ATE296910T1 - Verfahren und vorrichtung zum regulieren der konzentration von metallionen in einer elektrolytflüssigkeit sowie anwendung des verfahrens und verwendung der vorrichtung - Google Patents
Verfahren und vorrichtung zum regulieren der konzentration von metallionen in einer elektrolytflüssigkeit sowie anwendung des verfahrens und verwendung der vorrichtungInfo
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- 239000003792 electrolyte Substances 0.000 title abstract 3
- 229910021645 metal ion Inorganic materials 0.000 title abstract 2
- 239000007788 liquid Substances 0.000 title 1
- 230000001105 regulatory effect Effects 0.000 title 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 abstract 3
- 239000012530 fluid Substances 0.000 abstract 2
- 239000000126 substance Substances 0.000 abstract 2
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 abstract 1
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 abstract 1
- 230000002441 reversible effect Effects 0.000 abstract 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C25—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
- C25D—PROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
- C25D21/00—Processes for servicing or operating cells for electrolytic coating
- C25D21/12—Process control or regulation
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
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- C25D17/00—Constructional parts, or assemblies thereof, of cells for electrolytic coating
- C25D17/10—Electrodes, e.g. composition, counter electrode
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C25—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
- C25D—PROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
- C25D21/00—Processes for servicing or operating cells for electrolytic coating
- C25D21/12—Process control or regulation
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
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- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Electrochemistry (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Automation & Control Theory (AREA)
- Electrolytic Production Of Metals (AREA)
- Electrical Discharge Machining, Electrochemical Machining, And Combined Machining (AREA)
- Water Treatment By Electricity Or Magnetism (AREA)
- Electrolytic Production Of Non-Metals, Compounds, Apparatuses Therefor (AREA)
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| DE10013339A DE10013339C1 (de) | 2000-03-17 | 2000-03-17 | Verfahren und Vorrichtung zum Regulieren der Konzentration von Metallionen in einer Elektrolytflüssigkeit sowie Anwendung des Verfahrens und Verwendung der Vorrichtung |
| PCT/DE2001/000748 WO2001068953A1 (de) | 2000-03-17 | 2001-02-23 | Verfahren und vorrichtung zum regulieren der konzentration von metallionen in einer elektrolytflüssigkeit sowie anwendung des verfahrens und verwendung der vorrichtung |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| ATE296910T1 true ATE296910T1 (de) | 2005-06-15 |
Family
ID=7635321
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| AT01915052T ATE296910T1 (de) | 2000-03-17 | 2001-02-23 | Verfahren und vorrichtung zum regulieren der konzentration von metallionen in einer elektrolytflüssigkeit sowie anwendung des verfahrens und verwendung der vorrichtung |
Country Status (17)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US6899803B2 (de) |
| EP (1) | EP1264010B1 (de) |
| JP (1) | JP4484414B2 (de) |
| KR (1) | KR100740817B1 (de) |
| CN (1) | CN1263900C (de) |
| AT (1) | ATE296910T1 (de) |
| AU (1) | AU4227801A (de) |
| BR (1) | BR0109167B1 (de) |
| CA (1) | CA2391038A1 (de) |
| DE (2) | DE10013339C1 (de) |
| DK (1) | DK1264010T3 (de) |
| ES (1) | ES2242737T3 (de) |
| HK (1) | HK1048145B (de) |
| MX (1) | MXPA02008974A (de) |
| MY (1) | MY127759A (de) |
| TW (1) | TW557332B (de) |
| WO (1) | WO2001068953A1 (de) |
Families Citing this family (24)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2003038158A2 (de) * | 2001-10-25 | 2003-05-08 | Infineon Technologies Ag | Galvanisiereinrichtung und galvanisiersystem zum beschichten von bereits leitfähig ausgebildeten strukturen |
| KR100861698B1 (ko) * | 2006-03-30 | 2008-11-11 | 삼두주식회사 | 금속 분말 제조장치 및 금속 분말 제조방법 |
| US7759124B2 (en) * | 2007-06-16 | 2010-07-20 | Crown Packaging Technology, Inc. | Blancher with automated process control |
| JP4957906B2 (ja) * | 2007-07-27 | 2012-06-20 | 上村工業株式会社 | 連続電気銅めっき方法 |
| EP2194165A1 (de) * | 2008-10-21 | 2010-06-09 | Rohm and Haas Electronic Materials LLC | Verfahren zum Nachfüllen von Blech und seinen Legierungsmetallen in Elektrolytlösungen |
| US9404194B2 (en) | 2010-12-01 | 2016-08-02 | Novellus Systems, Inc. | Electroplating apparatus and process for wafer level packaging |
| KR101067694B1 (ko) * | 2011-05-20 | 2011-09-27 | 주식회사 삼원알텍 | 금속의 아노다이징 처리과정에서 발생되는 용존 구리의 처리 시스템 |
| KR101311274B1 (ko) | 2011-08-05 | 2013-09-25 | 주식회사 삼원알텍 | 금속의 아노다이징 처리과정에서 발생되는 용존 구리의 처리 시스템 |
| US9534308B2 (en) | 2012-06-05 | 2017-01-03 | Novellus Systems, Inc. | Protecting anodes from passivation in alloy plating systems |
| KR20140034529A (ko) * | 2012-09-12 | 2014-03-20 | 삼성전기주식회사 | 전기 동도금 장치 |
| US10011505B2 (en) * | 2013-06-24 | 2018-07-03 | Thought Preserve, Llc | Hydrodynamically isolated, ion-generator apparatus and method |
| US11180387B2 (en) | 2013-06-24 | 2021-11-23 | Thought Preserve, Llc | Voltage-controlled, hydrodynamically isolated, ion-generation apparatus and method |
| WO2016147709A1 (ja) | 2015-03-13 | 2016-09-22 | 奥野製薬工業株式会社 | 治具用電解剥離剤 |
| US10227707B2 (en) * | 2015-07-17 | 2019-03-12 | Applied Materials, Inc. | Inert anode electroplating processor and replenisher |
| TWI615363B (zh) * | 2016-04-08 | 2018-02-21 | 科閎電子股份有限公司 | 降低電解液中至少一污染性陽離子濃度的方法 |
| EP3875639A1 (de) * | 2020-03-04 | 2021-09-08 | AT & S Austria Technologie & Systemtechnik Aktiengesellschaft | Verfahren zum herstellen von leiterplatten- und/oder substraten innerhalb eines wertstoffkreislaufs |
| KR102330351B1 (ko) * | 2021-07-23 | 2021-11-23 | 정채호 | 도금용 볼 공급장치 |
| CA3141101C (en) | 2021-08-23 | 2023-10-17 | Unison Industries, Llc | Electroforming system and method |
| EP4339165A1 (de) * | 2022-09-16 | 2024-03-20 | AT & S Austria Technologie & Systemtechnik Aktiengesellschaft | Verfahren und vorrichtung zum abscheiden eines fremdmetalls aus einer prozessflüssigkeit |
| EP4400634A1 (de) | 2023-01-13 | 2024-07-17 | Atotech Deutschland GmbH & Co. KG | Verfahren zur herstellung einer kupferfolie durch elektrolytische abscheidung von kupfer |
| JP2024131366A (ja) * | 2023-03-16 | 2024-09-30 | ユケン工業株式会社 | 亜鉛溶解方法、および亜鉛溶解装置 |
| CZ2023241A3 (cs) | 2023-06-21 | 2024-10-16 | ÄŚeskĂ© vysokĂ© uÄŤenĂ technickĂ© v Praze | Zařízení pro elektrolytickou výrobu měděných fólií |
| CN116988105B (zh) * | 2023-07-17 | 2025-09-16 | 江西金德铅业股份有限公司 | 一种可调节铅电解中增加阳极导电面积的方法 |
| WO2025168540A1 (en) | 2024-02-09 | 2025-08-14 | Atotech Deutschland GmbH & Co. KG | Process for producing a flexible plastic-copper layer composite by electrolytic deposition of copper |
Family Cites Families (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CA1062651A (en) * | 1976-05-11 | 1979-09-18 | Anthony P. Holko | Process and apparatus for electrowinning metal from metal bearing solutions |
| DD215589B5 (de) * | 1983-05-11 | 1994-06-01 | Heinz Dr Rer Nat Liebscher | Verfahren zur elektrolytischen Metallabscheidung bei erzwungener Konvektion |
| DD261613A1 (de) * | 1987-06-05 | 1988-11-02 | Leipzig Galvanotechnik | Verfahren zur elektrolytischen kupferabscheidung aus sauren elektrolyten mit dimensionsstabiler anode |
| GB8921439D0 (en) * | 1989-09-22 | 1989-11-08 | Electricity Council | Improvements in or relating to the electrodeposition of zinc or zinc alloy coatings |
| JPH04191394A (ja) * | 1990-11-26 | 1992-07-09 | Furukawa Electric Co Ltd:The | 銅被覆鋼線の製造方法 |
| DE4344387C2 (de) * | 1993-12-24 | 1996-09-05 | Atotech Deutschland Gmbh | Verfahren zur elektrolytischen Abscheidung von Kupfer und Anordnung zur Durchführung des Verfahrens |
| DE19736350C1 (de) * | 1997-08-21 | 1999-08-05 | Atotech Deutschland Gmbh | Verfahren zur Konzentrationsregulierung von Stoffen in Elektrolyten und Vorrichtung zur Durchführung des Verfahrens |
-
2000
- 2000-03-17 DE DE10013339A patent/DE10013339C1/de not_active Expired - Lifetime
-
2001
- 2001-02-23 BR BRPI0109167-0A patent/BR0109167B1/pt not_active IP Right Cessation
- 2001-02-23 HK HK03100184.3A patent/HK1048145B/zh not_active IP Right Cessation
- 2001-02-23 CA CA002391038A patent/CA2391038A1/en not_active Abandoned
- 2001-02-23 WO PCT/DE2001/000748 patent/WO2001068953A1/de not_active Ceased
- 2001-02-23 MX MXPA02008974A patent/MXPA02008974A/es active IP Right Grant
- 2001-02-23 JP JP2001567828A patent/JP4484414B2/ja not_active Expired - Lifetime
- 2001-02-23 DE DE50106389T patent/DE50106389D1/de not_active Expired - Lifetime
- 2001-02-23 ES ES01915052T patent/ES2242737T3/es not_active Expired - Lifetime
- 2001-02-23 AU AU42278/01A patent/AU4227801A/en not_active Abandoned
- 2001-02-23 DK DK01915052T patent/DK1264010T3/da active
- 2001-02-23 KR KR1020027008693A patent/KR100740817B1/ko not_active Expired - Lifetime
- 2001-02-23 CN CNB01806700XA patent/CN1263900C/zh not_active Expired - Lifetime
- 2001-02-23 US US10/169,797 patent/US6899803B2/en not_active Expired - Lifetime
- 2001-02-23 AT AT01915052T patent/ATE296910T1/de active
- 2001-02-23 EP EP01915052A patent/EP1264010B1/de not_active Expired - Lifetime
- 2001-02-26 TW TW090104321A patent/TW557332B/zh not_active IP Right Cessation
- 2001-03-13 MY MYPI20011136A patent/MY127759A/en unknown
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| TW557332B (en) | 2003-10-11 |
| BR0109167A (pt) | 2002-11-26 |
| AU4227801A (en) | 2001-09-24 |
| MXPA02008974A (es) | 2003-04-25 |
| EP1264010A1 (de) | 2002-12-11 |
| HK1048145B (zh) | 2005-07-29 |
| US20030000842A1 (en) | 2003-01-02 |
| DK1264010T3 (da) | 2005-08-29 |
| EP1264010B1 (de) | 2005-06-01 |
| CA2391038A1 (en) | 2001-09-20 |
| DE10013339C1 (de) | 2001-06-13 |
| US6899803B2 (en) | 2005-05-31 |
| KR100740817B1 (ko) | 2007-07-19 |
| CN1418265A (zh) | 2003-05-14 |
| DE50106389D1 (de) | 2005-07-07 |
| MY127759A (en) | 2006-12-29 |
| BR0109167B1 (pt) | 2011-06-14 |
| HK1048145A1 (en) | 2003-03-21 |
| JP2003527490A (ja) | 2003-09-16 |
| KR20020084086A (ko) | 2002-11-04 |
| WO2001068953A1 (de) | 2001-09-20 |
| JP4484414B2 (ja) | 2010-06-16 |
| CN1263900C (zh) | 2006-07-12 |
| ES2242737T3 (es) | 2005-11-16 |
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