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WO2020209033A1 - ガラスパネルユニットの製造方法、及びガラスパネルユニットの組立て品 - Google Patents

ガラスパネルユニットの製造方法、及びガラスパネルユニットの組立て品 Download PDF

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WO2020209033A1
WO2020209033A1 PCT/JP2020/012475 JP2020012475W WO2020209033A1 WO 2020209033 A1 WO2020209033 A1 WO 2020209033A1 JP 2020012475 W JP2020012475 W JP 2020012475W WO 2020209033 A1 WO2020209033 A1 WO 2020209033A1
Authority
WO
WIPO (PCT)
Prior art keywords
glass plate
space
low emissivity
glass
panel unit
Prior art date
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Ceased
Application number
PCT/JP2020/012475
Other languages
English (en)
French (fr)
Inventor
将 石橋
瓜生　英一
長谷川　和也
阿部　裕之
野中　正貴
清水　丈司
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Panasonic Intellectual Property Management Co Ltd
Original Assignee
Panasonic Intellectual Property Management Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
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Priority to JP2021513543A priority Critical patent/JP7340765B2/ja
Priority to US17/602,342 priority patent/US12139963B2/en
Priority to EP20787484.3A priority patent/EP3954664B1/en
Publication of WO2020209033A1 publication Critical patent/WO2020209033A1/ja
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Ceased legal-status Critical Current

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    • C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
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    • C03C27/06—Joining glass to glass by processes other than fusing
    • C03C27/10—Joining glass to glass by processes other than fusing with the aid of adhesive specially adapted for that purpose
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    • C03C17/34—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions
    • C03C17/36—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions at least one coating being a metal
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    • C03C27/00—Joining pieces of glass to pieces of other inorganic material; Joining glass to glass other than by fusing
    • C03C27/06—Joining glass to glass by processes other than fusing
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    • Y02B80/00—Architectural or constructional elements improving the thermal performance of buildings
    • Y02B80/22—Glazing, e.g. vaccum glazing

Definitions

  • the present disclosure relates to a method for manufacturing a glass panel unit and an assembled product of the glass panel unit, and more particularly to a method for manufacturing a glass panel unit for heat insulation and an assembled product for manufacturing the glass panel unit.
  • Patent Document 1 describes a first panel, a second panel, a frame-shaped sealing material that airtightly adheres the first panel and the second panel, and the first panel and the second panel.
  • a glass panel unit including a spacer provided in a decompression space (vacuum space) between them is disclosed.
  • the spacer includes a resin body and at least one UV protection layer provided on the surface of the body.
  • the spacer contains an ultraviolet protective layer, which suppresses the decomposition of the resin component constituting the main body by ultraviolet rays, and makes it difficult to generate gas due to this decomposition in the vacuum space.
  • An object of the present disclosure is to provide a method for manufacturing a glass panel unit and an assembled product of the glass panel unit, which can improve the heat insulating property of the glass panel unit.
  • the method for manufacturing a glass panel unit includes an assembly process, a joining process, an exhaust process, and a sealing process.
  • the assembly process is a process of preparing an assembled product.
  • the assembled product includes a first glass plate, a second glass plate, a peripheral wall, an internal space, a partition, an exhaust port, and a ventilation path.
  • the second glass plate faces the first glass plate.
  • the peripheral wall has a frame shape and is located between the first glass plate and the second glass plate.
  • the internal space is surrounded by the first glass plate, the second glass plate, and the peripheral wall.
  • the partition divides the internal space into a first space and a second space.
  • the exhaust port connects the second space and the external space.
  • the ventilation path connects the first space and the second space.
  • the first glass plate and the second glass plate includes a low emissivity film.
  • the low emissivity film is in the first space.
  • the joining step is a step of melting the peripheral wall and airtightly joining the first glass plate and the second glass plate at the peripheral wall.
  • the exhaust step is a step of exhausting the first space through the ventilation path, the second space, and the exhaust port.
  • the sealing step is a step of deforming the partition at a temperature equal to or higher than the softening point of the partition to close the ventilation path.
  • the assembled product of the glass panel unit is an assembled product for manufacturing the glass panel unit.
  • the assembled product includes a first glass plate, a second glass plate, a peripheral wall, an internal space, a partition, an exhaust port, and a ventilation path.
  • the second glass plate faces the first glass plate.
  • the peripheral wall has a frame shape and is located between the first glass plate and the second glass plate.
  • the internal space is surrounded by the first glass plate, the second glass plate, and the peripheral wall.
  • the partition divides the internal space into a first space and a second space.
  • the exhaust port connects the second space and the external space.
  • the ventilation path connects the first space and the second space.
  • One or both of the first glass plate and the second glass plate includes a low emissivity film.
  • the low emissivity film is in the first space.
  • the low emissivity film before melting the peripheral wall is heated at a heating rate of 4 ° C./min, the low emissivity film releases a rare gas at 100 ° C. at a temperature at which the partition is deformed.
  • the ratio of the amount of rare gas released by the low emissivity film is 2.0 or less.
  • FIG. 1 is a schematic plan view of a work-in-process of one embodiment.
  • FIG. 2 is a cross-sectional view taken along the line AA of the work-in-process of FIG.
  • FIG. 3 is a schematic plan view of the assembled product of the above embodiment.
  • FIG. 4 is an explanatory diagram of a method for manufacturing the glass panel unit of the above embodiment.
  • FIG. 5 is an explanatory diagram of a method for manufacturing the glass panel unit of the above embodiment.
  • FIG. 6 is an explanatory diagram of a method for manufacturing the glass panel unit of the above embodiment.
  • FIG. 7 is an explanatory diagram of a method for manufacturing the glass panel unit of the above embodiment.
  • FIG. 8 is an explanatory diagram of a method for manufacturing the glass panel unit of the above embodiment.
  • FIG. 1 is a schematic plan view of a work-in-process of one embodiment.
  • FIG. 2 is a cross-sectional view taken along the line AA of the work-in-process of FIG.
  • FIG. 9 is an explanatory diagram of a method for manufacturing the glass panel unit of the above embodiment.
  • FIG. 10 is an explanatory diagram of a method for manufacturing the glass panel unit of the above embodiment.
  • FIG. 11 is a schematic plan view of the glass panel unit of the above embodiment.
  • FIG. 12 is a sectional view taken along line BB of the glass panel unit of FIG.
  • FIG. 13 is a schematic perspective view showing a method of collecting a low emissivity film from a glass plate.
  • FIG. 14 is a schematic view of a facility for evaluating low emissivity membranes.
  • FIG. 15 is an example of the evaluation result of the low emissivity film, and is a graph showing the relationship between the partial pressure of argon released from the low emissivity film by heating and the heating temperature.
  • the glass panel unit has heat insulating properties by forming a vacuum space between two glass plates. It is considered that the heat insulating property of such a glass panel unit is lowered by any of the following (1) to (3) even if there is a vacuum space between the two glass plates.
  • the low emissivity film provided on the glass plate easily transmits infrared rays.
  • the spacer that maintains the distance between the two glass plates transfers heat.
  • the spacer deteriorates and releases gas into the vacuum space.
  • gas remaining in the low emissivity film is released from the low emissivity film into the vacuum space during the manufacture of the glass panel unit. I found. Moreover, it was discovered that this gas contains a rare gas that the getter material does not easily adsorb. When a rare gas is present in the vacuum space, the heat transfer of the rare gas tends to make it difficult to improve the heat insulating property of the glass panel unit.
  • the inventors have reached the present disclosure in order to make it difficult to release at least a rare gas from the low emissivity film into the vacuum space and to improve the heat insulating property of the glass panel unit.
  • the manufacturing method of the glass panel unit 10 includes an assembly step (see FIGS. 4 to 6), a joining step (first melting step, see FIG. 7), an exhaust step (see FIG. 7), and a sealing step (second).
  • the melting step see FIG. 7), and the like.
  • the assembly process is a process of preparing the assembled product 100 shown in FIG.
  • the assembled product 100 includes a first glass plate 200, a second glass plate 300, a peripheral wall 410, an internal space 500, a partition 420, an exhaust port 700, and a ventilation passage 600.
  • the second glass plate 300 faces the first glass plate 200.
  • the peripheral wall 410 has a frame shape and is located between the first glass plate 200 and the second glass plate 300.
  • the internal space 500 is surrounded by a first glass plate 200, a second glass plate 300, and a peripheral wall 410.
  • the partition 420 divides the internal space 500 into a first space 510 and a second space 520.
  • the exhaust port 700 connects the second space 520 and the external space.
  • the ventilation path 600 connects the first space 510 and the second space 520.
  • One or both of the first glass plate 200 and the second glass plate 300 includes a low emissivity film 22.
  • the low emissivity film 22 is in the first space 510.
  • the joining step is a step of melting the peripheral wall 410 and airtightly joining the first glass plate 200 and the second glass plate 300 at the peripheral wall 410.
  • the exhaust step is a step of exhausting the first space 510 through the ventilation passage 600, the second space 520, and the exhaust port 700.
  • the sealing step is a step of deforming the partition 420 at a temperature equal to or higher than the softening point of the partition 420 to close the air passage 600.
  • the amount of release of the rare gas by the low emissivity membrane 22 after the partition 420 is deformed to block the air passage 600 can be reduced.
  • the amount of rare gas in the first space 510 after exhaust can be reduced, and the heat transfer by the rare gas in the first space 510 can be reduced, so that the heat insulating property of the glass panel unit 10 can be improved.
  • This manufacturing method is a method of manufacturing the glass panel unit 10.
  • the manufacturing method includes a preparation process and a removal process.
  • the preparation process is a process of preparing the work-in-process 110 shown in FIGS. 1 and 2.
  • the work-in-process 110 is formed from the assembly 100 shown in FIG. That is, the work-in-process 110 is an intermediate product for manufacturing the glass panel unit 10 (see FIG. 11), and the assembly product 100 is an intermediate product for manufacturing the work-in-process 110.
  • the preparation step includes an assembly step (see FIGS. 4 to 6), a first melting step (see FIG. 7), an exhaust step (see FIG. 7), and a second melting step (see FIG. 7).
  • the assembly process is a process of preparing the assembled product 100.
  • the assembled product 100 includes a first glass plate 200, a second glass plate 300, a peripheral wall 410, and a partition 420. Further, the assembled product 100 has an internal space 500 surrounded by the first and second glass plates 200 and 300 and the peripheral wall 410. Further, the assembled product 100 includes a gas adsorbent 60 and a plurality of spacers (pillars) 70 in the internal space 500. Further, the assembly 100 includes an exhaust port 700.
  • the first glass plate (first glass substrate) 200 is a member that is the basis of the first glass plate 20 described later, and is made of the same material as the first glass plate 20.
  • the second glass plate (second glass substrate) 300 is a member that is the basis of the second glass plate 30 described later, and is made of the same material as the second glass plate 30.
  • the first and second glass plates 200 and 300 have the same planar shape.
  • the first glass plate 200 has a size capable of forming at least one first glass plate 20 described later
  • the second glass plate 300 has at least one second glass plate 30 described later. It has a size that can be formed.
  • the first and second glass plates 200 and 300 are both polygonal (rectangular in this embodiment) flat plate.
  • the first glass plate 200 includes a main body 203 and a low emissivity film 22.
  • the low emissivity film 22 is in the internal space 500 and covers the main body 203.
  • the low emissivity film 22 is in contact with the main body 203.
  • the low emissivity film 22 is also called an infrared reflective film, and although it has translucency, it does not easily transmit infrared rays. Therefore, the low emissivity film 22 can improve the heat insulating property of the glass panel unit 10.
  • the low emissivity film 22 is, for example, a thin film made of metal.
  • the low emissivity film 22 contains, for example, silver.
  • An example of the low radiation film 22 is a Low-E film.
  • the low emissivity film 22 can be formed on the surface of the main body 203 by a thin film forming method such as sputtering.
  • a thin film forming method such as sputtering.
  • the low emissivity film 22 is formed under a rare gas atmosphere such as argon, for example, a metal layer containing silver and a dielectric containing a metal oxide such as zinc oxide. It is formed as a multi-layer film in which body layers are alternately laminated.
  • the rare gas include helium, krypton, and xenon, but argon is inexpensive and useful for sputtering.
  • the low emissivity film 22 releases a large amount of rare gas into the vacuum space 50 described later when the low emissivity film 22 is heated. There is.
  • the rare gas is a component that is not easily adsorbed by the gas adsorbent 60, the degree of vacuum in the vacuum space 50 described later tends to decrease. As a result, the heat transfer of the rare gas tends to reduce the heat insulating property of the glass panel unit 10. Therefore, the low emissivity film 22 of the present embodiment has a property of satisfying the following relationship between the release amount (c1) and the release amount (c2).
  • the ratio of the release amount (c1) to the release amount (c2) is. It is 2.0 or less.
  • the release amount (c1) is the release amount at which the low emissivity film 22 releases the rare gas at the temperature at which the partition 420 is deformed.
  • the release amount (c2) is the release amount at which the low emissivity film 22 releases a rare gas at 100 ° C.
  • the temperature at which the partition 420 is deformed is the second melting temperature Tm2 described later.
  • the second melting temperature Tm2 is higher than 100 ° C.
  • the partition 420 Since the low emissivity film 22 has a property of satisfying the relationship between the release amount (c1) and the release amount (c2), the partition 420 is deformed to block the air passage 600, and then the rare gas is released from the low emissivity film 22. It can be difficult. That is, the amount of rare gas in the vacuum space 50 described later can be reduced.
  • the ratio of the release amount (c1) to the release amount (c2) is preferably 1.7 or less, more preferably 1.5 or less, still more preferably 1.3 or less, and even more preferably. Is 1.0 or less.
  • the amount released (c1) is particularly preferably smaller than the amount released (c2).
  • the method for measuring the amount of release (c1) and the amount of release (c2) is as described in Examples described later. In measuring the release amount (c1) and the release amount (c2), the low emissivity film 22 collected until the main body 203 is exposed is used as a sample. That is, both the released amount (c1) and the released amount (c2) are the amounts of the rare gas released from the entire sample.
  • the first glass plate 200 includes the main body 203.
  • the main body 203 has a rectangular flat plate shape because it constitutes the main shape of the first glass plate 200.
  • the material of the main body 203 is, for example, soda lime glass, high strain point glass, chemically tempered glass, non-alkali glass, quartz glass, neoserum, and physically tempered glass.
  • the second glass plate 300 includes the main body 303.
  • the main body 303 has a rectangular flat plate shape because it constitutes the main shape of the second glass plate 300.
  • the main body 303 has the same shape as the main body 203.
  • the second glass plate 300 is composed of only the main body 303, but may include a low radiation film similar to the low radiation film 22 in addition to the main body 303.
  • the second glass plate 300 includes a low emissivity film
  • the low emissivity film covers the main body 303 and is in contact with the main body 303 in the internal space 500.
  • the material of the main body 303 is, for example, soda lime glass, high strain point glass, chemically tempered glass, non-alkali glass, quartz glass, neoserum, and physically tempered glass.
  • the peripheral wall 410 contains a first sealing material (first thermal adhesive).
  • the peripheral wall 410 is arranged between the first glass plate 200 and the second glass plate 300.
  • the peripheral wall 410 has a frame shape.
  • the peripheral wall 410 has a rectangular frame shape.
  • the peripheral wall 410 is formed along the outer periphery of the first and second glass plates 200 and 300. As a result, in the assembled product 100, an internal space 500 surrounded by the peripheral wall 410, the first glass plate 200, and the second glass plate 300 is formed.
  • the first thermal adhesive is, for example, glass frit.
  • a glass frit is a low melting point glass frit.
  • low melting point glass frit include bismuth-based glass frit, lead-based glass frit, and vanadium-based glass frit.
  • the first thermal adhesive is not limited to the glass frit, and may be, for example, a low melting point metal or a hot melt adhesive.
  • the partition 420 contains a second sealing material (second thermal adhesive).
  • the partition 420 is arranged in the internal space 500.
  • the partition 420 divides the internal space 500 into a first space 510 and a second space (ventilation space) 520. Therefore, the first space 510 is a space exhausted in the exhaust process, and the second space 520 is a space used for exhausting the first space 510.
  • the partition 420 is provided on the first end side in the length direction (horizontal direction in FIG. 3) of the second glass plate 300 with respect to the center of the second glass plate 300 so that the first space 510 is larger than the second space 520. It is formed (on the right end side in FIG. 3).
  • the partition 420 has a linear shape along the width direction (vertical direction in FIG. 3) of the second glass plate 300. However, both ends of the partition 420 in the length direction are not in contact with the peripheral wall 410.
  • the second thermal adhesive is, for example, glass frit.
  • a glass frit is a low melting point glass frit.
  • low melting point glass frit include bismuth-based glass frit, lead-based glass frit, and vanadium-based glass frit.
  • the second thermal adhesive is not limited to the glass frit, and may be, for example, a low melting point metal or a hot melt adhesive.
  • the same first heat adhesive and second heat adhesive are used. That is, the first sealing material and the second sealing material are the same material.
  • the ventilation passage 600 connects the first space 510 and the second space 520 within the internal space 500.
  • the vent 600 includes a first vent 610 and a second vent 620.
  • the first air passage 610 is a gap interposed between the first end (upper end of FIG. 3) of the partition 420 and the peripheral wall 410.
  • the second ventilation passage 620 is a gap interposed between the second end (lower end of FIG. 3) of the partition 420 and the peripheral wall 410.
  • the exhaust port 700 is a hole connecting the second space 520 and the external space.
  • the exhaust port 700 is used to exhaust the first space 510 through the second space 520 and the air passage 600 (the first air passage 610 and the second air passage 620). Therefore, the ventilation path 600, the second space 520, and the exhaust port 700 form an exhaust path for exhausting the first space 510.
  • the exhaust port 700 is formed in the second glass plate 300 so as to connect the second space 520 and the external space. Specifically, the exhaust port 700 is located at a corner of the second glass plate 300.
  • the gas adsorbent 60 and the plurality of spacers 70 are arranged in the first space 510.
  • the gas adsorbent 60 is formed on the second end side (left end side in FIG. 4) of the second glass plate 300 in the length direction along the width direction of the second glass plate 300. That is, the gas adsorbent 60 is arranged at the end of the first space 510 (vacuum space 50). By doing so, the gas adsorbent 60 can be made inconspicuous. Further, the gas adsorbent 60 is located at a position away from the partition 420 and the ventilation path 600. Therefore, it is possible to reduce the possibility that the gas adsorbent 60 interferes with the exhaust when the first space 510 is exhausted.
  • the assembly process in order to obtain the assembled product 100, the first glass plate 200, the second glass plate 300, the peripheral wall 410, the partition 420, the internal space 500, the ventilation path 600, the exhaust port 700, the gas adsorbent 60, and a plurality of pieces. This is a step of forming the spacer 70.
  • the assembly process includes first to sixth steps. The order of the second to fifth steps may be changed as appropriate.
  • the first step is a step of forming the first glass plate 200 and the second glass plate 300 (substrate forming step).
  • first glass plate 200 and the second glass plate 300 are manufactured.
  • the second step is a step of forming the exhaust port 700.
  • an exhaust port 700 is formed on the second glass plate 300. Further, in the second step, the second glass plate 300 is washed as needed.
  • the third step is a step of forming the spacer 70 (spacer forming step) (see FIG. 4).
  • a plurality of spacers 70 are formed in advance, and the plurality of spacers 70 are arranged at predetermined positions on the second glass plate 300 by using a chip mounter or the like.
  • the plurality of spacers 70 are used to maintain the interval between the first and second glass plates 200 and 300 at a predetermined interval in a state where the assembled product 100 becomes a work-in-process 110.
  • Examples of the material constituting such a spacer 70 include metal, glass, and resin.
  • the spacer 70 may contain one or more of these materials.
  • the spacer 70 is formed in advance and arranged on the second glass plate 300, but a plurality of spacers 70 are formed on the second glass plate 300 by using a well-known thin film forming technique. It may be formed to 300.
  • the spacer 70 contains a resin
  • the plurality of spacers 70 may be formed by using a photolithography technique and an etching technique as a method different from the above-mentioned forming method.
  • the plurality of spacers 70 can be formed by using a photocurable material or the like.
  • Each spacer 70 is a columnar shape having a height substantially equal to the predetermined interval.
  • the spacer 70 has a diameter of 1 mm and a height of 100 ⁇ m.
  • Each spacer 70 may have a desired shape such as a prismatic shape or a spherical shape.
  • the fourth step is a step of forming the gas adsorbent 60 (gas adsorbent forming step) (see FIG. 4).
  • the gas adsorbent 60 is formed by applying a solution in which the powder of the getter material is dispersed to a predetermined position on the second glass plate 300 and drying it using a dispenser or the like.
  • the gas adsorbent 60 has a getter material.
  • the getter material is a material having the property of adsorbing molecules smaller than a predetermined size.
  • the getter material is, for example, an evaporation type getter material.
  • the evaporative getter material has a property of releasing adsorbed molecules when the temperature exceeds a predetermined temperature (activation temperature). Therefore, even if the adsorption capacity of the evaporative getter material is reduced, the adsorption capacity of the evaporative getter material can be restored by heating the evaporative getter material to the activation temperature or higher.
  • the evaporative getter material is, for example, a zeolite or an ion-exchanged zeolite (eg, a copper ion-exchanged zeolite).
  • the gas adsorbent 60 includes the powder of this getter material.
  • the gas adsorbent 60 is a liquid containing the powder of the getter material (for example, a dispersion obtained by dispersing the powder of the getter material in the liquid or the powder of the getter material is dissolved in the liquid. It is formed by applying the obtained solution) and solidifying it.
  • the gas adsorbent 60 can be made smaller. Therefore, the gas adsorbent 60 can be arranged even if the first space 510 is narrow.
  • the fifth step is a step of arranging the peripheral wall 410 and the partition 420 (sealing material arranging step).
  • the first sealing material is applied onto the second glass plate 300 using a dispenser or the like, and then the first sealing material is dried to form the peripheral wall 410 (see FIG. 4).
  • the second sealing material is applied onto the second glass plate 300 using a dispenser or the like, and then the second sealing material is dried to form a partition 420 (see FIG. 5).
  • the second glass plate 300 as shown in FIG. 5 can be obtained.
  • the second glass plate 300 is formed with a peripheral wall 410, a partition 420, a ventilation path 600, an exhaust port 700, a gas adsorbent 60, and a plurality of spacers 70.
  • the sixth step is a step (placement step) of arranging the first glass plate 200 and the second glass plate 300.
  • the first glass plate 200 and the second glass plate 300 are arranged so as to be parallel to each other and face each other.
  • the assembled product 100 shown in FIG. 3 can be obtained. Then, after the assembly step, a first melting step (joining step), an exhaust step, and a second melting step (sealing step) are executed as shown in FIG.
  • the first melting step is a step of melting the peripheral wall 410 once and airtightly joining the first glass plate 200 and the second glass plate 300 at the peripheral wall 410.
  • the first glass plate 200 and the second glass plate 300 are arranged in the melting furnace and heated at the first melting temperature Tm1 for a predetermined time (first melting time) tm1 (see FIG. 7).
  • first melting time first melting time
  • the softening point (first softening point) of the first sealing material is the second sealing material. It is the same as the softening point (second softening point) of. Therefore, the first melting temperature Tm1 is set to be equal to or higher than the first and second softening points.
  • the exhaust step is started after the first melting step (see FIG. 7). Therefore, in the first melting step, the partition 420 blocks the ventilation path 600. There is no. That is, the ventilation path 600 is secured in the first melting step.
  • the first melting temperature Tm1 is set to 440 ° C.
  • the first melting time tm1 is, for example, 10 minutes.
  • the embodiment in which the first softening point is the same as the second softening point is not only the embodiment in which the first softening point is exactly the same as the second softening point, but also the first softening point is the second softening point. Also includes aspects that are substantially the same as.
  • the peripheral wall 410 By heating the peripheral wall 410 at the first melting temperature Tm1, the peripheral wall 410 can be softened while suppressing the deformation of the partition 420. As a result, the peripheral wall 410 makes it easy to airtightly join the first glass plate 200 and the second glass plate 300.
  • the exhaust process is a process of exhausting the first space 510 through the ventilation passage 600, the second space 520, and the exhaust port 700 to make the first space 510 a vacuum space 50.
  • Exhaust is performed using, for example, a vacuum pump.
  • the vacuum pump is connected to the assembly 100 by an exhaust pipe 810 and a seal head 820, as shown in FIG.
  • the exhaust pipe 810 is joined to the second glass plate 300 so that the inside of the exhaust pipe 810 and the exhaust port 700 communicate with each other, for example.
  • a seal head 820 is attached to the exhaust pipe 810, whereby the intake port of the vacuum pump is connected to the exhaust port 700.
  • the first melting step, the exhaust step, and the second melting step are performed with the assembled product 100 placed in the melting furnace. Therefore, the exhaust pipe 810 is joined to the second glass plate 300 at least before the first melting step.
  • the first space 510 is exhausted through the ventilation passage 600, the second space 520, and the exhaust port 700 for a predetermined time (exhaust time) te or more at an exhaust temperature Te or higher.
  • the exhaust temperature Te is higher than the activation temperature (for example, 350 ° C.) of the getter material (getter material fine powder) of the gas adsorbent 60 and lower than the second softening point (for example, 434 ° C.) of the second sealing material.
  • the exhaust temperature Te is 390 ° C. In this way, the partition 420 is not deformed even in the exhaust process.
  • the getter material of the gas adsorbent 60 is activated, and the molecules (gas) adsorbed by the getter material are released from the getter material. Further, at least a rare gas is released from the low emissivity membrane 22. Then, the gas released from the getter material and the low emissivity membrane 22 is discharged through the first space 510, the ventilation passage 600, the second space 520, and the exhaust port 700. By exhausting the gas released from the getter material by the exhaust process, the adsorption capacity of the gas adsorbent 60 is restored.
  • the exhaust time te is set so that a vacuum space 50 having a desired vacuum degree (for example, a vacuum degree of 0.1 Pa or less) can be obtained. For example, the exhaust time te is set to 120 minutes.
  • the second melting step is a step of forming the partition wall 42 by deforming the partition 420 and closing at least the ventilation passage 600 to obtain the work-in-process 110. That is, in the second melting step, the partition 420 is deformed to close the ventilation passage 600. In other words, the first space 510 is closed by the deformed partition 420, and the first space 510 and the second space 520 are separated. As a result, the frame 40 surrounding the vacuum space 50 is formed (see FIG. 9). In the present embodiment, the partition 420 is deformed so that both ends of the partition 420 in the length direction are in contact with the peripheral wall 410 and become one. As a result, as shown in FIG.
  • a partition wall 42 that airtightly separates the internal space 500 into the first space 510 (vacuum space 50) and the second space 520 is formed. More specifically, the partition 420 is deformed by temporarily melting the partition 420 at a predetermined temperature (second melting temperature) Tm2 equal to or higher than the second softening point of the second sealing material. Specifically, the first glass plate 200 and the second glass plate 300 are heated in the melting furnace at the second melting temperature Tm2 for a predetermined time (second melting time) tm2 (see FIG. 7). The second melting temperature Tm2 and the second melting time tm2 are set so that the partition 420 is softened and the ventilation path 600 is closed.
  • second melting temperature Tm2 and the second melting time tm2 are set so that the partition 420 is softened and the ventilation path 600 is closed.
  • the lower limit of the second melting temperature Tm2 is the second softening point (for example, 434 ° C.).
  • the second melting temperature Tm2 is set to, for example, 460 ° C.
  • the second melting time tm2 is, for example, 30 minutes.
  • the exhaust step is started after the first melting step and ends when the second melting step is completed. Therefore, during the second melting step, the first space 510 is exhausted through the ventilation passage 600, the second space 520, and the exhaust port 700. Therefore, a pressure difference between the inside and outside of the assembled product 100 is generated, and the pressure difference causes the first and second glass plates 200 and 300 to move so as to approach each other.
  • the partition 420 is deformed and the ventilation passage 600 is deformed while exhausting the first space 510 through the ventilation passage 600, the second space 520, and the exhaust port 700 at the second melting temperature Tm2.
  • a partition wall 42 is formed to close the space.
  • the low emissivity film 22 releases the rare gas into the first space 510. ..
  • the first space 510 is exhausted until the ventilation path 600 is closed, the rare gas is also exhausted.
  • the first space 510 becomes a vacuum space 50 and is not exhausted, but the low emissivity membrane 22 is heated in the melting furnace. Therefore, since the low emissivity film 22 has a property of satisfying the relationship between the release amount (c1) and the release amount (c2), it becomes difficult for the rare gas to be released into the first space 510, and the degree of vacuum in the vacuum space 50 decreases. It becomes difficult to do. Therefore, since heat transfer due to the rare gas in the vacuum space 50 is reduced, the heat insulating property of the glass panel unit 10 can be improved.
  • the temperature in the melting furnace is cooled to room temperature at a constant speed. Then, by removing the seal head 820, the second melting step and the exhaust step are completed.
  • the amount of release (c3) at which the low emissivity film 22 is heated in the melting furnace to release the rare gas after the air passage 600 is closed is when the distance between the first and second glass plates 200 and 300 is 50 ⁇ m or less. , 5.0 ⁇ 10-5 Pa ⁇ m 3 / m 2 or less is preferable.
  • the emission amount (c3) may be 1.0 ⁇ 10 -4 Pa ⁇ m 3 / m 2 or less when the distance between the first and second glass plates 200 and 300 is wider than 50 ⁇ m and 100 ⁇ m or less. preferable.
  • the emission amount (c3) may be 2.0 ⁇ 10 -4 Pa ⁇ m 3 / m 2 or less when the distance between the first and second glass plates 200 and 300 is wider than 100 ⁇ m and 200 ⁇ m or less.
  • the amount released (c3) may be 3.0 ⁇ 10 -4 Pa ⁇ m 3 / m 2 or less when the distance between the first and second glass plates 200 and 300 is wider than 200 ⁇ m and 300 ⁇ m or less. preferable.
  • the release amount (c3) is not the amount that the low emissivity membrane 22 releases rare gas per unit time, but the low emissivity membrane 22 releases rare gas from the time when the air passage 600 is closed to the end of the second melting step. It is proportional to the amount of integration.
  • the release amount (c3) is the above-mentioned preferable amount, even if the low emissivity film 22 releases the rare gas after closing the ventilation path 600, the degree of vacuum in the vacuum space 50 is less likely to decrease. Therefore, heat transfer due to the rare gas in the vacuum space 50 can be reduced, and thereby the heat insulating property of the glass panel unit 10 can be improved.
  • the unit of the amount released (c3), [Pa ⁇ m 3 / m 2 ], indicates the partial pressure of the rare gas released from the low radiation film 22 having an area of 1 m 2 in the vacuum space 50 having a volume of 1 m 3 .
  • the work-in-process 110 shown in FIGS. 1 and 2 is obtained by the above-mentioned preparation step.
  • the work-in-process 110 includes a first glass plate 200, a second glass plate 300, a peripheral wall 410, and a partition wall 42. Further, the work-in-process 110 has a vacuum space 50 and a second space 520. Further, the work-in-process 110 includes a gas adsorbent 60 and a plurality of spacers (pillars) 70 in the vacuum space 50. Further, the work-in-process 110 includes an exhaust port 700.
  • the first and second glass plates 200 and 300 are both rectangular flat plates.
  • the first and second glass plates 200 and 300 have the same planar shape.
  • the first glass plate 200 includes a main body 203 and a low emissivity film 22.
  • the low emissivity film 22 is in the vacuum space 50 and covers the main body 203.
  • the low emissivity film 22 is in contact with the main body 203.
  • the main body 203 has a rectangular flat plate shape because it constitutes the main shape of the first glass plate 200.
  • the second glass plate 300 includes the main body 303.
  • the main body 303 has a rectangular flat plate shape because it constitutes the main shape of the second glass plate 300.
  • the main body 303 has the same shape as the main body 203.
  • the second glass plate 300 is composed of only the main body 303, but may include a low radiation film similar to the low radiation film 22 in addition to the main body 303.
  • the second glass plate 300 includes a low emissivity film, the low emissivity film covers the main body 303 and is in contact with the main body 303 in the vacuum space 50.
  • the partition wall 42 separates the vacuum space 50 (spatial) from the second space 520.
  • the partition wall 42 separates the vacuum space 50 and the external space.
  • the partition wall 42 and the peripheral wall 410 are integrated to form a frame 40 surrounding the vacuum space 50.
  • the frame body 40 completely surrounds the vacuum space 50 and airtightly joins the first glass plate 200 and the second glass plate 300.
  • the gas adsorbent 60 is arranged in the vacuum space 50. Specifically, the gas adsorbent 60 has a long flat plate shape and is arranged on the second glass plate 300.
  • the gas adsorbent 60 is used to adsorb unnecessary gas (residual gas or the like).
  • Unnecessary gas includes, for example, the gas released from the thermal adhesive and the low radiation film 22 when the thermal adhesive (first thermal adhesive and second thermal adhesive) to be the frame 40 is heated.
  • the rare gas is also an unnecessary gas, but it is less likely to be adsorbed by the gas adsorbent 60 than an unnecessary gas other than the rare gas.
  • the plurality of spacers 70 are arranged in the vacuum space 50.
  • the plurality of spacers 70 are used to maintain the distance between the first and second glass plates 200, 300 at a desired value.
  • the vacuum space 50 is formed by exhausting the first space 510 through the second space 520 and the exhaust port 700.
  • the vacuum space 50 is the first space 510 whose degree of vacuum is equal to or less than a predetermined value.
  • the predetermined value is, for example, 0.1 Pa. Since the vacuum space 50 is completely sealed by the first glass plate 200, the second glass plate 300, and the frame body 40, the vacuum space 50 is separated from the second space 520 and the exhaust port 700.
  • the removal process is performed after the preparatory process. As shown in FIG. 10, the removing step is a step of obtaining the glass panel unit 10 which is a portion having the vacuum space 50 by removing the portion 11 having the second space 520 from the work-in-process 110.
  • the glass panel unit 10 includes a first glass plate 20 and a second glass plate 30.
  • the first glass plate 20 is a portion of the first glass plate 200 corresponding to the first space 510 (vacuum space 50)
  • the second glass plate 30 is the first space 510 (vacuum) of the second glass plate 300. It is a part corresponding to the space 50).
  • the unnecessary portion 11 includes a portion 21 of the first glass plate 200 corresponding to the second space 520 and a portion 31 of the second glass plate 300 corresponding to the second space 520. Further, the unnecessary portion 11 includes a portion 411 of the peripheral wall 410 corresponding to the second space 520. Considering the manufacturing cost of the glass panel unit 10, it is preferable that the unnecessary portion 11 is small.
  • the work-in-process 110 taken out from the melting furnace is cut along the cutting line 900 shown in FIG. 1, and the portion (glass panel unit) 10 having the vacuum space 50 and the first It is divided into a portion (unnecessary portion) 11 having two spaces 520.
  • the shape of the cutting line 900 is determined by the shape of the glass panel unit 10. Since the glass panel unit 10 has a rectangular shape, the cutting line 900 is a straight line along the length direction of the partition wall 42. In particular, in this embodiment, the cutting line 900 passes over the partition wall 42. Specifically, the cutting line 900 passes through the center of the partition wall 42 in the width direction along the length direction of the partition wall 42.
  • the partition wall 42 is divided into two in the width direction thereof, one becomes a part of the frame body 40 of the glass panel unit 10, and the other is removed together with the unnecessary portion 11.
  • the cutting line 900 does not necessarily have to pass over the partition wall 42. For example, if the cutting line 900 passes between the partition wall 42 and the exhaust port 700, the glass panel unit 10 without the exhaust port 700 can be obtained. However, if the cutting line 900 is on the partition wall 42, the first and second glass plates 200 and 300 can be cut together with the partition wall 42, so that there is an advantage that the work of cutting the work-in-process 110 becomes easy. ..
  • the glass panel unit 10 shown in FIGS. 11 and 12 is obtained through the above-mentioned preparation step and removal step.
  • the glass panel unit 10 includes a first glass plate 20, a second glass plate 30, and a frame body 40. Further, the glass panel unit 10 has a vacuum space 50 surrounded by the first and second glass plates 20 and 30 and the frame body 40. Further, the glass panel unit 10 includes a gas adsorbent 60 and a plurality of spacers (pillars) 70 in the vacuum space 50.
  • the first and second glass plates 20 and 30 are both rectangular flat plates.
  • the first and second glass plates 20 and 30 have the same planar shape.
  • the first glass plate 20 includes a main body 23 and a low emissivity film 22.
  • the low emissivity film 22 is in the vacuum space 50 and covers the main body 23.
  • the main body 23 has a rectangular flat plate shape because it constitutes the main shape of the first glass plate 20. Further, since the first glass plate 20 is obtained by removing the unnecessary portion 21 of the first glass plate 200 by the removing step, the material of the main body 23 is the same as that of the main body 203.
  • the second glass plate 30 includes the main body 33.
  • the main body 33 has a rectangular flat plate shape because it constitutes the main shape of the second glass plate 30.
  • the main body 33 has the same shape as the main body 23. Since the second glass plate 30 has the unnecessary portion 31 of the second glass plate 300 removed by the removing step, the material of the main body 33 is the same as that of the main body 303.
  • the second glass plate 30 is composed of only the main body 33, but may include a low radiation film similar to the low radiation film 22 in addition to the main body 33. When the second glass plate 30 includes a low emissivity film, the low emissivity film covers the main body 33 and is in contact with the main body 33 in the vacuum space 50.
  • the frame body 40 is located between the first glass plate 20 and the second glass plate 30, and airtightly joins the first glass plate 20 and the second glass plate 30. As a result, the vacuum space 50 is surrounded by the first glass plate 20, the second glass plate 30, and the frame body 40.
  • the frame body 40 has a polygonal (square in this embodiment) frame shape similar to the first and second glass plates 20 and 30.
  • the frame body 40 is formed along the outer circumferences of the first and second glass plates 20 and 30.
  • the plurality of spacers 70 are arranged in the vacuum space 50.
  • the plurality of spacers 70 are used to maintain the distance between the first and second glass plates 20 and 30 at a desired value.
  • Examples 1 to 3 and Comparative Example 1 First, as the first glass plate 200 shown in FIG. 13, glass plates A, B, C, and D having different low emissivity films (Low-E films) 22 were prepared. Examples 1 to 3 and Comparative Example 1 were carried out using glass plates A, B, C and D, respectively. Each Low-E film 22 of the glass plates A, B, C, and D is a thin film containing silver and is formed by sputtering.
  • Example 1 As shown in FIG. 13, a Low-E film 22 having a size of 200 mm in width ⁇ 300 mm in length was collected from the glass plate A using the metal blade B1. Then, the Low-E film 22 was evaluated by the facility shown in FIG.
  • the facility shown in FIG. 14 is a glass panel unit manufacturing facility F1 equipped with a measuring device F2.
  • the manufacturing facility F1 includes a melting furnace H1, a seal head 820, exhaust passages 821 to 826, valves V1 to V6, pumps P1 to P3, and a manifold M1.
  • the exhaust passage 821 is in the melting furnace H1 and connects the seal head 820 and the piping included in the melting furnace H1.
  • the exhaust passage 822 is outside the melting furnace H1 and connects the exhaust passage 823 and the pipe included in the melting furnace H1.
  • the exhaust passage 823 connects the pump P1 and the exhaust passage 822.
  • a valve V1, a manifold M1, and a valve V2 are provided in the middle of the exhaust passage 823.
  • the exhaust passage 824 connects the exhaust passage 823 between the pump P1 and the valve V1 and the exhaust passage 823 between the valve V2 and the exhaust passage 822. Further, valves V3 and V4 are provided in the middle of the exhaust passage 824.
  • the exhaust passage 825 connects the pump P2 and the manifold M1, and a valve V5 is provided in the middle of the exhaust passage 825.
  • the exhaust passage 826 connects the pump P3 and the pump P2, and a valve V6 is provided in the middle of the exhaust passage 826.
  • the exhaust passage 821 is composed of flexible pipes, has an outer diameter of 8.5 mm, and has a length of 500 mm.
  • the exhaust passage 822 is composed of flexible pipes, has an outer diameter of 16.5 mm, and has a length of 800 mm.
  • the pump P1 is a dry pump (“DS251L” manufactured by Mitsubishi Heavy Industries, Ltd.).
  • the pump P2 is a turbo molecular pump (“TG220F” manufactured by Osaka Vacuum Equipment Mfg. Co., Ltd.).
  • the pump P3 is a rotary pump (“GLD-136A” manufactured by Cosmo Tech Co., Ltd.).
  • the exhaust passages other than the valves V1 to V6 and the manifold M1 are composed of pipes.
  • a valve V7 is provided between the manufacturing facility F1 and the measuring device F2, and the exhaust passage 827 connects the valve V7 and the exhaust passage 822.
  • the exhaust passage 827 is composed of pipes having an outer diameter of 40 mm and a length of 200 mm.
  • the measuring device F2 includes a measuring unit M2, a pump P4, and exhaust passages 828 and 829.
  • the exhaust passage 828 connects the valve V7 and the exhaust passage 829.
  • the exhaust passage 829 connects the exhaust passage 829 and the measuring unit M2.
  • the pump P4 is connected to the exhaust passage 829 at a position between the measuring unit M2 and the exhaust passage 828.
  • the exhaust passage 828 is composed of flexible pipes, has an outer diameter of 50 mm, and has a length of 600 mm.
  • the exhaust passage 829 is composed of pipes having an outer diameter of 40 mm and a length of 150 mm.
  • the pump P4 is a turbo molecular pump (“TMU071P” manufactured by Pfeiffer Vacuum Co., Ltd.).
  • the measuring unit M2 is a quadrupole mass spectrometer (Q-mass spectrometer, "BGM-202" manufactured by ULVAC, Inc.).
  • the Low-E film 22 collected from the glass plate A was enclosed in a soda glass tube 811 (outer diameter 5 mm, inner diameter 3 mm, length 70 mm) with one end closed (see FIG. 14). After this encapsulation, the soda glass tube 811 was attached to the seal head 820, and the seal head 820 was placed in the melting furnace H1. After this arrangement, the valves V3 to V7 were closed and the pump P1 was operated to exhaust the soda glass tube 811. After the operation of the pump P1, the pump P2 was operated, the valve V5 was opened, and the valve V1 was closed. As a result, the soda glass tube 811 was further exhausted.
  • the pump P2 After the operation of the pump P2, it was confirmed that the atmospheric pressure displayed by the barometer of the manifold M1 reached 1.0 ⁇ 10-5 Pa. After this confirmation, the pump P4 was operated and the valve V7 was opened. After the operation of the pump P4, the partial pressures of nitrogen and oxygen in the exhaust passage 829 were measured by the measuring unit M2. By calculating the partial pressure ratio of nitrogen and oxygen from these partial pressures, it is determined that the atmosphere does not flow into the exhaust passages 821,822,827,828,829 connecting the soda glass tube 811 and the measuring unit M2. did. After this judgment, it was confirmed that the air pressure in the exhaust passage 829 reached 1.0 ⁇ 10-5 Pa.
  • the partial pressure of argon in the exhaust passage 829 was continuously measured by the measuring unit M2 while raising the temperature in the melting furnace H1 from room temperature to 490 ° C. at a constant rate of 4 ° C./min. ..
  • the measurement results by the measuring unit M2 are shown in FIG. 15, and among the measurement results, the partial pressure of argon when the temperature in the melting furnace H1 is 100 ° C. and the partial pressure of argon when the temperature in the melting furnace H1 is 460 ° C. are shown later. Shown in Table 1 above.
  • Example 2 The Low-E film 22 is heated in the melting furnace H1 in the same manner as in the first embodiment except that the glass plate B is used as the first glass plate 200 shown in FIG. 13, and the amount of argon in the exhaust passage 829 is contained.
  • the pressure was measured by the measuring unit M2. The measurement results are shown in FIG. 15 and Table 1 below.
  • Example 3 The Low-E film 22 is heated in the melting furnace H1 in the same manner as in Example 1 except that the glass plate C is used as the first glass plate 200 shown in FIG. 13, and the amount of argon in the exhaust passage 829 is contained.
  • the pressure was measured by the measuring unit M2. The measurement results are shown in FIG. 15 and Table 1 below.
  • the partial pressure of argon at 460 ° C. is the release amount (c1) of the present embodiment
  • the partial pressure of argon at 100 ° C. is the release amount of the present embodiment (the release amount of argon). It was set to c2).
  • the internal space and the vacuum pump were connected by attaching a seal head to the exhaust pipe joined to the second glass plate so that the exhaust port and the inside of the exhaust pipe communicate with each other.
  • the assembled product was placed in the melting furnace. After this arrangement, the peripheral wall was once melted by heating the assembled product at 440 ° C. (first melting temperature) for 10 minutes. The air passage was not blocked at the time of this melting.
  • the temperature inside the melting furnace was lowered to the exhaust temperature of 390 ° C. Then, by operating the vacuum pump, the internal space was exhausted at 390 ° C. for 120 minutes.
  • the temperature inside the melting furnace was raised to the second melting temperature of 460 ° C. while the vacuum pump was still operating, and the assembled product was heated at this temperature for 30 minutes.
  • the partition was deformed to block the air passage to form a partition wall.
  • the temperature inside the melting furnace was lowered to room temperature. After this temperature decrease, the vacuum pump was stopped and the seal head was attached and detached. After attaching and detaching the seal head, a glass panel unit was manufactured by removing unnecessary parts by cutting.
  • a glass panel unit was produced in the same manner as in Production Example 1 except that the glass plate B was used as the first glass plate.
  • a glass panel unit was produced in the same manner as in Production Example 1 except that the glass plate C was used as the first glass plate.
  • a glass panel unit was produced in the same manner as in Production Example 1 except that the glass plate D was used as the first glass plate.
  • Thermal conductance of the glass panel unit of each production example was evaluated by the following procedure.
  • the high temperature part and the low temperature part of the measuring device are separated by the glass panel unit, the first thermometer is arranged on the outer surface of the first glass plate, and the second thermometer and the sensor are placed on the outer surface of the second glass plate. Placed.
  • the sensor detects the heat flux transmitted from the heating unit to the cooling unit via the glass panel unit, measures the surface temperature of the first glass plate with the first thermometer, and the second thermometer. The surface temperature of the second glass plate was measured in.
  • the heat conductance of the glass panel unit was calculated by introducing the heat flux, the surface temperature of the first glass plate, and the surface temperature of the second glass plate into the following equation (1).
  • Q C (T1-T2) ... (1)
  • Q indicates the heat flux (W / m 2 )
  • T1 indicates the surface temperature (K) of the first glass plate
  • T2 indicates the surface temperature (K) of the second glass plate
  • C Indicates thermal conductance (W / m 2 K).
  • Thermal conductance of Production Example 1 is 0.8 ⁇ 0.9W / m 2 K
  • thermal conductance of Production Example 2 are 1.13W / m 2 K
  • thermal conductance of preparation 3 0.7 W / m It was 2 K
  • the thermal conductance of Production Example 4 was 1.74 W / m 2 K.
  • each of the glass plates A, B, C and D was heated at 460 ° C., and the emissivity of each of the glass plates A, B, C and D after the heating was measured.
  • the emissivity of the glass plate A is 0.055 to 0.065
  • the emissivity of the glass plate B is 0.116
  • the emissivity of the glass plate C is 0.03 to 0.04.
  • the emissivity of the glass plate D was 0.062.
  • predicted values of thermal conductance of each production example were calculated from these emissivity.
  • the predicted value of Production Example 1 is 0.80 to 0.85 W / m 2 K
  • the predicted value of Production Example 2 is 1.10 W / m 2 K
  • the predicted value of Production Example 3 is 0. It was 68 to 0.73 W / m 2 K
  • the predicted value of Production Example 4 was 0.85 W / m 2 K.
  • both the first and second glass plates 200 and 300 may be provided with a low emissivity film. Therefore, both the first and second glass plates 20 and 30 may be provided with a low emissivity film.
  • the first glass plate 200 is provided with the low radiation film 22, and the second glass plate 300 is not provided with the low radiation film.
  • the second glass plate 300 does not have to have the low emissivity film 22, and the first glass plate 200 does not have to have the low emissivity film 22. Therefore, even in the modified glass panel unit 10, the second glass plate 30 does not have to have the low emissivity film 22 and the first glass plate 20 does not have to have the low emissivity film 22.
  • the low radiation film 22 is a gas such as hydrogen, nitrogen, hydrocarbon, and carbon dioxide in addition to the rare gas when heated. May be released. Since this gas is adsorbed by the gas adsorbent 60, the heat insulating property of the glass panel unit 10 is unlikely to deteriorate.
  • the exhaust step is started after the first melting step, but in the modified example, if the temperature in the melting furnace is lower than the first softening point after the first melting time tm1 has elapsed.
  • the exhaust step may be started in the middle of the first melting step.
  • the exhaust step ends at the end of the second melting step, but in the modified example, the exhaust step may start after the first melting step and end before the second melting step. ..
  • the glass panel unit 10 has a rectangular shape, but in the modified example, the glass panel unit 10 may have a desired shape such as a circular shape or a polygonal shape. That is, the first glass plate 20, the second glass plate 30, and the frame body 40 may have a desired shape such as a circular shape or a polygonal shape instead of a rectangular shape.
  • the shapes of the first glass plate 200, the second glass plate 300, the peripheral wall 410, and the partition 420 are not limited to the shapes of the above-described embodiments, and are shapes such that a glass panel unit 10 having a desired shape can be obtained. It should be.
  • the shape and size of the glass panel unit 10 are determined according to the use of the glass panel unit 10.
  • the first and second glass plates 20 and 30 do not have to have the same plane shape and plane size. Further, the main body 23 of the first glass plate 20 does not have to have the same thickness as the main body 33 of the second glass plate 30. Further, the main body 23 and the main body 33 do not have to be made of the same material. These points are the same for the first and second glass plates 200 and 300.
  • the peripheral wall 410 does not have to have the same planar shape as the first and second glass plates 200 and 300.
  • the peripheral wall 410 may include other elements such as a core material in addition to the first sealing material.
  • the partition 420 (partition wall 42) may include other elements such as a core material in addition to the second sealing material.
  • the peripheral wall 410 is only between the first and second glass plates 200 and 300, and these are not joined. However, at the stage of the assembled product 100, the peripheral wall 410 may join the first and second glass plates 200 and 300 to each other. In short, in the assembly 100, the peripheral wall 410 may be between the first and second glass plates 200 and 300, and it is not essential that these are joined.
  • the partition 420 is not in contact with the peripheral wall 410.
  • the gaps between both ends of the partition 420 and the peripheral wall 410 form the ventilation passages 610 and 620.
  • only one of both ends of the partition 420 may be connected to the peripheral wall 410, and in this case, one ventilation path 600 may be formed between the partition 420 and the peripheral wall 410.
  • both ends of the partition 420 may be connected to the peripheral wall 410.
  • the ventilation path 600 may be a through hole formed in the partition 420.
  • the ventilation path 600 may be a gap between the partition 420 and the first glass plate 200.
  • the partition 420 may be formed of two or more partitions arranged at intervals. In this case, the ventilation path 600 may be a gap interposed between two or more partitions.
  • the internal space 500 is divided into one first space 510 and one second space 520.
  • the internal space 500 may be divided into one or more first spaces 510 and one or more second spaces 520 by a partition 420.
  • two or more glass panel units 10 can be obtained from one work in process 110.
  • the air passage 600 includes two air passages 610 and 620, but the air passage 600 may be composed of only one air passage, or may be composed of three or more air passages. You may. Further, the shape of the ventilation path 600 is not particularly limited.
  • the exhaust port 700 is formed on the second glass plate 300.
  • the exhaust port 700 may be formed on the first glass plate 200, or may be formed on the portion 411 of the peripheral wall 410 corresponding to the second space 520. In short, the exhaust port 700 may be formed in the unnecessary portion 11.
  • the getter material in the gas adsorbent 60 is an evaporative getter, but the getter material may be a non-evaporative getter.
  • the first space 510 is a vacuum space 50, but a decompression space may be used instead of the vacuum space 50.
  • the decompression space is the first space 510 in the decompression state.
  • the decompressed state may be a state in which the pressure is lower than the atmospheric pressure.
  • the first aspect is a method for manufacturing a glass panel unit (10), which includes an assembly step, a joining step, an exhaust step, and a sealing step.
  • the assembly process is a process of preparing the assembled product (100).
  • the assembled product (100) includes a first glass plate (200), a second glass plate (300), a peripheral wall (410), an internal space (500), a partition (420), and an exhaust port (700). , A vent passage (600).
  • the second glass plate (300) faces the first glass plate (200).
  • the peripheral wall (410) has a frame shape and is located between the first glass plate (200) and the second glass plate (300).
  • the internal space (500) is surrounded by a first glass plate (200), a second glass plate (300), and a peripheral wall (410).
  • the partition (420) divides the internal space (500) into a first space (510) and a second space (520).
  • the exhaust port (700) connects the second space (520) and the external space.
  • the ventilation path (600) connects the first space (510) and the second space (520).
  • One or both of the first glass plate (200) and the second glass plate (300) includes a low emissivity film (22).
  • the low emissivity membrane (22) is in the first space (510).
  • the joining step is a step of melting the peripheral wall (410) and airtightly joining the first glass plate (200) and the second glass plate (300) at the peripheral wall (410).
  • the exhaust step is a step of exhausting the first space (510) through the ventilation passage (600), the second space (520), and the exhaust port (700).
  • the sealing step is a step of deforming the partition (420) at a temperature equal to or higher than the softening point of the partition (420) to close the air passage (600).
  • the partition (22) before melting the peripheral wall (410) is heated at a temperature rising rate of 4 ° C./min, the partition (22) with respect to the amount of release of the low emissivity film (22) at 100 ° C.
  • the ratio of the amount of release that the low emissivity film (22) releases rare gas at the temperature at which 420) deforms is 2.0 or less.
  • the first aspect it is possible to reduce the amount of release of the rare gas by the low emissivity membrane (22) after the partition (420) is deformed to block the air passage (600).
  • the amount of rare gas in the first space (510) after exhaust can be reduced, and heat transfer by the rare gas in the first space (510) can be reduced, so that the heat insulating property of the glass panel unit (10) can be improved. Can be improved.
  • the second aspect is the method for manufacturing the glass panel unit (10) of the first aspect, at a temperature at which the partition (420) is deformed with respect to the amount of release of the low emissivity film (22) at 100 ° C.
  • the ratio of the amount released by the low emissivity film (22) to release the rare gas is 1.5 or less.
  • the second aspect it is possible to reduce the amount of release of the rare gas by the low emissivity membrane (22) after the partition (420) is deformed to block the air passage (600).
  • the amount of rare gas in the first space (510) after exhaust can be reduced, and heat transfer by the rare gas in the first space (510) can be reduced, so that the heat insulating property of the glass panel unit (10) can be improved. Can be improved.
  • the third aspect is the method for manufacturing the glass panel unit (10) of the second aspect, at a temperature at which the partition (420) is deformed with respect to the amount of release of the low emissivity film (22) at 100 ° C.
  • the ratio of the amount released by the low emissivity film (22) to release the rare gas is 1.0 or less.
  • the third aspect it is possible to reduce the amount of release of the rare gas by the low emissivity membrane (22) after the partition (420) is deformed to block the air passage (600).
  • the amount of rare gas in the first space (510) after exhaust can be reduced, and heat transfer by the rare gas in the first space (510) can be reduced, so that the heat insulating property of the glass panel unit (10) can be improved. Can be improved.
  • the fourth aspect is the method for manufacturing the glass panel unit (10) of the third aspect, in which the low emissivity film (22) releases a rare gas at a temperature at which the partition (420) is deformed at 100 ° C.
  • the low emissivity membrane (22) releases less than the amount of rare gas released.
  • the fourth aspect it is possible to reduce the amount of release of the rare gas by the low emissivity membrane (22) after the partition (420) is deformed to block the air passage (600).
  • the amount of rare gas in the first space (510) after exhaust can be reduced, and heat transfer by the rare gas in the first space (510) can be reduced, so that the heat insulating property of the glass panel unit (10) can be improved. Can be improved.
  • the fifth aspect is the method for producing the glass panel unit (10) according to any one of the first to fourth aspects, and the rare gas contains argon.
  • the fifth aspect it is possible to reduce the amount of release of the rare gas by the low emissivity membrane (22) after the partition (420) is deformed to block the air passage (600).
  • the amount of rare gas in the first space (510) after exhaust can be reduced, and heat transfer by the rare gas in the first space (510) can be reduced, so that the heat insulating property of the glass panel unit (10) can be improved. Can be improved.
  • the sixth aspect is the method for manufacturing the glass panel unit (10) of any one of the first to fifth aspects, and the softening point of the partition (420) is the same as the softening point of the peripheral wall (410).
  • the sixth aspect it is possible to reduce the amount of release of the rare gas by the low emissivity membrane (22) after the partition (420) is deformed to block the air passage (600).
  • the amount of rare gas in the first space (510) after exhaust can be reduced, and heat transfer by the rare gas in the first space (510) can be reduced, so that the heat insulating property of the glass panel unit (10) can be improved. Can be improved.
  • the seventh aspect is a method for manufacturing the glass panel unit (10) of any one of the first to sixth aspects, further including a removal step.
  • the removing step is a step of obtaining a glass panel unit (10) which is a portion having the first space (510) by removing the portion (11) having the second space (520).
  • the seventh aspect it is possible to reduce the amount of release of the rare gas by the low emissivity membrane (22) after the partition (420) is deformed to block the air passage (600).
  • the amount of rare gas in the first space (510) after exhaust can be reduced, and heat transfer by the rare gas in the first space (510) can be reduced, so that the heat insulating property of the glass panel unit (10) can be improved. Can be improved.
  • the eighth aspect is an assembly (100) for manufacturing the glass panel unit (10).
  • the assembled product (100) includes a first glass plate (200), a second glass plate (300), a peripheral wall (410), an internal space (500), a partition (420), and an exhaust port (700). , A vent passage (600).
  • the second glass plate (300) faces the first glass plate (200).
  • the peripheral wall (410) has a frame shape and is located between the first glass plate (200) and the second glass plate (300).
  • the internal space (500) is surrounded by a first glass plate (200), a second glass plate (300), and a peripheral wall (410).
  • the partition (420) divides the internal space (500) into a first space (510) and a second space (520).
  • the exhaust port (700) connects the second space (520) and the external space.
  • the ventilation path (600) connects the first space (510) and the second space (520).
  • One or both of the first glass plate (200) and the second glass plate (300) includes a low emissivity film (22).
  • the low emissivity membrane (22) is in the first space (510).
  • the ratio of the amount of release that the low emissivity film (22) releases rare gas at the temperature at which 420) deforms is 2.0 or less.
  • the eighth aspect it is possible to reduce the amount of release of the rare gas by the low emissivity membrane (22) after the partition (420) is deformed to block the air passage (600).
  • the amount of rare gas in the first space (510) after exhaust can be reduced, and heat transfer by the rare gas in the first space (510) can be reduced, so that the heat insulating property of the glass panel unit (10) can be improved. Can be improved.

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Abstract

本開示は、ガラスパネルユニットの断熱性を向上させることができる、ガラスパネルユニットの製造方法を提供する。　ガラスパネルユニット（１０）の製造方法は、組立工程と、排気工程と、封止工程と、を含む。　第１ガラス板（２００）及び第２ガラス板（３００）のうち一方又は両方は、低放射膜（２２）を備える。　周壁（４１０）を溶融させる前の低放射膜（２２）を４℃／ｍｉｎの昇温速度で加熱するとき、１００℃において低放射膜（２２）が希ガスを放出する放出量に対する、仕切り（４２０）が変形する温度において低放射膜（２２）が希ガスを放出する放出量の比は、２．０以下である。

Description

ガラスパネルユニットの製造方法、及びガラスパネルユニットの組立て品
　本開示は、ガラスパネルユニットの製造方法、及びガラスパネルユニットの組立て品に関し、詳細には断熱用のガラスパネルユニットを製造する方法、及び前記ガラスパネルユニットを作製するための組立て品に関する。
　特許文献１には、第１パネルと、第２パネルと、前記第１パネルと前記第２パネルとを気密に接着する枠状の封止材と、前記第１パネルと前記第２パネルとの間の減圧空間（真空空間）に設けられたスペーサとを備えるガラスパネルユニットが開示されている。このガラスパネルユニットでは、スペーサは、樹脂製の本体と、前記本体の表面に設けられた少なくとも１つの紫外線防御層とを含む。
　特許文献１によると、スペーサが紫外線防御層を含むことにより、本体を構成する樹脂成分が紫外線により分解されることを抑制し、この分解によるガスを真空空間内に発生させにくくしている。
　しかし、紫外線による樹脂成分の分解を抑制しただけでは、ガラスパネルユニットの製造時に真空空間の品質を向上させることは困難であり、これにより、ガラスパネルユニットの断熱性は向上しにくい傾向がある。
国際公開第２０１７／０５６４１８号
　本開示の課題は、ガラスパネルユニットの断熱性を向上させることができる、ガラスパネルユニットの製造方法、及びガラスパネルユニットの組立て品を提供することである。
　本開示の一態様に係るガラスパネルユニットの製造方法は、組立工程と、接合工程と、排気工程と、封止工程と、を含む。前記組立工程は、組立て品を用意する工程である。前記組立て品は、第１ガラス板と、第２ガラス板と、周壁と、内部空間と、仕切りと、排気口と、通気路と、を備える。前記第２ガラス板は、前記第１ガラス板に対向する。前記周壁は、枠状であり、前記第１ガラス板と前記第２ガラス板との間にある。前記内部空間は、前記第１ガラス板と前記第２ガラス板と前記周壁とで囲まれている。前記仕切りは、前記内部空間を第１空間と第２空間とに仕切る。前記排気口は前記第２空間と外部空間とをつなぐ。前記通気路は前記第１空間と前記第２空間とをつなぐ。前記第１ガラス板及び前記第２ガラス板のうち一方又は両方は、低放射膜を備える。前記低放射膜は、前記第１空間内にある。前記接合工程は、前記周壁を溶融させて前記周壁で前記第１ガラス板と、前記第２ガラス板とを気密に接合する工程である。前記排気工程は、前記通気路と前記第２空間と前記排気口とを介して前記第１空間を排気する工程である。前記封止工程は、前記仕切りの軟化点以上の温度で前記仕切りを変形させて前記通気路を塞ぐ工程である。前記周壁を溶融させる前の前記低放射膜を４℃／ｍｉｎの昇温速度で加熱するとき、１００℃において前記低放射膜が希ガスを放出する放出量に対する、前記仕切りが変形する温度において前記低放射膜が希ガスを放出する放出量の比は、２．０以下である。
　本開示の一態様に係るガラスパネルユニットの組立て品は、ガラスパネルユニットを作製するための組立て品である。前記組立て品は、第１ガラス板と、第２ガラス板と、周壁と、内部空間と、仕切りと、排気口と、通気路と、を備える。前記第２ガラス板は、前記第１ガラス板に対向する。前記周壁は、枠状であり、前記第１ガラス板と前記第２ガラス板との間にある。前記内部空間は、前記第１ガラス板と前記第２ガラス板と前記周壁とで囲まれている。前記仕切りは、前記内部空間を第１空間と第２空間とに仕切る。前記排気口は前記第２空間と外部空間とをつなぐ。前記通気路は前記第１空間と前記第２空間とをつなぐ。前記第１ガラス板及び前記第２ガラス板のうち一方又は両方は、低放射膜を備える。前記低放射膜は、前記第１空間内にある。前記周壁を溶融させる前の前記低放射膜を４℃／ｍｉｎの昇温速度で加熱するとき、１００℃において前記低放射膜が希ガスを放出する放出量に対する、前記仕切りが変形する温度において前記低放射膜が希ガスを放出する放出量の比は、２．０以下である。
図１は、一実施形態の仕掛り品の概略平面図である。 図２は、図１の仕掛り品のＡ－Ａ線断面図である。 図３は、上記実施形態の組立て品の概略平面図である。 図４は、上記実施形態のガラスパネルユニットの製造方法の説明図である。 図５は、上記実施形態のガラスパネルユニットの製造方法の説明図である。 図６は、上記実施形態のガラスパネルユニットの製造方法の説明図である。 図７は、上記実施形態のガラスパネルユニットの製造方法の説明図である。 図８は、上記実施形態のガラスパネルユニットの製造方法の説明図である。 図９は、上記実施形態のガラスパネルユニットの製造方法の説明図である。 図１０は、上記実施形態のガラスパネルユニットの製造方法の説明図である。 図１１は、上記実施形態のガラスパネルユニットの概略平面図である。 図１２は、図１１のガラスパネルユニットのＢ－Ｂ線断面図である。 図１３は、ガラス板から低放射膜を採取する方法を示す概略斜視図である。 図１４は、低放射膜を評価する施設の概略図である。 図１５は、低放射膜の評価結果の一例であって、加熱によって低放射膜から放出されたアルゴンの分圧と加熱温度との関係を示すグラフである。
　まず、本開示に至った理由を説明する。
　ガラスパネルユニットは、二つのガラス板の間に真空空間を形成することで、断熱性を有する。このようなガラスパネルユニットの断熱性は、二つのガラス板の間に真空空間があっても、次の（１）～（３）のいずれかにより低下してしまうと考えられる。
　（１）ガラス板に設けられた低放射膜が赤外線を透過しやすい、
　（２）二つのガラス板の間の距離を維持するスペーサが熱伝達してしまう、
　（３）スペーサが劣化して真空空間内にガスを放出する。
　一方、発明者らは、鋭意研究の結果、上記（１）～（３）以外に、低放射膜に残存するガスが、ガラスパネルユニットの製造時に、低放射膜から真空空間に放出されることを見出した。しかも、このガスにゲッタ材が吸着しにくい希ガスが含まれていることを発見した。真空空間内に希ガスが存在すると、この希ガスが熱伝達することにより、ガラスパネルユニットの断熱性が向上しにくい傾向がある。
　そこで、発明者らは、低放射膜から少なくとも希ガスを真空空間内に放出させにくくして、ガラスパネルユニットの断熱性を向上させるため、本開示に至った。
　＜実施形態＞
　次に、本実施形態に係るガラスパネルユニット１０の製造方法の概要を説明する。
　ガラスパネルユニット１０の製造方法は、組立工程（図４～図６参照）と、接合工程（第１溶融工程、図７参照）と、排気工程（図７参照）と、封止工程（第２溶融工程、図７参照）と、を含む。組立工程は、図３に示す組立て品１００を用意する工程である。組立て品１００は、第１ガラス板２００と、第２ガラス板３００と、周壁４１０と、内部空間５００と、仕切り４２０と、排気口７００と、通気路６００と、を備える。第２ガラス板３００は、第１ガラス板２００に対向する。周壁４１０は枠状であり、第１ガラス板２００と第２ガラス板３００との間にある。内部空間５００は、第１ガラス板２００と第２ガラス板３００と周壁４１０とで囲まれている。仕切り４２０は、内部空間５００を第１空間５１０と第２空間５２０とに仕切る。排気口７００は第２空間５２０と外部空間とをつなぐ。通気路６００は第１空間５１０と第２空間５２０とをつなぐ。第１ガラス板２００及び第２ガラス板３００のうち一方又は両方は、低放射膜２２を備える。低放射膜２２は、第１空間５１０内にある。接合工程は、周壁４１０を溶融させて周壁４１０で第１ガラス板２００と、第２ガラス板３００とを気密に接合する工程である。排気工程は、通気路６００と第２空間５２０と排気口７００とを介して第１空間５１０を排気する工程である。封止工程は、仕切り４２０の軟化点以上の温度で仕切り４２０を変形させて通気路６００を塞ぐ工程である。周壁４１０を溶融させる前の低放射膜２２を１００℃よりも低い温度から４℃／ｍｉｎの昇温速度で加熱するとき、１００℃において低放射膜２２が希ガスを放出する放出量に対する、仕切り４２０が変形する温度において低放射膜２２が希ガスを放出する放出量の比は、２．０以下である。
　上記の製造方法によれば、仕切り４２０が変形して通気路６００を塞いだ後に、低放射膜２２が希ガスを放出する放出量を低減できる。これにより、排気後の第１空間５１０内の希ガスの量を低減でき、第１空間５１０内の希ガスによる熱伝達を低減できるため、ガラスパネルユニット１０の断熱性を向上させることができる。
　次に、本実施形態に係るガラスパネルユニット１０の製造方法（以下、製造方法という場合がある）を、図１～図１５を参照して詳細に説明する。この製造方法は、ガラスパネルユニット１０を製造する方法である。
　製造方法は、準備工程と、除去工程とを含む。
　準備工程は、図１及び図２に示す仕掛り品１１０を用意する工程である。仕掛り品１１０は、図３に示す組立て品１００から形成される。すなわち、仕掛り品１１０はガラスパネルユニット１０（図１１参照）を作製するための中間生成物であり、組立て品１００は仕掛り品１１０を作製するための中間生成物である。
　準備工程は、組立工程（図４～図６参照）と、第１溶融工程（図７参照）と、排気工程（図７参照）と、第２溶融工程（図７参照）とを含む。
　組立工程は、組立て品１００を用意する工程である。
　組立て品１００は、図３に示すように、第１ガラス板２００と、第２ガラス板３００と、周壁４１０と、仕切り４２０と、を備える。また、組立て品１００は、第１及び第２ガラス板２００，３００と周壁４１０とで囲まれた内部空間５００を有する。さらに、組立て品１００は、内部空間５００内に、ガス吸着体６０と、複数のスペーサ（ピラー）７０と、を備える。さらに、組立て品１００は、排気口７００を備える。
　第１ガラス板（第１ガラス基板）２００は、後述の第１ガラス板２０の基礎となる部材であり、第１ガラス板２０と同じ材料で形成されている。第２ガラス板（第２ガラス基板）３００は、後述の第２ガラス板３０の基礎となる部材であり、第２ガラス板３０と同じ材料で形成されている。第１及び第２ガラス板２００，３００は同じ平面形状である。本実施形態では、第１ガラス板２００は、後述の第１ガラス板２０を少なくとも１つ形成可能な大きさを有し、第２ガラス板３００は、後述の第２ガラス板３０を少なくとも１つ形成可能な大きさを有する。
　第１及び第２ガラス板２００，３００はいずれも多角形（本実施形態では長方形）の平板状である。
　第１ガラス板２００は、本体２０３と、低放射膜２２とを含む。
　低放射膜２２は、内部空間５００内にあり、本体２０３を覆う。低放射膜２２は、本体２０３に接している。低放射膜２２は、赤外線反射膜とも呼ばれ、透光性を有するものの、赤外線を透過させにくい。このため、低放射膜２２は、ガラスパネルユニット１０の断熱性を向上させることができる。低放射膜２２は、例えば、金属製の薄膜である。低放射膜２２は、例えば、銀を含有する。低放射膜２２の一例は、Ｌｏｗ－Ｅ膜である。
　低放射膜２２は、スパッタリング等の薄膜形成法により本体２０３の表面に形成することができる。低放射膜２２の形成にスパッタリングが採用される場合、低放射膜２２は、アルゴン等の希ガス雰囲気下で、例えば、銀を含有する金属層と、酸化亜鉛等の金属酸化物を含有する誘電体層とを交互に積層した複層膜として形成される。また、希ガスの他例として、ヘリウム、クリプトン、及びキセノンが挙げられるが、アルゴンは、安価であり、かつスパッタリングに有用とされている。
　一方、低放射膜２２に所定量以上の希ガスが混入していると、低放射膜２２を加熱する際に低放射膜２２は多量の希ガスを後述の真空空間５０に放出してしまう場合がある。この場合、希ガスは、ガス吸着体６０に吸着されにくい成分であるため、後述の真空空間５０の真空度が低下しやすい。これにより、希ガスが熱伝達することで、ガラスパネルユニット１０の断熱性が低下しやすくなる。このため、本実施形態の低放射膜２２は下記の放出量（ｃ１）及び放出量（ｃ２）の関係を満たす性質を有する。
　周壁４１０を溶融させる前、すなわち第１溶融工程よりも前で低放射膜２２を４℃／ｍｉｎの昇温速度で加熱するとき、放出量（ｃ２）に対する、放出量（ｃ１）の比は、２．０以下である。放出量（ｃ１）は、仕切り４２０が変形する温度において低放射膜２２が希ガスを放出する放出量である。放出量（ｃ２）は、１００℃において低放射膜２２が希ガスを放出する放出量である。仕切り４２０が変形する温度は、後述の第２溶融温度Ｔｍ２である。第２溶融温度Ｔｍ２は、１００℃よりも高い。低放射膜２２が放出量（ｃ１）及び放出量（ｃ２）の関係を満たす性質を有することで、仕切り４２０が変形して通気路６００を塞いだ後に、低放射膜２２から希ガスを放出させにくくできる。すなわち、後述の真空空間５０中の希ガスの量を低減できる。
　これにより、真空空間５０内の希ガスによる熱伝達を低減できるため、ガラスパネルユニット１０の断熱性を向上させることができる。放出量（ｃ２）に対する、放出量（ｃ１）の比は、好ましくは１．７以下であり、より好ましくは１．５以下であり、更により好ましくは１．３以下であり、また更により好ましくは１．０以下である。放出量（ｃ１）は、特に好ましくは放出量（ｃ２）よりも少ない。放出量（ｃ１）及び放出量（ｃ２）の測定方法は、後述の実施例に記載の通りである。なお、放出量（ｃ１）及び放出量（ｃ２）を測定するにあたって、本体２０３が露出するまで採取した低放射膜２２を検体とする。すなわち、放出量（ｃ１）及び放出量（ｃ２）のいずれもが、この検体全体から放出された希ガスの量である。
　第１ガラス板２００は、上記の通り、本体２０３を含む。本体２０３は、第１ガラス板２００の主な形状を構成するため、矩形の平板状である。本体２０３の材料は、例えば、ソーダライムガラス、高歪点ガラス、化学強化ガラス、無アルカリガラス、石英ガラス、ネオセラム、物理強化ガラスである。
　第２ガラス板３００は、本体３０３を含む。本体３０３は、第２ガラス板３００の主な形状を構成するため、矩形の平板状である。本体３０３は、本体２０３と同形状である。第２ガラス板３００は、本実施形態では、本体３０３のみからなるが、本体３０３に加えて低放射膜２２と同様の低放射膜を備えてもよい。第２ガラス板３００が低放射膜を備える場合、この低放射膜は、内部空間５００内で、本体３０３を覆い、かつ本体３０３に接する。本体３０３の材料は、例えば、ソーダライムガラス、高歪点ガラス、化学強化ガラス、無アルカリガラス、石英ガラス、ネオセラム、物理強化ガラスである。
　周壁４１０は、第１封着材（第１熱接着剤）を含む。周壁４１０は、第１ガラス板２００と第２ガラス板３００との間に配置される。周壁４１０は、図６に示すように、枠状である。特に、周壁４１０は、矩形の枠状である。周壁４１０は、第１及び第２ガラス板２００，３００の外周に沿って形成されている。これにより、組立て品１００では、周壁４１０と第１ガラス板２００と第２ガラス板３００とで囲まれた内部空間５００が形成される。
　第１熱接着剤は、例えば、ガラスフリットである。ガラスフリットの例としては、低融点ガラスフリットが挙げられる。低融点ガラスフリットの例としては、ビスマス系ガラスフリット、鉛系ガラスフリット、バナジウム系ガラスフリットが挙げられる。また、第１熱接着剤は、ガラスフリットに限定されず、例えば、低融点金属、又はホットメルト接着材であってもよい。
　仕切り４２０は、第２封着材（第２熱接着剤）を含む。仕切り４２０は、内部空間５００内に配置される。仕切り４２０は、内部空間５００を、第１空間５１０と、第２空間（通気空間）５２０とに仕切る。このため、第１空間５１０は排気工程で排気される空間であり、第２空間５２０は第１空間５１０の排気に使用される空間である。仕切り４２０は、第１空間５１０が第２空間５２０よりも大きくなるように、第２ガラス板３００の中央よりも第２ガラス板３００の長さ方向（図３における左右方向）の第１端側（図３における右端側）に形成される。仕切り４２０は、第２ガラス板３００の幅方向（図３における上下方向）に沿う直線状である。ただし、仕切り４２０の長さ方向の両端は、周壁４１０と接していない。
　第２熱接着剤は、例えば、ガラスフリットである。ガラスフリットの例としては、低融点ガラスフリットが挙げられる。低融点ガラスフリットの例としては、ビスマス系ガラスフリット、鉛系ガラスフリット、バナジウム系ガラスフリットが挙げられる。また、第２熱接着剤は、ガラスフリットに限定されず、例えば、低融点金属、またはホットメルト接着材であってもよい。なお、本実施形態では、第１熱接着剤と第２熱接着剤とは同じものを使用している。つまり、第１封着材と第２封着材とは、同じ材料である。
　通気路６００は、図３に示すように、内部空間５００内で第１空間５１０と第２空間５２０とをつなぐ。通気路６００は、第１通気路６１０と、第２通気路６２０と、を含む。第１通気路６１０は、仕切り４２０の第１端（図３の上端）と周壁４１０との間に介在する隙間である。第２通気路６２０は、仕切り４２０の第２端（図３の下端）と周壁４１０との間に介在する隙間である。
　排気口７００は、第２空間５２０と外部空間とをつなぐ孔である。排気口７００は、第２空間５２０および通気路６００（第１通気路６１０及び第２通気路６２０）を介して第１空間５１０を排気するために用いられる。したがって、通気路６００と第２空間５２０と排気口７００とは、第１空間５１０を排気するための排気路を構成する。排気口７００は、第２空間５２０と外部空間とをつなぐように第２ガラス板３００に形成されている。具体的には、排気口７００は、第２ガラス板３００の角部分にある。
　ガス吸着体６０及び複数のスペーサ７０は第１空間５１０内に配置されている。特に、ガス吸着体６０は、第２ガラス板３００の長さ方向の第２端側（図４における左端側）に、第２ガラス板３００の幅方向に沿って形成されている。つまり、ガス吸着体６０は、第１空間５１０（真空空間５０）の端に配置される。このようにすれば、ガス吸着体６０を目立たなくすることができる。また、ガス吸着体６０は、仕切り４２０および通気路６００から離れた位置にある。そのため、第１空間５１０の排気時に、ガス吸着体６０が排気を妨げる可能性を低くできる。
　組立工程は、組立て品１００を得るために、第１ガラス板２００、第２ガラス板３００、周壁４１０、仕切り４２０、内部空間５００、通気路６００、排気口７００、ガス吸着体６０、及び複数のスペーサ７０を形成する工程である。組立工程は、第１～第６工程を有する。なお、第２～第５工程の順番は、適宜変更してもよい。
　第１工程は、第１ガラス板２００及び第２ガラス板３００を形成する工程（基板形成工程）である。例えば、第１工程では、第１ガラス板２００及び第２ガラス板３００を作製する。第１工程の際に、低放射膜２２が放出量（ｃ１）及び放出量（ｃ２）の関係を満たすかを評価することが好ましい。また、第１工程では、必要に応じて、第１ガラス板２００及び第２ガラス板３００を洗浄する。
　第２工程は、排気口７００を形成する工程である。第２工程では、図３に示すように、第２ガラス板３００に、排気口７００を形成する。また、第２工程では、必要に応じて、第２ガラス板３００を洗浄する。
　第３工程は、スペーサ７０を形成する工程（スペーサ形成工程）である（図４参照）。第３工程では、複数のスペーサ７０を予め形成しておき、チップマウンタなどを利用して、複数のスペーサ７０を、第２ガラス板３００の所定位置に配置する。複数のスペーサ７０は、組立て品１００が仕掛り品１１０となった状態で、第１及び第２ガラス板２００，３００間の間隔を所定間隔に維持するために用いられる。このようなスペーサ７０を構成する材料として、例えば、金属、ガラス、及び樹脂が挙げられる。スペーサ７０は、これらの材料のうち、１種又は複数種含むことができる。
　本実施形態の第３工程では、上記の通り、スペーサ７０を予め形成して第２ガラス板３００に配置しているが、周知の薄膜形成技術を利用して複数のスペーサ７０を第２ガラス板３００に形成してもよい。また、スペーサ７０が樹脂を含む場合、複数のスペーサ７０は、上記の形成方法と異なる方法として、フォトリソグラフィ技術及びエッチング技術を利用して形成されていてもよい。この場合、複数のスペーサ７０は、光硬化性材料などを用いて形成することができる。
　なお、スペーサ７０の大きさ、スペーサ７０の数、スペーサ７０の間隔、スペーサ７０の配置パターンは、適宜選択することができる。各スペーサ７０は、上記所定間隔とほぼ等しい高さを有する円柱状である。例えば、スペーサ７０は、直径が１ｍｍ、高さが１００μｍである。なお、各スペーサ７０は、角柱状や球状などの所望の形状であってもよい。
　第４工程は、ガス吸着体６０を形成する工程（ガス吸着体形成工程）である（図４参照）。第４工程では、ディスペンサなどを利用して、ゲッタ材の粉体が分散された溶液を第２ガラス板３００の所定位置に塗布し、乾燥させることで、ガス吸着体６０を形成する。
　ガス吸着体６０は、ゲッタ材を有する。ゲッタ材は、所定の大きさより小さい分子を吸着する性質を有する材料である。ゲッタ材は、例えば、蒸発型ゲッタ材である。蒸発型ゲッタ材は、所定温度（活性化温度）以上になると、吸着された分子を放出する性質を有している。そのため、蒸発型ゲッタ材の吸着能力が低下しても、蒸発型ゲッタ材を活性化温度以上に加熱することで、蒸発型ゲッタ材の吸着能力を回復させることができる。蒸発型ゲッタ材は、例えば、ゼオライトまたはイオン交換されたゼオライト（例えば、銅イオン交換されたゼオライト）である。ガス吸着体６０は、このゲッタ材の粉体を備えている。具体的には、ガス吸着体６０は、ゲッタ材の粉体を含む液体（例えばゲッタ材の粉体を液体に分散して得られた分散液や、ゲッタ材の粉体を液体に溶解させて得られた溶液）を塗布して固形化することにより形成される。この場合、ガス吸着体６０を小さくできる。したがって、第１空間５１０が狭くてもガス吸着体６０を配置できる。
　第５工程は、周壁４１０、及び仕切り４２０を配置する工程（封着材配置工程）である。第５工程では、ディスペンサなどを利用して、第１封着材を第２ガラス板３００上に塗布し、その後第１封着材を乾燥させて周壁４１０を形成する（図４参照）。また、ディスペンサなどを利用して、第２封着材を第２ガラス板３００上に塗布し、その後第２封着材を乾燥させて仕切り４２０を形成する（図５参照）。
　第１工程から第５工程が終了することで、図５に示されるような、第２ガラス板３００が得られる。この第２ガラス板３００には、周壁４１０、仕切り４２０、通気路６００、排気口７００、ガス吸着体６０及び複数のスペーサ７０が形成されている。
　第６工程は、第１ガラス板２００と第２ガラス板３００とを配置する工程（配置工程）である。第６工程では、図６に示すように、第１ガラス板２００と第２ガラス板３００とは、互いに平行かつ対向するように配置される。
　上述した組立工程によって、図３に示す組立て品１００が得られる。そして、組立工程の後には、図７に示すような、第１溶融工程（接合工程）と、排気工程と、第２溶融工程（封止工程）とが実行される。
　第１溶融工程は、周壁４１０を一旦溶融させて周壁４１０で第１ガラス板２００と、第２ガラス板３００とを気密に接合する工程である。具体的には、第１ガラス板２００及び第２ガラス板３００は、溶融炉内に配置され、第１溶融温度Ｔｍ１で所定時間（第１溶融時間）ｔｍ１だけ加熱される（図７参照）。本実施形態では、第１封着材と第２封着材とが、上記の通り、同じ材料であるため、第１封着材の軟化点（第１軟化点）は、第２封着材の軟化点（第２軟化点）と同じである。このため、第１溶融温度Ｔｍ１は、第１及び第２軟化点以上に設定される。第１溶融温度Ｔｍ１が第１及び第２軟化点以上であっても、排気工程は第１溶融工程後に開始されるため（図７参照）、第１溶融工程では仕切り４２０は通気路６００を塞がない。すなわち、第１溶融工程では通気路６００を確保している。第１溶融工程において、例えば、第１及び第２軟化点が４３４℃である場合、第１溶融温度Ｔｍ１は、４４０℃に設定される。また、第１溶融時間ｔｍ１は、例えば、１０分である。
　本実施形態において、第１軟化点が第２軟化点と同じである態様は、第１軟化点が第２軟化点と厳密に同じである態様だけでなく、第１軟化点が第２軟化点と略同じである態様も含む。
　第１溶融温度Ｔｍ１で周壁４１０を加熱することにより、仕切り４２０の変形を抑制しながらも、周壁４１０を軟化させることができる。これにより、周壁４１０によって第１ガラス板２００と第２ガラス板３００とを気密に接合しやすくなる。
　排気工程は、通気路６００と第２空間５２０と排気口７００とを介して第１空間５１０を排気して第１空間５１０を真空空間５０とする工程である。排気は、例えば、真空ポンプを用いて行われる。真空ポンプは、図８に示されるように、排気管８１０と、シールヘッド８２０と、により組立て品１００に接続される。排気管８１０は、例えば、排気管８１０の内部と排気口７００とが連通するように第２ガラス板３００に接合される。そして、排気管８１０にシールヘッド８２０が取り付けられ、これによって、真空ポンプの吸気口が排気口７００に接続される。第１溶融工程と排気工程と第２溶融工程とは、組立て品１００を溶融炉内に配置したまま行われる。そのため、排気管８１０は、少なくとも第１溶融工程の前に、第２ガラス板３００に接合される。
　排気工程では、第２溶融工程の開始前までに、排気温度Ｔｅ以上で所定時間（排気時間）ｔｅ以上、通気路６００と第２空間５２０と排気口７００とを介して第１空間５１０を排気する（図７参照）。排気温度Ｔｅは、ガス吸着体６０のゲッタ材（ゲッタ材微粉末）の活性化温度（例えば、３５０℃）より高く、かつ、第２封着材の第２軟化点（例えば４３４℃）より低く設定される。例えば、排気温度Ｔｅは、３９０℃である。このようにすれば、排気工程でも仕切り４２０は変形しない。また、ガス吸着体６０のゲッタ材が活性化し、ゲッタ材が吸着していた分子（ガス）がゲッタ材から放出される。さらに低放射膜２２から少なくとも希ガスが放出される。そして、ゲッタ材及び低放射膜２２から放出されたガスが、第１空間５１０、通気路６００、第２空間５２０、及び、排気口７００を通じて排出される。ゲッタ材から放出されたガスを排気工程により排気することで、ガス吸着体６０の吸着能力が回復する。排気時間ｔｅは、所望の真空度（例えば、０．１Ｐａ以下の真空度）の真空空間５０が得られるように設定される。例えば、排気時間ｔｅは、１２０分に設定される。
　第２溶融工程は、仕切り４２０を変形させて少なくとも通気路６００を塞ぐことで隔壁４２を形成して仕掛り品１１０を得る工程である。つまり、第２溶融工程では、仕切り４２０を変形させて、通気路６００を塞ぐ。言い換えると、変形した仕切り４２０により第１空間５１０が塞がれて、第１空間５１０と第２空間５２０とが分離される。これにより、真空空間５０を囲む枠体４０が形成される（図９参照）。本実施形態では、仕切り４２０の長さ方向の両端が周壁４１０に接して一体となるように、仕切り４２０を変形させている。これによって、図９に示すように、内部空間５００を第１空間５１０（真空空間５０）と第２空間５２０とに気密に分離する隔壁４２が形成される。より詳細には、第２封着材の第２軟化点以上の所定温度（第２溶融温度）Ｔｍ２で仕切り４２０を一旦溶融させることで、仕切り４２０を変形させる。具体的には、第１ガラス板２００及び第２ガラス板３００は、溶融炉内で、第２溶融温度Ｔｍ２で所定時間（第２溶融時間）ｔｍ２だけ加熱される（図７参照）。第２溶融温度Ｔｍ２及び第２溶融時間ｔｍ２は、仕切り４２０が軟化し、通気路６００が塞がれるように設定される。第２溶融温度Ｔｍ２の下限は、第２軟化点（例えば４３４℃）である。第２溶融温度Ｔｍ２は、例えば、４６０℃に設定される。また、第２溶融時間ｔｍ２は、例えば、３０分である。
　本実施形態では、図７に示すように、排気工程は、第１溶融工程の後に開始され、第２溶融工程の終了とともに終了している。このため、第２溶融工程の際に、通気路６００と第２空間５２０と排気口７００とを介して第１空間５１０が排気されている。そのため、組立て品１００の内外の圧力差が生じ、この圧力差によって、第１及び第２ガラス板２００，３００が互いに接近するように移動させられる。これにより、第２溶融工程では、第２溶融温度Ｔｍ２で、通気路６００と第２空間５２０と排気口７００とを介して第１空間５１０を排気しながら、仕切り４２０を変形させて通気路６００を塞ぐ隔壁４２を形成する。
　本実施形態では、溶融炉内の温度が第２溶融温度Ｔｍ２に到達する前も第１ガラス板２００は加熱されているため、低放射膜２２は希ガスを第１空間５１０に放出している。しかし、通気路６００を塞ぐまで、第１空間５１０は排気されるため、希ガスも排気される。その一方、通気路６００を塞いだ後、第１空間５１０は、真空空間５０となって、排気されなくなるものの、低放射膜２２は溶融炉内で加熱される。このため、低放射膜２２が放出量（ｃ１）及び放出量（ｃ２）の関係を満たす性質を有することで、第１空間５１０に希ガスが放出されにくくなり、真空空間５０の真空度が低下しにくくなる。したがって、真空空間５０内の希ガスによる熱伝達が低減されるため、ガラスパネルユニット１０の断熱性を向上させることができる。
　また、図７に示す第２溶融工程では、第２溶融時間ｔｍ２が経過した後、溶融炉内の温度を室温まで等速で冷却する。そして、シールヘッド８２０を取り外すことで、第２溶融工程及び排気工程を終了する。通気路６００を塞いだ後に低放射膜２２が溶融炉内で加熱されて希ガスを放出する放出量（ｃ３）は、第１及び第２ガラス板２００，３００間の間隔が５０μｍ以下である場合、５．０×１０－５Ｐａ・ｍ３／ｍ２以下であることが好ましい。放出量（ｃ３）は、第１及び第２ガラス板２００，３００間の間隔が５０μｍよりも広く１００μｍ以下である場合、１．０×１０－４Ｐａ・ｍ３／ｍ２以下であることが好ましい。放出量（ｃ３）は、第１及び第２ガラス板２００，３００間の間隔が１００μｍよりも広く２００μｍ以下である場合、２．０×１０－４Ｐａ・ｍ３／ｍ２以下であることが好ましい。放出量（ｃ３）は、第１及び第２ガラス板２００，３００間の間隔が２００μｍよりも広く３００μｍ以下である場合、３．０×１０－４Ｐａ・ｍ３／ｍ２以下であることが好ましい。放出量（ｃ３）は、低放射膜２２が単位時間あたりに希ガスを放出する量ではなく、通気路６００を塞いでから第２溶融工程が終了するまでに低放射膜２２が希ガスを放出する積算量に比例する。放出量（ｃ３）が上記の好ましい量であることにより、通気路６００を塞いだ後に低放射膜２２が希ガスを放出しても、真空空間５０の真空度が低下しにくくなる。このため、真空空間５０内の希ガスによる熱伝達を低減でき、これにより、ガラスパネルユニット１０の断熱性を向上させることができる。なお、放出量（ｃ３）の単位である［Ｐａ・ｍ３／ｍ２］は、体積１ｍ３の真空空間５０に面積１ｍ２の低放射膜２２から放出される希ガスの分圧を示す。
　上述の準備工程によって、図１及び図２に示す仕掛り品１１０が得られる。仕掛り品１１０は、図１及び図２に示すように、第１ガラス板２００と、第２ガラス板３００と、周壁４１０と、隔壁４２と、を備える。また、仕掛り品１１０は、真空空間５０と、第２空間５２０とを有する。さらに、仕掛り品１１０は、真空空間５０内に、ガス吸着体６０と、複数のスペーサ（ピラー）７０と、を備える。さらに、仕掛り品１１０は、排気口７００を備える。
　第１及び第２ガラス板２００，３００はいずれも矩形の平板状である。第１及び第２ガラス板２００，３００は同じ平面形状である。
　第１ガラス板２００は、本体２０３と、低放射膜２２とを含む。低放射膜２２は、真空空間５０内にあり、本体２０３を覆う。低放射膜２２は、本体２０３に接している。本体２０３は、第１ガラス板２００の主な形状を構成するため、矩形の平板状である。
　第２ガラス板３００は、本体３０３を含む。本体３０３は、第２ガラス板３００の主な形状を構成するため、矩形の平板状である。本体３０３は、本体２０３と同形状である。第２ガラス板３００は、本実施形態では、本体３０３のみからなるが、本体３０３に加えて低放射膜２２と同様の低放射膜を備えてもよい。第２ガラス板３００が低放射膜を備える場合、この低放射膜は、真空空間５０内で、本体３０３を覆い、かつ本体３０３に接する。
　隔壁４２は、真空空間５０を第２空間５２０から（空間的に）分離する。言い換えれば、仕掛り品１１０の第２空間５２０は排気口７００を介して外部空間と（空間的に）繋がっているため、隔壁４２は、真空空間５０と外部空間とを分離する。そして、隔壁４２と周壁４１０とが一体となって、真空空間５０を囲む枠体４０を構成する。枠体４０は、真空空間５０を完全に囲むとともに、第１ガラス板２００と第２ガラス板３００とを気密に接合する。
　ガス吸着体６０は、真空空間５０内に配置される。具体的には、ガス吸着体６０は、長尺の平板状であり、第２ガラス板３００に配置されている。ガス吸着体６０は、不要なガス（残留ガス等）を吸着するために用いられる。不要なガスは、例えば、枠体４０となる熱接着剤（第１熱接着剤、及び第２熱接着剤）が加熱される際に、熱接着剤から放出されるガス、及び低放射膜２２から放出される希ガス以外のガスがある。なお、本実施形態では、希ガスも不要なガスではあるが、希ガス以外の不要なガスと比べてガス吸着体６０に吸着されにくい。
　複数のスペーサ７０は、真空空間５０内に配置されている。複数のスペーサ７０は、第１及び第２ガラス板２００，３００間の距離を所望の値に維持するために使用される。
　真空空間５０は、上記の通り、第２空間５２０及び排気口７００を介して第１空間５１０を排気することで形成される。換言すれば、真空空間５０は、真空度が所定値以下の第１空間５１０である。所定値は、たとえば、０．１Ｐａである。真空空間５０は、第１ガラス板２００と第２ガラス板３００と枠体４０とで完全に密閉されているから、第２空間５２０及び排気口７００から分離されている。
　除去工程は、準備工程の後に実行される。除去工程は、図１０に示すように、仕掛り品１１０から第２空間５２０を有する部分１１を除去することで、真空空間５０を有する部分であるガラスパネルユニット１０を得る工程である。
　ガラスパネルユニット１０は、第１ガラス板２０と、第２ガラス板３０と、を備える。第１ガラス板２０は、第１ガラス板２００のうち第１空間５１０（真空空間５０）に対応する部分であり、第２ガラス板３０は、第２ガラス板３００のうち第１空間５１０（真空空間５０）に対応する部分である。
　一方、不要な部分１１は、第１ガラス板２００のうち第２空間５２０に対応する部分２１と、第２ガラス板３００のうち第２空間５２０に対応する部分３１と、を含む。さらに、不要な部分１１は、周壁４１０のうち第２空間５２０に対応する部分４１１と、を含んでいる。なお、ガラスパネルユニット１０の製造コストを考慮すれば、不要な部分１１は小さいほうが好ましい。
　除去工程では、具体的には、溶融炉から取り出された仕掛り品１１０は、図１に示される切断線９００に沿って切断され、真空空間５０を有する部分（ガラスパネルユニット）１０と、第２空間５２０を有する部分（不要な部分）１１と、に分割される。なお、切断線９００の形状は、ガラスパネルユニット１０の形状によって定まる。ガラスパネルユニット１０は矩形状であるから、切断線９００は、隔壁４２の長さ方向に沿った直線となっている。特に、本実施形態では、切断線９００は、隔壁４２上を通る。具体的には、切断線９００は、隔壁４２の長さ方向に沿って隔壁４２の幅方向の中心を通る。つまり、除去工程では、隔壁４２は、その幅方向において二分され、一方がガラスパネルユニット１０の枠体４０の一部となり、他方が不要な部分１１とともに除去される。なお、切断線９００は、必ずしも隔壁４２上を通らなくてもよい。例えば、切断線９００が隔壁４２と排気口７００との間を通っていれば、排気口７００のないガラスパネルユニット１０が得られる。ただし、切断線９００が隔壁４２上にあれば、第１及び第２ガラス板２００，３００を隔壁４２とともに切断することができるから、仕掛り品１１０を切断する作業が容易になるという利点がある。
　上述の、準備工程及び除去工程を経て、図１１及び図１２に示すガラスパネルユニット１０が得られる。
　図１１及び図１２は、本実施形態のガラスパネルユニット（ガラスパネルユニットの完成品）１０を示す。ガラスパネルユニット１０は、第１ガラス板２０と、第２ガラス板３０と、枠体４０と、を備える。また、ガラスパネルユニット１０は、第１及び第２ガラス板２０，３０と枠体４０とで囲まれた真空空間５０を有する。さらに、ガラスパネルユニット１０は、真空空間５０内に、ガス吸着体６０と、複数のスペーサ（ピラー）７０と、を備える。
　第１及び第２ガラス板２０，３０はいずれも矩形の平板状である。第１及び第２ガラス板２０，３０は同じ平面形状である。
　第１ガラス板２０は、本体２３と、低放射膜２２とを含む。低放射膜２２は、真空空間５０内にあり、本体２３を覆う。本体２３は、第１ガラス板２０の主な形状を構成するため、矩形の平板状である。また、第１ガラス板２０は除去工程により第１ガラス板２００の不要な部分２１が除去されたものであるため、本体２３の材料は、本体２０３と同じである。
　第２ガラス板３０は、本体３３を含む。本体３３は、第２ガラス板３０の主な形状を構成するため、矩形の平板状である。本体３３は、本体２３と同形状である。第２ガラス板３０は除去工程により第２ガラス板３００の不要な部分３１が除去されたものであるため、本体３３の材料は、本体３０３と同じである。なお、第２ガラス板３０は、本実施形態では、本体３３のみからなるが、本体３３に加えて低放射膜２２と同様の低放射膜を備えてもよい。第２ガラス板３０が低放射膜を備える場合、この低放射膜は、真空空間５０内で、本体３３を覆い、かつ本体３３に接する。
　枠体４０は、第１ガラス板２０と、第２ガラス板３０との間にあり、第１ガラス板２０と第２ガラス板３０とを気密に接合する。これによって、真空空間５０は、第１ガラス板２０と、第２ガラス板３０と、枠体４０とで囲まれている。枠体４０は、第１及び第２ガラス板２０，３０と同様の多角形（本実施形態では四角形）の枠状である。枠体４０は、第１及び第２ガラス板２０，３０の外周に沿って形成されている。
　複数のスペーサ７０は、真空空間５０内に配置されている。複数のスペーサ７０は、第１及び第２ガラス板２０，３０間の距離を所望の値に維持するために使用される。
　以下、本実施形態を実施例によって具体的に説明する。
　＜実施例１～３及び比較例１＞
　まず、図１３に示す第１ガラス板２００として、低放射膜（Ｌｏｗ－Ｅ膜）２２が異なるガラス板Ａ、Ｂ、Ｃ、Ｄを用意した。実施例１～３及び比較例１は、それぞれ、ガラス板Ａ、Ｂ、Ｃ、Ｄを用いて実施された。ガラス板Ａ、Ｂ、Ｃ、Ｄの各々のＬｏｗ－Ｅ膜２２は、銀を含有する薄膜であって、スパッタリングにより形成されたものである。
　［実施例１］
　図１３のように金属製ブレードＢ１を用いて、大きさが幅２００ｍｍ×長さ３００ｍｍのＬｏｗ－Ｅ膜２２をガラス板Ａから採取した。そして、このＬｏｗ－Ｅ膜２２を、図１４に示す施設により評価した。図１４に示す施設は、ガラスパネルユニットの製造施設Ｆ１に測定装置Ｆ２を取り付けたものである。
　製造施設Ｆ１は、溶融炉Ｈ１と、シールヘッド８２０と、排気路８２１～８２６と、バルブＶ１～Ｖ６と、ポンプＰ１～Ｐ３と、マニホールドＭ１とを備える。排気路８２１は、溶融炉Ｈ１内にあり、シールヘッド８２０と溶融炉Ｈ１が有する配管とをつなぐ。排気路８２２は、溶融炉Ｈ１外にあり、排気路８２３と溶融炉Ｈ１が有する前記配管とをつなぐ。排気路８２３は、ポンプＰ１と排気路８２２とをつなぐ。さらに排気路８２３の途中に、バルブＶ１と、マニホールドＭ１と、バルブＶ２とが設けられている。排気路８２４は、ポンプＰ１とバルブＶ１との間の排気路８２３と、バルブＶ２と排気路８２２との間の排気路８２３とをつなぐ。さらに、排気路８２４の途中にバルブＶ３，Ｖ４が設けられている。排気路８２５はポンプＰ２とマニホールドＭ１とをつなぎ、この排気路８２５の途中にバルブＶ５が設けられている。排気路８２６はポンプＰ３とポンプＰ２とをつなぎ、排気路８２６の途中にバルブＶ６が設けられている。排気路８２１は、柔軟性を有する配管により構成され、外径が８．５ｍｍで、長さが５００ｍｍである。排気路８２２は、柔軟性を有する配管により構成され、外径が１６．５ｍｍで、長さが８００ｍｍである。ポンプＰ１は、ドライポンプ（三菱重工業株式会社製「ＤＳ２５１Ｌ」）である。ポンプＰ２は、ターボ分子ポンプ（株式会社大阪真空機器製作所製「ＴＧ２２０Ｆ」）である。ポンプＰ３は、ロータリーポンプ（コスモ・テック株式会社製「ＧＬＤ－１３６Ａ」）である。なお、排気路８２３～８２６のうち、バルブＶ１～Ｖ６及びマニホールドＭ１以外の排気路は、配管により構成される。
　製造施設Ｆ１と測定装置Ｆ２との間にバルブＶ７が設けられ、このバルブＶ７と排気路８２２とを排気路８２７がつなぐ。排気路８２７は、外径が４０ｍｍで、長さが２００ｍｍである配管により構成される。
　測定装置Ｆ２は、測定部Ｍ２と、ポンプＰ４と、排気路８２８、８２９を備える。排気路８２８は、バルブＶ７と排気路８２９とをつなぐ。排気路８２９は、排気路８２９と測定部Ｍ２とをつなぐ。ポンプＰ４は、測定部Ｍ２と排気路８２８との間の位置で排気路８２９に接続する。排気路８２８は、柔軟性を有する配管により構成され、外径が５０ｍｍで、長さが６００ｍｍである。排気路８２９は、外径が４０ｍｍで、長さが１５０ｍｍである配管により構成される。ポンプＰ４は、ターボ分子ポンプ（Ｐｆｅｉｆｆｅｒ　Ｖａｃｕｕｍ社製「ＴＭＵ０７１Ｐ」）である。測定部Ｍ２は、四重極形質量分析計（Ｑ－ｍａｓｓスペクトロメータ、ＵＬＶＡＣ社製「ＢＧＭ－２０２」）である。
　ガラス板Ａから採取した上記のＬｏｗ－Ｅ膜２２を、一端が閉じたソーダガラス管８１１（外径５ｍｍ、内径３ｍｍ、長さ７０ｍｍ）内に封入した（図１４参照）。この封入後、ソーダガラス管８１１をシールヘッド８２０に取り付けて、シールヘッド８２０を溶融炉Ｈ１内に配置した。この配置後、バルブＶ３～Ｖ７を閉じ、ポンプＰ１を作動させることでソーダガラス管８１１を排気した。ポンプＰ１の作動後、ポンプＰ２を作動させ、バルブＶ５を開けてバルブＶ１を閉じた。これにより、ソーダガラス管８１１を更に排気した。ポンプＰ２の作動後、マニホールドＭ１の気圧計が表示する気圧が１．０×１０－５Ｐａに到達したことを確認した。この確認後、ポンプＰ４を作動させ、バルブＶ７を開けた。ポンプＰ４の作動後、測定部Ｍ２により、排気路８２９内にある窒素及び酸素の各々の分圧を測定した。これらの分圧から窒素と酸素との分圧比を算出することで、ソーダガラス管８１１と測定部Ｍ２とをつなぐ排気路８２１,８２２,８２７,８２８,８２９に大気が流入していないことを判断した。この判断後、排気路８２９内の気圧が１．０×１０－５Ｐａに到達していることを確認した。そして、溶融炉Ｈ１内の温度を室温から４９０℃にかけて４℃／ｍｉｎの昇温速度で等速昇温させながら、排気路８２９内にあるアルゴンの分圧を測定部Ｍ２により連続して測定した。測定部Ｍ２による測定結果を図１５に示し、この測定結果のうち、溶融炉Ｈ１内の温度が１００℃である場合のアルゴンの分圧と、４６０℃である場合のアルゴンの分圧とを後掲の表１に示す。
　［実施例２］
　図１３に示す第１ガラス板２００としてガラス板Ｂを用いた以外は、実施例１と同様にして、Ｌｏｗ－Ｅ膜２２を溶融炉Ｈ１内で加熱し、排気路８２９内にあるアルゴンの分圧を測定部Ｍ２により測定した。この測定結果を図１５と後掲の表１とに示す。
　［実施例３］
　図１３に示す第１ガラス板２００としてガラス板Ｃを用いた以外は、実施例１と同様にして、Ｌｏｗ－Ｅ膜２２を溶融炉Ｈ１内で加熱し、排気路８２９内にあるアルゴンの分圧を測定部Ｍ２により測定した。この測定結果を図１５と後掲の表１とに示す。
　［比較例１］
　図１３に示す第１ガラス板２００としてガラス板Ｄを用いた以外は、実施例１と同様にして、Ｌｏｗ－Ｅ膜２２を溶融炉Ｈ１内で加熱し、排気路８２９内にあるアルゴンの分圧を測定部Ｍ２により測定した。この測定結果を図１５と後掲の表１とに示す。
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　表１に示される実施例１～３及び比較例１において、４６０℃におけるアルゴンの分圧を本実施形態の放出量（ｃ１）とし、１００℃におけるアルゴンの分圧を本実施形態の放出量（ｃ２）とした。
　表１の結果から、実施例１～３は、１００℃においてＬｏｗ－Ｅ膜２２がアルゴンを放出する放出量に対する、４６０℃においてＬｏｗ－Ｅ膜２２がアルゴンを放出する放出量の比が２．０以下であることを示した。また、比較例１は、１００℃においてＬｏｗ－Ｅ膜２２がアルゴンを放出する放出量に対する、４６０℃においてＬｏｗ－Ｅ膜２２がアルゴンを放出する放出量の比が２．０よりも大きいことを示した。
　＜製造例１～４＞
　下記に示す各部材を用いてガラスパネルユニットの、製造例１～４を行った。
・ガラス板Ａ（実施例１、サイズ；幅×長さ×厚さ＝３００ｍｍ×３００ｍｍ×３ｍｍ）、
・ガラス板Ｂ（実施例２、サイズ；幅×長さ×厚さ＝３００ｍｍ×３００ｍｍ×３ｍｍ）、
・ガラス板Ｃ（実施例３、サイズ；幅×長さ×厚さ＝３００ｍｍ×３００ｍｍ×３ｍｍ）、
・ガラス板Ｄ（比較例１、サイズ；幅×長さ×厚さ＝３００ｍｍ×３００ｍｍ×３ｍｍ）、
・第２ガラス板（サイズ；幅×長さ×厚さ＝３００ｍｍ×３００ｍｍ×３ｍｍ）、
・スペーサ（サイズ；直径×高さ＝１ｍｍ×１００μｍ、樹脂製）、
・第１封着材；ビスマス系ガラスフリット（軟化点；４３４℃）、
・第２封着材；ビスマス系ガラスフリット（軟化点；４３４℃）。
　［製造例１］
　まず、ゲッタ材である銅イオン交換ゼオライトと水とを混合して混合物を得た。その後、排気口を有する第２ガラス板の一面に、第１封着材からなる周壁と、第２封着材からなる仕切りと、通気路と、前記混合物からなるガス吸着体と、複数のスペーサとを設けた。次に、第１ガラス板としてガラス板Ａを用い、Ｌｏｗ－Ｅ膜が第２ガラス板と対向するようにしてガラス板Ａを配置させた。これにより、ガラス板Ａと第２ガラス板との間に内部空間が形成された組立て品が得られた。また、スペーサを設ける際、隣り合うスペーサ同士の間隔が２０ｍｍとなるようにして複数のスペーサをチップマウンタにより第２ガラス板に配置した。
　続いて、排気口と排気管の内部とが連通するようにして第２ガラス板に接合された排気管にシールヘッドを取り付けることで内部空間と真空ポンプとを接続させた。そして、組立て品を溶融炉内に配置した。この配置後、組立て品を４４０℃（第１溶融温度）で１０分間加熱することで、周壁を一旦溶融させた。この溶融時に通気路は塞がれていなかった。
　周壁の溶融後、溶融炉内の温度を排気温度である３９０℃まで降温させた。そして、真空ポンプを作動させることにより、内部空間を３９０℃で１２０分間排気させた。
　その後、真空ポンプを作動させたまま、溶融炉内の温度を第２溶融温度である４６０℃まで昇温させ、この温度で組立て品を３０分間加熱した。この加熱時に、仕切りを変形させて通気路を塞いで隔壁を形成した。
　隔壁の形成後、溶融炉内の温度を室温まで降温させた。この降温後、真空ポンプを停止してシールヘッドを脱着させた。シールヘッドの脱着後、切断により不要な部分を取り除くことで、ガラスパネルユニットを作製した。
　［製造例２］
　第１ガラス板としてガラス板Ｂを用いた以外は、製造例１と同様にしてガラスパネルユニットを作製した。
　［製造例３］
　第１ガラス板としてガラス板Ｃを用いた以外は、製造例１と同様にしてガラスパネルユニットを作製した。
　［製造例４］
　第１ガラス板としてガラス板Ｄを用いた以外は、製造例１と同様にしてガラスパネルユニットを作製した。
　（評価）
　［熱コンダクタンス］
　各製造例のガラスパネルユニットの熱コンダクタンスを下記の手順で評価した。測定装置の高温部と低温部とがガラスパネルユニットにより仕切られた状態にし、第１ガラス板の外面に第１温度計を配置し、第２ガラス板の外面に第２温度計及びセンサとを配置した。この配置後、ガラスパネルユニットを介して加温部から冷却部に伝えられた熱の流束をセンサで検出し、第１温度計で第１ガラス板の表面温度を測定し、第２温度計で第２ガラス板の表面温度が測定した。
　そして、熱流束と、第１ガラス板の表面温度と、第２ガラス板の表面温度と、を下記式（１）に導入することで、ガラスパネルユニットの熱コンダクタンスを算出した。
Ｑ＝Ｃ（Ｔ１－Ｔ２）　・・・（１）
式（１）中、Ｑは熱流束（Ｗ／ｍ２）を示し、Ｔ１は第１ガラス板の表面温度（Ｋ）を示し、Ｔ２は第２ガラス板の表面温度（Ｋ）を示し、Ｃは熱コンダクタンス（Ｗ／ｍ２Ｋ）を示す。
　製造例１の熱コンダクタンスは０．８～０．９Ｗ／ｍ２Ｋであり、製造例２の熱コンダクタンスは１．１３Ｗ／ｍ２Ｋであり、製造例３の熱コンダクタンスは０．７Ｗ／ｍ２Ｋであり、製造例４の熱コンダクタンスは１．７４Ｗ／ｍ２Ｋであった。
　また、ガラス板Ａ、Ｂ、Ｃ、Ｄの各々を４６０℃で加熱し、この加熱後のガラス板Ａ、Ｂ、Ｃ、Ｄの各々の放射率を測定した。その結果、ガラス板Ａの放射率は０．０５５～０．０６５であり、ガラス板Ｂの放射率は０．１１６であり、ガラス板Ｃの放射率は０．０３～０．０４であり、ガラス板Ｄの放射率は０．０６２であった。そして、ＩＳＯ／ＤＩＳ　１９９１６－１：２０１７　Ａｎｎｅｘ　Ｃに準拠して、これらの放射率から各製造例の熱コンダクタンスの予測値を算出した。その結果、製造例１の予測値は０．８０～０．８５Ｗ／ｍ２Ｋであり、製造例２の予測値は１．１０Ｗ／ｍ２Ｋであり、製造例３の予測値は０．６８～０．７３Ｗ／ｍ２Ｋであり、製造例４の予測値は０．８５Ｗ／ｍ２Ｋであった。
　以上より、製造例１～３では熱コンダクタンスの実測値と予測値とに大きな差がなかったが、製造例４では熱コンダクタンスの実測値と予測値とに１Ｗ／ｍ２Ｋ程度の差があった。この結果から、製造例４で熱コンダクタンスの実測値と予測値とに大きな差が生じたのは、通気路が塞がった後でも溶融炉内で加熱されることでＬｏｗ－Ｅ膜がアルゴンガスを放出してしまうことに起因すると考えられる。そして、Ｌｏｗ－Ｅ膜が放出したアルゴンは、ガス吸着体に吸着されず、真空空間にアルゴンが存在していると考えられる。一方、製造例１～３では熱コンダクタンスの実測値と予測値とに大きな差がなかったため、通気路が塞がった後に溶融炉内で加熱されてもＬｏｗ－Ｅ膜はアルゴンガスを放出しにくいと考えられる。このため、真空空間中のアルゴンの量は、製造例４よりも低減できていると考えられる。したがって、熱コンダクタンスの実測値に示される通り、製造例１～３のガラスパネルユニットは、製造例４よりも断熱性が優れている。
　（変形例）
　本開示の実施形態は、上記実施形態に限定されない。上記実施形態は、本開示の目的を達成できれば、設計等に応じて種々の変更が可能である。以下に、上記実施形態の変形例を列挙する。
　上記実施形態では、第１及び第２ガラス板２００、３００のうち、第１ガラス板２００だけが低放射膜２２を備えているが、変形例では第２ガラス板３００も低放射膜を備えてもよい。すなわち、第１及び第２ガラス板２００、３００の両方が低放射膜を備えてもよい。このため、第１及び第２ガラス板２０、３０の両方も低放射膜を備えてもよい。
　上記実施形態では、第１及び第２ガラス板２００、３００のうち、第１ガラス板２００は低放射膜２２を備え、第２ガラス板３００は低放射膜を備えていない。しかし、変形例では第２ガラス板３００が低放射膜を備え、第１ガラス板２００が低放射膜２２を備えなくてもよい。このため、変形例のガラスパネルユニット１０でも、第２ガラス板３０が低放射膜を備え、第１ガラス板２０が低放射膜２２を備えなくてもよい。
　上記実施形態では低放射膜２２が放出するガスとして希ガスを挙げたが、変形例では低放射膜２２は、加熱時に、希ガス以外に、水素、窒素、炭化水素、及び二酸化炭素等のガスを放出してもよい。このガスはガス吸着体６０により吸着されるため、ガラスパネルユニット１０の断熱性は低下しにくい。
　上記実施形態では、排気工程は第１溶融工程後に開始しているが、変形例では、第１溶融時間ｔｍ１が経過した後で、かつ溶融炉内の温度が第１軟化点よりも低ければ、排気工程は第１溶融工程の途中で開始してもよい。
　上記実施形態では、排気工程は第２溶融工程の終了とともに終了しているが、変形例では、排気工程は、第１溶融工程の後に開始し、第２溶融工程の前に終了してもよい。
　上記実施形態では、ガラスパネルユニット１０は矩形状であるが、変形例では、ガラスパネルユニット１０は、円形状や多角形状など所望の形状であってもよい。つまり、第１ガラス板２０、第２ガラス板３０、及び枠体４０は、矩形状ではなく、円形状や多角形状など所望の形状であってもよい。なお、第１ガラス板２００、第２ガラス板３００、周壁４１０、及び仕切り４２０のそれぞれの形状は、上記実施形態の形状に限定されず、所望の形状のガラスパネルユニット１０が得られるような形状であればよい。なお、ガラスパネルユニット１０の形状や大きさは、ガラスパネルユニット１０の用途に応じて決定される。
　第１及び第２ガラス板２０，３０は同じ平面形状および平面サイズを有していなくてもよい。また、第１ガラス板２０の本体２３は、第２ガラス板３０の本体３３と同じ厚みを有していなくてもよい。また、本体２３と、本体３３とは同じ材料で形成されていなくてもよい。これらの点は、第１及び第２ガラス板２００，３００についても同様である。
　周壁４１０は、第１及び第２ガラス板２００，３００と同じ平面形状を有していなくてもよい。
　周壁４１０は、第１封着材に加えて、芯材等の他の要素を備えていてもよい。仕切り４２０（隔壁４２）は、第２封着材に加えて、芯材等の他の要素を備えていてもよい。
　また、組立て品１００では、周壁４１０は第１及び第２ガラス板２００，３００の間にあるだけでこれらを接合していない。しかしながら、組立て品１００の段階で、周壁４１０が第１及び第２ガラス板２００，３００同士を接合していてもよい。要するに、組立て品１００では、周壁４１０は第１及び第２ガラス板２００，３００の間にあればよく、これらを接合していることは必須ではない。
　また、上記実施形態では、仕切り４２０は、周壁４１０に接していない。これによって、仕切り４２０の両端と周壁４１０との隙間が、通気路６１０，６２０を形成している。ただし、仕切り４２０は、その両端の一方のみが周壁４１０に連結されていてもよく、この場合、仕切り４２０と周壁４１０との間に一つの通気路６００が形成されうる。あるいは、仕切り４２０は、その両端が周壁４１０に連結されていてもよい。この場合、通気路６００は、仕切り４２０に形成された貫通孔であってもよい。あるいは、通気路６００は、仕切り４２０と第１ガラス板２００と間の隙間であってもよい。あるいは、仕切り４２０は、間隔をあけて配置された２以上の仕切りで形成されていてもよい。この場合、通気路６００は、２以上の仕切りの間に介在する隙間であってもよい。
　また、上記実施形態では、内部空間５００は、一つの第１空間５１０と一つの第２空間５２０とに仕切られている。ただし、内部空間５００は、仕切り４２０によって、１以上の第１空間５１０と１以上の第２空間５２０とに仕切られていてもよい。内部空間５００が２以上の第１空間５１０を有する場合、１つの仕掛り品１１０から２以上のガラスパネルユニット１０を得ることができる。
　上記実施形態では、通気路６００は二つの通気路６１０，６２０を備えているが、通気路６００は、一つの通気路だけで構成されていてもよいし、３以上の通気路で構成されていてもよい。また、通気路６００の形状は、特に限定されない。
　上記実施形態では、排気口７００は、第２ガラス板３００に形成されている。しかし、排気口７００は、第１ガラス板２００に形成されていてもよいし、周壁４１０のうちの第２空間５２０に対応する部分４１１に形成されていてもよい。要するに、排気口７００は、不要な部分１１に形成されていればよい。
　上記実施形態では、ガス吸着体６０中のゲッタ材は蒸発型ゲッタであるが、ゲッタ材は非蒸発型ゲッタであってもよい。
　上記実施形態では、第１空間５１０を真空空間５０としているが、真空空間５０の代わりに、減圧空間としてもよい。減圧空間は、減圧状態となった第１空間５１０である。減圧状態とは、圧力が大気圧より低い状態であればよい。
　（まとめ）
　上記実施形態及び変形例から明らかなように、本開示は、下記の態様を含む。
　第１態様は、ガラスパネルユニット（１０）の製造方法であって、組立工程と、接合工程と、排気工程と、封止工程と、を含む。組立工程は、組立て品（１００）を用意する工程である。組立て品（１００）は、第１ガラス板（２００）と、第２ガラス板（３００）と、周壁（４１０）と、内部空間（５００）と、仕切り（４２０）と、排気口（７００）と、通気路（６００）と、を備える。第２ガラス板（３００）は、第１ガラス板（２００）に対向する。周壁（４１０）は、枠状であり、第１ガラス板（２００）と第２ガラス板（３００）との間にある。内部空間（５００）は、第１ガラス板（２００）と第２ガラス板（３００）と周壁（４１０）とで囲まれている。仕切り（４２０）は、内部空間（５００）を第１空間（５１０）と第２空間（５２０）とに仕切る。排気口（７００）は第２空間（５２０）と外部空間とをつなぐ。通気路（６００）は第１空間（５１０）と第２空間（５２０）とをつなぐ。第１ガラス板（２００）及び第２ガラス板（３００）のうち一方又は両方は、低放射膜（２２）を備える。低放射膜（２２）は、第１空間（５１０）内にある。接合工程は、周壁（４１０）を溶融させて周壁（４１０）で第１ガラス板（２００）と、第２ガラス板（３００）とを気密に接合する工程である。排気工程は、通気路（６００）と第２空間（５２０）と排気口（７００）とを介して第１空間（５１０）を排気する工程である。封止工程は、仕切り（４２０）の軟化点以上の温度で仕切り（４２０）を変形させて通気路（６００）を塞ぐ工程である。周壁（４１０）を溶融させる前の低放射膜（２２）を４℃／ｍｉｎの昇温速度で加熱するとき、１００℃において低放射膜（２２）が希ガスを放出する放出量に対する、仕切り（４２０）が変形する温度において低放射膜（２２）が希ガスを放出する放出量の比は、２．０以下である。
　第１態様によれば、仕切り（４２０）が変形して通気路（６００）を塞いだ後に、低放射膜（２２）が希ガスを放出する放出量を低減できる。これにより、排気後の第１空間（５１０）内の希ガスの量を低減でき、第１空間（５１０）内の希ガスによる熱伝達を低減できるため、ガラスパネルユニット（１０）の断熱性を向上させることができる。
　第２態様は、第１態様のガラスパネルユニット（１０）の製造方法であって、１００℃において低放射膜（２２）が希ガスを放出する放出量に対する、仕切り（４２０）が変形する温度において低放射膜（２２）が希ガスを放出する放出量の比は、１．５以下である。
　第２態様によれば、仕切り（４２０）が変形して通気路（６００）を塞いだ後に、低放射膜（２２）が希ガスを放出する放出量を低減できる。これにより、排気後の第１空間（５１０）内の希ガスの量を低減でき、第１空間（５１０）内の希ガスによる熱伝達を低減できるため、ガラスパネルユニット（１０）の断熱性を向上させることができる。
　第３態様は、第２態様のガラスパネルユニット（１０）の製造方法であって、１００℃において低放射膜（２２）が希ガスを放出する放出量に対する、仕切り（４２０）が変形する温度において低放射膜（２２）が希ガスを放出する放出量の比は、１．０以下である。
　第３態様によれば、仕切り（４２０）が変形して通気路（６００）を塞いだ後に、低放射膜（２２）が希ガスを放出する放出量を低減できる。これにより、排気後の第１空間（５１０）内の希ガスの量を低減でき、第１空間（５１０）内の希ガスによる熱伝達を低減できるため、ガラスパネルユニット（１０）の断熱性を向上させることができる。
　第４態様は、第３態様のガラスパネルユニット（１０）の製造方法であって、仕切り（４２０）が変形する温度において低放射膜（２２）が希ガスを放出する放出量は、１００℃において低放射膜（２２）が希ガスを放出する放出量よりも少ない。
　第４態様によれば、仕切り（４２０）が変形して通気路（６００）を塞いだ後に、低放射膜（２２）が希ガスを放出する放出量を低減できる。これにより、排気後の第１空間（５１０）内の希ガスの量を低減でき、第１空間（５１０）内の希ガスによる熱伝達を低減できるため、ガラスパネルユニット（１０）の断熱性を向上させることができる。
　第５態様は、第１～第４態様のいずれか１つのガラスパネルユニット（１０）の製造方法であって、前記希ガスは、アルゴンを含む。
　第５態様によれば、仕切り（４２０）が変形して通気路（６００）を塞いだ後に、低放射膜（２２）が希ガスを放出する放出量を低減できる。これにより、排気後の第１空間（５１０）内の希ガスの量を低減でき、第１空間（５１０）内の希ガスによる熱伝達を低減できるため、ガラスパネルユニット（１０）の断熱性を向上させることができる。
　第６態様は、第１～第５態様のいずれか１つのガラスパネルユニット（１０）の製造方法であって、仕切り（４２０）の軟化点は、周壁（４１０）の軟化点と同じである。
　第６態様によれば、仕切り（４２０）が変形して通気路（６００）を塞いだ後に、低放射膜（２２）が希ガスを放出する放出量を低減できる。これにより、排気後の第１空間（５１０）内の希ガスの量を低減でき、第１空間（５１０）内の希ガスによる熱伝達を低減できるため、ガラスパネルユニット（１０）の断熱性を向上させることができる。
　第７態様は、第１～第６態様のいずれか１つのガラスパネルユニット（１０）の製造方法であって、除去工程を更に含む。除去工程は、第２空間（５２０）を有する部分（１１）を除去することで、第１空間（５１０）を有する部分であるガラスパネルユニット（１０）を得る工程である。
　第７態様によれば、仕切り（４２０）が変形して通気路（６００）を塞いだ後に、低放射膜（２２）が希ガスを放出する放出量を低減できる。これにより、排気後の第１空間（５１０）内の希ガスの量を低減でき、第１空間（５１０）内の希ガスによる熱伝達を低減できるため、ガラスパネルユニット（１０）の断熱性を向上させることができる。
　第８態様は、ガラスパネルユニット（１０）を作製するための組立て品（１００）である。組立て品（１００）は、第１ガラス板（２００）と、第２ガラス板（３００）と、周壁（４１０）と、内部空間（５００）と、仕切り（４２０）と、排気口（７００）と、通気路（６００）と、を備える。第２ガラス板（３００）は、第１ガラス板（２００）に対向する。周壁（４１０）は、枠状であり、第１ガラス板（２００）と第２ガラス板（３００）との間にある。内部空間（５００）は、第１ガラス板（２００）と第２ガラス板（３００）と周壁（４１０）とで囲まれている。仕切り（４２０）は、内部空間（５００）を第１空間（５１０）と第２空間（５２０）とに仕切る。排気口（７００）は第２空間（５２０）と外部空間とをつなぐ。通気路（６００）は第１空間（５１０）と第２空間（５２０）とをつなぐ。第１ガラス板（２００）及び第２ガラス板（３００）のうち一方又は両方は、低放射膜（２２）を備える。低放射膜（２２）は、第１空間（５１０）内にある。周壁（４１０）を溶融させる前の低放射膜（２２）を４℃／ｍｉｎの昇温速度で加熱するとき、１００℃において低放射膜（２２）が希ガスを放出する放出量に対する、仕切り（４２０）が変形する温度において低放射膜（２２）が希ガスを放出する放出量の比は、２．０以下である。
　第８態様によれば、仕切り（４２０）が変形して通気路（６００）を塞いだ後に、低放射膜（２２）が希ガスを放出する放出量を低減できる。これにより、排気後の第１空間（５１０）内の希ガスの量を低減でき、第１空間（５１０）内の希ガスによる熱伝達を低減できるため、ガラスパネルユニット（１０）の断熱性を向上させることができる。
　１０　　ガラスパネルユニット
　１００　組立て品
　２００　第１ガラス板
　３００　第２ガラス板
　２２　　低放射膜
　４１０　周壁
　４２０　仕切り
　５００　内部空間
　５１０　第１空間
　５２０　第２空間
　６００　通気路
　７００　排気口

Claims (8)

  1. 　組立工程と、接合工程と、排気工程と、封止工程と、を含み、
    　前記組立工程は、組立て品を用意する工程であり、
    　前記組立て品は、
    　第１ガラス板と、
    　前記第１ガラス板に対向する第２ガラス板と、
    　前記第１ガラス板と前記第２ガラス板との間にある枠状の周壁と、
    　前記第１ガラス板と前記第２ガラス板と前記周壁とで囲まれた内部空間と、
    　前記内部空間を第１空間と第２空間とに仕切る仕切りと、
    　前記第２空間と外部空間とをつなぐ排気口と、
    　前記第１空間と前記第２空間とをつなぐ通気路と、
    　を備え、
    　前記第１ガラス板及び前記第２ガラス板のうち一方又は両方は、低放射膜を備え、
    　前記低放射膜は、前記第１空間内にあり、
    　前記接合工程は、前記周壁を溶融させて前記周壁で前記第１ガラス板と、前記第２ガラス板とを気密に接合する工程であり、
    　前記排気工程は、前記通気路と前記第２空間と前記排気口とを介して前記第１空間を排気する工程であり、
    　前記封止工程は、前記仕切りの軟化点以上の温度で前記仕切りを変形させて前記通気路を塞ぐ工程であり、
    　前記周壁を溶融させる前の前記低放射膜を４℃／ｍｉｎの昇温速度で加熱するとき、１００℃において前記低放射膜が希ガスを放出する放出量に対する、前記仕切りが変形する温度において前記低放射膜が希ガスを放出する放出量の比は、２．０以下である、
    　ガラスパネルユニットの製造方法。
  2. 　１００℃において前記低放射膜が希ガスを放出する放出量に対する、前記仕切りが変形する温度において前記低放射膜が希ガスを放出する放出量の比は、１．５以下である、
    　請求項１に記載のガラスパネルユニットの製造方法。
  3. 　１００℃において前記低放射膜が希ガスを放出する放出量に対する、前記仕切りが変形する温度において前記低放射膜が希ガスを放出する放出量の比は、１．０以下である、
    　請求項２に記載のガラスパネルユニットの製造方法。
  4. 　前記仕切りが変形する温度において前記低放射膜が希ガスを放出する放出量は、１００℃において前記低放射膜が希ガスを放出する放出量よりも少ない、
    　請求項３に記載のガラスパネルユニットの製造方法。
  5. 　前記希ガスは、アルゴンを含む、
    　請求項１～４のいずれか１項に記載のガラスパネルユニットの製造方法。
  6. 　前記仕切りの軟化点は、前記周壁の軟化点と同じである、
    　請求項１～５のいずれか１項に記載のガラスパネルユニットの製造方法。
  7. 　除去工程を更に含み、
    　前記除去工程は、前記第２空間を有する部分を除去することで、前記第１空間を有する部分であるガラスパネルユニットを得る工程である、
    　請求項１～６のいずれか１項に記載のガラスパネルユニットの製造方法。
  8. 　ガラスパネルユニットを作製するための組立て品であって、
    　第１ガラス板と、
    　前記第１ガラス板に対向する第２ガラス板と、
    　前記第１ガラス板と前記第２ガラス板との間にある枠状の周壁と、
    　前記第１ガラス板と前記第２ガラス板と前記周壁とで囲まれた内部空間と、
    　前記内部空間を第１空間と第２空間とに仕切る仕切りと、
    　前記第２空間と外部空間とをつなぐ排気口と、
    　前記第１空間と前記第２空間とをつなぐ通気路と、
    　を備え、
    　前記第１ガラス板及び前記第２ガラス板のうち一方又は両方は、低放射膜を備え、
    　前記低放射膜は、前記第１空間内にあり、
    　前記周壁を溶融させる前の前記低放射膜を４℃／ｍｉｎの昇温速度で加熱するとき、１００℃において前記低放射膜が希ガスを放出する放出量に対する、前記仕切りが変形する温度において前記低放射膜が希ガスを放出する放出量の比は、２．０以下である、
    　ガラスパネルユニットの組立て品。
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