[go: up one dir, main page]

WO2022030482A1 - 光学素子、及びその製造方法 - Google Patents

光学素子、及びその製造方法 Download PDF

Info

Publication number
WO2022030482A1
WO2022030482A1 PCT/JP2021/028752 JP2021028752W WO2022030482A1 WO 2022030482 A1 WO2022030482 A1 WO 2022030482A1 JP 2021028752 W JP2021028752 W JP 2021028752W WO 2022030482 A1 WO2022030482 A1 WO 2022030482A1
Authority
WO
WIPO (PCT)
Prior art keywords
retardation plate
liquid crystal
curved surface
lens
optical element
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Ceased
Application number
PCT/JP2021/028752
Other languages
English (en)
French (fr)
Inventor
賢太 関川
裕道 永山
総 石戸
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
AGC Inc
Original Assignee
Asahi Glass Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Asahi Glass Co Ltd filed Critical Asahi Glass Co Ltd
Priority to JP2022541562A priority Critical patent/JP7666513B2/ja
Priority to CN202180058057.5A priority patent/CN116057434A/zh
Publication of WO2022030482A1 publication Critical patent/WO2022030482A1/ja
Priority to US18/162,909 priority patent/US12032193B2/en
Anticipated expiration legal-status Critical
Priority to US18/674,386 priority patent/US12222532B2/en
Ceased legal-status Critical Current

Links

Images

Classifications

    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B5/00—Optical elements other than lenses
    • G02B5/30—Polarising elements
    • G02B5/3083—Birefringent or phase retarding elements
    • G02B5/3091—Birefringent or phase retarding elements for use in the UV
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B3/00—Simple or compound lenses
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B3/00—Simple or compound lenses
    • G02B3/0006—Arrays
    • G02B3/0012—Arrays characterised by the manufacturing method
    • G02B3/0018—Reflow, i.e. characterized by the step of melting microstructures to form curved surfaces, e.g. manufacturing of moulds and surfaces for transfer etching
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B5/00—Optical elements other than lenses
    • G02B5/30—Polarising elements
    • G02B5/3016—Polarising elements involving passive liquid crystal elements
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B5/00—Optical elements other than lenses
    • G02B5/30—Polarising elements
    • G02B5/3025—Polarisers, i.e. arrangements capable of producing a definite output polarisation state from an unpolarised input state
    • G02B5/3033—Polarisers, i.e. arrangements capable of producing a definite output polarisation state from an unpolarised input state in the form of a thin sheet or foil, e.g. Polaroid
    • G02B5/3041—Polarisers, i.e. arrangements capable of producing a definite output polarisation state from an unpolarised input state in the form of a thin sheet or foil, e.g. Polaroid comprising multiple thin layers, e.g. multilayer stacks
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B5/00—Optical elements other than lenses
    • G02B5/30—Polarising elements
    • G02B5/3083—Birefringent or phase retarding elements
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02C—SPECTACLES; SUNGLASSES OR GOGGLES INSOFAR AS THEY HAVE THE SAME FEATURES AS SPECTACLES; CONTACT LENSES
    • G02C7/00—Optical parts
    • G02C7/12—Polarisers

Definitions

  • This disclosure relates to an optical element and a method for manufacturing the same.
  • the curved polarizing plate described in Patent Document 1 has a polarizing element and a protective film laminated on the polarizing element.
  • the protective film has a retardation film.
  • the retardation film is a stretched film and contains a polycarbonate (PC) resin as a main component.
  • a polarizing plate for a curved surface is attached to the curved surface of the lens to obtain a polarized lens.
  • Polarized lenses are used, for example, as sunglasses or camera lenses.
  • Patent Document 2 describes a lens having a linear polarizing plate and a retardation plate.
  • the retardation plate is, for example, a 1/4 wave plate.
  • a circular polarizing plate is composed of a linear polarizing plate and a 1/4 wave plate.
  • the retardation plate is formed of a cycloolefin copolymer (COC) resin or the like.
  • the retardation plate may be formed of a liquid crystal polymer instead of the COC resin.
  • the linear polarizing plate and the retardation plate are separately bent at a high temperature and bonded with an adhesive.
  • the optical element has a lens and a retardation plate.
  • the retardation plate includes a transparent base material and a liquid crystal layer formed on the transparent base material.
  • the lens has a curved surface from the viewpoint of performance.
  • One aspect of the present disclosure provides a technique for reducing the variation in retardation of a retardation plate that curves along the curved surface of a lens.
  • the optical element includes a lens having a curved surface and a retardation plate curved along the curved surface.
  • the retardation plate includes a transparent base material and a liquid crystal layer formed on the transparent base material.
  • the retardation plate has a slow phase axis and a phase advance axis.
  • the glass transition point Tgne in the slow axis direction of the retardation plate is larger than the glass transition point Tgno in the phase advance axis direction of the retardation plate.
  • FIG. 1 (A) is a cross-sectional view showing a state before joining the phase difference plate of the optical element and the lens according to the first embodiment
  • FIG. 1 (B) is a phase difference plate shown in FIG. 1 (A).
  • FIG. 1C is a plan view of the optical element shown in FIG. 1B.
  • FIG. 2A is a cross-sectional view showing an optical element according to a first modification of the first embodiment
  • FIG. 2B is a cross-sectional view showing an optical element according to a second modification of the first embodiment
  • FIG. 2C is a cross-sectional view showing an optical element according to a third modification of the first embodiment.
  • FIG. 3A is a perspective view showing an example of a transparent substrate and an alignment layer
  • FIG. 3B is a perspective view showing an example of liquid crystal molecules oriented by the alignment layer shown in FIG. 3A.
  • .. 4 (A) is a plan view showing the buckling of the retardation plate of the optical element according to the first reference embodiment
  • FIG. 4 (B) is a cross-sectional view taken along the line BB of FIG. 4 (A).
  • 5 (A) is a cross-sectional view perpendicular to the Y-axis direction of the optical element according to the second reference embodiment
  • FIG. 5 (B) is a cross-sectional view perpendicular to the X-axis direction of the optical element of FIG. 5 (A).
  • FIG. 5 (C) is a plan view of the optical element of FIG. 5 (A).
  • 6 (A) is a view of the liquid crystal molecule at the point P101 of FIG. 5 viewed from the Y-axis direction
  • FIG. 6 (B) is a view of the liquid crystal molecule at the point P101 of FIG. 5 viewed from the X-axis direction.
  • 7 (A) is a view of the liquid crystal molecule at the point P103 of FIG. 5 viewed from the Y-axis direction
  • FIG. 7 (B) is a view of the liquid crystal molecule at the point P103 of FIG. 5 viewed from the X-axis direction.
  • FIG. 8 is a diagram showing an example of the relationship between the tilt angle of the flat plate-shaped liquid crystal layer and Rd.
  • FIG. 9 is a plan view of the optical element according to the second embodiment.
  • FIG. 10A is a cross-sectional view showing an example of dry etching
  • FIG. 10B is a cross-sectional view showing another example of dry etching.
  • 11 (A) is a cross-sectional view showing a state before joining the phase difference plate of the optical element and the lens according to the third reference embodiment
  • FIG. 11 (B) is a phase difference plate shown in FIG. 11 (A).
  • 11 (C) is a cross-sectional view showing an optical element formed by joining a lens and a lens
  • FIG. 11 (C) is a plan view showing the distribution of Rd of the optical element shown in FIG. 11 (B).
  • FIG. 12 (A) is a cross-sectional view showing a state before joining the phase difference plate of the optical element and the lens according to the modified example of the third reference embodiment, and FIG. 12 (B) is shown in FIG. 12 (A).
  • FIG. 12 (C) is a cross-sectional view showing an optical element formed by joining a retardation plate and a lens, and FIG. 12 (C) is a plan view showing the distribution of Rd of the optical element shown in FIG. 12 (B).
  • 13 (A) is a cross-sectional view of the optical element according to the third embodiment
  • FIG. 13 (B) is an enlarged cross-sectional view of region B of FIG. 13 (A)
  • FIG. 13 (C) is a cross-sectional view.
  • FIG. 14 (A) is a cross-sectional view of the optical element according to the modified example of the third embodiment
  • FIG. 14 (B) is an enlarged cross-sectional view showing the region B of FIG. 14 (A).
  • C) is an enlarged cross-sectional view showing the region C of FIG. 14 (A).
  • the optical element 1 according to the first embodiment will be described with reference to FIG. It is desired that the lens 2 of the optical element 1 has a curved surface 21 from the viewpoint of performance, depending on the application.
  • the optical element 1 includes a lens 2.
  • the lens 2 may be a spherical lens or an aspherical lens. Further, the lens 2 may be any of a biconcave lens, a plano-concave lens, a concave meniscus lens, a biconvex lens, a plano-convex lens, and a convex meniscus lens.
  • the lens 2 has a curved surface 21.
  • the curved surface 21 has, for example, a radius of curvature of 10 mm to 100 mm on the entire surface or a part thereof.
  • the radius of curvature of the curved surface 21 is preferably 20 mm to 80 mm, more preferably 50 mm to 70 mm.
  • the curved surface 21 is, for example, a concave curved surface as shown in FIGS. 1 (A) and 1 (B).
  • the concave curved surface is a curved surface in which the center of gravity P0 is recessed from the peripheral edge.
  • the center of gravity P0 of the concave curved surface is recessed from the peripheral edge of the concave curved surface regardless of whether the cross section is perpendicular to the X-axis direction or the Y-axis direction.
  • the X-axis direction, the Y-axis direction, and the Z-axis direction are perpendicular to each other.
  • the Z-axis direction is the normal direction at the center of gravity P0 of the concave curved surface.
  • the XY plane is parallel to the tangent plane at the center of gravity P0 of the concave curved surface.
  • the curved surface 21 is a concave curved surface in the present embodiment, it may be a convex curved surface as shown in FIGS. 2 (B) and 2 (C).
  • the convex curved surface is a curved surface in which the center of gravity P0 is convex (protruding) from the peripheral edge.
  • the center of gravity P0 of the convex curved surface is more convex than the peripheral edge of the convex curved surface regardless of whether the cross section is perpendicular to the X-axis direction or the Y-axis direction.
  • the outer shape of the lens 2 is not limited to the circle shown in FIG. 1 (C), and may be, for example, an ellipse or a polygon (including a quadrangle).
  • the material of the lens 2 may be resin or glass.
  • the resin of the resin lens is, for example, polycarbonate, polyimide, polyacrylate, or cyclic olefin.
  • the glass of the glass lens is, for example, BK7 or synthetic quartz.
  • the optical element 1 includes a retardation plate 3.
  • the retardation plate 3 is curved along the curved surface 21 of the lens 2.
  • the retardation plate 3 includes, for example, a transparent base material 4, an alignment layer 5 formed on the transparent base material 4, and a liquid crystal layer 6 formed on the alignment layer 5.
  • the alignment layer 5 has an arbitrary structure and may be omitted.
  • the phase difference plate 3 has a slow phase axis and a phase advance axis.
  • the slow-phase axis is the X-axis direction and the phase-advance axis is the Y-axis direction.
  • the slow axis is the direction with the highest refractive index
  • the phase advance axis is the direction with the lowest refractive index.
  • the retardation plate 3 is, for example, a 1/4 wave plate.
  • a 1/4 wave plate and a linear polarizing plate may be used in combination.
  • the absorption axis of the linear polarizing plate and the slow axis of the 1/4 wave plate are offset by 45 °.
  • a circular polarizing plate is composed of a linear polarizing plate and a 1/4 wave plate.
  • the linear polarizing plate may be arranged on the side opposite to the lens 2 with respect to the retardation plate 3, may be arranged between the retardation plate 3 and the lens 2, or may be arranged with the lens 2 as a reference. It may be arranged on the opposite side of the phase difference plate 3.
  • the retardation plate 3 includes a transparent base material 4, an alignment layer 5, and a liquid crystal layer 6 in this order from the lens 2 side.
  • the retardation plate 3 includes the liquid crystal layer 6, the alignment layer 5, and the transparent substrate 4 in this order from the lens 2 side. But it may be.
  • the transparent base material 4 is composed of, for example, a glass base material or a resin base material.
  • the glass base material or the resin base material has a reflection function or an absorption function for any one or more of infrared rays, visible light, and ultraviolet rays, and may be configured to transmit light in a specific wavelength band. good.
  • the transparent base material 4 may have a single-layer structure of a single base material, or a main base material (glass base material or resin base material) is laminated with a film that imparts a reflection or absorption function to emit light in a specific wavelength band. It may have a multi-layer structure for transmission. Further, the transparent base material 4 may be laminated with a film that imparts a function such as antifouling in addition to the reflection function and the absorption function.
  • the transparent base material 4 may further contain a resin film or an inorganic film in addition to the glass base material or the resin base material.
  • the resin film is, for example, a film having a function such as a color tone correction filter, a base film such as a silane coupling agent, or an antifouling film.
  • the resin film is formed by, for example, screen printing, vapor deposition, spray coating, spin coating, or the like.
  • the inorganic film is, for example, a metal oxide film having a function as an optical interference film (antireflection or wavelength selection filter).
  • the inorganic film is formed by, for example, a sputtering method, a vapor deposition, a CVD method, or the like.
  • the transparent base material 4 is preferably a resin base material from the viewpoint of bending workability.
  • resin of the resin base material include polymethyl methacrylate (PMMA), triacetyl cellulose (TAC), cycloolefin polymer (COP), cycloolefin copolymer (COC), polyethylene terephthalate (PET), or polycarbonate (PC). ).
  • the retardation of the transparent substrate 4 is, for example, 5 nm or less, preferably 3 nm or less. From the viewpoint of reducing the variation in color tone, the phase difference of the transparent substrate 4 is better as it is smaller, and may be zero.
  • the phase difference of the transparent substrate 4 is measured by, for example, the parallel Nicol rotation method.
  • the glass transition point Tgf of the transparent substrate 4 is, for example, 80 ° C to 200 ° C, preferably 90 ° C to 160 ° C. When Tgf is within the above range, bending workability is good.
  • the glass transition point of the transparent substrate 4 is measured, for example, by thermomechanical analysis (TMA).
  • the thickness T1 (see FIG. 3) of the transparent substrate 4 is, for example, 0.01 mm to 0.3 mm, preferably 0.02 mm to 0.1 mm, and more preferably 0.03 mm to 0.09 mm. When T1 is within the above range, both bending workability and handleability can be achieved.
  • the thickness T1 of the transparent base material 4 is measured in the normal direction at each point of the curved surface 21 of the lens 2.
  • the alignment layer 5 aligns the liquid crystal molecules of the liquid crystal layer 6.
  • the alignment layer 5 is formed by, for example, rubbing polyimide, photodecomposition of a silane coupling agent or polyimide by irradiation with polarized UV, utilization of photodimerization or photoisomerization by irradiation with polarized UV, utilization of a fine parallel groove structure, and flow orientation by shearing force. It has been treated or subjected to a treatment such as an orientation treatment by oblique vapor deposition of an inorganic substance. Multiple processes may be used in combination. Among these, from the viewpoints of orientation control force, applicability to curved surfaces, and reduction of foreign substances, it is preferable to use polarized UV irradiation for photodimerization, photoisomerization, or a fine parallel groove structure.
  • Coumarin, diphenylacetylene, or anthracene is used as a material that causes photodimerization by polarized UV irradiation.
  • a material that causes photoisomerization by polarized UV irradiation azobenzene, stilbene, ⁇ -imino- ⁇ ketoester, or spiropyran is used.
  • a material that causes both photodimerization and photoisomerization by polarized UV irradiation cinnamate, chalcone, or stillbazole is used.
  • the alignment layer 5 is coated on the transparent base material 4.
  • the coating method is, for example, spin coat method, bar coat method, dip coat method, cast method, spray coat method, bead coat method, wire bar coat method, blade coat method, roller coat method, curtain coat method, slit die coat method. , Gravure coat method, slit reverse coat method, micro gravure method, comma coat method and the like.
  • the resin composition is applied to the curved surface 21 of the lens 2 and dried.
  • the solvent of the resin composition is removed by heating after coating.
  • the coating method may be a vapor deposition method that does not use a solvent.
  • the thickness T2 (see FIG. 3) of the alignment layer 5 is, for example, 1 nm to 20 ⁇ m, preferably 50 nm to 10 ⁇ m, and more preferably 100 nm to 5 ⁇ m.
  • the thickness T2 of the alignment layer 5 is measured in the normal direction at each point on the surface of the transparent substrate 4 on which the alignment layer 5 is formed.
  • the thickness T2 of the alignment layer 5 is the distance between the bottom of the groove 51 and the surface of the transparent base material 4.
  • the alignment layer 5 may have a plurality of grooves 51 parallel to each other in the Z-axis direction on the surface in contact with the liquid crystal layer 6 (see FIG. 3A).
  • the plurality of grooves 51 are formed, for example, by an imprint method after the application of the resin composition.
  • the plurality of grooves 51 are formed, for example, in a striped pattern.
  • the longitudinal direction of the groove 51 is the X-axis direction
  • the width direction of the groove 51 is the Y-axis direction.
  • the depth D of the groove 51 is, for example, 5 nm to 1000 nm, preferably 10 nm to 300 nm, and more preferably 15 nm to 150 nm.
  • the depth D of the groove 51 may be constant, but may be different as described later.
  • the opening width W of the groove 51 is, for example, 5 nm to 800 nm, preferably 20 nm to 300 nm, and more preferably 30 nm to 150 nm.
  • the pitch p of the groove 51 is, for example, 10 nm to 1000 nm, preferably 50 nm to 500 nm, and more preferably 80 nm to 300 nm.
  • the cross section perpendicular to the longitudinal direction (X-axis direction) of the groove 51 is rectangular in FIG. 3, but may be triangular. The shallower the groove 51, the wider the groove 51. In this case, the mold used in the imprint method can be easily peeled off.
  • the material forming the groove structure includes, for example, an energy curable resin such as a photocurable resin or a thermosetting resin.
  • an energy curable resin such as a photocurable resin or a thermosetting resin.
  • a photocurable resin is preferable because it is excellent in processability, heat resistance and durability.
  • the photocurable resin composition is a composition containing, for example, a monomer, a photopolymerization initiator, a solvent, and an optional additive (for example, a surfactant, a polymerization inhibitor).
  • the glass transition point Tg_al of the alignment layer 5 is, for example, 40 ° C to 200 ° C, preferably 50 ° C to 160 ° C, and more preferably 70 ° C to 150 ° C. When Tg_al is within the above range, bending workability is good.
  • the glass transition point of the alignment layer 5 is measured by, for example, TMA.
  • the alignment layer 5 has an arbitrary structure and may be omitted.
  • the transparent substrate 4 may be subjected to a treatment for orienting the liquid crystal molecules of the liquid crystal layer 6.
  • the treatment is, for example, rubbing of polyimide, photodecomposition of silane coupling agent or polyimide by polarized UV irradiation, utilization of photodimerization or photoisomerization by polarized UV irradiation, flow orientation treatment by shearing force, or orientation by diagonal vapor deposition of inorganic substances. Processing etc.
  • the liquid crystal layer 6 has a slow phase axis and a phase advance axis.
  • the liquid crystal layer 6 contains a plurality of liquid crystal molecules 61 that are oriented in parallel with each other by the alignment layer 5.
  • the long-axis direction of the liquid crystal molecule 61 is the X-axis direction
  • the short-axis direction of the liquid crystal molecule 61 is the Y-axis direction.
  • the liquid crystal molecule 61 is a rod-shaped liquid crystal in this embodiment, but may be a discotic liquid crystal.
  • liquid crystal composition to be used one having a positive wavelength dispersion of ⁇ n value after curing may be used, or one having a negative wavelength dispersion may be used.
  • the liquid crystal composition contains, for example, the compounds represented by the following formulas (a-1) to (a-13) as the polymerizable compound.
  • n is an integer of 2 to 6.
  • R is an alkyl group having 3 to 6 carbon atoms.
  • n means "normal” and means that it is linear.
  • the liquid crystal layer 6 is formed by applying and drying the liquid crystal composition.
  • the liquid crystal composition is, for example, a photocurable polymer liquid crystal containing an acrylic group or a methacrylic group.
  • the liquid crystal composition may contain a component that does not exhibit a liquid crystal phase by itself. It suffices if the liquid crystal phase is generated by the polymerization.
  • a component that does not show a liquid crystal phase for example, monofunctional (meth) acrylate, bifunctional (meth) acrylate, trifunctional or higher (meth) acrylate and the like are used.
  • the polymerizable liquid crystal composition may contain additives.
  • a polymerization initiator As the additive, a polymerization initiator, a leveling agent, a chiral agent, a polymerization inhibitor, an ultraviolet absorber, an antioxidant, a light stabilizer, a dichroic dye or the like is used.
  • a plurality of types of additives may be used in combination.
  • the method of applying the liquid crystal composition may be a general one.
  • the method for applying the liquid crystal composition is, for example, a spin coating method, a bar coating method, an extrusion coating method, a direct gravure coating method, a reverse gravure coating method, a die coating method, or the like.
  • the solvent of the liquid crystal composition is removed by heating after coating.
  • the solvent of the liquid crystal composition is, for example, an organic solvent.
  • Organic solvents include alcohols (eg isopropyl alcohol), amides (eg N, N-dimethylformamide), sulfoxides (eg dimethylsulfoxide), hydrocarbons (eg benzene or hexane), esters (eg methyl acetate, ethyl acetate, acetate). Butyl, or propylene glycol monoethyl ether acetate), ketones (eg, acetone, cyclohexanone, or methylethylketone), or ethers (eg, tetrahydrofuran, or 1,2-dimethoxyethane). Two or more kinds of organic solvents may be used together.
  • the liquid crystal layer 6 may be formed by a vapor deposition method or a vacuum injection method that does not use a solvent.
  • the thickness T3 of the liquid crystal layer 6 is determined based on the wavelength of light, the phase difference, and ⁇ n, and is not particularly limited, but is, for example, 0.1 ⁇ m to 20 ⁇ m, preferably 0.2 ⁇ m to 10 ⁇ m. It is preferably 0.5 ⁇ m to 5 ⁇ m.
  • the liquid crystal layer 6 is not limited to the 1/4 wave plate, and may be a 1/2 wave plate or the like.
  • the thickness T3 of the liquid crystal layer 6 is measured in the normal direction at each point on the surface of the transparent base material 4 on which the liquid crystal layer 6 is formed.
  • the thickness T3 of the liquid crystal layer 6 is the distance between the bottom of the groove 51 and the surface of the liquid crystal layer 6 on the opposite side of the transparent base material 4. ..
  • the glass transition point Tg_a of the liquid crystal layer 6 is, for example, 50 ° C to 200 ° C, preferably 80 ° C to 180 ° C. When Tg_a is within the above range, bending workability is good.
  • the glass transition point Tg_a of the liquid crystal layer 6 is measured by, for example, TMA.
  • the thickness T4 of the retardation plate 3 is not particularly limited, but is, for example, 0.011 mm to 0.301 mm, preferably 0.021 mm to 0.101 mm, and more preferably 0.031 mm to 0.091 mm.
  • the thickness T4 of the retardation plate 3 is measured in the normal direction at each point on the surface of the transparent substrate 4 on which the liquid crystal layer 6 is formed.
  • the retardation plate 3 may be a wideband retardation plate further including a second liquid crystal layer laminated on the liquid crystal layer 6.
  • the number of liquid crystal layers included in the wideband retardation plate may be two or more, and may be three or more. In Z-axis orientation, the plurality of liquid crystal layers have slow axes in different orientations from each other.
  • the retardation plate 3 may include a plurality of alignment layers, or may repeatedly have a set of the liquid crystal layer and the alignment layer.
  • the plurality of oriented layers may have the same material or may have different materials.
  • the retardation of the retardation plate 3 is not particularly limited, but if it is a 1/4 wave plate, it is, for example, 100 nm to 180 nm, preferably 110 nm to 170 nm, and more preferably 120 nm to 160 nm.
  • the retardation plate 3 is a 1/2 wave plate, the retardation is, for example, 200 nm to 280 nm, preferably 210 nm to 270 nm, and more preferably 220 nm to 260 nm.
  • the wideband retardation plate is, for example, an alignment layer 5 and a liquid crystal layer 6 alternately laminated. From the lens 2 side, the alignment layer 5 and the liquid crystal layer 6 are laminated in this order.
  • a wideband retardation plate may be formed by laminating a liquid crystal layer formed on a transparent substrate different from the lens 2 and a liquid crystal layer formed on the lens 2.
  • the retardation plate 3 is bent and joined to the lens 2.
  • the bonding layer 7 is made of, for example, a transparent optical adhesive (OCA), a liquid adhesive (OSA), polyvinyl butyral (PVB), ethylene vinyl acetate (EVA), a cycloolefin polymer (COP), or a thermoplastic polyurethane (TPU).
  • OCA transparent optical adhesive
  • OSA liquid adhesive
  • PVB polyvinyl butyral
  • EVA ethylene vinyl acetate
  • COP cycloolefin polymer
  • TPU thermoplastic polyurethane
  • the retardation of the bonding layer 7 is, for example, 5 nm or less, preferably 3 nm or less.
  • the phase difference of the bonding layer 7 is better as it is smaller from the viewpoint of reducing the variation in color tone, and may be zero.
  • the phase difference of the bonding layer 7 is measured by, for example, the parallel Nicol rotation method.
  • the glass transition point of the bonding layer 7 is, for example, ⁇ 60 ° C. to 100 ° C., preferably ⁇ 40 ° C. to 50 ° C. When the glass transition point of the bonding layer 7 is within the above range, both bending workability and shape followability can be achieved.
  • the glass transition point of the bonding layer 7 is measured by, for example, TMA.
  • the thickness of the bonding layer 7 is, for example, 0.001 mm to 0.1 mm, preferably 0.005 mm to 0.05 mm. When the thickness of the bonding layer 7 is within the above range, both bending workability and shape followability can be achieved.
  • the thickness of the bonding layer 7 is measured in the normal direction at each point on the curved surface 21 of the lens 2.
  • the retardation plate 3 and the lens 2 are joined while being heated.
  • the heating temperature is set with reference to the glass transition point Tgf of the transparent substrate 4, for example, in the range of (Tgf-10) ° C. or higher, (Tgf + 30) ° C. or lower, preferably (Tgf-10) ° C. or higher, It is set within the range of (Tgf + 20) ° C. or lower.
  • the joining of the retardation plate 3 and the lens 2 may be performed in a vacuum.
  • the lens 2 may be injection-molded after the retardation plate 3 is installed inside the mold for injection molding and the retardation plate 3 is bent. When the lens 2 and the retardation plate 3 are integrated by in-mold molding, the bonding layer 7 is unnecessary.
  • the optical element 1A according to the first reference embodiment includes a lens 2A and a retardation plate 3A.
  • the retardation plate 3A includes a transparent base material 4A, an alignment layer 5A, and a liquid crystal layer 6A.
  • the lens 2A and the retardation plate 3A are joined via, for example, a joining layer 7A.
  • the hardness of the alignment layer 5A and the liquid crystal layer 6A is too hard than the hardness of the transparent base material 4A, and the stretchability of the alignment layer 5A and the liquid crystal layer 6A is the transparency base material 4A. It was worse than the stretchability, and the retardation plate 3A sometimes buckled. As a result, the thickness of the liquid crystal layer 6A may be locally increased, and the Rd of the retardation plate 3A may be locally changed. Therefore, the color tone may change locally.
  • the Ene / Ef is 0.10 or more and 5.00 or less
  • the Eno / Ef is 0.10 or more and 5.00 or less.
  • Ef is the Young's modulus of the transparent substrate 4
  • Ene is the Young's modulus of the retardation plate 3 in the slow axis direction
  • Eno is the Young's modulus of the retardation plate 3 in the phase advance axis direction.
  • Ef, Ene, and Eno are Young's modulus when the temperature of the transparent base material 4 and the retardation plate 3 is the glass transition point Tgf of the transparent base material 4.
  • Ef, Ene, and Eno are measured by TMA.
  • the temperature of the retardation plate 3 is heated to a temperature of (Tgf-10) ° C. or higher and (Tgf + 30) ° C. or lower as described above.
  • Tgf-10 ° C. or higher and (Tgf + 30) ° C. or lower as described above.
  • Ene / Ef and Eno / Ef are 5.00 or less, the hardness of the alignment layer 5 and the liquid crystal layer 6 is soft during the bending process of the retardation plate 3, and the stretchability of the alignment layer 5 and the liquid crystal layer 6 is transparent. It is as good as the stretchability of the base material 4. Therefore, the buckling of the retardation plate 3 can be suppressed, the local change of Rd can be suppressed, and the local change of the color tone can be suppressed.
  • Ene / Ef and Eno / Ef are 0.10 or more, the hardness of the alignment layer 5 and the liquid crystal layer 6 is moderately hard at the time of bending the retardation plate 3. Therefore, it is possible to suppress the flow due to gravity of the alignment layer 5 and the liquid crystal layer 6 and the flow due to the air flow during molding.
  • Ene / Ef and Eno / Ef are 0.50 or more and 4.00 or less, and more preferably Ene / Ef and Eno / Ef are 0.70 or more and 3.00 or less.
  • the optical element 1 according to the second embodiment will be described.
  • the figure of the optical element 1 according to the present embodiment is the same as the figure of the optical element 1 according to the first embodiment, and is therefore omitted.
  • the differences from the first embodiment will be mainly described.
  • the technique of the present embodiment may be combined with the technique of the first embodiment.
  • the optical element 1B includes a lens 2B and a retardation plate 3B.
  • the retardation plate 3B includes a transparent base material 4B, an alignment layer 5B, and a liquid crystal layer 6B.
  • the lens 2B and the retardation plate 3B are joined via, for example, a joining layer 7B.
  • the liquid crystal layer 6B contains a plurality of liquid crystal molecules 61 parallel to each other (see FIG. 3B).
  • the long-axis direction of the liquid crystal molecule 61 is the X-axis direction
  • the short-axis direction of the liquid crystal molecule 61 is the Y-axis direction.
  • the present inventor has found a problem that when a liquid crystal layer 6B having a uniform thickness is formed on the curved surface 21B of the lens 2B by an experiment or the like, the variation of the retardation Rd of the liquid crystal layer 6B becomes large.
  • the reason why the above problem occurs when the thickness of the liquid crystal layer 6B is uniform will be described.
  • the liquid crystal layer 6B is formed on the curved surface 21B of the lens 2B as shown in FIGS. 5 (A) and 5 (B). As a result, the liquid crystal molecule 61 is tilted with respect to the XY plane at a position away from the center of gravity P100 of the curved surface 21B.
  • the inclination of the liquid crystal molecule 61 is different between the points P101 and P102 on the first virtual line L101 and the points P103 and P104 on the second virtual line L102 shown in FIG. 5 (C).
  • the first virtual line L101 is a virtual line that passes through the center of gravity P100 and is parallel to the slow phase axis.
  • the second virtual line L102 is a virtual line that passes through the center of gravity P100 and is parallel to the phase advance axis.
  • FIG. 6 shows the inclination of the liquid crystal molecule 61 at the point P101 on the first virtual line L101.
  • the broken line indicates the liquid crystal molecule 61 at the center of gravity P100
  • the solid line indicates the liquid crystal molecule 61 at the point P101.
  • the X-axis direction dimension of the liquid crystal molecule 61 is smaller than that of the center of gravity P100, whereas the Y-axis direction dimension of the liquid crystal molecule 61 does not change. The same applies to the point P102.
  • FIG. 7 shows the inclination of the liquid crystal molecule 61 at the point P103 on the second virtual line L102.
  • the broken line indicates the liquid crystal molecule 61 at the center of gravity P100
  • the solid line indicates the liquid crystal molecule 61 at the point P103.
  • the Y-axis direction dimension of the liquid crystal molecule 61 is slightly smaller than that of the center of gravity P100, whereas the X-axis direction dimension of the liquid crystal molecule 61 does not change. The same applies to the point P104.
  • FIG. 8 shows an example of the relationship between the tilt angle of the flat plate-shaped liquid crystal layer and the measured value of Rd.
  • the inclination angle of 0 ° means that the flat plate-shaped liquid crystal layer is oriented parallel to the XY plane.
  • the black circles in FIG. 8 are data in which the flat plate-shaped liquid crystal layer is rotated clockwise and counterclockwise around the second virtual line L102 and tilted.
  • a positive tilt angle means that the direction of rotation is clockwise.
  • a negative tilt angle means that the rotation direction is counterclockwise.
  • the absolute value of the horizontal axis of the inclination angle of the black circle in FIG. 8 corresponds to the distance between the points P101 and P102 on the first virtual line L101 and the center of gravity P100.
  • the white circles in FIG. 8 are data in which the flat plate-shaped liquid crystal layer is rotated clockwise and counterclockwise around the first virtual line L101 and tilted.
  • a positive tilt angle means that the direction of rotation is clockwise.
  • a negative tilt angle means that the rotation direction is counterclockwise.
  • the absolute value of the horizontal axis of the inclination angle of the white circle in FIG. 8 corresponds to the distance between the points P103 and P104 on the second virtual line L102 and the center of gravity P100.
  • the tendency of the change of Rd is different between the first virtual line L101 and the second virtual line L102.
  • the first virtual line L101 the larger the distance from the center of gravity P100, the smaller the Rd.
  • the second virtual line L102 the larger the distance from the center of gravity P100, the larger the Rd.
  • the curved surface 21B of the lens 2B is a concave curved surface in this reference embodiment, but may be a convex curved surface.
  • the absolute value of the inclination angle of the liquid crystal molecule 61 is about the same between the convex curved surface and the concave curved surface. Therefore, the distribution of Rd is about the same on the convex curved surface and the concave curved surface.
  • the thickness of the liquid crystal layer 6 at the points P103 and P104 on the second virtual line L102 is set to the points P101 and P102 on the first virtual line L101. It is made thinner than the thickness of the liquid crystal layer 6.
  • the distribution of the thickness of the liquid crystal layer 6 is controlled by, for example, the anisotropy of the elongation of the retardation plate 3 during bending.
  • the anisotropy of elongation of the retardation plate 3 during bending can be controlled by the difference between Tgne and Tgno.
  • Tgne is the glass transition point in the X-axis direction of the retardation plate 3
  • Tgno is the glass transition point in the phase advance axis direction of the retardation plate 3.
  • Tgne is larger than Tgno.
  • the temperature of the retardation plate 3 is heated to a temperature of (Tgf-10) ° C. or higher and (Tgf + 30) ° C. or lower.
  • Tgne is larger than Tgno
  • the elongation in the Y-axis direction of the retardation plate 3 is larger than the elongation in the X-axis direction of the retardation plate 3 during bending of the retardation plate 3.
  • the distribution of the thickness of the liquid crystal layer 6 is optimized, and the difference in Rd becomes small.
  • Tgne is, for example, 90 ° C. or higher and 250 ° C. or lower, preferably 120 ° C. or higher and 180 ° C. or lower, and more preferably 130 ° C. or higher and 160 ° C. or lower.
  • Tgno is, for example, 50 ° C. or higher and 180 ° C. or lower, preferably 80 ° C. or higher and 160 ° C. or lower, and more preferably 90 ° C. or higher and 150 ° C. or lower.
  • the first virtual line L1 is a virtual line that passes through the center of gravity P0 and is parallel to the slow phase axis.
  • the second virtual line L2 is a virtual line that passes through the center of gravity P0 and is parallel to the phase advance axis.
  • the dividing line L3 divides each line segment connecting the center of gravity P0 and each point on the peripheral edge of the curved surface 21 from the center of gravity P0 side to the peripheral edge of the curved surface 21 at a ratio of 4: 1. Further, in the Z-axis direction view, the first virtual line L1 and the dividing line L3 intersect at the first point P1 and the second point P2, and the second virtual line L2 and the dividing line L3 are the third point P3 and the third point P3. It intersects with 4 points P4.
  • the distance between the first point P1 and the center of gravity P0 is 0.8 times that of X1.
  • X1 is the distance between the center of gravity P0 and the intersection of the straight line extending in the positive direction of the X-axis from the center of gravity P0 and the peripheral edge of the curved surface 21.
  • the distance between the second point P2 and the center of gravity P0 is 0.8 times that of X2.
  • X2 is the distance between the center of gravity P0 and the intersection of the straight line extending in the negative direction of the X-axis from the center of gravity P0 and the peripheral edge of the curved surface 21.
  • the distance between the third point P3 and the center of gravity P0 is 0.8 times that of Y1.
  • Y1 is the distance between the center of gravity P0 and the intersection of the straight line extending in the positive direction of the Y axis from the center of gravity P0 and the peripheral edge of the curved surface 21.
  • the distance between the fourth point P4 and the center of gravity P0 is 0.8 times that of Y2.
  • Y2 is the distance between the center of gravity P0 and the intersection of the straight line extending from the center of gravity P0 in the negative direction of the Y axis and the peripheral edge of the curved surface 21.
  • the sum of the thicknesses ty1 and ty2 of the liquid crystal layer 6 at the third point P3 and the fourth point P4 on the second virtual line L2 shown in FIG. 9 is the first on the first virtual line L1. It is smaller than the sum of the thicknesses tx1 and tx2 of the liquid crystal layer 6 at the points P1 and the second point P2. That is, the following equation (1) holds.
  • the thickness of the liquid crystal layer 6 is measured in the normal direction at each point of the curved surface 21 of the lens 2.
  • the thickness of the liquid crystal layer 6 is calculated, for example, from spectroscopic interference or from a photograph of a scanning electron microscope (SEM).
  • (Ty1 + ty2) / (tx1 + tx2) is preferably greater than 0.80, more preferably greater than 0.85. Further, (ty1 + ty2) / (tx1 + tx2) is preferably smaller than 0.99, more preferably smaller than 0.98.
  • the thickness distribution of the liquid crystal layer 6 is controlled by the anisotropy of the elongation of the retardation plate 3 during bending, but the thickness distribution of the liquid crystal layer 6 may be controlled by a dry etching method.
  • a dry etching method for example, a plasma etching method is used.
  • the dry etching method is performed, for example, before bending.
  • an exposed portion of the liquid crystal layer 6 is etched with plasma such as oxygen using a mask M covering a part of the liquid crystal layer 6. do.
  • the mask M is preferably glass having excellent etching resistance and rigidity. A plurality of masks M having different sizes may be used in order so that the change in the thickness T3 of the liquid crystal layer 6 becomes smooth.
  • a RIE (Reactive Ion Etching) apparatus is used.
  • the gas used to generate the plasma contains, for example, oxygen gas, and may further contain a halogen-containing gas such as CF 4 or CCl 4 in addition to the oxygen gas.
  • the etching amount can be controlled by the etching time, gas flow rate, and the like.
  • the optical element 1C according to the third reference embodiment will be described with reference to FIGS. 11 and 12.
  • the magnitude of Rd is represented in gray scale. The closer the color is from white to black, the larger the magnitude of Rd of the optical element 1C.
  • the optical element 1C according to the third reference embodiment includes a lens 2C and a retardation plate 3C.
  • the retardation plate 3C includes a transparent base material 4C, an alignment layer 5C, and a liquid crystal layer 6C.
  • the lens 2C and the retardation plate 3C are joined via, for example, the joining layer 7C.
  • the elongation rate of the retardation plate 3C is different between the peripheral edge and the center of the retardation plate 3C.
  • the thickness of the retardation plate 3C and the thickness of the liquid crystal layer 6C change concentrically. Therefore, Rd shifts concentrically, and the color tone shifts concentrically.
  • the elongation rate (%) can be obtained from the formula "(A2-A1) / A1 ⁇ 100", where A1 is the dimension before bending and A2 is the dimension after bending.
  • the curved surface 21C of the lens 2C is a concave curved surface as shown in FIG. 11A
  • the retardation plate 3C is bent as shown in FIG. 11B, from the peripheral edge of the retardation plate 3C.
  • the thickness of the retardation plate 3C becomes continuously thin toward the center. This is because the timing of contacting the curved surface 21C differs between the peripheral edge and the center of the retardation plate 3C, and the center of the retardation plate 3C contacts the curved surface 21C after the peripheral edge.
  • the thickness of the liquid crystal layer 6C becomes continuously thin from the peripheral edge to the center of the liquid crystal layer 6C.
  • Rd becomes continuously smaller from the peripheral edge to the center of the liquid crystal layer 6C as shown in FIG. 12 (C). Therefore, the color tone shifts concentrically.
  • the curved surface 21C of the lens 2C is a convex curved surface as shown in FIG. 12A
  • the retardation plate 3C is bent as shown in FIG. 12B, from the center of the retardation plate 3C.
  • the thickness of the retardation plate 3C becomes continuously thin toward the peripheral edge. This is because the timing of contacting the curved surface 21C differs between the peripheral edge and the center of the retardation plate 3C, and the peripheral edge of the retardation plate 3C contacts the curved surface 21C after the center.
  • the thickness of the liquid crystal layer 6C becomes continuously thin from the center to the periphery of the liquid crystal layer 6C.
  • Rd becomes continuously smaller from the center to the peripheral edge of the liquid crystal layer 6C as shown in FIG. 12 (C). Therefore, the color tone shifts concentrically.
  • the optical element 1 includes a lens 2 and a retardation plate 3.
  • the retardation plate 3 includes a transparent base material 4, an alignment layer 5, and a liquid crystal layer 6.
  • the lens 2 and the retardation plate 3 are joined via, for example, a joining layer 7.
  • the alignment layer 5 has a plurality of grooves 51 parallel to each other on the surface in contact with the liquid crystal layer 6.
  • the elongation rate of the retardation plate 3 is different between the peripheral edge and the center of the retardation plate 3.
  • the thickness T4 of the retardation plate 3 and the thickness T3 of the liquid crystal layer 6 are different between the peripheral edge and the center of the retardation plate 3 after the bending process of the retardation plate 3.
  • the retardation plate 3 when the curved surface 21 of the lens 2 is a concave curved surface as shown in FIG. 13A, when the retardation plate 3 is bent as described in the third reference embodiment, the retardation plate 3 becomes The thickness T4 of the retardation plate 3 and the thickness T3 of the liquid crystal layer 6 are continuously reduced from the peripheral edge to the center.
  • the elongation rate of the retardation plate 3 is as follows.
  • the elongation rate of the retardation plate 3 at the peripheral edge of the retardation plate 3 is, for example, 0.1% to 20%, preferably 1% to 20%.
  • the elongation rate of the retardation plate 3 at the center of the retardation plate 3 is, for example, 0.5% to 30%, preferably 1% to 20%.
  • the retardation plate 3 when the curved surface 21 of the lens 2 is a convex curved surface as shown in FIG. 14A, when the retardation plate 3 is bent as described in the third reference embodiment, the retardation plate 3 becomes From the center to the peripheral edge, the thickness T4 of the retardation plate 3 and the thickness T3 of the liquid crystal layer 6 are continuously reduced.
  • the elongation rate of the retardation plate 3 is as follows.
  • the elongation rate of the retardation plate 3 at the center of the retardation plate 3 is, for example, 0.1% to 20%, preferably 1% to 20%.
  • the elongation rate of the retardation plate 3 at the peripheral edge of the retardation plate 3 is, for example, 0.5% to 30%, preferably 1% to 20%.
  • the depth D of the groove 51 in the portion where the thickness T4 of the retardation plate 3 is the thinnest is the depth D of the groove 51 in the portion where the thickness T4 of the retardation plate 3 is the thickest. Deeper than.
  • the depth D of the groove 51 is adjusted by, for example, the uneven pattern of the mold used in the imprint method.
  • the depth D of the groove 51 can also be adjusted by partially ashing the surface of the alignment layer 5.
  • the increase in Rd due to the increase in ⁇ n can cancel the decrease in Rd due to the decrease in d, and the variation in Rd can be suppressed.
  • the curved surface 21 of the lens 2 is a concave curved surface as shown in FIG. 13 (A), as is clear from a comparison between FIGS. 13 (B) and 13 (C), in the center of the retardation plate 3.
  • the depth D of the groove 51 is deeper than the depth D of the groove 51 at the peripheral edge of the retardation plate 3. From the peripheral edge to the center of the retardation plate 3, the depth D of the groove 51 becomes deeper continuously or stepwise. Therefore, it is possible to suppress the shift of Rd concentrically, and it is possible to suppress the shift of the color tone concentrically.
  • the peripheral edge of the retardation plate 3 is formed.
  • the depth D of the groove 51 is deeper than the depth D of the groove 51 at the center of the retardation plate 3. From the center to the peripheral edge of the retardation plate 3, the depth D of the groove 51 becomes deeper continuously or stepwise. Therefore, it is possible to suppress the shift of Rd concentrically, and it is possible to suppress the shift of the color tone concentrically.
  • the thickness T4 of the retardation plate 3 is located at the periphery and the center of the retardation plate 3 as compared with the top of the first virtual line L1 in FIG. The difference is large, and the difference in the thickness T3 of the liquid crystal layer 6 is large. Therefore, at least on the second virtual line L2, the depth D of the groove 51 in the portion where the thickness T4 of the retardation plate 3 is the thinnest is the depth of the groove 51 in the portion where the thickness T4 of the retardation plate 3 is the thickest. It is preferably deeper than D.
  • a photocurable composition 1 was prepared by mixing 20 g of the monomer 2, 50 g of the monomer 3, 30 g of the monomer 4, and 3.0 g of the photopolymerization initiator 1.
  • a photocurable composition 2 was prepared by mixing 70 g of the monomer 1, 10 g of the monomer 2, 20 g of the monomer 5, and 3.0 g of the photopolymerization initiator 1.
  • Photocurable composition 3 50 g of the monomer 1, 50 g of the monomer 5, and 3.0 g of the photopolymerization initiator 1 were mixed to prepare a photocurable composition 3.
  • a photocurable composition 4 was prepared by mixing 20 g of the monomer 1, 60 g of the monomer 2, 20 g of the monomer 5, and 3.0 g of the photopolymerization initiator 1.
  • ⁇ Liquid crystal composition 2 50 g of liquid crystal 1 and 50 g of monomer 6 and 3.0 g of photopolymerization initiator 1 are mixed, and the obtained mixture is diluted with solvent 1 so as to have a solid content concentration of 50% by mass, and the liquid crystal display is used. Composition 2 was obtained.
  • ⁇ Mold A> As the mold A, a resin mold (LSP70-140, groove pitch 140 nm, groove depth 150 nm) manufactured by Soken Chemical Co., Ltd. was prepared.
  • Mold B was produced by the following procedure. First, the photocurable composition 2 is sandwiched between the mold A and the PET film (Cosmo Shine A4300 manufactured by Toyobo Co., Ltd., thickness 250 ⁇ m), and the gap between the photocurable composition 2 is maintained at 5 ⁇ m. The object 2 was irradiated with ultraviolet rays of 1000 mJ / cm 2 to cure the photocurable composition 2. Then, the mold B was produced by peeling off the mold A. The uneven pattern of the mold B was an inverted version of the uneven pattern of the mold A.
  • Mold C was produced by the following procedure. First, a disk-shaped mask was placed in the center of the mold B, and the mold B was ashed with oxygen of 200 ml / min and an output of 400 W in vacuuming. After that, the photocurable composition 1 was sandwiched between the mold B and the PET film (Cosmoshine A4300 manufactured by Toyobo Co., Ltd., thickness 250 ⁇ m), and the gap between them was maintained at 5 ⁇ m, and the photocurable composition was passed through the PET film. The object 1 was irradiated with ultraviolet rays of 1000 mJ / cm 2 to cure the photocurable composition 1. Then, the mold C was produced by peeling off the mold B.
  • the PET film Cosmoshine A4300 manufactured by Toyobo Co., Ltd., thickness 250 ⁇ m
  • the uneven pattern of the mold C was an inverted version of the uneven pattern of the mold B.
  • the uneven pattern of the mold C was a square having a side of 80 mm in a plan view, the depth of the groove at the center thereof was 95 nm, and the depth of the groove 40 mm outside the center was 25 nm.
  • Examples 1 to 8 below an optical element was manufactured using the above materials and the above mold.
  • Examples 1, 2, 5, 6 and 8 below are examples, and examples 3, 4 and 7 below are comparative examples.
  • the oriented layer was prepared by the following procedure. First, the photocurable composition 1 is sandwiched between the mold A and the transparent base material 1, and the gap between the photocurable composition 1 is maintained at 5 ⁇ m. The photocurable composition 1 was cured by irradiating with the ultraviolet rays of the above. Then, by peeling off the mold A, a laminated body of the alignment layer 1 on which the unevenness was formed and the transparent base material 1 was produced.
  • the alignment layer 1 had a groove pitch of 140 nm and a groove depth of 140 nm.
  • the liquid crystal layer was produced by the following procedure. First, the liquid crystal composition 1 described above was applied to the surface of the alignment layer on which the unevenness was formed by a spin coating method and dried at 90 ° C. for 5 minutes to form a liquid film having a thickness of 1 ⁇ m. The liquid crystal composition 1 was cured by irradiating the liquid film with ultraviolet rays of 1000 mJ / cm 2 in a nitrogen atmosphere. As a result, a retardation plate including a liquid crystal layer, an alignment layer, and a transparent substrate was obtained.
  • the optical element was manufactured by the following procedure. First, as a lens, a plano-concave lens (manufactured by Edmond Optics, product code # 45-038, diameter 50 mm) was prepared. Next, an optical adhesive (PANS1, PDS1, thickness 25 ⁇ m) was attached to the surface of the transparent base material of the retardation plate. Then, inside the vacuum vessel, the concave curved surface of the plano-concave lens was turned upward, and the retardation plate was placed above it. The retardation plate was placed horizontally with the optical adhesive facing down.
  • PANS1, PDS1 thickness 25 ⁇ m
  • the inside of the vacuum vessel is evacuated, the retardation plate is brought into contact with the concave curved surface of the plano-concave lens in a state of being heated to 115 ° C., the retardation plate is pressed against the concave curved surface with an air pressure of 300 kPa, and the retardation plate is bent. processed. As a result, an optical element was obtained.
  • Example 2 An optical element was produced in the same manner as in Example 1 except that the photocurable composition 2 was used instead of the photocurable composition 1.
  • Example 3 Instead of the liquid crystal composition 1, SIR-W044AP (liquid crystal composition 3) manufactured by Osaka Organic Chemical Co., Ltd. was used, and an optical element was produced in the same manner as in Example 1 except that the thickness of the liquid crystal layer was 1 ⁇ m.
  • Example 4 An optical element was produced in the same manner as in Example 1 except that the photocurable composition 3 was used instead of the photocurable composition 1.
  • Example 5 An optical element was produced in the same manner as in Example 4 except that the transparent base material 2 was used instead of the transparent base material 1 and the retardation plate was heated to 145 ° C.
  • Example 6 An optical element was produced in the same manner as in Example 1 except that the photocurable composition 4 was used instead of the photocurable composition 1.
  • Example 7 Examples other than using the transparent base material 2 instead of the transparent base material 1, using the liquid crystal composition 2 instead of the liquid crystal composition 1, setting the thickness of the liquid crystal layer to 2 ⁇ m, and heating the retardation plate to 145 ° C. An optical element was manufactured in the same manner as in 1.
  • Example 8 An optical element was produced in the same manner as in Example 1 except that the alignment layer was produced by using the mold C instead of the mold A.
  • the glass transition points of the transparent substrate and the retardation plate were measured by TMA according to the following procedure.
  • a sample with a length of 8 mm and a width of 5 mm is attached to the TMA, the tensile force in the length direction is maintained at 0.2 N, the temperature is raised from 30 ° C to 200 ° C at a rate of 5 ° C / min, and the dimensional change of the sample is measured. did.
  • the intersection of the extension of the straight line on the high temperature side and the extension of the straight line on the low temperature side was determined as the glass transition point with reference to the inflection point at which the elongation rate changes.
  • the inflection point on the higher temperature side is used as the glass transition point.
  • the measurement was performed three times, and the arithmetic mean value was obtained as the glass transition point.
  • Tgne the length direction of the sample was parallel to the slow axis
  • Tgno the length direction of the sample was parallel to the phase advance axis.
  • the Young's modulus of the transparent substrate and the retardation plate was measured by TMA measurement by the following procedure. A sample having a length of 8 mm and a width of 5 mm was attached to the TMA, the tensile force in the length direction was increased from 0.01 N to 1 N at a speed of 0.02 N / min, and the dimensional change of the sample was measured.
  • the transparent substrate was PMMA
  • the temperature of the sample was adjusted to 115 ° C. in advance.
  • the transparent substrate was TAC
  • Young's modulus was calculated in the region where the strain was 0.0125 to 0.05.
  • the measurement was performed three times, and the arithmetic mean value was calculated as Young's modulus.
  • the length direction of the sample was parallel to the slow axis, and when measuring Eno, the length direction of the sample was parallel to the phase advance axis.
  • the retardation Rd of the optical element produced in Examples 1 and 5 to 7 was measured.
  • Rd a two-dimensional birefringence evaluation device (WPA-200 manufactured by Photonic Lattice) was used, and the retardation plate was installed toward the camera of the evaluation device, and the effective region of the retardation plate (circular shape with a diameter of 40 mm). Area) The whole was measured at once.
  • Rd is a retardation of light having a wavelength of 543 nm. The results are shown in Table 2.
  • Rne is the ratio (maximum value / minimum value) of the maximum value and the minimum value of Rd on the first virtual line L1 shown in FIG. 9, and Rno is on the second virtual line L2 shown in FIG. It is the ratio (maximum value / minimum value) of the maximum value and the minimum value of Rd.
  • the retardation Rd of the optical element produced in Examples 1 and 8 was measured.
  • the method for measuring Rd was as described above. The results are shown in Table 3.
  • D1 is the groove depth of the alignment layer at the position where the thickness of the retardation plate is the thinnest in the effective region of the retardation plate
  • D2 is the depth of the groove of the alignment layer in the effective region of the retardation plate.
  • D3 is the groove depth of the alignment layer at the position where the thickness of the retardation plate is the thinnest on the second virtual line L2 (see FIG. 9), and D4 is on the second virtual line L2. It is the depth of the groove of the alignment layer at the place where the thickness of the retardation plate is the thickest.
  • Rmax is the maximum value of Rd in the entire effective region of the retardation plate
  • Rmin is the minimum value of Rd in the entire effective region of the retardation plate.
  • Example 8 D1 was larger than D2, so that the in-plane variation of Rd was smaller than in Example 1. Further, in Example 8, since D3 was larger than D4, the in-plane variation of Rd was smaller than that in Example 1.

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Ophthalmology & Optometry (AREA)
  • General Health & Medical Sciences (AREA)
  • Polarising Elements (AREA)
  • Liquid Crystal (AREA)

Abstract

光学素子は、曲面を有するレンズと、前記曲面に沿って湾曲する位相差板と、を含む。前記位相差板は、透明基材と、前記透明基材の上に形成される液晶層と、を含む。前記位相差板は、遅相軸と進相軸とを有する。前記位相差板の遅相軸方向のガラス転移点Ｔｇｎｅが前記位相差板の進相軸方向のガラス転移点Ｔｇｎｏよりも大きい。

Description

光学素子、及びその製造方法
　本開示は、光学素子、及びその製造方法に関する。
　特許文献１に記載の曲面用偏光板は、偏光子と、偏光子に積層された保護フィルムと、を有する。保護フィルムは、位相差フィルムを有する。位相差フィルムは、延伸フィルムであって、ポリカーボネート（ＰＣ）樹脂を主成分として含む。曲面用偏光板がレンズの曲面に貼合され、偏光レンズが得られる。偏光レンズは、例えばサングラス又はカメラのレンズとして使用される。
　特許文献２には、直線偏光板と、位相差板と、を有するレンズが記載される。位相差板は、例えば１／４波長板である。直線偏光板と１／４波長板とで円偏光板が構成される。位相差板は、シクロオレフィンコポリマー（ＣＯＣ）樹脂等で形成される。位相差板は、ＣＯＣ樹脂の代わりに、液晶ポリマーで形成されてもよい。直線偏光板と位相差板とは、それぞれ別々に高温で曲げ加工され、接着剤で接着される。
日本国特開２０１６－２００７３１号公報 日本国特表２０１３－５１９１０８号公報
　光学素子は、レンズと、位相差板とを有する。位相差板は、透明基材と、透明基材の上に形成される液晶層と、を含む。光学素子の用途によって、性能の観点から、レンズは曲面を有することが望まれる。
　本開示の一態様は、レンズの曲面に沿って湾曲する位相差板のリタデーションのバラツキを低減する、技術を提供する。
　本開示の一態様に係る光学素子は、曲面を有するレンズと、前記曲面に沿って湾曲する位相差板と、を含む。前記位相差板は、透明基材と、前記透明基材の上に形成される液晶層と、を含む。前記位相差板は、遅相軸と進相軸とを有する。前記位相差板の遅相軸方向のガラス転移点Ｔｇｎｅが前記位相差板の進相軸方向のガラス転移点Ｔｇｎｏよりも大きい。
　本開示の一態様によれば、レンズの曲面に沿って湾曲する位相差板のリタデーションのバラツキを低減できる。
図１（Ａ）は第１実施形態に係る光学素子の位相差板とレンズとを接合する前の状態を示す断面図であり、図１（Ｂ）は図１（Ａ）に示す位相差板とレンズとを接合してなる光学素子の断面図であり、図１（Ｃ）は図１（Ｂ）に示す光学素子の平面図である。 図２（Ａ）は第１実施形態の第１変形例に係る光学素子を示す断面図であり、図２（Ｂ）は第１実施形態の第２変形例に係る光学素子を示す断面図であり、図２（Ｃ）は第１実施形態の第３変形例に係る光学素子を示す断面図である。 図３（Ａ）は透明基材と配向層の一例を示す斜視図であり、図３（Ｂ）は図３（Ａ）に示す配向層によって配向された液晶分子の一例を示す斜視図である。 図４（Ａ）は第１参考形態に係る光学素子の位相差板の座屈を示す平面図であり、図４（Ｂ）は図４（Ａ）のＢ－Ｂ線に沿った断面図である。 図５（Ａ）は第２参考形態に係る光学素子のＹ軸方向に垂直な断面図であり、図５（Ｂ）は図５（Ａ）の光学素子のＸ軸方向に垂直な断面図であり、図５（Ｃ）は図５（Ａ）の光学素子の平面図である。 図６（Ａ）は図５の点Ｐ１０１における液晶分子をＹ軸方向から見た図であり、図６（Ｂ）は図５の点Ｐ１０１における液晶分子をＸ軸方向から見た図である。 図７（Ａ）は図５の点Ｐ１０３における液晶分子をＹ軸方向から見た図であり、図７（Ｂ）は図５の点Ｐ１０３における液晶分子をＸ軸方向から見た図である。 図８は、平板状の液晶層の傾斜角度と、Ｒｄとの関係の一例を示す図である。 図９は、第２実施形態に係る光学素子の平面図である。 図１０（Ａ）はドライエッチングの一例を示す断面図であり、図１０（Ｂ）はドライエッチングの別の一例を示す断面図である。 図１１（Ａ）は第３参考形態に係る光学素子の位相差板とレンズとを接合する前の状態を示す断面図であり、図１１（Ｂ）は図１１（Ａ）に示す位相差板とレンズとを接合してなる光学素子を示す断面図であり、図１１（Ｃ）は図１１（Ｂ）に示す光学素子のＲｄの分布を示す平面図である。 図１２（Ａ）は第３参考形態の変形例に係る光学素子の位相差板とレンズとを接合する前の状態を示す断面図であり、図１２（Ｂ）は図１２（Ａ）に示す位相差板とレンズとを接合してなる光学素子を示す断面図であり、図１２（Ｃ）は図１２（Ｂ）に示す光学素子のＲｄの分布を示す平面図である。 図１３（Ａ）は第３実施形態に係る光学素子の断面図であり、図１３（Ｂ）は図１３（Ａ）の領域Ｂを拡大して示す断面図であり、図１３（Ｃ）は図１３（Ａ）の領域Ｃを拡大して示す断面図である。 図１４（Ａ）は第３実施形態の変形例に係る光学素子の断面図であり、図１４（Ｂ）は図１４（Ａ）の領域Ｂを拡大して示す断面図であり、図１４（Ｃ）は図１４（Ａ）の領域Ｃを拡大して示す断面図である。
　以下、本開示の実施形態について図面を参照して説明する。なお、各図面において同一の又は対応する構成には同一の符号を付し、説明を省略することがある。また、明細書中、数値範囲を示す「～」は、その前後に記載された数値を下限値及び上限値として含むことを意味する。
　（第１実施形態）
　図１を参照して、第１実施形態に係る光学素子１について説明する。光学素子１は、用途によって、性能の観点から、レンズ２が曲面２１を有することが望まれる。
　光学素子１は、レンズ２を含む。レンズ２は、球面レンズでもよいし、非球面レンズでもよい。また、レンズ２は、両凹レンズ、平凹レンズ、凹メニスカスレンズ、両凸レンズ、平凸レンズ、及び凸メニスカスレンズのいずれでもよい。
　レンズ２は、曲面２１を有する。曲面２１は、例えば１０ｍｍ～１００ｍｍの曲率半径を全面又は一部に有する。曲面２１の曲率半径は、好ましくは２０ｍｍ～８０ｍｍ、より好ましくは５０ｍｍ～７０ｍｍである。曲面２１は、例えば、図１（Ａ）及び図１（Ｂ）に示すように、凹曲面である。凹曲面は、重心Ｐ０が周縁よりも凹む曲面である。Ｘ軸方向に垂直な断面でも、Ｙ軸方向に垂直な断面でも、凹曲面の重心Ｐ０は、凹曲面の周縁よりも凹む。Ｘ軸方向とＹ軸方向とＺ軸方向とは、互いに垂直である。Ｚ軸方向は、凹曲面の重心Ｐ０における法線方向である。ＸＹ平面は、凹曲面の重心Ｐ０における接平面に対して平行である。
　なお、曲面２１は、本実施形態では凹曲面であるが、図２（Ｂ）及び図２（Ｃ）に示すように凸曲面であってもよい。凸曲面は、重心Ｐ０が周縁よりも凸む（突出する）曲面である。Ｘ軸方向に垂直な断面でも、Ｙ軸方向に垂直な断面でも、凸曲面の重心Ｐ０は、凸曲面の周縁よりも凸む。
　レンズ２の外形は、図１（Ｃ）に示す円形には限定されず、例えば楕円形、又は多角形（四角形を含む）等であってもよい。
　レンズ２の材質は、樹脂でもよいし、ガラスでもよい。樹脂レンズの樹脂は、例えばポリカーボネート、ポリイミド、ポリアクリレート、または環状オレフィンである。ガラスレンズのガラスは、例えばＢＫ７、または合成石英である。
　光学素子１は、位相差板３を含む。位相差板３は、レンズ２の曲面２１に沿って湾曲する。位相差板３は、例えば、透明基材４と、透明基材４の上に形成される配向層５と、配向層５の上に形成される液晶層６と、を含む。但し、配向層５は、任意の構成であって、無くてもよい。
　位相差板３は、遅相軸と進相軸を有する。Ｚ軸方向視で、遅相軸はＸ軸方向であり、進相軸はＹ軸方向である。遅相軸は屈折率の最も大きい方向であり、進相軸は屈折率の最も小さい方向である。
　位相差板３は、例えば１／４波長板である。１／４波長板と、不図示の直線偏光板とが組み合わせて用いられてもよい。直線偏光板の吸収軸と、１／４波長板の遅相軸とは、４５°ずらして配置される。直線偏光板と１／４波長板とで、円偏光板が構成される。
　直線偏光板は、位相差板３を基準としてレンズ２とは反対側に配置されてもよいし、位相差板３とレンズ２との間に配置されてもよいし、レンズ２を基準として位相差板３とは反対側に配置されてもよい。
　位相差板３は、例えば、図１（Ｂ）に示すようにレンズ２側から、透明基材４と、配向層５と、液晶層６とを、この順番で含む。なお、図２（Ａ）及び図２（Ｃ）に示すように、位相差板３は、レンズ２側から、液晶層６と、配向層５と、透明基材４とを、この順番で含んでもよい。
　透明基材４は、例えばガラス基材又は樹脂基材で構成される。ガラス基材又は樹脂基材は、赤外線、可視光、及び紫外線のいずれか１つ、又は２つ以上に対して反射機能又は吸収機能を有し、特定の波長帯の光を透過する構成としてもよい。透明基材４は、単一の基材の単層構造でもよいし、主基材（ガラス基材又は樹脂基材）に反射や吸収機能を付与する膜を積層し特定の波長帯の光を透過させる複数層構造でもよい。また、透明基材４は、反射機能や吸収機能の他に、防汚などの機能を付与する膜を積層してもよい。
　例えば、透明基材４は、ガラス基材又は樹脂基材の他に、更に樹脂膜又は無機膜を含んでもよい。樹脂膜は、例えば、色調補正フィルタ、シランカップリング剤等の下地膜、又は防汚膜等の機能を有する膜である。樹脂膜は、例えば、スクリーン印刷、蒸着、スプレーコート又はスピンコート法等で形成される。無機膜は、例えば光干渉膜（反射防止や波長選択フィルタ）としての機能を有する金属酸化物膜等である。無機膜は、例えば、スパッタリング法、蒸着、又はＣＶＤ法等で形成される。
　透明基材４は、曲げ加工性の観点から、好ましくは樹脂基材である。樹脂基材の樹脂の具体例としては、ポリメタクリル酸メチル（ＰＭＭＡ）、トリアセチルセルロース（ＴＡＣ）、シクロオレフィンポリマー（ＣＯＰ）、シクロオレフィンコポリマー(ＣＯＣ)、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、又はポリカーボネート（ＰＣ）が挙げられる。
　透明基材４の位相差（リタデーション）は、例えば５ｎｍ以下であり、好ましくは３ｎｍ以下である。透明基材４の位相差は、色調のバラツキを低減する観点から、小さいほどよく、ゼロであってもよい。透明基材４の位相差は、例えば平行ニコル回転法により測定する。
　透明基材４のガラス転移点Ｔｇｆは、例えば８０℃～２００℃であり、好ましくは９０℃～１６０℃である。Ｔｇｆが上記範囲内であれば、曲げ加工性が良い。透明基材４のガラス転移点は、例えば熱機械分析（ＴＭＡ）により測定される。
　透明基材４の厚みＴ１（図３参照）は、例えば０．０１ｍｍ～０．３ｍｍであり、好ましくは０．０２ｍｍ～０．１ｍｍであり、より好ましくは０．０３ｍｍ～０．０９ｍｍである。Ｔ１が上記範囲内であれば、曲げ加工性と、ハンドリング性とを両立できる。透明基材４の厚みＴ１は、レンズ２の曲面２１の各点における法線方向に測定する。
　配向層５は、液晶層６の液晶分子を配向させるものである。配向層５は、例えばポリイミドのラビング、偏光ＵＶ照射によるシランカップリング剤又はポリイミドの光分解、偏光ＵＶ照射による光二量化若しくは光異性化の利用、微細な平行溝構造の利用、剪断力による流動配向処理、又は無機物の斜め蒸着による配向処理等の処理が施されたものである。複数の処理が、組み合わせて使用されてもよい。これらの中でも、配向規制力、曲面への適用性、異物の軽減の観点から、偏光ＵＶ照射による光二量化、光異性化の利用又は微細な平行溝構造の利用が好ましい。
　偏光ＵＶ照射による光二量化の生じる材料としては、クマリン、ジフェニルアセチレン、又はアントラセンが用いられる。偏光ＵＶ照射による光異性化の生じる材料としては、アゾベンゼン、スチルベン、α－イミノ－βケトエステル、又はスピロピランが用いられる。偏光ＵＶ照射による光二量化と光異性化の両方の生じる材料としては、シンナメート、カルコン、又はスチルバゾールが用いられる。
　配向層５は、透明基材４にコーティングされる。コーティングの方法は、例えば、スピンコート法、バーコート法、ディップコート法、キャスト法、スプレーコート法、ビードコート法、ワイヤーバーコート法、ブレードコート法、ローラーコート法、カーテンコート法、スリットダイコート法、グラビアコート法、スリットリバースコート法、マイクログラビア法、又はコンマコート法等である。樹脂組成物がレンズ２の曲面２１に塗布され、乾燥される。樹脂組成物の溶剤は、塗布後の加熱によって除去される。なお、コーティングの方法は、溶剤を使用しない蒸着法であってもよい。
　配向層５の厚みＴ２（図３参照）は、例えば１ｎｍ～２０μｍ、好ましくは５０ｎｍ～１０μｍ、より好ましくは１００ｎｍ～５μｍである。配向層５の厚みＴ２は、透明基材４の配向層５が形成される表面の各点における法線方向に測定する。配向層５が溝５１を有する場合、本明細書において、配向層５の厚みＴ２とは、溝５１の底と透明基材４の表面との間隔のことである。
　配向層５は、液晶層６に接する面に、Ｚ軸方向視で互いに平行な複数の溝５１を有してもよい（図３（Ａ）参照）。複数の溝５１は、樹脂組成物の塗布後に、例えばインプリント法によって形成される。複数の溝５１は、例えばストライプパターン状に形成される。
　Ｚ軸方向視で、溝５１の長手方向がＸ軸方向であり、溝５１の幅方向がＹ軸方向である。インプリント法で溝５１を形成する場合、ラビング法で溝５１を形成する場合に比べて、溝５１の寸法及び形状を精度良く制御でき、異物の混入も軽減できる。
　溝５１の深さＤは、例えば５ｎｍ～１０００ｎｍ、好ましくは１０ｎｍ～３００ｎｍであり、より好ましくは１５ｎｍ～１５０ｎｍである。溝５１の深さＤが深いほど、液晶層６の液晶分子６１の配向規制力が大きい。溝５１の深さＤは、一定でもよいが、後述するように差を付けてもよい。
　溝５１の開口幅Ｗは、例えば５ｎｍ～８００ｎｍ、好ましくは２０ｎｍ～３００ｎｍでより好ましくは３０ｎｍ～１５０ｎｍである。
　溝５１のピッチｐは、例えば１０ｎｍ～１０００ｎｍ、好ましくは５０ｎｍ～５００ｎｍであり、より好ましくは８０ｎｍ～３００ｎｍである。ピッチｐが小さいほど、液晶層６の液晶分子６１の配向規制力が大きく、回折光も発生しにくい。
　溝５１の長手方向（Ｘ軸方向）に垂直な断面は、図３では矩形であるが、三角形であってもよい。溝５１は、深さが浅くなるほど、幅が広くなる。この場合、インプリント法で使用されるモールドの剥離が容易である。
　溝構造を形成する材料としては、例えば光硬化性樹脂又は熱硬化性樹脂等のエネルギー硬化性樹脂を含む。特に加工性、耐熱性及び耐久性に優れる点から光硬化性樹脂が好ましい。光硬化性樹脂組成物は、例えば、単量体、光重合開始剤、溶剤、及び必要に応じた添加剤（例えば界面活性剤、重合禁止剤）を含む組成物である。
　配向層５のガラス転移点Ｔｇ＿ａｌは、例えば４０℃～２００℃であり、好ましくは５０℃～１６０℃であり、より好ましくは７０℃～１５０℃である。Ｔｇ＿ａｌが上記範囲内であれば、曲げ加工性が良い。配向層５のガラス転移点は、例えばＴＭＡにより測定される。
　なお、上記の通り、配向層５は、任意の構成であって、無くてもよい。その場合、透明基材４には、液晶層６の液晶分子を配向させる処理が施されてもよい。その処理は、例えばポリイミドのラビング、偏光ＵＶ照射によるシランカップリング剤又はポリイミドの光分解、偏光ＵＶ照射による光二量化若しくは光異性化の利用、剪断力による流動配向処理、又は無機物の斜め蒸着による配向処理等である。
　液晶層６は、遅相軸と進相軸を有する。遅相軸の屈折率ｎｅと進相軸の屈折率ｎｏとの差Δｎ（Δｎ＝ｎｅ－ｎｏ）と、液晶層６のＺ軸方向寸法ｄとの積が、リタデーションＲｄである。つまり、Ｒｄは、Ｒｄ＝Δｎ×ｄの式から求められる。
　液晶層６は、図３（Ｂ）に示すように、配向層５によって互いに平行に配向される複数の液晶分子６１を含む。Ｚ軸方向視で、液晶分子６１の長軸方向はＸ軸方向であり、液晶分子６１の短軸方向はＹ軸方向である。液晶分子６１は、本実施形態では棒状液晶であるが、ディスコティック液晶であってもよい。
　使用する液晶組成物は、硬化後のΔｎ値の波長分散が正のものを用いても良いし、負のものを用いても良い。
　液晶組成物は、重合性の化合物として、例えば下記式（ａ－１）～（ａ－１３）に示す化合物を含む。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000001
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000002
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000003
 　上記式（ａ－５）及び（ａ－８）中、ｎは２～６の整数である。上記式（ａ－６）及び（ａ－７）中、Ｒは炭素原子数３～６のアルキル基である。上記式（ａ－１１）、（ａ－１２）及び（ａ－１３）中、ｎは「ノルマル」を意味し、直鎖状であることを意味する。
　液晶層６は、液晶組成物の塗布及び乾燥によって形成される。液晶組成物は、例えば、アクリル基又はメタクリル基を含む光硬化性の高分子液晶などである。液晶組成物は、単独で液晶相を示さない成分を含んでいてもよい。重合によって液晶相が生じればよい。液晶相を示さない成分として、例えば単官能の(メタ)アクリレート、２官能の(メタ)アクリレート、３官能以上の(メタ)アクリレートなどが用いられる。重合性の液晶組成物は、添加剤を含んでもよい。添加剤としては、重合開始剤、レベリング剤、カイラル剤、重合禁止剤、紫外線吸収剤、酸化防止剤、光安定剤、又は二色性色素など用いられる。複数種類の添加剤が併用されてもよい。
　液晶組成物の塗布方法は、一般的なものであってよい。液晶組成物の塗布方法は、例えば、スピンコート法、バーコート法、押し出しコート法、ダイレクトグラビアコート法、リバースグラビアコート法、又はダイコート法等である。液晶組成物の溶剤は、塗布後の加熱によって除去される。
　液晶組成物の溶剤は、例えば有機溶剤である。有機溶剤は、アルコール(例えばイソプロピルアルコール)、アミド（例えばＮ，Ｎ－ジメチルホルムアミド）、スルホキシド（例えばジメチルスルホキシド）、炭化水素（例えばベンゼン、若しくはヘキサン）、エステル（例えば、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ブチル、若しくはプロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート）、ケトン（例えばアセトン、シクロヘキサノン、若しくはメチルエチルケトン）、又はエーテル（例えばテトラヒドロフラン、若しくは１，２－ジメトキシエタン）である。２種類以上の有機溶剤が併用されてもよい。なお、液晶層６は、溶剤を使用しない蒸着法または真空注入法で形成されてもよい。
　液晶層６の厚みＴ３（図３参照）は、光の波長と、位相差と、Δｎ（Δｎ＝ｎｅ－ｎｏ）とに基づいて決められる。例えば、光の波長が５４３ｎｍであり、位相差が１／４波長である場合、Ｒｄは１３６ｎｍである。Ｒｄが１３６ｎｍであってΔｎが０．１である場合、液晶層６の厚みＴ３は１３６０ｎｍである。
　液晶層６の厚みＴ３は、上記の通り、光の波長と、位相差と、Δｎとに基づいて決められ、特に限定されないが、例えば０．１μｍ～２０μｍ、好ましくは０．２μｍ～１０μｍ、より好ましくは０．５μｍ～５μｍである。なお、液晶層６は、１／４波長板には限定されず、１／２波長板等であってもよい。
　液晶層６の厚みＴ３は、透明基材４の液晶層６が形成される表面の各点における法線方向に測定する。配向層５が溝５１を有する場合、本明細書において、液晶層６の厚みＴ３とは、溝５１の底と液晶層６の透明基材４とは反対側の表面との間隔のことである。
　液晶層６のガラス転移点Ｔｇ＿ａは、例えば５０℃～２００℃であり、好ましくは８０℃～１８０℃である。Ｔｇ＿ａが上記範囲内であれば、曲げ加工性が良い。液晶層６のガラス転移点Ｔｇ＿ａは、例えばＴＭＡで測定される。
　位相差板３の厚みＴ４は、特に限定されないが、例えば０．０１１ｍｍ～０．３０１ｍｍ、好ましくは０．０２１ｍｍ～０．１０１ｍｍ、より好ましくは０．０３１ｍｍ～０．０９１ｍｍである。位相差板３の厚みＴ４は、透明基材４の液晶層６が形成される表面の各点における法線方向に測定する。
　位相差板３は、図示しないが、液晶層６の上に積層される第２液晶層を更に含む広帯域位相差板であってもよい。広帯域位相差板に含まれる液晶層の数は、２つ以上であればよく、３つ以上であってもよい。Ｚ軸方向視で、複数の液晶層は、互いに異なる方位の遅相軸を有する。位相差板３は、複数の液晶層を含む場合、複数の配向層を含んでもよく、液晶層と配向層の組を繰り返し有してもよい。複数の配向層は、同じ材質を有してもよいし、異なる材質を有してもよい。
　位相差板３のリタデーションは、特に限定されないが１／４波長板であれば、例えば１００ｎｍ～１８０ｎｍであり、好ましくは１１０ｎｍ～１７０ｎｍであり、より好ましくは１２０ｎｍ～１６０ｎｍである。位相差板３が１／２波長板の場合のリタデーションは、例えば２００ｎｍ～２８０ｎｍであり、好ましくは２１０ｎｍ～２７０ｎｍであり、より好ましくは２２０ｎｍ～２６０ｎｍである。
　広帯域位相差板は、例えば、配向層５と液晶層６を交互に積層したものである。レンズ２側から、配向層５と液晶層６とがこの順番で積層される。なお、レンズ２とは別の透明基材の上に形成された液晶層と、レンズ２の上に形成された液晶層とを貼り合わせて、広帯域位相差板を形成してもよい。
　位相差板３は、曲げ加工され、レンズ２と接合される。接合層７は、例えば、透明光学粘着剤（ＯＣＡ）、液体接着剤（ＯＳＡ）、ポリビニルブチラール（ＰＶＢ）、エチレン酢酸ビニル（ＥＶＡ）、シクロオレフィンポリマー（ＣＯＰ）、又は熱可塑性ポリウレタン（ＴＰＵ）である。
　接合層７の位相差（リタデーション）は、例えば５ｎｍ以下であり、好ましくは３ｎｍ以下である。接合層７の位相差は、色調のバラツキを低減する観点から、小さいほどよく、ゼロであってもよい。接合層７の位相差は、例えば平行ニコル回転法により測定する。
　接合層７のガラス転移点は、例えば－６０℃～１００℃であり、好ましくは－４０℃～５０℃である。接合層７のガラス転移点が上記範囲内であれば、曲げ加工性と形状追従性とを両立できる。接合層７のガラス転移点は、例えばＴＭＡにより測定される。
　接合層７の厚みは、例えば０．００１ｍｍ～０．１ｍｍであり、好ましくは０．００５ｍｍ～０．０５ｍｍである。接合層７の厚みが上記範囲内であれば、曲げ加工性と形状追従性とを両立できる。接合層７の厚みは、レンズ２の曲面２１の各点における法線方向に測定する。
　位相差板３とレンズ２とは、加熱されながら接合される。加熱温度は、透明基材４のガラス転移点Ｔｇｆを基準として設定され、例えば（Ｔｇｆ－１０）℃以上、（Ｔｇｆ＋３０）℃以下の範囲内で設定され、好ましくは（Ｔｇｆ－１０）℃以上、（Ｔｇｆ＋２０）℃以下の範囲内で設定される。位相差板３とレンズ２の接合は、真空中で実施されてもよい。
　なお、射出成形用の金型の内部に位相差板３を設置し、位相差板３を曲げ加工した後、レンズ２を射出成形してもよい。インモールド成形によってレンズ２と位相差板３とが一体化される場合、接合層７は不要である。
　次に、図４を参照して、第１参考形態に係る光学素子の位相差板の座屈について説明する。第１参考形態に係る光学素子１Ａは、レンズ２Ａと、位相差板３Ａとを含む。位相差板３Ａは、透明基材４Ａと、配向層５Ａと、液晶層６Ａとを含む。レンズ２Ａと位相差板３Ａとは、例えば接合層７Ａを介して接合される。
　従来、位相差板３Ａの曲げ加工時に、配向層５Ａ及び液晶層６Ａの硬さが透明基材４Ａの硬さよりも硬すぎ、配向層５Ａ及び液晶層６Ａの伸びやすさが透明基材４Ａの伸びやすさに比べて悪く、位相差板３Ａが座屈してしまうことがあった。その結果、液晶層６Ａの厚みが局所的に厚くなってしまい、位相差板３ＡのＲｄが局所的に変化してしまうことがあった。それゆえ、色調が局所的に変化してしまうことがあった。
　そこで、本実施形態の光学素子１では、Ｅｎｅ／Ｅｆが０．１０以上５．００以下でありＥｎｏ／Ｅｆが０．１０以上５．００以下である。Ｅｆは透明基材４のヤング率であり、Ｅｎｅは位相差板３の遅相軸方向のヤング率であり、Ｅｎｏは位相差板３の進相軸方向のヤング率である。Ｅｆ、Ｅｎｅ、Ｅｎｏは、透明基材４および位相差板３の温度が透明基材４のガラス転移点Ｔｇｆであるときのヤング率である。Ｅｆ、Ｅｎｅ、Ｅｎｏは、ＴＭＡにより測定する。
　位相差板３の曲げ加工時に、位相差板３の温度は、上記の通り、（Ｔｇｆ－１０）℃以上、（Ｔｇｆ＋３０）℃以下の温度に加熱される。Ｅｎｅ／ＥｆおよびＥｎｏ／Ｅｆが５．００以下であれば、位相差板３の曲げ加工時に配向層５および液晶層６の硬さが柔らかく、配向層５および液晶層６の伸びやすさが透明基材４の伸びやすさと同程度に良い。従って、位相差板３の座屈を抑制でき、Ｒｄの局所的な変化を抑制でき、色調の局所的な変化を抑制できる。一方、Ｅｎｅ／ＥｆおよびＥｎｏ／Ｅｆが０．１０以上であれば位相差板３の曲げ加工時に配向層５および液晶層６の硬さが適度に硬い。従って、配向層５および液晶層６の重力による流動や成形時の気流による流動を抑制できる。好ましくは、Ｅｎｅ／ＥｆおよびＥｎｏ／Ｅｆが０．５０以上４．００以下であり、より好ましくはＥｎｅ／ＥｆおよびＥｎｏ／Ｅｆが０．７０以上３．００以下である。
　（第２実施形態）
　次に、第２実施形態に係る光学素子１について説明する。本実施形態に係る光学素子１の図は、上記第１実施形態に係る光学素子１の図と同様であるので、省略する。以下、上記第１実施形態との相違点について主に説明する。なお、本実施形態の技術は、上記第１実施形態の技術と組み合わされてもよい。
　先ず、主に図５を参照して、第２参考形態に係る光学素子１Ｂについて説明する。図５（Ａ）及び図５（Ｂ）に示すように、光学素子１Ｂは、レンズ２Ｂと、位相差板３Ｂとを含む。位相差板３Ｂは、透明基材４Ｂと、配向層５Ｂと、液晶層６Ｂとを含む。レンズ２Ｂと位相差板３Ｂとは、例えば接合層７Ｂを介して接合される。
　液晶層６Ｂは、互いに平行な複数の液晶分子６１（図３（Ｂ）参照）を含む。Ｚ軸方向視で、液晶分子６１の長軸方向はＸ軸方向であり、液晶分子６１の短軸方向はＹ軸方向である。
　本発明者は、実験等によって、レンズ２Ｂの曲面２１Ｂに均一な厚みの液晶層６Ｂを形成すると、液晶層６ＢのリタデーションＲｄのバラツキが大きくなってしまうという課題を見出した。
　液晶層６Ｂの厚みが均一な場合に、上記課題の生じる理由について説明する。液晶層６Ｂは、図５（Ａ）及び図５（Ｂ）に示すように、レンズ２Ｂの曲面２１Ｂの上に形成される。その結果、曲面２１Ｂの重心Ｐ１００から離れた位置では、ＸＹ平面に対して液晶分子６１が傾斜する。
　液晶分子６１の傾斜は、図５（Ｃ）に示す第１仮想線Ｌ１０１上の点Ｐ１０１、Ｐ１０２と、第２仮想線Ｌ１０２上の点Ｐ１０３、Ｐ１０４とで異なる。Ｚ軸方向視で、第１仮想線Ｌ１０１は、重心Ｐ１００を通り、遅相軸に平行な仮想線である。また、Ｚ軸方向視で、第２仮想線Ｌ１０２は、重心Ｐ１００を通り、進相軸に平行な仮想線である。
　図６に、第１仮想線Ｌ１０１上の点Ｐ１０１での液晶分子６１の傾斜を示す。図６において、破線は重心Ｐ１００での液晶分子６１を示し、実線は点Ｐ１０１での液晶分子６１を示す。図６から明らかなように、点Ｐ１０１では、重心Ｐ１００に比べて、液晶分子６１のＸ軸方向寸法が小さくなるのに対し、液晶分子６１のＹ軸方向寸法は変わらない。点Ｐ１０２でも同様である。
　その結果、第１仮想線Ｌ１０１上の点Ｐ１０１、Ｐ１０２では、重心Ｐ１００に比べて、ｎｅが小さくなり、ｎｏが変わらないので、Δｎが小さくなる。また、点Ｐ１０１、Ｐ１０２では、重心Ｐ１００に比べて、ｄが大きくなる。Δｎの減少によるＲｄの減少は、ｄの増大によるＲｄの増大よりも大きい。その結果、点Ｐ１０１、Ｐ１０２では、重心Ｐ１００に比べて、Δｎとｄの積であるＲｄは小さくなる。
　図７に、第２仮想線Ｌ１０２上の点Ｐ１０３での液晶分子６１の傾斜を示す。図７において、破線は重心Ｐ１００での液晶分子６１を示し、実線は点Ｐ１０３での液晶分子６１を示す。図７から明らかなように、点Ｐ１０３では、重心Ｐ１００に比べて、液晶分子６１のＹ軸方向寸法がわずかに小さくなるのに対し、液晶分子６１のＸ軸方向寸法は変わらない。点Ｐ１０４でも同様である。
　その結果、第２仮想線Ｌ１０２上の点Ｐ１０３、Ｐ１０４では、重心Ｐ１００に比べて、ｎｏが小さくなり、ｎｅが変わらないので、Δｎが大きくなる。また、点Ｐ１０３、Ｐ１０４では、重心Ｐ１００に比べて、ｄが大きくなる。従って、点Ｐ１０３、Ｐ１０４では、重心Ｐ１００に比べて、Ｒｄが大きくなる。
　図８に、平板状の液晶層の傾斜角度と、Ｒｄの測定値との関係の一例を示す。図８において、傾斜角度が０°であることは、平板状の液晶層がＸＹ平面に平行配向であることを意味する。
　図８の黒丸は、平板状の液晶層を、第２仮想線Ｌ１０２を中心に時計回りと反時計回りに回転させ、傾斜させたデータである。傾斜角度が正であることは、回転方向が時計回りであることを意味する。また、傾斜角度が負であることは、回転方向が反時計回りであることを意味する。
　図８の黒丸の傾斜角度の横軸の絶対値は、第１仮想線Ｌ１０１上の点Ｐ１０１、Ｐ１０２と重心Ｐ１００との距離に相当する。点Ｐ１０１、Ｐ１０２と重心Ｐ１００との距離が大きいほど、液晶分子６１の傾斜角度の絶対値が大きく、Ｒｄが小さくなる。
　一方、図８の白丸は、平板状の液晶層を、第１仮想線Ｌ１０１を中心に時計回りと反時計回りに回転させ、傾斜させたデータである。傾斜角度が正であることは、回転方向が時計回りであることを意味する。また、傾斜角度が負であることは、回転方向が反時計回りであることを意味する。
　図８の白丸の傾斜角度の横軸の絶対値は、第２仮想線Ｌ１０２上の点Ｐ１０３、Ｐ１０４と重心Ｐ１００との距離に相当する。点Ｐ１０３、Ｐ１０４と重心Ｐ１００との距離が大きいほど、液晶分子６１の傾斜角度の絶対値が大きく、Ｒｄが大きくなる。
　図８の黒丸と白丸を比較すれば明らかなように、第１仮想線Ｌ１０１上と第２仮想線Ｌ１０２上とでは、Ｒｄの変化の傾向が異なる。第１仮想線Ｌ１０１上では、重心Ｐ１００からの距離が大きいほど、Ｒｄが小さくなる。一方、第２仮想線Ｌ１０２上では、重心Ｐ１００からの距離が大きいほど、Ｒｄが大きくなる。
　なお、レンズ２Ｂの曲面２１Ｂは、本参考形態では凹曲面であるが、凸曲面であってもよい。凸曲面と凹曲面とで、液晶分子６１の傾斜角度の絶対値は同程度になる。従って、凸曲面と凹曲面とで、Ｒｄの分布は同程度になる。
　従来、第１仮想線Ｌ１０１上の点Ｐ１０１、Ｐ１０２と、第２仮想線Ｌ１０２上の点Ｐ１０３、Ｐ１０４とで、Ｒｄの差が大きかった。これは、図８の黒丸と白丸を比較すれば明らかである。
　そこで、本実施形態では、図８の白丸を黒丸に近づけるべく、第２仮想線Ｌ１０２上の点Ｐ１０３、Ｐ１０４での液晶層６の厚みを、第１仮想線Ｌ１０１上の点Ｐ１０１、Ｐ１０２での液晶層６の厚みよりも薄くする。
　液晶層６の厚みの分布は、例えば曲げ加工時の位相差板３の伸びの異方性によって制御する。曲げ加工時の位相差板３の伸びの異方性は、ＴｇｎｅとＴｇｎｏとの差で制御できる。Ｔｇｎｅは位相差板３のＸ軸方向のガラス転移点であり、Ｔｇｎｏは位相差板３の進相軸方向のガラス転移点である。
　本実施形態の光学素子１では、ＴｇｎｅがＴｇｎｏよりも大きい。位相差板３の曲げ加工時に、位相差板３の温度は、（Ｔｇｆ－１０）℃以上、（Ｔｇｆ＋３０）℃以下の温度に加熱される。
　ＴｇｎｅがＴｇｎｏより大きければ、位相差板３の曲げ加工時に位相差板３のＹ軸方向の伸びが位相差板３のＸ軸方向の伸びよりも大きい。その結果、液晶層６の厚みの分布が適化され、Ｒｄの差が小さくなる。
　Ｔｇｎｅは、例えば９０℃以上２５０℃以下であり、好ましくは１２０℃以上１８０℃以下であり、より好ましくは１３０℃以上１６０℃以下である。一方、Ｔｇｎｏは、例えば５０℃以上１８０℃以下であり、好ましくは８０℃以上１６０℃以下であり、より好ましくは９０℃以上１５０℃以下ある。
　次に、図９を参照して、本実施形態に係る液晶層６の厚みの分布について説明する。図９において、Ｚ軸方向視で、第１仮想線Ｌ１は、重心Ｐ０を通り、遅相軸に平行な仮想線である。また、Ｚ軸方向視で、第２仮想線Ｌ２は、重心Ｐ０を通り、進相軸に平行な仮想線である。
　Ｚ軸方向視で、分割線Ｌ３は、重心Ｐ０と曲面２１の周縁の各点とを結ぶ各線分を、重心Ｐ０側から曲面２１の周縁に４：１で分割する。また、Ｚ軸方向視で、第１仮想線Ｌ１と分割線Ｌ３とは第１点Ｐ１と第２点Ｐ２とで交差し、第２仮想線Ｌ２と分割線Ｌ３とは第３点Ｐ３と第４点Ｐ４とで交差する。
　第１点Ｐ１と重心Ｐ０との距離は、Ｘ１の０．８倍である。Ｘ１は、重心Ｐ０からＸ軸正方向に伸びる直線と曲面２１の周縁との交点と、重心Ｐ０との距離である。第２点Ｐ２と重心Ｐ０との距離は、Ｘ２の０．８倍である。Ｘ２は、重心Ｐ０からＸ軸負方向に伸びる直線と曲面２１の周縁との交点と、重心Ｐ０との距離である。
　第３点Ｐ３と重心Ｐ０との距離は、Ｙ１の０．８倍である。Ｙ１は、重心Ｐ０からＹ軸正方向に伸びる直線と曲面２１の周縁との交点と、重心Ｐ０との距離である。第４点Ｐ４と重心Ｐ０との距離は、Ｙ２の０．８倍である。Ｙ２は、重心Ｐ０からＹ軸負方向に伸びる直線と曲面２１の周縁との交点と、重心Ｐ０との距離である。
　本実施形態によれば、図９に示す第２仮想線Ｌ２上の第３点Ｐ３及び第４点Ｐ４での液晶層６の厚みｔｙ１、ｔｙ２の和が、第１仮想線Ｌ１上の第１点Ｐ１及び第２点Ｐ２での液晶層６の厚みｔｘ１、ｔｘ２の和よりも小さい。つまり、下記式（１）が成立する。
Figure JPOXMLDOC01-appb-M000004
 　上記式（１）が成立すれば、重心Ｐ０から離れた位置でのＲｄの差（図８の黒丸と白丸の差）を低減できる。Ｒｄの差が小さくなるように、液晶層６の厚みに差が付けられるからである。従って、色調のムラを抑制できる。
　液晶層６の厚みは、レンズ２の曲面２１の各点における法線方向に測定する。液晶層６の厚みは、例えば、分光干渉から算出するか、又は走査電子顕微鏡（ＳＥＭ）の写真から算出する。
　上記式（１）に加えて、好ましくは、下記式（２）が成立する。
Figure JPOXMLDOC01-appb-M000005
 　上記式（２）が成立すれば、上記式（１）のみが成立する場合に比べて、液晶層６のＲｄのムラがより小さくなる。従って、色調のムラをより抑制できる。（ｔｙ１＋ｔｙ２）／（ｔｘ１＋ｔｘ２）は、好ましくは０．８０よりも大きく、より好ましくは０．８５よりも大きい。また、（ｔｙ１＋ｔｙ２）／（ｔｘ１＋ｔｘ２）は、好ましくは０．９９よりも小さく、より好ましくは０．９８よりも小さい。
　なお、本実施形態では、曲げ加工時の位相差板３の伸びの異方性によって液晶層６の厚み分布を制御するが、ドライエッチング法によって液晶層６の厚み分布を制御してもよい。ドライエッチング法として、例えばプラズマエッチング法が用いられる。
　ドライエッチング法は、例えば曲げ加工前に実施される。例えば、図１０（Ａ）及び図１０（Ｂ）に示すように、プラズマエッチング法では、液晶層６の一部を覆うマスクＭを用いて、酸素等のプラズマで液晶層６の露出部をエッチングする。マスクＭは、エッチング耐性と剛性に優れるガラスが好ましい。液晶層６の厚みＴ３の変化が滑らかになるように、大きさの異なる複数のマスクＭが順番に用いられてもよい。
　プラズマエッチング法では、例えば、ＲＩＥ（Ｒｅａｃｔｉｖｅ　Ｉｏｎ　Ｅｔｃｈｉｎｇ）装置が用いられる。プラズマの発生に用いられるガスは、例えば酸素ガスを含み、酸素ガスの他にＣＦ４又はＣＣｌ４等のハロゲン含有ガスを更に含んでもよい。エッチング時間及びガス流量などで、エッチング量を制御できる。
　（第３実施形態）
　次に、第３実施形態等に係る光学素子１について説明する。以下、上記第１実施形態、及び第２実施形態との相違点について主に説明する。なお、本実施形態の技術は、上記第１実施形態の技術、及び上記第２実施形態の技術の１つ以上と組み合わされてもよい。
　先ず、図１１及び図１２を参照して、第３参考形態に係る光学素子１Ｃについて説明する。図１１（Ｃ）及び図１２（Ｃ）において、Ｒｄの大きさは、グレースケールで表す。色が白色から黒色に近づくほど、光学素子１ＣのＲｄの大きさが大きい。
　第３参考形態に係る光学素子１Ｃは、レンズ２Ｃと、位相差板３Ｃとを含む。位相差板３Ｃは、透明基材４Ｃと、配向層５Ｃと、液晶層６Ｃとを含む。レンズ２Ｃと位相差板３Ｃとは、例えば接合層７Ｃを介して接合される。
　位相差板３Ｃの曲げ加工時に、位相差板３Ｃの周縁と中央とで、位相差板３Ｃの伸び率が異なっている。その結果、位相差板３Ｃの厚み及び液晶層６Ｃの厚みが同心円状、に変化してしまう。それゆえ、Ｒｄが同心円状にシフトしてしまい、色調が同心円状にシフトしてしまう。なお、伸び率（％）は、曲げ加工前の寸法をＡ１とし、曲げ加工後の寸法をＡ２とすると、「（Ａ２－Ａ１）／Ａ１×１００」の式から求められる。
　例えば、図１１（Ａ）に示すようにレンズ２Ｃの曲面２１Ｃが凹曲面である場合、図１１（Ｂ）に示すように位相差板３Ｃが曲げ加工されると、位相差板３Ｃの周縁から中央にかけて位相差板３Ｃの厚みが連続的に薄くなってしまう。これは、位相差板３Ｃの周縁と中央とで曲面２１Ｃに接触するタイミングが異なり、位相差板３Ｃの中央が周縁よりも後で曲面２１Ｃに接触するからである。
　従って、図１１（Ｂ）に示すように、液晶層６Ｃの周縁から中央にかけて液晶層６Ｃの厚みが連続的に薄くなってしまう。その結果、液晶層６Ｃの周縁から中央にかけて、図１２（Ｃ）に示すようにＲｄが連続的に小さくなってしまう。従って、色調が同心円状にシフトしてしまう。
　また、図１２（Ａ）に示すようにレンズ２Ｃの曲面２１Ｃが凸曲面である場合、図１２（Ｂ）に示すように位相差板３Ｃが曲げ加工されると、位相差板３Ｃの中央から周縁にかけて位相差板３Ｃの厚みが連続的に薄くなってしまう。これは、位相差板３Ｃの周縁と中央とで曲面２１Ｃに接触するタイミングが異なり、位相差板３Ｃの周縁が中央よりも後で曲面２１Ｃに接触するからである。
　従って、図１２（Ｂ）に示すように、液晶層６Ｃの中央から周縁にかけて液晶層６Ｃの厚みが連続的に薄くなってしまう。その結果、液晶層６Ｃの中央から周縁にかけて、図１２（Ｃ）に示すようにＲｄが連続的に小さくなってしまう。従って、色調が同心円状にシフトしてしまう。
　本実施形態に係る光学素子１は、図１３及び図１４に示すように、レンズ２と、位相差板３とを含む。位相差板３は、透明基材４と、配向層５と、液晶層６とを含む。レンズ２と位相差板３とは、例えば接合層７を介して接合される。配向層５は、液晶層６と接触する面に、互いに平行な複数の溝５１を有する。
　位相差板３の曲げ加工時に、位相差板３の周縁と中央とで、位相差板３の伸び率が異なっている。その結果、上記第３参考形態と同様に、位相差板３の曲げ加工後に、位相差板３の周縁と中央とで、位相差板３の厚みＴ４及び液晶層６の厚みＴ３が異なる。
　例えば、図１３（Ａ）に示すようにレンズ２の曲面２１が凹曲面である場合、上記第３参考形態でも説明したように、位相差板３が曲げ加工されると、位相差板３の周縁から中央にかけて位相差板３の厚みＴ４及び液晶層６の厚みＴ３が連続的に薄くなる。
　レンズ２の曲面２１が凹曲面である場合、位相差板３の伸び率は下記の通りである。位相差板３の周縁での位相差板３の伸び率は、例えば０．１％～２０％であり、好ましくは１％～２０％である。また、位相差板３の中央での位相差板３の伸び率は、例えば０．５％～３０％であり、好ましくは１％～２０％である。
　また、図１４（Ａ）に示すようにレンズ２の曲面２１が凸曲面である場合、上記第３参考形態でも説明したように、位相差板３が曲げ加工されると、位相差板３の中央から周縁にかけて位相差板３の厚みＴ４及び液晶層６の厚みＴ３が連続的に薄くなる。
　レンズ２の曲面２１が凸曲面である場合、位相差板３の伸び率は下記の通りである。位相差板３の中央での位相差板３の伸び率は、例えば０．１％～２０％であり、好ましくは１％～２０％である。また、位相差板３の周縁での位相差板３の伸び率は、例えば０．５％～３０％であり、好ましくは１％～２０％である。
　これらの傾向は、上記第２実施形態のように、Ｘ軸方向とＹ軸方向とで、位相差板３の伸びに異方性が有る場合にも生じる。例えば、図９の第２仮想線Ｌ２の上では、位相差板３の周縁から中央に向かうほど、位相差板３の厚みＴ４及び液晶層６の厚みＴ３が連続的に薄くなるか、厚くなる。図９の第１仮想線Ｌ１の上でも、同じ傾向が生じる。なお、この傾向は、図９の第２仮想線Ｌ２の上において特に顕著である。
　そこで、本実施形態等の光学素子１では、位相差板３の厚みＴ４が最も薄い部位における溝５１の深さＤが、位相差板３の厚みＴ４が最も厚い部位における溝５１の深さＤよりも深い。溝５１の深さＤは、例えばインプリント法で使用されるモールドの凹凸パターンで調整される。また、溝５１の深さＤは、配向層５の表面を部分的にアッシングすることでも調整できる。
　溝５１の深さＤが深いほど、液晶層６の液晶分子の配向規制力が大きく、Δｎが大きい。Δｎの増大によるＲｄの増大で、ｄの減少によるＲｄの減少を打ち消すことができ、Ｒｄのバラツキを抑制できる。
　例えば、図１３（Ａ）に示すようにレンズ２の曲面２１が凹曲面である場合、図１３（Ｂ）と図１３（Ｃ）を比較すれば明らかなように、位相差板３の中央における溝５１の深さＤが、位相差板３の周縁における溝５１の深さＤよりも深い。位相差板３の周縁から中央にかけて、溝５１の深さＤが連続的又は段階的に深くなる。従って、Ｒｄが同心円状にシフトするのを抑制でき、色調が同心円状にシフトするのを抑制できる。
　また、図１４（Ａ）に示すようにレンズ２の曲面２１が凸曲面である場合、図１４（Ｂ）と図１４（Ｃ）を比較すれば明らかなように、位相差板３の周縁における溝５１の深さＤが、位相差板３の中央における溝５１の深さＤよりも深い。位相差板３の中央から周縁にかけて、溝５１の深さＤが連続的又は段階的に深くなる。従って、Ｒｄが同心円状にシフトするのを抑制でき、色調が同心円状にシフトするのを抑制できる。
　なお、上記の通り、図９の第２仮想線Ｌ２の上では、図９の第１仮想線Ｌ１の上に比べて、位相差板３の周縁と中央とで、位相差板３の厚みＴ４の差が大きく、また、液晶層６の厚みＴ３の差が大きい。そこで、少なくとも、第２仮想線Ｌ２の上では、位相差板３の厚みＴ４が最も薄い部位における溝５１の深さＤが、位相差板３の厚みＴ４が最も厚い部位における溝５１の深さＤよりも深いことが好ましい。
　以下、実験データについて説明する。
　＜材料＞
　単量体１：新中村化学工業社製品名「ＮＫエステル　Ａ－ＤＣＰ」、ジメチロール-トリシクロデカンジアクリレート
　単量体２：新中村化学工業社製品名「ＮＫエステル　Ａ－ＨＤ－Ｎ」、１，６－ヘキサンジオールジアクリレート
　単量体３：共栄社化学社製品名「ライトアクリレート４ＥＧ-Ａ」トリエチレングルコールジアクリレート
　単量体４：東京化成工業社製品名　トリメチロールプロパントリメタクリラート
　単量体５：新中村化学工業社製品名「Ｕ－６ＬＰＡ」
　単量体６：東京化成工業社製品名：「アクリル酸テトラヒドロフルフリル」
　液晶１：ＢＡＳＦ社製品名「ＬＣ２４２」
　光重合開始剤１：チバスペシャリティーケミカルズ社製品名「ＩＲＧＡＣＵＲＥ９０７」
　溶剤１：メチルエチルケトン
　透明基材１：ＰＭＭＡフィルム（大倉工業社製、ＯＸＩＳ　ＦＺ－Ｔ１３－Ｗ１－４０
　厚み４０μｍ）
　透明基材２：ＴＡＣフィルム（富士フイルム社製ＺＲＤ４０ＳＬ　厚み４０μｍ）。
　＜光硬化性組成物１＞
　２０ｇの単量体２と、５０ｇの単量体３と、３０ｇの単量体４と、３．０ｇの光重合開始剤１とを混合し、光硬化性組成物１を調製した。
　＜光硬化性組成物２＞
　７０ｇの単量体１と、１０ｇの単量体２と、２０ｇの単量体５と、３．０ｇの光重合開始剤１とを混合し、光硬化性組成物２を調製した。
　＜光硬化性組成物３＞
　５０ｇの単量体１と、５０ｇの単量体５と、３．０ｇの光重合開始剤１とを混合し、光硬化性組成物３を調製した。
　＜光硬化性組成物４＞
　２０ｇの単量体１と、６０ｇの単量体２と、２０ｇの単量体５と、３．０ｇの光重合開始剤１とを混合し、光硬化性組成物４を調製した。
　＜液晶組成物１＞
　１００ｇの液晶１と、３．０ｇの光重合開始剤１とを混合し、得られた混合物を固形分濃度２５質量％となるように溶剤１で希釈し、液晶組成物１を得た。
　＜液晶組成物２＞
　５０ｇの液晶１と、５０ｇの単量体６と、３．０ｇの光重合開始剤１とを混合し、得られた混合物を固形分濃度５０質量％となるように溶剤１で希釈し、液晶組成物２を得た。
　＜モールドＡ＞
　モールドＡとしては、綜研化学社製の樹脂モールド（ＬＳＰ７０－１４０、溝のピッチ１４０ｎｍ、溝の深さ１５０ｎｍ）を用意した。
　＜モールドＢ＞
　モールドＢは、下記の手順で作製した。先ず、モールドＡとＰＥＴフィルム(東洋紡社製コスモシャインＡ４３００、厚み２５０μｍ)との間に光硬化性組成物２を挟み、その間隙を５μｍに維持した状態で、ＰＥＴフィルムを介して光硬化性組成物２に１０００ｍＪ／ｃｍ２の紫外線を照射し、光硬化性組成物２を硬化させた。その後、モールドＡを剥離することにより、モールドＢを作製した。モールドＢの凹凸パターンは、モールドＡの凹凸パターンを反転したものであった。
　＜モールドＣ＞
　モールドＣは、下記の手順で作製した。先ず、モールドＢの中央部に円盤状のマスクを配置し、真空化において酸素２００ｍｌ／ｍｉｎ、出力４００ＷでモールドＢをアッシングした。その後、モールドＢとＰＥＴフィルム(東洋紡社製コスモシャインＡ４３００、厚み２５０μｍ)との間に光硬化性組成物１を挟み、その間隙を５μｍに維持した状態で、ＰＥＴフィルムを介して光硬化性組成物１に１０００ｍＪ／ｃｍ２の紫外線を照射し、光硬化性組成物１を硬化させた。その後、モールドＢを剥離することにより、モールドＣを作製した。モールドＣの凹凸パターンは、モールドＢの凹凸パターンを反転したものであった。モールドＣの凹凸パターンは平面視で一辺８０ｍｍの正方形であり、その中心での溝の深さは９５ｎｍであり、中心から４０ｍｍ外側での溝の深さは２５ｎｍであった。
　＜光学素子＞
　下記の例１～８では、上記の材料と上記のモールドを用いて光学素子を作製した。下記の例１、２、５、６及び８が実施例であり、下記の例３、４及び７が比較例である。
　（例１）
　配向層は、下記の手順で作製した。先ず、モールドＡと透明基材１との間に光硬化性組成物１を挟み、その間隙を５μｍに維持した状態で、透明基材１を介して光硬化性組成物１に１０００ｍＪ／ｃｍ２の紫外線を照射し、光硬化性組成物１を硬化させた。その後、モールドＡを剥離することにより、凹凸が形成された配向層１と透明基材１との積層体を作製した。配向層１は、溝のピッチが１４０ｎｍであり、溝の深さが１４０ｎｍであった。
　液晶層は、下記の手順で作製した。先ず、配向層の凹凸の形成された表面に、上記の液晶組成物１をスピンコート法により塗布し、９０℃にて５分乾燥させ、厚み１μｍの液膜を形成した。窒素雰囲気下において１０００ｍＪ／ｃｍ２の紫外線を液膜に照射し、液晶組成物１を硬化させた。これにより、液晶層と配向層と透明基材とを含む位相差板を得た。
　光学素子は、下記の手順で作製した。先ず、レンズとして、平凹レンズ（エドモンドオプティクス社製、商品コード＃４５－０３８、直径５０ｍｍ）を用意した。次に、位相差板の透明基材の表面に、光学粘着剤(パナック社製、ＰＤＳ１、厚み２５μm)を貼り付けた。その後、真空容器の内部にて、平凹レンズの凹曲面を上に向け、その上方に位相差板を配置した。位相差板は、光学粘着剤を下に向けて水平に配置した。続いて、真空容器の内部を真空引きし、位相差板を１１５℃に加熱した状態で平凹レンズの凹曲面に接触させ、３００ｋＰａの空気圧で位相差板を凹曲面に押し付け、位相差板を曲げ加工した。これにより、光学素子を得た。
　（例２）
　光硬化性組成物１の代わりに光硬化性組成物２を使用した以外、例１と同様に光学素子を作製した。
　（例３）
　液晶組成物１の代わりに大阪有機化学社製のＳＩＲ－Ｗ０４４ＡＰ（液晶組成物３）を使用し、液晶層の厚みを１μｍとした以外、例１と同様に光学素子を作製した。
　（例４）
　光硬化性組成物１の代わりに光硬化性組成物３を使用した以外、例１と同様に光学素子を作製した。
　（例５）
　透明基材１の代わりに透明基材２を使用し、位相差板を１４５℃に加熱した以外、例４と同様に光学素子を作製した。
　（例６）
　光硬化性組成物１の代わりに光硬化性組成物４を使用した以外、例１と同様に光学素子を作製した。
　（例７）
　透明基材１の代わりに透明基材２を使用し、液晶組成物１の代わりに液晶組成物２を使用し、液晶層の厚みを２μｍとし、位相差板を１４５℃に加熱した以外、例１と同様に光学素子を作製した。
　（例８）
　モールドＡの代わりにモールドＣを用いて配向層を作製した以外、例１と同様に光学素子を作製した。
　＜ガラス転移点＞
　透明基材および位相差板のガラス転移点は、下記手順でＴＭＡにより測定した。長さ８ｍｍ、幅５ｍｍの試料をＴＭＡに取り付け、長さ方向の引張力を０．２Ｎに維持し、５℃／ｍｉｎのレートで３０℃から２００℃に昇温し、試料の寸法変化を測定した。得られたＴＭＡ曲線のうち、伸び率が変わる変曲点を基準として、高温側の直線の延長線と、低温側の直線の延長線との交点をガラス転移点として求めた。変曲点が２か所以上ある場合はより高温側の変曲点をガラス転移点とした。測定は３回行い、その算術平均値をガラス転移点として求めた。Ｔｇｎｅを測定する場合は試料の長さ方向が遅相軸と平行であり、Ｔｇｎｏを測定する場合は試料の長さ方向が進相軸と平行であった。
　＜ヤング率＞
　透明基材および位相差板のヤング率は、下記手順でＴＭＡ測定により測定した。長さ８ｍｍ、幅５ｍｍの試料をＴＭＡに取り付け、長さ方向の引張力を、０．０２Ｎ／ｍｉｎの速度で０．０１Ｎから１Ｎまで上げ、試料の寸法変化を測定した。透明基材がＰＭＭＡである場合には、試料の温度は予め１１５℃に調節した。また、透明基材がＴＡＣである場合には、試料の温度は予め１４５℃に調節した。歪みが０．０１２５～０．０５の領域でヤング率を算出した。測定は３回行い、その算術平均値をヤング率として求めた。Ｅｎｅを測定する場合は試料の長さ方向が遅相軸と平行であり、Ｅｎｏを測定する場合は試料の長さ方向が進相軸と平行であった。
　＜光学素子の評価＞
　例１～例５及び例８で作製した光学素子を目視で確認し、位相差板の座屈の有無を確認した。結果を表１に示す。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000006
 　表１から明らかなように、例１、２、５及び８では、Ｅｎｅ／Ｅｆ及びＥｎｏ／Ｅｆが５．００以下であったので、座屈が無かった。一方、例３及び４では、Ｅｎｅ／Ｅｆ及びＥｎｏ／Ｅｆの少なくともいずれかが５．００よりも大きく、座屈が有った。座屈が有った箇所では、リタデーションの急峻な変化が認められた。
　例１、５～７で作製した光学素子のリタデーションＲｄを測定した。Ｒｄは、二次元複屈折率評価装置（フォトニックラティス社製、ＷＰＡ－２００）を用い、位相差板を評価装置のカメラに向けて設置し、位相差板の有効領域（直径４０ｍｍの円状領域）全体を一括で測定した。なお、Ｒｄは、波長５４３ｎｍの光のリタデーションである。結果を表２に示す。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000007
 　表２において、Ｒｎｅは図９に示す第１仮想線Ｌ１上でのＲｄの最大値と最小値の比（最大値／最小値）であり、Ｒｎｏは図９に示す第２仮想線Ｌ２上でのＲｄの最大値と最小値の比（最大値／最小値）である。Ｒｎｅ／Ｒｎｏが１．００に近いほど、第１仮想線Ｌ１上の第１点Ｐ１及び第２点Ｐ２と、第２仮想線Ｌ２上の第３点Ｐ３及び第４点Ｐ４とでＲｄの差が小さいことを意味する。Ｒｎｅ／Ｒｎｏが０．９５よりも大きく且つ１．０５よりも小さい場合に、Ｒｄの分布が等方的（同心円状）であると判断した。
　表２から明らかなように、例１、５及び６では、ＴｇｎｅがＴｇｎｏよりも大きかったので、Ｒｎｅ／Ｒｎｏが０．９５よりも大きく且つ１．０５よりも小さく、Ｒｄの分布が等方的であった。一方、例７では、ＴｇｎｅがＴｇｎｏと同じであったので、Ｒｎｅ／Ｒｎｏが１．０５以上であって、Ｒｄの分布が等方的（同心円状）ではなかった。
　例１及び８で作製した光学素子のリタデーションＲｄを測定した。Ｒｄの測定方法は、上記の通りであった。結果を表３に示す。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000008
 　表３において、Ｄ１は位相差板の有効領域において位相差板の厚みが最も薄い箇所での配向層の溝の深さであり、Ｄ２は位相差板の有効領域において位相差板の厚みが最も厚い箇所での配向層の溝の深さである。また、表３において、Ｄ３は第２仮想線Ｌ２（図９参照）上において位相差板の厚みが最も薄い箇所での配向層の溝の深さであり、Ｄ４は第２仮想線Ｌ２上において位相差板の厚みが最も厚い箇所での配向層の溝の深さである。
　また、表３において、Ｒｍａｘは位相差板の有効領域全体におけるＲｄの最大値であり、Ｒｍｉｎは位相差板の有効領域全体におけるＲｄの最小値である。２×Ｒｍａｘ／（Ｒｍａｘ＋Ｒｍｉｎ）が１．０３０以下であって且つ２×Ｒｍｉｎ／（Ｒｍａｘ＋Ｒｍｉｎ）が０．９７０以上である場合に、Ｒｄの面内バラツキがより小さいと判断した。
　表３から明らかなように、例８では、Ｄ１がＤ２よりも大きかったので、例１よりもＲｄの面内バラツキがより小さかった。また、例８では、Ｄ３がＤ４よりも大きかったので、例１よりもＲｄの面内バラツキがより小さかった。
　以上、本開示に係る光学素子及びその製造方法について説明したが、本開示は上記実施形態などに限定されない。特許請求の範囲に記載された範疇内において、各種の変更、修正、置換、付加、削除、及び組み合わせが可能である。それらについても当然に本開示の技術的範囲に属する。
　本出願は、２０２０年８月７日に日本国特許庁に出願した特願２０２０－１３５０９２号に基づく優先権を主張するものであり、特願２０２０－１３５０９２号の全内容を本出願に援用する。
１　　光学素子
２　　レンズ
３　　位相差板
４　　透明基材
５　　配向層
６　　液晶層

Claims (8)

  1. 　曲面を有するレンズと、
    　前記曲面に沿って湾曲する位相差板と、を含み、
    　前記位相差板は、透明基材と、前記透明基材の上に形成される液晶層と、を含み、
    　前記位相差板は、遅相軸と進相軸とを有し、
    　前記位相差板の遅相軸方向のガラス転移点Ｔｇｎｅが前記位相差板の進相軸方向のガラス転移点Ｔｇｎｏよりも大きい、光学素子。
  2. 　曲面を有するレンズと、
    　前記曲面に沿って湾曲する位相差板と、を含み、
    　前記位相差板は、透明基材と、前記透明基材の上に形成される液晶層と、を含み、
    　前記位相差板は、遅相軸と進相軸とを有し、
    　前記位相差板の温度が前記透明基材のガラス転移点であるときの、前記透明基材のヤング率Ｅｆと前記位相差板の遅相軸方向のヤング率Ｅｎｅの比（Ｅｎｅ／Ｅｆ）が０．１０以上５．００以下であり、前記透明基材のヤング率Ｅｆと前記位相差板の進相軸方向のヤング率Ｅｎｏの比（Ｅｎｏ／Ｅｆ）が０．１０以上５．００以下である、光学素子。
  3. 　前記位相差板は、前記透明基材と前記液晶層との間に形成される配向層を含み、
    　前記レンズの前記曲面の重心における法線方向から見て、前記配向層は、前記液晶層に接する面に、互いに平行な複数の溝を有する、請求項１又は２に記載の光学素子。
  4. 　曲面を有するレンズと、
    　前記曲面に沿って湾曲する位相差板と、を含み、
    　前記位相差板は、透明基材と、前記透明基材の上に形成される配向層と、前記配向層の上に形成される液晶層とを含み、
    　前記位相差板は、遅相軸と進相軸とを有し、
    　前記レンズの前記曲面の重心における法線方向から見て、前記配向層は、前記液晶層に接する面に、互いに平行な複数の溝を有し、
    　前記位相差板の厚みが最も薄い部位における前記溝の深さが、前記位相差板の厚みが最も厚い部位における前記溝の深さよりも深い、光学素子。
  5. 　曲面を有するレンズと、
    　前記曲面に沿って湾曲する位相差板と、を含み、
    　前記位相差板は、透明基材と、前記透明基材の上に形成される配向層と、前記配向層の上に形成される液晶層とを含み、
    　前記位相差板は、遅相軸と進相軸とを有し、
    　前記レンズの前記曲面の重心における法線方向から見て、前記配向層は、前記液晶層に接する面に、互いに平行な複数の溝を有し、
    　前記位相差板の重心を通り前記進相軸に平行な仮想線上において、前記位相差板の厚みが最も薄い部位における前記溝の深さが、前記位相差板の厚みが最も厚い部位における前記溝の深さよりも深い、光学素子。
  6. 　前記曲面が凹曲面であり、
    　前記位相差板の中央における前記溝の深さが、前記位相差板の周縁における前記溝の深さよりも深い、請求項４又は５に記載の光学素子。
  7. 　前記曲面が凸曲面であり、
    　前記位相差板の周縁における前記溝の深さが、前記位相差板の中央における前記溝の深さよりも深い、請求項４又は５に記載の光学素子。
  8. 　請求項１～７のいずれか１項に記載の光学素子を製造する製造方法であって、
    　前記レンズの前記曲面に合うように、前記位相差板を曲げ加工することを含む、光学素子の製造方法。
PCT/JP2021/028752 2020-08-07 2021-08-03 光学素子、及びその製造方法 Ceased WO2022030482A1 (ja)

Priority Applications (4)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2022541562A JP7666513B2 (ja) 2020-08-07 2021-08-03 光学素子、及びその製造方法
CN202180058057.5A CN116057434A (zh) 2020-08-07 2021-08-03 光学元件及其制造方法
US18/162,909 US12032193B2 (en) 2020-08-07 2023-02-01 Optical element and method for manufacturing the same
US18/674,386 US12222532B2 (en) 2020-08-07 2024-05-24 Optical element and method for manufacturing the same

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2020135092 2020-08-07
JP2020-135092 2020-08-07

Related Child Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
US18/162,909 Continuation US12032193B2 (en) 2020-08-07 2023-02-01 Optical element and method for manufacturing the same

Publications (1)

Publication Number Publication Date
WO2022030482A1 true WO2022030482A1 (ja) 2022-02-10

Family

ID=80118093

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
PCT/JP2021/028752 Ceased WO2022030482A1 (ja) 2020-08-07 2021-08-03 光学素子、及びその製造方法

Country Status (4)

Country Link
US (2) US12032193B2 (ja)
JP (1) JP7666513B2 (ja)
CN (1) CN116057434A (ja)
WO (1) WO2022030482A1 (ja)

Citations (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2003295164A (ja) * 2002-03-29 2003-10-15 Matsushita Electric Ind Co Ltd 曲面表示用プラスチック液晶パネルおよびその製造方法
JP2006058517A (ja) * 2004-08-19 2006-03-02 Dainippon Printing Co Ltd 光学補償偏光板
JP2012003003A (ja) * 2010-06-16 2012-01-05 Sony Corp 立体映像観察用光学素子、立体映像観察用眼鏡、立体映像表示システム
JP2012032527A (ja) * 2010-07-29 2012-02-16 Fujifilm Corp 偏光眼鏡
JP2013020079A (ja) * 2011-07-11 2013-01-31 Yamamoto Kogaku Co Ltd ３ｄ鑑賞用の円偏光レンズ、およびそれを使用したグラス
WO2018021486A1 (ja) * 2016-07-28 2018-02-01 富士フイルム株式会社 眼鏡用レンズおよび眼鏡
WO2019208299A1 (ja) * 2018-04-25 2019-10-31 住友化学株式会社 偏光板
JP2020518007A (ja) * 2017-04-28 2020-06-18 エルジー・ケム・リミテッド 光変調デバイス
US20200249475A1 (en) * 2019-02-05 2020-08-06 Facebook Technologies, Llc Waveplates on a curved surface and fabrication method thereof

Family Cites Families (20)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
GB0201132D0 (en) 2002-01-18 2002-03-06 Epigem Ltd Method of making patterned retarder
CN101135745A (zh) * 2006-08-31 2008-03-05 精工爱普生株式会社 光学元件、其制造方法以及投影机
JP2008261282A (ja) 2007-04-12 2008-10-30 Aisan Ind Co Ltd アルマイト処理された部品を有する燃料ポンプと、その燃料ポンプ部品のアルマイト処理方法
JP5171201B2 (ja) 2007-10-18 2013-03-27 株式会社ジャパンディスプレイウェスト 液晶表示装置及びその製造方法
JP2013519108A (ja) 2010-02-01 2013-05-23 リアルディー インコーポレイテッド 複合曲率を持つ立体視アイウェア
US20130049255A1 (en) 2010-03-10 2013-02-28 Asahi Kasei Kabushiki Kaisha Resin mold
JPWO2011129404A1 (ja) * 2010-04-15 2013-07-18 旭硝子株式会社 液晶素子を製造する方法及び液晶素子
JP2013007781A (ja) 2011-06-22 2013-01-10 Citizen Holdings Co Ltd 液晶デバイス
US9019450B2 (en) * 2011-07-12 2015-04-28 Benq Materials Corporation Optical compensation film and method for manufacturing the same
JP2013061600A (ja) 2011-09-15 2013-04-04 Keiwa Inc ３ｄメガネ用光学シート及び３ｄメガネ
JP2014044394A (ja) * 2012-03-30 2014-03-13 Nitto Denko Corp 長尺位相差フィルム、円偏光板及び有機ｅｌパネル
JP5978761B2 (ja) 2012-05-23 2016-08-24 旭硝子株式会社 インプリント用光硬化性組成物および微細パターンを表面に有する成形体の製造方法
JP2014006356A (ja) * 2012-06-22 2014-01-16 Dainippon Printing Co Ltd 位相差フィルム、及び液晶表示装置
JP2014089346A (ja) * 2012-10-30 2014-05-15 Dainippon Printing Co Ltd 位相差フィルム、及び位相差フィルムの製造方法
US9939682B2 (en) * 2013-02-15 2018-04-10 E-Vision, Llc Liquid crystal alignment layers and method of fabrication
US10018874B2 (en) 2013-08-01 2018-07-10 Lg Chem, Ltd. Alignment film for liquid crystal lens and mold for preparing the same
JP6581798B2 (ja) 2015-04-10 2019-09-25 日東電工株式会社 光学積層体
JP6543344B2 (ja) 2015-08-06 2019-07-10 シャープ株式会社 光学部材、及び、ナノインプリント用の重合性組成物
CN105527759B (zh) * 2016-03-09 2018-10-30 京东方科技集团股份有限公司 液晶配向方法、像素结构、显示面板及显示装置
US11281026B2 (en) 2016-11-15 2022-03-22 3M Innovative Properties Company Optical lens and eyewear including same

Patent Citations (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2003295164A (ja) * 2002-03-29 2003-10-15 Matsushita Electric Ind Co Ltd 曲面表示用プラスチック液晶パネルおよびその製造方法
JP2006058517A (ja) * 2004-08-19 2006-03-02 Dainippon Printing Co Ltd 光学補償偏光板
JP2012003003A (ja) * 2010-06-16 2012-01-05 Sony Corp 立体映像観察用光学素子、立体映像観察用眼鏡、立体映像表示システム
JP2012032527A (ja) * 2010-07-29 2012-02-16 Fujifilm Corp 偏光眼鏡
JP2013020079A (ja) * 2011-07-11 2013-01-31 Yamamoto Kogaku Co Ltd ３ｄ鑑賞用の円偏光レンズ、およびそれを使用したグラス
WO2018021486A1 (ja) * 2016-07-28 2018-02-01 富士フイルム株式会社 眼鏡用レンズおよび眼鏡
JP2020518007A (ja) * 2017-04-28 2020-06-18 エルジー・ケム・リミテッド 光変調デバイス
WO2019208299A1 (ja) * 2018-04-25 2019-10-31 住友化学株式会社 偏光板
US20200249475A1 (en) * 2019-02-05 2020-08-06 Facebook Technologies, Llc Waveplates on a curved surface and fabrication method thereof

Also Published As

Publication number Publication date
US12032193B2 (en) 2024-07-09
US12222532B2 (en) 2025-02-11
CN116057434A (zh) 2023-05-02
JP7666513B2 (ja) 2025-04-22
JPWO2022030482A1 (ja) 2022-02-10
US20230176270A1 (en) 2023-06-08
US20240310564A1 (en) 2024-09-19

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR100565387B1 (ko) 마이크로렌즈 어레이, 마이크로렌즈 어레이용 전사 원형 제조 방법, 이러한 전사 원형으로부터 얻어진 요철 패턴, 전사용 적층체, 확산 반사판 및 액정 디스플레이 장치
CN101512391B (zh) 双折射液晶单元的制造方法
KR101782653B1 (ko) 방현 필름 및 액정 표시 장치
CN101271217B (zh) 液晶显示装置及其中使用的偏光板组
WO2009118820A1 (ja) 防眩性膜及びその製造方法
KR20190128621A (ko) 방현성 필름 및 표시 장치
TW200809274A (en) Glare-proof polarizing film laminate and liquid crystal display comprising the same
TW201544878A (zh) 波長轉換構件、背光單元、偏光板、液晶面板及液晶顯示裝置
JP2003302532A (ja) 偏光板およびその製造方法
WO2011058904A1 (ja) 光学部材、製造方法、偏光板複合体及び液晶表示装置
CN101042491A (zh) 液晶显示器和其中使用的防眩偏振膜层压材料
JP7511125B2 (ja) 光学素子、及びその製造方法
JP6585342B2 (ja) 防眩性フィルム、防眩性偏光板及び画像表示装置
KR20150096394A (ko) 방현성 편광판 및 화상 표시 장치
WO2024024409A1 (ja) 積層板および光学素子
JP2025175122A (ja) 画像表示用導光板
KR101998311B1 (ko) 반사방지 필름
WO2022030482A1 (ja) 光学素子、及びその製造方法
JP7613470B2 (ja) 光学素子
JP7631787B2 (ja) 画像表示用導光板
WO2020071256A1 (ja) ワイヤグリッド型偏光子
WO2025057940A1 (ja) 光学素子
TW202345654A (zh) 光學薄膜之評估方法
CN118688894A (zh) 偏光板和光学显示设备
JP2025103366A (ja) 光学素子及び光学素子の製造方法

Legal Events

Date Code Title Description
121 Ep: the epo has been informed by wipo that ep was designated in this application

Ref document number: 21853752

Country of ref document: EP

Kind code of ref document: A1

ENP Entry into the national phase

Ref document number: 2022541562

Country of ref document: JP

Kind code of ref document: A

NENP Non-entry into the national phase

Ref country code: DE

122 Ep: pct application non-entry in european phase

Ref document number: 21853752

Country of ref document: EP

Kind code of ref document: A1