WO2025070642A1 - 化粧シート - Google Patents

Abstract

耐傷性及び光沢調整層間の密着性に優れた化粧シートを提供する。化粧シート１は、原反層２と表面保護層とを備え、上記表面保護層は、上記原反層２の上に設けられ、樹脂硬化物として第１電離放射線硬化性樹脂の硬化物を含み、上記第１電離放射線硬化性樹脂はアクリレートとメタクリレートとの第１混合物である第１光沢調整層５と、上記第１光沢調整層５の上面を部分的に被覆し、樹脂硬化物として第２電離放射線硬化性樹脂の硬化物を含み、上記第１光沢調整層５と比較して鏡面光沢度ＧＳ（６０°）がより高い第２光沢調整層６とを含んでいる。

Description

化粧シート

　本発明は、化粧シートに関する。

　建築物の内外装、建具、及び家具等の表面化粧に用いられる化粧材は、一般に、基板の表面に接着剤などを介して化粧シートを貼り付けてなる化粧板の形態にある。化粧シートには、木目柄や石目柄等の所望の柄模様が施されるのが通例である。また、単に木目柄や石目柄等の柄模様を平面的に表現するだけでなく、天然の木材や石材の表面と同様の凹凸様の立体感を表現した化粧シートも、高級感が所望される用途を中心に広く用いられている。

　化粧シートの表面に平面的な柄模様と併せて凹凸様の立体感を表現する手法としては、従来から、様々な方法が考案され、目的に応じて使い分けられている。例えば、化粧材の表面に実際に凹凸を形成するのではなく、凹部又は凸部として表現すべき部分と他の部分とで表面の光沢度を異ならせることにより、人間の目の錯覚を利用して視覚的に凹凸様の立体感を表現する手法がある。この手法によれば、観察者が感じるほどの凹凸が実際には存在しなくても、観察者に、光沢度が相対的に高い部分を凸部として、光沢度が相対的に低い部分を凹部として認識させることができる。

　そのような化粧シートを製造するうえでは、例えば、先ず、基材の一方の面に、凹みを表現すべき部分に対応したパターンを含んだ印刷層を形成する。次に、基材の印刷層を形成した面の全体に、光沢度が低い透明又は半透明の第１光沢調整層を形成する。次いで、第１光沢調整層の表面のうち、上記パターンに対応した領域を除く全領域に、光沢度が高い透明又は半透明の第２光沢調整層を形成する。なお、第１光沢調整層と第２光沢調整層とで光沢度の高低の関係を逆転させれば、凹凸の関係を逆転させた化粧シートを得ることができる。

　このような手法によれば、異なる光沢度を与える２種類の塗料を用意するだけで、如何なる基材に対しても、特殊な薬剤等を必要とすることなく、凹凸様の立体感を表現することができる。しかも、光沢度が異なる光沢調整層の形成は、柄模様（柄インキ層）の形成に続けて、グラビア印刷法等の慣用の印刷法で行うことができる。それ故、特殊設備は一切不要であり、生産能率も高く、第２合成塗料層と上記パターンとの位置合わせも容易である。また、第２光沢調整層は、観察者に知覚させるべき凹凸の高低差と比較すれば遥かに薄くてよいので、樹脂の使用量を削減できるほか、可撓性の面でも有利であり、折り曲げ加工適性に優れた化粧シートを容易に実現できる。また、化粧シートの表面に高低差が大きな凹凸が無いので、凹部に汚染物が留まることも無いという利点もある。

国際公開第２０２２／１８２２５９号 日本特開２０１４－１８８８４２号公報

　本発明は、耐傷性及び光沢調整層間の密着性に優れた化粧シートを提供することを目的とする。

　本発明の一側面によると、原反層と表面保護層とを備え、上記表面保護層は、上記原反層の上に設けられ、樹脂硬化物として第１電離放射線硬化性樹脂の硬化物を含み、上記第１電離放射線硬化性樹脂はアクリレートとメタクリレートとの第１混合物である第１光沢調整層と、上記第１光沢調整層の上面を部分的に被覆し、樹脂硬化物として第２電離放射線硬化性樹脂の硬化物を含み、上記第１光沢調整層と比較して鏡面光沢度ＧＳ（６０°）がより高い第２光沢調整層とを含んだ化粧シートが提供される。

　本発明の他の側面によると、上記第１電離放射線硬化性樹脂において、アクリロイル基のモル数とメタクリロイル基のモル数との合計に占めるメタクリロイル基のモル数の割合は３％以上５０％以下の範囲内にある上記側面に係る化粧シートが提供される。

　本発明の更に他の側面によると、上記メタクリレートは、単官能、２官能又は３官能のメタクリレートである上記側面の何れかに係る化粧シートが提供される。

　本発明の更に他の側面によると、上記第１光沢調整層の上面のうち、少なくとも上記第２光沢調整層によって被覆されていない部分に凹凸構造が設けられている上記側面の何れかに係る化粧シートが提供される。

　本発明の更に他の側面によると、上記第２光沢調整層によって被覆された上記第１光沢調整層の上面にも凹凸構造が設けられている上記側面に係る化粧シートが提供される。

　本発明の更に他の側面によると、上記凹凸構造が、各々が畝状に突出した複数の畝状部を含んでいる上記側面に係る化粧シートが提供される。

　本発明の更に他の側面によると、上記凹凸構造は、粗さ曲線要素の平均長さＲＳｍと算術平均粗さＲａとの比ＲＳｍ／Ｒａが１０以上９００以下の範囲内にある上記側面に係る化粧シートが提供される。

　本発明の更に他の側面によると、上記第１光沢調整層及び上記第２光沢調整層の各々の厚さは２μｍ以上２０μｍ以下の範囲内にある上記側面の何れかに係る化粧シートが提供される。

　本発明の更に他の側面によると、上記第１光沢調整層は、平均粒径が１０μｍ以下の粒子を更に含んだ上記側面の何れかに係る化粧シートが提供される。

　本発明の更に他の側面によると、上記第１電離放射線硬化性樹脂の質量を１００質量部とした場合に、上記粒子の質量は０．５質量部以上２０質量部以下の範囲内にある上記側面に係る化粧シートが提供される。

　本発明の更に他の側面によると、上記第１光沢調整層は鏡面光沢度ＧＳ（６０°）が１０以下であり、上記第２光沢調整層は鏡面光沢度ＧＳ（６０°）が４以上である上記側面の何れかに係る化粧シートが提供される。

　本発明の更に他の側面によると、上記第１光沢調整層の鏡面光沢度ＧＳ（６０°）と上記第２光沢調整層の鏡面光沢度ＧＳ（６０°）との差は１以上である上記側面の何れかに係る化粧シートが提供される。

　本発明の更に他の側面によると、上記側面の何れかに係る化粧シートと、上記化粧シートが貼り付けられた基材とを備えた化粧材が提供される。

　本発明の更に他の側面によると、原反層の上に、樹脂として第１電離放射線硬化性樹脂を含み、上記第１電離放射線硬化性樹脂はアクリレートとメタクリレートとの第１混合物である第１塗膜を形成することと、上記第１塗膜へ電離放射線又は紫外光を照射して、上記第１塗膜を半硬化させることと、半硬化させた上記第１塗膜の上に、樹脂として第２電離放射線硬化性樹脂を含んだ第２塗膜を、上記第１塗膜の上面を部分的に被覆するように形成することと、上記第１塗膜及び上記第２塗膜へ電離放射線又は紫外光を照射して、上記第１塗膜及び上記第２塗膜を完全硬化させることとを含み、上記第１塗膜の半硬化は、上記第１塗膜へ波長が２００ｎｍ以下の光を照射する第１照射工程を含んだ化粧シートの製造方法が提供される。

　本発明の更に他の側面によると、上記第１塗膜の半硬化は、上記第１照射工程の後に、上記第１塗膜へ電離放射線を照射するか、又は、上記光と比較して波長がより長い紫外光を照射する第２照射工程を含んだ上記側面に係る化粧シートの製造方法が提供される。

　本発明によると、耐傷性及び光沢調整層間の密着性に優れた化粧シートが提供される。

図１は、本発明の一実施形態に係る化粧シートを含んだ化粧材の断面図である。 図２は、図１の化粧シートが含んでいる第１光沢調整層の断面図である。 図３は、本発明の一例に係る化粧シートが含んでいる第１光沢調整層の顕微鏡画像である。 図４は、図２に示す第１光沢調整層の一部を拡大して示す断面図である。

　以下に、本発明の実施形態について、図面を参照しながら説明する。以下に説明する実施形態は、上記側面の何れかをより具体化したものである。以下に記載する事項は、単独で又は複数を組み合わせて、上記側面の各々に組み入れることができる。

　また、以下に示す実施形態は、本発明の技術的思想を具体化するための構成を例示するものであって、本発明の技術的思想は、下記の構成部材の材質、形状、及び構造等によって限定されるものではない。本発明の技術的思想には、請求の範囲に記載された請求項が規定する技術的範囲内において、種々の変更を加えることができる。

　なお、同様又は類似した機能を有する要素については、以下で参照する図面において同一の参照符号を付し、重複する説明は省略する。また、図面は模式的なものであり、或る方向の寸法と別の方向の寸法との関係、及び、或る部材の寸法と他の部材の寸法との関係等は、現実のものとは異なり得る。

　＜１＞化粧材及び化粧シート
　図１は、本発明の一実施形態に係る化粧シートを含んだ化粧材の断面図である。図２は、図１の化粧シートが含んでいる第１光沢調整層の断面図である。図３は、本発明の一例に係る化粧シートが含んでいる第１光沢調整層の顕微鏡写真である。図４は、図２に示す第１光沢調整層の一部を拡大して示す断面図である。

　なお、図２及び図４に示す断面は、第１光沢調整層の厚さ方向に沿った断面である。また、図３の顕微鏡写真は、レーザ顕微鏡（オリンパス社製　ＯＬＳ－４０００）により得た平面写真である。

　図１に示す化粧材１１は、基材Ｂと、これに貼り付けられた化粧シート１とを含んでいる。ここでは、化粧材１１は、化粧板である。化粧板は、平板であってもよく、曲げられているか又は折られていてもよい。化粧材１１は、板以外の形状を有していてもよい。

　基材Ｂは、ここでは、板材である。板材は、例えば、木質ボード、無機質ボード、金属板、又は、複数の材料からなる複合板である。基材Ｂは、板以外の形状を有していてもよい。

　化粧シート１は、原反層２と、ベタインキ層３と、柄インキ層４と、第１光沢調整層５と、第２光沢調整層６とを含んでいる。ベタインキ層３、柄インキ層４、第１光沢調整層５、及び第２光沢調整層６は、原反層２の基材Ｂと向き合った面とは反対側の面に、原反層２側からこの順に設けられている。ベタインキ層３及び柄インキ層４の一方又は双方を省略してもよい。柄インキ層４と第１光沢調整層５との間には、プライマー層、透明樹脂層等の他の１以上の層を設けてもよい。
　以下に、化粧シート１が含んでいる要素について、順次説明する。

　＜１．１＞原反層
　原反層２又はその材料としては、薄葉紙、樹脂混抄紙、チタン紙、樹脂含浸紙、難燃紙、及び無機質紙等の紙類；天然繊維若しくは合成繊維からなる織布又は不織布；ホモ又はランダムポリプロピレン樹脂及びポリエチレン樹脂等のポリオレフィン樹脂、共重合ポリエステル樹脂、アモルファス状態の結晶性ポリエステル樹脂、ポリエチレンナフタレート樹脂、ポリブチレン樹脂、アクリル系樹脂、ポリアミド樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリ塩化ビニル樹脂、ポリ塩化ビニリデン樹脂、及びフッ素系樹脂等の合成樹脂を含んだ合成樹脂系基材；木材単板、突板、合板、集成材、パーティクルボード、及び中密度繊維板等の木質系基材；石膏板、セメント板、珪酸カルシウム板、及び陶磁器板等の無機系基材；鉄、銅、アルミニウム、及びステンレス等の金属からなる金属系基材；又は、これらの複合材若しくは積層体を用いることができる。原反層２は、フィルム状、シート状、板状、及び異型成型体等の様々な形態を有し得る。

　＜１．２＞ベタインキ層
　ベタインキ層３は、原反層２の一方の面全体をインキで被覆してなる連続膜である。ベタインキ層３は、基材Ｂ又は原反層２を隠蔽する隠蔽層としての役割を果たし得る。また、ベタインキ層３は、平坦化層としての役割も果たし得る。ベタインキ層３は、単層構造を有していてもよく、多層構造を有していてもよい。

　ベタインキ層３は、例えば、マトリックスと染料及び顔料等の着色剤とを溶剤中に溶解又は分散させてなる印刷インキ（又はコーティング剤）を用いて形成することができる。

　マトリックスとしては、例えば、油性の硝化綿樹脂、２液ウレタン樹脂、アクリル系樹脂、スチレン系樹脂、ポリエステル系樹脂、ウレタン系樹脂、ポリビニル系樹脂、アルキド樹脂、エポキシ系樹脂、メラミン系樹脂、フッ素系樹脂、シリコーン系樹脂、大美ゴム系樹脂等の各種合成樹脂類、又はこれらの混合物若しくは共重合体を用いることができる。

　着色剤としては、例えば、カーボンブラック、チタン白、亜鉛華、弁柄、黄鉛、紺青、及びカドミウムレッド等の無機顔料；アゾ顔料、レーキ顔料、アントラキノン顔料、フタロシアニン顔料、イソインドリノン顔料、及びジオキサジン顔料等の有機顔料；又はこれらの混合物を用いることができる。

　溶剤としては、例えば、トルエン、キシレン、酢酸エチル、酢酸ブチル、メチルアルコール、エチルアルコール、イソプロピルアルコール、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン、水、又はこれらの混合物を用いることができる。

　上記のインキには、各種機能を付与するために、体質顔料、可塑剤、分散剤、界面活性剤、粘着付与剤、接着助剤、乾燥剤、硬化剤、硬化促進剤及び硬化遅延剤等の機能性添加剤を添加してもよい。

　＜１．３＞柄インキ層
　柄インキ層４は、化粧シート１に柄模様を付加するために設ける。柄模様は、例えば、木目模様、石目模様、砂目模様、タイル貼模様、煉瓦積模様、布目模様、皮絞模様、又は幾何学図形である。図１の例では、柄インキ層４は、ベタインキ層３の上面を部分的に被覆した印刷パターンである。この印刷パターンは、第２光沢調整層６の直下に設けられている。言い換えると、第２光沢調整層６は、柄インキ層４と重なり合うように設けられている。即ち、柄インキ層４が含んでいる印刷パターンと、第２光沢調整層６のパターンとは、厚さ方向に対して垂直な平面への正射影の形状及び位置が一致している。なお、以下、厚さ方向に対して垂直な平面への正射影の形状及び位置が一致している状態を、「形状及び位置が一致している」と略記することがある。

　柄インキ層４は、例えば、ベタインキ層３について上述したインキを使用して形成することができる。柄インキ層４は、求められる意匠を表現するために必要な数の版を使用して形成する。即ち、柄インキ層４は、単一のインキからなる１つの印刷パターンからなる層であってもよく、異なるインキからなる複数の印刷パターンからなる層であってもよい。後者の場合、１つの印刷パターンが第２光沢調整層６のパターンと形状及び位置が一致していてもよく、２以上の印刷パターンの組み合わせが第２光沢調整層６のパターンと形状及び位置が一致していてもよい。例えば、１つの印刷パターン又は２以上の印刷パターンの組み合わせが第２光沢調整層６のパターンと形状及び位置が一致し、残りの印刷パターンは、第２光沢調整層６の開口部に相当する領域に位置していてもよい。

　柄インキ層４が含む印刷パターンを１つのみ含んでいる場合、この印刷パターンは、ベタインキ層３とは色が異なる。柄インキ層４が複数の印刷パターンを含み、これら印刷パターンの組み合わせが第２光沢調整層６のパターンと形状及び位置が一致している場合、これら印刷パターンの１以上、例えば、これら印刷パターンの全ては、ベタインキ層３とは色が異なる。柄インキ層４が複数の印刷パターンを含み、１つの印刷パターン又は２以上の印刷パターンの組み合わせが第２光沢調整層６のパターンと形状及び位置が一致し、残りの印刷パターンは、第２光沢調整層６の開口部に相当する領域に位置している場合、前者の印刷パターンの１以上は、ベタインキ層３及び後者の印刷パターンの１以上とは色が異なる。例えば、前者の印刷パターンの全ては、ベタインキ層３及び後者の印刷パターンの全てとは色が異なる。

　ここでは、一例として、柄インキ層４は、単一のインキからなる１つの印刷パターンからなる層であり、ベタインキ層３とは色が異なっていることとする。

　＜１．４＞プライマー層
　上記の通り、化粧シート１は、柄インキ層４と第１光沢調整層５との間に、プライマー層を更に含むことができる。プライマー層は、ベタインキ層３又は柄インキ層４の上に形成され、ベタインキ層３及び柄インキ層４と第１光沢調整層５との双方に密着することにより、化粧材１１の耐久性及び外観維持性を長期間にわたり向上させることを可能とする。プライマー層は、透明性を有することが好ましく、無色透明、着色透明、半透明等のいずれであってもよい。

　プライマー層には、例えば、水性樹脂を主材料として含有する水性組成物を用いることができる。水性組成物とは、水性樹脂を水又は水系溶媒に溶解又は分散して得られるものをいう。水性樹脂は、水溶性樹脂（水溶性処理された樹脂を含む）及び水分散性樹脂（水分散性処理された樹脂を含む）の何れでもよい。また、水性樹脂は、電離放射線又は紫外線硬化タイプでもよく、熱硬化タイプでもよく、その両方を備えるタイプでもよい。水系溶媒としては、例えば、炭素数５以下の有機溶媒（例えば、エタノール、プロパノール等のアルコール類）と水との混合溶媒等であってよい。

　水溶性樹脂としては、デンプン、デキストリン、アルギン酸塩等の天然物、セルロースエステル、セルロースエーテル等の天然物誘導体及びポリビニルアルコール、ポリアクリル酸塩、ポリビニルアミン、アクリル硝化綿、ポリウレタン樹脂、ポリエステル樹脂等の合成樹脂が挙げられる。

　水分散性樹脂としては、セラック、スチレン化セラック、カゼイン、スチレン－マレイン酸樹脂、ロジン－マレイン酸樹脂、アクリル系樹脂、酢酸ビニル系樹脂、スチレン系樹脂、塩化ビニル系樹脂、合成ゴムラテックス、ポリウレタン樹脂、ポリエステル樹脂、アルキッド樹脂、エポキシエステル、ロジンエステル等が挙げられる。

　水性組成物は、上述した水性樹脂の他に、シリカ、着色剤等の添加剤を更に含有してよい。

　プライマー層は、ベタインキ層３又は柄インキ層４を覆うように、上述した水性組成物を全面ベタ状に塗工することによって設けた後、電離放射線等照射及び/又は加熱によって硬化させて形成される。塗工方法としては、公知の各種方法、例えばロールコート、カーテンフローコート、ワイヤーバーコート、リバースコート、グラビアコート、グラビアリバースコート、エアーナイフコート、キスコート、ブレードコート、スムーズコート、コンマコート、スプレーコート、かけ流しコート、刷毛塗り等の方法を用いることができ、乾燥後の膜厚が例えば２乃至２０μｍ程度になるように塗工される。
＜１．５＞透明樹脂層
　上記の通り、化粧シート１は、柄インキ層４と第１光沢調整層５との間に、透明樹脂層を更に含むことができる。透明樹脂層は、化粧シート１の耐摩耗性の向上に寄与し得る。

　透明樹脂層には、例えば、オレフィン系樹脂を主材料とした樹脂組成物を用いることが好ましい。オレフィン系樹脂としては、例えば、ポリプロピレン、ポリエチレン、又はポリブテンを使用することができる。オレフィン系樹脂は、プロピレン、１－ブテン、１－ペンテン、１－ヘキセン、１－ヘプテン、１－オクテン、１－ノネン、１－デセン、１－ウンデセン、１－ドデセン、トリデセン、１－テトラデセン、１－ペンタデセン、１－ヘキサデセン、１－ヘプタデセン、１－オクタデセン、１－ノナデセン、１－エイコセン、３－メチル－１－ブテン、３－メチル－１－ペンテン、３－エチル－１－ペンテン、４－メチル－１－ペンテン、４－メチル－１－ヘキセン、４，４－ジメチル－１－ペンテン、４－エチル－１－ヘキセン、３－エチル－１－ヘキセン、９－メチル－１－デセン、１１－メチル－１－ドデセン、及び１２－エチル－１－テトラデセン等のαオレフィンを単独重合又は２種類以上共重合させたものであってもよい。オレフィン系樹脂は、エチレン・酢酸ビニル共重合体、エチレン・ビニルアルコール共重合体、エチレン・メチルメタクリレート共重合体、エチレン・エチルメタクリレート共重合体、エチレン・ブチルメタクリレート共重合体、エチレン・メチルアクリレート共重合体、エチレン・エチルアクリレート共重合体、及びエチレン・ブチルアクリレート共重合体等のように、エチレン又はαオレフィンとそれ以外のモノマーとを共重合させたものであってもよい。特に、表面強度の更なる向上を図る場合には、高結晶性のポリプロピレンを用いることが好ましい。

　透明樹脂層には、熱安定剤、紫外線吸収剤、光安定化剤、ブロッキング防止剤、触媒捕捉剤及び着色剤等の添加剤を添加してもよい。これらの添加剤は、公知のものから適宜選択して使用することができる。透明樹脂層は、熱圧を応用した方法、押出ラミネート方法、ドライラミネート方法等の各種積層方法によって形成することができる。

　＜１．６＞第１光沢調整層
　第１光沢調整層５は、原反層２の上に設けられている。ここでは、第１光沢調整層５は、ベタインキ層３又は柄インキ層４を被覆している。

　第１光沢調整層５は、樹脂硬化物を含んでいる。後述するように、第１光沢調整層５は、粒子を更に含むことができる。第１光沢調整層５の質量を１００質量部とした場合、第１光沢調整層５が含む樹脂硬化物の質量は、６０質量部以上であることが好ましく、７０質量部以上であることがより好ましく、８０質量部以上であることが更に好ましい。

　第１光沢調整層５は、樹脂硬化物として、第１電離放射線硬化性樹脂の硬化物を含んでいる。ここで、「電離放射線」は、電子線などの荷電粒子線である。第１電離放射線硬化性樹脂は、電離放射線の照射によって硬化する。また、第１電離放射線硬化性樹脂は、紫外光照射によっても硬化し得る。

　第１電離放射線硬化性樹脂としては、各種モノマーや市販されているオリゴマーなど、公知のものを用いることができ、例えば、（メタ）アクリル系樹脂、シリコーン系樹脂、ポリエステル系樹脂、ウレタン系樹脂、アミド系樹脂、又は、エポキシ系樹脂を使用できる。第１電離放射線硬化性樹脂は、水系樹脂又は非水系（有機溶剤系）樹脂の何れであってもよい。第１電離放射線硬化性樹脂は、無溶剤であってもよい。

　第１電離放射線硬化性樹脂の主成分は、アクリレート樹脂とメタクリレート樹脂の第１混合物である。メタクリレートは、第１電離放射線硬化性樹脂を含んだ第１塗膜の電離放射線又は紫外光照射による半硬化を可能とし、これにより第１光沢調整層５と第２光沢調整層６との間での高い密着性を達成可能とする。
　第１電離放射線硬化性樹脂の主成分が第１混合物ではなく、メタクリレート樹脂を含有しない場合、所望とする密着性が得られないだけでなく、これに伴い耐傷性及び耐汚染性も不十分なものとなる。

　第１電離放射線硬化性樹脂において、アクリロイル基のモル数とメタクリロイル基のモル数との合計に占めるメタクリロイル基のモル数の割合は、３％以上５０％以下の範囲内にあることが好ましく、５％以上４０％以下の範囲内にあることがより好ましい。上記の割合を大きくすると、第１光沢調整層５と第２光沢調整層６との間での高い密着性を達成可能とするプロセスウィンドウが広くなる。但し、上記の割合を過剰に大きくすると、化粧シート１の耐傷性が低下する。

　メタクリレートは、単官能、２官能又は３官能のメタクリレートであることが好ましい。メタクリレートは、単官能メタクリレート、２官能メタクリレート及び３官能のメタクリレートの何れかであってもよく、それらの２つ以上であってもよい。

　官能基数が多いメタクリレートを使用した場合、官能基数が少ないメタクリレートを使用した場合と比較して、架橋度が高まり、耐傷性が向上する。但し、官能基数が過剰に多いメタクリレートを使用すると、電離放射線又は紫外光照射による架橋反応の速度が高まるため、第１光沢調整層５と第２光沢調整層６との間での高い密着性を達成可能とするプロセスウィンドウが狭くなる。

　アクリレートは、２官能以上のアクリレートであることが好ましく、３官能以上のアクリレートであることがより好ましい。耐傷性に優れた第１光沢調整層５を得るうえでは、アクリレートは３官能以上であることが好ましい。アクリレートの官能基数に上限はないが、一例によれば６官能以下である。

　アクリレートは、繰り返し構造を含んでいることが好ましい。この繰り返し構造は、例えば、エチレンオキサイド（ＥＯ）構造、プロピレンオキサイド（ＰＯ）構造、及びε－カプロラクトン（ＣＬ）構造の何れかである。繰り返し構造は、エチレンオキサイド又はプロピレンオキサイドであることが好ましい。アクリレートにおいて、上記の繰り返し構造は、開環した状態でアクリロイル基とメチロール基との間に介在し得る。

　繰り返し構造の繰り返し回数は３以上であることが好ましい。この繰り返し回数が多いアクリレートを使用すると、後述する第１照射工程において、硬化膜の面内方向への膨張が生じ易くなり、それ故、畝状部５Ｂに対応した皺が塗膜表面に生じ易くなる。但し、この繰り返し回数を多くすると、架橋密度が低下し、表面保護層の耐傷性が低下する。従って、この繰り返し回数は、３０以下であることが好ましく、２０以下であることがより好ましい。

　上記繰り返し構造の繰り返し回数は、ＭＡＬＤＩ－ＴＯＦ－ＭＳを使用することで分析可能である。電離放射線硬化性樹脂は、分子量分布を持つ場合がある。分子量分布がある場合、上記の繰り返し回数は、ＭＡＬＤＩ－ＴＯＦ－ＭＳのマススペクトルの最も強いピークを持つ分子量に相当する繰り返し回数とする。

　第１光沢調整層５は、第２光沢調整層６と比較して、鏡面光沢度ＧＳ（６０°）がより低い。第１光沢調整層５の鏡面光沢度ＧＳ（６０°）は、１０以下であることが好ましく、７以下であることがより好ましく、５以下であることが更に好ましい。第１光沢調整層５の鏡面光沢度ＧＳ（６０°）は、一例によれば０．５以上である。ここで、「鏡面光沢度ＧＳ（６０°）」は、ＩＳＯ２８１３に準拠した光沢度計を用いて入射角６０度で測定した場合の鏡面光沢度である。なお、鏡面光沢度ＧＳ（６０°）は、数値に続けて「％」を付して表記することがあるが、ここでは、「％」の記載は省略する。

　第１光沢調整層５の上面のうち、少なくとも第２光沢調整層６によって被覆されていない部分に凹凸構造が設けられている。ここでは、第１光沢調整層５の上面のうち、第２光沢調整層６によって被覆されていない部分だけでなく、第２光沢調整層６によって被覆されている部分にも凹凸構造が形成されている。第１光沢調整層５の上面に設けられた凹凸構造は、第１光沢調整層５の鏡面光沢度ＧＳ（６０°）を、第２光沢調整層６の鏡面光沢度ＧＳ（６０°）と比較してより低くする役割を果たす。第１光沢調整層５の上面のうち、第２光沢調整層６によって被覆されている部分及び被覆されていない部分の何れにも凹凸構造が形成されていることが好ましい。

　ここでは、第１光沢調整層５の表面には、各々が畝状に突出した複数の畝状部を含んだ凹凸構造が設けられている。即ち、図２及び図４に示すように、第１光沢調整層５は、平坦な上面を有する薄層であるコア部５Ａと、コア部５Ａの上面から各々が畝状に突出した複数の畝状部５Ｂとを含んでいる。

　ここで、本開示において、畝状部５Ｂは、例えば、第１光沢調整層５の表面に設けられた凸部の最も低い部分から先端までの部分であり、コア部５Ａは第１光沢調整層５の畝状部５Ｂを除く部分をいうものとする。また、「畝状」とは、平面視で線状に伸びた凸形状であることをいう。

　畝状部５Ｂは、平面視で曲線状であっても直線状であってもよいが、化粧シート１の表面の耐指紋性の観点から、図３に例示するように曲線状であることが好ましい。なお、畝状部５Ｂを有する第１光沢調整層５は、例えば、後述するように、第１電離放射線硬化性樹脂を含んだ塗膜の表面に対して特定波長の光を照射して、塗膜の表面に生じた硬化膜を面内方向へ膨張させることにより形成することができる。

　第１光沢調整層５がその上面に有している凹凸構造は、粗さ曲線要素の平均長さＲＳｍと算術平均粗さＲａとの比ＲＳｍ／Ｒａが、１０以上９００以下の範囲内にあることが好ましく、１０以上５００以下の範囲内にあることがより好ましく、１０以上４００以下の範囲内にあることが更に好ましく、５０以上３５０以下の範囲内にあることが特に好ましい。比ＲＳｍ／Ｒａを小さくすると、凸部のピッチが小さくなる。その結果、化粧シート１の表面に付着した汚れを拭き取り難くなり、耐汚染性が低下する。比ＲＳｍ／Ｒａを大きくすると、凸部のピッチが大きくなり、上記凹凸構造が第１光沢調整層５の鏡面光沢度ＧＳ（６０°）を低下させる効果が小さくなる。

　比ＲＳｍ／Ｒａは、８０以上であることが好ましい。比ＲＳｍ／Ｒａを大きくすると、凸部のピッチが大きくなり、第１光沢調整層５の上面に対する水又は洗浄剤（界面活性剤やアルコールを含んだ水）の親和性が向上する。第１光沢調整層５がこのような表面性状を有している化粧シート１であれば、表面が汚れた場合であっても、水又は洗浄剤を用いて汚れを拭き取ることが容易である。

　比ＲＳｍ／Ｒａは、１００以上であることが最も好ましい。比ＲＳｍ／Ｒａがこの範囲内であれば、第１光沢調整層５の上面のうち凸部の境界及びその近傍の領域に対しても、一般的に市販されている洗浄用スポンジを接触させることができる。それ故、化粧シート１の表面が汚れた場合であっても、一般的に市販されている洗浄用スポンジを用いて汚れを拭き取ることが容易である。

　ここで、算術平均粗さＲａ及び粗さ曲線要素の平均長さＲＳｍは、線粗さ計を用いて測定した場合の測定値である（ＪＩＳ　Ｂ０６０１：２０１３に準拠）。

　上記の算術平均粗さＲａは、０．２μｍ以上１０．０μｍ以下の範囲内にあることが好ましく、０．５μｍ以上５．０μｍ以下の範囲内にあることがより好ましく、０．８μｍ以上４．０μｍ以下の範囲内にあることが更に好ましい。

　上記の粗さ曲線要素の平均長さＲＳｍは、５０μｍ以上８００μｍ以下の範囲内にあることが好ましく、８０μｍ以上６００μｍ以下の範囲内にあることがより好ましく、１００μｍ以上５００μｍ以下の範囲内にあることが更に好ましい。

　第１光沢調整層５の上面は、厚さ方向及び畝状部５Ｂの配列方向に対して平行な断面において正弦波形状であってもよい。ここで、「正弦波形状」とは、図４に示すように、畝状部５Ｂの最も低い位置Ｃから最も高い位置Ｄ（頂点）に至る線を正弦波で表現可能な形状をいう。

　第１光沢調整層５の厚さは、２μｍ以上２０μｍ以下の範囲内とすることが好ましく、３μｍ以上２０μｍ以下の範囲内とすることがより好ましく、５μｍ以上１５μｍ以下の範囲内とすることが更に好ましく、５μｍ以上１２μｍ以下の範囲内とすることが最も好ましい。第１光沢調整層５の厚さが小さい場合、比ＲＳｍ／Ｒａ等を参照しながら上述した表面性状を後述する方法によって実現することが難しい。第１光沢調整層５の厚さを大きくすると、化粧シート１の加工性が低下し、折り曲げ加工した場合に白化し易くなる。

　ここで、第１光沢調整層５の厚さは、第１光沢調整層５と見かけ上の面積及び体積が等しく且つ表面が平坦な層の厚さである。第１光沢調整層５の厚さは、例えば、以下の方法により求める。先ず、第１光沢調整層５の厚さ方向に平行であり且つ畝状部５Ｂの長さ方向に垂直な断面を撮像する。次に、この断面画像から、畝状部５Ｂの幅方向における第１光沢調整層５の寸法と、第１光沢調整層５の断面の面積とを求める。第１光沢調整層５の厚さは、この面積を上記の寸法で割ることにより得られる値である。なお、後述する第１光沢調整層用塗液が溶媒を含んでいない場合、この塗液からなる塗膜の厚さは、第１光沢調整層５の厚さと等しい。

　また、第１光沢調整層５の厚さは、畝状部５Ｂの厚さ（又は高さ）とコア部５Ａの厚さとの比（畝状部５Ｂの厚さ／コア部５Ａの厚さ）が、０．０１以上２．０以下の範囲内となるように設定することが好ましく、０．１以上１．０以下の範囲内となるように設定することがより好ましい。

　第１光沢調整層５は、樹脂硬化物として第１電離放射線硬化性樹脂の硬化物を含んでいる。上記の通り、電離放射線は、電子線などの荷電粒子線である。第１電離放射線硬化性樹脂は、電離放射線の照射によって硬化する。また、第１電離放射線硬化性樹脂は、紫外光照射によっても硬化し得る。ここで使用する第１電離放射線硬化性樹脂は、波長が２００ｎｍ以下の光を照射することによって硬化する一方で、この光に対する吸収係数（吸光係数）が大きい。上述したとおり、畝状部５Ｂを有する第１光沢調整層５は、第１電離放射線硬化性樹脂を含んだ塗膜の表面に対して波長が２００ｎｍ以下の光を照射して、塗膜の表面に生じた硬化膜を面内方向へ膨張させることにより形成することができる。

　第１光沢調整層５は、樹脂硬化物に加えて、粒子を更に含むことができる。
　第１光沢調整層５に含まれる粒子としては、例えば、ポリエチレン（ＰＥ）ワックス、ポリプロピレン（ＰＰ）ワックス、樹脂ビーズなどの有機材料からなる粒子、又は、シリカ、ガラス、アルミナ、チタニア、ジルコニア、炭酸カルシウム、硫酸バリウムなどの無機材料からなる粒子を用いることができる。

　粒子の平均粒径（Ｄ５０）は、１０μｍ以下であることが好ましく、１μｍ以上８μｍ以下の範囲内にあることがより好ましく、２μｍ以上７μｍ以下の範囲内にあることが更に好ましく、３μｍ以上６μｍ以下の範囲内にあることが最も好ましい。粒子の平均粒径（Ｄ５０）を大きくすると、第１光沢調整層５からの粒子の脱落を生じ易くなり、高い耐傷性を実現することが難しくなる場合がある。粒子が小さい場合、皺を均一に生じさせる効果が小さくなる

　ここで、「平均粒径」又は「平均粒径（Ｄ５０）」は、レーザ回折／散乱式粒子径分布測定装置で測定されるメジアン径（Ｄ５０）である。なお、第２光沢調整層用塗液が粒子を含んでいる場合、この塗液から得られる第１光沢調整層５も粒子を含むことになる。第１光沢調整層５が含んでいる粒子の平均粒径は、その断面観察を行い、複数の粒子の粒径を実測して平均化した値とすることができる。このようにして得られる値は、レーザ回折／散乱式粒子径分布測定装置で測定されるメジアン径（Ｄ５０）と実質的に同じ値となる。従って、上述した平均粒径の範囲は、第２光沢調整層が含んでいる粒子の平均粒径の範囲と読み替えることもできる。

　第１光沢調整層５における粒子の量は、樹脂硬化物１００質量部に対して、０．５質量％以上２０質量％以下の範囲内にあることが好ましく、０．５質量部以上１０質量部以下の範囲内にあることがより好ましく、２質量部以上８質量部以下の範囲内にあることが更に好ましく、２質量部以上６質量部以下の範囲内にあることが最も好ましい。

　粒子の添加量が上記範囲内にある場合、皺を均一に生じさせる効果が特に大きい。粒子の添加量が多くなり過ぎると、第１光沢調整層５からの粒子の脱落を生じ易く、高い耐傷性を実現することが難しくなる場合がある。

　＜１．７＞第２光沢調整層
　第２光沢調整層６は、第１光沢調整層５の上面を部分的に被覆している。第２光沢調整層６は、第１光沢調整層５とともに、表面保護層を構成している。

　第２光沢調整層６は、第１光沢調整層５を間に挟んで、柄インキ層４と向き合っている。第２光沢調整層６は、柄インキ層４と形状及び位置が一致している。

　なお、ここでは、第２光沢調整層６は、柄インキ層４と形状及び位置が完全に一致しているが、他の構成を採用することもできる。例えば、厚さ方向に対して垂直な平面への柄インキ層４の正射影は、上記平面への第２光沢調整層６の正射影の輪郭から少なくとも部分的に離間し且つこの輪郭の内側に位置していてもよい。

　また、ここでは、柄インキ層４は単一の印刷パターンからなるが、色が異なる複数の印刷パターンから柄インキ層４がなる場合、第２光沢調整層６は、これら印刷パターンの組み合わせと形状及び位置が一致していてもよい。或いは、この場合、第２光沢調整層６は、これら印刷パターンの１つ又は２以上の組み合わせと形状及び位置が一致し、残りの印刷パターンは第２光沢調整層６と正対しない位置に設けられていてもよい。

　厚さ方向に対して垂直な平面への第２光沢調整層６の正射影は、その面積の好ましくは５０％以上が、より好ましくは７０％以上が、更に好ましくは９０％以上が、この第２光沢調整層６と形状及び位置が一致している１つの印刷パターン又は２以上の印刷パターンの組み合わせの上記平面への正射影と重なり合っていることが好ましい。

　第２光沢調整層６は、第１光沢調整層５と比較して、鏡面光沢度ＧＳ（６０°）がより高い。第２光沢調整層６の鏡面光沢度ＧＳ（６０°）は、４以上であることが好ましく、６以上であることがより好ましく、８以上であることが更に好ましい。第２光沢調整層６の鏡面光沢度ＧＳ（６０°）は、一例によれば３０以下である。

　第１光沢調整層５の鏡面光沢度ＧＳ（６０°）と第２光沢調整層６の鏡面光沢度ＧＳ（６０°）との差は、１以上であることが好ましく、２以上であることがより好ましく、３以上であることが更に好ましい。この差は、一例によれば、５以下である。

　第２光沢調整層６は、樹脂硬化物として、第２電離放射線硬化性樹脂の硬化物を含んでいる。ここで、「電離放射線」は、上記のとおりであり、電子線などの荷電粒子線である。第２電離放射線硬化性樹脂は、電離放射線の照射によって硬化する。また、第２電離放射線硬化性樹脂は、紫外光照射によっても硬化し得る。

　第２電離放射線硬化性樹脂は、電離放射線硬化性官能基を有する樹脂である。電離放射線硬化性官能基としては、アクリロイル基、メタクリロイル基、ビニル基、アリル基等のエチレン性不飽和結合基、及びエポキシ基、オキセタニル基等が挙げられる。第２電離放射線硬化性樹脂としては、各種モノマーや市販されているオリゴマーなど、公知のものを用いることができ、例えば、（メタ）アクリル系樹脂、シリコーン系樹脂、ポリエステル系樹脂、ウレタン系樹脂、アミド系樹脂、又は、エポキシ系樹脂を使用できる。第２電離放射線硬化性樹脂は、水系樹脂又は非水系（有機溶剤系）樹脂の何れであってもよい。第２電離放射線硬化性樹脂は、無溶剤であってもよい。

　耐傷性の観点からは、第２電離放射線硬化性樹脂の主成分は、例えば、アクリレートであってよい。ここで、主成分とは、構成する樹脂成分１００質量部に対し６０質量部以上、より好ましくは７０質量部以上、最も好ましくは８０質量部以上含むことを指す。

　アクリレートは、２官能以上のアクリレートであってよく、３官能以上のアクリレートであってよい。耐傷性の観点からは、アクリレートは３官能以上であることが好ましい。アクリレートの官能基数に上限はないが、一例によれば６官能以下である。

　第２電離放射線硬化性樹脂は、アクリレートを含んでいる場合、メタクリレートを更に含んでいてもよい。例えば、第２電離放射線硬化性樹脂は、アクリレートとメタクリレートとの第２混合物であって、第１混合物と比較して、アクリロイル基のモル数とメタクリロイル基のモル数との合計に占めるメタクリロイル基のモル数の割合がより小さい第２混合物であってもよい。第２混合物における上記割合は、例えば、第１混合物における上記割合の９０％以下であってよく、あるいは８０％以下であってよい。

　第２光沢調整層６は、上述した粒子を更に含むことができる。第２光沢調整層６が粒子を含む場合、第２光沢調整層６に含まれる粒子の量は、樹脂硬化物１００質量部に対して、０．５質量％以上２０質量％以下の範囲内にあることが好ましく、０．５質量部以上１０質量部以下の範囲内にあることがより好ましく、２質量部以上８質量部以下の範囲内にあることが更に好ましく、２質量部以上６質量部以下の範囲内にあることが最も好ましい。

　粒子の添加量が上記範囲内にある場合、耐傷性を向上する効果が特に大きい。粒子の添加量が多くなり過ぎると、第２光沢調整層６からの粒子の脱落を生じ易く、高い耐傷性を実現することが難しくなる場合がある。

　第２光沢調整層６の厚さは、２μｍ以上２０μｍ以下の範囲内とすることが好ましく３μｍ以上２０μｍ以下の範囲内とすることがより好ましく５μｍ以上１５μｍ以下の範囲内とすることが更に好ましい。第２光沢調整層６の厚さを小さくすると、耐傷性が低下する。第２光沢調整層６の厚さを大きくすると、化粧シート１の加工性が低下し、折り曲げ加工した場合に白化し易くなる。

　＜２＞化粧シートの製造方法
　化粧シート１は、例えば、以下の方法により製造する。
　先ず、原反層２の一方の面に、ベタインキ層３を形成する。ベタインキ層３は、例えば、グラビア印刷法、オフセット印刷法、スクリーン印刷法、静電印刷法、インクジェット印刷法等の各種印刷法や、ロールコート法、ナイフコート法、マイクログラビアコート法、ダイコート法等の各種コーティング法によって形成することができる。

　次に、ベタインキ層３上に、柄インキ層４を形成する。柄インキ層４は、例えば、グラビア印刷法、オフセット印刷法、スクリーン印刷法、静電印刷法、インクジェット印刷法等の各種印刷法によって形成することができる。これらの中でも、グラビア印刷法は、比較的高速対応が可能なことから、コスト面でも有利であり好ましい。

　次いで、原反層２の上記面に、第１光沢調整層用塗液からなる第１塗膜を、ベタインキ層３及び柄インキ層４を被覆するように形成する。この第１塗膜は、例えば、グラビア印刷法、オフセット印刷法、スクリーン印刷法、静電印刷法、インクジェット印刷法等の各種印刷法や、ロールコート法、ナイフコート法、マイクログラビアコート法、ダイコート法等の各種コーティング法によって形成することができる。

　第１光沢調整層用塗液は、上述の第１電離放射線硬化性樹脂を含んでいる。上記の通り、第１電離放射線硬化性樹脂は、アクリレートとメタクリレートとの第１混合物である。

　第１光沢調整層用塗液は、他の成分、例えば、上述の粒子、溶媒、及び、最終製品の機能向上のための添加剤、例えば、抗菌剤及び防カビ剤の１以上を更に含むことができる。第１光沢調整層用塗液は、紫外線吸収剤及び光安定剤等の他の添加剤を更に含むことができる。紫外線吸収剤としては、例えば、ベンゾトリアゾール系、ベンゾエート系、ベンゾフェノン系、トリアジン系等を使用することができる。光安定剤としては、例えば、ヒンダードアミン系等を使用することができる。

　後述する第３照射工程において、第１塗膜を紫外光照射によって完全硬化させる場合、第１光沢調整層用塗液は光開始剤を更に含んでいることが好ましい。光開始剤としては、特に限定されるものではないが、例えば、ベンゾフェノン系、アセトフェノン系、ベンゾインエーテル系、チオキサントン系光開始剤等が挙げられる。

　次に、第１塗膜へ電離放射線又は紫外光を照射して、第１塗膜を半硬化させる。ここで、「半硬化」は、塗膜が固体となっているにも関わらず、アクリロイル基及びメタクリロイル基由来のＣ＝Ｃ結合が十分に残っている状態を意味する。第１塗膜の半硬化では、例えば、以下に記載する第１照射工程及び第２照射工程を順次実施する。

　第１照射工程では、第１塗膜へ第１放射線を照射する。第１放射線は、波長が２００ｎｍ以下の光である。

　第１光沢調整層用塗液が含んでいる第１電離放射線硬化性樹脂は、第１放射線に対する吸収係数が大きい。それ故、第１塗膜に入射した第１放射線は、その最表面からの距離が数十乃至数百ｎｍの位置までしか到達できない。従って、第１照射工程では、第１塗膜の表面領域において架橋反応が進行して極めて薄い硬化膜が形成される一方、他の領域では架橋反応が進行せずに未硬化のままとなる。

　第１照射工程後の第１塗膜は、畝状部５Ｂに対応した皺を表面に有している。本発明者らは、第１照射工程によって塗膜表面に皺を生じる理由を以下のように考えている。

　上記の通り、第１放射線は、第１塗膜の最表面からの距離が数十乃至数百ｎｍの位置までしか到達できない。即ち、第１電離放射線硬化性樹脂の架橋反応は、第１塗膜の表面においてのみ生じ、最表面からの距離が数十乃至数百ｎｍより離れた領域は未硬化であり、流動性の高い分子が存在することとなる。そうした流動性の高い分子は、硬化膜を膨潤させることで、硬化膜の体積を増加させる。面内方向への体積増加によって生じる面内圧縮応力に対して、硬化膜が座屈することにより、第１塗膜の表面に皴が生じる。

　第１放射線は、エキシマＶＵＶ（Vacuum Ultra Violet）光より取り出すことができる。エキシマＶＵＶ光は、希ガスや希ガスハライド化合物を使用したランプから生み出すことができる。希ガスや希ガスハライド化合物のガスが封じられたランプに外部から高いエネルギーを有する電子を与えると、放電プラズマ（誘電体バリア放電）が多数発生する。このプラズマ放電により、放電ガス（希ガス）の原子が励起され、瞬間的にエキシマ状態となる。このエキシマ状態から基底状態に戻るときに、そのエキシマ特有の波長領域の光を発する。

　エキシマランプに用いるガスは、２００ｎｍ以下の光を発するものであれば、従来用いられた何れのガスであってもよい。ガスとしては、Ｘｅ、Ａｒ、Ｋｒ等の希ガスや、ＡｒＢｒ、ＡｒＦ等の希ガスとハロゲンガスとの混合ガスを用いることができる。エキシマランプは、ガスによって波長（中心波長）が異なり、例えば約１７２ｎｍ（Ｘｅ）、約１２６ｎｍ（Ａｒ）、約１４６ｎｍ（Ｋｒ）、約１６５ｎｍ（ＡｒＢｒ）、約１９３ｎｍ（ＡｒＦ）等の波長を有する。

　光子エネルギーの大きさや、波長と有機物の結合エネルギーとの差を考慮すると、中心波長が１７２ｎｍのエキシマ光を発するキセノンランプを光源として用いることが好ましい。また、設備維持にかかるコストや材料の入手等を考慮しても、キセノンランプを光源として用いることが好ましい。

　第１照射工程は、酸素濃度が低い雰囲気下で行う。酸素は、２００ｎｍ以下の光に対する吸光係数が大きい。従って、第１照射工程は、例えば、窒素ガス雰囲気下で行うことが好ましい。第１照射工程における気相中の酸素濃度、即ち、反応雰囲気中の残留酸素濃度は、２０００ｐｐｍ以下とすることが好ましく、１０００ｐｐｍ以下とすることがより好ましい。

　また、雰囲気中の酸素は、ラジカル重合を阻害する。それ故、反応雰囲気中の残留酸素濃度は、第２塗膜表面への皺の形成に影響を及ぼす。それ故、反応雰囲気中の残留酸素濃度を変化させると、第２光沢調整層６の表面性状も変化し得る。

　第１放射線の積算光量は、０．５ｍＪ／ｃｍ^２以上２００ｍＪ／ｃｍ^２以下の範囲内とすることが好ましく、１ｍＪ／ｃｍ^２以上１００ｍＪ／ｃｍ^２以下の範囲内とすることがより好ましく、３ｍＪ／ｃｍ^２以上５０ｍＪ／ｃｍ^２以下の範囲内とすることが更に好ましく、５ｍＪ／ｃｍ^２以上３０ｍＪ／ｃｍ^２以下の範囲内とすることが最も好ましい。積算光量を少なくすると、硬化膜の面内方向への膨張が小さくなる。積算光量を多くすると、第２塗膜の表面状態が劣化する。

　第２照射工程では、第１塗膜へ第２放射線を照射する。第２放射線は、例えば、電離放射線である。電離放射線は、上記の通り、電子線などの荷電粒子線である。第２放射線は、第１電離放射線硬化性樹脂が小さな吸収係数を示す紫外光であってもよい。第１塗膜へ照射する紫外光の波長は、２００ｎｍ超であることが好ましく、２３０ｎｍ以上４５０ｎｍ以下の範囲内にあることがより好ましく、２５０ｎｍ以上４００ｎｍ以下の範囲内にあることが更に好ましい。

　電離放射線又は上記の紫外光を第１塗膜へ照射すると、第１塗膜の厚さ全体に亘って略均一に硬化を進行させることができる。

　第１塗膜への第２放射線の照射は、第１塗膜の未反応率、即ち、第１放射線の照射前におけるＣ＝Ｃ結合の数に対する、第２放射線の照射後におけるＣ＝Ｃ結合の数の比が、５％以上８０％以下の範囲内になるように行うことが好ましく、１０％以上６０％以下の範囲内になるように行うことがより好ましく、１５％以上５０％以下の範囲内になるように行うことが更に好ましい。

　第１塗膜への第２放射線の照射は、第１塗膜を完全硬化させるのに必要な最小積算光量に対して、積算光量が３％以上３０％以下の範囲内になるように行うことが好ましく、５％以上２５％以下の範囲内になるように行うことがより好ましく、８％以上２０％以下の範囲内になるように行うことが更に好ましい。

　なお、第１塗膜を完全硬化させるのに必要な最小積算光量は、一例によれば１０ｍＪ／ｃｍ^２以上１０００ｍＪ／ｃｍ^２以下の範囲内にある。

　第１塗膜への第２放射線の照射は、第１塗膜を完全硬化させるのに必要な最小吸収線量に対して、吸収線量が０．２％以上５０％以下の範囲内になるように行うことが好ましく、０．５％以上４０％以下の範囲内になるように行うことがより好ましく、１％以上３０％以下の範囲内になるように行うことが更に好ましい。

　なお、第１塗膜を完全硬化させるのに必要な最小吸収線量は、一例によれば５ｋＧｙ以上２００ｋＧｙ以下の範囲内にある。

　上記の通り、第１電離放射線硬化性樹脂は、アクリレートに加えて、メタクリレートを更に含んでいる。メタクリレートは、第１放射線照射による架橋反応の速度を低下させて、所望の硬化状態を達成可能とするプロセスウィンドウを広くする。

　次に、半硬化させた第１塗膜の上に、第２光沢調整層用塗液からなる第２塗膜を形成する。第２塗膜は、第１塗膜の上面を部分的に被覆するように形成する。具体的には、第２塗膜は、第１塗膜を間に挟んで柄インキ層４と向き合うように形成する。第２塗膜は、例えば、グラビア印刷法、オフセット印刷法、スクリーン印刷法、静電印刷法、インクジェット印刷法等の各種印刷法によって形成することができる。これらの中でも、グラビア印刷法が好ましい。

　第２光沢調整層用塗液は、上述の第２電離放射線硬化性樹脂を含んでいる。上記の通り、第２電離放射線硬化性樹脂は、電離放射線硬化性官能基を有する樹脂であればよい。第２電離放射線硬化性樹脂は、一例によれば、アクリレートである。また、第２電離放射線硬化性樹脂は、他の例によれば、アクリレートとメタクリレートとの第２混合物であって、第１混合物と比較して、アクリロイル基のモル数とメタクリロイル基のモル数との合計に占めるメタクリロイル基のモル数の割合がより小さい第２混合物である。

　第２光沢調整層用塗液は、他の成分、例えば、上述の粒子、溶媒、及び、最終製品の機能向上のための添加剤、例えば、抗菌剤及び防カビ剤の１以上を更に含むことができる。第２光沢調整層用塗液は、紫外線吸収剤及び光安定剤等の他の添加剤を更に含むことができる。紫外線吸収剤としては、例えば、ベンゾトリアゾール系、ベンゾエート系、ベンゾフェノン系、トリアジン系等を使用することができる。光安定剤としては、例えば、ヒンダードアミン系等を使用することができる。

　次に、第１塗膜及び第２塗膜へ電離放射線又は紫外光を照射して、第１塗膜及び第２塗膜を完全硬化させる。例えば、以下に記載する第３照射工程を実施する。

　第３照射工程では、第１塗膜及び第２塗膜へ第３放射線を照射する。第３放射線は、電離放射線であるか、又は、第１照射工程において照射した光と比較して波長がより長い紫外光である。第３放射線には、第１放射線について上述したものを利用することができる。

　第３照射工程では、第１塗膜及び第２塗膜の各々において、その厚さ全体に亘って架橋反応が進行する。第３照射工程を開始する時点で、第１塗膜は半硬化状態にあるので、第１塗膜と第２塗膜とが接触している部分では、第１塗膜が含む分子と第２塗膜が含む分子との間での架橋反応も生じ得る。従って、第１光沢調整層５と第２光沢調整層６との間で高い密着性を達成することができる。また、第３照射工程では、第２塗膜の厚さ全体に亘って略均一に硬化を進行させることができるため、上述した第１塗膜とは異なり、完全硬化後の第２塗膜は、表面に凹凸を有していない。

　第３放射線の積算光量は、１０ｍＪ／ｃｍ^２以上５００ｍＪ／ｃｍ^２以下の範囲内とすることが好ましく、５０ｍＪ／ｃｍ^２以上４００ｍＪ／ｃｍ^２以下の範囲内とすることがより好ましく、１００ｍＪ／ｃｍ^２以上３００ｍＪ／ｃｍ^２以下の範囲内とすることが更に好ましい。

　第３放射線の照射は、吸収線量が、５ｋＧｙ以上２００ｋＧｙ以下の範囲内になるように行うことが好ましく、１０ｋＧｙ以上１５０ｋＧｙ以下の範囲内になるように行うことがより好ましく、１５ｋＧｙ以上１００ｋＧｙ以下の範囲内になるように行うことが更に好ましい。

　第３照射工程では、単一種類の放射線の照射だけでは十分な強度を有する層が得られない場合、第３放射線の種類を変更しながら行ってもよい。例えば、先ず、電離放射線の照射を行い、次いで、第１照射工程において照射した光と比較して波長がより長い紫外光の照射を行ってもよい。或いは、先ず、第１照射工程において照射した光と比較して波長がより長い紫外光の照射を行い、次いで、電離放射線の照射を行ってもよい。或いは、先ず、第１照射工程において照射した光と比較して波長がより長い紫外光の照射を行い、次いで、波長が更に長い紫外光の照射を行ってもよい。

　以上のようにして、化粧シート１を得る。なお、上記の方法によって得られる化粧シート１では、コア部６Ａと畝状部６Ｂとの間に界面は存在しておらず、それらは一体に形成されている。

　＜３＞効果
　上記の化粧シート１は、第１光沢調整層５と、これを部分的に被覆した第２光沢調整層６とを含んでいる。第１光沢調整層５と第２光沢調整層６とは、鏡面光沢度ＧＳ（６０°）が異なっている。ここでは、第２光沢調整層６は、第１光沢調整層５と比較して鏡面光沢度ＧＳ（６０°）がより高い。特に、第１光沢調整層５として、上述した表面性状を有しているものを形成した場合、第１光沢調整層５の鏡面光沢度ＧＳ（６０°）と第２光沢調整層６の鏡面光沢度ＧＳ（６０°）との差を大きくすることができる。これらの光沢度の相違は、凹凸様の立体感の表現に寄与し得る。

　また、化粧シート１では、第２光沢調整層６は、柄インキ層４と形状及び位置が一致している。それ故、化粧シート１は、柄インキ層４に対応した部分を凸部とし、他の部分を凹部とした凹凸様の立体感を表現し得る。従って、この化粧シート１は、ベタインキ層３の色と柄インキ層４の色とを適宜選択することにより、例えば、天然木や天然石に近い高級感のある意匠表現が可能である。

　更に、化粧シート１では、第１光沢調整層５は、樹脂硬化物として第１電離放射線硬化性樹脂の硬化物を含み、第１電離放射線硬化性樹脂はアクリレートとメタクリレートとの第１混合物である。アクリレートは耐傷性の向上に寄与し、メタクリレートは第１光沢調整層５と第２光沢調整層６との間の密着性向上に寄与する。それ故、化粧シート１は、耐傷性及び光沢調整層間の密着性に優れている。

　また、上述した方法によって第１光沢調整層５の上面に生じさせた畝状部５Ｂを含んだ凹凸構造は、エンボス加工等の機械的な加工により形成した凹凸構造と比較して微細である。化粧シート１は、このような微細な凹凸構造が第１光沢調整層５の上面に設けられているので、マット感を有するとともに、耐指紋性に優れている。

　＜４＞変形例
　化粧シート１には、様々な変形が可能である。

　例えば、第２光沢調整層６は、ベタインキ層３のうち柄インキ層４によって被覆されていない部分と形状及び位置が一致していてもよい。このように変形した化粧シート１は、柄インキ層４に対応した部分を凹部とし、他の部分を凸部とした凹凸様の立体感を表現し得る。

　上記の化粧シート１では、第１光沢調整層５の上面に設けられた凸部は畝状である。これら凸部は畝状でなくてもよい。例えば、これら凸部の各々は、粒子の一部であってもよい。

　上記の化粧シート１では、第２光沢調整層６の上面は平坦である。光沢度について上述した関係が維持される限り、この領域に凹凸構造を設けてもよい。この凹凸構造は、畝状部５Ｂについて上述したのと類似した構造であってもよく、粒子の一部から各々がなる複数の凸部を並べた構造であってもよい。

　以下に、本発明の例を記載する。なお、以下に記載する「粒径」は、上記の「平均粒径（Ｄ５０）」である。

　＜例１＞
　図１乃至図４を参照しながら説明した化粧シート１を、以下の方法により製造した。
　先ず、坪量５０ｇ／ｍ^２の含浸紙（ＧＦＲ－５０６：興人（株）製）を、原反層２として準備した。原反層２の一方の面に対して、油性硝化綿樹脂系グラビア印刷インキ（ＰＣＮＴ（ＰＣＲＮＴ）各色：東洋インキ（株）製）を使用して、ベタインキ層３と柄インキ層４とをこの順に形成した。柄インキ層４の柄模様は、木目柄とした。

　次いで、ベタインキ層３及び柄インキ層４の上に、以下の組成を有する第１光沢調整層用塗液を塗布した。第１光沢調整層用塗液は、第１光沢調整層５の厚さが５μｍとなるように塗布した。

　（第１光沢調整層用塗液）
　・電離放射線硬化性樹脂Ｒ１
　　種類：トリメチロールプロパンＥＯ変性トリアクリレート（ＥＯ３モル付加）
　　品名：Ｍｉｒａｍｅｒ　Ｍ３１３０（Ｍｉｗｏｎ社製）
　　配合：５０質量部
　・電離放射線硬化性樹脂Ｒ２
　　種類：メトキシポリエチレングルコール（４００）メタクリレート
　　品名：ＮＫエステル　Ｍ－９０Ｇ（新中村化学社製）
　　配合：５０質量部
　・粒子
　　品名：サイリシア２５０Ｎ（富士シリシア化学社製）
　　粒径：５μｍ
　　配合：０．５質量部

　その後、第１照射工程を実施した。具体的には、大気圧下、酸素濃度が５００ｐｐｍの窒素ガス雰囲気中で、第１光沢調整層用塗液からなる第１塗膜の表面に対して、Ｘｅエキシマランプを用いて、波長１７２ｎｍの紫外光を積算光量が５０ｍＪ／ｃｍ^２となるように照射した。これにより、第１塗膜の表面に皺を生じさせた。

　続いて、第２照射工程を実施した。具体的には、第１塗膜へ電離放射線として電子線を、第１塗膜の吸収線量が５ｋＧｙとなるように照射した。これにより、第１塗膜を半硬化させた。

　続いて、第１塗膜のうち柄インキ層４に対応した部分の上に、以下の組成を有する第２光沢調整層用塗液を印刷した。第２光沢調整層用塗液は、第２光沢調整層６の厚さが５μｍとなるように印刷した。

　（第２光沢調整層用塗液）
　・電離放射線硬化性樹脂Ｒ
　　種類：トリメチロールプロパンＥＯ変性トリアクリレート（ＥＯ３モル付加）
　　品名：Ｍｉｒａｍｅｒ　Ｍ３１３０（Ｍｉｗｏｎ社製）
　　配合：１００質量部
　・粒子
　　品名：サイリシア２５０Ｎ（富士シリシア化学社製）
　　粒径：５μｍ
　　配合：２０質量部

　続いて、第３照射工程を実施した。具体的には、第１及び第２塗膜へ電離放射線を１００ｋＧｙ照射して、それらの全体を完全硬化させることで、第１光沢調整層５及び第２光沢調整層６を形成した。
　以上のようにして、化粧シート１を得た。

　＜例２＞
　第１光沢調整層用塗液において、電離放射線硬化性樹脂Ｒ１の配合を８０質量部とし、電離放射線硬化性樹脂Ｒ２の配合を２０質量部としたこと以外は例１と同様の方法により、図１乃至図４を参照しながら説明した化粧シート１を製造した。

　＜例３＞
　第１光沢調整層用塗液において、電離放射線硬化性樹脂Ｒ１の配合を９０質量部とし、電離放射線硬化性樹脂Ｒ２の配合を１０質量部としたこと以外は例１と同様の方法により、図１乃至図４を参照しながら説明した化粧シート１を製造した。

　＜例４＞
　電離放射線硬化性樹脂Ｒ２として以下の樹脂を使用し、第１光沢調整層用塗液において、電離放射線硬化性樹脂Ｒ１の配合を９０質量部とし、電離放射線硬化性樹脂Ｒ２の配合を１０質量部としたこと以外は例１と同様の方法により、図１乃至図４を参照しながら説明した化粧シート１を製造した。

　・電離放射線硬化性樹脂Ｒ２
　　種類：イソボルニルメタクリレート
　　品名：ライトエステルＩＢ－Ｘ（共栄社化学社製）

　＜例５＞
　第１光沢調整層用塗液において、電離放射線硬化性樹脂Ｒ２として以下の樹脂を使用したこと以外は例１と同様の方法により、図１乃至図４を参照しながら説明した化粧シート１を製造した。

　・電離放射線硬化性樹脂Ｒ２
　　種類：ＥＯ変性ビスフェノールＡジメタクリレート（ＥＯ１０モル付加）
　　品名：ＮＫエステル　ＢＰＥ－５００（新中村化学社製）

　＜例６＞
　電離放射線硬化性樹脂Ｒ２として以下の樹脂を使用し、第１光沢調整層用塗液において、電離放射線硬化性樹脂Ｒ１の配合を８０質量部とし、電離放射線硬化性樹脂Ｒ２の配合を２０質量部としたこと以外は例１と同様の方法により、図１乃至図４を参照しながら説明した化粧シート１を製造した。

　・電離放射線硬化性樹脂Ｒ２
　　種類：ＥＯ変性ビスフェノールＡジメタクリレート（ＥＯ１０モル付加）
　　品名：ＮＫエステル　ＢＰＥ－５００（新中村化学社製）

　＜例７＞
　電離放射線硬化性樹脂Ｒ２として以下の樹脂を使用し、第１光沢調整層用塗液において、電離放射線硬化性樹脂Ｒ１の配合を９０質量部とし、電離放射線硬化性樹脂Ｒ２の配合を１０質量部としたこと以外は例１と同様の方法により、図１乃至図４を参照しながら説明した化粧シート１を製造した。

　・電離放射線硬化性樹脂Ｒ２
　　種類：ＥＯ変性ビスフェノールＡジメタクリレート（ＥＯ１０モル付加）
　　品名：ＮＫエステル　ＢＰＥ－５００（新中村化学社製）

　＜例８＞
　電離放射線硬化性樹脂Ｒ２として以下の樹脂を使用し、第１光沢調整層用塗液において、電離放射線硬化性樹脂Ｒ１の配合を８０質量部とし、電離放射線硬化性樹脂Ｒ２の配合を２０質量部としたこと以外は例１と同様の方法により、図１乃至図４を参照しながら説明した化粧シート１を製造した。

　・電離放射線硬化性樹脂Ｒ２
　　種類：ポリエチレングリコール（２００）ジメタクリレート
　　品名：ＮＫエステル　４Ｇ（新中村化学社製）

　＜例９＞
　第１光沢調整層用塗液において、電離放射線硬化性樹脂Ｒ２として以下の樹脂を使用したこと以外は例１と同様の方法により、図１乃至図４を参照しながら説明した化粧シート１を製造した。

　・電離放射線硬化性樹脂Ｒ２
　　種類：トリメチロールプロパンＥＯ変性トリメタクリレート（ＥＯ３モル付加）
　　品名：ＮＫエステル　ＴＭＰＴ－３ＥＯ（新中村化学社製）

　＜例１０＞
　第１光沢調整層用塗液において、電離放射線硬化性樹脂Ｒ２として以下の樹脂を使用したこと以外は例１と同様の方法により、図１乃至図４を参照しながら説明した化粧シート１を製造した。

　・電離放射線硬化性樹脂Ｒ２
　　種類：トリメチロールプロパンＰＯ変性トリメタクリレート（ＰＯ３モル付加）
　　品名：ＮＫエステル　ＴＭＰＴ－３ＰＯ（新中村化学社製）

　＜例１１＞
　第１光沢調整層用塗液における粒子の量を２０質量部とし、第一照射工程を省略したことと、第２光沢調整層用塗液における粒子の量を１５質量部としたこと以外は例１と同様の方法により、図１乃至図４を参照しながら説明した化粧シート１を製造した。

　＜例１２＞
　第１光沢調整層用塗液において、電離放射線硬化性樹脂Ｒ１として以下の樹脂を使用したこと以外は例１と同様の方法により、図１乃至図４を参照しながら説明した化粧シート１を製造した。
　・電離放射線硬化性樹脂Ｒ１
　　種類：トリメチロールプロパンＥＯ変性トリアクリレート（ＥＯ９モル付加）
　　品名：Ｍｉｒａｍｅｒ　Ｍ３１９０（Ｍｉｗｏｎ社製）

　＜例１３＞
　第２光沢調整層用塗液において、電離放射線硬化性樹脂Ｒとして以下の樹脂２種を使用したこと以外は例１と同様の方法により、図１乃至図４を参照しながら説明した化粧シート１を製造した。
　・アクリレート樹脂１
　　種類：トリメチロールプロパンＥＯ変性トリアクリレート（ＥＯ３モル付加）
　　品名：Ｍｉｒａｍｅｒ　Ｍ３１３０（Ｍｉｗｏｎ社製）
　　配合：５０質量部
　・アクリレート樹脂２
　　種類：ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート
　　品名：ＮＫエステルＡ－ＤＰＨ（新中村化学社製）
　　配合：５０質量部

　＜例１４＞
　第１光沢調整層用塗液における粒子の量を０質量部としたこと以外は例１と同様の方法により、図１乃至図４を参照しながら説明した化粧シート１を製造した。

　＜例１５＞
　第１光沢調整層用塗液における粒子の量を１０質量部としたこと以外は例１と同様の方法により、図１乃至図４を参照しながら説明した化粧シート１を製造した。

　＜例１６＞
　第１光沢調整層用塗液における粒子の量を２０質量部としたこと以外は例１と同様の方法により、図１乃至図４を参照しながら説明した化粧シート１を製造した。

　＜例１７＞
　第１光沢調整層５の厚みを1μｍにしたことと、第２光沢調整層用塗液における粒子の量を１５質量部としたこと以外は例１と同様の方法により、図１乃至図４を参照しながら説明した化粧シート１を製造した。

　＜例１８＞
　第１光沢調整層５の厚みを２μｍにしたこと以外は例１と同様の方法により、図１乃至図４を参照しながら説明した化粧シート１を製造した。

　＜例１９＞
　第１光沢調整層５の厚みを２０μｍにしたこと以外は例１と同様の方法により、図１乃至図４を参照しながら説明した化粧シート１を製造した。

　＜例２０＞
　第１光沢調整層５の厚みを２５μｍにしたこと以外は例１と同様の方法により、図１乃至図４を参照しながら説明した化粧シート１を製造した。

　＜例２１＞
　第１光沢調整層用塗液における粒子の粒径を３μｍにしたこと以外は例１と同様の方法により、図１乃至図４を参照しながら説明した化粧シート１を製造した。

　＜例２２＞
　第１光沢調整層用塗液における粒子の粒径を１０μｍにしたこと以外は例１と同様の方法により、図１乃至図４を参照しながら説明した化粧シート１を製造した。

　＜例２３＞
　第１光沢調整層用塗液に電離放射線硬化性樹脂Ｒ１として以下の樹脂２種を使用したこと以外は例１と同様の方法により、図１乃至図４を参照しながら説明した化粧シート１を製造した。
（第１光沢調整層用塗液）
　・アクリレート１
　　トリメチロールプロパンＥＯ変性トリアクリレート（ＥＯ６モル付加）
　　品名：Ｍｉｒａｍｅｒ　Ｍ３１６０（Ｍｉｗｏｎ社製）
　　配合：２５質量部
　・アクリレート２
　　種類：ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート
　　品名：Ｍｉｒａｍｅｒ　Ｍ６００（Ｍｉｗｏｎ社製）
　　配合：２５質量部

　＜例２４＞
　第１光沢調整層用塗液に電離放射線硬化性樹脂Ｒ１として以下の樹脂２種を使用したこと以外は例１と同様の方法により、図１乃至図４を参照しながら説明した化粧シート１を製造した。
（第１光沢調整層用塗液）
　・アクリレート１
　　トリメチロールプロパンＥＯ変性トリアクリレート（ＥＯ６モル付加）
　　品名：Ｍｉｒａｍｅｒ　Ｍ３１６０（Ｍｉｗｏｎ社製）
　　配合：２５質量部
　・アクリレート２
　　種類：エトキシ化ペンタエリスリトールテトラアクリレート（ＥＯ３５モル付加）
　　品名：ＮＫエステルＡＴＭ－３５Ｅ（新中村化学社製）
　　配合：２５質量部

　＜比較例１＞
　第１光沢調整層用塗液において、電離放射線硬化性樹脂Ｒ１の配合を１００質量部とし、電離放射線硬化性樹脂Ｒ２を省略したこと以外は例１と同様の方法により、図１乃至図４を参照しながら説明したのと類似した化粧シートを製造した。

　＜比較例２＞
　第１光沢調整層用塗液において、電離放射線硬化性樹脂Ｒ２の配合を１００質量部とし、電離放射線硬化性樹脂Ｒ１を省略したこと以外は例１と同様の方法により、図１乃至図４を参照しながら説明したのと類似した化粧シートを製造した。

　＜評価＞
　上記の化粧シートの各々に対し、以下に記載する評価を行った。なお、「ＡＡＡ」、「ＡＡ」又は「Ａ」と評価したものは、実際に使用する上で問題がないため、合格とした。

　（１）光沢調整層の厚さ
　第１光沢調整層の厚さを、上述したのと同様の方法により測定した。
　具体的には、化粧シートを冷間硬化タイプのエポキシ樹脂やＵＶ硬化性樹脂などの樹脂に包埋し、樹脂を十分に硬化させた。次いで、これを化粧シートの断面が現れるように切断し、機械研磨を施すことによって測定面を得た。

　続いて、カールツァイスマイクロスコピー社製の走査型電子顕微鏡ＳＩＧＭＡ５００を使用して、第１光沢調整層の断面を撮像した。この撮像に際しては、加速電圧を０．５ｋｅＶ（低加速電圧）とし、撮影モードはＳＥ２モードとし、倍率は２０００倍とした。なお、測定サンプルへのスパッタは行わなかった。

　次に、この断面画像から、畝状部の幅方向における第１光沢調整層の寸法と、第１光沢調整層の断面の面積とを求めた。この面積を上記の寸法で割ることにより、第１光沢調整層の厚さを算出した。このようにして得られた厚さは、第１光沢調整層用塗液からなる塗膜の厚さと等しかった。　
　また、上記と同様の方法により、第２光沢調整層の厚さを測定した。

　（２）光沢度
　光沢度は、ｍｉｃｒｏ－ｇｌｏｓｓ６０°ｘｓ（ＢＹＫ社製）を用いて、鏡面光沢度ＧＳ（６０°）を測定した。以下の表１乃至表４における「６０度光沢値」は、この鏡面光沢度ＧＳ（６０°）を表している。

　（３）密着性
　第２光沢調整層の第１光沢調整層に対する密着性を、ＪＩＳ　Ｋ５４００（廃止）に規定された碁盤目試験によって評価した。ここでは、化粧シートの表面に、深さが第１光沢調整層と第２光沢調整層との界面を超える切れ目を、１ｍｍ間隔で格子状に形成した。これにより、碁盤目状に配列した１００個のマスを形成した。次いで、化粧シートの表面に粘着テープを貼り付け、続いて、粘着テープを化粧シートから剥離した。そして、化粧シートに残ったマスの数を数え、この数を以下の基準に参照することにより、密着性を評価した。

　　ＡＡＡ：残ったマスの数が１００個であった。
　　ＡＡ：残ったマスの数が９５個乃至９９個の範囲内にあった。
　　Ａ：残ったマスの数が９０個乃至９４個の範囲内にあった。
　　Ｂ：残ったマスの数が８９個以下であった。

　（４）耐傷性
　ウレタン系の接着剤を用いて、各化粧シートを木質基材Ｂに貼り付けた。その後、耐傷性評価として、スチールウールラビング試験を実施した。具体的には、１００ｇの荷重をかけながらスチールウールで化粧シートを２０往復擦り、化粧シートの表面に生じた傷や光沢の変化を目視にて確認した。

　評価基準は、下記の通りとした。
　　ＡＡＡ：表面に傷や光沢の変化が発生しなかった。
　　ＡＡ：表面の一部に軽微な傷や光沢の変化が発生した。
　　Ａ：表面に軽微な傷や光沢の変化が発生した。
　　Ｂ：表面に著しい傷や光沢の変化が発生した。

　（５）耐汚染性
　耐汚染性評価として、日本農林規格（ＪＡＳ：Japanese Agricultural Standards）に規定された汚染Ａ試験を行った。即ち、各化粧シートの表面保護層に、青色インキ、黒色速乾性インキ及び赤色クレヨンで各々の幅が１０ｍｍの線を引き、４時間放置した。その後、エタノールを含ませた布で、青色インキ、黒色速乾性インキ及び赤色クレヨンの線を拭き取った。

　評価基準は、下記の通りとした。
　　ＡＡＡ：各色の線を容易に拭き取ることができた。
　　ＡＡ：各色の線の一部を拭き取ることができたが、一部にわずかな汚れが残った。
　　　Ａ：各色の線の一部を拭き取ることができたが、一部に汚れが残った。
　　Ｂ：各色の線を拭き取ることができなかった。

　評価結果を表１乃至表３に示す。なお、表１乃至表３において、「メタクリロイル基のモル数の割合」は、アクリロイル基のモル数とメタクリロイル基のモル数との合計に占めるメタクリロイル基のモル数の割合を表している。

　表１乃至表４に示すように、例１乃至例２４に係る化粧シートは、密着性、耐傷性及び耐汚染性の全てについて十分な性能を示した。これに対し、比較例１に係るシートは、密着性が不十分であり、これに伴い耐傷性及び耐汚染性も不十分であった。また、比較例２に係るシートは、密着性について十分な性能を示したものの、耐傷性及び耐汚染性について性能が不十分であった。

　１…化粧シート、２…原反層、３…ベタインキ層、４…柄インキ層、５…第１光沢調整層、６…第２光沢調整層、６Ａ…コア部、６Ｂ…畝状部、１１…化粧材、Ｂ…基材、Ｃ…位置、Ｄ…位置。

Claims (15)

1. 　原反層と表面保護層とを備え、
   　前記表面保護層は、
   　　前記原反層の上に設けられ、樹脂硬化物として第１電離放射線硬化性樹脂の硬化物を含み、前記第１電離放射線硬化性樹脂はアクリレートとメタクリレートとの第１混合物である第１光沢調整層と、
   　　前記第１光沢調整層の上面を部分的に被覆し、樹脂硬化物として第２電離放射線硬化性樹脂の硬化物を含み、前記第１光沢調整層と比較して鏡面光沢度ＧＳ（６０°）がより高い第２光沢調整層とを含んだ化粧シート。
2. 　前記第１電離放射線硬化性樹脂において、アクリロイル基のモル数とメタクリロイル基のモル数との合計に占めるメタクリロイル基のモル数の割合は３％以上５０％以下の範囲内にある請求項１に記載の化粧シート。
3. 　前記メタクリレートは、単官能、２官能又は３官能のメタクリレートである請求項１又は２に記載の化粧シート。
4. 　前記第１光沢調整層の上面のうち、少なくとも前記第２光沢調整層によって被覆されていない部分に凹凸構造が設けられている請求項１乃至３の何れか１項に記載の化粧シート。
5. 　前記第２光沢調整層によって被覆された前記第１光沢調整層の上面にも凹凸構造が設けられている請求項４に記載の化粧シート。
6. 　前記凹凸構造が、各々が畝状に突出した複数の畝状部を含んでいる請求項４又は５に記載の化粧シート。
7. 　前記凹凸構造は、粗さ曲線要素の平均長さＲＳｍと算術平均粗さＲａとの比ＲＳｍ／Ｒａが１０以上９００以下の範囲内にある請求項４乃至６の何れか１項に記載の化粧シート。
8. 　前記第１光沢調整層及び前記第２光沢調整層の各々の厚さは２μｍ以上２０μｍ以下の範囲内にある請求項１乃至７の何れか１項に記載の化粧シート。
9. 　前記第１光沢調整層は、平均粒径が１０μｍ以下の粒子を更に含んだ請求項１乃至８の何れか１項に記載の化粧シート。
10. 　前記第１電離放射線硬化性樹脂の質量を１００質量部とした場合に、前記粒子の質量は０．５質量部以上２０質量部以下の範囲内にある請求項９に記載の化粧シート。
11. 　前記第１光沢調整層は鏡面光沢度ＧＳ（６０°）が１０以下であり、前記第２光沢調整層は鏡面光沢度ＧＳ（６０°）が４以上である請求項１乃至１０の何れか１項に記載の化粧シート。
12. 　前記第１光沢調整層の鏡面光沢度ＧＳ（６０°）と前記第２光沢調整層の鏡面光沢度ＧＳ（６０°）との差は１以上である請求項１乃至１１の何れか１項に記載の化粧シート。
13. 　請求項１乃至１２の何れか１項に記載の化粧シートと、
    　前記化粧シートが貼り付けられた基材と
    を備えた化粧材。
14. 　原反層の上に、樹脂として第１電離放射線硬化性樹脂を含み、前記第１電離放射線硬化性樹脂はアクリレートとメタクリレートとの第１混合物である第１塗膜を形成することと、
    　前記第１塗膜へ電離放射線又は紫外光を照射して、前記第１塗膜を半硬化させることと、
    　半硬化させた前記第１塗膜の上に、樹脂として第２電離放射線硬化性樹脂を含んだ第２塗膜を、前記第１塗膜の上面を部分的に被覆するように形成することと、
    　前記第１塗膜及び前記第２塗膜へ電離放射線又は紫外光を照射して、前記第１塗膜及び前記第２塗膜を完全硬化させることと
    を含み、
    　前記第１塗膜の半硬化は、前記第１塗膜へ波長が２００ｎｍ以下の光を照射する第１照射工程を含んだ化粧シートの製造方法。
15. 　前記第１塗膜の半硬化は、前記第１照射工程の後に、前記第１塗膜へ電離放射線を照射するか、又は、前記光と比較して波長がより長い紫外光を照射する第２照射工程を含んだ請求項１４に記載の化粧シートの製造方法。

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