MX2012014320A - Composicion de resina de poliamida. - Google Patents
Composicion de resina de poliamida.Info
- Publication number
- MX2012014320A MX2012014320A MX2012014320A MX2012014320A MX2012014320A MX 2012014320 A MX2012014320 A MX 2012014320A MX 2012014320 A MX2012014320 A MX 2012014320A MX 2012014320 A MX2012014320 A MX 2012014320A MX 2012014320 A MX2012014320 A MX 2012014320A
- Authority
- MX
- Mexico
- Prior art keywords
- polyamide
- polyamide resin
- resin composition
- acid
- mass
- Prior art date
Links
- 229920006122 polyamide resin Polymers 0.000 title claims abstract description 137
- 239000011342 resin composition Substances 0.000 title claims abstract description 58
- 229920002647 polyamide Polymers 0.000 claims abstract description 83
- 239000004952 Polyamide Substances 0.000 claims abstract description 82
- OFOBLEOULBTSOW-UHFFFAOYSA-N Malonic acid Chemical compound OC(=O)CC(O)=O OFOBLEOULBTSOW-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 23
- 150000004985 diamines Chemical class 0.000 claims abstract description 16
- 239000004721 Polyphenylene oxide Substances 0.000 claims abstract description 12
- 229920000570 polyether Polymers 0.000 claims abstract description 11
- -1 carbodiimide compound Chemical class 0.000 claims description 62
- 239000003381 stabilizer Substances 0.000 claims description 47
- 229920005989 resin Polymers 0.000 claims description 36
- 239000011347 resin Substances 0.000 claims description 36
- 229920000577 Nylon 6/66 Polymers 0.000 claims description 30
- 239000002253 acid Substances 0.000 claims description 29
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims description 26
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims description 23
- GKXVJHDEWHKBFH-UHFFFAOYSA-N [2-(aminomethyl)phenyl]methanamine Chemical compound NCC1=CC=CC=C1CN GKXVJHDEWHKBFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 18
- 238000000465 moulding Methods 0.000 claims description 17
- FDLQZKYLHJJBHD-UHFFFAOYSA-N [3-(aminomethyl)phenyl]methanamine Chemical group NCC1=CC=CC(CN)=C1 FDLQZKYLHJJBHD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 15
- ISKQADXMHQSTHK-UHFFFAOYSA-N [4-(aminomethyl)phenyl]methanamine Chemical compound NCC1=CC=C(CN)C=C1 ISKQADXMHQSTHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 12
- 125000001741 organic sulfur group Chemical group 0.000 claims description 11
- 150000003336 secondary aromatic amines Chemical class 0.000 claims description 11
- 238000006068 polycondensation reaction Methods 0.000 claims description 8
- 125000002723 alicyclic group Chemical group 0.000 claims description 6
- 125000001931 aliphatic group Chemical group 0.000 claims description 6
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 27
- 230000004888 barrier function Effects 0.000 abstract description 19
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 abstract description 13
- 229920001577 copolymer Polymers 0.000 abstract description 13
- 229920002292 Nylon 6 Polymers 0.000 abstract description 8
- 229920002302 Nylon 6,6 Polymers 0.000 abstract description 7
- 229920000571 Nylon 11 Polymers 0.000 abstract description 4
- 229920000299 Nylon 12 Polymers 0.000 abstract description 4
- CXMXRPHRNRROMY-UHFFFAOYSA-N sebacic acid Chemical compound OC(=O)CCCCCCCCC(O)=O CXMXRPHRNRROMY-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 4
- 239000000470 constituent Substances 0.000 abstract 2
- XBTRYWRVOBZSGM-UHFFFAOYSA-N (4-methylphenyl)methanediamine Chemical compound CC1=CC=C(C(N)N)C=C1 XBTRYWRVOBZSGM-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract 1
- 230000002349 favourable effect Effects 0.000 abstract 1
- 238000002844 melting Methods 0.000 description 30
- 230000008018 melting Effects 0.000 description 30
- 238000000034 method Methods 0.000 description 20
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 description 20
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 16
- 239000000463 material Substances 0.000 description 16
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 14
- 239000000047 product Substances 0.000 description 14
- 230000007704 transition Effects 0.000 description 14
- DMBHHRLKUKUOEG-UHFFFAOYSA-N diphenylamine Chemical group C=1C=CC=CC=1NC1=CC=CC=C1 DMBHHRLKUKUOEG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 13
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 13
- 238000004898 kneading Methods 0.000 description 12
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N Sulfuric acid Chemical compound OS(O)(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 11
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 11
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 11
- QQVIHTHCMHWDBS-UHFFFAOYSA-N isophthalic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=CC(C(O)=O)=C1 QQVIHTHCMHWDBS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- NLKNQRATVPKPDG-UHFFFAOYSA-M potassium iodide Chemical compound [K+].[I-] NLKNQRATVPKPDG-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 10
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 10
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 9
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 9
- RKMGAJGJIURJSJ-UHFFFAOYSA-N 2,2,6,6-tetramethylpiperidine Chemical group CC1(C)CCCC(C)(C)N1 RKMGAJGJIURJSJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- WNLRTRBMVRJNCN-UHFFFAOYSA-N adipic acid Chemical compound OC(=O)CCCCC(O)=O WNLRTRBMVRJNCN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- ZJIPHXXDPROMEF-UHFFFAOYSA-N dihydroxyphosphanyl dihydrogen phosphite Chemical compound OP(O)OP(O)O ZJIPHXXDPROMEF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 230000007062 hydrolysis Effects 0.000 description 8
- 238000006460 hydrolysis reaction Methods 0.000 description 8
- 239000002667 nucleating agent Substances 0.000 description 8
- NFHFRUOZVGFOOS-UHFFFAOYSA-N palladium;triphenylphosphane Chemical compound [Pd].C1=CC=CC=C1P(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1.C1=CC=CC=C1P(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1.C1=CC=CC=C1P(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1.C1=CC=CC=C1P(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 NFHFRUOZVGFOOS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 230000008569 process Effects 0.000 description 8
- 239000012298 atmosphere Substances 0.000 description 7
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 238000002425 crystallisation Methods 0.000 description 7
- 230000008025 crystallization Effects 0.000 description 7
- 125000005442 diisocyanate group Chemical group 0.000 description 7
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 7
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 7
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 7
- 239000005749 Copper compound Substances 0.000 description 6
- KKEYFWRCBNTPAC-UHFFFAOYSA-N Terephthalic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=C(C(O)=O)C=C1 KKEYFWRCBNTPAC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 238000007334 copolymerization reaction Methods 0.000 description 6
- 150000001880 copper compounds Chemical class 0.000 description 6
- JBKVHLHDHHXQEQ-UHFFFAOYSA-N epsilon-caprolactam Chemical compound O=C1CCCCCN1 JBKVHLHDHHXQEQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 6
- 150000004820 halides Chemical class 0.000 description 6
- NAQMVNRVTILPCV-UHFFFAOYSA-N hexane-1,6-diamine Chemical compound NCCCCCCN NAQMVNRVTILPCV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 239000008188 pellet Substances 0.000 description 6
- LGOPTUPXVVNJFH-UHFFFAOYSA-N pentadecanethioic s-acid Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCC(O)=S LGOPTUPXVVNJFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 229910052698 phosphorus Inorganic materials 0.000 description 6
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 6
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 6
- YHMYGUUIMTVXNW-UHFFFAOYSA-N 1,3-dihydrobenzimidazole-2-thione Chemical class C1=CC=C2NC(S)=NC2=C1 YHMYGUUIMTVXNW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 230000032683 aging Effects 0.000 description 5
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 5
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 5
- 239000000155 melt Substances 0.000 description 5
- PBLZLIFKVPJDCO-UHFFFAOYSA-N 12-aminododecanoic acid Chemical compound NCCCCCCCCCCCC(O)=O PBLZLIFKVPJDCO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- XQVWYOYUZDUNRW-UHFFFAOYSA-N N-Phenyl-1-naphthylamine Chemical group C=1C=CC2=CC=CC=C2C=1NC1=CC=CC=C1 XQVWYOYUZDUNRW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229920000305 Nylon 6,10 Polymers 0.000 description 4
- 229920006121 Polyxylylene adipamide Polymers 0.000 description 4
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 4
- 239000001361 adipic acid Substances 0.000 description 4
- 235000011037 adipic acid Nutrition 0.000 description 4
- 125000003277 amino group Chemical group 0.000 description 4
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 description 4
- WPYMKLBDIGXBTP-UHFFFAOYSA-N benzoic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=CC=C1 WPYMKLBDIGXBTP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 4
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 description 4
- 125000003178 carboxy group Chemical group [H]OC(*)=O 0.000 description 4
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 description 4
- ILRSCQWREDREME-UHFFFAOYSA-N dodecanamide Chemical group CCCCCCCCCCCC(N)=O ILRSCQWREDREME-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000001125 extrusion Methods 0.000 description 4
- 239000011261 inert gas Substances 0.000 description 4
- 239000012948 isocyanate Substances 0.000 description 4
- 230000014759 maintenance of location Effects 0.000 description 4
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 4
- 239000011574 phosphorus Substances 0.000 description 4
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 4
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 4
- 238000003786 synthesis reaction Methods 0.000 description 4
- LVEOKSIILWWVEO-UHFFFAOYSA-N tetradecyl 3-(3-oxo-3-tetradecoxypropyl)sulfanylpropanoate Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCOC(=O)CCSCCC(=O)OCCCCCCCCCCCCCC LVEOKSIILWWVEO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- NRMSFXMULXCZAZ-UHFFFAOYSA-N 10-(3-azabicyclo[3.2.2]nona-1(7),5,8-trien-3-yl)-10-oxodecanamide Chemical compound C1N(C(=O)CCCCCCCCC(=O)N)CC2=CC=C1C=C2 NRMSFXMULXCZAZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- GUOSQNAUYHMCRU-UHFFFAOYSA-N 11-Aminoundecanoic acid Chemical compound NCCCCCCCCCCC(O)=O GUOSQNAUYHMCRU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- XGIDEUICZZXBFQ-UHFFFAOYSA-N 1h-benzimidazol-2-ylmethanethiol Chemical class C1=CC=C2NC(CS)=NC2=C1 XGIDEUICZZXBFQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N Fluorine atom Chemical compound [F] YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000004677 Nylon Substances 0.000 description 3
- ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N Phenol Chemical compound OC1=CC=CC=C1 ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910001508 alkali metal halide Inorganic materials 0.000 description 3
- 150000001340 alkali metals Chemical class 0.000 description 3
- 150000001412 amines Chemical class 0.000 description 3
- 238000009835 boiling Methods 0.000 description 3
- 150000001718 carbodiimides Chemical class 0.000 description 3
- ORTQZVOHEJQUHG-UHFFFAOYSA-L copper(II) chloride Chemical compound Cl[Cu]Cl ORTQZVOHEJQUHG-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 3
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 description 3
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 description 3
- 150000003951 lactams Chemical class 0.000 description 3
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 3
- 229920001778 nylon Polymers 0.000 description 3
- 239000003921 oil Substances 0.000 description 3
- 229920003023 plastic Polymers 0.000 description 3
- 239000004033 plastic Substances 0.000 description 3
- 229920005668 polycarbonate resin Polymers 0.000 description 3
- 239000004431 polycarbonate resin Substances 0.000 description 3
- 229920001225 polyester resin Polymers 0.000 description 3
- 239000004645 polyester resin Substances 0.000 description 3
- 239000005056 polyisocyanate Substances 0.000 description 3
- 229920001228 polyisocyanate Polymers 0.000 description 3
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 3
- 229920005672 polyolefin resin Polymers 0.000 description 3
- 238000011160 research Methods 0.000 description 3
- FVAUCKIRQBBSSJ-UHFFFAOYSA-M sodium iodide Chemical compound [Na+].[I-] FVAUCKIRQBBSSJ-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 3
- 230000035882 stress Effects 0.000 description 3
- 239000000454 talc Substances 0.000 description 3
- 229910052623 talc Inorganic materials 0.000 description 3
- RMVRSNDYEFQCLF-UHFFFAOYSA-N thiophenol Chemical compound SC1=CC=CC=C1 RMVRSNDYEFQCLF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- MPTISGUJJWJZRR-UHFFFAOYSA-N 1,1-bis[2,4-bis(2-phenylpropan-2-yl)phenyl]-2,2-bis(hydroxymethyl)propane-1,3-diol Chemical compound C(C)(C)(C1=CC=CC=C1)C1=C(C=CC(=C1)C(C)(C)C1=CC=CC=C1)C(O)(C(CO)(CO)CO)C1=C(C=C(C=C1)C(C)(C)C1=CC=CC=C1)C(C)(C)C1=CC=CC=C1 MPTISGUJJWJZRR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VETPHHXZEJAYOB-UHFFFAOYSA-N 1-n,4-n-dinaphthalen-2-ylbenzene-1,4-diamine Chemical compound C1=CC=CC2=CC(NC=3C=CC(NC=4C=C5C=CC=CC5=CC=4)=CC=3)=CC=C21 VETPHHXZEJAYOB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KGRVJHAUYBGFFP-UHFFFAOYSA-N 2,2'-Methylenebis(4-methyl-6-tert-butylphenol) Chemical compound CC(C)(C)C1=CC(C)=CC(CC=2C(=C(C=C(C)C=2)C(C)(C)C)O)=C1O KGRVJHAUYBGFFP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- OSTXIFWRXATPIR-UHFFFAOYSA-N 2,2,6,6-tetramethyl-4-phenylpiperidine Chemical compound C1C(C)(C)NC(C)(C)CC1C1=CC=CC=C1 OSTXIFWRXATPIR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WWKIBJJAMYXFIK-UHFFFAOYSA-N 2,2-bis(hydroxymethyl)propane-1,3-diol;3-(3,5-ditert-butyl-4-hydroxyphenyl)propanoic acid Chemical compound OCC(CO)(CO)CO.CC(C)(C)C1=CC(CCC(O)=O)=CC(C(C)(C)C)=C1O.CC(C)(C)C1=CC(CCC(O)=O)=CC(C(C)(C)C)=C1O.CC(C)(C)C1=CC(CCC(O)=O)=CC(C(C)(C)C)=C1O.CC(C)(C)C1=CC(CCC(O)=O)=CC(C(C)(C)C)=C1O WWKIBJJAMYXFIK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XNWFRZJHXBZDAG-UHFFFAOYSA-N 2-METHOXYETHANOL Chemical compound COCCO XNWFRZJHXBZDAG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- YMKWWHFRGALXLE-UHFFFAOYSA-N 4-methyl-1-phenyl-2,3-dihydro-1$l^{5}-phosphole 1-oxide Chemical compound C1CC(C)=CP1(=O)C1=CC=CC=C1 YMKWWHFRGALXLE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- GVNWZKBFMFUVNX-UHFFFAOYSA-N Adipamide Chemical compound NC(=O)CCCCC(N)=O GVNWZKBFMFUVNX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052582 BN Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000005711 Benzoic acid Substances 0.000 description 2
- PZNSFCLAULLKQX-UHFFFAOYSA-N Boron nitride Chemical compound N#B PZNSFCLAULLKQX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- FERIUCNNQQJTOY-UHFFFAOYSA-N Butyric acid Chemical compound CCCC(O)=O FERIUCNNQQJTOY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N Ethylene glycol Chemical compound OCCO LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- JHWNWJKBPDFINM-UHFFFAOYSA-N Laurolactam Chemical compound O=C1CCCCCCCCCCCN1 JHWNWJKBPDFINM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- UTGQNNCQYDRXCH-UHFFFAOYSA-N N,N'-diphenyl-1,4-phenylenediamine Chemical compound C=1C=C(NC=2C=CC=CC=2)C=CC=1NC1=CC=CC=C1 UTGQNNCQYDRXCH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KEQFTVQCIQJIQW-UHFFFAOYSA-N N-Phenyl-2-naphthylamine Chemical compound C=1C=C2C=CC=CC2=CC=1NC1=CC=CC=C1 KEQFTVQCIQJIQW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920003189 Nylon 4,6 Polymers 0.000 description 2
- OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N Phosphorus Chemical compound [P] OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000004698 Polyethylene Substances 0.000 description 2
- 239000004743 Polypropylene Substances 0.000 description 2
- WCUXLLCKKVVCTQ-UHFFFAOYSA-M Potassium chloride Chemical compound [Cl-].[K+] WCUXLLCKKVVCTQ-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- XBDQKXXYIPTUBI-UHFFFAOYSA-M Propionate Chemical compound CCC([O-])=O XBDQKXXYIPTUBI-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- VMHLLURERBWHNL-UHFFFAOYSA-M Sodium acetate Chemical compound [Na+].CC([O-])=O VMHLLURERBWHNL-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- FAPWRFPIFSIZLT-UHFFFAOYSA-M Sodium chloride Chemical compound [Na+].[Cl-] FAPWRFPIFSIZLT-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- KDYFGRWQOYBRFD-UHFFFAOYSA-N Succinic acid Natural products OC(=O)CCC(O)=O KDYFGRWQOYBRFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000008431 aliphatic amides Chemical class 0.000 description 2
- 229910052783 alkali metal Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910052784 alkaline earth metal Inorganic materials 0.000 description 2
- 150000001342 alkaline earth metals Chemical class 0.000 description 2
- 230000009435 amidation Effects 0.000 description 2
- 238000007112 amidation reaction Methods 0.000 description 2
- 239000002216 antistatic agent Substances 0.000 description 2
- QFNNDGVVMCZKEY-UHFFFAOYSA-N azacyclododecan-2-one Chemical compound O=C1CCCCCCCCCCN1 QFNNDGVVMCZKEY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 235000010233 benzoic acid Nutrition 0.000 description 2
- 239000002981 blocking agent Substances 0.000 description 2
- HQABUPZFAYXKJW-UHFFFAOYSA-N butan-1-amine Chemical compound CCCCN HQABUPZFAYXKJW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KDYFGRWQOYBRFD-NUQCWPJISA-N butanedioic acid Chemical compound O[14C](=O)CC[14C](O)=O KDYFGRWQOYBRFD-NUQCWPJISA-N 0.000 description 2
- VHRGRCVQAFMJIZ-UHFFFAOYSA-N cadaverine Chemical compound NCCCCCN VHRGRCVQAFMJIZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000009833 condensation Methods 0.000 description 2
- 230000005494 condensation Effects 0.000 description 2
- 239000007859 condensation product Substances 0.000 description 2
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 2
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 2
- 150000001879 copper Chemical class 0.000 description 2
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 2
- NZNMSOFKMUBTKW-UHFFFAOYSA-N cyclohexanecarboxylic acid Chemical compound OC(=O)C1CCCCC1 NZNMSOFKMUBTKW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PAFZNILMFXTMIY-UHFFFAOYSA-N cyclohexylamine Chemical compound NC1CCCCC1 PAFZNILMFXTMIY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000001991 dicarboxylic acids Chemical class 0.000 description 2
- 238000000113 differential scanning calorimetry Methods 0.000 description 2
- XBDQKXXYIPTUBI-UHFFFAOYSA-N dimethylselenoniopropionate Natural products CCC(O)=O XBDQKXXYIPTUBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000006185 dispersion Substances 0.000 description 2
- 150000004659 dithiocarbamates Chemical class 0.000 description 2
- POULHZVOKOAJMA-UHFFFAOYSA-N dodecanoic acid Chemical compound CCCCCCCCCCCC(O)=O POULHZVOKOAJMA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000000806 elastomer Substances 0.000 description 2
- 229920001971 elastomer Polymers 0.000 description 2
- 239000003623 enhancer Substances 0.000 description 2
- DNJIEGIFACGWOD-UHFFFAOYSA-N ethanethiol Chemical compound CCS DNJIEGIFACGWOD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000000835 fiber Substances 0.000 description 2
- 239000003063 flame retardant Substances 0.000 description 2
- 238000010528 free radical solution polymerization reaction Methods 0.000 description 2
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 2
- 230000009477 glass transition Effects 0.000 description 2
- ALBYIUDWACNRRB-UHFFFAOYSA-N hexanamide Chemical group CCCCCC(N)=O ALBYIUDWACNRRB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XXMIOPMDWAUFGU-UHFFFAOYSA-N hexane-1,6-diol Chemical compound OCCCCCCO XXMIOPMDWAUFGU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000011256 inorganic filler Substances 0.000 description 2
- 229910003475 inorganic filler Inorganic materials 0.000 description 2
- 150000002513 isocyanates Chemical class 0.000 description 2
- 239000000314 lubricant Substances 0.000 description 2
- VNWKTOKETHGBQD-UHFFFAOYSA-N methane Chemical compound C VNWKTOKETHGBQD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- FTWUXYZHDFCGSV-UHFFFAOYSA-N n,n'-diphenyloxamide Chemical compound C=1C=CC=CC=1NC(=O)C(=O)NC1=CC=CC=C1 FTWUXYZHDFCGSV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KYTZHLUVELPASH-UHFFFAOYSA-N naphthalene-1,2-dicarboxylic acid Chemical class C1=CC=CC2=C(C(O)=O)C(C(=O)O)=CC=C21 KYTZHLUVELPASH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 2
- BDJRBEYXGGNYIS-UHFFFAOYSA-N nonanedioic acid Chemical compound OC(=O)CCCCCCCC(O)=O BDJRBEYXGGNYIS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- JKBYAWVSVVSRIX-UHFFFAOYSA-N octadecyl 2-(1-octadecoxy-1-oxopropan-2-yl)sulfanylpropanoate Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCCCCOC(=O)C(C)SC(C)C(=O)OCCCCCCCCCCCCCCCCCC JKBYAWVSVVSRIX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WXZMFSXDPGVJKK-UHFFFAOYSA-N pentaerythritol Chemical compound OCC(CO)(CO)CO WXZMFSXDPGVJKK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ACVYVLVWPXVTIT-UHFFFAOYSA-N phosphinic acid Chemical class O[PH2]=O ACVYVLVWPXVTIT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XRBCRPZXSCBRTK-UHFFFAOYSA-N phosphonous acid Chemical class OPO XRBCRPZXSCBRTK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- OJMIONKXNSYLSR-UHFFFAOYSA-N phosphorous acid Chemical class OP(O)O OJMIONKXNSYLSR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000004437 phosphorous atom Chemical group 0.000 description 2
- 150000003018 phosphorus compounds Chemical class 0.000 description 2
- WLJVNTCWHIRURA-UHFFFAOYSA-N pimelic acid Chemical compound OC(=O)CCCCCC(O)=O WLJVNTCWHIRURA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000004014 plasticizer Substances 0.000 description 2
- 229920003229 poly(methyl methacrylate) Polymers 0.000 description 2
- 239000004926 polymethyl methacrylate Substances 0.000 description 2
- 229920001155 polypropylene Polymers 0.000 description 2
- 229920001451 polypropylene glycol Polymers 0.000 description 2
- IOLCXVTUBQKXJR-UHFFFAOYSA-M potassium bromide Chemical compound [K+].[Br-] IOLCXVTUBQKXJR-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- KIDHWZJUCRJVML-UHFFFAOYSA-N putrescine Chemical compound NCCCCN KIDHWZJUCRJVML-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CYIDZMCFTVVTJO-UHFFFAOYSA-N pyromellitic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC(C(O)=O)=C(C(O)=O)C=C1C(O)=O CYIDZMCFTVVTJO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000035939 shock Effects 0.000 description 2
- 239000002356 single layer Substances 0.000 description 2
- 239000001632 sodium acetate Substances 0.000 description 2
- 235000017281 sodium acetate Nutrition 0.000 description 2
- TYFQFVWCELRYAO-UHFFFAOYSA-N suberic acid Chemical compound OC(=O)CCCCCCC(O)=O TYFQFVWCELRYAO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920001897 terpolymer Polymers 0.000 description 2
- DJZKNOVUNYPPEE-UHFFFAOYSA-N tetradecane-1,4,11,14-tetracarboxamide Chemical group NC(=O)CCCC(C(N)=O)CCCCCCC(C(N)=O)CCCC(N)=O DJZKNOVUNYPPEE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000003568 thioethers Chemical class 0.000 description 2
- 150000003585 thioureas Chemical class 0.000 description 2
- ARCGXLSVLAOJQL-UHFFFAOYSA-N trimellitic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=C(C(O)=O)C(C(O)=O)=C1 ARCGXLSVLAOJQL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- FKVMWDZRDMCIAJ-UHFFFAOYSA-N undecanamide Chemical group CCCCCCCCCCC(N)=O FKVMWDZRDMCIAJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ZDPHROOEEOARMN-UHFFFAOYSA-N undecanoic acid Chemical compound CCCCCCCCCCC(O)=O ZDPHROOEEOARMN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- YEYCMBWKTZNPDH-UHFFFAOYSA-N (2,2,6,6-tetramethylpiperidin-4-yl) benzoate Chemical compound C1C(C)(C)NC(C)(C)CC1OC(=O)C1=CC=CC=C1 YEYCMBWKTZNPDH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VOSIMTRBKQDRPU-UHFFFAOYSA-N (2,2,6,6-tetramethylpiperidin-4-yl) hydrogen carbonate Chemical compound CC1(C)CC(OC(O)=O)CC(C)(C)N1 VOSIMTRBKQDRPU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MCZHQCYHICIWJK-UHFFFAOYSA-N (2,2,6,6-tetramethylpiperidin-4-yl) n-ethylcarbamate Chemical compound CCNC(=O)OC1CC(C)(C)NC(C)(C)C1 MCZHQCYHICIWJK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UDYXMTORTDACTG-UHFFFAOYSA-N 1,1,3-tributylthiourea Chemical compound CCCCNC(=S)N(CCCC)CCCC UDYXMTORTDACTG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RGASRBUYZODJTG-UHFFFAOYSA-N 1,1-bis(2,4-ditert-butylphenyl)-2,2-bis(hydroxymethyl)propane-1,3-diol dihydroxyphosphanyl dihydrogen phosphite Chemical compound OP(O)OP(O)O.C(C)(C)(C)C1=C(C=CC(=C1)C(C)(C)C)C(O)(C(CO)(CO)CO)C1=C(C=C(C=C1)C(C)(C)C)C(C)(C)C RGASRBUYZODJTG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NWHNXXMYEICZAT-UHFFFAOYSA-N 1,2,2,6,6-pentamethylpiperidin-4-ol Chemical compound CN1C(C)(C)CC(O)CC1(C)C NWHNXXMYEICZAT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NNOZGCICXAYKLW-UHFFFAOYSA-N 1,2-bis(2-isocyanatopropan-2-yl)benzene Chemical compound O=C=NC(C)(C)C1=CC=CC=C1C(C)(C)N=C=O NNOZGCICXAYKLW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FKTHNVSLHLHISI-UHFFFAOYSA-N 1,2-bis(isocyanatomethyl)benzene Chemical compound O=C=NCC1=CC=CC=C1CN=C=O FKTHNVSLHLHISI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VUMCUSHVMYIRMB-UHFFFAOYSA-N 1,3,5-tri(propan-2-yl)benzene Chemical compound CC(C)C1=CC(C(C)C)=CC(C(C)C)=C1 VUMCUSHVMYIRMB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YLMXNQPOOVZIHK-UHFFFAOYSA-N 1,3-bis[3-(dimethylamino)propyl]thiourea Chemical compound CN(C)CCCNC(=S)NCCCN(C)C YLMXNQPOOVZIHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VGHSXKTVMPXHNG-UHFFFAOYSA-N 1,3-diisocyanatobenzene Chemical compound O=C=NC1=CC=CC(N=C=O)=C1 VGHSXKTVMPXHNG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004955 1,4-cyclohexylene group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])([*:1])C([H])([H])C([H])([H])C1([H])[*:2] 0.000 description 1
- ALQLPWJFHRMHIU-UHFFFAOYSA-N 1,4-diisocyanatobenzene Chemical compound O=C=NC1=CC=C(N=C=O)C=C1 ALQLPWJFHRMHIU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CDMDQYCEEKCBGR-UHFFFAOYSA-N 1,4-diisocyanatocyclohexane Chemical compound O=C=NC1CCC(N=C=O)CC1 CDMDQYCEEKCBGR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CBCKQZAAMUWICA-UHFFFAOYSA-N 1,4-phenylenediamine Chemical compound NC1=CC=C(N)C=C1 CBCKQZAAMUWICA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SBJCUZQNHOLYMD-UHFFFAOYSA-N 1,5-Naphthalene diisocyanate Chemical compound C1=CC=C2C(N=C=O)=CC=CC2=C1N=C=O SBJCUZQNHOLYMD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PWGJDPKCLMLPJW-UHFFFAOYSA-N 1,8-diaminooctane Chemical compound NCCCCCCCCN PWGJDPKCLMLPJW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BDQNKCYCTYYMAA-UHFFFAOYSA-N 1-isocyanatonaphthalene Chemical compound C1=CC=C2C(N=C=O)=CC=CC2=C1 BDQNKCYCTYYMAA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RTBFRGCFXZNCOE-UHFFFAOYSA-N 1-methylsulfonylpiperidin-4-one Chemical compound CS(=O)(=O)N1CCC(=O)CC1 RTBFRGCFXZNCOE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OYNOCRWQLLIRON-UHFFFAOYSA-N 1-n,3-n-bis(2,2,6,6-tetramethylpiperidin-4-yl)benzene-1,3-dicarboxamide Chemical compound C1C(C)(C)NC(C)(C)CC1NC(=O)C1=CC=CC(C(=O)NC2CC(C)(C)NC(C)(C)C2)=C1 OYNOCRWQLLIRON-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YUQUHJGNZFFDAA-UHFFFAOYSA-N 1-phenyl-2,3-dihydro-1$l^{5}-phosphole 1-oxide Chemical compound C=1C=CC=CC=1P1(=O)CCC=C1 YUQUHJGNZFFDAA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HEJCZAMFVMNFLC-UHFFFAOYSA-N 10-oxo-10-(2,2,6,6-tetramethylpiperidin-4-yl)oxydecanoic acid Chemical compound CC1(C)CC(OC(=O)CCCCCCCCC(O)=O)CC(C)(C)N1 HEJCZAMFVMNFLC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JCUZDQXWVYNXHD-UHFFFAOYSA-N 2,2,4-trimethylhexane-1,6-diamine Chemical compound NCCC(C)CC(C)(C)CN JCUZDQXWVYNXHD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XQMHLQCMMWBAPP-UHFFFAOYSA-N 2,2,6,6-tetramethyl-4-[2-(2,2,6,6-tetramethylpiperidin-4-yl)oxyethoxy]piperidine Chemical compound C1C(C)(C)NC(C)(C)CC1OCCOC1CC(C)(C)NC(C)(C)C1 XQMHLQCMMWBAPP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IUKIOUVQRQCBOX-UHFFFAOYSA-N 2,2,6,6-tetramethyl-4-phenoxypiperidine Chemical compound C1C(C)(C)NC(C)(C)CC1OC1=CC=CC=C1 IUKIOUVQRQCBOX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GXURZKWLMYOCDX-UHFFFAOYSA-N 2,2-bis(hydroxymethyl)propane-1,3-diol;dihydroxyphosphanyl dihydrogen phosphite Chemical compound OP(O)OP(O)O.OCC(CO)(CO)CO GXURZKWLMYOCDX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KNHJIEOCVVIBIV-UHFFFAOYSA-N 2,3-dimethylphenyl isocyanate Chemical compound CC1=CC=CC(N=C=O)=C1C KNHJIEOCVVIBIV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KLZYRCVPDWTZLH-UHFFFAOYSA-N 2,3-dimethylsuccinic acid Chemical compound OC(=O)C(C)C(C)C(O)=O KLZYRCVPDWTZLH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DPQHRXRAZHNGRU-UHFFFAOYSA-N 2,4,4-trimethylhexane-1,6-diamine Chemical compound NCC(C)CC(C)(C)CCN DPQHRXRAZHNGRU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JXGNHEUFHNJWDY-UHFFFAOYSA-N 2,5-dihydro-1h-phosphole Chemical class C1PCC=C1 JXGNHEUFHNJWDY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JLZIIHMTTRXXIN-UHFFFAOYSA-N 2-(2-hydroxy-4-methoxybenzoyl)benzoic acid Chemical compound OC1=CC(OC)=CC=C1C(=O)C1=CC=CC=C1C(O)=O JLZIIHMTTRXXIN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ULIKDJVNUXNQHS-UHFFFAOYSA-N 2-Propene-1-thiol Chemical compound SCC=C ULIKDJVNUXNQHS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XZXYQEHISUMZAT-UHFFFAOYSA-N 2-[(2-hydroxy-5-methylphenyl)methyl]-4-methylphenol Chemical compound CC1=CC=C(O)C(CC=2C(=CC=C(C)C=2)O)=C1 XZXYQEHISUMZAT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HASUJDLTAYUWCO-UHFFFAOYSA-N 2-aminoundecanoic acid Chemical compound CCCCCCCCCC(N)C(O)=O HASUJDLTAYUWCO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PQJZHMCWDKOPQG-UHFFFAOYSA-N 2-anilino-2-oxoacetic acid Chemical compound OC(=O)C(=O)NC1=CC=CC=C1 PQJZHMCWDKOPQG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RLHGFJMGWQXPBW-UHFFFAOYSA-N 2-hydroxy-3-(1h-imidazol-5-ylmethyl)benzamide Chemical compound NC(=O)C1=CC=CC(CC=2NC=NC=2)=C1O RLHGFJMGWQXPBW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JZUHIOJYCPIVLQ-UHFFFAOYSA-N 2-methylpentane-1,5-diamine Chemical compound NCC(C)CCCN JZUHIOJYCPIVLQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RAVIDUCKTHMVHO-UHFFFAOYSA-N 2-nonylpropane-1,3-diamine Chemical compound CCCCCCCCCC(CN)CN RAVIDUCKTHMVHO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KWXBKFZIJPMCMT-UHFFFAOYSA-N 2-oxo-2-(2,2,6,6-tetramethylpiperidin-4-yl)oxyacetic acid Chemical compound CC1(NC(CC(C1)OC(C(=O)O)=O)(C)C)C KWXBKFZIJPMCMT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PZRWFKGUFWPFID-UHFFFAOYSA-N 3,9-dioctadecoxy-2,4,8,10-tetraoxa-3,9-diphosphaspiro[5.5]undecane Chemical compound C1OP(OCCCCCCCCCCCCCCCCCC)OCC21COP(OCCCCCCCCCCCCCCCCCC)OC2 PZRWFKGUFWPFID-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ODJQKYXPKWQWNK-UHFFFAOYSA-L 3-(2-carboxylatoethylsulfanyl)propanoate Chemical compound [O-]C(=O)CCSCCC([O-])=O ODJQKYXPKWQWNK-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- BUZICZZQJDLXJN-UHFFFAOYSA-N 3-azaniumyl-4-hydroxybutanoate Chemical compound OCC(N)CC(O)=O BUZICZZQJDLXJN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GFBTYDCXVOUHPM-UHFFFAOYSA-N 3-decylaziridin-2-one Chemical compound CCCCCCCCCCC1NC1=O GFBTYDCXVOUHPM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SJTHICXFSQVVTD-UHFFFAOYSA-N 3-oxo-3-(2,2,6,6-tetramethylpiperidin-4-yl)oxypropanoic acid Chemical compound CC1(C)CC(OC(=O)CC(O)=O)CC(C)(C)N1 SJTHICXFSQVVTD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HPMGAACJOFKRPE-UHFFFAOYSA-N 4-(2,2,6,6-tetramethylpiperidin-4-yl)oxycarbonylbenzoic acid Chemical compound C1C(C)(C)NC(C)(C)CC1OC(=O)C1=CC=C(C(O)=O)C=C1 HPMGAACJOFKRPE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KVBMUYJHWZCRKR-UHFFFAOYSA-N 4-(2,5-dimethylphenoxy)-2,2,6,6-tetramethylpiperidine Chemical group CC1=CC=C(C)C(OC2CC(C)(C)NC(C)(C)C2)=C1 KVBMUYJHWZCRKR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HLBLWEWZXPIGSM-UHFFFAOYSA-N 4-Aminophenyl ether Chemical compound C1=CC(N)=CC=C1OC1=CC=C(N)C=C1 HLBLWEWZXPIGSM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- STEYNUVPFMIUOY-UHFFFAOYSA-N 4-Hydroxy-1-(2-hydroxyethyl)-2,2,6,6-tetramethylpiperidine Chemical compound CC1(C)CC(O)CC(C)(C)N1CCO STEYNUVPFMIUOY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BDBZTOMUANOKRT-UHFFFAOYSA-N 4-[2-(4-aminocyclohexyl)propan-2-yl]cyclohexan-1-amine Chemical compound C1CC(N)CCC1C(C)(C)C1CCC(N)CC1 BDBZTOMUANOKRT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QMKNJOSHDCHBPF-UHFFFAOYSA-N 4-[[5,5-bis[(3,5-ditert-butyl-4-hydroxyphenyl)methyl]-2,4,6-trimethylcyclohexa-1,3-dien-1-yl]methyl]-2,6-ditert-butylphenol Chemical compound CC=1C=C(C)C(CC=2C=C(C(O)=C(C=2)C(C)(C)C)C(C)(C)C)(CC=2C=C(C(O)=C(C=2)C(C)(C)C)C(C)(C)C)C(C)C=1CC1=CC(C(C)(C)C)=C(O)C(C(C)(C)C)=C1 QMKNJOSHDCHBPF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XQZKCDJWJWYELI-UHFFFAOYSA-N 4-butylazetidin-2-one Chemical compound CCCCC1CC(=O)N1 XQZKCDJWJWYELI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AZOKEAVWRNFNHE-UHFFFAOYSA-N 4-cyclohexyloxy-2,2,6,6-tetramethylpiperidine Chemical compound C1C(C)(C)NC(C)(C)CC1OC1CCCCC1 AZOKEAVWRNFNHE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RWWGPCWSFFOXJN-UHFFFAOYSA-N 4-methoxy-2,2,6,6-tetramethylpiperidine Chemical compound COC1CC(C)(C)NC(C)(C)C1 RWWGPCWSFFOXJN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KCSOBOZCMQBPFM-UHFFFAOYSA-N 4-n,4-n-dinaphthalen-2-ylbenzene-1,4-diamine Chemical compound C1=CC(N)=CC=C1N(C=1C=C2C=CC=CC2=CC=1)C1=CC=C(C=CC=C2)C2=C1 KCSOBOZCMQBPFM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZZMVLMVFYMGSMY-UHFFFAOYSA-N 4-n-(4-methylpentan-2-yl)-1-n-phenylbenzene-1,4-diamine Chemical compound C1=CC(NC(C)CC(C)C)=CC=C1NC1=CC=CC=C1 ZZMVLMVFYMGSMY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KWSLGOVYXMQPPX-UHFFFAOYSA-N 5-[3-(trifluoromethyl)phenyl]-2h-tetrazole Chemical compound FC(F)(F)C1=CC=CC(C2=NNN=N2)=C1 KWSLGOVYXMQPPX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CMNQIVHHHBBVSC-UHFFFAOYSA-N 5-hydroxy-3,4-dihydro-2h-isoquinolin-1-one Chemical compound O=C1NCCC2=C1C=CC=C2O CMNQIVHHHBBVSC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SLXKOJJOQWFEFD-UHFFFAOYSA-N 6-aminohexanoic acid Chemical compound NCCCCCC(O)=O SLXKOJJOQWFEFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XDOLZJYETYVRKV-UHFFFAOYSA-N 7-Aminoheptanoic acid Chemical compound NCCCCCCC(O)=O XDOLZJYETYVRKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JXSRRBVHLUJJFC-UHFFFAOYSA-N 7-amino-2-methylsulfanyl-[1,2,4]triazolo[1,5-a]pyrimidine-6-carbonitrile Chemical compound N1=CC(C#N)=C(N)N2N=C(SC)N=C21 JXSRRBVHLUJJFC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VWPQCOZMXULHDM-UHFFFAOYSA-N 9-aminononanoic acid Chemical compound NCCCCCCCCC(O)=O VWPQCOZMXULHDM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920000178 Acrylic resin Polymers 0.000 description 1
- 239000004925 Acrylic resin Substances 0.000 description 1
- 239000004953 Aliphatic polyamide Substances 0.000 description 1
- 239000005995 Aluminium silicate Substances 0.000 description 1
- HBVVLLPKMFBKLX-UHFFFAOYSA-N C(C)(C)(C)C1=C(C(=CC(=C1)C(C)(C)CC(C)(C)C)C(C)(C)C)C(O)(C(CO)(CO)CO)C1=C(C=C(C=C1C(C)(C)C)C(C)(C)CC(C)(C)C)C(C)(C)C Chemical compound C(C)(C)(C)C1=C(C(=CC(=C1)C(C)(C)CC(C)(C)C)C(C)(C)C)C(O)(C(CO)(CO)CO)C1=C(C=C(C=C1C(C)(C)C)C(C)(C)CC(C)(C)C)C(C)(C)C HBVVLLPKMFBKLX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SAJSHSJUQYFNLS-UHFFFAOYSA-N C(C)(C)(C)C1=C(C(=CC(=C1)C(C)C)C(C)(C)C)C(O)(C(CO)(CO)CO)C1=C(C=C(C=C1C(C)(C)C)C(C)C)C(C)(C)C Chemical compound C(C)(C)(C)C1=C(C(=CC(=C1)C(C)C)C(C)(C)C)C(O)(C(CO)(CO)CO)C1=C(C=C(C=C1C(C)(C)C)C(C)C)C(C)(C)C SAJSHSJUQYFNLS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NXCPJPHSCITYRI-UHFFFAOYSA-N C(C)(C)(C)C1=C(C(=CC(=C1)C(C)CC)C(C)(C)C)C(O)(C(CO)(CO)CO)C1=C(C=C(C=C1C(C)(C)C)C(C)CC)C(C)(C)C Chemical compound C(C)(C)(C)C1=C(C(=CC(=C1)C(C)CC)C(C)(C)C)C(O)(C(CO)(CO)CO)C1=C(C=C(C=C1C(C)(C)C)C(C)CC)C(C)(C)C NXCPJPHSCITYRI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DUWKRXLYICOERQ-UHFFFAOYSA-N C(C)(C)(C)C1=C(C(=CC(=C1)CC)C(C)(C)C)C(O)(C(CO)(CO)CO)C1=C(C=C(C=C1C(C)(C)C)CC)C(C)(C)C Chemical compound C(C)(C)(C)C1=C(C(=CC(=C1)CC)C(C)(C)C)C(O)(C(CO)(CO)CO)C1=C(C=C(C=C1C(C)(C)C)CC)C(C)(C)C DUWKRXLYICOERQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- STUPVELWKGXMQS-UHFFFAOYSA-N CC1=CP(=O)CC1 Chemical compound CC1=CP(=O)CC1 STUPVELWKGXMQS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920000049 Carbon (fiber) Polymers 0.000 description 1
- 229910021591 Copper(I) chloride Inorganic materials 0.000 description 1
- XZMCDFZZKTWFGF-UHFFFAOYSA-N Cyanamide Chemical compound NC#N XZMCDFZZKTWFGF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XBPCUCUWBYBCDP-UHFFFAOYSA-N Dicyclohexylamine Chemical compound C1CCCCC1NC1CCCCC1 XBPCUCUWBYBCDP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920000219 Ethylene vinyl alcohol Polymers 0.000 description 1
- 239000005057 Hexamethylene diisocyanate Substances 0.000 description 1
- OAKJQQAXSVQMHS-UHFFFAOYSA-N Hydrazine Chemical compound NN OAKJQQAXSVQMHS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005058 Isophorone diisocyanate Substances 0.000 description 1
- FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N Magnesium Chemical compound [Mg] FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004594 Masterbatch (MB) Substances 0.000 description 1
- OUBMGJOQLXMSNT-UHFFFAOYSA-N N-isopropyl-N'-phenyl-p-phenylenediamine Chemical compound C1=CC(NC(C)C)=CC=C1NC1=CC=CC=C1 OUBMGJOQLXMSNT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OPKOKAMJFNKNAS-UHFFFAOYSA-N N-methylethanolamine Chemical compound CNCCO OPKOKAMJFNKNAS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HDONYZHVZVCMLR-UHFFFAOYSA-N N=C=O.N=C=O.CC1CCCCC1 Chemical compound N=C=O.N=C=O.CC1CCCCC1 HDONYZHVZVCMLR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZBVOEVQTNYNNMY-UHFFFAOYSA-N O=P1=CCCC1 Chemical class O=P1=CCCC1 ZBVOEVQTNYNNMY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PHQBTXISHUNQQN-UHFFFAOYSA-N OP(O)OP(O)O.C(CCCCCCCC)C(C(C(O)(C1=CC=CC=C1)CCCCCCCCC)(CO)CO)O Chemical compound OP(O)OP(O)O.C(CCCCCCCC)C(C(C(O)(C1=CC=CC=C1)CCCCCCCCC)(CO)CO)O PHQBTXISHUNQQN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920003171 Poly (ethylene oxide) Polymers 0.000 description 1
- 229920002614 Polyether block amide Polymers 0.000 description 1
- 239000002202 Polyethylene glycol Substances 0.000 description 1
- 239000004793 Polystyrene Substances 0.000 description 1
- 239000004959 Rilsan Substances 0.000 description 1
- 229910052581 Si3N4 Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000007983 Tris buffer Substances 0.000 description 1
- 229920003734 UBESTA® Polymers 0.000 description 1
- 229920003765 UBESTA® 3030 U Polymers 0.000 description 1
- 241001300078 Vitrea Species 0.000 description 1
- WPWNSTTVSOUHRP-UHFFFAOYSA-N [1-(aminomethyl)naphthalen-2-yl]methanamine Chemical compound C1=CC=CC2=C(CN)C(CN)=CC=C21 WPWNSTTVSOUHRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QLBRROYTTDFLDX-UHFFFAOYSA-N [3-(aminomethyl)cyclohexyl]methanamine Chemical compound NCC1CCCC(CN)C1 QLBRROYTTDFLDX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OXIKYYJDTWKERT-UHFFFAOYSA-N [4-(aminomethyl)cyclohexyl]methanamine Chemical compound NCC1CCC(CN)CC1 OXIKYYJDTWKERT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RAOSIAYCXKBGFE-UHFFFAOYSA-K [Cu+3].[O-]P([O-])([O-])=O Chemical compound [Cu+3].[O-]P([O-])([O-])=O RAOSIAYCXKBGFE-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- 150000007513 acids Chemical class 0.000 description 1
- WNLRTRBMVRJNCN-UHFFFAOYSA-L adipate(2-) Chemical compound [O-]C(=O)CCCCC([O-])=O WNLRTRBMVRJNCN-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 238000013019 agitation Methods 0.000 description 1
- 150000001334 alicyclic compounds Chemical class 0.000 description 1
- 150000007824 aliphatic compounds Chemical class 0.000 description 1
- 229920003231 aliphatic polyamide Polymers 0.000 description 1
- 229910001615 alkaline earth metal halide Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 description 1
- 150000001350 alkyl halides Chemical class 0.000 description 1
- 235000012211 aluminium silicate Nutrition 0.000 description 1
- 150000001413 amino acids Chemical class 0.000 description 1
- 229960002684 aminocaproic acid Drugs 0.000 description 1
- 125000004202 aminomethyl group Chemical group [H]N([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- QCTBMLYLENLHLA-UHFFFAOYSA-N aminomethylbenzoic acid Chemical compound NCC1=CC=C(C(O)=O)C=C1 QCTBMLYLENLHLA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229960003375 aminomethylbenzoic acid Drugs 0.000 description 1
- 229940107816 ammonium iodide Drugs 0.000 description 1
- 238000004458 analytical method Methods 0.000 description 1
- JFCQEDHGNNZCLN-UHFFFAOYSA-N anhydrous glutaric acid Natural products OC(=O)CCCC(O)=O JFCQEDHGNNZCLN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 1
- 150000004982 aromatic amines Chemical class 0.000 description 1
- 150000001491 aromatic compounds Chemical class 0.000 description 1
- 150000004984 aromatic diamines Chemical class 0.000 description 1
- 229920006167 biodegradable resin Polymers 0.000 description 1
- XITRBUPOXXBIJN-UHFFFAOYSA-N bis(2,2,6,6-tetramethylpiperidin-4-yl) decanedioate Chemical compound C1C(C)(C)NC(C)(C)CC1OC(=O)CCCCCCCCC(=O)OC1CC(C)(C)NC(C)(C)C1 XITRBUPOXXBIJN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ODWXUNBKCRECNW-UHFFFAOYSA-M bromocopper(1+) Chemical compound Br[Cu+] ODWXUNBKCRECNW-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- YHWCPXVTRSHPNY-UHFFFAOYSA-N butan-1-olate;titanium(4+) Chemical compound [Ti+4].CCCC[O-].CCCC[O-].CCCC[O-].CCCC[O-] YHWCPXVTRSHPNY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QHIWVLPBUQWDMQ-UHFFFAOYSA-N butyl prop-2-enoate;methyl 2-methylprop-2-enoate;prop-2-enoic acid Chemical compound OC(=O)C=C.COC(=O)C(C)=C.CCCCOC(=O)C=C QHIWVLPBUQWDMQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 159000000007 calcium salts Chemical class 0.000 description 1
- 239000000378 calcium silicate Substances 0.000 description 1
- 229910052918 calcium silicate Inorganic materials 0.000 description 1
- OYACROKNLOSFPA-UHFFFAOYSA-N calcium;dioxido(oxo)silane Chemical compound [Ca+2].[O-][Si]([O-])=O OYACROKNLOSFPA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QXJJQWWVWRCVQT-UHFFFAOYSA-K calcium;sodium;phosphate Chemical compound [Na+].[Ca+2].[O-]P([O-])([O-])=O QXJJQWWVWRCVQT-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- 238000011088 calibration curve Methods 0.000 description 1
- VPKDCDLSJZCGKE-UHFFFAOYSA-N carbodiimide group Chemical group N=C=N VPKDCDLSJZCGKE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000006229 carbon black Substances 0.000 description 1
- 239000004917 carbon fiber Substances 0.000 description 1
- 150000001244 carboxylic acid anhydrides Chemical class 0.000 description 1
- 150000001735 carboxylic acids Chemical class 0.000 description 1
- 238000005266 casting Methods 0.000 description 1
- 230000008859 change Effects 0.000 description 1
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 1
- 239000003086 colorant Substances 0.000 description 1
- 239000006258 conductive agent Substances 0.000 description 1
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 1
- OXBLHERUFWYNTN-UHFFFAOYSA-M copper(I) chloride Chemical compound [Cu]Cl OXBLHERUFWYNTN-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- GBRBMTNGQBKBQE-UHFFFAOYSA-L copper;diiodide Chemical compound I[Cu]I GBRBMTNGQBKBQE-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 239000003484 crystal nucleating agent Substances 0.000 description 1
- VZFUCHSFHOYXIS-UHFFFAOYSA-N cycloheptane carboxylic acid Natural products OC(=O)C1CCCCCC1 VZFUCHSFHOYXIS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GEQHKFFSPGPGLN-UHFFFAOYSA-N cyclohexane-1,3-diamine Chemical compound NC1CCCC(N)C1 GEQHKFFSPGPGLN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VKIRRGRTJUUZHS-UHFFFAOYSA-N cyclohexane-1,4-diamine Chemical compound NC1CCC(N)CC1 VKIRRGRTJUUZHS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HPXRVTGHNJAIIH-UHFFFAOYSA-N cyclohexanol Chemical compound OC1CCCCC1 HPXRVTGHNJAIIH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KQWGXHWJMSMDJJ-UHFFFAOYSA-N cyclohexyl isocyanate Chemical compound O=C=NC1CCCCC1 KQWGXHWJMSMDJJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XXKOQQBKBHUATC-UHFFFAOYSA-N cyclohexylmethylcyclohexane Chemical compound C1CCCCC1CC1CCCCC1 XXKOQQBKBHUATC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YQLZOAVZWJBZSY-UHFFFAOYSA-N decane-1,10-diamine Chemical compound NCCCCCCCCCCN YQLZOAVZWJBZSY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000000911 decarboxylating effect Effects 0.000 description 1
- 238000006114 decarboxylation reaction Methods 0.000 description 1
- 230000003247 decreasing effect Effects 0.000 description 1
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 description 1
- GDVKFRBCXAPAQJ-UHFFFAOYSA-A dialuminum;hexamagnesium;carbonate;hexadecahydroxide Chemical compound [OH-].[OH-].[OH-].[OH-].[OH-].[OH-].[OH-].[OH-].[OH-].[OH-].[OH-].[OH-].[OH-].[OH-].[OH-].[OH-].[Mg+2].[Mg+2].[Mg+2].[Mg+2].[Mg+2].[Mg+2].[Al+3].[Al+3].[O-]C([O-])=O GDVKFRBCXAPAQJ-UHFFFAOYSA-A 0.000 description 1
- SZRLKIKBPASKQH-UHFFFAOYSA-M dibutyldithiocarbamate Chemical compound CCCCN(C([S-])=S)CCCC SZRLKIKBPASKQH-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- SZRLKIKBPASKQH-UHFFFAOYSA-N dibutyldithiocarbamic acid Chemical class CCCCN(C(S)=S)CCCC SZRLKIKBPASKQH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HPNMFZURTQLUMO-UHFFFAOYSA-N diethylamine Chemical compound CCNCC HPNMFZURTQLUMO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LMBWSYZSUOEYSN-UHFFFAOYSA-N diethyldithiocarbamic acid Chemical class CCN(CC)C(S)=S LMBWSYZSUOEYSN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NJLLQSBAHIKGKF-UHFFFAOYSA-N dipotassium dioxido(oxo)titanium Chemical compound [K+].[K+].[O-][Ti]([O-])=O NJLLQSBAHIKGKF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002270 dispersing agent Substances 0.000 description 1
- 239000012153 distilled water Substances 0.000 description 1
- QFTYSVGGYOXFRQ-UHFFFAOYSA-N dodecane-1,12-diamine Chemical compound NCCCCCCCCCCCCN QFTYSVGGYOXFRQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 239000003480 eluent Substances 0.000 description 1
- 229920006351 engineering plastic Polymers 0.000 description 1
- 125000003700 epoxy group Chemical group 0.000 description 1
- HQQADJVZYDDRJT-UHFFFAOYSA-N ethene;prop-1-ene Chemical class C=C.CC=C HQQADJVZYDDRJT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZOOODBUHSVUZEM-UHFFFAOYSA-N ethoxymethanedithioic acid Chemical compound CCOC(S)=S ZOOODBUHSVUZEM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004715 ethylene vinyl alcohol Substances 0.000 description 1
- 230000007717 exclusion Effects 0.000 description 1
- 239000000945 filler Substances 0.000 description 1
- 125000000524 functional group Chemical group 0.000 description 1
- ANSXAPJVJOKRDJ-UHFFFAOYSA-N furo[3,4-f][2]benzofuran-1,3,5,7-tetrone Chemical compound C1=C2C(=O)OC(=O)C2=CC2=C1C(=O)OC2=O ANSXAPJVJOKRDJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000003349 gelling agent Substances 0.000 description 1
- 239000003365 glass fiber Substances 0.000 description 1
- 150000002334 glycols Chemical class 0.000 description 1
- 239000005337 ground glass Substances 0.000 description 1
- 239000012760 heat stabilizer Substances 0.000 description 1
- PWSKHLMYTZNYKO-UHFFFAOYSA-N heptane-1,7-diamine Chemical compound NCCCCCCCN PWSKHLMYTZNYKO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RZXDTJIXPSCHCI-UHFFFAOYSA-N hexa-1,5-diene-2,5-diol Chemical compound OC(=C)CCC(O)=C RZXDTJIXPSCHCI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RRAMGCGOFNQTLD-UHFFFAOYSA-N hexamethylene diisocyanate Chemical compound O=C=NCCCCCCN=C=O RRAMGCGOFNQTLD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920001903 high density polyethylene Polymers 0.000 description 1
- 229920006178 high molecular weight high density polyethylene Polymers 0.000 description 1
- 239000004700 high-density polyethylene Substances 0.000 description 1
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 description 1
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000002483 hydrogen compounds Chemical class 0.000 description 1
- 229910001701 hydrotalcite Inorganic materials 0.000 description 1
- 229960001545 hydrotalcite Drugs 0.000 description 1
- WGCNASOHLSPBMP-UHFFFAOYSA-N hydroxyacetaldehyde Natural products OCC=O WGCNASOHLSPBMP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004464 hydroxyphenyl group Chemical group 0.000 description 1
- 239000012442 inert solvent Substances 0.000 description 1
- 239000003112 inhibitor Substances 0.000 description 1
- 229910052500 inorganic mineral Inorganic materials 0.000 description 1
- 229920000554 ionomer Polymers 0.000 description 1
- ZFSLODLOARCGLH-UHFFFAOYSA-N isocyanuric acid Chemical compound OC1=NC(O)=NC(O)=N1 ZFSLODLOARCGLH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NIMLQBUJDJZYEJ-UHFFFAOYSA-N isophorone diisocyanate Chemical compound CC1(C)CC(N=C=O)CC(C)(CN=C=O)C1 NIMLQBUJDJZYEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001449 isopropyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- NLYAJNPCOHFWQQ-UHFFFAOYSA-N kaolin Chemical compound O.O.O=[Al]O[Si](=O)O[Si](=O)O[Al]=O NLYAJNPCOHFWQQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920000092 linear low density polyethylene Polymers 0.000 description 1
- 239000004707 linear low-density polyethylene Substances 0.000 description 1
- 229920001684 low density polyethylene Polymers 0.000 description 1
- 239000004702 low-density polyethylene Substances 0.000 description 1
- 239000011777 magnesium Substances 0.000 description 1
- 229910052749 magnesium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011976 maleic acid Substances 0.000 description 1
- VZCYOOQTPOCHFL-UPHRSURJSA-N maleic acid group Chemical group C(\C=C/C(=O)O)(=O)O VZCYOOQTPOCHFL-UPHRSURJSA-N 0.000 description 1
- 229920001179 medium density polyethylene Polymers 0.000 description 1
- 239000004701 medium-density polyethylene Substances 0.000 description 1
- 239000010445 mica Substances 0.000 description 1
- 229910052618 mica group Inorganic materials 0.000 description 1
- 235000010755 mineral Nutrition 0.000 description 1
- 239000011707 mineral Substances 0.000 description 1
- 150000007522 mineralic acids Chemical class 0.000 description 1
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 1
- 239000003607 modifier Substances 0.000 description 1
- 150000002763 monocarboxylic acids Chemical class 0.000 description 1
- 239000000178 monomer Substances 0.000 description 1
- HNHVTXYLRVGMHD-UHFFFAOYSA-N n-butyl isocyanate Chemical compound CCCCN=C=O HNHVTXYLRVGMHD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VMVGVGMRBKYIGN-UHFFFAOYSA-N n-naphthalen-1-ylnaphthalen-1-amine Chemical compound C1=CC=C2C(NC=3C4=CC=CC=C4C=CC=3)=CC=CC2=C1 VMVGVGMRBKYIGN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UNJZLNFHHINVOB-UHFFFAOYSA-N n-naphthalen-1-ylnaphthalen-2-amine Chemical compound C1=CC=C2C(NC=3C=C4C=CC=CC4=CC=3)=CC=CC2=C1 UNJZLNFHHINVOB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SBMXAWJSNIAHFR-UHFFFAOYSA-N n-naphthalen-2-ylnaphthalen-2-amine Chemical compound C1=CC=CC2=CC(NC=3C=C4C=CC=CC4=CC=3)=CC=C21 SBMXAWJSNIAHFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CHDRADPXNRULGA-UHFFFAOYSA-N naphthalene-1,3-dicarboxylic acid Chemical compound C1=CC=CC2=CC(C(=O)O)=CC(C(O)=O)=C21 CHDRADPXNRULGA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DFFZOPXDTCDZDP-UHFFFAOYSA-N naphthalene-1,5-dicarboxylic acid Chemical compound C1=CC=C2C(C(=O)O)=CC=CC2=C1C(O)=O DFFZOPXDTCDZDP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VAWFFNJAPKXVPH-UHFFFAOYSA-N naphthalene-1,6-dicarboxylic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=CC2=CC(C(=O)O)=CC=C21 VAWFFNJAPKXVPH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JSKSILUXAHIKNP-UHFFFAOYSA-N naphthalene-1,7-dicarboxylic acid Chemical compound C1=CC=C(C(O)=O)C2=CC(C(=O)O)=CC=C21 JSKSILUXAHIKNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HRRDCWDFRIJIQZ-UHFFFAOYSA-N naphthalene-1,8-dicarboxylic acid Chemical compound C1=CC(C(O)=O)=C2C(C(=O)O)=CC=CC2=C1 HRRDCWDFRIJIQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KHARCSTZAGNHOT-UHFFFAOYSA-N naphthalene-2,3-dicarboxylic acid Chemical compound C1=CC=C2C=C(C(O)=O)C(C(=O)O)=CC2=C1 KHARCSTZAGNHOT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RXOHFPCZGPKIRD-UHFFFAOYSA-N naphthalene-2,6-dicarboxylic acid Chemical compound C1=C(C(O)=O)C=CC2=CC(C(=O)O)=CC=C21 RXOHFPCZGPKIRD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WPUMVKJOWWJPRK-UHFFFAOYSA-N naphthalene-2,7-dicarboxylic acid Chemical compound C1=CC(C(O)=O)=CC2=CC(C(=O)O)=CC=C21 WPUMVKJOWWJPRK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SXJVFQLYZSNZBT-UHFFFAOYSA-N nonane-1,9-diamine Chemical compound NCCCCCCCCCN SXJVFQLYZSNZBT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000007524 organic acids Chemical class 0.000 description 1
- 235000005985 organic acids Nutrition 0.000 description 1
- 150000002894 organic compounds Chemical class 0.000 description 1
- 150000002898 organic sulfur compounds Chemical class 0.000 description 1
- 125000005702 oxyalkylene group Chemical group 0.000 description 1
- DGTNSSLYPYDJGL-UHFFFAOYSA-N phenyl isocyanate Chemical compound O=C=NC1=CC=CC=C1 DGTNSSLYPYDJGL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000003013 phosphoric acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- XNGIFLGASWRNHJ-UHFFFAOYSA-N phthalic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=CC=C1C(O)=O XNGIFLGASWRNHJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000003022 phthalic acids Chemical class 0.000 description 1
- 230000000704 physical effect Effects 0.000 description 1
- 239000000049 pigment Substances 0.000 description 1
- 229920000052 poly(p-xylylene) Polymers 0.000 description 1
- 229920002239 polyacrylonitrile Polymers 0.000 description 1
- 229920001748 polybutylene Polymers 0.000 description 1
- 229920000573 polyethylene Polymers 0.000 description 1
- 229920001223 polyethylene glycol Polymers 0.000 description 1
- 229920000139 polyethylene terephthalate Polymers 0.000 description 1
- 239000005020 polyethylene terephthalate Substances 0.000 description 1
- 229920001721 polyimide Polymers 0.000 description 1
- 239000009719 polyimide resin Substances 0.000 description 1
- 230000000379 polymerizing effect Effects 0.000 description 1
- 229920002223 polystyrene Polymers 0.000 description 1
- 229920005990 polystyrene resin Polymers 0.000 description 1
- 229920005749 polyurethane resin Polymers 0.000 description 1
- 239000001103 potassium chloride Substances 0.000 description 1
- 235000011164 potassium chloride Nutrition 0.000 description 1
- 230000002265 prevention Effects 0.000 description 1
- 150000003141 primary amines Chemical class 0.000 description 1
- 235000019260 propionic acid Nutrition 0.000 description 1
- 239000002296 pyrolytic carbon Substances 0.000 description 1
- IUVKMZGDUIUOCP-BTNSXGMBSA-N quinbolone Chemical compound O([C@H]1CC[C@H]2[C@H]3[C@@H]([C@]4(C=CC(=O)C=C4CC3)C)CC[C@@]21C)C1=CCCC1 IUVKMZGDUIUOCP-BTNSXGMBSA-N 0.000 description 1
- 230000005855 radiation Effects 0.000 description 1
- 230000009257 reactivity Effects 0.000 description 1
- 230000002787 reinforcement Effects 0.000 description 1
- 230000003014 reinforcing effect Effects 0.000 description 1
- 239000012779 reinforcing material Substances 0.000 description 1
- 150000003335 secondary amines Chemical class 0.000 description 1
- HQVNEWCFYHHQES-UHFFFAOYSA-N silicon nitride Chemical compound N12[Si]34N5[Si]62N3[Si]51N64 HQVNEWCFYHHQES-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000011780 sodium chloride Substances 0.000 description 1
- 229910001379 sodium hypophosphite Inorganic materials 0.000 description 1
- 235000009518 sodium iodide Nutrition 0.000 description 1
- KOUDKOMXLMXFKX-UHFFFAOYSA-N sodium oxido(oxo)phosphanium hydrate Chemical compound O.[Na+].[O-][PH+]=O KOUDKOMXLMXFKX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012321 sodium triacetoxyborohydride Substances 0.000 description 1
- UYCAUPASBSROMS-AWQJXPNKSA-M sodium;2,2,2-trifluoroacetate Chemical compound [Na+].[O-][13C](=O)[13C](F)(F)F UYCAUPASBSROMS-AWQJXPNKSA-M 0.000 description 1
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 1
- 239000007858 starting material Substances 0.000 description 1
- 238000003860 storage Methods 0.000 description 1
- 239000001117 sulphuric acid Substances 0.000 description 1
- 235000011149 sulphuric acid Nutrition 0.000 description 1
- 230000002194 synthesizing effect Effects 0.000 description 1
- 229920005992 thermoplastic resin Polymers 0.000 description 1
- 150000003573 thiols Chemical class 0.000 description 1
- KUAZQDVKQLNFPE-UHFFFAOYSA-N thiram Chemical compound CN(C)C(=S)SSC(=S)N(C)C KUAZQDVKQLNFPE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229960002447 thiram Drugs 0.000 description 1
- DVKJHBMWWAPEIU-UHFFFAOYSA-N toluene 2,4-diisocyanate Chemical compound CC1=CC=C(N=C=O)C=C1N=C=O DVKJHBMWWAPEIU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RUELTTOHQODFPA-UHFFFAOYSA-N toluene 2,6-diisocyanate Chemical compound CC1=C(N=C=O)C=CC=C1N=C=O RUELTTOHQODFPA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VZCYOOQTPOCHFL-UHFFFAOYSA-N trans-butenedioic acid Natural products OC(=O)C=CC(O)=O VZCYOOQTPOCHFL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000012546 transfer Methods 0.000 description 1
- QHTJNIWEAQKWRP-UHFFFAOYSA-M triethyl(octadecyl)azanium;bromide Chemical compound [Br-].CCCCCCCCCCCCCCCCCC[N+](CC)(CC)CC QHTJNIWEAQKWRP-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- ZIBGPFATKBEMQZ-UHFFFAOYSA-N triethylene glycol Chemical compound OCCOCCOCCO ZIBGPFATKBEMQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SRPWOOOHEPICQU-UHFFFAOYSA-N trimellitic anhydride Chemical compound OC(=O)C1=CC=C2C(=O)OC(=O)C2=C1 SRPWOOOHEPICQU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JZNDMMGBXUYFNQ-UHFFFAOYSA-N tris(dodecylsulfanyl)phosphane Chemical compound CCCCCCCCCCCCSP(SCCCCCCCCCCCC)SCCCCCCCCCCCC JZNDMMGBXUYFNQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NCPXQVVMIXIKTN-UHFFFAOYSA-N trisodium;phosphite Chemical compound [Na+].[Na+].[Na+].[O-]P([O-])[O-] NCPXQVVMIXIKTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000391 vinyl group Chemical group [H]C([*])=C([H])[H] 0.000 description 1
- 229920002554 vinyl polymer Polymers 0.000 description 1
- 239000010456 wollastonite Substances 0.000 description 1
- 229910052882 wollastonite Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000012991 xanthate Substances 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08L—COMPOSITIONS OF MACROMOLECULAR COMPOUNDS
- C08L77/00—Compositions of polyamides obtained by reactions forming a carboxylic amide link in the main chain; Compositions of derivatives of such polymers
- C08L77/06—Polyamides derived from polyamines and polycarboxylic acids
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08G—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
- C08G69/00—Macromolecular compounds obtained by reactions forming a carboxylic amide link in the main chain of the macromolecule
- C08G69/02—Polyamides derived from amino-carboxylic acids or from polyamines and polycarboxylic acids
- C08G69/26—Polyamides derived from amino-carboxylic acids or from polyamines and polycarboxylic acids derived from polyamines and polycarboxylic acids
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08K—Use of inorganic or non-macromolecular organic substances as compounding ingredients
- C08K2201/00—Specific properties of additives
- C08K2201/008—Additives improving gas barrier properties
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08K—Use of inorganic or non-macromolecular organic substances as compounding ingredients
- C08K5/00—Use of organic ingredients
- C08K5/16—Nitrogen-containing compounds
- C08K5/29—Compounds containing one or more carbon-to-nitrogen double bonds
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
- Y10T428/00—Stock material or miscellaneous articles
- Y10T428/13—Hollow or container type article [e.g., tube, vase, etc.]
- Y10T428/1352—Polymer or resin containing [i.e., natural or synthetic]
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
- Y10T428/00—Stock material or miscellaneous articles
- Y10T428/13—Hollow or container type article [e.g., tube, vase, etc.]
- Y10T428/1352—Polymer or resin containing [i.e., natural or synthetic]
- Y10T428/139—Open-ended, self-supporting conduit, cylinder, or tube-type article
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
- Y10T428/00—Stock material or miscellaneous articles
- Y10T428/13—Hollow or container type article [e.g., tube, vase, etc.]
- Y10T428/1352—Polymer or resin containing [i.e., natural or synthetic]
- Y10T428/1397—Single layer [continuous layer]
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
- Y10T428/00—Stock material or miscellaneous articles
- Y10T428/31504—Composite [nonstructural laminate]
- Y10T428/31725—Of polyamide
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
- Y10T428/00—Stock material or miscellaneous articles
- Y10T428/31504—Composite [nonstructural laminate]
- Y10T428/31725—Of polyamide
- Y10T428/31739—Nylon type
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Medicinal Chemistry (AREA)
- Polymers & Plastics (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)
- Polyamides (AREA)
Abstract
Se proporciona un material de resina de poliamida que tiene un módulo elástico alto, buenas propiedades de barrera a gas, baja absorción de agua y excelente flexibilidad. Esta es una composición de resina de poliamida que comprende una resina (A) de poliamida constituida de una unidad estructural de diamina y una unidad estructural de ácido dicarboxílico en donde 70 moles % o más de la unidad estructural de diamina se derivan de xililendiamina y 50 moles % o más de la unidad estructural de ácido dicarboxílico se derivan de ácido sebásico y 1 a 40 partes en masa de por lo menos una copoliamida (B) se seleccionan del siguiente grupo que consiste de (B-1)-(B-3) por 100 partes en masa de la resina (A) de poliamida; (B-1): una copoliamida 6/66/12; (B-2): una copoliamida 6/66/11; (B-3): un copolimero de poliéter-poliamida constituido de una unidad de poliamida 12 o una unidad poliamida 11 y una unidad de poliéter.
Description
COMPOSICIÓN DE RESINA DE POLIAMIDA
CAMPO TECNICO
La presente invención se relaciona con composiciones de resina de poliamida, específicamente composiciones de resina de poliamida que tienen un módulo elástico alto, buenas propiedades de barrera a gas, baja absorción de agua y excelente flexibilidad.
ANTECEDENTES DE LA TÉCNICA
Las resinas de poliamida generalmente se utilizan ampliamente como plásticos de ingeniería que tienen excelentes propiedades mecánicas, resistencia química, resistencia a aceite, propiedades de barrera a gas y similares. Una resina de poliamida obtenida por polimerización de m-xililendiamina y ácido adípico (a continuación algunas veces denominado como "poliamida XD6") se utiliza ampliamente debido a que tiene una mayor resistencia, un módulo elástico mayor, menor absorción de agua y mejores propiedades de barrera a gas en comparación con la poliamida 6 y la poliamida 66 y similares de manera que puede ser coextruida adicionalmente o moldeada por coinyección con resinas termoplásticas tales como tereftalato de polietileno, poliamida 6, polietileno y polipropileno.
No obstante, la poliamida MXD6 tiene un módulo elástico alto pero una pobre elongación de manera que las películas o láminas o similares elaboradas de la misma son demasiado duras para ser utilizadas para aplicaciones que requieren elongación aunque pueden ser utilizadas para aplicaciones que requieren rigidez. También tiene la desventaja de que opacifica/cristaliza y tiende a perder transparencia durante el almacenamiento en una atmósfera de alta humedad o al contacto con agua o agua en ebullición. Hasta ahora no se ha encontrado una resina de poliamida que tenga tanto un módulo elástico como flexibilidad altos.
En el documento de patente 1 los inventores proponen una composición que comprende una mezcla de poliamida MXD6 con otra resina de poliamida alifática especifica que tenga una alta velocidad de cristalización (por ejemplo, la poliamida 6) . Las películas o láminas obtenidas a partir de esta composición de resina de poliamida ventajosamente se caracterizan porque la composición de resina de poliamida mantiene excelente transparencia incluso en una atmósfera de alta humedad, pero, de manera poca ventajosa, muestra algún incremento en la absorción de agua y propiedades de barrera a gas menores debido a la combinación con otra resina de poliamida en comparación con la poliamida MXD6 sola. Adicionalmente, la flexibilidad es insuficiente para uso en aplicaciones que requieren suavidad.
Por otra parte, una resina de poliamida obtenida por policondensación de m-xililendiamina con ácido sebásico (a continuación algunas veces denominada como "poliamida MXD10") se ha propuesto y se espera para uso en campos tales como películas debido a que la resina de poliamida tiene mejores propiedades de elongación en comparación con la poliamida MXD6. No obstante, las películas resultantes muestran cierto nivel de elongación pero elongación insuficiente y de este modo se requieren mejoras para preparar películas, láminas, tubos y similares.
REFERENCIAS DOCUMENTOS DE PATENTE
Documento de patente 1: JPA H4-198329
DESCRIPCIÓN DE LA INVENCIÓN
PROBLEMAS A SER RESUELTOS POR LA INVENCIÓN
Bajo las circunstancias descritas en lo anterior, un objetivo de la presente invención es proporcionar composiciones de resina de poliamida que tienen un módulo elástico alto, buenas propiedades de barrera a gas, baja absorción de agua y excelente flexibilidad.
MEDIO PARA RESOLVER LOS PROBLEMAS
Como resultado de cuidadosos estudios para obtener el objetivo anterior, se llevó a cabo la presente invención en base en el hallazgo de que una composición de resina de poliamida que satisface el objetivo anterior se puede obtener al incorporar una cantidad especifica de una copoliamida (B) que se selecciona de una copoliamida 6/66/12, una copoliamida 6/66/11 y un copolimero de poliéter-poliamida especifico en una resina de poliamida elaborada a partir de xililendiamina y ácido sebásico (a continuación algunas veces denominado como una "poliamida XD10") .
De este modo, un primer aspecto de la presente invención proporciona una composición de resina de poliamida que comprende una resina (A) de poliamida constituida de una unidad estructural diamina y una unidad estructural de ácido dicarboxilico en donde 70 moles % o más de la unidad estructural diamida se deriva de xililendiamina y 50 moles % o más de la unidad estructural de ácido dicarboxilico se deriva de ácido sebásico, caracterizada porque comprende además 1 a 40 partes en masa de por lo menos una copoliamida (B) que se selecciona del grupo que consiste de (B-l)-(B-3) por debajo de 100 partes en masa de la resina (A) de poliamida.
(B-l) : una copoliamida 6/66/12;
(B-2) : una copoliamida 6/66/11;
(B-3) : un copolimero de poliéter-poliamida constituido de una unidad poliamida 12 o una unidad poliamida 11 y una unidad poliéter.
Un segundo aspecto de la presente Invención proporciona la composición de resina de poliamida de acuerdo con el primer aspecto caracterizada porque la xililendiamina es m-xililendiamina, p-xililendiamina o una mezcla de las mismas.
Un tercer aspecto de la presente invención proporciona la composición de resina de poliamida de acuerdo con el primer aspecto caracterizada porque la resina (A) de poliamida es una resina de poliamida obtenida por policondensación de m-xililendiamina, p-xililendiamina o una mezcla de los mismos con ácido sebásico.
Un cuarto aspecto de la presente invención proporciona la composición de resina de poliamida de acuerdo con el primer aspecto caracterizada porque contiene además 0.1 a 2 partes en masa de un compuesto (C) carbodiimida por 100 partes en masa de la resina (A) poliamida .
Un quinto aspecto de la presente invención proporciona la composición de resina de poliamida de acuerdo con el cuarto aspecto caracterizada porque el compuesto (C) carbodiimida es un compuesto policarbodiimida alifático o aliciclico.
Un sexto aspecto de la presente invención proporciona la composición de resina de poliamida de acuerdo con el primer aspecto caracterizada porque contiene además 0.01 a 1 partes en masa de un estabilizador (D) por 100 partes en masa de la resina (A) de poliamida.
Un séptimo aspecto de la presente invención proporciona la composición de resina de poliamida de acuerdo con el sexto aspecto caracterizada porque el estabilizador (D) se selecciona de un estabilizador inorgánico, un estabilizador de amina aromática secundaria o un estabilizador de azufre orgánico.
Un octavo aspecto de la presente invención proporciona la composición de resina de poliamida de acuerdo con el primer aspecto caracterizada porque una película formada de la composición de resina de poliamida presenta un módulo de tensión de elasticidad (E) que corresponde a 70 a 97% del módulo de tensión de elasticidad (EA) de la película formada por la resina (A) de poliamida.
Un noveno aspecto de la presente invención proporciona un artículo moldeado formado por el moldeado de la composición de resina de poliamida de acuerdo con cualquiera del primero al octavo aspectos.
Un décimo aspecto de la presente invención proporciona el artículo moldeado de acuerdo con el noveno aspecto, caracterizado porque el artículo moldeado es una película, una lámina o un tubo.
VENTAJAS DE LA INVENCIÓN
La presente invención se basa en el hallazgo de que la resina (A) de poliamida XD10 es de manera específicamente altamente compatible con (B-l) una copoliamida 6/66/12, (B-2) una copoliamida 6/66/11 y (B-3) un copolímero de poliéter-poliamida constituido de una unidad de poliamida 12 o una unidad de poliamida 11 y una unidad poliéter y en donde los materiales de resina de poliamida tienen excelente módulo elástico, una elongación de tensión muy alta, flexibilidad, excelentes propiedades de barrera a gas y también excelente transferencia, lo cual se puede obtener sorprendentemente al incorporar una cantidad específica, en el intervalo de 1 a 40 partes en masa de estas copoliamidas (B) por 100 partes en masa de la poliamida XD10. De acuerdo con la presente invención, las composiciones de resina de poliamida que tienen un módulo elástico alto, buenas propiedades de barrera a gas, bajo absorción de agua y excelente flexibilidad se pueden obtener. Especialmente, se puede obtener excelente transparencia cuando la (B-l) copoliamida 6/66/12 o (B-2) copoliamida 6/66/11 se mezcla con la resina (A) de poliamida XD10.
Especialmente, los artículos moldeados obtenidos al utilizar las composiciones de resina de poliamida de la presente invención tienen un nivel de flexibilidad que no se puede obtener por técnicas convencionales de manera que las composiciones de resina de poliamida se puede esperar para uso como películas, láminas o tubos y similares en diversas aplicaciones.
Las composiciones de resina de poliamida de la presente invención proporcionan materiales de resina de poliamida que tienen excelente módulo elástico y propiedades de barrera a gas, baja absorción de agua y también excelente flexibilidad de manera que la composición de resina de poliamida se puede utilizar convenientemente para una amplia variedad de moldeados que incluyen diversas películas, láminas, películas laminadas, láminas laminadas, tubos, mangueras, ductos, diversos recipientes tales como recipientes huecos y botellas, diversas partes y similares.
MEJOR MODO PARA LLEVAR A CABO LA INVENCIÓN
La resina A de poliamida utilizada en las composiciones de resina de poliamida de la presente invención es una resina de poliamida que comprende una unidad estructural diamina (una unidad estructural derivada de una diamina) y una unidad estructural de ácido dicarboxílico (una unidad estructural derivada de un ácido dicarboxílico) en donde 70 moles % o más de la unidad estructural de diamina se deriva de xililendiamina y 50 moles % o más de la unidad estructural de ácido dicarboxílico se deriva de ácido sebásico.
La resina (A) de poliamida se obtiene por policondensación de un componente diamina que contiene 70 moles % o más, preferiblemente 80 moles % o más de xililendiamina con un componente de ácido dicarboxílico que contiene 50 moles % o más, preferiblemente 60 moles % o más, de manera más preferible 80 moles % o más de ácido sebásico.
Si la xililendiamina es menor de 70 moles %, aquí, la composición de resina de poliamida que se puede obtener finalmente tiene propiedades de barrera insuficientes y si el ácido sebásico es menor de 50 moles %, la composición de resina de poliamida es rígida y pobre en su susceptibilidad a procesamiento.
La xililendiamina utilizada preferiblemente es m-xililendiamina, p-xililendiamina o una mezcla de las mismas. La mezcla puede ser utilizada en cualquier relación pero de manera preferible consiste de 0 a 50 moles % de m-xililendiamina y 50 a 100 moles % de p-xililendiamina en el caso en donde la importancia se une a resistencia a calor; y preferiblemente consiste de 50 a 100 moles % de m-xililendiamina y 0 a 50 moles % de p-xililendiamina cuando la importancia se encuentra en la susceptibilidad a moldeado en las películas.
Los ejemplos de diaminas diferentes a xililendiamina utilizados como componentes diamina iniciales de la resina (A) de poliamida pueden incluir diaminas alifáticas tales como tetrametilendiamina, pentametilendiamina, 2-metilpentanodiamina, hexametilendiamina, heptametilendiamina, octametilendiamina, nonametilendiamina, decametilendiamina, dodecametilendiamina, 2 , 2 , 4-trimetilhexametilendiamina y 2, 4 , 4-trimetilhexametilendiamina; diaminas aliciclicas tales como 1, 3-bis (aminometil) ciclohexano, 1,4-bis (aminometil ) ciclohexano, 1, 3-diaminociclohexano, 1,4-diaminociclohexano, bis (4-aminociclohexil)metano, 2,2-bis ( 4-aminociclohexil) propano, bis (aminometil) decano que incluye isómeros estructurales de los mismos) y bis (aminometil) triciclodecano (que incluye isómeros estructurales de los mismos) ; diaminas que tienen un anillo aromático tal como bis ( 4-aminofenil) éter, p-fenilendiamina y bis (aminometil) naftaleno (que incluye isómeros estructurales de los mismos) ; y que pueden ser utilizados solos o como una mezcla de dos o más de los mismos.
Cuando se utiliza una diamina diferente de xililendiamina como un componente diamina, debe ser utilizado en una proporción de menos de 30 moles %, preferiblemente 1 a 25 moles %, de manera especialmente preferible 5 a 20 moles % en la unidad estructural diamina.
El ácido sebásico utilizado como el componente de ácido dicarboxilico inicial de la resina (A) de poliamida debe ser utilizado a 50 moles % o más, preferiblemente 70 moles % o más, de manera más preferible 80 moles % o más.
Los componentes de ácido dicarboxilico iniciales diferentes del ácido sebásico que se pueden utilizar preferiblemente son ácidos , ?-dicarboxilicos alifáticos de cadena lineal que contienen 4 a 20 átomos de carbono diferentes de ácido sebásico, cuyos ejemplos incluyen, por ejemplo, ácido succinico, ácido glutárico, ácido pimélico, ácido subérico, ácido azelaico, ácido adipico, ácido undecanoico, ácido dodecanoico y similares, y se pueden utilizar solos o como una mezcla de dos o más de ellos, entre los componentes de ácido dicarboxilico diferentes de ácido sebásico, el ácido adipico se prefiere especialmente debido a que el punto de fusión de la resina de poliamida resultante se vuelve en un intervalo apropiado para moldeado.
Los ácidos dicarboxilicos aromáticos también se pueden utilizar como componentes de ácido dicarboxilico diferentes de ácido sebásico, los ejemplos de los cuales incluyen compuestos de ácido ftálico, tales como ácido isoftálico, ácido tereftálico y ácido ortoftálico y ácidos naftalendicarboxilicos isoméricos tales como ácido 1,2-naftalendicarboxilico, ácido 1 , 3-naftalendicarboxilico, ácido 1, -naftalendicarboxilico, ácido 1,5-naftalendicarboxilico, ácido 1 , 6-naftalendicarboxilico, ácido 1, 7-naftalendicarboxilico, ácido 1,8-naftalendicarboxilico, ácido 2.3-naftalendicarboxilico. ácido 2, 6-naftalendicarboxilico y ácido 2,7-naftalendicarboxilico; y los componentes de ácido dicarboxilico diferentes de ácido sebásico se pueden utilizar solos o como una mezcla de dos o más de ellos.
Los ácidos monocarboxilicos tales como el ácido benzoico, el ácido propiónico y el ácido butírico; ácidos policarboxílicos tales como ácido trimelítico y ácido piromelítico; anhídridos carboxílicos tales como anhídrido trimelítico y anhídrido piromelítico y similares también se pueden utilizar.
Cuando se utiliza un ácido dicarboxilico diferente de los ácidos , ?-dicarboxílicos alifáticos de cadena lineal que contienen 4 a 20 átomos de carbono como el componente de ácido dicarboxilico diferente del ácido sebásico, es preferible el ácido isoftálico debido a sus propiedades de susceptibilidad de moldeo y de barrera. La proporción de ácido isoftálico es menor de 30 moles %, preferiblemente 1 a 25 moles %, de manera especialmente preferible 5 a 20 moles % de la unidad estructural de ácido dicarboxilico .
La resina (A) de poliamida se obtiene por policondensación de un componente de amina que contiene 70 moles % o más de xililendiamina y un componente de ácido dicarboxilico que contiene 50 moles % o más de ácido sebásico utilizando cualquiera de los procesos y condiciones de polimerización conocidos previamente tales como, pero sin que se limite específicamente a polimerización por fusión a presión atmosférica, polimerización por fusión a alta presión y similares.
Por ejemplo, la resina (A) de poliamida se prepara al calentar una sal de poliamida constituida de xililendiamina y ácido sebásico en presencia de agua bajo presión y polimerizarlos en un estado fundido mientras se extrae el agua agregada y el agua condensada. La resina (A) de poliamida también se puede preparar directamente al agregar xililendiamina a ácido sebásico en un estado fundido y policondensarlos bajo presión atmosférica. En este último caso, la policondensación se lleva a cabo mediante adición continua de xililendiamina mientras se calienta el sistema de reacción a una temperatura de reacción igual a o mayor que los puntos de fusión de la oligoamida y poliamida producida para evitar que el sistema de reacción solidifique.
Cuando la resina (A) de poliamida se va a obtener por policondensación, se pueden agregar lactamas tales como e-caprolactama, ?-laurolactama y ?-enantolactama; aminoácidos tales como ácido 6-aminocaproico, ácido 7-aminoheptanoico, ácido 11-aminoundecanoico, ácido 12-aminododecanoico, ácido 9-aminononanoico y ácido p-aminometilbenzoico y similares al sistema de reacción por policondensacion en la medida en que no se afecte el desempeño .
La poliamida (A) también se puede utilizar después de que sea tratada por calor adicionalmente para incrementar la viscosidad del fundido.
Los métodos de tratamiento por calor incluyen, por ejemplo, agitación ligera en presencia de agua en una atmósfera de gas inerte o bajo presión reducida utilizando un calentador por lotes tal como un tambor giratorio para inducir cristalización mientras se evita la fusión y después calentar adicionalmente; o calentar en una atmósfera de gas inerte utilizando un agitador de surco/calentador para inducir cristalización y después calentar atmósfera de gas inerte utilizando un calentador en forma de tolva; o utilizar un agitador de surco/calibrador para inducir cristalización y después calentar con un calentador por lotes tal como un tambor giratorio .
Especialmente, es preferible realizar cristalización y tratamiento con calor mediante el uso de un calentador por lotes. Las condiciones preferidas de cristalización son las siguientes: calentar la resina de poliamida obtenida por polimerización por fusión a una temperatura de 70 a 120 °C durante 0.5 a 4 h en presencia de 1 a 30 % en masa de agua para cristalizar la resina de poliamida, después calentar la resina cristalizada a una temperatura en el intervalo de [el punto de fusión de la resina de poliamida obtenida por polimerización por fusión menos 50 °C] a [el punto de fusión de la resina de poliamida obtenida por polimerización por fusión menos 10 °C] durante 1 a 12 h en una atmósfera de gas inerte o bajo presión reducida .
El punto de fusión de la resina (A) de poliamida preferiblemente se controla en el intervalo de 150 a 310°C, de manera más preferible 160 a 300°C, incluso de manera más preferible 170 a 290°C. El punto de fusión preferiblemente está en los intervalos anteriores debido a que la susceptibilidad de procesamiento tiende a mejorar.
Por otra parte, el punto de transición vitrea de la resina (A) de poliamida preferiblemente está en el intervalo de 50 a 130°C. El punto de transición vitrea preferiblemente está en el intervalo anterior debido a que las propiedades de barrera tienden a mejorar.
Como se utiliza en la presente, los puntos de fusión y los puntos de transición vitrea de la resina (A) de poliamida y las copoliamidas (B-l)-(B-3) descritas más adelante hacen referencia a los puntos de fusión y transiciones vitreas que se pueden determinar por calorimetría de exploración diferencial (DSC) por fusión de un espécimen calentándolo de una vez para eliminar la influencia de antecedentes de calor sobre la cristalinidad y después calentándolo nuevamente. De manera especifica, un espécimen se calienta a una velocidad de 10°C/min durante 30 °C hasta una temperatura igual a o mayor que el punto de fusión esperado y se mantiene a esa temperatura durante 2 min y después se enfria a una velocidad de 20°C/min hasta 30 °C. Después el espécimen se calienta a una velocidad de 10°C/min a una temperatura igual a o mayor que el punto de fusión por lo que el punto de fusión y el punto de transición vitrea se pueden determinar.
La resina (A) de poliamida convenientemente se utiliza cuando de manera preferible tiene una concentración de grupo amino terminal de menos de 100 µeq/g, de manera más preferible 5 a 75 µeq/g, incluso de manera más preferible 10 a 50 eq/g y la concentración del grupo carboxilo terminal de preferiblemente menos de 100 \ieq/q, de manera más preferible 10 a 90 eq/g, incluso de manera más preferible 10 a 50 µeq g. La resina de poliamida que tiene una concentración de grupo amino terminal y una concentración de grupo carboxilo terminal en los intervalos anteriores tiende a reaccionar fácilmente con compuestos carbodiimida y tener una mejor resistencia a hidrólisis. La resina (A) de poliamida preferiblemente tiene una viscosidad relativa de 1.7 a 4, de manera más preferible 1.9 a 3.8 cuando se determina a una concentración de resina de 1 g/100 ce en ácido sulfúrico a 96% a una temperatura de 25°C.
El número promedio de peso molecular de la resina (A) de poliamida preferiblemente es de 6,000 a 50,000, de manera más preferible 10,000 a 43,000. Cuando se encuentra en los intervalos anteriores la resistencia mecánica y la susceptibilidad a moldeado tienden a mejorar.
La resina (A) de poliamida puede contener un compuesto de fósforo para mejorar la estabilidad de procesamiento durante el moldeado por fusión o para evitar cambio de color de la resina de poliamida. Los compuestos de fósforo que contienen un metal alcalino o un metal alcalinotérreo convenientemente se utilizan, incluyendo, por ejemplo, sales fosfato, sales hipofosfito y sales fosfito de sodio, de magnesio, de calcio y similares. Entre estas las sales de hipofosfito de metales alcalinos o metales alcalinotérreos preferiblemente están contenidas debido a que son especialmente útiles para evitar coloración de la resina de poliamida. Cuando se utiliza un compuesto de fósforo, está contenido de manera deseable en la resina (A) de poliamida a 200 ppm o menos, preferiblemente 160 ppm o menos, incluso de manera más preferible 100 ppm o menos expresado como la concentración de átomo de fósforo en la composición (A) de resina de poliamida.
Además de los compuestos de fósforo descritos en lo anterior, la resina (A) de poliamida puede contener adicionalmente diversos materiales que incluyen, pero que no se limitan a aditivos tales como lubricantes, agentes de acabado mate, estabilizadores de calor, estabilizadores de clima, sustancias absorbentes de radiación UV, agentes nucleantes, plastificantes, piroretardantes , agentes antiestáticos, inhibidores de coloración, agentes anti-gelificantes y similares en la medida en que no se afecten los beneficios de la presente invención.
En la presente invención, la resina (A) de poliamida se combina con (B-l) una copoliamida 6/66/12, (B-2) una copoliamida 6/66/11 o (B-3) un copolimero de poliéter-poliamida constituido de una unidad de poliamida 12 o una unidad de poliamida 11 y una unidad poliéter.
La copoliamida 6/66/12 (B-l) es una copoliamida triple o múltiple que comprende 6 unidades poliamida (unidad caproamida) y una unidad poliamida 66 (unidad hexametileno adipamida) y una unidad poliamida 12 (unidad dodecanamida) .
La copoliamida 6/66/12 (B-l) se puede obtener por copolimerización de un componente formador de poliamida 6 tal como caprolactama, un componente formador de poliamida 66 tal como hexametilendiamina y ácido adipico, y un componente formador de poliamida 12, tal como ácido 12-aminododecanoico o dodecanolactama y opcionalmente otros materiales para ser policondensados .
La copoliamida 6/66/12 (B-l) preferiblemente tiene una relación de copolimerización que consiste de 60 a 95% en masa, de manera más preferible 70 a 90% en masa, incluso de manera más preferible 75 a 85% en masa de una unidad poliamida 6; 0.5 a 25% en masa, de manera más preferible 1 a 20% en masa, incluso de manera más preferible 5 a 15% en masa de una unidad poliamida 66; y 0.5 a 25% en masa, de manera más preferible 1 a 15% en masa, incluso de manera más preferible 3 a 10% en masa de una unidad poliamida 12. Cuando la copoliamida 6/66/12 (B-1) tiene una relación de copolimerización en los intervalos anteriores, se vuelve altamente compatible con la resina (A) de poliamida y tiende a proporcionar fácilmente composiciones de resina que tienen excelente transparencia, flexibilidad y similares.
La copoliamida 6/66/12 (B-l) puede no estar limitada a terpolimero, sino que puede ser un copolimero cuaternario o múltiple que contenga otras unidades de polímero .
Tales componentes de poliamida preferiblemente incluyen componentes de amida alifática tal como poliamida 11 (poliundecanamida) , poliamida 9 (ácido poli-?-aminononaoico) , poliamida 46 (politetrametileno adipamida) , poliamida 610 (polihexametileno sebacamida) , etc.
También se pueden incluir copolímeros que contengan componentes de ácido dicarboxilico aromático tales como ácido tereftálico y ácido isoftálico o componentes de amina aromáticos tales como xililendiamina .
El proceso para la preparación de copoliamida 6/66/12 no se limita, pero se pueden aplicar los procesos conocidos previamente. La polimerización puede ser realizada al repetir los procesos de presión atmosférica, presión reducida y presión aplicada utilizando técnicas conocidas tales como polimerización por fusión polimerización en solución, polimerización en estado sólido y similares.
Por ejemplo, el componente lactama, el componente diamina y el componente ácido dicarboxilico descritos en lo anterior o sales de los mismos se calientan con agua a una temperatura de 180° a 220°C en una autoclave, se mantienen bajo presión durante un periodo predeterminado para inducir amidación, después regresan a la presión atmosférica, se calientan nuevamente a una temperatura de 210 a 260 °C y se mantienen a esa temperatura por un periodo predeterminado después de lo cual se puede obtener la copoliamida.
La copoliamida 6/66/12 está disponible comercialmente y se puede seleccionar apropiadamente a partir de estos productos comerciales.
La copoliamida 6/66/11 (B-2) utilizada en la presente invención es una copoliamida triple o múltiple que comprende una unidad poliamida 6 (unidad caproamida) y una unidad poliamida 66 (unidad hexametilenadipamida) y una unidad poliamida 11 (unidad undecanamida) .
La copoliamida 6/66/11 (B-2) se puede obtener por copolimerización de un componente formador de poliamida 6, tal como una caprolactama, un componente formador de poliamida 66 tal como hexametilendiamina y ácido adipico, y un componente formador de poliamida 11 tal como ácido 11-aminoundecanoico o undecanolactama y opcionalmente otros materiales que van a ser policondensados .
La copoliamida 6/66/11 (B-2) preferiblemente tiene una relación de copolimerización que consiste de 60 a 95% en masa, de manera más preferible 70 a 90% en masa, incluso de manera más preferible 75 a 85% en masa de una unidad poliamida 6; 0.5 a 25% en masa, de manera más preferible 1 a 20% en masa, incluso de manera más preferible 5 a 15% en masa de una unidad poliamida 66; y 0.5 a 25% en masa, de manera más preferible 1 a 15% en masa, incluso de manera más preferible 3 a 10% en masa de una unidad poliamida 11. Cuando la copoliamida 6/66/11 (B-2) tiene una relación de copolimerización en los intervalos anteriores, se vuelve altamente compatible con la resina (A) de poliamida y tiende a proporcionar fácilmente composiciones de resina que tienen excelente transparencia, flexibilidad y similares.
La copoliamida 6/66/11 (B-2) puede no estar limitada a un terpolimero, pero puede ser un copolimero cuádruple o múltiple que contiene adicionalmente otras unidades de polímero.
Tales componentes de poliamida preferiblemente incluyen componentes de amida alifática tales como poliamida 12 (polidodecanamida) , poliamida 9 (ácido ???-?-aminononanoico) , poliamida 46 (politetrametileno adipamida) , poliamida 610 (polihexametileno sebacamida) , etc.
Los componentes que contienen componentes de ácido dicarboxílico aromático tales como ácido tereftálico y ácido isoftálico o componentes de diamina aromáticos tales como xililendiamina también se pueden incluir.
El proceso para preparar la copoliamida 6/66/11 no se limita, pero se pueden aplicar procesos conocidos previamente. La polimerización se puede llevar a cabo en repetir los procesos a presión atmosférica, a presión reducida y a presión aplicada utilizando técnicas conocidas tales como polimerización por fusión, polimerización en solución, polimerización en estado sólido y similares.
Por ejemplo, el componente lactama, el componente diamina y el componente ácido dicarboxílico descritos en lo anterior o sales de los mismos se calienta con agua a una temperatura de 180 a 220°C en una autoclave, se mantienen bajo presión durante un periodo predeterminado para inducir amidación, después se regresan a la presión atmosférica, se calienta nuevamente a una temperatura de 210 a 260°C y se mantienen a esa temperatura durante un periodo predeterminado, después de lo cual se puede obtener la copoliamida.
El copolimero poliéter-poliamida (B-3) compuesto de una unidad poliamida 12 o una unidad poliamida 11 y una unidad poliéter utilizando en la presente invención consiste principalmente de una unidad poliamida 12 (unidad dodecanamida) o una unidad poliamida 11 (unidad undecanamida) y una unidad poliéter tal como polioxialquilenglicol . Típicamente, consiste principalmente de 15 a 90% en masa de una unidad poliamida que contiene una unidad poliamida 12 o una unidad poliamida 11 y 85 a 10% en masa de una unidad poliéter. El copolimero poliéter-poliamida (B-3) utilizado en la presente invención preferiblemente es un copolimero segmentado.
La unidad poliéter que constituye el copolimero poliéter-poliamida (B-3) preferiblemente es una unidad de óxido de polioxialquileno . La unidad de óxido de polioxialquileno preferiblemente consiste de una unidad de oxialquileno que tiene 2 a 4 átomos de carbono y que tiene un peso molecular de 200 a 8,000, específicamente incluye óxido de polietileno, óxido de polipropileno, óxido de polibutileno (o glicoles de los mismos) , etc.
El copolímero de poliéter-poliamida (B-3) preferiblemente tiene un punto de fusión o punto de reblandecimiento de 175°C o menos, de manera más preferible 170 °C o menos. El uso del copolímero de poliéter-poliamida (B-3) ventajosamente mejora de modo adicional la susceptibilidad a dispersión en la poliamida (A) .
Como se utiliza en la presente, el punto de reblandecimiento es una temperatura medida de acuerdo con la norma JIS K2207.
El copolímero de poliéter-poliamida (B-3) se puede preparar por procesos conocidos, por ejemplo, al formar un segmento de poliamida a partir de un componente que forma poliamida 11 tal como undecanolactama o ácido 11-aminoundecanoico o un componente que forma poliamida 12 tal como dodecanolactama o ácido 12-aminododecanoico y otros componentes que forman poliamida, y polimerizarlos con un segmento de poliéter a alta temperatura bajo presión reducida .
De manera alternativa, el copolímero de poliéter-poliamida (B-3) está disponible comercialmente y se puede seleccionar apropiadamente de estos productos comerciales.
Las copoliamidas (B-l) a (B-3) descritas en lo anterior (estas copoliamidas (B-l) a (B-3) algunas veces en lo siguiente se denominan colectivamente como la "poliamida B") preferiblemente tiene una concentración de grupo amino terminal de 1 a 100 ]ieq/q, de manera más preferible 2 a 50 yeq/g, y una concentración de grupo carboxilo terminal de 1 a 100 µeq/q, de manera más preferible 2 a 50 µe /^, . La resina de poliamida que tiene una concentración de grupo amino terminal y una concentración de grupo carboxilo terminal en el intervalo anterior tiende a reaccionar fácilmente con compuestos carbodiimida descritos en lo siguiente y tener una mejor resistencia a hidrólisis.
La copoliamida (B) preferiblemente tiene un número promedio de peso molecular de 15,000 a 35,000. Cuando tiene un número promedio de peso molecular en el intervalo anterior, tiene una mejor susceptibilidad a dispersión en la poliamida (A) y tiende a mejorar la resistencia a hidrólisis y la flexibilidad. Además, preferiblemente tiene una viscosidad relativa de 1.5 a 4.5, de manera más preferible 1.6 a 4.2, incluso de manera más preferible 1.8 a 4 cuando se determina a una concentración de resina de 1 g/100 ce en ácido sulfúrico 96% a una temperatura de 25 °C.
Las composiciones de resina de poliamida de la presente invención contienen l a 40 partes en masa de la copoliamida (B) (es decir, una combinación de (B-l) , (B-2) y (B-3) ) por 100 partes en masa de la resina (A) de poliamida y, si el contenido es menor de 1 parte en masa, la elongación no mejora lo suficiente para proporcionar flexibilidad, pero si excede de 40 partes en masa, la resistencia y el módulo elástico disminuyen y se incrementa la absorción de agua. Un contenido preferido es de 5 a 35 partes en masa, de manera más preferible 10 a 30 partes en masa .
Las composiciones de resina de poliamida de la presente invención preferiblemente contienen un compuesto (C) carbodiimida. El compuesto (C) carbodiimida preferiblemente es una policarbodiimida aromática, alifática o aliciclica preparada por diversos procesos. Entre ellos, se prefieren los compuestos de policarbodiimida alifáticos o aliciclicos debido a la susceptibilidad de amasado del fundido durante la exclusión o similar, y los compuestos de policarbodiimida aliciclicos son los que se utilizan de manera más preferible.
Estos compuestos (C) de carbodiimida se pueden preparar por condensación descarboxilativa de poliisocianatos orgánicos. Por ejemplo, pueden ser sintetizados por condensación descarboxilativa de diversos poliisocianatos orgánicos a una temperatura de aproximadamente 70 °C o mayor en un disolvente inerte o sin utilizar un disolvente en presencia de un catalizador de carbodiimidación. El contenido de isocianato preferiblemente es de 0.1 a 5% en masa, de manera más preferible 1 a 3% en masa. El contenido en los intervalos anteriores ayuda a facilitar la reacción con la resina (A) de poliamida y copoliamida (B) y tiende a mejorar la resistencia a hidrólisis.
Los poliisocianatos orgánicos que pueden ser utilizados como materiales iniciales para sintetizar compuestos (C) de carbodiimida incluyen, por ejemplo, diversos diisocianatos orgánicos tales como diisocianatos aromáticos, diisocianatos alifáticos y diisocianatos aliciclicos y mezclas de los mismos.
Los ejemplos de diisocianatos orgánicos incluyen específicamente diisocianato de 1, 5-naftaleno, diisocianato de , 4-difenilmetano, diisocianato de 4,4'-difenildimetilmetano, diisocianato de 1, 3-fenileno, diisocianato de 1, 4-fenileno, diisocianato de 2, 4-tolileno, diisocianato de 2 , 6-tolileno, diisocianato de hexametileno, 1, 4-diisocianato de ciclohexano, diisocianato de xilileno, diisocianato de isoforona, , 4-diisocianato de diciclohexilmetano, diisocianato de metilciclohexano, diisocianato de tetrametilxilileno, isocianato de 2,6-diisopropilfenilo, 2 , 4-diisocianato de 1, 3, 5-triisopropil-benceno, diisocianato de metilenbis (4 , 1-ciclohexileno) y similares, y dos o más de los mismos se pueden utilizar en combinación. Entre estos se prefieren el 4 , 4-diisocianato de diciclohexilmetano y el diisocianato de metilenbis ( 4 , 1-ciclohexileno) .
Para bloquear los extremos de los compuestos (C) de carbodiimida para controlar su grado de polimerización, se utilizan también de modo preferible agentes bloqueadores de terminal de extremo tales como monoisocianatos . Los monoisocianatos incluyen, por ejemplo, isocianato de fenilo, isocianato de tolilo, isocianato de dimetilfenilo, isocianato de ciclohexilo, isocianato de butilo, isocianato de naftilo y similares y dos o más de los mismos se pueden utilizar en combinación.
Los agentes bloqueadores terminales no se limitan a los monoisocianatos mencionados antes sino que puede ser cualquier compuesto con hidrógeno activo capaz de reaccionar con isocianatos. Los ejemplos de los compuestos con hidrógeno activo pueden incluir compuestos alifáticos, aromáticos o alicíclicos que tengan un grupo -OH tal como metanol, etanol, fenol, ciclohexanol , N-metiletanolamina, polietilenglicol monometil éter y polipropilenglicol monometil éter; aminas secundarias tales como dietilamina y diciclohexilamina; aminas primarias tales como butilamina y ciclohexilamina; ácidos carboxilicos tales como ácido succinico, ácido benzoico y ácido ciclohexanocarboxilico; tioles tales como etilmercaptano, alilmercaptano y tiofenol; compuestos que tiene un grupo epoxi y similares y dos o más de los mismos pueden ser utilizados en combinación .
Los catalizadores de carbodiimidación que se pueden utilizar incluyen, por ejemplo, óxidos de fosfoleno tales como 1-óxido de 1-fenil-2-fosfoleno, 1-óxido de 3-metil-l-fenil-2-fosfoleno, 1-óxido de l-etil-2-fosfoleno, 1-óxido de 3-metil-2-fosfoleno e isómeros de 3-fosfoleno de los mismos; catalizadores metálicos tales como titanato de tetrabutilo y similares, entre los cuales se prefiere el 1-óxido de 3-metil-l-fenil-2-fosfoleno debido a su reactividad. Se pueden utilizar en combinación dos o más de los catalizadores de carbodiimidación.
El contenido del compuesto (C) carbodiimida es 0.1 a 2 partes en masa, preferiblemente 0.2 a 1.5 partes en masa, incluso de manera más preferible 0.3 a 1.5 partes en masa por 100 partes en masa de la resina (A) de poliamida. Si es menos de 0.1 partes en masa, la composición de resina resultante tiene una resistencia a hidrólisis insuficiente de manera que es más probable que se suministre de modo no uniforme durante el amasado en fundido tal como la extrusión y por lo tanto se amasa en fundido de modo insuficiente. No obstante, si excede 2 partes en masa, la viscosidad de la composición de resina se incrementa de modo significativo durante el amasado por fusión lo cual puede deteriorar la susceptibilidad a amasado y a moldeado.
Las composiciones de resina de poliamida de la presente invención preferiblemente contienen un estabilizador (D) . Los estabilizadores preferiblemente incluyen, por ejemplo, estabilizadores orgánicos tales como estabilizadores de fósforo, estabilizadores de fenol impedido, estabilizadores de amina impedida, estabilizadores de azufre orgánico, estabilizadores de anilida oxálica y estabilizadores de amina aromática secundaria; y estabilizadores inorgánicos tales como compuestos de cobre y haluros. Los estabilizadores de fósforo preferiblemente incluyen compuestos fosfito y compuestos fosfonito.
Los compuestos fosfitos incluyen, por ejemplo difosfito de diestearilpentaeritritol, difosfito de dinonilfenilpentaeritritol, difosfito de bis (2, 4-di-t-butilfenil) pentaeritritol, difosfito de bis (2, 6-di-t-butil-4-metifenil) pentaeritritol, difosfito de bis (2, 6-di-t-butil-4-etilfenil) pentaeritritol, difosfito de bis(2,6-di-t-butil-4-isopropilfenil ) pentaeritritol, difosfito de bis (2, 4 , 6-tri-t-butilfenil) pentaeritritol, difosfito de bis (2, 6-di-t-butil-4-sec-butilfenil) pentaeritritol,
difosfito de bis (2, 6-di-t-butil-4-t-octilfenil) pentaeritritol, difosfito de bis (2,4-dicumilfenil) pentaeritritol y similares entre los cuales se prefieren el difosfito de bis (2, 6-di-t-butil-4-metilfenil) pentaeritritol y el difosfito de bis (2, 4-dicumilfenil ) pentaeritritol .
Los compuestos fosfonita incluyen, por ejemplo, difosfonita de tetrakis (2, -di-t-butilfenil) -4 , 4 ' -bifenileno, difosfonita de tetrakis (2, 5-di-t-butilfenil) - , 41 -bifenileno, difosfonita de tetrakis (2 , 3 , 4-trimetilfenil) -4, 4 ' -bifenileno, difosfonita de tetrakis (2, 3-dimetil-5-etilfenil) -4,4' -bifenileno,
difosfonita de tetrakis (2 , 6-di-t-butil-5-etilfenil) -4 , 4 ' -bifenileno, difosfonita de tetrakis (2, 3, 4-tributilfenil) - , 41 -bifenileno, difosfonita de tetrakis (2, 4, 6-tri-t-butilfenil) -4 , 41 -bifenileno y similares, entre las cuales se prefiere la difosfonita de tetrakis (2 , 4-di-t-butilfenil) -4,4' -bifenileno.
Los estabilizadores de fenol impedido incluyen, por ejemplo, 3- (3, 5-di-t-butil-4-hidroxifenil ) propionato de n-octadecilo, bis [3- (3, 5-di-t-butil-4-hidroxifenil) propionato] de 1, 6-hexanodiol, tetrakis [3-(3, 5-di-t-butil-4-hidroxifenil ) propionato] de pentaeritritol, 3, -bis [ 1 , l-dimetil-2- { - ( 3-t-butil-4-hidroxi-5-metilfenil ) propioniloxi }etil]-2,4,8,10-tetraoxaspiro [5,5] undecano, bis [3- ( 3-t-butil-5-metil-4-hidroxifenil) propionato de trietilenglicol, éster dietilico de fosfonato de 3, 5-di-t-butil-4-hidroxibencilo, 1,3,5-
trimetil-2 ,4,6-tris(3, 5-di-t-butil-4-hidroxibencil ) benceno, 2, 2-tio-dietilenbis [propionato de 3- (3, 5-di-t-butil-4-hidroxifenilo) ] , isocianurato de tris (3, 5-di-t-butil-4-hidroxibencilo) , N, N 1 -hexametilenbis (3, 5-di-t-butil-4-hidroxi-hidrocinamida) y similares. Entre estos, se prefieren propionato de n-octadecil-3- ( 3, 5-di-t-butil-4-hidroxifenilo) , 1, 6-hexanodiol bis [propionato de 3-(3,5-t-butil-4-hidroxifenilo) ] , tetrakis [3- (3, 5-di-t-butil-4-hidroxifenil) propionato] de pentaeritritol, 3,9-bis(l,l-dimetil-2- { ß- (3-t-butil-4-hidroxi-5-metilfenil) -propioniloxi}etil-2, 4, 8, 10-tetraoxoespiro [5, 5] -undecano y ?,?' -hexametilenbis (3, 5-di-t-butil-4-hidroxi-hidrocinamida) .
Los estabilizadores de amina impedida incluyen, por ejemplo, los compuestos de amina impedida bien conocidos que tienen una estructura principal 2,2,6,6-tetrametilpiperidina . Los ejemplos específicos de compuestos de amida impedida incluyen
4-acetoxi-2, 2, 6, 6-tetrametilpiridina,
4-estaroiloxi-2 , 2 , 6, 6-tetrametilpiperidina,
4-acroloiloxi-2 , 2 , 6, 6-tetrametilpiperidina,
4-fenilacetoxi-2, 2, 6, 6-tetrametilpiperidina,
4-benzoiloxi-2, 2, 6, 6-tetrametilpiperidina,
4-metoxi-2 ,2,6, 6-tetrametilpiperidina,
4-esteariloxi-2 , 2, 6, 6-tetrametilpiperidina,
4-ciclohexiloxi-2 ,2,6, 6-tetrametilpiperidina,
4-benciloxi-2, 2, 6, 6-tetrametilpiperidina,
4-fenoxi-2 ,2,6, 6-tetrametilpiperidina,
4-etilcarbamoiloxi-2, 2,6, 6-tetrametilpiperidina,
4-ciclohexilcarbamoiloxi-2, 2, 6, 6-tetrametilpiperidina,
4-fenilcarbamoiloxi-2, 2, 6, 6-tetrametilpiperidina,
carbonato de bis (2, 2, 6, 6-tetrametil-4-piperidilo,
oxalato de bis (2, 2, 6, 6-tetrametil-4-piperidilo,
malonato de bis (2, 2, 6, 6-tetrametil-4-piperidilo,
sebacato de bis (2, 2, 6, 6-tetrametil-4-piperidilo,
adipato de bis (2, 2, 6, 6-tetrametil-4-piperidilo,
tereftalato de bis (2, 2, 6, 6-tetrametil-4-piperidilo,
1, 2-bis (2,2,6, 6-tetrametil-4-piperidiloxi) etano,
, a ' -bis (2,2,6, 6-tetrametil-4-piperidiloxi ) -p-xileno,
2, 4-dicarbamato de bis (2, 2, 6, 6-tetrametil-4-piperidiltolileno) ,
1, 6-dicarbamato de bis (2 , 2, 6, 6-tetrametil-4-piperidilhexametileno,
1, 3, 5-tricarboxilato de tris (2, 2, 6, 6-tetrametil-4-piperidil) -benceno,
1, 3, 4-tricarboxilato de tris (2, 2, 6, 6-tetrametil-4-piperidil) -benceno,
1- [2- {3- (3, 5-di-t-butil-4-hidroxifenil) -propioniloxi }butil-4- [3- (3, 5-di-t-butil-4-hidroxifenil) -propioniloxi] -2,2,6,6-tetrametilpiperidina, el producto de condensación del ácido 1, 2, 3, 4-butanotetracarboxílico y 1, 2, 2, 6, 6-pentametil-4-piperidinol y ß, ß, ß ' , ß ' -tetrametil-3, 9- [2, 4, 8, 10-tetraoxaspiro [5, 5] undecano] dietanol, el producto de condensación de ácido dimetilsuccinico y 1- (2-hidroxietil) -4-hidroxi-2, 2, 6, 6-tetrametilpiperidina, 1,3-bencenodicarboxamida-N, 1 -bis (2,2,6, 6-tetrametil-4-piperidilo) y similares.
Los compuestos de amina impedida disponibles comercialmente incluyen los productos disponibles de ADEKA CORPORATION bajo los nombres comerciales "ADK STAB LA-52, LA-57, LA-62, LA-67, LA-63P, LA-68LD, LA-77, LA-82, LA-87"; los productos disponibles de Ciba Spetialty Chemicals Inc., bajo los nombres comerciales "TINUVIN 662, 944, 119, 770, 144"; el producto disponible de Sumitomo Chemical Company bajo el nombre comercial "SUMISORB 577"; los productos disponibles de American Cyanamid Company bajo los nombres comercales "CYASORB UV-3346, 3529, 3853"; y el producto disponible de Clariant, Japón bajo el nombre comercial "Nylostab S-EED"; etc.
L°s estabilizadores de azufre orgánico incluyen, por ejemplo, compuestos de tioato orgánico tales como tiodipropionato de didocecilo, tiodipropionato de ditetradecilo, tiodipropionato de dioctadecilo, pentaeritritoltetrakis ( 3-dodeciltiopropionato) y tiobis (N-fenil-^-naftilamina) ; compuestos de mecarpobencimidazol
tales como 2-mecarptobenzotiazol, 2-mercaptobencimidazol, 2-mercaptometilbencimidazol y sales de metal de 2-mercaptobencimidazol ; compuestos de ditiocarbamato tales como sales de metal de ácido dietilditiocarbámico y sales de metal del ácido dibutilditiocarbámico; y compuestos tiourea tales como 1, 3-bis (dimetilaminopropil) -2-tiourea y tributiltiourea; asi como monosulfuro de tetrametiltiuram, disulfuro de tetrametiltiuram, ditiocarbamato de dibutilo y níquel, xantato de isopropilo y níquel, tritiofosfito de trilaurilo y similares. Entre estos se prefieren los compuestos de mercaptobencimidazol , compuestos ditiocarbamato, compuestos tiourea y compuestos de tioato orgánico, entre los cuales se prefieren adicionalmente los compuestos mercaptobencimidazol y compuestos tioato orgánicos. Especialmente, los compuestos tioéter que tienen una estructura tioéter se pueden utilizar convenientemente debido a que los compuestos tioato reciben oxígeno de materiales oxidados para reducir los materiales. Específicamente, se prefieren de modo adicional 2-mercaptobencimidazol, 2-mercaptometilbencimidazol, tiodipropionato de ditetradecilo, tiodipropionato de dioctadecilo y pentaeritritoltetrakis (3-dodeciltiopropionato) , entre los cuales se prefieren adicionalmente tiodipropionato de ditetradecilo, pentaeritritoltetrakis ( 3-dodeciltiopropionato) y 2- mercaptometilbencimidazol, y se prefiere especialmente pentaeritritoltetrakis (3-dodeciltiopropionato) .
Los compuestos de azufre orgánico típicamente tienen un peso molecular de 200 o mayor, preferiblemente 500 o mayor y típicamente de hasta 3,000.
Los estabilizantes de oxanilida preferiblemente incluyen , 1 -dioctiloxioxanilida, 2, 2 ' -dietoxioxanilida, 2,2' -dioctiloxi-5, 5 ' -di-ter-butoxanilida, 2,2'-didodeciloxi-5, 5 ' -di-ter-butoxianilida, 2-etoxi-21 -etoxianilida, N, ' -bis (3-dimetilaminopropil) oxanilida, 2-etoxi-5-ter-butil-21 -etoxianilida y su mezcla con 2-etoxi-21 -etil-5, 41 -di-ter-butoxianilida, mezclas de oxanilidas disustituidas o y p-metoxi, mezclas de oxanilidas disustituidas o- y p-etoxi y similares.
Los estabilizadores amina aromáticos secundarios preferiblemente incluyen compuestos que tienen una estructura principal difenilamina, compuestos que tienen una estructura principal fenilnaftilamina y compuestos que tienen una estructura principal dinaftilamina, de manera más preferible compuestos que tienen una estructura principal difenilamina y compuestos que tienen una estructura principal fenilnaftilamina . Específicamente, compuestos que tienen una estructura principal difenilamina incluyen p, p ' -dialquildifenilamina (en donde el grupo alquilo contiene 8-14 átomos de carbono) , difenilamina octilada, 4, 4 ' -bis ( , a-dimetilbencil ) difenilamina, p- (p-toluensulfonilamida) difenilamina, N, N ' -difenil-p-fenilendiamina, N-fenil-N ' -isopropil-p-fenilendiamina, N-fenil-N' - (1, 3-dimetilbutil) -p-fenilendiamina y N-fenil-N1 - ( 3-metacriloiloxi-2-hidroxipropil ) -p-fenilendiamina;
compuestos que tienen una estructura principal fenilnaftilamina incluyen N-fenil-l-naftilamida y ?,?'-di-2-naftil-p-fenilendiamina; y compuestos que tienen una estructura principal dinaftilamina incluyen 2,2'-dinaftilamina, 1 , 2 ' -dinaftilamina y 1 , 1 ' -dinaftilamina . Entre estos se prefieren adicionalmente , 1 -bis (a, -dimetilbencil) difenilamina, N, N ' -di-2-naftil-p-fenilendiamina y N, N ' -difenil-p-fenilendiamina, entre los cuales se prefieren especialmente N, N ' -di-2-naftil-p-fenilendiamina y 4 , 4 ' -bis ( , a-dimetilbencil ) difenilamina .
Cuando los estabilizadores de azufre orgánico o los estabilizadores de amina aromática secundaria mencionados en lo anterior están contenidos, preferiblemente se utilizan en combinación. Al combinarlos, la composición de resina de poliamida tiende a presentar una mejor resistencia a envejecimiento al calor en comparación con el caso en el cual se utiliza cualquiera de ellos .
Las combinaciones preferidas de estabilizadores de azufre orgánico más específicos y estabilizadores de
amina aromática secundaria incluyen combinaciones de por lo menos un estabilizador de azufre orgánico que se selecciona de tiodipropionato de ditetradecilo, 2-mercaptometilbencimoidazol y pentaeritritoltetrakis (3-dodeciltiopropionato) y por lo menos un estabilizador de amina aromática secundaria que se selecciona de 4,4'-bis (a, -dimetilbencil) difenilamina) y N, N ' -di-2-naftil-p-fenilendiamina, una combinación de un estabilizador de azufre orgánico que consiste de pentaeritritoltetrakis (3-dodeciltiopropionato) y un estabilizador de amina aromática secundaria que consiste de N, -di-2-naftil-p-fenilendiamina son los más preferidos.
Cuando los estabilizadores de azufre orgánico y los estabilizadores de amina aromática secundaria mencionados en lo anterior se utilizan en combinación, la relación (relación en masa) de las cantidades de estabilizadores de amina aromática secundaria/estabilizadores de azufre orgánico contenidos en una composición de resina de poliamida preferiblemente es 0.05 a 15, de manera más preferible 0.1 a 5, incluso de manera más preferible 0.2 a 2. Al seleccionar tal relación de contenido, la resistencia al envejecimiento por calor se puede mejorar eficientemente y al mismo tiempo se mantienen las propiedades de barrera.
Los estabilizadores inorgánicos preferiblemente incluyen compuestos de cobre y haluros.
Los compuestos de cobre son sales de cobre de diversos ácidos inorgánicos u orgánicos que excluyen a los haluros que se describen en lo siguiente. El cobre puede ser cuproso o cúprico, y los ejemplos específicos de sales de cobre incluyen cloruro de cobre, bromuro de cobre, yoduro de cobre, fosfato de cobre, estearato de cobre así como minerales naturales tales como hidrotalcita, estiquitita y pirolita.
Los haluros utilizados como estabilizadores inorgánicos incluyen, por ejemplo, haluros de metal alcalino o metal alcalinotérreo; haluros de amonio y haluros de amonio cuaternario de compuestos orgánicos; y haluros orgánicos tales como haluros de alquilo y haluros de alilo, ejemplos específicos de los cuales incluyen yoduro de amonio, bromuro de esteariltrietilamonio, yoduro de benciltrietilamonio y similares. Entre estos, las sales de haluro de metal alcalino tales como cloruro de potasio, cloruro de sodio, bromuro de potasio, yoduro de potasio y yoduro de sodio son las que se prefieren.
Las combinaciones de compuestos de cobre y haluros, especialmente la combinación de compuestos de cobre y sales de haluro de metal alcalino se prefieren debido a que proporcionan excelentes efectos en la resistencia a alocroismo por calor y resistencia a la intemperie (resistencia a la luz) . Por ejemplo, cuando se utiliza un compuesto de cobre solo, no se prefiere para uso en algunas aplicaciones. No obstante, se puede evitar el alocroismo en el rojizo café al combinar el compuesto de cobre con un haluro.
En la presente invención, los estabilizadores de azufre orgánico, los estabilizadores de amina aromática secundaria y los estabilizadores inorgánicos se prefieren especialmente entre los estabilizadores descritos en lo anterior debido a la estabilidad de procesamiento durante el moldeado por fundido, resistencia al envejecimiento por calor, apariencia de moldeado y prevención de coloración.
El contenido del estabilizador (D) típicamente es de 0.1 a 1 partes en masa, preferiblemente 0.01 a 0.8 partes en masa por 100 partes en masa de la resina (A) poliamida. El alocroismo por calor y la resistencia al ambiente/luz puede mejorar suficientemente al controlar el contenido en 0.01 partes en masa o más mientras se puede reducir el deterioro de las propiedades mecánicas al controlar el contenido a 1 parte en masa o menos.
Las composiciones de resina de poliamida de la presente invención pueden contener además otras resinas además de la resina (A) de poliamida y la copoliamida (B) en la medida en que no se afecten los beneficios de la presente invención. Las otras resinas preferiblemente incluyen resinas que tienen un grupo funcional que reacciona con un grupo carbodiimida . Los ejemplos específicos incluyen resinas de poliamida diferentes de la resina (A) de poliamida y copoliamida (B) , resinas de poliéster, resinas de policarbonato, resinas de poliimida, resinas de poliuretano, resinas acrílicas, poliacrilonitrilo, ionómeros, copolímeros de etileno- acetato de vinilo, resinas de flúor, copolímeros de alcohol vinílico tales como etileno-alcohol vinílico, resinas biodegradables y similares y estas se pueden utilizar solas o como una mezcla de dos o más de las mismas.
Además, las composiciones de resina de poliamida de la presente invención pueden contener adicionalmente materiales de relleno inorgánicos, agentes nucleadores de cristal, agentes conductores, lubricantes, plastificantes, mejoradores de liberación en molde, pigmentos, colorantes, agentes dispersantes, agentes antiestáticos, sustancias que absorben radiación UV, mejoradores de resistencia de choque y otros aditivos bien conocidos según sea apropiado en la medida en que no se afecte el objetivo de la presente invención .
Entre otros, los rellenos inorgánicos que están contenidos preferiblemente incluyen rellenos de vidrio (fibras de vidrio, fibras de vidrio molidas (fibras molidas), escamas de vidrio, esferas de vidrio, etc.), rellenos de silicato de calcio (wolastonita, etc.), mica, talco, caolín, filamentos de titanato de potasio, nitruro de boro, fibras de carbono y similares y dos o más de las mismas pueden ser utilizadas en combinación.
Para incrementar la velocidad de cristalización para mejorar las susceptibilidad a moldeado los agentes nucleantes también pueden estar contenidos preferiblemente. Los agentes nucleantes típicamente incluyen agentes nucleantes inorgánicos tales como talco y nitruro de silicio, pero también se pueden agregar agentes nucleantes orgánicos. La cantidad de los agentes nucleantes agregados preferiblemente es 0.01 a 6 partes en masa, de manera más preferible 0.03 a 1 partes en masa en el caso de agentes nucleantes orgánicos y nitruro de boro o 0.5 a 8 partes en masa, de manera más preferible 1 a 4 partes en masa en el caso de talco y otros agentes nucleantes por 100 partes en masa de la resina (A) de poliamida.
El proceso para preparar composiciones de resina de poliamida de la presente invención no se limita específicamente, pero se puede preparar al mezclar/amasar la resina (A) de poliamida y la copoliamida (B) y opcionalmente el compuesto (C) carbodiimida y otros compuestos en cualquier orden. Entre otros, el amasado en fundido preferiblemente se aplica utilizando diversos extrusores típicos tales como extrusores sencillos o de tornillo doble, especialmente extrusores de tornillo doble de modo preferible debido a la productividad, versatilidad y similares. En este caso, el amasado de fundido preferiblemente se realiza bajo condiciones controladas a una temperatura de 200 a 300 °C por un tiempo de retención de 10 min o menos mediante la utilización de un tornillo que tiene por lo menos uno o más elementos de tornillo de hélice inversa y/o discos de amasado sobre los cuales permanece parcialmente la combinación de materiales. El amasado por extrusión insuficiente o la ruptura de la resina tienden a que sea menos probable que se presenten al controlar la temperatura de amasado por fundido en el intervalo anterior.
Las composiciones que tienen una relación de componente predeterminado también se pueden preparar mediante aditivos de resina de poliamida de amasado por fundido preliminarmente a concentraciones altas para preparar un lote maestro y después diluirlo con la resina de poliamida.
Las composiciones de resina de poliamida de la presente invención se pueden moldear mediante técnicas de moldeo conocidas previamente en una amplia variedad de móldeos que incluyen diversas películas, láminas, películas laminadas, láminas laminadas, tubos, mangueras, ductos, diversos recipientes tales como recipientes huecos y botellas, diversas partes y similares. Las películas obtenidas a partir de las composiciones de resina de poliamida de la presente invención presentan un alto nivel de propiedades físicas prácticas que incluyen un módulo de tensión de elasticidad de 1,000 a 2,500 MPa, una elongación a la tensión de 200 a 500%, propiedades de barrera de oxígeno de 0.5 a 3.5 cc.mm/m2.dia.atm y una absorción de agua de 0.1 a 1.0%.
Las técnicas típicas de formación de película para preparar una película o lámina incluyen el método de extrusión en troquel plano en el cual un material similar a película o lámina extruido a partir de un troquel plano se enfría por vaciado en un rodillo enfriado; el método de extrusión de película soplada en el cual un material tubular es extruido desde un troquel que tiene una ranura anular y se expande por aire soplado dentro del tubo y enfriado con aire o agua para formar una película; y similares. La película/lámina formada de esta manera se utiliza como una película/lámina no estirada o según se estire, después de que experimenta un proceso de estirado tal como estirado uniaxial o biaxial. La película/lámina puede ser una capa o puede estar coextruida o laminada o combinada de alguna otra manera con otras resinas para formar una estructura de capas múltiples.
El espesor de la película/lámina no se define específicamente, pero el espesor como una capa de resina de poliamida única preferiblemente es de 2 a 100 µp? cuado no está estirada o de 2 a 50 \im cuando ha sido estirada y el espesor como un montaje de película/lámina de capas múltiples es de aproximadamente 10 a 300 µp?, en el cual el espesor de la capa de resina de poliamida preferiblemente está en un intervalo similar al espesor como una capa única indicada en lo anterior.
El proceso para preparar un tubo de poliamida no se limita específicamente pero se puede preparar por técnicas conocidas. Por ejemplo, la combinación en seco de pellas obtenidas por amasado por fusión se pueden alimentar a un extrusor de tubo y se pueden moldear de acuerdo con lo habitual. Las condiciones de moldeado no se limitan específicamente, tampoco, y se pueden aplicar temperaturas de moldeado típicas para resinas de poliamida. El espesor de pared de un tubo preferiblemente es de 0.1 mm a 2 mm. Si el espesor de pared es menor de 0.1 mm, no se puede mantener una forma tubular pero si el espesor de pared excede de 2 mm, el producto se vuelve rígido y pierde flexibilidad de manera que el tubo se vuelve, de manera poco favorable, difícil de instalar.
Las composiciones de resina de poliamida de la presente invención también pueden proporcionar estructuras de capa única o de capas múltiples que tengan excelente resistencia a hidrólisis, propiedades de barrera, flexibilidad, tenacidad y resistencia a choque. Las estructuras de capas múltiples preferiblemente son moldeadas en capas múltiples que comprenden por lo menos una capa que consiste de una composición de resina de poliamida de la presente invención y por lo menos una capa de refuerzo que consiste de una resina de poliolefina, una resina de poliestireno, una resina de poliéster, una resina de policarbonato, una resina de poliamida diferente de la composición de resina de poliamida de la presente invención, una resina de flúor y similar especialmente debido a la fuerza de los moldeados.
Los ejemplos de resina de poliolefina utilizadas como capas de refuerzo pueden incluir polietileno lineal de baja densidad, polietileno de baja densidad, polietileno de densidad media, polietileno de alta densidad, polietileno de alta densidad de peso molecular ultra elevado, polipropileno o copolimeros de dos o más que se seleccionan de etileno, propileno, butano y similares, y mezclas de los mismos. La resina de poliolefina, la resina de poliestireno, la resina de poliéster, la resina de policarbonato, la resina de poliamida diferente de la composición de resina de poliamida de la presente invención y la resina de flúor enumeradas en lo anterior como ejemplos de la capa de refuerzo se pueden utilizar como una mezcla de las mismas o se pueden utilizar como una mezcla con otras resinas tales como elastómeros o aditivos tales como, por ejemplo, negro de carbón o pirorretardantes .
EJEMPLOS
Los siguientes ejemplos ilustran adicionalmente la presente invención, pero la presente invención no debe considerarse como limitada por los siguientes ejemplos/ejemplos comparativos.
MATERIALES UTILIZADOS
Las resinas de poliamida preparadas en los siguientes ejemplos de preparación se utilizan como las resinas (A) de poliamida en la presente invención.
Ejemplo de preparación 1 (síntesis de poli-m-xilileno secabamida (MXD10)
En un recipiente de reacción se funde ácido sebásico (grado TA, disponible de Itoh Oil Chemical Co., Ltd.), mediante calentamiento a 170°C y después la temperatura se incrementa a 240°C mientras se agrega gradualmente a gotas m-xililendiamina (MXDA de Mitsubishi Gas Chemical Company; Inc.), en una relación molar 1:1 a ácido sebásico mientras se agita el contenido. Después de completar la adición a gotas, la temperatura se incrementa a 260°C. Después de completar la reacción, el contenido se recolecta en forma de hebras y se peletiza en un peletizador. Las pellas resultantes se colocan en un tambor y se presurizan en estado sólido bajo presión reducida para proporcionar una resina de poliamida que tiene un peso molecular controlado.
La resina de poliamida (MXD10) tiene un punto de fusión de 191°C, un punto de transición vitreo de 60°C, un número promedio de peso molecular de 30,000 y una tasa de transmisión de oxigeno de 0.8 ce . mm/m2. dia . atm determinado por los métodos descritos más adelante.
La resina de poliamida a continuación se abreviará como " D10".
EJEMPLO DE PREPARACIÓN 2 (Síntesis de poli (p-xilileno sebacamida) (PXD10)
Un recipiente de reacción equipado con un agitador, un condensador parcial, un condensador total, un termómetro, un dispositivo de goteo y una entrada de nitrógeno asi como un troquel de hebras se carga con una cantidad pesada precisamente de 8950 g (44 moles) de ácido sebásico (grado TA disponible de Itoh Oil Chemical Co., Ltd.), 13.7401 g de hipofosfito de sodio monohidratado (300 ppm, expresado como la concentración de átomo de fósforo en la resina de poliamida) y 10.6340 g de acetato de sodio. La relación molar entre el hipofosfito de sodio y el acetato de sodio es de 1.0. El recipiente de reacción se purga perfectamente con nitrógeno y después se presuriza con nitrógeno a 0.3 Pa y se calienta a 160°C con agitación hasta fundido homogéneo del ácido sebásico.
Después se agregan a gotas con agitación durante 170 minutos 6026 g (44 moles) de p-xililendiamina (PXDA) . Durante esto, la temperatura interna se incrementa continuamente a 281 °C. Durante la etapa de adición a gotas, la presión se controla a 0.5 MPa y el agua que se genera se extrae al exterior del sistema a través del condensador parcial y del condensador total. La temperatura en el condensador parcial se controla en el intervalo de 145 a 147 °C. Después de completar la adición a gotas de p-xililendiamina se disminuye la presión a una tasa de 0.4 MPa/h hasta la presión atmosférica, durante 60 min. Durante esto, la temperatura interna se incrementa a 299°C. Posteriormente la presión se hace descender a una tasa de 0.02 MPa/min hasta 0.08 MPa durante 20 min. Después la reacción continúa a 0.08 MPa hasta que el torque del agitador alcanza un valor predeterminado. El periodo de reacción a 0.08 MPa es de 10 min. Después el interior del sistema se presuriza con nitrógeno y el polímero se recolecta del troquel de hebras y se peletiza para proporcionar una resina de poliamida. La resina de poliamida resultante PXD10 tiene un punto de fusión de 290°C y un punto de transición vitreo de 75°C. Presenta un número promedio de peso molecular de 25,000 y una tasa de transmisión de oxígeno de 2.5 ce .mm/m2. día . atm. Esta resina de poliamida se abreviará en lo siguiente como "PXD10".
EJEMPLO DE PREPARACIÓN 3 (Síntesis de poli (m- /p-xilileno sebacamida) (MPXD10-1)
Se obtiene una resina de poliamida de la misma manera que en el ejemplo de preparación 1 excepto que la m-xililendiamina es sustituida por una mezcla 3:7 (relación molar) de m-xililendiamina y p-xililendiamina y la temperatura se incrementa a 260°C mientras la mezcla de xililendiamina se agrega gradualmente a gotas en una relación molar de 1:1 a ácido sebásico y después de completar la adición en gotas, se incrementa la temperatura a 280°C.
La resina de poliamida (MPXD10-1) tiene un punto de fusión de 258 °C, un punto de transición vitreo de 70°C, un número promedio de peso molecular de 20, 000 y una tasa de transmisión de oxígeno de 2 ce . mm/cm2. día . atm determinado por los métodos descritos más adelante.
Esta resina de poliamida se abreviará en lo siguiente como "MPXD10-1".
EJEMPLO DE PREPARACIÓN 4 (Síntesis de poli (m- / p-xilileno sebacamida) (MPXD10-2)
Se obtiene una resina de poliamida de la misma manera que en el ejemplo de preparación 1 excepto que la m-xililendiamina es sustituida por una mezcla 7:3 (relación molar) de m-xililendiamina y p-xililendiamina. La resina de poliamida (MPXD10-2) tiene un punto de fusión de 215°C, un punto de transición vitreo de 63 °C, un número promedio de peso molecular de 28, 000 y una tasa de transmisión de oxigeno de 1.4 cc.mm/m2.dia.atm determinado por los métodos descritos más adelante.
Esta resina de poliamida se abreviará en lo siguiente como " PXD10-2".
Las siguientes poliamidas (B-l), (B-2) y (B-3) se utilizan como poliamidas (B) en la presente invención.
(B-l) Copoliamida 6/66/12
El producto disponible de UBE Industries Inc., bajo el nombre comercial "UBE Nylon 63434B" que tiene un punto de fusión de 190°C, un punto de transición vitrea de 44 °C y una viscosidad relativa de 4.05 (determinada a una concentración de resina de 1 g/100 ce en ácido sulfúrico a 96% a una temperatura de 25°C) .
Esta resina de poliamida a continuación se abreviará como "6/66/12".
(B-2) Copoliamida 6/66/11
Una autoclave de 70 1 se carga con 17 kg de e-caprolactama, 6 kg de una solución acuosa 50% de sal de adipato de hexametilenamonio, y 1 kg de ácido aminoundecanoico, y el interior del tanque de polimerización se purga con nitrógeno y después el tanque se cierra y se calienta a 180 °C y después la temperatura en el tanque de polimerización se incrementa a 240°C mientras se controla la presión en el tanque de polimerización a 17.5 kgf/cm2G con agitación. Dos horas después de que la temperatura de polimerización ha alcanzado 240 °C, la presión en el tanque de polimerización se libera a la presión atmosférica durante aproximadamente 2 h. Después de que se ha liberado la presión, la polimerización se lleva a cabo bajo una corriente de nitrógeno durante 1 h y después bajo presión reducida durante 2 h. La presión regresa a la presión atmosférica al introducir nitrógeno y después se detiene el agitador y el contenido se recolecta en forma de hebras y se peletiza y se extrae con agua en ebullición para eliminar monómeros que no hayan reaccionado y se seca. La copoliamida resultante tiene una viscosidad relativa de 3.8 (determinada a una concentración de resina de 1 g/100 ce en ácido sulrúfico 96% a una temperatura de 25°C) . Esta resina de poliamida a continuación se abreviará como "6/66/11".
(B-3) Copolimero de poliéter-poliamida 12
El producto disponible de UBE Industries Inc., bajo el nombre comercial "UBESTA XPA 9055X1" que tiene una dureza Shore D de 55 y un punto de fusión de 164 °C.
Esta resina de poliamida se abrevia en lo siguiente como "PE/N12".
Otros componentes de resina de poliamida:
POLIAMIDA 6/66
El producto disponible de UBE Industries Inc., bajo el nombre comercial "UBE Nylon 5033B" que tiene un punto de fusión de 196°C, un punto de transición vitreo de 46°C y una viscosidad relativa de 4.08 (determinada a una concentración de resina de 1 g/100 ce en ácido sulfúrico 96% a una temperatura de 25°C) .
Esta resina de poliamida se abrevia en lo siguiente como "N6/66".
POLIAMIDA 6
El producto disponible de UBE Industries Inc., bajo el nombre comercial "UBE Nylon 1022B" que tiene un punto de fusión de 220 °C, un punto de transición vitreo de 45°C, un número promedio de peso molecular de 22,000 y una viscosidad relativa de 3.37 (determinada a una concentración de resina de 1 g/100 ce en ácido sulfúrico 96% a una temperatura de 25 °C) .
Esta resina de poliamida se abrevia en lo siguiente como "N6".
POLIAMIDA 11
El producto disponible de Arkema bajo el nombre comercial "Rilsan BESN OTL" que tiene un punto de fusión de 188°C, un punto de transición vitreo de 40°C y un número promedio de peso molecular de 27,000. Esta resina de poliamida se abrevia en lo siguiente como "Nll".
POLIAMIDA 12
El producto disponible de UBE Industries Inc., bajo el nombre comercial "UBESTA3030U" que tiene un punto de fusión de 178°C, un punto de transición vitreo de 50°C y un número promedio de peso molecular de 30,000.
Esta resina de poliamida se abrevia en lo siguiente como "N12".
COMPONENTE DEL COMPUESTO (C) DE CARBODIIMIDA:
Un compuesto de policarbodiimida aliciclico disponible de Nisshinbo bajo el nombre comercial "Carbojilite LA-1".
Este compuesto de carbodiimida se abrevia en lo siguiente como "carbodiimida".
COMPONENTE DE ELASTÓMERO MODIFICADO:
Un copolimero de etileno-propileno modificado con ácido maleico disponible de Mitsui Chemical, Inc., bajo el nombre comercial "TAFMER MP0610".
Esto se abreviará en lo siguiente como "modificador EPR" .
ESTABILIZADOR:
Una mezcla de cloruro de cobre/yoduro de potasio en una relación de cloruro de cobre: yoduro de potasio de = 1:10 (relación en masa).
Esto se abreviará en lo siguiente como "CuCl/KI". EJEMPLOS 1 A 5 Y EJEMPLOS COMPARATIVOS 1 A 8
Los componentes descritos en lo anterior se combinan en seco en las proporciones mostradas en la tabla 1 y en la tabla 2 más adelante (todos expresados en partes por masa) y las combinaciones secas resultantes se alimentan a un extrusor de tornillo doble que tiene un diámetro de cilindro de 37 mm y equipado con tornillos de alto cizallamiento que tienen discos de amasado a través de un alimentador ponderado a una velocidad de 15 kg/h. Las combinaciones se funden y se amasan bajo condiciones de una temperatura de cilindro de 230 °C y una velocidad giratoria de tornillo de 100 rpm y las hebras fundidas resultantes solidifican por enfriamiento con aire frío y después peletizan para preparar pellas de composiciones de resina de poliamida.
Las pellas obtenidas en lo anterior se alimentan a un extrusor de tornillo doble que tiene un diámetro de cilindro de 30 mm y equipado con un troquel plano (PTM-30 disponible de Research Laboratory of Plastics Technology Co., Ltd.) a través de un alimentador de peso a una velocidad de 1.2 kg/h. Los materiales son transportados bajo condiciones de una temperatura de cilindro de 230°C y una velocidad giratoria de tornillo de 50 rpm y después son impulsados a través del troquel plano a materiales similares a películas, los cuales se toman a una velocidad de 2.7 m/min y se enfrían en un rodillo de enfriamiento a 60°C para proporcinar películas que tienen un espesor de 100 µp?.
Las películas resultantes se someten a diversas evaluaciones descritas más adelante.
Los resultados de evaluación se muestran en las tablas 1 y 2.
EJEMPLOS 6 A 8
Se realizaron evaluaciones de la misma manera que en el ejemplo 1, excepto que las pellas de composiciones de resina de poliamida se preparan al controlar la temperatura de cilindro y el punto de fusión de cada una de la resina de poliamida más 25°C durante la preparación de las pellas y en donde las películas se preparan al controlar la temperatura de cilindro en el punto de fusión de cada resina de poliamida más 25 °C durante la preparación de las películas .
Los resultados de la evaluación se muestran en la tabla 1.
MÉTODOS DE EVALUACIÓN
En l°s ejemplos y ejemplos comparativos, los métodos de análisis/evaluación son como se indica.
(1) Las propiedades de barrera a gas (expresadas en ce. mm/m2. día. atm) la tasa de transmisión de oxígeno (ce .mm/m2. dia . atm) de cada película se determina de acuerdo con JIS K7126 en una atmósfera de 23°C, 75% de humedad relativa utilizando OX-TRAN 2/21 disponible de Modern Controls, Inc. Los valores menores muestran mejores propiedades de barrera a gas.
(2) El punto de fusión y punto de transición vitrea de poliamidas (expresado en °C) .
El punto de fusión y el punto de transición vitrea se determinan por calorimetría de exploración diferencial (DSC) utilizando DSC-60 disponible de SHIMADZU CORPORATION bajo las condiciones analíticas como sigue: un espécimen de aproximadamente 5 mg se calienta de 30 a 300 °C a una tasa de 10°C/min, se mantiene a 300°C durante 2 min, después se enfría a 30°C a una tasa de 20°C/min y después se calienta a una tasa de 10°C/min.
(3) NÚMERO PROMEDIO DE PESO MOLECULAR
El número promedio de peso molecular se determina como PMMA por PGC utilizando HLC-8320GPC disponible de Tosoh Corporation en columnas TSKgel SuperHM-H en hexafluroisopropanol (HFIP) que contiene 10 mmoles/1 de trifluoroacetato de sodio, eluyente a una temperatura de 40°C. Se prepara una curva de calibración a partir de seis estándares de PMMA disueltos en HFIP. El número promedio de pesos moleculares de N6, Nll y N12 son valores nominales especificados por los fabricantes.
(4) TURBIDEZ (EXPRESADA EN %)
Se determinó la turbidez de cada película de acuerdo con ASTM D1003 utilizando instrumentos Color & Haze Measuring COH-300A disponible de Nippon Denshoku Ind.
(5) ABSORCIÓN DE AGUA (EXPRESADA EN %)
Un espécimen de película se sumergió en agua destilada bajo condiciones de 23°C durante 24 h y después la humedad de la superficie se eliminó por frotado, después de lo cual el espécimen se calentó a una temperatura de 10 °C menor que el punto de fusión de la ' resina de componente primario y se midió la absorción de agua por el medidor de humedad Karl Fischer.
(6) MODULO DE TENSIÓN DE ELASTICIDAD (EXPRESADO EN MPa)
Las propiedades de tensión de cada película se probaron de acuerdo con JIS K7127 y K7161 para determinar el módulo de tensión de elasticidad (en MPa) utilizando un equipo Strograph disponible de Toyo Seiki Kogyo Co., Ltd. bajo las siguientes condiciones: anchura de espécimen de 10 mm, distancia entre mordazas 50 mm, velocidad de tensión 50 mm/min, temperatura de prueba 23 °C y humedad de prueba 50% de humedad relativa.
(7) ELONGACIÓN A LA TENSIÓN (EXPRESADA EN %)
Las propiedades de tensión de cada película se prueba de acuerdo con JIS K7127 y K7161 para determinar la resistencia de tensión a la ruptura o la resistencia de tensión nominal a la ruptura o la resistencia a la tensión nominal a la resistencia a la tensión de la película y se reportan los valores como elongación a la tensión. Se utiliza el equipo Strograph disponible de Toyo Seiki Kogyo Co., Ltd. bajo las siguientes condiciones: anchura del espécimen 10 mm, distancia entre mordazas 50 mm, velocidad de tensión 50 mm/min, temperatura de prueba 23 °C y humedad de la prueba 50% de humedad relativa.
(8) RESISTENCIA A HIDRÓLISIS/RESISTENCIA A ENVEJECIMIENTO
POR CALOR (EXPRESADO EN %)
En primer lugar, un espécimen de película se trata con calor a 110°C durante 48 h con un secador de aire caliente. Después se trata en agua en ebullición (100°C) durante 24 h. Las propiedades de tensión de la película antes y después del tratamiento se prueban de acuerdo con JIS K7127 y K7161 para determinar la tensión a la ruptura (en MPa) utilizando el equipo Strograph disponible de Toyo Seiki Kogyo Co., Ltd. bajo las siguientes condiciones: anchura del espécimen 10 mm, distancia entre mordazas 50 mm, velocidad de tensión 50 mm/min, temperatura de prueba 23°C y humedad de prueba 50% de humedad relativa.
La retención de resistencia a la tensión (%) se calcula como la relación entre las tensiones a la ruptura antes y después del tratamiento con calor mediante la ecuación (1) más adelante. Cuanto mayor es la retención de resistencia de tensión mayor es la resistencia a hidrólisis/resistencia a envej ecmiento por calor.
Retención de resistencia a la tensión (%) = [resistencia a la ruptura de una película después de tratamiento con calor (MPa) / resistencia a la ruptura de la película antes del tratamiento con calor (MPa) ] x 100 · · · (1)
TABLA 1
TABLA 2
Como se muestra de la tabla 1 y la tabla 2 anteriores, las películas de los ejemplos 1 a 8 contienen cantidades específicas de la copoliamida 6/66/12 o 6/66/11 además de xililensebacamida son películas muy suaves que presentan una elongación a la tensión 2 a 3 veces o más superior en comparación con el ejemplo comparativo 1 que no la contiene mientras se mantiene un alto nivel de elasticidad, es decir, tienen una rigidez y flexibilidad al mismo tiempo. También se ha demostrado que la película del ejemplo comparativo 2 contiene más de 40 partes en masas de copoliamida 6/66/12 presenta una disminución significativa en la elasticidad a la mitad o menos de las películas que no lo contienen así como una disminución significativa en las propiedades de barrera a gas de un incremento en la absorción de agua.
Se demuestra que los ejemplos comparativos 3 y 4 utilizando la poliamida 6/66 como una copoliamida no presentan elongación a la tensión tan alta como las de los ejemplos. También se demuestra que cuando están contenidas otras poliamidas, la elongación a la tensión es pobre (ejemplo comparativo 6) o la transparencia (turbidez) es pobre (ejemplos comparativos 5, 7 y 8) o la turbidez es pobre y la elasticidad disminuye a la mitad cuando hay un contenido de EPR modificado (ejemplo comparativo 5) .
Además, una comparación entre los ejemplos 1 y 8 y los ejemplos 9 y 10 (tabla 3 a continuación) muestra que las películas que contienen cantidades específicas de la copoliamida 6/66/12 o 6/66/11 tienen excelente transparencia como lo demuestra una disminución significativa en la turbidez en comparación con las películas que contienen cantidades específicas del copolímero de poliéter-poliamida .
EJEMPLOS 9 Y 10 Y EJEMPLOS COMPARATIVOS 9 A 12
Los componentes descritos en lo anterior se combinan en seco en las proporciones que se muestran en la tabla 3 a continuación (todo expresado en partes en masa) y se alimentan a un extrusor de tornillo único que tiene un diámetro de cilindro de 30 mm y equipado con un troquel plano (PTM-30 disponible de PLABOR Research Laboratory de Plastics Technology Co., Ltd.). Las combinaciones se funden y amasan bajo condiciones de una temperatura de cilindro de 260°C y una velocidad giratoria de tornillo de 30 rpm y después son impulsadas a través de un troquel plano dentro de materiales similares a película en donde se enfrían en un rodillo enfriado para proporcionar películas que tienen un espesor de 100 µ?t?.
EJEMPLOS 11 A 13
Los componentes descritos en lo anterior se combinan en seco en las proporciones que se muestran en la tabla 3 más adelante (todos expresados en partes en masa) y se alimentan a un extrusor de tornillo único que tiene un diámetro de cilindro de 30 mm equipado con un troquel plano (PTM-30 disponible de PLABOR Research Laboratory de Plastics Technology Co., Ltd. ) · Las combinaciones se funden y amasan bajo condiciones de una temperatura de cilindro controlada en el punto de fusión de cada resina de poliamida más 25°C y una velocidad giratoria de tornillo de 30 rpm y después son impulsadas a través de un troquel plano dentro de materiales similares a película, los cuales son enfriados en un rodillo enfriado para proporcionar películas que tienen un espesor de 100 µp?.
TABLA 3
Como se muestra de la tabla 3 anterior, las películas de los ejemplos que contienen cantidades específicas de copolímero de poliéter/poliamida además de xililensebacamida son películas muy suaves que presentan elongación a la tensión 2 a 3 veces o más superior en comparación con el ejemplo comparativo que no lo contiene mientras que mantienen un alto nivel de elasticidad, es decir, tienen una rigidez y flexibilidad al mismo tiempo.
APLICABILIDAD INDUSTRIAL
Las composiciones de resina de poliamida de la presente invención son materiales de resina de poliamida que tiene un módulo elástico alto, buenas propiedades de barrera a gas, baja absorción de agua, flexibilidad y excelente transparencia de manera que se pueden utilizar convenientemente para una amplia variedad de moldeados que incluyen diversas películas, láminas, películas laminadas, láminas laminadas, tubos, mangueras, ductos, diversos recipientes tales como recipientes huecos y botellas, diversas partes y similares.
Claims (10)
1. Una composición de resina de poliamida, caracterizada porque comprende una resina (A) de poliamida constituida de una unidad estructural de diamina y una unidad estructural de ácido dicarboxilico en donde 70 % mol o más de la unidad estructural de diamina se deriva de xililendiamina y 50 % mol o más de la unidad estructural de ácido dicarboxilico se deriva de ácido sebásico y 1 a 40 partes en masa de por lo menos una copoliamida (B) seleccionada del grupo que consiste de (B-l)-(B-3) por 100 partes en masa de la resina (A) de poliamida; (B-l): una copoliamida 6/66/12; (B-2) : una copoliamida 6/66/11; (B-3) : un copolimero de poliéter-poliamida constituido de una unidad poliamida 12 o una unidad poliamida 11 y una unidad poliéter.
2. La composición de resina de poliamida de conformidad con la reivindicación 1, caracterizada además porque la xililendiamina es m-xililendiamina, p-xililendiamina o una mezcla de las mismas.
3. La composición de resina de poliamida de conformidad con las reivindicaciones precedentes, caracterizada además porque la resina de poliamida es una resina de poliamida obtenida por policondensación de m-xililendiamina, p-xililendiamina o una mezcla de las mismas con ácido sebásico.
4. La composición de resina de poliamida de conformidad con las reivindicaciones precedentes, caracterizada además porque contiene adicionalmente 0.1 a 2 partes en masa de un compuesto (C) de carbodiimida por 100 partes en masa de la resina (A) de poliamida.
5. La composición de resina de poliamida de conformidad con la reivindicación 4, caracterizada además porque el compuesto (C) de carbodiimida es un compuesto de policarbodiimida alif tico o aliciclico.
6. La composición de resina de poliamida de conformidad con las reivindicaciones precedentes, caracterizada además porque contiene adicionalmente de 0.01 a l partes en masa de un estabilizador (D) por 100 partes en masa de la resina (A) de poliamida.
7. La composición de resina de poliamida de conformidad con la reivindicación 6, caracterizada además porque el estabilizador (D) se selecciona de un estabilizador inorgánico, un estabilizador de amina aromática secundaria o un estabilizador de azufre orgánico.
8. La composición de resina de poliamida de conformidad con las reivindicaciones precedentes, caracterizada además porque una película formada de la composición de resina de poliamida presenta un módulo de tensión de elasticidad (E) que corresponde a 70 a 97% del módulo de tensión de elasticidad (EA) de una película formada por la resina (A) de poliamida.
9. Un artículo moldeado formado por moldeo de una composición de resina de poliamida como la que se reclama en cualquiera de las reivindicaciones 1 a 8.
10. El artículo moldeado de conformidad con la reivindicación 9, caracterizado además porque el artículo moldeado es una película, una lámina o un tubo.
Applications Claiming Priority (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2010155405 | 2010-07-08 | ||
| JP2010165718 | 2010-07-23 | ||
| PCT/JP2011/065260 WO2012005204A1 (ja) | 2010-07-08 | 2011-07-04 | ポリアミド樹脂組成物 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| MX2012014320A true MX2012014320A (es) | 2013-02-01 |
| MX338658B MX338658B (es) | 2016-04-27 |
Family
ID=45441183
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| MX2012014320A MX338658B (es) | 2010-07-08 | 2011-07-04 | Composicion de resina de poliamida. |
Country Status (12)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US8603600B2 (es) |
| EP (1) | EP2570459B1 (es) |
| KR (1) | KR101796967B1 (es) |
| CN (1) | CN102959014B (es) |
| AU (1) | AU2011275035B2 (es) |
| BR (1) | BR112012032085A2 (es) |
| CA (1) | CA2799554A1 (es) |
| MX (1) | MX338658B (es) |
| RU (1) | RU2570453C2 (es) |
| TW (1) | TWI501994B (es) |
| WO (1) | WO2012005204A1 (es) |
| ZA (1) | ZA201209144B (es) |
Families Citing this family (25)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| PL2248858T3 (pl) * | 2009-04-16 | 2017-12-29 | Flexopack S.A. | Termokurczliwa folia o dużej wytrzymałości na zrywanie |
| AU2011313399B8 (en) | 2010-10-08 | 2014-10-09 | Mitsubishi Gas Chemical Company, Inc. | Polyamide resin moldings |
| CA2820634A1 (en) | 2010-12-07 | 2012-06-14 | Mitsubishi Gas Chemical Company, Inc. | Polyamide resin films and processes for manufacturing them |
| EA201300919A1 (ru) * | 2011-02-17 | 2014-01-30 | ДСМ АйПи АССЕТС Б.В. | Полиамидная композиция |
| US20130062806A1 (en) | 2011-04-12 | 2013-03-14 | Mitsubishi Gas Chemical Company, Inc. | Polyamide resin-type composite material and method of producing same |
| ES2624147T3 (es) * | 2011-06-10 | 2017-07-13 | Mitsubishi Gas Chemical Company, Inc. | Resina de poliamida reactiva y composiciones de resina de poliamida |
| WO2013038846A1 (ja) * | 2011-09-12 | 2013-03-21 | 三菱瓦斯化学株式会社 | 薄肉成形品 |
| WO2014027648A1 (ja) * | 2012-08-14 | 2014-02-20 | 三菱瓦斯化学株式会社 | ポリエーテルポリアミド繊維 |
| EP2886608B1 (en) | 2012-08-14 | 2017-12-13 | Mitsubishi Gas Chemical Company, Inc. | Polyether polyamide composition |
| JP5884676B2 (ja) * | 2012-08-14 | 2016-03-15 | 三菱瓦斯化学株式会社 | ポリエーテルポリアミド繊維 |
| JP5920103B2 (ja) * | 2012-08-14 | 2016-05-18 | 三菱瓦斯化学株式会社 | ポリエーテルポリアミド繊維 |
| JP6190811B2 (ja) * | 2012-09-14 | 2017-08-30 | 三菱エンジニアリングプラスチックス株式会社 | 熱可塑性樹脂組成物、樹脂成形品、及びメッキ層付樹脂成形品の製造方法 |
| JP6064509B2 (ja) * | 2012-10-18 | 2017-01-25 | 東洋紡株式会社 | ポリアミド樹脂組成物 |
| FR3007034B1 (fr) * | 2013-06-14 | 2016-06-10 | Arkema France | Composition a base de polyamide mxd.10 |
| BR112016002466B8 (pt) * | 2013-08-16 | 2022-09-20 | Mitsubishi Gas Chemical Co | Estrutura multicamada |
| JP2015078138A (ja) * | 2013-10-15 | 2015-04-23 | 株式会社ニックス | 小動物防除性樹脂組成物 |
| WO2015186689A1 (ja) * | 2014-06-02 | 2015-12-10 | 宇部興産株式会社 | ポリアミド樹脂及びそれを含む成形品 |
| JP6481181B2 (ja) * | 2014-06-26 | 2019-03-13 | ディーエスエム アイピー アセッツ ビー.ブイ.Dsm Ip Assets B.V. | 半結晶性半芳香族ポリアミドの調製プロセス |
| FR3027907B1 (fr) * | 2014-11-05 | 2018-03-30 | Arkema France | Composition a base de polymere thermoplastique visqueuse et stable a la transformation, sa preparation et ses utilisations |
| EP3222669B1 (en) * | 2014-11-19 | 2019-09-11 | Mitsubishi Gas Chemical Company, Inc. | Polyamide resin composition, molded article, and method for manufacturing molded article |
| JP6841221B2 (ja) | 2016-03-30 | 2021-03-10 | 東レ株式会社 | 繊維強化ポリアミド樹脂基材、その製造方法、それを含む成形品および複合成形品 |
| EP3448449B1 (en) * | 2016-04-28 | 2023-02-22 | Medtronic, Inc. | Hydrolytically stable polymer compositions, articles, and methods |
| CN109804014B (zh) * | 2016-10-14 | 2021-08-17 | 三菱瓦斯化学株式会社 | 聚烯烃系结构物 |
| JP2018154710A (ja) * | 2017-03-16 | 2018-10-04 | 株式会社ジェイテクト | 樹脂ペレットおよびその製造方法、ならびに成形品の製造方法 |
| CN117736430B (zh) * | 2023-12-25 | 2025-08-12 | 湖南工业大学 | 一种生物基共聚尼龙树脂及其制备方法、生物基共聚尼龙复合材料及其制备方法和应用 |
Family Cites Families (12)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5927948A (ja) | 1982-08-06 | 1984-02-14 | Toray Ind Inc | 樹脂組成物 |
| JPS63137955A (ja) | 1986-12-01 | 1988-06-09 | Mitsubishi Gas Chem Co Inc | 成形用ポリアミド樹脂組成物 |
| CA1288885C (en) | 1986-12-01 | 1991-09-10 | Kenichi Narita | Molding polyamide resin composition |
| JPH07102660B2 (ja) | 1989-09-21 | 1995-11-08 | 東レ株式会社 | 耐レトルト性包装材料 |
| JP2976521B2 (ja) | 1990-11-28 | 1999-11-10 | 三菱瓦斯化学株式会社 | 混合ポリアミドフィルムの製造法 |
| JP3430881B2 (ja) | 1997-07-04 | 2003-07-28 | 宇部興産株式会社 | 三元コポリアミド |
| RU2271277C2 (ru) * | 2001-02-01 | 2006-03-10 | Натурин Гмбх Энд Ко. | Соэкструдированная многослойная, биаксиально вытянутая, свариваемая плоская пленка для изготовления сварных рукавных пленок и их применения |
| JP2006297894A (ja) * | 2005-03-24 | 2006-11-02 | Ube Ind Ltd | ポリアミド積層二軸延伸フィルム |
| JP5581567B2 (ja) * | 2006-10-26 | 2014-09-03 | 三菱瓦斯化学株式会社 | バリア性に優れた熱可塑性樹脂組成物 |
| EP2078735B1 (en) * | 2006-10-26 | 2015-01-14 | Mitsubishi Gas Chemical Company, Inc. | Thermoplastic resin composition excellent in barrier property |
| EP1992659B1 (de) * | 2007-05-16 | 2016-07-20 | EMS-Patent AG | Polyamidformmassen-Schmelze zur Herstellung von transparenten Formteilen |
| JP5407789B2 (ja) | 2009-11-16 | 2014-02-05 | 三菱瓦斯化学株式会社 | 耐加水分解性に優れる熱可塑性樹脂組成物 |
-
2011
- 2011-07-04 WO PCT/JP2011/065260 patent/WO2012005204A1/ja not_active Ceased
- 2011-07-04 EP EP11803538.5A patent/EP2570459B1/en active Active
- 2011-07-04 BR BR112012032085A patent/BR112012032085A2/pt not_active IP Right Cessation
- 2011-07-04 US US13/702,865 patent/US8603600B2/en active Active
- 2011-07-04 CA CA 2799554 patent/CA2799554A1/en not_active Abandoned
- 2011-07-04 CN CN201180029900.3A patent/CN102959014B/zh active Active
- 2011-07-04 RU RU2012154325/05A patent/RU2570453C2/ru not_active IP Right Cessation
- 2011-07-04 MX MX2012014320A patent/MX338658B/es active IP Right Grant
- 2011-07-04 KR KR1020127032913A patent/KR101796967B1/ko active Active
- 2011-07-04 AU AU2011275035A patent/AU2011275035B2/en not_active Ceased
- 2011-07-07 TW TW100124048A patent/TWI501994B/zh not_active IP Right Cessation
-
2012
- 2012-12-04 ZA ZA2012/09144A patent/ZA201209144B/en unknown
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| RU2012154325A (ru) | 2014-08-20 |
| ZA201209144B (en) | 2014-02-26 |
| AU2011275035B2 (en) | 2013-07-25 |
| TW201217334A (en) | 2012-05-01 |
| US8603600B2 (en) | 2013-12-10 |
| CN102959014B (zh) | 2014-08-27 |
| CN102959014A (zh) | 2013-03-06 |
| EP2570459A4 (en) | 2014-08-06 |
| RU2570453C2 (ru) | 2015-12-10 |
| WO2012005204A1 (ja) | 2012-01-12 |
| EP2570459A1 (en) | 2013-03-20 |
| US20130078402A1 (en) | 2013-03-28 |
| KR20130140541A (ko) | 2013-12-24 |
| EP2570459B1 (en) | 2018-02-21 |
| AU2011275035A1 (en) | 2012-12-06 |
| CA2799554A1 (en) | 2012-01-12 |
| KR101796967B1 (ko) | 2017-11-13 |
| TWI501994B (zh) | 2015-10-01 |
| BR112012032085A2 (pt) | 2016-11-16 |
| MX338658B (es) | 2016-04-27 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US8603600B2 (en) | Polyamide resin compositions | |
| EP2792714B1 (en) | Molded products | |
| JP5168432B2 (ja) | 反応性ポリアミド樹脂およびポリアミド樹脂組成物 | |
| KR101700987B1 (ko) | 폴리아미드 수지 조성물 및 성형품 | |
| JP5581567B2 (ja) | バリア性に優れた熱可塑性樹脂組成物 | |
| JP5729189B2 (ja) | ポリアミド樹脂組成物 | |
| MX2013003786A (es) | Moldeados de resina de poliamida. | |
| JP5673130B2 (ja) | ポリアミド樹脂およびその製造方法 | |
| EP2644637B1 (en) | Polyamide resin and method for molding same | |
| JP5853446B2 (ja) | ポリアミド樹脂組成物 | |
| HK1200477B (en) | Olded article | |
| HK1185900B (en) | Polyamide resins and processes for molding them |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| HH | Correction or change in general | ||
| FG | Grant or registration |