[go: up one dir, main page]

BE616861A - Dispositif pour le dépôt d'un matériau semi-conducteur à partir d'un mélange en circulation formé d'un composé gazeux, de préférence d'un halogénure du matériau semi-conducteur et d'un réactif gazeux - Google Patents

Dispositif pour le dépôt d'un matériau semi-conducteur à partir d'un mélange en circulation formé d'un composé gazeux, de préférence d'un halogénure du matériau semi-conducteur et d'un réactif gazeux

Info

Publication number
BE616861A
BE616861A BE616861A BE616861A BE616861A BE 616861 A BE616861 A BE 616861A BE 616861 A BE616861 A BE 616861A BE 616861 A BE616861 A BE 616861A BE 616861 A BE616861 A BE 616861A
Authority
BE
Belgium
Prior art keywords
semiconductor material
gaseous
halide
depositing
mixture formed
Prior art date
Application number
BE616861A
Other languages
English (en)
Original Assignee
Siemens Ag
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Siemens Ag filed Critical Siemens Ag
Publication of BE616861A publication Critical patent/BE616861A/fr

Links

Classifications

    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B65CONVEYING; PACKING; STORING; HANDLING THIN OR FILAMENTARY MATERIAL
    • B65BMACHINES, APPARATUS OR DEVICES FOR, OR METHODS OF, PACKAGING ARTICLES OR MATERIALS; UNPACKING
    • B65B39/00Nozzles, funnels or guides for introducing articles or materials into containers or wrappers
    • B65B39/06Nozzles, funnels or guides for introducing articles or materials into containers or wrappers adapted to support containers or wrappers
    • B65B39/08Nozzles, funnels or guides for introducing articles or materials into containers or wrappers adapted to support containers or wrappers by means of clamps
    • B65B39/10Nozzles, funnels or guides for introducing articles or materials into containers or wrappers adapted to support containers or wrappers by means of clamps operating automatically
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C01INORGANIC CHEMISTRY
    • C01BNON-METALLIC ELEMENTS; COMPOUNDS THEREOF; METALLOIDS OR COMPOUNDS THEREOF NOT COVERED BY SUBCLASS C01C
    • C01B33/00Silicon; Compounds thereof
    • C01B33/02Silicon
    • C01B33/021Preparation
    • C01B33/027Preparation by decomposition or reduction of gaseous or vaporised silicon compounds other than silica or silica-containing material
    • C01B33/035Preparation by decomposition or reduction of gaseous or vaporised silicon compounds other than silica or silica-containing material by decomposition or reduction of gaseous or vaporised silicon compounds in the presence of heated filaments of silicon, carbon or a refractory metal, e.g. tantalum or tungsten, or in the presence of heated silicon rods on which the formed silicon is deposited, a silicon rod being obtained, e.g. Siemens process
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C16/00Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes
    • C23C16/06Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the deposition of metallic material
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C8/00Solid state diffusion of only non-metal elements into metallic material surfaces; Chemical surface treatment of metallic material by reaction of the surface with a reactive gas, leaving reaction products of surface material in the coating, e.g. conversion coatings, passivation of metals

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • Inorganic Chemistry (AREA)
  • General Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Chemical Vapour Deposition (AREA)
  • Silicon Compounds (AREA)
BE616861A 1961-04-25 1962-04-25 Dispositif pour le dépôt d'un matériau semi-conducteur à partir d'un mélange en circulation formé d'un composé gazeux, de préférence d'un halogénure du matériau semi-conducteur et d'un réactif gazeux BE616861A (fr)

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DES73645A DE1206261B (de) 1961-04-25 1961-04-25 Vorrichtung zur Abscheidung reinsten Halbleiter-materials aus einem stroemenden Gemisch einer gasfoermigen Verbindung, vorzugsweise eines Halogenids, des Halbleitermaterials und eines gasfoermigen Reaktionsmittels

Publications (1)

Publication Number Publication Date
BE616861A true BE616861A (fr) 1962-10-25

Family

ID=7504069

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
BE616861A BE616861A (fr) 1961-04-25 1962-04-25 Dispositif pour le dépôt d'un matériau semi-conducteur à partir d'un mélange en circulation formé d'un composé gazeux, de préférence d'un halogénure du matériau semi-conducteur et d'un réactif gazeux

Country Status (5)

Country Link
BE (1) BE616861A (fr)
CH (1) CH422728A (fr)
DE (1) DE1206261B (fr)
GB (1) GB960035A (fr)
NL (1) NL275555A (fr)

Family Cites Families (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE1061593B (de) * 1956-06-25 1959-07-16 Siemens Ag Vorrichtung zur Gewinnung reinsten Halbleitermaterials fuer elektrotechnische Zwecke

Also Published As

Publication number Publication date
GB960035A (en) 1964-06-10
CH422728A (de) 1966-10-31
DE1206261B (de) 1965-12-02
NL275555A (fr)

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CH456589A (fr) Procédé de préparation d'un hydroxyhydrocarboxyloxyalcoylsiloxane et utilisation de ce composé
FR1230992A (fr) Fabrication de monofilaments à partir de polymères d'alpha-oléfines ou de mélanges contenant ceux-ci
FR1340847A (fr) Procédés de préparation catalytique des nitriles à partir d'hydrocarbures d'oléfines
FR1457243A (fr) Récupération de l'hydrogène à partir d'un mélange de gaz
FR1219512A (fr) Procédé pour la préparation de nitriles aliphatiques à partir d'oléfines
FR69413E (fr) Procédé pour la fabrication de redresseurs, transistors, et dispositifs analogues à partir d'un semi-conducteur
FR1432529A (fr) Procédé et installation pour la préparation d'un gaz pour la synthèse de nh à partir de mélanges gazeux contenant de l'hydrogène
FR1378027A (fr) Procédé de préparation simultanée d'alpha-oléfines et d'alkyl-aluminiums à partir d'éthylène
FR1375674A (fr) Dispositif pour le dépôt d'un matériau semi-conducteur à partir d'un mélange en circulation formé d'un composé gazeux, de préférence d'un halogénure du matériau semi-conducteur et d'un réactif gazeux
BE616861A (fr) Dispositif pour le dépôt d'un matériau semi-conducteur à partir d'un mélange en circulation formé d'un composé gazeux, de préférence d'un halogénure du matériau semi-conducteur et d'un réactif gazeux
FR1292477A (fr) Dispositif de transformation catalytique pour la fabrication en continu de gaz de tous genres à partir d'hydrocarbures
CH440254A (fr) Procédé de fabrication d'un mélange gazeux riche en éthylène et propylène
CH409986A (fr) Procédé de préparation d'un halogénure de cyanogène
FR1335460A (fr) Procédé pour la préparation du 1, 2, 3-trichloro-butène-3 à partir du 1, 3-dichlorobutène-2
CH524388A (fr) Procédé d'enrichissement d'un mélange isotopique gazeux
FR1427444A (fr) Procédés de fabrication de cristaux homogènes composés d'un mélange de matériaux semiconducteurs
FR1352161A (fr) Procédé pour la préparation d'un nouveau composé, la n-(2'-guanidinoéthyl)-2-méthylpipéridine
FR1305287A (fr) Procédé pour la fabrication de mélanges gazeux à forte teneur en oléfines, notamment en éthylène, à partir d'hydrocarbures gazeux ou vaporisés
FR1320250A (fr) Procédé pour la séparation d'un mélange de 1,5 et de 1,8-dinitronaphtaline
BE618817A (fr) Fabrication d'articles façonnés à partir de copolymères contenant du cyanure de vinylidène
FR1236920A (fr) Procédé et dispositif pour la fabrication de pièces comprimées à partir d'une matière semi-conductrice
FR1386232A (fr) Procédé de fabrication d'un mélange gazeux destiné à la synthèse de l'ammoniac
FR1278909A (fr) Procédé et dispositif pour la préparation de l'aldéhyde formique à partir du méthane
FR1340091A (fr) Procédé de fabrication d'un dispositif à semi-conducteur
FR1361689A (fr) Procédé et dispositif de fabrication continue d'un treillis en zig-zag, et constructions légères contenant un treillis de ce genre