备相应的低聚物、树枝状大分子或聚合物。合适的反应性离去基团例如是溴,碘,氯,硼酸,硼酸酯,胺,具有末端碳碳双键或碳碳三键的烯基或炔基基团,环氧乙烷,氧杂环丁烷,经历环加成例如1,3-偶极环加成的基团,例如二烯或叠氮化物,羧酸衍生物,醇,和硅烷。
因此,本发明还涉及含有一种或多种式(I-1)化合物的低聚物、聚合物或树枝状大分子,其中一个或多个形成所述聚合物、低聚物或树枝状大分子的键可位于式(I-1)中被R1或R2取代的任何所希望的位置处。取决于式(I-1)化合物的连接,所述化合物是低聚物或聚合物的侧链的组成部分或主链的组成部分。在本发明意义上的低聚物被认为是指由至少三个单体单元构建的化合物。在本发明意义上的聚合物被认为是指由至少十个单体单元构建的化合物。根据本发明的聚合物、低聚物或树枝状大分子可为共轭、部分共轭或非共轭的。根据本发明的低聚物或聚合物可为直链、支链或树枝状的。在以直链方式连接的结构中,式(I-1)的单元可彼此直接连接或者它们可经由二价基团彼此连接,例如经由被取代或未被取代的亚烷基基团、经由杂原子或经由二价的芳族或杂芳族基团彼此连接。在支链和树枝状结构中,例如,三个或更多个式(I-1)的单元可经由三价或多价基团连接,例如经由三价或多价的芳族或杂芳族基团连接,以形成支链或树枝状的低聚物或聚合物。
如上文关于式(I-1)化合物所述的相同优选情况适用于在低聚物、树枝状大分子和聚合物中的式(I-1)的重复单元。
为了制备所述低聚物或聚合物,使根据本发明的单体均聚或与其它单体共聚。合适且优选的共聚单体选自芴(例如根据EP 842208或WO 2000/022026)、螺二芴(例如根据EP 707020、EP 894107或WO2006/061181)、对亚苯基(例如根据WO 1992/18552)、咔唑(例如根据WO 2004/070772或WO 2004/113468)、噻吩(例如根据EP 1028136)、二氢菲(例如根据WO 2005/014689或WO 2007/006383)、顺式和反式茚并芴(例如根据WO 2004/041901或WO 2004/113412)、酮(例如根据WO2005/040302)、菲(例如根据WO 2005/104264或WO 2007/017066)或者多种这些单元。所述聚合物、低聚物和树枝状大分子通常还含有其它单元,例如发光(荧光或磷光)单元,例如,乙烯基三芳基胺(例如根据WO 2007/068325),或磷光金属络合物(例如根据WO 2006/003000),和/或电荷传输单元,特别是基于三芳基胺的那些。
根据本发明的聚合物、低聚物和树枝状大分子具有有利的性质,特别是长寿命、高效率和良好的颜色坐标。
根据本发明的聚合物和低聚物一般是通过一种或多种类型的单体的聚合来进行制备,其中的至少一种单体在所述聚合物中产生式(I-1)的重复单元。合适的聚合反应是本领域普通技术人员所知的并且描述于文献中。产生C-C或C-N连接的特别合适且优选的聚合反应如下:
(A)SUZUKI聚合;
(B)YAMAMOTO聚合;
(C)STILLE聚合;和
(D)HARTWIG-BUCHWALD聚合。
其中可通过这些方法进行聚合的方式和其中然后可从反应介质中分离出聚合物并纯化的方式是本领域普通技术人员所知的并且详细描述于文献中,例如WO 2003/048225、WO 2004/037887和WO2004/037887中。
为了从液相处理根据本发明的化合物,例如通过旋涂或通过印刷工艺进行处理,需要根据本发明的化合物的制剂。这些制剂可例如是溶液、分散体或乳液。出于这个目的,可优选使用两种或更多种溶剂的混合物。合适并且优选的溶剂例如是甲苯,苯甲醚,邻二甲苯、间二甲苯或对二甲苯,苯甲酸甲酯,均三甲基苯,萘满,邻二甲氧基苯,THF,甲基-THF,THP,氯苯,二烷,苯氧基甲苯,特别是3-苯氧基甲苯,(-)-葑酮,1,2,3,5-四甲基苯,1,2,4,5-四甲基苯,1-甲基萘,2-甲基苯并噻唑,2-苯氧基乙醇,2-吡咯烷酮,3-甲基苯甲醚,4-甲基苯甲醚,3,4-二甲基苯甲醚,3,5-二甲基苯甲醚,苯乙酮,α-萜品醇,苯并噻唑,苯甲酸丁酯,异丙苯,环己醇,环己酮,环己基苯,十氢化萘,十二烷基苯,苯甲酸乙酯,茚满,苯甲酸甲酯,NMP,对甲基异丙基苯,苯乙醚,1,4-二异丙基苯,二苄醚,二乙二醇丁基甲基醚,三乙二醇丁基甲基醚,二乙二醇二丁基醚,三乙二醇二甲基醚,二乙二醇单丁基醚,三丙二醇二甲基醚,四乙二醇二甲基醚,2-异丙基萘,戊苯,己苯,庚苯,辛苯,1,1-双(3,4-二甲基苯基)乙烷,或这些溶剂的混合物。
因此,本发明还涉及一种制剂,特别是溶液、分散体或乳液,其包含至少一种式(I-1)化合物或至少一种含有至少一个式(I-1)单元的聚合物、低聚物或树枝状大分子,和至少一种溶剂、优选是有机溶剂。其中可制备这种类型的溶液的方法是本领域普通技术人员所知的并且描述于例如WO 2002/072714、WO 2003/019694和其中所引用的文献中。
所述式(I)化合物适用于电子器件中,特别是有机电致发光器件(OLED)中。取决于取代,所述化合物用于不同的功能和层中。所述式(I)化合物优选用于电子传输层中和/或发光层中。在后者的情况下,它们优选用作基质材料,特别优选作为磷光发光体的基质材料。
因此,本发明还涉及式(I)化合物在电子器件中的用途。此处的电子器件优选选自有机集成电路(OIC)、有机场效应晶体管(OFET)、有机薄膜晶体管(OTFT)、有机发光晶体管(OLET)、有机太阳能电池(OSC)、有机光学检测器、有机光感受器、有机场猝熄器件(OFQD)、有机发光电化学电池(OLEC)、有机激光二极管(O-laser),特别优选是有机电致发光器件(OLED)。
如上文已指出的,本发明涉及一种电子器件,其包含阳极、阴极和至少一个有机层,所述有机层包含至少一种式(I)化合物。此处的电子器件优选选自上述器件。其特别优选是包含阳极、阴极和至少一个发光层的有机电致发光器件,其特征在于至少一个有机层包含至少一种式(I)化合物,所述至少一个有机层可为发光层、电子传输层或另外的层。
除了阴极、阳极和发光层之外,所述有机电致发光器件还可包含另外的层。这些层例如在每种情况下选自一个或多个空穴注入层、空穴传输层、空穴阻挡层、电子传输层、电子注入层、电子阻挡层、激子阻挡层、中间层、电荷产生层(IDMC 2003,台湾;Session 21 OLED(5),T.Matsumoto,T.Nakada,J.Endo,K.Mori,N.Kawamura,A.Yokoi,J.Kido,Multiphoton Organic EL Device Having Charge Generation Layer(具有电荷产生层的多光子有机EL器件))和/或有机或无机p/n结。然而,应当指出,这些层中的每个并非必须都存在,并且层的选择通常取决于使用的化合物并且特别是还取决于所述电致发光器件是发荧光的还是发磷光的。
所述器件的层的顺序优选如下:
阳极/空穴注入层/空穴传输层/发光层/电子传输层/电子注入层/阴极。
这优选适用于在通过气相沉积施加层的情况下的器件。
对于在从溶液施加层的情况下的器件,优选使用以下层顺序:
阳极/空穴注入层/中间层/发光层/阴极。
代替术语空穴注入层,此处也可同义地使用术语缓冲层。代替术语中间层,此处也可同义地使用术语空穴传输层。此外还应指出,并非所有的所述层都必须存在,和/或可另外存在其它的层。
根据本发明的有机电致发光器件可包含多个发光层。在这种情况下特别优选这些发光层总共具有多个在380nm与750nm之间的发光峰值,导致总体上白色发光,即,将能够发荧光或发磷光并且发蓝色或黄色或橙色或红色光的多种发光化合物用于所述发光层中。特别优选的是三层体系,即具有三个发光层的体系,其中这些层中的至少一个优选包含至少一种式(I)化合物并且其中所述三个层显示蓝色、绿色和橙色或红色发光(对于基本结构,参见例如WO 2005/011013)。可选地和/或另外地,根据本发明的化合物还可存在于电子传输层中或另外的层中。应当注意,为产生白色光,代替有色发光的多种发光体化合物,单独使用在宽波长范围内发光的发光体化合物也可以是合适的。
所述电子器件优选在电子传输层中包含式(I)化合物。为了本申请的目的,电子传输层被认为是指位于阴极与发光层之间的层。
在文献中,空穴阻挡层和电子注入层被称为电子传输层的子类型。为了本申请的目的,这些被认为是由术语电子传输层涵盖。特别地,空穴阻挡层表示在阴极侧与发光层直接相邻的层,其由具有低HOMO的材料组成并具有良好的电子传输性质。此处的HOMO优选低于发光层的HOMO。电子注入层被认为是指与阴极直接相邻的层并且其使电子容易地从阴极进入有机材料。
包含式(I)化合物的电子传输层可以以纯物质或与一种或多种其它化合物组合的形式包含所述化合物。如果存在其它化合物,则这些优选以少量存在。以次要量存在于电子传输层中的这些组分被称为掺杂剂,特别是n型掺杂剂,条件是它们是强还原剂,优选条件是它们是比电子传输层的主要组分更强的还原剂。
在本发明的另一个实施方式中,所述电子器件在发光层中包含式(I)化合物作为基质材料,与一种或多种掺杂剂、优选磷光掺杂剂组合。
术语磷光掺杂剂通常涵盖如下的化合物:其中,通过自旋禁阻的跃迁而发光,所述自旋禁阻的跃迁例如是从激发三重态或自旋量子数比较高的态例如五重态的跃迁。
合适的磷光掺杂剂特别是如下的化合物,其在适当激发时发光、优选在可见区发光,并且另外含有至少一种原子序数大于20、优选大于38且小于84、特别优选大于56且小于80的原子。使用的磷光掺杂剂优选是含有铜、钼、钨、铼、钌、锇、铑、铱、钯、铂、银、金或铕的化合物,特别是含有铱、铂或铜的化合物。
为了本申请的目的,所有发光的铱、铂或铜络合物都被视为磷光化合物。磷光掺杂剂的实例示于以下章节中。
在包含基质材料和掺杂剂的体系中的掺杂剂被认为是指混合物中比例较小的组分。相应地,在包含基质材料和掺杂剂的体系中的基质材料被认为是指混合物中比例较大的组分。
在这种情况下,所述基质材料在发光层中的比例,对于荧光发光层为50.0至99.9体积%,优选为80.0至99.5体积%,特别优选为92.0至99.5体积%,而对于磷光发光层为85.0至97.0体积%。
相应地,所述掺杂剂的比例,对于荧光发光层为0.1至50.0体积%,优选为0.5至20.0体积%,特别优选为0.5至8.0体积%,而对于磷光发光层为3.0至15.0体积%。
有机电致发光器件的发光层也可以包含含有多种基质材料(混合基质体系)和/或多种掺杂剂的体系。此外在这种情况下,所述掺杂剂一般是在体系中比例较小的材料并且所述基质材料是在体系中比例较大的材料。然而,在单独的情况下,体系中单独的基质材料的比例可小于单独的掺杂剂的比例。
在本发明的另一个优选实施方式中,所述式(I)化合物用作混合基质体系的组分。所述混合基质体系优选包含两种或三种不同的基质材料,特别优选两种不同的基质材料。此处两种材料之一优选是具有空穴传输性质的材料并且另一种材料是具有电子传输性质的材料。然而,混合基质组分的所希望的电子传输和空穴传输性质还可主要或完全地组合于单一混合基质组分中,其中其它的一种或多种混合基质组分实现其它功能。此处两种不同的基质材料可以以1:50至1:1、优选1:20至1:1、特别优选1:10至1:1、非常特别优选1:4至1:1的比率存在。混合基质体系优选用于磷光有机电致发光器件中。关于混合基质体系的更确切的信息尤其提供于申请WO 2010/108579中。
可用作混合基质体系的基质组分而与本发明化合物组合的特别合适的基质材料,选自下文指出的磷光掺杂剂的优选基质材料或荧光掺杂剂的优选基质材料,其取决于在混合基质体系中使用什么类型的掺杂剂化合物。
用于混合基质体系中的优选磷光掺杂剂是下文指出的优选磷光掺杂剂。
根据本发明的器件的功能层和功能材料的优选实施方式遵循:
由申请WO 2000/70655、WO 2001/41512、WO 2002/02714、WO2002/15645、EP 1191613、EP 1191612、EP 1191614、WO 2005/033244、WO 2005/019373和US 2005/0258742公开磷光掺杂剂的实例。一般来说,如根据现有技术所用于磷光OLED的并且如有机电致发光器件领域的普通技术人员所已知的所有磷光络合物都适用于根据本发明的器件中。
磷光掺杂剂的确切实例示于下表中。
优选的荧光掺杂剂选自芳基胺类。在本发明意义上的芳基胺或芳族胺被认为是指含有三个直接键合至氮的被取代或未被取代的芳族或杂芳族环系的化合物。这些芳族或杂芳族环系中的至少一个优选是稠合环系,其特别优选具有至少14个芳族环原子。其优选的实例是芳族蒽胺、芳族蒽二胺、芳族芘胺、芳族芘二胺、芳族胺或芳族二胺。芳族蒽胺被认为是指其中一个二芳基氨基基团直接与蒽基团优选在9位处键合的化合物。芳族蒽二胺被认为是指其中两个二芳基氨基基团优选在9,10位处直接与蒽基团键合的化合物。以与此类似的方式定义芳族的芘胺、芘二胺、胺和二胺,其中所述二芳基氨基基团优选与芘在1位处或在1,6位处键合。其它优选的掺杂剂是茚并芴胺或茚并芴二胺,例如根据WO 2006/108497或WO 2006/122630的,苯并茚并芴胺或苯并茚并芴二胺,例如根据WO 2008/006449的,和二苯并茚并芴胺或二苯并茚并芴二胺,例如根据WO 2007/140847的,和含有稠合芳基基团的茚并芴衍生物,其公开于WO 2010/012328中。
除了所述式(I)化合物之外,优选用于荧光掺杂剂的合适的基质材料是来自多种物质类别的材料。优选的基质材料选自如下的类别:低聚亚芳基(例如根据EP 676461的2,2',7,7'-四苯基螺二芴,或二萘基蒽),特别是含有稠合芳族基团的低聚亚芳基,低聚亚芳基亚乙烯基(例如根据EP 676461的DPVBi或螺-DPVBi),多足金属络合物(例如根据WO2004/081017),空穴传导化合物(例如根据WO 2004/058911),电子传导化合物,特别是酮、氧化膦、亚砜等(例如根据WO 2005/084081和WO2005/084082),阻转异构体(例如根据WO 2006/048268),硼酸衍生物(例如根据WO 2006/117052)或苯并蒽(例如根据WO 2008/145239)。特别优选的基质材料选自如下的类别:包含萘、蒽、苯并蒽和/或芘或这些化合物的阻转异构体的低聚亚芳基,低聚亚芳基亚乙烯基,酮,氧化膦和亚砜。非常特别优选的基质材料选自如下的类别:包含蒽、苯并蒽、苯并菲和/或芘或这些化合物的阻转异构体的低聚亚芳基。在本发明意义上的低聚亚芳基旨在被认为是指其中至少三个芳基或亚芳基基团彼此键合的化合物。
除了所述式(I)化合物之外,用于磷光掺杂剂的优选的基质材料是芳族胺,特别是三芳基胺,例如根据US 2005/0069729的,咔唑衍生物(例如CBP、N,N-双咔唑基联苯)或根据WO 2005/039246、US2005/0069729、JP 2004/288381、EP 1205527或WO 2008/086851的化合物,桥接咔唑衍生物,例如根据WO 2011/088877和WO 2011/128017的,茚并咔唑衍生物,例如根据WO 2010/136109和WO 2011/000455的,氮杂咔唑衍生物,例如根据EP 1617710、EP 1617711、EP 1731584、JP 2005/347160的,吲哚并咔唑衍生物,例如根据WO 2007/063754或WO 2008/056746的,酮,例如根据WO 2004/093207或WO 2010/006680的,氧化膦、亚砜和砜,例如根据WO 2005/003253的,低聚亚苯基,双极性基质材料,例如根据WO 2007/137725的,硅烷,例如根据WO2005/111172的,氮杂硼杂环戊二烯或硼酸酯,例如根据WO2006/117052的,三嗪衍生物,例如根据WO 2010/015306、WO2007/063754或WO 2008/056746的,锌络合物,例如根据EP 652273或WO 2009/062578的,铝络合物,例如BAlq,二氮杂硅杂环戊二烯和四氮杂硅杂环戊二烯衍生物,例如根据WO 2010/054729的,和二氮磷杂环戊二烯衍生物,例如根据WO 2010/054730的。
除了所述式(I)化合物之外,可在本发明有机电致发光器件的空穴注入或空穴传输层或电子阻挡层中或电子传输层中使用的合适的电荷传输材料是例如Y.Shirota等,Chem.Rev.(化学综述)2007,107(4),953-1010中公开的化合物,或者是根据现有技术用于这些层中的其它材料。
除了所述式(I)化合物之外,可用于电子传输层的材料是根据现有技术用作电子传输层中的电子传输材料的所有材料。特别合适的是铝络合物例如Alq3,锆络合物例如Zrq4,苯并咪唑衍生物,三嗪衍生物,嘧啶衍生物,吡啶衍生物,吡嗪衍生物,喹喔啉衍生物,喹啉衍生物,二唑衍生物,芳族酮,内酰胺,硼烷,二氮磷杂环戊二烯衍生物和氧化膦衍生物。此外合适的材料是上述化合物的衍生物,如JP2000/053957、WO 2003/060956、WO 2004/028217、WO 2004/080975和WO 2010/072300中所公开的。
可用于本发明电子器件的空穴传输、空穴注入或电子阻挡层中的材料是茚并芴胺衍生物(例如根据WO 06/122630或WO 06/100896)、EP1661888中公开的胺衍生物、六氮杂苯并菲衍生物(例如根据WO01/049806)、含有稠合芳环的胺衍生物(例如根据US 5,061,569)、WO95/09147中公开的胺衍生物、单苯并茚并芴胺(例如根据WO08/006449)、二苯并茚并芴胺(例如根据WO 07/140847)、螺二芴胺(例如根据WO 2012/034627或尚未公布的EP 12000929.5)、芴胺(例如根据尚未公布的申请EP 12005369.9、EP 12005370.7和EP 12005371.5)、螺二苯并吡喃胺(例如根据WO 2013/083216)和二氢吖啶衍生物(例如根据WO 2012/150001)。
所述电子器件的阴极优选包含具有低逸出功的金属、金属合金或多层结构,其包含不同金属例如碱土金属、碱金属、主族金属或镧系元素(例如Ca、Ba、Mg、Al、In、Mg、Yb、Sm等)。同样合适的是包含碱金属或碱土金属和银的合金,例如包含镁和银的合金。在多层结构情况下,除所述金属之外,还可使用具有相对高逸出功的其它金属例如Ag或Al,在这种情况下,通常使用金属的组合,例如Ca/Ag、Mg/Ag或Ag/Ag。也可以优选在金属阴极和有机半导体之间引入具有高介电常数的材料的薄中间层。适合于这个目的的例如是碱金属氟化物或碱土金属氟化物,但也可以是相应的氧化物或碳酸盐(例如LiF、Li2O、BaF2、MgO、NaF、CsF、Cs2CO3等)。此外,羟基喹啉锂(LiQ)可用于这个目的。这个层的层厚度优选为0.5至5nm。
所述阳极优选包含具有高逸出功的材料。所述阳极优选具有相对于真空大于4.5eV的逸出功。一方面,适于这个目的的是具有高氧化还原电势的金属,例如Ag、Pt或Au。另一方面,也可以优选金属/金属氧化物电极(例如Al/Ni/NiOx、Al/PtOx)。对于一些应用,至少一个电极必须是透明的或部分透明的,以利于有机材料辐射(有机太阳能电池)或光的耦合输出(OLED、O-laser)。此处优选的阳极材料是导电性混合金属氧化物。特别优选的是氧化铟锡(ITO)或氧化铟锌(IZO)。此外优选的是导电性掺杂有机材料,特别是导电性掺杂聚合物。此外,所述阳极也可由多个层组成,例如由ITO的内层和金属氧化物,优选氧化钨、氧化钼或氧化钒的外层组成。
在制造期间,所述电子器件被适当地(取决于应用)结构化,提供以接触并最后被密封,因为根据本发明的器件的寿命在水和/或空气存在下缩短。
在一个优选的实施方式中,根据本发明的电子器件的特征在于,借助于升华方法涂布一个或多个层,其中在真空升华单元中,在小于10-5毫巴、优选小于10-6毫巴的初始压力下通过气相沉积施加所述材料。然而,所述初始压力在此处也可甚至更低,例如小于10-7毫巴。
同样优选的是一种如下的有机电致发光器件,其特征在于通过OVPD(有机气相沉积)方法或借助于载气升华来涂布一个或多个层,其中在10-5毫巴至1巴的压力下施加所述材料。这种方法的特别例子是OVJP(有机蒸气喷印)方法,其中所述材料通过喷嘴直接施加并且因此是结构化的(例如M.S.Arnold等,Appl.Phys.Lett.(应用物理学快报)2008,92,053301)。
此外优选的是一种如下的有机电致发光器件,其特征在于从溶液中例如通过旋涂,或借助于任何希望的印刷方法例如丝网印刷、柔性版印刷、喷嘴印刷或平版印刷,但是特别优选LITI(光引发热成像,热转印)或喷墨印刷,来产生一个或多个层。对于这种目的,可溶性的式(I)化合物是必要的。可通过所述化合物的合适取代来实现高的溶解性。
为制造根据本发明的有机电致发光器件,此外优选从溶液施加一个或多个层并通过升华方法施加一个或多个层。
根据本发明,包含一种或多种式(I)化合物的电子器件可以用于显示器中,用作照明应用中的光源和用作医疗和/或美容应用(例如光线疗法)中的光源。
因此,本发明还涉及根据本发明的化合物和包含所述化合物的器件用于治疗、预防和诊断疾病的用途。此外,本发明还涉及根据本发明的化合物和包含所述化合物的器件用于治疗和预防美容病变的用途。
关于有机电致发光器件用于光线疗法中和用于治疗和预防美容病变的用途的细节公开于WO 2011/069590和WO 2011/110277中。在这方面的公开内容被并入本申请的公开内容中。
光疗法或光线疗法被用于许多医学和/或美容领域中。因此,根据本发明的化合物和包含这些化合物的器件可用于治疗和/或预防和/或诊断本领域普通技术人员考虑使用光疗法的所有疾病和/或美容应用中。除了照射之外,术语光疗法也包括光动力学疗法(PDT)以及一般性消毒和灭菌。
具体实施方式
实施例
以下实施例用于示例本发明。它们不应理解为限制性的。
A)合成实施例
除非另外说明,否则在保护性气体气氛下在干燥溶剂中进行以下合成。
前体的合成:
实施例Int-1a:2-苯基-3,9-二氢-1,3,9-三氮杂环戊烯并[b]芴
将5g(50mmol)苯甲醛逐滴加入含9.8g(50mmol)的9H-咔唑-2,3-二胺的300ml DMF和10ml浓硫酸中,并且将混合物在室温下搅拌2小时。将所述混合物加入500g冰中并且用二氯甲烷萃取。将有机相用4×50ml H2O洗涤,经MgSO4干燥,并且在真空中去除溶剂。通过重结晶获得纯产物。根据HPLC的产物的含量为98%,其总产率为7.3g(25mmol,52%)。
可以类似地获得以下化合物:
| 实施例 | 产率 |
| Int-1b | 54% |
| Int-1c | 49% |
| Int-1d | 66% |
| Int-1e | 53% |
根据本发明的化合物的合成:
实施例2a:2-(4-咔唑-9-基苯基)-3-(4,6-二苯基嘧啶-2-基)-3H-9-硫杂-1,3-二氮杂环戊烯并[b]芴
在保护性气体气氛下将13.1g(28.2mmol)的2-(4-咔唑-9-基苯基)-3H-9-硫杂-1,3-二氮杂环戊烯并[b]芴溶解于225ml二甲基甲酰胺中,并且加入1.5g NaH(60%,于矿物油中)(37.5mmol)。在室温下1小时后,逐滴加入2-氯-4,6-二苯基-1,3,5-三嗪(8.5g,31.75mmol)于75ml二甲基甲酰胺中的溶液。然后将反应混合物在室温下搅拌12小时。此后,将反应混合物倒在冰上并用二氯甲烷萃取三次。将合并的有机相经Na2SO4干燥并蒸发。将残余物用热甲苯萃取并从甲苯中重结晶,最后在高真空中升华。纯度为99.9%。产率为14.8g(21mmol,80%)。
可以类似地获得以下化合物:
| 实施例 | 产率 |
| 2b | 58% |
| 2c | 67% |
可以用2当量的NaH和2当量的2-氯-4,6-二苯基-1,3,5-三嗪类似地获得以下化合物:
| 实施例 | 产率 |
| 2d | 69% |
| 2e | 77% |
| 2f | 73% |
实施例3a:2-苯基-1-(9-苯基-9H-咔唑-3-基)-1H-苯并[4',5']呋喃并[2',3':4,5]苯并[1,2-d]咪唑
将13.5g(42.12mmol)的3-溴-9-苯基-9H-咔唑、13.2g(47mmol)的2-苯基-1H-苯并[4',5']呋喃并[2',3':4,5]苯并[1,2-d]咪唑和29.2gRb2CO3悬浮在250ml对二甲苯中。向这种悬浮液中加入0.95g(4.2mmol)的Pd(OAc)2和12.6ml的1M三叔丁基膦溶液。将反应混合物回流加热16小时。在冷却后,分离出有机相,用200ml水洗涤三次并且随后蒸发至干。将残余物用热甲苯萃取,从甲苯中重结晶并且最后在高真空中升华。纯度为99.9%。产率:18g(34mmol),理论值的76%。
可以类似地获得以下化合物:
| 实施例 | 产率 |
| 3b | 76% |
| 3c | 85% |
| 3d | 56% |
| 3e | 76% |
| 3f | 41% |
| 3g | 53% |
可以用2当量的3-溴-9-苯基-9H-咔唑类似地获得以下化合物:
| 实施例 | 产率 |
| 3h | 64% |
| 3j | 55% |
实施例4a:2-咔唑-9-基-9-氧杂-3-硫杂-1-氮杂环戊烯并[b]芴
将500ml甲苯、2.3g(2.5mmol)的三(二苄叉基丙酮)二钯(0)、1Mt-Bu3P的10ml甲苯溶液和11.5g(120mmol)的叔丁醇钠加入15.6g(50mmol)的2,2-二溴-1,1-联苯中。随后加入9.6g(40mmol)的9-氧杂-3-硫杂-1-氮杂环戊烯并[b]芴-2-基胺。将批料在110℃下加热20小时,然后冷却至室温,并且加入400ml水。用乙酸乙酯萃取混合物,然后将合并的有机相经硫酸钠干燥,并且在减压下蒸发。使残余物从甲苯中和从二氯甲烷/异丙醇中重结晶。产率为8.5g(22mmol),对应于理论值的55%。
可以类似地获得以下化合物:
其它参照材料是:
B)根据本发明的化合物和参照材料的量子化学模拟
经由量子化学计算来确定有机化合物的HOMO和LUMO位置和三重态/单重态能级。为此,使用“Gaussian03W”程序包(高斯公司(Gaussian Inc.))。为了计算不含金属的有机物质,首先利用半经验的“基态/半经验/默认自旋/AM1”方法(电荷0/自旋单重态)进行几何结构优化。随后基于优化的几何结构进行能量计算。其中,使用具有“6-31G(d)”基集(电荷0/自旋单重态)的“TD-SCF/DFT/默认自旋/B3PW91”方法。最重要的结果是HOMO/LUMO能级以及三重态和单重态激发态的能量。第一激发单重态和第一激发三重态是最重要的并且被称为T1和S1。能量计算得到以哈特里单位计量的HOMO HEh或LUMO LEh。由此如下确定HOMO和LUMO值,其单位为电子伏特,其中这些关系来自于参照循环伏安法测量进行校准:
HOMO(eV)=((HEh*27.212)-0.9899)/1.1206
LUMO(eV)=((LEh*27.212)-2.0041)/1.385
为了本申请的目的,这些值被视为所述材料的HOMO能级或LUMO能级的能量位置。作为实例,从化合物2a的计算(也参见表1)获得-0.20047哈特里的HOMO和-0.07772哈特里的LUMO,其对应于-5.75eV的校准HOMO和-2.97eV的校准LUMO。
以下实施例显示,对于OLED中的多种用途(作为ETM、作为HTM、作为TMM),可如何通过量子化学计算从具有本发明共有基本结构的化合物中确定在每种情况下理想地合适的化合物。
表1:根据本发明的化合物和作为参照的TMM1的能级的总结
| HOMO[eV] | LUMO[eV] | T1[eV] | 优选用途 | |
| TMM1 | -5.68 | -2.39 | 2.84 | 基质和ETM |
| 2a | -5.75 | -2.97 | 2.52 | ETM |
| 2b | -5.99 | -2.95 | 2.59 | 基质和ETM |
| 2c | -6.02 | -2.98 | 2.66 | 基质和ETM |
| 2d | -5.80 | -2.94 | 2.48 | ETM |
| 2e | -5.95 | -2.90 | 2.54 | ETM |
| 2f | -5.65 | -2.79 | 2.55 | ETM |
| 3a | -5.82 | -2.42 | 2.70 | 基质 |
| 3b | -5.87 | -2.49 | 2.70 | 基质 |
| 3c | -5.42 | -2.54 | 2.52 | HTM |
| 3d | -5.15 | -2.34 | 2.56 | 基质和HTM |
| 3e | -5.97 | -2.48 | 2.86 | 基质 |
| 3f | -4.90 | -2.20 | 2.56 | 基质和HTM |
| 3g | -5.20 | -2.55 | 2.26 | HTM |
| 3h | -5.30 | -2.30 | 2.67 | 基质 |
| 3j | -5.33 | -2.40 | 2.59 | 基质和HTM |
| 4a | -5.96 | -2.60 | 2.70 | 基质 |
| 4b | -6.33 | -3.56 | 2.34 | ETM |
| 4c | -5.76 | -2.60 | 2.63 | 基质 |
TEG1的T1能级是2.52eV,其获自TEG1于甲苯中的光致发光光谱的起振处。因此,TEG1的最佳基质材料应具有>2.52eV、优选≥2.57eV的T1能级。来自表1中在“优选用途”下指明基质的情况下的本发明化合物因此特别适于这种用途。
为了用作ETM,化合物应理想地具有<-2.6eV的LUMO,因此来自表1中在“优选用途”下指明ETM的情况下的本发明化合物是特别合适的。以及作为HTM,化合物应优选具有≥-5.45eV的HOMO,因此来自表1中在“优选用途”下指明HTM的情况下的本发明化合物是特别合适的。
C)器件实施例
包含用于OLED中的基质材料和TEG1的溶液和组合物的制备
如下制备具有表2中的组成的溶液:首先,将200mg基质材料和50mg TEG1溶解在10ml氯苯中并搅拌至溶液透明。使用MilliporeMillex LS疏水性PTFE 5.0μm过滤器来过滤所述溶液。
表2:溶液的组成
| 组成 | 比率(以重量计) | 浓度 | |
| 参照溶液 | TMM1+TEG1 | 75%:25% | 25mg/ml |
| 溶液1 | 2b+TEG1 | 75%:25% | 25mg/ml |
| 溶液2 | 2c+TEG1 | 75%:25% | 25mg/ml |
| 溶液3 | 3a+TEG1 | 75%:25% | 25mg/ml |
| 溶液4 | 3b+TEG1 | 75%:25% | 25mg/ml |
| 溶液5 | 3d+TEG1 | 75%:25% | 25mg/ml |
| 溶液6 | 3e+TEG1 | 75%:25% | 25mg/ml |
| 溶液7 | 3f+TEG1 | 75%:25% | 25mg/ml |
| 溶液8 | 3h+TEG1 | 75%:25% | 25mg/ml |
| 溶液9 | 3j+TEG1 | 75%:25% | 25mg/ml |
| 溶液11 | 4a+TEG1 | 75%:25% | 25mg/ml |
| 溶液12 | 4c+TEG1 | 75%:25% | 25mg/ml |
使用所述溶液以制造OLED的发光层。可通过从所述溶液中蒸发溶剂来获得相应的固体组成。这可以用于制备其它制剂。
OLED的制造
根据以下步骤,使用具有表2中的组成的相应溶液来制造具有ITO/PEDOT/中间层/EML/阴极结构的参照OLED至OLED12:
1)通过旋涂将80nm PEDOT(CleviosTM P VP AI 4083)涂布至涂有ITO的玻璃基底,并且通过在120℃下加热10分钟来干燥。
2)通过在手套箱中旋涂HIL-012(Merck KGaA)的甲苯溶液(浓度为0.5重量%)来涂布20nm中间层。
3)通过在手套箱中在180℃下加热1小时来干燥所述中间层。
4)通过旋涂根据表2的相应溶液来涂布80nm发光层。
5)通过在180℃下加热10分钟来干燥器件。
6)通过气相沉积施加Ba/Al阴极(3nm+150nm)。
7)封装所述器件。
结果的测量和比较
通过标准方法表征以这种方式获得的OLED。此处测量以下性质:UIL特征、电致发光光谱、颜色坐标、效率和工作电压。将结果总结于表3中,其中参照OLED用作根据现有技术的对比。在表3中,U开代表使用电压,并且U(100)代表在100cd/m2下的电压。
表3:根据本发明的OLED和对比例的测量结果
如从表3可见,在使用根据本发明的化合物作为基质材料时,在所有情况下获得在工作电压和效率方面显著改进的磷光OLED。所有OLED都表现出类似的颜色坐标。
所观察到的技术效果并不限于所示出的体系。它们也可在例如使用其它磷光发光体和在使用其它共基质时得到实现。
Claims (15)
1.一种电子器件,其包含阳极、阴极和至少一个有机层,所述有机层包含至少一种式(I)化合物
其中:
E在每次出现时相同或不同地选自单键、B(R1)、C=O、N(R1)、P(R1)、P(=O)R1、O、S、S=O和S(=O)2,其中两个基团E不能都是单键;
T在每次出现时相同或不同地是CR1或N;
W是CR1或N;
Y是N(R1)、O或S;
Z在每次出现时相同或不同地是CR2或N;
R1在每次出现时相同或不同地是H,D,F,C(=O)R3,CN,Si(R3)3,N(R3)2,P(=O)(R3)2,S(=O)R3,S(=O)2R3,具有1至20个C原子的直链烷基或烷氧基基团,或具有3至20个C原子的支链或环状的烷基或烷氧基基团,或具有2至20个C原子的烯基或炔基基团,其中上述基团可各自被一个或多个基团R3取代,并且其中上述基团中的一个或多个CH2基团可被-R3C=CR3-、-C≡C-、Si(R3)2、C=O、C=NR3、-C(=O)O-、-C(=O)NR3-、NR3、P(=O)(R3)、-O-、-S-、SO或SO2代替,并且其中上述基团中的一个或多个H原子可被D、F或CN代替,或具有5至30个芳族环原子的芳族或杂芳族环系,所述环系在每种情况下可被一个或多个基团R3取代,或具有5至30个芳族环原子的芳氧基或杂芳氧基基团,所述基团可被一个或多个基团R3取代;
R2在每次出现时相同或不同地是H,D,F,C(=O)R3,CN,Si(R3)3,N(R3)2,P(=O)(R3)2,S(=O)R3,S(=O)2R3,具有1至20个C原子的直链烷基或烷氧基基团,或具有3至20个C原子的支链或环状的烷基或烷氧基基团,或具有2至20个C原子的烯基或炔基基团,其中上述基团可各自被一个或多个基团R3取代,并且其中上述基团中的一个或多个CH2基团可被-R3C=CR3-、-C≡C-、Si(R3)2、C=O、C=NR3、-C(=O)O-、-C(=O)NR3-、NR3、P(=O)(R3)、-O-、-S-、SO或SO2代替,并且其中上述基团中的一个或多个H原子可被D、F或CN代替,或具有5至30个芳族环原子的芳族或杂芳族环系,所述环系在每种情况下可被一个或多个基团R3取代,或具有5至30个芳族环原子的芳氧基或杂芳氧基基团,所述基团可被一个或多个基团R3取代,其中两个或更多个基团R2可彼此连接并且可形成脂族或杂脂族环;
R3在每次出现时相同或不同地是H,D,F,C(=O)R4,CN,Si(R4)3,N(R4)2,P(=O)(R4)2,S(=O)R4,S(=O)2R4,具有1至20个C原子的直链烷基或烷氧基基团,或具有3至20个C原子的支链或环状的烷基或烷氧基基团,或具有2至20个C原子的烯基或炔基基团,其中上述基团可各自被一个或多个基团R4取代,并且其中上述基团中的一个或多个CH2基团可被-R4C=CR4-、-C≡C-、Si(R4)2、C=O、C=NR4、-C(=O)O-、-C(=O)NR4-、NR4、P(=O)(R4)、-O-、-S-、SO或SO2代替,并且其中上述基团中的一个或多个H原子可被D、F或CN代替,或具有5至30个芳族环原子的芳族或杂芳族环系,所述环系在每种情况下可被一个或多个基团R4取代,或具有5至30个芳族环原子的芳氧基或杂芳氧基基团,所述基团可被一个或多个基团R4取代,其中两个或更多个基团R3可彼此连接并且可形成环;
R4在每次出现时相同或不同地是H,D,F,或具有1至20个C原子的脂族、芳族或杂芳族有机基团,其中一个或多个H原子还可被D或F代替;此处两个或更多个取代基R4可彼此连接并且可形成环;
n等于0或1;
其中所述式(I)化合物中的至少一个基团R1或R2选自具有5至40个芳族环原子的芳族或杂芳族环系,所述环系可被一个或多个基团R3取代。
2.根据权利要求1所述的电子器件,其特征在于所述式(I)化合物中的至少一个基团R1或R2选自含有至少一个以下基团的基团:
-具有5至20个芳族环原子的杂芳基基团,其含有至少一个具有两个或更多个选自N、O和S的杂原子的杂芳族五元环;
-具有6至20个芳族环原子的杂芳基基团,其含有至少一个具有一个或多个选自N、O和S的杂原子的杂芳族六元环;和
-咔唑基团。
3.根据权利要求1或2所述的电子器件,其特征在于所述式(I)化合物中的至少一个基团R1或R2选自式(Het-a)至(Het-e)的基团
其中
Ar1是具有5至20个芳族环原子的芳族或杂芳族环系,所述环系可被一个或多个基团R3取代;
V在每次出现时相同或不同地是N或CR3;
k等于0或1;
虚线指示与所述化合物的其余部分键合的键;
并且其中式(Het-a)、(Het-d)和(Het-e)中的环中的至少一个基团V等于N。
4.根据权利要求1至3中的一项或多项所述的电子器件,其特征在于式(I)中的标记n等于1。
5.根据权利要求1至4中的一项或多项所述的电子器件,其特征在于式(I)中的所有基团Z等于CR2。
6.根据权利要求1至5中的一项或多项所述的电子器件,其特征在于式(I)中的基团W等于CR1。
7.根据权利要求1至6中的一项或多项所述的电子器件,其特征在于式(I)中的基团E在每次出现时相同或不同地是单键、C=O、N(R1)、O、S、S=O或S(=O)2,其中两个基团E不能都是单键。
8.根据权利要求1至7中的一项或多项所述的电子器件,其特征在于所述电子器件选自有机集成电路(OIC)、有机场效应晶体管(OFET)、有机薄膜晶体管(OTFT)、有机发光晶体管(OLET)、有机太阳能电池(OSC)、有机光学检测器、有机光感受器、有机场猝熄器件(OFQD)、有机发光电化学电池(OLEC)、有机激光二极管(O-laser)和有机电致发光器件(OLED)。
9.根据权利要求1至8中的一项或多项所述的电子器件,其特征在于所述电子器件在电子传输层中包含所述式(I)化合物,或者其特征在于所述电子器件在发光层中包含所述式(I)化合物作为基质材料与一种或多种掺杂剂组合。
10.式(I-1)的化合物,
其中:
E2在每次出现时相同或不同地是单键、C=O、N(R1)、O或S,其中两个基团E2不能都是单键;
其余符号如权利要求1中所限定的;
并且其中至少一个基团R1选自如权利要求3中所限定的式(Het-a)至(Het-e)的基团。
11.根据权利要求10所述的化合物,其特征在于式(I-1)中的基团Y等于NR1。
12.根据权利要求10或11所述的化合物,其特征在于式(I-1)中的基团E2在每次出现时相同或不同地是单键、NR1、O或S,其中两个基团E2不能都是单键。
13.一种用于制备根据权利要求10至12中的一项或多项所述的式(I-1)化合物的方法,其特征在于首先制备杂芳族骨架,然后引入一个或多个芳基或杂芳基基团。
14.一种低聚物、聚合物或树枝状大分子,其含有一种或多种根据权利要求10至12中的一项或多项所述的式(I-1)化合物,其中一个或多个形成所述聚合物、低聚物或树枝状大分子的键可位于式(I-1)中被R1或R2取代的任何所希望位置处。
15.一种制剂,其包含至少一种根据权利要求10至12中的一项或多项所述的式(I-1)化合物或至少一种根据权利要求14所述的聚合物、低聚物或树枝状大分子和至少一种溶剂。
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