WO2020095988A1 - 熱可塑性液晶ポリマーフィルムおよびそれを用いた回路基板 - Google Patents
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Definitions
- the present invention relates to a film made of a thermoplastic polymer capable of forming an optically anisotropic molten phase (hereinafter referred to as a thermoplastic liquid crystal polymer film), and relates to a high frequency (eg 1 to 300 GHz), particularly a microwave / millimeter wave.
- a thermoplastic liquid crystal polymer film useful as a circuit board used at (for example, 10 to 300 GHz, preferably 30 to 300 GHz).
- Infrared radar and millimeter-wave radar which are mounted on the vehicle body to detect the distance between vehicles, are being developed for safe driving support and automated driving, and stable detection is possible even in bad weather such as rain or fog.
- Millimeter-wave radar that has the capability is attracting attention.
- the millimeter-wave radar includes an antenna for transmitting and receiving an electromagnetic wave signal, and the antenna is composed of a conductor layer (copper foil or the like) precisely placed on an insulating substrate.
- ceramic substrates and fluororesin substrates are known as insulating substrates for antennas, ceramic substrates have high rigidity, are difficult to process, and are expensive. Further, the fluororesin substrate is soft, and there is a problem in the high frequency characteristics and moisture resistance of the entire substrate due to the influence of glass cloth, filler, etc. used to enhance dimensional stability.
- Patent Document 1 JP 2012-077717 A discloses a thermoplastic liquid crystal polymer film for use in millimeter wave radar. Have been described.
- Patent Document 1 discloses a thermoplastic liquid crystal polymer film having a coefficient of thermal expansion of 0 to 25 ppm / ° C. and a coefficient of variation of in-plane dielectric constant within a predetermined range.
- Patent Document 1 describes a thermoplastic liquid crystal polymer film in which the dielectric constant in the plane, so-called plane direction is highly controlled, the dielectric constant in the thickness direction of a material required for a high frequency circuit or a millimeter wave radar circuit. Is not described at all.
- the circuit on the board of the millimeter wave radar has a stripline structure, and the dielectric constant in the thickness direction as well as the plane direction of the board material is an important parameter.
- thermoplastic liquid crystal polymer film with high melt flowability it was difficult to control the dielectric constant in the thickness direction, probably because the molecules that make up the film tend to flow. Further, regarding the thermoplastic liquid crystal film, from the viewpoint of improving the molding processability in multilayer lamination, it is required to further lower the heat distortion temperature of the thermoplastic liquid crystal polymer film.
- an object of the present invention is to provide a thermoplastic liquid crystal polymer film having excellent moldability and having a controlled dielectric constant in the thickness direction that affects antenna characteristics.
- Another object of the present invention is to further provide a thermoplastic liquid crystal polymer film having a controlled coefficient of thermal expansion in the plane direction which influences warpage and dimensional stability.
- Another object of the present invention is to provide a thermoplastic liquid crystal polymer film suitable for manufacturing a microwave / millimeter wave antenna.
- thermoplastic liquid crystal polymer film has a high melt fluidity, and molecules are likely to flow at a temperature during multilayer lamination, which is a conventional defect. It was thought that (2) conversely, it is possible to utilize the fluidity of such a highly fluid molecule, and (3) the liquid crystal polymer molecules on the film surface exert a shearing force by a specific process. It was found that (4) it is possible to control the dielectric constant in the thickness direction while maintaining the molding processability of the thermoplastic liquid crystal polymer film, surprisingly, by controlling the heating of the film so as to receive it. Invented.
- thermoplastic liquid crystal polymer film comprising a thermoplastic polymer capable of forming an optically anisotropic molten phase (hereinafter referred to as a thermoplastic liquid crystal polymer), having a dielectric constant in the thickness direction of 23 ° C. and 20 GHz. Is 2.5 to 3.2 (preferably 2.6 to 3.2, more preferably 2.7 to 3.1), and the heat distortion temperature is 180 to 320 ° C. (preferably 200 to 310 ° C., more The temperature is preferably 220 to 300 ° C.), which is a thermoplastic liquid crystal polymer film.
- thermoplastic liquid crystal polymer film according to aspect 1 which has a coefficient of thermal expansion of 13 to 22 ppm / ° C. (preferably about 15 to 20 ppm / ° C.) in one direction of the film and a direction orthogonal thereto in the plane of the film. More preferably, the thermoplastic liquid crystal polymer film has a content of 16 to 19 ppm / ° C.).
- thermoplastic liquid crystal polymer film according to aspect 1 or 2 wherein the dielectric constant at 23 ° C. and 15 GHz in both the one direction of the film and the direction orthogonal thereto is 2.6 to 3.7 (in the plane of the film).
- thermoplastic liquid crystal polymer film according to any one of aspects 1 to 3, which has a dielectric constant D X in one plane direction of the film at 23 ° C. and 15 GHz in the plane of the film, and a direction perpendicular to the dielectric constant D X.
- a thermoplastic liquid crystal polymer film, wherein the difference between the average value of the dielectric constant D Y and the dielectric constant (D Z ) in the thickness direction is represented by the following formula (1). 0 ⁇
- thermoplastic liquid crystal polymer film according to any one of aspects 1 to 4, wherein in the film plane, the dielectric constant in one direction (D X ) of the film at 23 ° C. and 15 GHz and the dielectric constant in the direction orthogonal thereto (D Y) and the ratio of (D X / D Y) is from 0.73 to 1.37 (preferably 0.81 to 1.24, more preferably 0.89 to 1.13) is a thermoplastic Liquid crystal polymer film.
- thermoplastic liquid crystal polymer film according to any one of aspects 1 to 5, wherein in the film plane, the coefficient of thermal expansion in one direction of the film ( ⁇ X ) and the coefficient of thermal expansion in the direction orthogonal thereto ( ⁇ Y) And a ratio ( ⁇ X / ⁇ Y ) with respect to () is 0.6 to 1.7 (preferably 0.8 to 1.3).
- a circuit board comprising at least one conductor layer and the thermoplastic liquid crystal polymer film according to any one of aspects 1 to 7.
- a circuit board according to aspect 9 wherein the circuit board is a multilayer circuit board.
- thermoplastic liquid crystal polymer film having a dielectric constant in the thickness direction in a predetermined range and excellent in uniformity, and a heat distortion temperature in a predetermined range and excellent in moldability.
- thermoplastic liquid crystal polymer film of the present invention can be suitably used as a member (for example, a millimeter wave antenna base material) that constitutes a high frequency circuit or an in-vehicle radar.
- thermoplastic liquid crystal polymer is composed of a melt-moldable liquid crystal polymer (or a polymer capable of forming an optically anisotropic melt phase), and if the thermoplastic liquid crystal polymer is a melt-moldable liquid crystal polymer,
- the chemical constitution is not particularly limited, and examples thereof include a thermoplastic liquid crystal polyester, or a thermoplastic liquid crystal polyester amide having an amide bond introduced therein.
- thermoplastic liquid crystal polymer may be a polymer in which an aromatic polyester or aromatic polyester amide is further introduced with an imide bond, a carbonate bond, an isocyanate-derived bond such as a carbodiimide bond or an isocyanurate bond.
- thermoplastic liquid crystal polymer used in the present invention include known thermoplastic liquid crystal polyesters and thermoplastic liquid crystal polyester amides derived from compounds and derivatives thereof classified into the following (1) to (4). Can be mentioned. However, it goes without saying that the combination of various raw material compounds has an appropriate range for forming a polymer capable of forming an optically anisotropic molten phase.
- Aromatic or aliphatic diol (see Table 1 for representative examples)
- Aromatic diamine, aromatic hydroxyamine or aromatic aminocarboxylic acid see Table 4 for representative examples.
- thermoplastic liquid crystal polymers obtained from these raw material compounds, copolymers having the structural units shown in Tables 5 and 6 can be mentioned.
- a polymer containing p-hydroxybenzoic acid and / or 6-hydroxy-2-naphthoic acid as at least a repeating unit is preferable, and particularly (i) p-hydroxybenzoic acid and 6-hydroxy- A polymer containing a repeating unit with 2-naphthoic acid, or (ii) at least one aromatic hydroxycarboxylic acid selected from the group consisting of p-hydroxybenzoic acid and 6-hydroxy-2-naphthoic acid, and at least one A copolymer containing a repeating unit of an aromatic diol and at least one aromatic dicarboxylic acid is preferable.
- the repeating unit (A) of p-hydroxybenzoic acid is used.
- C aromatic hydroxycarboxylic acid
- D aromatic diol
- the molar ratio of the repeating unit derived from 6-hydroxy-2-naphthoic acid in the aromatic hydroxycarboxylic acid (C) may be, for example, 85 mol% or more, and preferably 90 mol% or more, It may preferably be 95 mol% or more.
- the molar ratio of the repeating unit derived from 2,6-naphthalenedicarboxylic acid in the aromatic dicarboxylic acid (E) may be, for example, 85 mol% or more, preferably 90 mol% or more, more preferably 95 mol%. % Or more.
- optically anisotropic molten phase can be formed according to the present invention can be confirmed by, for example, placing the sample on a hot stage, heating the sample under a nitrogen atmosphere to raise the temperature, and observing the transmitted light of the sample.
- thermoplastic liquid crystal polymer is one having a melting point (hereinafter referred to as Tm 0 ) of, for example, 200 to 360 ° C., preferably 240 to 350 ° C., and more preferably 260 to 330. °C.
- Tm 0 melting point
- the melting point can be obtained by observing the thermal behavior of the polymer sample using a differential scanning calorimeter. That is, the polymer sample was heated at a rate of 10 ° C./minute to completely melt it, then the melt was rapidly cooled to 50 ° C. at a rate of 10 ° C./minute, and again heated at a rate of 10 ° C./minute. The position of the endothermic peak that sometimes appears may be recorded as the melting point of the polymer sample.
- the thermoplastic liquid crystal polymer may have a melt viscosity of 30 to 120 Pa ⁇ s at a shear rate of 1000 / sec at (Tm 0 +20) ° C., preferably a melt viscosity of 50. It may have up to 100 Pa ⁇ s.
- thermoplastic liquid crystal polymer within a range not impairing the effect of the present invention, a thermoplastic polymer such as polyethylene terephthalate, modified polyethylene terephthalate, polyolefin, polycarbonate, polyarylate, polyamide, polyphenylene sulfide, polyether ether ketone, fluororesin.
- a thermoplastic polymer such as polyethylene terephthalate, modified polyethylene terephthalate, polyolefin, polycarbonate, polyarylate, polyamide, polyphenylene sulfide, polyether ether ketone, fluororesin.
- Various additives may be added. Moreover, you may add a filler as needed.
- thermoplastic liquid crystal polymer film In the present invention, in order to control the dielectric constant in the thickness direction while maintaining the moldability, the three-dimensional structure control of the thermoplastic liquid crystal polymer film is performed under specific conditions.
- thermoplastic liquid crystal polymer film of the present invention is a laminate in which both sides of a thermoplastic liquid crystal polymer film are sandwiched by a pair of heat-resistant releasable supports, under a predetermined pressure, before the heat treatment step thermoplastic
- thermoplastic liquid crystal polymer film obtained by extrusion molding for example, inflation method
- the thermoplastic liquid crystal polymer film is sandwiched between a pair of heat-resistant releasable supports on a laminate.
- heat treatment is performed at a specific temperature under a predetermined pressure.
- the dielectric constant in the thickness direction of the thermoplastic liquid crystal polymer film after the heat treatment step can be controlled within a desired range.
- the heat-resistant releasable supports provided on both sides of the thermoplastic liquid crystal polymer film may be of the same type or of different types as long as the object can be achieved, but the same type is preferable.
- the heat-resistant releasable support is not particularly limited as long as the dielectric constant in the thickness direction of the thermoplastic liquid crystal polymer film can be controlled within a predetermined range, but the thermoplastic liquid crystal polymer film is a thermoplastic liquid crystal polymer during heat treatment.
- a releasable heat-resistant film for example, a polyimide film
- the heat-resistant releasable support (eg, releasable heat-resistant film) can be used as the support for the heat treatment, and at the same time, one of the heat-resistant releasable supports in the plane of the heat-resistant releasable support can be used.
- Direction and the thermal expansion coefficient in the direction orthogonal to that direction are within a predetermined range (for example, 10 to 27 ppm / ° C, preferably 10 to 22 ppm / ° C, more preferably 15 to 22 ppm / ° C).
- the body can be used.
- the thermal expansion coefficient ( ⁇ 0X ) in one direction (X direction) of the heat-resistant releasable support and the direction orthogonal thereto is, for example, 0.6 to 1.7, preferably 0.8 to 1.2, and more preferably 0.9. It may be up to 1.1.
- the heat-resistant release support is a thermoplastic liquid crystal polymer film in which the thermal expansion coefficients are aligned in the same direction. It may be arranged on both sides of, or may be arranged in different directions. From the viewpoint of controlling the coefficient of thermal expansion in the plane direction of the thermoplastic liquid crystal polymer film, it is preferable to arrange the thermal expansion coefficients of the heat-resistant release support in the same direction on both sides of the thermoplastic liquid crystal polymer film. preferable.
- a heat-resistant releasable support for example, a releasable heat-resistant film
- a specific pressure under a specific pressure.
- Heat treatment is performed.
- the pressure is applied in a state where both sides of the thermoplastic liquid crystal polymer film are in close contact with a heat-resistant releasable support (for example, a releasable heat-resistant film).
- the pressure may be, for example, 1 to 6 MPa, preferably 1.5 to 4.5 MPa, and more preferably 2 to 3 MPa from the viewpoint of giving a sufficient shearing force to the thermoplastic liquid crystal polymer film.
- the heat treatment temperature may be, for example, (HT + 10) to (HT + 60) ° C. with respect to the heat distortion temperature (HT) of the thermoplastic liquid crystal polymer film before the heat treatment step.
- HT heat distortion temperature
- the heat treatment temperature is too low, the dielectric constant in the thickness direction cannot be changed, and if the heat treatment temperature is too high, the fluidity of the liquid crystal polymer molecules present in the skin layer becomes too high. It is difficult to control the dielectric constant.
- the thermoplastic liquid crystal polymer film before the heat treatment step has a heat distortion temperature (HT) of 180 to 320 ° C., preferably 200 to 310 ° C., more preferably 220 to 300 ° C. May be
- HT heat distortion temperature
- the heat distortion temperature is a value measured by the method described in Examples below.
- the heat treatment step it is preferable to control the heat treatment temperature not to a predetermined value for the melting point but to a predetermined value for the heat deformation temperature.
- the liquid crystal polymer molecule fluidity is accurately controlled by the heat-resistant releasable support adhered to the thermoplastic liquid crystal polymer film.
- the heat distortion temperature of the thermoplastic liquid crystal polymer film can be adjusted by subjecting the film to heat treatment as a heat distortion temperature increasing step, and generally the heat distortion temperature is increased as the heating time is lengthened. You can
- the heat treatment time can be appropriately set according to the heating temperature, while preventing the thermal deformation temperature of the thermoplastic liquid crystal polymer film from rising, from the viewpoint of controlling the dielectric constant in the thickness direction, It may be 30 seconds to 30 minutes, preferably 2 minutes to 25 minutes, more preferably 5 minutes to 20 minutes.
- thermoplastic liquid crystal polymer film simple substance After the heat treatment, from the viewpoint of fixing the arrangement of the liquid crystal polymer molecules that have flowed, it is preferable to maintain the laminated state in which the heat-resistant releasable supports are adhered to both surfaces of the thermoplastic liquid crystal polymer film and cool to room temperature. Then, the heat-resistant releasable support is peeled off to obtain a thermoplastic liquid crystal polymer film simple substance.
- the thermoplastic liquid crystal polymer film before the heat treatment step is an isotropic film from the viewpoint of controlling the thermal expansion coefficients in both one direction of the film and the direction orthogonal thereto in a predetermined range. Is preferably high.
- the SOR showing the molecular orientation of the thermoplastic liquid crystal polymer film is preferably 0.8 to 1.4, and more preferably 1.0 to 1.3.
- a thermoplastic liquid crystal polymer film exhibiting such a molecular orientation can be obtained by referring to WO 2015/050080.
- thermoplastic liquid crystal polymer film The thermoplastic liquid crystal polymer film of the present invention thus obtained is excellent in moldability and has a dielectric constant in the thickness direction within a predetermined range. Therefore, the substrate material, for example, a high frequency circuit board of 1 to 300 GHz is used. It is suitable as a material, and can be particularly suitably used as a base material used for a radar corresponding to a frequency band of 10 to 300 GHz (preferably 20 to 300 GHz).
- the dielectric constant (D Z ) in the thickness direction (Z direction) at 23 ° C. and 20 GHz is 2.5 to 3.2, preferably 2.6 to 3.2. More preferably, it may be 2.7 to 3.1.
- the dielectric constant in the thickness direction is a value measured by the method described in Examples described later.
- the dielectric constant at 23 ° C. and 15 GHz may be 2.6 to 3.7 in both the one direction of the film and the direction orthogonal thereto. It may be preferably 2.7 to 3.7, more preferably 2.9 to 3.6, and further preferably 3.1 to 3.5.
- the dielectric constants of the film in one direction and in the direction orthogonal thereto are values measured by the method described in Examples below.
- the dielectric constant is substantially isotropic in the plane, and in the film plane, the dielectric constant (D X ) in one direction (X direction) of the film at 23 ° C. and 15 GHz. ) And the dielectric constant (D Y ) in the direction (Y direction) orthogonal thereto, the ratio (D X / D Y ) is, for example, 0.73 to 1.37, preferably 0.81 to 1.24, It may be more preferably 0.89 to 1.13.
- the balance between the dielectric constants in the plane direction and the thickness direction is, for example, the dielectric constant in the plane direction of the film (for example, the average value of D X and D Y ) and the dielectric constant in the thickness direction (D Z ).
- the difference may be within 0.9 as represented by the following formula (1).
- the difference may preferably be within 0.8, more preferably within 0.7. 0 ⁇
- the dielectric constant in the plane direction of the film (for example, the average value of D X and D Y ) has a relationship represented by the following formula (2) with respect to the dielectric constant (D Z ) in the thickness direction.
- the coefficient of thermal expansion in both the one direction of the film and the direction orthogonal thereto may be, for example, in the range of 13 to 22 ppm / ° C., preferably 15 in the plane of the film. It may be about 20 to 20 ppm / ° C, more preferably about 16 to 19 ppm / ° C. Since the thermoplastic liquid crystal polymer film of the present invention can change the thermal expansion coefficient according to heat treatment, it can have a wide range of thermal expansion coefficient. For example, when it is used as a circuit board, It is possible to match the coefficient of thermal expansion. The coefficient of thermal expansion is a value measured by the method described in Examples below.
- the isotropicity or anisotropy of the thermal expansion coefficient of the thermoplastic liquid crystal polymer film in the plane direction can be controlled by utilizing the anisotropy and isotropicity of the heat-resistant releasable support to be adhered. Is.
- the coefficient of thermal expansion is substantially isotropic in the plane, and in the plane of the film, the coefficient of thermal expansion ( ⁇ X ) in one direction (X direction) of the film and the direction orthogonal thereto
- the ratio ( ⁇ X / ⁇ Y ) with respect to the thermal expansion coefficient ( ⁇ Y ) in the direction (Y direction) to be applied may be, for example, 0.6 to 1.7, preferably 0.8 to 1.3. ..
- the melting point of the thermoplastic liquid crystal polymer film can be selected within the range of about 200 to 360 ° C., preferably about 240 to 350 ° C., and more preferably 260, for the purpose of obtaining the desired heat resistance and processability of the film. It may be about 330 ° C.
- the melting point is a value measured by the method described in Examples below.
- the thermoplastic liquid crystal polymer film of the present invention has a heat distortion temperature of 180 to 320 ° C., preferably 200 to 310 ° C., more preferably 220 to 300 ° C.
- the heat distortion temperature is a value measured by the method described in Examples below.
- by performing the specific heat treatment it is possible to control the dielectric constant in the thickness direction within a desired range while suppressing an increase in the heat distortion temperature of the thermoplastic liquid crystal polymer film even after the heat treatment. ..
- the thermoplastic liquid crystal polymer film of the present invention has a thickness when the thermoplastic liquid crystal polymer film is used alone as the electrical insulating layer of the circuit board.
- the thickness may be 500 ⁇ m or less (for example, 10 to 200 ⁇ m), and more preferably 15 to 150 ⁇ m.
- the thermoplastic liquid crystal polymer film according to the application it can be made to have an arbitrary thickness, and may be, for example, a plate shape or a sheet shape of 5 mm or less.
- the transmission loss decreases as the thickness increases, so it is preferable to increase the thickness as much as possible.
- One configuration of the present invention may include a metal-clad laminate in which a metal layer (for example, a metal sheet) is bonded to at least one surface of the thermoplastic liquid crystal polymer film.
- the metal layer may be, for example, a metal layer formed of gold, silver, copper, iron, nickel, aluminum, or an alloy metal thereof.
- the metal clad laminate may preferably be a copper clad laminate.
- the metal-clad laminate can be produced by a known or conventional method as long as the dielectric constant in the thickness direction of the thermoplastic liquid crystal polymer film can be maintained. For example, even if a metal layer is vapor-deposited on the surface of the thermoplastic liquid crystal polymer film. Of course, the metal layer may be formed by electroless plating or electrolytic plating.
- a metal foil for example, a copper foil
- a continuous isotropic press type double belt type
- the circuit board having the configuration of the present invention includes at least one conductor layer and at least one insulator (or dielectric) layer, and uses the thermoplastic liquid crystal polymer film as an insulator (or dielectric). As long as the form is not particularly limited, it can be used as various high-frequency circuit boards by publicly known or commonly used means. Further, the circuit board may be a circuit board (or a semiconductor element mounting board) on which a semiconductor element (for example, an IC chip) is mounted.
- the conductor layer is formed of, for example, at least a metal having conductivity, and a circuit pattern is formed on the conductor layer by using a known circuit processing method.
- the conductor forming the conductor layer may be various metals having conductivity, such as gold, silver, copper, iron, nickel, aluminum or alloy metals thereof.
- a circuit pattern may be formed on the metal layer portion of the metal-clad laminate by a known or commonly used method.
- the circuit board having the configuration of the present invention is controlled not only in the plane direction but also in the thickness direction, the permittivity, various transmission lines such as a coaxial line, a strip line, a microstrip line, a coplanar line, and a parallel line. It may be used for a known or commonly used transmission line such as a line, or may be used for an antenna (for example, a microwave or millimeter wave antenna). Further, the circuit board may be used in an antenna device in which the antenna and the transmission line are integrated.
- antennas examples include a waveguide slot antenna, a horn antenna, a lens antenna, a print antenna, a triplate antenna, a microstrip antenna, a patch antenna, and other antennas that utilize millimeter waves or microwaves.
- These antennas include, for example, a circuit board (preferably a multilayer circuit board) including at least one conductor layer and at least one insulator (or dielectric) made of the thermoplastic liquid crystal polymer film of the present invention. It has at least a base material.
- the circuit board (or semiconductor element mounting board) of the present invention is preferably used for various sensors, particularly on-vehicle radars, and various sensors, particularly on-vehicle radars, include, for example, circuit boards containing the thermoplastic liquid crystal polymer film of the present invention, At least a semiconductor element (for example, an IC chip) is provided.
- m (Zo / ⁇ z) X [1- ⁇ max / ⁇ 0 ]
- Zo is the device constant
- ⁇ z is the average thickness of the object
- ⁇ max is the frequency that gives the maximum microwave transmission intensity when the microwave frequency is changed
- ⁇ 0 is when the average thickness is zero (ie, It is the frequency that gives the maximum microwave transmission intensity (when there is no object).
- the rotation angle of the object with respect to the vibration direction of the microwave is 0 °, that is, the direction of vibration of the microwave and the direction in which the molecules of the object are most oriented
- the minimum microwave transmission intensity is given.
- the orientation ratio SOR is calculated by m 0 / m 90.
- thermomechanical analyzer TMA
- the temperature was raised from 25 ° C to 200 ° C at a rate of 5 ° C / min, cooled to 30 ° C at a rate of 20 ° C / min, and again at a rate of 5 ° C / min. It measured between 30 degreeC and 150 degreeC when it heated up.
- MD direction machine direction
- TD direction transverse direction
- sample preparation method A sample piece cut into a width of 40 mm and a length of 50 mm was prepared for measurement of the dielectric constant in one direction in the plane direction of the film and in a direction orthogonal thereto. For measurement in the thickness direction, a sample piece cut into a width of 50 mm and a length of 50 mm was prepared.
- the dielectric constant in one direction of the film and in the direction orthogonal thereto was measured at 23 ⁇ 3 ° C.
- a molecular orientation meter MOA6015 manufactured by Oji Scientific Instruments Co., Ltd.
- measurement was performed at 15 GHz to obtain a dielectric constant.
- the MD direction was measured as one direction (X direction) of the film, and the TD direction was measured as a direction (Y direction) orthogonal thereto.
- the measurement of the dielectric constant in the thickness direction (Z direction) was performed at 23 ⁇ 3 ° C.
- a balanced disk resonator manufactured by Sumtec Co., Ltd. was used, and measurement was performed at 20 GHz to obtain a dielectric constant.
- a stripline resonator (manufactured by Keycom Co., Ltd.) is used at 23 ° C. ⁇ 5 ° C., and measurement is performed at 15 GHz. You can also get In the following Examples and Comparative Examples, the balanced disk resonator and the stripline resonator showed almost the same value in the range of ⁇ 0.01. Therefore, the value of the dielectric constant of the balanced disk resonator was measured. It was used.
- the melting point was obtained by observing the thermal behavior of the film using a differential scanning calorimeter. That is, after heating the thermoplastic liquid crystal polymer film at a rate of 10 ° C./min to completely melt it, the melt is rapidly cooled to 50 ° C. at a rate of 10 ° C./min, and again at a rate of 10 ° C./min. The position of the endothermic peak that appeared when the temperature was raised was recorded as the melting point.
- the heat distortion temperature was obtained by observing the thermal behavior of the film using a thermomechanical analyzer. That is, the produced film was used as a test piece having a width of 5 mm and a length of 20 mm, a chuck distance of 15 mm, a tensile load of 0.01 N, and a rate of temperature increase of 10 ° C./min. was measured and the inflection point was defined as the heat distortion temperature (HT) of the thermoplastic liquid crystal polymer film.
- HT heat distortion temperature
- Example 1 A copolymer of p-hydroxybenzoic acid and 6-hydroxy-2-naphthoic acid (molar ratio: 73/27; polymer A) was melt-extruded and then subjected to inflation molding to have a melting point of 280 ° C. and a heat distortion temperature of 240 ° C. A film having a film thickness of 100 ⁇ m and SOR1.1 was obtained.
- thermoplastic liquid crystal polymer film (coefficient of thermal expansion MD direction 16 ppm / ° C., TD direction 16 ppm / ° C.) was used as a heat-resistant releasable support, and both sides of the obtained thermoplastic liquid crystal polymer film were coated with two sheets of polyimide.
- the film was sandwiched with the MD direction and the TD direction aligned in the same direction, preheated with a vacuum heat press machine, and then heat-treated at 290 ° C. (HT + 50 ° C.) for 15 minutes under a pressure of 3 MPa. After the heat treatment, the polyimide film was peeled off from the laminate which was cooled and taken out. Table 7 shows the physical properties of the thermoplastic liquid crystal polymer film after the heat treatment step.
- Example 2 A copolymer of p-hydroxybenzoic acid and 6-hydroxy-2-naphthoic acid (molar ratio: 80/20; polymer B) is melt extruded, and the melting point is 325 ° C. and the heat distortion temperature is 280 ° C. by an inflation molding method. A film having a film thickness of 100 ⁇ m and SOR1.1 was obtained.
- thermoplastic liquid crystal polymer film was produced in the same manner as in Example 1 except that the heat treatment in the vacuum heat press machine was 320 ° C. (HT + 40 ° C.). Table 7 shows the physical properties of the thermoplastic liquid crystal polymer film after the heat treatment step.
- Example 3 A copolymer of p-hydroxybenzoic acid and 6-hydroxy-2-naphthoic acid (molar ratio: 73/27; polymer A) was melt extruded, and the melting point was 310 ° C. and the heat distortion temperature was obtained by an inflation molding method and a melting point increasing treatment. was obtained at a temperature of 270 ° C., a film thickness of 100 ⁇ m and a SOR of 1.1.
- a 100 ⁇ m-thick polyimide film (coefficient of thermal expansion: MD direction 27 ppm / ° C., TD direction 16 ppm / ° C.) was used as a heat-resistant releasable support.
- the polyimide film was sandwiched with the MD and TD directions aligned in the same direction to form a laminate, which was preheated with a vacuum heat press and then heat-treated at 320 ° C. (HT + 50 ° C.) for 15 minutes under a pressure of 3 MPa. After the heat treatment, the polyimide film was peeled off from the laminate which was cooled and taken out.
- Table 7 shows the physical properties of the thermoplastic liquid crystal polymer film after the heat treatment step.
- thermoplastic liquid crystal polymer film was produced in the same manner as in Example 1 except that the laminated plate was heat-treated at a speed of 3 m / min. Table 7 shows the physical properties of the thermoplastic liquid crystal polymer film after the heat treatment step.
- Example 2 A film was produced in the same manner as in Example 2 except that the heat treatment with a vacuum press in the heat treatment step was 350 ° C. (HT + 70 ° C.). Table 7 shows the physical properties of the thermoplastic liquid crystal polymer film after the heat treatment step.
- a film was produced in the same manner as in Example 1 except that the heat treatment in the vacuum press in the heat treatment step was 290 ° C. (HT-30 ° C.) and the heat treatment time was 120 minutes.
- Table 7 shows the physical properties of the thermoplastic liquid crystal polymer film after the heat treatment step.
- Example 7 As shown in Table 7, in Example 1, both sides of the thermoplastic liquid crystal polymer film were fixed with a heat-resistant releasable support in a vacuum heat press, and heat / pressure treatment was performed at a temperature at which the molecular flow was not excessive.
- the dielectric constant in the Z direction was controlled within a predetermined range while preventing the heat distortion temperature of the thermoplastic liquid crystal polymer film from rising.
- the dielectric constants in the X direction and the Y direction were the same value, and both were within the preferable range.
- the coefficient of thermal expansion was the same value in both the X direction and the Y direction, and both values were within the preferable range.
- Example 2 a thermoplastic liquid crystal polymer film having a higher heat distortion temperature than in Example 1 was used, but it was possible to control the dielectric constant in the Z direction within a predetermined range by performing an appropriate heat treatment. .. Further, the dielectric constants in the X direction and the Y direction were the same value, and both were within the preferable range. Furthermore, the coefficient of thermal expansion was the same value in both the X direction and the Y direction, and both values were within the preferable range.
- Example 3 a thermoplastic liquid crystal polymer film having a higher heat distortion temperature than in Example 1 was used, but it was possible to control the dielectric constant in the Z direction within a predetermined range by performing an appropriate heat treatment. .. Further, since the thermal expansion coefficient of the heat-resistant releasable support is different in the X direction and the Y direction, the dielectric constant and the thermal expansion coefficient of the thermoplastic liquid crystal polymer film have different values in the X direction and the Y direction. However, both were within the preferable range.
- Comparative Example 1 it was not possible to control the dielectric constant in the Z direction within a predetermined range by the treatment of the single-area layer plate with the heating roll.
- the dielectric constants in the X and Y directions were the same value.
- the thermal expansion coefficient was also the same in both the X and Y directions, but was not within the preferred range.
- the dielectric constant in the Z direction, the X direction and the Y direction of the thermoplastic liquid crystal polymer film after the heat treatment process was set by increasing the heat treatment time to 120 minutes.
- the heat treatment temperature was increased due to the prolonged heat treatment time, and as a result, the moldability was not good.
- thermoplastic liquid crystal polymer film of the present invention can be used as a circuit board material, and uses a high frequency circuit board material, particularly a high frequency circuit board material used for a microwave millimeter wave antenna, and further uses a microwave millimeter wave. It can be usefully used as a substrate material used for an on-vehicle radar.
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Abstract
厚さ方向の誘電率がミリ波レーダ基材に適した熱可塑性液晶ポリマーフィルムを提供する。前記熱可塑性液晶ポリマーフィルムは、光学的に異方性の溶融相を形成し得る熱可塑性ポリマー(以下、これを熱可塑性液晶ポリマーと称する)からなるフィルムであって、23℃、20GHzの厚さ方向の誘電率が2.5~3.2であり、熱変形温度が180~320℃であることを特徴とする熱可塑性液晶ポリマーフィルムである。前記熱可塑性液晶ポリマーフィルムは、フィルム平面において、フィルムの一方向、およびそれに直交する方向の双方の23℃、15GHzの誘電率が、2.6~3.7であってもよい。
Description
本願は、日本国で2018年11月8日に出願した特願2018-210197の優先権を主張するものであり、その全体を参照により本出願の一部をなすものとして引用する。
本発明は、光学的異方性の溶融相を形成し得る熱可塑性ポリマーからなるフィルム(以下、熱可塑性液晶ポリマーフィルムと称する)に関し、高周波(例えば、1~300GHz)、特にマイクロ波・ミリ波(例えば、10~300GHz、好ましくは30~300GHz)で用いられる回路基板として有用な熱可塑性液晶ポリマーフィルムに関する。
自動車の安全運転支援や自動運転化に向け、車体に搭載し車間距離などを検出するための赤外線レーダやミリ波レーダの開発が進んでおり、中でも雨天・霧などの悪天候下においても安定した検出能力を有するミリ波レーダが注目されている。ミリ波レーダは、電磁波信号の送受信を行うためのアンテナを備えているが、このアンテナは、絶縁基板上に精密に設置された導体層(銅箔等)から構成されている。
アンテナの絶縁基板としてはセラミックス基板やフッ素樹脂基板が知られているが、セラミックス基板は剛性が高く加工が困難であり、高価であることが課題である。また、フッ素樹脂基板は軟質であり、寸法安定性を高めるために用いられるガラスクロスやフィラー等の影響により、基板全体の高周波特性および耐湿性に問題がある。
一方、加工性に優れ、高周波特性の良好な熱可塑性液晶ポリマーフィルムが注目されており、特許文献1(特開2012-077117号公報)にはミリ波レーダ用途を想定した熱可塑性液晶ポリマーフィルムが記載されている。
特許文献1には、熱膨張係数0~25ppm/℃であるとともに、面内における誘電率の変動係数が所定の範囲である熱可塑性液晶ポリマーフィルムが開示されている。
しかしながら、特許文献1には面内、いわゆる平面方向の誘電率を高度に制御した熱可塑性液晶ポリマーフィルムの記載はあるものの、高周波回路やミリ波レーダ回路に必要な材料の厚さ方向の誘電率については何ら記載されていない。
例えば、ミリ波レーダの基板上の回路はストリップライン構造を有し、基板材料の平面方向のみならず、厚さ方向の誘電率が重要なパラメータになることが知られている。
しかし、溶融流動性の高い熱可塑性液晶ポリマーフィルムでは、フィルムを構成する分子が流動しやすいためか、厚さ方向の誘電率を制御することが困難であった。また、熱可塑性液晶フィルムについて、多層積層での成形加工性を向上させる観点から、熱可塑性液晶ポリマーフィルムの熱変形温度をより低下させることが求められている。
従って、本発明の目的は、成形加工性に優れるとともに、アンテナ特性に影響する厚さ方向の誘電率が制御された熱可塑性液晶ポリマーフィルムを提供することにある。
本発明の別の目的は、さらに、反りや寸法安定性に影響する平面方向の熱膨張係数が制御された熱可塑性液晶ポリマーフィルムを提供することにある。
本発明の他の目的は、マイクロ波・ミリ波アンテナを製造するために好適な熱可塑性液晶ポリマーフィルムを提供することにある。
本発明の発明者らは、上記目的を達成するために鋭意検討した結果、(1)熱可塑性液晶ポリマーフィルムは溶融流動性が高く、多層積層時の温度において分子が流動しやすいことが従来欠点であるとして考えられていたが、(2)逆にそのような流動性の高い分子の流動性を利用できないか検討したところ、(3)特定の工程によりフィルム表面の液晶ポリマー分子がせん断力を受けるようにしてフィルムを加熱制御すると、(4)驚くべきことに熱可塑性液晶ポリマーフィルムの成形加工性を維持しつつ、厚さ方向の誘電率を制御することが可能となることを見出し、本発明に至った。
すなわち、本発明は、以下の態様で構成されうる。
〔態様1〕
光学的に異方性の溶融相を形成し得る熱可塑性ポリマー(以下、これを熱可塑性液晶ポリマーと称する)からなる熱可塑性液晶ポリマーフィルムであって、23℃、20GHzの厚さ方向の誘電率が2.5~3.2(好ましくは2.6~3.2、より好ましくは2.7~3.1)であり、熱変形温度が180~320℃(好ましくは200~310℃、より好ましくは220~300℃)であることを特徴とする熱可塑性液晶ポリマーフィルム。
〔態様1〕
光学的に異方性の溶融相を形成し得る熱可塑性ポリマー(以下、これを熱可塑性液晶ポリマーと称する)からなる熱可塑性液晶ポリマーフィルムであって、23℃、20GHzの厚さ方向の誘電率が2.5~3.2(好ましくは2.6~3.2、より好ましくは2.7~3.1)であり、熱変形温度が180~320℃(好ましくは200~310℃、より好ましくは220~300℃)であることを特徴とする熱可塑性液晶ポリマーフィルム。
〔態様2〕
態様1に記載の熱可塑性液晶ポリマーフィルムであって、フィルム平面において、フィルムの一方向、およびそれに直交する方向の双方の熱膨張係数が13~22ppm/℃(好ましくは15~20ppm/℃程度、より好ましくは16~19ppm/℃程度)である、熱可塑性液晶ポリマーフィルム。
〔態様3〕
態様1または2に記載の熱可塑性液晶ポリマーフィルムであって、フィルム平面において、フィルムの一方向、およびそれに直交する方向の双方の23℃、15GHzの誘電率が、2.6~3.7(好ましくは2.7~3.7、より好ましくは2.9~3.6、さらに好ましくは3.1~3.5)である、熱可塑性液晶ポリマーフィルム。
態様1に記載の熱可塑性液晶ポリマーフィルムであって、フィルム平面において、フィルムの一方向、およびそれに直交する方向の双方の熱膨張係数が13~22ppm/℃(好ましくは15~20ppm/℃程度、より好ましくは16~19ppm/℃程度)である、熱可塑性液晶ポリマーフィルム。
〔態様3〕
態様1または2に記載の熱可塑性液晶ポリマーフィルムであって、フィルム平面において、フィルムの一方向、およびそれに直交する方向の双方の23℃、15GHzの誘電率が、2.6~3.7(好ましくは2.7~3.7、より好ましくは2.9~3.6、さらに好ましくは3.1~3.5)である、熱可塑性液晶ポリマーフィルム。
〔態様4〕
態様1~3のいずれか一態様に記載の熱可塑性液晶ポリマーフィルムであって、フィルム平面において、23℃、15GHzにおいて、フィルムの平面方向の一方向の誘電率DX、およびそれに直交する方向の誘電率DYの平均値と、厚さ方向の誘電率(DZ)との差が、下記式(1)で表わされる、熱可塑性液晶ポリマーフィルム。
0≦|(DX+DY)/2-DZ|≦0.9(1)
態様1~3のいずれか一態様に記載の熱可塑性液晶ポリマーフィルムであって、フィルム平面において、23℃、15GHzにおいて、フィルムの平面方向の一方向の誘電率DX、およびそれに直交する方向の誘電率DYの平均値と、厚さ方向の誘電率(DZ)との差が、下記式(1)で表わされる、熱可塑性液晶ポリマーフィルム。
0≦|(DX+DY)/2-DZ|≦0.9(1)
〔態様5〕
態様1~4のいずれか一態様に記載の熱可塑性液晶ポリマーフィルムであって、フィルム平面において、23℃、15GHzのフィルムの一方向の誘電率(DX)と、それに直交する方向の誘電率(DY)との比(DX/DY)が、0.73~1.37(好ましくは0.81~1.24、さらに好ましくは0.89~1.13)である、熱可塑性液晶ポリマーフィルム。
〔態様6〕
態様1~5のいずれか一態様に記載の熱可塑性液晶ポリマーフィルムであって、フィルム平面において、フィルムの一方向の熱膨張係数(αX)と、それに直交する方向の熱膨張係数(αY)との比(αX/αY)が、0.6~1.7(好ましくは0.8~1.3)である、熱可塑性液晶ポリマーフィルム。
態様1~4のいずれか一態様に記載の熱可塑性液晶ポリマーフィルムであって、フィルム平面において、23℃、15GHzのフィルムの一方向の誘電率(DX)と、それに直交する方向の誘電率(DY)との比(DX/DY)が、0.73~1.37(好ましくは0.81~1.24、さらに好ましくは0.89~1.13)である、熱可塑性液晶ポリマーフィルム。
〔態様6〕
態様1~5のいずれか一態様に記載の熱可塑性液晶ポリマーフィルムであって、フィルム平面において、フィルムの一方向の熱膨張係数(αX)と、それに直交する方向の熱膨張係数(αY)との比(αX/αY)が、0.6~1.7(好ましくは0.8~1.3)である、熱可塑性液晶ポリマーフィルム。
〔態様7〕
態様1~6のいずれか一態様に記載の熱可塑性液晶ポリマーフィルムであって、1~300GHz(好ましくは、10~300GHz、より好ましくは20~300GHz)の周波数帯域に対応するレーダに基板材料として用いられる、熱可塑性液晶ポリマーフィルム。
〔態様8〕
請求項1~7のいずれか一態様に記載の熱可塑性液晶ポリマーフィルムの少なくとも一方の表面に金属層が接合された金属張積層体。
〔態様9〕
少なくとも1つの導体層と、態様1~7のいずれか一態様に記載の熱可塑性液晶ポリマーフィルムとを備える回路基板。
〔態様10〕
態様9に記載の回路基板であって、多層回路基板である回路基板。
〔態様11〕
態様9または10に記載の回路基板であって、半導体素子を搭載している回路基板。
〔態様12〕
態様9~11のいずれか一態様に記載の回路基板を含む車載レーダ。
態様1~6のいずれか一態様に記載の熱可塑性液晶ポリマーフィルムであって、1~300GHz(好ましくは、10~300GHz、より好ましくは20~300GHz)の周波数帯域に対応するレーダに基板材料として用いられる、熱可塑性液晶ポリマーフィルム。
〔態様8〕
請求項1~7のいずれか一態様に記載の熱可塑性液晶ポリマーフィルムの少なくとも一方の表面に金属層が接合された金属張積層体。
〔態様9〕
少なくとも1つの導体層と、態様1~7のいずれか一態様に記載の熱可塑性液晶ポリマーフィルムとを備える回路基板。
〔態様10〕
態様9に記載の回路基板であって、多層回路基板である回路基板。
〔態様11〕
態様9または10に記載の回路基板であって、半導体素子を搭載している回路基板。
〔態様12〕
態様9~11のいずれか一態様に記載の回路基板を含む車載レーダ。
なお、請求の範囲および/または明細書に開示された少なくとも2つの構成要素のどのような組み合わせも、本発明に含まれる。特に、請求の範囲に記載された請求項の2つ以上のどのような組み合わせも本発明に含まれる。
本発明では、厚さ方向の誘電率が所定の範囲にあり均一性に優れるとともに、熱変形温度が所定の範囲にあり成形加工性に優れる熱可塑性液晶ポリマーフィルムを得ることができる。
本発明の熱可塑性液晶ポリマーフィルムは、高周波回路や車載レーダを構成する部材(例えば、ミリ波アンテナ基材)として好適に用いることができる。
(熱可塑性液晶ポリマー)
熱可塑性液晶ポリマーは、溶融成形できる液晶性ポリマー(または光学的に異方性の溶融相を形成し得るポリマー)で構成され、この熱可塑性液晶ポリマーは、溶融成形できる液晶性ポリマーであればその化学的構成については特に限定されるものではないが、例えば、熱可塑性液晶ポリエステル、又はこれにアミド結合が導入された熱可塑性液晶ポリエステルアミドなどを挙げることができる。
熱可塑性液晶ポリマーは、溶融成形できる液晶性ポリマー(または光学的に異方性の溶融相を形成し得るポリマー)で構成され、この熱可塑性液晶ポリマーは、溶融成形できる液晶性ポリマーであればその化学的構成については特に限定されるものではないが、例えば、熱可塑性液晶ポリエステル、又はこれにアミド結合が導入された熱可塑性液晶ポリエステルアミドなどを挙げることができる。
また、熱可塑性液晶ポリマーは、芳香族ポリエステルまたは芳香族ポリエステルアミドに、更にイミド結合、カーボネート結合、カルボジイミド結合やイソシアヌレート結合などのイソシアネート由来の結合等が導入されたポリマーであってもよい。
本発明に用いられる熱可塑性液晶ポリマーの具体例としては、以下に例示する(1)から(4)に分類される化合物およびその誘導体から導かれる公知の熱可塑性液晶ポリエステルおよび熱可塑性液晶ポリエステルアミドを挙げることができる。ただし、光学的に異方性の溶融相を形成し得るポリマーを形成するためには、種々の原料化合物の組合せには適当な範囲があることは言うまでもない。
これらの原料化合物から得られる熱可塑性液晶ポリマーの代表例として表5および6に示す構造単位を有する共重合体を挙げることができる。
これらの共重合体のうち、p-ヒドロキシ安息香酸および/または6-ヒドロキシ-2-ナフトエ酸を少なくとも繰り返し単位として含む重合体が好ましく、特に、(i)p-ヒドロキシ安息香酸と6-ヒドロキシ-2-ナフトエ酸との繰り返し単位を含む重合体、又は(ii)p-ヒドロキシ安息香酸および6-ヒドロキシ-2-ナフトエ酸からなる群から選ばれる少なくとも一種の芳香族ヒドロキシカルボン酸と、少なくとも一種の芳香族ジオールと、少なくとも一種の芳香族ジカルボン酸との繰り返し単位を含む共重合体が好ましい。
例えば、(i)の重合体では、熱可塑性液晶ポリマーが、少なくともp-ヒドロキシ安息香酸と6-ヒドロキシ-2-ナフトエ酸との繰り返し単位を含む場合、繰り返し単位(A)のp-ヒドロキシ安息香酸と、繰り返し単位(B)の6-ヒドロキシ-2-ナフトエ酸とのモル比(A)/(B)は、熱可塑性液晶ポリマー中、(A)/(B)=10/90~90/10程度であることが望ましく、より好ましくは、(A)/(B)=15/85~85/15程度であってもよく、さらに好ましくは、(A)/(B)=20/80~80/20程度であってもよい。
また、(ii)の重合体の場合、p-ヒドロキシ安息香酸および6-ヒドロキシ-2-ナフトエ酸からなる群から選ばれる少なくとも一種の芳香族ヒドロキシカルボン酸(C)と、4,4’-ジヒドロキシビフェニル、ヒドロキノン、フェニルヒドロキノン、および4,4’-ジヒドロキシジフェニルエーテルからなる群から選ばれる少なくとも一種の芳香族ジオール(D)と、テレフタル酸、イソフタル酸および2,6-ナフタレンジカルボン酸からなる群から選ばれる少なくとも一種の芳香族ジカルボン酸(E)の、液晶ポリマーにおける各繰り返し単位のモル比は、前記芳香族ヒドロキシカルボン酸(C):前記芳香族ジオール(D):前記芳香族ジカルボン酸(E)=(30~80):(35~10):(35~10)程度であってもよく、より好ましくは、(C):(D):(E)=(35~75):(32.5~12.5):(32.5~12.5)程度であってもよく、さらに好ましくは、(C):(D):(E)=(40~70):(30~15):(30~15)程度であってもよい。
また、芳香族ヒドロキシカルボン酸(C)のうち6-ヒドロキシ-2-ナフトエ酸に由来する繰り返し単位のモル比率は、例えば、85モル%以上であってもよく、好ましくは90モル%以上、より好ましくは95モル%以上であってもよい。芳香族ジカルボン酸(E)のうち2,6-ナフタレンジカルボン酸に由来する繰り返し単位のモル比率は、例えば、85モル%以上であってもよく、好ましくは90モル%以上、より好ましくは95モル%以上であってもよい。
また、芳香族ジオール(D)は、ヒドロキノン、4,4’-ジヒドロキシビフェニル、フェニルヒドロキノン、および4,4’-ジヒドロキシジフェニルエーテルからなる群から選ばれる互いに異なる二種の芳香族ジオールに由来する繰り返し単位(D1)と(D2)であってもよく、その場合、二種の芳香族ジオールのモル比は、(D1)/(D2)=23/77~77/23であってもよく、より好ましくは25/75~75/25、さらに好ましくは30/70~70/30であってもよい。
また、芳香族ジオールに由来する繰り返し構造単位と芳香族ジカルボン酸に由来する繰り返し構造単位とのモル比は、(D)/(E)=95/100~100/95であることが好ましい。この範囲をはずれると、重合度が上がらず機械強度が低下する傾向がある。
なお、本発明にいう光学的異方性の溶融相を形成し得るとは、例えば試料をホットステージにのせ、窒素雰囲気下で昇温加熱し、試料の透過光を観察することにより認定できる。
熱可塑性液晶ポリマーとして好ましいものは、融点(以下、Tm0と称す)が、例えば、200~360℃の範囲のものであり、好ましくは240~350℃の範囲のもの、さらに好ましくは260~330℃のものである。なお、融点は、示差走査熱量計を用いて、ポリマーサンプルの熱挙動を観察して得ることができる。すなわち、ポリマーサンプルを10℃/分の速度で昇温して完全に溶融させた後、溶融物を10℃/分の速度で50℃まで急冷し、再び10℃/分の速度で昇温した時に現れる吸熱ピークの位置を、ポリマーサンプルの融点として記録すればよい。
また、熱可塑性液晶ポリマーは、溶融成形性の観点から、例えば、(Tm0+20)℃におけるせん断速度1000/秒の溶融粘度30~120Pa・sを有していてもよく、好ましくは溶融粘度50~100Pa・sを有していてもよい。
前記熱可塑性液晶ポリマーには、本発明の効果を損なわない範囲内で、ポリエチレンテレフタレート、変性ポリエチレンテレフタレート、ポリオレフィン、ポリカーボネート、ポリアリレート、ポリアミド、ポリフェニレンサルファイド、ポリエーテルエーテルケトン、フッ素樹脂等の熱可塑性ポリマー、各種添加剤を添加してもよい。また、必要に応じて充填剤を添加してもよい。
[熱可塑性液晶ポリマーフィルムの製造方法]
本発明において、成形加工性を維持しつつ、厚さ方向の誘電率を制御するために、特定の条件下において、熱可塑性液晶ポリマーフィルムの3次元構造制御が行われる。
本発明において、成形加工性を維持しつつ、厚さ方向の誘電率を制御するために、特定の条件下において、熱可塑性液晶ポリマーフィルムの3次元構造制御が行われる。
本発明の熱可塑性液晶ポリマーフィルムの製造方法は、熱可塑性液晶ポリマーフィルムの両面が一対の耐熱性離型性支持体で挟まれた積層体を、所定の加圧下において、熱処理工程前の熱可塑性液晶ポリマーフィルムの熱変形温度(以下、HTと称する場合がある)に対して、(HT+10)~(HT+60)℃で熱処理を行う熱処理工程と、前記積層体から前記一対の耐熱性離型性支持体をはがして熱可塑性液晶ポリマーフィルムを得る剥離工程と、を少なくとも備えていることが好ましい。
(熱処理工程)
熱処理工程では、押出成形(例えばインフレーション法など)により得られた熱可塑性液晶ポリマーフィルムを用い、この熱可塑性液晶ポリマーフィルムの両面が一対の耐熱性離型性支持体で挟まれた積層体に対して、所定の加圧下において、特定の温度により熱処理を行う。この熱処理でスキン層に存在する表裏面の液晶ポリマー分子がせん断力を受けるためか、熱処理工程後の熱可塑性液晶ポリマーフィルムでは、厚さ方向の誘電率を所望の範囲に制御することができる。
熱可塑性液晶ポリマーフィルムの両面に配設される耐熱性離型性支持体は、目的を達成することができれば、同種であっても、異なっていてもよいが、同じ種類であるのが好ましい。
熱処理工程では、押出成形(例えばインフレーション法など)により得られた熱可塑性液晶ポリマーフィルムを用い、この熱可塑性液晶ポリマーフィルムの両面が一対の耐熱性離型性支持体で挟まれた積層体に対して、所定の加圧下において、特定の温度により熱処理を行う。この熱処理でスキン層に存在する表裏面の液晶ポリマー分子がせん断力を受けるためか、熱処理工程後の熱可塑性液晶ポリマーフィルムでは、厚さ方向の誘電率を所望の範囲に制御することができる。
熱可塑性液晶ポリマーフィルムの両面に配設される耐熱性離型性支持体は、目的を達成することができれば、同種であっても、異なっていてもよいが、同じ種類であるのが好ましい。
耐熱性離型性支持体としては、熱可塑性液晶ポリマーフィルムの厚み方向の誘電率を所定の範囲に制御することができる限り特に限定されないが、熱可塑性液晶ポリマーフィルムが熱処理中に熱可塑性液晶ポリマーフィルム表面でせん断力を受けやすい観点から、例えば、離型性耐熱フィルム(例えば、ポリイミドフィルム)が挙げられる。
耐熱性離型性支持体(例えば、離型性耐熱フィルム)としては、前記熱処理の支持体として使用可能であるとともに、耐熱性離型性支持体平面において、耐熱性離型性支持体の一方向と、それに直交する方向の熱膨張係数が所定の範囲(例えば、10~27ppm/℃、好ましくは10~22ppm/℃、より好ましくは15~22ppm/℃)に存在する耐熱性離型性支持体を使用することができる。
好ましくは、耐熱性離型性支持体(例えば、離型性耐熱フィルム)平面において、耐熱性離型性支持体の一方向(X方向)の熱膨張係数(α0X)と、それに直交する方向(Y方向)の熱膨張係数(α0Y)との比(α0X/α0Y)が、例えば、0.6~1.7、好ましくは0.8~1.2、より好ましくは0.9~1.1であってもよい。
耐熱性離型性支持体の熱膨張係数が、その一方向と、それに直交する方向で異なる場合、耐熱性離型性支持体は、熱膨張係数を互いに同じ向きにそろえて熱可塑性液晶ポリマーフィルムの両面に配設してもよいし、互いに異なる向きにして配設してもよい。熱可塑性液晶ポリマーフィルムの平面方向の熱膨張係数を制御する観点からは、耐熱性離型性支持体の熱膨張係数を互いに同じ向きにそろえて熱可塑性液晶ポリマーフィルムの両面に配設するのが好ましい。
熱処理工程では、熱可塑性液晶ポリマーフィルムの両面に耐熱性離型性支持体(例えば離型性耐熱フィルム)を熱圧着して積層体を形成し、この積層体に対して、特定の加圧下において熱処理を行う。
加圧は、熱可塑性液晶ポリマーフィルムの両面をそれぞれ耐熱性離型性支持体(例えば離型性耐熱フィルム)に密着させた状態で行われる。圧力は、熱可塑性液晶ポリマーフィルムに対して十分なせん断力を付与する観点から、例えば、1~6MPa、好ましくは1.5~4.5MPa、より好ましくは2~3MPaであってもよい。
加圧は、熱可塑性液晶ポリマーフィルムの両面をそれぞれ耐熱性離型性支持体(例えば離型性耐熱フィルム)に密着させた状態で行われる。圧力は、熱可塑性液晶ポリマーフィルムに対して十分なせん断力を付与する観点から、例えば、1~6MPa、好ましくは1.5~4.5MPa、より好ましくは2~3MPaであってもよい。
熱処理温度は、厚さ方向の誘電率を制御する観点から、例えば、熱処理工程前の熱可塑性液晶ポリマーフィルムの熱変形温度(HT)に対して、(HT+10)~(HT+60)℃で行ってもよく、好ましくは(HT+20)~(HT+55)℃であってもよい。熱処理温度が低すぎると、厚さ方向の誘電率を変更することができず、熱処理温度が高すぎると、スキン層に存在する液晶ポリマー分子の流動性が高くなりすぎるためか、厚さ方向の誘電率を制御しにくい。
なお、熱処理工程前の熱可塑性液晶ポリマーフィルムは、熱変形温度(HT)が、180~320℃であってもよく、好ましくは200~310℃であってもよく、より好ましくは220~300℃であってもよい。なお、熱変形温度は、後述する実施例に記載した方法により測定される値である。
熱処理工程では、熱処理温度を、融点に対して所定の値に制御するのではなく、熱変形温度に対して所定の値に制御するのが好ましい。熱変形温度に対して所定の温度差を有した状態で熱処理を行うことにより、熱可塑性液晶ポリマーフィルムに密着した耐熱性離型性支持体により、液晶ポリマー分子の流動性を適確に制御することができる。なお、熱可塑性液晶ポリマーフィルムが有する熱変形温度は、フィルムに対して、熱変形温度上昇工程として熱処理を行うことにより調整することができ、一般に加熱時間を長くするほど熱変形温度を上昇させることができる。
また、熱処理時間は、加熱温度に応じて適宜設定することが可能であるが、熱可塑性液晶ポリマーフィルムの熱変形温度が上昇することを防ぎつつ、厚さ方向の誘電率を制御する観点から、30秒~30分であってもよく、好ましくは2分~25分、より好ましくは5分~20分であってもよい。
熱処理後、流動した液晶ポリマー分子の配置を定着させる観点から、熱可塑性液晶ポリマーフィルムの両面に耐熱性離型性支持体を密着させた積層状態を維持して室温まで冷却するのが好ましい。その後、耐熱性離型性支持体を剥離して、熱可塑性液晶ポリマーフィルム単体を得ることができる。
また、熱可塑性液晶ポリマーフィルム平面において、フィルムの一方向、およびそれに直交する方向の双方の熱膨張係数を所定の範囲に制御する観点から、熱処理工程前の熱可塑性液晶ポリマーフィルムは、等方性の高い状態であることが好ましい。例えば、熱可塑性液晶ポリマーフィルムの分子配向性を示すSORは、0.8~1.4であることが好ましく、より好ましくは1.0~1.3であってもよい。例えば、このような分子配向性を示す熱可塑性液晶ポリマーフィルムは、国際公開第2015/050080号を参照して得ることができる。
[熱可塑性液晶ポリマーフィルム]
このようにして得られた本発明の熱可塑性液晶ポリマーフィルムは、成形加工性に優れるとともに、厚さ方向の誘電率が所定の範囲にあるため、基板材料、例えば、1~300GHzの高周波回路基板材料として好適であり、特に10~300GHz(好ましくは20~300GHz)の周波数帯域に対応するレーダに用いられる基材として好適に用いることができる。
このようにして得られた本発明の熱可塑性液晶ポリマーフィルムは、成形加工性に優れるとともに、厚さ方向の誘電率が所定の範囲にあるため、基板材料、例えば、1~300GHzの高周波回路基板材料として好適であり、特に10~300GHz(好ましくは20~300GHz)の周波数帯域に対応するレーダに用いられる基材として好適に用いることができる。
(誘電率)
本発明の熱可塑性液晶ポリマーフィルムでは、23℃、20GHzの厚さ方向(Z方向)の誘電率(DZ)が2.5~3.2であり、好ましくは2.6~3.2、より好ましくは2.7~3.1であってもよい。厚さ方向の誘電率を制御することにより、ストリップライン構造の回路基板材料、特に、ミリ波レーダの基板に好適に用いることが可能である。なお、厚さ方向の誘電率は、後述する実施例に記載した方法により測定される値である。
本発明の熱可塑性液晶ポリマーフィルムでは、23℃、20GHzの厚さ方向(Z方向)の誘電率(DZ)が2.5~3.2であり、好ましくは2.6~3.2、より好ましくは2.7~3.1であってもよい。厚さ方向の誘電率を制御することにより、ストリップライン構造の回路基板材料、特に、ミリ波レーダの基板に好適に用いることが可能である。なお、厚さ方向の誘電率は、後述する実施例に記載した方法により測定される値である。
また、本発明の熱可塑性液晶ポリマーフィルムでは、フィルム平面において、フィルムの一方向、およびそれに直交する方向の双方の23℃、15GHzの誘電率が2.6~3.7であってもよく、好ましくは2.7~3.7、より好ましくは2.9~3.6、さらに好ましくは3.1~3.5であってもよい。なお、フィルムの一方向およびそれに直交する方向の誘電率は、後述する実施例に記載した方法により測定される値である。
また、本発明の熱可塑性液晶ポリマーフィルムでは、誘電率が平面内において略等方であることが好ましく、フィルム平面において、23℃、15GHzのフィルムの一方向(X方向)の誘電率(DX)と、それに直交する方向(Y方向)の誘電率(DY)との比(DX/DY)が、例えば、0.73~1.37、好ましくは0.81~1.24、より好ましくは0.89~1.13であってもよい。
また、平面方向と厚さ方向との誘電率のバランスは、例えば、フィルムの平面方向の誘電率(例えば、DXとDYの平均値)と、厚さ方向の誘電率(DZ)との差が、下記式(1)で表わすように、0.9以内であってもよい。前記差は、好ましくは0.8以内であってもよく、より好ましくは0.7以内であってもよい。
0≦|(DX+DY)/2-DZ|≦0.9(1)
さらに、フィルムの平面方向の誘電率(例えば、DXとDYの平均値)は、厚さ方向の誘電率(DZ)に対して、下記式(2)で表される関係を有しているのが好ましく、下記式(3)で表される関係を有しているのがより好ましくい。
-0.1≦{(DX+DY)/2-DZ}≦0.9 (2)
-0.1≦{(DX+DY)/2-DZ}≦0.6 (3)
0≦|(DX+DY)/2-DZ|≦0.9(1)
さらに、フィルムの平面方向の誘電率(例えば、DXとDYの平均値)は、厚さ方向の誘電率(DZ)に対して、下記式(2)で表される関係を有しているのが好ましく、下記式(3)で表される関係を有しているのがより好ましくい。
-0.1≦{(DX+DY)/2-DZ}≦0.9 (2)
-0.1≦{(DX+DY)/2-DZ}≦0.6 (3)
(熱膨張係数)
本発明の熱可塑性液晶ポリマーフィルムでは、フィルム平面において、フィルムの一方向、およびそれに直交する方向の双方の熱膨張係数が、例えば、13~22ppm/℃の範囲であってもよく、好ましくは15~20ppm/℃程度、より好ましくは16~19ppm/℃程度であってもよい。本発明の熱可塑性液晶ポリマーフィルムは、熱膨張係数を熱処理に応じて変化させることができるため、幅広い範囲の熱膨張係数とすることができ、例えば、回路基板として用いる場合、相手側の材料の熱膨張係数にあわせることが可能である。なお、熱膨張係数は、後述する実施例に記載した方法により測定される値である。
本発明の熱可塑性液晶ポリマーフィルムでは、フィルム平面において、フィルムの一方向、およびそれに直交する方向の双方の熱膨張係数が、例えば、13~22ppm/℃の範囲であってもよく、好ましくは15~20ppm/℃程度、より好ましくは16~19ppm/℃程度であってもよい。本発明の熱可塑性液晶ポリマーフィルムは、熱膨張係数を熱処理に応じて変化させることができるため、幅広い範囲の熱膨張係数とすることができ、例えば、回路基板として用いる場合、相手側の材料の熱膨張係数にあわせることが可能である。なお、熱膨張係数は、後述する実施例に記載した方法により測定される値である。
また、熱可塑性液晶ポリマーフィルムの熱膨張係数の平面方向における等方性または異方性は、密着させる耐熱性離型性支持体の異方性および等方性を利用して制御することが可能である。本発明の熱可塑性液晶ポリマーフィルムでは、熱膨張係数が平面内において略等方であることが好ましく、フィルム平面において、フィルムの一方向(X方向)の熱膨張係数(αX)と、それに直交する方向(Y方向)の熱膨張係数(αY)との比(αX/αY)が、例えば、0.6~1.7、好ましくは0.8~1.3であってもよい。
(融点)
熱可塑性液晶ポリマーフィルムの融点は、フィルムの所望の耐熱性および加工性を得る目的において、200~360℃程度の範囲内で選択することができ、好ましくは240~350℃程度、より好ましくは260~330℃程度であってもよい。なお、融点は、後述する実施例に記載した方法により測定される値である。
熱可塑性液晶ポリマーフィルムの融点は、フィルムの所望の耐熱性および加工性を得る目的において、200~360℃程度の範囲内で選択することができ、好ましくは240~350℃程度、より好ましくは260~330℃程度であってもよい。なお、融点は、後述する実施例に記載した方法により測定される値である。
(熱変形温度)
本発明の熱可塑性液晶ポリマーフィルムでは、熱変形温度が180~320℃であり、好ましくは200~310℃であってもよく、より好ましくは220~300℃であってもよい。なお、熱変形温度は、後述する実施例に記載した方法により測定される値である。本発明では、特定の熱処理を行うことにより、熱処理後であっても熱可塑性液晶ポリマーフィルムの熱変形温度の上昇を抑制しつつ、厚さ方向の誘電率を所望の範囲に制御することができる。
本発明の熱可塑性液晶ポリマーフィルムでは、熱変形温度が180~320℃であり、好ましくは200~310℃であってもよく、より好ましくは220~300℃であってもよい。なお、熱変形温度は、後述する実施例に記載した方法により測定される値である。本発明では、特定の熱処理を行うことにより、熱処理後であっても熱可塑性液晶ポリマーフィルムの熱変形温度の上昇を抑制しつつ、厚さ方向の誘電率を所望の範囲に制御することができる。
(厚み)
厚みの小さいフィルムであっても厚さ方向の誘電率を制御できる観点から、本発明の熱可塑性液晶ポリマーフィルムは、回路基板の電気絶縁層として熱可塑性液晶ポリマーフィルムを単独で用いる場合の厚みとして、例えば、500μm以下(例えば、10~200μm)の厚みを有していてもよく、より好ましくは15~150μmであってもよい。また、用途に応じて前記熱可塑性液晶ポリマーフィルムを積層させることにより、任意の厚みとすることができ、例えば、5mm以下の板状またはシート状であってもよい。例えば、高周波伝送線路に使用する場合は、厚みが厚いほど伝送損失が小さくなるので、できるだけ厚みを厚くすることが好ましい。
厚みの小さいフィルムであっても厚さ方向の誘電率を制御できる観点から、本発明の熱可塑性液晶ポリマーフィルムは、回路基板の電気絶縁層として熱可塑性液晶ポリマーフィルムを単独で用いる場合の厚みとして、例えば、500μm以下(例えば、10~200μm)の厚みを有していてもよく、より好ましくは15~150μmであってもよい。また、用途に応じて前記熱可塑性液晶ポリマーフィルムを積層させることにより、任意の厚みとすることができ、例えば、5mm以下の板状またはシート状であってもよい。例えば、高周波伝送線路に使用する場合は、厚みが厚いほど伝送損失が小さくなるので、できるだけ厚みを厚くすることが好ましい。
[金属張積層体]
本発明の一構成は、前記熱可塑性液晶ポリマーフィルムの少なくとも一方の表面に金属層(例えば金属シート)が接合された金属張積層体が含まれてもよい。
金属層は、例えば、金、銀、銅、鉄、ニッケル、アルミニウムまたはこれらの合金金属などから形成された金属層であってもよい。金属張積層体は、好ましくは銅張積層体であってもよい。
本発明の一構成は、前記熱可塑性液晶ポリマーフィルムの少なくとも一方の表面に金属層(例えば金属シート)が接合された金属張積層体が含まれてもよい。
金属層は、例えば、金、銀、銅、鉄、ニッケル、アルミニウムまたはこれらの合金金属などから形成された金属層であってもよい。金属張積層体は、好ましくは銅張積層体であってもよい。
金属張積層体は、熱可塑性液晶ポリマーフィルムにおける厚さ方向の誘電率を維持できる限り、公知または慣用の方法により製造することができ、例えば金属層を熱可塑性液晶ポリマーフィルム表面に蒸着してもよく、無電解めっき、電解めっきにより、金属層を形成してもよい。また、金属箔(例えば銅箔)をロールトゥロール式または連続等方圧プレス式(ダブルベルト式)で、熱可塑性液晶ポリマーフィルムと金属箔とを重ね合わせて連続的に熱圧着させることにより、製造してもよい。
[回路基板]
本発明の構成である回路基板は、少なくとも1つの導体層と、少なくとも1つの絶縁体(または誘電体)層とを含んでおり、前記熱可塑性液晶ポリマーフィルムを絶縁体(または誘電体)として用いる限り、その形態は特に限定されず、公知または慣用の手段により、各種高周波回路基板として用いることが可能である。また、回路基板は、半導体素子(例えば、ICチップ)を搭載している回路基板(または半導体素子実装基板)であってもよい。
本発明の構成である回路基板は、少なくとも1つの導体層と、少なくとも1つの絶縁体(または誘電体)層とを含んでおり、前記熱可塑性液晶ポリマーフィルムを絶縁体(または誘電体)として用いる限り、その形態は特に限定されず、公知または慣用の手段により、各種高周波回路基板として用いることが可能である。また、回路基板は、半導体素子(例えば、ICチップ)を搭載している回路基板(または半導体素子実装基板)であってもよい。
(導体層)
導体層は、例えば、少なくとも導電性を有する金属から形成され、この導体層に公知の回路加工方法を用いて回路パターンが形成される。導体層を形成する導体としては、導電性を有する各種金属、例えば、金、銀、銅、鉄、ニッケル、アルミニウムまたはこれらの合金金属などであってもよい。また、前記金属張積層体に対して、公知または慣用の方法により、金属層部分に回路パターンを形成してもよい。
導体層は、例えば、少なくとも導電性を有する金属から形成され、この導体層に公知の回路加工方法を用いて回路パターンが形成される。導体層を形成する導体としては、導電性を有する各種金属、例えば、金、銀、銅、鉄、ニッケル、アルミニウムまたはこれらの合金金属などであってもよい。また、前記金属張積層体に対して、公知または慣用の方法により、金属層部分に回路パターンを形成してもよい。
特に、本発明の構成である回路基板は、平面方向のみならず厚さ方向の誘電率も制御されているため、各種伝送線路、例えば、同軸線路、ストリップ線路、マイクロストリップ線路、コプレナー線路、平行線路などの公知または慣用の伝送線路に用いられてもよいし、アンテナ(例えば、マイクロ波またはミリ波用アンテナ)に用いられてもよい。また、回路基板は、アンテナと伝送線路が一体化したアンテナ装置に用いられてもよい。
アンテナとしては、導波管スロットアンテナ、ホーンアンテナ、レンズアンテナ、プリントアンテナ、トリプレートアンテナ、マイクロストリップアンテナ、パッチアンテナなどのミリ波やマイクロ波を利用するアンテナが挙げられる。
これらのアンテナは、例えば、少なくとも1つの導体層と、本発明の熱可塑性液晶ポリマーフィルムからなる少なくとも1つの絶縁体(または誘電体)とを含む回路基板(好ましくは多層回路基板)を、アンテナの基材として少なくとも備えている。
これらのアンテナは、例えば、少なくとも1つの導体層と、本発明の熱可塑性液晶ポリマーフィルムからなる少なくとも1つの絶縁体(または誘電体)とを含む回路基板(好ましくは多層回路基板)を、アンテナの基材として少なくとも備えている。
本発明の回路基板(または半導体素子実装基板)は、各種センサ、特に車載レーダに用いられることが好ましく、各種センサ、特に車載レーダは、例えば、本発明の熱可塑性液晶ポリマーフィルムを含む回路基板、半導体素子(例えば、ICチップ)を少なくとも備えている。
以下、実施例により本発明をより詳細に説明するが、本発明は本実施例により何ら限定されるものではない。なお、以下の実施例及び比較例においては、下記の方法により各種物性を測定した。
[分子配向度(SOR)]
マイクロ波分子配向度測定機(王子計測機器(株)製 MOA6015、アジレント・テクノロジー(株)製 E8241A)において、液晶ポリマーフィルムを、マイクロ波の進行方向にフィルム面が垂直になるように、マイクロ波共振導波管中に挿入し、該フィルムを透過したマイクロ波の電場強度(マイクロ波透過強度)を測定する。そして、この測定値に基づいて、次式により、屈折率m値を算出する。
m=(Zo/Δz)X[1-νmax/ν0]
ここで、Zoは装置定数、Δzは物体の平均厚、νmaxはマイクロ波の振動数を変化させたとき、最大のマイクロ波透過強度を与える振動数、ν0は平均厚ゼロのとき(すなわち物体がないとき)の最大マイクロ波透過強度を与える振動数である。
マイクロ波分子配向度測定機(王子計測機器(株)製 MOA6015、アジレント・テクノロジー(株)製 E8241A)において、液晶ポリマーフィルムを、マイクロ波の進行方向にフィルム面が垂直になるように、マイクロ波共振導波管中に挿入し、該フィルムを透過したマイクロ波の電場強度(マイクロ波透過強度)を測定する。そして、この測定値に基づいて、次式により、屈折率m値を算出する。
m=(Zo/Δz)X[1-νmax/ν0]
ここで、Zoは装置定数、Δzは物体の平均厚、νmaxはマイクロ波の振動数を変化させたとき、最大のマイクロ波透過強度を与える振動数、ν0は平均厚ゼロのとき(すなわち物体がないとき)の最大マイクロ波透過強度を与える振動数である。
次に、マイクロ波の振動方向に対する物体の回転角が0°のとき、つまり、マイクロ波の振動方向と、物体の分子が最もよく配向されている方向であって、最小マイクロ波透過強度を与える方向とが合致しているときのm値をm0、回転角が90°のときのm値をm90として、分子配向度SORをm0/m90により算出した。
[膜厚]
後述の誘電率測定に記載のサンプル片の中心点から6mm四方の領域について、等間隔に9筒所測定した平均値をサンプルの膜厚とし、接触式リニアゲージ((株)小野測器製
HS3412)を用いて測定した。
後述の誘電率測定に記載のサンプル片の中心点から6mm四方の領域について、等間隔に9筒所測定した平均値をサンプルの膜厚とし、接触式リニアゲージ((株)小野測器製
HS3412)を用いて測定した。
[熱膨張係数]
熱機械分析装置(TMA)を用いて、5℃/分の速度で25℃から200℃まで昇温した後、20℃/分の速度で30℃まで冷却し、再び5℃/分の速度で昇温したときの、30℃および150℃の間で測定した。なお、フィルムの一方向(X方向)としてMD方向(machine direction)を、それに直交する方向(Y方向)としてTD方向(transverse direction)を、それぞれ測定した。
熱機械分析装置(TMA)を用いて、5℃/分の速度で25℃から200℃まで昇温した後、20℃/分の速度で30℃まで冷却し、再び5℃/分の速度で昇温したときの、30℃および150℃の間で測定した。なお、フィルムの一方向(X方向)としてMD方向(machine direction)を、それに直交する方向(Y方向)としてTD方向(transverse direction)を、それぞれ測定した。
[誘電率]
(サンプル作製方法)
フィルム平面方向における一方向、およびそれに直交する方向の誘電率の測定には、幅40mm、長さ50mmにカットしたサンプル片を準備した。
厚さ方向の測定には、幅50mm、長さ50mmにカットしたサンプル片を準備した。
(サンプル作製方法)
フィルム平面方向における一方向、およびそれに直交する方向の誘電率の測定には、幅40mm、長さ50mmにカットしたサンプル片を準備した。
厚さ方向の測定には、幅50mm、長さ50mmにカットしたサンプル片を準備した。
(測定方法)
フィルムの一方向、およびそれに直交する方向の誘電率の測定は23±3℃の状態で行った。分子配向計(王子計測機器(株)製 MOA6015)を使用し、15GHzで測定を行い、誘電率を得た。なお、フィルムの一方向(X方向)としてMD方向を、それに直交する方向(Y方向)としてTD方向を、それぞれ測定した。
厚さ方向(Z方向)の誘電率の測定は23±3℃の状態で行った。平衡形円板共振器(サムテック(有)製)を使用し、20GHzで測定を行い、誘電率を得た。
また、厚さ方向(Z方向)の誘電率の他の測定方法として、23℃±5℃の状態でストリップライン共振器(キーコム(株)製)を使用し、15GHzで測定を行い、誘電率を得ることもできる。なお、以下の実施例及び比較例において、平衡形円板共振器とストリップライン共振器は、±0.01の範囲でほぼ同じ値を示したので、平衡形円板共振器の誘電率の値を使用した。
フィルムの一方向、およびそれに直交する方向の誘電率の測定は23±3℃の状態で行った。分子配向計(王子計測機器(株)製 MOA6015)を使用し、15GHzで測定を行い、誘電率を得た。なお、フィルムの一方向(X方向)としてMD方向を、それに直交する方向(Y方向)としてTD方向を、それぞれ測定した。
厚さ方向(Z方向)の誘電率の測定は23±3℃の状態で行った。平衡形円板共振器(サムテック(有)製)を使用し、20GHzで測定を行い、誘電率を得た。
また、厚さ方向(Z方向)の誘電率の他の測定方法として、23℃±5℃の状態でストリップライン共振器(キーコム(株)製)を使用し、15GHzで測定を行い、誘電率を得ることもできる。なお、以下の実施例及び比較例において、平衡形円板共振器とストリップライン共振器は、±0.01の範囲でほぼ同じ値を示したので、平衡形円板共振器の誘電率の値を使用した。
[融点]
融点は、示差走査熱量計を用いて、フィルムの熱挙動を観察して得た。つまり、熱可塑性液晶ポリマーフィルムを10℃/分の速度で昇温して完全に溶融させた後、溶融物を10℃/分の速度で50℃まで急冷し、再び10℃/分の速度で昇温した時に現れる吸熱ピークの位置を、融点として記録した。
融点は、示差走査熱量計を用いて、フィルムの熱挙動を観察して得た。つまり、熱可塑性液晶ポリマーフィルムを10℃/分の速度で昇温して完全に溶融させた後、溶融物を10℃/分の速度で50℃まで急冷し、再び10℃/分の速度で昇温した時に現れる吸熱ピークの位置を、融点として記録した。
[熱変形温度]
熱変形温度は、熱機械分析装置を用いて、フィルムの熱挙動を観察して得た。即ち、作製したフィルムを、幅5mm長さ20mmの試験片として、チャック間距離15mmにて、引張荷重0.01N、昇温速度10℃/分の条件で試験片の長さ方向の熱膨張量を測定し、その変曲点を熱可塑性液晶ポリマーフィルムの熱変形温度(HT)とした。
熱変形温度は、熱機械分析装置を用いて、フィルムの熱挙動を観察して得た。即ち、作製したフィルムを、幅5mm長さ20mmの試験片として、チャック間距離15mmにて、引張荷重0.01N、昇温速度10℃/分の条件で試験片の長さ方向の熱膨張量を測定し、その変曲点を熱可塑性液晶ポリマーフィルムの熱変形温度(HT)とした。
[実施例1]
p-ヒドロキシ安息香酸と6-ヒドロキシ-2-ナフトエ酸の共重合物(モル比:73/27;ポリマーA)を溶融押出し、インフレーション成形法により、融点が280℃、熱変形温度が240℃、膜厚100μm、SOR1.1のフィルムを得た。
p-ヒドロキシ安息香酸と6-ヒドロキシ-2-ナフトエ酸の共重合物(モル比:73/27;ポリマーA)を溶融押出し、インフレーション成形法により、融点が280℃、熱変形温度が240℃、膜厚100μm、SOR1.1のフィルムを得た。
耐熱性離型性支持体として、厚さ100μmのポリイミドフィルム(熱膨張係数MD方向16ppm/℃、TD方向16ppm/℃)を用い、得られた熱可塑性液晶ポリマーフィルムの両面を、2枚のポリイミドフィルムのMD方向およびTD方向を同方向にそろえた状態で挟み積層体とし、真空熱プレス機で予熱後、290℃(HT+50℃)で15分間3MPaの圧力下で熱処理した。熱処理後、冷却し取り出した積層体から、ポリイミドフィルムを剥がした。熱処理工程後の熱可塑性液晶ポリマーフィルムの物性を表7に示す。
[実施例2]
p-ヒドロキシ安息香酸と6-ヒドロキシ-2-ナフトエ酸の共重合物(モル比:80/20;ポリマーB)を溶融押出し、インフレーション成形法により、融点が325℃、熱変形温度が280℃、膜厚100μm、SOR1.1のフィルムを得た。
p-ヒドロキシ安息香酸と6-ヒドロキシ-2-ナフトエ酸の共重合物(モル比:80/20;ポリマーB)を溶融押出し、インフレーション成形法により、融点が325℃、熱変形温度が280℃、膜厚100μm、SOR1.1のフィルムを得た。
真空熱プレス機での熱処理を320℃(HT+40℃)とする以外は、実施例1と同様に熱可塑性液晶ポリマーフィルムを作製した。熱処理工程後の熱可塑性液晶ポリマーフィルムの物性を表7に示す。
[実施例3]
p-ヒドロキシ安息香酸と6-ヒドロキシ-2-ナフトエ酸の共重合物(モル比:73/27;ポリマーA)を溶融押出し、インフレーション成形法および融点上昇処理により、融点が310℃、熱変形温度が270℃、膜厚100μm、SOR1.1のフィルムを得た。
p-ヒドロキシ安息香酸と6-ヒドロキシ-2-ナフトエ酸の共重合物(モル比:73/27;ポリマーA)を溶融押出し、インフレーション成形法および融点上昇処理により、融点が310℃、熱変形温度が270℃、膜厚100μm、SOR1.1のフィルムを得た。
耐熱性離型性支持体として、厚さ100μmのポリイミドフィルム(熱膨張係数:MD方向27ppm/℃、TD方向16ppm/℃)を用い、得られた熱可塑性液晶ポリマーフィルムの両面を、2枚のポリイミドフィルムのMD方向およびTD方向を同方向にそろえた状態で挟み積層体とし、真空熱プレス機で予熱後、320℃(HT+50℃)で15分間3MPaの圧力下で熱処理した。熱処理後、冷却し取り出した積層体から、ポリイミドフィルムを剥がした。熱処理工程後の熱可塑性液晶ポリマーフィルムの物性を表7に示す。
[比較例1]
支持体として、厚さ50μmのアルミニウム箔(熱膨張係数23ppm/℃)を用いた片面積層板を形成し、250℃(HT+10℃)に制御した炉長1.5mの熱風循環式熱処理炉において、前記積層板を3m/分の速度で熱処理を行う以外は、実施例1と同様に熱可塑性液晶ポリマーフィルムを作製した。熱処理工程後の熱可塑性液晶ポリマーフィルムの物性を表7に示す。
支持体として、厚さ50μmのアルミニウム箔(熱膨張係数23ppm/℃)を用いた片面積層板を形成し、250℃(HT+10℃)に制御した炉長1.5mの熱風循環式熱処理炉において、前記積層板を3m/分の速度で熱処理を行う以外は、実施例1と同様に熱可塑性液晶ポリマーフィルムを作製した。熱処理工程後の熱可塑性液晶ポリマーフィルムの物性を表7に示す。
[比較例2]
熱処理工程における真空プレス機での熱処理を350℃(HT+70℃)としたこと以外は、実施例2と同様にフィルムを作製した。熱処理工程後の熱可塑性液晶ポリマーフィルムの物性を表7に示す。
熱処理工程における真空プレス機での熱処理を350℃(HT+70℃)としたこと以外は、実施例2と同様にフィルムを作製した。熱処理工程後の熱可塑性液晶ポリマーフィルムの物性を表7に示す。
[比較例3]
高融点で、溶融流動性が低減しているフィルムとして、p-ヒドロキシ安息香酸と6-ヒドロキシ-2-ナフトエ酸の共重合物(モル比:73/27)を溶融押出し、インフレーション成形および融点上昇処理により、融点が330℃、熱変形温度が320℃、膜厚100μm、SOR1.1のフィルムを得た。
高融点で、溶融流動性が低減しているフィルムとして、p-ヒドロキシ安息香酸と6-ヒドロキシ-2-ナフトエ酸の共重合物(モル比:73/27)を溶融押出し、インフレーション成形および融点上昇処理により、融点が330℃、熱変形温度が320℃、膜厚100μm、SOR1.1のフィルムを得た。
熱処理工程における真空プレス機での熱処理を290℃(HT-30℃)とし、熱処理時間を120分としたこと以外は、実施例1と同様にフィルムを作製した。熱処理工程後の熱可塑性液晶ポリマーフィルムの物性を表7に示す。
表7に示すように、実施例1では、真空熱プレス機において熱可塑性液晶ポリマーフィルムの両面を耐熱性離型性支持体で固定し、分子流動が過度にならない温度において加熱・加圧処理を行った場合、熱可塑性液晶ポリマーフィルムの熱変形温度が上昇することを防ぎつつ、Z方向の誘電率を所定の範囲に制御することが可能であった。また、X方向およびY方向の誘電率は同じ値であり、ともに好ましい範囲内であった。さらに、熱膨張係数もX方向およびY方向の双方について、同じ値であり、ともに好ましい範囲内であった。
実施例2では、実施例1より熱変形温度の高い熱可塑性液晶ポリマーフィルムを用いたが、適切な熱処理を行うことにより、Z方向の誘電率を所定の範囲に制御することが可能であった。また、X方向およびY方向の誘電率は同じ値であり、ともに好ましい範囲内であった。さらに、熱膨張係数もX方向およびY方向の双方について、同じ値であり、ともに好ましい範囲内であった。
実施例3では、実施例1より熱変形温度の高い熱可塑性液晶ポリマーフィルムを用いたが、適切な熱処理を行うことにより、Z方向の誘電率を所定の範囲に制御することが可能であった。また、耐熱性離型性支持体の熱膨張係数がX方向およびY方向で異なることに由来して、熱可塑性液晶ポリマーフィルムの誘電率および熱膨張係数は、X方向およびY方向で異なる値であったが、ともに好ましい範囲内であった。
一方、比較例1では、片面積層板の加熱ロールによる処理では、Z方向の誘電率を所定の範囲に制御することができなかった。X方向およびY方向の誘電率は同じ値であった。また、熱膨張係数もX方向およびY方向の双方について同じ値であったが、好ましい範囲ではなかった。
また、比較例2では、熱処理温度が熱変形温度に対して高すぎる場合、X方向およびY方向の誘電率は好ましい範囲に存在していたが、Z方向の誘電率が高くなりすぎてしまった。また、熱膨張係数についても、X方向およびY方向の双方について同じ値であったが、好ましい範囲ではなかった。
さらに、溶融流動性が低いフィルムを用いた比較例3では、熱処理時間を120分と長時間にすることにより、熱処理工程後の熱可塑性液晶ポリマーフィルムのZ方向、X方向およびY方向の誘電率を好ましい範囲に存在させることが可能であった。しかしながら、熱処理時間が長引いたために熱変形温度が上昇し、その結果、成形加工性が良好ではなかった。
本発明の熱可塑性液晶ポリマーフィルムは、回路基板材料として利用することができ、高周波回路基板材料、特にマイクロ波ミリ波アンテナに用いられる高周波回路の基板材料、さらには、マイクロ波ミリ波を利用した車載用レーダに用いられる基板材料として有用に用いることができる。
以上のとおり、本発明の好適な実施形態を説明したが、本発明の趣旨を逸脱しない範囲で、種々の追加、変更または削除が可能であり、そのようなものも本発明の範囲内に含まれる。
Claims (12)
- 光学的に異方性の溶融相を形成し得る熱可塑性ポリマー(以下、これを熱可塑性液晶ポリマーと称する)からなる熱可塑性液晶ポリマーフィルムであって、
23℃、20GHzの厚さ方向の誘電率が2.5~3.2であり、熱変形温度が180~320℃である、熱可塑性液晶ポリマーフィルム。 - 請求項1に記載の熱可塑性液晶ポリマーフィルムであって、フィルム平面において、フィルムの一方向、およびそれに直交する方向の双方の熱膨張係数が13~22ppm/℃である、熱可塑性液晶ポリマーフィルム。
- 請求項1または2に記載の熱可塑性液晶ポリマーフィルムであって、フィルム平面において、フィルムの一方向、およびそれに直交する方向の双方の23℃、15GHzの誘電率が、それぞれ、2.6~3.7である、熱可塑性液晶ポリマーフィルム。
- 請求項1~3のいずれか一項に記載の熱可塑性液晶ポリマーフィルムであって、フィルム平面において、23℃、15GHzにおいて、フィルムの平面方向の一方向の誘電率DX、およびそれに直交する方向の誘電率DYの平均値と、23℃、20GHzの厚さ方向の誘電率(DZ)との差が、下記式(1)で表わされる、熱可塑性液晶ポリマーフィルム。
0≦|(DX+DY)/2-DZ|≦0.9(1) - 請求項1~4のいずれか一項に記載の熱可塑性液晶ポリマーフィルムであって、フィルム平面において、23℃、15GHzのフィルムの一方向の誘電率(DX)と、それに直交する方向の誘電率(DY)との比(DX/DY)が、0.73~1.37である、熱可塑性液晶ポリマーフィルム。
- 請求項1~5のいずれか一項に記載の熱可塑性液晶ポリマーフィルムであって、フィルム平面において、フィルムの一方向の熱膨張係数(αX)と、それに直交する方向の熱膨張係数(αY)との比(αX/αY)が、0.6~1.7である、熱可塑性液晶ポリマーフィルム。
- 請求項1~6のいずれか一項に記載の熱可塑性液晶ポリマーフィルムであって、1~300GHzの周波数帯域に対応するレーダに基板材料として用いられる、熱可塑性液晶ポリマーフィルム。
- 請求項1~7のいずれか一項に記載の熱可塑性液晶ポリマーフィルムの少なくとも一方の表面に金属層が接合された金属張積層体。
- 少なくとも1つの導体層と、請求項1~7のいずれか一項に記載の熱可塑性液晶ポリマーフィルムとを備える回路基板。
- 請求項9に記載の回路基板であって、多層回路基板である回路基板。
- 請求項9または10に記載の回路基板であって、半導体素子を搭載している回路基板。
- 請求項9~11のいずれか一項に記載の回路基板を含む車載レーダ。
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Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
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Families Citing this family (11)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US11637365B2 (en) | 2019-08-21 | 2023-04-25 | Ticona Llc | Polymer composition for use in an antenna system |
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| US11646760B2 (en) | 2019-09-23 | 2023-05-09 | Ticona Llc | RF filter for use at 5G frequencies |
| US11917753B2 (en) | 2019-09-23 | 2024-02-27 | Ticona Llc | Circuit board for use at 5G frequencies |
| EP4111834A4 (en) | 2020-02-26 | 2024-06-05 | Ticona LLC | Circuit structure |
| US11728559B2 (en) | 2021-02-18 | 2023-08-15 | Ticona Llc | Polymer composition for use in an antenna system |
| WO2025134699A1 (ja) * | 2023-12-22 | 2025-06-26 | 株式会社村田製作所 | 積層基板 |
Citations (11)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0890570A (ja) * | 1994-09-16 | 1996-04-09 | Hoechst Celanese Corp | 液晶ポリマーフイルムの処理方法 |
| JP2001081215A (ja) * | 1999-09-17 | 2001-03-27 | Kuraray Co Ltd | 高耐熱性フィルムおよびその製造方法 |
| JP2001088219A (ja) * | 1999-09-21 | 2001-04-03 | Kuraray Co Ltd | フィルム積層体の製造方法 |
| JP2005105165A (ja) * | 2003-09-30 | 2005-04-21 | Kuraray Co Ltd | 低温積層可能な熱可塑性液晶ポリマーフィルム |
| JP2005103989A (ja) * | 2003-09-30 | 2005-04-21 | Kuraray Co Ltd | 液晶ポリマーフィルムの製造方法 |
| JP2010000795A (ja) * | 1998-04-06 | 2010-01-07 | Kuraray Co Ltd | 液晶ポリマーフィルムと積層体及びそれらの製造方法並びに多層実装回路基板 |
| JP2010229200A (ja) * | 2009-03-26 | 2010-10-14 | Kuraray Co Ltd | 放熱性シート |
| JP2012077117A (ja) * | 2010-09-30 | 2012-04-19 | Kuraray Co Ltd | 熱可塑性液晶ポリマーフィルムおよびそれを用いた伝送線路 |
| WO2013065453A1 (ja) * | 2011-10-31 | 2013-05-10 | 株式会社クラレ | 熱可塑性液晶ポリマーフィルムならびにこれを用いた積層体および回路基板 |
| WO2013146174A1 (ja) * | 2012-03-29 | 2013-10-03 | 株式会社クラレ | 熱可塑性液晶ポリマーフィルムおよびその製造方法 |
| JP2018109090A (ja) * | 2016-12-28 | 2018-07-12 | 株式会社クラレ | 熱可塑性液晶ポリマーフィルムおよびそれを用いた回路基板 |
Family Cites Families (25)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH07281143A (ja) * | 1994-01-10 | 1995-10-27 | Motoo Takayanagi | 液晶ポリマー組成物 |
| JP2000044797A (ja) | 1998-04-06 | 2000-02-15 | Kuraray Co Ltd | 液晶ポリマ―フィルムと積層体及びそれらの製造方法並びに多層実装回路基板 |
| US6826830B2 (en) * | 2002-02-05 | 2004-12-07 | International Business Machines Corporation | Multi-layered interconnect structure using liquid crystalline polymer dielectric |
| JP2004082564A (ja) | 2002-08-28 | 2004-03-18 | Kuraray Co Ltd | 電子デバイスの支持体 |
| JP2006137011A (ja) * | 2004-11-10 | 2006-06-01 | Kuraray Co Ltd | 金属張積層体およびその製造方法 |
| JP4381961B2 (ja) * | 2004-11-10 | 2009-12-09 | 株式会社クラレ | 熱可塑性液晶ポリマーフィルムを用いた回路基板の製造方法 |
| KR100688824B1 (ko) * | 2004-12-15 | 2007-03-02 | 삼성전기주식회사 | 접착강도가 개선된 동박적층판의 제조 장치 및 그 방법 |
| KR100722626B1 (ko) * | 2005-05-10 | 2007-05-28 | 삼성전기주식회사 | 인쇄회로기판용 수지적층판 및 그 제조방법 |
| JP5234647B2 (ja) | 2009-03-31 | 2013-07-10 | 新日鉄住金化学株式会社 | 複合接着フィルムおよびそれを用いた多層回路基板並びにその製造方法 |
| WO2012020818A1 (ja) * | 2010-08-12 | 2012-02-16 | 新日鐵化学株式会社 | 金属張積層板 |
| KR102045172B1 (ko) * | 2010-12-27 | 2019-11-14 | 주식회사 쿠라레 | 회로 기판 |
| CN103402757B (zh) * | 2011-03-01 | 2016-02-10 | 吉坤日矿日石金属株式会社 | 基于液晶聚合物薄膜的覆铜箔层压板及其制造方法 |
| KR102082536B1 (ko) * | 2012-09-20 | 2020-02-27 | 주식회사 쿠라레 | 회로 기판 및 그 제조 방법 |
| CN110628059A (zh) * | 2013-10-03 | 2019-12-31 | 株式会社可乐丽 | 热塑性液晶聚合物膜以及电路基板 |
| CN105683266B (zh) * | 2013-11-01 | 2020-04-03 | 株式会社可乐丽 | 热塑性液晶聚合物薄膜的制造方法、以及电路基板及其制造方法 |
| JP2016107507A (ja) | 2014-12-05 | 2016-06-20 | 株式会社クラレ | 金属張積層板およびその製造方法 |
| JP6518445B2 (ja) | 2015-01-13 | 2019-05-22 | 宇部エクシモ株式会社 | フレキシブル積層板、及びフレキシブル積層板の製造方法 |
| WO2016174868A1 (ja) | 2015-04-27 | 2016-11-03 | 株式会社クラレ | 熱可塑性液晶ポリマーフィルム及び回路基板 |
| JP6340378B2 (ja) * | 2015-05-11 | 2018-06-06 | 富士フイルム株式会社 | 導電性積層体の製造方法、導電性積層体、タッチセンサー |
| US10244635B2 (en) * | 2016-03-03 | 2019-03-26 | Mitsui Mining & Smelting Co., Ltd. | Production method for copper-clad laminate plate |
| JP7381185B2 (ja) * | 2017-03-31 | 2023-11-15 | 日鉄ケミカル&マテリアル株式会社 | 回路基板及び多層回路基板 |
| US11548264B2 (en) * | 2018-04-17 | 2023-01-10 | Sekisui Chemical Co., Ltd. | Insulation sheet, laminate, and substrate |
| JP7229725B2 (ja) * | 2018-10-31 | 2023-02-28 | 日鉄ケミカル&マテリアル株式会社 | 金属張積層板、回路基板、多層回路基板及びその製造方法 |
| KR102843977B1 (ko) | 2018-11-08 | 2025-08-07 | 주식회사 쿠라레 | 열가소성 액정 폴리머 필름 및 그것을 사용한 회로 기판 |
| CN117719192A (zh) | 2023-12-21 | 2024-03-19 | 上海普利特化工新材料有限公司 | 一种各向同性的液晶聚合物膜的制造方法 |
-
2019
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-
2021
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Patent Citations (11)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0890570A (ja) * | 1994-09-16 | 1996-04-09 | Hoechst Celanese Corp | 液晶ポリマーフイルムの処理方法 |
| JP2010000795A (ja) * | 1998-04-06 | 2010-01-07 | Kuraray Co Ltd | 液晶ポリマーフィルムと積層体及びそれらの製造方法並びに多層実装回路基板 |
| JP2001081215A (ja) * | 1999-09-17 | 2001-03-27 | Kuraray Co Ltd | 高耐熱性フィルムおよびその製造方法 |
| JP2001088219A (ja) * | 1999-09-21 | 2001-04-03 | Kuraray Co Ltd | フィルム積層体の製造方法 |
| JP2005105165A (ja) * | 2003-09-30 | 2005-04-21 | Kuraray Co Ltd | 低温積層可能な熱可塑性液晶ポリマーフィルム |
| JP2005103989A (ja) * | 2003-09-30 | 2005-04-21 | Kuraray Co Ltd | 液晶ポリマーフィルムの製造方法 |
| JP2010229200A (ja) * | 2009-03-26 | 2010-10-14 | Kuraray Co Ltd | 放熱性シート |
| JP2012077117A (ja) * | 2010-09-30 | 2012-04-19 | Kuraray Co Ltd | 熱可塑性液晶ポリマーフィルムおよびそれを用いた伝送線路 |
| WO2013065453A1 (ja) * | 2011-10-31 | 2013-05-10 | 株式会社クラレ | 熱可塑性液晶ポリマーフィルムならびにこれを用いた積層体および回路基板 |
| WO2013146174A1 (ja) * | 2012-03-29 | 2013-10-03 | 株式会社クラレ | 熱可塑性液晶ポリマーフィルムおよびその製造方法 |
| JP2018109090A (ja) * | 2016-12-28 | 2018-07-12 | 株式会社クラレ | 熱可塑性液晶ポリマーフィルムおよびそれを用いた回路基板 |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2021004365A (ja) * | 2018-11-08 | 2021-01-14 | 株式会社クラレ | 熱可塑性液晶ポリマーフィルムおよびそれを用いた回路基板 |
| JP7526622B2 (ja) | 2018-11-08 | 2024-08-01 | 株式会社クラレ | 熱可塑性液晶ポリマーフィルムの製造方法、熱可塑性液晶ポリマーフィルム、並びにそれを用いた金属張積層体および回路基板 |
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