WO2018189839A1 - Control device - Google Patents
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- WO2018189839A1 WO2018189839A1 PCT/JP2017/015009 JP2017015009W WO2018189839A1 WO 2018189839 A1 WO2018189839 A1 WO 2018189839A1 JP 2017015009 W JP2017015009 W JP 2017015009W WO 2018189839 A1 WO2018189839 A1 WO 2018189839A1
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- A61B18/12—Surgical instruments, devices or methods for transferring non-mechanical forms of energy to or from the body by heating by passing a current through the tissue to be heated, e.g. high-frequency current
Definitions
- WO2016 / 067739A1 discloses a treatment instrument and a control device that controls the supply of electrical energy to the treatment instrument.
- an operation input element such as a button is provided, and the operation input element includes a magnet.
- the treatment instrument is provided with a sensor such as a Hall element that detects the magnetic flux density.
- the control device performs electrical energy for operating the treatment instrument. The supply to the treatment tool is started.
- a treatment instrument As a treatment instrument as shown in WO2016 / 067739A1, a treatment instrument in which the second connection body provided with the sensor is detachably attached to the first connection body provided with the operation input element and the end effector. There is. In this case, it is required that the supply of electrical energy to the treatment instrument be prevented in a state where the two connecting bodies are not properly connected.
- An object of the present invention is a control device that controls the supply of electrical energy to a treatment instrument based on the magnetic flux density of a sensor, and in a state where two connecting bodies are not properly connected in the treatment instrument. It is an object of the present invention to provide a control device in which the supply of electrical energy to the treatment tool is effectively prevented.
- an aspect of the present invention includes an operation input element including a magnet and a sensor that detects a magnetic flux density, and the operation input element is based on an operation on the operation input element.
- a control device for controlling the supply of electrical energy for operating the treatment instrument to the treatment instrument wherein the control device is used with the treatment instrument that changes the magnetic flux density at the sensor by moving together with the sensor.
- Output information from the sensor that changes corresponding to the magnetic flux density is acquired, and based on the output information from the sensor, it is determined whether or not the magnetic flux density at the sensor is within a predetermined range.
- a processor that enables the electrical energy to be supplied to the treatment instrument based at least on determining that the magnetic flux density is within the predetermined range.
- FIG. 1 is a schematic view showing a treatment system according to the first embodiment.
- FIG. 2 is a block diagram schematically showing an electrical connection state in the treatment system according to the first embodiment.
- FIG. 3 is a cross-sectional view schematically showing configurations of the first connection body and the second connection body according to the first embodiment.
- FIG. 4 is a schematic diagram illustrating an electrical connection state of a certain sensor according to the first embodiment to a processor and a sensor power supply.
- FIG. 5 is a flowchart illustrating a process performed by the processor according to the first embodiment in determining whether to permit output of electrical energy for operating the treatment instrument.
- FIG. 6 is a flowchart illustrating processing performed in the output control of electric energy for operating the treatment instrument when the processor according to the first embodiment permits output.
- FIG. 1 is a schematic view showing a treatment system according to the first embodiment.
- FIG. 2 is a block diagram schematically showing an electrical connection state in the treatment system according to the first embodiment.
- FIG. 3 is a cross-
- FIG. 7 is a schematic diagram showing the relationship between the displacement from the initial position of a certain operation button according to the first embodiment and the magnetic flux density at the corresponding sensor.
- FIG. 8 is a flowchart illustrating a process performed by the processor according to a modification of the first embodiment in determining whether to permit the output of electrical energy for operating the treatment tool.
- FIG. 1 is a diagram showing a treatment system 1 of the present embodiment.
- the treatment system 1 includes a treatment tool 2 and an energy source device 3.
- the energy source device 3 is a control device that controls the supply of electrical energy that operates the treatment tool 2 to the treatment tool 2.
- the treatment instrument 2 includes a first connection body 5 and a second connection body 6 that is detachably attached to the first connection body 5.
- the first connector 5 is discarded after the treatment instrument 2 is used.
- the second connection body 6 is cleaned and sterilized and reused.
- One end of a cable 7 is connected to the second connection body 6.
- the other end of the cable 7 is detachably connected to the energy source device 3.
- FIG. 2 is a diagram showing an electrical connection state in the treatment system 1
- FIG. 3 is a diagram showing a configuration of the first connection body 5 and the second connection body 6.
- the first connection body 5 includes a case 11 that forms an exterior, and a shaft 12 that is fixed to the case 11.
- the shaft 12 is supported by the case 11 inside the case 11, and the outer peripheral surface of the shaft 12 is covered by the case 11. Further, a space is formed between the outer peripheral surface of the shaft 12 and the inner peripheral surface of the case 11.
- the shaft 12 includes a longitudinal axis C as a central axis.
- the distal end side (arrow C1 side)
- the opposite side to the distal end side is defined as the proximal end side (arrow C2 side).
- the tip of the case 11 is located on the tip side with respect to the tip of the shaft 12.
- the case 11 is formed of two members 11A and 11B.
- a rod member (probe) 13 extends along the longitudinal axis C from the inside of the shaft 12 toward the tip side.
- the rod member 13 is supported by the case 11 and is provided substantially coaxially with the shaft 12 (longitudinal axis C).
- the rod member 13 is made of a material having conductivity and high vibration transmission properties, and is made of, for example, a titanium alloy.
- the rod member 13 passes through the inside of the case 11 (inside the member 11 ⁇ / b> A) at a portion on the tip side with respect to the tip of the shaft 12.
- the distal end portion of the rod member 13 projects from the distal end of the case 11 toward the distal end side.
- An end effector 14 for treating a treatment target is formed by a protruding portion of the rod member 13 from the case 11.
- the second connection body (base end side connection body) 6 includes a housing 15 that can be held. In a state where the second connection body 6 is attached to the first connection body 5, the housing 15 is substantially coaxial with the shaft 12 (longitudinal axis C). An ultrasonic transducer 16 extends from the proximal end side to the distal end side inside the housing 15. In a state where the second connection body 6 is attached to the first connection body 5, the ultrasonic transducer 16 is provided substantially coaxially with respect to the rod member 13 (longitudinal axis C), and the tip of the ultrasonic transducer 16 is The shaft 12 abuts on the rod member 13 from the base end side.
- the ultrasonic transducer 16 includes a piezoelectric element 17 that converts electrical energy into vibration energy, and an extending member 18 to which the piezoelectric element 17 is attached.
- a piezoelectric element 17 that converts electrical energy into vibration energy
- an extending member 18 to which the piezoelectric element 17 is attached.
- One or more piezoelectric elements 17 may be provided, and a plurality of piezoelectric elements 17 are provided in the present embodiment.
- the extending member 18 is made of a material having conductivity and high vibration transmission. In the ultrasonic transducer 16, the extending member 18 is electrically insulated from the piezoelectric element 17.
- the processor 21 is provided in the treatment instrument 2, and at least a part of the processing described below is performed by the processor 21 provided in the treatment instrument 2.
- the processor 21 provided in the treatment instrument 2 also constitutes a control device that controls the supply of electrical energy for operating the treatment instrument 2 to the treatment instrument 2.
- the storage medium 22 may be provided in the treatment instrument 2.
- the energy source device 3 includes an ultrasonic power source 23 as an output source that outputs electrical energy for operating the treatment instrument 2.
- the ultrasonic power source 23 is electrically connected to the piezoelectric element 17 via the electric paths 25A and 25B, and each of the electric paths 25A and 25B is formed from, for example, an electric wiring or the like extending inside the cable 7.
- the ultrasonic power source 23 includes a waveform generator, a conversion circuit, a transformer, and the like, and converts electric power from a battery power source, an outlet power source, or the like into, for example, AC power of any frequency within a predetermined frequency range.
- the energy source device 3 includes a high frequency power source 26 as an output source that outputs electrical energy for operating the treatment instrument 2.
- the high-frequency power source 26 is electrically connected to the end effector 14 via an electric path 27A, and is connected to a counter electrode plate 28 separate from the treatment instrument 2 via an electric path 27B.
- the electric path 27 ⁇ / b> A is formed from, for example, electric wiring extending inside the cable 7, the extending member 18 of the ultrasonic transducer 16, the rod member 13, and the like.
- the high frequency power source 26 includes a waveform generator, a conversion circuit, a transformer, and the like, and converts power from a battery power source or an outlet power source into high frequency power.
- the high frequency power supply 26 outputs the converted high frequency power through the electric paths 27A and 27B, and supplies the high frequency power to the end effector 14 and the counter electrode plate 28 as electric energy for operating the treatment instrument 2.
- the end effector 14 and the counter electrode plate 28 function as electrodes having different potentials with respect to each other.
- a high frequency current flows through the treatment object between the end effector 14 and the counter electrode plate 28, and the high frequency current is applied to the treatment object as treatment energy.
- the processor 21 controls the supply of high-frequency power (electric energy) to the end effector 14 and the counter electrode 28 by controlling the output from the high-frequency power source 26.
- a cylindrical slider member 31 is disposed on the outer peripheral surface of the shaft 12.
- the slider member 31 is movable along the longitudinal axis C with respect to the case 11 and the shaft 12.
- the slider member 31 is provided with cam pins 32 that protrude to the outer peripheral side (in the present embodiment, a plurality of cam pins 32).
- cam pins 32 may be provided.
- a cylindrical elastic member (coil spring) 33 is disposed on the outer peripheral surface of the shaft 12. A distal end (one end) of the elastic member 33 is connected to the slider member 31, and a proximal end (other end) of the elastic member 33 is connected to the shaft 12.
- a cam groove 35 (in the present embodiment) is formed on the inner peripheral surface of the housing 15.
- the cam grooves 35 are provided in the same number as the cam pins 32, and each of the cam grooves 35 is provided corresponding to one of the cam pins 32.
- Each of the cam grooves 35 extends from the proximal end side toward the distal end side while being inclined with respect to the direction along the longitudinal axis C.
- a corresponding cam pin (a corresponding one of 32) can be inserted, and a corresponding cam pin (a corresponding one of 32) can be engaged.
- connection between the two connectors 5 and 6 is connected in the same manner as the connection between the two connectors in WO2016 / 035380A1. That is, when connecting the connecting members 5 and 6, the housing 15 is inserted into the space between the shaft 12 and the case 11 from the proximal end side, and the distal end portion of the ultrasonic transducer 16 is placed inside the shaft 12. Insert from the proximal side. In the shaft 12, the tip of the ultrasonic transducer 16 is brought into contact with the proximal end of the rod member 13, and each of the cam pins 32 is inserted into the tip of the corresponding cam groove (corresponding one of 35). In this state, the connecting bodies 5 and 6 are rotated about the longitudinal axis C with respect to each other.
- each of the cam pins 32 moves in the corresponding cam groove (corresponding one of 35) from the distal end toward the proximal end side. Then, each of the cam pins 32 moves to the base end of the corresponding cam groove (corresponding one of 35), and each of the cam pins 32 is held at the base end of the corresponding cam groove (corresponding one of 35).
- the connection bodies 5 and 6 are appropriately connected.
- each of the cam pins 32 moves to the base end side through the corresponding cam groove (one corresponding to the 35), so that the slider member 31 is moved to the case 11. And it moves to the base end side with respect to the shaft 12.
- the elastic member 33 contracts, and a force acts on the shaft 12 from the elastic member 33 toward the base end side.
- the force acting on the shaft 12 from the elastic member 33 is transmitted to the rod member 13 via the case 11 (members 11A and 11B), and the force toward the proximal end acts on the rod member 13.
- the base end of the rod member 13 is moved to the ultrasonic transducer 16 by the force applied to the base end side acting on the rod member 13.
- the proximal end of the rod member 13 firmly contacts the distal end of the ultrasonic transducer 16.
- ultrasonic vibration is appropriately transmitted from the ultrasonic transducer 16 to the rod member 13.
- a substrate 40 such as a flexible substrate is provided inside the housing 15.
- sensors 41 (41A to 41C in the present embodiment) are provided on the substrate 40 (three in the present embodiment).
- Each of the sensors 41 is, for example, a Hall element, and detects the magnetic flux density B (Ba; Bb; Bc).
- the number of sensors 41 is not limited to three, and one or more sensors 41 may be provided.
- the sensor 41 and the substrate 40 are located on the proximal end side with respect to the proximal end of the shaft 12 and the elastic member 33.
- the sensor 41 is electrically connected to the processor 21 of the energy source device 3 via the electrical path 42.
- the energy source device 3 is provided with a sensor power supply 43 that outputs a current (electric energy) that operates the sensor 41.
- the sensor 41 is electrically connected to the sensor power supply 43 via the electric path 42.
- the output of current from the sensor power supply 43 to the sensor 41 is controlled by the processor 21 or the like.
- the electrical path 42 is formed by a plurality of electrical wirings extending through the inside of the housing 15 and the inside of the cable 7, and an electrical circuit on the substrate 40.
- FIG. 4 is a diagram showing an electrical connection state to one processor (for example, 41A) of the sensor 41 and the sensor power source 43.
- the sensor power supply 43 includes a power supply 45A that outputs a current for operating the sensor 41A.
- the power supply 45A is a DC power supply, for example.
- the sensor 41A is electrically connected to the power supply 45A via current paths 46A1 and 46A2 that form part of the electrical path 42.
- the processor 21 includes a voltage detection circuit 47A.
- the sensor 41A is electrically connected to the voltage detection circuit 47A via sensor output paths 48A1 and 48A2 that form part of the electrical path 42.
- the voltage detection circuit 47A may be provided separately from the processor 21.
- the processor 21 acquires the magnetic flux density Ba detected by the sensor 41A using the Hall effect generated by the sensor 41A such as a Hall element. That is, the processor 21 operates the sensor 41A by outputting a current from the power supply 45A of the sensor power supply 43 and causing the current to flow through the sensor 41A through the current paths 46A1 and 46A2.
- the sensor 41A is activated, when a magnetic field is generated in a direction perpendicular to the current passing through the current paths 46A1 and 46A2, an electromotive force is generated in the direction perpendicular to the current and perpendicular to the magnetic field due to the Hall effect.
- the voltage detection circuit 47A detects the voltage between the sensor output paths 48A1 and 48A2.
- the voltage between the sensor output paths 48A1 and 48A2 changes corresponding to the magnetic flux density Ba of the magnetic field in the sensor 41A, and the voltage is larger as the magnetic flux density Ba is larger. Therefore, the voltage detection circuit 47A of the processor 21 acquires the voltage between the sensor output paths 48A1 and 48A2 as output information from the sensor 41A that changes corresponding to the magnetic flux density Ba.
- the storage medium 22 stores a table or function indicating the relationship between the voltage between the sensor output paths 48A1 and 48A2 and the magnetic flux density Ba.
- the processor 21 calculates the magnetic flux density Ba in the sensor 41A based on the detection result in the voltage detection circuit 47A, the relationship between the stored voltage and the magnetic flux density Ba, and the like.
- the sensors 41B and 41C other than the sensor 41A are also electrically connected to the processor 21 and the sensor power source 43 in the same manner as the sensor 41A. Therefore, the treatment system 1 includes a power supply (45B; 45C) similar to the power supply 45A, a current path (46B1, 46B2; 46C1, 46C2) similar to the current paths 46A1 and 46A2, and a voltage detection circuit similar to the voltage detection circuit 47A. (47B; 47C) and sensor output paths (48B1, 48B2; 48C1, 48C2) similar to the sensor output paths 48A1, 48A2.
- the processor acquires the magnetic flux density Bb at the sensor 41B and the magnetic flux density Bc at the sensor 41C in the same manner as the magnetic flux density Ba at the sensor 41A.
- the sensors 41A to 41C may be electrically provided in parallel, and a current for operating the sensors 41A to 41C may be output to the sensors 41A to 41C from a common power source provided to the sensor power source 43.
- the case 11 (member 11 ⁇ / b> B) of the first connection body 5 is provided with a protruding piece 50 that protrudes toward the base end side.
- Operation buttons 51 three in this embodiment
- operation buttons 51 (51A to 51C in this embodiment) are movably attached to the protruding piece 50 as operation input elements.
- the protruding piece 50 and the operation button 51 are located on the proximal end side with respect to the proximal end of the shaft 12 and the elastic member 33. Further, in a state where the connection bodies 5 and 6 are appropriately connected, the protruding piece 50 and the operation button 51 are located outside the housing 15.
- each of the operation buttons 51 an operation for outputting electric energy for operating the treatment instrument 2 from the energy source device 3 (the ultrasonic power source 23 and / or the high frequency power source 26) is input by an operator or the like.
- the same number of operation buttons 51 as the sensors 41 are provided, and each of the operation buttons 51 is provided corresponding to one of the sensors 41.
- Each of the operation buttons 51 includes a magnet (a corresponding one of 52) that generates a magnetic field.
- Each of the magnets 52 52A to 52C in the present embodiment
- each of the operation buttons 51 When each of the operation buttons 51 is pressed by an operation input, each of the operation buttons 51 moves together with a corresponding magnet (a corresponding one of 52). Further, each of the operation buttons 51 has an initial position Pe (Pae; Pbe; Pce) and a maximum displacement position where the displacement D (Da; Db; Dc) from the initial position Pe becomes the maximum value Dmax (Damax; Dbmax; Dcmax). It can move between Pd (Pad; Pbd; Pcd). That is, the position P (Pa; Pb; Pc) of the operation button 51 with respect to each case 11 can be changed between the initial position Pe (position where the displacement D becomes zero) and the maximum displacement position Pd.
- Each of the operation buttons 51 is located at the initial position Pe when no operation input is performed, that is, when the operation button 51 is not pressed.
- each of the sensors 41 sandwiches the housing 15 and has a corresponding operation button (a corresponding one of 51) and a corresponding magnet (a corresponding one of 52). Two). Accordingly, when the connection bodies 5 and 6 are appropriately connected, that is, when the connection bodies 5 and 6 are attached to each other at a predetermined position, each of the sensors 41 has a corresponding operation button (51 Are arranged in a predetermined positional relationship. At this time, since the housing 15 is provided between each of the sensors 41 and the corresponding operation button (one corresponding to 51), each sensor 41 corresponds to each corresponding operation button (one corresponding to 51). Do not contact with. Therefore, the sensor 41 is a non-contact type sensor.
- the corresponding operation button (corresponding one of 51) moves together with the magnet (corresponding one of 52) based on the operation, so that the magnet corresponding to each of the sensors 41 (corresponding one of 52).
- the magnetic flux density B (Ba; Bb; Bc) in each of the sensors 41 changes.
- the processor 21 determines whether or not electrical energy for operating the treatment instrument 2 can be output (supplied) from the energy source device 3 to the treatment instrument 2. to decide.
- the processor 21 determines from the energy source device 3 of the electrical energy that operates the treatment instrument 2 based on the magnetic flux density B of the sensor 41 to the treatment instrument 2. Controls the output (supply) to
- the second connection body 6 is connected to the energy source device 3 via the cable 7. Then, a current is supplied from the sensor power supply 43 to each of the sensors 41 to operate the sensors 41. Further, the connection bodies 5 and 6 are connected. Then, the end effector 14 is disposed in the vicinity of the treatment target in a state where the counter electrode plate 28 is attached to the subject (human body). In the treatment, before the end effector 14 disposed in the vicinity of the treatment target is brought into contact with the treatment target, it is determined whether or not the electric energy for operating the treatment instrument 2 can be output, that is, the output permission of the electric energy is permitted.
- FIG. 5 is a flowchart showing processing performed by the processor 21 in the determination of the output permission of electric energy for operating the treatment instrument 2.
- the determination of the output permission in FIG. 5 is performed in a state in which the electric energy for operating the treatment instrument 2 cannot be output from the energy source device 3.
- the processor 21 acquires the magnetic flux density Br in a specific one of the sensors 41 (41A to 41C) (S101).
- the magnetic flux density Br is a specific one of the magnetic flux densities Ba to Bc.
- the magnetic flux density Ba is the magnetic flux density Br.
- the magnetic flux density Bb is the magnetic flux density Br
- the magnetic flux density Bc is the magnetic flux density Br.
- the processor 21 determines whether or not the magnetic flux density Br is within a predetermined range not less than the lower limit value Brs1 and not more than the upper limit value Brs2 (S102).
- the magnetic flux density Br (a specific one of Ba to Bc) is The processor 21 sets the predetermined range so that it falls within the predetermined range. That is, when the connecting members 5 and 6 are attached to each other at a predetermined position and no operation is input by the operation button 51, the magnetic flux density Br is within a predetermined range.
- the connection bodies 5 and 6 are located at positions different from the predetermined positions with respect to each other, such as when the connection bodies 5 and 6 are not properly attached to each other, an operation is input with the operation button 51. In a state where the magnetic flux density is not, the magnetic flux density Br deviates from a predetermined range.
- the magnetic flux density is obtained when each of the sensors 41 is arranged in a predetermined positional relationship with respect to the corresponding operation button (one corresponding to 51).
- the magnetic flux density Br deviates from the predetermined range. Therefore, based on whether or not the magnetic flux density Br is within a predetermined range, the processor 21 determines whether or not the connecting members 5 and 6 are appropriately attached to each other, that is, each of the sensors 41 corresponds. It is possible to determine whether or not the operation button (one corresponding to 51) is arranged in a predetermined positional relationship.
- each of the lower limit value Brs1 and the upper limit value Brs2 is a fixed value.
- the processor 21 sets the determination parameter ⁇ to 0 (S103). In the present embodiment, when the determination parameter ⁇ is set to 0, the output permission determination ends. On the other hand, when the magnetic flux density Br is out of the predetermined range, that is, when the magnetic flux density Br is smaller than the lower limit value Brs1 or larger than the upper limit value Brs2 (S102-No), the processor 21 ends the determination. Is determined (S104).
- the energy source device 3 is provided with a setting unit such as a touch panel or a button, and is switched from a state in which the above determination is made to a state in which the above determination is not performed by an operation of the operator or the like in the setting unit. It is done. Then, the processor 21 determines to end the determination based on the operation in the setting unit. In another embodiment, the processor 21 ends the above-described determination when a predetermined time has elapsed from the start of operation of the sensor 41.
- a setting unit such as a touch panel or a button
- the process returns to S101, and the processes after the processor 21 and S101 are sequentially performed.
- the processor 21 sets the determination parameter ⁇ to 1 (S105). Therefore, the determination parameter ⁇ is set to 1 when the magnetic flux density Br continues out of the predetermined range until the end of the determination.
- the set determination parameter ⁇ is stored in the storage medium 22, for example.
- the processor 21 permits the output (supply) of the electrical energy for operating the treatment tool 2 to the treatment tool 2. Therefore, the energy source device 3 is in a state in which electrical energy can be output based on an operation with any of the operation buttons 51. That is, the processor 21 can output electric energy from at least one of the ultrasonic power source 23 and the high frequency power source 26 and can supply electric energy to the treatment instrument 2.
- the processor 21 prohibits the output (supply) of the electrical energy that operates the treatment tool 2 to the treatment tool 2. Therefore, the energy source device 3 is in a state where it cannot output electrical energy regardless of the operation with the operation button 51. In this case, even if the operation button 51 is operated, no electrical energy is output from the ultrasonic power source 23 and the high frequency power source 26, and the electrical energy for operating the treatment instrument 2 is not supplied to the treatment instrument 2.
- the treatment system 1 is provided with a warning unit such as a lamp, a display screen, or a buzzer. If it is determined that the output is prohibited, the processor 21 operates the warning unit to give a warning.
- FIG. 6 is a flowchart showing a process performed by the processor 21 in the output control of electric energy for operating the treatment instrument 2 when the output is permitted, that is, when the determination parameter ⁇ is set to 0.
- the output control shown in FIG. 6 is performed only when it is determined in S102 of FIG. 5 that the magnetic flux density Br is within a predetermined range.
- the processor 21 determines that the magnetic flux density Ba is equal to or less than the threshold value (first threshold value) Bath1 at the start of the process or immediately after the start. Then, it is acquired that the magnetic flux density Bb is equal to or less than a threshold value (first threshold value) Bbth1 and the magnetic flux density Bc is equal to or less than a threshold value (first threshold value) Bcth1 (S111). That is, the processor 21 acquires that all the magnetic flux densities Ba to Bc are equal to or less than the corresponding threshold value (Bath1; Bbth1; Bcth1).
- the processor 21 acquires the magnetic flux density B (Ba to Bc) for all the sensors 41 (41A to 41C) (S112). As a result, each time-dependent change in the magnetic flux densities Ba to Bc from the state where all the magnetic flux densities Ba to Bc acquired in S111 are equal to or less than the corresponding threshold value (Bath1; Bbth1; Bcth1) is detected.
- any one is set as the magnetic flux density B1
- any one other than the magnetic flux density Bl is set as the magnetic flux density Bm
- one other than the magnetic flux densities Bl and Bm is set as the magnetic flux.
- the density is Bn.
- the processor 21 determines that the magnetic flux density B1 is greater than the threshold value (first threshold value) Bth1 and the magnetic flux density Bm is equal to or less than the threshold value (first threshold value) Bmth1.
- the processor 21 determines whether or not only the magnetic flux density Bl, which is any one of the magnetic flux densities Ba to Bc, has changed from the state acquired in S111 to a state where it is greater than the threshold value Blth1.
- Each of the threshold values Blth1 to Bnth1 corresponds to a corresponding one of the threshold values Bath1 to Bcth1.
- the threshold values Bath1 to Bcth1 may be the same value with respect to each other or may be different values with respect to each other. Further, the processor 21 sets each of the threshold values (first threshold values) Path1 to Bcth1 to a value larger than the upper limit value Brs2 of the predetermined range.
- Each of the threshold values Bath1 to Bcth1 may be a fixed value, and the displacement D (Da; Db; Dc) and the magnetic flux density B (Ba;) from the initial position Pe (Pae; Pbe; Pce) of the operation button 51. Bb; Bc) may be set based on the relationship.
- each of the threshold values Bath1 to Bcth1 is a predetermined value ⁇ 1 for the magnetic flux density Be (Bae; Bbe; Bce) in a state where the corresponding operation button (one corresponding to 51) is located at the initial position Pe. It is set to a value obtained by adding ( ⁇ a1; ⁇ b1; ⁇ c1).
- the processor 21 starts output of the electrical energy for operating the treatment instrument 2 from the energy source device 3 to the treatment instrument 2. (S114). That is, the processor 21 outputs electric energy from at least one of the ultrasonic power source 23 and the high frequency power source 26 and supplies the electric energy to the treatment instrument 2. Thereby, as described above, ultrasonic vibration and / or high-frequency current is applied to the treatment target. Then, the processor 21 acquires the magnetic flux density B1 (S115).
- the output is performed in the output mode corresponding to the magnetic flux density Bl changed to a state larger than the threshold value Blth1.
- the processor 21 performs output in the first output mode
- the magnetic flux density Bb is the threshold value.
- the processor 21 performs output in a second output mode different from the first output mode.
- the processor 21 differs from the first output mode and the second output mode.
- the output is performed in the output mode 3.
- the output state of the electric energy from the energy source device 3 is different for each output mode. That is, the necessity and / or output level of the output from at least one of the ultrasonic power source 23 and the high frequency power source 26 differs for each output mode.
- the energy source device 3 is provided with an output setting unit such as a touch panel. Then, in the output setting unit, necessity and output level of output from each of the ultrasonic power source 23 and the high frequency power source 26 are set for each output mode.
- the processor 21 does not change the magnetic flux density even if either the magnetic flux density Bm or Bn changes to a state larger than the threshold (Bmth1; Bnth1). Output continues in the output mode corresponding to Bl. That is, the processor 21 outputs electric energy in the output mode corresponding to the magnetic flux density B1 that has changed to a state larger than the corresponding threshold value Bth1 among the magnetic flux densities Ba to Bc.
- the processor 21 determines whether or not the magnetic flux density Bl acquired in S115 is equal to or less than a threshold value (second threshold value) Blth2 (S116).
- the threshold value Blth2 corresponds to a corresponding one of the threshold values (second threshold values) Bath2 to Bcth2, and in S116, the magnetic flux density B1 determined to have changed to a state larger than the threshold value Blth1 in S113 is determined.
- the threshold values Bath2 to Bcth2 may be the same value with respect to each other or may be different values with respect to each other.
- the processor 21 sets each of the threshold values Bath2 to Bcth2 to a value smaller than the aforementioned threshold value (Bath1; Bbth1; Bcth1).
- the processor 21 sets each of the thresholds Bath2 to Bcth2 to a value larger than the upper limit value Brs2 of the predetermined range.
- Each of the thresholds Bath2 to Bcth2 may be a fixed value, and the displacement D (Da; Db; Dc) and the magnetic flux density B (Ba;) from the initial position Pe (Pae; Pbe; Pce) of the operation button 51.
- Bb; Bc) may be set based on the relationship.
- each of the threshold values Bath2 to Bcth2 has a predetermined value ⁇ 1 ( ⁇ a1; ⁇ b1; ⁇ c1) for the magnetic flux density Be (Bae; Bbe; Bce) in a state where the corresponding operation button 51 is located at the initial position Pe. It is set to a value obtained by adding a smaller predetermined value ⁇ 2 ( ⁇ a2; ⁇ b2; ⁇ c2).
- the process returns to S114, and the processor 21 sequentially performs the processes after S114. At this time, the output from the energy source device 3 of the electric energy that operates the treatment instrument 2 is continued. While the processes of S114 to S116 are repeatedly performed, the processor 21 determines whether the magnetic flux densities Bm and Bn have changed to a state where the magnetic flux densities Bm and Bn are larger than the corresponding threshold values (Bmth1; Bnth1). Electric energy is output in an output mode corresponding to the density B1.
- the processor 21 stops the output of the electrical energy from the energy source device 3 for operating the treatment instrument 2 to the treatment instrument 2 (S117). Thereby, supply to the treatment tool 2 of the electrical energy which operates the treatment tool 2 is stopped.
- FIG. 7 is a diagram showing the relationship between the position Pa (displacement Da from the initial position Pae) of the one operation button 51A with respect to the case 11 and the magnetic flux density Ba at the corresponding sensor 41A.
- the magnetic flux density Ba becomes the above-described magnetic flux density Br.
- the horizontal axis indicates the position Pa
- the vertical axis indicates the magnetic flux density Ba.
- a relationship is shown about each of state X1, X2.
- the connectors 5 and 6 are appropriately attached to each other, and each of the sensors 41 is arranged in a predetermined positional relationship with respect to the corresponding operation button (the corresponding one of 51).
- the connectors 5 and 6 are not properly attached to each other, and each of the sensors 41 is not arranged in a predetermined positional relationship with the corresponding operation button (one corresponding to 51).
- the relationship in the state X1 is indicated by a solid line, and the relationship in the state X2 is indicated by a broken line.
- the magnetic flux density (Bad1; Bad2) at the sensor 41A is larger than the threshold value Bath1 when the operation button 51A is located at the maximum displacement position Pad. Therefore, even when the connectors 5 and 6 are not properly connected to each other, the magnetic flux density Ba is set to the threshold value Bath1 while the operation button 51A moves from the initial position Pae to the maximum displacement position Pad as in the state X2. The following state may be switched to a state larger than the threshold value Bath1.
- the determination parameter ⁇ is set to 1 by the process of S105, and the output (supply) of the electrical energy for operating the treatment tool 2 to the treatment tool 2 is prohibited. Therefore, in the state X2, even when the operation button 51A is moved toward the maximum displacement position Pad and the magnetic flux density Ba becomes larger than the threshold value Bath1, electric energy for operating the treatment tool 2 is not supplied to the treatment tool 2.
- the magnetic flux density Bae1 at the sensor 41A is within a predetermined range that is not less than the lower limit value Bas1 and not more than the upper limit value Bas2.
- the determination parameter ⁇ is set to 0 by the process of S103, and the output (supply) of the electrical energy for operating the treatment tool 2 to the treatment tool 2 is permitted. Therefore, in the state X1, when the operation button 51A is moved toward the maximum displacement position Pad and the magnetic flux density Ba becomes larger than the threshold value Bath1, electric energy for operating the treatment instrument 2 is supplied to the treatment instrument 2, and the high-frequency current is supplied.
- electrical energy for operating the treatment instrument 2 can be supplied to the treatment instrument 2 only when the connecting members 5 and 6 are appropriately attached (at predetermined positions) to each other. That is, the treatment instrument 2 can be operated only when each of the sensors 41 is arranged in a predetermined positional relationship with the corresponding operation button (one corresponding to 51). Since the treatment instrument 2 can be operated only when the connecting members 5 and 6 are appropriately attached to each other, the treatment instrument 2 appropriately performs treatment using treatment energy such as high-frequency current and / or ultrasonic vibration. Is called.
- the processor 21 performs the process shown in FIG. 8 in determining whether to permit the output of electrical energy for operating the treatment instrument 2.
- the magnetic flux densities Ba to Bc in all the sensors 41 are acquired (S121). At this time, the magnetic flux densities Ba to Bc are obtained at the same time with respect to each other.
- the processor 21 determines that the acquired magnetic flux densities Ba to Bc are within a predetermined range where the magnetic flux density Ba is not less than the lower limit value Bas1 and not more than the upper limit value Bas2, and the magnetic flux density Bb is lower limit.
- the magnetic flux density (Ba; Bb; Bc) in each of all the sensors 41A to 41C is the same as the magnetic flux density (two corresponding to Ba to Bc) in the other sensors (two corresponding to 41A to 41C). At the same time, it is determined whether or not it is within a corresponding predetermined range.
- each of the lower limit values Bas1, Bbs1, Bcs1 and the upper limit values Bas2, Bbs2, Bcs2 is a fixed value.
- the lower limit values Bas1, Bbs1, and Bcs1 may be the same value with respect to each other, or may be different values with respect to each other.
- the upper limit values Bas2, Bbs2, and Bcs2 may be the same value with respect to each other, or may be different values with respect to each other. Therefore, the predetermined range described above may be the same range for all the magnetic flux densities Ba to Bc, or may be different for each magnetic flux density Ba to Bc.
- the same operation and effect as the first embodiment are exhibited.
- the magnetic flux density (Ba) of a certain sensor for example, 41A
- the magnetic flux density (Bb; Bc) of other sensors for example, 41B and 41C.
- the treatment is performed regardless of the operation with the operation button 51. Electric energy for operating the instrument 2 is not supplied to the treatment instrument 2. Therefore, in this modification, it is also effectively prevented that the treatment instrument 2 is operated by the electric energy from the energy source device 3 due to an external factor such as an external magnetic field in a state where the connecting members 5 and 6 are not properly connected. Is done.
- the number of sensors 41 may be one or two, or four or more.
- the processor 21 has the same configuration as that of the above-described embodiment and the like, and the processor 21 performs the same processing as that of the above-described embodiment. Then, by performing the same processing as in the above-described embodiment, the same operations and effects as in the above-described embodiment and the like are exhibited regardless of the number of sensors 41.
- a high-frequency current and / or ultrasonic vibration is applied to the treatment target by supplying electric energy for operating the treatment tool 2 to the treatment tool 2, but the present invention is not limited to this. Absent.
- the end effector 14 is provided with a heater, and electric energy for operating the treatment instrument 2 is supplied from the energy source device 3 to the heater. Then, by supplying electric energy to the heater, heater heat is applied to the treatment target.
- the processor (21) acquires output information from the sensor (41) that changes corresponding to the magnetic flux density (B) at the sensor (41), and outputs information from the sensor (41). Based on the above, it is determined whether or not the magnetic flux density (B) at the sensor (41) is within a predetermined range. Then, the processor (21) makes it possible to supply the treatment tool (2) with electrical energy for operating the heel and the treatment tool (2) based on at least the determination that the magnetic flux density (B) is within the predetermined range. .
- the present invention is not limited to the above-described embodiment, and various modifications can be made without departing from the scope of the invention in the implementation stage.
- the embodiments may be appropriately combined as much as possible, and in that case, the combined effect can be obtained.
- the above embodiments include inventions at various stages, and various inventions can be extracted by appropriately combining a plurality of disclosed constituent elements.
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Abstract
Description
本発明は、センサでの磁束密度に基づいて処置具への電気エネルギーの供給を制御する制御装置に関する。 This invention relates to the control apparatus which controls supply of the electrical energy to a treatment tool based on the magnetic flux density in a sensor.
WO2016/067739A1には、処置具、及び、処置具への電気エネルギーの供給を制御する制御装置が開示されている。この処置具では、ボタン等の操作入力子が設けられ、操作入力子は磁石を備える。また、処置具には、磁束密度を検知するホール素子等のセンサが設けられる。操作入力子での操作に基づいて操作入力子が移動することにより、磁石とセンサとの間の距離が変化し、センサでの磁束密度が変化する。そして、操作入力子での操作によってセンサでの磁束密度が第1の閾値以下の状態から第1の閾値より大きい状態に切替わったことに基づいて、制御装置は、処置具を作動させる電気エネルギーの処置具への供給を開始させる。処置具に電気エネルギーが供給されることにより、エンドエフェクタは高周波電流及び/又は超音波振動等の処置エネルギーを処置対象に付与し、処置対象を処置する。また、処置具へ電気エネルギーが供給されている状態では、操作入力子での操作によってセンサでの磁束密度が第2の閾値より大きい状態から第2の閾値以下の状態に切替わったことに基づいて、処置具への電気エネルギーの供給を停止させる。第1の閾値は、第2の閾値より大きく、第1の閾値及び第2の閾値のそれぞれは、固定値である。 WO2016 / 067739A1 discloses a treatment instrument and a control device that controls the supply of electrical energy to the treatment instrument. In this treatment instrument, an operation input element such as a button is provided, and the operation input element includes a magnet. Further, the treatment instrument is provided with a sensor such as a Hall element that detects the magnetic flux density. When the operation input element moves based on the operation with the operation input element, the distance between the magnet and the sensor changes, and the magnetic flux density at the sensor changes. Then, based on the fact that the magnetic flux density at the sensor is switched from the state below the first threshold value to the state above the first threshold value by the operation with the operation input, the control device performs electrical energy for operating the treatment instrument. The supply to the treatment tool is started. When electric energy is supplied to the treatment tool, the end effector applies treatment energy such as high-frequency current and / or ultrasonic vibration to the treatment target, and treats the treatment target. Further, in a state where electric energy is supplied to the treatment instrument, the magnetic flux density at the sensor is switched from a state larger than the second threshold value to a state below the second threshold value by an operation with the operation input element. Then, the supply of electrical energy to the treatment instrument is stopped. The first threshold value is larger than the second threshold value, and each of the first threshold value and the second threshold value is a fixed value.
WO2016/067739A1に示すような処置具として、前述の操作入力子及びエンドエフェクタが設けられる第1の接続体に、前述のセンサが設けられる第2の接続体を分離可能に取付けて使用する処置具がある。この場合、2つの接続体の間が適切に接続されていない状態において、処置具への電気エネルギーの供給が防止されることが、求められる。 As a treatment instrument as shown in WO2016 / 067739A1, a treatment instrument in which the second connection body provided with the sensor is detachably attached to the first connection body provided with the operation input element and the end effector. There is. In this case, it is required that the supply of electrical energy to the treatment instrument be prevented in a state where the two connecting bodies are not properly connected.
本発明の目的とするところは、センサでの磁束密度に基づいて処置具への電気エネルギーの供給を制御する制御装置であって、処置具において2つの接続体が適切に接続されていない状態での処置具への電気エネルギーの供給が有効に防止される制御装置を提供することにある。 An object of the present invention is a control device that controls the supply of electrical energy to a treatment instrument based on the magnetic flux density of a sensor, and in a state where two connecting bodies are not properly connected in the treatment instrument. It is an object of the present invention to provide a control device in which the supply of electrical energy to the treatment tool is effectively prevented.
前記目的を達成するため、本発明のある態様は、磁石を備える操作入力子と、磁束密度を検知するセンサと、を備え、前記操作入力子での操作に基づいて前記操作入力子が前記磁石とともに移動することにより、前記センサでの前記磁束密度が変化する処置具とともに用いられ、前記処置具を作動させる電気エネルギーの前記処置具への供給を制御する制御装置であって、前記センサでの前記磁束密度に対応して変化する前記センサからの出力情報を取得し、前記センサからの前記出力情報に基づいて、前記センサでの前記磁束密度が所定の範囲内であるか否かを判断し、前記磁束密度が前記所定の範囲内であると判断したことに少なくとも基づいて、前記処置具へ前記電気エネルギーを供給可能にする、プロセッサを備える In order to achieve the above object, an aspect of the present invention includes an operation input element including a magnet and a sensor that detects a magnetic flux density, and the operation input element is based on an operation on the operation input element. A control device for controlling the supply of electrical energy for operating the treatment instrument to the treatment instrument, wherein the control device is used with the treatment instrument that changes the magnetic flux density at the sensor by moving together with the sensor. Output information from the sensor that changes corresponding to the magnetic flux density is acquired, and based on the output information from the sensor, it is determined whether or not the magnetic flux density at the sensor is within a predetermined range. A processor that enables the electrical energy to be supplied to the treatment instrument based at least on determining that the magnetic flux density is within the predetermined range.
(第1の実施形態)
本発明の第1の実施形態について、図1乃至図7を参照して説明する。
(First embodiment)
A first embodiment of the present invention will be described with reference to FIGS.
図1は、本実施形態の処置システム1を示す図である。図1に示すように、処置システム1は、処置具2と、エネルギー源装置3と、を備える。本実施形態では、エネルギー源装置3は、処置具2を作動させる電気エネルギーの処置具2への供給を制御する制御装置である。処置具2は、第1の接続体5と、第1の接続体5に分離可能に取付けられる第2の接続体6と、を備える。ある実施例では、第1の接続体5は、処置具2の使用後に、廃棄される。そして、第2の接続体6は、処置具2の使用後において、洗浄及び滅菌等され、再利用される。第2の接続体6には、ケーブル7の一端が接続される。ケーブル7の他端は、エネルギー源装置3に分離可能に接続される。
FIG. 1 is a diagram showing a
図2は、処置システム1での電気的な接続状態を示す図であり、図3は、第1の接続体5及び第2の接続体6の構成を示す図である。図1及び図3に示すように、第1の接続体5は、外装を形成するケース11と、ケース11に固定されるシャフト12と、を備える。シャフト12は、ケース11の内部でケース11によって支持され、シャフト12の外周面はケース11によって覆われる。また、シャフト12の外周面とケース11の内周面との間には、空間が形成される。シャフト12は、中心軸として長手軸Cを備える。ここで、長手軸Cに沿う方向の一方側を先端側(矢印C1側)とし、先端側とは反対側を基端側(矢印C2側)とする。ケース11の先端は、シャフト12の先端に対して、先端側に位置する。本実施形態では、ケース11は、2つの部材11A,11Bから形成される。
FIG. 2 is a diagram showing an electrical connection state in the
第1の接続体(先端側接続体)5では、シャフト12の内部から先端側に向かって、ロッド部材(プローブ)13が長手軸Cに沿って延設される。本実施形態では、ロッド部材13は、ケース11によって支持され、シャフト12(長手軸C)に対して略同軸に設けられる。また、ロッド部材13は、導電性を有し、かつ、振動伝達性の高い材料から形成され、例えば、チタン合金等から形成される。ロッド部材13は、シャフト12の先端に対して先端側の部位において、ケース11の内部(部材11Aの内部)を通過する。そして、ロッド部材13の先端部は、ケース11の先端から先端側に向かって突出する。ロッド部材13のケース11からの突出部分によって、処置対象を処置するエンドエフェクタ14が、形成される。
In the first connection body (tip-side connection body) 5, a rod member (probe) 13 extends along the longitudinal axis C from the inside of the
第2の接続体(基端側接続体)6は、保持可能なハウジング15を備える。第1の接続体5に第2の接続体6が取付けられた状態では、ハウジング15は、シャフト12(長手軸C)に対して略同軸になる。ハウジング15の内部には、超音波トランスデューサ16が基端側から先端側へ延設される。第1の接続体5に第2の接続体6が取付けられた状態では、超音波トランスデューサ16は、ロッド部材13(長手軸C)に対して略同軸に設けられ、超音波トランスデューサ16の先端は、シャフト12の内部においてロッド部材13に基端側から当接する。超音波トランスデューサ16は、電気エネルギーを振動エネルギーに変換する圧電素子17と、圧電素子17が取付けられる延設部材18と、を備える。圧電素子17は、1つ以上設けられればよく、本実施形態では、複数設けられる。また、延設部材18は、導電性を有し、かつ、振動伝達性の高い材料から形成される。超音波トランスデューサ16では、延設部材18は圧電素子17に対して電気的に絶縁される。
The second connection body (base end side connection body) 6 includes a
図2に示すように、制御装置であるエネルギー源装置3は、プロセッサ(コントローラ)21及び記憶媒体22を備える。プロセッサ21は、CPU(Central Processing Unit)、ASIC(Application Specific Integrated Circuit)又はFPGA(Field Programmable Gate Array)等を含む集積回路等から形成される。プロセッサ21は、エネルギー源装置3において1つのみ設けられてもよく、エネルギー源装置3において複数設けられてもよい。プロセッサ21での処理は、プロセッサ21又は記憶媒体22に記憶されたプログラムに従って行われる。また、記憶媒体22には、プロセッサ21で用いられる処理プログラム、及び、プロセッサ21での演算で用いられるパラメータ、関数及びテーブル等が記憶される。なお、ある実施例では、プロセッサ21が処置具2に設けられ、後述する処理の少なくとも一部が、処置具2に設けられるプロセッサ21によって、行われる。この場合、処置具2に設けられるプロセッサ21も、処置具2を作動させる電気エネルギーの処置具2への供給を制御する制御装置を、構成する。また、この場合、処置具2に記憶媒体22が設けられてもよい。
As shown in FIG. 2, the energy source device 3 as a control device includes a processor (controller) 21 and a
エネルギー源装置3は、処置具2を作動させる電気エネルギーを出力する出力源として超音波電源23を備える。超音波電源23は、電気経路25A,25Bを介して圧電素子17に電気的に接続され、電気経路25A,25Bのそれぞれは、例えば、ケーブル7の内部に延設される電気配線等から形成される。超音波電源23は、波形生成器、変換回路及び変圧器等を備え、バッテリー電源又はコンセント電源等からの電力を例えば所定の周波数範囲のいずれかの周波数の交流電力に変換する。そして、超音波電源23は、変換した交流電力を電気経路25A,25Bを通して出力し、処置具2を作動させる電気エネルギーとして交流電力を圧電素子17(超音波トランスデューサ16)に供給する。これにより、圧電素子17は、電気エネルギーを振動エネルギーに変換し、圧電素子17で超音波振動が発生する。第1の接続体5に第2の接続体6が適切に取付けられた状態では、圧電素子17で発生した超音波振動は、超音波トランスデューサ16からロッド部材13を通してエンドエフェクタ14に伝達される。そして、伝達された超音波振動が、エンドエフェクタ14から処置対象に処置エネルギーとして付与される。プロセッサ21は、超音波電源23からの出力を制御することにより、圧電素子17への交流電力(電気エネルギー)の供給を制御する。
The energy source device 3 includes an ultrasonic power source 23 as an output source that outputs electrical energy for operating the
また、エネルギー源装置3は、処置具2を作動させる電気エネルギーを出力する出力源として高周波電源26を備える。高周波電源26は、電気経路27Aを介してエンドエフェクタ14に電気的に接続されるとともに、電気経路27Bを介して処置具2とは別体の対極板28に接続される。電気経路27Aは、例えば、ケーブル7の内部に延設される電気配線、超音波トランスデューサ16の延設部材18及びロッド部材13等から形成される。高周波電源26は、波形生成器、変換回路及び変圧器等を備え、バッテリー電源又はコンセント電源等からの電力を高周波電力に変換する。そして、高周波電源26は、変換した高周波電力を電気経路27A,27Bを通して出力し、処置具2を作動させる電気エネルギーとして高周波電力をエンドエフェクタ14及び対極板28に供給する。これにより、エンドエフェクタ14及び対極板28は、互いに対して電位の異なる電極として機能する。エンドエフェクタ14及び対極板28が電極として機能することにより、エンドエフェクタ14と対極板28との間で処置対象を通して高周波電流が流れ、高周波電流が、処置対象に処置エネルギーとして付与される。プロセッサ21は、高周波電源26からの出力を制御することにより、エンドエフェクタ14及び対極板28への高周波電力(電気エネルギー)の供給を制御する。
Further, the energy source device 3 includes a high
図3に示すように、第1の接続体5では、シャフト12の外周面に筒状のスライダ部材31が配置される。スライダ部材31は、ケース11及びシャフト12に対して長手軸Cに沿って移動可能である。スライダ部材31には、外周側へ突出する(本実施形態では複数の)カムピン32が設けられる。カムピン32は、1つ以上設けられていればよい。シャフト12の外周面には、筒状の弾性部材(コイルバネ)33が配置される。弾性部材33の先端(一端)は、スライダ部材31に接続され、弾性部材33の基端(他端)は、シャフト12に接続される。また、第2の接続体6では、ハウジング15の内周面に、(本実施形態では複数の)カム溝35が形成される。カム溝35は、カムピン32と同一の数設けられ、カム溝35のそれぞれは、カムピン32の1つに対応して設けられる。カム溝35のそれぞれは、長手軸Cに沿う方向に対して傾斜する状態で、基端側から先端側へ向かって延設される。カム溝35のそれぞれには、対応するカムピン(32の対応する1つ)を挿入可能であり、対応するカムピン(32の対応する1つ)が係合可能である。
As shown in FIG. 3, in the
本実施形態では、2つの接続体5,6の間は、WO2016/035380A1での2つの接続体の間の接続と同様にして、接続される。すなわち、接続体5,6の間を接続する際には、ハウジング15をシャフト12とケース11との間の空間に基端側から挿入するとともに、超音波トランスデューサ16の先端部をシャフト12の内部に基端側から挿入する。そして、シャフト12の内部において、超音波トランスデューサ16の先端をロッド部材13の基端に接触させるとともに、カムピン32のそれぞれを対応するカム溝(35の対応する1つ)の先端に挿入する。この状態で、接続体5,6を、互いに対して長手軸Cの軸回りに回転する。これにより、カムピン32のそれぞれは、対応するカム溝(35の対応する1つ)を先端から基端側へ向かって移動する。そして、カムピン32のそれぞれが対応するカム溝(35の対応する1つ)の基端まで移動し、カムピン32のそれぞれを対応するカム溝(35の対応する1つ)の基端で保持することにより、接続体5,6の間が適切に接続される。
In the present embodiment, the connection between the two
接続体5,6の間の接続においては、前述のようにカムピン32のそれぞれが対応するカム溝(35の対応する1つ)を基端側に移動することにより、スライダ部材31は、ケース11及びシャフト12に対して基端側へ移動する。これにより、弾性部材33が収縮し、弾性部材33からシャフト12に基端側へ力が作用する。弾性部材33からシャフト12に作用した力は、ケース11(部材11A,11B)を介してロッド部材13に伝達され、ロッド部材13に基端側への力が作用する。このため、第1の接続体5に第2の接続体6が適切に取付けられた状態では、ロッド部材13に作用する基端側への力によって、ロッド部材13の基端が超音波トランスデューサ16の先端に強く押付けられ、ロッド部材13の基端が超音波トランスデューサ16の先端に強固に当接する。ロッド部材13が超音波トランスデューサ16に先端側から強固に当接することにより、超音波トランスデューサ16からロッド部材13に超音波振動が適切に伝達される。
In the connection between the connecting
図1に示すように、第2の接続体6では、ハウジング15の内部にフレキシブル基板等の基板40が設けられる。そして、基板40上に、(本実施形態では3つの)センサ41(本実施形態では41A~41C)が設けられる。センサ41のそれぞれは、例えば、ホール素子であり、磁束密度B(Ba;Bb;Bc)を検知する。なお、センサ41の数は、3つに限るものではなく、センサ41は1つ以上設けられればよい。接続体5,6の間が接続された状態では、センサ41及び基板40は、シャフト12の基端及び弾性部材33に対して基端側に位置する。センサ41は、電気経路42を介して、エネルギー源装置3のプロセッサ21に電気的に接続される。また、エネルギー源装置3には、センサ41を作動させる電流(電気エネルギー)を出力するセンサ電源43が、設けられる。センサ41は、電気経路42を介して、センサ電源43に電気的に接続される。センサ電源43からセンサ41への電流の出力は、プロセッサ21等によって制御される。なお、電気経路42は、ハウジング15の内部及びケーブル7の内部を通って延設される複数の電気配線、及び、基板40上の電気回路等によって、形成される。
As shown in FIG. 1, in the second connection body 6, a
図4は、センサ41のある1つ(例えば41A)のプロセッサ21及びセンサ電源43への電気的な接続状態を示す図である。図4に示すように、センサ電源43は、センサ41Aを作動させる電流を出力する電源45Aを備える。電源45Aは、例えば直流電源である。センサ41Aは、電気経路42の一部を形成する電流経路46A1,46A2を介して、電源45Aに電気的に接続される。また、プロセッサ21は、電圧検出回路47Aを備える。センサ41Aは、電気経路42の一部を形成するセンサ出力経路48A1,48A2を介して、電圧検出回路47Aに電気的に接続される。なお、ある実施例では、電圧検出回路47Aは、プロセッサ21とは別体で設けられてもよい。
FIG. 4 is a diagram showing an electrical connection state to one processor (for example, 41A) of the
本実施形態では、ホール素子等であるセンサ41Aで発生するホール効果を利用して、プロセッサ21は、センサ41Aが検知した磁束密度Baを取得する。すなわち、プロセッサ21は、センサ電源43の電源45Aから電流を出力させ、電流経路46A1,46A2を通してセンサ41Aに電流を流すことにより、センサ41Aを作動させる。センサ41Aが作動した状態では、電流経路46A1,46A2を通る電流に垂直な方向に磁場が発生すると、ホール効果によって、電流に垂直、かつ、磁場に垂直な方向に起電力が発生する。起電力が発生することにより、センサ41Aからセンサ出力経路48A1,48A2に電気エネルギー(電圧)が出力され、センサ出力経路48A1,48A2の間に電圧が印加される。そして、電圧検出回路47Aは、センサ出力経路48A1,48A2の間の電圧を検出する。ここで、センサ出力経路48A1,48A2の間の電圧は、センサ41Aでの磁場の磁束密度Baに対応して変化し、磁束密度Baが大きいほど、電圧は大きい。したがって、プロセッサ21の電圧検出回路47Aは、磁束密度Baに対応して変化するセンサ41Aからの出力情報として、センサ出力経路48A1,48A2の間の電圧を取得する。また、記憶媒体22には、センサ出力経路48A1,48A2の間の電圧と磁束密度Baとの関係を示すテーブル又は関数等が記憶される。プロセッサ21は、電圧検出回路47Aでの検出結果、及び、記憶された電圧と磁束密度Baとの関係等に基づいて、センサ41Aでの磁束密度Baを算出する。
In the present embodiment, the
なお、センサ41A以外のセンサ41B,41Cのそれぞれについても、センサ41Aと同様にしてプロセッサ21及びセンサ電源43に電気的に接続される。したがって、処置システム1には、電源45Aと同様の電源(45B;45C)、電流経路46A1,46A2と同様の電流経路(46B1,46B2;46C1,46C2)、電圧検出回路47Aと同様の電圧検出回路(47B;47C)、及び、センサ出力経路48A1,48A2と同様のセンサ出力経路(48B1,48B2;48C1,48C2)が設けられる。そして、プロセッサは、センサ41Aでの磁束密度Baと同様にして、センサ41Bでの磁束密度Bb及びセンサ41Cでの磁束密度Bcを取得する。なお、ある実施例では、センサ41A~41Cが電気的に並列に設けられ、センサ電源43に設けられる共通の電源からセンサ41A~41Cを作動させる電流がセンサ41A~41Cに出力されてもよい。
The
図3に示すように、第1の接続体5のケース11(部材11B)には、基端側に突出する突出片50が設けられる。突出片50には、操作入力子として(本実施形態では3つの)操作ボタン51(本実施形態では51A~51C)が移動可能に取付けられる。本実施形態では、突出片50及び操作ボタン51は、シャフト12の基端及び弾性部材33に対して基端側に位置する。また、接続体5,6の間が適切に接続された状態では、突出片50及び操作ボタン51は、ハウジング15の外部に位置する。
As shown in FIG. 3, the case 11 (
操作ボタン51のそれぞれでは、術者等によって、処置具2を作動させる電気エネルギーをエネルギー源装置3(超音波電源23及び/又は高周波電源26)から出力させる操作が、入力される。本実施形態では、操作ボタン51は、センサ41と同一の数設けられ、操作ボタン51のそれぞれは、センサ41の1つに対応して設けられる。また、操作ボタン51のそれぞれは、磁場を発生させる磁石(52の対応する1つ)を備える。磁石52(本実施形態では52A~52C)のそれぞれは、対応する操作ボタン(51の対応する1つ)に固定され、対応する操作ボタン(51の対応する1つ)と一緒に、ケース11に対して移動可能である。操作入力によって操作ボタン51のそれぞれが押圧されることにより、操作ボタン51のそれぞれは、対応する磁石(52の対応する1つ)と一緒に移動する。また、操作ボタン51のそれぞれは、初期位置Pe(Pae;Pbe;Pce)と初期位置Peからの変位D(Da;Db;Dc)が最大値Dmax(Damax;Dbmax;Dcmax)になる最大変位位置Pd(Pad;Pbd;Pcd)との間で移動可能である。すなわち、操作ボタン51のそれぞれのケース11に対する位置P(Pa;Pb;Pc)は、初期位置Pe(変位Dがゼロになる位置)と最大変位位置Pdとの間で変化可能である。操作ボタン51のそれぞれは、操作入力が行われていない状態、すなわち押圧されていない状態では、初期位置Peに位置する。
In each of the
接続体5,6の間が適切に接続された状態では、センサ41のそれぞれは、ハウジング15を挟んで、対応する操作ボタン(51の対応する1つ)及び対応する磁石(52の対応する1つ)に対して対向配置される。したがって、接続体5,6の間が適切に接続されることにより、すなわち、接続体5,6が互いに対して所定の位置で取付けられることにより、センサ41のそれぞれは、対応する操作ボタン(51の対応する1つ)に対して所定の位置関係に配置される。この際、センサ41のそれぞれと対応する操作ボタン(51の対応する1つ)との間にはハウジング15が設けられるため、センサ41のそれぞれは、対応する操作ボタン(51の対応する1つ)と接触しない。したがって、センサ41は、非接触型のセンサが用いられる。
In a state in which the
また、操作に基づいて対応する操作ボタン(51の対応する1つ)が磁石(52の対応する1つ)とともに移動することにより、センサ41のそれぞれと対応する磁石(52の対応する1つ)との間の距離が変化する。対応する磁石(52の対応する1つ)との間の距離が変化することにより、センサ41のそれぞれでの磁束密度B(Ba;Bb;Bc)が変化する。本実施形態では、プロセッサ21は、センサ41での磁束密度Bに基づいて、処置具2を作動させる電気エネルギーをエネルギー源装置3から処置具2へ出力可能(供給可能)にするか否かを判断する。また、処置具2への電気エネルギーの出力を許可すると判断した場合は、プロセッサ21は、センサ41の磁束密度Bに基づいて、処置具2を作動させる電気エネルギーのエネルギー源装置3から処置具2への出力(供給)を制御する。
Further, the corresponding operation button (corresponding one of 51) moves together with the magnet (corresponding one of 52) based on the operation, so that the magnet corresponding to each of the sensors 41 (corresponding one of 52). The distance between and changes. As the distance between the corresponding magnets (the corresponding one of 52) changes, the magnetic flux density B (Ba; Bb; Bc) in each of the
次に、制御装置であるエネルギー源装置3及び処置システム1の作用及び効果について説明する。処置システム1を用いて処置対象を処置する際には、ケーブル7を介して第2の接続体6をエネルギー源装置3に接続させる。そして、センサ電源43からセンサ41のそれぞれに電流を供給させ、センサ41を作動する。また、接続体5,6の間を接続する。そして、被検体(人体)に対極板28が取付けられた状態で、エンドエフェクタ14を処置対象の近傍に配置する。処置においては、処置対象の近傍に配置したエンドエフェクタ14を処置対象に接触させる前に、処置具2を作動させる電気エネルギーを出力可能にするか否かの判断、すなわち、電気エネルギーの出力許可の判断が、プロセッサ21によって行われる。図5は、処置具2を作動させる電気エネルギーの出力許可の判断において、プロセッサ21によって行われる処理を示すフローチャートである。図5の出力許可の判断は、処置具2を作動させる電気エネルギーをエネルギー源装置3から出力不可能な状態で行われる。
Next, operations and effects of the energy source device 3 and the
図5に示すように、出力許可の判断において、プロセッサ21は、センサ41(41A~41C)の特定の1つでの磁束密度Brを取得する(S101)。磁束密度Brは、磁束密度Ba~Bcの特定の1つであり、ある実施例では、磁束密度Baが磁束密度Brである。また、別のある実施例では、磁束密度Bbが磁束密度Brであり、さらに別のある実施例では、磁束密度Bcが磁束密度Brである。そして、プロセッサ21は、磁束密度Brが下限値Brs1以上かつ上限値Brs2以下の所定の範囲内であるか否かを、判断する(S102)。本実施形態では、接続体5,6が互いに対して適切に接続され、かつ、操作ボタン51のそれぞれが初期位置Peに位置する場合において、磁束密度Br(Ba~Bcの特定の1つ)が所定の範囲内になる状態に、プロセッサ21は、所定の範囲を設定する。すなわち、接続体5,6が互いに対して所定の位置で取付けられ、かつ、操作ボタン51で操作が入力されていない状態では、磁束密度Brは、所定の範囲内になる。そして、接続体5,6が互いに対して適切に取付けられていない場合等の接続体5,6が互いに対して所定の位置とは異なる位置に位置する場合は、操作ボタン51で操作が入力されていない状態において、磁束密度Brは、所定の範囲から外れる。したがって、全ての操作ボタン51が初期位置Peに位置する状態では、センサ41のそれぞれが対応する操作ボタン(51の対応する1つ)に対して所定の位置関係に配置される場合に、磁束密度Brが所定の範囲内になり、センサ41のそれぞれが対応する操作ボタン(51の対応する1つ)に対して所定の位置関係に配置されない場合に、磁束密度Brが所定の範囲から外れる。このため、磁束密度Brが所定の範囲内であるか否かに基づいて、プロセッサ21は、接続体5,6が互いに対して適切に取付けられているか否か、すなわち、センサ41のそれぞれが対応する操作ボタン(51の対応する1つ)に対して所定の位置関係に配置されているか否かを判断可能となる。また、ある実施例では、下限値Brs1及び上限値Brs2のそれぞれは、固定値である。
As shown in FIG. 5, in the output permission determination, the
磁束密度Br(Ba~Bcの特定の1つ)が所定の範囲内である場合は(S102-Yes)、プロセッサ21は、判断パラメータηを0に設定する(S103)。本実施形態では、判断パラメータηを0に設定した場合、出力許可の判断を終了する。一方、磁束密度Brが所定の範囲から外れている場合、すなわち、磁束密度Brが下限値Brs1より小さい、又は、上限値Brs2より大きい場合は(S102-No)、プロセッサ21は、判断を終了するか否かを決定する(S104)。ある実施例では、エネルギー源装置3に、タッチパネル又はボタン等の設定部が設けられ、設定部での術者等の操作によって、前述の判断が行われる状態から判断が行われない状態へと切替えられる。そして、プロセッサ21は、設定部での操作に基づいて、判断を終了することを決定する。また、別のある実施例では、プロセッサ21は、センサ41の作動開始時から所定の時間経過すると、前述の判断を終了する。
When the magnetic flux density Br (a specific one of Ba to Bc) is within a predetermined range (S102-Yes), the
判断を終了しない場合は(S104-No)、処理はS101に戻り、プロセッサ21、S101以降の処理を順次に行う。一方、判断を終了する場合は(S104-Yes)、プロセッサ21は、判断パラメータηを1に設定する(S105)。したがって、判断の終了まで磁束密度Brが継続して所定の範囲から外れていた場合は、判断パラメータηが1に設定される。設定された判断パラメータηは、例えば、記憶媒体22に記憶される。
If the determination is not completed (S104-No), the process returns to S101, and the processes after the
判断パラメータηが0に設定された場合は、プロセッサ21は、処置具2を作動させる電気エネルギーの処置具2への出力(供給)を許可する。したがって、エネルギー源装置3は、操作ボタン51のいずれかでの操作に基づいて電気エネルギーを出力可能な状態になる。すなわち、プロセッサ21は、超音波電源23及び高周波電源26の少なくとも一方から電気エネルギーを出力可能にし、処置具2へ電気エネルギーを供給可能にする。
When the determination parameter η is set to 0, the
一方、判断パラメータηが1に設定された場合は、プロセッサ21は、処置具2を作動させる電気エネルギーの処置具2への出力(供給)を禁止する。したがって、エネルギー源装置3は、操作ボタン51での操作に関係なく電気エネルギーを出力不可能な状態になる。この場合、操作ボタン51で操作が行われても、超音波電源23及び高周波電源26から電気エネルギーが出力されず、処置具2を作動させる電気エネルギーが処置具2に供給されない。ある実施例では、処置システム1に、ランプ、表示画面又はブザー等の警告部が設けられる。そして、出力を禁止すると判断した場合は、プロセッサ21は、警告部を作動し、警告を行う。
On the other hand, when the determination parameter η is set to 1, the
出力許可の判断が終了すると、術者は、エンドエフェクタ14を生体組織等の処置対象の近傍に配置した状態で、操作ボタン51のいずれか1つを押圧し、エネルギー源装置3から電気エネルギーを出力させる操作を入力する。電気エネルギーの出力が開始された時点では、エンドエフェクタ14は、処置対象の近傍に位置するが、処置対象とは接触していない。そして、エネルギー源装置3からの電気エネルギーの出力が継続されている状態で、術者は、エンドエフェクタ14を処置対象に接触させる。図6は、出力が許可された場合、すなわち、判断パラメータηが0に設定された場合の処置具2を作動させる電気エネルギーの出力制御において、プロセッサ21によって行われる処理を示すフローチャートである。図6に示す出力制御は、図5のS102において、磁束密度Brが所定の範囲内であると判断された場合のみ、行われる。
When the determination of the output permission is completed, the surgeon presses any one of the
図6に示すように、出力が許可された後の電気エネルギーの出力制御では、プロセッサ21は、処理の開始時又は開始直後において、磁束密度Baが閾値(第1の閾値)Bath1以下で、かつ、磁束密度Bbが閾値(第1の閾値)Bbth1以下で、かつ、磁束密度Bcが閾値(第1の閾値)Bcth1以下であることを取得する(S111)。すなわち、全ての磁束密度Ba~Bcのそれぞれが対応する閾値(Bath1;Bbth1;Bcth1)以下であることが、プロセッサ21によって、取得される。そして、プロセッサ21は、全てのセンサ41(41A~41C)について、磁束密度B(Ba~Bc)を取得する(S112)。これにより、S111で取得した全ての磁束密度Ba~Bcのそれぞれが対応する閾値(Bath1;Bbth1;Bcth1)以下の状態からの、磁束密度Ba~Bcのそれぞれの経時的変化が検出される。
As shown in FIG. 6, in the output control of electric energy after the output is permitted, the
ここで、S112で取得した磁束密度Ba~Bcにおいて、いずれか1つを磁束密度Blとし、磁束密度Bl以外のいずれか1つを磁束密度Bmとし、磁束密度Bl,Bm以外の1つを磁束密度Bnとする。プロセッサ21は、S112で取得した磁束密度Ba~Bcに基づいて、磁束密度Blが閾値(第1の閾値)Blth1より大きく、かつ、磁束密度Bmが閾値(第1の閾値)Bmth1以下で、かつ、磁束密度Bnが閾値(第1の閾値)Bnth1以下の状態に、S111で取得した状態から変化したか否かを判断する(S113)。すなわち、プロセッサ21は、磁束密度Ba~Bcのいずれか1つである磁束密度Blのみが閾値Blth1より大きい状態に、S111で取得した状態から変化したか否かを、判断する。なお、閾値Blth1~Bnth1のそれぞれは、閾値Bath1~Bcth1の対応する1つに相当する。磁束密度Ba~Bcのいずれもが対応する閾値(Bath1;Bbth1;Bcth1)より大きい状態に変化していない場合(S113-No)、すなわち、全ての磁束密度Ba~Bcのそれぞれが対応する閾値(Bath1;Bbth1;Bcth1)以下の状態で維持されている場合は、処理はS111に戻り、プロセッサ21は、S111以降の処理を順次に行う。この際、S111の処理によって、プロセッサ21は、全ての磁束密度Ba~Bcのそれぞれが対応する閾値(Bath1;Bbth1;Bcth1)以下であることを取得する。また、S111~S113の処理が繰返し行われている間は、処置具2を作動させる電気エネルギーのエネルギー源装置3からの出力は、停止された状態で維持される。
Here, in the magnetic flux densities Ba to Bc acquired in S112, any one is set as the magnetic flux density B1, any one other than the magnetic flux density Bl is set as the magnetic flux density Bm, and one other than the magnetic flux densities Bl and Bm is set as the magnetic flux. The density is Bn. Based on the magnetic flux densities Ba to Bc acquired in S112, the
なお、閾値Bath1~Bcth1は、互いに対して同一の値であってもよく、互いに対して異なる値であってもよい。また、プロセッサ21は、閾値(第1の閾値)Bath1~Bcth1のそれぞれを、前述の所定の範囲の上限値Brs2より大きい値に設定する。また、閾値Bath1~Bcth1のそれぞれは、固定値であってもよく、操作ボタン51の初期位置Pe(Pae;Pbe;Pce)からの変位D(Da;Db;Dc)と磁束密度B(Ba;Bb;Bc)との関係に基づいて設定されてもよい。ある実施例では、閾値Bath1~Bcth1のそれぞれは、対応する操作ボタン(51の対応する1つ)が初期位置Peに位置する状態での磁束密度Be(Bae;Bbe;Bce)に所定の値ε1(εa1;εb1;εc1)を加算した値に、設定される。
The threshold values Bath1 to Bcth1 may be the same value with respect to each other or may be different values with respect to each other. Further, the
S113において磁束密度Blのみが閾値Blth1より大きい状態に変化した場合は(S113-Yes)、プロセッサ21は、処置具2を作動させる電気エネルギーのエネルギー源装置3から処置具2への出力を開始させる(S114)。すなわち、プロセッサ21は、超音波電源23及び高周波電源26の少なくとも一方から電気エネルギーを出力させ、処置具2へ電気エネルギーを供給させる。これにより、前述したように、超音波振動及び/又は高周波電流が処置対象に付与される。そして、プロセッサ21は、磁束密度Blを取得する(S115)。
When only the magnetic flux density Bl changes to a state larger than the threshold value Blth1 in S113 (S113-Yes), the
この際、閾値Blth1より大きい状態に変化した磁束密度Blに対応する出力モードで、出力が行われる。例えば、磁束密度Baが閾値Bath1より大きい状態に変化した場合(すなわち、磁束密度Blが磁束密度Baである場合)は、プロセッサ21は、第1の出力モードで出力を行い、磁束密度Bbが閾値Bbth1より大きい状態に変化した場合(すなわち、磁束密度Blが磁束密度Bbである場合)は、プロセッサ21は、第1の出力モードとは異なる第2の出力モードで出力を行う。そして、磁束密度Bcが閾値Bcth1より大きい状態に変化した場合(すなわち、磁束密度Blが磁束密度Bcである場合)は、プロセッサ21は、第1の出力モード及び第2の出力モードとは異なる第3の出力モードで出力を行う。エネルギー源装置3からの電気エネルギーの出力状態は、出力モードごとに異なる。すなわち、超音波電源23及び高周波電源26の少なくとも一方からの出力の要否及び/又は出力レベルが、出力モードごとに異なる。また、ある実施例では、エネルギー源装置3に、タッチパネル等の出力設定部が設けられる。そして、出力設定部では、出力モードごとに、超音波電源23及び高周波電源26のそれぞれからの出力の要否及び出力レベルが、設定される。
At this time, the output is performed in the output mode corresponding to the magnetic flux density Bl changed to a state larger than the threshold value Blth1. For example, when the magnetic flux density Ba changes to a state larger than the threshold value Bath1 (that is, when the magnetic flux density B1 is the magnetic flux density Ba), the
また、磁束密度Blに対応する出力モードで出力が行われている状態では、プロセッサ21は、磁束密度Bm,Bnのいずれかが閾値(Bmth1;Bnth1)より大きい状態に変化しても、磁束密度Blに対応する出力モードで出力を継続する。すなわち、プロセッサ21は、磁束密度Ba~Bcの中で最初に対応する閾値Blth1より大きい状態に変化した磁束密度Blに対応する出力モードで、電気エネルギーを出力させる。
Further, in the state where the output is performed in the output mode corresponding to the magnetic flux density B1, the
プロセッサ21は、S115で取得した磁束密度Blが閾値(第2の閾値)Blth2以下であるか否かを判断する(S116)。ここで、閾値Blth2は、閾値(第2の閾値)Bath2~Bcth2の対応する1つに相当し、S116では、S113で閾値Blth1より大きい状態に変化したと判断された磁束密度Blについて、判断が行われる。閾値Bath2~Bcth2は、互いに対して同一の値であってもよく、互いに対して異なる値であってもよい。プロセッサ21は、閾値Bath2~Bcth2のそれぞれを前述の閾値(Bath1;Bbth1;Bcth1)より小さい値に設定する。したがって、S116では、磁束密度Blが閾値Blth2より大きい状態から閾値Blth2以下の状態に切替わったか否かが、判断される。また、本実施形態では、プロセッサ21は、閾値Bath2~Bcth2のそれぞれを、前述の所定の範囲の上限値Brs2より大きい値に設定する。また、閾値Bath2~Bcth2のそれぞれは、固定値であってもよく、操作ボタン51の初期位置Pe(Pae;Pbe;Pce)からの変位D(Da;Db;Dc)と磁束密度B(Ba;Bb;Bc)との関係に基づいて設定されてもよい。ある実施例では、閾値Bath2~Bcth2のそれぞれは、対応する操作ボタン51が初期位置Peに位置する状態での磁束密度Be(Bae;Bbe;Bce)に所定の値ε1(εa1;εb1;εc1)より小さい所定の値ε2(εa2;εb2;εc2)を加算した値に、設定される。
The
磁束密度Blが閾値Blth2より大きい場合は(S116-No)、処理はS114に戻り、プロセッサ21は、S114以降の処理を順次に行う。この際、処置具2を作動させる電気エネルギーのエネルギー源装置3からの出力が継続される。また、S114~S116の処理が繰返し行われている間は、プロセッサ21は、磁束密度Bm,Bnのそれぞれが対応する閾値(Bmth1;Bnth1)より大きい状態に変化したか否かに関係なく、磁束密度Blに対応する出力モードで電気エネルギーを出力させる。一方、磁束密度Blが閾値Blth2以下の場合は(S116-Yes)、プロセッサ21は、処置具2を作動させる電気エネルギーのエネルギー源装置3から処置具2への出力を停止させる(S117)。これにより、処置具2を作動させる電気エネルギーの処置具2への供給が停止される。
If the magnetic flux density Bl is larger than the threshold value Blth2 (S116-No), the process returns to S114, and the
図7は、ある1つの操作ボタン51Aのケース11に対する位置Pa(初期位置Paeからの変位Da)と対応するセンサ41Aでの磁束密度Baとの関係を示す図である。図7の一例では、磁束密度Baが、前述の磁束密度Brになる。図7では、横軸に位置Paを示し、縦軸に磁束密度Baを示す。また、図7では、状態X1,X2のそれぞれについて関係を示す。状態X1では、接続体5,6が互いに対して適切に取付けられ、センサ41のそれぞれが対応する操作ボタン(51の対応する1つ)に対して所定の位置関係に配置される。一方、状態X2では、接続体5,6が互いに対して適切に取付けられてなく、センサ41のそれぞれが対応する操作ボタン(51の対応する1つ)に対して所定の位置関係に配置されない。図7では、状態X1での関係を実線で、状態X2での関係を破線で示す。
FIG. 7 is a diagram showing the relationship between the position Pa (displacement Da from the initial position Pae) of the one
図7に示すように、状態X1,X2のそれぞれでは、操作ボタン51Aが最大変位位置Padに位置する状態において、センサ41Aでの磁束密度(Bad1;Bad2)が閾値Bath1より大きい。したがって、接続体5,6が互いに対して適切に接続されていない場合でも、状態X2のように、操作ボタン51Aが初期位置Paeから最大変位位置Padに移動する間に、磁束密度Baが閾値Bath1以下の状態から閾値Bath1より大きい状態に切替わることがある。ただし、状態X2では、操作ボタン51Aが初期位置Paeに位置する状態において、センサ41Aでの磁束密度Bae2は、所定の範囲の下限値Bas1より小さく、所定の範囲から外れる。このため、状態X2では、S105の処理によって判断パラメータηが1に設定され、処置具2を作動させる電気エネルギーの処置具2への出力(供給)が禁止される。したがって、状態X2では、操作ボタン51Aを最大変位位置Padへ向かって移動させ、磁束密度Baが閾値Bath1より大きい状態になっても、処置具2を作動させる電気エネルギーが処置具2へ供給されない。また、状態X2では、処置具2を作動させる電気エネルギーの処置具2への出力(供給)が禁止されるため、操作ボタン51B,51Cのいずれかを最大変位位置(pbd;Pcd)へ向かって移動させた場合も、処置具2を作動させる電気エネルギーが処置具2へ供給されない。
As shown in FIG. 7, in each of the states X1 and X2, the magnetic flux density (Bad1; Bad2) at the
一方、状態X1では、操作ボタン51Aが初期位置Paeに位置する状態において、センサ41Aでの磁束密度Bae1は、下限値Bas1以上かつ上限値Bas2以下の所定の範囲内になる。このため、状態X1では、S103の処理によって判断パラメータηが0に設定され、処置具2を作動させる電気エネルギーの処置具2への出力(供給)が許可される。したがって、状態X1では、操作ボタン51Aを最大変位位置Padへ向かって移動させ、磁束密度Baが閾値Bath1より大きい状態になると、処置具2を作動させる電気エネルギーが処置具2へ供給され、高周波電流及び/又は超音波振動が処置対象に付与される。また、状態X1では、処置具2を作動させる電気エネルギーの処置具2への出力(供給)が許可されるため、操作ボタン51B,51Cのいずれかを最大変位位置(pbd;Pcd)へ向かって移動させた場合も、処置具2を作動させる電気エネルギーが処置具2へ供給される。
On the other hand, in the state X1, in a state where the
前述のように、本実施形態では、接続体5,6が互いに対して適切に(所定の位置で)接続されていない場合、磁束密度Brが所定の範囲から外れる。このため、センサ41のそれぞれが対応する操作ボタン(51の対応する1つ)に対して所定の位置関係に配置されない場合は、処置具2を作動させる電気エネルギーの処置具2への出力(供給)が禁止され、操作ボタン51での操作に関係なく、処置具2を作動させる電気エネルギーが処置具2へ供給されない。これにより、例えば、超音波トランスデューサ16とロッド部材13との間が適切に接続されていない状態等において圧電素子17で超音波振動が発生することが、有効に防止される。すなわち、接続体5,6が適切に接続されていない状態において、エネルギー源装置3からの電気エネルギーによって処置具2が作動されることが有効に防止される。
As described above, in the present embodiment, when the connecting
そして、本実施形態では、接続体5,6が互いに対して適切に(所定の位置で)取付けられる場合のみ、処置具2を作動させる電気エネルギーを処置具2に供給可能となる。すなわち、センサ41のそれぞれが対応する操作ボタン(51の対応する1つ)に対して所定の位置関係に配置される場合のみ、処置具2を作動させることが可能となる。接続体5,6が互いに対して適切に取付けられる場合のみ処置具2を作動可能であるため、処置具2では、高周波電流及び/又は超音波振動等の処置エネルギーを用いて適切に処置が行われる。
In this embodiment, electrical energy for operating the
(変形例)
なお、ある変形例では、処置具2を作動させる電気エネルギーの出力許可の判断において、プロセッサ21によって、図8に示す処理が行われる。本変形例では、S101の処理の代わりに、全てのセンサ41での磁束密度Ba~Bcを取得する(S121)。この際、磁束密度Ba~Bcは、互いに対して同一の時点での値が取得される。そして、プロセッサ21は、S102の処理の代わりに、取得した磁束密度Ba~Bcについて、磁束密度Baが下限値Bas1以上かつ上限値Bas2以下の所定の範囲内であり、かつ、磁束密度Bbが下限値Bbs1以上かつ上限値Bbs2以下の所定の範囲内であり、かつ、磁束密度Bcが下限値Bcs1以上かつ上限値Bcs2以下の所定の範囲内であることが、成立するか否かを判断する(S122)。すなわち、全てのセンサ41A~41Cのそれぞれでの磁束密度(Ba;Bb;Bc)が他のセンサ(41A~41Cの対応する2つ)での磁束密度(Ba~Bcの対応する2つ)と同時に対応する所定の範囲内であるか否かが、判断される。本変形例では、全ての操作ボタン51が初期位置Peに位置する状態において、接続体5,6が互いに対して所定の位置で(適切に)取付けられる場合に、全ての磁束密度Ba~Bcのそれぞれが、同時に対応する所定の範囲内になる。すなわち、センサ41のそれぞれが対応する操作ボタン(51の対応する1つ)に対して所定の位置関係に配置される場合には、全ての磁束密度Ba~Bcのそれぞれが、同時に対応する所定の範囲内になる。
(Modification)
In a modification, the
ここで、本変形例では、下限値Bas1,Bbs1, Bcs1及び上限値Bas2,Bbs2,Bcs2のそれぞれは、固定値である。また、下限値Bas1,Bbs1, Bcs1は、互いに対して同一の値であってもよく、互いに対して異なる値であってもよい。同様に、上限値Bas2,Bbs2, Bcs2は、互いに対して同一の値であってもよく、互いに対して異なる値であってもよい。したがって、前述の所定の範囲は、全ての磁束密度Ba~Bcについて同一の範囲であってもよく、磁束密度Ba~Bcごとに異なってもよい。 Here, in this modification, each of the lower limit values Bas1, Bbs1, Bcs1 and the upper limit values Bas2, Bbs2, Bcs2 is a fixed value. Further, the lower limit values Bas1, Bbs1, and Bcs1 may be the same value with respect to each other, or may be different values with respect to each other. Similarly, the upper limit values Bas2, Bbs2, and Bcs2 may be the same value with respect to each other, or may be different values with respect to each other. Therefore, the predetermined range described above may be the same range for all the magnetic flux densities Ba to Bc, or may be different for each magnetic flux density Ba to Bc.
本変形例においても、第1の実施形態と同様の作用及び効果を奏する。また、処置を行う際には、例えば、接続体5,6を接続する前において、外部磁界等の外部因子によって、ある1つのセンサ(例えば41A)での磁束密度(Ba)が所定の範囲内になる可能性がある。ただし、本変形例では、ある1つのセンサ(例えば41A)での磁束密度(Ba)が所定の範囲内であっても、他のセンサ(例えば41B,41C)での磁束密度(Bb;Bc)のいずれかが対応する所定の範囲から外れる場合は、処置具2を作動させる電気エネルギーの処置具2への出力(供給)が禁止される。すなわち、少なくとも1つのセンサ(41A~41Cの1つ以上)での磁束密度(Ba~Bcの対応する1つ以上)が所定の範囲から外れる場合は、操作ボタン51での操作に関係なく、処置具2を作動させる電気エネルギーが処置具2へ供給されない。したがって、本変形例では、接続体5,6が適切に接続されていない状態において、外部磁界等の外部因子によってエネルギー源装置3からの電気エネルギーによって処置具2が作動されることも有効に防止される。
Also in this modification, the same operation and effect as the first embodiment are exhibited. Further, when performing treatment, for example, before connecting the
なお、前述の実施形態等では、センサ41が3つ設けられる例について説明したが、センサ41は、1つ又は2つでもよく、4つ以上であってもよい。これらの場合も、前述の実施形態等と同様の構成を有し、前述の実施形態等と同様の処理がプロセッサ21によって行われる。そして、前述の実施形態等と同様の処理が行われることにより、センサ41の数に関係なく、前述の実施形態等と同様の作用及び効果を奏する。
In the above-described embodiment and the like, an example in which three
また、前述の実施形態等では、処置具2を作動させる電気エネルギーが処置具2に供給されることにより、高周波電流及び/又は超音波振動が処置対象に付与されるが、これに限るものではない。ある変形例では、エンドエフェクタ14にヒータが設けられ、ヒータに処置具2を作動させる電気エネルギーが、エネルギー源装置3から供給される。そして、ヒータに電気エネルギーが供給されることにより、ヒータ熱が処置対象に付与される。
Further, in the above-described embodiment and the like, a high-frequency current and / or ultrasonic vibration is applied to the treatment target by supplying electric energy for operating the
前述の実施形態等では、プロセッサ(21)は、センサ(41)での磁束密度(B)に対応して変化するセンサ(41)からの出力情報を取得し、センサ(41)からの出力情報に基づいて、センサ(41)での磁束密度(B)が所定の範囲内であるか否かを判断する。そして、プロセッサ(21)は、磁束密度(B)が所定の範囲内であると判断したことに少なくとも基づいて 、処置具(2)を作動させる電気エネルギーを処置具(2)へ供給可能にする。 In the above-described embodiment and the like, the processor (21) acquires output information from the sensor (41) that changes corresponding to the magnetic flux density (B) at the sensor (41), and outputs information from the sensor (41). Based on the above, it is determined whether or not the magnetic flux density (B) at the sensor (41) is within a predetermined range. Then, the processor (21) makes it possible to supply the treatment tool (2) with electrical energy for operating the heel and the treatment tool (2) based on at least the determination that the magnetic flux density (B) is within the predetermined range. .
なお、本願発明は、上記実施形態に限定されるものではなく、実施段階ではその要旨を逸脱しない範囲で種々に変形することが可能である。また、各実施形態は可能な限り適宜組み合わせて実施してもよく、その場合組み合わせた効果が得られる。更に、上記実施形態には種々の段階の発明が含まれており、開示される複数の構成要件における適当な組み合わせにより種々の発明が抽出され得る。 Note that the present invention is not limited to the above-described embodiment, and various modifications can be made without departing from the scope of the invention in the implementation stage. In addition, the embodiments may be appropriately combined as much as possible, and in that case, the combined effect can be obtained. Further, the above embodiments include inventions at various stages, and various inventions can be extracted by appropriately combining a plurality of disclosed constituent elements.
Claims (9)
前記センサでの前記磁束密度に対応して変化する前記センサからの出力情報を取得し、
前記センサからの前記出力情報に基づいて、前記センサでの前記磁束密度が所定の範囲内であるか否かを判断し、
前記磁束密度が前記所定の範囲内であると判断したことに少なくとも基づいて、前記処置具へ前記電気エネルギーを供給可能にする、
プロセッサを具備する、制御装置。 An operation input having a magnet and a sensor for detecting a magnetic flux density, and when the operation input moves with the magnet based on an operation at the operation input, the magnetic flux density at the sensor is A control device that is used with a changing treatment tool and controls the supply of electrical energy for operating the treatment tool to the treatment tool,
Obtaining output information from the sensor that changes corresponding to the magnetic flux density at the sensor;
Based on the output information from the sensor, it is determined whether the magnetic flux density at the sensor is within a predetermined range,
Enabling the electrical energy to be supplied to the treatment instrument based at least on determining that the magnetic flux density is within the predetermined range;
A control device comprising a processor.
前記プロセッサは、
全ての前記センサから前記出力情報を取得し、
前記出力情報に基づいて、全ての前記センサのそれぞれについて、前記磁束密度が対応する前記所定の範囲内であるか否かを判断し、
全ての前記センサのそれぞれでの前記磁束密度が他の前記センサでの前記磁束密度と同時に対応する前記所定の範囲内であると判断したことに基づいて、前記処置具へ前記電気エネルギーを供給可能にする、
請求項1の制御装置。 The treatment instrument used together with the processor includes a plurality of sensors as the sensor,
The processor is
Obtaining the output information from all the sensors;
Based on the output information, for each of all the sensors, determine whether the magnetic flux density is within the corresponding predetermined range,
The electrical energy can be supplied to the treatment instrument based on the determination that the magnetic flux density of each of all the sensors is within the predetermined range corresponding to the magnetic flux density of the other sensors. To
The control device according to claim 1.
前記操作入力子のそれぞれは、前記磁石を備えるとともに、前記操作入力子のそれぞれは、前記センサの1つに対応して設けられ、
前記センサのそれぞれでは、操作に基づいて対応する前記操作入力子が前記磁石とともに移動することにより、前記磁束密度が変化する、
請求項4の制御装置。 The treatment tool used together with the processor includes a plurality of operation input elements as the operation input elements.
Each of the operation input elements includes the magnet, and each of the operation input elements is provided corresponding to one of the sensors,
In each of the sensors, the magnetic flux density changes as the operation input corresponding to the operation moves together with the magnet.
The control device according to claim 4.
前記操作入力子と、処置対象を処置するエンドエフェクタと、を備える第1の接続体と、
前記センサを備えるとともに、前記第1の接続体に分離可能に取付けられ、前記第1の接続体に対して所定の位置で取付けられることにより、前記操作入力子に対して前記センサを所定の位置関係に配置する第2の接続体と、
を備える、請求項1の制御装置。 The treatment tool used with the processor is:
A first connector comprising the operation input and an end effector for treating a treatment target;
The sensor includes the sensor, is detachably attached to the first connection body, and is attached to the first connection body at a predetermined position, whereby the sensor is placed at a predetermined position with respect to the operation input element. A second connector disposed in a relationship;
The control device according to claim 1, comprising:
前記プロセッサは、前記出力源からの出力を制御することにより、前記処置具への前記電気エネルギーの供給を制御する、
請求項1の制御装置。 An output source capable of outputting the electrical energy supplied to the treatment instrument;
The processor controls the supply of the electrical energy to the treatment instrument by controlling the output from the output source;
The control device according to claim 1.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| PCT/JP2017/015009 WO2018189839A1 (en) | 2017-04-12 | 2017-04-12 | Control device |
Applications Claiming Priority (1)
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|---|---|---|---|
| PCT/JP2017/015009 WO2018189839A1 (en) | 2017-04-12 | 2017-04-12 | Control device |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| WO2018189839A1 true WO2018189839A1 (en) | 2018-10-18 |
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ID=63792381
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| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
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Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| WO (1) | WO2018189839A1 (en) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN113544502A (en) * | 2019-03-12 | 2021-10-22 | 株式会社岛津制作所 | Analysis device |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2016067739A1 (en) * | 2014-10-28 | 2016-05-06 | オリンパス株式会社 | Surgical operation apparatus |
-
2017
- 2017-04-12 WO PCT/JP2017/015009 patent/WO2018189839A1/en not_active Ceased
Patent Citations (1)
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|---|---|---|---|---|
| WO2016067739A1 (en) * | 2014-10-28 | 2016-05-06 | オリンパス株式会社 | Surgical operation apparatus |
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