WO2024018942A1

WO2024018942A1 - オレフィン変性含フッ素化合物の製造方法、及び、該化合物を含む組成物

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Publication number: WO2024018942A1
Application number: PCT/JP2023/025454
Authority: WO
Inventors: 真也高野; 孝史野村; 勉今野; 重之山田
Original assignee: Daikin Industries Ltd; Kyoto Institute of Technology NUC
Current assignee: Daikin Industries Ltd; Kyoto Institute of Technology NUC
Priority date: 2022-07-20
Filing date: 2023-07-10
Publication date: 2024-01-25
Anticipated expiration: 2025-01-20
Also published as: JPWO2024018942A1; CN119630632A

Abstract

式（１Ａ）で表される化合物又は式（１Ｂ）で表される化合物と、式（２）で表される化合物とを、ラジカル開始剤の存在下で反応させる、オレフィン変性含フッ素化合物の製造方法。式中、各記号は明細書の記載の通りである。Ｒ１Ａ－ＣＦＹ１－Ｘ１　・・・（１Ａ）Ｘ１－ＣＦＹ１－Ｒ１Ｂ－ＣＦＹ１－Ｘ１　・・・（１Ｂ）Ｒ２３Ｓｉ－（ＣＨ２）ｎ１－ＣＲ４＝ＣＲ５Ｒ６　・・・（２）

Description

オレフィン変性含フッ素化合物の製造方法、及び、該化合物を含む組成物

　本開示は、オレフィン変性含フッ素化合物の製造方法、及び、該化合物を含む組成物に関する。

　分子内にフッ素原子を有する含フッ素化合物は、例えば、撥水性、撥油性等の物性を有する層（以下、「表面処理層」と称することがある）の形成に寄与し得ることが知られている（例えば、特許文献１）。このような含フッ素化合物は、多くの用途で用いられている。含フッ素化合物の合成には、様々な検討が行われている。

特開２０２１－８０４４８号公報

　本開示は、含フッ素化合物であり、かつ、オレフィン構造を有する化合物（以下、「オレフィン変性含フッ素化合物」と称することがある）の新たな製造方法、及び、該化合物を含む組成物を提供することを目的とする。

　本開示は、以下の［１］～［１１］を提供するものである。
［１］　式（１Ａ）で表される化合物又は式（１Ｂ）で表される化合物と、式（２）で表される化合物とを、ラジカル開始剤の存在下で反応させる、オレフィン変性含フッ素化合物の製造方法。
Ｒ^１Ａ－ＣＦＹ^１－Ｘ^１　　　　・・・（１Ａ）
［式中：
　Ｒ^１Ａは、１価の有機基であり；
　Ｙ^１は、水素原子、又は、ハロゲン原子であり；
　Ｘ^１は、フッ素原子以外のハロゲン原子である。]
Ｘ^１－ＣＦＹ^１－Ｒ^１Ｂ－ＣＦＹ^１－Ｘ^１　　　　・・・（１Ｂ）
［式中：
　Ｒ^１Ｂは、２価の有機基であり；
　Ｙ^１は、それぞれ独立して、水素原子、又は、ハロゲン原子であり；
　Ｘ^１は、それぞれ独立して、フッ素原子以外のハロゲン原子である。]
Ｒ^２ _３Ｓｉ－（ＣＨ_２）_ｎ１－ＣＲ^４＝ＣＲ^５Ｒ^６　　　・・・（２）
［式中：
　Ｒ^２は、それぞれ独立して、Ｒ^２１ _３Ｓｉ－を含む１価の基であり；
　　Ｒ^２１は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子、又は、Ｃ_１－１２アルキル基であり；
　　前記Ｃ_１－１２アルキル基は、ハロゲン原子により置換されていてもよく；
　ｎ１は、１～１０の整数であり；
　Ｒ^４、Ｒ^５及びＲ^６は、それぞれ独立して、水素原子、又は、Ｃ_１－１０アルキル基である。］
［２］　前記Ｙ^１は、フッ素原子である、［１］に記載の製造方法。
［３］　前記Ｘ^１は、臭素原子、又は、ヨウ素原子である、［１］又は［２］に記載の製造方法。
［４］　前記Ｒ^１Ａは、Ｒｆ^１－Ｒ^Ｆ１－（Ｏ）_ｎ２１－で表され；
　Ｒｆ^１は、１個以上のフッ素原子で置換されていてもよいＣ_１－１６アルキル基であり；
　Ｒ^Ｆ１は、式：
－（ＯＣ_６Ｆ_１２）_ａ１－（ＯＣ_５Ｆ_１０）_ｂ１－（ＯＣ_４Ｆ_８）_ｃ１－（ＯＣ_３Ｒ^Ｆａ _６）_ｄ１－（ＯＣ_２Ｆ_４）_ｅ１－（ＯＣＦ_２）_ｆ１－
で表される基であり；
　　ａ１、ｂ１、ｃ１、ｄ１、ｅ１及びｆ１は、それぞれ独立して、０～２００の整数であって、ａ１、ｂ１、ｃ１、ｄ１、ｅ１及びｆ１の和は１以上であり、ａ１、ｂ１、ｃ１、ｄ１、ｅ１、又はｆ１を付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は式中において任意であり；
　　Ｒ^Ｆａは、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子、フッ素原子、又は、塩素原子であり；
　ｎ２１は、０又は１である、
　［１］～［３］のいずれか１つに記載の製造方法。
［５］　前記Ｒ^１Ｂは、－（Ｒｆ^２）_ｎ２３－Ｒ^Ｆ１－（Ｏ）_ｎ２２－で表され；
　Ｒｆ^２は、２価の有機基であり；
　Ｒ^Ｆ１は、式：
－（ＯＣ_６Ｆ_１２）_ａ１－（ＯＣ_５Ｆ_１０）_ｂ１－（ＯＣ_４Ｆ_８）_ｃ１－（ＯＣ_３Ｒ^Ｆａ _６）_ｄ１－（ＯＣ_２Ｆ_４）_ｅ１－（ＯＣＦ_２）_ｆ１－
で表される基であり；
　　ａ１、ｂ１、ｃ１、ｄ１、ｅ１及びｆ１は、それぞれ独立して、０～２００の整数であって、ａ１、ｂ１、ｃ１、ｄ１、ｅ１及びｆ１の和は１以上であり、ａ１、ｂ１、ｃ１、ｄ１、ｅ１、又はｆ１を付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は式中において任意であり；
　　Ｒ^Ｆａは、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子、フッ素原子、又は、塩素原子であり；
　ｎ２２は、０又は１であり；
　ｎ２３は、０又は１である、
　［１］～［４］のいずれか１つに記載の製造方法。
［６］　前記Ｒ^２は、それぞれ独立して、Ｒ^２１ _３Ｓｉ－であり；
　前記Ｒ^２１は、それぞれ独立して、ハロゲン原子により置換されていてもよいＣ_１－４アルキル基であり；
　前記Ｃ_１－４アルキル基は、直鎖状、又は、分岐状である、
　［１］～［５］のいずれか１つに記載の製造方法。
［７］　前記Ｒ^２は、それぞれ独立して、（ＣＨ_３）_３Ｓｉ－である、［６］に記載の製造方法。
［８］　式（１Ａ）で表される化合物又は式（１Ｂ）で表される化合物と、式（２）で表される化合物との反応の後に、精製処理を行う、［１］～［７］のいずれか１つに記載の製造方法。
［９］　前記オレフィン変性含フッ素化合物は、式（３Ａ）で表される化合物、又は、式（３Ｂ）で表される化合物である、［１］～［８］のいずれか１つに記載の製造方法。
Ｒ^１Ａ－ＣＦＹ^１－ＣＲ^５Ｒ^６－ＣＲ^４＝ＣＨ－（ＣＨ_２）_ｎ１－１Ｈ　　・・・（３Ａ）
［式中：
　Ｒ^１Ａ、Ｙ^１、ｎ１、Ｒ^４、Ｒ^５及びＲ^６は、それぞれ請求項１の記載と同じである。］
Ｈ（ＣＨ_２）_ｎ１－１－ＣＨ＝ＣＲ^４－ＣＲ^５Ｒ^６－ＣＦＹ^１－Ｒ^１Ｂ－ＣＦＹ^１－ＣＲ^５Ｒ^６－ＣＲ^４＝ＣＨ－（ＣＨ_２）_ｎ１－１Ｈ　　・・・（３Ｂ）
［式中：
　Ｒ^１Ｂ、Ｙ^１、ｎ１、Ｒ^４、Ｒ^５及びＲ^６は、それぞれ請求項１の記載と同じである。］
［１０］　式（３Ａ）で表されるオレフィン変性含フッ素化合物及び式（３Ｂ）で表されるオレフィン変性含フッ素化合物の少なくとも１つと、前記式（３Ａ）で表されるオレフィン変性含フッ素化合物及び式（３Ｂ）で表されるオレフィン変性含フッ素化合物の合計量に対して１ｐｐｍ以下のスズとを含む、組成物。
Ｒ^１Ａ－ＣＦＹ^１－ＣＲ^５Ｒ^６－ＣＲ^４＝ＣＨ－（ＣＨ_２）_ｎ１－１Ｈ　　・・・（３Ａ）
［式中：
　Ｒ^１Ａは、１価の有機基であり；
　Ｙ^１は、水素原子、又は、ハロゲン原子であり；
　ｎ１は、１～１０の整数であり；
　Ｒ^４、Ｒ^５及びＲ^６は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子、又は、Ｃ_１－１０アルキル基である。］
Ｈ（ＣＨ_２）_ｎ１－１－ＣＨ＝ＣＲ^４－ＣＲ^５Ｒ^６－ＣＦＹ^１－Ｒ^１Ｂ－ＣＦＹ^１－ＣＲ^５Ｒ^６－ＣＲ^４＝ＣＨ－（ＣＨ_２）_ｎ１－１Ｈ　　・・・（３Ｂ）
［式中：
　Ｒ^１Ｂは、２価の有機基であり；
　Ｙ^１は、それぞれ独立して、水素原子、又は、ハロゲン原子であり；
　ｎ１は、それぞれ独立して、１～１０の整数であり；
　Ｒ^４、Ｒ^５及びＲ^６は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子、又は、Ｃ_１－１０アルキル基である。］
［１１］　前記スズは、前記式（３Ａ）で表されるオレフィン変性含フッ素化合物及び前記式（３Ｂ）で表されるオレフィン変性含フッ素化合物の合計量に対して、１ｐｐｂ以下である、［１０］に記載の組成物。

　本開示によれば、オレフィン変性含フッ素化合物の新たな製造方法、及び、該化合物を含む組成物を提供することができる。

　本明細書において用いられる場合、「１価の有機基」とは、炭素を含有する１価の基を意味する。１価の有機基としては、特に限定されないが、炭化水素基、又は、その誘導体であり得る。炭化水素基の誘導体とは、炭化水素基の末端、又は、分子鎖中に、１つ又はそれ以上のＮ、Ｏ、Ｓ、Ｓｉ、アミド、スルホニル、シロキサン、カルボニル、カルボニルオキシ等を有している基を意味する。
　本明細書において用いられる場合、「２価の有機基」としては、特に限定されるものではないが、炭化水素基からさらに１個の水素原子を脱離させた２価の基が挙げられる。

　本明細書において用いられる場合、「炭化水素基」とは、炭素及び水素を含む基であって、分子から１個の水素原子を脱離させた基を意味する。かかる炭化水素基としては、特に限定されるものではないが、１つ又はそれ以上の置換基により置換されていてもよい、炭素原子数１～２０の炭化水素基、例えば、脂肪族炭化水素基、芳香族炭化水素基等が挙げられる。上記「脂肪族炭化水素基」は、直鎖状、分枝鎖状、又は、環状のいずれであってもよく、飽和、又は、不飽和のいずれであってもよい。また、炭化水素基は、１つ又はそれ以上の環構造を含んでいてもよい。

　本明細書において用いられる場合、「炭化水素基」の置換基としては、特に限定されないが、例えば、ハロゲン原子；１個又はそれ以上のハロゲン原子により置換されていてもよい、Ｃ_１－６アルキル基、Ｃ_２－６アルケニル基、Ｃ_２－６アルキニル基、Ｃ_３－１０シクロアルキル基、Ｃ_３－１０不飽和シクロアルキル基、５～１０員のヘテロシクリル基、５～１０員の不飽和ヘテロシクリル基、Ｃ_６－１０アリール基及び５～１０員のヘテロアリール基から選択される１個又はそれ以上の基が挙げられる。

　本明細書において、アルキル基及びフェニル基は、特記しない限り、非置換であっても、置換されていてもよい。かかる基の置換基としては、特に限定されないが、例えば、ハロゲン原子、Ｃ_１－６アルキル基、Ｃ_２－６アルケニル基及びＣ_２－６アルキニル基から選択される１個又はそれ以上の基が挙げられる。

　以下、本開示の一態様である、オレフィン変性含フッ素化合物の製造方法について説明する。

（製造方法）
　本開示のオレフィン変性含フッ素化合物の製造方法は、以下の工程（Ｉ）を含む。
［工程（Ｉ）]
　式（１Ａ）で表される化合物又は式（１Ｂ）で表される化合物：
　　Ｒ^１Ａ－ＣＦＹ^１－Ｘ^１　　　・・・（１Ａ）
　　Ｘ^１－ＣＦＹ^１－Ｒ^１Ｂ－ＣＦＹ^１－Ｘ^１　　　・・・（１Ｂ）
で表される化合物と、式（２）：
　　Ｒ^２ _３Ｓｉ－（ＣＨ_２）_ｎ１－ＣＲ^４＝ＣＲ^５Ｒ^６　　　・・・（２）
で表される化合物とを、ラジカル開始剤の存在下で反応させる工程。

　上記工程により、式（３Ａ）で表されるオレフィン変性含フッ素化合物、又は、式（３Ｂ）で表されるオレフィン変性含フッ素化合物を含む組成物を得ることができる。
　Ｒ^１Ａ－ＣＦＹ^１－ＣＲ^５Ｒ^６－ＣＲ^４＝ＣＨ－（ＣＨ_２）_ｎ１－１Ｈ　　・・・（３Ａ）
　Ｈ（ＣＨ_２）_ｎ１－１－ＣＨ＝ＣＲ^４－ＣＲ^５Ｒ^６－ＣＦＹ^１－Ｒ^１Ｂ－ＣＦＹ^１－ＣＲ^５Ｒ^６－ＣＲ^４＝ＣＨ－（ＣＨ_２）_ｎ１－１Ｈ　　・・・（３Ｂ）
　なお、以下において、オレフィン変性含フッ素化合物とは、式（３Ａ）で表されるオレフィン変性含フッ素化合物、又は、式（３Ｂ）で表されるオレフィン変性含フッ素化合物を言う。

　上記製造方法を用いることにより、製造される化合物中におけるオレフィン変性含フッ素化合物の選択率が向上する。Ｒ^２ _３Ｓｉ－とＸ^１との反応により、－ＣＦＹ^１ラジカルが生じる。上記製造方法では、－ＣＦＹ^１ラジカルの生成速度は適度に制御できると考えられ、その結果、生成されるオレフィン変性含フッ素化合物の選択率は向上すると考えられる。

　以下、各式について述べる。

（式（１Ａ））
　Ｒ^１Ａ－ＣＦＹ^１－Ｘ^１　　　　・・・（１Ａ）

　Ｘ^１は、フッ素原子以外のハロゲン原子であり、好ましくは塩素原子、臭素原子、又は、ヨウ素原子であり、より好ましくは、臭素原子、又は、ヨウ素原子である。一の態様において、Ｘ^１は臭素原子である。一の態様において、Ｘ^１はヨウ素原子である。

　Ｙ^１は、水素原子、又は、ハロゲン原子であり、好ましくはフッ素原子、塩素原子、臭素原子、又は、ヨウ素原子であり、より好ましくは、フッ素原子である。

　Ｒ^１Ａは、１価の有機基である。

　一の態様において、Ｒ^１Ａは、Ｒｆ^１－Ｒ^Ｆ１－（Ｏ）_ｎ２１－で表される。

　Ｒｆ^１は、１個以上のフッ素原子で置換されていてもよいＣ_１－１６アルキル基である。上記「Ｃ_１－１６アルキル基」は、直鎖であっても、分枝鎖であってもよく、好ましくは、直鎖、又は、分枝鎖のＣ_１－６アルキル基、特に直鎖、又は、分枝鎖のＣ_１－３アルキル基であり、より好ましくは直鎖のＣ_１－６アルキル基、特にＣ_１－３アルキル基である。

　上記Ｒｆ^１は、好ましくは、１個又はそれ以上のフッ素原子により置換されているＣ_１－１６アルキル基であり、より好ましくはＣ_１－１６パーフルオロアルキル基である。上記Ｃ_１－１６パーフルオロアルキル基は、直鎖であっても、分枝鎖であってもよく、好ましくは、直鎖、又は、分枝鎖のＣ_１－６パーフルオロアルキル基、特に直鎖、又は、分枝鎖のＣ_１－３パーフルオロアルキル基であり、より好ましくは直鎖のＣ_１－６パーフルオロアルキル基、特にＣ_１－３パーフルオロアルキル基である。

　一の態様において、Ｒｆ^１は、１個以上のフッ素原子で置換されていてもよいＣ_１－６アルキル基である。上記「Ｃ_１－６アルキル基」は、直鎖であっても、分枝鎖であってもよく、好ましくは、直鎖、又は、分枝鎖のＣ_１－３アルキル基である。一の態様としては、上記Ｃ_１－６アルキル基は、好ましくは直鎖のＣ_１－６アルキル基、特にＣ_１－３アルキル基である。Ｒｆ^１は、一の態様ではＣＦ_３－であり；別の態様ではＣＦ_３ＣＦ_２－であり；更に別の態様ではＣＦ_３ＣＦ_２ＣＦ_２－である。

　上記態様において、Ｒｆ^１は、好ましくは、１個又はそれ以上のフッ素原子により置換されているＣ_１－６アルキル基であり、より好ましくはＣ_１－６パーフルオロアルキル基である。本態様において、上記Ｃ_１－６パーフルオロアルキル基は、直鎖であっても、分枝鎖であってもよく、好ましくは、直鎖のＣ_１－６パーフルオロアルキル基、特にＣ_１－３パーフルオロアルキル基である。

　Ｒ^Ｆ１は、式：
－（ＯＣ_ｊＲ^ｃ _２ｊ）_ｊ１－（ＯＣ_ｈＲ^ｃ _２ｈ－２）_ｈ１－
で表される基である。－ＯＣ_ｊＲ^ｃ _２ｊ－は、それぞれ独立して、直鎖状又は分岐鎖状であり、－ＯＣ_ｈＲ^ｃ _２ｈ－２－は、それぞれ独立して、環構造を含む構造である。Ｒ^ｃは、それぞれ独立して、水素原子、塩素原子、又は、フッ素原子であり、但し、Ｒ^Ｆ１において少なくとも１つのＲ^ｃは、フッ素原子である。ｊは、それぞれ独立して、１～６の整数であり、ｈは、それぞれ独立して、１～７の整数であり、ｊ１は０以上の整数であり、ｈ１は０以上の整数であり、ｊ１とｈ１との合計は１以上である。ｊ１又はｈ１を付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は式中において任意である。

　一の態様において、Ｒ^Ｆ１は、式：
－（ＯＣ_６Ｆ_１２）_ａ１－（ＯＣ_５Ｆ_１０）_ｂ１－（ＯＣ_４Ｆ_８）_ｃ１－（ＯＣ_３Ｒ^Ｆａ _６）_ｄ１－（ＯＣ_２Ｆ_４）_ｅ１－（ＯＣＦ_２）_ｆ１－
で表される基である。
　ａ１、ｂ１、ｃ１、ｄ１、ｅ１及びｆ１は、それぞれ独立して、０～２００の整数であって、ａ１、ｂ１、ｃ１、ｄ１、ｅ１及びｆ１の和は１以上であり、ａ１、ｂ１、ｃ１、ｄ１、ｅ１、又はｆ１を付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は式中において任意である。
　上記のようなＲ^Ｆ１を有することにより、撥水性、撥油性、耐ケミカル性、及び、摩擦耐久性等を有する表面処理層を形成し得る。
　なお、本明細書において、Ｒ^Ｆ１は、左側がＲｆ^１に、右側が－（Ｏ）_ｎ２１－に、それぞれ結合する。

　Ｒ^Ｆａは、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子、フッ素原子、又は、塩素原子である。

　Ｒ^Ｆａは、好ましくは、水素原子、又は、フッ素原子であり、より好ましくは、フッ素原子である。

　ａ１、ｂ１、ｃ１、ｄ１、ｅ１及びｆ１は、好ましくは、それぞれ独立して、０～１００の整数であってもよい。

　ａ１、ｂ１、ｃ１、ｄ１、ｅ１及びｆ１の和は、好ましくは５以上であり、より好ましくは１０以上であり、例えば１５以上又は２０以上であってもよい。ａ１、ｂ１、ｃ１、ｄ１、ｅ１及びｆ１の和は、好ましくは２００以下、より好ましくは１００以下、さらに好ましくは６０以下であり、例えば５０以下又は３０以下であってもよい。

　Ｒ^Ｆ１において、これら繰り返し単位は、直鎖状であっても、分枝鎖状であってもよく、環構造を含んでいてもよい。

　上記直鎖状又は分枝鎖状の繰り返し単位としては、例えば、以下のような構造を挙げることができる。－（ＯＣ_６Ｆ_１２）－は、－（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）－、－（ＯＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）－、－（ＯＣＦ_２ＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）－、－（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２ＣＦ_２）－、－（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２）－、－（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ（ＣＦ_３））－等であってもよい。－（ＯＣ_５Ｆ_１０）－は、－（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）－、－（ＯＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）－、－（ＯＣＦ_２ＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２ＣＦ_２）－、－（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２）－、－（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ（ＣＦ_３））－等であってもよい。－（ＯＣ_４Ｆ_８）－は、－（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）－、－（ＯＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２ＣＦ_２）－、－（ＯＣＦ_２ＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２）－、－（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ（ＣＦ_３））－、－（ＯＣ（ＣＦ_３）_２ＣＦ_２）－、－（ＯＣＦ_２Ｃ（ＣＦ_３）_２）－、－（ＯＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ（ＣＦ_３））－、－（ＯＣＦ（Ｃ_２Ｆ_５）ＣＦ_２）－及び－（ＯＣＦ_２ＣＦ（Ｃ_２Ｆ_５））－のいずれであってもよい。－（ＯＣ_３Ｆ_６）－（即ち、上記式中、Ｒ^Ｆａはフッ素原子である）は、－（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）－、－（ＯＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２）－及び－（ＯＣＦ_２ＣＦ（ＣＦ_３））－のいずれであってもよい。－（ＯＣ_２Ｆ_４）－は、－（ＯＣＦ_２ＣＦ_２）－及び－（ＯＣＦ（ＣＦ_３））－のいずれであってもよい。

　上記環構造は、下記三員環、四員環、五員環、又は六員環であり得る。

［式中、＊は、結合位置を示す。］

　一の態様において、上記繰り返し単位は直鎖状である。

　一の態様において、上記繰り返し単位は分枝鎖状を含む。

　一の態様において、上記繰り返し単位は環構造を含む。

　一の態様において、Ｒ^Ｆ１は、各出現においてそれぞれ独立して、下記式（ｆ１）～（ｆ６）のいずれかで表される基である。
　－（ＯＣ_３Ｆ_６）_ｄ１－（ＯＣ_２Ｆ_４）_ｅ１－　　　（ｆ１）
［式中、ｄ１は、１～２００の整数であり、ｅ１は０又は１、好ましくは１である。］；
　－（ＯＣ_４Ｆ_８）_ｃ１－（ＯＣ_３Ｆ_６）_ｄ１－（ＯＣ_２Ｆ_４）_ｅ１－（ＯＣＦ_２）_ｆ１－　（ｆ２）
［式中、ｃ１及びｄ１は、それぞれ独立して０以上３０以下の整数であり、ｅ１及びｆ１は、それぞれ独立して１以上２００以下の整数であり、
　ｃ１、ｄ１、ｅ１及びｆ１の和は２以上であり、
　添字ｃ１、ｄ１、ｅ１又はｆ１を付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は、式中において任意である。］；
　－（Ｒ^７１－Ｒ^７２）_ｇ１－　　　（ｆ３）
［式中、Ｒ^７１は、ＯＣＦ_２又はＯＣ_２Ｆ_４であり、
　Ｒ^７２は、ＯＣ_２Ｆ_４、ＯＣ_３Ｆ_６、ＯＣ_４Ｆ_８、ＯＣ_５Ｆ_１０及びＯＣ_６Ｆ_１２から選択される基であるか、あるいは、これらの基から独立して選択される２又は３つの基の組み合わせであり、
　ｇ１は、２～１００の整数である。］；
　－（Ｒ^７１－Ｒ^７２）_ｇ１－Ｒ^ｒ－（Ｒ^７２’－Ｒ^７１’）_ｇ１’－　　　（ｆ４）
［式中、Ｒ^７１は、ＯＣＦ_２又はＯＣ_２Ｆ_４であり、
　Ｒ^７２は、ＯＣ_２Ｆ_４、ＯＣ_３Ｆ_６、ＯＣ_４Ｆ_８、ＯＣ_５Ｆ_１０及びＯＣ_６Ｆ_１２から選択される基であるか、あるいは、これらの基から独立して選択される２又は３つの基の組み合わせであり、
　Ｒ^７１’は、ＯＣＦ_２又はＯＣ_２Ｆ_４であり、
　Ｒ^７２’は、ＯＣ_２Ｆ_４、ＯＣ_３Ｆ_６、ＯＣ_４Ｆ_８、ＯＣ_５Ｆ_１０及びＯＣ_６Ｆ_１２から選択される基であるか、あるいは、これらの基から独立して選択される２又は３つの基の組み合わせであり、
　ｇ１は、２～１００の整数であり、
　ｇ１’は、２～１００の整数であり、
　Ｒ^ｒは、

（式中、＊は、結合位置を示す。）
である。］；
　－（ＯＣ_６Ｆ_１２）_ａ１－（ＯＣ_５Ｆ_１０）_ｂ１－（ＯＣ_４Ｆ_８）_ｃ１－（ＯＣ_３Ｆ_６）_ｄ１－（ＯＣ_２Ｆ_４）_ｅ１－（ＯＣＦ_２）_ｆ１－　　　（ｆ５）
［式中、ｅ１は、１以上２００以下の整数であり、ａ１、ｂ１、ｃ１、ｄ１及びｆ１は、それぞれ独立して０以上２００以下の整数であって、ａ１、ｂ１、ｃ１、ｄ１、ｅ１及びｆ１の和は少なくとも１であり、また、ａ１、ｂ１、ｃ１、ｄ１、ｅ１又はｆ１を付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は式中において任意である。］
　－（ＯＣ_６Ｆ_１２）_ａ１－（ＯＣ_５Ｆ_１０）_ｂ１－（ＯＣ_４Ｆ_８）_ｃ１－（ＯＣ_３Ｆ_６）_ｄ１－（ＯＣ_２Ｆ_４）_ｅ１－（ＯＣＦ_２）_ｆ１－　　　（ｆ６）
［式中、ｆ１は、１以上２００以下の整数であり、ａ１、ｂ１、ｃ１、ｄ１及びｅ１は、それぞれ独立して０以上２００以下の整数であって、ａ１、ｂ１、ｃ１、ｄ１、ｅ１及びｆ１の和は少なくとも１であり、また、ａ１、ｂ１、ｃ１、ｄ１、ｅ１又はｆ１を付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は式中において任意である。］

　上記式（ｆ１）において、ｄ１は、好ましくは５～２００、より好ましくは１０～１００、さらに好ましくは１５～５０、例えば２５～３５の整数である。上記式（ｆ１）における（ＯＣ_３Ｆ_６）は、好ましくは、（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）又は（ＯＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２）で表される基であり、より好ましくは、（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）で表される基である。上記式（ｆ１）における（ＯＣ_２Ｆ_４）は、好ましくは、（ＯＣＦ_２ＣＦ_２）又は（ＯＣＦ（ＣＦ_３））で表される基であり、より好ましくは、（ＯＣＦ_２ＣＦ_２）で表される基である。

　上記式（ｆ２）において、ｅ１及びｆ１は、それぞれ独立して、好ましくは５以上２００以下、より好ましくは１０～２００の整数である。また、ｃ１、ｄ１、ｅ１及びｆ１の和は、好ましくは５以上であり、より好ましくは１０以上であり、例えば１５以上又は２０以上であってもよい。一の態様において、上記式（ｆ２）は、好ましくは、－（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）_ｃ１－（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）_ｄ１－（ＯＣＦ_２ＣＦ_２）_ｅ１－（ＯＣＦ_２）_ｆ１－で表される基である。別の態様において、式（ｆ２）は、－（ＯＣ_２Ｆ_４）_ｅ１－（ＯＣＦ_２）_ｆ１－で表される基であってもよい。

　上記式（ｆ３）において、Ｒ^７１は、好ましくは、ＯＣ_２Ｆ_４である。上記（ｆ３）において、Ｒ^７２は、好ましくは、ＯＣ_２Ｆ_４、ＯＣ_３Ｆ_６及びＯＣ_４Ｆ_８から選択される基であるか、あるいは、これらの基から独立して選択される２又は３つの基の組み合わせであり、より好ましくは、ＯＣ_３Ｆ_６及びＯＣ_４Ｆ_８から選択される基である。ＯＣ_２Ｆ_４、ＯＣ_３Ｆ_６及びＯＣ_４Ｆ_８から独立して選択される２又は３つの基の組み合わせとしては、特に限定されないが、例えば－ＯＣ_２Ｆ_４ＯＣ_３Ｆ_６－、－ＯＣ_２Ｆ_４ＯＣ_４Ｆ_８－、－ＯＣ_３Ｆ_６ＯＣ_２Ｆ_４－、－ＯＣ_３Ｆ_６ＯＣ_３Ｆ_６－、－ＯＣ_３Ｆ_６ＯＣ_４Ｆ_８－、－ＯＣ_４Ｆ_８ＯＣ_４Ｆ_８－、－ＯＣ_４Ｆ_８ＯＣ_３Ｆ_６－、－ＯＣ_４Ｆ_８ＯＣ_２Ｆ_４－、－ＯＣ_２Ｆ_４ＯＣ_２Ｆ_４ＯＣ_３Ｆ_６－、－ＯＣ_２Ｆ_４ＯＣ_２Ｆ_４ＯＣ_４Ｆ_８－、－ＯＣ_２Ｆ_４ＯＣ_３Ｆ_６ＯＣ_２Ｆ_４－、－ＯＣ_２Ｆ_４ＯＣ_３Ｆ_６ＯＣ_３Ｆ_６－、－ＯＣ_２Ｆ_４ＯＣ_４Ｆ_８ＯＣ_２Ｆ_４－、－ＯＣ_３Ｆ_６ＯＣ_２Ｆ_４ＯＣ_２Ｆ_４－、－ＯＣ_３Ｆ_６ＯＣ_２Ｆ_４ＯＣ_３Ｆ_６－、－ＯＣ_３Ｆ_６ＯＣ_３Ｆ_６ＯＣ_２Ｆ_４－、及び－ＯＣ_４Ｆ_８ＯＣ_２Ｆ_４ＯＣ_２Ｆ_４－等が挙げられる。上記式（ｆ３）において、ｇ１は、好ましくは３以上、より好ましくは５以上の整数である。上記ｇ１は、好ましくは５０以下の整数である。上記式（ｆ３）において、ＯＣ_２Ｆ_４、ＯＣ_３Ｆ_６、ＯＣ_４Ｆ_８、ＯＣ_５Ｆ_１０及びＯＣ_６Ｆ_１２は、直鎖、又は、分枝鎖のいずれであってもよく、好ましくは直鎖である。この態様において、上記式（ｆ３）は、好ましくは、－（ＯＣ_２Ｆ_４－ＯＣ_３Ｆ_６）_ｇ１－又は－（ＯＣ_２Ｆ_４－ＯＣ_４Ｆ_８）_ｇ１－である。

　上記式（ｆ４）において、Ｒ^７１、Ｒ^７２及びｇ１は、上記式（ｆ３）の記載と同意義であり、同様の態様を有する。Ｒ^７１’、Ｒ^７２’及びｇ１’は、それぞれ、上記式（ｆ３）に記載のＲ^７１、Ｒ^７２及びｇ１と同意義であり、同様の態様を有する。Ｒ^ｒは、好ましくは、

［式中、＊は、結合位置を示す。］
であり、より好ましくは

［式中、＊は、結合位置を示す。］
である。

　上記式（ｆ５）において、ｅ１は、好ましくは、１以上１００以下、より好ましくは５以上１００以下の整数である。ａ１、ｂ１、ｃ１、ｄ１、ｅ１及びｆ１の和は、好ましくは５以上であり、より好ましくは１０以上、例えば１０以上１００以下である。

　上記式（ｆ５）において、Ｒ^Ｆ１は末端部分の繰り返し単位は－（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）－であってもよい。

　上記式（ｆ６）において、ｆ１は、好ましくは、１以上１００以下、より好ましくは５以上１００以下の整数である。ａ１、ｂ１、ｃ１、ｄ１、ｅ１及びｆ１の和は、好ましくは５以上であり、より好ましくは１０以上、例えば１０以上１００以下である。

　一の態様において、上記Ｒ^Ｆ１は、上記式（ｆ１）で表される基である。

　一の態様において、上記Ｒ^Ｆ１は、上記式（ｆ２）で表される基である。

　一の態様において、上記Ｒ^Ｆ１は、上記式（ｆ３）又は（ｆ４）で表される基である。

　一の態様において、上記Ｒ^Ｆ１は、上記式（ｆ３）で表される基である。

　一の態様において、上記Ｒ^Ｆ１は、上記式（ｆ４）で表される基である。

　一の態様において、上記Ｒ^Ｆ１は、上記式（ｆ５）で表される基である。

　一の態様において、上記Ｒ^Ｆ１は、上記式（ｆ６）で表される基である。

　一の態様において、上記Ｒ^Ｆ１は、上記式（ｆ１）、（ｆ２）、（ｆ５）又は（ｆ６）で表される基である。

　一の態様において、上記Ｒ^Ｆ１は、上記式（ｆ１）、（ｆ２）、又は（ｆ６）で表される基である。

　上記Ｒ^Ｆ１において、ｆ１に対するｅ１の比（以下、「ｅ／ｆ比」という）は、例えば０．１以上１０以下であり、好ましくは０．２以上５以下であり、より好ましくは０．２～２であり、さらに好ましくは０．２以上１．５以下であり、さらにより好ましくは０．２以上０．９未満であり、特に好ましくは０．２以上０．８５以下である。ｅ／ｆ比が上記の範囲にあることにより、得られる含フッ素化合物の安定性は向上する。ここで、ｆ１は１以上の整数である。

　一の態様において、Ｒ^Ｆ１においてｅ／ｆ比は、好ましくは、１．０以上、例えば１．１以上、１．３以上であってもよい。Ｒ^Ｆ１においてｅ／ｆ比は、好ましくは１０．０以下、９．０以下、より好ましくは５．０以下、さらに好ましくは２．０以下、特に好ましくは１．５以下である。Ｒ^Ｆ１においてｅ／ｆ比は、例えば、１．０～１０．０、具体的には１．０～５．０、より具体的には１．０～２．０、さらに具体的には１．０～１．５を挙げることができる。

　一の態様において、Ｒ^Ｆ１において、ｅ／ｆ比は、１．０～１．２の範囲にあってもよい。

　一の対応において、Ｒ^Ｆ１において、ｅ／ｆ比は、０．９未満、例えば０．８以下、０．７以下であってもよい。Ｒ^Ｆ１において、ｅ／ｆ比は、好ましくは０．２以上、より好ましくは０．３以上、さらに好ましくは０．４以上、特に好ましくは０．５以上である。Ｒ^Ｆ１において、ｅ／ｆ比は、例えば、０．２以上０．９未満、具体的には０．４以上０．８以下、より具体的には０．５以上０．７以下を挙げることができる。

　一の態様において、ｄ１は、１以上の整数であることが好ましく、３以上であることがより好ましく、６以上であることがさらに好ましく、２００以下であってもよく、１２０以下であってもよく、６０以下であってもよく、５４以下であってもよい。本態様において、ｄ１は、１～２００であってもよく、３～１２０であってもよく、３～６０であってもよく、６～６０であってもよい。

　一の態様において、Ｒ^Ｆ１は、
　－（ＯＣ_３Ｆ_６）_ｄ１－（ＯＣ_２Ｆ_４）_ｅ１－　　　（ｆ１）
［式中、ｄ１は、３～６０の整数であり、好ましくは６～５４の整数であり；ｅ１は、１であり；ＯＣ_３Ｆ_６及びＯＣ_２Ｆ_４は直鎖状である。］
で表される基である。

　一の態様において、Ｒ^Ｆ１は、
　－（ＯＣ_３Ｆ_６）_ｄ１－（ＯＣ_２Ｆ_４）_ｅ１－　　　（ｆ１）
［式中、ｄ１は、３～１２０の整数であり、好ましくは６～６０の整数であり；ｅ１は、１であり；各ＯＣ_３Ｆ_６及びＯＣ_２Ｆ_４は分岐鎖を有する。］
で表される基である。例えば、式（ｆ１）において、繰り返し単位は－ＯＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２－で表される。

　上記Ｒ^Ｆ１部分の数平均分子量は、特に限定されるものではないが、例えば５００～３０，０００、好ましくは１，５００～３０，０００、より好ましくは２，０００～１０，０００である。本明細書において、Ｒ^Ｆ１の数平均分子量は、^１９Ｆ－ＮＭＲにより測定される値とする。

　別の態様において、Ｒ^Ｆ１部分の数平均分子量は、５００～３０，０００、好ましくは１，０００～２０，０００、より好ましくは２，０００～１５，０００、さらにより好ましくは２，０００～１０，０００、例えば３，０００～６，０００であり得る。

　別の態様において、Ｒ^Ｆ１部分の数平均分子量は、４，０００～３０，０００、好ましくは５，０００～１０，０００、より好ましくは６，０００～１０，０００であり得る。

　ｎ２１は、０又は１である。一の態様において、ｎ２１は０である。一の態様において、ｎ２１は１である。

（式（１Ｂ））
　Ｘ^１－ＣＦＹ^１－Ｒ^１Ｂ－ＣＦＹ^１－Ｘ^１　　　　・・・（１Ｂ）

　Ｘ^１は、それぞれ独立して、フッ素原子以外のハロゲン原子であり、好ましくは塩素原子、臭素原子、又は、ヨウ素原子であり、より好ましくは、臭素原子、又は、ヨウ素原子である。一の態様において、Ｘ^１は臭素原子である。一の態様において、Ｘ^１はヨウ素原子である。

　Ｙ^１は、それぞれ独立して、水素原子、又は、ハロゲン原子であり、好ましくはフッ素原子、塩素原子、臭素原子、又は、ヨウ素原子であり、より好ましくは、フッ素原子である。

　Ｒ^１Ｂは、２価の有機基である。

　一の態様において、Ｒ^１Ｂは、－（Ｒｆ^２）_ｎ２３－Ｒ^Ｆ１－（Ｏ）_ｎ２２－で表される。

　Ｒ^Ｆ１は、上記のとおりである。

　Ｒｆ^２は、２価の有機基である。

　上記Ｒｆ^２は、好ましくは、１個又はそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよいＣ_１－６アルキレン基である。

　上記１個又はそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよいＣ_１－６アルキレン基における「Ｃ_１－６アルキレン基」は、直鎖であっても、分枝鎖であってもよく、好ましくは、直鎖、又は、分枝鎖のＣ_１－３アルキレン基であり、より好ましくは直鎖のＣ_１－３アルキレン基である。

　上記Ｒｆ^２は、好ましくは、１個又はそれ以上のフッ素原子により置換されているＣ_１－６アルキレン基であり、より好ましくはＣ_１－６パーフルオロアルキレン基であり、さらに好ましくはＣ_１－３パーフルオロアルキレン基である。

　上記Ｃ_１－６パーフルオロアルキレン基は、直鎖であっても、分枝鎖であってもよく、好ましくは、直鎖、又は、分枝鎖のＣ_１－３パーフルオロアルキレン基であり、より好ましくは直鎖のＣ_１－３パーフルオロアルキレン基、具体的には－ＣＦ_２－、－ＣＦ_２ＣＦ_２－、又は－ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２－である。

　ｎ２２は、０又は１である。一の態様において、ｎ２２は０である。一の態様において、ｎ２２は１である。

　ｎ２３は、０又は１である。一の態様において、ｎ２３は０である。一の態様において、ｎ２３は１である。

（式（２））
　Ｒ^２ _３Ｓｉ－（ＣＨ_２）_ｎ１－ＣＲ^４＝ＣＲ^５Ｒ^６　　　・・・（２）

　Ｒ^２は、それぞれ独立して、Ｒ^２１ _３Ｓｉ－を含む１価の基である。

　一の態様において、上記Ｒ^２は、Ｒ^２１ _３Ｓｉ－と２価の有機基とを有する基である。

　上記Ｒ^２は、好ましくは、それぞれ独立して、Ｒ^２１ _３Ｓｉ－である。

　Ｒ^２１は、それぞれ独立して、水素原子、又は、Ｃ_１－１２アルキル基である。該Ｃ_１－１２アルキル基は、ハロゲン原子により置換されていてもよい。該Ｃ_１－１２アルキル基は、それぞれ独立して、直鎖状又は分岐状である。

　上記Ｒ^２１は、好ましくは、それぞれ独立して、ハロゲン原子により置換されていてもよいＣ_１－４アルキル基である。該Ｃ_１－４アルキル基は、それぞれ独立して、直鎖状又は分岐状である。一の態様において、該Ｃ_１－４アルキル基は、直鎖状である。一の態様において、該Ｃ_１－４アルキル基は、分岐状である。

　上記Ｒ^２１は、より好ましくは、それぞれ独立して、Ｃ_１－４アルキル基である。

　上記Ｒ^２１は、更に好ましくは、ＣＨ_３基である。この場合、Ｒ^２は、（ＣＨ_３）_３Ｓｉ－で表される。

　ｎ１は、１～１０の整数であり、好ましくは１～３の整数である。

　一の態様において、ｎ１は、１である。この場合、形成される式（３Ａ）で表されるオレフィン変性含フッ素化合物、又は、式（３Ｂ）で表されるオレフィン変性含フッ素化合物の末端は－ＣＲ^４＝ＣＨ_２となる。本製造方法において、上記末端を有する式（３Ａ）で表されるオレフィン変性含フッ素化合物、又は、式（３Ｂ）で表されるオレフィン変性含フッ素化合物は、特に良好に形成される。－ＣＲ^４＝ＣＨ_２は立体障害が少なく、良好に反応が進行するためと考えられる。上記化合物を含む表面処理剤を用いて表面処理を行った場合、基材への接着性が特に良好となり得る。

　Ｒ^４、Ｒ^５、及び、Ｒ^６は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子、又は、Ｃ_１－１０アルキル基である。

　上記Ｒ^４は、好ましくは、水素原子、又は、Ｃ_１－６アルキル基であり、より好ましくは、水素原子、又は、ＣＨ_３基である。一の態様において、Ｒ^４は水素原子である。一の態様において、Ｒ^４はＣＨ_３基である。

　上記Ｒ^５は、好ましくは、水素原子、又は、Ｃ_１－６アルキル基であり、より好ましくは、水素原子、又は、ＣＨ_３基であり、好ましくは水素原子である。

　上記Ｒ^６は、好ましくは、水素原子、又は、Ｃ_１－６アルキル基であり、より好ましくは、水素原子、又は、ＣＨ_３基であり、好ましくは水素原子である。

　一の態様において、Ｒ^５、又は、Ｒ^６のいずれか一方がＣＨ_３基であり、他方が水素原子である。

　一の態様において、Ｒ^５、及び、Ｒ^６は水素原子である。この場合、式（１Ａ）で表される化合物又は式（１Ｂ）で表される化合物と、式（２）で表される化合物との反応性は、特に良好になり得る。式（１Ａ）で表される化合物と式（１Ｂ）で表される化合物との混合比は、特に限定されず、任意の割合で混合することができる。式（１Ａ）で表される化合物と式（１Ｂ）で表される化合物との混合比は、式（２）で表される化合物の含有量に合わせて調製し得る。

　一の態様において、式（１Ａ）で表される化合物を用いることができる。

　一の態様において、式（１Ｂ）で表される化合物を用いることができる。

　一の態様において、式（１Ａ）で表される化合物と、式（２）で表される化合物とは、モル比で、１：１～１：１０の範囲で混合される。式（１Ａ）で表される化合物と、式（２）で表される化合物とは、モル比で、１：１～１：８の範囲で混合されることが好ましく、１：１～１：６で混合されることがより好ましく、１：２～１：６で混合されることが更に好ましい。このようなモル比で混合することにより、反応が特に良好に進行し得る。

　一の態様において、式（１Ｂ）で表される化合物と、式（２）で表される化合物とは、モル比で、１：２～１：２０の範囲で混合される。式（１Ｂ）で表される化合物と、式（２）で表される化合物とは、モル比で、１：２～１：１６の範囲で混合されることが好ましく、１：２～１：１２で混合されることがより好ましく、１：４～１：１２で混合されることが更に好ましい。このようなモル比で混合することにより、反応が特に良好に進行し得る。

（式（３Ａ））
　Ｒ^１Ａ－ＣＦＹ^１－ＣＲ^５Ｒ^６－ＣＲ^４＝ＣＨ－（ＣＨ_２）_ｎ１－１Ｈ　　・・・（３Ａ）

　Ｒ^１Ａ、Ｙ^１、ｎ１、Ｒ^４、Ｒ^５、及び、Ｒ^６については、式（１Ａ）又は式（２）において記載したとおりである。

（式（３Ｂ））
　Ｈ（ＣＨ_２）_ｎ１－１－ＣＨ＝ＣＲ^４－ＣＲ^５Ｒ^６－ＣＦＹ^１－Ｒ^１Ｂ－ＣＦＹ^１－ＣＲ^５Ｒ^６－ＣＲ^４＝ＣＨ－（ＣＨ_２）_ｎ１－１Ｈ　　・・・（３Ｂ）

　Ｒ^１Ｂ、Ｙ^１、ｎ１、Ｒ^４、Ｒ^５、及び、Ｒ^６については、式（１Ｂ）又は式（２）において記載したとおりである。

　上記のように、式（３Ａ）で表される化合物又は式（３Ｂ）で表される化合物（即ち、オレフィン変性含フッ素化合物）は、オレフィンを有する。上記オレフィン変性含フッ素化合物が表面処理剤に含まれる場合、該オレフィンによって、オレフィン変性含フッ素化合物は基材へ良好に接着し得る。上記オレフィン変性含フッ素化合物は、他の化合物を合成するための原料としても有効に使用し得る。

（ラジカル開始剤）
　ラジカル開始剤としては、工程（Ｉ）の反応が進行するものを用いることができ、例えば、アゾ化合物、ジハロゲン、有機過酸化物等を挙げることができる。

　アゾ化合物としては、アゾビスイソブチロニトリル（ＡＩＢＮ）、１，１’－アゾビス（シクロヘキサンカルボニトリル）（ＡＢＣＮ）、１－［（１－シアノ－１－メチルエチル）アゾ］ホルムアミド、４，４’－アゾビス（４－シアノ吉草酸）、ジメチル－１，１’－アゾビス（１－シクロヘキサンカルボキシレート）、２，２’－アゾビス（Ｎ－ブチル－２－メチルプロピオンアミド）、２，２’－アゾビス（Ｎ－シクロヘキシル－２－メチルプロピオンアミド）等を挙げることができる。アゾ化合物は、溶解性が良好であることから、好ましく用いることができる。

　ジハロゲンとしては、塩素分子等を挙げることができる。

　有機過酸化物としては、ジ－ｔｅｒｔ－ブチルペルオキシド、過酸化ベンゾイル、メチルエチルケトンペルオキシド、ジ－（３－メチルベンゾイル）ペルオキシド、ベンゾイル（３－メチルベンゾイル）ペルオキシド、１，１－ジ（ｔ－ヘキシルペルオキシ）－３，３，５－トリメチルシクロヘキサン、１，１－ジ（ｔ－ヘキシルペルオキシ）シクロヘキサン、１，１－ジ（ｔ－ブチルペルオキシ）－２－メチルシクロヘキサン、１，１－ジ（ｔ－ブチルペルオキシ）シクロヘキサン、２，２－ジ（ｔ－ブチルペルオキシ）ブタン、ｔ－ブチルクミルペルオキシド、ジ－ｔ－ヘキシルペルオキシド、１，１，３，３－テトラメチルブチルペルオキシ－２－エチルヘキサノエート、ｔ－ヘキシルペルオキシ－２－エチルヘキサノエート、ｔ－ブチルペルオキシ－２－エチルヘキサノエート、ｔ－ヘキシルペルオキシイソプロピルモノカーボネート、ｔ－ブチルペルオキシイソプロピルモノカーボネート、ｔ－ブチルペルオキシ－２－エチルヘキシルモノカーボネート、２，５－ジメチル－２，５－ジ（ベンゾイルペルオキシ）ヘキサン等を挙げることができる。

　一の態様において、式（１Ａ）で表される化合物と上記ラジカル開始剤とは、モル比で、１：０．００５～１：０．２の範囲で混合することが好ましく、１：０．０１～１：０．１の範囲で混合することがより好ましい。

　一の態様において、式（１Ｂ）で表される化合物と上記ラジカル開始剤とは、モル比で、１：０．０１～１：０．４の範囲で混合することが好ましく、１：０．０２～１：０．２の範囲で混合することがより好ましい。

（溶媒）
　工程（Ｉ）の反応は、溶媒中で行ってもよい。

　上記溶媒は、式（１Ａ）で表される化合物又は式（１Ｂ）で表される化合物と、式（２）で表される化合物とを溶解できるものであることが好ましい。上記溶媒は、１種のみで用いてもよいし、２種以上を併用してもよい。

　上記溶媒は、例えば、フッ素系溶媒、又は、非フッ素系溶媒である。

　フッ素系溶媒は、１以上のフッ素原子を含む溶媒である。フッ素系溶媒としては、例えば、ハイドロフルオロカーボン、ハイドロクロロフルオロカーボン、パーフルオロカーボン等の、炭化水素の水素原子の少なくとも１つがフッ素原子により置換された化合物；ハイドロフルオロエーテル等を挙げることができる。ここで、炭化水素とは、炭素原子と水素原子のみを含む化合物を示す。

　ハイドロフルオロカーボンとしては、例えば、ビス（トリフルオロメチル）ベンゼン、具体的には１，３－ビス（トリフルオロメチル）ベンゼン（ｍ－ＸＨＦ）、１，１，１，２，２，３，３，４，４，５，５，６，６－トリデカフルオロオクタン、Ｃ_６Ｆ_１３ＣＨ_２ＣＨ_３（例えば、旭硝子株式会社製のアサヒクリン（登録商標）ＡＣ－６０００）、１，１，２，２，３，３，４－ヘプタフルオロシクロペンタン（例えば、日本ゼオン株式会社製のゼオローラ（登録商標）Ｈ）等を挙げることができる。

　ハイドロクロロフルオロカーボンとしては、例えば、ＨＣＦＣ－２２５（例えば、ＡＧＣ株式会社製のアサヒクリンＡＫ－２２５）、ＨＦＯ－１２３３ｚｄ（Ｚ）（例えば、セントラル硝子株式会社製のセレフィン１２３３Ｚ）等を挙げることができる。

　パーフルオロカーボンとしては、例えば、パーフルオロヘキサン、パーフルオロメチルシクロヘキサン、パーフルオロ－１，３－ジメチルシクロヘキサン、パーフルオロベンゼン等を挙げることができる。

　ハイドロフルオロエーテルとしては、例えば、パーフルオロプロピルメチルエーテル（Ｃ_３Ｆ_７ＯＣＨ_３）（例えば、住友スリーエム株式会社製のＮｏｖｅｃ（商標）７０００）、パーフルオロブチルメチルエーテル（Ｃ_４Ｆ_９ＯＣＨ_３）（例えば、住友スリーエム株式会社製のＮｏｖｅｃ（商標）７１００）、パーフルオロブチルエチルエーテル（Ｃ_４Ｆ_９ＯＣ_２Ｈ_５）（例えば、住友スリーエム株式会社製のＮｏｖｅｃ（商標）７２００）、パーフルオロヘキシルメチルエーテル（Ｃ_２Ｆ_５ＣＦ（ＯＣＨ_３）Ｃ_３Ｆ_７）（例えば、住友スリーエム株式会社製のＮｏｖｅｃ（商標）７３００）等のアルキルパーフルオロアルキルエーテル（パーフルオロアルキル基及びアルキル基は、直鎖、又は、分枝状であってよい）；ＣＦ_３ＣＨ_２ＯＣＦ_２ＣＨＦ_２（例えば、旭硝子株式会社製のアサヒクリン（登録商標）ＡＥ－３０００）等を挙げることができる。

　フッ素系溶媒は、上記列挙のなかではｍ－ＸＨＦ、ＨＦＥ７１００、ＨＦＥ７２００、ＨＦＥ７３００、ＡＣ－６０００、パーフルオロヘキサン、及び、パーフロベンゼンが好ましい。

　非フッ素系溶媒としては、例えば、Ｓ原子含有溶媒、アミド系溶媒、エーテル系溶媒、含ハロゲン系溶媒、炭化水素系溶媒を挙げることができる。

　Ｓ原子含有溶媒としては、ジメチルスルホキシド、スルホラン、ジメチルスルフィド、二硫化炭素等を挙げることができる。
　アミド系溶媒としては、Ｎ－メチルピロリドン、Ｎ，Ｎ－ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、ヘキサメチルリン酸トリアミド等を挙げることができる。
　エーテル系溶媒としては、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、シクロペンチルメチルエーテル、エチレングリコール、モノグリム、ジグライム等を挙げることができる。
　含ハロゲン系溶媒としては、ジクロロメタン、クロロホルム等を挙げることができる。
　炭化水素系溶媒としては、ペンタン、ヘキサン、ヘプタン、ベンゼン、トルエン等を挙げることができる。

　溶媒は、１，１，１，２，２，３，３，４，４，５，５，６，６－トリデカフルオロオクタン、１，３－ビス（トリフルオロメチル）ベンゼン、ジグライム、及び、ジメチルスルホキシドからなる群より選ばれる少なくとも１種であることが好ましく、１，１，１，２，２，３，３，４，４，５，５，６，６－トリデカフルオロオクタン、１，３－ビス（トリフルオロメチル）ベンゼン及びジメチルスルホキシドからなる群より選ばれる少なくとも１種であることがより好ましい。このような溶媒を用いることにより、式（１Ａ）で表される化合物又は式（１Ｂ）で表される化合物と、式（２）で表される化合物とを溶解することができる。さらに、上記のような溶媒を用いると、式（１Ａ）で表される化合物又は式（１Ｂ）で表される化合物と、式（２）で表される化合物との反応活性を向上させ得る。また、上記のような溶媒を用いることにより、組成物中における水分の含有量を低減し得る。

　特に限定されるものではないが、上記溶媒は、式（１Ａ）で表される化合物、式（１Ｂ）で表される化合物、及び式（２）で表される化合物の合計量に対して、例えば、１～２００質量％、より具体的には、５０～１５０質量％含まれていてもよい。なお、式（１Ａ）で表される化合物及び式（１Ｂ）で表される化合物の質量としては、いずれか一方のみが存在する場合には、存在する化合物の質量を用いる。

　工程（Ｉ）の反応温度は、特に限定されない。例えば、反応温度は、０～２００℃、１０～１８０℃、２０～１６０℃であってもよい。

　本開示のオレフィン変性含フッ素化合物の製造方法は、工程（Ｉ）の後に、精製処理を行ってもよい。

　精製処理としては、例えば、分液処理等を挙げることができる。

　分液処理を行うと、目的とする化合物（即ち、式（３Ａ）で表される化合物及び式（３Ｂ）で表される化合物からなる群より選ばれる少なくとも１つ）を含む組成物の抽出が容易になる。分液処理は、例えば、工程（Ｉ）で得られた組成物に、水及び有機溶媒の少なくとも一方を添加する工程、及び、得られた水又は有機溶媒の層を分離する工程を含む。

　上記有機溶媒は、１種を単独で、又は、２種以上を組み合わせて用いてもよい。有機溶媒としては、アセトン、ペンタン、ヘキサン、ヘプタン、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、シクロペンチルメチルエーテル、パーフルオロヘキサン、ｍ－ＸＨＦ、ＨＦＥ７１００、ＨＦＥ７２００、ＨＦＥ７３００、ＡＣ－６０００、パーフルオロベンゼン、ＨＣＦＣ－２２５等を挙げることができる。

　上記有機溶媒の量は特に制限されない。一の態様において、工程（Ｉ）で用いる溶媒に対し、体積比で１．０～２．０加える。

　一の態様において、上記有機溶媒は、水分の含有量が少ないものを用いる。このような有機溶媒を用いることにより、工程（Ｉ）で得られる組成物に含まれる含水量が低くなる。上記有機溶媒における水分の含有量は、質量基準で、５，０００ｐｐｍ以下であることが好ましく、１，０００ｐｐｍ以下であることがより好ましく、５００ｐｐｍ以下であることが更に好ましく、１００ｐｐｍ以下であることが特に好ましい。

　一の態様において、分液処理後に、上記有機溶媒を含む層に脱水剤を加えて脱水処理してもよい。なお、上記有機溶媒を含む層には、オレフィン変性フッ素化合物が含まれる。
　上記脱水剤は、特に制限されない。一の態様において、上記脱水剤として、モレキュラーシーブ、酸化アルミニウム、塩化カルシウム、酸化カルシウム、硫酸カルシウム、酸化マグネシウム、過塩素酸マグネシウム、硫酸マグネシウム、炭酸カルシウム、シリカゲル、硫酸ナトリウム又はその混合物等を用いることができる。

　分液処理前、又は分液処理後に、揮発分を留去してもよい。

（組成物）
　一の態様において、式（３Ａ）で表される化合物は、組成物に含まれる固形分に対し、モル比で、０．７以上含まれ、０．８以上含まれることが好ましく、０．９以上含まれることがより好ましく、０．９５以上含まれることが更に好ましい。例えば、式（３Ａ）で表される化合物は、固形分に対し、モル比で、０．９８以上含まれていてもよく、０．９９以上含まれていてもよく、実質的に１であってもよい。

　一の態様において、式（３Ｂ）で表される化合物は、組成物に含まれる固形分に対し、モル比で、０．７以上含まれ、０．８以上含まれることが好ましく、０．９以上含まれることがより好ましく、０．９５以上含まれることが更に好ましい。例えば、式（３Ｂ）で表される化合物は、固形分に対し、０．９８以上含まれていてもよく、０．９９以上含まれていてもよく、実質的に１であってもよい。

　一の態様において、式（３Ａ）で表される化合物及び式（３Ｂ）で表される化合物は、その合計量が、組成物に含まれる固形分に対し、モル比で、０．７以上含まれ、０．８以上含まれることが好ましく、０．９以上含まれることがより好ましく、０．９５以上含まれることが更に好ましい。例えば、上記化合物は、固形分に対し、モル比で、０．９８以上含まれていてもよく、０．９９以上含まれていてもよく、実質的に１であってもよい。

　本明細書において、上記「実質的に１である」とは、固形分に対し、式（３Ａ）で表される化合物のみ、式（３Ｂ）で表される化合物のみ、又は、式（３Ａ）で表される化合物及び式（３Ｂ）で表される化合物が含まれる、あるいは、他の化合物が含まれる場合であっても、^１９Ｆ　ＮＭＲではその含有量を計算できない量含まれることをいう。

　上記固形分とは、例えば、上記組成物を、エバポレーター等を用いて濃縮した後、乾燥させたものを意味する。

　一の態様において、上記組成物は、例えば、式（３Ａ）で表される化合物は、組成物に対し、モル比で、０．７以上含まれていてもよく、０．８以上含まれていてもよく、０．９以上含まれていてもよく、０．９５以上含まれていてもよい。例えば、式（３Ａ）で表される化合物は、組成物に対し、モル比で、０．９８以上含まれていてもよく、０．９９以上含まれてもよく、実質的に１であってもよい。

　一の態様において、上記組成物は、例えば、式（３Ｂ）で表される化合物は、組成物に対し、モル比で、０．７以上含まれていてもよく、０．８以上含まれていてもよく、０．９以上含まれていてもよく、０．９５以上含まれていてもよい。例えば、式（３Ｂ）で表される化合物は、組成物に対し、モル比で、０．９８以上含まれていてもよく、０．９９以上含まれていてもよく、実質的に１であってもよい。

　一の態様において、上記組成物は、例えば、式（３Ａ）で表される化合物及び式（３Ｂ）で表される化合物の合計量は、組成物に対し、モル比で、０．７以上含まれていてもよく、０．８以上含まれていてもよく、０．９以上含まれていてもよく、０．９５以上含まれていてもよい。例えば、上記化合物は、組成物に対し、モル比で、０．９８以上含まれていてもよく、０．９９以上含まれていてもよく、実質的に１であってもよい。

　本開示では、反応において、金属原子を含む化合物を添加していない。このことから、例えばシリカゲル等を用いて、組成物中から、金属原子を含む化合物を除去する工程は、特に必要ではない。したがって、本開示では、組成物の精製を容易に行い得る。また、本開示においては、精製に要する時間を短縮し得る。なお、組成物には、金属を含む化合物が含まれないことが好ましい。金属を含む化合物を含まないことにより、工程（Ｉ）の後の反応を良好に進行することができる。例えば、該金属が触媒として働くことを阻害できる。また、金属を含む化合物を含まないことにより、組成物の保存時に、安定性が低下することを抑制できる。更に、組成物から表面処理層を良好に形成できる。この形成された表面処理層の耐久性は維持される。

　金属原子としては、例えば、スズ、パラジウム、銅、ニッケル、白金、銀、具体的には、スズを挙げることができる。

　上記金属原子（例えば、スズ）の含有量は、オレフィン変性含フッ素化合物に対し、好ましくは、質量基準で、１ｐｐｍ以下であり、特に好ましくは、１ｐｐｂ以下である。金属原子の含有量は、ＩＣＰ（Ｉｎｄｕｃｔｉｖｅｌｙ　Ｃｏｕｐｌｅｄ　Ｐｌａｓｍａ）発光分光分析装置を用いて測定することができる。なお、本明細書において、上記オレフィン変性含フッ素化合物とは、式（３Ａ）で表される化合物及び式（３Ｂ）で表される化合物からなる群より選ばれる少なくとも１つである。

　一の態様において、本開示の組成物は、オレフィン変性含フッ素化合物を有し、かつ、本質的に金属原子（例えば、スズ）を含まない。ここで、「本質的に含まない」とは、ＩＣＰ発光分光分析装置を用いて測定することができない範囲、例えば、オレフィン変性含フッ素化合物に対し、１ｐｐｂ以下であることを意味する。

　上記組成物は、さらに、他の成分を含み得る。他の成分としては、Ｒ^１Ａ－ＣＦＹ^１－Ｘ^１Ａ、Ｒ^１Ａ－ＣＦＹ^１－Ｈ、Ｒ^１Ａ－（ＣＦＹ^１）_２－Ｒ^１Ａ、溶媒等が挙げられる。各符号は、それぞれ上記と同意義である。溶媒としては、上記の溶媒を挙げることができる。

　本開示の組成物は、表面処理剤等の添加剤、グリースの原料、シーラント、樹脂用モノマー等として用い得る。

　本開示の組成物は、非反応性のフルオロポリエーテル基含有化合物（例えば、「含フッ素オイル」と称される化合物）、又は、シリコーンオイルとして理解され得る（非反応性の）シリコーン化合物（例えば、「シリコーンオイル」と称される化合物）の等の添加剤、触媒、界面活性剤、重合禁止剤、増感剤、ゾルーゲル、炭化水素系重合体、含フッ素重合体、ラジカル補足剤、無機多孔質、脱水剤、又は、脱ハロゲン化合物等を、さらに含み得る。

　含フッ素オイルとしては、特に限定されるものではないが、例えば、以下の一般式（４）で表される化合物（パーフルオロ（ポリ）エーテル化合物）が挙げられる。
　Ｒｆ^５－（ＯＣ_４Ｆ_８）_ａ’－（ＯＣ_３Ｆ_６）_ｂ’－（ＯＣ_２Ｆ_４）_ｃ’－（ＯＣＦ_２）_ｄ’－Ｒｆ^６　　　・・・（４）
　式中、Ｒｆ^５は、１個又はそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよい炭素数１～１６アルキル基（好ましくは、Ｃ_１―１６のパーフルオロアルキル基）を表し、Ｒｆ^６は、１個又はそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよい炭素数１～１６アルキル基（好ましくは、Ｃ_１－１６パーフルオロアルキル基）、フッ素原子、又は、水素原子を表し、Ｒｆ^５及びＲｆ^６は、より好ましくは、それぞれ独立して、Ｃ_１－３パーフルオロアルキル基である。
　ａ’、ｂ’、ｃ’及びｄ’は、ポリマーの主骨格を構成するパーフルオロ（ポリ）エーテルの４種の繰り返し単位数をそれぞれ表し、互いに独立して０以上３００以下の整数であって、ａ’、ｂ’、ｃ’及びｄ’の和は少なくとも１、好ましくは１～３００、より好ましくは２０～３００である。添字ａ’、ｂ’、ｃ’又はｄ’を付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は、式中において任意である。これら繰り返し単位のうち、－（ＯＣ_４Ｆ_８）－は、－（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）－、－（ＯＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２ＣＦ_２）－、－（ＯＣＦ_２ＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２）－、－（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ（ＣＦ_３））－、－（ＯＣ（ＣＦ_３）_２ＣＦ_２）－、－（ＯＣＦ_２Ｃ（ＣＦ_３）_２）－、－（ＯＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ（ＣＦ_３））－、－（ＯＣＦ（Ｃ_２Ｆ_５）ＣＦ_２）－及び（ＯＣＦ_２ＣＦ（Ｃ_２Ｆ_５））－のいずれであってもよいが、好ましくは－（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）－である。－（ＯＣ_３Ｆ_６）－は、－（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）－、－（ＯＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２）－及び（ＯＣＦ_２ＣＦ（ＣＦ_３））－のいずれであってもよく、好ましくは－（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）－である。－（ＯＣ_２Ｆ_４）－は、－（ＯＣＦ_２ＣＦ_２）－及び（ＯＣＦ（ＣＦ_３））－のいずれであってもよいが、好ましくは－（ＯＣＦ_２ＣＦ_２）－である。

　上記一般式（４）で表されるパーフルオロ（ポリ）エーテル化合物の例として、以下の一般式（４ａ）及び（４ｂ）のいずれかで示される化合物（１種又は２種以上の混合物であってよい）が挙げられる。
　Ｒｆ^５－（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）_ｂ”－Ｒｆ^６　　　　　　　・・・（４ａ）
　Ｒｆ^５－（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）_ａ”－（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）_ｂ”－（ＯＣＦ_２ＣＦ_２）_ｃ”－（ＯＣＦ_２）_ｄ”－Ｒｆ^６　　　　　　　・・・（４ｂ）
　これら式中、Ｒｆ^５及びＲｆ^６は上記の通りであり；式（４ａ）において、ｂ”は１以上１００以下の整数であり；式（４ｂ）において、ａ”及びｂ”は、それぞれ独立して０以上３０以下の整数であり、ｃ”及びｄ”はそれぞれ独立して１以上３００以下の整数である。添字ａ”、ｂ”、ｃ”、ｄ”を付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は、式中において任意である。

　また、別の観点から、含フッ素オイルは、一般式Ｒｆ^３－Ｆ（式中、Ｒｆ^３はＣ_５－１６パーフルオロアルキル基である。）で表される化合物であってよい。また、クロロトリフルオロエチレンオリゴマーであってもよい。

　上記含フッ素オイルは、５００～１０，０００の数平均分子量を有していてよい。含フッ素オイルの分子量は、ゲル浸透クロマトグラフィーを用いて測定し得る。

　含フッ素オイルは、本開示の組成物に対して、例えば０～５０質量％、好ましくは０～３０質量％、より好ましくは０～５質量％含まれ得る。一の態様において、本開示の組成物は、含フッ素オイルを実質的に含まない。含フッ素オイルを実質的に含まないとは、含フッ素オイルを全く含まない、又は、極微量の含フッ素オイルを含んでいてもよいことを意味する。

　含フッ素オイルは、本開示の組成物によって形成された層の表面滑り性を向上させるのに寄与する。

　一の態様において、オレフィン変性含フッ素化合物の平均分子量よりも、含フッ素オイルの平均分子量を大きくしてもよい。このような平均分子量とすることにより、より優れた摩擦耐久性と表面滑り性を得ることができる。本態様は、真空蒸着法により表面処理層を形成する場合には特に有利である。

　一の態様において、オレフィン変性含フッ素化合物の平均分子量よりも、含フッ素オイルの平均分子量を小さくしてもよい。このような平均分子量とすることにより、本開示の組成物は、該組成物を用いて形成される硬化物の透明性の低下を抑制しつつ、高い摩擦耐久性及び高い表面滑り性を有する硬化物を形成できる。

　上記シリコーンオイルとしては、例えばシロキサン結合が２，０００以下の直鎖状、又は、環状のシリコーンオイルを用い得る。直鎖状のシリコーンオイルは、いわゆるストレートシリコーンオイル及び変性シリコーンオイルであってよい。ストレートシリコーンオイルとしては、ジメチルシリコーンオイル、メチルフェニルシリコーンオイル、メチルハイドロジェンシリコーンオイルが挙げられる。変性シリコーンオイルとしては、ストレートシリコーンオイルを、アルキル、アラルキル、ポリエーテル、高級脂肪酸エステル、フルオロアルキル、アミノ、エポキシ、カルボキシル、アルコールなどにより変性したものが挙げられる。環状のシリコーンオイルは、例えば環状ジメチルシロキサンオイルなどが挙げられる。

　本開示の組成物中、かかるシリコーンオイルは、上記本開示の含フッ素ポリエーテル基含有化合物の合計１００質量部（２種以上の場合にはこれらの合計、以下も同様）に対して、例えば０～３００質量部、好ましくは５０～２００質量部で含まれ得る。

　シリコーンオイルは、表面処理層の表面滑り性を向上させるのに寄与する。

　上記触媒としては、酸（例えば酢酸、トリフルオロ酢酸等）、塩基（例えばアンモニア、トリエチルアミン、ジエチルアミン等）等が挙げられる。

　以上、実施形態を説明したが、特許請求の範囲の趣旨及び範囲から逸脱することなく、形態や詳細の多様な変更が可能なことが理解されるであろう。

　以下、実施例を通じてより具体的に説明するが、本開示はこれら実施例に限定されるものではない。

　各化合物中のスズの定量分析は、ＩＣＰ発光分光分析装置（ＩＣＰ－ＯＥＳ）を用いて測定した。プラズマ導入時のキャリアガス流量は１２Ｌ／ｍｉｎ、ネブライザー導入時は０．７Ｌ／ｍｉｎの条件において測定を実施した。
・ＩＣＰ－ＯＥＳ：アジレント社製５９００
・測定波長：Ｓｎ　１８８．９２５ｎｍ

（実施例１）
　アルゴン雰囲気下、フラスコに、ＣＦ_３ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ（ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）_ｎＣＦ_２ＣＦ_２－Ｉ　０．５１ｇ（ｎ＝２９、重量平均分子量（Ｍｗ）５，１００）、１，３－ビス（トリフルオロメチル）ベンゼン　０．４ｍＬ、アゾビスイソブチロニトリル（ＡＩＢＮ）　２．４ｍｇ、及び、１，１，１，３，３，３－ヘキサメチル－２－（２－プロペン－１－イル）－２－（トリメチルシリル）トリシラン　０．５３ｍｍｏｌを導入した。この反応溶液を９０℃で３時間撹拌した後、室温まで冷却した。なお、重量平均分子量は、^１９Ｆ　ＮＭＲで求めた。

　得られた反応溶液にアセトンとパーフルオロヘキサンを加えて分液した。揮発分の留去後、得られた組成物を^１９Ｆ　ＮＭＲを用いて分析した。組成物１００質量部に対し、化合物（Ａ）は１００質量部含まれていた。

化合物（Ａ）：

　化合物（Ａ）のＮＭＲ分析結果：
¹H NMR (D₂O, C₆F₆): δ 2.63 (td, J = 17.42, 6.96 Hz, 2H), 5.11 (d, J = 7.28 Hz, 1H), 5.14 (s, 1H), 5.56 － 5.72 (m, 1H);
¹⁹F NMR (D₂O, C₆F₆ ; δ -163): δ -80.57 (t, J = 7.57 Hz, 3F), -81.10 － -81.70 (m, 4nF), -82.25 (m, 2F), -82.70 － -82.80 (m, 2F), -85.67 (t, J = 13.41 Hz, 2F), -86.12 (s, 2F), -87.53 － -87.54 (m, 2F), -116.74 (t, J = 11.29 Hz, 2F), -127.70 － -128.15 (m, 2nF), -128.68 (s, 2F).

（比較例１）
　１，１，１，３，３，３－ヘキサメチル－２－（２－プロペン－１－イル）－２－（トリメチルシリル）トリシランの代わりにアリルトリブチルスズを０．３２ｍｍｏｌ用いた以外は、実施例１と同様の条件で反応を行った。

　得られた反応溶液にアセトンとパーフルオロヘキサンを加えて分液した。揮発分の留去後、得られた組成物を、シリカゲルカラムを用いて精製した。得られた留出液の揮発分を減圧留去し、得られた組成物を^１９Ｆ　ＮＭＲを用いて分析した。組成物１００質量部に対し、化合物（Ａ）は９７質量部含まれていた。スズの定量分析を、ＩＣＰ－ＯＥＳにより行った。スズは、化合物（Ａ）に対し４０ｐｐｍ含まれていた。

（実施例２）
　１，１，１，３，３，３－ヘキサメチル－２－（２－プロペン－１－イル）－２－（トリメチルシリル）トリシランの代わりに、１，１，１，３，３，３－ヘキサメチル－２－（２－メチル－２－プロペン－１－イル）－２－（トリメチルシリル）トリシランを用いた以外は、実施例１と同様の条件で反応を行った。

　得られた反応溶液にアセトンとパーフルオロヘキサンとを加えて分液した。揮発分の留去後、得られた組成物を^１９Ｆ　ＮＭＲを用いて分析した。組成物１００質量部に対し、化合物（Ｂ）は８４質量部含まれていた。

化合物（Ｂ）：

　化合物（Ｂ）のＮＭＲ分析結果：
¹H NMR (D₂O, C₆F₆): δ 1.65 (s, 3H), 2.55 (t, J = 18.44 Hz, 1H), 4.69 (s, 1H), 4.82 (t, J = 1.40 Hz, 1H);
¹⁹F NMR (D₂O, C₆F₆ ; δ -163): δ -80.58 (t, J = 7.57 Hz, 3F), -81.74 － -81.99 (m, 4nF), -82.27 － -82.28 (m, 2F), -82.76 － -82.85 (m, 2F), -86.15 (s, 2F), -86.38 (t, J = 13.41 Hz, 2F), -87.10 － -87.20 (m, 2F), -115.74 (t, J = 18.48 Hz, 2F), -127.70 － -128.10 (m, 2nF), -128.73 (s, 2F)

　上記のように、実施例１においては、比較例１よりも、形成されるオレフィン変性含フッ素化合物の選択率が向上した。比較例１では、トリブチルスズラジカルとヨウ素ラジカルとの反応が早く進み、ＣＦ_３ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ（ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）_ｎＣＦ_２ＣＦ_２のラジカルが多く生じると考えられる。比較例１では、このラジカルに起因した副反応が進行しやすくなり、その結果、オレフィン変性含フッ素化合物の選択率は低くなったと考えられる。

　本開示によると、オレフィン変性含フッ素化合物の新たな製造方法を得ることができる。本開示では、オレフィン変性含フッ素化合物の選択率が向上し得る。

Claims

　式（１Ａ）で表される化合物又は式（１Ｂ）で表される化合物と、式（２）で表される化合物とを、ラジカル開始剤の存在下で反応させる、オレフィン変性含フッ素化合物の製造方法。
Ｒ^１Ａ－ＣＦＹ^１－Ｘ^１　　　　・・・（１Ａ）
［式中：
　Ｒ^１Ａは、１価の有機基であり；
　Ｙ^１は、水素原子、又は、ハロゲン原子であり；
　Ｘ^１は、フッ素原子以外のハロゲン原子である。]
Ｘ^１－ＣＦＹ^１－Ｒ^１Ｂ－ＣＦＹ^１－Ｘ^１　　　　・・・（１Ｂ）
［式中：
　Ｒ^１Ｂは、２価の有機基であり；
　Ｙ^１は、それぞれ独立して、水素原子、又は、ハロゲン原子であり；
　Ｘ^１は、それぞれ独立して、フッ素原子以外のハロゲン原子である。]
Ｒ^２ _３Ｓｉ－（ＣＨ_２）_ｎ１－ＣＲ^４＝ＣＲ^５Ｒ^６　　　・・・（２）
［式中：
　Ｒ^２は、それぞれ独立して、Ｒ^２１ _３Ｓｉ－を含む１価の基であり；
　　Ｒ^２１は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子、又は、Ｃ_１－１２アルキル基であり；
　　前記Ｃ_１－１２アルキル基は、ハロゲン原子により置換されていてもよく；
　ｎ１は、１～１０の整数であり；
　Ｒ^４、Ｒ^５及びＲ^６は、それぞれ独立して、水素原子、又は、Ｃ_１－１０アルキル基である。］
　前記Ｙ^１は、フッ素原子である、請求項１に記載の製造方法。
　前記Ｘ^１は、臭素原子、又は、ヨウ素原子である、請求項１又は２に記載の製造方法。
　前記Ｒ^１Ａは、Ｒｆ^１－Ｒ^Ｆ１－（Ｏ）_ｎ２１－で表され；
　Ｒｆ^１は、１個以上のフッ素原子で置換されていてもよいＣ_１－１６アルキル基であり；
　Ｒ^Ｆ１は、式：
－（ＯＣ_６Ｆ_１２）_ａ１－（ＯＣ_５Ｆ_１０）_ｂ１－（ＯＣ_４Ｆ_８）_ｃ１－（ＯＣ_３Ｒ^Ｆａ _６）_ｄ１－（ＯＣ_２Ｆ_４）_ｅ１－（ＯＣＦ_２）_ｆ１－
で表される基であり；
　　ａ１、ｂ１、ｃ１、ｄ１、ｅ１及びｆ１は、それぞれ独立して、０～２００の整数であって、ａ１、ｂ１、ｃ１、ｄ１、ｅ１及びｆ１の和は１以上であり、ａ１、ｂ１、ｃ１、ｄ１、ｅ１、又はｆ１を付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は式中において任意であり；
　　Ｒ^Ｆａは、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子、フッ素原子、又は、塩素原子であり；
　ｎ２１は、０又は１である、
　請求項１又は２に記載の製造方法。
　前記Ｒ^１Ｂは、－（Ｒｆ^２）_ｎ２３－Ｒ^Ｆ１－（Ｏ）_ｎ２２－で表され；
　Ｒｆ^２は、２価の有機基であり；
　Ｒ^Ｆ１は、式：
－（ＯＣ_６Ｆ_１２）_ａ１－（ＯＣ_５Ｆ_１０）_ｂ１－（ＯＣ_４Ｆ_８）_ｃ１－（ＯＣ_３Ｒ^Ｆａ _６）_ｄ１－（ＯＣ_２Ｆ_４）_ｅ１－（ＯＣＦ_２）_ｆ１－
で表される基であり；
　　ａ１、ｂ１、ｃ１、ｄ１、ｅ１及びｆ１は、それぞれ独立して、０～２００の整数であって、ａ１、ｂ１、ｃ１、ｄ１、ｅ１及びｆ１の和は１以上であり、ａ１、ｂ１、ｃ１、ｄ１、ｅ１、又はｆ１を付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は式中において任意であり；
　　Ｒ^Ｆａは、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子、フッ素原子、又は、塩素原子であり；
　ｎ２２は、０又は１であり；
　ｎ２３は、０又は１である、
　請求項１又は２に記載の製造方法。
　前記Ｒ^２は、それぞれ独立して、Ｒ^２１ _３Ｓｉ－であり；
　前記Ｒ^２１は、それぞれ独立して、ハロゲン原子により置換されていてもよいＣ_１－４アルキル基であり；
　前記Ｃ_１－４アルキル基は、直鎖状、又は、分岐状である、
　請求項１又は２に記載の製造方法。
　前記Ｒ^２は、それぞれ独立して、（ＣＨ_３）_３Ｓｉ－である、請求項６に記載の製造方法。
　式（１Ａ）で表される化合物又は式（１Ｂ）で表される化合物と、式（２）で表される化合物との反応の後に、精製処理を行う、請求項１又は２に記載の製造方法。
　前記オレフィン変性含フッ素化合物は、式（３Ａ）で表される化合物、又は、式（３Ｂ）で表される化合物である、請求項１又は２に記載の製造方法。
Ｒ^１Ａ－ＣＦＹ^１－ＣＲ^５Ｒ^６－ＣＲ^４＝ＣＨ－（ＣＨ_２）_ｎ１－１Ｈ　　・・・（３Ａ）
［式中：
　Ｒ^１Ａ、Ｙ^１、ｎ１、Ｒ^４、Ｒ^５及びＲ^６は、それぞれ請求項１の記載と同じである。］
Ｈ（ＣＨ_２）_ｎ１－１－ＣＨ＝ＣＲ^４－ＣＲ^５Ｒ^６－ＣＦＹ^１－Ｒ^１Ｂ－ＣＦＹ^１－ＣＲ^５Ｒ^６－ＣＲ^４＝ＣＨ－（ＣＨ_２）_ｎ１－１Ｈ　　・・・（３Ｂ）
［式中：
　Ｒ^１Ｂ、Ｙ^１、ｎ１、Ｒ^４、Ｒ^５及びＲ^６は、それぞれ請求項１の記載と同じである。］
　式（３Ａ）で表されるオレフィン変性含フッ素化合物及び式（３Ｂ）で表されるオレフィン変性含フッ素化合物の少なくとも１つと、前記式（３Ａ）で表されるオレフィン変性含フッ素化合物及び式（３Ｂ）で表されるオレフィン変性含フッ素化合物の合計量に対して１ｐｐｍ以下のスズとを含む、組成物。
Ｒ^１Ａ－ＣＦＹ^１－ＣＲ^５Ｒ^６－ＣＲ^４＝ＣＨ－（ＣＨ_２）_ｎ１－１Ｈ　　・・・（３Ａ）
［式中：
　Ｒ^１Ａは、１価の有機基であり；
　Ｙ^１は、水素原子、又は、ハロゲン原子であり；
　ｎ１は、１～１０の整数であり；
　Ｒ^４、Ｒ^５及びＲ^６は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子、又は、Ｃ_１－１０アルキル基である。］
Ｈ（ＣＨ_２）_ｎ１－１－ＣＨ＝ＣＲ^４－ＣＲ^５Ｒ^６－ＣＦＹ^１－Ｒ^１Ｂ－ＣＦＹ^１－ＣＲ^５Ｒ^６－ＣＲ^４＝ＣＨ－（ＣＨ_２）_ｎ１－１Ｈ　　・・・（３Ｂ）
［式中：
　Ｒ^１Ｂは、２価の有機基であり；
　Ｙ^１は、それぞれ独立して、水素原子、又は、ハロゲン原子であり；
　ｎ１は、それぞれ独立して、１～１０の整数であり；
　Ｒ^４、Ｒ^５及びＲ^６は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子、又は、Ｃ_１－１０アルキル基である。］
　前記スズの含有量は、前記式（３Ａ）で表されるオレフィン変性含フッ素化合物及び前記式（３Ｂ）で表されるオレフィン変性含フッ素化合物の合計量に対して、１ｐｐｂ以下である、請求項１０に記載の組成物。