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WO2024071150A1 - 電極層形成性硬化性オルガノポリシロキサン組成物、電極層を備えた積層体、その用途、およびその製造方法 - Google Patents

電極層形成性硬化性オルガノポリシロキサン組成物、電極層を備えた積層体、その用途、およびその製造方法 Download PDF

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WO2024071150A1
WO2024071150A1 PCT/JP2023/035043 JP2023035043W WO2024071150A1 WO 2024071150 A1 WO2024071150 A1 WO 2024071150A1 JP 2023035043 W JP2023035043 W JP 2023035043W WO 2024071150 A1 WO2024071150 A1 WO 2024071150A1
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WO
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electrode layer
composition
organopolysiloxane
component
group
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PCT/JP2023/035043
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English (en)
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Inventor
弘 福井
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Dow Toray Co Ltd
Original Assignee
Dow Toray Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
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Publication date
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Priority to EP23872372.0A priority patent/EP4582487A1/en
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    • H04R19/00—Electrostatic transducers
    • H04R19/01—Electrostatic transducers characterised by the use of electrets

Definitions

  • the present invention relates to an electrode layer-forming curable organopolysiloxane composition that forms an electrode layer that has excellent electrical conductivity and little temperature dependency of its viscoelasticity through a curing reaction, a laminate having an electrode layer formed using the composition, uses thereof, a manufacturing method thereof, and a manufacturing device thereof.
  • Organopolysiloxane cured products having a polysiloxane skeleton have excellent transparency, electrical insulation, heat resistance, cold resistance, etc., and electrical activity can be improved by introducing highly dielectric functional groups such as fluoroalkyl groups if desired. They can also be easily processed into film or sheet form, and are therefore used in a variety of applications, including adhesive films for various electric and electronic devices and electrically active films for transducer devices such as actuators. These organopolysiloxane cured products are classified into hydrosilylation reaction curing type, condensation reaction curing type, peroxide curing type, etc., depending on their curing mechanism. In particular, organopolysiloxane cured film using a hydrosilylation reaction curing type curable organopolysiloxane composition is widely used because it cures quickly when left at room temperature or heated and does not produce by-products.
  • Non-Patent Documents 1 and 2 propose forming an electrode layer with excellent conformity to the dielectric layer by adding a conductive filler to a silicone elastomer matrix with excellent flexibility.
  • an electrode layer with a conductive filler added on an organopolysiloxane cured film which is an electroactive film
  • interfacial peeling between the dielectric layer and the electrode layer may occur, particularly with displacement of the dielectric layer (e.g., expansion and contraction of an actuator, etc.), which may lead to poor electrical conductivity and reduced reliability as an actuator.
  • Patent Document 2 in which a functional group involved in a common curing reaction to form a chemical bond at the interface is used in a dielectric layer/electrode layer-forming organopolysiloxane composition to improve the conformability of the electrode surface as a transducer material for actuators, etc.
  • the present invention has been made to solve the above problems, and aims to provide an electrode layer-forming composition that can be applied to a variety of processes, including electrode printing processes, and that can form an electrode layer with viscoelastic properties sufficient for practical use, in which the viscoelasticity of the resulting electrode does not change significantly even when used in a wide range of temperatures, including high temperatures of 100°C or higher, and that is remarkably excellent in heat resistance, durability, adhesion to dielectric layers, conformability, and shape retention, and that is unlikely to cause problems such as peeling or defects in the electrode layer even when used in transducers that assume high levels of physical displacement, such as actuators, and a laminate using the same, as well as uses and manufacturing methods thereof.
  • a polymerizable composition comprising (A) a linear organopolysiloxane having curable reactive functional groups containing carbon-carbon double bonds at least at both ends of the molecular chain, (B) a siloxane unit (M unit) represented by R 3 SiO 1/2 (wherein R is each independently a monovalent organic group) and SiO and (E) conductive fine particles, the composition is non-flowable at 25° C. and has heat-melting properties, and the content of component (B) in the composition is less than 45 mass % based on the total mass of the composition.
  • the conductive fine particles are fine particles containing at least one conductive carbon selected from carbon nanotubes (CNT), conductive carbon black, graphite, and vapor grown carbon (VGCF), and the composition contains component (A), component (B), and optionally (BX) an organopolysiloxane resin containing siloxane units (M units) represented by R 3 SiO 1/2 (wherein R are each independently a monovalent organic group) and siloxane units (Q units) represented by SiO 4/2 in a molecule having a weight average molecular weight of less than 5,000 in terms of standard polystyrene,
  • M units siloxane units represented by R 3 SiO 1/2
  • Q units siloxane units represented by SiO 4/2
  • the present inventors have found that the above-mentioned problems can be solved by an electrode layer-forming curable organopolysiloxane composition in which the contents of components (A), (B) and (BX) in the entire composition are in the range of 50 to 95 mass %,
  • the electrode layer-forming curable organopolysiloxane composition of the present invention can achieve viscoelasticity and excellent electrical conductivity in the resulting electrode layer, so it is particularly preferable to use a certain amount of fibrous conductive carbon such as single-walled carbon nanotubes (SWCNT) as the conductive fine particles (E).
  • fibrous conductive carbon such as single-walled carbon nanotubes (SWCNT)
  • a method for producing a laminate and a method for forming an electrode layer in a transducer member which includes the method, comprising: step I: obtaining an organopolysiloxane cured film, which is a dielectric layer, by curing a curable organopolysiloxane composition that provides a dielectric layer by curing into a film; and step II: simultaneously with or after step I, applying an electrode layer obtained by a curing reaction of the electrode layer-forming curable organopolysiloxane composition onto the organopolysiloxane cured film or its precursor in step I, and forming an electrode layer by the curing reaction.
  • the present invention provides an electrode layer-forming composition that can be applied to a variety of processes, including printing, and that can form an electrode layer having sufficient viscoelastic properties for practical use, in which the electrode obtained by the curing reaction does not change significantly in viscoelasticity even when used in a wide temperature range, including high temperatures of 100°C or higher, and is remarkably excellent in heat resistance, durability, adhesion to a dielectric layer, conformability, and shape retention, and is unlikely to cause problems such as peeling or defects in the electrode layer even when used in a transducer that assumes high physical displacement such as an actuator, a laminate using the same, and uses and manufacturing methods thereof.
  • the present invention provides a laminate that is unlikely to cause interfacial peeling with the organopolysiloxane cured film that is the dielectric layer even when used in a wide temperature range, including high temperatures of 100°C or higher, and has excellent reliability in applications such as actuators and the like, and a manufacturing method thereof.
  • the electrode layer-forming curable organopolysiloxane composition (hereinafter, sometimes referred to as "the composition") will be described.
  • the composition is characterized in that it contains (A) a linear organopolysiloxane having curable reactive functional groups containing carbon-carbon double bonds at least at both ends of the molecular chain, (B) an organopolysiloxane resin containing siloxane units (M units) represented by R 3 SiO 1/2 (wherein R each independently represents a monovalent organic group) and siloxane units (Q units) represented by SiO 4/2 in a molecule having a weight average molecular weight of 5000 or more in terms of standard polystyrene, and (E) conductive fine particles, and is non-fluid at 25°C and has heat melting properties, and the content of component (B) in the composition is less than 45 mass% of the entire composition.
  • the present composition is one in which the amount of the organopolysiloxane resin having a large average molecular weight, which is the component (B), is used is small, and the use or combination of an organopolysiloxane resin having a smaller average molecular weight than the component (B) is permitted.
  • the present composition is preferably an electrode layer-forming curable organopolysiloxane composition that contains components (A), (B), and optionally (BX) an organopolysiloxane resin containing a siloxane unit (M unit) represented by R 3 SiO 1/2 (wherein R independently represents a monovalent organic group) and a siloxane unit (Q unit) represented by SiO 4/2 in the molecule having a weight average molecular weight of less than 5000 in terms of standard polystyrene, the contents of components (A), (B), and (BX) in the entire composition being in the range of 50 to 95% by mass, and the mass ratio of components (A) and (B) being in the range of 100:0 to 50:50.
  • M unit siloxane unit represented by R 3 SiO 1/2
  • Q unit siloxane unit represented by SiO 4/2
  • composition has curing reactivity, and in particular, since component (A) has a curing-reactive functional group containing a carbon-carbon double bond, it is preferable that the composition has curing reactivity by hydrosilylation reaction.
  • the composition further contains (C) an organohydrogenpolysiloxane having at least two silicon-bonded hydrogen atoms in the molecule, in an amount such that the number of silicon-bonded hydrogen atoms in this component is 0.1 to 1.5 moles per mole of the total number of carbon-carbon double bonds in the composition, and (D) an effective amount of a hydrosilylation reaction catalyst.
  • the composition may further contain a component selected from (F) a reinforcing filler, (G) a cure retarder, and (H) an adhesion promoter.
  • An electrode layer made of a cured organopolysiloxane obtained by a curing reaction of this composition has excellent viscoelasticity, particularly at high temperatures, and it is easy to obtain an electrode layer having a shear storage modulus (G') at 110°C in the range of 1.0 x 10 4 to 1.5 x 10 6 Pa.
  • this composition makes it possible to suitably obtain an electrode layer having a shear storage modulus (G') at 110°C in the range of 2.0 x 10 4 to 1.0 x 10 6 Pa.
  • the viscoelasticity of the electrode layer obtained using the present composition at room temperature is not particularly limited, but after the electrode layer is formed, the shear storage modulus (G ' 25°C ) at 25°C may be in the range of 1.0 x 10 5 to 7.5 x 10 6 Pa, and practically sufficient viscoelasticity can be realized in the electrode layer even at room temperature.
  • the tan ⁇ value of the composition at 25°C before or after the electrode is formed is 0.30 or more, and in particular, it is preferable that the tan ⁇ value of the composition before the electrode is formed is in the range of 0.35 to 0.99. This is because, when the viscoelasticity of the present composition or the electrode layer made of the composition satisfies the above conditions, an electrode layer having practically sufficient viscoelastic properties that is unlikely to cause problems such as peeling or defects of the electrode layer can be formed.
  • Component (A) is a chain organopolysiloxane having a curing reactive functional group containing a carbon-carbon double bond at least at both ends of the molecular chain, and is a component that realizes good viscoelasticity, especially at high temperatures, in the electrode layer obtained by the curing reaction.
  • chain organopolysiloxanes include those having a linear or branched chain structure with a small number of branching points, but in practical terms, linear organopolysiloxanes are particularly preferred. If a highly branched organopolysiloxane is used, it may be difficult to realize heat melting properties or the electrode layer may become hard and no viscoelasticity may be obtained, which is not preferable.
  • Component (A) has a curing reactive functional group containing a carbon-carbon double bond at least at both ends of the molecular chain.
  • the curing reactive functional group containing a carbon-carbon double bond is a curing reactive group selected from an alkenyl group having 2 to 20 carbon atoms, such as a vinyl group; or a (meth)acrylic-containing group, such as a 3-acryloxypropyl group or a 3-methacryloxypropyl group, with an alkenyl group having 2 to 6 carbon atoms being particularly preferred.
  • the linear organopolysiloxane in component (A) may contain a group selected from a monovalent hydrocarbon group that does not have a carbon-carbon double bond in the molecule, a hydroxyl group, and an alkoxy group having 1 to 3 carbon atoms.
  • the monovalent hydrocarbon group may have some of its hydrogen atoms substituted with halogen atoms or hydroxyl groups. From an industrial perspective, methyl groups, phenyl groups, hydroxyl groups, and alkoxy groups are preferred.
  • the preferred component (A) is a copolymer having (Alk)R 2 2 SiO 1/2 at both ends of its molecular chain. (wherein Alk is an alkenyl group having 2 or more carbon atoms), and the other siloxane units are linear organopolysiloxanes consisting essentially of siloxane units represented by R 2 2 SiO 2/2 .
  • R 2 is a group selected from the monovalent hydrocarbon group not having a carbon-carbon double bond, a hydroxyl group, and an alkoxy group, and is industrially preferably a methyl group, a phenyl group, a hydroxyl group, or an alkoxy group, and may all be methyl groups.
  • the degree of polymerization of the siloxane of component (A) is in the range of 7 to 1002, and may be in the range of 102 to 902, including the terminal siloxane units.
  • Component (B) is an organopolysiloxane resin having a standard polystyrene-equivalent weight average molecular weight of 5000 or more measured by GPC (gel permeation chromatography) using an organic solvent such as toluene or xylene, and having M units and Q units in the molecule.
  • the composition is characterized in that the amount of component (B) used is a certain amount or less.
  • Component (B) is an MQ-type organopolysiloxane resin having a molecular weight of a certain amount or more, but if the amount of component (B) is large, the temperature dependency of the viscoelasticity of the electrode layer obtained by the curing reaction of the composition, especially at high temperatures, becomes large. On the other hand, by using component (B) in combination, the heat resistance, durability, adhesion to the dielectric layer, followability, and shape retention of the electrode may be improved, so that the performance of the electrode layer according to the present invention may be improved as long as the amount of component (B) is within the range of an appropriate amount.
  • the first feature of component (B) is that it is a high molecular weight organopolysiloxane resin with a weight average molecular weight of 5000 or more. From the standpoint of the temperature dependency of the viscoelasticity of the resulting cured product and the shape retention of the resulting electrode, the weight average molecular weight of component (B) is 5500 or more, 6000 or more, and industrially it may be in the range of 5500 to 100,000, or 6000 to 50,000.
  • the weight average molecular weight of component (B) is less than the lower limit (i.e., low molecular weight organopolysiloxane resin), i.e., (BX) an organopolysiloxane resin containing siloxane units (M units) represented by R 3 SiO 1/2 (wherein R independently represents a monovalent organic group) and siloxane units (Q units) represented by SiO 4/2 in a molecule having a weight average molecular weight of less than 5000 in terms of standard polystyrene may be blended into the composition according to the present invention.
  • the lower limit i.e., low molecular weight organopolysiloxane resin
  • M units siloxane units represented by R 3 SiO 1/2
  • Q units siloxane units represented by SiO 4/2
  • component (BX) Since component (BX) has a small molecular weight, even if it is blended into an electrode layer obtained by a curing reaction of this composition, the temperature dependency of viscoelasticity at high temperatures does not become too large, and stable performance may be achieved. That is, in the present invention, the content of component (B), which is a high molecular weight organopolysiloxane resin having a molecular weight of a certain level or more, significantly affects the performance of the electrode layer, particularly at high temperatures, and it is permissible to blend a small molecular weight component (BX) in a range of 45 mass% or more.
  • Component (B) or component (BX) has siloxane units (M units) represented by R 3 SiO 1/2 (wherein R each independently represents a monovalent organic group) and siloxane units (Q units) represented by SiO 4/2 in the molecule, and may optionally contain siloxane units selected from R 2 SiO 2/2 (D units) and RSiO 3/2 (T units), and has the following average unit formula: ( R3SiO1 /2 )p( R2SiO2/2 ) q(RSiO3/ 2 )r(SiO4 /2 )s(XO1 /2 )t
  • the organopolysiloxane resin is represented by the formula:
  • R is a monovalent organic group, which may be a curing reactive group containing a carbon-carbon double bond, or may be a group selected from a monovalent hydrocarbon group, a hydroxyl group, and an alkoxy group that does not have a carbon-carbon double bond in the molecule.
  • curing reactive group containing a carbon-carbon double bond represented by R examples include alkenyl groups having 2 to 20 carbon atoms, such as vinyl groups, allyl groups, butenyl groups, pentenyl groups, hexenyl groups, heptenyl groups, octenyl groups, nonenyl groups, decenyl groups, undecenyl groups, and dodecenyl groups; acrylic-containing groups, such as 3-acryloxypropyl groups and 4-acryloxybutyl groups; and methacrylic-containing groups, such as 3-methacryloxypropyl groups and 4-methacryloxybutyl groups.
  • alkenyl groups having 2 to 20 carbon atoms such as vinyl groups, allyl groups, butenyl groups, pentenyl groups, hexenyl groups, heptenyl groups, octenyl groups, nonenyl groups, decenyl groups, undecenyl groups, and dodecenyl groups
  • examples of monovalent hydrocarbon groups that do not have a carbon-carbon double bond include alkyl groups such as methyl, ethyl, propyl, butyl, pentyl, hexyl, heptyl, octyl, nonyl, decyl, undecyl, and dodecyl; aryl groups such as phenyl, tolyl, xylyl, naphthyl, anthracenyl, phenanthryl, and pyrenyl; aralkyl groups such as benzyl, phenethyl, naphthylethyl, naphthylpropyl, anthracenylethyl, phenanthrylethyl, and pyrenylethyl; and groups in which the hydrogen atoms of these aryl or aralkyl groups have been replaced with alkyl groups such as methyl and ethyl; alkoxy groups such
  • X is a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 3 carbon atoms
  • OX is a hydroxyl group or an alkoxy group having 1 to 3 carbon atoms.
  • Such hydrolyzable functional groups may be hydroxyl groups remaining in the resin during the synthesis of the organopolysiloxane resin, or may be structures in which hydroxyl groups in the resin have been blocked by treatment with a silazane compound or the like during synthesis.
  • p is a positive number
  • q and r are 0 or positive numbers
  • s is a positive number
  • t/(p+q+r+s) is a number in the range of 0 to 0.4
  • (p+q)/(r+s) is preferably in the range of 0.5 to 2.0
  • the organopolysiloxane resin may be q and r are 0 and composed only of M units and Q units.
  • the component (B) or the component (BX) in the present invention is
  • the composition may be one or more organopolysiloxane resins selected from (B1) organopolysiloxane resins having a curing reactive group containing a carbon-carbon double bond in the molecule, and (B2) organopolysiloxane resins not having a curing reactive group containing a carbon-carbon double bond in the molecule, but may contain both of these components (B1) and (B2) from the viewpoint of improving the curing reactivity and the temperature dependency of the viscoelasticity of the resulting electrode layer, the shape retention of the dielectric layer, etc.
  • the components (B1) and (B2) may be used in combination in a mass ratio range of 5:95 to 95:5, or in a mass ratio range of 5:95 to 50:50.
  • the composition contains the component (BX)
  • at least a part of the components (B1) and (B2) is an organopolysiloxane resin having a weight average molecular weight of less than 5000 in terms of standard polystyrene.
  • R other than the alkenyl group is not particularly limited, but industrially the other R may be an alkyl group such as a methyl group or an aryl group such as a phenyl group.
  • the preferred ratios and contents of the M units, Q units and the optionally contained (XO1 /2 ) units are as described above.
  • the organopolysiloxane resin of component (B2) is preferably an organopolysiloxane resin having the above weight average molecular weight, the above M units and Q units, where R is a group selected from alkyl groups such as methyl groups and aryl groups such as phenyl groups, and which does not have a curing reactive group containing a carbon-carbon double bond in the molecule.
  • R is a group selected from alkyl groups such as methyl groups and aryl groups such as phenyl groups, and which does not have a curing reactive group containing a carbon-carbon double bond in the molecule.
  • the preferred ratios and contents of the M units, Q units and optionally contained (XO1 /2 ) units are as described above.
  • the composition according to the present invention contains component (A), component (B) and, optionally, (BX) an organopolysiloxane resin containing siloxane units (M units) represented by R 3 SiO 1/2 (wherein R independently represent a monovalent organic group) and siloxane units (Q units) represented by SiO 4/2 in the molecule having a weight average molecular weight of less than 5000 in terms of standard polystyrene, and as described above, does not contain component (B), which is an organopolysiloxane resin having a large molecular weight, or the content of component (B) is less than 45 mass%, and it is particularly preferable that the content of component (B) in the entire composition is in the range of 0 to less than 45 mass%, 0 to 40 mass%, or 0 to 35 mass%.
  • the weight average molecular weight of component (BX) is less than 5000, preferably in the range of 500 to 4500, or 1000 to 4000. It may be an organopolysiloxane resin similar to component (B) in terms of other than the molecular weight.
  • the viscoelasticity of the electrode layer obtained by the curing reaction of this composition is adjusted to provide excellent durability, adhesion to the dielectric layer, conformability and shape retention, and its temperature dependency is small at high temperatures of 100°C or higher. Therefore, the contents of components (A), (B) and (BX) in the entire composition are in the range of 50 to 95% by mass, preferably 55 to 90% by mass, and more preferably 60 to 90% by mass, and the mass ratio of components (A) and (B) may be in the range of 100:0 to 50:50, and preferably in the range of 95:5 to 50:50.
  • Component (C) is a crosslinking agent capable of forming a cured product by a hydrosilylation reaction in the presence of component (D) with a curing reactive group containing a carbon-carbon double bond in component (A) or component (B)/(BX).
  • component (C) examples include 1,1,3,3-tetramethyldisiloxane, 1,3,5,7-tetramethylcyclotetrasiloxane, tris(dimethylhydrogensiloxy)methylsilane, tris(dimethylhydrogensiloxy)phenylsilane, methylhydrogenpolysiloxane terminally blocked with trimethylsiloxy groups, dimethylsiloxane-methylhydrogensiloxane copolymer terminally blocked with trimethylsiloxy groups, dimethylpolysiloxane terminally blocked with dimethylhydrogensiloxy groups, dimethylsiloxane-methylhydrogensiloxane copolymer terminally blocked with dimethylhydrogensiloxy groups, methylhydrogensiloxane-diphenylsiloxane copolymer terminally blocked with trimethylsiloxy groups, methylhydrogensiloxane-diphenylsiloxane-dimethylsiloxane copolymer terminally
  • the amount of component (C) used may be in the range of 0.1 to 5.0 moles, 0.1 to 1.5 moles, or 0.1 to 1.20 moles of silicon-bonded hydrogen atoms per mole of carbon-carbon double bonds in the composition.
  • the amount of component (C) used is equal to or less than the upper limit mentioned above, it is easy to design the mechanical strength and temperature dependency of the cured product to be within a practically appropriate range, and there is an advantage in that an electrode with excellent conformability and shape retention of the electrode layer relative to the dielectric layer can be easily obtained.
  • Component (D) is a catalyst that promotes the hydrosilylation reaction between the curing reactive group containing a carbon-carbon double bond in the composition and component (C), and examples of such catalysts include platinum-based catalysts, rhodium-based catalysts, palladium-based catalysts, nickel-based catalysts, iridium-based catalysts, ruthenium-based catalysts, and iron-based catalysts, with a platinum-based catalyst being preferred.
  • platinum-based catalysts include platinum fine powder, platinum black, platinum-supported silica fine powder, platinum-supported activated carbon, chloroplatinic acid, an alcohol solution of chloroplatinic acid, platinum olefin complexes, platinum alkenylsiloxane complexes, and other platinum-based compounds, with a platinum alkenylsiloxane complex being particularly preferred.
  • alkenylsiloxane examples include 1,3-divinyl-1,1,3,3-tetramethyldisiloxane, 1,3,5,7-tetramethyl-1,3,5,7-tetravinylcyclotetrasiloxane, alkenylsiloxanes in which a portion of the methyl groups of these alkenylsiloxanes have been substituted with ethyl groups, phenyl groups, etc., and alkenylsiloxanes in which the vinyl groups of these alkenylsiloxanes have been substituted with allyl groups, hexenyl groups, etc.
  • 1,3-divinyl-1,1,3,3-tetramethyldisiloxane is preferred because the stability of this platinum-alkenylsiloxane complex is good.
  • an alkenylsiloxane such as 1,3-divinyl-1,1,3,3-tetramethyldisiloxane, 1,3-diallyl-1,1,3,3-tetramethyldisiloxane, 1,3-divinyl-1,3-dimethyl-1,3-diphenyldisiloxane, 1,3-divinyl-1,1,3,3-tetraphenyldisiloxane, or 1,3,5,7-tetramethyl-1,3,5,7-tetravinylcyclotetrasiloxane, or an organosiloxane oligomer such as a dimethylsiloxane oligomer to the platinum-alkenylsiloxane complex, because this can improve the stability of the complex.
  • these hydrosilylation catalysts may be hydrosilylation catalyst-containing thermoplastic resin fine particles, particularly thermoplastic resin fine particles containing a platinum-containing hydrosilylation catalyst, which are catalysts dispersed or encapsulated in a thermoplastic resin such as a silicone resin, a polycarbonate resin, an acrylic resin, etc.
  • thermoplastic resin such as a silicone resin, a polycarbonate resin, an acrylic resin, etc.
  • non-platinum metal catalysts such as iron, ruthenium, and iron/cobalt may also be used as catalysts that promote the hydrosilylation reaction.
  • the composition according to the present invention is a composition that forms an electrode by curing
  • at least a part of the component (D) may be, and is preferred to be, (D1) a thermoplastic resin fine particle containing a platinum-containing hydrosilylation reaction catalyst.
  • component (D1) may be either a fine particle in which a platinum-based hydrosilylation reaction catalyst is dissolved or dispersed in a thermoplastic resin, or a microcapsule fine particle having a structure in which a platinum-based catalyst is contained as a core in a shell of a thermoplastic resin.
  • the platinum-based catalyst examples include the same platinum alkenylsiloxane complexes as described above.
  • the thermoplastic resin is not particularly limited as long as it does not substantially allow the platinum-based catalyst to penetrate at least during production and storage of the composition, and does not substantially dissolve in the organopolysiloxane, which is the main component of the composition, but the softening point or glass transition point of this thermoplastic resin is preferably 80°C or higher, and more preferably 120°C or higher.
  • silicone resins, polysilane resins, epoxy resins, acrylic resins, and methylcellulose polycarbonate resins can be suitably used.
  • the softening point is the temperature at which the resin begins to flow under its own weight or its own surface tension, and can be measured by observing the crushed particles under a microscope while increasing the temperature at a constant rate.
  • the glass transition point can also be measured by DSC (differential scanning calorimeter).
  • DSC differential scanning calorimeter
  • it is preferable that either the softening point or the glass transition point is 120°C or higher. This is because if the softening point or the glass transition point of the thermoplastic resin is less than 120°C, there is a concern that the platinum component will begin to dissolve in the process of uniformly mixing the composition described below.
  • the average particle size of the platinum-based catalyst-containing thermoplastic fine particles is not limited, but is preferably in the range of 0.1 to 500 ⁇ m, and more preferably in the range of 0.3 to 100 ⁇ m. This is because it is difficult to prepare platinum-based catalyst-containing thermoplastic resin fine particles whose average particle size is less than the lower limit of the above range, while if it exceeds the upper limit of the above range, the dispersibility in the composition decreases.
  • thermoplastic resin microparticles containing a platinum-containing hydrosilylation reaction catalyst is not limited, and examples thereof include chemical methods such as the conventionally known interfacial polymerization method and in-situ polymerization method, and physical/mechanical methods such as the coacervation method and the submerged drying method.
  • the submerged drying method and the gas-phase drying method using a spray dryer or the like are preferable because they can relatively easily produce microcapsule microparticles with a narrow particle size distribution.
  • the microparticles obtained by these methods can be used as they are, but it is preferable to wash them with an appropriate cleaning solvent to remove the platinum catalyst attached to their surface in order to obtain a composition with excellent storage stability.
  • an appropriate cleaning solvent is one that does not dissolve the thermoplastic resin but has the property of dissolving the platinum catalyst.
  • cleaning solvents include alcohols such as methyl alcohol and ethyl alcohol, and low-molecular-weight organopolysiloxanes such as hexamethyldisiloxane.
  • the ratio of the hydrosilylation reaction catalyst to the thermoplastic resin cannot be particularly limited because it varies greatly depending on the manufacturing method of the granules, but it is preferable that the content of the platinum catalyst relative to the thermoplastic resin is 0.01 mass% or more. This is because if the platinum catalyst content is less than 0.01% by mass, the composition will impair the physical properties of the cured product unless it contains a large amount of platinum catalyst-containing thermoplastic resin particles.
  • the amount of hydrosilylation catalyst, component (D), added is a catalytic amount, and is preferably an amount that results in a metal atom content in the range of 0.01 to 500 ppm, 0.01 to 100 ppm, or 0.01 to 50 ppm by mass relative to the entire composition.
  • Component (D) may be a hydrosilylation reaction catalyst, a so-called high-energy ray-activated catalyst or photoactivated catalyst, in which a part or all of it is inactive without irradiation with high-energy rays but which becomes active in the composition upon irradiation with high-energy rays.
  • the composition as a whole can be cured even at low temperatures by using irradiation with high-energy rays as a trigger, and the composition has excellent storage stability and is easy to control the reaction, resulting in excellent handling and workability.
  • high-energy rays examples include ultraviolet rays, gamma rays, X-rays, ⁇ -rays, and electron beams.
  • ultraviolet rays, X-rays, and electron beams irradiated from a commercially available electron beam irradiation device are included, and among these, ultraviolet rays are preferred from the viewpoint of catalyst activation efficiency, and ultraviolet rays with a wavelength in the range of 280 to 380 nm are preferred from the viewpoint of industrial use.
  • the amount of irradiation varies depending on the type of high-energy ray-activated catalyst, but in the case of ultraviolet rays, it is preferable that the cumulative irradiation amount at a wavelength of 365 nm is within the range of 100 mJ/cm 2 to 100 J/cm 2 .
  • component (D) include (methylcyclopentadienyl)trimethylplatinum(IV), (cyclopentadienyl)trimethylplatinum(IV), (1,2,3,4,5-pentamethylcyclopentadienyl)trimethylplatinum(IV), (cyclopentadienyl)dimethylethylplatinum(IV), (cyclopentadienyl)dimethylacetylplatinum(IV), (trimethylsilylcyclopentadienyl)trimethylplatinum(IV), (methoxycarbonylcyclopentadienyl)trimethylplatinum(IV), (dimethylphenylsilylcyclopentadienyl)trimethylcyclopentadienylplatinum(IV), trimethyl(acetylacetonato)platinum(IV), and trimethyl(3,5-heptamethylcyclopentadienyl).
  • Examples of such compounds include (methylcyclopentadienyl)trimethylplatinum(IV), trimethyl(methylacetoacetate)platinum(IV), bis(2,4-pentanedionato)platinum(II), bis(2,4-hexanedionato)platinum(II), bis(2,4-heptanedionato)platinum(II), bis(3,5-heptanedionato)platinum(II), bis(1-phenyl-1,3-butanedionato)platinum(II), bis(1,3-diphenyl-1,3-propanedionato)platinum(II), and bis(hexafluoroacetylacetonato)platinum(II).
  • (methylcyclopentadienyl)trimethylplatinum(IV) and bis(2,4-pentanedionato)platinum(II) are preferred in terms of versatility and ease of availability.
  • the amount of the high energy ray activated catalyst, component (D), used is an effective amount and is not particularly limited, provided that it is an amount that promotes the curing of the composition of the present invention. Specifically, the amount is such that the metal atoms in the catalyst are within the range of 0.01 to 1,000 ppm by mass, and preferably the platinum metal atoms in component (D) are within the range of 0.1 to 500 ppm, based on the sum of components (A) to (C) (total being 100 mass%).
  • the component (E) is a conductive fine particle, and is not particularly limited as long as it can impart conductivity to the electrode layer formed using the composition according to the present invention. Note that, for example, an electrode layer containing conductive fine particles has been proposed in International Patent Publication WO2014/105959 by the applicants of the present application, but there is no disclosure of carbon nanotubes (CNTs) in particular.
  • CNTs carbon nanotubes
  • component (E) may be carbon nanotubes (CNT), conductive carbon black, graphite (including graphite coated with a conductive material such as a metal such as nickel graphite in the present invention), vapor-grown carbon (VGCF), or other conductive carbon; metal powders such as platinum, gold, silver, copper, nickel, tin, zinc, iron, and aluminum; and further, pigments in which the surface of whiskers of carbon or graphite is coated with tin oxide or the like, such as antimony-doped tin oxide, phosphorus-doped tin oxide, needle-shaped titanium oxide surface-coated with tin oxide/antimony, tin oxide, indium oxide, antimony oxide, zinc antimonate, and tin oxide or the like; pigments coated with at least one conductive metal oxide selected from the group consisting of tin-doped indium oxide (ITO), fluorine-doped tin oxide (FTO), phosphorus-doped tin oxide, and nickel oxide
  • these may be used alone or in combination of two or more.
  • they may be mixed in advance with some or all of the components (A) to (C) used in the composition, and then incorporated into the composition in the form of a compound.
  • the conductive inorganic fine particles may be fibers such as glass fibers, silica alumina fibers, alumina fibers, and carbon fibers, needle-shaped reinforcing materials such as aluminum borate whiskers and potassium titanate whiskers, and inorganic fillers such as glass beads, talc, mica, graphite, wollastonite, and dolomite, the surface of which is coated with a conductive material such as a metal.
  • component (E) is a fine particle containing at least one type of conductive carbon selected from carbon nanotubes (CNT), conductive carbon black, graphite, and vapor-grown carbon (VGCF).
  • CNT carbon nanotubes
  • VGCF vapor-grown carbon
  • component (E) is a carbon nanotube (CNT).
  • the CNT may be single-walled, double-walled, or multi-walled, and there is no particular restriction on the particle size, but (E1) conductive fine particles containing single-walled carbon nanotubes (SWCNT) are particularly suitable.
  • Single-walled carbon nanotubes are a special type of carbon material known as one-dimensional materials. They consist of sheets of graphene that are rolled to form hollow tubes with walls one atom thick. Due to their chemical structure and size, SWCNTs tend to exhibit particularly excellent mechanical, electrical, thermal and optical properties, even among other conductive carbons such as acetylene black.
  • they effectively reduce the volume resistivity of the electrode layer obtained even with a small amount of use, and do not impair the mechanical strength of the electrode layer, such as the elongation at break and tensile strength, so that they have the advantage of being able to effectively improve the conformability and shape retention of the electrode layer relative to the dielectric layer, in addition to improving the performance and strength of the electrode layer, including improving its energy density.
  • the average outer diameter of the single-walled carbon nanotubes is not particularly limited, but is preferably 2.5 nm or less. More preferably, it is 1.0 to 2.5 nm, even more preferably, it is 1.1 to 2.0 nm, and particularly preferably, it is 1.2 to 1.8 nm.
  • the average outer diameter of the single-walled carbon nanotubes can be determined from the optical absorption spectrum, Raman spectrum, or transmission electron microscope (TEM) image of the single-walled carbon nanotubes obtained by ultraviolet-visible-near-infrared spectroscopy (UV-Vis-NIR).
  • the average fiber length of the single-walled carbon nanotubes is preferably less than 100 ⁇ m. More preferably, it is 0.1 to 50 ⁇ m, even more preferably 0.5 to 20 ⁇ m, and particularly preferably 1 to 10 ⁇ m.
  • the average fiber length of the single-walled carbon nanotubes can be determined by obtaining an AFM image of the single-walled carbon nanotubes using an atomic force microscope (AFM), or obtaining a TEM image of the single-walled carbon nanotubes using a transmission electron microscope (TEM), measuring the length of each single-walled carbon nanotube, and dividing the total length by the number of single-walled carbon nanotubes measured.
  • AFM atomic force microscope
  • TEM transmission electron microscope
  • the G/D ratio of single-walled carbon nanotubes measured by Raman spectroscopy is preferably 2 or more. It is more preferably 2 to 250, even more preferably 5 to 250, particularly preferably 10 to 220, and most preferably 40 to 180.
  • the G/D ratio is the intensity ratio (G/D) of the G band to the D band in the Raman spectrum of single-walled carbon nanotubes. The higher the G/D ratio of single-walled carbon nanotubes, the higher the crystallinity of the single-walled carbon nanotubes, meaning that there are fewer carbon impurities and fewer defective carbon nanotubes.
  • Single-walled carbon nanotubes are commercially available.
  • TUBALL(TM) MATRIX 601 polydimethylsiloxane containing 10% by weight of single-walled carbon nanotubes
  • TUBALL(TM) MATRIX 602 vinyl ether-terminated polydimethylsiloxane containing 10% by weight of single-walled carbon nanotubes
  • TUBALL(TM) MATRIX 201 vinyl ether-terminated polydimethylsiloxane containing 10% by weight of single-walled carbon nanotubes
  • fatty acid glycidyl ester TUBALL(TM) MATRIX 202 (aliphatic carboxylate derivative containing 10% by mass of single-walled carbon nanotubes)
  • TUBALL(TM) MATRIX 204 methacrylate derivative containing 10% by mass of single-walled carbon nanotubes
  • TUBALL(TM) MATRIX 301 ethoxylated alcohol containing 10% by mass of single
  • the conductive fine particles may be those whose surfaces are partially or entirely treated with an organosilicon compound.
  • organosilicon compounds are low molecular weight organosilicon compounds such as silanes, silazanes, siloxanes, or the like, and organosilicon polymers or oligomers such as polysiloxanes, polycarbosiloxanes, or the like.
  • Preferred examples of silanes are so-called silane coupling agents.
  • silane coupling agents are alkyltrialkoxysilanes (such as methyltrimethoxysilane, vinyltrimethoxysilane, hexyltrimethoxysilane, octyltrimethoxysilane, or the like), and organofunctional group-containing trialkoxysilanes (such as glycidoxypropyltrimethoxysilane, epoxycyclohexylethyltrimethoxysilane, methacryloxypropyltrimethoxysilane, aminopropyltrimethoxysilane, or the like).
  • alkyltrialkoxysilanes such as methyltrimethoxysilane, vinyltrimethoxysilane, hexyltrimethoxysilane, octyltrimethoxysilane, or the like
  • organofunctional group-containing trialkoxysilanes such as glycidoxypropyltrimethoxysilane, epoxycyclohex
  • Preferred siloxanes and polysiloxanes include hexamethyldisiloxane, 1,3-dihexyl-tetramethyldisiloxane, trialkoxysilyl single-terminated polydimethylsiloxane, trialkoxysilyl single-terminated dimethylvinyl single-terminated polydimethylsiloxane, trialkoxysilyl single-terminated organofunctional group single-terminated polydimethylsiloxane, trialkoxysilyl doubly terminated polydimethylsiloxane, organofunctional group doubly terminated polydimethylsiloxane, or the like.
  • the number n of siloxane bonds is preferably in the range of 2 to 150.
  • the siloxane does not necessarily have to be the main chain, but may be an organic polymer modified with siloxane, for example a silicone modified acrylic polymer.
  • Preferred silazanes include hexamethyldisilazane, 1,3-dihexyl-tetramethyldisilazane, or the like.
  • An example of a preferred polycarbosiloxane is a polymer having Si-C-C-Si bonds in the polymer backbone.
  • the amount of component (E) can be appropriately designed depending on the conductivity (i.e., volume resistivity), mechanical strength, shape retention, etc. of the electrode layer to be obtained, but in practice, the amount is preferably such that the volume fraction of the conductive fine particles (E) relative to the entire composition is in the range of 0.003 to 0.50, and more preferably in the range of 0.003 to 0.25.
  • the volume resistivity of the electrode layer obtained using this composition is 10 3 ⁇ cm or less, preferably in the range of 10 to 10 3 ⁇ cm, and there is an advantage that an electrode layer exhibiting excellent conductivity can be designed, and particularly when a part of component (E) is fine particles containing conductive carbon, particularly when a part of component (E) is single-walled carbon nanotubes (SWCNT), there is an advantage that the volume resistivity of the electrode layer can be effectively reduced to achieve excellent conductivity, and excellent temperature dependency of the viscoelasticity can be achieved without impairing the mechanical strength of the electrode layer, such as the elongation at break and tensile strength.
  • the volume fraction of the single-walled carbon nanotubes (SWCNTs) relative to the entire composition is in the range of 0.0015 to 0.25.
  • Component (F) is a reinforcing filler, and may improve the mechanical strength of the electrode layer obtained by the curing reaction of this composition.
  • the reinforcing inorganic fine particles have an average primary particle size of less than 50 nm, and examples thereof include fumed silica, wet silica, pulverized silica, calcium carbonate, diatomaceous earth, finely pulverized quartz, various metal oxide powders other than alumina and zinc oxide, glass fiber, carbon fiber, etc., and these are treated with one or more organic silicon compounds described below.
  • the shape is not particularly limited, and any shape such as particulate, plate, needle, fiber, etc. can be used.
  • component (F) is hydrophilic or hydrophobic fumed silica or its metal oxide complex, which has an average primary particle size of 10 nm or less and may be partially aggregated. Furthermore, from the viewpoint of improving dispersibility, fumed silica or its metal oxide complex treated with the above-mentioned organosilicon compound is preferable. These reinforcing inorganic particles may be used in combination of two or more kinds.
  • the BET specific surface area of component (F) can be appropriately selected, but may be 10 m 2 /g or more, and may be in the range of 10 to 1000 m 2 /g. Furthermore, two or more types of reinforcing fillers having different BET specific surface areas may be used in combination as component (F).
  • (F2) reinforcing fine particles or composites thereof that have been surface-treated with one or more types of organosilicon compounds and have an average BET specific surface area in the range of 10 to 100 m 2 /g may each be used alone as component (F), or the components (F1) and (F2) may be used in combination at any mass ratio.
  • Component (F) is preferably surface-treated with the above-mentioned organosilicon compound, and suitable examples of the organosilicon compound include one or more selected from hexamethyldisilazane and 1,3-bis(3,3,3-trifluoropropyl)-1,1,3,3-tetramethyldisilazane.
  • Surface treatment using a surface treatment agent other than an organosilicon compound may also be used in combination, as long as it does not impede the technical effects of the present invention.
  • the ratio of the surface treatment agent to the total amount of the filler is preferably in the range of 0.1% by mass or more and 50% by mass or less, and more preferably in the range of 0.3% by mass or more and 40% by mass or less.
  • the treatment amount is the ratio of the filler to the surface treatment agent, and it is preferable to remove excess treatment agent after treatment.
  • additives that promote or assist the reaction may be used during treatment as necessary.
  • Component (G) is a cure retarder that effectively inhibits side reactions, particularly when the composition is cured by a hydrosilylation reaction, and may further improve the storage stability, pot life, etc. of the composition of the present invention.
  • the usable cure retarder is not particularly limited in structure or type, and can be selected from known hydrosilylation reaction inhibitors, such as alkyne alcohols such as 2-methyl-3-butyn-2-ol, 3,5-dimethyl-1-hexyn-3-ol, 2-phenyl-3-butyn-2-ol, and 1-ethynyl-1-cyclohexanol; enyne compounds such as 3-methyl-3-penten-1-yne and 3,5-dimethyl-3-hexen-1-yne; alkenyl-containing low molecular weight siloxanes such as tetramethyltetravinylcyclotetrasiloxane and tetramethyltetrahexenylcyclotetrasiloxane; and alkynyloxysilanes such as methyl-tris(1,1-dimethyl-2-propynyloxy)silane and vinyl-tris(1,1-dimethylpropynyloxy)si
  • the amount of component (G) used is arbitrary, but it is preferably within the range of 1 to 10,000 ppm by mass relative to the entire composition.
  • Component (H) is an adhesion promoter, and examples thereof include organosilicon compounds having at least one alkoxy group bonded to a silicon atom in each molecule.
  • the alkoxy group include methoxy, ethoxy, propoxy, butoxy, and methoxyethoxy groups, with methoxy being particularly preferred.
  • Examples of groups bonded to silicon atoms in organosilicon compounds other than the alkoxy group include halogen-substituted or unsubstituted monovalent hydrocarbon groups such as alkyl groups, alkenyl groups, aryl groups, aralkyl groups, and halogenated alkyl groups; glycidoxyalkyl groups such as 3-glycidoxypropyl and 4-glycidoxybutyl groups; epoxycyclohexylalkyl groups such as 2-(3,4-epoxycyclohexyl)ethyl and 3-(3,4-epoxycyclohexyl)propyl groups; epoxyalkyl groups such as 3,4-epoxybutyl and 7,8-epoxyoctyl groups; acrylic-containing monovalent organic groups such as 3-methacryloxypropyl groups; and hydrogen atoms.
  • halogen-substituted or unsubstituted monovalent hydrocarbon groups such as alkyl groups, alkenyl groups,
  • the organosilicon compound preferably has a group capable of reacting with the alkenyl group or silicon-bonded hydrogen atom in the composition, and more specifically, preferably has a silicon-bonded hydrogen atom or an alkenyl group.
  • the organosilicon compound preferably has at least one epoxy-containing monovalent organic group in one molecule.
  • organosilicon compounds include organosilane compounds, organosiloxane oligomers, and alkyl silicates.
  • examples of the molecular structure of the organosiloxane oligomer or alkyl silicate include linear, partially branched linear, branched, cyclic, and net-like, and in particular, linear, branched, and net-like are preferred.
  • organosilicon compound examples include silane compounds such as 3-glycidoxypropyltrimethoxysilane, 2-(3,4-epoxycyclohexyl)ethyltrimethoxysilane, and 3-methacryloxypropyltrimethoxysilane; siloxane compounds having at least one silicon-bonded alkenyl group or silicon-bonded hydrogen atom, and at least one silicon-bonded alkoxy group in one molecule; a mixture of a silane compound or siloxane compound having at least one silicon-bonded alkoxy group and a siloxane compound having at least one silicon-bonded hydroxy group and at least one silicon-bonded alkenyl group in one molecule; a reaction mixture of an amino group-containing organoalkoxysilane and an epoxy group - containing organoalkoxysilane; an organic compound having at least two alkoxysilyl groups in one molecule and containing a bond other than a silicon -oxygen bond between the silyl groups ; (In
  • This adhesion promoter is preferably a low-viscosity liquid, and although there are no limitations on its viscosity, it is preferably within the range of 1 to 500 mPa ⁇ s at 25° C. Furthermore, although there are no limitations on the content of this adhesion promoter, it is preferably within the range of 0.01 to 10 parts by mass per 100 parts by mass of the total of the present composition.
  • a particularly suitable adhesion-imparting agent is, for example, a reaction mixture of an amino group-containing organoalkoxysilane and an epoxy group-containing organoalkoxysilane.
  • This component improves the initial adhesion to various substrates that come into contact with the composition during the formation of the electrode layer obtained using the composition (after heating and melting and during curing), and in particular the low-temperature adhesion to unwashed substrates.
  • Such reaction mixtures are disclosed in JP-B-52-8854 and JP-A-10-195085.
  • alkoxysilanes having amino group-containing organic groups that constitute such components include aminomethyltriethoxysilane, 3-aminopropyltrimethoxysilane, 3-aminopropyltriethoxysilane, 3-aminopropylmethyldimethoxysilane, N-(2-aminoethyl)aminomethyltributoxysilane, N-(2-aminoethyl)-3-aminopropyltrimethoxysilane, N-(2-aminoethyl)-3-aminopropylmethyldimethoxysilane, and 3-anilinopropyltriethoxysilane.
  • epoxy group-containing organoalkoxysilanes include 3-glycidoxyprolyltrimethoxysilane, 3-glycidoxypropylmethyldimethoxysilane, 2-(3,4-epoxycyclohexyl)ethyltrimethoxysilane, and 2-(3,4-epoxycyclohexyl)ethylmethyldimethoxysilane.
  • the molar ratio of these alkoxysilanes having an amino group-containing organic group to alkoxysilanes having an epoxy group-containing organic group is preferably within the range of (1:1.5) to (1:5), and particularly preferably within the range of (1:2) to (1:4).
  • This component can be easily synthesized by mixing the above-mentioned alkoxysilanes having an amino group-containing organic group and alkoxysilanes having an epoxy group-containing organic group and reacting them at room temperature or under heating.
  • R 1 is an alkyl group, an alkenyl group or an alkoxy group
  • R 2 is the same or different and has the general formula:
  • R4 is an alkylene group or an alkyleneoxyalkylene group
  • R5 is a monovalent hydrocarbon group
  • R6 is an alkyl group
  • R7 is an alkylene group
  • R8 is an alkyl group, an alkenyl group, or an acyl group
  • a is 0, 1, or 2.
  • R 3 is the same or different and is a hydrogen atom or an alkyl group.
  • the compound contains a carbasilatrane derivative represented by the following structure:
  • carbasilatrane derivatives include carbasilatrane derivatives having a silicon-bonded alkoxy group or a silicon-bonded alkenyl group in one molecule, as represented by the following structure: (In the formula, Rc is a group selected from a methoxy group, an ethoxy group, a vinyl group, an allyl group, and a hexenyl group.)
  • a silatrane derivative represented by the following structural formula may be used as an adhesion promoter.
  • R 1 in the formula is the same or different hydrogen atom or alkyl group, and R 1 is preferably hydrogen atom or methyl group.
  • R 2 in the formula is the same or different group selected from the group consisting of hydrogen atom, alkyl group, and alkoxysilyl group-containing organic group represented by the general formula: -R 4 -Si(OR 5 ) x R 6 (3-x) , with the proviso that at least one of R 2 is this alkoxysilyl group-containing organic group. Examples of the alkyl group of R 2 include methyl group.
  • R 4 in the formula is a divalent organic group, and examples thereof include alkylene group or alkyleneoxyalkylene group, and particularly preferably ethylene group, propylene group, butylene group, methyleneoxypropylene group, and methyleneoxypentylene group.
  • R 5 in the formula is an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, and preferably methyl group or ethyl group.
  • R6 is a substituted or unsubstituted monovalent hydrocarbon group, preferably a methyl group, and x is 1, 2, or 3, preferably 3.
  • alkoxysilyl-containing organic groups for R2 include the following groups. -( CH2 ) 2Si ( OCH3 ) 2 ( CH2 ) 2Si ( OCH3 ) 2CH3 -( CH2 ) 3Si ( OC2H5 ) 2 ( CH2 ) 3Si ( OC2H5 )( CH3 ) 2 -CH2O ( CH2 ) 3Si ( OCH3 ) 3 -CH2O ( CH2 ) 3Si ( OC2H5 ) 3 -CH2O ( CH2 ) 3Si ( OCH3 ) 2CH3 -CH2O ( CH2 ) 3Si ( OC2H5 ) 2CH3 -CH2OCH2Si ( OCH3 ) ( CH3 ) 2CH3 -CH2OCH2Si ( OCH3 ) ( CH3 ) 2CH3 -CH2OCH2Si ( OCH3 ) ( CH3 ) 2CH3 -CH2
  • R 3 is at least one group selected from the group consisting of substituted or unsubstituted monovalent hydrocarbon groups, alkoxy groups having 1 to 10 carbon atoms, glycidoxyalkyl groups, oxiranylalkyl groups, and acyloxyalkyl groups
  • examples of the monovalent hydrocarbon group of R 3 include alkyl groups such as methyl groups
  • examples of the alkoxy group of R 3 include methoxy groups, ethoxy groups, and propoxy groups
  • examples of the glycidoxyalkyl group of R 3 include 3-glycidoxypropyl groups
  • examples of the oxiranylalkyl group of R 3 include 4-oxiranylbutyl groups and 8-oxiranyloctyl groups
  • examples of the acyloxyalkyl group of R 3 include acetoxypropyl groups and 3-methacryloxypropyl groups.
  • R 3 is preferably an alkyl group, an alkenyl group, or an alkoxy group, and more preferably an alkyl group or an alkenyl group, and particularly preferably a group selected from a methyl group, a vinyl group, an allyl group, and a hexenyl group.
  • the amount of component (H) used is not particularly limited, but from the standpoint of improving adhesion to dielectric layers, etc., it is preferably in the range of 0.1 to 1.0 mass% of the entire composition, and more preferably in the range of 0.2 to 1.0 mass%.
  • the electrode layer-forming curable organopolysiloxane composition according to the present invention can be designed to have heat melting properties or fluidity at room temperature, and the use of a solvent is substantially unnecessary, making it possible to design it to be solvent-free. No fluorine-based solvents or organic solvents remain in the film obtained by curing, and there are advantages in that the problem of environmental burden and the influence of the solvent on the electronic device can be eliminated. However, this does not prevent the composition according to the present invention from using an organic solvent that is inevitably mixed into the raw material components, or a small amount of organic solvent from the viewpoint of handling.
  • the composition according to the present invention may be and is preferably a low-solvent to solvent-free composition containing an organic solvent in an amount of 5 parts by mass or less, preferably 1 part by mass or less, and more preferably below the detection limit, relative to the sum (100 parts by mass) of the components (A), (B), and (E).
  • the solvent include one or more organic solvents selected from (S1) organic polar solvents, (S2) low-molecular-weight siloxane solvents, and (S3) halogen-based solvents, or a mixture thereof, and in particular, a solvent having a boiling point of 80°C or more and less than 200°C can be exemplified.
  • the composition according to the present invention is a solvent-free composition in which the content of the organic solvent is 1 part by mass or less or below the detection limit, and the composition is substantially free of organic solvent.
  • the present composition may contain, as other optional components, as long as they do not impair the object of the present invention, heat resistance agents such as iron oxide (red oxide), cerium oxide, cerium dimethylsilanolate, fatty acid cerium salts, cerium hydroxide, zirconium compounds, etc.; other than dyes, pigments other than white, flame retardant agents, heat retardants such as aluminum hydroxide, magnesium hydroxide, zinc borate, zinc molybdate, phosphazene, etc., ion scavengers/pH adjusters such as hydrotalcite, bismuth oxide, yttrium oxide, etc., flame retardants such as aluminum hydroxide, magnesium hydroxide, zinc borate, zinc molybdate, phosphazene, etc., antioxidants such as hindered phenol compounds, hindered amine compounds, thioether compounds, etc., pure iron, silicon steel, iron-cobalt alloy, iron-nickel alloy, iron-chromium alloy, iron-alumin
  • soft magnetic particles such as aluminum alloy, carbonyl iron, stainless steel, or composite materials containing one or more of these; inorganic flame retardants (for example, hydrated metal compounds such as aluminum hydroxide), halogen-based flame retardants, phosphorus-based flame retardants, organic metal salt-based flame retardants, silicone oil, silicone rubber, polyisoprene, 1,2-polybutadiene, 1,4-polybutadiene and other polybutadienes, styrene-butadiene rubber, acrylonitrile-butadiene rubber, carboxyl-terminated butadiene acrylonitrile rubber, polychloroprene, poly(oxypropylene), poly(oxytetramethylene) glycol, polyolefin glycol, poly- ⁇ -caprolactone and other thermoplastic elastomers; polysulfide rubber, fluororubber and other stress reducing agents; barium titanate (BaTiO 3 ), strontium titanate (SrTiO 3
  • the composition has fluidity at room temperature or when melted by heating, can be uniformly applied to desired locations, and can form an electrode layer through a curing process, and can be used without restrictions in solventless processes and electrode printing processes aimed at reducing environmental impact and improving the performance of actuators, etc. Furthermore, the composition has excellent moldability, gap-filling properties, and adhesive strength, and in addition to the heat resistance, durability, and adhesiveness of the resulting electrode layer, the viscoelastic properties have a small temperature dependency, particularly at high temperatures.
  • the electrode layer when an electrode layer made of the composition is formed on a dielectric elastomer sheet, the electrode layer has remarkably excellent conformability and shape retention, and has viscoelastic properties sufficient for practical use that are unlikely to cause problems such as peeling of the electrode layer or defects, even when used in a transducer that assumes a high degree of physical displacement, such as an actuator.
  • This composition has curing reactivity and can be applied to the area where an electrode layer is to be formed, and a curing reaction can be allowed to proceed simultaneously with or after the application, to form an electrode layer made of a cured product.
  • the curing reaction is a hydrosilylation reaction, and depending on the type of component (D), a heat curing reaction, a curing reaction by irradiation with high-energy rays, or a combination of these can be selected.
  • the temperature of the heat curing reaction is not particularly limited, but is preferably 50°C or higher and 200°C or lower, more preferably 60°C or higher and 200°C or lower, and even more preferably 80°C or higher and 180°C or lower.
  • the time required for the curing reaction is usually 1 second or higher and 3 hours or lower.
  • a cured product can be obtained by holding the temperature within the range of 90 to 180°C for 10 seconds to 30 minutes.
  • thermoplastic resin microparticles containing a platinum-containing hydrosilylation reaction catalyst using a thermoplastic resin having a specific softening point or glass transition point are selected as component (D)
  • the curing reaction does not proceed at temperatures below the softening point or glass transition point of the thermoplastic resin (wall material), but the curing reaction proceeds quickly by heating at a temperature higher than that, which has the advantage that it is easy to control the temperature of the curing reaction.
  • the curing reaction of the composition proceeds when irradiated with high-energy rays, which is a trigger.
  • active energy rays that can be used in the curing reaction include ultraviolet rays, electron beams, and radiation, but ultraviolet rays are preferred in terms of practicality.
  • a hydrosilylation reaction catalyst that has high activity against the ultraviolet rays used, such as bis(2,4-pentanedionato)platinum complex or (methylcyclopentadienyl)trimethylplatinum complex.
  • Suitable ultraviolet rays are high-pressure mercury lamps, medium-pressure mercury lamps, Xe-Hg lamps, and deep UV lamps, and the irradiation dose is preferably 100 to 8,000 mJ/ cm2 .
  • the thickness and shape of the electrode layer can be designed as desired, but if it has the volume resistivity (conductivity) described above, it is a thin film, and its average thickness is preferably in the range of 1 to 100 ⁇ m.
  • the electrode layer obtained by the above curing reaction has a small temperature dependency of the viscoelastic properties, especially at high temperatures, and because it is a cured product, the mechanical strength of the electrode layer itself and its adhesion and conformability to the substrate tend to be further improved.
  • the use of an electrode layer that is a cured product has the advantage of being particularly excellent in conformability and shape retention.
  • the curing reaction is easy to control, flexible process design, including solvent-free processes, is possible.
  • the electrode layer obtained by using this composition can be used for desired semiconductor materials and electronic components, and can be used without particular limitation for electronic components such as semiconductor chips, electronic circuits, and semiconductor (including optical semiconductor) devices, and can form a laminate having the electrode layer.
  • the electrode layer obtained by using this composition has excellent temperature dependency of viscoelastic properties in addition to heat resistance, durability, and adhesiveness, and therefore, when an electrode layer made of this composition is formed on a dielectric elastomer sheet, the electrode layer has remarkably excellent conformability and shape retention, and even when used in a transducer that assumes high physical displacement such as an actuator, a laminate that is unlikely to cause problems such as peeling of the electrode layer or defects can be formed.
  • the type of dielectric elastomer sheet is not particularly limited, but a dielectric layer that is an organopolysiloxane cured film is particularly preferred in terms of its mechanical strength, heat resistance, flexibility, and electrochemical properties.
  • the laminate with an electrode layer obtained using this composition is preferably a laminate having a structure in which (L2) an electrode layer made of the above-mentioned electrode layer-forming curable organopolysiloxane composition is laminated on at least one surface of (L1) an organopolysiloxane cured film, which is a dielectric layer.
  • Organopolysiloxane cured products having a polysiloxane skeleton have excellent transparency, electrical insulation, heat resistance, cold resistance, etc., and electrical activity can be improved by introducing highly dielectric functional groups such as fluoroalkyl groups if desired. They can also be easily processed into films or sheets, making them suitable for use as adhesive films for various electric and electronic devices, electrically active films for transducer devices such as actuators, and in particular as dielectric layers.
  • organopolysiloxane cured films can be classified into hydrosilylation reaction curing type, condensation reaction curing type, peroxide curing type, etc., but organopolysiloxane cured films using a hydrosilylation reaction curing type curable organopolysiloxane composition are particularly preferred, as they cure quickly when left at room temperature or when heated and do not produce by-products.
  • the organopolysiloxane cured film which is the dielectric layer, is thin and preferably has an average thickness in the range of 1 to 200 ⁇ m, more preferably in the range of 1 to 150 ⁇ m, and more preferably in the range of 1 to 100 ⁇ m.
  • the average thickness of the film is the average thickness at the center of the film.
  • the above-mentioned organopolysiloxane cured film is uniform and flat, and the difference between the thickness at the ends and the thickness at the center in the width direction of the film is within 5.0%, and more preferably the average thickness at the center of the film is in the range of 5 to 200 ⁇ m.
  • the number of internal defects in the organopolysiloxane cured film which is the dielectric layer
  • the number of internal defects is in the range of 0 to 20, preferably 0 to 15. If the number of internal defects exceeds the upper limit, application of a high voltage to the film makes it more susceptible to dielectric breakdown, and the dielectric breakdown strength of the entire film may be significantly reduced.
  • the dielectric breakdown strength of the organopolysiloxane cured film, which is the dielectric layer, measured at room temperature is preferably in the range of 56 V/ ⁇ m to 200 V/ ⁇ m, more preferably in the range of 58 V/ ⁇ m to 100 V/ ⁇ m.
  • the organopolysiloxane cured film of the present invention may be easily designed to have a relative dielectric constant of the entire film at 1 kHz and 25°C of 3 or more, 4 or more, 5 or more, or 6 or more, by optionally introducing a highly dielectric functional group such as a fluoroalkyl group and using a highly dielectric filler.
  • the organopolysiloxane cured film that is the dielectric layer can be designed to have the following mechanical properties measured in accordance with JIS K 6249 when hot-formed into a sheet having a thickness of 2.0 mm.
  • the Young's modulus (MPa) at room temperature can be set to 10 MPa or less, and a particularly preferable range is 0.1 to 2.5 MPa.
  • the tear strength (N/mm) at room temperature can be 1 N/mm or more, and a particularly preferred range is 2 N/mm or more.
  • the tensile strength (MPa) at room temperature can be 1 MPa or more, and a particularly preferred range is 2 MPa or more.
  • the breaking elongation (%) can be 50% or more, and a particularly preferable range is 100-1000%.
  • the shear storage modulus at 23°C is preferably in the range of 10 to 10 Pa, and more preferably in the range of 1.0 x 10 to 5.0 x 10 Pa.
  • the organopolysiloxane cured film that is the dielectric layer has an average thickness in the range of 1 to 200 ⁇ m per sheet, but multiple films may be stacked together to form a laminated film with a thickness of more than 200 ⁇ m for the purpose of forming a dielectric layer.
  • the above laminate can be suitably obtained by a method for producing a laminate, comprising, for example, step I: a step of obtaining an organopolysiloxane cured film, which is a dielectric layer, by curing a curable organopolysiloxane composition that provides a dielectric layer by curing into a film, and step II: a step of applying the above-mentioned electrode layer-forming curable organopolysiloxane composition onto the organopolysiloxane cured film or its precursor in step I simultaneously with or after step I to form an electrode layer.
  • the method of applying the electrode layer-forming curable organopolysiloxane composition in step II is not particularly limited, and a known application means such as a dispenser can be appropriately used depending on the properties of the composition and the shape of the desired electrode layer.
  • the formation of the electrode layer may optionally include a heating and melting step, and includes the formation of an electrode layer, which is a cured product, by a curing reaction of the composition after application.
  • the curing reaction for forming the dielectric layer in step I and the formation of the electrode layer in step II are curing reactions accompanied by the formation of a cured product, and these curing reactions both include a hydrosilylation reaction, by selecting compositions in which the silicon atom-bonded hydrogen atoms (hereinafter sometimes abbreviated as "SiH/Vi ratio") in the organohydrogenpolysiloxane component are different from each other relative to the total amount of carbon-carbon double bonds in the curable organopolysiloxane composition for forming the dielectric layer or the electrode layer-forming curable organopolysiloxane composition, a structure is provided in which both layers are chemically bonded by a hydrosilylation reaction at the interface between the dielectric layer and the electrode layer, and the conformability and shape retention of the electrode layer according to the present invention to the dielectric layer are further improved, and peeling and the occurrence of defects in the electrode layer may be suppressed.
  • SiH/Vi ratio silicon atom-bonded hydrogen
  • the SiH/Vi ratio ([SiH/Vi] Elec ) of the electrode layer-forming curable organopolysiloxane composition according to the present invention is 0.2 mol or more and 1.5 mol or less, preferably 0.3 mol or more and 1.2 mol or less, and more preferably 0.3 mol or more and 1.0 mol or less, and that the SiH/Vi ratio ([SiH/Vi] DEAP ) of the dielectric layer-forming curable organopolysiloxane composition is in the range of 0.20 to 0.90, 0.33 to 0.85, 0.50 to 0.75, or 0.58 to 0.67.
  • the composition forming the dielectric layer has a certain degree of SiH excess. This is because, when these curable organopolysiloxane compositions are cured by a hydrosilylation reaction, an excess amount of SiH groups present on the dielectric layer side at the interface is likely to undergo a hydrosilylation reaction with the curable reactive groups containing carbon-carbon double bonds in the electrode layer-forming organopolysiloxane composition at the interface between the two layers, making it easier to give a structure in which the two layers are chemically bonded.
  • This production method is particularly useful as a method for forming an electrode layer in a transducer member, and can easily provide on an industrial scale a laminate, electronic component, or display member in which the dielectric layer and electrode layer are firmly bonded together and which is less likely to suffer from peeling or other defects due to insufficient adhesive strength and conformability.
  • the laminate of the organopolysiloxane cured film according to the present invention is useful as an electronic material, a display device member, or a transducer member (including sensors, speakers, actuators, and generators), and can be suitably used as an electronic component or a display device member, particularly as an electroactive film (including a highly dielectric film) with an electrode layer.
  • an electroactive film with high dielectric breakdown strength is suitable for transducer members such as actuators in the form of a single layer or laminated film
  • the electrode layer according to the present invention can be formed on a dielectric layer without any particular restrictions, even in a solventless process or an electrode printing process involving heat melting, and has the characteristics of being extremely excellent in conformity and shape retention with respect to the organopolysiloxane cured film, which is the dielectric layer, and is unlikely to cause problems such as peeling or defects in the electrode layer, and is therefore particularly useful for actuator applications that start up under high voltage.
  • the laminate of the organopolysiloxane cured film according to the present invention preferably has an electrode layer on one side of the dielectric layer, and these layers are alternately laminated, with the electrode layer disposed on the outside, in a whole or partial structure.
  • the laminate according to the present invention may have, in addition to the electrode layer according to the present invention and the single-layer or multi-layer dielectric layer, a pressure-sensitive adhesive layer used for the purpose of being placed inside the transducer, and a non-silicone thermoplastic resin layer which may optionally have a release surface.
  • Component (a1-1) Both ends blocked with vinyldimethylsiloxy groups, dimethylsiloxane polymer (vinyl group content: 0.09% by mass, siloxane polymerization degree: 835)
  • Component (a1-2) Both ends blocked with vinyldimethylsiloxy groups, dimethylsiloxane polymer (vinyl group content: 1.53% by mass, siloxane polymerization degree: 45)
  • Component (a1-4) Both ends blocked with vinyldimethylsiloxy groups, dimethylsiloxane polymer (vinyl group content: 0.24% by mass, siloxane polymerization degree: 300)
  • Component (a2) Both ends blocked with vinyldimethylsiloxy groups, 3,3,3-trifluoropropylmethyl, dimethylsiloxan
  • Component (c1) Dimethylsiloxane polymer, both ends blocked with dimethylhydrosiloxy groups (silicon-bonded water content: 0.123% by mass)
  • Component (c2) Both ends blocked with trimethylsiloxy groups, dimethylsiloxy-methylhydrosiloxy-siloxane copolymer (silicon-bound water content: 0.71% by mass)
  • Component (c3) Dimethylsiloxane polymer, both ends blocked with dimethylhydrosiloxy groups (silicon-bonded water content: 0.015% by mass)
  • Component (c5) Both ends blocked with dimethylhydrosiloxy groups, dimethylsiloxane/3,3,3-trifluoropropylmethylsiloxan
  • Component (d2) A solution of a platinum-1,3-divinyl-1,1,3,3-tetramethyldisiloxane complex in a dimethylsiloxane polymer blocked at both ends with vinyldimethylsiloxy groups (platinum concentration: approximately 0.6% by mass).
  • ⁇ Conductive filler> ⁇ Component (e1): Carbon filler (PRINTEX(TM) XE2 B) Component (e2): Single-walled carbon nanotubes (SWCNT, 10% by mass in dimethylsiloxane polymer capped with trimethylsiloxy groups at both ends, TUBALLTM MATRIX 601) ⁇ Component (e3): Acetylene black (manufactured by Denka, 100% pressed product) ⁇ Hydrosilylation Reaction Inhibitor> ⁇ Component (g1): 1-ethynylcyclohexanol ⁇ Component (g2): 1,3,5,7-tetramethyl-1,3,5,7-tetravinyl-cyclotetrasiloxane
  • Table 1 shows the compositions of each experimental example in the Examples and Comparative Examples. The numerical values for each component are in mass %, and the sum of these is 100 mass %.
  • component (c) was used in an amount ranging from 0.35 to 1.0 mole of silicon-bonded hydrogen atoms (Si-H) per mole of vinyl groups (unsaturated hydrocarbon groups, the same applies below) in the composition.
  • Tables 1 and 2 show the physical properties before and after curing, measured by the following methods.
  • Tables 2 and 3 show the compositions of Examples 5-18 and Comparative Examples 4-5, respectively.
  • volume fraction of each component In the present invention, the true density of each component in the composition at 25°C was defined as follows, and the volume fraction was calculated: component (b) was 1.23 g/cc, component (f) was 2.20 g/cc, component (e1) was 2.00 g/cc, the single-walled carbon nanotubes (SWCNTs) in component (e2) were 1.58 g/cc, and the other components were 0.98 g/cc.
  • Mw of component (b) The Mw when component (b) was blended and used was calculated as follows. (1) In the above formula (1), Mwk and wfk are the Mw of the kth component (b) and its weight fraction in all components (b), respectively.
  • Comparative Example 6 [Preparation of samples of Examples 5-18 and Comparative Examples 4-6] Except for Comparative Example 6, components (a), (b1), (f1) and (e) were charged into a 100cc HDPE container and mixed for at least 4 minutes at a rotation speed of 2000 RPM using a Thinky Mixer (ARE-310). After the mixture was confirmed to be homogeneous, components (c) and (g) were added and mixed under the same conditions. After cooling, component (d2) was added last and mixed for at least 2 minutes at a rotation speed of 1200 RPM using a Thinky Mixer (ARV-310LED) in a vacuum. Comparative Example 6 was carried out in the same manner as above, except that the components other than component (d2) were mixed in the same manner.
  • ARE-310 Thinky Mixer
  • Viscoelasticity measurements of Examples 5-18 and Comparative Examples 4-6 Measurements were performed using a viscoelasticity measuring device (Anton Paar, model number MCR302). A parallel plate with a diameter of 15 mm was used to set the sample to a thickness of approximately 0.5 mm at 25°C on a lower plate having a Peltier element temperature control system. The temperature was raised to 110°C at a rate of 3°C per minute under conditions of a frequency of 1 Hz and a strain of 0.1%, and the sample was held at this temperature for 60 minutes or more to cure. The storage modulus (G') and loss tangent (tan ⁇ ) after 45 minutes of curing from the start of the temperature rise are shown in Tables 2 to 5.
  • Comparative Example 6 a mold measuring 50 mm long x 30 mm wide x 6 mm thick was used, and the composition was similarly sandwiched between metal plates without being heat-treated, press-cured at 120°C for 15 minutes, and post-cured in an oven at 120°C for 45 minutes to obtain a block-shaped cured product.
  • Example electrode coating on PET sheet substrate Each composition was diluted with a silicone solvent OS-20 (DOW PERFORMANCE SILICONE) at the concentration shown in Table 2, and a 80-micron-thick Nitoflon spacer (manufactured by Nitto Denko Corporation) was placed on a 200-micron-thick PET film and bar-coated (area approximately 70 mm x 100 mm). After coating, the solvent was distilled off in a vacuum at 60°C for about half a day. Then, a PET-based release liner film was placed on the coated composition and pressed with a 2KG roller. The release liner film was peeled off, and the film was heated in an oven at 120°C for 1 hour to form an electrode layer approximately 10-30 microns thick. The VR values measured by the method described above are shown in Tables 2 to 5.
  • a liquid curable organopolysiloxane composition was prepared by blending the above-mentioned component (a2) at 68.34 mass%, component (c4) at 5.06 mass%, component (c5) at 5.06 mass%, component (d2) at 0.10 mass%, component (f2) at 18.69 mass%, component (f3) at 2.46 mass%, and component (g2) at 0.28 mass%.
  • the silicon-bonded hydrogen atom (Si-H): (SiH/unsaturated hydrocarbon group) of component (d) was used in an amount of about 1.2 moles per mole of unsaturated hydrocarbon group in the composition.
  • Example electrode coating on substrate DEAP sheet> Each composition was diluted with a silicone solvent OS-20 (DOW PERFORMANCE SILICONE) at the concentration shown in Table 4 or 5, and an electrode layer having a diameter of 30 mm and a thickness of approximately 10 to 25 microns was formed using a spray gun under the same conditions as those used for the VR measurement in Examples 5 to 18.
  • Example 1-4 the amount of component (b) does not exceed the predetermined amount, so the temperature dependence of the viscoelasticity of the cured product is small.
  • Comparative Example 1-3 the amount of component (b) is more than the predetermined amount, so the temperature dependence of the viscoelasticity of the cured product becomes large.
  • the content of component (b) exceeds the predetermined amount, in practice, when the temperature of the device used rises and falls, the viscoelasticity of the electrode layer is likely to fluctuate depending on the temperature, and there is a strong concern that the performance of the electrode layer will vary or become unstable.
  • Example 2 even if the Mw of component (bx) is small and the volume fraction is formulated to be 0.5, the temperature dependence of the viscoelasticity is small. That is, by selectively using a component (bx) with a small Mw value, it is possible to design a composition that has sufficient performance for practical use even when the organopolysiloxane resin component is formulated in a predetermined amount or more, and has a small temperature dependence of the viscoelasticity of the electrode layer obtained by curing.
  • the viscoelasticity can be adjusted to an appropriate level by heat curing under conditions where the amount of component (b) does not exceed a predetermined amount.
  • a predetermined amount of conductive particles, component (e), and in particular single-walled carbon nanotubes (SWCNTs), component (e2) is blended.
  • the volume fraction of (e2) is equal to or greater than a predetermined amount in all Examples. Therefore, the VR after curing is kept low.
  • the VR value hardly changes during biaxial stretching using Example 17.
  • Comparative Example 6 which contains only component (e3), the VR value changed significantly during biaxial stretching. Therefore, in these Examples, it can be expected that the electrode layer obtained by curing the optimized composition of the present invention will have high performance when used as an electrode for various transducer applications, including actuators.

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Abstract

［課題］硬化反応により得られる電極層の粘弾性の温度依存性が小さく、誘電層に対する接着性、追従性と形状保持性に著しく優れ、トランスデューサーに利用した場合でも、電極層の剥離や欠陥の問題を生じ難い、実用上十分な粘弾特性を備える電極層を形成しう電極層形成性組成物、積層体、その用途および製造方法を提供する。 ［解決手段］（Ａ）少なくとも分子鎖の両末端に炭素－炭素二重結合を含む硬化反応性の官能基を有する鎖状オルガノポリシロキサン、（Ｂ）標準ポリスチレン換算における重量平均分子量が５０００以上のＭＱ型オルガノポリシロキサン樹脂、および（Ｅ）単層カーボンナノチューブ（SWCNT）等の導電性微粒子を含んでなり、組成物中の成分（Ｂ）の含有量が組成物全体に対して４５質量％未満である電極層形成性硬化性オルガノポリシロキサン組成物。

Description

電極層形成性硬化性オルガノポリシロキサン組成物、電極層を備えた積層体、その用途、およびその製造方法
本発明は硬化反応により、導電性に優れ、かつ、その粘弾性の温度依存性の小さい電極層を形成する電極層形成性硬化性オルガノポリシロキサン組成物、それを用いて形成した電極層を備える積層体、その用途、その製造方法および製造装置に関する。
ポリシロキサン骨格を有するオルガノポリシロキサン硬化物は、透明性、電気絶縁性、耐熱性、耐寒性等に優れ、所望によりフルオロアルキル基等の高誘電性官能基を導入することで電気活性を改善することができ、かつフィルム状またはシート状に容易に加工できることから、各種の電気・電子デバイスに用いる接着剤フィルムやアクチュエーター等のトランスデューサーデバイスに用いる電気活性フィルムをはじめ、様々な用途に使用されている、これらのオルガノポリシロキサン硬化物は、その硬化機構により、ヒドロシリル化反応硬化型、縮合反応硬化型、パーオキサイド硬化型などに分類される。特に、室温放置もしくは加熱によって速やかに硬化し、副生物を発生しないので、ヒドロシリル化反応硬化型の硬化性オルガノポリシロキサン組成物を用いるオルガノポリシロキサン硬化物フィルムが汎用されている。
一方、タッチパネル等の電子材料、表示装置用電子部材、特にセンサー、アクチュエーター等のトランスデューサー材料として、オルガノポリシロキサン硬化物フィルムを使用する場合、誘電層としての電気活性フィルム上には、電極層を設ける必要がある。例えば、非特許文献１、２には、柔軟性に優れるシリコーンエラストマーマトリックス中に導電性充填剤を添加した電極層を形成することで、誘電層に対する追従性に優れた電極層を形成することが提案されている。
しかしながら、電気活性フィルムであるオルガノポリシロキサン硬化物フィルム上に導電性充填剤を添加した電極層を形成しようとする場合、特に、誘電層の変位（例えば、アクチュエーター等の伸縮）に伴って、誘電層と電極層の界面剥離が生じ、通電不良およびアクチュエーターとしての信頼性の低下につながる場合がある。本件出願人らは、特許文献１等において、電気活性フィルムであるオルガノポリシロキサン硬化物フィルム上に、導電性充填剤を含む硬化性オルガノポリシロキサン組成物を塗布することで、同電気活性フィルム（＝誘電層）上に、オルガノポリシロキサン硬化物フィルムである電極層を形成すること、および、アクチュエーター等のトランスデューサー材料として、電極面の追従性を向上すべく、界面での化学結合を形成させるために共通する硬化反応に関与する官能基を誘電層／電極層形成性オルガノポリシロキサン組成物に使用した積層体（特許文献２）を提案している。
しかしながら、近年、アクチュエーター等のトランスデューサーの用途は低温～高温を含む広範な温度領域に及ぶようになってきており、特に物理的変位の大きいトランスデューサーに適用した場合であっても、高い導電性を維持しつつ、１００℃以上の高温下を含む幅広い温度領域で使用してもその粘弾性が大きく変化せず、誘電層に対する接着性、追従性と形状保持性に優れる電極層が求められている。
Kujawski, M.; Pearse, J. D.; Smela, E. Carbon 2010, 48, 2409-2417. Rosset, S.; Shea, H. R. Appl. Phys. A 2013, 110, 281-307.
国際特許公開ＷＯ２０１４／１０５９５９号公報 国際特許公開ＷＯ２０２２／００４４６２号公報
本発明は上記課題を解決すべくなされたものであり、電極プリント工程（プリンティング）を含む、多様な工程に適用可能であり、得られる電極が、１００℃以上の高温下を含む幅広い温度領域で使用してもその粘弾性が大きく変化せず、耐熱性、耐久性、誘電層に対する接着性、追従性と形状保持性に著しく優れ、アクチュエーターのように高度な物理的変位を前提としたトランスデューサーに利用した場合でも、電極層の剥離や欠陥の問題を生じ難い、実用上十分な粘弾特性を備える電極層を形成しうる電極層形成性組成物、それを用いる積層体、その用途および製造方法を提供することを目的とする。
鋭意検討の結果、本発明者らは、（Ａ）少なくとも分子鎖の両末端に炭素－炭素二重結合を含む硬化反応性の官能基を有する鎖状オルガノポリシロキサン、（Ｂ）標準ポリスチレン換算における重量平均分子量が５０００以上の分子内にＲ３ＳｉＯ１／２（式中、Ｒは互いに独立して一価有機基を表す）で表されるシロキサン単位（Ｍ単位）、及び、ＳｉＯ４／２で表されるシロキサン単位（Ｑ単位）を含むオルガノポリシロキサン樹脂、および（Ｅ）導電性微粒子を含んでなり、２５℃において非流動性であり、かつ、加熱溶融性を有し、組成物中の成分（Ｂ）の含有量が組成物全体に対して４５質量％未満である、電極層形成性硬化性オルガノポリシロキサン組成物、特に好ましくは、導電性微粒子が、カーボンナノチューブ（ＣＮＴ）、導電性カーボンブラック、グラファイトおよび気相成長カーボン（ＶＧＣＦ）から選ばれる少なくとも１種の導電性カーボンを含む微粒子であり、成分（Ａ）、成分（Ｂ）および任意で（ＢＸ）標準ポリスチレン換算における重量平均分子量が５０００未満の分子内にＲ３ＳｉＯ１／２（式中、Ｒは互いに独立して一価有機基を表す）で表されるシロキサン単位（Ｍ単位）、及び、ＳｉＯ４／２で表されるシロキサン単位（Ｑ単位）を含むオルガノポリシロキサン樹脂を含有してなり、
組成物全体における、成分（Ａ）、成分（Ｂ）および成分（ＢＸ）の含有量が５０～９５質量％の範囲であり、かつ、成分（Ａ）と成分（Ｂ）の質量比が１００：０～５０：５０の範囲内である電極層形成性硬化性オルガノポリシロキサン組成物により、上記課題を解決できる事を見出し、本発明に到達した。
課題解決の見地から、本発明に係る電極層形成性硬化性オルガノポリシロキサン組成物は、得られる電極層の粘弾性およびすぐれた導電性を実現できることから、（Ｅ）導電性微粒子として、単層カーボンナノチューブ（ＳＷＣＮＴ）のような繊維状の導電性カーボンを一定量使用することが特に好ましい。
また、上記課題は、（Ｌ１）誘電層であるオルガノポリシロキサン硬化物フィルム　の少なくとも一方の面に、（Ｌ２）上記の電極層形成性硬化性オルガノポリシロキサン組成物の硬化反応により得られた電極層が積層された構造を有する、積層体およびその用途（トランスデューサー用部材、トランスデューサー、電子部品または表示装置を含む）により解決される。
さらに、上記課題は、工程Ｉ：硬化により誘電層を与える硬化性オルガノポリシロキサン組成物をフィルム状に硬化させることにより、誘電層であるオルガノポリシロキサン硬化物フィルムを得る工程、工程ＩＩ：工程Ｉと同時または工程Ｉの後、工程Ｉにかかるオルガノポリシロキサン硬化物フィルム上またはその前駆体上に、上記の電極層形成性硬化性オルガノポリシロキサン組成物の硬化反応により得られた電極層を塗布し、その硬化反応により電極層を形成する工程を備える、積層体の製造方法および当該製造法を含むトランスデューサー用部材における電極層の形成方法により解決される。
本発明により、プリンティングを含む、多様な工程に適用可能であり、硬化反応により得られる電極が、１００℃以上の高温下を含む幅広い温度領域で使用してもその粘弾性が大きく変化せず、耐熱性、耐久性、誘電層に対する接着性、追従性と形状保持性に著しく優れ、アクチュエーターのように高度な物理的変位を前提としたトランスデューサーに利用した場合でも、電極層の剥離や欠陥の問題を生じ難い、実用上十分な粘弾特性を備える電極層を形成しうる電極層形成性組成物、それを用いる積層体、その用途および製造方法を提供することができる。特に、本発明により、１００℃以上の高温下を含む幅広い温度領域で使用しても誘電層であるオルガノポリシロキサン硬化物フィルムとの界面剥離が生じ難く、通電不良およびアクチュエーター等としての用途における信頼性に優れた積層体およびその製造方法を提供できる。
［電極層形成性硬化性オルガノポリシロキサン組成物］
まず、電極層形成性硬化性オルガノポリシロキサン組成物（以下、「本組成物」ということがある）について説明する。本組成物は、（Ａ）少なくとも分子鎖の両末端に炭素－炭素二重結合を含む硬化反応性の官能基を有する鎖状オルガノポリシロキサン、（Ｂ）標準ポリスチレン換算における重量平均分子量が５０００以上の分子内にＲ３ＳｉＯ１／２（式中、Ｒは互いに独立して一価有機基を表す）で表されるシロキサン単位（Ｍ単位）、及び、ＳｉＯ４／２で表されるシロキサン単位（Ｑ単位）を含むオルガノポリシロキサン樹脂、および（Ｅ）導電性微粒子を含んでなり、２５℃において非流動性であり、かつ、加熱溶融性を有し、組成物中の成分（Ｂ）の含有量が組成物全体に対して４５質量％未満であることを特徴とする。
ここで、本組成物は、前記の成分（Ｂ）である平均分子量の大きなオルガノポリシロキサン樹脂の使用量が少ないものであり、成分（Ｂ）よりも平均分子量の小さいオルガノポリシロキサン樹脂の使用または併用は許容される。具体的には、本組成物は、成分（Ａ）、成分（Ｂ）および任意で（ＢＸ）標準ポリスチレン換算における重量平均分子量が５０００未満の分子内にＲ３ＳｉＯ１／２（式中、Ｒは互いに独立して一価有機基を表す）で表されるシロキサン単位（Ｍ単位）、及び、ＳｉＯ４／２で表されるシロキサン単位（Ｑ単位）を含むオルガノポリシロキサン樹脂を含有してなり、組成物全体における、成分（Ａ）、成分（Ｂ）および成分（ＢＸ）の含有量が５０～９５質量％の範囲であり、かつ、成分（Ａ）と成分（Ｂ）の質量比が１００：０～５０：５０の範囲内である電極層形成性硬化性オルガノポリシロキサン組成物であることが好ましい。
本組成物は、硬化反応性を有し、特に、成分（Ａ）が炭素－炭素二重結合を含む硬化反応性の官能基を有することから、ヒドロシリル化反応による硬化反応性を備えることが好ましく、成分（Ａ）、成分（Ｂ）、成分（Ｅ）のほか、（Ｃ）分子中に少なくとも２個のケイ素結合水素原子を有するオルガノハイドロジェンポリシロキサン　組成物中の炭素－炭素二重結合の合計量１モルに対して、本成分中のケイ素原子結合水素原子が０．１～１．５モルとなる量、（Ｄ）有効量のヒドロシリル化反応用触媒をさらに含むことが好ましい。さらに、実用上、（Ｆ）補強性充填剤、（Ｇ）硬化遅延剤、（Ｈ）接着付与剤から選ばれる成分をさらに含んでもよい。
本組成物の硬化反応により得られるオルガノポリシロキサン硬化物からなる電極層は、特に高温下での粘弾性に優れ、１１０℃におけるせん断貯蔵弾性率（Ｇ′）が１．０×１０４～１．５×１０６Ｐａの範囲にある電極層を容易に得ることができる。特に、本組成物により、１１０℃におけるせん断貯蔵弾性率（Ｇ′）が２．０×１０４～１．０×１０６Ｐａの範囲にある電極層を好適に得ることができる
本組成物を用いて得られる電極層の室温における粘弾性は、特に制限されるものではないが、電極層を形成した後に、２５℃におけるせん断貯蔵弾性率（Ｇ´25℃）が、１．０×１０５～７．５×１０６Ｐａの範囲であってよく、室温下でも電極層における実用上十分な粘弾性を実現可能である。また、本組成物を用いて得られる電極層の粘弾性の見地から、電極形成前または電極形成後（特に硬化後）における、２５℃における組成物のｔａｎδの値は、０．３０以上であることが特に好ましく、特に、電極形成前における組成物のｔａｎδの値が、０．３５～０．９９の範囲にあることが好ましい。本組成物またはそれからなる電極層の粘弾性が上記の条件を満たす場合、電極層の剥離や欠陥の問題を生じ難い、実用上十分な粘弾特性を備える電極層を形成しうるためである。
［成分（Ａ）］
成分（Ａ）は少なくとも分子鎖の両末端に炭素－炭素二重結合を含む硬化反応性の官能基を有する鎖状オルガノポリシロキサンであり、硬化反応により得られる電極層において、特に高温下での良好な粘弾性を実現する成分である。このような鎖状オルガノポリシロキサンは、直鎖状または少数の分岐点をもつ分岐鎖状の構造を有するものが例示されるが、実用上、直鎖状オルガノポリシロキサンであることが特に好ましい。高度に分岐したオルガノポリシロキサンを用いた場合、加熱溶融性が実現できなかったり、電極層が硬質化して粘弾性が得られなくなる場合があり、好ましくない。
成分（Ａ）は、少なくとも分子鎖の両末端に炭素－炭素二重結合を含む硬化反応性の官能基を有する。炭素－炭素二重結合を含む硬化反応性の官能基は、ビニル基等の炭素数２～２０のアルケニル基；３－アクリロキシプロピル基、３－メタクリロキシプロピル基等の（メタ）アクリル含有基から選ばれる硬化反応性基であり、炭素数２～６のアルケニル基が特に好ましい。
成分（Ａ）中である鎖状オルガノポリシロキサンには、分子内に炭素－炭素二重結合を有しない一価炭化水素基、水酸基および炭素原子数１～３のアルコキシ基から選ばれる基を含んでもよい。また、一価炭化水素基は、その水素原子の一部がハロゲン原子または水酸基で置換されていてもよい。工業的には、工業的には、メチル基、フェニル基、水酸基、アルコキシ基が好ましい。
好適な成分（Ａ）は、その分子鎖の両末端に
（Ａｌｋ）Ｒ２ ２ＳｉＯ１／２
（式中、Ａｌｋは炭素原子数２以上のアルケニル基）で表されるシロキサン単位を有し、その他のシロキサン単位が実質的にＲ２ ２ＳｉＯ２／２で表されるシロキサン単位のみからなる直鎖状オルガノポリシロキサンである。式中、Ｒ２は上記の炭素－炭素二重結合を有しない一価炭化水素基、水酸基およびアルコキシ基から選ばれる基であり、工業的には、メチル基、フェニル基、水酸基、アルコキシ基が好ましく、全てメチル基であってよい。また、成分（Ａ）のシロキサン重合度は、末端シロキサン単位を含めて、７～１００２の範囲であり、１０２～９０２の範囲であってよい。
［成分（Ｂ）および成分（ＢＸ）］
成分（Ｂ）は、トルエン、キシレン等の有機溶媒を用いて、ＧＰＣ（ゲルパーミエーションクロマトグラフィ）で測定した標準ポリスチレン換算の重量平均分子量が５０００以上であり、かつ、分子内にＭ単位およびＱ単位を有するオルガノポリシロキサン樹脂であり、本組成物においては、成分（Ａ）の使用に加えて、成分（Ｂ）の使用量が一定量以下であることを特徴とする。成分（Ｂ）は一定量以上の分子量を有するＭＱ型のオルガノポリシロキサン樹脂であるが、その配合量が多い場合には、本組成物の硬化反応により得られる電極層の、特に、高温下における粘弾性の温度依存性が大きくなるためである。他方、成分（Ｂ）を併用することで、電極が、耐熱性、耐久性、誘電層に対する接着性、追従性と形状保持性が改善される場合もあるため、適切な使用量の範囲内であれば、本発明に係る電極層の性能を向上させることができる場合がある。
成分（Ｂ）は、重量平均分子量が５０００以上の、高分子量のオルガノポリシロキサン樹脂であることを第一の特徴とする。得られる硬化物の粘弾性の温度依存性および得られる電極の形状保持性等の見地から、成分（Ｂ）の重量平均分子量は、５５００以上、６０００以上であり、工業的には、５５００～１００，０００、６０００～５０，０００の範囲であってよい。
他方、成分（Ｂ）の重量平均分子量が前記の下限未満（すなわち、低分子量のオルガノポリシロキサン樹脂）であるもの、すなわち、（ＢＸ）標準ポリスチレン換算における重量平均分子量が５０００未満の分子内にＲ３ＳｉＯ１／２（式中、Ｒは互いに独立して一価有機基を表す）で表されるシロキサン単位（Ｍ単位）、及び、ＳｉＯ４／２で表されるシロキサン単位（Ｑ単位）を含むオルガノポリシロキサン樹脂を本発明に係る組成物に配合してもよい。成分（ＢＸ）は、分子量が小さいので、本組成物の硬化反応により得られる電極層に配合しても、高温下における粘弾性の温度依存性が大きくなり過ぎず、安定した性能を実現できる場合がある。すなわち、本発明において、特に、高温下における電極層の性能に大きく影響するのは、分子量が一定以上の高分子量のオルガノポリシロキサン樹脂である成分（Ｂ）の含有量であり、小分子量の成分（ＢＸ）を４５質量％以上の範囲で配合することは許容される。
成分（Ｂ）または成分（ＢＸ）は、Ｒ３ＳｉＯ１／２（式中、Ｒは互いに独立して一価有機基を表す）で表されるシロキサン単位（Ｍ単位）、及び、ＳｉＯ４／２で表されるシロキサン単位（Ｑ単位）を分子内に有し、任意でＲ２ＳｉＯ２／２（Ｄ単位）およびＲＳｉＯ３／２（Ｔ単位）から選ばれるシロキサン単位を含んでもよく、次の平均単位式：
(Ｒ３ＳiＯ１／２)ｐ(Ｒ２ＳiＯ２／２)ｑ(ＲＳiＯ３／２)ｒ(ＳiＯ４／２)ｓ(ＸＯ１／２)ｔ
で表されるオルガノポリシロキサン樹脂である。
Ｒは一価有機基であり、炭素－炭素二重結合を含む硬化反応性基であってもよく、分子内に炭素－炭素二重結合を有しない一価炭化水素基、水酸基およびアルコキシ基から選ばれる基であってもよい。
具体的には、Ｒである炭素－炭素二重結合を含む硬化反応性基は、ビニル基、アリル基、ブテニル基、ペンテニル基、ヘキセニル基、ヘプテニル基、オクテニル基、ノネニル基、デセニル基、ウンデセニル基、ドデセニル基等の炭素数２～２０のアルケニル基；３－アクリロキシプロピル基、４－アクリロキシブチル基等のアクリル含有基；３－メタクリロキシプロピル基、４－メタクリロキシブチル基等のメタクリル含有基から選ばれる硬化反応性基が例示される。
同様に、Ｒである炭素－炭素二重結合を有しない一価炭化水素基は、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、ノニル基、デシル基、ウンデシル基、ドデシル基などのアルキル基；フェニル基、トリル基、キシリル基、ナフチル基、アントラセニル基、フェナントリル基、ピレニル基などのアリール基；ベンジル基、フェネチル基、ナフチルエチル基、ナフチルプロピル基、アントラセニルエチル基、フェナントリルエチル基、ピレニルエチル基などのアラルキル基；およびこれらのアリール基またはアラルキル基の水素原子をメチル基、エチル基等のアルキル基；メトキシ基、エトキシ基等のアルコキシ基；塩素原子、臭素原子等のハロゲン原子で置換した基が挙げられる。
上記の平均単位式中のＸは、水素原子または炭素原子数１～３のアルキル基であり、ＯＸは水酸基または炭素原子数１～３のアルコキシ基である。このような加水分解性官能基は、オルガノポリシロキサン樹脂の合成過程で樹脂中に残存する水酸基であってよく、合成時のシラザン化合物等による処理により、樹脂中の水酸基が封止された構造であって良い。
ここで、ｐは正数であり、ｑおよびｒは０又は正数であり、ｓは正数であり、ｔ／（ｐ＋ｑ＋ｒ＋ｓ）は０～０．４の範囲内の数であり、（ｐ＋ｑ）／（ｒ＋ｓ）は０．５～２．０の範囲内であることが好ましく、ｑおよびｒが０であり、Ｍ単位およびＱ単位のみからなるオルガノポリシロキサン樹脂であってよい。
本発明における成分（Ｂ）または成分（ＢＸ）は、
（Ｂ１）分子内に炭素－炭素二重結合を含む硬化反応性基を有するオルガノポリシロキサン樹脂、および
（Ｂ２）分子内に炭素－炭素二重結合を含む硬化反応性基を有しないオルガノポリシロキサン樹脂
から選ばれる１種類以上のオルガノポリシロキサン樹脂であってよいが、硬化反応性および得られる電極層の粘弾性の温度依存性や、誘電層に対する形状保持性等の改善の見地から、これらの成分（Ｂ１）および成分（Ｂ２）を共に含んでもよい。具体的には、成分（Ｂ１）と成分（Ｂ２）を質量比５：９５～９５：５の範囲で併用してよく、質量比５：９５～５０：５０の範囲で併用してもよい。なお、成分（ＢＸ）を含む場合、成分（Ｂ１）及び成分（Ｂ２）の少なくとも一部は、標準ポリスチレン換算における重量平均分子量が５０００未満のオルガノポリシロキサン樹脂である。
成分（Ｂ１）であるオルガノポリシロキサン樹脂は、好適には、前記の重量平均分子量を有し、前記のＭ単位およびＱ単位を有し、かつ、Ｒの少なくとも一部がビニル基、ヘキセニル基等のアルケニル基であり、そのビニル（ＣＨ２＝ＣＨ―）基の含有量が１．０～５．０質量％、好ましくは１．２～３．５質量％の範囲内にあるアルケニル基含有オルガノポリシロキサン樹脂が挙げられる。なお、アルケニル基以外のＲは特に限定されないが、工業的には、その他のＲが、メチル基等のアルキル基およびフェニル基等のアリール基であってよい。なお、Ｍ単位、Ｑ単位および任意で含まれる(ＸＯ１／２)単位の、好ましい比率および含有量は前記の通りである。
成分（Ｂ２）であるオルガノポリシロキサン樹脂は、好適には、前記の重量平均分子量を有し、前記のＭ単位およびＱ単位を有し、かつ、Ｒがメチル基等のアルキル基およびフェニル基等のアリール基から選ばれる基であって、分子内に炭素－炭素二重結合を含む硬化反応性基を有しないオルガノポリシロキサン樹脂である。なお、Ｍ単位、Ｑ単位および任意で含まれる(ＸＯ１／２)単位の、好ましい比率および含有量は前記の通りである。
本発明に係る組成物は、成分（Ａ）、成分（Ｂ）および任意で（ＢＸ）標準ポリスチレン換算における重量平均分子量が５０００未満の分子内にＲ３ＳｉＯ１／２（式中、Ｒは互いに独立して一価有機基を表す）で表されるシロキサン単位（Ｍ単位）、及び、ＳｉＯ４／２で表されるシロキサン単位（Ｑ単位）を含むオルガノポリシロキサン樹脂を含有してなり、前記の通り、分子量の大きいオルガノポリシロキサン樹脂である成分（Ｂ）を含まないか、その含有量が４５質量％未満であり、特に、組成物全体における成分（Ｂ）の含有量が、０～４５質量％未満の範囲、０～４０質量％の範囲、０～３５質量％の範囲であることが好ましい。なお、成分（ＢＸ）の重量平均分子量は、５０００未満であり、好ましくは、５００～４５００の範囲、１０００～４０００の範囲である。なお、分子量以外の点では、成分（Ｂ）同様のオルガノポリシロキサン樹脂であってよい。
本組成物の硬化反応により得られる電極層の粘弾性を調整し、耐久性、誘電層に対する接着性、追従性と形状保持性に優れ、かつ、１００℃以上の高温下においてその温度依存性が小さくなることから、組成物全体における、成分（Ａ）、成分（Ｂ）および成分（ＢＸ）の含有量が５０～９５質量％、好ましくは５５～９０質量％、より好ましくは６０～９０質量％の範囲であり、かつ、成分（Ａ）と成分（Ｂ）の質量比が１００：０～５０：５０の範囲内、好ましくは、９５：５～５０：５０の範囲内であってよい。
［成分（Ｃ）］
成分（Ｃ）は、成分（Ａ）または成分（Ｂ）／（ＢＸ）中の炭素－炭素二重結合を含む硬化反応性基と、成分（Ｄ）の存在下でヒドロシリル化反応により、硬化物を形成することができる架橋剤である。
このような成分（C）として、１,１,３,３－テトラメチルジシロキサン、１,３,５,７－テトラメチルシクロテトラシロキサン、トリス(ジメチルハイドロジェンシロキシ)メチルシラン、トリス(ジメチルハイドロジェンシロキシ)フェニルシラン、分子鎖両末端トリメチルシロキシ基封鎖メチルハイドロジェンポリシロキサン、分子鎖両末端トリメチルシロキシ基封鎖ジメチルシロキサン・メチルハイドロジェンシロキサン共重合体、分子鎖両末端ジメチルハイドロジェンシロキシ基封鎖ジメチルポリシロキサン、分子鎖両末端ジメチルハイドロジェンシロキシ基封鎖ジメチルシロキサン・メチルハイドロジェンシロキサン共重合体、分子鎖両末端トリメチルシロキシ基封鎖メチルハイドロジェンシロキサン・ジフェニルシロキサン共重合体、分子鎖両末端トリメチルシロキシ基封鎖メチルハイドロジェンシロキサン・ジフェニルシロキサン・ジメチルシロキサン共重合体、トリメトキシシランの加水分解縮合物、(ＣＨ３)２ＨＳiＯ１/２単位とＳiＯ４/２単位とからなる共重合体、(ＣＨ３)２ＨＳiＯ１/２単位とＳiＯ４/２単位と(Ｃ６Ｈ５)ＳiＯ３/２単位とからなる共重合体、およびこれらの２種以上の混合物が例示される。
成分（Ｃ）の使用量は、組成物中の炭素－炭素二重結合１モルに対して、珪素結合水素原子が０．１～５．０モル、０．１～１．５モル、０．１～１．２０モルの範囲となる量であってよい。特に成分（Ｃ）の使用量が前記上限以下であると、硬化物の機械的強度および温度依存性が実用上適切な範囲内に設計しやすく、誘電層に対する電極層の追従性と形状保持性により優れた電極を得やすいという利点がある。
［成分（Ｄ）］
成分（Ｄ）は、本組成物中の炭素－炭素二重結合を含む硬化反応性基と成分（Ｃ）のヒドロシリル化反応を促進する触媒であり、白金系触媒、ロジウム系触媒、パラジウム系触媒、ニッケル系触媒、イリジウム系触媒、ルテニウム系触媒、および鉄系触媒が例示され、好ましくは、白金系触媒である。この白金系触媒としては、白金微粉末、白金黒、白金担持シリカ微粉末、白金担持活性炭、塩化白金酸、塩化白金酸のアルコール溶液、白金のオレフィン錯体、白金のアルケニルシロキサン錯体等の白金系化合物が例示され、特に白金のアルケニルシロキサン錯体が好ましい。このアルケニルシロキサンとしては、１,３－ジビニル－１,１,３,３－テトラメチルジシロキサン、１,３,５,７－テトラメチル－１,３,５,７－テトラビニルシクロテトラシロキサン、これらのアルケニルシロキサンのメチル基の一部をエチル基、フェニル基等で置換したアルケニルシロキサン、これらのアルケニルシロキサンのビニル基をアリル基、ヘキセニル基等で置換したアルケニルシロキサンが例示される。特に、この白金－アルケニルシロキサン錯体の安定性が良好であることから、１,３－ジビニル－１,１,３,３－テトラメチルジシロキサンが好ましい。また、この白金－アルケニルシロキサン錯体の安定性を向上させることができることから、この錯体に１,３－ジビニル－１,１,３,３－テトラメチルジシロキサン、１,３－ジアリル－１,１,３,３－テトラメチルジシロキサン、１,３－ジビニル－１,３－ジメチル－１,３－ジフェニルジシロキサン、１,３－ジビニル－１,１,３,３－テトラフェニルジシロキサン、１,３,５,７－テトラメチル－１,３,５,７－テトラビニルシクロテトラシロキサン等のアルケニルシロキサンやジメチルシロキサンオリゴマー等のオルガノシロキサンオリゴマーを添加することが好ましく、特に、アルケニルシロキサンを添加することが好ましい。加えて、取扱作業性および組成物のポットライフの改善の見地から、これらのヒドロシリル化反応触媒は、シリコーン樹脂、ポリカーボネート樹脂、アクリル樹脂等の熱可塑性樹脂中に分散あるいはカプセル化した触媒である、ヒドロシリル化反応触媒含有熱可塑性樹脂微粒子、特に、白金含有ヒドロシリル化反応触媒を含む熱可塑性樹脂微粒子であってもよい。なお、ヒドロシリル化反応を促進する触媒としては、鉄、ルテニウム、鉄／コバルトなどの非白金系金属触媒を用いてもよい。
特に、本発明に係る組成物が硬化により電極を形成する組成物であり、組成物の生産時の安定性、取扱作業性および組成物のポットライフの改善の見地から、成分（Ｄ）の少なくとも一部が、（Ｄ１）白金含有ヒドロシリル化反応触媒を含む熱可塑性樹脂微粒子であってよく、かつ好ましい。このような成分（Ｄ１）は、白金系ヒドロシリル化反応触媒が熱可塑性樹脂の中に溶解または分散している微粒子、あるいは熱可塑性樹脂の殻の中に白金系触媒が核として含有されている構造のマイクロカプセル微粒子のいずれであってもよい。白金系触媒としては、前記同様の白金のアルケニルシロキサン錯体等が例示される。また、熱可塑性樹脂は白金系触媒を少なくとも本組成物の生産中及び貯蔵中には実質的に透過させず、かつ、本組成物の主成分のオルガノポリシロキサンに実質的に溶解しなければ特に限定されないが、この熱可塑性樹脂は軟化点あるいはガラス転移点が８０℃以上が好ましく、１２０℃以上であることがより好ましい。具体的には、シリコーン樹脂、ポリシラン樹脂、エポキシ樹脂、アクリル樹脂、メチルセルロースポリカーボネート樹脂が好適に使用できる。この軟化点は樹脂が自重または自身の表面張力で流動開始する温度であり、一定速度で昇温しながら顕微鏡で粉砕粒子を観察する方法によって測定することができる。また、このガラス転移点はＤＳＣ（デファレンシャル・スキャンニング・カロリメーター）により測定することができ。本発明では、軟化点とガラス転移点のどちらかが１２０℃以上であることが好ましい。これは、熱可塑性樹脂の軟化点あるいはガラス転移点が１２０℃未満であると、後述する本組成物を均一混合する工程で白金成分が溶出し始める懸念があるからである。また、この白金系触媒含有熱可塑性微粒子の平均粒子径は限定されないが、好ましくは０.１～５００μｍの範囲内であり、より好ましくは０.３～１００μｍの範囲内である。これは、平均粒子径が上記範囲の下限未満である白金系触媒含有熱可塑性樹脂微粒子を調製することが困難であるからであり、一方、上記範囲の上限を超えると、本組成物中への分散性が低下するからである。
このような白金含有ヒドロシリル化反応触媒を含む熱可塑性樹脂微粒子を調製する方法は限定されず、従来公知の界面重合法やｉｎ－ｓｉｔｕ重合法などの化学的方法、コアセルベーション法や液中乾燥法などの物理的・機械的方法が例示される。特に、狭い粒径分布のマイクロカプセル微粒子が比較的容易に得られることから、液中乾燥法と、スプレードライヤー等を用いる気相乾燥法が望ましい。これらの方法によって得られた微粒子は、そのまま用いることもできるが、これを適切な洗浄溶剤によって洗浄してその表面に付着した白金系触媒を除去することが、貯蔵安定性に優れた組成物を得るためには望ましい。ここで適切な洗浄溶剤とは、熱可塑性樹脂を溶解しないが、白金系触媒を溶解する性質を有するものである。このような洗浄溶剤として、例えば、メチルアルコール、エチルアルコール等のアルコール類、ヘキサメチルジシロキサンなどの低分子量オルガノポリシロキサン類などが挙げられる。ヒドロシリル化反応用触媒の熱可塑性樹脂に対する比率は、粒状物の製造方法により大きく変わるので、特に限定することはできないが、熱可塑性樹脂に対する白金系触媒の含有量が０.０１質量％以上となることが好ましい。これは、白金系触媒の含有量が０.０１質量％未満であると、本組成物に占める白金系触媒含有熱可塑性樹脂微粒子を多量に含有しなければ、本組成物により硬化物の物性が損われるからである。
成分（Ｄ）であるヒドロシリル化反応用触媒の添加量は、触媒量であり、組成物全体に対して、金属原子が質量単位で０.０１～５００ｐｐｍの範囲内となる量、０.０１～１００ｐｐｍの範囲内となる量、あるいは、０.０１～５０ｐｐｍの範囲内となる量であることが好ましい。
成分（Ｄ）は、その一部または全部が、高エネルギー線の照射がないと活性を示さないが、高エネルギー線の照射により組成物中で活性を示すヒドロシリル化反応用触媒、いわゆる高エネルギー線活性化触媒又は光活性化触媒であってもよい。このような成分（Ｄ）を使用することで、組成物全体として、高エネルギー線の照射をトリガーとして低温でも硬化が可能であり、保存安定性に優れ、かつ、反応のコントロールが容易であるため、取り扱い作業性に優れるという特性を実現することができる。
高エネルギー線は、紫外線、ガンマ線、Ｘ線、α線、電子線等が挙げられる。特に、紫外線、X線、及び、市販の電子線照射装置から照射される電子線が挙げられ、これらのうちでも紫外線が触媒活性化の効率の点から好ましく、波長２８０～３８０ｎｍの範囲の紫外線が工業的利用の見地から好ましい。また、照射量は、高エネルギー線活性型触媒の種類により異なるが、紫外線の場合は、波長３６５ｎｍでの積算照射量が１００ｍＪ／ｃｍ２～１００Ｊ／ｃｍ２の範囲内であることが好ましい。
成分（Ｄ）の具体例としては、（メチルシクロペンタジエニル）トリメチル白金（ＩＶ）、（シクロペンタジエニル）トリメチル白金（ＩＶ）、（１，２，３，４，５－ペンタメチルシクロペンタジエニル）トリメチル白金（ＩＶ）、（シクロペンタジエニル）ジメチルエチル白金（ＩＶ）、（シクロペンタジエニル）ジメチルアセチル白金（ＩＶ）、（トリメチルシリルシクロペンタジエニル）トリメチル白金（ＩＶ）、（メトキシカルボニルシクロペンタジエニル）トリメチル白金（ＩＶ）、（ジメチルフェニルシリルシクロペンタジエニル）トリメチルシクロペンタジエニル白金（ＩＶ）、トリメチル（アセチルアセトナト）白金（ＩＶ）、トリメチル（３，５－ヘプタンジオネート）白金（ＩＶ）、トリメチル（メチルアセトアセテート）白金（ＩＶ）、ビス（２，４－ペンタンジオナト）白金（ＩＩ）、ビス（２，４－へキサンジオナト）白金（ＩＩ）、ビス（２，４－へプタンジオナト）白金（ＩＩ）、ビス（３，５－ヘプタンジオナト）白金（ＩＩ）、ビス（１－フェニル－１，３－ブタンジオナト）白金（ＩＩ）、ビス（１，３－ジフェニル－１，３－プロパンジオナト）白金（ＩＩ）、ビス（ヘキサフルオロアセチルアセトナト）白金（ＩＩ）が挙げられ、これらのうちでも（メチルシクロペンタジエニル）トリメチル白金（ＩＶ）とビス（２，４－ペンタンジオナト）白金（ＩＩ）が汎用性と入手の容易さの点から好ましい。
成分（Ｄ）である高エネルギー線活性化触媒の使用量は、有効量であり、特に制限されるものではないが、本発明の組成物の硬化を促進する量であれば特に限定されない。具体的には、（Ａ）～（Ｃ）成分の和（全体を１００質量％とする）に対して、この触媒中の金属原子が質量単位で０.０１～１,０００ｐｐｍ、好適には成分（Ｄ）中の白金金属原子が、０．１～５００ｐｐｍの範囲内となる量である。
［成分（Ｅ）］
成分（Ｅ）は、導電性微粒子であり、本発明に係る組成物を用いて形成される電極層に、導電性を付与することができるものであれば特に制限はない。なお、導電性微粒子を含む電極層については、例えば、本件出願人らの国際特許公開ＷＯ２０１４／１０５９５９号公報等に提案されているが、特にカーボンナノチューブ（ＣＮＴ）については何ら開示されていない。
具体的には、成分（Ｅ）は、カーボンナノチューブ（ＣＮＴ）、導電性カーボンブラック、グラファイト(本発明において、ニッケルグラファイトのような金属等の導電性物質でコートされたグラファイトも含む)、気相成長カーボン（ＶＧＣＦ）等の導電性カーボン；白金、金、銀、銅、ニッケル、錫、亜鉛、鉄、アルミニウム等の金属粉が挙げられ、更に、アンチモンがドープされた酸化錫、リンがドープされた酸化錫、酸化錫／アンチモンで表面被覆された針状酸化チタン、酸化スズ、酸化インジウム、酸化アンチモン、アンチモン酸亜鉛、カーボンやグラファイトのウィスカー表面に酸化錫等を被覆した顔料；錫ドープ酸化インジウム（ＩＴＯ）、フッ素ドープ酸化錫（ＦＴＯ）、リンドープ酸化錫及び酸化ニッケルからなる群より選ばれる少なくとも１種の導電性金属酸化物を被覆した顔料；二酸化チタン粒子表面に酸化錫及びリンを含む導電性を有する顔料等が挙げられ、また、これらは、各種表面処理剤で処理したものであってもよい。これらはそれぞれ単独で又は２種以上組合せて用いることができる。また、これらの導電性微粒子を組成物中に均一に分散するため、当該組成物に使用する成分（Ａ）～成分（Ｃ）の一部または全部と事前に混錬し、コンパウンドの形態で組成物中に配合してもよい。
さらに、導電性無機微粒子は、ガラス繊維、シリカアルミナ繊維、アルミナ繊維、炭素繊維等の繊維、並びに、ホウ酸アルミニウムウィスカー、チタン酸カリウムウィスカー等の針状の補強材、ガラスビーズ、タルク、マイカ、グラファイト、ウォラストナイト、ドロマイト等の無機充填材の表面に金属等の導電性物質を被覆したものでもよい。
本発明に係る組成物においては、成分（Ｅ）の少なくとも一部がカーボンナノチューブ（ＣＮＴ）、導電性カーボンブラック、グラファイトおよび気相成長カーボン（ＶＧＣＦ）から選ばれる少なくとも１種の導電性カーボンを含む微粒子であることが好ましく、これらの導電性微粒子は、オルガノポリシロキサン組成物中における均一分散性に優れ、電極層形成性硬化性オルガノポリシロキサン組成物を用いて得られる電極層の粘弾性について優れた温度依存性を与え、かつ、誘電層に対する電極層の追従性と形状保持性を効果的に改善できる利点がある。
本発明に係る組成物において、成分（Ｅ）の少なくとも一部または全部が、カーボンナノチューブ（ＣＮＴ）であることが好ましい。ＣＮＴは、単層、二層、多層のいずれであってもよく、その粒子径も特に制限されないが、特に（Ｅ１）単層カーボンナノチューブ（ＳＷＣＮＴ）を含む導電性微粒子が好適である。
単層カーボンナノチューブ（ＳＷＣＮＴ）は、一次元材料として知られる特別な種類の炭素材料である。単層カーボンナノチューブはグラフェンのシートからなり、１原子分の厚さの壁を有する中空の管を形成するように巻かれている。そのような化学構造および大きさを有することにより、アセチレンブラック等の他の導電性カーボンの中でも、単層カーボンナノチューブは特に優れた機械的、電気的、熱的および光学的特性を示す傾向があり、特に、少量の使用でも得られる電極層の体積抵抗率を効果的に低減し、かつ、電極層の破断時伸びや引張強度などの機械的強度を損なわないため、電極層のエネルギー密度の向上を含む高性能化、高強度化に加えて、誘電層に対する電極層の追従性と形状保持性を特に効果的に改善できる利点がある。
単層カーボンナノチューブの平均外径は特に制限されないが、２．５ｎｍ以下であることが好ましい。より好ましくは１．０～２．５ｎｍであり、更に好ましくは１．１～２．０ｎｍであり、特に好ましくは１． ２～１．８ｎｍである。単層カーボンナノチューブの平均外径は、紫外可視近赤外分光法（ＵＶ－Ｖｉｓ－ＮＩＲ）により得られた単層カーボンナノチ ューブの光吸収スペクトル、ラマンスペクトル、または透過型電子顕微鏡（ＴＥＭ）画像から求めることができる。
単層カーボンナノチューブの平均繊維長は、１００μｍ未満であることが好ましい。より好ましくは０．１～５０μｍであり、更に好ましくは０．５～２０μｍであり、特に好ましくは１～１０μｍである。単層カーボンナノチューブの平均繊維長は、原子間力顕微鏡（ＡＦＭ）を用いて、単層カーボンナノチューブのＡＦＭ像を得て、又は透過型電子顕微鏡（ＴＥＭ）を用いて、単層カーボンナノチューブのＴＥＭ画像を得て、各単層カーボンナノチューブの長さを測定し、長さの合計値を、測定した単層カーボンナノチューブの個数で除することにより求めることができる。
単層カーボンナノチューブのラマン分光分析（波長５３２ｎｍ）によって測定されるＧ／Ｄ比は、２以上であることが好ましい。より好ましくは２～２５０であり、更に好ましくは５～２５０であり、特に好ましくは１０～２２０であり、最も好ましくは４０～１８０である。Ｇ／Ｄ比とは、単層カーボンナノチューブのラマンスペクトルのＧバンドとＤバンドとの強度比（Ｇ／Ｄ）である。単層カーボンナノチューブのＧ／Ｄ比が高いほど、単層カーボンナノチューブの結晶性が高く、不純物カーボンや欠陥のあるカーボンナノチューブが少ないことを意味する。
単層カーボンナノチューブ（ＳＷＣＮＴ）は市販品として入手可能であり、本発明においては、例えば、ＴＵＢＡＬＬ(TM) ＭＡＴＲＩＸ ６０１（単層カーボンナノチューブ１０質量％含有ポリジメチルシロキサン）、ＴＵＢＡＬＬ(TM)  ＭＡＴＲＩＸ ６０２（単層カーボンナノチューブ１０質量％含有ビニルエーテル末端ポリジメチルシロキサン）、ＴＵＢＡＬＬ(TM)  ＭＡＴＲＩＸ ２０１（単層カーボンナノチューブ１０質量％含有脂肪酸グリシジルエステル）、ＴＵＢＡＬＬ(TM)  ＭＡＴＲＩＸ ２０２（単層カーボンナノチューブ１０質量％含有脂肪族カルボン酸エステル誘導体）、ＴＵＢＡＬＬ(TM)  ＭＡＴＲＩＸ ２０４（単層カーボンナノチューブ１０質量％含有メタクリル酸エステル誘導体）、ＴＵＢＡＬＬ(TM)  ＭＡＴＲＩＸ ３０１（単層カーボンナノチューブ１０質量％含有エトキシ化アルコール）（いずれも楠本化成（株）製）等が挙げられる。
前記の導電性微粒子は、その一部または全部が、有機ケイ素化合物により、その表面の一部または全部が処理されたものであってもよい。有機ケイ素化合物の例は、シラン、シラザン、シロキサン、又は同様物などの低分子量有機ケイ素化合物、及びポリシロキサン、ポリカルボシロキサン、又は同様物などの有機ケイ素ポリマー又はオリゴマーである。好ましいシランの例は、いわゆるシランカップリング剤である。このようなシランカップリング剤の代表例としては、アルキルトリアルコキシシラン（メチルトリメトキシシラン、ビニルトリメトキシシラン、ヘキシルトリメトキシシラン、オクチルトリメトキシシラン、又は同様物など）、有機官能基含有トリアルコキシシラン（グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、エポキシシクロヘキシルエチルトリメトキシシラン、メタクリルオキシプロピルトリメトキシシラン、アミノプロピルトリメトキシシラン、又は同様物など）である。好ましいシロキサン及びポリシロキサンとしては、ヘキサメチルジシロキサン、１，３－ジヘキシル－テトラメチルジシロキサン、トリアルコキシシリル単末端化（single-terminated）ポリジメチルシロキサン、トリアルコキシシリル単末端化ジメチルビニル単末端化ポリジメチルシロキサン、トリアルコキシシリル単末端化有機官能基単末端化ポリジメチルシロキサン、トリアルコキシシリル両末端化（doubly terminated）ポリジメチルシロキサン、有機官能基両末端化ポリジメチルシロキサン、又は同様物が挙げられる。シロキサンを使用するとき、シロキサン結合の数ｎは、好ましくは２～１５０の範囲である。また、シロキサンは必ずしも主鎖である必要はなく、有機ポリマーをシロキサン変性したものでもよく、シリコーン変性アクリルポリマーが例として挙げられる。好ましいシラザンの例は、ヘキサメチルジシラザン、１，３－ジヘキシル－テトラメチルジシラザン、又は同様物である。好ましいポリカルボシロキサンの例は、ポリマー主鎖内にＳｉ－Ｃ－Ｃ－Ｓｉ結合を有するポリマーである。
成分（Ｅ）の配合量は、得られる電極層の導電性（すなわち、体積抵抗率）、機械的強度および形状保持性等に応じて適宜設計可能であるが、実用的には、組成物全体に対する（Ｅ）導電性微粒子の体積分率が、０．００３～０．５０の範囲となる量であることが好ましく、０．００３～０．２５の範囲となる量がより好ましい。当該成分（Ｅ）の配合量の範囲内では、本組成物を用いて得られる電極層の体積抵抗率が１０３Ω・ｃｍ以下、好適には、１０～１０３Ω・ｃｍの範囲内にあり、優れた導電性を示す電極層を設計できる利点があり、特に、成分（Ｅ）の一部が導電性カーボンを含む微粒子である場合、特に、成分（Ｅ）の一部が単層カーボンナノチューブ（ＳＷＣＮＴ）である場合に、電極層の体積抵抗率を効果的に低減して優れた導電性を実現し、かつ、電極層の破断時伸びや引張強度などの機械的強度を損なうことなく、その粘弾性について優れた温度依存性を実現できる利点がある。特に、組成物全体に対する単層カーボンナノチューブ（ＳＷＣＮＴ）の体積分率が０．００１５～０．２５の範囲であることが好ましい。
［成分（Ｆ）］
成分（Ｆ）は補強性充填剤であり、本組成物の硬化反応により得られる電極層の機械的強度を向上できる場合がある。具体的には、平均一次粒子径が５０ｎｍ未満である１種以上の補強性無機微粒子であることが好ましく、ヒュームドシリカ、湿式シリカ、粉砕シリカ、炭酸カルシウム、珪藻土、微粉砕石英、アルミナ・酸化亜鉛以外の各種金属酸化物粉末、ガラス繊維、炭素繊維等が例示され、これらを後述する１種類以上の有機ケイ素化合物で処理したものが使用される。その形状は、特に限定されるものではなく、粒子状、板状、針状、繊維状等の任意の形状のものを用いることができる。
成分（Ｆ）の好例として、平均一次粒子径が１０ｎｍ以下であり、部分的に凝集していてもよい、親水性または疎水性のヒュームドシリカもしくはその金属酸化物複合体が挙げられる。更に、分散性の向上の点から、ヒュームドシリカもしくはその金属酸化物複合体を前記の有機ケイ素化合物で処理したものが好ましい。これら補強性無機粒子は、２種以上を組み合わせて使用してもよい。
成分（Ｆ）のＢＥＴ比表面積は、適宜選択可能であるが、１０ｍ２／ｇ以上であってよく、１０～１０００ｍ２／ｇの範囲であってよい。さらに、成分（Ｆ）として、ＢＥＴ比表面積が互いに異なる２種類以上の補強性充填剤を併用してもよい。例えば、（Ｆ１）１種類以上の有機ケイ素化合物により表面処理された、平均ＢＥＴ比表面積が１００ｍ２／ｇを超える補強性微粒子またはその複合体と（Ｆ２）１種類以上の有機ケイ素化合物により表面処理された、平均ＢＥＴ比表面積が１０～１００ｍ２／ｇの範囲にある補強性微粒子またはその複合体を各々単独で成分（Ｆ）として用いてもよく、（Ｆ１）成分と（Ｆ２）成分の質量比を任意の比率で併用してもよい。
成分（Ｆ）は、上記の有機ケイ素化合物により表面処理されていることが好ましく、好適な有機ケイ素化合物として、ヘキサメチルジシラザンおよび1,3-ビス(3,3,3-トリフルオロプロピル)-1,1,3,3-テトラメチルジシラザンから選ばれる１種類以上が例示される。なお、本発明の技術的効果を妨げない範囲で、有機ケイ素化合物以外の表面処理剤を用いる表面処理を併用してもよい。
前記表面処理において、充填剤総量に対する表面処理剤の割合は、０．１質量％以上、５０質量％以下の範囲が好ましく、０．３質量％以上、４０質量％以下の範囲がより好ましい。なお、処理量については、充填剤と表面処理剤の仕込み比であり、処理後に余剰の処理剤を除去することが好ましい。また、必要に応じて処理する際には反応を促進もしくは補助する添加剤等を使用しても問題ない。
［成分（Ｇ）］
成分（Ｇ）は硬化遅延剤であり、特に本組成物をヒドロシリル化反応により硬化させる場合、副反応を効果的に抑制し、本発明にかかる組成物の保存安定性および可使時間等をさらに改善できる場合がある。
利用可能な硬化遅延剤は特にその構造および種類において限定されず、公知のヒドロシリル化反応抑制剤から選択可能であり、例えば、２－メチル－３－ブチン－２－オール、３,５－ジメチル－１－ヘキシン－３－オール、２－フェニル－３－ブチン－２－オール、１－エチニル－１－シクロヘキサノール等のアルキンアルコール；３－メチル－３－ペンテン－１－イン、３,５－ジメチル－３－ヘキセン－１－イン等のエンイン化合物；テトラメチルテトラビニルシクロテトラシロキサン、テトラメチルテトラヘキセニルシクロテトラシロキサン等のアルケニル基含有低分子量シロキサン；メチル－トリス(１,１－ジメチル－2－プロピニルオキシ)シラン、ビニル－トリス(１,１－ジメチルプロピニルオキシ)シラン等のアルキニルオキシシランが例示される。
成分（Ｇ）の使用量は任意であるが、組成物全体に対して、質量単位で、１～１００００ｐｐｍの範囲内であることが好ましい。
［成分（Ｈ）］
成分（Ｈ）は、接着付与剤であり、ケイ素原子に結合したアルコキシ基を一分子中に少なくとも１個有する有機ケイ素化合物が例示される。このアルコキシ基としては、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、ブトキシ基、メトキシエトキシ基が例示され、特に、メトキシ基が好ましい。また、有機ケイ素化合物中のアルコキシ基以外のケイ素原子に結合する基としては、アルキル基、アルケニル基、アリール基、アラルキル基、ハロゲン化アルキル基等のハロゲン置換もしくは非置換の一価炭化水素基；３－グリシドキシプロピル基、４－グリシドキシブチル基等のグリシドキシアルキル基；２－(３,４－エポキシシクロヘキシル)エチル基、３－(３,４－エポキシシクロヘキシル)プロピル基等のエポキシシクロヘキシルアルキル基；３,４－エポキシブチル基、７,８－エポキシオクチル基等のエポキシアルキル基；３－メタクリロキシプロピル基等のアクリル基含有一価有機基；水素原子が例示される。この有機ケイ素化合物は本組成物中のアルケニル基またはケイ素原子結合水素原子と反応し得る基を有することが好ましく、具体的には、ケイ素原子結合水素原子またはアルケニル基を有することが好ましい。また、各種の基材に対して良好な接着性を付与できることから、この有機ケイ素化合物は一分子中に少なくとも１個のエポキシ基含有一価有機基を有するものであることが好ましい。このような有機ケイ素化合物としては、オルガノシラン化合物、オルガノシロキサンオリゴマー、アルキルシリケートが例示される。このオルガノシロキサンオリゴマーあるいはアルキルシリケートの分子構造としては、直鎖状、一部分枝を有する直鎖状、分枝鎖状、環状、網状が例示され、特に、直鎖状、分枝鎖状、網状であることが好ましい。有機ケイ素化合物としては、３－グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、２－(３,４－エポキシシクロヘキシル)エチルトリメトキシシラン、３－メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン等のシラン化合物；一分子中にケイ素原子結合アルケニル基もしくはケイ素原子結合水素原子、およびケイ素原子結合アルコキシ基をそれぞれ少なくとも１個ずつ有するシロキサン化合物、ケイ素原子結合アルコキシ基を少なくとも１個有するシラン化合物またはシロキサン化合物と一分子中にケイ素原子結合ヒドロキシ基とケイ素原子結合アルケニル基をそれぞれ少なくとも１個ずつ有するシロキサン化合物との混合物、アミノ基含有オルガノアルコキシシランとエポキシ基含有オルガノアルコキシシランとの反応混合物、一分子中に少なくとも二つのアルコキシシリル基を有し，かつそれらのシリル基の間にケイ素－酸素結合以外の結合が含まれている有機化合物、一般式：　　Ｒａ ｎＳｉ(ＯＲｂ)４－ｎ
（式中、Ｒａは一価のエポキシ基含有有機基であり、Ｒｂは炭素原子数１～６のアルキル基または水素原子である。ｎは１～３の範囲の数である）
で表されるエポキシ基含有シランまたはその部分加水分解縮合物、ビニル基含有シロキサンオリゴマー（鎖状または環状構造のものを含む）とエポキシ基含有トリアルコキシシランとの反応混合物、メチルポリシリケート、エチルポリシリケート、エポキシ基含有エチルポリシリケートが例示される。この接着性付与剤は低粘度液状であることが好ましく、その粘度は限定されないが、２５℃において１～５００ｍＰａ・ｓの範囲内であることが好ましい。また、この接着性付与剤の含有量は限定されないが、本組成物の合計１００質量部に対して０.０１～１０質量部の範囲内であることが好ましい。
　本発明において、特に好適な接着性付与剤として、アミノ基含有オルガノアルコキシシランとエポキシ基含有オルガノアルコキシシランとの反応混合物が例示される。このような成分は、本組成物を用いて得られる電極層の形成中（加熱溶融後および硬化途上）に接触している各種基材に対する初期接着性、特に未洗浄被着体に対しても低温接着性を改善する成分である。このような反応混合物は、特公昭５２－８８５４号公報や特開平１０－１９５０８５号公報に開示されている。
　このような成分を構成するアミノ基含有有機基を有するアルコキシシランとしては、アミノメチルトリエトキシシラン、３－アミノプロピルトリメトキシシラン、３－アミノプロピルトリエトキシシラン、３－アミノプロピルメチルジメトキシシラン、Ｎ－（２－アミノエチル）アミノメチルトリブトキシシラン、Ｎ－（２－アミノエチル）－３－アミノプロピルトリメトキシシラン、Ｎ－（２－アミノエチル）－３－アミノプロピルメチルジメトキシシラン、３－アニリノプロピルトリエトキシシランが例示される。
　また、エポキシ基含有オルガノアルコキシシランとしては、３－グリシドキシプロリルトリメトキシシラン、３－グリシドキシプロピルメチルジメトキシシラン、２－（３，４－エポキシシクロヘキシル）エチルトリメトキシシラン、２－（３，４－エポキシシクロヘキシル）エチルメチルジメトキシシランが例示される。
　これらアミノ基含有有機基を有するアルコキシシランとエポキシ基含有有機基を有するアルコキシシランとの比率はモル比で、（１：１.５）～（１：５）の範囲内にあることが好ましく、（１：２）～（１：４）の範囲内にあることが特に好ましい。この成分は、上記のようなアミノ基含有有機基を有するアルコキシシランとエポキシ基含有有機基を有するアルコキシシランとを混合して、室温下あるいは加熱下で反応させることによって容易に合成することができる。
　特に、本発明にかかる組成物においては、特開平１０－１９５０８５号公報に記載の方法により、アミノ基含有有機基を有するアルコキシシランとエポキシ基含有有機基を有するアルコキシシランとを反応させる際、特に、アルコール交換反応により環化させてなる、一般式：
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000001
 ｛式中、Ｒ1はアルキル基、アルケニル基またはアルコキシ基であり、Ｒ2は同じかまたは異なる一般式：
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000002
 （式中、Ｒ4はアルキレン基またはアルキレンオキシアルキレン基であり、Ｒ5は一価炭化水素基であり、Ｒ6はアルキル基であり、Ｒ7はアルキレン基であり、Ｒ8はアルキル基、アルケニル基、またはアシル基であり、ａは０、１、または２である。）
で表される基からなる群から選択される基であり、Ｒ3は同じかまたは異なる水素原子もしくはアルキル基である。｝
で表されるカルバシラトラン誘導体を含有することが特に好ましい。このようなカルバシラトラン誘導体として、以下の構造で表される１分子中にケイ素原子結合アルコキシ基またはケイ素原子結合アルケニル基を有するカルバシラトラン誘導体が例示される。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000003
 （式中、Ｒcはメトキシ基、エトキシ基、ビニル基、アリル基およびヘキセニル基から選ばれる基である。）
　また、本発明においては、下記構造式で表される、シラトラン誘導体を接着性付与剤として用いてもよい。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000004
 　式中のＲ1は同じかまたは異なる水素原子もしくはアルキル基であり、特に、Ｒ1としては、水素原子、またはメチル基が好ましい。また、上式中のＲ2は水素原子、アルキル基、および一般式：－Ｒ4－Ｓｉ(ＯＲ5)xＲ6 (3-x)で表されるアルコキシシリル基含有有機基からなる群から選択される同じかまたは異なる基であり、但し、Ｒ2の少なくとも１個はこのアルコキシシリル基含有有機基である。Ｒ2のアルキル基としては、メチル基等が例示される。また、Ｒ2のアルコキシシリル基含有有機基において、式中のＲ4は二価有機基であり、アルキレン基またはアルキレンオキシアルキレン基が例示され、特に、エチレン基、プロピレン基、ブチレン基、メチレンオキシプロピレン基、メチレンオキシペンチレン基であることが好ましい。また、式中のＲ5は炭素原子数１～１０のアルキル基であり、好ましくは、メチル基、エチル基である。また、式中のＲ6は置換もしくは非置換の一価炭化水素基であり、好ましくは、メチル基である。また、式中のｘは１、２、または３であり、好ましくは、３である。
　このようなＲ2のアルコキシシリル基含有有機基としては、次のような基が例示される。
－(ＣＨ２)２Ｓｉ(ＯＣＨ３)２(ＣＨ２)２Ｓｉ(ＯＣＨ３)２ＣＨ３
－(ＣＨ２)３Ｓｉ(ＯＣ２Ｈ５)２(ＣＨ２)３Ｓｉ(ＯＣ２Ｈ５)(ＣＨ３)２
－ＣＨ２Ｏ(ＣＨ２)３Ｓｉ(ＯＣＨ３)３
－ＣＨ２Ｏ(ＣＨ２)３Ｓｉ(ＯＣ２Ｈ５)３
－ＣＨ２Ｏ(ＣＨ２)３Ｓｉ(ＯＣＨ３)２ＣＨ３
－ＣＨ２Ｏ(ＣＨ２)３Ｓｉ(ＯＣ２Ｈ５)２ＣＨ３
－ＣＨ２ＯＣＨ２Ｓｉ(ＯＣＨ３)２ＣＨ２ＯＣＨ２Ｓｉ(ＯＣＨ３)(ＣＨ３)２
　上式中のＲ3は置換もしくは非置換の一価炭化水素基、炭素原子数１～１０のアルコキシ基、グリシドキシアルキル基、オキシラニルアルキル基、およびアシロキシアルキル基からなる群から選択される少なくとも一種の基であり、Ｒ3の一価炭化水素基としては、メチル基等のアルキル基が例示され、Ｒ3のアルコキシ基としては、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基が例示され、Ｒ3のグリシドキシアルキル基としては、３－グリシドキシプロピル基が例示され、Ｒ3のオキシラニルアルキル基としては、４－オキシラニルブチル基、８－オキシラニルオクチル基が例示され、Ｒ3のアシロキシアルキル基としては、アセトキシプロピル基、３－メタクリロキシプロピル基が例示される。特に、Ｒ3としては、アルキル基、アルケニル基、アルコキシ基であることが好ましく、さらには、アルキル基またはアルケニル基であることが好ましく、メチル基、ビニル基、アリル基およびヘキセニル基から選ばれる基が特に好適に例示される。
成分（Ｈ）の使用量は、特に制限されるものではないが、誘電層等への接着性改善の見地から、好適には、組成物全体の０．１～１．０質量％の範囲であり、０．２～１．０質量％の範囲がより好ましい。
［溶媒の使用］
本発明に係る電極層形成性硬化性オルガノポリシロキサン組成物は加熱溶融性乃至室温で流動性を有するように設計可能であり、溶媒の使用が実質的に不要であり、溶媒フリーとする設計が可能であり、硬化して得られるフィルム中にフッ素系溶媒、有機溶媒等が残留せず、環境負荷の問題および電子デバイスへの溶媒の影響を解消できる利点がある。ただし、本発明に係る組成物について、その原料成分等に不可避的に混入する有機溶剤や、ハンドリングの見地から少量の有機溶媒を使用することを妨げるものではない。具体的には、本発明に係る組成物は、前記の（Ａ）、（Ｂ）、（Ｅ）成分の和（１００質量部）に対して５質量部以下、好適には１質量部以下、さらに好適には検出限界以下の有機溶媒を含有する低溶剤型～無溶剤型の組成物であってもよく、かつ、好ましい。なお、溶媒の例として、(Ｓ1)有機系極性溶媒、(Ｓ2)低分子シロキサン系溶媒、および(Ｓ3)ハロゲン系溶媒から選ばれる１種類以上の有機溶媒またはそれらの混合溶媒が例示でき、特に、沸点が８０℃以上２００℃未満の溶媒が例示できる。
本発明に係る組成物において、もっとも好適には、前記の有機溶媒の含有量が１質量部以下または検出限界以下であって、実質的に有機溶媒を含有しない、無溶剤型の組成物の形態である。
さらに、本組成物には、本発明の目的を損なわない限り、その他任意の成分として、酸化鉄（ベンガラ）、酸化セリウム、セリウムジメチルシラノレート、脂肪酸セリウム塩、水酸化セリウム、ジルコニウム化合物等の耐熱剤；その他、染料、白色以外の顔料、難燃性付与剤、水酸化アルミニウム、水酸化マグネシウム、ホウ酸亜鉛、モリブデン酸亜鉛、およびホスファゼン等の徐熱剤、ハイドロタルサイト、ビスマス酸化物やイットリウム酸化物等のイオン捕捉剤・ｐH調整剤、水酸化アルミニウム、水酸化マグネシウム、ホウ酸亜鉛、モリブデン酸亜鉛、ホスファゼン等の難燃剤、ヒンダードフェノール化合物、ヒンダードアミン化合物、チオエーテル化合物等の酸化防止剤、純鉄、ケイ素鋼、鉄－コバルト合金、鉄－ニッケル合金、鉄－クロム合金、鉄－アルミニウム合金、カルボニル鉄、ステンレス鋼、またはこれらのうちの１種もしくは２種以上を含む複合材料等の軟磁性粒子、無機系難燃剤（例えば水酸化アルミニウム等の水和金属系化合物）、ハロゲン系難燃剤、リン系難燃剤、有機金属塩系難燃剤、シリコーンオイル、シリコーンゴム、ポリイソプレン、１，２－ポリブタジエン、１，４－ポリブタジエン等のポリブタジエン、スチレン－ブタジエンゴム、アクリロニトリル－ブタジエンゴム、カルボキシル基末端ブタジエンアクリロニトリルゴム、ポリクロロプレン、ポリ（オキシプロピレン）、ポリ（オキシテトラメチレン）グリコール、ポリオレフィングリコール、ポリ－ε－カプロラクトン等の熱可塑性エラストマー、ポリスルフィドゴム、フッ素ゴム等の低応力化剤、チタン酸バリウム（ＢａＴｉＯ３）、チタン酸ストロンチウム（ＳｒＴｉＯ３）、ジルコン酸チタン酸鉛（Ｐｂ（Ｚｒ，Ｔｉ）Ｏ３、別名：ＰＺＴ）、アルミナ（Ａｌ２Ｏ３、別名：酸化アルミニウム）、ジルコニア（ＺｒＯ２、別名：二酸化ジルコニウム）、マグネシア（ＭｇＯ、別名：酸化マグネシウム）、シリカ（ＳｉＯ２、別名：二酸化ケイ素）、チタニア（ＴｉＯ２、別名；二酸化チタン）、窒化アルミニウム（ＡｌＮ）、窒化ケイ素（Ｓｉ３Ｎ４）、炭化ケイ素（ＳｉＣ）、チタン酸ジルコン酸バリウムカルシウム（別名：ＢＣＴＺ）、ポリフッ化ビニリデン等の誘電体セラミック、塩化銅、ヨウ化第Ｉ銅、酢酸銅、ステアリン酸セリウム等の金属塩安定剤；ヒンダードアミン系、ヒンダードフェノール系、含硫黄化合物系、アクリレート系、リン系有機化合物などの酸化防止剤や耐熱安定剤；ベンゾフェノン系、サリチレート系、ベンゾトリアゾール系などの紫外線吸収剤や耐候剤、光安定剤等を含有してもよい。また、本組成物が加熱溶融性を有する場合、ホットメルト性の向上を目的として、有機系ワックスを配合してもよい。
［本組成物の使用：電極層の形成］
本組成物は、室温または加熱溶融により流動性を有し、所望の個所に均一に塗布することができ、かつ、硬化工程により、電極層を形成できることから、環境負荷低減およびアクチュエーター等の性能向上を目的とした無溶剤工程や電極プリント工程においても制限なく利用可能である。さらに、本組成物は、成形性、ギャップフィル性及び粘着力に優れ、かつ、得られる電極層の耐熱性、耐久性、接着性に加えて、特に高温下における粘弾特性の温度依存性が小さいので、特に誘電性エラストマーシート上に本組成物を用いてなる電極層を形成させた場合、その追従性と形状保持性に著しく優れ、アクチュエーターのように高度な物理的変位を前提としたトランスデューサーに利用した場合でも、電極層の剥離や欠陥の問題を生じ難い、実用上十分な粘弾特性を備えるものである。
本組成物は、硬化反応性を有し、電極層を形成したい箇所に塗布し、当該塗布と同時または塗布後に、硬化反応を進行させて、硬化物からなる電極層を形成することができる。成分（Ｃ）、（Ｄ）を使用する場合、硬化反応はヒドロシリル化反応であり、成分（Ｄ）の種類に応じて、加熱硬化反応、高エネルギー線の照射による硬化反応、およびこれらの組み合わせを選択することができる。
加熱硬化反応の温度は、特に限定されないが、５０℃以上２００℃以下が好ましく、６０℃以上２００℃以下がより好ましく、８０℃以上１８０℃以下がさらに好ましい。また、硬化反応にかける時間は、通常１秒以上３時間以下である。一般的には、９０～１８０℃の範囲内で１０秒～３０分保持することにより硬化物を得ることができる。なお、前記の通り、特定の軟化点またはガラス転移点を有する熱可塑性樹脂を用いた白金含有ヒドロシリル化反応触媒を含む熱可塑性樹脂微粒子を成分（Ｄ）として選択した場合、当該熱可塑性樹脂（壁材）の軟化点またはガラス転移点以下の温度では硬化反応が進行せず、それ以上の温度で加熱することで硬化反応が速やかに進行するため、硬化反応の温度によるコントロールが容易であるという利点を有する。
成分（Ｄ）の少なくとも一部が前記の高エネルギー線活性化触媒である場合、本組成物は、高エネルギー線の照射をトリガーとして硬化反応が進行する。硬化反応に使用され得る活性エネルギー線としては、紫外線、電子線、及び放射線等が挙げられるが、実用性の点で紫外線が好ましい。紫外線により硬化反応を行なう場合は、使用する紫外線に対して高い活性を有するヒドロシリル化反応用触媒、例えばビス（２，４－ペンタンジオナト）白金錯体、（メチルシクロペンタジエニル）トリメチル白金錯体、を添加することが望ましい。紫外線発生源としては高圧水銀ランプ、中圧水銀ランプ、Ｘｅ－Ｈｇランプ、及びディープＵＶランプ等が好適であり、その際の照射量は、１００～８，０００ｍＪ／ｃｍ２が好ましい。
電極層の厚みや形状は、所望により適宜設計可能であるが、前記の体積抵抗値（導電性）を有する場合、薄膜状であり、その平均厚みが好適には１～１００μｍの範囲にあってよい。
上記の硬化反応により得られた電極層は、特に高温下における粘弾特性の温度依存性が小さく、かつ、硬化物であるので電極層自体の機械的強度および基材への密着性および追従性等がさらに向上する傾向があり、当該硬化物である電極層を用いることで、その追従性と形状保持性に特に優れるという利点を有する。また、硬化反応のコントロールが容易であるので、無溶媒プロセスを含む柔軟なプロセス設計が可能である。
［本組成物の使用：積層体および誘電層］
本組成物を用いて得られる電極層は、所望の半導体用部材および電子部品等に使用することができ、半導体チップ、電子回路や半導体（光半導体含む）装置等の電子部品等に特に制限なく用いることができ、当該電極層を備えた積層体を形成することができる。特に、本組成物を用いて得られる電極層は、耐熱性、耐久性、接着性に加えて、粘弾特性の温度依存性に優れることから、特に誘電性エラストマーシート上に本組成物を用いてなる電極層を形成させた場合、その追従性と形状保持性に著しく優れ、アクチュエーターのように高度な物理的変位を前提としたトランスデューサーに利用した場合でも、電極層の剥離や欠陥の問題を生じ難い積層体が形成可能である。なお、誘電性エラストマーシートの種類も特に制限されるものではないが、オルガノポリシロキサン硬化物フィルムである誘電層が、その機械的強度、耐熱性、柔軟性および電気化学的特性の点から特に好ましい。
具体的には、本組成物を用いて得られる電極層を備えた積層体は、（Ｌ１）誘電層であるオルガノポリシロキサン硬化物フィルムの少なくとも一方の面に、（Ｌ２）上記の電極層形成性硬化性オルガノポリシロキサン組成物からなる電極層が積層された構造を有する積層体であることが好ましい。
ポリシロキサン骨格を有するオルガノポリシロキサン硬化物は、透明性、電気絶縁性、耐熱性、耐寒性等に優れ、所望によりフルオロアルキル基等の高誘電性官能基を導入することで電気活性を改善することができ、かつフィルム状またはシート状に容易に加工できることから、各種の電気・電子デバイスに用いる接着剤フィルムやアクチュエーター等のトランスデューサーデバイスに用いる電気活性フィルムとして、特に、誘電層としての利用に適する。
オルガノポリシロキサン硬化物フィルムの硬化機構は、ヒドロシリル化反応硬化型、縮合反応硬化型、パーオキサイド硬化型などに分類されるが、室温放置もしくは加熱によって速やかに硬化し、副生物を発生しないので、ヒドロシリル化反応硬化型の硬化性オルガノポリシロキサン組成物を用いるオルガノポリシロキサン硬化物フィルムが特に好ましい。
誘電層であるオルガノポリシロキサン硬化物フィルムは、薄膜状であり、フィルムの平均厚みが好適には１～２００μｍの範囲にあるものであり、平均厚みが１～１５０μｍの範囲にあることが好ましく、平均厚みが１～１００μｍの範囲にあることがより好ましい。ここで、フィルムの平均厚みは、フィルム中央の厚みの平均値である。好適には、上記のオルガノポリシロキサン硬化物フィルムは、均一かつ平坦であり、フィルムの幅方向について、末端の厚みと中央の厚みの差が５．０％以内であり、フィルム中央の厚みの平均値が５～２００μｍの範囲にあることがより好ましい。
同様に、誘電層であるオルガノポリシロキサン硬化物フィルムは、その任意の箇所において１５ｍｍ×１５ｍｍを単位面積とする範囲で、光学的手段を用いてその内部欠陥の個数を測定した場合、内部欠陥の個数が０～２０個の範囲であり、０～１５個の範囲が好ましい。内部欠陥の個数が前記の上限を超えると、当該フィルムに高電圧を印加した場合、絶縁破壊が起こりやすくなり、フィルム全体の絶縁破壊強度が著しく低下する場合がある。
誘電層であるオルガノポリシロキサン硬化物フィルムは、室温で測定される絶縁破壊強度が５６Ｖ／μｍ～２００Ｖ／μｍの範囲であり、５８Ｖ／μｍ～１００Ｖ／μｍの範囲であることがより好ましい。また、本発明のオルガノポリシロキサン硬化物フィルムは、任意で、フルオロアルキル基等の高誘電性官能基の導入量および高誘電性フィラーの使用等により、１ｋＨｚ、２５℃におけるフィルム全体の比誘電率を容易に３以上、４以上、５以上、または、６以上に設計してもよい。
誘電層であるオルガノポリシロキサン硬化物フィルムは、2.0ｍｍ厚のシート状に加熱成形した場合、JIS K 6249に基づいて測定される以下の力学物性を有するように設計可能である。
（１）ヤング率（MPa）は、室温下において、１０MPa以下とすることができ、特に好適な範囲は、０．１～２．５ＭＰａである。
（２）引き裂き強さ (N/mm) は、室温下において、１N/mm以上とすることができ、特に好適な範囲は、２N/mm以上である。
（３）引っ張り強さ (MPa) は、室温下において、１MPa以上とすることができ、特に好適な範囲は、２MPa以上である。
（４）破断伸び (%) は、５０％以上とすることができ、特に好適な範囲は、１００－１０００％の範囲である。
誘電層であるオルガノポリシロキサン硬化物フィルムをタッチパネル等の電子材料、表示装置用電子部材、特にセンサー等のトランスデューサー材料としての用途に用いる場合には、２３℃におけるせん断貯蔵弾性率が１０３～１０５Ｐａの範囲にあることが好ましく、１．０×１０３～５．０×１０４Ｐａの範囲にあることがより好ましい。
誘電層であるオルガノポリシロキサン硬化物フィルムは、前記の通り、一枚あたりの平均厚みが１～２００μｍの範囲にあるものであるが、複数のフィルムを重ね合わせて２００μｍを超える積層フィルムとして誘電層を形成する目的で用いてもよい。
［積層体の形成］
上記の積層体は、例えば、工程Ｉ：硬化により誘電層を与える硬化性オルガノポリシロキサン組成物をフィルム状に硬化させることにより、誘電層であるオルガノポリシロキサン硬化物フィルムを得る工程、工程ＩＩ：工程Ｉと同時または工程Ｉの後、工程Ｉにかかるオルガノポリシロキサン硬化物フィルム上またはその前駆体上に、上記の電極層形成性硬化性オルガノポリシロキサン組成物を塗布し、電極層を形成する工程を備える、積層体の製造方法により好適に得ることができる。なお、工程ＩＩにおける電極層形成性硬化性オルガノポリシロキサン組成物を塗布する方法は特に制限されず、組成物の性状に応じておよび所望の電極層の形状に応じ、ディスペンス等の公知の塗布手段を適宜利用することができる。さらに、電極層の形成には、任意で加熱溶融工程を有してもよく、塗布後の組成物の硬化反応による硬化物である電極層の形成が含まれる。
特に、上記工程Ｉにかかる誘電層の形成にかかる硬化反応および工程ＩＩにかかる電極層の形成が硬化物の形成を伴う硬化反応であり、かつ、これらの硬化反応が共にヒドロシリル化反応を含む場合、誘電層の形成にかかる硬化性オルガノポリシロキサン組成物または電極層形成性硬化性オルガノポリシロキサン組成物中の炭素－炭素二重結合の合計量１モルに対して、オルガノハイドロジェンポリシロキサン成分中のケイ素原子結合水素原子（以下、「ＳｉＨ／Ｖｉ比」と略すことがある）が互いに異なる組成物を選択することで、誘電層および電極層の界面において両層がヒドロシリル化反応により化学的に結合した構造を与え、本発明に係る電極層の誘電層に対する追従性と形状保持性をさらに改善し、電極層の剥離や欠陥の発生を抑制できる場合がある。
一例として、本発明に係る電極層形成性硬化性オルガノポリシロキサン組成物について、そのＳｉＨ／Ｖｉ比（［ＳｉＨ／Ｖｉ］Ｅｌｅｃ）が０．２モル以上であり１．５モル以下であり、好適には、０．３モル以上であり１．２モル以下であり、より好適には、０．３モル以上であり１．０モル以下であり、誘電層を形成する硬化性オルガノポリシロキサン組成物について、そのＳｉＨ／Ｖｉ比（［ＳｉＨ／Ｖｉ］DEAP）について、［ＳｉＨ／Ｖｉ］Ｅｌｅｃ／［ＳｉＨ／Ｖｉ］DEAPの値が、０．２０～０．９０、０．３３～０．８５、０．５０～０．７５、０．５８～０．６７の範囲となることが、特に好ましい。すなわち、誘電層を形成する組成物が、ある程度ＳｉＨ過剰である組み合わせが特に好ましい。これらの硬化性オルガノポリシロキサン組成物がヒドロシリル化反応により硬化した場合、その界面において、誘電層側に存在する過剰量のＳｉＨ基が、電極層形成性オルガノポリシロキサン組成物中の炭素－炭素二重結合を含む硬化性反応基と、両層の界面においてヒドロシリル化反応しやすくなり、両層が化学的に結合した構造を与えやすくなるためである。当該製造方法は、トランスデューサー用部材における電極層の形成方法として特に有用であり、誘電層と電極層が強固に接合され、その接着強度および追従性の不足に伴う剥離や欠陥の問題を生じ難い積層体、電子部品または表示装置の部材を工業的に容易に提供できる。
本発明にかかるオルガノポリシロキサン硬化物フィルムの積層体は、電子材料、表示装置用部材またはトランスデューサー用部材（センサー、スピーカー、アクチュエーター、およびジェネレーター用を含む）として有用であり、特に電極層を備えた電気活性フィルム（高誘電性フィルムを含む）として、電子部品または表示装置の部材として好適に使用可能である。さらに、前記の通り、絶縁破壊強度の高い電気活性フィルムは、単層または積層フィルムの形態としてアクチュエーター等のトランスデューサー用部材に好適であり、かつ、本発明に係る電極層は、加熱溶融を伴う無溶剤工程や電極プリント工程であっても特に制限なく誘電層上に形成することができ、かつ、誘電層であるオルガノポリシロキサン硬化物フィルムに対する追従性と形状保持性に著しく優れ、電極層の剥離や欠陥の問題を生じ難いという特徴を備えるので、高電圧下で起動するアクチュエーター用途に特に有用である。
なお、本発明にかかるオルガノポリシロキサン硬化物フィルムの積層体は、前記の誘電層の片面に電極層を備え、これらの層が交互に積層され、外側に電極層が配置された全体または部分構造を備えることが好ましい。さらに、本発明に係る積層体は、本発明に係る電極層と、単層または多層の誘電層のほか、トランスデューサー内に配置する目的で使用する感圧接着層や、任意で剥離面を備えてもよい非シリコーン系の熱可塑性樹脂層を備えてもよい。
以下、本発明に関して実施例を挙げて説明するが、本発明は、これらによって限定されるものではない。以下に示す実施例では下記の化合物を用いた。
・成分（a1-1）：両末端ビニルジメチルシロキシ基封鎖、ジメチルシロキサンポリマー(ビニル基含有量：０．０９質量％、シロキサン重合度：８３５）
・成分（a1-2）：両末端ビニルジメチルシロキシ基封鎖、ジメチルシロキサンポリマー(ビニル基含有量：１．５３質量％、シロキサン重合度：４５）
・成分（a1-3）：両末端ビニルジメチルシロキシ基封鎖、ジメチルシロキサンポリマー(ビニル基含有量：０．１４質量％、シロキサン重合度：５３７）
・成分（a1-4）：両末端ビニルジメチルシロキシ基封鎖、ジメチルシロキサンポリマー(ビニル基含有量：０．２４質量％、シロキサン重合度：３００）
・成分（a2）：両末端ビニルジメチルシロキシ基封鎖、３，３，３－トリフルオロプロピルメチル、ジメチルシロキサンコポリマー（ビニル基含有量：０．２６質量％、シロキサン重合度１９３）
・成分（b1）：トリメチルシロキシ単位（Ｍ）およびビニルジメチルシロキシ単位（ＶｉＭ）と４官能シロキシ単位（Ｑ、ＳｉＯ４／２）単位から構成されるビニル基含有ＭＱレジン（ビニル基含有量：１．９質量％, テトラヒドロフランを溶媒に用いて、ＧＰＣ（ゲルパーミエーションクロマトグラフィ）で測定したポリスチレン換算の重量平均分子量であるＭｗ＝2.4 × 104Ｍｗ＝2.4 × 104）
・成分（b2）：トリメチルシロキシ単位（Ｍ）と４官能シロキシ単位（Ｑ、ＳｉＯ４／２）単位から構成されるＭＱレジン（トルエンを溶媒に用いて、ＧＰＣで測定したポリスチレン換算の重量平均分子量であるＭｗ＝6.4 × 103）
・成分（bx）：トリメチルシロキシ単位（Ｍ）と４官能シロキシ単位（Ｑ、ＳｉＯ４／２）単位から構成されるＭＱレジン（トルエンを溶媒に用いて、ＧＰＣで測定したポリスチレン換算の重量平均分子量であるＭｗ＝3.4 × 103）
・成分（f1）：ヘキサメチルジシラザンおよび両末端ヒドロキシジメチルシロキシ基封鎖、ジメチルシロキシ－メチルビニルシロキシ－シロキサンコポリマーで処理したヒュームドシリカ(CAB-O-SIL MS-75)
・成分（f2）：ヘキサメチルジシラザンと１，３－ビス（３，３，３－トリフルオロプロピル）－１，１，３，３－テトラメチルジシラザンで処理したヒュームドシリカ（処理前の製品名：アエロジル２００、BET比表面積200 m2/g）
・成分（f3）：ヘキサメチルジシラザンと１，３－ビス（３，３，３－トリフルオロプロピル）－１，１，３，３－テトラメチルジシラザンで処理したヒュームドシリカ（処理前の製品名：アエロジル５０、BET比表面積50 m2/g）
・成分（c1）：両末端ジメチルヒドロシロキシ基封鎖、ジメチルシロキサンポリマー（ケイ素結合水含有量：０．１２３質量％）
・成分（c2）：両末端トリメチルシロキシ基封鎖、ジメチルシロキシ－メチルヒドロシロキシ－シロキサンコポリマー（ケイ素結合水含有量：０．７１質量％）
・成分（c3）：両末端ジメチルヒドロシロキシ基封鎖、ジメチルシロキサンポリマー（ケイ素結合水含有量：０.０１５質量％）
・成分（c4）：両末端トリメチルシロキシ基封鎖、ジメチルシロキサン・３，３，３－トリフルオロプロピルメチルシロキサン・メチルハイドロジェンシロキサンコポリマー（ケイ素原子結合水素の含有量：約０．２３質量％）
・成分（c5）：両末端ジメチルヒドロシロキシ基封鎖、ジメチルシロキサン・３，３，３－トリフルオロプロピルメチルシロキサンコポリマー（ケイ素原子結合水素の含有量：約０．０１４質量％）
・成分（d1）：白金触媒含有熱可塑性樹脂微粒子を含むマスターバッチ （＊）下記の参考例に示す方法によって調製した白金触媒含有微粒子を含むマスターバッチ（白金金属濃度は０．１６質量％）
・成分（d2）：白金－１，３－ジビニル１，１，３，３－テトラメチルジシロキサン錯体の両末端ビニルジメチルシロキシ基封鎖ジメチルシロキサンポリマー溶液（白金濃度で約０．６質量％）
〔参考例（白金触媒含有熱可塑性樹脂微粒子を含むマスターバッチの調製）〕
攪拌機付フラスコにビスフェノールＡ型の熱可塑性ポリカーボネート樹脂（ガラス転移温度（Ｔｇ）１４５℃；壁材）９００ｇとトルエン５００ｇとジクロロメタン４６００ｇを投入し均一に混合した。これに白金（０価）ジビニルテトラメチルジシロキサン錯体のジビニルテトラメチルジシロキサン溶液（白金金属濃度は５質量％）４４．４ｇを加えて混合し、均一な溶液を得た。この溶液を、窒素ガスを熱気流としたスプレードライヤーを用いて噴霧・乾燥することで、球状の白金触媒含有熱可塑性樹脂微粒子（平均粒子径は１．１μｍ）、４５０ｇを得た。
　次に、上記の白金触媒含有熱可塑性樹脂微粒子４０質量部と、分子鎖両末端がジメチルビニルシロキシ基で封鎖された粘度３５０ｍＰａ・ｓ、ビニル基含有量０．４７質量％ のジメチルポリシロキサン６０質量部を混合し、白金触媒含有微粒子を含むマスターバッチを調製した。前記マスターバッチ中の白金金属の濃度は０．１６質量％であった。
＜導電フィラー＞
・成分（e1）：カーボンフィラー（PRINTEX(TM) XE2 B）
・成分（e2）：単層カーボンナノチューブ（SWCNT、両末端トリメチルシロキシ基封鎖ジメチルシロキサンポリマー中１０質量％、TUBALL（ＴＭ） MATRIX 601）
・成分（e3）：アセチレンブラック（デンカ社製、１００％プレス品）
＜ヒドロシリル化反応抑制剤＞
・成分（g1）：1-エチニルシクロヘキサノール
・成分（g2）：１，３，５，７－テトラメチル－１，３，５，７－テトラビニル－シクロテトラシロキサン
［実施例１－４および比較例１－３］
表１に、実施例および比較例の各実験例の組成を示した。各成分に対応する数値は質量％であり、その総和は１００質量％である。また、以下の実施例では、組成物中のビニル基（不飽和炭化水素基、以下同じ）１モル当たり、成分（c）のケイ素原子結合水素原子（Ｓｉ－Ｈ）が０．３５～１．０モルとなる範囲の量で用いた。さらに、表１および表２に以下の方法で測定した硬化前または硬化後の物性を示した。
［実施例５－１８および比較例４－５］
表２および３に、それぞれ実施例５－１８と比較例４－５の組成を示した。各成分に対応する数値は質量％であり、その総和は１００質量％である。組成物中のビニル基１モル当たり、成分（c）のケイ素原子結合水素原子（Ｓｉ－Ｈ）が０．８７～０．９３モルとなる範囲の量で用いた。さらに、表２および３に以下の方法で測定した硬化前または硬化後の物性を示した。
［各成分の体積分率］
本発明では組成中の各成分の２５℃での真密度を以下のように規定して、体積分率を算出した。成分（b）は1.23 g/cc、成分（f）は2.20 g/cc、成分（e1）は2.00 g/cc、成分（e2）中の単層カーボンナノチューブ(SWCNT)は1.58 g/cc、それ以外の成分は0.98 g/ccとした。

［成分（b）のＭｗ］
成分（b）をブレンドして使用した際のＭｗを以下のようにして算出した。

Figure JPOXMLDOC01-appb-I000005
                                   (1)

上記式（１）中、Mwk とwfk はそれぞれk番目の成分（b）のＭｗと 全成分（b）中の重量分率。
［実施例１－４および比較例１－３のサンプル作製］
成分（d1）以外を300ccの広口ガラスサンプル瓶に計量後、125℃のオーブンにて約３０分加熱した。その後、180℃に加熱したホットプレート上にて、サンプル瓶壁面の付着物の掻き落とし操作をしながら電動撹拌機で３０分以上混合した。冷却後、成分（d1）を添加し、120℃に加熱したホットプレート上にて、同様に掻き落とし操作をしながら電動撹拌機で３０分以上混合した。その後、混合物を100ccのHDPE容器に移し、110℃のオーブンにて10分以上加熱した。オーブンより取り出し、シンキーミキサー（ARE-310）を用いて2000 RPMの回転速度で４分以上混合を行った。
［実施例５－１８および比較例４－６のサンプル作製］
比較例６以外については、成分（a）、(b1)、(f1)および成分(e)を100ccのHDPE容器に投入し、シンキーミキサー（ARE-310）を用いて2000 RPMの回転速度で４分以上混合を行った。外見上均一性が確認された後、成分（c）と（g）を添加し、同様な条件で混合を行った。冷却後、最後に成分（d2）を添加し、シンキーミキサー（ARV-310LED）を用いて真空中1200 RPMの回転速度で２分以上混合を行った。
比較例６については、成分（d2）以外を同様に混合した以外、上記と同様に行った。
［実施例１－４および比較例１－３のサンプル作製］
［実施例１－４および比較例１－３の粘弾性測定］
粘弾性測定装置（アントンパール社製、型番MCR302）を用いて測定した。１２０℃に加熱したペルチェ素子温度制御システムを有する下部プレート上に、各硬化性組成物を適量のせ、直径１５ｍｍのパラレルプレートを使用してサンプルを約１．５ｍｍ厚みとなるようにセットした。周波数1Hzおよびひずみ0.1%の条件下、毎分３℃にて、-20℃まで冷却後、150℃まで昇温し、180分間保持して硬化させた。さらに、冷却と昇温をもう一度繰り返した。２５℃および１１０℃での硬化前後（１回目の昇温と２回目の昇温）の貯蔵弾性率（Ｇ’）および損失正接（tan δ）を表１に示す。
［実施例５－１８および比較例４－６の粘弾性測定］
粘弾性測定装置（アントンパール社製、型番MCR302）を用いて測定した。ペルチェ素子温度制御システムを有する下部プレート上に、直径１５ｍｍのパラレルプレートを使用して、２５℃にてサンプルを約0.5ｍｍ厚みとなるようにセットした。周波数1Hzおよびひずみ0.1%の条件下、毎分３℃にて、１１０℃まで昇温し、６０分間以上保持して硬化させた。昇温開始から４５分後の硬化後の貯蔵弾性率（Ｇ’）および損失正接（tan δ）を表２～５に示す。
［実施例１－４および比較例１－３および６の硬化物の作製］
比較例６以外については、金属板上に縦50 mm x 横50 mm x 厚さ2 mmの金型を置き、PTFEフィルム（１５０ミクロン厚）をその上に設置した。各組成物の適量をPTFEフィルム上にのせ、120℃のオーブンにて３０分以上加熱した。オーブンから取り出し、PTFEフィルムを組成物上に設置し、さらに金属板で挟み込んだ。その後、１５０℃で１５分間プレスキュアし、更に１５０℃で４５分間オーブン中ポストキュアを施し、シート状硬化物を得た。比較例６については、縦50 mm x 横30 mm x 厚さ6 mmの金型を使用し、加熱処理することなく同様に金属板で挟み込み、１２０℃で１５分間プレスキュアし、更に１２０℃で４５分間オーブン中ポストキュアを施し、ブロック状硬化物を得た。
［実施例１－４および比較例１－３の硬化物の体積抵抗（ＶＲ）測定］
LORESTA-GP MCP-T610 (PSPプローブ、三菱ケミカルアナリテック製）を用いて約２５℃にて行った。サンプル形状に沿った補正係数を使用して算出した。
［実施例５－１８および比較例４－５のＶＲ測定］
＜基材PETシートへの実施例電極コート＞
表２に記載の濃度で、各組成物をシリコーン系溶剤OS-20(DOW PERFORMANCE SILICONE)で希釈し、２００ミクロン厚のPETフィルム上に、８０ミクロン厚ニトフロンスペーサー（日東電工社製）を設置し、バーコートした（面積約７０ｍｍ×１００ｍｍ）。コート後、６０℃真空中で約半日かけ溶剤を留去した。その後、コートした組成物上にPETベースのリリースライナーフィルムを被せ、２ＫＧのローラーでプレスした。リリースライナーフィルムを剥がし、１２０℃で、１時間オーブン中で加熱することで、約１０－３０ミクロン厚の電極層を形成した。上記記載の方法で測定したVR値を表２～５に示す。
［実施例１７および比較例６の２軸延伸時のＶＲ測定］
＜基材ＤＥＡＰシート＞
液状の硬化性オルガノポリシロキサン組成物として、上記の成分（a2）を68.34質量％、成分（c4）を5.06質量％、成分（c5）を5.06質量％、成分（d2）を0.10質量％、成分（f2）を18.69質量％、成分（f3）を2.46質量％、成分（g2）を0.28質量％となるように配合し調製した。その際、組成物中の不飽和炭化水素基１モル当たり 、成分（ｄ）のケイ素原子結合水素原子（Ｓｉ－Ｈ）：（ＳｉＨ／不飽和炭化水素基）ＤＥＡＰが約１．２モルとなる量で用いた。１１０℃、１時間硬化させ得られたオルガノポリシロキサン硬化物の硬度はShore A ３７であった。シートは厚み約１００μｍのものを使用した。
＜基材ＤＥＡＰシートへの実施例電極コート＞
表４もしくは５に記載の濃度で、各組成物をシリコーン系溶剤OS-20(DOW PERFORMANCE SILICONE)で希釈し、スプレーガンを用いて、実施例５－１８のＶＲ測定時と同様な条件で、直径３０ｍｍ、約１０－２５ミクロン厚の電極層を形成した。
＜電極層の２軸延伸＞
初期の半径を１として、延伸比率（λ）を1.12, 1.22, 1.32, 1.41と上げた後、逆に下げていった。各λに達した後、１分以上放置し、上記記載の方法で測定したVR値を表６に示す。


Figure JPOXMLDOC01-appb-T000006

Figure JPOXMLDOC01-appb-T000007


Figure JPOXMLDOC01-appb-T000008

Figure JPOXMLDOC01-appb-T000009
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000010


Figure JPOXMLDOC01-appb-T000011
*２軸延伸時のVR値変化が大きいため測定せず。
［総括］
上記のとおり、実施例１－４において、成分（b）が所定量を超えないため、硬化物の粘弾性の温度依存性が小さい。一方、比較例１－３では成分（b）が所定量を超えて配合されていることから、硬化物の粘弾性の温度依存性が大きくなってしまう。特に、本発明に係る電極形成性硬化性組成物において、成分（b）の含有量が所定量を超えてしまうと、実用上、デバイスの使用温度が上下した場合、電極層の粘弾性が温度に依存して変動しやすくなり、電極層の性能がばらついたり、不安定になることが強く懸念される。なお、実施例２では成分（bｘ）のＭｗが小さく、体積分率で０．５となるように処方しても、粘弾性の温度依存性が小さいものであった。すなわち、成分（bｘ）としてＭｗの値が小さいものを選択的に利用することで、オルガノポリシロキサン樹脂成分を所定量以上配合しても、実用上十分な性能を有し、硬化により得られる電極層の粘弾性の温度依存性が小さい組成物が設計可能である。
実施例５～１８においては、成分（b）が所定量を超えない条件で、加熱硬化させることで、適度な粘弾性に調整できることがわかる。どの実施例においても、所定量の導電性粒子である成分（e）、特に単層カーボンナノチューブ（SWCNT）である成分（e2）が配合されている。比較例４および５と比較すると、どの実施例においても（e2）の体積分率が所定量以上である。よって、硬化後のVRが低く保たれている。また、実施例１７を用いた２軸延伸時、VRの値がほとんど変化しないことがわかる。一方、成分（e3）のみしか含まない比較例６では、２軸延伸時、VRの値が大きく変化したことから、これらの実施例にかかり、本発明にかかわる最適化された組成物では、その硬化により得られる電極層が、アクチュエーターをはじめとする各種トランスデューサー用途の電極として用いた場合、その性能が高いことが期待される。

Claims (15)

  1. （Ａ）少なくとも分子鎖の両末端に炭素－炭素二重結合を含む硬化反応性の官能基を有する鎖状オルガノポリシロキサン、
    （Ｂ）標準ポリスチレン換算における重量平均分子量が５０００以上の分子内にＲ３ＳｉＯ１／２（式中、Ｒは互いに独立して一価有機基を表す）で表されるシロキサン単位（Ｍ単位）、及び、ＳｉＯ４／２で表されるシロキサン単位（Ｑ単位）を含むオルガノポリシロキサン樹脂、および
    （Ｅ）導電性微粒子
    を含んでなり、組成物中の成分（Ｂ）の含有量が組成物全体に対して４５質量％未満である、電極層形成性硬化性オルガノポリシロキサン組成物。
  2. 導電性微粒子が、カーボンナノチューブ（ＣＮＴ）、導電性カーボンブラック、グラファイトおよび気相成長カーボン（ＶＧＣＦ）から選ばれる少なくとも１種の導電性カーボンを含む微粒子であることを特徴とする、請求項１に記載の電極層形成性硬化性オルガノポリシロキサン組成物。
  3. 導電性微粒子が、単層カーボンナノチューブ（ＳＷＣＮＴ）を含む微粒子であることを特徴とする、請求項１に記載の電極層形成性硬化性オルガノポリシロキサン組成物。
  4. 組成物全体に対する導電性微粒子の体積分率が、０．００３～０．５０の範囲であり、本組成物を用いて得られる電極層の体積抵抗率が１０３Ω・ｃｍ以下である、請求項１に記載の電極層形成性硬化性オルガノポリシロキサン組成物。
  5. 成分（Ａ）、成分（Ｂ）および任意で（ＢＸ）標準ポリスチレン換算における重量平均分子量が５０００未満の分子内にＲ３ＳｉＯ１／２（式中、Ｒは互いに独立して一価有機基を表す）で表されるシロキサン単位（Ｍ単位）、及び、ＳｉＯ４／２で表されるシロキサン単位（Ｑ単位）を含むオルガノポリシロキサン樹脂を含有してなり、
    組成物全体における、成分（Ａ）、成分（Ｂ）および成分（ＢＸ）の含有量が５０～９５質量％の範囲であり、かつ、成分（Ａ）と成分（Ｂ）の質量比が１００：０～５０：５０の範囲内である、請求項１に記載の電極層形成性硬化性オルガノポリシロキサン組成物。
  6. （Ａ１）少なくとも分子鎖の両末端に炭素－炭素二重結合を含む硬化反応性の官能基を有する直鎖状オルガノポリシロキサン、
    （Ｂ）標準ポリスチレン換算における重量平均分子量が５０００以上の分子内にＲ３ＳｉＯ１／２（式中、Ｒは互いに独立して一価有機基を表す）で表されるシロキサン単位（Ｍ単位）、及び、ＳｉＯ４／２で表されるシロキサン単位（Ｑ単位）を含むオルガノポリシロキサン樹脂、
    （Ｃ）分子中に少なくとも２個のケイ素結合水素原子を有するオルガノハイドロジェンポリシロキサン　組成物中の炭素－炭素二重結合の合計量１モルに対して、本成分中のケイ素原子結合水素原子が０．１～１．５モルとなる量、
    （Ｄ）有効量のヒドロシリル化反応用触媒、
    （Ｅ１）単層カーボンナノチューブ（ＳＷＣＮＴ）を含む導電性微粒子、および
    （Ｆ）補強性充填剤
    を含んでなり、組成物全体に対する単層カーボンナノチューブ（ＳＷＣＮＴ）の体積分率が０．００１５～０．２５の範囲である、請求項１に記載の電極層形成性硬化性オルガノポリシロキサン組成物。
  7. 成分（Ｃ）の少なくとも一部が、（Ｃ１）分子鎖の両末端のみにケイ素結合水素原子を有するオルガノハイドロジェンポリシロキサンであり、かつ、組成物中の炭素－炭素二重結合の合計量１モルに対して、成分（Ｃ）中のケイ素原子結合水素原子が０．１～１．２０モルとなる量　である、請求項６に記載の電極層形成性硬化性オルガノポリシロキサン組成物。
  8. 硬化反応により得られるオルガノポリシロキサン硬化物からなる電極層の１１０℃におけるせん断貯蔵弾性率（Ｇ′）が１．０×１０４～１．５×１０６Ｐａの範囲にある、請求項１に記載の電極層形成性硬化性オルガノポリシロキサン組成物。
  9. 互いに組成が異なるオルガノポリシロキサン硬化物フィルムを２層以上積層した構造を有し、かつ、
    （Ｌ１）誘電層であるオルガノポリシロキサン硬化物フィルム　の少なくとも一方の面に、（Ｌ２）請求項１～８のいずれか１項に記載の電極層形成性硬化性オルガノポリシロキサン組成物の硬化反応により得られた電極層が積層された構造を有する、積層体。
  10. （Ｌ１）誘電層であるオルガノポリシロキサン硬化物フィルムがヒドロシリル化反応により硬化してなる硬化物フィルムであり、（Ｌ２）請求項１～８のいずれか１項に記載の電極層形成性硬化性オルガノポリシロキサン組成物の硬化反応により得られた電極層であって、誘電層であるオルガノポリシロキサン硬化物フィルムと電極層とがその界面において、化学的に結合した構造を有する、請求項９に記載の積層体。
  11. 請求項９または請求項１０に記載の積層体からなるトランスデューサー用部材。
  12. 請求項９または請求項１０に記載の積層体を含む、トランスデューサー。
  13. 請求項９または請求項１０に記載の積層体を含む、電子部品または表示装置。
  14. 工程Ｉ：硬化により誘電層を与える硬化性オルガノポリシロキサン組成物をフィルム状に硬化させることにより、誘電層であるオルガノポリシロキサン硬化物フィルムを得る工程、
    工程ＩＩ：工程Ｉと同時または工程Ｉの後、工程Ｉにかかるオルガノポリシロキサン硬化物フィルム上またはその前駆体上に、請求項１～８のいずれか１項に記載の電極層形成性硬化性オルガノポリシロキサン組成物を塗布し、その硬化反応により電極層を形成する工程
    を備える、請求項９または請求項１０に記載の積層体の製造方法。
  15. 請求項１４に記載の積層体の製造方法を含む、トランスデューサー用部材における電極層の形成方法。
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