WO2020203761A1 - 吸光遮熱膜、吸光遮熱部材、および物品、並びにそれらの製造方法 - Google Patents

Abstract

通常は両立しない、可視光線および近赤外線を吸収し、かつ遠赤外線の放射が小さい吸光遮熱膜を提供する。　微細凹凸形状物を含む金属層を備え、前記微細凹凸形状物の高さの平均が１００ｎｍ以上１０００ｎｍ以下であることを特徴とする吸光遮熱膜。

Description

吸光遮熱膜、吸光遮熱部材、および物品、並びにそれらの製造方法

　本発明は、吸光遮熱膜、吸光遮熱部材、および物品、並びにそれらの製造方法に関する。

　近年、光学機器、宇宙機器や輸送製品の内外装部品において、温度の上昇を抑える遮熱材料の利用が拡大している。また、遮熱材料であって吸光性も備えた材料は、赤外線カメラの鏡筒内や絞り用フィルムに用いると迷光によるノイズを低減でき、かつ温度が上がりにくく寸法安定性も高いため、吸光性および遮熱性をともに備えた材料が求められている。従来、吸光材料としては、黒色無電解ニッケルメッキが施された吸光材料が知られている（例えば、非特許文献１）。これは、物体表面のニッケルメッキを酸化することにより微細凹凸形状を形成することで表面を黒色化し、吸光材料としている。また、金属表面が微細凹凸形状を有する金型を用いて、表面に微細構造を有した樹脂を射出成形により作製する技術も示されている（例えば、特許文献１）。

特開２００４－２６１９１０号公報

「黒色無電解ニッケルめっき」，表面技術，Ｖｏｌ．６６，Ｎｏ．１１，５０３－５０６，２０１５年

　しかし、上記非特許文献１に示される黒色物は遠赤外線領域でも放射が大きく、優れた遮熱性は示さないという課題がある。また、特許文献１に記載の発明は金型を用いた樹脂の射出成形であり、汎用性の高い形態の金属膜を成形することはできず、吸光遮熱部材として様々な製品に適用するのは困難であり、実用性に課題がある。

　本発明は上記課題に鑑みてなされたものであり、通常は両立しない可視光線および近赤外線を吸収し（すなわち、反射率が低く）、かつ遠赤外線の放射は小さい（すなわち、反射率が高い）特性を有する吸光遮熱部材を提供することを目的とする。

　本発明に係る吸光遮熱膜は、微細凹凸形状物を含む金属層を備え、前記微細凹凸形状物の高さが１００ｎｍ以上１０００ｎｍ以下であることを特徴とする。

　本発明によれば、微細凹凸形状物を有した吸光遮熱膜を用いることで、通常は両立しない吸光遮熱特性を実現することができる。また、本発明の吸光遮熱膜を発熱部材の表面に設けることにより、検知温度を約３℃以上低くすることができる。

本発明の吸光遮熱膜の実施態様を示す概略図である。 本発明の吸光遮熱膜の実施態様を示す概略図である。 本発明の吸光遮熱膜の実施態様を示す概略図である。 本発明の吸光遮熱部材の実施態様を示す概略図である。 本発明の吸光遮熱部材の実施態様を示す概略図である。 本発明の吸光遮熱部材の製造方法の一実施態様を示す工程図である。 本発明の吸光遮熱部材の製造方法の一実施態様を示す工程図である。 本発明の吸光遮熱部材の製造方法の一実施態様を示す工程図である。 本発明の吸光遮熱部材の製造方法の一実施態様を示す工程図である。 本発明の吸光遮熱部材の製造方法の一実施態様を示す工程図である。 本発明の吸光遮熱部材の製造方法の一実施態様を示す工程図である。 本発明の吸光遮熱部材の製造方法の一実施態様を示す工程図である。 本発明の吸光遮熱部材の製造方法の一実施態様を示す工程図である。 実施例１で得られた吸光遮熱部材の断面の電子顕微鏡観察図である。 実施例１および実施例３で得られた吸光遮熱部材および比較例１で得られた吸光部材の可視光線領域の反射率スペクトルの測定結果である。 実施例１および実施例３で得られた吸光遮熱部材および比較例１で得られた吸光部材の赤外線領域の反射率スペクトルの測定結果である。 実施例３で得られた吸光遮熱部材の断面の電子顕微鏡観察図である。

　以下、本発明の実施の形態について、詳細に説明する。
　本発明に係る吸光遮熱膜は、微細凹凸形状物を含む金属層を備え前記微細凹凸形状物の高さが１００ｎｍ以上１０００ｎｍ以下であることを特徴とする。

　アルミやニッケルなどの導電性が高い金属は、遠赤外線の放射が小さく遮熱性を有するが、吸光性は示さない。一方、可視光線の波長よりも小さなサブ波長構造による微細凹凸形状は、反射防止効果をもつことが知られており、構造部の空間占有率を連続的に変えることで、優れた波長帯域特性や入射角度特性を示すことが知られている。そのため、金属表面を微細凹凸化すると可視光線の広い波長領域で金属表面における反射が抑えられ、可視光線領域全体での反射率は低下し、黒く見え、吸光性が発現される。従って、表面が微細凹凸構造を備える金属部材は、吸光および遮熱性を併せ持つことができると考えられる。しかし、非特許文献１に示される吸光材料は、ニッケル表面を酸化することにより得た微細凹凸形状を表面に備えるが、遠赤外線領域でも放射が大きく（反射率が低く）、遮熱性を示さない。このことから、本発明者らは、吸光遮熱膜を形成する金属その物の遮熱性に加えて、金属表面の微細凹凸形状の特定の形状が遮熱性を発現するために重要であることを見出し、本発明を完成するに至った。

　すなわち、本発明の吸光遮熱膜は、金属層上に設けられた特定の微細凹凸形状物を備えるため、吸光性および遮熱性を併せて発現させることができる。特に、本発明の吸光遮熱膜は、可視光領域（５５０ｎｍ）の反射率は１０％以下であり、遠赤外光領域（１０μｍ）の反射率は７０％以上であることが好ましい。

＜吸光遮熱膜＞
　本発明の吸光遮熱膜を、図１Ａ～図１Ｃを用いて説明する。図１Ａに示すように本発明の吸光遮熱膜の一実施形態は、表面に微細凹凸形状物２を含む金属層１を備える吸光遮熱膜である。金属層１の材料としては、導電性が高い金属が好ましい。導電性が高い金属としては、銀、銅、金、アルミニウム、マグネシウム、タングステン、コバルト、亜鉛、ニッケル、クロムなどが挙げられ、ニッケル、亜鉛、クロムが好ましく、ニッケルが特に好ましい。金属層１の表面に設けられた微細凹凸形状物２も上記導電性が高い金属からなることが好ましく、金属層１と同じ金属からなることがより好ましい。また、微細凹凸形状物２の表面に、透明な金属酸化物が付着していてもよい。

　微細凹凸形状物２とは、金属層１の一方の表面に設けられた微細な凹凸形状物であり、微細凹凸形状物２の高さとは金属層表面に形成された凸部の頂点と凹部の底点との高低差を指す。微細凹凸形状物２の高さの平均は、１００ｎｍ以上１０００ｎｍ以下であり、好ましくは１００ｎｍ以上５００ｎｍ以下である。また、微細凹凸形状物２の表面に、透明な金属酸化物が付着していてもよい。透明な金属酸化物を含む微細凹凸形状物２の高さの平均は、１５０ｎｍ以上６００ｎｍ以下であることが好ましい。ここで、微細凹凸形状物２の高さ、または透明な金属酸化物を含む微細凹凸形状物２の高さとは、ＪＩＳ－Ｂ－０６１の「表面粗さの定義と表示」に規定されている山頂と谷底との高低差を意味し、最大粗さ（Ｒｍａｘ）に相当するものである。また、本発明の吸光遮熱膜は、その表面において、中心線平均粗さＲａを面拡張した平均面粗さＲａ’が１ｎｍ以上５０ｎｍ以下であることが好ましい。ここで、平均面粗さＲａ’値（ｎｍ）は、ＪＩＳ－Ｂ－０６０１で定義されている中心線平均粗さＲａを、測定面に対し適用し三次元に拡張したもので、「基準面から指定面までの偏差の絶対値を平均した値」と表現し、次の式（１）で求められる。

　式（１）中、Ｒａ’は平均面粗さ（ｎｍ）、Ｓ_０は測定面が理想的にフラットであるとした時の面積｜Ｘ_Ｒ－Ｘ_Ｌ｜×｜Ｙ_Ｔ－Ｙ_Ｂ｜、Ｆ（Ｘ，Ｙ）はＸ座標がＸ、Ｙ座標がＹである測定点（Ｘ，Ｙ）における高さ、Ｘ_Ｌ～Ｘ_Ｒは測定面のＸ座標の範囲、Ｙ_Ｂ～Ｙ_Ｔは測定面のＹ座標の範囲、Ｚ_０は測定面内の平均の高さである。

　さらに、本発明の吸光遮熱膜は、その表面の比表面積Ｓｒが１．０以上３．０以下であることが好ましい。比表面積Ｓｒは、次の式（２）で求められる。
　　Ｓｒ＝Ｓ／Ｓ_０　　　式（２）
　式（２）中、Ｓ_０は測定面が理想的にフラットであるとした時の表面積、Ｓは実際の測定面の表面積である。

　なお、実際の測定面の表面積は、表面を最も近接した３つのデータ点（Ａ，Ｂ，Ｃ）より成る微小三角形ΔＡＢＣに分割し、次いで各微小三角形の面積ΔＳを、次の式（３）の記載のようにベクトル積を用いて求め、このΔＳの総和が求める表面積Ｓになる。
　　［ΔＳ（ΔＡＢＣ）］^２＝［ｓ（ｓ－ＡＢ）（ｓ－ＢＣ）（ｓ－ＣＡ）］
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　式（３）
　式（３）中、ＡＢ，ＢＣおよびＣＡは各辺の長さであり、２ｓ＝ＡＢ＋ＢＣ＋ＣＡとなる。

　微細凹凸形状物２の高さは、本発明の吸光遮熱膜の断面を走査型電子顕微鏡などで観察することにより求めることができる。また、本発明の吸光遮熱膜の表面の平均面粗さＲａ’および比表面積は、走査型プローブ顕微鏡などを用いて金属層の微細凹凸形状物を備える表面を観察することにより求めることができる。

　本発明の吸光遮熱膜の別の実施形態では、図１Ｂに示すように、微細凹凸形状物２に密接する透明な金属酸化物の微細凹凸形状３を備えていてもよい。また、本発明の吸光遮熱膜の別の実施形態では、図１Ｃに示すように、金属酸化物の微細凹凸形状３の微細凹凸形状物２とは接していない面を覆う透明な金属酸化物層４をさらに備えていてもよい。ここで、密接するとは、金属酸化物の微細凹凸形状３を構成する金属酸化物が、微細凹凸形状物２に囲まれた空間を満たし、金属層１にまで達していることを意味する。なお、吸光遮熱膜が微細凹凸形状３、金属酸化物層４を備える場合、吸光遮熱膜の表面となる金属酸化物層４の表面において中心線平均粗さＲａを面拡張した平均面粗さＲａ’が１ｎｍ以上４ｎｍ以下であり、吸光遮熱膜の表面の比表面積Ｓｒが１．０以上１．１以下であることが好ましい。

　金属酸化物の微細凹凸形状３の材料は特に限定されないが、アルミナを主成分とすることが好ましく、アルミナを主成分とする板状結晶を含むことがより好ましい。アルミナを主成分とする板状結晶は、アルミニウムの酸化物または水酸化物またはそれらの水和物を主成分とする板状結晶により形成され、特に好ましい結晶としては、ベーマイトである。ここで、アルミナを主成分とする板状結晶は、アルミナのみからなる板状結晶であってもよく、アルミナの板状結晶に微量のジルコニウム、シリコン、チタニウム、亜鉛などを含む板状結晶であってもよい。

　金属酸化物の微細凹凸形状３を備えることにより、微細凹凸形状物２を保護することができる。また、金属酸化物の微細凹凸形状３が、アルミナを主成分とする板状結晶の板状組織である場合、アルミナを主成分とする板状結晶が金属層１の面方向に対して垂直方向に配置され、その空間的占有率が連続的に変化していることが好ましい。

　金属酸化物層４の材料は特に限定されないが、アルミナのアモルファスゲルを含むことが好ましい。金属酸化物層４は、本発明の吸光遮熱膜の表面の硬度を高める一方、吸光性を下げる。そのため、要求される硬度と吸光性を満たすように、金属酸化物層４の厚さを適宜決定するとよい。

　微細凹凸形状物２、微細凹凸形状３、および金属酸化物層４中のアルミニウム元素、ケイ素元素等、並びに金属層１中の銀、銅、金、アルミニウム、マグネシウム、タングステン、コバルト、亜鉛、ニッケル、クロム等の金属元素は、走査型電子顕微鏡（ＳＥＭ）や透過型電子顕微鏡（ＴＥＭ）による表面や断面観察時のエネルギー分散型Ｘ線分析（ＥＤＸ）またはＸ線電子分光（ＸＰＳ）の測定などで検出することができる。微細凹凸形状物２、微細凹凸形状３、または金属酸化物層４が設けられている場合、金属層１の面方向に対して垂直方向において、表面（金属酸化物層４）から内部（金属層１）に向かって相対的にアルミニウム元素等の金属酸化物の割合が低くなり、金属層１および微細凹凸形状物２を構成する金属元素の割合が高くなり、最終的に金属元素のみが検出される。

＜吸光遮熱部材＞
　図２Ａに示すように、本発明の吸光遮熱部材の実施形態は、本発明の吸光遮熱膜の金属層１の微細凹凸形状物２とは反対側の面に基材５が設けられた吸光遮熱部材である。基材５の形状としては、使用目的に応じた形状にされ得るものであれば良く、平板形状、フィルム形状、シート形状などが挙げられるが、これらに限定されない。基材５の材料としては、金属、ガラス、セラミックス、木材、紙、樹脂などが挙げられるが、これらに限定されない。樹脂としては、例えば、ポリエステル、トリアセチルセルロース、酢酸セルロース、ポリエチレンテレフタレート、ポリプロピレン、ポリスチレン、ポリカーボネート、ポリメチルメタクリレート、ＡＢＳ樹脂、ポリフェニレンオキサイド、ポリウレタン、ポリエチレン、ポリ塩化ビニルなどの熱可塑性樹脂のフィルムや成形品；不飽和ポリエステル樹脂、フェノール樹脂、架橋型ポリウレタン、架橋型のアクリル樹脂、架橋型の飽和ポリエステル樹脂などの熱硬化性樹脂が挙げられる。

　図２Ｂに示すように、本発明の別の実施形態では、吸光遮熱膜と基材５は接着層６により接着されていてもよい。接着層６は、吸光遮熱膜と基材５を接着できればいかなる層であってもよいが、例えば、接着性の樹脂（例えば、エポキシ樹脂など）の硬化物からなる層、両面テープなどが挙げられる。

　なお、図２Ａおよび図２Ｂでは、図１Ｃに示す吸光遮熱膜を備える吸光遮熱部材を示しているが、図１Ｃに示す吸光遮熱膜に代えて図１Ａまたは図１Ｂに示す吸光遮熱膜を備える吸光遮熱部材としてもよい。

＜吸光遮熱膜および吸光遮熱部材の製造方法＞
　以下、図３Ａ～図３Ｈを参照して本発明の吸光遮熱膜および吸光遮熱部材の製造方法について述べる。
　本発明の吸光遮熱膜の製造方法は、金属酸化物の微細凹凸形状を形成する第１工程と、金属酸化物の微細凹凸形状上に金属層を形成する第２工程を含む。本発明の吸光遮熱部材は、吸光遮熱膜の金属層の金属酸化物の微細凹凸形状と接する面とは逆の面に基材を接着する工程をさらに含む。

（第１工程：金属酸化物の微細凹凸形状の作製工程）
　第１工程では、型となる金属酸化物の微細凹凸形状を形成する。

　金属酸化物の微細凹凸形状の材料は特に限定されないが、アルミナを主成分とすることが好ましい。微細凹凸形状は、公知の化学気相成長（ＣＶＤ）、物理気相成長（ＰＶＤ）などの気相法、およびゾル－ゲルの液相法より形成させることが可能である。これらの手法より、アルミナを主成分とする板状結晶を含む金属酸化物の微細凹凸形状を設けることができる。中でも、アルミニウムを含む膜を温水で処理して、アルミナ板状結晶を成長させる方法が好ましい。

　アルミニウムを含む膜としては、アルミニウム化合物を含むゾル－ゲルコーティング液を塗布して形成したアルミナゲル膜や、真空蒸着やスパッタ法などのドライ製膜により形成した金属アルミニウムを含む膜などが挙げられる。反応性や金属酸化物の微細凹凸形状の高さの調整が容易であるという点で、アルミナゲル膜を用いて金属酸化物の微細凹凸形状を形成することが好ましい。

　アルミナゲル膜の原料としては、アルミニウムアルコキシド、アルミニウムのハロゲン化物、アルミニウムの塩などのアルミニウム化合物を用いることができる。製膜性の観点から、アルミニウムアルコキシドを用いることが好ましい。

　アルミニウム化合物としては、例えば、アルミニウムエトキシド、アルミニウムイソプロポキシド、アルミニウム－ｎ－ブトキシド、アルミニウム－ｓｅｃ－ブトキシド、アルミニウム－ｔｅｒｔ－ブトキシドなどのアルミニウムアルコキシド、およびこれらのオリゴマー、塩化アルミニウムなどのアルミニウムのハロゲン化物、硝酸アルミニウム、酢酸アルミニウム、リン酸アルミニウム、硫酸アルミニウムなどアルミニウム塩の、アルミニウムアセチルアセトナート、水酸化アルミニウムなどが挙げられる。

　また、アルミナゲル膜は、その他の化合物を含んでいても良い。その他の化合物としては、例えばジルコニウム、シリコン、チタニウム、亜鉛のアルコキシド、ハロゲン化物、塩およびそれらの組み合わせが挙げられる。アルミナゲル膜がその他の化合物を含むことにより、これらを含まない場合と比べて、形成する金属酸化物の微細凹凸形状の高さを高くすることができる。

　アルミナゲル膜は、下記に示すように、アルミニウム化合物を含むゾル－ゲルコーティング液を塗布して、ベース基材上に形成する。ゾル－ゲルコーティング液はアルミニウム化合物を有機溶媒に溶解させて調製する。アルミニウム化合物に対する有機溶媒の量は、モル比で２０倍程度とすることが好ましい。

　有機溶媒としては、アルコール、カルボン酸、脂肪族炭化水素、脂環族炭化水素、芳香族系炭化水素、エステル、ケトン、エーテル、あるいはこれらの混合溶媒を用いることができる。アルコールとしては、例えば、メタノール、エタノール、２－プロパノール、ブタノール、２－メトキシエタノール、２－エトキシエタノール、１－メトキシ－２－プロパノール、１－エトキシ－２－プロパノール、１－プロポキシ－２－プロパノール、４－メチル－２－ペンタノール、２－エチルブタノール、３－メトキシ－３－メチルブタノール、エチレングリコール、ジエチレングリコール、グリセリンなどが挙げられる。カルボン酸としては、例えば、ｎ－酪酸、α－メチル酪酸、ｉｓｏ－吉草酸、２－エチル酪酸、２，２－ジメチル酪酸、３，３－ジメチル酪酸、２，３－ジメチル酪酸、３－メチルペンタン酸、４－メチルペンタン酸、２－エチルペンタン酸、３－エチルペンタン酸、２，２－ジメチルペンタン酸、３，３－ジメチルペンタン酸、２，３－ジメチルペンタン酸、２－エチルヘキサン酸、３－エチルヘキサン酸などが挙げられる。脂肪族炭化水素または脂環族炭化水素としては、例えば、ｎ－ヘキサン、ｎ－オクタン、シクロヘキサン、シクロペンタン、シクロオクタンなどが挙げられる。芳香族炭化水素としては、例えば、トルエン、キシレン、エチルベンゼンなどが挙げられる。エステル類としては、例えば、ギ酸エチル、酢酸エチル、酢酸ｎ－ブチル、エチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、エチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、エチレングリコールモノブチルエーテルアセテートなどが挙げられる。ケトン類としては、例えば、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノンなどが挙げられる。エーテル類としては、例えば、ジメトキシエタン、テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジイソプロピルエーテルなどが挙げられる。中でも、ゾル－ゲルコーティング液の安定性の点から、アルコールを使用することが好ましい。

　アルミニウム化合物としてアルミニウムアルコキシドを用いる場合、水に対する反応性が高いため、空気中の水分や水の添加により急激にアルミニウムアルコキシドが加水分解され、ゾル－ゲルコーティング液の白濁および沈殿が生じることがある。これらを防止するために、ゾル－ゲルコーティング液に安定化剤を添加し、安定化を図ることが好ましい。安定化剤としては、β－ジケトン化合物類、β－ケトエステル化合物類、アルカノールアミン類などを用いることができる。β－ジケトン化合物類としては、例えば、アセチルアセトン、トリフルオロアセチルアセトン、ヘキサフルオロアセチルアセトン、ベンゾイルアセトン、３－メチル－２，４－ペンタンジオン、３－エチル－２，４－ペンタンジオンなどが挙げられる。β－ケトエステル化合物類としては、例えば、アセト酢酸メチル、アセト酢酸エチル、アセト酢酸ブチル、アセト酢酸ヘキシル、アセト酢酸アリル、アセト酢酸ベンジル、アセト酢酸－ｉｓｏ－プロピル、アセト酢酸－２－メトキシエチル、アセト酢酸－ｓｅｃ－ブチル、アセト酢酸－ｔｅｒｔ－ブチル、アセト酢酸－ｉｓｏ－ブチル、などが挙げられる。アルカノールアミン類としては、例えば、モノエタノールアミン、ジエタノールアミン、トリエタノールアミンなどが挙げられる。アルミニウムアルコキシドに対する安定化剤の量はモル比で１倍程度であることが好ましい。

　アルミニウムアルコキシドの加水分解反応を促進するために触媒を用いてもよい。触媒としては、たとえば、硝酸、塩酸、硫酸、燐酸、酢酸、アンモニア等を例示することができる。

　また、アルミナゲル膜には、必要に応じて水溶性有機高分子化合物を添加することができる。水溶性有機高分子化合物は、温水への浸漬によってアルミナゲル膜中から容易に溶出し、これによりアルミニウム化合物と温水との反応表面積が増大し、低温かつ短時間での微細凹凸形状の形成を可能にする。また、添加する有機高分子の種類や分子量を変化させることにより、形成される微細凹凸形状の高さなどを制御することが可能になる。有機高分子としては、ポリエチレングリコール、ポリプロピレングリコールなどのポリエーテルグリコール類が温水への浸漬によって容易にアルミナゲル膜から溶出するので好ましい。アルミナゲル膜中のアルミニウム化合物の重量に対するポリエーテルグリコール類の量は重量比で０．１倍から１０倍の範囲であることが好ましい。

　金属酸化物の微細凹凸形状の製造方法を図３Ａおよび図３Ｂを参照して述べる。アルミニウム化合物、および必要に応じてその他の化合物、安定化剤、水溶性有機高分子化合物を、有機溶媒に溶解または懸濁させゾル－ゲルコーティング液を調製する。このゾル－ゲルコーティング液をベース基材８上に塗布、乾燥し、アルミニウムを含む膜７としてのアルミナゲル膜を形成する。または、真空蒸着やスパッタ法などのドライ製膜によりアルミニウムを含む膜７としての金属アルミニウムを含む膜をベース基材８上に形成する。ベース基材８の材質は特に制限はなく、ガラス、プラスチック、金属など種々の材質を用いることができる。安定化剤を含まないゾル－ゲルコーティング液を用いてアルミナゲル膜を形成する際には、塗布を行う雰囲気を乾燥空気もしくは乾燥窒素等の不活性気体雰囲気とすることが好ましい。乾燥雰囲気の相対湿度は３０％以下にすることが好ましい。アルミナゲル膜を形成する溶液塗布法としては、例えばディッピング法、スピンコート法、スプレー法、印刷法、フローコート法、およびこれらの併用等、既知の塗布手段を適宜採用することができる。膜厚は、ディッピング法における引き上げ速度やスピンコート法における基板回転速度などを変化させることと、ゾル－ゲルコーティング液の濃度を変えることにより制御することができる。乾燥は、室温で３０分程度乾燥させればよい。また、必要に応じてさらに高い温度で乾燥あるいは熱処理させることも可能であり、熱処理温度が高いほど、後述の浸漬処理で、より安定した金属酸化物の微細凹凸形状３を形成させることができる。アルミニウムを含む膜７の好適な膜厚としては、１００ｎｍ以上６００ｎｍ以下、好ましくは１００ｎｍ以上３００ｎｍ以下、より好ましくは１００ｎｍ以上２００ｎｍ以下である。

　次いで、アルミニウムを含む膜７を温水に浸漬処理することにより、アルミナの微細凹凸形状を形成する。アルミナゲル膜を温水に浸漬することにより、アルミナゲル膜の表層が解膠作用等を受け、一部の成分は溶出するものの、各種水酸化物の温水への溶解度の違いにより、アルミナを主成分とする板状結晶が該アルミナゲル膜の表層に析出、成長することで金属酸化物の微細凹凸形状３が形成される。また、アルミナゲル膜に代えて金属アルミニウムを含む膜を用いた場合、アルミニウムが温水と反応しアルミナへと酸化された後に、アルミナゲル膜を用いた場合と同様に金属酸化物の微細凹凸形状３が形成される。そのため、ベース基材８の材料がアルミニウムまたはアルミナを主に含む場合、ベース基材８上へのアルミニウムを含む膜７の製膜を省略することもできる。なお、温水の温度は４０℃以上１００℃未満とすることが好ましい。浸漬処理時間としては約５分間から２４時間程度とすることが好ましい。アルミナ成分以外のその他の化合物を加えたアルミナゲル膜の浸漬処理では、各成分の温水に対する溶解度の差を用いてアルミナの板状結晶の結晶化を行っている。そのため、アルミナ単成分を含むアルミナゲル膜の浸漬処理とは異なり、無機成分の組成を変化させることにより板状結晶のサイズを広範な範囲にわたって制御することができる。また、アルミニウムを含む膜７の膜厚を調整することにより、アルミナの微細凹凸形状３の高さを調整することもできる。金属酸化物の微細凹凸形状３の高さの平均は、好ましくは１００ｎｍ以上１０００ｎｍ以下であり、より好ましくは１００ｎｍ以上５００ｎｍ以下である。その結果、板状結晶の形成する微細な凹凸を前記の広範な範囲にわたって制御することが可能となる。

（第２工程：金属層の形成工程）
　第２工程では、金属酸化物の微細凹凸形状上に金属層を形成し、微細凹凸形状が転写された微細凹凸形状物を金属層上に形成する。図３Ｃを参照して、金属酸化物の微細凹凸形状３上に金属層１を形成する工程を以下に説明する。金属層１の形成方法としては、金属メッキ処理が好ましく、さらには無電解メッキ処理が好ましい。無電解メッキ処理では、塩化パラジウムの如きパラジウム化合物、塩化金の如き金化合物、塩化銀の如き銀化合物、塩化スズの如きスズ化合物などを溶解した水溶液を、金属酸化物の微細凹凸形状３に塗布することにより、活性化を行う。活性化は、金属酸化物の微細凹凸形状３をベース基材８ごとパラジウム化合物が溶解した水溶液に浸漬することで行ってもよい。その後、無電解メッキ液を用いて金属層１を金属酸化物の微細凹凸形状３上に堆積する。無電解メッキ液中の金属イオンは、本発明の吸光遮熱膜の金属層に対応しており、ニッケルイオン、クロムイオン、亜鉛イオンを含む無電解メッキ液が好ましく、ニッケルイオンを含むニッケルメッキ液が特に好ましい。ニッケルメッキ液は、ニッケル成分以外にリン成分やホウ素成分を含んでいても構わない。市販のニッケルメッキ液としては、奥野製薬工業のトップニコロンシリーズなどが挙げられる。無電解メッキ処理におけるメッキ液の温度は３０℃以上９８℃以下が好ましく、さらに好ましくは５０℃以上９０℃以下である。無電解メッキ処理を行う時間は形成する金属層の厚みに応じて調整を行うことができ、通常３０秒から１時間である。このようにして、微細凹凸形状の隙間を埋めるように金属層１が形成され、金属酸化物の微細凹凸形状３が転写された微細凹凸形状物２を含む金属層１が形成される。

　微細凹凸形状物２を含む金属層１の厚さが、２００ｎｍ以上１５０００ｎｍ以下であるように無電解メッキ処理を行うことが好ましい。また、微細凹凸形状物２の高さの平均は、金属酸化物の微細凹凸形状３の高さの平均に対応し、１００ｎｍ以上１０００ｎｍ以下となる。微細凹凸形状物２を含む金属層１の厚さが２００ｎｍ以上であると、本発明の吸光遮熱膜は優れた吸光遮熱特性を示す。

　前述した無電解メッキ処理を行った後に、金属層１の厚みを増すために、金属層１の微細凹凸形状物２が設けられた面とは逆の面に電気メッキ処理を行っても構わない。電気メッキ処理には公知の電気メッキ液を用いることができ、例えば金属イオンとして、ニッケルイオン、鉄イオン、銅イオンなどを含む電気メッキ液を用いることができる。金属層１の金属と同じ金属を用いて電気メッキ処理を行った場合、電気メッキ処理により金属層の厚みを増すことができる。なお、金属層１の金属と異なる金属を用いて電気メッキ処理を行った場合、電気メッキ処理により設けた金属層は基材５となる。電気メッキ液中には、金属イオンの原料となる無機塩の他、必要に応じて、導電性塩、対イオンを調整するための塩、メッキ膜の均質性を高めるためのカルボン酸系添加剤、光沢剤などを添加しても良い。また、電気メッキ工程において、電気メッキ液の液温、電流密度、メッキ時間を調整することにより、金属層１の厚さを所望の厚さとすることができる。必要に応じて、電気メッキ工程の前に、酸などを含む水溶液で金属層１の微細凹凸形状物２が設けられた面とは逆の面を活性化処理しても構わない。さらに、電気メッキ処理程により形成する膜の品質を高めるために、電気メッキ処理中に電気メッキ液を攪拌することに加え、電気メッキ液中の異物を取り除く工程を備えても良い。

（第３工程：基材の接着工程）
　本発明の吸光遮熱部材の製造では、図３Ｄに示すように、上記で得られた金属層１の微細凹凸形状物２が設けられた面とは逆の表面に基材５を接着する。基材５の形状および材料としては、上記に記載したものを用いることができる。基材５の材料が金属である場合、金属層１の微細凹凸形状物２が設けられた面とは逆の表面に基材５となる金属をさらに積層してもよい。金属の積層方法としては、上記の電気メッキ処理により積層してもよく、スパッタリングなどの物理蒸着により積層してもよい。また、基材５の材料が樹脂である場合、金属層１の金属酸化物の微細凹凸形状３とは逆の表面に基材５となる樹脂を堆積後、硬化することで基材を設けてもよい。基材５は、接着層６により金属層１と接着されてもよい。接着層６に用いる接着材は特に限定されず、基材５と金属層１が強固に接着される材料であればよい。

（第４工程：エッチング工程）
　エッチング工程は、図３Ｅ～図３Ｈに示すように、基材５および接着層６を備える吸光遮熱部材を例に詳細を説明するが、接着層６を備えず基材５のみを備える吸光遮熱部材および基材５および接着層６を備えない吸光遮熱膜についても同様である。なお、図３Ｅは図３Ｄで示した吸光遮熱部材の上下を反転したものである。

　まず、本発明の吸光遮熱部材を得るために、図３Ｆに示すように、ベース基材８の除去を行う。ベース基材８の除去後の吸光遮熱部材は、その表面にアルミニウムを含む膜７を備える。アルミニウムを含む膜７が金属アルミニウムを含む膜である場合、金属アルミニウムにより可視光が反射されるため、図３Ｇに示すように、さらに金属アルミニウムを含む膜をエッチングで除去する必要がある。また、アルミニウムを含む膜７がアルミナゲル膜である場合、アルミナゲル膜は吸光遮熱部材の金属酸化物層４である。そのため、要求される表面の硬度と吸光性を満たすように、アルミナゲル膜をエッチングで除去しても良い。エッチング方法としては、酸やアルカリ溶液を用いてアルミニウムを含む膜７を溶解させるウェットエッチングが好ましい。酸としては、例えば、塩酸、硝酸、硫酸などが挙げられる。アルカリとしては、例えば、水酸化ナトリウム、水酸化カリウムなどが挙げられる。作業効率の観点から、アルカリ溶液を用いるエッチング方法がより好ましい。エッチング濃度は、数％から数十％の範囲で、エッチング時間は数時間から数日の範囲で行うことが好ましい。また、図３Ｈに示すように、金属酸化物の微細凹凸形状３も、エッチングにより除去してもよい。最表面に微細凹凸形状物２を含む金属層１が接着層６を介して基材５に接着された吸光遮熱部材は、特に優れた吸光性を実現する。

　エッチング後のアルミナ等の金属酸化物の残存は、ＳＥＭやＴＥＭによる表面や断面観察時のＥＤＸ、またはＸＰＳの測定などで検出することができる。

　上記のように、エッチング処理の程度は所望の吸光遮熱部材または吸光遮熱膜の吸光性能および表面硬度のバランスに応じて調整すれば良い。また、第３工程である基材の接着工程を行う前に、本工程のエッチング工程を行い、その後基材を接着してもよい。

　こうして得られた本発明の吸光遮熱部材および吸光遮熱膜は、微細凹凸形状物２を含む金属層１を備えるため、可視光線を吸収するため可視光線領域の反射率は低く、かつ遠赤外線の放射が小さいため遠赤外線領域の反射率は高くなり、優れた吸光遮熱特性を実現することができる。

　本発明の吸光遮熱膜を、様々な部材または物品の表面に設けることで、吸光遮熱部材とすることができる。本発明の吸光遮熱膜は、部材または物品としての発熱体に用いられることが好ましい。このような発熱体を備える物品としては、バッテリー、エンジン、モーター、車両などが挙げられる。その他にも、本発明の吸光遮熱膜を、衣服などに用いることもできる。また、本発明の吸光遮熱膜を遮熱用加飾膜として用いてもよい。例えば、車両の内装、モバイル機器、家電製品、日傘、テント用品の表面に、本発明の吸光遮熱膜を遮熱用加飾膜として備え付けることもできる。本発明の吸光遮熱膜を部材または物品の表面に設ける際に、種々の接着剤を用いることができる。そのため、本発明の吸光遮熱膜は、使用目的に応じて部材および物品の表面に設けることができ、部材および物品の表面は平滑であるものに限られず、二次元または三次元の曲面を有するものであっても良い。

　従来、赤外線熱画像カメラでは、画角内に様々な部材または物品が存在する場合、検知したい部材または物品を識別するのが困難であった。本発明の吸光遮熱膜を最表面に備えた部材または物品は、吸光遮熱膜を備えない部材または物品と比較して、検知温度に差を生じるため、本発明の吸光遮熱膜を使用することにより部材または物品を明確に識別することが可能となる。通常、赤外線熱画像カメラは検知温度の誤差範囲が２℃であるため、吸光遮熱膜の部材または物品と接する面とは逆の面における検知温度が、部材または物品の吸光遮熱膜が備えられていない部分における検知温度より３℃以上低ければよい。このとき、部材または物品が発熱体であると、より明確に識別が可能となる。

　以下、実施例を用いて本発明をより具体的に説明する。
　ただし、本発明は以下の実施例に限定されるものではない。
　実施例の可視光線領域の反射率スペクトル測定は、レンズ反射率測定機（商品名：ＵＳＰＭ－ＲＵ III、オリンパス株式会社製）を用いた。
　実施例の赤外線領域の反射率スペクトル測定は、フーリエ変換赤外分光光度計（日本分光株式会社製、ＦＴ／ＩＲ－６６００）を用いた。

（実施例１）
（吸光遮熱部材の製造）
　アルミニウム－ｓｅｃ－ブトキシド（以下、「Ａｌ（Ｏ－ｓｅｃ－Ｂｕ）_３」とも称する。）およびアセト酢酸エチル（以下、「ＥｔＯＡｃＡｃ」とも称する。）を２－プロパノール（以下、「ＩＰＡ」とも称する。）中に溶解させ、約３時間室温で攪拌することにより、アルミナゾル溶液を調製した。アルミナゾル溶液中の各成分のモル比は、Ａｌ（Ｏ－ｓｅｃ－Ｂｕ）_３：ＥｔＯＡｃＡｃ：ＩＰＡ＝１：１：２０であった。アルミナゾル溶液中に、０．０１Ｍ希塩酸水溶液を、塩酸の添加料がＡｌ（Ｏ－ｓｅｃ－Ｂｕ）_３に対しモル比で２倍となるように添加し、約６時間還流し、ゾル－ゲルコーティング液を調製した。ゾル－ゲルコーティング液をスピンコート法によりベース基材である石英ガラス基板上に塗布し、塗布膜を形成した。その後、塗布膜を１００℃で１時間熱処理し、透明なアルミナゲル膜を得た。次に、アルミナゲル膜を８０℃の温水中に３０分間浸漬したのち、１００℃で１０分間乾燥させ、微細凹凸形状を備えるアルミナ層を形成した。

　微細凹凸形状を備えるアルミナ層上に塩化パラジウム水溶液をスピンコート法で塗布した後、１００℃で乾燥した。その後、８０℃に設定したニッケル－リンメッキ液（リン含有量約１０ｗｔ％）の中に１分間浸漬処理し、微細凹凸形状物および金属層としてのニッケル層を形成した。

　得られた金属層の微細凹凸形状を備えるアルミナ層とは反対の面に接着層となるエポキシ系樹脂を塗布、硬化し、接着層を介して基材としてのＰＥＴフィルムを接着した。その後、石英ガラス基板から基材ごと吸光遮熱部材を剥離し、吸光遮熱部材を製造した。

（断面形状の観察）
　上記の吸光遮熱部材の製造において、微細凹凸形状を備えるアルミナ層上にニッケル層を形成したものについて、ダイシングソーによる切り出しを行った後、フォーカスイオンビーム（ＦＩＢ）法により断面方向の薄片化を行い、断面のＳＥＭによる観察を行った。断面観察は、走査透過型電子顕微鏡（商品名：ＨＤ－２３００、日立ハイテクノロジーズ社製）を用いて行った。図４に示す観察像から、ベース基材８上のアルミナゲル膜から形成された金属酸化物の微細凹凸形状３であるアルミナ板状結晶の内部を埋めるようにニッケルの微細凹凸形状物２が形成され、微細凹凸形状物２の上に金属層１であるニッケル層が存在している。

　得られた吸光遮熱部材の微細凹凸形状物２の高さの平均は３２３ｎｍ、微細凹凸形状３の高さの平均は２５５ｎｍ、アルミニウムを含む膜７の膜厚は６８ｎｍであった。吸光遮熱部材の表面の平均面粗さＲａ’は１．０ｎｍ、比表面積は１．０であった。

（吸光遮熱部材の評価）
　実施例１で得られた吸光遮熱部材の可視光線領域の反射率スペクトルおよび赤外線領域の反射率スペクトル測定を行った。反射率スペクトル測定は、レンズ反射率測定機（商品名：ＵＳＰＭ－ＲＵ III、オリンパス株式会社製）を用いて、赤外線領域の反射率スペクトル測定は、フーリエ変換赤外分光光度計（商品名：ＦＴ／ＩＲ－６６００、日本分光株式会社製）を用い行った。可視光線領域の反射率スペクトル測定の結果を図５に、赤外線領域の反射率スペクトル測定の結果を図６に示す。また、表１に、吸光遮熱部材の可視光線領域および赤外線領域の反射率スペクトル測定で得られた可視光および赤外線領域の反射率を示す。図５より、本発明の吸光遮熱部材は、可視光線領域の反射率が低いことから、吸光性が優れていると言える。
　図６より、本発明の吸光遮熱部材は、中赤外および遠赤外線領域において、長波長側に向かって反射率が高くなっていることから、遮熱性が優れていると言える。

（比較例１）
　非特許文献１に記載の方法と同様の方法で製造した吸光材料について、実施例１の吸光遮熱部材と同じ条件で可視光線領域の反射率スペクトルおよび赤外線領域の反射率スペクトル測定を行った。結果を図５、図６、および表１に示す。

　図５に示すように、比較例１の吸光材料は、実施例１の吸光遮熱部材よりは劣るものの、可視光線から近赤外線領域の反射率が低く、吸光性に優れていると言える。
　一方、図６に示すように、比較例１の吸光材料は、中赤外線領域および遠赤外線領域の反射率が本発明の吸光遮熱部材に比べて劣り、遮熱性を有するとは言えない。

（実施例２）
（吸光遮熱膜の製造）
　実施例１と同様に、アルミナゾル溶液を調製し、これを用いてスピンコート法によりベース基材である石英ガラス基板上に塗布し、塗布膜を形成した。その後、塗布膜を１００℃で１時間熱処理し、透明なアルミナゲル膜を得た。次に、アルミナゲル膜を８０℃の温水中に３０分間浸漬したのち、１００℃で１０分間乾燥させ、微細凹凸形状を備えるアルミナ層を形成した。

　微細凹凸形状を備えるアルミナ層上に塩化パラジウム水溶液をスピンコート法で塗布した後、室温で乾燥した。その後、８０℃に設定したニッケル－リンメッキ液（リン含有量約１０ｗｔ％）中に２０分間浸漬処理し、微細凹凸形状物および金属層としてのニッケル層を形成した。

　その後、石英ガラス基板から吸光遮熱膜を剥離した。得られた吸光遮熱膜全体の膜厚は、約１０μｍであった。また、吸光遮熱膜の微細凹凸形状物の高さの平均は３０３ｎｍ、微細凹凸形状の高さの平均は２３３ｎｍ、アルミニウムを含む膜の膜厚は７０ｎｍであった。さらに、吸光遮熱膜の平均面粗さＲａ’は１．０ｎｍ、比表面積は１．０であった。

　以下、実施例３から実施例１１では、ゲル膜の積層数およびエッチング条件を変えて吸光遮熱膜を製造した。

（実施例３）
　実施例２と同様の方法で吸光遮熱膜を製造し、石英ガラス基板から剥離した吸光遮熱膜に、エッチング工程として３Ｍの水酸化ナトリウム水溶液を用いて室温で５０時間エッチング処理し、吸光遮熱膜を製造した。エッチング後の微細凹凸形状物には、若干の透明な金属酸化物が付着していた。得られた吸光遮熱膜の透明な金属酸化物を含む微細凹凸形状物の高さの平均は２５１ｎｍ、微細凹凸形状物の高さの平均は２１３ｎｍ、吸光遮熱膜の表面の平均面粗さＲａ’は５．０ｎｍ、比表面積は１．１であった。可視光線領域の反射率スペクトル測定の結果を図５に、赤外線領域の反射率スペクトル測定の結果を図６に示す。また、ＦＩＢ法により断面出しを行い、断面のＳＥＭによる観察を行った。断面観察は、走査型電子顕微鏡（商品名：ＵＬＴＲＡ５５、Ｃａｒｌ　Ｚｅｉｓｓ製）を用いて行った。図７に示す観察像から、金属層１であるニッケル層上にニッケルの微細凹凸形状物２が形成され、微細凹凸形状物２の上に微量のアルミナが残存していた。ＳＥＭ－ＥＤＸ分析およびＸＰＳの測定で検出したアルミナ層は、断面の膜厚方向において、表面から内部に向かって相対的にＡｌ元素の割合が低くなり、一方Ｎｉ元素の割合が高くなっていた。

（実施例４）
　エッチング工程において７．５Ｍの水酸化ナトリウム水溶液を用いて室温で４７時間エッチング処理したこと以外、実施例３と同様に行い吸光遮熱膜を製造した。得られた吸光遮熱膜の微細凹凸形状物の高さの平均は２３５ｎｍ、吸光遮熱膜の表面の平均面粗さＲａ’は１８ｎｍ、比表面積は１．４であった。

（実施例５）
　メッキ液としてニッケル－リンメッキ液（リン含有量約１～２ｗｔ％）を用いたこと以外、実施例３と同様に行い吸光遮熱膜を製造した。得られた吸光遮熱膜の微細凹凸形状物の高さの平均は２７２ｎｍ、吸光遮熱膜の表面の平均面粗さＲａ’は３．８ｎｍ、比表面積は１．１であった。

（実施例６）
　実施例２に示したアルミナゾル溶液を調製し、スピンコート法によりベース基材である石英ガラス基板上に塗布し、塗布膜を形成した。その後、塗布膜を１００℃で１時間熱処理し、さらに、膜の塗布および膜の乾燥プロセスを繰り返すことで積層数を２層としたアルミニウムを含む膜としての透明なアルミナゲル膜を得た。以降は、実施例２と同様に吸光遮熱膜を製造した。得られた吸光遮熱膜の微細凹凸形状物の高さの平均は３０６ｎｍ、微細凹凸形状の高さの平均は３７１ｎｍ、吸光遮熱膜の表面の平均面粗さＲａ’は１．１ｎｍ、比表面積は１．０であった。

（実施例７）
　石英ガラス基板からアルミナ層を備える金属膜を剥離した後に、エッチング工程として３Ｍの水酸化ナトリウム水溶液を用いて室温で５０時間エッチング処理したこと以外、実施例６と同様に行い吸光遮熱膜を製造した。得られた吸光遮熱膜の微細凹凸形状物の高さの平均は３１５ｎｍ、吸光遮熱膜の表面の平均面粗さＲａ’は１０ｎｍ、比表面積は１．２であった。

（実施例８）
　エッチング工程において７．５Ｍの水酸化ナトリウム水溶液を用いて室温で５０時間エッチング処理したこと以外、実施例７と同様に行い吸光遮熱膜を製造した。得られた吸光遮熱膜の微細凹凸形状物の高さの平均は３０３ｎｍ、吸光遮熱膜の表面の平均面粗さＲａ’は２７ｎｍ、比表面積は１．７であった。

（実施例９）
　アルミナゲル膜の積層数を３層にしたこと以外、実施例２と同様に行い吸光遮熱膜を製造した。得られた吸光遮熱膜の微細凹凸形状物の高さの平均は３７４ｎｍ、微細凹凸形状の高さの平均は４１９ｎｍ、吸光遮熱膜の表面の平均面粗さＲａ’は１．２ｎｍ、比表面積は１．０であった。

（実施例１０）
　石英ガラス基板からアルミナ層を備える金属膜を剥離した後に、エッチング工程において３Ｍの水酸化ナトリウム水溶液を用いて室温で５０時間エッチング処理したこと以外、実施例９と同様に行い吸光遮熱膜を製造した。得られた吸光遮熱膜の微細凹凸形状物の高さの平均は３５４ｎｍ、吸光遮熱膜の表面の平均面粗さＲａ’は１６ｎｍ、比表面積は１．３であった。

（実施例１１）
　エッチング工程において６Ｍの水酸化ナトリウム水溶液を用いて室温で４５時間エッチング処理したこと以外、実施例１０と同様に行い吸光遮熱膜を製造した。得られた吸光遮熱膜の微細凹凸形状物の高さの平均は３４６ｎｍ、吸光遮熱膜の表面の平均面粗さＲａ’は３５ｎｍ、比表面積は２．１であった。

　表１に、実施例１から実施例１１および比較例１で製造した吸光遮熱膜または吸光遮熱部材の可視光線領域および赤外線領域の反射率スペクトル測定で得られた可視光線領域および赤外線領域の反射率を示す。

（実施例１２）
　実施例３で製造した吸光遮熱膜を板状のステンレス鋼（ＳＵＳ）の表面に貼り付けた物品（以下、「吸光遮熱膜を備える物品」と称する。）を作製した。吸光遮熱膜を備える物品と吸光遮熱膜を備えないこと以外は吸光遮熱膜を表面に備える物品と同じ物品（以下、「吸光遮熱膜を備えない物品」と称する。）をヒーター上に置き、吸光遮熱膜を備えない物品の表面温度が４０℃になった時点で、赤外線サーモグラフィ装置（機種：Ｈ２６４０、日本アビオニクス社製）で、吸光遮熱膜を備える物品と吸光遮熱膜を備えない物品の表面温度を測定した。表面温度の測定環境は、室温下、物品と測定装置の距離は約４０ｃｍであった。吸光遮熱膜を備える物品の表面温度は約２８℃であり、吸光遮熱膜を備えない物品の表面温度に対し約１２℃低い値であった。また、吸光遮熱膜を備えない物品の表面温度を約６０℃とした場合は、吸光遮熱膜を備える物品の表面温度は約３７℃であり、約２３℃低い値であった。以上のことから、本発明の吸光遮熱膜が遮熱性に優れることがわかった。物品の検知温度が実際の温度に比べ、明瞭な温度差が観察され、赤外線熱画像カメラによる物品の識別が可能であることがわかった。

（実施例１３）
　実施例５で製造した吸光遮熱膜を板状のステンレス鋼の表面に貼り付けた吸光遮熱膜を備える物品を作製し、実施例１２と同様に、吸光遮熱膜を備える物品と吸光遮熱膜を備えない物品の表面温度を測定した。吸光遮熱膜を備えない物品の表面温度を約４０℃とした場合、吸光遮熱膜を備える物品の表面温度は約２８℃であり、吸光遮熱膜を備えない物品の表面温度に対し約１２℃低い値であった。また、吸光遮熱膜を備えない物品の表面温度を約６０℃とした場合は、吸光遮熱膜を備える物品の表面温度は約３３℃であり、約２７℃低い値であった。

　以上のことから、本発明の部品は吸光性および遮熱性がともに優れていることがわかった。

　本発明によって、通常は両立しない、可視光線および近赤外線を吸収し（反射率が低く）、かつ遠赤外線の放射が小さい（反射率が高い）吸光遮熱膜および吸光遮熱部材を提供することができる。本発明の吸光遮熱膜および吸光遮熱部材は、光学機器内部の迷光防止および遮熱部材として、人工衛星などの宇宙関連機器の内外装部材として利用可能であり、外装用フィルム、ソーラーコレクタなどとしても用いることができる。

　本発明は上記実施の形態に制限されるものではなく、本発明の精神及び範囲から離脱することなく、様々な変更及び変形が可能である。従って、本発明の範囲を公にするために以下の請求項を添付する。

　本願は、２０１９年３月２９日提出の日本国特許出願特願２０１９－０６８４８７および２０２０年３月２５日提出の日本国特許出願特願２０２０－０５４９７１を基礎として優先権を主張するものであり、その記載内容の全てをここに援用する。

１　金属層
２　微細凹凸形状物
３　金属酸化物の微細凹凸形状
４　金属酸化物層
５　基材
６　接着層
７　アルミニウムを含む膜
８　ベース基材

Claims (18)

1. 　微細凹凸形状物を備える金属層を備え、
   　前記微細凹凸形状物の高さの平均が１００ｎｍ以上１０００ｎｍ以下であることを特徴とする吸光遮熱膜。
2. 　前記微細凹凸形状物に密接する金属酸化物の微細凹凸形状をさらに備えることを特徴とする請求項１に記載の吸光遮熱膜。
3. 　前記金属酸化物の微細凹凸形状は、アルミナを主成分とする板状結晶を含むことを特徴とする請求項２に記載の吸光遮熱膜。
4. 　表面の平均面粗さＲａ’が１ｎｍ以上５０ｎｍ以下であり、かつ比表面積Ｓｒが１．０以上３．０以下であることを特徴とする請求項１～３のいずれか１項に記載の吸光遮熱膜。
5. 　前記金属層の材料は、ニッケル、クロム、亜鉛から選ばれるいずれか１つを含むことを特徴とする請求項１～４のいずれか１項に記載の吸光遮熱膜。
6. 　請求項１～５のいずれか１項に記載の吸光遮熱膜と、
   　基材と、
   を備えることを特徴とする吸光遮熱部材。
7. 　前記吸光遮熱膜と前記基材が接着層により接着されていることを特徴とする請求項６に記載の吸光遮熱部材。
8. 　請求項１～５のいずれか１項に記載の吸光遮熱膜を最表面に備えたことを特徴とする物品。
9. 　金属酸化物の微細凹凸形状を形成する第１工程と、
   　前記金属酸化物の微細凹凸形状上に金属層を形成する第２工程と、
   を含む吸光遮熱膜の製造方法。
10. 　前記第１工程が、アルミニウムを含む膜を温水に浸漬処理することを含む、請求項９に記載の吸光遮熱膜の製造方法。
11. 　前記金属酸化物の微細凹凸形状を除去する工程をさらに含むことを特徴とする請求項９または１０に記載の吸光遮熱膜の製造方法。
12. 　金属酸化物の微細凹凸形状を形成する第１工程と、
    　前記金属酸化物の微細凹凸形状上に金属層を形成する第２工程と、
    　前記金属層の前記金属酸化物の微細凹凸形状とは逆の面に基材を接着する第３工程と、を含む吸光遮熱部材の製造方法。
13. 　前記第３工程が、前記金属層と前記基材とを接着層を用いて接着する工程をさらに含むことを特徴とする、請求項１２に記載の吸光遮熱部材の製造方法。
14. 　前記金属酸化物の微細凹凸形状を除去する工程をさらに含むことを特徴とする請求項１２または１３に記載の吸光遮熱部材の製造方法。
15. 　前記吸光遮熱膜の前記物品と接する面とは逆の面における検知温度が、前記物品の前記吸光遮熱膜が備えられていない部分における検知温度より３℃以上低くなることを特徴とする、請求項８に記載の物品。
16. 　前記物品が発熱体であることを特徴とする、請求項１５に記載の物品。
17. 　請求項１～５のいずれか１項に記載の吸光遮熱膜の使用であって、
    　前記吸光遮熱膜を物品の最表面に備えることにより、前記吸光遮熱膜の前記物品と接する面とは逆の面の表面の検知温度が、前記物品の表面の検知温度より３℃以上低くなることを特徴とする、使用。
18. 　前記物品が発熱体であることを特徴とする、請求項１７に記載の使用。

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