WO2019142251A1

WO2019142251A1 - 制御装置及び制御装置の作動方法

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Publication number: WO2019142251A1
Application number: PCT/JP2018/001161
Authority: WO
Inventors: 本田　吉隆; 敏文桂木; 田中　一恵; 林田　剛史; 禎嘉高見
Original assignee: Olympus Corp
Current assignee: Olympus Corp
Priority date: 2018-01-17
Filing date: 2018-01-17
Publication date: 2019-07-25
Anticipated expiration: 2020-07-17

Abstract

一対の把持片の間で処置対象を把持可能なエンドエフェクタを備える処置具と共に用いられるプロセッサは、出力指令を受取ったことに基づいて、ジェネレータから処置具に電気エネルギーを出力させ、処置エネルギーを前記処置対象に印加させる。前記プロセッサは、処置エネルギーの印加に対する処置対象の反応を示すパラメータを取得する。前記プロセッサは、前記パラメータに基づいて、前記出力指令を受取る前に前記処置対象が熱変性していたか否かを判断する。

Description

制御装置及び制御装置の作動方法

　本発明は、一対の把持片の間で処置対象を把持可能な処置具、及び、その処置具へ電気エネルギーを出力することにより、処置対象に処置エネルギーを印加させるジェネレータとともに用いられる制御装置に関する。また、本発明は、その制御装置の作動方法に関する。

　ＵＳ２０１２／００７９１３９Ａ１には、エンドエフェクタの一対の把持片の間で生体組織等の処置対象を把持可能な処置具、及び、その処置具に電気エネルギーを供給するジェネレータを備える処置システムが開示されている。この処置システムでは、処置具のエンドエフェクタにバイポーラ電極が設けられ、ジェネレータからバイポーラ電極に電気エネルギーが供給されることにより、エンドエフェクタから把持される処置対象に、処置エネルギーとして高周波電流が印加される。これにより、処置対象が、高周波電流に起因するジュール熱等によって熱変性され、シールされる。

　ＵＳ２０１２／００７９１３９Ａ１等の処置システムを用いて前述のように処置対象をシールする処置では、処置対象となる血管等の大きさ及び種類等によっては、高周波電流等の処置エネルギーを同一の箇所に複数回印加する場合がある。この場合、２回目以降の処置エネルギーの印加においては、処置エネルギーの印加によって処置対象が既に熱変性した箇所に再び処置エネルギーが印加される。既に熱変性した箇所に再び処置エネルギーを印加する場合、熱変性していない箇所、すなわち、処置エネルギーが印加されていない箇所へ初めて処置エネルギーを印加する場合とは異なる処置エネルギーの印加状態で、処置を行うことがある。したがって、前回の処置エネルギーの印加等によって処置エネルギーの印加を開始する前に処置対象が熱変性していた否かを適切に判断することが、重要となる。

　本発明の目的とするところは、処置エネルギーの印加を開始する前に処置対象が熱変性していた否かを適切に判断する制御装置を提供することにある。また、本発明の目的とするところは、その制御装置の作動方法を提供することにある。

　前記目的を達成するため、本発明のある態様は、一対の把持片の間で処置対象を把持可能なエンドエフェクタを備える処置具、及び、前記処置具に電気エネルギーを出力することにより、把持される前記処置対象を熱変性させる処置エネルギーを前記エンドエフェクタから前記処置対象に印加させるジェネレータとともに用いられる制御装置であって、出力指令を受取ったことに基づいて、前記ジェネレータから前記処置具に前記電気エネルギーを出力させ、前記処置エネルギーの印加に対する前記処置対象の反応を示すパラメータを取得し、取得した前記パラメータに基づいて、前記出力指令を受取る前に前記処置対象が熱変性していたか否かを判断する、プロセッサを備える。

　本発明の別のある態様は、一対の把持片の間で処置対象を把持可能なエンドエフェクタを備える処置具、及び、前記処置具に電気エネルギーを出力することにより、把持される前記処置対象を熱変性させる処置エネルギーを前記エンドエフェクタから前記処置対象に印加させるジェネレータとともに用いられる制御装置の作動方法であって、出力指令の受取ったことに基づいて、前記ジェネレータから前記処置具に前記電気エネルギーを出力させることと、前記処置エネルギーの印加に対する前記処置対象の反応を示すパラメータを取得することと、取得した前記パラメータに基づいて、前記出力指令を受取る前に前記処置対象が熱変性していたか否かを判断することと、を備える。

図１は、第１の実施形態に係る処置システムを示す概略図である。図２は、第１の実施形態に係る処置具に電気エネルギーを供給する構成を概略的に示すブロック図である。図３は、第１の実施形態に係るプロセッサが、処置具の作動制御において行う処理を示すフローチャートである。図４は、第１の実施形態の第１の実施例に係るプロセッサが、処置対象の熱変性についての判断において行う処理を示すフローチャートである。図５は、第１の実施例における、第１の電気エネルギーの電気経路のインピーダンスの経時的な変化の一例を示す概略図である。図６は、第１の実施例に係るプロセッサが、図４での判断結果に基づく電気エネルギーの出力制御において行う処理を示すフローチャートである。図７は、第１の実施例における、バイポーラ電極への出力電圧の目標軌道の一例を示す概略図である。図８は、第１の実施形態に係るプロセッサでの、処置対象の熱変性についての判断のパターンを示す概略図である。図９は、第１の実施形態の第７の実施例における、バイポーラ電極への出力電力の経時的な変化の一例を示す概略図である。図１０は、第１の実施形態の第８の実施例における、バイポーラ電極への出力電流の経時的な変化の一例を示す概略図である。図１１は、第１の実施形態の第１１の実施例における、ヒータの温度の経時的な変化の一例を示す概略図である。図１２は、第１の実施形態の第１２の実施例に係る把持片の一方の構成を示す概略図である。図１３は、第１の実施形態の第１３の実施例における、処置具への電気エネルギーの出力のＯＮ－ＯＦＦの経時的な変化の一例を示す概略図である。図１４は、第１の実施形態の第１４の実施例における、組織からエンドエフェクタへの押圧力の経時的な変化の一例を示す概略図である。図１５は、第１の実施形態の第１５の実施例における、把持片の間のギャップの経時的な変化の一例を示す概略図である。図１６は、第１の実施形態の第１６の実施例に係るプロセッサによる判断パラメータの設定を説明する概略図である。図１７は、第１の実施形態に係るプロセッサでの、処置対象の熱変性についての判断結果に基づく電気エネルギーの出力制御のパターンを示す概略図である。図１８は、第１の実施形態の第１７の実施例における、バイポーラ電極への出力電圧の目標軌道の一例を示す概略図である。図１９は、第１の実施形態の第１８の実施例における、バイポーラ電極への出力電圧の目標軌道の一例を示す概略図である。図２０は、第１の実施形態の第１９の実施例における、第１の電気エネルギーの電気経路のインピーダンスの目標軌道の一例を示す概略図である。図２１は、第１の実施形態の第２１の実施例における、バイポーラ電極への出力電力の経時的な変化の一例を示す概略図である。図２２は、第１の実施形態の第２４の実施例における、バイポーラ電極への出力電力の経時的な変化の一例を示す概略図である。図２３は、第１の実施形態の第２５の実施例における、第１の電気エネルギーの出力のＯＮ－ＯＦＦの経時的な変化の一例を示す概略図である。図２４は、第１の実施形態の第２６の実施例における、ヒータの温度の目標軌道の一例を示す概略図である。図２５は、第１の実施形態の第２８の実施例における、ヒータの温度の経時的な変化の一例を示す概略図である。図２６は、第１の実施形態の第３１の実施例における、ヒータの温度の目標軌道の一例を示す概略図である。図２７は、第１の実施形態の第３２の実施例における、第２の電気エネルギーの出力のＯＮ－ＯＦＦの経時的な変化の一例を示す概略図である。図２８は、第１の実施形態の第３４の実施例において、エンドエフェクタの把持力を変化させる構成を示す概略図である。図２９は、図２８の構成においてストッパーを移動させる構成を概略的に示すブロック図である。図３０は、第１の実施形態の第３４の実施例に係るエンドエフェクタの構成を示す概略図である。図３１は、第１の実施形態の第３６の実施例における、バイポーラ電極への出力電圧の目標軌道の一例を示す概略図である。図３２は、第１の変形例に係るプロセッサによる、処置対象の熱変性についての判断の一例を示す概略図である。図３３は、第１の変形例に係るプロセッサによる、第１のモード、第２のモード及び第３のモードの設定値の設定の一例を示す概略図である。図３４は、第２の変形例に係るプロセッサが、処置具の作動制御において行う処理を示すフローチャートである。

　（第１の実施形態）　
　本発明の第１の実施形態について、図１乃至図３１を参照して説明する。

　図１は、本実施形態の処置システム１を示す図である。図１に示すように、処置システム１は、処置具２と、処置具２へ電気エネルギーを出力する電源装置（ジェネレータ）３と、を備える。本実施形態では、処置具２の使用時に、電源装置３が一緒に使用される。処置具２は、シャフト５を備え、シャフト５は、中心軸として長手軸Ｃを有する。長手軸Ｃに沿う方向についてシャフト５の一端側（基端側）には、保持可能なハウジング６が連結される。また、シャフト５においてハウジング６が位置する側とは反対側の端部、すなわち、シャフト５の先端部には、エンドエフェクタ７が接続される。ハウジング６には、グリップ１１が設けられるとともに、ハンドル１２が回動可能に取付けられる。ハンドル１２がハウジング６に対して回動することにより、ハンドル１２がグリップ１１に対して開く又は閉じる。

　エンドエフェクタ７は、一対の把持片１５，１６を備え、処置具２では、シャフト５の内部又は外部を通って、長手軸Ｃに沿って可動部材１３が延設される。可動部材１３の一端（先端）は、エンドエフェクタ７に接続され、可動部材１３の他端（基端）は、ハウジング６の内部においてハンドル１２に連結される。ハンドル１２をグリップ１１に対して開く又は閉じることにより、可動部材１３がシャフト５の長手軸Ｃに沿って移動し、一対の把持片１５，１６の間が開く又は閉じる。これにより、把持片１５，１６の間で血管等の生体組織を処置対象として把持可能となる。把持片１５，１６の一方はシャフト５の先端部に回動可能に取付けられる。把持片１５，１６の他方は、シャフト５と一体又はシャフト５に対して固定されてもよく、シャフト５の先端部に回動可能に取付けられてもよい。ある実施例では、シャフト５の内部にロッド部材（図示しない）が延設され、ロッド部材においてシャフト５の先端から先端側への突出部分が、把持片１５，１６の他方を形成する。

　また、ある実施例では、ハウジング６に回転ノブ等の操作部材（図示しない）が取付けられる。そして、操作部材をハウジング６に対して回転することにより、シャフト５及びエンドエフェクタ７がハウジング６に対して長手軸Ｃの軸回りに回転する。また、別のある実施例では、ハウジング６に、ダイヤル等の操作部材（図示しない）が設けられ、操作部材での操作に対応して、エンドエフェクタ７がシャフト５及び長手軸Ｃに対して屈曲又は湾曲する。この場合、エンドエフェクタ７に設けられる中継部材（図示しない）が、シャフト５に屈曲可能又は湾曲可能に取付けられる。そして、把持片１５，１６の一方が、中継部材に回動可能に取付けられる。なお、把持片１５，１６の他方は、中継部材と一体又は中継部材に対して固定されてもよく、中継部材に回動可能に取付けられてもよい。また、中継部材の内部にロッド部材（図示しない）が延設され、ロッド部材において中継部材の先端から先端側への突出部分が、把持片１５，１６の他方を形成してもよい。

　ハウジング６には、ケーブル１７の一端が接続される。ケーブル１７の他端は、電源装置（ジェネレータ）３に分離可能に接続される。また、処置システム１には、処置具２とは別体の操作部材としてフットスイッチ１８が設けられる。フットスイッチ１８は、電源装置３に電気的に接続される。フットスイッチ１８によって、電源装置３から処置具２に電気エネルギーを出力させる操作が、入力される。なお、ある実施例では、フットスイッチ１８の代わりに、又は、フットスイッチ１８に加えて、ハウジング６に取付けられる操作ボタン等が操作部材として設けられる。そして、処置具２に設けられる操作部材において、電源装置３から処置具２に電気エネルギーが出力させる操作が、入力される。

　図２は、処置具２に電気エネルギーを供給する構成を示す図である。図２に示すように、本実施形態の処置具２では、把持片１５に電極２１が設けられ、把持片１６に電極２２が設けられる。電極２１，２２は、エンドエフェクタ７に設けられるバイポーラ電極である。また、エンドエフェクタ７では、把持片１５，１６の少なくとも一方に、発熱体としてヒータ２３が設けられる。

　電源装置３は、プロセッサ（コントローラ）２５及び記憶媒体２６を備える。プロセッサ２５は、ＣＰＵ（Central Processing Unit）、ＡＳＩＣ（Application Specific Integrated Circuit）又はＦＰＧＡ（Field Programmable Gate Array）等を含む集積回路等から形成される。プロセッサ２５は、電源装置３において１つのみ設けられてもよく、電源装置３において複数設けられてもよい。本実施形態では、プロセッサ２５は、処置システム１を制御する制御装置を構成する。プロセッサ２５での処理は、プロセッサ２５又は記憶媒体２６に記憶されたプログラムに従って行われる。また、記憶媒体２６には、プロセッサ２５で用いられる処理プログラム、及び、プロセッサ２５での演算で用いられるパラメータ、関数及びテーブル等が記憶される。プロセッサ２５は、フットスイッチ１８等の操作部材において操作が入力されることにより、出力指令、すなわちコマンド信号を受取る。出力指令を受取ったことに基づいて、プロセッサ２５は、操作部材（１８）において操作が入力された、すなわち、操作入力がＯＦＦからＯＮに切り替わったと判断し、電源装置３から処置具２へ電気エネルギーを出力させる。

　電源装置３は、出力源（高周波電源）３１を備える。出力源（高周波電源）３１は、波形生成器、変換回路及び変圧器等を備え、駆動回路（高周波駆動回路）を形成する。出力源３１は、バッテリー電源又は商用電源等からの電力を第１の電気エネルギーである高周波電力（高周波電気エネルギー）に変換するとともに、第１の電気エネルギーを出力可能である。出力源３１は、電気経路３２を介して把持片１５の電極２１に電気的に接続されるとともに、電気経路３３を介して把持片１６の電極２２に電気的に接続される。電気経路３２，３３のそれぞれは、ケーブル１７の内部、ハウジング６の内部及びシャフト５の内部を通って延設される。

　出力源３１から出力された第１の電気エネルギーは、電気経路３２，３３を介して電極（バイポーラ電極）２１，２２に供給される。把持片１５，１６の間で処置対象が把持された状態で出力源３１から第１の電気エネルギーが出力されることにより、電極２１，２２の間で処置対象を通して高周波電流が流れる。この際、電極２１，２２は、互いに対して異なる電位を有する。そして、高周波電流に起因するジュール熱によって、処置対象が熱変性され、シールされる。したがって、電極２１，２２に第１の電気エネルギーが供給されることにより、処置対象を熱変性させる処置エネルギーとして、高周波電流がエンドエフェクタ７から処置対象に印加される。高周波電流が処置対象に印加されている状態では、プロセッサ２５は、出力源３１からの出力を制御し、電極２１，２２への第１の電気エネルギーの供給を制御する。

　また、電源装置３には、電流検出回路３５、電圧検出回路３６及びＡ／Ｄ変換器３７が設けられる。電流検出回路３５は、出力源３１から電極２１，２２への出力電流Ｉ＿ＨＦを検出し、電圧検出回路３６は、電極２１，２２への出力電圧Ｖ＿ＨＦを検出する。Ａ／Ｄ変換器３７は、電流検出回路３５で検出された出力電流Ｉ＿ＨＦの電流値を示すアナログ信号、及び、電圧検出回路３６で検出された出力電圧Ｖ＿ＨＦの電圧値を示すアナログ信号をデジタル信号に変換し、変換したデジタル信号をプロセッサ２５に伝達する。これにより、プロセッサ２５は、出力源３１からの出力電流Ｉ＿ＨＦ及び出力電圧Ｖ＿ＨＦに関する情報を取得する。

　また、プロセッサ２５は、出力源３１からの出力電流Ｉ＿ＨＦ及び出力電圧Ｖ＿ＨＦに基づいて、高周波電流（出力電流Ｉ＿ＨＦ）が流れる回路のインピーダンスＺ＿ＨＦ、すなわち、第１の電気エネルギーの電気経路のインピーダンスＺ＿ＨＦを、算出する。インピーダンスＺ＿ＨＦは、電極２１，２２の間のインピーダンスに対応して変化し、把持片１５，１６の間で処置対象が把持される状態では、インピーダンスＺ＿ＨＦは、処置対象のインピーダンスに対応して変化する。ある実施例では、プロセッサ２５は、出力源３１からの出力電流Ｉ＿ＨＦ及び出力電圧Ｖ＿ＨＦに基づいて、出力源３１からの出力電力Ｐ＿ＨＦを算出する。また、ある実施例では、プロセッサ２５は、出力電流Ｉ＿ＨＦ及び出力電圧Ｖ＿ＨＦに基づいて、出力電流Ｉ＿ＨＦと出力電圧Ｖ＿ＨＦとの位相差Δφを算出する。プロセッサ２５は、例えば、出力電流Ｉ＿ＨＦ、出力電圧Ｖ＿ＨＦ、出力電力Ｐ＿ＨＦ、インピーダンスＺ＿ＨＦ及び位相差Δφ等の第１の電気エネルギーに関連するパラメータのいずれかに基づいて、出力源３１から電極２１，２２への第１の電気エネルギーの出力について、フィードバック制御を行う。

　また、電源装置３は、出力源（ヒータ出力源）４１を備える。出力源（ヒータ電源）４１は、変換回路、リレー回路及び変圧器等を備え、駆動回路（ヒータ駆動回路）を形成する。出力源４１は、バッテリー電源又は商用電源等からの電力を第１の電気エネルギーとは異なる第２の電気エネルギーである直流電力又は交流電力に変換するとともに、第２の電気エネルギーを出力可能である。出力源４１は、電気経路４２，４３を介してヒータ２３電気的に接続される。電気経路４２，４３のそれぞれは、ケーブル１７の内部、ハウジング６の内部及びシャフト５の内部を通って延設される。

　出力源４１から出力された第２の電気エネルギーは、電気経路４２，４３を介してヒータ２３に供給される。これにより、ヒータ２３で、熱が発生する。把持片１５，１６の間で処置対象が把持された状態で出力源４１から第２の電気エネルギーが出力されることにより、ヒータ２３で発生した熱が、処置対象に印加される。そして、ヒータ２３からの熱によって、処置対象が熱変性され、シールされる。したがって、ヒータ２３に第２の電気エネルギーが供給されることにより、処置対象を熱変性させる処置エネルギーとして、ヒータ２３の熱がエンドエフェクタ７から処置対象に印加される。ヒータ２３の熱が処置対象に印加されている状態では、プロセッサ２５は、出力源４１からの出力を制御し、ヒータ２３への第２の電気エネルギーの供給を制御する。　
　また、電源装置３には、電流検出回路４５、電圧検出回路４６及びＡ／Ｄ変換器４７が設けられる。電流検出回路４５は、出力源４１からヒータ２３への出力電流Ｉ＿ＨＴを検出し、電圧検出回路４６は、ヒータへの出力電圧Ｖ＿ＨＴを検出する。Ａ／Ｄ変換器４７は、電流検出回路４５で検出された出力電流Ｉ＿ＨＴの電流値を示すアナログ信号、及び、電圧検出回路４６で検出された出力電圧Ｖ＿ＨＴの電圧値を示すアナログ信号をデジタル信号に変換し、変換したデジタル信号をプロセッサ２５に伝達する。これにより、プロセッサ２５は、出力源４１からの出力電流Ｉ＿ＨＴ及び出力電圧Ｖ＿ＨＴに関する情報を取得する。

　また、プロセッサ２５は、出力源４１からの出力電流Ｉ＿ＨＴ及び出力電圧Ｖ＿ＨＴに基づいて、第２の電気エネルギーの電気経路のインピーダンスＺ＿ＨＴを、算出する。そして、プロセッサ２５は、インピーダンスＺ＿ＨＴに基づいて、ヒータ２３の抵抗Ｒ＿ＨＴを算出する。ここで、ヒータ２３の抵抗Ｒ＿ＨＴは、ヒータ２３の温度Ｔ＿ＨＴに対応して変化し、記憶媒体２６等には、ヒータ２３の温度Ｔ＿ＨＴと抵抗Ｒ＿ＨＴとの関係を示す関数又はテーブル等が記憶される。プロセッサ２５は、算出した抵抗Ｒ＿ＨＴ、及び、記憶された温度Ｔ＿ＨＴと抵抗Ｒ＿ＨＴとの関係に基づいて、ヒータ２３の温度Ｔ＿ＨＴを算出する。ある実施例では、プロセッサ２５は、出力源４１からの出力電流Ｉ＿ＨＴ及び出力電圧Ｖ＿ＨＴに基づいて、出力源４１からの出力電力Ｐ＿ＨＴを算出する。プロセッサ２５は、例えば、出力電流Ｉ＿ＨＴ、出力電圧Ｖ＿ＨＴ、出力電力Ｐ＿ＨＴ及び温度Ｔ＿ＨＴ（抵抗Ｒ＿ＨＴ）等の第２の電気エネルギーに関連するパラメータのいずれかに基づいて、出力源４１からヒータ２３への第２の電気エネルギーの出力について、フィードバック制御を行う。

　また、本実施形態では、電源装置３に、タッチスクリーン２７が設けられる。タッチスクリーン２７は、例えば、出力レベル等の出力源３１，４１のそれぞれからの出力に関する設定を入力可能な入力部として機能する。また、タッチスクリーン２７は、例えば、出力源３１からの出力電流Ｉ＿ＨＦ及び出力電圧Ｖ＿ＨＦ、及び、出力源４１からの出力電流Ｉ＿ＨＴ及び出力電圧Ｖ＿ＨＴ等の出力源３１，４１のそれぞれからの出力に関する情報が表示される表示部としても機能する。

　次に、処置システム１を制御する制御装置の作用及び効果について説明する。処置システム１を用いて処置を行う際には、処置具２を、ケーブル１７を介して電源装置３に接続する。そして、術者は、ハウジング６を保持し、腹腔、胸腔等の内部にエンドエフェクタ７を挿入する。そして、把持片１５，１６の間に生体組織等の処置対象が位置する状態で、ハンドル１２をグリップ１１に対して閉じる。これにより、把持片１５，１６の間が閉じ、把持片１５，１６の間で血管等の処置対象が把持される。処置対象が把持される状態においてフットスイッチ１８等の操作部材で操作が入力されることにより、プロセッサ２５は、後述するように、出力源３１からの電極２１，２２への第１の電気エネルギーの出力であるＨＦ（high-frequency）出力、及び、出力源４１からヒータ２３への第２の電気エネルギーの出力であるＨＴ（heater）出力を制御する。電極２１，２２に第１の電気エネルギーが供給されることにより、前述のように処置対象に高周波電流が流れ、ヒータ２３に第２の電気エネルギーが供給されることにより、前述のようにヒータ２３で発生した熱が処置対象に印加される。そして、高周波電流及びヒータ２３の熱の少なくとも一方が処置エネルギーとして処置対象に印加されることにより、処置対象が熱変性され、シールされる。

　図３は、処置具２の作動制御においてプロセッサ２５が行う処理を示すフローチャートである。図３に示すように、プロセッサ２５は、フットスイッチ１８等の操作部材で操作が入力されたか否か、出力指令が生成されたか否かを判断する。すなわち、プロセッサ２５は、出力指令がＯＮかＯＦＦかを判断する（Ｓ１０１）。操作が入力されず、出力指令が生成されていない場合は（Ｓ１０１－Ｎｏ）、処理はＳ１０１に戻る。すなわち、プロセッサ２５は、出力指令が生成されるまで、待機する。操作部材で操作入力によって出力指令が生成されると（Ｓ１０１－Ｙｅｓ）、プロセッサ２５は、出力指令を受取る。そして、プロセッサ２５は、電源装置３から処置具２への電気エネルギーへの出力を開始させ、処置具２を第１のモードで作動させる（Ｓ１０２）。処置具２が第１のモードで作動されることにより、高周波電流及びヒータ２３の熱等の処置エネルギーが処置対象に印加され、処置エネルギーによって処置対象が熱変性する。

　処置具２が第１のモードで作動されると、プロセッサ２５は、処置エネルギーの印加に対する処置対象の反応を示すパラメータを取得する（Ｓ１０３）。そして、プロセッサ２５は、取得したパラメータに基づいて、判断パラメータηを設定する（Ｓ１０４）。判断パラメータηは、出力指令を受取る前、すなわち、Ｓ１０１の前に処置対象が前回の処置エネルギーの印加等によって熱変性していたか否かを示すパラメータであり、値η１又は値η２に設定される。本実施形態では、出力指令を受取る前に、処置対象に処置エネルギーが印加されてなく、処置対象は熱変性していないと判断した場合、プロセッサ２５は、判断パラメータηを値η１に設定する。一方、出力指令を受取る前に、処置対象に処置エネルギーが１回以上印加され、処置対象は熱変性していたと判断した場合、プロセッサ２５は、判断パラメータηを値η２に設定する。判断パラメータηが設定されると、処理は、Ｓ１０５に進む。

　判断パラメータηを値η１に設定した場合は（Ｓ１０５－Ｙｅｓ）、プロセッサ２５は、処置具２の第１のモードでの作動を維持する（Ｓ１０６）。すなわち、プロセッサ２５は、処置対象が熱変性していないと判断した場合、処置具２の作動状態として第１のモードを選択する。そして、プロセッサ２５は、選択した第１のモードで処置具２を作動させ、処置エネルギーによって処置対象をシールする。そして、プロセッサ２５は、第１のモードを終了させる終了条件を満たしたか否かを判断する（Ｓ１０７）。終了条件を満たしていない場合は（Ｓ１０７－Ｎｏ）、処理は、Ｓ１０６に戻る。したがって、終了条件を満たすまで、プロセッサ２５は、処置具２の第１のモードでの作動を継続させる。一方、終了条件を満たした場合は（Ｓ１０７－Ｙｅｓ）、プロセッサ２５は、処置具２の第１のモードでの作動を終了させる（Ｓ１０８）。

　判断パラメータηを値η２に設定した場合は（Ｓ１０５－Ｎｏ）、プロセッサ２５は、トリガーを生成する（Ｓ１０９）。そして、トリガーを生成したことに基づいて、プロセッサ２５は、処置具２の作動状態を第１のモードから第２のモードに切替える（Ｓ１１０）。この際、プロセッサ２５は、電源装置（ジェネレータ）３からの電気エネルギーの出力状態を切替えることにより、処置具２の作動状態を第２のモードに切替える。したがって、プロセッサ２５は、処置対象が熱変性していたと判断した場合、処置具２の作動状態として第２のモードを選択する。そして、プロセッサ２５は、選択した第２のモードで処置具２を作動させ、処置エネルギーによって処置対象をシールする。そして、プロセッサ２５は、第２のモードを終了させる終了条件を満たしたか否かを判断する（Ｓ１１１）。終了条件を満たしていない場合は（Ｓ１１１－Ｎｏ）、処理は、Ｓ１１０に戻る。したがって、終了条件を満たすまで、プロセッサ２５は、処置具２の第２のモードでの作動を継続させる。一方、終了条件を満たした場合は（Ｓ１１１－Ｙｅｓ）、プロセッサ２５は、処置具２の第２のモードでの作動を終了させる（Ｓ１１２）。

　なお、ある実施例では、第１のモード及び第２のモードのそれぞれでの処置具２の作動の終了において、プロセッサ２５は、処置具２への電気エネルギーの出力を停止させる。また、別のある実施例では、第１のモード及び第２のモードのそれぞれでの処置具２の作動の終了において、プロセッサ２５は、処置具２への電気エネルギーの出力状態を切替え、第１のモード及び第２のモード等の処置対象をシールする際のモードとは異なるモードで、処置具２を作動させる。この際、プロセッサ２５は、例えば、処置対象を切開する際のモードで、処置具２を作動させる。

　［作動制御を実現する第１の実施例］　
　ここで、図３に示す処置具２の作動制御を実現させる第１の実施例について説明する。本実施例では、プロセッサ２５が、処置具２への電気エネルギーの出力を以下のように制御することにより、前述した処置具２の作動制御が行われる。また、本実施例では、処置対象をシールする処置において、プロセッサ２５は、電気エネルギーの出力について、第１のフェーズでの出力制御、第２のフェーズでの出力制御、及び、第３のフェーズでの出力制御を順次に行う。プロセッサ２５は、電気エネルギーの出力開始から所定の時間ｔｒｅｆ経過するまでの間は、第１のフェーズでの出力制御を行う。なお、所定の時間ｔｒｅｆは、短い時間であり、例えば１００ｍｓ程度である。

　また、電気エネルギーの出力が開始され、高周波電流及びヒータ２３の熱等の処置エネルギーの処置対象への印加が開始されると、処置対象の水分が蒸発するまでは、処置対象のインピーダンスが経時的に減少するため、第１の電気エネルギーの電気経路のインピーダンスＺ＿ＨＦが経時的に減少する。そして、処置対象の水分が蒸発し始めると、処置対象のインピーダンスが経時的に増加し始めるため、インピーダンスＺ＿ＨＦが経時的に増加し始める。このため、処置対象の水分が蒸発し始めた時点又はその直近に、インピーダンスＺ＿ＨＦが経時的に減少する状態から経時的に増加する状態に切替わるインピーダンスＺ＿ＨＦの極小値Ｚｍｉｎ＿ＨＦが発生する。プロセッサ２５は、第１のフェーズでの出力制御の終了からインピーダンスＺ＿ＨＦの極小値Ｚｍｉｎ＿ＨＦを検出するまでの間は、第２のフェーズでの出力制御を行う。なお、プロセッサ２５は、インピーダンスＺ＿ＨＦが経時的に減少する状態から経時的に増加する状態への切替わる切替わり時を検出し、切替わり時からインピーダンスＺ＿ＨＦが基準値以上増加したことに基づいて、切替わり時においてインピーダンスＺ＿ＨＦが極小値Ｚｍｉｎ＿ＨＦになったと判断する。したがって、極小値Ｚｍｉｎ＿ＨＦからインピーダンスＺ＿ＨＦがある程度増加した時点で、極小値Ｚｍｉｎ＿ＨＦが検出される。そして、プロセッサ２５は、極小値Ｚｍｉｎ＿ＨＦを検出した以後は、終了条件を満たすまで、第３のフェーズでの出力制御を行う。

　図４は、処置対象の熱変性についての判断において、プロセッサ２５が行う処理を示すフローチャートである。なお、本実施例の図４の処理は、図３におけるＳ１０１～Ｓ１０４の処理に相当する。本実施例では、プロセッサ２５は、第３のフェーズでの出力制御が開始される前、すなわち、第１のフェーズでの出力制御及び第２のフェーズでの出力制御が行われている間に、処置対象の熱変性について判断する。図４に示すように、本実施例でも、操作部材で操作入力によって出力指令が生成されると（Ｓ１１５－Ｙｅｓ）、プロセッサ２５は、処置具２への電気エネルギーの出力を開始し、第１のフェーズでの出力制御を開始する。本実施例では、プロセッサ２５は、出力指令に基づいて、電極２１，２２への第１の電気エネルギーの出力（ＨＦ出力）、及び、ヒータ２３への第２の電気エネルギーの出力（ＨＴ出力）を開始させる（Ｓ１１６）。これにより、処置具２は、第１のモードで作動される。

　本実施例では、プロセッサ２５は、第１のフェーズにおいて、電極２１，２２への出力電力Ｐ＿ＨＦについて初期値（設定値）Ｐｅ＿ＨＦを設定する。この際、プロセッサ２５は、初期値Ｐｅ＿ＨＦを、一定の値Ｐｅ１＿ＨＦに設定する。そして、プロセッサ２５は、第１の電気エネルギーについて、出力電力Ｐ＿ＨＦを設定した初期値Ｐｅ１＿ＨＦで経時的に維持する出力制御を行う（Ｓ１１７）。また、プロセッサ２５は、ヒータ２３の温度Ｔ＿ＨＴについての目標温度（設定値）Ｔｔａｒ＿ＨＴを設定する。そして、プロセッサ２５は、第２の電気エネルギーについて、ヒータ２３の温度Ｔ＿ＨＴを設定した目標温度Ｔｔａｒ＿ＨＴに到達させ、かつ、目標温度Ｔｔａｒ＿ＨＴで維持する出力制御を行う（Ｓ１１８）。この際、プロセッサ２５は、第２の電気エネルギーの出力について、目標温度Ｔｔａｒ＿ＨＴでのＰＤ制御又はＰＩＤ制御を行う。そして、プロセッサ２５は、電気エネルギーの出力開始を基準とする時間ｔが所定の時間ｔｒｅｆ以上になったか否かを判断する（Ｓ１１９）。すなわち、プロセッサ２５は、出力開始時（ｔ＝０）から所定の時間ｔｒｅｆ以上経過したか否かを判断する。

　出力開始時から所定の時間ｔｒｅｆ経過していない場合は（Ｓ１１９－Ｎｏ）、処理は、Ｓ１１７に戻り、プロセッサ２５は、Ｓ１１７以降の処理を順次に行う。したがって、電気エネルギーの出力開始時から所定の時間ｔｒｅｆが経過するまでは、プロセッサ２５は、出力電力Ｐ＿ＨＦを初期値Ｐｅ１＿ＨＦにする第１の電気エネルギーの出力制御、及び、温度Ｔ＿ＨＴを目標温度Ｔｔａｒ＿ＨＴにする第２の電気エネルギーの出力制御を、継続して行う。出力開始時から所定の時間ｔｒｅｆ経過した場合は（Ｓ１１９－Ｙｅｓ）、プロセッサ２５は、出力開始時又は出力開始直後のインピーダンスＺ＿ＨＦを示す値として、インピーダンスＺ＿ＨＦの初期値Ｚｅ＿ＨＦを取得する（Ｓ１２０）。本実施例では、プロセッサ２５は、処置エネルギーの印加に対する処置対象の反応を示すパラメータとして、初期値Ｚｅ＿ＨＦを取得する。なお、インピーダンスＺ＿ＨＦの初期値Ｚｅ＿ＨＦは、第１のフェーズのいずれかの時点のインピーダンスＺ＿ＨＦであってもよく、第１のフェーズでのインピーダンスＺ＿ＨＦの平均値又は中間値等であってもよい。また、初期値Ｚｅ＿ＨＦを含むインピーダンスＺ＿ＨＦは、第１の電気エネルギーの出力のフィードバック制御に用いられるパラメータである。そして、出力開始時から所定の時間ｔｒｅｆが経過した場合（Ｓ１１９－Ｙｅｓ）、プロセッサ２５は、第１のフェーズでの出力制御から第２のフェーズでの出力制御に切替える。

　プロセッサ２５は、第２のフェーズにおいて、電極２１，２２への出力電圧Ｖ＿ＨＦについて経時的な上昇率（設定値）αａを設定し、出力電圧Ｖ＿ＨＦが設定した上昇率αａで経時的に上昇する出力電圧Ｖ＿ＨＦの目標軌道を設定する。本実施例では、プロセッサ２５は、上昇率αａを値αａ１に設定する。そして、プロセッサ２５は、第１の電気エネルギーについて、出力電圧Ｖ＿ＨＦを設定した上昇率αａ１で経時的に上昇させる出力制御を行う（Ｓ１２１）。すなわち、プロセッサ２５は、出力電圧Ｖ＿ＨＦが目標軌道に沿う状態に、第１の電気エネルギーの出力制御を行う。また、第２のフェーズにおいても、プロセッサ２５は、第２の電気エネルギーについて、ヒータ２３の温度Ｔ＿ＨＴを設定した目標温度Ｔｔａｒ＿ＨＴに到達させ、かつ、目標温度Ｔｔａｒ＿ＨＴで維持する出力制御を行う（Ｓ１２２）。そして、プロセッサ２５は、インピーダンスＺ＿ＨＦが極小値Ｚｍｉｎ＿ＨＦになったか否かを判断する（Ｓ１２３）。この際、前述のように、プロセッサ２５は、インピーダンスＺ＿ＨＦが経時的に減少する状態から経時的に増加する状態への切替わり、かつ、切替わり時からインピーダンスＺ＿ＨＦが基準値以上増加したか否かを判断する。

　インピーダンスＺ＿ＨＦが極小値Ｚｍｉｎ＿ＨＦになっていないと判断した場合は（Ｓ１２３－Ｎｏ）、処理は、Ｓ１２１に戻り、プロセッサ２５は、Ｓ１２１以降の処理を順次に行う。したがって、第１のフェーズでの出力制御の終了時（ｔ＝ｔｒｅｆ）から極小値Ｚ＿ｍｉｎを検出するまでは、プロセッサ２５は、出力電圧Ｖ＿ＨＦを上昇率αａ１で経時的に上昇させる第１の電気エネルギーの出力制御、及び、温度Ｔ＿ＨＴを目標温度Ｔｔａｒ＿ＨＴにする第２の電気エネルギーの出力制御を、継続して行う。インピーダンスＺ＿ＨＦが極小値Ｚｍｉｎ＿ＨＦになったと判断した場合は（Ｓ１２３－Ｙｅｓ）、プロセッサ２５は、第２のフェーズでの出力制御から第３のフェーズでの出力制御に切替える。この際、プロセッサ２５は、出力指令を受取る前に処置対象が前回の処置エネルギーの印加等によって熱変性していたか否か判断を、第３のフェーズでの出力制御の開始時までに、行う。そして、プロセッサ２５は、第３のフェーズでの出力制御の開始前に、判断パラメータηを設定する。

　本実施例では、プロセッサ２５は、Ｓ１２０で取得したインピーダンスＺ＿ＨＦの初期値Ｚｅ＿ＨＦに基づいて、処置対象の熱変性について判断する。処置対象の熱変性についての判断では、プロセッサ２５は、パラメータとして取得した初期値Ｚｅ＿ＨＦが基準値Ｚｅｒｅｆ＿ＨＦより小さいか否かを判断する（Ｓ１２４）。初期値Ｚｅ＿ＨＦが基準値Ｚｅｒｅｆ＿ＨＦより小さい場合は（Ｓ１２４－Ｙｅｓ）、プロセッサ２５は、判断パラメータηを値η１に設定し、出力指令を受取る前に処置対象が熱変性していないと判断する（Ｓ１２５）。一方、初期値Ｚｅ＿ＨＦが基準値Ｚｅｒｅｆ＿ＨＦ以上の場合は（Ｓ１２４－Ｎｏ）、プロセッサ２５は、判断パラメータηを値η２に設定し、出力指令を受取る前に処置対象が熱変性していたと判断する（Ｓ１２６）。

　図５は、本実施例におけるインピーダンスＺ＿ＨＦの経時的な変化の一例を示す。図５では、横軸に電気エネルギーの出力開始時を基準とする時間ｔを示し、縦軸にインピーダンスＺ＿ＨＦを示す。また、図５では、処置対象の状態が互いに対して異なる状態Ｘ１，Ｘ２について、インピーダンスＺ＿ＨＦの経時的な変化を示す。状態Ｘ１では、プロセッサ２５が出力指令を受取る前において、処置エネルギーが処置対象に印加されておらず、処置対象は熱変性していない。したがって、状態Ｘ１では、プロセッサ２５は、出力指令を受取ったことに基づいて、処置対象への１回目（初回）の処置エネルギーの印加を行う。一方、状態Ｘ２では、プロセッサ２５が出力指令を受取る前において、処置エネルギーが処置対象に１回以上印加されており、処置エネルギーの印加によって処置対象が熱変性している。したがって、状態Ｘ２では、プロセッサ２５は、出力指令を受取ったことに基づいて、熱変性した処置対象への２回目以降の処置エネルギーの印加を行う。なお、図５では、状態Ｘ１でのインピーダンスＺ＿ＨＦの経時的な変化を実線で、状態Ｘ２でのインピーダンスＺ＿ＨＦの経時的な変化を破線で示す。

　出力指令の前に処置対象が熱変性していた状態Ｘ２では、出力指令の前に処置対象が熱変性していない状態Ｘ１に比べて、処置対象の水分が少なく、インピーダンスＺ＿ＨＦの初期値Ｚｅ＿ＨＦが高い。例えば、図５の一例では、状態Ｘ１での初期値Ｚｅ１＿ＨＦに比べて、状態Ｘ２での初期値Ｚｅ２＿ＨＦは高い。そして、状態Ｘ１での初期値Ｚｅ１＿ＨＦは、基準値Ｚｅｒｅｆ＿ＨＦより低く、状態Ｘ２での初期値Ｚｅ２＿ＨＦは、基準値Ｚｅｒｅｆ＿ＨＦ以上になる。このため、初期値Ｚｅ＿ＨＦに基づくＳ１２４の判断によって、プロセッサ２５は、状態Ｘ１では、判断パラメータηを値η１に設定し、出力指令の前に処置対象が熱変性していないと判断する。一方、プロセッサ２５は、状態Ｘ２では、判断パラメータηを値η２に設定し、出力指令の前に処置対象が熱変性していたと判断する。したがって、プロセッサ２５は、出力指令を受取る前に処置対象が熱変性していたか否かを適切に判断し、判断パラメータηを適切に設定する。

　図６は、図４に示す処理での判断結果に基づく電気エネルギーの出力制御において、プロセッサ２５が行う処理を示すフローチャートである。なお、本実施例の図６の処理は、図３におけるＳ１０５～Ｓ１１２の処理に相当する。本実施例では、プロセッサ２５は、第３のフェーズでの出力制御が開始されるまでに、判断パラメータηを設定する。そして、第３のフェーズでは、プロセッサ２５は、設定した判断パラメータηに基づいて、電気エネルギーの出力を制御する。図６に示すように、第３のフェーズでは、プロセッサ２５は、判断パラメータηを値η１，η２のいずれに設定したかを判断する（Ｓ１３０）。

　判断パラメータηを値η１に設定した場合（Ｓ１３０－Ｙｅｓ）、すなわち、出力指令を受取る前に処置対象が熱変性していないと判断した場合、プロセッサ２５は、処置具２の第１のモードでの作動を継続させる。この場合、プロセッサ２５は、出力電力Ｖ＿ＨＦについて目標値（設定値）Ｖａ１＿ＨＦを設定する。そして、プロセッサ２５は、第１の電気エネルギーの出力について、出力電圧Ｖ＿ＨＦを設定した目標値Ｖａ１＿ＨＦで経時的に維持する定電圧制御を行う（Ｓ１３１）。また、第３のフェーズにおいても、プロセッサ２５は、温度Ｔ＿ＨＴを目標温度Ｔｔａｒ＿ＨＴにする第２の電気エネルギーの出力制御を行う（Ｓ１３２）。そして、プロセッサ２５は、インピーダンスＺ＿ＨＦが閾値Ｚｔｈ＿ＨＦ以上であるか否かを判断する（Ｓ１３３）。すなわち、プロセッサ２５は、インピーダンスＺ＿ＨＦが、閾値Ｚｔｈ＿ＨＦまで上昇したか否かを判断する。ここで、閾値Ｚｔｈ＿ＨＦは、終了条件に関連する設定値として設定され、初期値Ｚｅ＿ＨＦより高い値に設定される。

　インピーダンスＺ＿ＨＦが閾値Ｚｔｈ＿ＨＦより小さい場合は（Ｓ１３３－Ｎｏ）、処理は、Ｓ１３１に戻り、プロセッサ２５は、Ｓ１３１以降の処理を順次に行う。したがって、判断パラメータηを値η１に設定した場合、第２のフェーズでの出力制御の終了時からインピーダンスＺ＿ＨＦが閾値Ｚｔｈ＿ＨＦに到達するまでは、プロセッサ２５は、出力電圧Ｖ＿ＨＦを目標値Ｖａ１＿ＨＦにする第１の電気エネルギーの定電圧制御、及び、温度Ｔ＿ＨＴを目標温度Ｔｔａｒ＿ＨＴにする第２の電気エネルギーの出力制御を、継続して行う。インピーダンスＺ＿ＨＦが閾値Ｚｔｈ＿ＨＦ以上の場合は（Ｓ１３３－Ｙｅｓ）、プロセッサ２５は、電極２１，２２への第１の電気エネルギーの出力（ＨＦ出力）、及び、ヒータ２３への第２の電気エネルギーの出力（ＨＴ出力）を停止させる（Ｓ１３４）。これにより、第３のフェーズでの出力制御が終了し、処置具２の第１のモードでの作動が終了する。

　一方、判断パラメータηを値η２に設定した場合（Ｓ１３０－Ｎｏ）、すなわち、出力指令を受取る前に処置対象が熱変性していたと判断した場合、プロセッサ２５は、処置具２の作動状態を第１のモードから第２のモードに切替える。この場合、プロセッサ２５は、トリガーを生成する（Ｓ１３５）。そして、プロセッサ２５は、出力電力Ｖ＿ＨＦについて目標値Ｖａ１＿ＨＦより小さい目標値Ｖａ２＿ＨＦを設定する。そして、プロセッサ２５は、第１の電気エネルギーの出力について、出力電圧Ｖ＿ＨＦを設定した目標値Ｖａ２＿ＨＦで経時的に維持する定電圧制御を行う（Ｓ１３６）。また、判断パラメータηを値η２に設定した場合も、プロセッサ２５は、第３のフェーズにおいて、温度Ｔ＿ＨＴを目標温度Ｔｔａｒ＿ＨＴにする第２の電気エネルギーの出力制御を行う（Ｓ１３７）。そして、判断パラメータηを値η１に設定した場合と同様に、プロセッサ２５は、インピーダンスＺ＿ＨＦが閾値Ｚｔｈ＿ＨＦ以上であるか否かを判断する（Ｓ１３８）。

　インピーダンスＺ＿ＨＦが閾値Ｚｔｈ＿ＨＦより小さい場合は（Ｓ１３８－Ｎｏ）、処理は、Ｓ１３６に戻り、プロセッサ２５は、Ｓ１３６以降の処理を順次に行う。したがって、判断パラメータηを値η２に設定した場合、第２のフェーズでの出力制御の終了時からインピーダンスＺ＿ＨＦが閾値Ｚｔｈ＿ＨＦに到達するまでは、プロセッサ２５は、出力電圧Ｖ＿ＨＦを目標値Ｖａ２＿ＨＦにする第１の電気エネルギーの定電圧制御、及び、温度Ｔ＿ＨＴを目標温度Ｔｔａｒ＿ＨＴにする第２の電気エネルギーの出力制御を、継続して行う。インピーダンスＺ＿ＨＦが閾値Ｚｔｈ＿ＨＦ以上の場合は（Ｓ１３８－Ｙｅｓ）、プロセッサ２５は、電極２１，２２への第１の電気エネルギーの出力、及び、ヒータ２３への第２の電気エネルギーの出力を停止させる（Ｓ１３４）。これにより、第３のフェーズでの出力制御が終了し、処置具２の第２のモードでの作動が終了する。

　前述のように第１の電気エネルギーの出力制御が行われるため、本実施例では、プロセッサ２５は、第３のフェーズでの第１の電気エネルギーの定電圧制御において、出力電圧Ｖ＿ＨＦの目標値（設定値）Ｖａ＿ＨＦを、第１のモード及び第２のモードで互いに対して異なる値に設定する。そして、プロセッサ２５は、処置具２が第２のモードで作動している状態において、処置具２が第１のモードで作動している状態に比べて、電源装置（ジェネレータ）３から処置具２への第１の電気エネルギーの出力を抑制させる。これにより、第２のモードでは、第１のモードに比べて、処置対象への高周波電流（処置エネルギー）の印加が抑制される。

　図７は、本実施例における電極２１，２２への出力電圧Ｖ＿ＨＦの目標軌道の一例を示す。図７では、横軸に出力開始時を基準とする時間ｔを示し、縦軸に出力電圧Ｖ＿ＨＦを示す。また、図７では、第２のフェーズ及び第３のフェーズでの出力電圧Ｖ＿ＨＦの目標軌道を示し、前述の状態Ｘ１での出力電圧Ｖ＿ＨＦの目標軌道を実線で、前述の状態Ｘ２での出力電圧Ｖ＿ＨＦの目標軌道を破線で示す。図７に示すように、本実施例のプロセッサ２５は、状態Ｘ１，Ｘ２のいずれにおいても、第２のフェーズでは、出力電圧Ｖ＿ＨＦを上昇率αａ１で経時的に上昇させる制御を行う。ただし、プロセッサ２５は、判断パラメータηを値η１に設定する状態Ｘ１では、第３のフェーズにおいて、出力電圧Ｖ＿ＨＦを目標値Ｖａ１＿ＨＦで維持する定電圧制御を行い、第１のモードで処置具２を作動させる。一方、プロセッサ２５は、判断パラメータηを値η２に設定する状態Ｘ２では、第３のフェーズにおいて、出力電圧Ｖ＿ＨＦを目標値Ｖａ１＿ＨＦより小さい目標値Ｖａ２＿ＨＦで維持する定電圧制御を行い、第２のモードで処置具２を作動させる。このため、状態Ｘ１に比べて状態Ｘ２では、第３のフェーズにおいて、出力源３１から電極２１，２２への第１の電気エネルギーの出力が抑制される。すなわち、出力指令の前に処置対象が熱変性していた状態Ｘ２では、出力指令の前に処置対象が熱変性していない状態Ｘ１に比べて、プロセッサ２５は、第１の電気エネルギーの処置具２への出力を抑制させる。

　また、出力指令の前に処置対象が熱変性していた状態Ｘ２では、出力指令の前に処置対象が熱変性していない状態Ｘ１に比べて、出力開始時からインピーダンスＺ＿ＨＦが極小値Ｚｍｉｎ＿ＨＦになるまでの時間Ｙａが、短い（図５参照）。このため、図７に示すように、状態Ｘ１では、時間ｔ１において、インピーダンスＺ＿ＨＦが極小値Ｚｍｉｎ＿ＨＦから基準値以上増加し、極小値Ｚｍｉｎ＿ＨＦが検出される。そして、プロセッサ２５は、時間ｔ１において、第２のフェーズでの出力制御から第３のフェーズでの出力制御に切替える。一方、状態Ｘ２では、時間ｔ１より前の時間ｔ２において、インピーダンスＺ＿ＨＦが極小値Ｚｍｉｎ＿ＨＦから基準値以上増加し、極小値Ｚｍｉｎ＿ＨＦが検出される。そして、プロセッサ２５は、時間ｔ１より前の時間ｔ２において、第２のフェーズでの出力制御から第３のフェーズでの出力制御に切替える。

　処置対象をシールする処置では、処置対象となる血管等の大きさ及び種類等によっては、状態Ｘ２のように、高周波電流等の処置エネルギーを同一の箇所に複数回印加する場合がある。この場合、２回目以降の処置エネルギーの印加においては、処置エネルギーの印加によって処置対象が既に熱変性した箇所に再び処置エネルギーが印加される。本実施例では、処置エネルギーが印加されていない箇所へ初めて処置エネルギーを印加する状態Ｘ１では、プロセッサ２５は、出力指令の前に処置対象が熱変性していないと判断し、第１のモードで処置具を作動させる。一方、既に熱変性した箇所に再び処置エネルギーを印加する状態Ｘ２では、プロセッサ２５は、出力指令の前に処置対象が熱変性していたと判断し、第２のモードで処置具を作動させる。そして、第１のモードに比べて第２のモードでは、プロセッサ２５による電気エネルギーの出力制御によって、処置対象への高周波電流（処置エネルギー）の印加が抑制される。このため、既に熱変性した箇所に再び処置エネルギーを印加する状態Ｘ２では、熱変性していない箇所へ初めて処置エネルギーを印加する状態Ｘ１に比べて、処置対象への高周波電流の印加が抑制される。したがって、既に熱変性した箇所への２回目以降の処置エネルギーの印加である状態Ｘ２においても、処置対象のシール性能等が適切に確保され、適宜の処置性能を発揮し得る。

　［処置対象の熱変性についての判断のパターン］　
　なお、図４乃至図７に示す第１の実施例では、プロセッサ２５は、処置エネルギーの印加に対する処置対象の反応を示すパラメータとしてインピーダンスＺ＿ＨＦの初期値Ｚｅ＿ＨＦを取得し、初期値Ｚｅ＿ＨＦに基づいて処置対象の熱変性について判断する。ただし、別の実施例では、プロセッサ２５は、初期値Ｚｅ＿ＨＦ以外のパラメータに基づいて、出力指令を受取る前に処置対象が熱変性していたか否かを判断し、判断パラメータηを設定してもよい。図８は、処置対象の熱変性についてのプロセッサ２５の判断のパターンを示す。なお、第１の実施例では、前述したように、プロセッサ２５は、パターンＡ１と同様にして、熱変性についての判断を行い、判断パラメータηを設定する。

　第２の実施例では、プロセッサ２５は、パターンＡ２と同様にして、熱変性について判断を行う。この場合、プロセッサ２５は、出力開始時からインピーダンスＺ＿ＨＦが極小値Ｚｍｉｎ＿ＨＦになるまでの時間Ｙａに基づいて、処置対象の熱変性について判断し、判断パラメータηを設定する。本実施例では、時間Ｙａが基準時間Ｙａｒｅｆより長い場合は、プロセッサ２５は、出力指令を受取る前に処置対象が熱変性していないと判断し、判断パラメータηを値η１に設定する。一方、時間Ｙａが基準時間Ｙａｒｅｆ以下の場合は、プロセッサ２５は、出力指令を受取る前に処置対象が熱変性していたと判断し、判断パラメータηを値η２に設定する。

　出力指令の前に処置対象が熱変性していた状態Ｘ２では、出力指令の前に処置対象が熱変性していない状態Ｘ１に比べて、出力開始時からインピーダンスＺ＿ＨＦが極小値Ｚｍｉｎ＿ＨＦになるまでの時間Ｙａが、短い。例えば、図５の一例では、状態Ｘ１での時間Ｙａ１に比べて、状態Ｘ２での時間Ｙａ２は、短い。そして、状態Ｘ１での時間Ｙａ１は、基準時間Ｙａｒｅｆより長く、状態Ｘ２での時間Ｙａ２は、基準時間Ｙａｒｅｆ以下になる。このため、時間Ｙａに基づく判断によって、プロセッサ２５は、状態Ｘ１では、出力指令の前に処置対象が熱変性していないと判断する。一方、プロセッサ２５は、状態Ｘ２では、出力指令の前に処置対象が熱変性していたと判断する。したがって、プロセッサ２５は、出力指令を受取る前に処置対象が熱変性していたか否かを適切に判断し、判断パラメータηを適切に設定する。

　第３の実施例では、プロセッサ２５は、パターンＡ３と同様にして、熱変性について判断を行う。この場合、プロセッサ２５は、極小値Ｚｍｉｎ＿ＨＦになるまでのインピーダンスＺ＿ＨＦの減少率βａに基づいて、処置対象の熱変性について判断し、判断パラメータηを設定する。本実施例では、極小値Ｚｍｉｎ＿ＨＦまでインピーダンスＺ＿ＨＦが緩やかに減少し、減少率βａが基準値βａｒｅｆより小さい場合は、プロセッサ２５は、出力指令を受取る前に処置対象が熱変性していないと判断し、判断パラメータηを値η１に設定する。一方、極小値Ｚｍｉｎ＿ＨＦまでインピーダンスＺ＿ＨＦが急激に減少し、減少率βａが基準値βａｒｅｆ以上の場合は、プロセッサ２５は、出力指令を受取る前に処置対象が熱変性していたと判断し、判断パラメータηを値η２に設定する。

　出力指令の前に処置対象が熱変性していた状態Ｘ２では、出力指令の前に処置対象が熱変性していない状態Ｘに比べて１、極小値Ｚｍｉｎ＿ＨＦになるまでのインピーダンスＺ＿ＨＦが急激に減少する。例えば、図５の一例では、状態Ｘ１での減少率βａ１に比べて、状態Ｘ２での減少率βａ２は、大きい。そして、状態Ｘ１での減少率βａ１は、基準値βａｒｅｆより小さく、状態Ｘ２での減少率βａ２は、基準値βａｒｅｆ以上になる。このため、減少率βａに基づく判断によって、プロセッサ２５は、状態Ｘ１では、出力指令の前に処置対象が熱変性していないと判断する。一方、プロセッサ２５は、状態Ｘ２では、出力指令の前に処置対象が熱変性していたと判断する。したがって、プロセッサ２５は、出力指令を受取る前に処置対象が熱変性していたか否かを適切に判断し、判断パラメータηを適切に設定する。

　第４の実施例では、プロセッサ２５は、パターンＡ４と同様にして、熱変性について判断を行う。この場合、プロセッサ２５は、インピーダンスＺ＿ＨＦが極小値Ｚｍｉｎ＿ＨＦから所定の値Ｚｓ＿ＨＦに到達するまでの時間Ｙｂに基づいて、処置対象の熱変性について判断し、判断パラメータηを設定する。本実施例では、時間Ｙｂが基準時間Ｙｂｒｅｆより長い場合は、プロセッサ２５は、出力指令を受取る前に処置対象が熱変性していないと判断し、判断パラメータηを値η１に設定する。一方、時間Ｙｂが基準時間Ｙｂｒｅｆ以下の場合は、プロセッサ２５は、出力指令を受取る前に処置対象が熱変性していたと判断し、判断パラメータηを値η２に設定する。なお、プロセッサ２５は、所定の値Ｚｓ＿ＨＦは、インピーダンスＺ＿ＨＦの初期値Ｚｅ＿ＨＦより高く、かつ、終了条件の閾値Ｚｔｈ＿ＨＦより低く、設定する。

　出力指令の前に処置対象が熱変性していた状態Ｘ２では、既に処置対象がある程度乾燥している。このため、出力指令の前に処置対象が熱変性していた状態Ｘ２では、出力指令の前に処置対象が熱変性していない状態Ｘ１に比べて、インピーダンスＺ＿ＨＦが極小値Ｚｍｉｎ＿ＨＦから所定の値Ｚｓ＿ＨＦまで急激に上昇する可能性がある。この場合、例えば、図５の一例のように、状態Ｘ１での時間Ｙｂ１に比べて、状態Ｘ２での時間Ｙｂ２が、短い。そして、状態Ｘ１での時間Ｙｂ１は、基準時間Ｙｂｒｅｆより長く、状態Ｘ２での時間Ｙｂ２は、基準時間Ｙｂｒｅｆ以下になる。このため、時間Ｙｂに基づく判断によって、プロセッサ２５は、出力指令を受取る前に処置対象が熱変性していたか否かを適切に判断し、判断パラメータηを適切に設定する。

　第５の実施例では、プロセッサ２５は、パターンＡ５と同様にして、熱変性について判断を行う。この場合、プロセッサ２５は、極小値Ｚｍｉｎ＿ＨＦからのインピーダンスＺ＿ＨＦの上昇率βｂに基づいて、処置対象の熱変性について判断し、判断パラメータηを設定する。本実施例では、極小値Ｚｍｉｎ＿ＨＦからインピーダンスＺ＿ＨＦが緩やかに上昇し、上昇率βｂが基準値βｂｒｅｆより小さい場合は、プロセッサ２５は、出力指令を受取る前に処置対象が熱変性していないと判断し、判断パラメータηを値η１に設定する。一方、極小値Ｚｍｉｎ＿ＨＦからインピーダンスＺ＿ＨＦが急激に上昇し、上昇率βｂが基準値βｂｒｅｆ以上の場合は、プロセッサ２５は、出力指令を受取る前に処置対象が熱変性していたと判断し、判断パラメータηを値η２に設定する。

　前述のように、出力指令の前に処置対象が熱変性していた状態Ｘ２では、出力指令の前に処置対象が熱変性していない状態Ｘ１に比べて、インピーダンスＺ＿ＨＦが極小値Ｚｍｉｎ＿ＨＦから急激に上昇する可能性がある。この場合、例えば、図５の一例のように、状態Ｘ１での上昇率βｂ１に比べて、状態Ｘ２での上昇率βｂ１が、大きい。そして、状態Ｘ１での上昇率βｂ１は、基準値βｂｒｅｆより小さく、状態Ｘ２での上昇率βｂ２は、基準値βｂｒｅｆ以上になる。このため、上昇率βｂに基づく判断によって、プロセッサ２５は、出力指令を受取る前に処置対象が熱変性していたか否かを適切に判断し、判断パラメータηを適切に設定する。

　第６の実施例では、プロセッサ２５は、パターンＡ６と同様にして、熱変性について判断を行う。この場合、プロセッサ２５は、極小値Ｚｍｉｎ＿ＨＦからのインピーダンスＺ＿ＨＦの上昇率ｂに基づいて、パターンＡ５とは反対の判断を行う。すなわち、本実施例では、上昇率βｂが基準値βｂｒｅｆ以上の場合は、プロセッサ２５は、出力指令を受取る前に処置対象が熱変性していないと判断し、判断パラメータηを値η１に設定する。一方、上昇率βｂが基準値βｂｒｅｆより小さい場合は、プロセッサ２５は、出力指令を受取る前に処置対象が熱変性していたと判断し、判断パラメータηを値η２に設定する。

　出力指令の前に処置対象が熱変性していた状態Ｘ２では、出力開始時において既にインピーダンスＺ＿ＨＦがある程度高い。このため、状態Ｘ２では、出力指令の前に処置対象が熱変性していない状態Ｘ１に比べて、インピーダンスＺ＿ＨＦが極小値Ｚｍｉｎ＿ＨＦから上昇し難い可能性がある。この場合、例えば、図５の一例とは反対に、状態Ｘ１での上昇率βｂ１に比べて、状態Ｘ２での上昇率βｂ１が、小さい。そして、状態Ｘ１での上昇率βｂ１は、基準値βｂｒｅｆ以上になり、状態Ｘ２での上昇率βｂ２は、基準値βｂｒｅｆより小さい。このため、上昇率βｂに基づく判断によって、プロセッサ２５は、出力指令を受取る前に処置対象が熱変性していたか否かを適切に判断し、判断パラメータηを適切に設定する。

　なお、パターンＡ４～Ａ６のいずれかと同様にしてプロセッサ２５が判断を行う場合、極小値Ｚｍｉｎ＿ＨＦを検出した後、すなわち、第２のフェーズの終了後のインピーダンスＺ＿ＨＦの経時的な変化に基づいて、プロセッサ２５は、処置対象の熱変性について判断する。したがって、出力指令を受取る前に処置対象が熱変性していたと判断した場合、すなわち、判断パラメータηを値η２に設定した場合は、プロセッサ２５は、第３のフェーズの途中において、第１のモードから第２のモードへ処置具２の作動状態を切替える。また、パターンＡ１～Ａ６のいずれかと同様にしてプロセッサ２５が判断を行う場合、プロセッサ２５は、インピーダンスＺ＿ＨＦに関連するパラメータに基づいて、処置対象の熱変性について判断する。この際、判断に用いられるパラメータ（Ｚｅ＿ＨＦ；Ｙａ；βａ；Ｙｂ；βｂ）は、処置エネルギーの印加に対する処置対象の反応を示すパラメータであり、第１の電気エネルギーの出力のフィードバック制御に用いられるパラメータである。

　第７の実施例では、プロセッサ２５は、パターンＡ７と同様にして、熱変性について判断を行う。この場合、プロセッサ２５は、出力電力Ｐ＿ＨＦのピーク値Ｐｐ＿ＨＦに基づいて、処置対象の熱変性について判断し、判断パラメータηを設定する。第２のフェーズにおいて前述のように出力電圧Ｖ＿ＨＦを経時的に上昇させる制御が行われた場合、出力電力Ｐ＿ＨＦは、初期値Ｐｅ＿ＨＦから経時的に増加する。そして、出力電力Ｐ＿ＨＦがある程度上昇すると、出力電力Ｐ＿ＨＦは、経時的に増加する状態から経時的に減少する状態に切替わる。これにより、出力電力Ｐ＿ＨＦのピーク値Ｐｐ＿ＨＦが発生する。出力電力Ｐ＿ＨＦは、インピーダンスＺ＿ＨＦが極小値Ｚｍｉｎ＿ＨＦになる時点又はその直近において、ピーク値Ｐｐ＿ＨＦになる。本実施例では、ピーク値Ｐｐ＿ＨＦが基準値Ｐｐｒｅｆ＿ＨＦより大きい場合は、プロセッサ２５は、出力指令を受取る前に処置対象が熱変性していないと判断し、判断パラメータηを値η１に設定する。一方、ピーク値Ｐｐ＿ＨＦが基準値Ｐｐｒｅｆ＿ＨＦ以下の場合は、プロセッサ２５は、出力指令を受取る前に処置対象が熱変性していたと判断し、判断パラメータηを値η２に設定する。

　図９は、本実施例における出力電力Ｐ＿ＨＦの経時的な変化の一例を示す。図９では、横軸に出力開始時を基準とする時間ｔを示し、縦軸に出力電力Ｐ＿ＨＦを示す。また、図９では、状態Ｘ１での出力電力Ｐ＿ＨＦの経時的な変化を実線で、状態Ｘ２での出力電力Ｐ＿ＨＦの経時的な変化を破線で示す。出力指令の前に処置対象が熱変性していた状態Ｘ２では、出力指令の前に処置対象が熱変性していない状態Ｘ１に比べて、インピーダンスＺ＿ＨＦの初期値Ｚｅ＿ＨＦが大きく、処置対象に高周波電流が流れ難くなる。このため、状態Ｘ２では、状態Ｘ１に比べて、出力電力Ｐ＿ＨＦのピーク値Ｐｐ＿ＨＦが小さい。例えば、図９の一例では、状態Ｘ１でのピーク値Ｐｐ１＿ＨＦに比べて、状態Ｘ２でのピーク値Ｐｐ２＿ＨＦは、小さい。そして、状態Ｘ１でのピーク値Ｐｐ１＿ＨＦは、基準値Ｐｐｒｅｆ＿ＨＦより大きく、状態Ｘ２でのピーク値Ｐｐ２＿ＨＦは、基準値Ｐｐｒｅｆ＿ＨＦ以下になる。このため、ピーク値Ｐｐ＿ＨＦに基づく判断によって、プロセッサ２５は、状態Ｘ１では、出力指令の前に処置対象が熱変性していないと判断する。一方、プロセッサ２５は、状態Ｘ２では、出力指令の前に処置対象が熱変性していたと判断する。したがって、プロセッサ２５は、出力指令を受取る前に処置対象が熱変性していたか否かを適切に判断し、判断パラメータηを適切に設定する。

　第８の実施例では、プロセッサ２５は、パターンＡ８と同様にして、熱変性について判断を行う。この場合、プロセッサ２５は、出力電流Ｉ＿ＨＦのピーク値Ｉｐ＿ＨＦに基づいて、処置対象の熱変性について判断し、判断パラメータηを設定する。第２のフェーズにおいて前述のように出力電圧Ｖ＿ＨＦを経時的に上昇させる制御が行われた場合、出力電流Ｉ＿ＨＦは、出力電力Ｐ＿ＨＦと同様に、経時的に変化する。このため、出力電流Ｉ＿ＨＦは、インピーダンスＺ＿ＨＦが極小値Ｚｍｉｎ＿ＨＦになる時点又はその直近においてピーク値Ｉｐ＿ＨＦになる。本実施例では、ピーク値Ｉｐ＿ＨＦが基準値Ｉｐｒｅｆ＿ＨＦより大きい場合は、プロセッサ２５は、出力指令を受取る前に処置対象が熱変性していないと判断し、判断パラメータηを値η１に設定する。一方、ピーク値Ｉｐ＿ＨＦが基準値Ｉｐｒｅｆ＿ＨＦ以下の場合は、プロセッサ２５は、出力指令を受取る前に処置対象が熱変性していたと判断し、判断パラメータηを値η２に設定する。

　図１０は、本実施例における出力電流Ｉ＿ＨＦの経時的な変化の一例を示す。図１０では、横軸に時間ｔを示し、縦軸に出力電流Ｉ＿ＨＦを示す。また、図１０では、状態Ｘ１での出力電流Ｉ＿ＨＦの経時的な変化を実線で、状態Ｘ２での出力電流Ｉ＿ＨＦの経時的な変化を破線で示す。前述のように、出力指令の前に処置対象が熱変性していた状態Ｘ２では、出力指令の前に処置対象が熱変性していない状態Ｘ１に比べて、処置対象に高周波電流が流れ難くなる。このため、状態Ｘ２では、状態Ｘ１に比べて、出力電流Ｉ＿ＨＦのピーク値Ｉｐ＿ＨＦが小さい。例えば、図１０の一例では、状態Ｘ１でのピーク値Ｉｐ１＿ＨＦに比べて、状態Ｘ２でのピーク値Ｉｐ２＿ＨＦは、小さい。そして、状態Ｘ１でのピーク値Ｉｐ１＿ＨＦは、基準値Ｉｐｒｅｆ＿ＨＦより大きく、状態Ｘ２でのピーク値Ｉｐ＿２は、基準値Ｉｐｒｅｆ＿ＨＦ以下になる。このため、ピーク値Ｉｐ＿ＨＦに基づく判断によって、プロセッサ２５は、出力指令を受取る前に処置対象が熱変性していたか否かを適切に判断し、判断パラメータηを適切に設定する。

　第９の実施例では、プロセッサ２５は、パターンＡ９と同様にして、熱変性について判断を行う。この場合、プロセッサ２５は、出力電流Ｉ＿ＨＦと出力電圧Ｖ＿ＨＦとの位相差Δφの初期値Δφｅに基づいて、処置対象の熱変性について判断し、判断パラメータηを設定する。なお、初期値Δφｅは、例えば、第１のフェーズのいずれかの時点の位相差Δφあってもよく、第１のフェーズでの位相差Δφの平均値又は中間値等であってもよい。本実施例では、位相差Δφの初期値Δφｅの絶対値が基準値Δφｅｒｅｆより小さい場合は、プロセッサ２５は、出力指令を受取る前に処置対象が熱変性していないと判断し、判断パラメータηを値η１に設定する。一方、初期値Δφｅの絶対値が基準値Δφｅｒｅｆ以上の場合は、プロセッサ２５は、出力指令を受取る前に処置対象が熱変性していたと判断し、判断パラメータηを値η２に設定する。

　出力指令の前に処置対象が熱変性していた状態Ｘ２では、既に処置対象がある程度乾燥している。このため、インピーダンスＺ＿ＨＦのキャパシタンス成分が大きくなり、出力電流Ｉ＿ＨＦが出力電圧Ｖ＿ＨＦに対して進む。一方、出力指令の前に処置対象が熱変性していない状態Ｘ１では、出力開始直後において、出力電流Ｉ＿ＨＦが出力電圧Ｖ＿ＨＦに対して大きくずれない。したがって、出力指令の前に処置対象が熱変性していた状態Ｘ２では、出力指令の前に処置対象が熱変性していない状態Ｘ１に比べて、位相差Δφの初期値Δφｅの絶対値が大きい。ある一例では、状態Ｘ１での初期値Δφｅ１の絶対値に比べて、状態Ｘ２での初期値Δφｅ２の絶対値が、大きい。そして、状態Ｘ１での初期値Δφｅ１の絶対値は、基準値Δφｅｒｅｆより小さく、状態Ｘ２での初期値Δφｅ２の絶対値は、基準値Δφｅｒｅｆ以上になる。このため、初期値Δφｅに基づく判断によって、プロセッサ２５は、出力指令を受取る前に処置対象が熱変性していたか否かを適切に判断し、判断パラメータηを適切に設定する。

　第１０の実施例では、プロセッサ２５は、パターンＡ１０と同様にして、熱変性について判断を行う。この場合も、プロセッサ２５は、位相差Δφの初期値Δφｅに基づいて、処置対象の熱変性について判断し、判断パラメータηを設定する。ただし、本実施例では、位相差Δφの初期値Δφｅが０以下の場合、すなわち、初期値Δφｅが０又は負の値の場合は、プロセッサ２５は、出力指令を受取る前に処置対象が熱変性していないと判断し、判断パラメータηを値η１に設定する。一方、初期値Δφｅが正の値の場合は、プロセッサ２５は、出力指令を受取る前に処置対象が熱変性していたと判断し、判断パラメータηを値η２に設定する。

　出力指令の前に処置対象が熱変性していない状態Ｘ１では、処置対象が水分を多く含むため、インピーダンスＺ＿ＨＦのインダクタンス成分が大きくなり、出力電流Ｉ＿ＨＦが出力電圧Ｖ＿ＨＦに対して僅かに遅れる。このため、状態Ｘ１では、位相差Δφの初期値Δφｅが負の値になる。一方、出力指令の前に処置対象が熱変性していた状態Ｘ２では、前述のように、出力電流Ｉ＿ＨＦが出力電圧Ｖ＿ＨＦに対して進むため、初期値Δφｅが正の値になる。このため、初期値Δφｅに基づく判断によって、プロセッサ２５は、状態Ｘ１では、出力指令の前に処置対象が熱変性していないと判断する。一方、プロセッサ２５は、状態Ｘ２では、出力指令の前に処置対象が熱変性していたと判断する。したがって、プロセッサ２５は、出力指令を受取る前に処置対象が熱変性していたか否かを適切に判断し、判断パラメータηを適切に設定する。

　ここで、パターンＡ１～Ａ１０のいずれかと同様にしてプロセッサ２５が判断を行う場合、プロセッサ２５は、電極２１，２２へ出力される第１の電気エネルギーに関連するパラメータに基づいて、処置対象の熱変性について判断する。この際、判断に用いられるパラメータ（Ｚｅ＿ＨＦ；Ｙａ；βａ；Ｙｂ；βｂ；Ｐｐ＿ＨＦ；Ｉｐ＿ＨＦ；Δφｅ）は、処置エネルギーの印加に対する処置対象の反応を示すパラメータであり、第１の電気エネルギーの出力のフィードバック制御に用いられるパラメータである。また、ヒータ２３が設けられず、かつ、電源装置３から電極２１，２２のみに電気エネルギー（第１の電気エネルギー）が出力される処置システム１においても、プロセッサ２５は、パターンＡ１～Ａ１０のいずれかと同様にして判断を行うことが可能である。

　第１１の実施例では、プロセッサ２５は、パターンＡ１１と同様にして、熱変性について判断を行う。この場合、プロセッサ２５は、ヒータ２３が設定した目標温度Ｔｔａｒ＿ＨＴに到達するまでの温度Ｔ＿ＨＴの上昇率γａに基づいて、処置対象の熱変性について判断し、判断パラメータηを設定する。本実施例では、上昇率γａが基準値γａｒｅｆより小さい場合は、プロセッサ２５は、出力指令を受取る前に処置対象が熱変性していないと判断し、判断パラメータηを値η１に設定する。一方、上昇率γａが基準値γａｒｅｆ以上の場合は、プロセッサ２５は、出力指令を受取る前に処置対象が熱変性していたと判断し、判断パラメータηを値η２に設定する。

　図１１は、本実施例におけるヒータ２３の温度Ｔ＿ＨＴの経時的な変化の一例を示す。図１１では、横軸に時間ｔを示し、縦軸に温度Ｔ＿ＨＴを示す。また、図１１では、状態Ｘ１での温度Ｔ＿ＨＴの経時的な変化を実線で、状態Ｘ２での温度Ｔ＿ＨＴの経時的な変化を破線で示す。出力指令の前に処置対象が熱変性していた状態Ｘ２では、処置対象の熱負荷が小さく、処置対象の温度が上昇し易くなる。このため、状態Ｘ２では、出力指令の前に処置対象が熱変性していない状態Ｘ１に比べて、温度Ｔ＿ＨＴの上昇率γａが大きい。例えば、図１１の一例では、状態Ｘ１での上昇率γａ１に比べて、状態Ｘ２での上昇率γａ２は、大きい。そして、状態Ｘ１での上昇率γａ１は、基準値γａｒｅｆより小さく、状態Ｘ２での上昇率γａは、基準値γａｒｅｆ以上になる。このため、上昇率γａに基づく判断によって、プロセッサ２５は、状態Ｘ１では、出力指令の前に処置対象が熱変性していないと判断する。一方、プロセッサ２５は、状態Ｘ２では、出力指令の前に処置対象が熱変性していたと判断する。したがって、プロセッサ２５は、出力指令を受取る前に処置対象が熱変性していたか否かを適切に判断し、判断パラメータηを適切に設定する。

　ここで、パターンＡ１１と同様にしてプロセッサ２５が判断を行う場合、プロセッサ２５は、ヒータ２３の温度Ｔ＿ＨＴに関連し、かつ、ヒータ２３へ出力される第２の電気エネルギーに関連するパラメータに基づいて、処置対象の熱変性について判断する。この際、判断に用いられるパラメータ（γａ）は、処置エネルギーの印加に対する処置対象の反応を示すパラメータであり、第２の電気エネルギーの出力のフィードバック制御に用いられるパラメータである。また、電極２１，２２が設けられず、かつ、電源装置３からヒータ２３のみに電気エネルギー（第２の電気エネルギー）が出力される処置システム１においても、プロセッサ２５は、パターンＡ１１と同様にして判断を行うことが可能である。また、パターンＡ１～Ａ１１のいずれかと同様にしてプロセッサ２５が判断を行う場合、プロセッサ２５は、第１の電気エネルギー及び第２の電気エネルギーを含む処置具２への電気エネルギーに関連するパラメータに基づいて、処置対象の熱変性について判断する。

　第１２の実施例では、プロセッサ２５は、パターンＡ１２と同様にして、熱変性について判断を行う。図１２は、本実施例の把持片１５，１６の一方の構成を示す。図１２に示すように、本実施例では、把持片１６の電極２２に温度センサ５０が取付けられる。温度センサ５０は、電気エネルギーの出力開始時（ｔ＝０）又はその直前において、処置対象の温度Ｔ＿Ｓを検知する。プロセッサ２５は、温度センサ５０での温度Ｔ＿Ｓの検知結果を取得する。本実施例では、プロセッサ２５は、取得した温度Ｔ＿Ｓに基づいて、処置対象の熱変性について判断し、判断パラメータηを設定する。処置対象（組織）の温度Ｔ＿Ｓは、処置エネルギーの印加に対する処置対象の反応を示すパラメータである。本実施例では、温度Ｔ＿Ｓが基準値Ｔｒｅｆ＿Ｓより小さい場合は、プロセッサ２５は、出力指令を受取る前に処置対象が熱変性していないと判断し、判断パラメータηを値η１に設定する。一方、温度Ｔ＿Ｓが基準値Ｔｒｅｆ＿Ｓ以上の場合は、プロセッサ２５は、出力指令を受取る前に処置対象が熱変性していたと判断し、判断パラメータηを値η２に設定する。なお、基準値Ｔｒｅｆ＿Ｓは、例えば、６０℃である。

　出力指令の前に処置対象が熱変性していた状態Ｘ２では、処置対象の温度Ｔ＿Ｓが既にある程度上昇している。このため、状態Ｘ２では、出力指令の前に処置対象が熱変性していない状態Ｘ１に比べて、出力開始時及びその直前において、処置対象の温度Ｔ＿Ｓが高い。そして、状態Ｘ１での温度Ｔ１＿Ｓは、基準値Ｔｒｅｆ＿Ｓより低く、状態Ｘ２での温度Ｔ２＿Ｓは、基準値Ｔｒｅｆ＿Ｓ以上になる。したがって、本実施例では、温度Ｔ＿Ｓに基づく判断によって、プロセッサ２５は、出力指令を受取る前に処置対象が熱変性していたか否かを適切に判断し、判断パラメータηを適切に設定する。

　また、ある実施例では、内視鏡等の観察機器（図示しない）を用いて処置対象及びエンドエフェクタを観察する。そして、観察機器での観察画像を、プロセッサ２５が取得する。この場合、プロセッサ２５は、観察画像から取得されるパラメータ、例えば、処置対象の輝度等に基づいて、処置対象の熱変性について判断し、判断パラメータηを設定する。ここで、処置エネルギーの印加によって処置対象が熱変性されると、観察画像において、処置対象は白くなり、処置対象の輝度は高くなる。このため、処置対象の輝度は、処置エネルギーの印加に対する処置対象の反応を示すパラメータである。本実施例では、輝度が基準値より小さい場合は、プロセッサ２５は、出力指令を受取る前に処置対象が熱変性していないと判断し、判断パラメータηを値η１に設定する。一方、輝度が基準値以上の場合は、プロセッサ２５は、出力指令を受取る前に処置対象が熱変性していたと判断し、判断パラメータηを値η２に設定する。この場合も、前述の実施例等と同様に、プロセッサ２５は、出力指令を受取る前に処置対象が熱変性していたか否かを適切に判断し、判断パラメータηを適切に設定する。

　第１３の実施例では、プロセッサ２５は、パターンＡ１３と同様にして、熱変性について判断を行う。この場合、プロセッサ２５は、電気エネルギーの出力開始時（ｔ＝０）までの前回の出力終了時からの時間Ｙｃに基づいて、処置対象の熱変性について判断し、判断パラメータηを設定する。本実施例では、時間Ｙｃが基準時間Ｙｃｒｅｆより長い場合は、プロセッサ２５は、出力指令を受取る前に処置対象が熱変性していないと判断し、判断パラメータηを値η１に設定する。一方、時間Ｙｃが基準時間Ｙｃｒｅｆ以下の場合は、プロセッサ２５は、出力指令を受取る前に処置対象が熱変性していたと判断し、判断パラメータηを値η２に設定する。

　図１３は、本実施例における処置具２への電気エネルギーの出力のＯＮ－ＯＦＦの経時的な変化の一例を示す。図１３では、横軸に時間ｔ（出力開始時はｔ＝０）を示し、縦軸に電気エネルギーの出力のＯＮ－ＯＦＦを示す。また、図１３では、状態Ｘ１でのＯＮ－ＯＦＦの経時的な変化を実線で、状態Ｘ２でのＯＮ－ＯＦＦの経時的な変化を破線で示す。出力指令の前に熱変性していない処置対象へ初めて処置エネルギーを印加する状態Ｘ１では、前回の出力によって処置エネルギーが印加された箇所から処置対象まで、エンドエフェクタ７を移動させて、電気エネルギーの出力が開始される。一方、前回の出力によって既に熱変性した箇所に再び処置エネルギーを印加する状態Ｘ２では、前回の出力からエンドエフェクタ７を移動させることなく、電気エネルギーの出力が開始される。このため、状態Ｘ２では、状態Ｘ１に比べて、前回の出力終了時からの時間Ｙｃが短い。例えば、図１３の一例では、状態Ｘ１での時間Ｙｃ１に比べて、状態Ｘ２での時間Ｙｃ２は、短い。そして、状態Ｘ１での時間Ｙｃ１は、基準時間Ｙｃｒｅｆより長く、状態Ｘ２での時間Ｙｃ２は、基準時間Ｙｃｒｅｆ以下になる。したがって、基準時間Ｙｃに基づく判断によって、プロセッサ２５は、出力指令を受取る前に処置対象が熱変性していたか否かを適切に判断し、判断パラメータηを適切に設定する。

　第１４の実施例では、プロセッサ２５は、パターンＡ１４と同様にして、熱変性について判断を行う。本実施例では、把持片１５，１６の一方に圧力センサ（図示しない）が取付けられる。圧力センサは、少なくとも前回の出力終了時から今回の出力開始時（ｔ＝０）までの間において、処置対象を含む組織からエンドエフェクタ７（把持片１５，１６の一方）への押圧力Ｆａを検知する。プロセッサ２５は、圧力センサでの押圧力Ｆａの検知結果を取得する。本実施例では、取得した押圧力Ｆａに基づいて、プロセッサ２５は、処置対象の熱変性について判断し、判断パラメータηを設定する。本実施例では、前回の出力終了時から今回の出力開始時までに、押圧力Ｆａが基準値Ｆａｒｅｆより小さい値に変化した場合は、プロセッサ２５は、出力指令を受取る前に処置対象が熱変性していないと判断し、判断パラメータηを値η１に設定する。一方、前回の出力終了時から今回の出力開始時まで押圧力Ｆａが基準値Ｆａｒｅｆ以上で継続して維持された場合は、プロセッサ２５は、出力指令を受取る前に処置対象が熱変性していたと判断し、判断パラメータηを値η２に設定する。

　図１４は、本実施例における組織からエンドエフェクタ７への押圧力Ｆａの経時的な変化の一例を示す。図１４では、横軸に時間ｔ（出力開始時はｔ＝０）を示し、縦軸に押圧力Ｆａを示す。また、図１４では、状態Ｘ１での押圧力Ｆａの経時的な変化を実線で、状態Ｘ２での押圧力Ｆａの経時的な変化を破線で示す。出力指令の前に熱変性していない処置対象へ初めて処置エネルギーを印加する状態Ｘ１では、前述のように、前回の出力が行われた箇所から処置対象までエンドエフェクタ７を移動させて、電気エネルギーの出力が開始される。このため、前回の出力終了時から把持片１５，１６を互いに対して開いて、エンドエフェクタ７を移動させる必要がある。把持片１５，１６の間を開くことにより、前回の出力終了時から今回の出力開始時の間において、押圧力Ｆａは、一時的にゼロに近い値に減少し、一時的に基準値Ｆａｒｅｆより小さい値に変化する。一方、前回の出力によって既に熱変性した箇所に再び処置エネルギーを印加する状態Ｘ２では、前述のように、前回の出力が行われた箇所からエンドエフェクタ７を移動させることなく、電気エネルギーの出力が開始される。このため、前回の出力終了時から把持片１５，１６は、互いに対して閉じた状態で維持される。把持片１５，１６の間が閉じた状態で維持されることにより、前回の出力終了時から今回の出力開始時の間において、押圧力Ｆａが、基準値Ｆａｒｅｆ以上で維持される。例えば、図１４の一例のように、状態Ｘ１では、一時的に押圧力Ｆａが基準値Ｆａｒｅｆより小さくなるのに対し、状態Ｘ２では、押圧力Ｆａが基準値Ｆａｒｅｆ以上で継続して維持される。したがって、押圧力Ｆａに基づく判断によって、プロセッサ２５は、出力指令を受取る前に処置対象が熱変性していたか否かを適切に判断し、判断パラメータηを適切に設定する。

　第１５の実施例では、プロセッサ２５は、パターンＡ１５と同様にして、熱変性について判断を行う。本実施例では、把持片１５，１６の一方にギャップセンサ（図示しない）が取付けられる。ギャップセンサは、少なくとも前回の出力終了時から今回の出力開始時までの間において、把持片１５，１６の間のギャップ（距離）Ｇを検知する。プロセッサ２５は、ギャップセンサでのギャップＧの検知結果を取得する。本実施例では、検知されたギャップＧに基づいて、プロセッサ２５は、処置対象の熱変性について判断し、判断パラメータηを設定する。本実施例では、前回の出力終了時から今回の出力開始時までに、ギャップＧが基準値Ｇｒｅｆより大きい値に変化した場合は、プロセッサ２５は、出力指令を受取る前に処置対象が熱変性していないと判断し、判断パラメータηを値η１に設定する。一方、前回の出力終了時から今回の出力開始時までギャップＧが基準値Ｇｒｅｆ以下で継続して維持された場合は、プロセッサ２５は、出力指令を受取る前に処置対象が熱変性していたと判断し、判断パラメータηを値η２に設定する。

　図１５は、本実施例における把持片１５，１６の間のギャップＧの経時的な変化の一例を示す。図１５では、横軸に時間ｔを示し、縦軸にギャップＧを示す。また、図１５では、状態Ｘ１でのギャップＧの経時的な変化を実線で、状態Ｘ２でのギャップＧの経時的な変化を破線で示す。出力指令の前に熱変性していない処置対象へ初めて処置エネルギーを印加する状態Ｘ１では、前述のように、前回の出力終了時から把持片１５，１６を互いに対して開いて、エンドエフェクタ７を移動させる。このため、前回の出力終了時から今回の出力開始時の間において、ギャップＧが、一時的に基準値Ｇｒｅｆより大きい値に変化する。一方、前回の出力によって既に熱変性した箇所に再び処置エネルギーを印加する状態Ｘ２では、前述のように、前回の出力終了時から把持片１５，１６は、互いに対して閉じた状態で維持される。このため、前回の出力終了時から今回の出力開始時の間において、ギャップＧが、基準値Ｇｒｅｆ以下で維持される。例えば、図１５の一例のように、状態Ｘ１では、一時的にギャップＧが基準値Ｇｒｅｆより大きくなるのに対し、状態Ｘ２では、ギャップＧが基準値Ｇｒｅｆ以下で継続して維持される。したがって、ギャップＧに基づく判断によって、プロセッサ２５は、出力指令を受取る前に処置対象が熱変性していたか否かを適切に判断し、判断パラメータηを適切に設定する。

　なお、ある実施例では、内視鏡等の観察機器での観察画像から、プロセッサ２５は、前回の出力終了時から今回の出力開始時の間において、把持片１５，１６が互いに対して開いたか否かを判断する。そして、把持片１５，１６の開閉についての判断結果に基づいて、プロセッサ２５は、出力指令を受取る前に処置対象が熱変性していたか否かを適切に判断し、判断パラメータηを適切に設定する。

　また、ある実施例では、前述したパラメータから複数を取得し、取得した複数のパラメータに基づいて、処置対象の熱変性について判断する。例えば、第１６の実施例では、プロセッサ２５は、インピーダンスＺ＿ＨＦの初期値Ｚｅ＿ＨＦ及び位相差Δφの初期値Δφｅに基づいて、出力指令を受取る前に処置対象が熱変性していたか否かを判断する。図１６は、本実施例でのプロセッサ２５による判断パラメータηの設定を説明する。図１６に示すように、本実施例では、初期値Ｚｅ＿ＨＦが基準値Ｚｅｒｅｆ＿ＨＦより小さい、又は、初期値Δφｅの絶対値が基準値Δφｅｒｅｆより小さい場合は、プロセッサ２５は、出力指令を受取る前に処置対象が熱変性していないと判断し、判断パラメータηを値η１に設定する。一方、初期値Ｚｅ＿ＨＦが基準値Ｚｅｒｅｆ＿ＨＦ以上で、かつ、初期値Δφｅの絶対値が基準値Δφｅｒｅｆ以上の場合は、プロセッサ２５は、出力指令を受取る前に処置対象が熱変性していたと判断し、判断パラメータηを値η２に設定する。

　別のある実施例では、プロセッサ２５は、インピーダンスＺ＿ＨＦの初期値Ｚｅ＿ＨＦ及び目標温度Ｔｔａｒ＿ＨＴまでのヒータ２３の温度Ｔ＿ＨＴの上昇率γａに基づいて、出力指令を受取る前に処置対象が熱変性していたか否かを判断する。複数のパラメータに基づいて判断を行うことにより、プロセッサ２５は、出力指令を受取る前に処置対象が熱変性していたか否かを、より適切に判断する。

　［熱変性についての判断結果に基づく電気エネルギーの出力制御のパターン］　
　なお、図４乃至図７に示す第１の実施例では、プロセッサ２５は、第３のフェーズでの第１の電気エネルギーの定電圧制御において、出力電圧Ｖ＿ＨＦの目標値Ｖａ＿ＨＦを第１のモード及び第２のモードで互いに対して異なる値に設定する。これにより、プロセッサ２５は、第１のモード及び第２のモードで互いに対して異なる状態に、処置具２を作動させる。ただし、別の実施例では、プロセッサ２５は、目標値Ｖａ＿ＨＦ以外の設定値等を、第２のモードにおいて第１のモードとは異なる値に設定してもよい。図１７は、処置対象の熱変性についての判断結果に基づくプロセッサ２５による電気エネルギーの出力制御のパターンを示す。なお、第１の実施例では、前述したように、プロセッサ２５は、パターンＢ１と同様にして、熱変性についての判断結果に基づく電気エネルギーの出力制御を行う。

　第１７の実施例では、プロセッサ２５は、パターンＢ２と同様にして、熱変性について判断結果に基づく電気エネルギーの出力制御を行う。この場合、プロセッサ２５は、第２のフェーズでの出力電圧Ｖ＿ＨＦを経時的に上昇させる制御において、出力電圧Ｖ＿ＨＦの上昇率（設定値）αａを、第１のモード及び第２のモードで互いに対して異なる値に設定する。すなわち、プロセッサ２５は、出力電圧Ｖ＿ＨＦの経時的な変化率である上昇率αａを、第１のモード及び第２のモードで互いに対して異なる値に設定する。これによりプロセッサ２５は、第１のモード及び第２のモードで互いに対して異なる状態に、処置具２を作動させる。本実施例では、判断パラメータηを値η１に設定した場合、すなわち、処置具２を第１のモードで作動させる場合、プロセッサ２５は、上昇率（設定値）αａ１を設定する。一方、判断パラメータηを値η２に設定した場合、すなわち、処置具を第２のモードで作動させる場合、プロセッサ２５は、上昇率αａ１より小さい上昇率（設定値）αａ２を設定する。これにより、プロセッサ２５は、第１のモードに比べて第２のモードにおいて、電源装置（ジェネレータ）３から処置具２への第１の電気エネルギーの出力を抑制させる。なお、第１のモード及び第２のモードのいずれにおいても、第３のフェーズでは、プロセッサ２５は、目標値Ｖａ１＿ＨＦでの出力電圧Ｖ＿ＨＦの定電圧制御を行う。また、本実施例では、出力指令を受取る前に処置対象が熱変性していたと判断し場合、すなわち、判断パラメータηを値η２に設定した場合、プロセッサ２５は、第２のフェーズの開始時又は第２のフェーズの途中において、第１のモードから第２のモードへ処置具２の作動状態を切替える。

　図１８は、本実施例における出力電圧Ｖ＿ＨＦの目標軌道の一例を示す。図１８では、横軸に時間ｔを示し、縦軸に出力電圧Ｖ＿ＨＦを示す。また、図１８では、第２のフェーズ及び第３のフェーズでの出力電圧Ｖ＿ＨＦの目標軌道を示し、状態Ｘ１での出力電圧Ｖ＿ＨＦの目標軌道を実線で、状態Ｘ２での出力電圧Ｖ＿ＨＦの目標軌道を破線で示す。図１８に示すように、本実施例のプロセッサ２５は、状態Ｘ１，Ｘ２のいずれにおいても、第３のフェーズでは、出力電圧Ｖ＿ＨＦを目標値Ｖａ１＿ＨＦにする定電圧制御を行う。ただし、プロセッサ２５は、判断パラメータηを値η１に設定する状態Ｘ１では、第２のフェーズにおいて、上昇率αａ１で出力電圧Ｖ＿ＨＦを経時的に上昇させる制御を行い、第１のモードで処置具を作動させる。一方、プロセッサ２５は、判断パラメータηを値η２に設定する状態Ｘ２では、第２のフェーズにおいて、上昇率αａ１より小さい上昇率αａ２で出力電圧Ｖ＿ＨＦを経時的に上昇させる制御を行い、処置具を第２のモードで作動させる。このため、状態Ｘ１に比べて状態Ｘ２では、第２のフェーズにおいて、電極２１，２２への第１の電気エネルギーの出力が抑制され、処置対象への高周波電流（処置エネルギー）の印加が抑制される。したがって、本実施例でも、既に熱変性した箇所への２回目以降の処置エネルギーの印加である状態Ｘ２において、適宜の処置性能を発揮し得る。

　第１８の実施例では、プロセッサ２５は、パターンＢ３と同様にして、熱変性について判断結果に基づく電気エネルギーの出力制御を行う。この場合、プロセッサ２５は、第３のフェーズでの出力電圧Ｖ＿ＨＦの目標軌道（設定軌道）を、第１のモード及び第２のモードで互いに対して異なる軌道に設定する。すなわち、プロセッサ２５は、第３のフェーズでの時間ｔのそれぞれにおける出力電圧Ｖ＿ＨＦの目標値を、第１のモード及び第２のモードで互いに対して異なる値に設定する。出力電圧Ｖ＿ＨＦの目標軌道を第２のモードにおいて第１のモードとは異なる軌道に設定することにより、プロセッサ２５は、第１のモード及び第２のモードで互いに対して異なる状態に、処置具２を作動させる。本実施例では、判断パラメータηを値η１に設定した場合、プロセッサ２５は、第３のフェーズにおいて、目標値Ｖａ１＿ＨＦでの出力電圧Ｖ＿ＨＦの定電圧制御を行う。一方、判断パラメータηを値η２に設定した場合、プロセッサ２５は、第３のフェーズの開始時から、上昇率αｂ１で出力電圧Ｖ＿ＨＦを経時的に上昇させる。この際、プロセッサ２５は、上昇率αｂ１を、第２のフェーズでの出力電圧Ｖ＿ＨＦの上昇率αａ１に比べて小さい値に、設定する。そして、出力電圧Ｖ＿ＨＦが、電圧値Ｖａ１＿ＨＦまで上昇した後は、プロセッサ２５は、目標値Ｖａ１＿ＨＦでの出力電圧Ｖ＿ＨＦの定電圧制御を行う。前述のように第３フェーズにおいて制御を行うことにより、プロセッサ２５は、第１のモードに比べて第２のモードにおいて、電源装置（ジェネレータ）３から処置具２への第１の電気エネルギーの出力を抑制させる。

　図１９は、本実施例における出力電圧Ｖ＿ＨＦの目標軌道の一例を示す。図１９では、横軸に時間ｔを示し、縦軸に出力電圧Ｖ＿ＨＦを示す。また、図１９では、第２のフェーズ及び第３のフェーズでの出力電圧Ｖ＿ＨＦの目標軌道を示し、状態Ｘ１での出力電圧Ｖ＿ＨＦの目標軌道を実線で、状態Ｘ２での出力電圧Ｖ＿ＨＦの目標軌道を破線で示す。図１９に示すように、本実施例のプロセッサ２５は、状態Ｘ１，Ｘ２のいずれにおいても、第２のフェーズでは、出力電圧Ｖ＿ＨＦを上昇率αａ１で上昇させる制御を行う。ただし、プロセッサ２５は、状態Ｘ１では、第３のフェーズの開始時（ｔ＝ｔ１）から、目標値Ｖａ１＿ＨＦでの出力電圧Ｖ＿ＨＦの定電圧制御を行う。一方、プロセッサ２５は、状態Ｘ２では、第３のフェーズの開始時（ｔ＝ｔ２）からしばらくの間、上昇率αｂ１で出力電圧Ｖ＿ＨＦを経時的に上昇させる制御を行う。そして、第３のフェーズの開始時より後の時間ｔ３において、プロセッサ２５は、目標値Ｖａ１＿ＨＦでの出力電圧Ｖ＿ＨＦの定電圧制御を開始する。このため、状態Ｘ１に比べて状態Ｘ２では、第３のフェーズにおいて、電極２１，２２への第１の電気エネルギーの出力が抑制され、処置対象への高周波電流の印加が抑制される。したがって、本実施例でも、状態Ｘ２において、適宜の処置性能を発揮し得る。

　第１９の実施例では、プロセッサ２５は、パターンＢ４と同様にして、熱変性について判断結果に基づく電気エネルギーの出力制御を行う。この場合、プロセッサ２５は、インピーダンスＺ＿ＨＦの経時的な上昇率（設定値）βｃを設定し、設定した上昇率βｃで経時的に上昇するインピーダンスＺ＿ＨＦの目標軌道を設定する。そして、プロセッサ２５は、第３のフェーズにおいて、インピーダンスＺ＿ＨＦを設定した上昇率βｃで経時的に上昇させる第１の電気エネルギーの出力制御を行う。本実施例では、プロセッサ２５は、第３のフェーズでのインピーダンスＺ＿ＨＦの上昇率βｃを、第１のモード及び第２のモードで互いに対して異なる値に設定する。すなわち、プロセッサ２５は、インピーダンスＺ＿ＨＦの経時的な変化率である上昇率βｃを、第１のモード及び第２のモードで互いに対して異なる値に設定する。これにより、プロセッサ２５は、第３のフェーズでのインピーダンスＺ＿ＨＦの目標軌道（設定軌道）を、第１のモード及び第２のモードで互いに対して異なる軌道に設定する。すなわち、プロセッサ２５は、第３のフェーズでの時間ｔのそれぞれにおけるインピーダンスＺ＿ＨＦの目標値を、第１のモード及び第２のモードで互いに対して異なる値に設定する。インピーダンスＺ＿ＨＦの上昇率βｃを第２のモードにおいて第１のモードとは異なる値に設定することにより、プロセッサ２５は、第１のモード及び第２のモードで互いに対して異なる状態に、処置具２を作動させる。

　本実施例では、判断パラメータηを値η１に設定した場合、プロセッサ２５は、第３のフェーズにおいて、上昇率βｃ１でインピーダンスＺ＿ＨＦを経時的に上昇させる第１の電気エネルギーの出力制御を行う。一方、判断パラメータηを値η２に設定した場合、プロセッサ２５は、上昇率βｃ１より小さい上昇率βｃ２でインピーダンスＺ＿ＨＦを経時的に上昇させる第１の電気エネルギーの出力制御を行う。したがって、第１のモードに比べて第２のモードでは、プロセッサ２５は、第３のフェーズにおいてインピーダンスＺ＿ＨＦを緩やかに上昇させ、第３のフェーズでの出力電圧Ｖ＿ＨＦを抑制する。これにより、プロセッサ２５は、第１のモードに比べて第２のモードにおいて、電源装置（ジェネレータ）３から処置具２への第１の電気エネルギーの出力を抑制させる。

　図２０は、本実施例におけるインピーダンスＺ＿ＨＦの目標軌道の一例を示す。図２０では、横軸に時間ｔを示し、縦軸にインピーダンスＺ＿ＨＦを示す。また、図２０では、第３のフェーズでのインピーダンスＺ＿ＨＦの目標軌道を示し、状態Ｘ１でのインピーダンスＺ＿ＨＦの目標軌道を実線で、状態Ｘ２でのインピーダンスＺ＿ＨＦの目標軌道を破線で示す。図２０に示すように、本実施例のプロセッサ２５は、状態Ｘ１では、第３のフェーズにおいて、上昇率βｃ１でインピーダンスＺ＿ＨＦを上昇させる制御を行う。一方、プロセッサ２５は、状態Ｘ２では、第３のフェーズにおいて、上昇率βｃ１より小さい上昇率βｃ２でインピーダンスＺ＿ＨＦを上昇させる制御を行う。このため、状態Ｘ２では、状態Ｘ１に比べて、第３のフェーズでの出力電圧Ｖ＿ＨＦが抑制され、第３のフェーズにおいて、電極２１，２２への第１の電気エネルギーの出力が抑制される。これにより、状態Ｘ１に比べて状態Ｘ２では、第３のフェーズにおいて、処置対象への高周波電流の印加が抑制される。したがって、本実施例でも、状態Ｘ２において、適宜の処置性能を発揮し得る。

　第２０の実施例では、プロセッサ２５は、パターンＢ５と同様にして、熱変性について判断結果に基づく電気エネルギーの出力制御を行う。この場合、プロセッサ２５は、出力電力Ｐ＿ＨＦの出力可能範囲の上限値（設定値）Ｐｍａｘ＿ＨＦを、第１のモード及び第２のモードで互いに対して異なる値に設定する。これにより、プロセッサ２５は、第１のモード及び第２のモードで互いに対して異なる状態に、処置具２を作動させる。本実施例では、判断パラメータηを値η１に設定した場合、プロセッサ２５は、出力電力Ｐ＿ＨＦの出力可能範囲について、上限値Ｐｍａｘ１＿ＨＦを設定する。一方、判断パラメータηを値η２に設定した場合、プロセッサ２５は、出力電力Ｐ＿ＨＦの出力可能範囲について、上限値Ｐｍａｘ１＿ＨＦより小さい上限値Ｐｍａｘ２＿ＨＦを設定する。これにより、プロセッサ２５は、第１のモードに比べて第２のモードにおいて、電源装置（ジェネレータ）３から処置具２への第１の電気エネルギーの出力を抑制させる。また、本実施例では、出力指令を受取る前に処置対象が熱変性していたと判断し場合、プロセッサ２５は、例えば、第２のフェーズの開始時又は第２のフェーズの途中において、第１のモードから第２のモードへ処置具２の作動状態を切替える。

　また、第２１の実施例では、プロセッサ２５は、パターンＢ´５と同様にして、熱変性について判断結果に基づく電気エネルギーの出力制御を行う。この場合、第２０の実施例と同様にして、プロセッサ２５は、出力電力Ｐ＿ＨＦの出力可能範囲の上限値Ｐｍａｘ＿ＨＦを設定する。また、本実施例では、プロセッサ２５は、上限値Ｐｍａｘ＿ＨＦに加えて、第１の電気エネルギーの出力の終了条件に関連するインピーダンスＺ＿ＨＦの閾値Ｚｔｈ＿ＨＦを、第１のモード及び第２のモードで互いに対して異なる値に設定する。判断パラメータηを値η１に設定した場合、プロセッサ２５は、終了条件に関連する設定値として、閾値Ｚｔｈ１＿ＨＦを設定する。一方、判断パラメータηを値η２に設定した場合、プロセッサ２５は、終了条件に関連する設定値として、閾値Ｚｔｈ１＿ＨＦより高い閾値Ｚｔｈ２＿ＨＦを設定する。

　図２１は、本実施例における出力電力Ｐ＿ＨＦの経時的な変化の一例を示す。図２１では、横軸に時間ｔを示し、縦軸に電力Ｐ＿ＨＦを示す。また、図１９では、状態Ｘ１での出力電力Ｐ＿ＨＦの経時的な変化を実線で、状態Ｘ２での出力電力Ｐ＿ＨＦの経時的な変化を破線で示す。図２１に示すように、プロセッサ２５は、状態Ｘ１では、上限値Ｐｍａｘ１＿ＨＦ以下で出力電力Ｐ＿ＨＦを出力させる。一方、プロセッサ２５は、状態Ｘ２では、上限値Ｐｍａｘ１＿ＨＦより小さい上限値Ｐｍａｘ２＿ＨＦ以下で出力電力Ｐ＿ＨＦを出力させる。このため、状態Ｘ２では、状態Ｘ１に比べて出力源３１からの出力電力Ｐ＿ＨＦが抑制され、電極２１，２２への第１の電気エネルギーの出力が抑制される。これにより、状態Ｘ１に比べて状態Ｘ２では、処置対象への高周波電流の印加が抑制される。したがって、本実施例でも、状態Ｘ２において、適宜の処置性能を発揮し得る。第２０の実施例についても、本実施例と同様である。

　また、本実施例では、プロセッサ２５は、状態Ｘ１において、終了条件に関連する設定値として閾値Ｚｔｈ１＿ＨＦを設定する。そして、プロセッサ２５は、状態Ｘ２では、終了条件に関連する設定値として閾値Ｚｔｈ１＿ＨＦより高い閾値Ｚｔｈ２＿ＨＦを設定する。このため、状態Ｘ１では、プロセッサ２５は、時間ｔ４において、インピーダンスＺ＿ＨＦが閾値Ｚｔｈ１＿ＨＦに到達したと判断し、時間ｔ４において、電気エネルギー（第１の電気エネルギー）の出力を停止させる。一方、状態Ｘ２では、プロセッサ２５は、時間ｔ４より後の時間ｔ５において、インピーダンスＺ＿ＨＦが閾値Ｚｔｈ２＿ＨＦに到達したと判断し、時間ｔ５において、電気エネルギーの出力を停止させる。このため、出力指令の前に処置対象が熱変性していた状態Ｘ２おいて、出力指令の前に処置対象が熱変性していない状態Ｘ１に比べて、プロセッサ２５は、処置エネルギーを処置対象に印加する時間を長くする。したがって、状態Ｘ２では、状態Ｘ１に比べて、プロセッサ２５は、処置対象に印加される処置エネルギーを抑制するとともに、処置対象へ処置エネルギーを印加する時間を長くする。

　第２２の実施例では、プロセッサ２５は、パターンＢ６と同様にして、熱変性について判断結果に基づく電気エネルギーの出力制御を行う。この場合、プロセッサ２５は、出力電流Ｉ＿ＨＦの出力可能範囲の上限値（設定値）Ｉｍａｘ＿ＨＦを、第１のモード及び第２のモードで互いに対して異なる値に設定する。これにより、プロセッサ２５は、第１のモード及び第２のモードで互いに対して異なる状態に、処置具２を作動させる。本実施例では、判断パラメータηを値η１に設定した場合、プロセッサ２５は、出力電流Ｉ＿ＨＦの出力可能範囲について、上限値Ｉｍａｘ１＿ＨＦを設定する。一方、判断パラメータηを値η２に設定した場合、プロセッサ２５は、出力電流Ｉ＿ＨＦの出力可能範囲について、上限値Ｉｍａｘ１＿ＨＦより小さい上限値Ｉｍａｘ１＿ＨＦを設定する。これにより、プロセッサ２５は、第１のモードに比べて第２のモードにおいて、電源装置（ジェネレータ）３から処置具２への第１の電気エネルギーの出力を抑制させる。

　また、第２３の実施例では、プロセッサ２５は、パターンＢ´６と同様にして、熱変性について判断結果に基づく電気エネルギーの出力制御を行う。この場合、第２２の実施例と同様にして、プロセッサ２５は、出力電流Ｉ＿ＨＦの出力可能範囲の上限値Ｉｍａｘ＿ＨＦを設定する。また、本実施例では、プロセッサ２５は、上限値Ｉｍａｘ＿ＨＦに加えて、電気エネルギーの出力の終了条件に関連するインピーダンスＺ＿ＨＦの閾値Ｚｔｈ＿ＨＦを、第１のモード及び第２のモードで互いに対して異なる値に設定する。本実施例では、プロセッサ２５は、第２１の実施例と同様にして、閾値Ｚｔｈ＿ＨＦを設定する。

　第２２の実施例及び第２３の実施例では、第２０の実施例及び第２１の実施例と同様に、状態Ｘ２において、状態Ｘ１に比べて、プロセッサ２５は、第１の電気エネルギーの処置具２への出力を抑制させる。このため、第２２の実施例及び第２３の実施例でも、状態Ｘ２において、適宜の処置性能を発揮し得る。また、第２３の実施例では、第２１の実施例と同様に、状態Ｘ２において、状態Ｘ１に比べて、プロセッサ２５は、処置エネルギーを処置対象に印加する時間を長くする。

　なお、ある実施例では、プロセッサ２５は、インピーダンスＺ＿ＨＦ以外のパラメータに基づいて、電気エネルギーの出力の終了条件を設定してもよい。この場合、プロセッサ２５は、終了条件に関連する設定値として、位相差Δφについての閾値Δφｔｈを設定する。そして、プロセッサ２５は、位相差Δφが閾値Δφｔｈに到達したことに基づいて、電気エネルギーの出力を停止させる。また、位相差Δφの閾値Δφｔｈが設定される場合、第２１の実施例及び第２３の実施例の閾値Ｚｔｈ＿ＨＦと同様に、プロセッサ２５は、上限値Ｐｍａｘ＿ＨＦ又は上限値Ｉｍａｘ＿ＨＦに加えて、電気エネルギーの出力の終了条件に関連する位相差Δφの閾値Δφｔｈを、第１のモード及び第２のモードで互いに対して異なる値に設定してもよい。

　また、別のある実施例では、プロセッサ２５は、終了条件に関連する設定値として、第３のフェーズの開始時からの時間Ｙｄについての閾値Ｙｄｔｈを設定する。そして、プロセッサ２５は、時間Ｙｄが閾値Ｙｄｔｈになったことに基づいて、電気エネルギーの出力を停止させる。また、時間Ｙｄの閾値Ｙｄｔｈが設定される場合、第２１の実施例及び第２３の実施例の閾値Ｚｔｈ＿ＨＦと同様に、プロセッサ２５は、上限値Ｐｍａｘ＿ＨＦ又は上限値Ｉｍａｘ＿ＨＦに加えて、電気エネルギーの出力の終了条件に関連する時間Ｙｄの閾値Ｙｄｔｈを、第１のモード及び第２のモードで互いに対して異なる値に設定してもよい。

　第２４の実施例では、プロセッサ２５は、パターンＢ７と同様にして、熱変性について判断結果に基づく電気エネルギーの出力制御を行う。この場合、プロセッサ２５は、ピーク値Ｐｐ＿ＨＦになった直後の出力電力Ｐ＿ＨＦの経時的な減少率（設定値）εａを設定する。そして、プロセッサ２５は、ピーク値Ｐｐ＿ＨＦの検出直後において、出力電力Ｐ＿ＨＦを設定した減少率εａで減少させる第１の電気エネルギーの出力制御を行う。本実施例では、プロセッサ２５は、出力電力Ｐ＿ＨＦの経時的な変化率である減少率εａを、第１のモード及び第２のモードで互いに対して異なる値に設定する。これにより、プロセッサ２５は、第１のモード及び第２のモードで互いに対して異なる状態に、処置具２を作動させる。本実施例では、判断パラメータηを値η１に設定した場合、プロセッサ２５は、ピーク値Ｐｐ＿ＨＦの検出直後において、減少率εａ１で出力電力Ｐ＿ＨＦを経時的に減少させる出力制御を行う。一方、判断パラメータηを値η２に設定した場合、プロセッサ２５は、減少率εａ１より大きい減少率εａ２で出力電力Ｐ＿ＨＦを経時的に減少させる出力制御を行う。このため、第２のモードでは、第１のモードに比べて、プロセッサ２５は、ピーク値Ｐｐ＿ＨＦの検出直後において、出力電力Ｐ＿ＨＦを急激に低下させる。これにより、プロセッサ２５は、第１のモードに比べて第２のモードにおいて、電源装置（ジェネレータ）３から処置具２への第１の電気エネルギーの出力を抑制させる。

　図２２は、本実施例における出力電力Ｐ＿ＨＦの経時的な変化の一例を示す。図２２では、横軸に時間ｔを示し、縦軸に出力電力Ｐ＿ＨＦを示す。また、図２２では、状態Ｘ１での出力電力Ｐ＿ＨＦの経時的な変化を実線で、状態Ｘ２での出力電力Ｐ＿ＨＦの経時的な変化を破線で示す。図２２に示すように、プロセッサ２５は、状態Ｘ１では、ピーク値Ｐｐ１＿ＨＦの検出直後において、減少率εａ１で出力電力Ｐ＿ＨＦを減少させる制御を行う。一方、プロセッサ２５は、状態Ｘ２では、ピーク値Ｐｐ２＿ＨＦの検出直後において、減少率εａ１より大きい減少率εａ２で出力電力Ｐ＿ＨＦを減少させる制御を行う。このため、状態Ｘ２では、状態Ｘ１に比べて、ピーク値Ｐｐ＿ＨＦの検出直後において、出力源３１からの出力電力Ｐ＿ＨＦが抑制され、電極２１，２２への第１の電気エネルギーの出力が抑制される。これにより、状態Ｘ１に比べて状態Ｘ２では、処置対象への高周波電流の印加が抑制される。したがって、本実施例でも、状態Ｘ２において、適宜の処置性能を発揮し得る。第２０の実施例についても、本実施例と同様である。

　第２５の実施例では、プロセッサ２５は、パターンＢ８と同様にして、熱変性について判断結果に基づく電気エネルギーの出力制御を行う。本実施例では、判断パラメータηを値η１に設定した場合、プロセッサ２５は、第１の電気エネルギーを連続出力させる。一方、判断パラメータηを値η２に設定した場合、プロセッサ２５は、第１の電気エネルギーを間欠出力させる。これにより、プロセッサ２５は、第１のモード及び第２のモードで互いに対して異なる状態に、処置具２を作動させる。そして、プロセッサ２５は、第１のモードに比べて第２のモードにおいて、電源装置（ジェネレータ）３から処置具２への第１の電気エネルギーの出力を抑制させる。本実施例では、プロセッサ２５は、例えば、ある期間において第１の電気エネルギーを出力している割合を示すデューティ比を、第１のモード及び第２のモードで互いに対して異なる値に設定する。また、本実施例では、出力指令を受取る前に処置対象が熱変性していたと判断し場合、プロセッサ２５は、例えば、第３のフェーズの開始時に、第１のモードから第２のモードへ処置具２の作動状態を切替える。

　図２３は、本実施例における第１の電気エネルギーの出力（ＨＦ出力）のＯＮ－ＯＦＦの経時的な変化の一例を示す。図２３では、横軸に時間ｔを示し、縦軸にＨＦ出力のＯＮ－ＯＦＦを示す。また、図２３では、状態Ｘ１でのＯＮ－ＯＦＦの経時的な変化を実線で、前述の状態Ｘ２でのＯＮ－ＯＦＦの経時的な変化を破線で示す。図２３に示すように、プロセッサ２５は、状態Ｘ１では、第３のフェーズが開始された時間ｔ１以後も、第１の電気エネルギーを連続出力させる。一方、プロセッサ２５は、状態Ｘ２では、第３のフェーズが開始された時間ｔ２以後において、第１の電気エネルギーを間欠出力させる。このため、状態Ｘ２では、状態Ｘ１に比べて、例えば、第２のフェーズでの出力制御が終了した後において、出力源３１から電極２１，２２への第１の電気エネルギーの出力が抑制され、処置対象への高周波電流の印加が抑制される。したがって、本実施例でも、状態Ｘ２において、適宜の処置性能を発揮し得る。

　ここで、パターンＢ１～Ｂ８，Ｂ´５，Ｂ´６のいずれかと同様にしてプロセッサ２５が出力制御を行う場合、プロセッサ２５は、電極２１，２２への第１の電気エネルギーの出力制御に関連する設定値のいずれかを、第１のモードと第２のモードとで互いに対して異なる値に設定する。そして、プロセッサ２５は、第２のモードにおいて、第１のモードに比べて、第１の電気エネルギーの出力を抑制させる。ある実施例では、第１の電気エネルギーの出力制御に関連する設定値の中で前述した設定値（Ｖａ＿ＨＦ，αａ，βｃ，Ｐｍａｘ＿ＨＦ，Ｉｍａｘ＿ＨＦ，Ｚｔｈ，εａ等）以外の設定値を、プロセッサ２５は、第２のモードにおいて、第１のモードとは異なる値に設定する。この場合も、プロセッサ２５は、第２のモードにおいて、第１のモードに比べて、第１の電気エネルギーの出力を抑制させる。なお、第１の電気エネルギーの出力制御に関連する設定値は、出力電流Ｉ＿ＨＦ、出力電圧Ｖ＿ＨＦ、出力電力Ｐ＿ＨＦ及びインピーダンスＺ＿ＨＦのいずれかについての設定値、出力電流Ｉ＿ＨＦ、出力電圧Ｖ＿ＨＦ、出力電力Ｐ＿ＨＦ及びインピーダンスＺ＿ＨＦのいずれかの経時的な変化率についての設定値、第１の電気エネルギーの出力時間に関連する設定値、及び、第１の電気エネルギーの出力の終了条件に関連する設定値等が含まれる。また、ヒータ２３が設けられず、かつ、電源装置３から電極２１，２２のみに電気エネルギー（第１の電気エネルギー）が出力される処置システム１においても、プロセッサ２５は、パターンＢ１～Ｂ８，Ｂ´５，Ｂ´６のいずれかと同様にして出力制御を行うことが可能である。

　第２６の実施例では、プロセッサ２５は、パターンＢ９と同様にして、熱変性について判断結果に基づく電気エネルギーの出力制御を行う。この場合、プロセッサ２５は、目標温度Ｔｔａｒ＿ＨＴに到達するまでのヒータ２３の温度Ｔ＿ＨＴの上昇率γｂを設定する。そして、プロセッサ２５は、例えば第２のフェーズの開始時以後において、温度Ｔ＿ＨＴを上昇率γｂで経時的に目標温度Ｔｔａｒ＿ＨＴまで上昇させる第２の電気エネルギーの出力制御を行う。本実施例では、プロセッサ２５は、上昇率γｂで温度Ｔ＿ＨＴを経時的に上昇させる制御において、上昇率γｂを、第１のモード及び第２のモードで互いに対して異なる値に設定する。すなわち、プロセッサ２５は、温度Ｔ＿ＨＴＦの経時的な変化率である上昇率γｂを、第１のモード及び第２のモードで互いに対して異なる値に設定する。これにより、プロセッサ２５は、第１のモード及び第２のモードで互いに対して異なる状態に、処置具２を作動させる。本実施例では、判断パラメータηを値η１に設定した場合、プロセッサ２５は、上昇率（設定値）γｂ１を設定する。一方、判断パラメータηを値η２に設定した場合、プロセッサ２５は、上昇率γｂ１より小さい上昇率（設定値）γｂ２を設定する。これにより、プロセッサ２５は、第１のモードに比べて第２のモードにおいて、電源装置（ジェネレータ）３から処置具２への第２の電気エネルギーの出力を抑制させる。

　図２４は、本実施例における温度Ｔ＿ＨＴの目標軌道の一例を示す。図２４では、横軸に時間ｔを示し、縦軸に温度Ｔ＿ＨＴを示す。また、図２４では、第２のフェーズの開始時以後での温度Ｔ＿ＨＴの目標軌道を示し、状態Ｘ１での温度Ｔ＿ＨＴの目標軌道を実線で、状態Ｘ２での温度Ｔ＿ＨＴの目標軌道を破線で示す。図２４に示すように、プロセッサ２５は、状態Ｘ１では、時間ｔｒｅｆ以後において、目標温度Ｔ＿ＨＴに到達するまで、上昇率γｂ１で温度Ｔ＿ＨＴを経時的に上昇させる制御を行う。一方、プロセッサ２５は、状態Ｘ２では、時間ｔｒｅｆ以後において、上昇率γｂ１より小さい上昇率γｂ２で温度Ｔ＿ＨＴＦを経時的に上昇させる制御を行う。このため、状態Ｘ１に比べて状態Ｘ２では、温度Ｔ＿ＨＴが目標温度Ｔｔａｒ＿ＨＴに到達するまで、出力源４１からヒータ２３への第２の電気エネルギーの出力が抑制される。すなわち、出力指令の前に処置対象が熱変性していた状態Ｘ２では、出力指令の前に処置対象が熱変性していない状態Ｘ１に比べて、プロセッサ２５は、第２の電気エネルギーの処置具２への出力を抑制させる。これにより、状態Ｘ２では、状態Ｘ１に比べて、処置対象へのヒータ２３の熱（処置エネルギー）の印加が抑制される。したがって、本実施例でも、状態Ｘ２において、処置対象のシール性能等が適切に確保され、適宜の処置性能を発揮し得る。

　第２７の実施例では、プロセッサ２５は、パターンＢ１０と同様にして、熱変性について判断結果に基づく電気エネルギーの出力制御を行う。この場合、プロセッサ２５は、出力電力Ｐ＿ＨＴの出力可能範囲の上限値（設定値）Ｐｍａｘ＿ＨＴを、第１のモード及び第２のモードで互いに対して異なる値に設定する。これにより、プロセッサ２５は、第１のモード及び第２のモードで互いに対して異なる状態に、処置具２を作動させる。本実施例では、判断パラメータηを値η１に設定した場合、プロセッサ２５は、出力電力Ｐ＿ＨＴの出力可能範囲について、上限値Ｐｍａｘ１＿ＨＴを設定する。一方、判断パラメータηを値η２に設定した場合、プロセッサ２５は、出力電力Ｐ＿ＨＴの出力可能範囲について、上限値Ｐｍａｘ１＿ＨＴより小さい上限値Ｐｍａｘ２＿ＨＴを設定する。これにより、プロセッサ２５は、第１のモードに比べて第２のモードにおいて、出力源４１からの出力電力Ｐ＿ＨＴを抑制し、電源装置（ジェネレータ）３から処置具２への第２の電気エネルギーの出力を抑制させる。

　プロセッサ２５は、状態Ｘ１では、上限値Ｐｍａｘ１＿ＨＴ以下で出力電力Ｐ＿ＨＴを出力させる。一方、プロセッサ２５は、状態Ｘ２では、上限値Ｐｍａｘ１＿ＨＴより小さい上限値Ｐｍａｘ２＿ＨＴ以下で出力電力Ｐ＿ＨＴを出力させる。このため、状態Ｘ２では、状態Ｘ１に比べて、ヒータ２３への第２の電気エネルギーの出力が抑制される。これにより、状態Ｘ１に比べて状態Ｘ２では、処置対象へのヒータ２３の熱の印加が抑制される。したがって、本実施例でも、状態Ｘ２において、適宜の処置性能を発揮し得る。

　なお、ある実施例では、プロセッサ２５は、出力電流Ｉ＿ＨＴの出力可能範囲の上限値（設定値）Ｉｍａｘ＿ＨＴ、及び、出力電圧Ｖ＿ＨＴの出力可能範囲の上限値（設定値）Ｖｍａｘ＿ＨＴのいずれかを、第１のモード及び第２のモードで互いに対して異なる値に設定する。この場合も、第２のモードでは、第１のモードに比べて、プロセッサ２５は、第２の電気エネルギーの処置具２への出力を抑制させる。このため、状態Ｘ２では、状態Ｘ１に比べて、処置対象へのヒータ２３の熱の印加が抑制される。これにより、これらの実施例でも、状態Ｘ２において、適宜の処置性能を発揮し得る。

　第２８の実施例では、プロセッサ２５は、パターンＢ１１と同様にして、熱変性について判断結果に基づく電気エネルギーの出力制御を行う。この場合、プロセッサ２５は、出力電力Ｐ＿ＨＴの初期値Ｐｅ＿ＨＴを設定する。そして、プロセッサ２５は、出力開始時及びその直後は、初期値Ｐｅ＿ＨＴで第２の電気エネルギーをヒータ２３へ出力させる。本実施例では、プロセッサ２５は、初期値Ｐｅ＿ＨＴを、第１のモード及び第２のモードで互いに対して異なる値に設定する。これにより、プロセッサ２５は、第１のモード及び第２のモードで互いに対して異なる状態に、処置具２を作動させる。本実施例では、判断パラメータηを値η１に設定した場合、プロセッサ２５は、初期値（設定値）Ｐｅ１＿ＨＴを設定する。一方、判断パラメータηを値η２に設定した場合、プロセッサ２５は、初期値Ｐｅ１＿ＨＴより小さい初期値（設定値）Ｐｅ２＿ＨＴを設定する。これにより、プロセッサ２５は、第１のモードに比べて第２のモードにおいて、電源装置（ジェネレータ）３から処置具２への第２の電気エネルギーの出力を抑制させる。本実施例では、出力開始時（ｔ＝０）よりも前に、プロセッサ２５は、判断パラメータηを設定する。そして、出力指令を受取る前に処置対象が熱変性していたと判断し場合、プロセッサ２５は、出力開始時から第２のモードで処置具２を作動させる。なお、例えば、前述のパターンＡ１２～Ａ１５のいずれかと同様にして判断を行うことにより、プロセッサ２５は、出力開始時より前においても、処置対象の熱変性について判断可能である。

　図２５は、本実施例における温度Ｔ＿ＨＴの経時的な変化の一例を示す。図２５では、横軸に時間ｔを示し、縦軸に温度Ｔ＿ＨＴを示す。また、図２５では、状態Ｘ１での温度Ｔ＿ＨＴの経時的な変化を実線で、状態Ｘ２での出力電圧Ｖ＿ＨＦの経時的な変化を破線で示す。本実施例のプロセッサ２５は、状態Ｘ１では、出力開始時及びその直後において、初期値Ｐｅ１＿ＨＴで第２の電気エネルギーを出力させる。一方、プロセッサ２５は、状態Ｘ２では、出力開始時及びその直後において、初期値Ｐｅ１＿ＨＴより小さい初期値Ｐｅ２＿ＨＴで第２の電気エネルギーを出力させる。このため、状態Ｘ１に比べて状態Ｘ２では、ヒータ２３への第２の電気エネルギーの出力が抑制され、処置対象へのヒータ２３の熱の印加が抑制される。また、図２５に示すように、状態Ｘ２では、状態Ｘ１に比べて、目標温度Ｔｔａｒ＿ＨＴまで、温度Ｔ＿ＨＴが緩やかに上昇する。そして、状態Ｘ２では、温度Ｔ＿ＨＴが目標温度Ｔｔａｒ＿ＨＴより高い温度まで上昇するオーバーシュートが、抑制される。したがって、本実施例でも、状態Ｘ２において、適宜の処置性能を発揮し得る。

　なお、ある実施例では、プロセッサ２５は、出力電流Ｉ＿ＨＴの初期値（設定値）Ｉｅ＿ＨＴ、及び、出力電圧Ｖ＿ＨＴの初期値（設定値）Ｖｅ＿ＨＴのいずれかを、第１のモード及び第２のモードで互いに対して異なる値に設定する。この場合も、第２のモードでは、第１のモードに比べて、プロセッサ２５は、第２の電気エネルギーの処置具２への出力を抑制させる。このため、状態Ｘ２では、状態Ｘ１に比べて、処置対象へのヒータ２３の熱の印加が抑制される。これにより、これらの本実施例でも、状態Ｘ２において、適宜の処置性能を発揮し得る。

　第２９の実施例では、プロセッサ２５は、パターンＢ１２と同様にして、熱変性について判断結果に基づく電気エネルギーの出力制御を行う。この場合も、プロセッサ２５は、出力開始時及びその直後は、初期値Ｐｅ＿ＨＴで第２の電気エネルギーをヒータ２３へ出力させる。本実施例では、プロセッサ２５は、出力開始時（ｔ＝０）から初期値Ｐｅ＿ＨＴで第２の電気エネルギーを出力させる時間Ｙｅを、第１のモード及び第２のモードで互いに対して異なる値に設定する。これにより、プロセッサ２５は、第１のモード及び第２のモードで互いに対して異なる状態に、処置具２を作動させる。本実施例では、判断パラメータηを値η１に設定した場合、プロセッサ２５は、時間（設定値）Ｙｅ１を設定する。一方、判断パラメータηを値η２に設定した場合、プロセッサ２５は、時間Ｙｅ１より長い時間（設定値）Ｙｅ２を設定する。これにより、プロセッサ２５は、第１のモードに比べて第２のモードにおいて、初期値Ｐｅで出力される時間Ｙｅを長くし、電源装置（ジェネレータ）３から処置具２への第２の電気エネルギーの出力を抑制させる。本実施例では、出力開始時（ｔ＝０）よりも前、又は、出力開始直後に、プロセッサ２５は、出力指令を受取る前に処置対象が熱変性していたか否かを判断する。

　プロセッサ２５は、状態Ｘ１では、出力開始時から時間Ｙｅ１の間、初期値Ｐｅ＿ＨＴで第２の電気エネルギーを出力させる。一方、プロセッサ２５は、状態Ｘ２では、出力開始時から時間Ｙｅ１より長い時間Ｙｅ２の間、初期値Ｐｅ＿ＨＴで第２の電気エネルギーを出力させる。このため、状態Ｘ１に比べて状態Ｘ２では、出力源４１からヒータ２３への第２の電気エネルギーの出力が抑制され、処置対象へのヒータ２３の熱の印加が抑制される。また、本実施例では、状態Ｘ１，Ｘ２のそれぞれにおいて、第２８の実施例と同様に、ヒータ２３の温度Ｔ＿ＨＴが経時的に変化する。したがって、本実施例でも、状態Ｘ２において、適宜の処置性能を発揮し得る。

　なお、ある実施例では、プロセッサ２５は、出力開始時から初期値Ｉｅ＿ＨＴで出力する時間、及び、出力開始時から初期値Ｖｅ＿ＨＴで出力する時間のいずれかを、第１のモード及び第２のモードで互いに対して異なる値に設定する。この場合も、第２のモードでは、第１のモードに比べて、プロセッサ２５は、第２の電気エネルギーの処置具２への出力を抑制させる。このため、状態Ｘ２では、状態Ｘ１に比べて、処置対象へのヒータ２３の熱の印加が抑制される。これにより、これらの本実施例でも、状態Ｘ２において、適宜の処置性能を発揮し得る。

　第３０の実施例では、プロセッサ２５は、パターンＢ１３と同様にして、熱変性について判断結果に基づく電気エネルギーの出力制御を行う。この場合、プロセッサ２５は、第２の電気エネルギーの出力について、目標温度Ｔｔａｒ＿ＨＴでのＰＤ制御又はＰＩＤ制御を行う。そして、プロセッサ２５は、ＰＤ制御又はＰＩＤ制御の微分項の微分ゲインＫｄを、第１のモード及び第２のモードで互いに対して異なる値に設定する。すなわち、プロセッサ２５は、微分動作の項に関連する設定値である微分ゲインＫｄを、第２のモードにおいて、第１のモードとは異なる値に設定する。これにより、プロセッサ２５は、第１のモード及び第２のモードで互いに対して異なる状態に、処置具２を作動させる。本実施例では、判断パラメータηを値η１に設定した場合、プロセッサ２５は、微分ゲイン（設定値）Ｋｄ１を設定する。一方、判断パラメータηを値η２に設定した場合、プロセッサ２５は、微分ゲインＫｄ１よりも大きい微分ゲイン（設定値）Ｋｄ２を設定する。これにより、プロセッサ２５は、第１のモードに比べて第２のモードにおいて、電源装置（ジェネレータ）３から処置具２への第２の電気エネルギーの出力を抑制させる。

　プロセッサ２５は、状態Ｘ１では、微分ゲインＫｄ１でＰＤ制御又はＰＩＤ制御を行う。一方、プロセッサ２５は、状態Ｘ２では、微分ゲインＫｄ１とは異なる微分ゲインＫｄ２でＰＤ制御又はＰＩＤ制御を行う。状態Ｘ１，Ｘ２において微分ゲインＫｄが互いに対して異なる値に設定されるため、状態Ｘ１に比べて状態Ｘ２では、出力源４１からヒータ２３への第２の電気エネルギーの出力が抑制され、処置対象へのヒータ２３の熱の印加が抑制される。また、本実施例では、状態Ｘ１，Ｘ２のそれぞれにおいて、第２８の実施例及び第２９の実施例と同様に、ヒータ２３の温度Ｔ＿ＨＴが経時的に変化する。したがって、本実施例でも、状態Ｘ２において、適宜の処置性能を発揮し得る。

　第３１の実施例では、プロセッサ２５は、パターンＢ１４と同様にして、熱変性について判断結果に基づく電気エネルギーの出力制御を行う。この場合、プロセッサ２５は、ヒータ２３の温度Ｔ＿ＨＴの目標軌道を設定する。そして、プロセッサ２５は、例えば第２のフェーズの開始時以後において、設定した目標軌道に沿って温度Ｔ＿ＨＴを変化させる第２の電気エネルギーの出力制御を行う。本実施例では、プロセッサ２５は、第１のモード及び第２のモードで互いに対して異なる目標軌道を設定する。これにより、プロセッサ２５は、第１のモード及び第２のモードで互いに対して異なる状態に、処置具２を作動させる。本実施例では、判断パラメータηを値η１に設定した場合、プロセッサ２５は、温度Ｔ＿ＨＴの第１の目標軌道を設定する。一方、判断パラメータηを値η２に設定した場合、プロセッサ２５は、温度Ｔ＿ＨＴの第２の目標軌道を設定する。プロセッサ２５は、第２の目標軌道に沿った制御において、第１の目標軌道に沿った制御に比べて、電源装置（ジェネレータ）３から処置具２への第２の電気エネルギーの出力を抑制させる。

　図２６は、本実施例における温度Ｔ＿ＨＴの目標軌道の一例を示す。図２６では、横軸に時間ｔを示し、縦軸に温度Ｔ＿ＨＴを示す。また、図２６では、第２のフェーズの開始時以後での温度Ｔ＿ＨＴの目標軌道を示し、状態Ｘ１での温度Ｔ＿ＨＴの目標軌道を実線で、状態Ｘ２での温度Ｔ＿ＨＴの目標軌道を破線で示す。図２６に示すように、プロセッサ２５は、状態Ｘ１では、温度Ｔ＿ＨＴについて第１の目標軌道を設定する。第１の目標軌道では、目標温度Ｔｔａｒ＿ＨＴまで温度Ｔ＿ＨＴが線形的に上昇する。一方、プロセッサ２５は、状態Ｘ２では、温度Ｔ＿ＨＴについて第２の目標軌道を設定する。第２の目標軌道では、上昇及び低下を繰り返しながら、目標温度Ｔｔａｒ＿ＨＴまで温度Ｔ＿ＨＴが徐々に上昇する。また、第２の目標軌道に沿って温度Ｔ＿ＨＴを変化させた場合、第１の目標軌道に沿って温度Ｔ＿ＨＴを変化させた場合に比べて、目標温度Ｔｔａｒ＿ＨＴまでの温度Ｔ＿ＨＴの上昇率の平均値が、小さい。このため、状態Ｘ１に比べて状態Ｘ２では、出力源４１からヒータ２３への第２の電気エネルギーの出力が抑制され、処置対象へのヒータ２３の熱の印加が抑制される。これにより、本実施例でも、状態Ｘ２において、適宜の処置性能を発揮し得る。

　ここで、パターンＢ９～Ｂ１４のいずれかと同様にしてプロセッサ２５が出力制御を行う場合、プロセッサ２５は、ヒータ２３への第２の電気エネルギーの出力制御に関連する設定値のいずれかを、第１のモードと第２のモードとで互いに対して異なる値に設定する。そして、プロセッサ２５は、第２のモードにおいて、第１のモードに比べて、第２の電気エネルギーの出力を抑制させる。ある実施例では、第２の電気エネルギーの出力制御に関連する設定値の中で前述した設定値（γｂ，Ｐｍａｘ＿ＨＴ，Ｐｅ＿Ｈｔ，Ｙｅ，Ｋｄ等）以外の設定値を、プロセッサ２５は、第２のモードにおいて、第１のモードとは異なる値に設定する。この場合も、プロセッサ２５は、第２のモードにおいて、第１のモードに比べて、第２の電気エネルギーの出力を抑制させる。なお、第２の電気エネルギーの出力制御に関連する設定値は、出力電流Ｉ＿ＨＴ、出力電圧Ｖ＿ＨＴ、出力電力Ｐ＿ＨＴ及び温度Ｔ＿ＨＴのいずれかについての設定値、温度Ｔ＿ＨＴの経時的な変化率についての設定値、第２の電気エネルギーの出力開始時の初期値についての設定値、初期値で第２の電気エネルギーを出力する時間についての設定値、及び、ＰＤ制御及びＰＩＤ制御のそれぞれにおける微分動作の項に関連する設定値等が含まれる。また、電極２１，２２が設けられず、かつ、電源装置３からヒータ２３のみに電気エネルギー（第２の電気エネルギー）が出力される処置システム１においても、プロセッサ２５は、パターンＢ９～Ｂ１４のいずれかと同様にして出力制御を行うことが可能である。

　第３２の実施例では、プロセッサ２５は、パターンＢ１５と同様にして、熱変性について判断結果に基づく電気エネルギーの出力制御を行う。この場合、プロセッサ２５は、出力指令を受取ったことに基づいて、第１の電気エネルギーのみ出力を開始させる。そして、第１の電気エネルギーの出力開始させた後に、プロセッサ２５は、第２の電気エネルギーの出力を開始させる。例えば、プロセッサ２５は、第１のフェーズ及び第２のフェーズにおいて第１の電気エネルギーのみを出力させ、第２の電気エネルギーの出力を停止させる。そして、プロセッサ２５は、第３のフェーズの開始時以後のいずれかの時点において、第２の電気エネルギーの出力を開始させる。本実施例では、プロセッサ２５は、第３のフェーズの開始時から第２の電気エネルギーの出力を開始するまでの時間Ｙｄを、第１のモード及び第２のモードで互いに対して異なる値に設定する。すなわち、プロセッサ２５は、第２の電気エネルギーの出力開始時に関連する設定値である時間Ｙｄを、第１のモード及び第２のモードで互いに対して異なる値に設定する。これにより、プロセッサ２５は、第１のモード及び第２のモードで互いに対して異なる状態に、処置具２を作動させる。本実施例では、判断パラメータηを値η１に設定した場合、プロセッサ２５は、時間（設定値）Ｙｄ１を設定する。時間Ｙｄ１は、例えば０であり、この場合、第３のフェーズの開始時から第２の電気エネルギーの出力が開始される。一方、判断パラメータηを値η２に設定した場合、プロセッサ２５は、時間Ｙｄ１より長い時間（設定値）Ｙｄ２を設定する。これにより、プロセッサ２５は、第１のモードに比べて第２のモードにおいて、電源装置（ジェネレータ）３から処置具２への第２の電気エネルギーの出力を抑制させる。

　図２７は、本実施例における第２の電気エネルギーの出力（ＨＴ出力）のＯＮ－ＯＦＦの経時的な変化の一例を示す。図２７では、横軸に時間ｔを示し、縦軸にＨＴ出力のＯＮ－ＯＦＦを示す。また、図２７では、状態Ｘ１でのＯＮ－ＯＦＦの経時的な変化を実線で、状態Ｘ２でのＯＮ－ＯＦＦの経時的な変化を破線で示す。図２７に示すように、プロセッサ２５は、状態Ｘ１では、第３のフェーズの開始時である時間ｔ１において、第２の電気エネルギーの出力を開始させる。一方、プロセッサ２５は、状態Ｘ２では、第３のフェーズの開始時（ｔ２）から時間Ｙｄ２経過した時間ｔ６において、第２の電気エネルギーの出力を開始される。このため、状態Ｘ１に比べて状態Ｘ２では、第３のフェーズにおいて、出力源４１からヒータ２３への第２の電気エネルギーの出力が抑制され、処置対象へのヒータ２３の熱の印加が抑制される。これにより、本実施例でも、状態Ｘ２において、適宜の処置性能を発揮し得る。

　なお、ある実施例でも、第３２の実施例と同様に、プロセッサ２５は、出力指令を受取ったことに基づいて第１の電気エネルギーの出力を開始させた後に、第２の電気エネルギーの出力を開始させる。ただし、本実施例では、第２の電気エネルギーの出力開始時に関連する設定値の中で前述した時間Ｙｄ以外の設定値を、プロセッサ２５は、第２のモードにおいて、第１のモードとは異なる値に設定する。この場合も、プロセッサ２５は、第２のモードにおいて、第１のモードに比べて、第２の電気エネルギーの出力を抑制させる。

　第３３の実施例では、プロセッサ２５は、パターンＢ１６と同様にして、熱変性について判断結果に基づく電気エネルギーの出力制御を行う。本実施例では、判断パラメータηを値η１に設定した場合、プロセッサ２５は、第１の電気エネルギー及び第２の電気エネルギーの両方を出力させる。一方、判断パラメータηを値η２に設定した場合、プロセッサ２５は、第１の電気エネルギー及び第２の電気エネルギーの一方のみを出力させる。これにより、プロセッサ２５は、第１のモード及び第２のモードで互いに対して異なる状態に、処置具２を作動させる。そして、プロセッサ２５は、第２のモードにおいて第１のモードに比べて、第１の電気エネルギー及び第２の電気エネルギーの一方の処置具２への出力を抑制させる。プロセッサ２５は、状態Ｘ１では、判断パラメータηを設定した後も、第１の電気エネルギー及び第２の電気エネルギーの両方を出力させる。一方、プロセッサ２５は、状態Ｘ２では、判断パラメータηを設定した後において、第１の電気エネルギー及び第２の電気エネルギーの一方のみを出力させる。このため、状態Ｘ２では、状態Ｘ１に比べて、判断パラメータηを設定した後において、第１の電気エネルギーの出力及び第２の電気エネルギーの出力の一方が抑制され、高周波電流及びヒータ２３の熱の一方の処置対象への印加が抑制される。これにより、本実施例でも、状態Ｘ２において、適宜の処置性能を発揮し得る。

　第３４の実施例では、プロセッサ２５は、パターンＢ１７と同様にして、熱変性について判断結果に基づく電気エネルギーの出力制御を行う。本実施例では、プロセッサ２５は、第１の電気エネルギーの出力制御に関連する設定値、及び、第２の電気エネルギーの出力制御に関連する設定値を、第１のモード及び第２のモードにおいて互いに対して同一に設定する。ただし、本実施例では、プロセッサ２５、第１の電気エネルギー出力及び第２の電気エネルギーとは異なる電気エネルギーの処置具２への出力を制御することにより、把持片１５，１６の間での把持力Ｆｂを調整する。判断パラメータηを値η１に設定した場合、プロセッサ２５は、把持力Ｆｂ１で処置対象を把持させる。一方、判断パラメータηを値η２に設定した場合、プロセッサ２５は、把持力Ｆｂ１より小さい把持力Ｆｂ２で処置対象を把持させる。これにより、プロセッサ２５は、第１のモード及び第２のモードで互いに対して異なる状態に、処置具２を作動させる。

　プロセッサ２５は、状態Ｘ１では、判断パラメータηを設定した後において、把持力Ｆｂ１で処置対象を把持させる。一方、プロセッサ２５は、状態Ｘ２では、判断パラメータηを設定した後において、把持力Ｆｂ１より小さい把持力Ｆｂ２で処置対象を把持させる。このため、状態Ｘ２では、状態Ｘ１に比べて、判断パラメータηを設定した後において、処置対象の把持力Ｆｂが小さい。すなわち、本実施例では、出力指令の前に処置対象が熱変性していた状態Ｘ２において、出力指令の前に処置対象が熱変性していない状態Ｘ１に比べて、プロセッサ２５は、処置対象の把持力Ｆｂを低下させる。このため、状態Ｘ２では状態Ｘ１に比べて、処置対象へ作用する圧力が抑制される。したがって、既に熱変性した箇所への２回目以降の処置エネルギーの印加である状態Ｘ２においても、適宜の処置性能を発揮し得る。

　図２８は、エンドエフェクタ７での把持力Ｆｂを変化させる構成の一例を示す。図２８の構成では、ハウジング６の内部に、ストッパー５１が設けられる。そして、ハンドル１２は、当接部５２がストッパー５１に当接するまで、グリップ１１に対して閉じる。ストッパー５１は、第１のモードでの位置Ｍ１と第２のモードでの位置Ｍ２との間で移動可能である。このため、第２のモードでは、第１のモードに比べて、ハンドル１２の閉動作におけるストロークが小さくなり、把持力Ｆｂが低下する。

　図２９は、ストッパー５１を移動させる構成を示す。本実施例では、処置具２に、ストッパー５１を移動させるアクチュエータ５３が設けられ、電源装置３に、出力源３１，４１とは別の出力源５５が設けられる。アクチュエータ５３は、例えば、電動モータである。出力源（作動電源）５５は、変換回路及び変圧器等を備え、駆動回路を形成する。出力源５５は、バッテリー電源又は商用電源等からの電力をアクチュエータ５３の作動電力（電気エネルギー）に変換するとともに、作動電力をアクチュエータ５３に出力する。アクチュエータ５３に作動電力が供給されることにより、アクチュエータ５３が作動され、ストッパー５１が移動する。また、処置具２には、アクチュエータ５３の作動状態を検出するエンコーダ等の検出器５６が設けられる。プロセッサ２５は、検出器５６での検出結果に基づいて、アクチュエータ５３への作動電力の出力を制御し、アクチュエータ５３の作動を制御する。プロセッサ２５は、アクチュエータ５３の作動を制御することにより、ストッパー５１の位置を調整し、把持力Ｆｂを調整する。

　また、ある実施例では、ハンドル１２が可動部材１３に弾性部材（図示しない）を介して接続される。そして、プロセッサ２５は、アクチュエータ（例えば５３）の作動を制御することにより、弾性部材の収縮量を調整する。これにより、プロセッサ２５は、弾性部材から可動部材１３への弾性力を調整し、把持力Ｆｂを調整する。

　第３５の実施例では、プロセッサ２５は、パターンＢ１８と同様にして、熱変性について判断結果に基づく電気エネルギーの出力制御を行う。本実施例でも、プロセッサ２５は、第１の電気エネルギーの出力制御に関連する設定値、及び、第２の電気エネルギーの出力制御に関連する設定値を、第１のモード及び第２のモードにおいて互いに対して同一に設定する。本実施例では、図３０に示すように、把持片１６に、流路５７が形成される。また、処置具２は、ポンプ等のアクチュエータ５３を備え、アクチュエータ５３は、作動されることにより、流路５７に冷却水を流す。そして、本実施例でも、プロセッサ２５は、アクチュエータ５３への作動電力の出力を制御する。これにより、プロセッサ２５は、アクチュエータ５３の作動を制御し、流路５７への冷却水の流入の有無を調整する。本実施例では、判断パラメータηを値η１に設定した場合、プロセッサ２５は、アクチュエータ５３の作動を停止し、流路５７に冷却水を流さない。一方、判断パラメータηを値η２に設定した場合、プロセッサ２５は、アクチュエータ５３を作動させ、流路５７に冷却水を流す。これにより、プロセッサ２５は、第１のモード及び第２のモードで互いに対して異なる状態に、処置具２を作動させる。

　プロセッサ２５は、状態Ｘ１では、判断パラメータηを設定した後も、流路５７に冷却水を流さない。一方、プロセッサ２５は、状態Ｘ２では、判断パラメータηを設定した後において、流路５７に冷却水を流す。すなわち、本実施例では、出力指令の前に処置対象が熱変性していた状態Ｘ２において、プロセッサ２５での制御によって、エンドエフェクタ７の流路５７に冷却水が流す。そして、冷却水によってエンドエフェクタ７が冷却されている状態で、処置エネルギーが処置対象に印加される。したがって、状態Ｘ２においても、適宜の処置性能を発揮し得る。

　また、ある実施例では、プロセッサ２５は、前述した設定値から複数を、第１のモード及び第２のモードにおいて互いに対して異なる値に設定する。例えば、第３６の実施例では、プロセッサ２５は、第３のフェーズでの出力電圧Ｖ＿ＨＦの目標値Ｖａ＿ＨＦ及び第２のフェーズでの出力電圧Ｖ＿ＨＦの上昇率αａを、第１のモード及び第２のモードにおいて互いに対して異なる値に設定する。本実施例では、プロセッサ２５は、パターンＢ１と同様にして目標値Ｖａ＿ＨＦを設定し、パターンＢ２と同様にして上昇率αａを設定する。

　図３１は、本実施例における出力電圧Ｖ＿ＨＦの目標軌道の一例を示す。図３１では、横軸に時間ｔを示し、縦軸に出力電圧Ｖ＿ＨＦを示す。また、図３１では、第２のフェーズ及び第３のフェーズでの出力電圧Ｖ＿ＨＦの目標軌道を示し、状態Ｘ１での出力電圧Ｖ＿ＨＦの目標軌道を実線で、状態Ｘ２での出力電圧Ｖ＿ＨＦの目標軌道を破線で示す。図３１に示すように、プロセッサ２５は、状態Ｘ１では、第２のフェーズにおいて、上昇率αａ１で出力電圧Ｖ＿ＨＦを上昇させる制御を行う。そして、第３のフェーズの開始時（ｔ＝ｔ１）から、プロセッサ２５は、目標値Ｖａ１＿ＨＦでの出力電圧Ｖ＿ＨＦの定電圧制御を行う。一方、プロセッサ２５は、状態Ｘ２では、第２のフェーズにおいて、上昇率αａ１より小さい上昇率αａ２で出力電圧Ｖ＿ＨＦを上昇させる制御を行う。そして、第３のフェーズの開始時（ｔ＝ｔ２）から、プロセッサ２５は、目標値Ｖａ１＿ＨＦより小さい目標値Ｖａ２＿ＨＦでの出力電圧Ｖ＿ＨＦの定電圧制御を行う。本実施例でも、出力指令の前に処置対象が熱変性していた状態Ｘ２において、出力指令の前に処置対象が熱変性していない状態Ｘ１に比べて、第１の電気エネルギーの処置具２への出力が抑制され、処置対象への高周波電流の印加が抑制される。これにより、本実施例でも、状態Ｘ２において、適宜の処置性能を発揮し得る。

　［処置対象の熱変性についての判断と判断結果に基づく電気エネルギーの出力制御の組合わせ］　
　なお、前述の処置対象の熱変性についての判断、及び、熱変性についての判断結果に基づく前述の電気エネルギーの出力制御は、矛盾しない範囲で適宜組合わせることが可能である。例えば、図８のパターンＡ１～Ａ１５の判断のいずれか１つ以上、及び、図１７のパターンＢ１～Ｂ１８，Ｂ´５，Ｂ´６の出力制御のいずれか１つ以上を、矛盾しない範囲で適宜組合わせることが可能である。

　（変形例）　
　なお、ある変形例では、プロセッサ２５は、処置具２への電気エネルギーの出力開始時において、第１のモード及び第２のモードとは異なる判断モードで、処置具２を作動させる。この場合、プロセッサ２５は、判断モードにおいて、例えば、前述した第１の電気エネルギーの出力制御に関連する設定値、及び、第２の電気エネルギーの出力制御に関連する設定値の中のいずれかを、第１のモード及び第２のモードとは異なる値に設定する。本変形例では、出力指令の前に処置対象が熱変性していないと判断した場合、すなわち、判断パラメータηを値η１に設定した場合、プロセッサ２５は、判断モードから第１のモードに処置具２の作動状態を切替える。一方、出力指令の前に処置対象が熱変性していたと判断した場合、すなわち、判断パラメータηを値η２に設定した場合、プロセッサ２５は、判断モードから第２のモードに処置具２の作動状態を切替える。

　また、ある変形例では、プロセッサ２５は、処置対象の熱変性についての判断結果に基づいて、３つ以上のモードの中から処置具２の作動状態を選択する。第１の変形例では、プロセッサ２５は、処置対象の熱変性についての判断結果に基づいて、３つのモードの中から処置具２の作動状態を選択する。この場合、プロセッサ２５は、判断パラメータηを値η１～η３のいずれか１つに設定する。本変形例でも、前述したパラメータのいずれかに基づいて、プロセッサ２５は、出力指令を受取る前に処置対象が熱変性していたか否かを判断し、判断パラメータηを設定する。判断パラメータηを値η１に設定した場合、プロセッサ２５は、処置対象が熱変性していなかったと判断し、処置具２の作動状態として第１のモードを選択する。また、判断パラメータηを値η２に設定した場合、プロセッサ２５は、出力指令の前に処置対象に１回のみ処置エネルギーが印加されたと判断し、処置具２の作動状態として第２のモードを選択する。そして、判断パラメータηを値η３に設定した場合、プロセッサ２５は、出力指令の前に処置対象に２回以上処置エネルギーが印加されたと判断し、処置具２の作動状態として第３のモードを選択する。

　図３２は、本変形例のプロセッサ２５による処置対象の熱変性についての判断の一例を示す。図３２の一例では、インピーダンスＺ＿ＨＦの初期値Ｚｅ＿ＨＦに基づいて、プロセッサ２５は、処置対象の熱変性について判断する。この一例では、初期値Ｚｅ＿ＨＦが第１の基準値Ｚｅｒｅｆ１＿ＨＦより小さい場合、プロセッサ２５は、判断パラメータηを値η１に設定し、第１のモードで処置具２を作動させる。また、初期値Ｚｅ＿ＨＦが第１の基準値Ｚｅｒｅｆ１＿ＨＦ以上で、かつ、第２の基準値Ｚｅｒｅｆ２＿ＨＦより小さい場合、プロセッサ２５は、判断パラメータηを値η２に設定し、第２のモードで処置具２を作動させる。そして、初期値Ｚｅ＿ＨＦが第２の基準値Ｚｅｒｅｆ２＿ＨＦ以上の場合、プロセッサ２５は、判断パラメータηを値η３に設定し、第３のモードで処置具２を作動させる。なお、プロセッサ２５は、第２の基準値Ｚｅｒｅｆ２＿ＨＦを第１の基準値Ｚｅｒｅｆ１＿ＨＦより大きく設定する。

　また、本変形例では、プロセッサは、前述した第１の電気エネルギーの出力制御における設定値、及び、第２の電気エネルギーの出力制御における設定値のいずれかを、第１のモード、第２のモード及び第３のモードにおいて互いに対して異なる値に設定する。これにより、プロセッサ２５は、第２のモードにおいて、第１のモードに比べて、第１の電気エネルギー及び第２の電気エネルギーの少なくとも一方の出力を抑制させる。そして、プロセッサ２５は、第３のモードにおいて、第２のモードに比べて、第１の電気エネルギー及び第２の電気エネルギーの少なくとも一方の出力を抑制させる。

　図３３は、本変形例のプロセッサ２５による第１のモード、第２のモード及び第３のモードの設定値の設定の一例を示す。図３３の一例では、プロセッサ２５は、第３フェーズでの出力電圧Ｖ＿ＨＦの目標値Ｖａ＿ＨＦを、第１のモード、第２のモード及び第３のモードにおいて互いに対して異なる値に設定する。この一例では、判断パラメータηを値η１に設定した場合、すなわち、第１のモードを選択した場合、プロセッサ２５は、目標値Ｖａ１＿ＨＦでの定電圧制御を行う。また、判断パラメータηを値η２に設定した場合、すなわち、第２のモードを選択した場合、プロセッサ２５は、目標値Ｖａ１＿ＨＦより小さい目標値Ｖａ２＿ＨＦでの定電圧制御を行う。そして、判断パラメータηを値η３に設定した場合、すなわち、第３のモードを選択した場合、プロセッサ２５は、目標値Ｖａ２＿ＨＦより小さい目標値Ｖａ３＿ＨＦでの定電圧制御を行う。

　また、第２の変形例では、プロセッサ２５は、処置具２への電気エネルギーの出力を開始する前に、例えば、前述の第１のフェーズでの出力制御を開始する前に、処置対象の熱変性について判断する。例えば、前述のパターンＡ１２～Ａ１５のいずれかと同様にして判断を行うことにより、プロセッサ２５は、出力開始時より前においても、処置対象の熱変性について判断可能である。図３４は、本変形例の処置具２の作動制御においてプロセッサ２５が行う処理を示すフローチャートである。図３４に示すように、本変形例では、プロセッサ２５は、出力指令を受取ると（Ｓ２０１－Ｙｅｓ）、処置対象の熱変性についての判断に用いる前述のパラメータを取得する（Ｓ２０２）。そして、プロセッサ２５は、取得したパラメータに基づいて、判断パラメータηを設定する（Ｓ２０３）。判断パラメータηが設定されると、処理は、Ｓ２０４に進む。本変形例では、Ｓ２０３の処理を行った後、プロセッサ２５は、処置具２への電気エネルギーの出力を開始させ、処置具２を作動させる。

　判断パラメータηを値η１に設定した場合は（Ｓ２０４－Ｙｅｓ）、プロセッサ２５は、処置具２への電気エネルギーの出力を開始させ、処置具２を第１のモードでの作動させる（Ｓ２０５）。終了条件を満たさない場合（Ｓ２０６－Ｎｏ）、プロセッサ２５は、処置具２の第１のモードでの作動を継続させる。そして、終了条件を満たした場合（Ｓ２０６－Ｙｅｓ）、プロセッサ２５は、処置具２の第１のモードでの作動を終了させる（Ｓ２０７）。一方、判断パラメータηを値η２に設定した場合は（Ｓ２０４－Ｎｏ）、プロセッサ２５は、トリガーを生成する（Ｓ２０８）。そして、プロセッサ２５は、処置具２への電気エネルギーの出力を開始させ、処置具２を第２のモードでの作動させる（Ｓ２０９）。終了条件を満たさない場合（Ｓ２１０－Ｎｏ）、プロセッサ２５は、処置具２の第２のモードでの作動を継続させる。そして、終了条件を満たした場合（Ｓ２１０－Ｙｅｓ）、プロセッサ２５は、処置具２の第２のモードでの作動を終了させる（Ｓ２１１）。

　また、ある変形例では、タッチスクリーン２７等での術者の操作に基づいて、プロセッサ２５は、処置具２の作動状態を選択する。この場合、術者の操作によって、第１のモードと第２のモードとの間で処置対象の作動状態が切替られる。本変形例では、術者は、電気エネルギーの出力開始前又は出力開始直後等に、今回の出力の前において処置対象が既に熱変性していたか否か、例えば、状態Ｘ１，Ｘ２のいずれであるかを、判断する。そして、術者は、判断結果に基づいて、タッチスクリーン２７等で処置具の作動状態を設定する。そして、プロセッサは、設定された作動状態を選択し、選択した作動状態（例えば第１のモード及び第２のモードの選択した一方）で処置具２を作動させる。

　また、ある変形例では、電源装置３又は電源装置３とは別体で、告知部材（図示しない）が設けられる。この場合、プロセッサ２５は、判断パラメータηを値η２に設定し、トリガーを生成した場合、告知部材を作動させる。本変形例では、術者は、告知部材が作動状態に基づいて、今回の出力の前において処置対象が既に熱変性していたか否かを判断する。そして、術者は、告知部材が作動した場合、今回の出力の前において処置対象が既に熱変性していたと判断する。なお、告知部材は、例えば、ランプ、ブザー及びディスプレイ等のいずれかである。告知部材が作動されることにより、ランプから発光したり、ブザー音が発信されたり、画面表示されたりする。

　また、前述の実施形態等では、電源装置３が１つのみ設けられるが、ある変形例では、第１の電気エネルギーを出力する電源装置及び第２の電気エネルギーを出力する電源装置が別体である。この場合、第１の電気エネルギーを出力する電源装置には、前述の出力源３１、電流検出回路３５、電圧検出回路３６及びＡ／Ｄ変換器３７が設けられる。そして、第２の電気エネルギーを出力する電源装置には、前述の出力源４１、電流検出回路４５、電圧検出回路４６及びＡ／Ｄ変換器４７が設けられる。また、電源装置のそれぞれには、記憶媒体及び１つ以上のプロセッサが設けられる。そして、電源装置のそれぞれに設けられる１つ以上のプロセッサによって、処置システム１を制御する制御装置が形成され、前述した処理が行わる。

　また、別のある変形例では、処置具２に前述した処理を行う１つ以上のプロセッサが設けられ、処置具２に設けられる１つ以上のプロセッサによって、処置システム１を制御する制御装置が形成される。

　なお、本願発明は、上記実施形態に限定されるものではなく、実施段階ではその要旨を逸脱しない範囲で種々に変形することが可能である。また、各実施形態は可能な限り適宜組合わせて実施してもよく、その場合組合わせた効果が得られる。更に、上記実施形態には種々の段階の発明が含まれており、開示される複数の構成要件における適当な組合わせにより種々の発明が抽出され得る。

Claims

　一対の把持片の間で処置対象を把持可能なエンドエフェクタを備える処置具、及び、前記処置具に電気エネルギーを出力することにより、把持される前記処置対象を熱変性させる処置エネルギーを前記エンドエフェクタから前記処置対象に印加させるジェネレータとともに用いられる制御装置であって、
　出力指令を受取ったことに基づいて、前記ジェネレータから前記処置具に前記電気エネルギーを出力させ、
　前記処置エネルギーの印加に対する前記処置対象の反応を示すパラメータを取得し、
　取得した前記パラメータに基づいて、前記出力指令を受取る前に前記処置対象が熱変性していたか否かを判断する、
　プロセッサを具備する、制御装置。
　前記プロセッサは、前記出力指令を受取る前に前記処置対象が熱変性していたと判断した場合は、トリガーを生成する、請求項１の制御装置。
　前記プロセッサは、前記出力指令を受取る前に前記処置対象が熱変性していたと判断したことを示す前記トリガーを生成した場合は、前記トリガーを生成しない場合に比べて、前記ジェネレータから前記処置具への前記電気エネルギーの出力を抑制させる、請求項２の制御装置。
　前記プロセッサは、前記パラメータとして複数のパラメータを取得し、前記複数のパラメータに基づいて、前記出力指令を受取る前に前記処置対象が熱変性していたか否かを判断する、請求項１の制御装置。
　前記プロセッサは、前記処置具への前記電気エネルギーに関連するパラメータ、前記処置対象及び前記エンドエフェクタの観察画像から取得されるパラメータ、及び、前記処置対象の温度の中のいずれか２つ以上に基づいて、前記処置対象の熱変性について判断する、請求項４の制御装置。
　前記プロセッサは、前記エンドエフェクタに設けられるバイポーラ電極に前記電気エネルギーとして第１の電気エネルギーを出力させることにより、前記バイポーラ電極の間で前記処置対象を通して前記処置エネルギーとして高周波電流を流すこと、及び、前記エンドエフェクタに設けられるヒータに前記電気エネルギーとして第２の電気エネルギーを出力させることにより、前記ヒータで発生した熱を前記処置エネルギーとして前記処置対象に印加すること、の少なくとも一方を行い、
　前記プロセッサは、前記バイポーラ電極への前記第１の電気エネルギーに関連するパラメータ、及び／又は、前記ヒータの温度に関連するパラメータを含む前記ヒータへの第２の電気エネルギーに関連するパラメータの中のいずれか２つ以上に基づいて、前記処置対象の熱変性について判断する、請求項５の制御装置。
　前記プロセッサは、前記ヒータの前記温度が目標温度に到達するまでの前記温度の上昇率に少なくとも基づいて、前記処置対象の熱変性について判断する、請求項６の制御装置。
　前記プロセッサは、前記エンドエフェクタに設けられるバイポーラ電極に前記電気エネルギーを出力させることにより、前記バイポーラ電極の間で前記処置対象を通して前記処置エネルギーとして高周波電流を流し、
　前記プロセッサは、前記バイポーラ電極への前記電気エネルギーに関連するパラメータの中のいずれか１つ以上に基づいて、前記処置対象の熱変性について判断する、
　請求項１の制御装置。
　前記プロセッサは、前記バイポーラ電極への前記電気エネルギーの電気経路におけるインピーダンスに関連するパラメータの中のいずれか１つ以上に基づいて、前記処置対象の熱変性について判断する、請求項８の制御装置。
　前記プロセッサは、前記電気エネルギーの出力開始時又は出力開始直後の前記インピーダンスの初期値、前記電気エネルギーの出力開始から前記インピーダンスが極小値になるまでの時間、前記インピーダンスが前記極小値になるまでの減少率、前記インピーダンスが前記極小値から所定の値に到達するまでの時間、及び、前記インピーダンスの前記極小値からの上昇率の中のいずれか１つ以上に基づいて、前記処置対象の熱変性について判断する、請求項９の制御装置。
　前記プロセッサは、前記インピーダンスに関連する前記パラメータの中のいずれか１つ以上に加えて、前記バイポーラ電極への出力電流と出力電圧との位相差に基づいて、前記処置対象の熱変性について判断する、請求項９の制御装置。
　前記プロセッサは、前記バイポーラ電極への出力電流と出力電圧との位相差、前記バイポーラ電極への出力電力のピーク値、及び、前記バイポーラ電極への前記出力電流のピーク値の中のいずれか１つ以上に基づいて、前記処置対象の熱変性について判断する、請求項８の制御装置。
　前記プロセッサは、前記処置具への前記電気エネルギーの出力に関してフィードバック制御を行い、
　前記プロセッサは、前記フィードバック制御に用いられるパラメータの中のいずれか１つ以上に基づいて、前記処置対象の熱変性について判断する、
　請求項１の制御装置。
　一対の把持片の間で処置対象を把持可能なエンドエフェクタを備える処置具、及び、前記処置具に電気エネルギーを出力することにより、把持される前記処置対象を熱変性させる処置エネルギーを前記エンドエフェクタから前記処置対象に印加させるジェネレータとともに用いられる制御装置の作動方法であって、
　出力指令の受取ったことに基づいて、前記ジェネレータから前記処置具に前記電気エネルギーを出力させることと、
　前記処置エネルギーの印加に対する前記処置対象の反応を示すパラメータを取得することと、
　取得した前記パラメータに基づいて、前記出力指令を受取る前に前記処置対象が熱変性していたか否かを判断することと、
　を具備する、方法。
　前記出力指令を受取る前に前記処置対象が熱変性していたと判断した場合は、トリガーを生成することをさらに具備する、請求項１４の方法。