BRPI0609529A2 - processo para a preparação de compostos derivados de sulfamato-carboxilato e composto - Google Patents
processo para a preparação de compostos derivados de sulfamato-carboxilato e composto Download PDFInfo
- Publication number
- BRPI0609529A2 BRPI0609529A2 BRPI0609529-1A BRPI0609529A BRPI0609529A2 BR PI0609529 A2 BRPI0609529 A2 BR PI0609529A2 BR PI0609529 A BRPI0609529 A BR PI0609529A BR PI0609529 A2 BRPI0609529 A2 BR PI0609529A2
- Authority
- BR
- Brazil
- Prior art keywords
- compound
- formula
- optionally substituted
- salt
- solvate
- Prior art date
Links
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 title claims abstract description 167
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims abstract description 60
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 title claims abstract description 40
- -1 sulfamate carboxylate Chemical class 0.000 title abstract description 62
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 51
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 claims abstract description 45
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 claims abstract description 42
- 239000012453 solvate Substances 0.000 claims abstract description 37
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 28
- 239000000654 additive Substances 0.000 claims abstract description 22
- 230000000996 additive effect Effects 0.000 claims abstract description 17
- 125000003107 substituted aryl group Chemical group 0.000 claims abstract description 17
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 claims abstract description 9
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 claims abstract description 9
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 7
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 claims abstract description 7
- 125000005346 substituted cycloalkyl group Chemical group 0.000 claims abstract description 7
- ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N N,N-Dimethylformamide Chemical compound CN(C)C=O ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 27
- 125000000623 heterocyclic group Chemical group 0.000 claims description 19
- 125000003545 alkoxy group Chemical group 0.000 claims description 16
- 229910052736 halogen Inorganic materials 0.000 claims description 16
- 150000002367 halogens Chemical class 0.000 claims description 14
- KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N Isopropanol Chemical compound CC(C)O KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 12
- 125000003342 alkenyl group Chemical group 0.000 claims description 11
- 125000004452 carbocyclyl group Chemical group 0.000 claims description 7
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 claims description 6
- 230000001590 oxidative effect Effects 0.000 claims description 3
- 150000001412 amines Chemical class 0.000 claims description 2
- 125000003710 aryl alkyl group Chemical group 0.000 claims 1
- 125000001891 dimethoxy group Chemical group [H]C([H])([H])O* 0.000 claims 1
- 125000000118 dimethyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 claims 1
- 150000002431 hydrogen Chemical group 0.000 claims 1
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 abstract description 8
- 230000003301 hydrolyzing effect Effects 0.000 abstract description 4
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 abstract description 4
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 abstract 1
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 37
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 32
- 125000001424 substituent group Chemical group 0.000 description 26
- YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N Dichloromethane Chemical compound ClCCl YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 24
- XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N Ethyl acetate Chemical compound CCOC(C)=O XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 24
- ZMANZCXQSJIPKH-UHFFFAOYSA-N Triethylamine Chemical compound CCN(CC)CC ZMANZCXQSJIPKH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 21
- WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N Tetrahydrofuran Chemical compound C1CCOC1 WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 18
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 17
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N Sulfuric acid Chemical compound OS(O)(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 14
- HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M Sodium hydroxide Chemical compound [OH-].[Na+] HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 13
- UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N Benzene Chemical compound C1=CC=CC=C1 UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- 125000002877 alkyl aryl group Chemical group 0.000 description 10
- 125000004414 alkyl thio group Chemical group 0.000 description 10
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 10
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 125000002252 acyl group Chemical group 0.000 description 9
- 125000000753 cycloalkyl group Chemical group 0.000 description 9
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 description 9
- YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N tetrahydrofuran Natural products C=1C=COC=1 YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 125000004453 alkoxycarbonyl group Chemical group 0.000 description 8
- 235000019439 ethyl acetate Nutrition 0.000 description 8
- 239000002585 base Substances 0.000 description 7
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 description 7
- CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N Acetone Chemical compound CC(C)=O CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- WEVYAHXRMPXWCK-UHFFFAOYSA-N Acetonitrile Chemical compound CC#N WEVYAHXRMPXWCK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N Diethyl ether Chemical compound CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 6
- 125000003917 carbamoyl group Chemical group [H]N([H])C(*)=O 0.000 description 6
- 125000003178 carboxy group Chemical group [H]OC(*)=O 0.000 description 6
- VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N n-Hexane Chemical compound CCCCCC VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 125000001624 naphthyl group Chemical group 0.000 description 6
- 239000007800 oxidant agent Substances 0.000 description 6
- 125000002924 primary amino group Chemical group [H]N([H])* 0.000 description 6
- FYSNRJHAOHDILO-UHFFFAOYSA-N thionyl chloride Chemical compound ClS(Cl)=O FYSNRJHAOHDILO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 125000005036 alkoxyphenyl group Chemical group 0.000 description 5
- 125000003282 alkyl amino group Chemical group 0.000 description 5
- 125000005037 alkyl phenyl group Chemical group 0.000 description 5
- 125000004390 alkyl sulfonyl group Chemical group 0.000 description 5
- DYLIWHYUXAJDOJ-OWOJBTEDSA-N (e)-4-(6-aminopurin-9-yl)but-2-en-1-ol Chemical compound NC1=NC=NC2=C1N=CN2C\C=C\CO DYLIWHYUXAJDOJ-OWOJBTEDSA-N 0.000 description 4
- HEDRZPFGACZZDS-UHFFFAOYSA-N Chloroform Chemical compound ClC(Cl)Cl HEDRZPFGACZZDS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- MHAJPDPJQMAIIY-UHFFFAOYSA-N Hydrogen peroxide Chemical compound OO MHAJPDPJQMAIIY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- IMNFDUFMRHMDMM-UHFFFAOYSA-N N-Heptane Chemical compound CCCCCCC IMNFDUFMRHMDMM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N O-Xylene Chemical compound CC1=CC=CC=C1C CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- OFBQJSOFQDEBGM-UHFFFAOYSA-N Pentane Chemical compound CCCCC OFBQJSOFQDEBGM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N Pyridine Chemical compound C1=CC=NC=C1 JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000009739 binding Methods 0.000 description 4
- 125000004093 cyano group Chemical group *C#N 0.000 description 4
- 125000006517 heterocyclyl carbonyl group Chemical group 0.000 description 4
- CTSLXHKWHWQRSH-UHFFFAOYSA-N oxalyl chloride Chemical compound ClC(=O)C(Cl)=O CTSLXHKWHWQRSH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- XHXFXVLFKHQFAL-UHFFFAOYSA-N phosphoryl trichloride Chemical compound ClP(Cl)(Cl)=O XHXFXVLFKHQFAL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- GEHJYWRUCIMESM-UHFFFAOYSA-L sodium sulfite Chemical compound [Na+].[Na+].[O-]S([O-])=O GEHJYWRUCIMESM-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 4
- 239000008096 xylene Substances 0.000 description 4
- QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N Acetic acid Chemical compound CC(O)=O QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- XTHFKEDIFFGKHM-UHFFFAOYSA-N Dimethoxyethane Chemical compound COCCOC XTHFKEDIFFGKHM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- FXHOOIRPVKKKFG-UHFFFAOYSA-N N,N-Dimethylacetamide Chemical compound CN(C)C(C)=O FXHOOIRPVKKKFG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- MUBZPKHOEPUJKR-UHFFFAOYSA-N Oxalic acid Chemical compound OC(=O)C(O)=O MUBZPKHOEPUJKR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M Potassium hydroxide Chemical compound [OH-].[K+] KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- OUUQCZGPVNCOIJ-UHFFFAOYSA-M Superoxide Chemical compound [O-][O] OUUQCZGPVNCOIJ-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- 125000004423 acyloxy group Chemical group 0.000 description 3
- 125000004466 alkoxycarbonylamino group Chemical group 0.000 description 3
- 125000005115 alkyl carbamoyl group Chemical group 0.000 description 3
- 125000005189 alkyl hydroxy group Chemical group 0.000 description 3
- 125000003236 benzoyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(C([H])=C1[H])C(*)=O 0.000 description 3
- KRKNYBCHXYNGOX-UHFFFAOYSA-N citric acid Chemical compound OC(=O)CC(O)(C(O)=O)CC(O)=O KRKNYBCHXYNGOX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 3
- 125000000392 cycloalkenyl group Chemical group 0.000 description 3
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 3
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 3
- 125000001841 imino group Chemical group [H]N=* 0.000 description 3
- 239000000543 intermediate Substances 0.000 description 3
- 238000002955 isolation Methods 0.000 description 3
- 150000002978 peroxides Chemical class 0.000 description 3
- 125000000951 phenoxy group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(O*)C([H])=C1[H] 0.000 description 3
- 239000002002 slurry Substances 0.000 description 3
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 3
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 3
- 239000008399 tap water Substances 0.000 description 3
- 235000020679 tap water Nutrition 0.000 description 3
- 125000003396 thiol group Chemical class [H]S* 0.000 description 3
- 230000009466 transformation Effects 0.000 description 3
- RYHBNJHYFVUHQT-UHFFFAOYSA-N 1,4-Dioxane Chemical compound C1COCCO1 RYHBNJHYFVUHQT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ZLJKQOWJEZSNBE-UHFFFAOYSA-N 2-methylpropane-2-sulfinyl chloride Chemical compound CC(C)(C)S(Cl)=O ZLJKQOWJEZSNBE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QWMFKVNJIYNWII-UHFFFAOYSA-N 5-bromo-2-(2,5-dimethylpyrrol-1-yl)pyridine Chemical compound CC1=CC=C(C)N1C1=CC=C(Br)C=N1 QWMFKVNJIYNWII-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-O Ammonium Chemical compound [NH4+] QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-O 0.000 description 2
- DKPFZGUDAPQIHT-UHFFFAOYSA-N Butyl acetate Natural products CCCCOC(C)=O DKPFZGUDAPQIHT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N Chlorine atom Chemical compound [Cl] ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XDTMQSROBMDMFD-UHFFFAOYSA-N Cyclohexane Chemical compound C1CCCCC1 XDTMQSROBMDMFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PXGOKWXKJXAPGV-UHFFFAOYSA-N Fluorine Chemical compound FF PXGOKWXKJXAPGV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- AFVFQIVMOAPDHO-UHFFFAOYSA-N Methanesulfonic acid Chemical compound CS(O)(=O)=O AFVFQIVMOAPDHO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- JGFZNNIVVJXRND-UHFFFAOYSA-N N,N-Diisopropylethylamine (DIPEA) Chemical compound CCN(C(C)C)C(C)C JGFZNNIVVJXRND-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LRHPLDYGYMQRHN-UHFFFAOYSA-N N-Butanol Chemical compound CCCCO LRHPLDYGYMQRHN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KFSLWBXXFJQRDL-UHFFFAOYSA-N Peracetic acid Chemical compound CC(=O)OO KFSLWBXXFJQRDL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N Phosphoric acid Chemical compound OP(O)(O)=O NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- UIIMBOGNXHQVGW-UHFFFAOYSA-M Sodium bicarbonate Chemical compound [Na+].OC([O-])=O UIIMBOGNXHQVGW-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- WQDUMFSSJAZKTM-UHFFFAOYSA-N Sodium methoxide Chemical compound [Na+].[O-]C WQDUMFSSJAZKTM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- DKGAVHZHDRPRBM-UHFFFAOYSA-N Tert-Butanol Chemical compound CC(C)(C)O DKGAVHZHDRPRBM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000002777 acetyl group Chemical group [H]C([H])([H])C(*)=O 0.000 description 2
- 150000008065 acid anhydrides Chemical class 0.000 description 2
- 239000012190 activator Substances 0.000 description 2
- 125000002723 alicyclic group Chemical group 0.000 description 2
- 125000005530 alkylenedioxy group Chemical group 0.000 description 2
- 125000004397 aminosulfonyl group Chemical group NS(=O)(=O)* 0.000 description 2
- 125000004391 aryl sulfonyl group Chemical group 0.000 description 2
- 125000001164 benzothiazolyl group Chemical group S1C(=NC2=C1C=CC=C2)* 0.000 description 2
- 150000001602 bicycloalkyls Chemical group 0.000 description 2
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 description 2
- 239000007806 chemical reaction intermediate Substances 0.000 description 2
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 2
- 239000000460 chlorine Substances 0.000 description 2
- 229910052801 chlorine Inorganic materials 0.000 description 2
- MVPPADPHJFYWMZ-UHFFFAOYSA-N chlorobenzene Chemical compound ClC1=CC=CC=C1 MVPPADPHJFYWMZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000000000 cycloalkoxy group Chemical group 0.000 description 2
- 125000006639 cyclohexyl carbonyl group Chemical group 0.000 description 2
- 125000004663 dialkyl amino group Chemical group 0.000 description 2
- 239000003814 drug Substances 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 150000002148 esters Chemical class 0.000 description 2
- 239000000706 filtrate Substances 0.000 description 2
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 description 2
- 150000004820 halides Chemical class 0.000 description 2
- 125000001188 haloalkyl group Chemical group 0.000 description 2
- 125000005844 heterocyclyloxy group Chemical group 0.000 description 2
- FUZZWVXGSFPDMH-UHFFFAOYSA-N hexanoic acid Chemical compound CCCCCC(O)=O FUZZWVXGSFPDMH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000007062 hydrolysis Effects 0.000 description 2
- 238000006460 hydrolysis reaction Methods 0.000 description 2
- 125000002768 hydroxyalkyl group Chemical group 0.000 description 2
- 125000002883 imidazolyl group Chemical group 0.000 description 2
- 125000001972 isopentyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(C([H])([H])[H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 2
- 125000001449 isopropyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])[H] 0.000 description 2
- 125000001786 isothiazolyl group Chemical group 0.000 description 2
- USSBDBZGEDUBHE-UHFFFAOYSA-L magnesium;2-oxidooxycarbonylbenzoate Chemical compound [Mg+2].[O-]OC(=O)C1=CC=CC=C1C([O-])=O USSBDBZGEDUBHE-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- BDAGIHXWWSANSR-UHFFFAOYSA-N methanoic acid Natural products OC=O BDAGIHXWWSANSR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 2
- 125000002757 morpholinyl group Chemical group 0.000 description 2
- 125000004593 naphthyridinyl group Chemical group N1=C(C=CC2=CC=CN=C12)* 0.000 description 2
- VLTRZXGMWDSKGL-UHFFFAOYSA-N perchloric acid Chemical compound OCl(=O)(=O)=O VLTRZXGMWDSKGL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BWHMMNNQKKPAPP-UHFFFAOYSA-L potassium carbonate Chemical compound [K+].[K+].[O-]C([O-])=O BWHMMNNQKKPAPP-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- BDERNNFJNOPAEC-UHFFFAOYSA-N propan-1-ol Chemical compound CCCO BDERNNFJNOPAEC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000006239 protecting group Chemical group 0.000 description 2
- 125000003226 pyrazolyl group Chemical group 0.000 description 2
- UMJSCPRVCHMLSP-UHFFFAOYSA-N pyridine Natural products COC1=CC=CN=C1 UMJSCPRVCHMLSP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000000714 pyrimidinyl group Chemical group 0.000 description 2
- 125000002294 quinazolinyl group Chemical group N1=C(N=CC2=CC=CC=C12)* 0.000 description 2
- 125000005493 quinolyl group Chemical group 0.000 description 2
- 239000011541 reaction mixture Substances 0.000 description 2
- 230000035484 reaction time Effects 0.000 description 2
- 239000002464 receptor antagonist Substances 0.000 description 2
- 229940044551 receptor antagonist Drugs 0.000 description 2
- JQWHASGSAFIOCM-UHFFFAOYSA-M sodium periodate Chemical compound [Na+].[O-]I(=O)(=O)=O JQWHASGSAFIOCM-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- 235000010265 sodium sulphite Nutrition 0.000 description 2
- 239000011877 solvent mixture Substances 0.000 description 2
- 229920002994 synthetic fiber Polymers 0.000 description 2
- 125000000999 tert-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C(*)(C([H])([H])[H])C([H])([H])[H] 0.000 description 2
- JOXIMZWYDAKGHI-UHFFFAOYSA-N toluene-4-sulfonic acid Chemical compound CC1=CC=C(S(O)(=O)=O)C=C1 JOXIMZWYDAKGHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000000008 (C1-C10) alkyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000006570 (C5-C6) heteroaryl group Chemical group 0.000 description 1
- GIUHFGBKVHDYIJ-UHFFFAOYSA-N 1-(tert-butylsulfonylamino)cyclohexane-1-carboxylic acid Chemical compound CC(C)(C)S(=O)(=O)NC1(C(O)=O)CCCCC1 GIUHFGBKVHDYIJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LMDZBCPBFSXMTL-UHFFFAOYSA-N 1-ethyl-3-(3-dimethylaminopropyl)carbodiimide Chemical compound CCN=C=NCCCN(C)C LMDZBCPBFSXMTL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000005160 1H NMR spectroscopy Methods 0.000 description 1
- YBYIRNPNPLQARY-UHFFFAOYSA-N 1H-indene Natural products C1=CC=C2CC=CC2=C1 YBYIRNPNPLQARY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UTQNKKSJPHTPBS-UHFFFAOYSA-N 2,2,2-trichloroethanone Chemical group ClC(Cl)(Cl)[C]=O UTQNKKSJPHTPBS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XYPISWUKQGWYGX-UHFFFAOYSA-N 2,2,2-trifluoroethaneperoxoic acid Chemical compound OOC(=O)C(F)(F)F XYPISWUKQGWYGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YQTCQNIPQMJNTI-UHFFFAOYSA-N 2,2-dimethylpropan-1-one Chemical group CC(C)(C)[C]=O YQTCQNIPQMJNTI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000003229 2-methylhexyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])(C([H])([H])[H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- FPQQSJJWHUJYPU-UHFFFAOYSA-N 3-(dimethylamino)propyliminomethylidene-ethylazanium;chloride Chemical compound Cl.CCN=C=NCCCN(C)C FPQQSJJWHUJYPU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NHQDETIJWKXCTC-UHFFFAOYSA-N 3-chloroperbenzoic acid Chemical compound OOC(=O)C1=CC=CC(Cl)=C1 NHQDETIJWKXCTC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OSWFIVFLDKOXQC-UHFFFAOYSA-N 4-(3-methoxyphenyl)aniline Chemical compound COC1=CC=CC(C=2C=CC(N)=CC=2)=C1 OSWFIVFLDKOXQC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YGQHGJMTFCIGEP-UHFFFAOYSA-N 4-(tert-butylsulfonylamino)cyclohexane-1-carboxylic acid Chemical compound CC(C)(C)S(=O)(=O)NC1CCC(C(O)=O)CC1 YGQHGJMTFCIGEP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DRNGLYHKYPNTEA-UHFFFAOYSA-N 4-azaniumylcyclohexane-1-carboxylate Chemical compound NC1CCC(C(O)=O)CC1 DRNGLYHKYPNTEA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZCYVEMRRCGMTRW-UHFFFAOYSA-N 7553-56-2 Chemical compound [I] ZCYVEMRRCGMTRW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N Ammonia Chemical compound N QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OMPJBNCRMGITSC-UHFFFAOYSA-N Benzoylperoxide Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(=O)OOC(=O)C1=CC=CC=C1 OMPJBNCRMGITSC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N Bromine atom Chemical compound [Br] WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OYPRJOBELJOOCE-UHFFFAOYSA-N Calcium Chemical compound [Ca] OYPRJOBELJOOCE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZKQDCIXGCQPQNV-UHFFFAOYSA-N Calcium hypochlorite Chemical compound [Ca+2].Cl[O-].Cl[O-] ZKQDCIXGCQPQNV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QOSSAOTZNIDXMA-UHFFFAOYSA-N Dicylcohexylcarbodiimide Chemical compound C1CCCCC1N=C=NC1CCCCC1 QOSSAOTZNIDXMA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M Ilexoside XXIX Chemical compound C[C@@H]1CC[C@@]2(CC[C@@]3(C(=CC[C@H]4[C@]3(CC[C@@H]5[C@@]4(CC[C@@H](C5(C)C)OS(=O)(=O)[O-])C)C)[C@@H]2[C@]1(C)O)C)C(=O)O[C@H]6[C@@H]([C@H]([C@@H]([C@H](O6)CO)O)O)O.[Na+] DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M 0.000 description 1
- FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N Magnesium Chemical compound [Mg] FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N Nitric acid Chemical compound O[N+]([O-])=O GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZLMJMSJWJFRBEC-UHFFFAOYSA-N Potassium Chemical compound [K] ZLMJMSJWJFRBEC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XBDQKXXYIPTUBI-UHFFFAOYSA-M Propionate Chemical compound CCC([O-])=O XBDQKXXYIPTUBI-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 239000005708 Sodium hypochlorite Substances 0.000 description 1
- KXKVLQRXCPHEJC-UHFFFAOYSA-N acetic acid trimethyl ester Natural products COC(C)=O KXKVLQRXCPHEJC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000002378 acidificating effect Effects 0.000 description 1
- 125000003647 acryloyl group Chemical group O=C([*])C([H])=C([H])[H] 0.000 description 1
- 229910052783 alkali metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052784 alkaline earth metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000005904 alkaline hydrolysis reaction Methods 0.000 description 1
- 125000005090 alkenylcarbonyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000004448 alkyl carbonyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000005153 alkyl sulfamoyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000004644 alkyl sulfinyl group Chemical group 0.000 description 1
- 229910000147 aluminium phosphate Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000007112 amidation reaction Methods 0.000 description 1
- 125000005428 anthryl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C2C([H])=C3C(*)=C([H])C([H])=C([H])C3=C([H])C2=C1[H] 0.000 description 1
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 1
- 125000005129 aryl carbonyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000004429 atom Chemical group 0.000 description 1
- 125000004618 benzofuryl group Chemical group O1C(=CC2=C1C=CC=C2)* 0.000 description 1
- 125000004619 benzopyranyl group Chemical group O1C(C=CC2=C1C=CC=C2)* 0.000 description 1
- 125000005874 benzothiadiazolyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000004196 benzothienyl group Chemical group S1C(=CC2=C1C=CC=C2)* 0.000 description 1
- 125000003354 benzotriazolyl group Chemical group N1N=NC2=C1C=CC=C2* 0.000 description 1
- 125000002618 bicyclic heterocycle group Chemical group 0.000 description 1
- GDTBXPJZTBHREO-UHFFFAOYSA-N bromine Substances BrBr GDTBXPJZTBHREO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052794 bromium Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000004369 butenyl group Chemical group C(=CCC)* 0.000 description 1
- 125000004063 butyryl group Chemical group O=C([*])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 239000011575 calcium Substances 0.000 description 1
- 229910052791 calcium Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000000609 carbazolyl group Chemical group C1(=CC=CC=2C3=CC=CC=C3NC12)* 0.000 description 1
- PFKFTWBEEFSNDU-UHFFFAOYSA-N carbonyldiimidazole Chemical compound C1=CN=CN1C(=O)N1C=CN=C1 PFKFTWBEEFSNDU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000015556 catabolic process Effects 0.000 description 1
- 239000007810 chemical reaction solvent Substances 0.000 description 1
- QBWCMBCROVPCKQ-UHFFFAOYSA-N chlorous acid Chemical compound OCl=O QBWCMBCROVPCKQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940077239 chlorous acid Drugs 0.000 description 1
- 238000004587 chromatography analysis Methods 0.000 description 1
- 125000000259 cinnolinyl group Chemical group N1=NC(=CC2=CC=CC=C12)* 0.000 description 1
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 1
- 125000006254 cycloalkyl carbonyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000001047 cyclobutenyl group Chemical group C1(=CCC1)* 0.000 description 1
- 125000001995 cyclobutyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])(*)C1([H])[H] 0.000 description 1
- 125000000582 cycloheptyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])C1([H])[H] 0.000 description 1
- FDODVZVWGKVMBO-UHFFFAOYSA-N cyclohex-2-ene-1,4-diol Chemical compound OC1CCC(O)C=C1 FDODVZVWGKVMBO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000003678 cyclohexadienyl group Chemical group C1(=CC=CCC1)* 0.000 description 1
- 125000000596 cyclohexenyl group Chemical group C1(=CCCCC1)* 0.000 description 1
- 125000000113 cyclohexyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])C1([H])[H] 0.000 description 1
- 125000000640 cyclooctyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])C([H])([H])C1([H])[H] 0.000 description 1
- 125000002433 cyclopentenyl group Chemical group C1(=CCCC1)* 0.000 description 1
- 125000001511 cyclopentyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C1([H])[H] 0.000 description 1
- 125000000298 cyclopropenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C1([H])* 0.000 description 1
- 125000006255 cyclopropyl carbonyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C1([H])C(*)=O 0.000 description 1
- 125000001559 cyclopropyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C1([H])* 0.000 description 1
- 230000009089 cytolysis Effects 0.000 description 1
- 125000003493 decenyl group Chemical group [H]C([*])=C([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 238000006731 degradation reaction Methods 0.000 description 1
- 230000000593 degrading effect Effects 0.000 description 1
- 125000004987 dibenzofuryl group Chemical group C1(=CC=CC=2OC3=C(C21)C=CC=C3)* 0.000 description 1
- 125000004925 dihydropyridyl group Chemical group N1(CC=CC=C1)* 0.000 description 1
- 125000000532 dioxanyl group Chemical group 0.000 description 1
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 1
- 238000000921 elemental analysis Methods 0.000 description 1
- 238000001914 filtration Methods 0.000 description 1
- 125000003983 fluorenyl group Chemical group C1(=CC=CC=2C3=CC=CC=C3CC12)* 0.000 description 1
- 235000019253 formic acid Nutrition 0.000 description 1
- 125000002485 formyl group Chemical group [H]C(*)=O 0.000 description 1
- 125000002541 furyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000005842 heteroatom Chemical group 0.000 description 1
- 125000004468 heterocyclylthio group Chemical group 0.000 description 1
- 125000003104 hexanoyl group Chemical group O=C([*])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 125000006038 hexenyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000004051 hexyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 238000004128 high performance liquid chromatography Methods 0.000 description 1
- 230000002209 hydrophobic effect Effects 0.000 description 1
- 125000002632 imidazolidinyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000002636 imidazolinyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000005945 imidazopyridyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000003392 indanyl group Chemical group C1(CCC2=CC=CC=C12)* 0.000 description 1
- 125000003454 indenyl group Chemical group C1(C=CC2=CC=CC=C12)* 0.000 description 1
- 229910052738 indium Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000003387 indolinyl group Chemical group N1(CCC2=CC=CC=C12)* 0.000 description 1
- 125000003406 indolizinyl group Chemical group C=1(C=CN2C=CC=CC12)* 0.000 description 1
- 125000001041 indolyl group Chemical group 0.000 description 1
- 239000011630 iodine Substances 0.000 description 1
- 229910052740 iodine Inorganic materials 0.000 description 1
- GJRQTCIYDGXPES-UHFFFAOYSA-N iso-butyl acetate Natural products CC(C)COC(C)=O GJRQTCIYDGXPES-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000959 isobutyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(C([H])([H])[H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- FGKJLKRYENPLQH-UHFFFAOYSA-M isocaproate Chemical compound CC(C)CCC([O-])=O FGKJLKRYENPLQH-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 125000004491 isohexyl group Chemical group C(CCC(C)C)* 0.000 description 1
- 125000004594 isoindolinyl group Chemical group C1(NCC2=CC=CC=C12)* 0.000 description 1
- 125000000904 isoindolyl group Chemical group C=1(NC=C2C=CC=CC12)* 0.000 description 1
- JMMWKPVZQRWMSS-UHFFFAOYSA-N isopropanol acetate Natural products CC(C)OC(C)=O JMMWKPVZQRWMSS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000555 isopropenyl group Chemical group [H]\C([H])=C(\*)C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 229940011051 isopropyl acetate Drugs 0.000 description 1
- 125000005956 isoquinolyl group Chemical group 0.000 description 1
- GWYFCOCPABKNJV-UHFFFAOYSA-N isovaleric acid Chemical compound CC(C)CC(O)=O GWYFCOCPABKNJV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OQAGVSWESNCJJT-UHFFFAOYSA-N isovaleric acid methyl ester Natural products COC(=O)CC(C)C OQAGVSWESNCJJT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000842 isoxazolyl group Chemical group 0.000 description 1
- 239000011777 magnesium Substances 0.000 description 1
- 229910052749 magnesium Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000002844 melting Methods 0.000 description 1
- 230000008018 melting Effects 0.000 description 1
- 229940098779 methanesulfonic acid Drugs 0.000 description 1
- 125000004184 methoxymethyl group Chemical group [H]C([H])([H])OC([H])([H])* 0.000 description 1
- 150000004702 methyl esters Chemical class 0.000 description 1
- 125000004170 methylsulfonyl group Chemical group [H]C([H])([H])S(*)(=O)=O 0.000 description 1
- 125000002950 monocyclic group Chemical group 0.000 description 1
- 125000004108 n-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 125000003136 n-heptyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 125000000740 n-pentyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 125000004123 n-propyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 125000001971 neopentyl group Chemical group [H]C([*])([H])C(C([H])([H])[H])(C([H])([H])[H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 230000003472 neutralizing effect Effects 0.000 description 1
- 229910017604 nitric acid Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000000449 nitro group Chemical group [O-][N+](*)=O 0.000 description 1
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000005187 nonenyl group Chemical group C(=CCCCCCCC)* 0.000 description 1
- 125000004365 octenyl group Chemical group C(=CCCCCCC)* 0.000 description 1
- 150000007524 organic acids Chemical class 0.000 description 1
- 125000001715 oxadiazolyl group Chemical group 0.000 description 1
- 235000006408 oxalic acid Nutrition 0.000 description 1
- 125000005880 oxathiolanyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000002971 oxazolyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000000466 oxiranyl group Chemical group 0.000 description 1
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-O oxonium Chemical compound [OH3+] XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-O 0.000 description 1
- 229940109615 oxy 10 Drugs 0.000 description 1
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000002255 pentenyl group Chemical group C(=CCCC)* 0.000 description 1
- 125000005561 phenanthryl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000001484 phenothiazinyl group Chemical group C1(=CC=CC=2SC3=CC=CC=C3NC12)* 0.000 description 1
- 125000001644 phenoxazinyl group Chemical group C1(=CC=CC=2OC3=CC=CC=C3NC12)* 0.000 description 1
- 125000003356 phenylsulfanyl group Chemical group [*]SC1=C([H])C([H])=C([H])C([H])=C1[H] 0.000 description 1
- 125000004592 phthalazinyl group Chemical group C1(=NN=CC2=CC=CC=C12)* 0.000 description 1
- 125000004193 piperazinyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000005936 piperidyl group Chemical group 0.000 description 1
- 239000011591 potassium Substances 0.000 description 1
- 229910052700 potassium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910000027 potassium carbonate Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000012286 potassium permanganate Substances 0.000 description 1
- 125000001844 prenyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])=C(C([H])([H])[H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 239000000047 product Substances 0.000 description 1
- 125000004368 propenyl group Chemical group C(=CC)* 0.000 description 1
- 125000001501 propionyl group Chemical group O=C([*])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 125000001042 pteridinyl group Chemical group N1=C(N=CC2=NC=CN=C12)* 0.000 description 1
- 125000000561 purinyl group Chemical group N1=C(N=C2N=CNC2=C1)* 0.000 description 1
- 125000003373 pyrazinyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000003072 pyrazolidinyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000002098 pyridazinyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000004076 pyridyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000000719 pyrrolidinyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000001422 pyrrolinyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000000168 pyrrolyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000001567 quinoxalinyl group Chemical group N1=C(C=NC2=CC=CC=C12)* 0.000 description 1
- 230000009257 reactivity Effects 0.000 description 1
- 125000002914 sec-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 239000011734 sodium Substances 0.000 description 1
- 229910052708 sodium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910000030 sodium bicarbonate Inorganic materials 0.000 description 1
- 235000017557 sodium bicarbonate Nutrition 0.000 description 1
- SUKJFIGYRHOWBL-UHFFFAOYSA-N sodium hypochlorite Chemical compound [Na+].Cl[O-] SUKJFIGYRHOWBL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XMVONEAAOPAGAO-UHFFFAOYSA-N sodium tungstate Chemical compound [Na+].[Na+].[O-][W]([O-])(=O)=O XMVONEAAOPAGAO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052717 sulfur Inorganic materials 0.000 description 1
- ILMRJRBKQSSXGY-UHFFFAOYSA-N tert-butyl(dimethyl)silicon Chemical group C[Si](C)C(C)(C)C ILMRJRBKQSSXGY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000004685 tetrahydrates Chemical class 0.000 description 1
- 125000001712 tetrahydronaphthyl group Chemical group C1(CCCC2=CC=CC=C12)* 0.000 description 1
- 125000001412 tetrahydropyranyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000003831 tetrazolyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000001113 thiadiazolyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000005458 thianyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000000335 thiazolyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000001544 thienyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000001730 thiiranyl group Chemical group 0.000 description 1
- 230000001131 transforming effect Effects 0.000 description 1
- 125000004665 trialkylsilyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000004306 triazinyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000001425 triazolyl group Chemical group 0.000 description 1
- ZMANZCXQSJIPKH-UHFFFAOYSA-O triethylammonium ion Chemical compound CC[NH+](CC)CC ZMANZCXQSJIPKH-UHFFFAOYSA-O 0.000 description 1
- GETQZCLCWQTVFV-UHFFFAOYSA-N trimethylamine Chemical compound CN(C)C GETQZCLCWQTVFV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000391 vinyl group Chemical group [H]C([*])=C([H])[H] 0.000 description 1
- 229920002554 vinyl polymer Polymers 0.000 description 1
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 1
- 125000001834 xanthenyl group Chemical group C1=CC=CC=2OC3=CC=CC=C3C(C12)* 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C313/00—Sulfinic acids; Sulfenic acids; Halides, esters or anhydrides thereof; Amides of sulfinic or sulfenic acids, i.e. compounds having singly-bound oxygen atoms of sulfinic or sulfenic groups replaced by nitrogen atoms, not being part of nitro or nitroso groups
- C07C313/02—Sulfinic acids; Derivatives thereof
- C07C313/06—Sulfinamides
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C303/00—Preparation of esters or amides of sulfuric acids; Preparation of sulfonic acids or of their esters, halides, anhydrides or amides
- C07C303/36—Preparation of esters or amides of sulfuric acids; Preparation of sulfonic acids or of their esters, halides, anhydrides or amides of amides of sulfonic acids
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C303/00—Preparation of esters or amides of sulfuric acids; Preparation of sulfonic acids or of their esters, halides, anhydrides or amides
- C07C303/36—Preparation of esters or amides of sulfuric acids; Preparation of sulfonic acids or of their esters, halides, anhydrides or amides of amides of sulfonic acids
- C07C303/40—Preparation of esters or amides of sulfuric acids; Preparation of sulfonic acids or of their esters, halides, anhydrides or amides of amides of sulfonic acids by reactions not involving the formation of sulfonamide groups
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C2601/00—Systems containing only non-condensed rings
- C07C2601/12—Systems containing only non-condensed rings with a six-membered ring
- C07C2601/14—The ring being saturated
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
- Pharmaceuticals Containing Other Organic And Inorganic Compounds (AREA)
Abstract
PROCESSO PARA A PREPARAçãO DE COMPOSTOS DERIVADOS DE SULFAMATO-CARBOXILATO E COMPOSTO. A presente invenção refere-se a um processo para a preparação do Composto (III), sal ou solvato do mesmo por reação do Composto (I), sal ou solvato do mesmo com o Composto (II) em um solvente de tolueno na presença de um aditivo tal como água ou um álcool. Também é descrito um processo para a preparação do Composto (IV) compreendendo hidrolisar o Composto (III) obtido caso necessário, e em seguida oxidação. [Fórmula 1] Na fórmula, R¹ é hidrogênio, alquíla inferior opcíonalmente substituído, arila opcionalmente substitu(da, ou aril alquila inferior opcionalmente substituida, e R² é alquil inferior opcionalmente substituida, cicloalquila opcionalmente substituida ou aril alquila inferior opcionalmente substituida.
Description
Relatório Descritivo da Patente de Invenção para "PROCESSO PARA A PREPARAÇÃO DE DERIVADOS DE SULFAMATO-CARBOXILATO".
Campo Técnico
A presente invenção refere-se a um processo para a preparação de derivados de sulfamato-carboxilato.
Antecedentes da Técnica
Derivados de sulfamato-carboxilato são compostos úteis como materiais sintéticos ou intermediários para medicamento. Por exemplo, podem ser usados como um intermediário sintético de um composto tendo atividade antagonista de receptores NPYY5 descrito no Documento de Patente 1.
O Documento de Patente 1 descreve um processo para a preparação de ácido 4-(2-metilpropano-2-sulfonilamino-1 -cicloexanocarboxílico compreendendo submeter éster metílico de ácido 4-amino-1 -cicloexanocarboxílico e cloreto t-butilsulfinílico à reação de ligação em um solvente de di-clorometano, oxidando o composto obtido, e em seguida hidrolisando. É difícil usar industrialmente este processo, porque é necessário que seja usado diclorometano de uso restrito e o produto é isolado por cromatografia.
O Documento de Patente 2 descreve um processo para a preparação de ácido trans-4-(2-metilpropano-2-sulfonilamino-1-cicloexanocarboxílico compreendendo submeter éster metílico de ácido cis-4-amino-1-cicloexanocarboxílico e t-butilsulfinil cloreto à reação de ligação em um solvente de acetato de etila, a reação de oxidação, transformação em isômero trans, e em seguida hidrólise. Este processo estava longe de um processo de preparação de alto rendimento uma vez que a produção de ácido cis-4-amino-1-cicloexanocarboxílico para ácido trans-4-(2-metil propano-2-sulfonilamino) cicloexanocarboxílico é de 70% ou menos mesmo se a perda em transformação em isômero trans for excluída.
Adicionalmente, o documento descreve um exemplo de que tetraidrofurano é usado em uma etapa de ligação. No entanto, foi necessário melhorar o processo como um processo para a preparação industrial, porquefoi necessário isolar os intermediários da reação em cada etapa, as operações foram complicadas e a eficiência da preparação não foi elevada.
Documento de Patente 1 WO01/37826 Documento de Patente 2 WO2003/076374
Descrição da Invenção
Problemas a serem resolvidos pela Invenção
O objeto da presente invenção é proporcionar um processo eficiente para a preparação de derivados de sulfamato-carboxilato os quais são úteis como materiais sintéticos ou intermediários para medicamento.
Meios para Resolver o Problema
A presente invenção é como segue. (1) Um processo para a preparação de um composto da fórmula (III):
Fórmula 3
<formula>formula see original document page 3</formula>
em que R1 é hidrogênio, alquila inferior opcionalmente substituída, arila op-15 cionalmente substituída, ou aril alquila inferior opcionalmente substituída, e R2 é alquila inferior opcionalmente substituída, cicloalquila opcionalmente substituída ou arila opcionalmente substituída, sal ou solvato do mesmo (referido nas partes que se seguem como Composto (III)), caracterizado por reagir um composto da fórmula (I):
Fórmula 1
<formula>formula see original document page 3</formula>
em que R1 tem o mesmo significado conforme definido acima, sal ou solvato do mesmo (referido nas partes que se seguem como Composto (I)), com um composto da fórmula (II):Fórmula 2
<formula>formula see original document page 4</formula>
em que R2 tem o mesmo significado conforme definido acima, e Hal é halo-gênio (referido nas partes que se seguem como Composto (II)), em solvente de tolueno na presença de no mínimo um dos aditivos selecionados entre o grupo consistindo em água, álcool, dimetilformamida, dimetilacetamida e di-metoxietano.
(2) O processo para a preparação do (1) acima, em que o aditivo é água ou isopropanol.
(3) Um processo para a preparação de um composto da fórmula (IV): Fórmula 4
<formula>formula see original document page 4</formula>
(4) Um processo para a preparação de um composto da fórmula (IVb):
<formula>formula see original document page 4</formula>
em que R1 e R2 têm os mesmos significados conforme definido acima, sal ou solvato do mesmo (referido nas partes que se seguem como Composto (IV)), caracterizado por obter um composto da fórmula (III), sal ou solvato do mesmo pelo processo do (1) acima, e oxidar o obtido composto, sal ou solvato do mesmo.
Fórmula 7
<formula>formula see original document page 4</formula>
em que R2 tem o mesmo significado conforme definido acima, sal ou solvato do mesmo (referido nas partes que se seguem como Composto (IVb)), caracterizado por hidrolisar um composto da fórmula (llIa):Fórmula 5
<formula>formula see original document page 5</formula>
em que R1a é alquila inferior opcionalmente substituída, arila opcionalmente substituída, ou aril alquila inferior opcionalmente substituída, e R2 tem o mesmo significado conforme definido acima, sal ou solvato do mesmo (referido nas partes que se seguem como Composto (llla)), para obter um composto da fórmula (lllb):
Fórmula 6
<formula>formula see original document page 5</formula>
em que R2 tem o mesmo significado conforme definido acima, sal ou solvato do mesmo (referido nas partes que se seguem como Composto (lllb)), e oxi-10 dar o composto obtido, sal ou solvato do mesmo.
(5) O processo para a preparação do (4) acima, caracterizado por obter um composto da fórmula (llla):
Fórmula 8
<formula>formula see original document page 5</formula>
em que R1a e R2 têm os mesmos significados conforme definido acima, sal ou solvato do mesmo pelo processo do (1) acima, e usar o composto obtido, sal ou solvato do mesmo.
(6) O processo para a preparação do (5) acima, caracterizadopor reagir sem isolar um composto da fórmula (llla) ou (lllb) ou o sal para darum composto da fórmula (IVb), sal ou solvato do mesmo.
(7) Um processo para a preparação de um composto da fórmula (VI):Fórmula 9
<formula>formula see original document page 6</formula>
em que R2, R3 e Z têm os mesmos significados conforme definido acima, sal ou solvato farmaceuticamente aceitável do mesmo (referido nas partes que se seguem como Composto (VI)), caracterizado por obter um composto da fórmula (IV) ou (IVb), sal ou solvato do mesmo pelo processo de qualquer um dentre (3) a (6) acima, e reagir o composto obtido, sal ou solvato do mesmo com um composto da fórmula (V):
R3NH-Z (V)
em que R3 é hidrogênio ou alquilã inferior; Z é alquil inferior opcionalmente substituída, alquenila inferior opcionalmente substituída, amino opcionalmente substituído, alcóxi inferior opcionalmente substituída, carbociclila opcionalmente substituída ou heterociclila opcionalmente substituída, sal ou solvato do mesmo (referido nas partes que se seguem como Composto (V)). (8) Um composto da fórmula (lllb-1):
Fórmula 10
<formula>formula see original document page 6</formula>
sal ou solvato do mesmo.
Efeito da Invenção
Um processo para a preparação da presente invenção pode ser usado para obter de modo fácil e seguro o Composto (III) ou (IV) em alta produção, e é útil para química verde.
Melhor Modo para Realizar a Invenção
Nesta descrição, "alquila inferior" inclui alquila reto ou ramificado C1 a C10, preferencialmente C1 a C6, e mais preferencialmente C1 a C3. Exemplos incluem metila, etila, n-propila, isopropila, n-butila, isobutila, sec-butila, tert-butila, n-pentila, isopentila, neopentila, hexila, isohexila, n-heptila, isoheptila, n-octila, isooctila, n-nonila e n-decila. "Alquil inferior" de R1, R1aou R3 é preferencialmente metila ou etila. "Alquila inferior" de R2 é preferencialmente etila, isopropila ou t-butila.
A parte alquila inferior de "aril alquila inferior", "halogênio alquila inferior" ou "hidróxi alquila inferior" é a mesma que a "alquila inferior" acima.
Exemplos de substituintes para "alquila inferior opcionalmente substituída" de Z incluem (1) halogênio; (2) ciano; e (3) os seguintes grupamentos (i) a (xvi): (i) hidróxi, (ii) alcóxi inferior, (iii) mercapto, (iv) alquiltio inferior, (v) acila, (vi) acilóxi, (vii) carbóxi, (viii) alcoxicarbonila inferior, (ix) imino, (x) carbamoila, (xi) tiocarbamoila, (xii) alquilcarbamoil inferior, (xiii) alquiltio-carbamoila inferior, (xiv) amino, (xv) alquilamino inferior ou (xvi) heterociclil-carbonila, a qual pode ser opcionalmente substituída por no mínimo um dos grupamentos selecionados entre Grupamento de Substituintes (3 definido abaixo.
Exemplos de substituintes para "alquila inferior opcionalmente substituída" de R1 ou R1a incluem no mínimo um dos grupamentos selecionados entre o grupo consistindo em halogênio, hidróxi opcionalmente protegido, mercapto, alcóxi inferior, alquenila inferior, dialquilamino inferior, alquiltio inferior, acila, carbóxi, alcoxicarbonila inferior, carbamoila, ciano, cicloal-quila fenoxila e heterociclila.
Exemplos de substituintes para "alquilinferior opcionalmente substituída" exceto para os de Z, R1 e R1a incluem no mínimo um dos grupamentos selecionados entre o Grupo de Substituintes 3 definido abaixo.
"Alquenila inferior" inclui alquenila reta ou ramificada C2 a C10, preferencialmente C2 a C8 e mais preferencialmente C3 a C6 tendo no mínimo uma ligação dupla em posições arbitrárias. Exemplos incluem vinil, propenil, isopropenil, butenil, isobutenil, prenil, butadienil, pentenil, isopente-nil, pentadienil, hexenil, isohexenil, hexadienil, heptenil, octenil, nonenil e decenil.
Exemplos de substituintes para "alquenila inferior opcionalmente substituído" incluem halogênio, alcóxi inferior, alquenila inferior, amino, alqui-lamino inferior, alcoxicarbonilamino inferior, alquiltio inferior, acila, carbóxi, alcoxicarbonila inferior, carbamoil, ciano, cicloalquil, fenila, alquilfenila inferior, alcoxifenil inferior, naftila e /ou heterociclila.
Exemplos de substituintes para "amino opcionalmente substituído" incluem o Grupo de Substituintes p abaixo, benzoila opcionalmente substituída e /ou heterociclilcarbonila opcionalmente substituída (em que o substituinte é hidróxi, alquila inferior, alcóxi inferior e/ou alquiltio inferior).
A parte alquila inferior de "alcóxi inferior", "alquiltio inferior", "al-quilcarbamoil inferior", "alquiltiocarbamoila inferior", "alquilamino inferior", "dialquilamino inferior", "alquilsulfinil inferior", "alquilsulfonila inferior", "alquil-sulfamoila inferior", "alcoxicarbonila inferior", "alcóxi inferior alquila inferior", "hidróxialquila inferior", "alcoxicarbonilamino inferior", "alquilfenil inferior", "alcoxifenil inferior", "halogênio alquila inferior", "fenila alcóxi inferior" ou "fenila alquiltio inferior" é a mesma que a "alquila inferior" acima.
Exemplos de substituintes para "alcóxi inferior opcionalmente substituída" incluem no mínimo um dos grupamentos selecionados entre o Grupo de Substituintes p abaixo. É preferencial fenila, alquilfenila inferior, alcoxifenil inferior, naftila ou heterociclila.
"Acila" inclui (1) C1 a C10, preferencialmente C1 a C6 e mais preferencialmente C1 a C4 alquilcarbonil ou alquenilcarbonila reto ou ramificado, (2) C4 a C9 e preferencialmente C4 a C7 cicloalquilcarbonila e (3) C7 a C11 arilcarbonila. Exemplos incluem formila, acetila, propionila, butirila, isobutirila, velerila, pivaloila, hexanoila, acriloila, propioloila, metacriloila, crotonoila, ciclo-propilcarbonila, ciclohexilcarbonila, ciclohexilcarbonila e benzoila.
A parte acila de "acilóxi" é a mesma que acima.
O grupamento protetor de "hidróxi opcionalmente protegido" ou "hidróxi opcionalmente protegido alquila inferior" inclui todos os grupamentos protetores hidróxi usados geralmente. Exemplos incluem acila (por exemplo, acetila, tricloroacetila e benzoila), alcoxicarbonila inferior (por exemplo, t-butoxicarbonil), alquilsulfonila inferior (por exemplo, metanossulfonila), alcóxi inferior alquila inferior (por exemplo, metoximetila) e trialquilsilila (por exemplo, t-butildimetilsilila)."Halogênio" inclui flúor, cloro, bromo e iodo. Especialmente preferencial é Flúor ou cloro.
A parte halogênio de "halogenofenila" ou "halogênio alquila inferior" é a mesma que o "halogênio" acima.
"Alquilenodióxi" inclui metilenodióxi, etilenodióxi, trimetilenodióxi, tetrametilenodióxi, pentametilenodióxi e hexametilenodióxi. É preferencial metilenodióxi ou etilenodióxi.
"Carbociclila" inclui "cicloalquila", "cicloalquenila", "bicicloalquila" e "arila".
"Cicloalquila" inclui C3 a C8 e preferencialmente C5 ou C6 alquila cíclica. Exemplos incluem ciclopropila, ciclobutila, ciclopentila, ciclohexila, cicloheptila e ciclooctila.
Exemplos de substituintes para "cicloalquil opcionalmente substituída" incluem no mínimo um dos grupamentos selecionados entre o Grupo de Substituintes (3 definido abaixo.
"Cicloalquenila" inclui a cicloalquila acima com no mínimo uma das ligações duplas em posições arbitrárias no anel. Exemplos incluem ci-clopropenila, ciclobutenila, ciclopentenila, cicloexenila e ciclohexadienila.
"Bicicloalquila" inclui grupamentos C5 a C8 alicíclicos em que os dois anéis compartilham dois ou mais átomos e os quais são dados removendo um hidrogênio do grupamento C5 a C8 alicíclico. Exemplos incluem biciclo[2.1.0]pentil, biciclo[2.2.1]heptila, biciclo[2.2.2]octila e bici-clo[3.2.1]octila.
"Arila" inclui carbociclila aromática monocíclica ou policíclica, e exemplos incluem fenila, naftila, antrila e fenantrila. Também inclui arila a qual é fundida com outra carbociclila não-aromática, e exemplos incluem indanila, indenila, bifenilila, acenaftila, tetraidronaftila e fluorenila. Especialmente preferencial é fenila.
Exemplos de substituintes para "carbociclila opcionalmente substituída" incluem no mínimo um dos grupamentos selecionados entre o Grupo de Substituintes a e p abaixo. A "carbociclila" pode ser substituída em posições arbitrárias.Exemplos de substituintes para "arila opcionalmente substituída," ou "arila alquila inferior opcionalmente substituída," de R1 ou R1a incluem no mínimo um dos grupamentos selecionados entre o grupo consistindo em ha-logênio, hidróxi opcionalmente protegido, mercapto, alquila inferior, halogênio alquila inferior, hidróxi alquila inferior, alcóxi inferior, alquenila inferior, di-alquilamino inferior, alquiltio inferior, acila, carbóxi, alcoxicarbonila inferior, carbamoila, ciano, cicloalquila, fenila, fenoxila, alquil fenila inferior, alcóxi fe-nila, halogenofenila, naftila e heterociclila.
Exemplos de substituintes para o outro "aril opcionalmente substituída," incluem no mínimo um dos grupamentos selecionados entre o Grupo de Substituintes (3 definido abaixo.
A parte cicloalquila de "cicloalquilcarbamoila", "cicloalquilsulfa-moila" ou "cicloalquilóxi" é a mesma que o "cicloalquila" acima.
A parte arila de "arilsulfonila" ou "aril alquila inferior" é a mesma que a "arila" acima.
"Heterociclila" inclui heterociclo o qual contém no mínimo um heteroátomo opcionalmente selecionado entre ou grupo de O, S e N. Exemplos incluem heteroarila de 5 a 6 membros tais como pirrolila, imidazolila, pirazolila, piridila, piridazinila, pirimidinila, pirazinila, triazolila, triazinila, tetrazolila, isoxazolila, oxazolila, oxadiazolila, isotiazolila, tiazolila, tiadiazolila, furila e tienila; heterociclila bicíclica fundida tal como indolila, isoindolila, in-dazolila, indolizinila, indolinila, isoindolinila, quinolila, isoquinolila, cinnolinila, ftalazinila, quinazolinila, naftiridinila, quinoxalinila, purinila, pteridinila, benzo-piranila, benzimidazolila, benzisoxazolila, benzoxazolila, benzoxadiazolila, benzisotiazolila, benzotiazolila, benzotiadiazolila, benzofurila, isobenzofurila, benzotienila, benzotriazolila, imidazopiridila, triazolopiridila, imidazotiazolila, pirazinopiridazinila, quinazolinila, naftiridinila, diidropiridila, tetraidroquinolila e tetraidrobenzotienila; heterociclila tricíclica fundida tal como carbazolila, acri-dinila, xantenila, fenotiazinila, fenoxatiinila, fenoxazinila e dibenzofurila; heterociclila não-aromática tal como dioxanila, tiiranila, oxiranila, oxatiolanila, a-zetidinila, tianila, pirrolidinila, pirrolinila, imidazolidinila, imidazolinila, pirazoli-dinila, pirazolinila, piperidila, piperazinila, morfolinila, morfolino, tiomorfolinila,tiomorfolino, diidropiridila, tetraidrofurila, tetraidropiranila, tetraidrotiazolila e tetraidroisotiazolila.
Heterociclila fundida ao qual é fundida com um anel diferente de heterociclo (por exemplo, benzotiazolila) pode ter um radical de ligação sobre qualquer anel.
Preferencial como heterociclila de Z é imidazolila, benzotiazolila, isotiazolila, benzopiranila, morfolino, piridila, quinolila, pirimidila ou similares.
Exemplos de substituintes para "heterociclila opcionalmente substituída" são os mesmos que os substituintes para o "carbociclila" substituída acima.
A parte heterociclila de "heterociclilóxi", "heterocicliltio", "hetero-ciclilcarbonila" ou "heterociclilsulfonila" é a mesma que o "heterociclila" acima.
Grupo de Substituintes a é um grupo de (1) halogênio; (2) oxo; (3) ciano; (4) nitro; (5) imino opcionalmente substituído por alquila inferior ou hidróxi; (6) os seguintes grupamentos (i) a (xxi): (i) hidróxi, (ii) alquila inferior, (iii) alquenila inferior, (iv) alcóxi inferior, (v) carbóxi, (vi) alcoxicarbonila inferior, (vii) acila, (viii) acilóxi, (ix) imino, (x) mercapto, (xi) alquiltio inferior, (xii) carbamoila, (xiii) alquilcarbamoila inferior, (xiv) cicloalquilcarbamoila, (xv) tiocarbamoila, (xvi) alquiltiocarbamoila inferior, (xvii) alquilsulfinila inferior, (xviii) alquilsulfonila inferior, (xix) sulfamoila, (xx) alquilsulfamoila inferior e (xxi) cicloalquilsulfamoila, o qual pode ser opcionalmente substituída por no mínimo um dos grupamentos selecionados entre o Grupo de Substituintes (3; (7) os seguintes grupamentos (i) a (v): (i) cicloalquila, (ii) cicloalquenila, (iii) cicloalquilóxi, (iv) amino e (v) alquilenodióxi, o qual pode ser opcionalmente substituído por um substituinte selecionado entre o Grupo de Substituintes (5, alquila inferior, alcóxi inferior-alquila inferior, hidróxi opcionalmente protegido-alquila inferior, halogênio-alquila inferior, alquilsulfonila inferior e /ou arilsulfo-nil; e (8) os seguintes grupamentos: (i) fenila, (ii) naftila, (iii) fenóxi, (iv) fenila-alcóxi inferior, (v) feniltio, (vi) fenila-alquiltio inferior, (vii) fenilazo, (viii) heterociclila, (ix) heterociclilóxi, (x) heterocicliltio, (xi) heterociclilcarbonil e (xii) hete-rociclilsulfonil, o qual pode ser opcionalmente substituído por um substituinteselecionado entre Substituinte (3, alquila inferior, halogênio-alquil inferior e/ou oxo.
Grupo de Substituintes (3 é um grupo de halogênio, hidróxi opcionalmente protegido, mercapto, alcóxi inferior, alquenila inferior, amino, alquilamino inferior, alcoxicarbonilamino inferior, alquiltio inferior, acila, car-bóxi, alcoxicarbonila inferior, carbamoila, ciano, cicloalquila, fenila, fenoxila, alquilfenila inferior, alcoxifenila inferior, halogenofenila, naftila e heterociclila.
Um composto da fórmula (I), (III), (IV) ou (VI) na presente invenção pode ser o sal. Exemplos incluem sais de ácido inorgânico tal como á-cido clorídrico, ácido sulfúrico, ácido nítrico e ácido fosfórico; sais de ácido orgânico tal como ácido acético, ácido fórmico, ácido p-toluenossulfônico, ácido metanossulfônico, ácido oxálico e ácido cítrico; sais de base orgânica tal como amônio,' trimetilamônio e trietilamônio; sais de metal de álcali tal como sódio e potássio; e sais de metal alcalino terroso tal como cálcio e magnésio.
O Composto (III) ou (IV) pode ser preparado de acordo com os processos seguintes.
Processo A
Fórmula 11
<formula>formula see original document page 12/formula>
Na fórmula, R1 é hidrogênio, alquila inferior opcionalmente substituída, arila opcionalmente substituída, ou arila alquila inferior opcionalmente substituída, R2 é alquila inferior opcionalmente substituída, cicloalquil opcionalmente substituída ou arila opcionalmente substituída, e Hal é halogênio.
A Primeira Etapa
O Composto (I) é reagido com haleto sulfinila. Composto (II) em solvente de tolueno na presença de no mínimo um dos aditivos selecionados entre o grupo consistindo em água, álcool, dimetilformamida, dimetilacetami-da e dimetoxietano, caso necessário, com base para dar o Composto (III).
A quantidade de Composto (II) pode ser cerca de 1 equivalentemolar ou mais e preferencialmente cerca de 1,3 equivalente molar ou mais, e cerca de 3 equivalente molar ou menos e preferencialmente cerca de 1,5 equivalente molar ou menos com relação a 1 mol do Composto (I).
Exemplos de aditivos incluem água, metanol, etanol, isopropa-nol, n-propanol, n-butanol, t-butanol, dimetilformamida, dimetilacetamida, dimetoxietano e a mistura de 2 ou 3 tipos de aditivos selecionados entre os mesmos. É preferencial água ou isopropanol.
É preferencial que a quantidade do aditivo seja decidida considerando a quantidade de Composto (I) e (II), solubilidade, estabilidade contra o aditivo e similar. Por exemplo, quando o peso do Composto (I) é v (g), a quantidade do aditivo pode ser cerca de 0,5v (ml) ou mais e preferencialmente cerca de 1v (ml) ou mais, e cerca de 5v (ml) ou menos e preferencialmente cerca de 2v (ml) ou menos.
A quantidade do solvente de tolueno não é especialmente limitada. Pode ser usada a quantidade arbitrária para dar uma pasta semifluida ou solução reativa . Por exemplo, quando o peso do Composto (I) é v (g), a quantidade do solvente pode ser cerca de 1v (ml) ou mais preferencialmente cerca de 2v (ml) ou mais. A quantidade máxima não é especialmente limitada, mas cerca de 10v (ml), preferencialmente cerca de 8v (ml) e mais preferencialmente cerca de 5v (ml) considerando a eficiência da preparação.
Exemplos de bases incluem trietilamina, piridina, diisopropileti-lamina, hidróxido de sódio, carbonato de potássio e carbonato de hidrogênio de sódio. A quantidade da base é cerca de 1 equivalente molar ou mais e preferencialmente cerca de 2 equivalente molar ou mais, e cerca de 5 equivalente molar ou menos e preferencialmente cerca de 4 equivalente molar ou menos com relação a 1 mol do Composto (I).
A reação pode ser realizada a -20 9C até sob aquecimento, preferencialmente cerca de -10 a 50 9C e mais preferencialmente cerca de 0 a 20 eC, por cerca de 5 minutos até 10 horas e preferencialmente cerca de 1 a 3 horas.
O Composto (III) obtido pode ser isolado ou proporcionado para a próxima etapa sem isolamento. Quando é usado na etapa seguinte semisolamento, há uma vantagem que as etapas podem ser realizadas em sucessão.
Como um solvente usado nesta etapa, é especialmente preferencial tolueno, mas podem ser usados éster acético (acetato de etila, metil acetato, isopropil acetato ou isobutil acetato), tetraidrofurano, benzeno, xileno, benzene chloride, diclorometano ou similares.
A Segunda Etapa
O Composto (IV) é obtido submetendo o Composto (III) a reação de oxidação em um solvente apropriado com um agente de oxidação arbitrário por um método de conhecimento geral.
Um solvente pode ser selecionado considerando a propriedade de um substrato ou um agente de oxidação ou similar. Exemplos incluem tolueno, dimetilformamida, tetraidrofurano e acetato de etila.
A solução da reação obtida na primeira etapa sem isolar o Composto (III) pode ser submetida à reação de oxidação. No caso em que o Composto (III) na solução da reação obtida na primeira etapa ser um composto em que R1 é hidrogênio, é possível que o Composto (III) seja transformado para o sal, a água é adicionada ao mesmo e a mistura é submetida a reação de oxidação em uma solução aquosa por um método de conhecimento geral. O mesmo tolueno que na etapa anterior ou água é preferencialmente usado como um solvente.
A quantidade do solvente não é limitada. Pode ser usada uma quantidade arbitrária para dar uma pasta semifluida ou solução reativa. Por exemplo, quando o peso do Composto (III) é v (g), a quantidade mínima do solvente é cerca de 1v (ml), preferencialmente cerca de 2v (ml) e mais preferencialmente cerca de 3v (ml). A quantidade máxima não é limitada, mas cerca de 10v (ml), preferencialmente cerca de 8v (ml) e mais preferencialmente cerca de 5v (ml) considerando a eficiência da preparação.
Pode ser usado um agente de oxidação arbitrário. Exemplos de agentes de oxidação incluem ácido peracético, ácido m-cloroperbenzóico, ácido pertrifluoroacético, periodato de sódio, monoperoxi ftalato de magnésio (MMPP), permanganato de potássio, hipoclorito de sódio, hipoclorito de cál-cio, ácido perclórico, ácido cloroso, oxônio (2KHSO5KHSO4K2SO4) e 02. É preferencial peróxido.
Peróxido pode ser usado como solução de peróxido de hidrogênio. Como um catalisador, pode ser usado tetraidrato de moiibdato de amô-nio ((NH4)6Mo7024'4H20), tungstato de sódio, o hidrato ou similares. A quantidade de superóxido pode ser cerca de 0,5 equivalente molar ou mais e preferencialmente cerca de 1 equivalente molar ou mais, e cerca de 3 equivalente molar ou menos e preferencialmente 2 equivalente molar ou menos com relação a 1 mol do Composto (III). A quantidade mínima de catalisador pode ser cerca de 0,005 equivalente molar ou mais e preferencialmente cerca de 0,01 equivalente molar ou mais, e cerca de 0,1 equivalente molar ou menos e preferencialmente cerca de 0,06 equivalente molar ou menos com relação a 1 mol do Composto (III).
A temperatura da reação não é limitada, mas geralmente cerca de 0 a 100 9C e preferencialmente cerca de 20 a 60 9C.
O tempo da reação não é limitada, mas geralmente cerca de 1 a 24 horas e preferencialmente cerca de 1 a 5 horas.
Depois de acabar a reação, o composto alvo, Composto (IV), é cristalizado adicionando ácido tal como ácido sulfúrico ou ácido clorídrico a cerca de 10 a 50 QC e preferencialmente cerca de 20 a 30 9C, e agitando por cerca de 15 minutos a 10 horas e preferencialmente a 30 minutos a 3 horas. E em seguida, o composto alvo, Composto (IV), pode ser obtido lavando, filtrando e secando por um método de conhecimento geral.
Conforme mostrado em um exemplo comparativo descrito abaixo, quando o Composto (I) e o Composto (II) foram reagidos na ausência de um aditivo em solvente de tolueno, o índice de preparação do composto alvo, Composto (III), permaneceu em torno de 50%. Além disso, os presentes inventores confirmaram que os índices de preparação do Composto (III) foram alterados por lote porque a reatividade do Composto (I) se alterou por factores tais como forma de cristal. Por outro lado, um processo da presente invenção foi realizado preferencialmente e de modo estável em todos os lotes reagindo o Composto (I) e o Composto (II) na presença de um aditivo e ocomposto alvo, Composto (III), pode ser obtido de modo estável com um índice de preparação elevado, cerca de 95%.
Os presentes inventores confirmaram que a solubilidade do Composto (I) em tolueno foi menor do que a solubilidade em acetato de etila ou tetraidrofurano no Documento de Patente 2. Nesta circunstância, as pessoas versadas na técnica devem esperar que seja geralmente difícil realizar a reação. No entanto, de acordo com um processo da presente invenção, o composto alvo pode ser obtido em índice de preparação muito elevado u-sando um aditivo. Adicionalmente, embora o Composto (II) seja instável em água ou similar, a reação é preferencialmente realizada sem degradação do Composto (II) de acordo comum processo da presente invenção.
Comparado com processos descritos no Documento de Patente 1 ou 2, o presente processo é útil como um processo para a preparação industrial porque a primeira etapa e a segunda etapa podem ser realizadas em sucessão e o composto alvo pode ser obtido sem diclorometano ou similar cuja aplicação não é ambientalmente preferencial.
Processo B
Quando o Composto (III) obtido pela primeira etapa do Processo A acima é um composto em que R1 é alquila inferior opcionalmente substituída, arila opcionalmente substituída, ou aril alquila inferior opcionalmente substituída, o Composto (Illb) pode ser obtido submetendo à etapa de hidró-lise antes da segunda etapa do Processo A acima, e em seguida submnetido a reação de oxidação.
Fórmula 12
<formula>formula see original document page 16</formula>Na fórmula, R1a é alquila inferior opcionalmente substituída, arila opcionalmente substituída, ou arila alquila inferior opcionalmente substituída, R2 é alquil inferior opcionalmente substituída, cicloalquila opcionalmente substituída ou arila opcionalmente substituída, e Hal é halogênio.
A Primeira Etapa
O Composto (llla) é obtido pelo mesmo processo que a primeita etapa do Processo A acima.
A Segunda Etapa
O Composto (lllb) é obtido por hidrólise do Composto (llla) em um solvente apropriado com base arbitrária e água por um método de conhecimento geral.
Um solvente pode ser selecionado considerando a propriedade de um substrato ou agente de oxidação ou similar. Exemplos incluem tolue-no, dimetilformamida, tetraidrofurano, benzeno, xileno, benzeno cloreto e diclorometano.
A quantidade de solvente não é limitada. Pode ser usada uma quantidade arbitrária para dar uma pasta semifluida ou solução reativa. Por exemplo, quando o peso do Composto (llla) is v (g), a quantidade mínima do solvente é cerca de 1 v (ml), preferencialmente cerca de 2v (ml) e mais preferencialmente cerca de 3v (ml). A quantidade máxima não é limitada, mas cerca de 10v (ml), preferencialmente cerca dé 8v (ml) e mais preferencialmente cerca de 5v (ml) considerando a eficiência da preparação. Base e água são adicionados à solução preparada conforme acima.
Alternativamente, base e água podem ser adicionados a uma solução de reação sem isolar o Composto (llla) obtido pela primeira etapa.
A quantidade aditiva de água não é especialmente limitada. Por exemplo, quando peso do Composto (llla) é v (g), a quantidade mínima de água adicionada é cerca de 1v (ml), preferencialmente cerca de 2v (ml) e mais preferencialmente cerca de 3v (ml). A quantidade máxima não é limitada, mas cerca de 10v (ml), preferencialmente cerca de 8v (ml) e mais preferencialmente cerca de 5v (ml) considerando a eficiência da preparação. Quando o Composto (llla) obtido na primeira etapa é submetido a esta etapacomo uma solução da reação sem isolamento, a quantidade mínima de água adicionada é cerca da metade de e preferencialmente cerca do mesmo volume da solução da reação. A quantidade máxima é cerca de 10 vezes e preferencialmente cerca de 3 vezes o volume da solução da reação.
Como uma base, pode ser usado hidróxido de sódio, metóxido de sódio, hidróxido de potássio ou similar. A quantidade da base pode ser cerca de 1 equivalente molar ou mais e preferencialmente cerca de 2 equivalente molar ou mais, e cerca de 5 equivalente molar ou menos e preferencialmente cerca de 3 equivalente molar ou menos com relação a 1 mol do Composto (IIIa).
A temperatura da reação não é limitada, mas geralmente cerca de 0 a 80 eC e preferencialmente cerca de 20 a 50 SC.
O tempo da reação é preferencialmente cerca de 1 a 24 hours e mais preferencialmente cerca de 1 a 10 horas.
O Composto (lllb) pode ser isolado da camada de água da solução da reação obtida ou proporcionado para a próxima etapa como camada de água sem isolamento. Quando é usado na próxima etapa sem isolamento, há uma vantagem que as etapas podem ser realizadas em sucessão.
Quando se usa peróxido como um agente de oxidação na próxima etapa, a reação de oxidação pode ser preferencialmente realizada neutralizando antes a solução da reação com ácido tal como ácido sulfúrico clorídrico.
A Terceira Etapa
O composto alvo, Composto (IVb), é obtido pelo mesmo processo que a segunda etapa do Processo A acima.
O Documento de Patente 2 descrito acima descreve um método para ligar o Composto (I) e o Composto (II) para dar o Composto (Mia), oxidando o Composto (llla) para dar o Composto (IV) em que R1 é alquila inferior, e hidrolisando depois de transformar o Composto (IV) em isômero trans para dar o Composto (IVb). De acordo com este método, a produção do Composto (Ia) para Composto (IVb) foi em torno de 50%. O rendimento permaneceu somente de 70% ou menos mesmo se for excluída a perda naetapa de transformação em isômero trans. Além disso, a reação foi realizada isolando cada intermediário da reação e alterando o solvente da reação para um solvente diferente tal como acetato de etila, dimetilformamida, tolu-eno ou tetraidrofurano.
Os presentes inventores descobriram que o Composto (llla) foi degradado sob a condição ácida, e completaram um método para obter o composto alvo, o Composto (IVb), com alto rendimento, em torno de 90% (rendimento do Composto (I)), submetendo a reação de oxidação depois de hidrólise alcalina. De acordo com um processo da presente invenção, o composto alvo pode ser obtido de modo eficiente e seguro porque as etapas desde a primeira etapa até a terceira etapa podem ser realizadas em sucessão e não se usa diclorometano ou similar.
O Composto (VI) pode ser preparado reagindo o Composto (IVb) obtido no Processo A ou B acima com o Composto (V).
Quando um composto em que R1 é alquila inferior opcionalmente substituída, arila opcionalmente substituída, ou aril alquila inferior opcionalmente substituída, sal ou solvato do mesmo (referido nas partes que se seguem como Composto (IVa)) pode ser obtido pelo Processo A acima, o composto é transformado no Composto (IVb) antes hidrolisando.
Fórmula 13
<formula>formula see original document page 19</formula>
Na fórmula, R1a é alquila inferior opcionalmente substituída, arila opcionalmente substituída, ou aril alquila inferior opcionalmente substituída, R2 é alquila inferior opcionalmente substituída, cicloalquila opcionalmente substituída ou arila opcionalmente substituída, R3 é hidrogênio ou alquila inferior, e Z é alquila inferior opcionalmente substituída, alquenila inferior opcionalmente substituída, amina opcionalmente substituída, alcóxi inferior opcionalmente substituída, carbociclila opcionalmente substituída ou heteroci-clila opcionalmente substituída.O Composto (VI) pode ser obtido reagindo o Composto (V) com o Composto (IVb). Esta reação pode ser realizada de acordo com a reação de amidação descrita no Documento de Patente 1 acima ou similar.
Por exemplo, o Composto (IVb) e um ativador tal como haleto ácido (por exemplo, usa-se cloreto de tionila, cloreto de oxalila, oxicloreto de fósforo ou similar), anidrido ácido ou éster ativado do Composto (V) são reagidos em um solvente apropriado a cerca de 0 a 100 SC por cerca de 3 minutos a 10 horas.
Como um solvente, pode ser usado tetraidrofurano, dimetilfor-mamida, éter dietílico, diclorometano, tolueno, benzeno, xileno, cicloexano, hexano, clorofórmio, acetato de etila, acetato de butila, pentano, heptano, dioxano, acetona, acetonitrilo, água, a mistura de solventes ou similar. É preferencial tolueno ou tetraidrofurano. Adicionalmente, caso necessário, pode ser usado ativador tal como base (É preferencial trietilamina, piridina ou similar), cloreto de tionila, haleto ácido (por exemplo, cloreto de tionila, cloreto de oxalila ou oxicloreto de fósforo), anidrido ácido ou éster ativado.
Como o processo alternativo, o composto alvo pode ser obtido reagindo o Composto (IVb) e o Composto (V) em um solvente apropriado (por exemplo, tetraidrofurano, dimetilformamida, éter dietílico, diclorometano, tolueno, benzeno, xileno, cicloexano, hexano, clorofórmio, acetato de etila, acetato de butila, pentano, heptano, dioxano, acetona, acetonitrilo, água ou a mistura de solventes) na presença de um agente de condensação a cerca de 0 a 100 eC por cerca de 3 minutos a 10 horas.
Exemplos de agentes de condensação incluem 1,1-carbonildi- imidazol, dicicloexil carbodiimida e carbodiimida (1-etil-3-(3'-dimetilamino propil) carbodiimida) hidrossolúvel.
Exemplos dos grupamentos de Z são os seguintes.Fórmula 14
<formula>formula see original document page 21</formula>
O Composto (VI) obtido conforme acima é útil como um antago-nista de NPYY5 receptores.
Esta invenção é adicionalmente explicada pelos seguintes Exemplos, os quais não se pretende que limitem o âmbito da presente invenção.Exemplo 1
Fórmula 15
<formula>formula see original document page 22</formula>
Aditivo: Água
Ao cloridrato do Composto (1-1) (10,00 g), foram adicionadostolueno (40 ml_), trietilamina (10,72 g) e água da bica (20 mL) e a mistura foiesfriada até 3 QC. O Composto (11-1) (7.45g) foi adicionado gota a gota àmesma a 3 a 6 ÕC durante 65 minutos. Esta solução da reação foi agitada a0 a 10 eC por cerca de 60 minutos e em seguida separada para obter a ca-mada superior (46,69 g) (Composto (llla-1) em solução de tolueno). A estasolução da reação, foram adicionadas água da bica (40 mL) e solução a48% de NaOH (10,03 g). A mistura foi agitada a cerca de 40 9C por 2 horas,e em seguida separada para obter a camada inferior. Solução a 20% de á-cido sulsulúrico (17,54 g) foi adicionada gota a gota à mesma a 40 a 48 QCpara ser pH 6.5 (Composto (lllb-1) na solução da reação). A esta solução dareação, foi adicionado diidrato de tungstato de sódio (794 mg). Solução a35% de peróxido de hidrogênio (9,36 g) foi adicionada gota a gota à mesmaa 32 a 52 BC durante 61 minutos. Esta solução da reação foi agitada a cercade 40 eC por 90 minutos. 18,12 g de uma solução em que sulfito de sódio(8.00g) foi dissolvido em água da bica (100 g) foi adicionado gota a gota àmesma e o excesso de superóxido foi removido. A esta solução da reação,foi adicionada gota a gota solução a 20% de ácido sulsulúrico (12,32 g) a 40a 45 QC para ser pH3. A mistura foi agitada a cerca de 2 9C por 120 minutos.A mistura da reação foi filtrada, e em seguida o filtrado foi lavado com 30 mLde água da bica. O cristal não secado foi coletado e secado sob pressãoreduzida com aquecimento (80 9C) para dar 11,41 g do Composto (IVb-1)(90,0% de rendimento, com base no cloridrato do Composto (1-1)).
Composto (lllb-1)
1H-NMR (CDCI3TMS padrão interno 300MHz)
õ 1,05-1,20 (m, 2H), 1,21 (s, 9H), 1,54 (m, 2H), 2,09 (t, 4H, J = 14Hz), 2,28(tt, 1H, J = 12,0, 3.6Hz), 3,18 (m, 1H), 3,30 (d, 1H, J = 6,0Hz)
Análise Elementar:
Calculado: C, 53,41; H, 8,56; N, 5,66; S, 12,96
Encontrado: C, 53,21; H, 8,59; N, 5,85; S, 12,57
Ponto de fusão: Degradando acima de cerca de 180 eC
Exemplo 2
Aditivo: Isopropanol
Ao cloridrato do Composto (1-1) (7,00 g), foram adicionados tolu-eno (28 mL), trietilamina (7,50 g) e isopropanol (7 mL) e a mistura foi esfria-da até 3 -C. O Composto (11-1) (5,21 g) foi adicionado gota a gota à mesmaa 2 a 8 9C durante 17 minutos. Esta solução da reação foi agitada a 0 a 109C por cerca de 60 minutos. Água da bica (14 mL) foi adicionada à mesma eseparada para obter a camada superior (36,31 g) (Composto (llla-1) em so-lução de tolueno). A esta solução da reação, foram adicionadas água dabica (28 mL) e solução a 48% de NaOH (7,02 g). A mistura foi agitada a cer-ca de 25 9C por 4 horas, e em seguida separada para obter a camada inferi-or. Solução a 20% de ácido sulsulúrico (12,73 g) foi adicionada gota a gotaà mesma em cerca de temperatura ambiente para ser pH 7.5 (Composto(lllb-1) na solução da reação). A esta solução da reação, foi adicionado dii-drato de tungstato de sódio (556 mg). Solução a 35% de peróxido de hidro-gênio (6.55g) foi adicionada gota a gota à mesma a 40 a 43 9C durante 59minutos. Depois de agitar esta solução da reação a cerca de 40 eC por 120minutos, 4,63 g de uma solução em que sulfito de sódio (8,00 g) foi dissolvi-do em água da bica (100g) foi adicionado gota a gota à mesma e o excessode superóxido foi extinto. A esta solução da reação, foi adicionada gota agota solução a 20% de ácido sulsulúrico (8,39 g) a cerca de temperaturaambiente para ser pH 3. A mistura foi agitada a cerca de 2 eC por cerca de30 minutos. A mistura da reação foi filtrada, e em seguida o filtrado foi lava-do com 21 mL de água da bica. O cristal não secado foi coletado e secadosob pressão reduzida com aquecimento (80 eC) para dar 7,86 g do Compos-to (IVb-1) (88,5% de rendimento, com base no cloridrato do Composto (I-1))-Exemplo 3
Aditivo: Metanol
Ao cloridrato do Composto (1-1) (7,00 g), foram adicionados tolu-eno (35 mL), trietilamina (7,50g) e metanol (7 mL) e a mistura foi esfriada até3 QC. O Composto (11-1) (5,21 g) foi adicionado gota a gota à mesma a 2 a 99C durante 48 minutos. Trietilamina (7,50 g) foi adicionada à mesma e oComposto (11-1) (5,21 g) foi adicionado gota a gota a 2 a 9 SC. Trietilamina(7,50 g) foi adicionada à mesma e o Composto (11-1) (5,21 g) foi adicionadogota a gota a 2 a 9 9C. Depois de agitar esta solução da reação a 0 a 10 eCpor cerca de 30 minutos, água da bica (14 mL) foi adicionada à mesma eseparada para obter a camada superior (46,57 g) (Composto (llla-1) em so-lução de tolueno). O índice de preparação do Composto (llla-1) foi de94,5%.
Foram comparados os índices de preparação do Composto (llla-1) nos Exemplos acima e um caso em que o aditivo não foi adicionado.
Tabela 1
<table>table see original document page 24</column></row><table>
(1V da quantidade de um aditivo significa 1 mL relativo a 1 g do substrato.)
Para realizar a próxima reação sem isolar o Composto (llla-1), oíndice de preparação foi calculado quantificando a solução da reação comHPLC sem isolar o composto em todos os casos.
Foi esclarecido que os índices de preparação do Composto (llla-1) foram consideravelmente reforçados nos casos em que um aditivo foi adi-cionado comparados com o caso em que não foi usado um aditivo.Aplicabilidade Industrial
Um processo da presente invenção é útil como um processo para a preparação industrial porque pode preparar de modo seguro e eficaz o Composto (III) e (IV).
Claims (8)
1. Processo para a preparação de um composto da fórmula (III):Fórmula 3 <formula>formula see original document page 26</formula>em que R1 é hidrogênio, alquila inferior opcionalmente substituída, arila op-cionalmente substituída, ou aril alquila inferior opcionalmente substituída, eR2 é alquila inferior opcionalmente substituída, cicloalquila opcionalmentesubstituída ou arila opcionalmente substituída, sal ou solvato do mesmo, ca-racterizado por reagir um composto da fórmula (I):Fórmula 1 <formula>formula see original document page 26</formula>em que R1 tem o mesmo significado conforme definido acima, sal ou solvatodo mesmo com um composto da fórmula (II):Fórmula 2 <formula>formula see original document page 26</formula>em que R2 tem o mesmo significado conforme definido acima, e Hal é halo-gênio,em solvente de tolueno na presença de no mínimo um dos aditivos selecio-nados entre o grupo consistindo em água, álcool, dimetilformamida, dimetila-cetamida e dimetoxietano.
2. Processo para a preparação de acordo com a reivindicação 1,em que o aditivo é água ou isopropanol.
3. Processo para a preparação de um composto da fórmula (IV):Fórmula 4<formula>formula see original document page 27</formula>em que R1 e R2 têm os mesmos significados conforme definido acima,sal ou solvato do mesmo,caracterizado por obter um composto da fórmula (III), sal ou solvato domesmo pelo processo da reivindicação 1, e oxidar o composto obtido, sal ou solvato do mesmo.
4. Processo para a preparação de um composto da fórmula (IVb):Fórmula 7 <formula>formula see original document page 27</formula>em que R2 tem o mesmo significado conforme definido acima,sal ou solvato do mesmo,caracterizado por hidrolisar um composto da fórmula (Mia):Fórmula 5 <formula>formula see original document page 27</formula>em que R1a é alquila inferior opcionalmente substituída, arila opcionalmentesubstituída, ou aril alquila inferior opcionalmente substituída, e R2 tem omesmo significado conforme definido acima, sal ou solvato do mesmo paraobter um composto da fórmula (lllb):Fórmula 6 <formula>formula see original document page 27</formula>em que R2 tem o mesmo significado conforme definido acima, sal ou solvatodo mesmo e oxidar o composto obtido, sal ou solvato do mesmo.
5. Processo para a preparação de acordo com a reivindicação 4,caracterizado por obter um composto da fórmula (IIIa):Fórmula 8 <formula>formula see original document page 28</formula>em que R1a e R2 têm o mesmo significado conforme definido acima, sal ousolvato do mesmo pelo processo como definido na reivindicação 1, e usar ocomposto obtido, sal ou solvato do mesmo.
6. Processo para a preparação de acordo com a reivindicação 5,caracterizado por reagir sem isolar um composto da fórmula (llla) ou (lllb) ouo sal para dar um composto da fórmula (IVb), sal ou solvato do mesmo.
7. Processo para a preparação de um composto da fórmula (VI):Fórmula 9 <formula>formula see original document page 28</formula>em que R2, R3 e Z têm o mesmo significado conforme definido acima,sal ou solvato farmaceuticamente aceitável do mesmo,caracterizado por obter um composto da fórmula (IV) ou (IVb), sal ou solvato do mesmo pelo processo de qualquer uma das reivindicações 3 a 6, e reagiro composto obtido, sal ou solvato do mesmo com um composto da fórmula (V): R3NH-Z (V)em que R3 é hidrogênio ou alquila inferior; Z é alquila inferior opcionalmentesubstituída, alquenila inferior opcionalmente substituída, amina opcionalmen-te substituída, alcóxi inferior opcionalmente substituído, carbociclila opcio-nalmente substituído ou heterociclila opcionalmente substituída, sal ou solva-to do mesmo.
8. Composto da fórmula (lllb-1):Fórmula 10 <formula>formula see original document page 29</formula>sal ou solvato do mesmo.
Applications Claiming Priority (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2005102678 | 2005-03-31 | ||
| JP2005-102678 | 2005-03-31 | ||
| PCT/JP2006/306616 WO2006106800A1 (ja) | 2005-03-31 | 2006-03-30 | スルファミンカルボン酸誘導体の製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| BRPI0609529A2 true BRPI0609529A2 (pt) | 2010-04-13 |
Family
ID=37073356
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| BRPI0609529-1A BRPI0609529A2 (pt) | 2005-03-31 | 2006-03-30 | processo para a preparação de compostos derivados de sulfamato-carboxilato e composto |
Country Status (10)
| Country | Link |
|---|---|
| US (2) | US8115030B2 (pt) |
| JP (1) | JP4502280B2 (pt) |
| KR (1) | KR20070116235A (pt) |
| CN (1) | CN101146768B (pt) |
| BR (1) | BRPI0609529A2 (pt) |
| CA (1) | CA2603418A1 (pt) |
| NZ (1) | NZ562134A (pt) |
| RU (1) | RU2403238C2 (pt) |
| WO (1) | WO2006106800A1 (pt) |
| ZA (1) | ZA200708847B (pt) |
Families Citing this family (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2008038640A1 (en) * | 2006-09-28 | 2008-04-03 | Shionogi & Co., Ltd. | Method for producing salt of 4-sulfinylamino-1-cyclohexanecarboxylic acid |
| CL2009001088A1 (es) | 2008-05-08 | 2011-06-17 | Shionogi & Co | Forma cristalina (ii) de (1r,4r)-4-(1,1-dimetiletilsulfonamido)-n-(5-(trifluorometil) piridin-2-il) ciclohexancarboxamida; procesos de preparacion; utiles como antagonistas del receptor npyy5. |
| US8394858B2 (en) | 2009-12-03 | 2013-03-12 | Novartis Ag | Cyclohexane derivatives and uses thereof |
| CN116120213B (zh) * | 2021-06-11 | 2024-09-13 | 重庆医药高等专科学校 | 反式4-(叔丁氧羰氨基)环己烷羧酸的合成方法 |
Family Cites Families (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE19707656A1 (de) * | 1997-02-26 | 1998-08-27 | Hoechst Ag | Sulfonamid-substituierte anellierte 7-Ring-Verbindungen, Verfahren zu ihrer Herstellung, ihre Verwendung als Medikament oder Diagnostikum sowie sie enthaltende pharmazeutische Zubereitungen |
| DE19749453A1 (de) * | 1997-11-10 | 1999-05-12 | Hoechst Marion Roussel De Gmbh | Sulfonamid-substituierte anellierte 5-Ring-Verbindungen, ihre Verwendung als Medikament sowie sie enthaltende pharmazeutische Zubereitungen |
| PT1249233E (pt) * | 1999-11-26 | 2008-10-21 | Shionogi & Co | Antagonistas de y5 de npy |
| CN1821217B (zh) | 2002-03-12 | 2010-09-29 | 盐野义制药株式会社 | 反式-4-氨基-1-环己烷羧酸衍生物的制备方法 |
| WO2005080348A1 (ja) * | 2004-02-19 | 2005-09-01 | Banyu Pharmaceutical Co., Ltd. | 新規スルホンアミド誘導体 |
-
2006
- 2006-03-30 RU RU2007140250/04A patent/RU2403238C2/ru not_active IP Right Cessation
- 2006-03-30 KR KR1020077021525A patent/KR20070116235A/ko not_active Abandoned
- 2006-03-30 WO PCT/JP2006/306616 patent/WO2006106800A1/ja not_active Ceased
- 2006-03-30 JP JP2007512831A patent/JP4502280B2/ja not_active Expired - Fee Related
- 2006-03-30 CN CN2006800098272A patent/CN101146768B/zh not_active Expired - Fee Related
- 2006-03-30 US US11/909,980 patent/US8115030B2/en not_active Expired - Fee Related
- 2006-03-30 NZ NZ562134A patent/NZ562134A/en not_active IP Right Cessation
- 2006-03-30 BR BRPI0609529-1A patent/BRPI0609529A2/pt not_active IP Right Cessation
- 2006-03-30 ZA ZA200708847A patent/ZA200708847B/xx unknown
- 2006-03-30 CA CA002603418A patent/CA2603418A1/en not_active Abandoned
-
2011
- 2011-09-19 US US13/236,585 patent/US20120010428A1/en not_active Abandoned
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| NZ562134A (en) | 2010-01-29 |
| US8115030B2 (en) | 2012-02-14 |
| US20120010428A1 (en) | 2012-01-12 |
| RU2007140250A (ru) | 2009-05-10 |
| CN101146768B (zh) | 2012-01-25 |
| WO2006106800A1 (ja) | 2006-10-12 |
| ZA200708847B (en) | 2008-12-31 |
| RU2403238C2 (ru) | 2010-11-10 |
| CA2603418A1 (en) | 2006-10-12 |
| CN101146768A (zh) | 2008-03-19 |
| US20080262264A1 (en) | 2008-10-23 |
| JP4502280B2 (ja) | 2010-07-14 |
| KR20070116235A (ko) | 2007-12-07 |
| JPWO2006106800A1 (ja) | 2008-09-11 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US7795471B2 (en) | Process for trans-4-amino-1-cyclohexanecarboxylic acid derivatives | |
| AU2016382036B2 (en) | Ointment | |
| US5693639A (en) | Therapeutic heterocyclyl amionosulfonyl phenyl compounds | |
| KR100323166B1 (ko) | 인터류킨-1 억제제의 합성에 유용한 푸란 설폰아미드 화합물의효율적인 합성방법 | |
| US20120010428A1 (en) | Process for the preparation of sulfomate-carboxylate derivatives | |
| KR910002945B1 (ko) | 1-[2-카르브 에톡시 4-벤즈알킬아미도 펜옥시]-3-아미노-2-프로판올의 제조방법 | |
| JP4895230B2 (ja) | ４−スルフィニルアミノ−１−シクロヘキサンカルボン酸の塩の製造方法 | |
| JP4636525B2 (ja) | トランス−４−アミノ−１−シクロヘキサンカルボン酸エチルエステルの塩およびその製造方法 | |
| WO2018159515A1 (ja) | ペンタフルオロスルファニル芳香族化合物の製造方法 | |
| JP2004224714A (ja) | イソオキサゾリジン−３−チオン誘導体の製造法 | |
| MX2007011758A (es) | Proceso para la preparacion de derivados de sulfamato-carboxilato. | |
| KR100466079B1 (ko) | 페녹시아세트아미드 유도체의 제조방법 | |
| JPH0350748B2 (pt) | ||
| JP2001139563A (ja) | １，２，３−ベンゾトリアジン−４（３ｈ）オン誘導体の製造方法 | |
| JP4351888B2 (ja) | スルファモイルオキシ基またはスルフィナモイルオキシ基が置換された芳香族化合物と求核剤との反応による芳香族化合物誘導体の製造方法 | |
| JPH06345682A (ja) | カルボン酸誘導体 | |
| MX2007002317A (es) | Derivados de acido 3-haloftalico quirales. | |
| JP2008069123A (ja) | ヒドロキシピリジンｎ−オキサイド誘導体、ビピリジンジオール誘導体及びジハロビピリジン誘導体の製造方法 | |
| JP2005097156A (ja) | カルバモイルオキシ基が置換された芳香族化合物と求核剤との反応による芳香族化合物誘導体の製造方法 | |
| JP2003146986A (ja) | ３−アミノチオフェン−２−カルボン酸エステルおよびそのｎ−アシル体の製造方法 | |
| JPS624274A (ja) | アミノピラゾ−ル誘導体およびその製法 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| B08F | Application dismissed because of non-payment of annual fees [chapter 8.6 patent gazette] |
Free format text: REFERENTE A 7A ANUI DADE. |
|
| B08K | Patent lapsed as no evidence of payment of the annual fee has been furnished to inpi [chapter 8.11 patent gazette] |
Free format text: REFERENTE AO DESPACHO 8.6 PUBLICADO NA RPI 2212 DE 28/05/2013. |