[go: up one dir, main page]

WO2018016742A1 - 신규한 헤테로 고리 화합물 및 이를 이용한 유기발광 소자 - Google Patents

신규한 헤테로 고리 화합물 및 이를 이용한 유기발광 소자 Download PDF

Info

Publication number
WO2018016742A1
WO2018016742A1 PCT/KR2017/006274 KR2017006274W WO2018016742A1 WO 2018016742 A1 WO2018016742 A1 WO 2018016742A1 KR 2017006274 W KR2017006274 W KR 2017006274W WO 2018016742 A1 WO2018016742 A1 WO 2018016742A1
Authority
WO
WIPO (PCT)
Prior art keywords
compound
llozw
oav
8ΐοζ
substituted
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Ceased
Application number
PCT/KR2017/006274
Other languages
English (en)
French (fr)
Inventor
정민우
이동훈
박태윤
조성미
문정욱
이정하
채미영
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
LG Chem Ltd
Original Assignee
LG Chem Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Priority claimed from KR1020170075029A external-priority patent/KR101849747B1/ko
Application filed by LG Chem Ltd filed Critical LG Chem Ltd
Priority to CN201780004123.4A priority Critical patent/CN108368078B/zh
Priority to US15/771,066 priority patent/US11903311B2/en
Priority to EP17831215.3A priority patent/EP3480194B1/en
Priority to JP2019502221A priority patent/JP7210856B2/ja
Publication of WO2018016742A1 publication Critical patent/WO2018016742A1/ko
Anticipated expiration legal-status Critical
Priority to US17/842,520 priority patent/US12167689B2/en
Ceased legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C07ORGANIC CHEMISTRY
    • C07DHETEROCYCLIC COMPOUNDS
    • C07D405/00Heterocyclic compounds containing both one or more hetero rings having oxygen atoms as the only ring hetero atoms, and one or more rings having nitrogen as the only ring hetero atom
    • C07D405/02Heterocyclic compounds containing both one or more hetero rings having oxygen atoms as the only ring hetero atoms, and one or more rings having nitrogen as the only ring hetero atom containing two hetero rings
    • C07D405/04Heterocyclic compounds containing both one or more hetero rings having oxygen atoms as the only ring hetero atoms, and one or more rings having nitrogen as the only ring hetero atom containing two hetero rings directly linked by a ring-member-to-ring-member bond
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C07ORGANIC CHEMISTRY
    • C07DHETEROCYCLIC COMPOUNDS
    • C07D405/00Heterocyclic compounds containing both one or more hetero rings having oxygen atoms as the only ring hetero atoms, and one or more rings having nitrogen as the only ring hetero atom
    • C07D405/02Heterocyclic compounds containing both one or more hetero rings having oxygen atoms as the only ring hetero atoms, and one or more rings having nitrogen as the only ring hetero atom containing two hetero rings
    • C07D405/10Heterocyclic compounds containing both one or more hetero rings having oxygen atoms as the only ring hetero atoms, and one or more rings having nitrogen as the only ring hetero atom containing two hetero rings linked by a carbon chain containing aromatic rings
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C07ORGANIC CHEMISTRY
    • C07DHETEROCYCLIC COMPOUNDS
    • C07D405/00Heterocyclic compounds containing both one or more hetero rings having oxygen atoms as the only ring hetero atoms, and one or more rings having nitrogen as the only ring hetero atom
    • C07D405/14Heterocyclic compounds containing both one or more hetero rings having oxygen atoms as the only ring hetero atoms, and one or more rings having nitrogen as the only ring hetero atom containing three or more hetero rings
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C07ORGANIC CHEMISTRY
    • C07DHETEROCYCLIC COMPOUNDS
    • C07D409/00Heterocyclic compounds containing two or more hetero rings, at least one ring having sulfur atoms as the only ring hetero atoms
    • C07D409/02Heterocyclic compounds containing two or more hetero rings, at least one ring having sulfur atoms as the only ring hetero atoms containing two hetero rings
    • C07D409/04Heterocyclic compounds containing two or more hetero rings, at least one ring having sulfur atoms as the only ring hetero atoms containing two hetero rings directly linked by a ring-member-to-ring-member bond
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C07ORGANIC CHEMISTRY
    • C07DHETEROCYCLIC COMPOUNDS
    • C07D409/00Heterocyclic compounds containing two or more hetero rings, at least one ring having sulfur atoms as the only ring hetero atoms
    • C07D409/14Heterocyclic compounds containing two or more hetero rings, at least one ring having sulfur atoms as the only ring hetero atoms containing three or more hetero rings
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C07ORGANIC CHEMISTRY
    • C07FACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
    • C07F7/00Compounds containing elements of Groups 4 or 14 of the Periodic Table
    • C07F7/02Silicon compounds
    • C07F7/08Compounds having one or more C—Si linkages
    • C07F7/0803Compounds with Si-C or Si-Si linkages
    • C07F7/081Compounds with Si-C or Si-Si linkages comprising at least one atom selected from the elements N, O, halogen, S, Se or Te
    • C07F7/0812Compounds with Si-C or Si-Si linkages comprising at least one atom selected from the elements N, O, halogen, S, Se or Te comprising a heterocyclic ring
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C09DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09KMATERIALS FOR MISCELLANEOUS APPLICATIONS, NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE
    • C09K11/00Luminescent, e.g. electroluminescent, chemiluminescent materials
    • C09K11/06Luminescent, e.g. electroluminescent, chemiluminescent materials containing organic luminescent materials
    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05BELECTRIC HEATING; ELECTRIC LIGHT SOURCES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; CIRCUIT ARRANGEMENTS FOR ELECTRIC LIGHT SOURCES, IN GENERAL
    • H05B33/00Electroluminescent light sources
    • H05B33/12Light sources with substantially two-dimensional radiating surfaces
    • H05B33/20Light sources with substantially two-dimensional radiating surfaces characterised by the chemical or physical composition or the arrangement of the material in which the electroluminescent material is embedded
    • HELECTRICITY
    • H10SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10KORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
    • H10K50/00Organic light-emitting devices
    • H10K50/10OLEDs or polymer light-emitting diodes [PLED]
    • H10K50/11OLEDs or polymer light-emitting diodes [PLED] characterised by the electroluminescent [EL] layers
    • HELECTRICITY
    • H10SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10KORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
    • H10K85/00Organic materials used in the body or electrodes of devices covered by this subclass
    • H10K85/10Organic polymers or oligomers
    • H10K85/111Organic polymers or oligomers comprising aromatic, heteroaromatic, or aryl chains, e.g. polyaniline, polyphenylene or polyphenylene vinylene

Definitions

  • organic light emitting phenomenon refers to a phenomenon of converting electrical energy into light energy using an organic material.
  • the organic light emitting device using the organic light emitting phenomenon has a wide viewing angle, excellent contrast, fast response time, excellent luminance, driving voltage and response speed characteristics, many studies have been conducted.
  • the organic light emitting device generally has a structure including an anode and a cathode and an organic layer between the anode and the cathode.
  • the organic layer is often formed of a multi-layered structure composed of different materials to increase the efficiency and stability of the organic light emitting device, for example, it may be formed of a hole injection layer, a hole transport layer, a light emitting layer, an electron transport layer, an electron injection layer.
  • Patent Document 0001 Korean Patent Publication No. 10-2000-0051826
  • the present invention relates to a novel heterocyclic compound compound and a light emitting device comprising the same.
  • the present invention provides a compound represented by the following formula (1).
  • 3 ⁇ 4 is 0 or S
  • Li and L 2 are each independently a single bond; A substituted or unsubstituted C 6 - 60 arylene; Or substituted or unsubstituted 0, N, Si and S containing at least one hetero atom selected from the group consisting of ( 60 heteroarylene,
  • Yi to Y3 are each independently N or CR 3 , at least one of ⁇ to Y 3 is ⁇ ,
  • Ar 2 is substituted or unsubstituted C 6 -60 aryl
  • Ri to 3 ⁇ 4 are each independently hydrogen; heavy hydrogen; halogen; Cyano; Nitro; Amino; Substituted or unsubstituted d-60 alkyl; Substituted or unsubstituted d-60 Haloalkyl; Substituted or unsubstituted d- 60 alkoxy; Substituted or unsubstituted d-60 haloalkoxy; Substituted or unsubstituted C 3 -60 cycloalkyl; Substituted or unsubstituted
  • nl and n2 are each independently an integer of 0-3.
  • the present invention is a crab 1 electrode; A second electrode provided to face the first electrode; And at least one organic material layer provided between the first electrode and the second electrode, wherein at least one of the organic material layers comprises a compound represented by Chemical Formula 1. to provide.
  • the compound represented by Chemical Formula 1 may be used as a material of the organic material layer of the organic light emitting diode, and may improve efficiency, low driving voltage, and / or lifetime characteristics in the organic light emitting diode.
  • the compound represented by Chemical Formula 1 may be used as a host material of the light emitting layer.
  • FIG. 1 shows an example of an organic light emitting element composed of a substrate 1, an anode 2, a light emitting layer 3, and a cathode 4. As shown in FIG.
  • FIG. 2 shows an example of an organic light emitting element consisting of a substrate 1, an anode 2, a hole injection layer 5, a hole transport layer 6, a light emitting layer 7, an electron transport layer 8 and a cathode 4. It is.
  • a bond connected to another substituent means a bond connected to another substituent, a single bond means a case where no separate atoms are present in the portion represented by and L 2 .
  • the ester group may be substituted with a linear, branched or cyclic alkyl group having 6 to 25 carbon atoms or 6 to aryl carbon atoms in the oxygen of the ester group.
  • the compound of the following structural formulae but is not limited thereto.
  • carbon number of an imide group is not specifically limited, It is preferable that it is C1-C25.
  • it may be a compound having a structure as follows, but is not limited thereto.
  • the silyl group includes trimethylsilyl group, triethylsilyl group, t-butyldimethylsilyl group, vinyldimethylsilyl group, propyldimethylsilyl group, triphenylsilyl group, diphenylsilyl group, phenylsilyl group, and the like.
  • the boron group is specifically trimethyl boron group, triethyl boron group, t-butyl dimethyl boron group, triphenyl boron group, phenyl boron group and the like, but is not limited thereto.
  • examples of the halogen group include fluorine, chlorine, bromine or iodine.
  • the alkyl group may be linear or branched, and the carbon number is not particularly limited, but is preferably 1 to 40. According to one embodiment, the alkyl group has 1 to 20 carbon atoms. According to another exemplary embodiment, the alkyl group has 1 to 10 carbon atoms. According to another exemplary embodiment, the alkyl group has 1 to 6 carbon atoms.
  • alkyl group examples include methyl, ethyl, propyl, n-propyl, isopropyl, butyl, n-butyl isobutyl, tert-butyl, sec-butyl, 1-methyl-butyl, 1_ethyl-butyl, pentyl, n_ Pentyl, isopentyl, neopentyl, tert-pentyl, nuclear chamber, n-nuclear chamber, 1-methylpentyl, 2-methyltyl, 4-methyl-2-pentyl, 3, 3-dimethylbutyl, 2-ethylbutyl, heptyl, n-heptyl, 1-methylnucleus, cyclopentylmethyl, cyclonuxylmethyl, octyl, n-octyl, tert-octyl, 1-methylheptyl, 2-ethylnuclear, 2-propyl
  • the alkenyl group may be linear or branched chain, carbon number is not particularly limited, but is preferably 2 to 40. According to an exemplary embodiment, the alkenyl group has 2 to 20 carbon atoms. According to another exemplary embodiment, the alkenyl group has 2 to 10 carbon atoms. According to another exemplary embodiment, the alkenyl group has 2 to 6 carbon atoms.
  • Specific examples include vinyl, 1-propenyl, isopropenyl, 1-butenyl, 2-butenyl, 3-butenyl, 1-pentenyl, 2-pentenyl, 3-pentenyl, 3-methyl-1- Butenyl, 1,3-butadienyl, allyl, 1-phenylvinyl-1-yl, 2-phenylvinyl-1-yl, 2, 2-diphenylvinyl-1-yl, 2-phenyl-2- ( Naphthyl-1-yl) vinyl— 1-yl, 2, 2-bis (diphenyl-1-yl) vinyl-1-yl, stilbenyl group, styrenyl group, and the like.
  • the cycloalkyl group is not particularly limited, but preferably has 3 to 60 carbon atoms, and according to one embodiment, the cycloalkyl group has 3 to 30 carbon atoms. According to another exemplary embodiment, the cycloalkyl group has 3 to 20 carbon atoms. According to another exemplary embodiment, the cycloalkyl group has 3 to 6 carbon atoms.
  • the aryl group is not particularly limited, but preferably has 6 to 60 carbon atoms, and may be a monocyclic aryl group or a polycyclic aryl group.
  • the aryl group has 6 to 30 carbon atoms. According to an exemplary embodiment, the aryl group has 6 to 20 carbon atoms.
  • the aryl group may be a phenyl group, a biphenyl group, a terphenyl group, etc. as the monocyclic aryl group, but is not limited thereto.
  • the polycyclic aryl group may be naphthyl group, anthracenyl group, phenanthryl group, pyrenyl group, peryleneyl group, chrysenyl group, fluorenyl group, and the like, but is not limited thereto.
  • the fluorenyl group may be substituted, and two substituents may be bonded to each other to form a spiro structure.
  • the fluorenyl group
  • the heterocyclic group is a heterocyclic group including one or more of 0, N, Si, and S as heterologous elements, and the number of carbon atoms is not particularly limited, but is preferably 2 to 60 carbon atoms.
  • heterocyclic group examples include thiophene group, furan group, pyr group, imidazole group, thiazole group, oxazole group, oxadiazole group, triazole group, pyridyl group, bipyridyl group, pyrimidyl group, triazine group and triazole group , Acridil group, pyridazine group, pyrazinyl group, quinolinyl group, quinazoline group , Quinoxalinyl group, phthalazinyl group, pyrido pyrimidinyl group, pyrido pyrazinyl group, pyrazino pyrazinyl group, isoquinoline group, indole group, carbazole group, benzoxazole group, benzoimidazole group, benzothiazole group, Benzocarbazole group, benzothiophene group, dibenzothiophene group, benzofuranyl group, ,
  • the aryl group in the aralkyl group, aralkenyl group, alkylaryl group, and arylamine group is the same as the example of the aryl group described above.
  • the alkyl group among the aralkyl group, the alkylaryl group, and the alkylamine group is the same as the example of the alkyl group described above.
  • the heteroaryl of the heteroarylamine may be applied to the description of the aforementioned heterocyclic group.
  • the alkenyl group in the aralkenyl group is the same as the example of the alkenyl group described above.
  • the description of the aryl group described above may be applied.
  • the description of the aforementioned heterocyclic group may be applied except that the heteroarylene is a divalent group.
  • the hydrocarbon ring is not a monovalent group, and the description about the aryl group or cycloalkyl group described above may be applied except that two substituents are formed by bonding.
  • the heterocyclic ring is not monovalent, and the description of the aforementioned heterocyclic group may be applied except that two substituents are formed by bonding.
  • the present invention provides a compound represented by the formula (1). Specifically, the compound represented by Chemical Formula 1 is represented by the following Chemical Formulas 1-1 to 1-4:
  • Formulas 1-1 to 1-4 Yi to Y 3 , Ar la , Ar lb> Ar 2 , Ri, R 2 , nl and n2 are the same as defined in Formula 1 above.
  • L 2 are each independently, a single bond; Or a substituted or unsubstituted C 6 - 20 aryl may renil.
  • L 2 are each independently a single bond; Substituted or unsubstituted phenylene; Substituted or unsubstituted naphthylene; Or substituted or unsubstituted biphenylylene.
  • L 2 may be each independently, a single bond, or any one selected from the group consisting of:
  • ⁇ Is ⁇ , ⁇ 2 is CR 3 and Y 3 is CR 3 ;
  • ⁇ Is an ⁇ , ⁇ 2 is CH, ⁇ is 3 or ⁇ ;
  • ⁇ Is CH, ⁇ 2 is CH, and ⁇ 3 may be ⁇ .
  • X 2 is S, NZ 4 , or CZ 5 Z 6 ,
  • Zi to Z 6 are each independently hydrogen; heavy hydrogen; halogen; Cyano; Nitro; Amino; Substituted or unsubstituted d-20 alkyl; Substituted or unsubstituted d-20 haloalkyl; Substituted or unsubstituted C 6 - 20 aryl; Or heteroaryl containing one or more heteroatoms selected from the group consisting of substituted or unsubstituted N, 0 and S,
  • cl is an integer of 0 to 5
  • c2 is an integer of 0 to 4,
  • c3 is an integer of 0-3. At this time, cl represents the number of ⁇ . When cl is 2 or more, two or more ⁇ may be the same or different from each other. Description of c2 and c3 can be understood with reference to the description of cl and the structure of the formula. Specifically, for example, Ar la and Ar lb may each independently be any one selected from the group consisting of:
  • Ar 2 is substituted or unsubstituted C 6 -60 aryl.
  • aryl does not include a non-aromatic condensed ring.
  • the substituted or unsubstituted fluorenyl group is excluded from Ar 2 of the present invention.
  • Ar 2 is unsubstituted or deuterium; halogen; Cyano; Nitro; Amino; Substituted or unsubstituted d- 60 alkyl; Substituted or unsubstituted d-60 haloalkyl; Si (3 ⁇ 4) (3 ⁇ 4) (3 ⁇ 4); 60 is an aryl, - C (Q 4) ( Q 5) (Q 6) and C 6 - C 6 substitution of from the group consisting of 60 to aryl substituents each independently selected
  • Qi to Q 6 are each independently hydrogen; heavy hydrogen; halogen; Cyano; Nitro; Amino; Substituted or ' unsubstituted d-20 alkyl; Or substitution It may be a 20-aryl-unsubstituted C 6.
  • Ar 2 can be any one selected from the group consisting of:
  • Zn to X 14 are each independently hydrogen; heavy hydrogen; halogen; Cyano; Nitro; Amino; Substituted or unsubstituted d-60 alkyl; Substituted or unsubstituted d-eo haloalkyl; Si (3 ⁇ 4) (3 ⁇ 4) (3 ⁇ 4); C (Q 4 ) (3 ⁇ 4) (3 ⁇ 4) and C 6 -60 aryl,
  • 3 ⁇ 4 to 3 ⁇ 4 are each independently hydrogen; heavy hydrogen; halogen; Cyano; Nitro; Amino; Substituted or unsubstituted d-20 alkyl; Or a substituted or unsubstituted C 6 ring - A 20 aryl,
  • cll is an integer from 0 to 5
  • cl2 is an integer of 0-7.
  • cl3 is an integer of 0 to 9
  • cl4 is an integer of 0 to 4
  • cl5 is an integer of 0 to 3
  • cl6 is an integer from 0 to 11
  • cl7 is an integer of 0 to 9
  • cl8 is an integer from 0 to 6
  • cl9 is an integer of 0-12. In this case, cll represents the number of Z u . When cll is 2 or more, two or more Z u may be the same or different from each other. Description of cl2 to cl9 can be understood with reference to the description of the cll and the structure of the formula.
  • 3 ⁇ 4 to Q 6 is hydrogen; heavy hydrogen; halogen; Cyano; Nitro; Amino; methyl; Or phenyl.
  • Ar 2 is any one selected from the group consisting of
  • Ri to 3 ⁇ 4 are each independently hydrogen; heavy hydrogen; Cyano; Or substituted or unsubstituted Cwo alkyl.
  • Ri and R 2 may each independently be hydrogen, deuterium, cyano, methyl, or methyl substituted with deuterium, and 3 ⁇ 4 may be hydrogen.
  • nl represents the number of. When nl is 2 or more, two or more 3 ⁇ 4 may be the same or different from each other. Description of n2 may be understood with reference to the description of nl and the structure of Formula 1.
  • the compound may be selected from the group consisting of the following compounds: oz
  • Compound represented by the formula (1) such as a pyridinyl group, a pyrimidinyl group, or a triazinyl group at a specific position of the dibenzofuran or dibenzothiophene core
  • the N atom-containing heteroaryl substituent group has a structure in which an aromatic aryl substituent is linked to a specific position of the dibenzofuran or dibenzothiophene core, whereby the organic light emitting device using the non-aromatic condensed cyclic group such as fluorenyl group is connected. Compared with the organic light emitting device using the compound, it can exhibit high efficiency, low driving voltage and long life.
  • the compound represented by the formula (1) can be prepared by a manufacturing method such as Banung Formula 1 as follows: In Reaction Formula 1, 1 2 , Yi to Y 3 , Aria, Ar lb and Ar 2 are the same as defined in Formula 1.
  • the compound represented by Formula 1 may be prepared by appropriately replacing the starting material in accordance with the structure of the compound to be prepared with reference to Banung Formula 1.
  • the present invention also provides an organic light emitting device including the compound represented by Chemical Formula 1.
  • the present invention is a first electrode; A second electrode provided to face the first electrode; And at least one organic layer provided between the first electrode and the second electrode, wherein at least one of the organic layers comprises a compound represented by Chemical Formula 1. to provide.
  • the organic material layer of the organic light emitting device of the present invention may have a single layer structure, but may have a multilayer structure in which two or more organic material layers are stacked.
  • the organic light emitting device of the present invention may have a structure including a hole injection layer, a hole transport layer, a light emitting layer, an electron transport layer, an electron injection layer and the like as an organic layer.
  • the structure of the organic light emitting device is not limited thereto and may include a smaller number of organic layers.
  • the organic material layer may include a light emitting layer, and the light emitting layer may include a compound represented by Chemical Formula 1.
  • the compound represented by Chemical Formula 1 may be used as a host material in the emission layer.
  • the organic light emitting device according to the present invention may be an organic light emitting device having a structure in which an anode, one or more organic material layers, and a cathode are sequentially stacked on a substrate.
  • the organic light emitting device according to the present invention may be an organic light emitting device of an inverted type in which a cathode, one or more organic material layers, and an anode are sequentially stacked on a substrate.
  • FIGS. 1 and 2 the structure of an organic light emitting diode according to an embodiment of the present invention is illustrated in FIGS. 1 and 2.
  • FIG. 1 shows an example of an organic light emitting element composed of a substrate 1, an anode 2, a light emitting layer 3, and a cathode 4. As shown in FIG.
  • the compound represented by Formula 1 may be included in the light emitting layer.
  • 2 shows an example of an organic light emitting element consisting of a substrate 1, an anode 2, a hole injection layer 5, a hole transport layer 6, a light emitting layer 7, an electron transport layer 8 and a cathode 4. It is.
  • the compound represented by Chemical Formula 1 may be included in one or more layers of the hole injection layer, the hole transport layer, the light emitting layer, and the electron transport layer.
  • the organic light emitting device according to the present invention may be manufactured by materials and methods known in the art, except that at least one layer of the organic material layer includes the compound represented by Chemical Formula 1.
  • the organic material layers may be formed of the same material or different materials.
  • the organic light emitting device according to the present invention may be manufactured by sequentially stacking a first electrode, an organic material layer, and a second electrode on a substrate. At this time, a metal or conductive metal oxide or an alloy thereof is deposited on the substrate by using a PVDC physical vapor deposition method such as sputtering or e-beam evaporat ion.
  • an organic material layer including a hole injection layer, a hole transporting layer, a light emitting layer and an electron transporting layer is formed thereon, by depositing a material that can be used as a cathode thereon.
  • an organic light emitting device may be manufactured by sequentially depositing a cathode material, an organic material layer, and an anode material on a substrate.
  • the compound represented by Chemical Formula 1 may be formed as an organic layer by a solution coating method as well as a vacuum deposition method in the manufacture of the organic light emitting device.
  • the solution coating method means spin coating, dip coating, doctor blading, inkjet printing, screen printing, spray method, roll coating, etc., but is not limited thereto.
  • an organic light emitting device may be manufactured by sequentially depositing an organic material layer anode material on a substrate from a cathode material (W0 2003/012890).
  • the manufacturing method is not limited thereto.
  • the first electrode is an anode
  • the second electrode is a cathode
  • the first electrode is a cathode
  • the second electrode is an anode.
  • As the anode material a material having a large work function is generally preferred to facilitate hole injection into the organic material layer.
  • the positive electrode material include metals such as vanadium, crumb, copper, zinc and gold or alloys thereof; Metal oxides such as zinc oxide, indium oxide, indium tin oxide ( ⁇ ), indium zinc oxide (IZ0); ⁇ 0: ⁇ 1 or SN0 2 : A combination of a metal and an oxide such as Sb; Conductive polymers such as poly (3-methylthiophene), poly [3,4- (ethylene-1,2-dioxy) thiophene] (PED0T), polypyrrole and polyaniline, but are not limited to sons no. It is preferable that the cathode material is a material having a small work function to facilitate electron injection into the organic material layer.
  • the negative electrode material include metals such as magnesium, calcium, sodium, potassium, titanium, indium, yttrium, lithium, gadolinium, aluminum, silver, tin, and lead or alloys thereof; Multilayer structure materials such as LiF / Al or Li0 2 / Al, and the like, but are not limited thereto.
  • the hole injection layer is a layer for injecting holes from the electrode, the hole injection material has the ability to transport holes to have a hole injection effect at the anode, has an excellent hole injection effect to the light emitting layer or the light emitting material, The compound which prevents the excitons from moving to the electron injection layer or the electron injection material, and is excellent in thin film formation ability is preferable.
  • the highest occupied mol ecular orbital (HO) of the hole injection material is between the work function of the anode material and the HOMO of the surrounding organic layer.
  • the hole injection material include metal porphyr (in), oligothiophene, arylamine-based organics, nucleonitrile-nucleated azatriphenylene-based organics, quinacridone-based organics, and perylene ) Organic materials, anthraquinone and polyaniline and polythiophene-based conductive polymers, but are not limited thereto.
  • the hole transport layer receives holes from the hole injection layer
  • a material capable of transporting holes from the anode or the hole injection layer to the light emitting layer as a hole transporting material is suitable.
  • Specific examples include an arylamine-based organic material, a conductive polymer, and a block copolymer having a conjugated portion and a non-conjugated portion, but are not limited thereto.
  • the light emitting material is a material capable of emitting light in the visible region by transporting and combining holes and electrons from the hole transport layer and the electron transport layer, respectively, and a material having good quantum efficiency with respect to fluorescence or phosphorescence is preferable.
  • the light emitting insect may include a host material and a dopant material.
  • the host material may include a compound represented by Chemical Formula 1 described above. In addition, it may further include a condensed aromatic ring derivative or a hetero ring-containing compound.
  • the condensed aromatic ring derivatives include anthracene derivatives, pyrene derivatives, naphthalene derivatives, pentacene derivatives, phenanthrene compounds, and fluoranthene compounds
  • the heterocyclic compounds include carbazole derivatives, dibenzofuran derivatives and ladder type furans.
  • Dopant materials include aromatic amine derivatives, styrylamine compounds, boron complexes : fluoranthene compounds, metal complexes, and the like.
  • the aromatic amine derivatives are condensed aromatic ring derivatives having a substituted or unsubstituted arylamino group, and include pyrene, anthracene, chrysene and periplanthene having an arylamino group, and the styrylamine compound may be substituted or unsubstituted.
  • arylamine As a compound in which at least one arylvinyl group is substituted, a substituent selected from one or two or more selected from the group consisting of an aryl group, a silyl group, an alkyl group, a cycloalkyl group and an arylamino group is substituted or unsubstituted.
  • the electron transport layer is a layer that receives electrons from the electron injection layer and transports electrons to the light emitting layer.
  • an electron transport material a material capable of injecting electrons well from the cathode and transferring the electrons to the light emitting layer is suitable. Do.
  • the electron transport layer can be used with any desired cathode material as used in accordance with the prior art.
  • suitable cathode materials are conventional materials having a low work function followed by an aluminum or silver layer. Specifically cesium, barium, calcium, etherboom and samarium, each followed by an aluminum or silver layer.
  • the electron injection layer is a layer for injecting electrons from an electrode, has an ability of transporting electrons, has an electron injection effect from the cathode, has an excellent electron injection effect to the light emitting layer or the light emitting material, and hole injection of excitons generated in the light emitting layer
  • the compound which prevents the movement to a layer and is excellent in thin film formation ability is preferable.
  • fluorenone anthraquinodimethane, diphenoquinone, thiopyran dioxide, oxazole, oxadiazole, triazole, imidazole, perylenetetracarboxylic acid, preorenylidene methane, anthrone and the derivatives thereof, metal Complex compounds and nitrogen-containing five-membered ring derivatives; and the like, but are not limited thereto.
  • Examples of the metal complex compound include 8-hydroxyquinolinato lithium, bis (8-hydroxyquinolinato) zinc, bis (8-hydroxyquinolinato) copper, bis (8- Manganese, tris (8-hydroxyquinolinato) aluminum, tris (2-methyl-8-hydroxyquinolinato) aluminum, tris (8-hydroxyquinolinato) gallium, bis ( 10—hydroxybenzo [h] quinolinato) beryllium, bis (10-hydroxybenzo [h] quinolinato) zinc, bis (2-methyl-8-quinolinato) chlorogallium, bis (2-methyl -8-quinolinato) (0-cresolato) gallium, bis (2-methyl-8-quinolinato) (1-naphlato) aluminum, bis (2-methyl-8-quinolinato) (2 -Naphlato) gallium, etc., but is not limited thereto.
  • the organic light emitting device may be a top emission type, a bottom emission type or a double-sided emission type depending on the material used.
  • the compound represented by Formula 1 may be included in an organic solar cell or an organic transistor in addition to the organic light emitting device. Preparation of the compound represented by Chemical Formula 1 and an organic light emitting device including the same will be described in detail in the following Examples. However, the following examples are intended to illustrate the present invention, and the scope of the present invention is not limited thereto.
  • Phenylnaphthalene (l-brotno-4-phenylnaphthalene) (10.8 g, 38
  • Example 1 Synthesis Example 1 except that 4-chloro_2,6-diphenylpyrimidine (10.2 g, 38.1 mmol) was used instead of compound Q-36 19.9 g, 38.1 ⁇ ol) and 2-bromophenanthrene.
  • a glass substrate coated with a thin film having an indium tin oxide (IT0) of 1,300 A was placed in distilled water in which a detergent was dissolved and ultrasonically cleaned.
  • a detergent was used as the detergent
  • distilled water filtered secondly as a filter of Millipore Co. product was used as the distilled water.
  • the ultrasonic cleaning was performed twice with distilled water for 10 minutes.
  • ultrasonic cleaning with a solvent of isopropyl alcohol, acetone, methanol, dried and transported to a plasma cleaner.
  • the substrate was cleaned for 5 minutes using an oxygen plasma, and then the substrate was transferred to a vacuum evaporator.
  • the HI-1 compound as described above was thermally vacuum deposited to a thickness of 50 A on the ⁇ transparent electrode prepared as above to form a hole injection layer.
  • a hole transport layer was formed by thermal vacuum deposition of the HT-1 compound at a thickness of 250 A on the hole injection layer, and an electron blocking layer was formed by vacuum deposition of the HT-2 compound at a thickness of 50 A on the HT-1 deposition film.
  • Phosphorescent dopant YGD-1 was co-deposited at a weight ratio of 1 and 13 ⁇ 4 to form a light emitting layer having a thickness of 400 A.
  • ET-1 material was vacuum deposited to a thickness of 250 A on the light emitting layer, and the ET-2 material was co-deposited with Li in a 2% weight ratio to a thickness of 100 A to form an electron transport layer and an electron injection layer.
  • Aluminum was deposited to a thickness of 1000 A on the electron injection layer to form a cathode.
  • the organic light emitting diodes of Examples 2 to 49 were manufactured by the same method as Example 1, except that phosphorescent host materials and dopant contents were changed as shown in Tables 1 to 3 below to form the emission layer. . Comparative Example 1 to Comparative Example 10
  • the organic light emitting diodes of Comparative Examples 1 to 10 were manufactured using the same method as in Example 1, respectively.
  • the host materials A to I used in the comparative examples are as follows.
  • T95 means the time required to reduce the luminance to 953 ⁇ 4 when the initial luminance at the light density of 50 mA / cm 2 is 100%.
  • a HI-1 compound as described below was thermally vacuum deposited to a thickness of 150 A to form a hole injection layer.
  • phosphorescent dopant GD-1 was co-deposited on the hole transport layer at a weight ratio of Compound 47 and 5% prepared in Synthesis Example 15-3 to form a light emitting layer having a thickness of 400 A.
  • a hole blocking layer was formed by vacuum depositing an ET-3 material to a thickness of 50 A on the light emitting layer, and a 250 A electron transport layer was formed by vacuum depositing an ET-4 material and LiQ in a weight ratio of 1: 1 on the hole blocking layer.
  • Lithium fluoride (UF) having a thickness of 10 A was sequentially deposited on the electron transport layer, and Mg was deposited with Ag at a weight ratio of 10> to form an electron injection layer having a thickness of 200 A.
  • Aluminum was deposited to a thickness of 1000A on the cathode to form a cathode.
  • the deposition rate of the organic material was maintained at 0.4 to 0.7 A / sec
  • the lithium fluoride of the cathode was maintained at 0.3 A / sec
  • the aluminum was maintained at the deposition rate of 2 A / sec. — 7 to 5 x 10 "8 torr
  • Example 50 Except for changing the phosphorescent host material and dopant content in forming the light emitting layer with Tables 4 and 5, the same method as in Example 50 was performed. Using each of the organic light emitting diodes of Examples 51 to 90, respectively. Comparative Examples 11 to 19
  • the organic light emitting diodes of Comparative Examples 11 to 19 were manufactured by the same method as Example 50, except that the phosphorescent host material and the dopant content were changed as shown in Table 6 when forming the emission layer.
  • the host materials A to I used in the comparative examples are as described above.
  • T95 means the time required for the luminance to decrease to 95% when the initial luminance at the light density of 20 mA / cm 2 is 100%.
  • the organic light emitting device manufactured by using the compound according to the present invention as a phosphorescent host material exhibits superior performance in terms of driving voltage, current efficiency, and lifetime compared to the organic light emitting device of the Comparative Example. can confirm.
  • the organic light emitting device according to the embodiment is a phosphorescence that is commonly used The lifespan was increased by at least 150% compared to the organic light emitting diodes according to Comparative Examples 9 and 19 using the compound I as a host material.
  • the organic light emitting device according to Examples 4, 8, and 50 is the organic light emitting device according to Comparative Examples 1, 6, 11, and 16 using compounds A and F having different substitution positions of the compound and triazinyl group according to the present invention, respectively.
  • the organic light emitting diode according to Example 28 also exhibited an increase in lifespan of about 370% or more compared to the organic light emitting diode according to Comparative Example 3 using the compound C.
  • the organic light emitting diode according to Examples 30 and 31 also includes Compound G. Compared to the organic light emitting device according to Comparative Example 7, using the above, the lifespan was increased by about 250% or more. In addition, it was found that the driving voltage, current efficiency, and lifespan of the organic light emitting diode according to Comparative Example 5 using the compound E containing no triazinyl group were significantly lower than those of the organic light emitting diode according to the embodiment.
  • the organic light emitting device according to Comparative Examples 8 and 18 using the compound H substituted with the dimethyl fluorenyl group also shows a significantly lower lifespan than the organic light emitting device according to the embodiment, which is used when manufacturing or driving the device. It is believed that this is due to the generation of impurities generated as radicals formed by dimethylfluorenyl in the air.

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Electroluminescent Light Sources (AREA)

Abstract

본 발명은 신규한 헤테로 고리 화합물 및 이를 이용한 유기발광 소자를 제공한다.

Description

【명세서】
【발명의 명칭】
신규한 헤테로 고리 화합물 및 이를 이용한 유기발광 소자
【기술분야】
관련 출원 (들)과의 상호 인용
본 출원은 2016년 7월 20일자 한국 특허 출원 제 10-2016-0092202호, 및 2017년 6월 14일자 한국 특허 출원 제 10-2017-0075029호에 기초한 우선권의 이익을 주장하며, 해당 한국 특허 출원들의 문헌에 개시된 모든 내용은 본 명세서의 일부로서 포함된다. 본 발명은 신규한 헤테로 고리 화합물 및 이를 포함하는 유기 발광 소자에 관한 것이다.
【발명의 배경이 되는 기술】
일반적으로 유기 발광 현상이란 유기 물질을 이용하여 전기에너지를 빛에너지로 전환시켜주는 현상을 말한다. 유기 발광 현상을 이용하는 유기 발광 소자는 넓은 시야각, 우수한 콘트라스트, 빠른 응답 시간을 가지며, 휘도, 구동 전압 및 웅답 속도 특성이 우수하여 많은 연구가 진행되고 있다. 유기 발광 소자는 일반적으로 양극과 음극 및 상기 양극과 음극 사이에 유기물 층을 포함하는 구조를 가진다. 상기 유기물 층은 유기 발광 소자의 효율과 안정성을 높이기 위하여 각기 다른 물질로 구성된 다층의 구조로 이루어진 경우가 많으며, 예컨대 정공 주입층, 정공 수송층, 발광층, 전자수송층, 전자 주입층 등으로 이루어질 수 있다. 이러한 유기 발광 소자의 구조에서 두 전극 사이에 전압을 걸어주게 되면 양극에서는 정공이, 음극에서는 전자가 유기물 층에 주입되게 되고, 주입된 정공과 전자가 만났을 때 액시톤 (exci ton)이 형성되며, 이 엑시톤이 다시 바닥상태로 떨어질 때 빛이 나게 된다. 상기와 같은 유기 발광 소자에 사용되는 유기물에 대하여 새로운 재료의 개발이 지속적으로 요구되고 있다. 【선행기술문헌】
【특허문헌】
(특허문헌 0001) 한국특허 공개번호 게 10-2000-0051826호
【발명의 내용】
【해결하고자 하는 과제】
본 발명은 신규한 헤테로고리 화합물 화합물 및 이를 포함하 발광 소자에 관한 것이다.
【과제의 해결 수단】
본 발명은 하기 화학식 1로 표시되는 화합물을 제공한다.
Figure imgf000003_0001
상기 화학식 1에서,
¾은 0또는 S이고,
Li 및 L2는 각각 독립적으로, 단일 결합; 치환 또는 비치환된 C6-60 아릴렌; 또는 치환 또는 비치환된 0, N , Si 및 S로 구성되는 군으로부터 선택되는 헤테로원자를 1개 이상 포함하는 ( 60 헤테로아릴렌이고,
Yi 내지 Y3는 각각 독립적으로, N 또는 CR3이되, ^ 내지 Y3 중 적어도 하나는 Ν이고,
Arla및 는 각각 독립적으로, 치환 또는 비치환된 C660 아릴; 또는 치환 또는 비치환된 N , 0 및 ' S로 구성되는 군으로부터 선택되는 헤테로원자를 1개 내지 3개 포함하는 d-so 헤테로아릴이고,
Ar2는 치환 또는 비치환된 C6-60 아릴이고,
Ri 내지 ¾는 각각 독립적으로, 수소; 중수소; 할로겐; 시아노; 니트로 ; 아미노; 치환 또는 비치환된 d-60 알킬 ; 치환 또는 비치환된 d-60 할로알킬 ; 치환 또는 비치환된 d-60 알콕시 ; 치환 또는 비치환된 d-60 할로알콕시; 치환 또는 비치환된 C3-60 사이클로알킬; 치환 또는 비치환된
C2-6o 알케닐; 치환 또는 비치환된 C6-60 아릴; 치환 또는 비치환된 C6-60 아릴옥시; 또는 치환 또는 비치환된 N, 0 및 S로 구성되는 군으로부터 선택되는 헤테로원자를 1개 이상 포함하는 ( 60 헤테로아릴이고,
nl 및 n2는 각각 독립적으로, 0 내지 3의 정수이다. 또한, 본 발명은 게 1 전극; 상기 게 1 전극과 대향하여 구비된 제 2 전극; 및 상기 제 1 전극과 상기 제 2 전극 사이에 구비된 1층 이상의 유기물 층을 포함하는 유기 발광 소자로서, 상기 유기물 층 중 1층 이상은 상기 화학식 1로 표시되는 화합물을 포함하는, 유기 발광 소자를 제공한다.
【발명의 효과】
상술한 화학식 1로 표시되는 화합물은 유기 발광 소자의 유기물 층의 재료로서 사용될 수 있으며, 유기 발광 소자에서 효율의 향상, 낮은 구동전압 및 /또는 수명 특성을 향상시킬 수 있다. 특히, 상술한 화학식 1로 표시되는 화합물은 발광층의 호스트 재료로 사용될 수 있다.
【도면의 간단한 설명】
도 1은 기판 (1), 양극 (2) , 발광층 (3), 음극 (4)으로 이루어진 유기 발광 소자의 예를 도시한 것이다.
도 2는 기판 (1), 양극 (2), 정공 주입층 (5), 정공 수송층 (6), 발광층 (7), 전자수송층 (8) 및 음극 (4)로 이루어진 유기 발광 소자의 예를 도시한 것이다.
【발명을 실시하기 위한 구체적인 내용】
이하, 본 발명의 이해를 돕기 위하여 보다 상세히 설명한다.
본 명세서에서, 는 다른 치환기에 연결되는 결합을 의미하고, 단일 결합은 및 L2로 표시되는 부분에 별도의 원자가 존재하지 않은 경우를 의미한다 . 본 명세서에서 "치환 또는 비치환된1' 이라는 용어는 중수소; 할로겐기; 시아노기; 니트릴기; 니트로기; 히드록시기; 카보닐기; 에스테르기; 이미드기; 아미노기; 포스핀옥사이드기; 알콕시기; 아릴옥시기; 알킬티옥시기; 아릴티옥시기; 알킬술폭시기; 아릴술폭시기; 실릴기; 붕소기; 알킬기; 사이클로알킬기; 알케닐기; 아릴기; 아르알킬기; 아르알케닐기; 알킬아릴기; 알킬아민기; 아랄킬아민기; 헤테로아릴아민기; 아릴아민기; 아릴포스핀기; 또는 N, 0 및 S 원자 중 1개 이상을 포함하는 헤테로아릴로 이루어진 군에서 선택된 1개 이상의 치환기로 치환 또는 비치환되거나, 상기 예시된 치환기 중 2 아상의 치환기가 연결된 치환 또는 비치환된 것을 의미한다. 예컨대, "2 이상의 치환기가 연결된 치환기 "는 바이페닐기일 수 있다. 즉, 바이페닐기는 아릴기일 수도 있고, 2개의 페닐기가 연결된 치환기로 해석될 수도 있다. 본 명세서에서 카보닐기의 탄소수는 특별히 한정되지 않으나, 탄소수 1 내지 40인 것이 바람직하다. 구체적으로 하기와 같은 구조의 화합물이 될 수 있으나, 이에 한정되는 것은 아니다.
Figure imgf000005_0001
본 명세서에 있어서, 에스테르기는 에스테르기의 산소가 탄소수 내지 25의 직쇄, 분지쇄 또는 고리쇄 알킬기 또는 탄소수 6 내지 아릴기로 치환될 수 있다. 구체적으로, 하기 구조식의 화합물이 될 있으나, 이에 한정되는 것은 아니다.
Figure imgf000006_0001
본 명세서에 있어서, 이미드기의 탄소수는 특별히 한정되지 않으나, 탄소수 1 내지 25인 것이 바람직하다. 구체적으로 하기와 같은 구조의 화합물이 될 수 있으나, 이에 한정되는 것은 아니다.
Figure imgf000006_0002
본 명세서에 있어서, 실릴기는 구체적으로 트리메틸실릴기, 트리에틸실릴기, t-부틸디메틸실릴기, 비닐디메틸실릴기, 프로필디메틸실릴기, 트리페닐실릴기, 디페닐실릴기, 페닐실릴기 등이 있으나 이에 한정되지 않는다. 본 명세서에 있어서, 붕소기는 구체적으로 트리메틸붕소기, 트리에틸붕소기, t-부틸디메틸붕소기, 트리페닐붕소기, 페닐붕소기 등이 있으나 이에 한정되지 않는다. 본 명세서에 있어서, 할로겐기의 예로는 불소, 염소, 브롬 또는 요오드가 있다. 본 명세서에 있어서, 상기 알킬기는 직쇄 또는 분지쇄일 수 있고, 탄소수는 특별히 한정되지 않으나 1 내지 40인 것이 바람직하다, 일 실시상태에 따르면, 상기 알킬기의 탄소수는 1 내지 20이다. 또 하나의 실시상태에 따르면, 상기 알킬기의 탄소수는 1 내지 10이다. 또 하나의 실시상태에 따르면, 상기 알킬기의 탄소수는 1 내지 6이다. 알킬기의 구체적인 예로는 메틸, 에틸, 프로필, n-프로필, 이소프로필, 부틸, n-부틸 이소부틸, tert-부틸, sec-부틸, 1-메틸-부틸, 1_에틸-부틸, 펜틸, n_펜틸, 이소펜틸, 네오펜틸, tert-펜틸, 핵실, n-핵실, 1-메틸펜틸, 2-메틸 틸, 4-메틸 -2-펜틸, 3 , 3-디메틸부틸, 2-에틸부틸, 헵틸, n-헵틸, 1-메틸핵실, 사이클로펜틸메틸, 사이클로핵틸메틸, 옥틸, n-옥틸, tert-옥틸, 1- 메틸헵틸, 2-에틸핵실, 2-프로필펜틸, n-노닐, 2 , 2-디메틸헵틸, 1-에틸- 프로필, 1 , 1-디메틸-프로필, 이소핵실, 2-메틸펜틸, 4-메틸헥실, 5- 메틸핵실 등이 있으나, 이들에 한정되지 않는다. 본 명세서에 있어서, 상기 알케닐기는 직쇄 또는 분지쇄일 수 있고, 탄소수는 특별히 한정되지 않으나, 2 내지 40인 것이 바람직하다. 일 실시상태에 따르면, 상기 알케닐기의 탄소수는 2 내지 20이다. 또 하나의 실시상태에 따르면, 상기 알케닐기의 탄소수는 2 내지 10이다. 또 하나의 실시상태에 따르면, 상기 알케닐기의 탄소수는 2 내지 6이다. 구체적인 예로는 비닐, 1-프로페닐, 이소프로페닐, 1-부테닐, 2-부테닐, 3-부테닐, 1-펜테닐, 2-펜테닐, 3-펜테닐, 3-메틸 -1-부테닐, 1,3-부타디에닐, 알릴, 1-페닐비닐 -1-일, 2-페닐비닐 -1-일, 2 , 2-디페닐비닐 -1-일, 2-페닐 -2- (나프틸 -1-일)비닐— 1-일, 2 , 2-비스 (디페닐 -1-일)비닐 -1-일, 스틸베닐기, 스티레닐기 등이 있으나 이들에 한정되지 않는다. 본 명세서에 있어서, 사이클로알킬기는 특별히 한정되지 않으나, 탄소수 3 내지 60인 것이 바람직하며, 일 실시상태에 따르면, 상기 사이클로알킬기의 탄소수는 3 내지 30이다. 또 하나의 실시상태에 따르면, 상기 사이클로알킬기의 탄소수는 3 내지 20이다. 또 하나의 실시상태에 따르면, 상기 사이클로알킬기의 탄소수는 3 내지 6이다. 구체적으로 사이클로프로필, 사이클로부틸, 사이클로펜틸, 3-메틸사이클로펜틸, 2,3- 디메틸사이클로펜틸, 사이클로핵실, 3-메틸사이클로핵실, 4- 메틸사이클로핵실, 2 , 3-디메틸사이클로핵실, 3,4,5-트리메틸사이클로핵실, 4-tert-부틸사이클로핵실, 사이클로헵틸, 사이클로옥틸 등이 있으나, 이에 한정되지 않는다. 본 명세서에 었어서, 아릴기는 특별히 한정되지 않으나 탄소수 6 내지 60인 것이 바람직하며, 단환식 아릴기 또는 다환식 아릴기일 수 있다. 일 실시상태에 따르면, 상기 아릴기의 탄소수는 6 내지 30이다. 일 실시상태에 따르면, 상기 아릴기의 탄소수는 6 내지 20이다. 상기 아릴기가 단환식 아릴기로는 페닐기, 바이페닐기, 터페닐기 등이 될 수 있으나, 이에 한정되는 것은 아니다. 상기 다환식 아릴기로는 나프틸기, 안트라세닐기, 페난트릴기, 파이레닐기, 페릴레닐기, 크라이세닐기, 플루오레닐기 등이 될 수 있으나, 이에 한정되는 것은 아니다. 본 명세서에 있어서, 플루오레닐기는 치환될 수 있고, 치환기 2개가 서로 결합하여 스피로 구조를 형성할 수 있다. 상기 플루오레닐기가 ,
Figure imgf000008_0001
등이 될 수 있다. 다만, 이에 한정되는 것은 아니다. 본 명세서에 있어서, 헤테로고리기는 이종 원소로 0, N , Si 및 S 중 1개 이상을 포함하는 헤테로고리기로서, 탄소수는 특별히 한정되지 않으나, 탄소수 2 내지 60인 것이 바람직하다. 헤테로고리기의 예로는 티오펜기, 퓨란기, 피를기, 이미다졸기, 티아졸기, 옥사졸기, 옥사디아졸기, 트리아졸기, 피리딜기, 비피리딜기, 피리미딜기, 트리아진기, 트리아졸기, 아크리딜기, 피리다진기, 피라지닐기, 퀴놀리닐기, 퀴나졸린기, 퀴녹살리닐기, 프탈라지닐기, 피리도 피리미디닐기, 피리도 피라지닐기, 피라지노 피라지닐기, 이소퀴놀린기, 인돌기, 카바졸기, 벤조옥사졸기, 벤조이미다졸기, 벤조티아졸기, 벤조카바졸기, 벤조티오펜기, 디벤조티오펜기, 벤조퓨라닐기, 페난쓰를린기 (phenanthrol ine) , 티아졸릴기, 이소옥사졸릴기, 옥사디아졸릴기, 티아디아졸릴기, 벤조티아졸릴기, 페노티아지닐기 및 디벤조퓨라닐기 등이 있으나, 이들에만 한정되는 것은 아니다. 본 명세서에 있어서, 아르알킬기, 아르알케닐기, 알킬아릴기, 아릴아민기 중의 아릴기는 전술한 아릴기의 예시와 같다. 본 명세서에 있어서, 아르알킬기, 알킬아릴기, 알킬아민기 중 알킬기는 전술한 알킬기의 예시와 같다. 본 명세서에 있어서, 헤테로아릴아민 중 헤테로아릴은 전술한 헤테로고리기에 관한 설명이 적용될 수 있다. 본 명세서에 있어서, 아르알케닐기 중 알케닐기는 전술한 알케닐기의 예시와 같다. 본 명세서에 있어서, 아릴렌은 2가기인 것을 제외하고는 전술한 아릴기에 관한 설명이 적용될 수 있다. 본 명세서에 있어서, 헤테로아릴렌은 2가기인 것을 제외하고는 전술한 헤테로고리기에 관한 설명이 적용될 수 있다. 본 명세서에 있어서, 탄화수소 고리는 1가기가 아니고, 2개의 치환기가 결합하여 형성한 것을 제외하고는 전술한 아릴기 또는 사이클로알킬기에 관한 설명이 적용될 수 있다. 본 명세서에 있어서, 헤테로고리는 1가가가 아니고, 2개의 치환기가 결합하여 형성한 것을 제외하고는 전술한 헤테로고리기에 관한 설명이 적용될 수 있다. 한편 , 본 발명은 상기 화학식 1로 표시되는 화합물을 제공한다. 구체적으로, 상기 화학식 1로 표시되는 화합물은 하기 화학식 1-1 내지 1-4로 표시된다:
[화학식 1-1]
Figure imgf000010_0001
[화학식 1-4]
Figure imgf000011_0001
상기 화학식 1-1 내지 1-4에서 , , , Yi 내지 Y3, Arla, Arlb> Ar2, Ri, R2, nl 및 n2에 대한 설명은 상기 화학식 1에서 정의한 바와 같다. 바람직하게는, 상기 화학식 1에서, 및 L2는 각각 독립적으로, 단일 결합; 또는 치환 또는 비치환된 C6-20 아릴렌일 수 있다. 예를 들어, 및 L2는 각각 독립적으로, 단일 결합; 치환 또는 비치환된 페닐렌; 치환 또는 비치환된 나프틸렌; 또는 치환 또는 비치환된 바이페닐릴렌일 수 있다. 구체적으로 예를 들어, 및 L2는 각각 독립적으로, 단일 결합, 또는 하기로 구성되는 군으로부터 선택되는 어느 하나일 수 있다:
Figure imgf000012_0001
바람직하게는, 상기 화학식 1에서,
^은 N이고, Y2는 Ν이고, Υ3는 Ν이거나;
^은 Ν이고, Υ2는 Ν이고, Υ3는 CR3아거나;
^은 N이고, Y2는 CR3이고, Y3는 Ν이거나;
^은 Ν이고, Υ2는 CR3이고, Y3는 CR3이거나; 또는
^은 CR3이고, Y2는 CR3이고, Y3는 Ν일 수 있다. 바람직하게는, 상기 화학식 1에서,
^은 Ν이고, Υ2는 Ν이고, Υ3는 Ν이거나;
^은 Ν이고, Υ2는 Ν이고, Υ3는 CH이거나;
^은 Ν이고, Υ2는 CH이고, Υ3는 Ν이거나;
^은 Ν이고, Υ2는 CH이고, Υ3는 CH이거나; 또는
^은 CH이고, Υ2는 CH이고, Υ3는 Ν일 수 있다. 바람직하게는, 상기 화학식 1에서, Arla 및 八 는 각각' 독립적으로, 치환 또는 비치환된 C6-20 아릴; 또는 치환 또는 비치환된 N, 0 및 로 구성되는 군으로부터 선택되는 헤테로원자를 1개 포함하는 헤테로아릴일 수 있다. 예를 들어, Arla 및 는 각각 독립적으로, 하기로 구성되는 군으로부터 선택되는 어느 하나일 수 있다:
Figure imgf000013_0001
상기에서 ,
X2는ᄋ, S , NZ4 , 또는 CZ5Z6이고,
Zi 내지 Z6은 각각 독립적으로, 수소; 중수소; 할로겐; 시아노; 니트로 ; 아미노; 치환 또는 비치환된 d-20 알킬 ; 치환 또는 비치환된 d-20 할로알킬; 치환 또는 비치환된 C6-20 아릴; 또는 치환 또는 비치환된 N, 0 및 S로 구성되는 군으로부터 선택되는 헤테로원자를 1개 이상 포함하는 헤테로아릴이고,
cl은 0 내지 5의 정수이고,
c2는 0 내지 4의 정수이고,
c3는 0 내지 3의 ,정수이다. 이때, cl은 ^의 개수를 나타낸 것으로서, cl이 2 이상일 경우, 2 이상의 ^은 서로 동일하거나 상이할 수 있다. c2 및 c3에 대한 설명은 상기 cl에 대한 설명 및 상기 화학식의 구조를 참조하여 이해될 수 있다. 구체적으로 예를 들어, Arla 및 Arlb는 각각 독립적으로, 하기로 구성되는 군으로부터 선택되는 어느 하나일 수 있다:
Figure imgf000014_0001
LZ900/LlOZW^/13d Ζ1^9ΐΟ/8ΐΟΖ OAV
Figure imgf000015_0001
Figure imgf000015_0002
또한, 상기 화학식 1에서, Ar2는 치환 또는 비치환된 C6-60 아릴이다. 이때, 아릴은 비방향족 축합환을 포함하지 않는다. 구체적으로, 치환 또는 비치환된 플루오레닐기는 본 발명의 Ar2에서 제외된다. 바람직하게는, Ar2는 비치환되거나, 또는 중수소; 할로겐; 시아노; 니트로; 아미노; 치환 또는 비치환된 d-60 알킬 ; 치환 또는 비치환된 d-60 할로알킬; Si (¾) (¾) (¾) ; C(Q4) (Q5) (Q6) 및 C6-60 아릴로 구성되는 군으로부터 각각 독립적으로 선택되는 치환기로 치환된 C6-60 아릴이고,
여기서, Qi 내지 Q6은 각각 독립적으로, 수소; 중수소; 할로겐; 시아노 ; 니트로 ; 아미노; 치환 또는 '비치환된 d-20 알킬 ; 또는 치환 또는 비치환된 C6-20 아릴일 수 있다. 예를 들어, Ar2는 하기로 구성되는 군으로부터 선택되는 어느 하나일 수있다:
Figure imgf000016_0001
Figure imgf000017_0001
상기에서,
Zn 내지 Ζ14는 각각 독립적으로, 수소; 중수소; 할로겐; 시아노; 니트로 ; 아미노; 치환 또는 비치환된 d-60 알킬 ; 치환 또는 비치환된 d-eo 할로알킬; Si (¾) (¾) (¾) ; C(Q4) (¾) (¾) 및 C6-60 아릴이고,
여기서, ¾ 내지 ¾은 각각 독립적으로, 수소; 중수소; 할로겐; 시아노 ; 니트로 ; 아미노; 치환 또는 비치환된 d-20 알킬 ; 또는 치환 또는 비치환된 C6-20 아릴이고,
cll은 0 내지 5의 정수이고
cl2는 0 내지 7의 정수이고,.
cl3는 0 내지 9의 정수이고,
cl4는 0 내지 4의 정수이고,
cl5는 0 내지 3의 정수이고,
cl6은 0 내지 11의 정수이고,
cl7은 0 내지 9의 정수이고,
cl8은 0 내지 6의 정수이고,
cl9는 0 내지 12의 정수이다. 이때, cll은 Zu의 개수를 나타낸 것으로서, cll이 2 이상일 경우, 2 이상의 Zu은 서로 동일하거나 상이할 수 있다. cl2 내지 cl9에 대한 설명은 상기 cll에 대한 설명 및 상기 화학식의 구조를 참조하여 이해될 수 있다. 바람직하게는, 상기에서 ¾내지 Q6은 수소; 중수소; 할로겐; 시아노; 니트로; 아미노; 메틸; 또는 페닐일 수 있다. 구체적으로 예 어, Ar2는 하기로 구성되는 군으로부터 선택되는 어느
Figure imgf000018_0001
81
Figure imgf000019_0001
LZ900/LlOZW^/13d Ζ1^9ΐΟ/8ΐΟΖ OAV
Figure imgf000020_0001
또한, 상기 화학식 1에서, Ri 내지 ¾는 각각 독립적으로, 수소; 중수소; 시아노; 또는 치환 또는 비치환된 Cwo 알킬일 수 있다. 예를 들어, Ri 및 R2는 각각 독립적으로, 수소, 중수소, 시아노, 메틸, 또는 중수소로 치환된 메틸일 수 있고, ¾는 수소일 수 있다. 상기 화학식 1에서, nl은 의 개수를 나타낸 것으로서, nl이 2 이상일 경우, 2 이상의 ¾은 서로 동일하거나 상이할 수 있다. n2에 대한 설명은 상기 nl에 대한 설명 및 화학식 1의 구조를 참조하여 이해될 수 있다.
예를 들에 상기 화합물은, 하기 화합물로 구성되는 군으로부터 선택될 수 있다: oz
Figure imgf000021_0001
LZ900/LlOZW^/13d Ζ1^9ΐΟ/8ΐΟΖ OAV
Figure imgf000022_0001
LZ900/LlOZW^/13d Ζ1^9ΐΟ/8ΐΟΖ OAV zz
Figure imgf000023_0001
LZ900/LlOZW^/13d Ζ1^9ΐΟ/8ΐΟΖ OAV
Figure imgf000024_0001
LZ900/LlOZW^/13d Ζ1^9ΐΟ/8ΐΟΖ OAV
Figure imgf000025_0001
LZ900/LlOZW^/13d Ζ1^9ΐΟ/8ΐΟΖ OAV
Figure imgf000026_0001
tLZ900/LlOZW^/13d zttnomoz OAV 9Z
Figure imgf000027_0001
LZ900/LlOZW^/13d Ζ1^9ΐΟ/8ΐΟΖ OAV LZ
Figure imgf000028_0001
LZ900/LlOZW^/13d Ζ1^9ΐΟ/8ΐΟΖ OAV Z
Figure imgf000029_0001
LZ900/LlOZW^/13d Ζ1^9ΐΟ/8ΐΟΖ OAV 6Z
Figure imgf000030_0001
LZ900/LlOZW^/13d Ζ1^9ΐΟ/8ΐΟΖ OAV οε
Figure imgf000031_0001
LZ900/LlOZW^/13d Ζ1^9ΐΟ/8ΐΟΖ OAV
Figure imgf000032_0001
LZ900/LlOZW^/13d Ζ1^9ΐΟ/8ΐΟΖ OAV
Figure imgf000033_0001
32
Figure imgf000034_0001
LZ900/LlOZW^/13d Ζ1^9ΐΟ/8ΐΟΖ OAV
Figure imgf000035_0001
LZ900/LlOZW^/13d Ζ1^9ΐΟ/8ΐΟΖ OAV
Figure imgf000036_0001
LZ900/LlOZW^/13d Ζ1^9ΐΟ/8ΐΟΖ OAV
Figure imgf000037_0001
LZ900/LlOZW^/13d Ζ1^9ΐΟ/8ΐΟΖ OAV
Figure imgf000038_0001
LZ900/LlOZW^/13d Ζ1^9ΐΟ/8ΐΟΖ OAV
Figure imgf000039_0001
LZ900/LlOZW^/13d Ζ1^9ΐΟ/8ΐΟΖ OAV 6ε
Figure imgf000040_0001
LZ900/LlOZW^/13d Ζ1^9ΐΟ/8ΐΟΖ OAV Of
Figure imgf000041_0001
LZ900/LlOZW^/13d Ζ1^9ΐΟ/8ΐΟΖ OAV If
Figure imgf000042_0001
LZ900/LlOZW^/13d Ζ1^9ΐΟ/8ΐΟΖ OAV
Figure imgf000043_0001
LZ900/LlOZW^/13d Ζ1^9ΐΟ/8ΐΟΖ OAV
Figure imgf000044_0001
LZ900/LlOZW^/13d Ζ1^9ΐΟ/8ΐΟΖ OAV
Figure imgf000045_0001
LZ900/LlOZW^/13d Ζ1^9ΐΟ/8ΐΟΖ OAV
Figure imgf000046_0001
LZ900/LlOZW^/13d Ζ1^9ΐΟ/8ΐΟΖ OAV
Figure imgf000047_0001
 if
Figure imgf000048_0001
LZ900/LlOZW^/13d Ζ1^9ΐΟ/8ΐΟΖ OAV 8
Figure imgf000049_0001
LZ900/LlOZW^/13d Ζ1^9ΐΟ/8ΐΟΖ OAV
Figure imgf000050_0001
LZ900/LlOZW^/13d Ζ1^9ΐΟ/8ΐΟΖ OAV
Figure imgf000051_0001
LZ900/LlOZW^/13d Ζ1^9ΐΟ/8ΐΟΖ OAV 15
Figure imgf000052_0001
LZ900/LlOZW^/13d Ζ1^9ΐΟ/8ΐΟΖ OAV Z
Figure imgf000053_0001
LZ900/LlOZW^/13d Ζ1^9ΐΟ/8ΐΟΖ OAV
Figure imgf000054_0001
LZ900/LlOZW^/13d Ζ1^9ΐΟ/8ΐΟΖ OAV
Figure imgf000055_0001
LZ900/LlOZW^/13d Ζ1^9ΐΟ/8ΐΟΖ OAV 99
Figure imgf000056_0001
LZ900/LlOZW^/13d Ζ1^9ΐΟ/8ΐΟΖ OAV
Figure imgf000057_0001
LZ900/LlOZW^/13d Ζ1^9ΐΟ/8ΐΟΖ OAV
Figure imgf000058_0001
LZ900/LlOZW^/13d Ζ1^9ΐΟ/8ΐΟΖ OAV 83
Figure imgf000059_0001
LZ900/LlOZW^/13d Ζ1^9ΐΟ/8ΐΟΖ OAV 6S
Figure imgf000060_0001
LZ900/LlOZW^/13d Ζ1^9ΐΟ/8ΐΟΖ OAV 09
Figure imgf000061_0001
LZ900/LlOZW^/13d Ζ1^9ΐΟ/8ΐΟΖ OAV 19
Figure imgf000062_0001
LZ900/LlOZW^/13d Ζ1^9ΐΟ/8ΐΟΖ OAV Z9
Figure imgf000063_0001
LZ900/LlOZW^/13d Ζ1^9ΐΟ/8ΐΟΖ OAV
Figure imgf000064_0001
LZ900/LlOZW^/13d Ζ1^9ΐΟ/8ΐΟΖ OAV
Figure imgf000065_0001
LZ900/LlOZW^/13d Ζ1^9ΐΟ/8ΐΟΖ OAV 99
Figure imgf000066_0001
Figure imgf000066_0002
Figure imgf000066_0003
LZ900/LlOZW^/13d Ζ1^9ΐΟ/8ΐΟΖ OAV
Figure imgf000067_0001
LZ900/LlOZW^/13d Ζ1^9ΐΟ/8ΐΟΖ OAV
Figure imgf000068_0001
LZ900/LlOZW^/13d Ζ1^9ΐΟ/8ΐΟΖ OAV
Figure imgf000069_0001
LZ900/LlOZW^/13d Ζ1^9ΐΟ/8ΐΟΖ OAV
Figure imgf000070_0001
LZ900/LlOZW^/13d Ζ1^9ΐΟ/8ΐΟΖ OAV
Figure imgf000071_0001
LZ900/LlOZW^/13d Ζ1^9ΐΟ/8ΐΟΖ OAV
Figure imgf000072_0001
LZ900/LlOZW^/13d Ζ1^9ΐΟ/8ΐΟΖ OAV
Figure imgf000073_0001
LZ900/LlOZW^/13d Ζ1^9ΐΟ/8ΐΟΖ OAV
Figure imgf000074_0001
상기 화학식 1로 표시되는 화합물은, 디벤조퓨란 또는 디벤조티오펜 코어의 특정.위치에 피리디닐기, 피리미디닐기, 또는 트리아지닐기와 같은
N 원자 함유 헤테로아릴 치환기가 연결된 구조를 가지고, 디벤조퓨란 또는 디벤조티오펜 코어의 특정 위치에 방향족인 아릴 치환기가 연결됨으로써, 이를 이용한 유기 발광 소자는 플루오레닐기와 같은 비방향족 축합환기가 연결된 화합물을 이용한 유기 발광 소자에 비하여 고효율, 저 구동 전압 및 장수명 등을 나타낼 수 있다. 한편, 상기 화학식 1로 표시되는 화합물은 일례로 하기 반웅식 1과 같은 제조 방법으로 제조할 수 있다:
Figure imgf000075_0001
상기 반웅식 1에서, , 12 , Yi 내지 Y3 , Aria , Arlb 및 Ar2 에 대한 설명은 상기 화학식 1에서 정의한 바와 같다. 상기 화학식 1로 표시되는 화합물은 상기 반웅식 1을 참고하여 제조하고자 하는 화합물의 구조에 맞추어 출발 물질을 적절히 대체하여 제조할 수 있다. 또한, 본 발명은 상기 화학식 1로 표시되는 화합물을 포함하는 유기 발광 소자를 제공한다. 일례로, 본 발명은 제 1 전극; 상기 게 1 전극과 대향하여 구비된 제 2 전극; 및 상기 게 1 전극과 상기 제 2 전극 사이에 구비된 1층 이상의 유기물 층을 포함하는 유기 발광 소자로서, 상기 유기물 층 중 1층 이상은 상기 화학식 1로 표시되는 화합물을 포함하는, 유기 발광 소자를 제공한다. 본 발명의 유기 발광 소자의 유기물 층은 단층 구조로 이루어질 수도 있으나, 2층 이상의 유기물 층이 적층된 다층 구조로 이루어질 수 있다. 예컨대, 본 발명의 유기 발광 소자는 유기물 층으로서 정공 주입층, 정공 수송층, 발광층, 전자수송층, 전자 주입층 등을 포함하는 구조를 가질 수 있다. 그러나 유기 발광 소자의 구조는 이에 한정되지 않고 더 적은 수의 유기층을 포함할 수 있다. 구체적으로, 상기 유기물층은 발광층을 포함할 수 있고, 상기 발광층은 상기 화학식 1로 표시되는 화합물을 포함할 수 있다. 이때, 상기 화학식 1로 표시되는 화합물은 발광층에서 호스트 물질로 사용될 수 있다. 또한, 본 발명에 따른 유기 발광 소자는, 기판 상에 양극, 1층 이상의 유기물 층 및 음극이 순차적으로 적층된 구조 (normal type)의 유기 발광 소자일 수 있다. 또한, 본 발명에 따른 유기 발광 소자는 기판 상에 음극, 1층 이상의 유기물 층 및 양극이 순차적으로 적층된 역방향 구조 ( inverted type)의 유기 발광 소자일 수 있다. 예컨대, 본 발명의 일실시예에 따른 유기 발광 소자의 구조는 도 1 및 2에 예시되어 있다. 도 1은 기판 ( 1), 양극 (2), 발광층 (3), 음극 (4)으로 이루어진 유기 발광 소자의 예를 도시한 것이다. 이와 같은 구조에 있어서, 상기 화학식 1로 표시되는 화합물은 상기 발광층에 포함될 수 있다. 도 2는 기판 ( 1) , 양극 (2), 정공 주입층 (5), 정공 수송층 (6), 발광층 (7), 전자수송층 (8) 및 음극 (4)로 이루어진 유기 발광 소자의 예를 도시한 것이다. 이와 같은 구조에 있어서, 상기 화학식 1로 표시되는 화합물은 상기 정공 주입층, 정공 수송층, 발광층 및 전자수송층 중 1층 이상에 포함될 수 있다. 본 발명에 따른 유기 발광 소자는, 상기 유기물 층 중 1층 이상이 상기 화학식 1로 표시되는 화합물을 포함하는 것을 제외하고는 당 기술분야에 알려져 있는 재료와 방법으로 제조될 수 있다. 또한, 상기 유기 발광 소자가 복수개의 유기물 층을 포함하는 경우, 상기 유기물 층은 동일한 물질 또는 다른 물질로 형성될 수 있다. 예컨대, 본 발명에 따른 유기 발광 소자는 기판 상에 게 1 전극, 유기물 층 및 제 2 전극을 순차적으로 적층시켜 제조할 수 있다. 이때, 스퍼터링법 (sputter ing)이나 전자빔 증발법 (e—beam evaporat ion)과 같은 PVDCphys i cal Vapor Deposi t ion)방법을 이용하여, 기판 상에 금속 또는 전도성을 가지는 금속 산화물 또는 이들의 합금을 증착시켜 양극을 형성하고, 그 위에 정공 주입층, 정공 수송층, 발광층 및 전자 수송층을 포함하는 유기물 층을 형성한 후, 그 위에 음극으로 사용할 수 있는 물질을 증착시켜 제조할 수 있다. 이와 같은 방법 외에도, 기판 상에 음극 물질부터 유기물 층, 양극 물질을 차례로 증착시켜 유기 발광 소자를 만들 수 있다. 또한 상기 화학식 1로 표시되는 화합물은 유기 발광 소자의 제조시 진공 증착법 뿐만 아니라 용액 도포법에 의하여 유기물 층으로 형성될 수 있다. 여기서, 용액 도포법이라 함은 스핀 코팅, 딥코팅, 닥터 블레이딩, 잉크젯 프린팅, 스크린 프린팅, 스프레이법, 롤 코팅 등을 의미하지만, 이들만으로 한정되는 것은 아니다. 이와 같은 방법 외에도, 기판 상에 음극 물질로부터 유기물 층 양극 물질을 차례로 증착시켜 유기 발광 소자를 제조할 수 있다 (W0 2003/012890) . 다만, 제조 방법이 이에 한정되는 것은 아니다. 일례로, 상기 제 1 전극은 양극이고, 상기 제 2 전극은 음극이거나, 또는 상기 제 1 전극은 음극이고, 상기 제 2 전극은 양극이다. 상기 양극 물질로는 통상 유기물 층으로 정공 주입이 원활할 수 있도록 일함수가 큰 물질이 바람직하다. 상기 양극 물질의 구체적인 예로는 바나듐, 크름, 구리, 아연, 금과 같은 금속 또는 이들의 합금; 아연 산화물, 인듐 산화물, 인듐주석 산화물 ( ΠΌ) , 인듐아연 산화물 ( IZ0)과 같은 금속 산화물; Ζη0:Α1 또는 SN02 : Sb와 같은 금속과 산화물의 조합; 폴리 (3- 메틸티오펜), 폴리 [3,4- (에틸렌 -1 , 2-디옥시 )티오펜] (PED0T) , 폴리피를 및 폴리아닐린과 같은 전도성 고분자 등이 있으나, 아들에만 한정되는 것은 아니다. 상기 음극 물질로는 통상 유기물 층으로 전자 주입이 용이하도록 일함수가 작은 물질인 것이 바람직하다. 상기 음극 물질의 구체적인 예로는 마그네슘, 칼슘, 나트륨, 칼륨, 티타늄, 인듐,ᅳ 이트륨, 리튬, 가돌리늄, 알루미늄, 은, 주석 및 납과 같은 금속 또는 이들의 합금; LiF/Al 또는 Li02/Al과 같은 다층 구조 물질 등이 있으나, 이들에만 한정되는 것은 아니다. 상기 정공 주입층은 전극으로부터 정공을 주입하는 층으로, 정공 주입 물질로는 정공을 수송하는 능력을 가져 양극에서의 정공 주입효과, 발광층 또는 발광재료에 대하여 우수한 정공 주입 효과를 갖고, 발광층에서 생성된 여기자의 전자 주입층 또는 전자주입재료에의 이동을 방지하며, 또한, 박막 형성 능력이 우수한 화합물이 바람직하다. 정공 주입 물질의 H0M0(highest occupied mol ecular orbi tal )가 양극 물질의 일함수와 주변 유기물 층의 HOMO 사이인 것이 바람직하다. 정공 주입 물질의 구체적인 예로는 금속 포피린 (porphyr in) , 올리고티오펜, 아릴아민 계열의 유기물, 핵사니트릴핵사아자트리페닐렌 계열의 유기물, 퀴나크리돈 (quinacr idone)계열의 유기물, 페릴렌 (perylene) 계열의 유기물, 안트라퀴논 및 폴리아닐린과 폴리티오펜 계열의 전도성 고분자 등이 있으나, 이들에만 한정 되는 것은 아니다. 상기 정공 수송층은 정공 주입층으로부터 정공을 수취하여 발광층까지 정공을 수송하는 층으로, 정공 수송 물질로 양극이나 정공 주입층으로부터 정공을 수송받아 발광층으로 옮겨줄 수 있는 물질로 정공에 대한 이동성이 큰 물질이 적합하다. 구체적인 예로는 아릴아민 계열의 유기물, 전도성 고분자, 및 공액 부분과 비공액 부분이 함께 있는 블록 공중합체 등이 있으나, 이들에만 한정되는 것은 아니다. 상기 발광 물질로는 정공 수송층과 전자 수송층으로부터 정공과 전자를 각각 수송받아 결합시킴으로써 가시광선 영역의 빛을 낼 수 있는 물질로서, 형광이나 인광에 대한 양자 효율이 좋은 물질이 바람직하다. 구체적인 예로 8ᅳ히드록시-퀴놀린 알루미늄 착물 (Alq3) ; 카르바졸 계열 화합물; 이량체화 스티릴 (dimer i zed styryl ) 화합물; BAlq ; 10- 히드록시벤조 퀴놀린 -금속 화합물; 벤족사졸, 벤즈티아졸 및 벤즈이미다졸 계열의 화합물; 폴리 (P-페닐렌비닐렌) (PPV) 계열의 고분자; 스피로 (spi ro) 화합물; 폴리플루오렌, 루브렌 등이 있으나, 이들에만 한정되는 것은 아니다. 상기 발광충은 호스트 재료 및 도펀트 재료를 포함할 수 있다. 호스트 재료로는 상술한 화학식 1로 표시되는 화합물을 포함할 수 있다. 그 외 추가적으로, 축합 방향족환 유도체 또는 헤테로환 함유 화합물 등을 더 포함할 수 있다. 구체적으로 축합 방향족환 유도체로는 안트라센 유도체, 피렌 유도체, 나프탈렌 유도체, 펜타센 유도체 페난트렌 화합물, 플루오란텐 화합물 등이 있고, 헤테로환 함유 화합물로는 카바졸 유도체, 디벤조퓨란 유도체, 래더형 퓨란 화합물, 피리미딘 유도체 등이 있으나, 이에 한정되지 않는다. 도편트 재료로는 방향족 아민 유도체, 스트릴아민 화합물, 붕소 착체: 플루오란텐 화합물, 금속 착체 등이 있다. 구체적으로 방향족 아민 유도체로는 치환 또는 비치환된 아릴아미노기를 갖는 축합 방향족환 유도체로서, 아릴아미노기를 갖는 피렌, 안트라센, 크리센, 페리플란텐 등이 있으며, 스티릴아민 화합물로는 치환 또는 비치환된 아릴아민에 적어도 1개의 아릴비닐기가 치환되어 있는 화합물로, 아릴기, 실릴기, 알킬기, 사이클로알킬기 및 아릴아미노기로 이루어진 군에서 1 또는 2 이상 선택되는 치환기가 치환 또는 비치환된다. 구체적으로 스티릴아민., 스티릴디아민, 스티릴트리아민, 스티릴테트라아민 등이 있으나, 이에 한정되지 않는다. 또한, 금속 착체로는 이리듐 착체, 백금 착체 등이 있으나, 이에 한정되지 않는다. 상기 전자 수송층은 전자 주입층으로부터 전자를 수취하여 발광층까지 전자를 수송하는 층으로 전자 수송 물질로는 음극으로부터 전자를 잘 주입 받아 발광층으로 옮겨줄 수 있는 물질로서, 전자에 대한 이동성이 큰 물질이 적합하다. 구체적인 예로는 8-히드록시퀴놀린의 A1 착물; Alq3를 포함한 착물; 유기 라디칼 화합물; 히드록시플라본 -금속 착물 등이 있으나, 이들에만 한정되는 것은 아니다. 전자 수송층은 종래기술에 따라 사용된 바와 같이 임의의 원하는 캐소드 물질과 함께 사용할 수 있다. 특히, 적절한 캐소드 물질의 예는 낮은 일함수를 가지고 알루미늄층 또는 실버층이 뒤따르는 통상적인 물질이다. 구체적으로 세슘, 바륨, 칼슘, 이테르붐 및 사마륨이고, 각 경우 알루미늄 층 또는 실버층이 뒤따른다. 상기 전자 주입층은 전극으로부터 전자를 주입하는 층으로, 전자를 수송하는 능력을 갖고, 음극으로부터의 전자 주입 효과, 발광층 또는 발광 재료에 대하여 우수한 전자주입 효과를 가지며, 발광층에서 생성된 여기자의 정공 주입층에의 이동을 방지하고, 또한, 박막형성능력이 우수한 화합물이 바람직하다. 구체적으로는 플루오레논, 안트라퀴노다이메탄, 다이페노퀴논, 티오피란 다이옥사이드, 옥사졸, 옥사다이아졸, 트리아졸, 이미다졸, 페릴렌테트라카복실산, 프레오레닐리덴 메탄, 안트론 등과 그들의 유도체, 금속 착체 화합물 및 질소 함유 5원환 유도체 등이 있으나, 이에 한정되지 않는다. 상기 금속 착체 화합물로서는 8-하이드록시퀴놀리나토 리튬, 비스 (8- 하이드록시퀴놀리나토)아연, 비스 (8-하이드록시퀴놀리나토)구리, 비스 (8- 하이드록시퀴놀리나토)망간, 트리스 (8-하이드록시퀴놀리나토)알루미늄, 트리스 (2-메틸 -8-하이드록시퀴놀리나토)알루미늄, 트리스 (8- 하이드록시퀴놀리나토)갈륨, 비스 (10—하이드록시벤조 [h]퀴놀리나토)베릴륨, 비스 (10-하이드록시벤조 [h]퀴놀리나토)아연 , 비스 (2-메틸 -8- 퀴놀리나토)클로로갈륨, 비스 (2-메틸 -8-퀴놀리나토) (0-크레졸라토)갈륨, 비스 (2-메틸 -8-퀴놀리나토) (1-나프를라토)알루미늄, 비스 (2-메틸 -8- 퀴놀리나토) (2-나프를라토)갈륨 등이 있으나, 이에 한정되지 않는다. 본 발명에 따른 유기 발광 소자는 사용되는 재료에 따라 전면 발광형, 후면 발광형 또는 양면 발광형일 수 있다. 또한, 상기 화학식 1로 표시되는 화합물은 유기 발광 소자 외에도 유기 태양 전지 또는 유기 트랜지스터에 포함될 수 있다. 상기 화학식 1로 표시되는 화합물 및 이를 포함하는 유기 발광 소자의 제조는 이하 실시예에서 구체적으로 설명한다. 그러나 하기 실시예는 본 발명을 예시하기 위한 것이며, 본 발명의 범위가 이들에 의하여 한정되는 것은 아니다.
Figure imgf000081_0001
브로모 -3-플루오로 -2-요오드벤젠 ( l-bromo-3-fluoro-2- iodobenzene)(100 g, 333.5 mmol), 5-클로로 -2-메톡시페닐보론산 ((5- chloro-2-methoxyphenyl )boronic acid)(62.2 g, 333.5 mmol)를 테트라하이드로퓨란 (THF)800 ml에 녹였다. 여기에 탄산나트륨 (Na2C03) 2 M 용액 (500 mL), 테트라키스 (트리페닐포스핀)팔라듐 (0) [Pd(PPh3)4](7.7 g, 6.7 隱 ol)을 넣고 12 시간 환류시켰다. 반웅이 끝난 후 상온으로 넁각시키고, 생성된 흔합물을 물과 를루엔으로 3회 추출하였다. 를루엔층을 분리한 뒤 황산마그네슘 (magnesium sulfate)으로 건조하여 여과한 여액을 감압증류하여 얻은 흔합물을 클로로품, 에탄올을 이용해 3희 재결정 하여 화합물 P-K53.7 g, 수율 51 %;MS:[M+H]+=314)을 얻었다.
Figure imgf000082_0001
P-1 P-2
화합물 P-l(50.0 g, 158.5 醒 ol)을 디클로로메탄 (Dichlorometahne)(600 ml)에 녹인 뒤 0°C로 넁각시킨다. 보론트리브로마이드 (boron tr ibromide)(15.8 ml , 166.4 mmol)를 천천히 적가한 뒤 12시간동안 교반하였다. 반웅이 종료된 후 물로 3회 세척하고, 황산마그네슘 (magnesium sulfate)으로 건조하여 여과한 여액을 감압증류하고 컬럼크로마토크래피로 정제하여 화합물 P-2(47.4 g, 수율 99 %;MS:[M+H]+=300)을 얻었다.
Figure imgf000082_0002
P-2 P-3
화합물 P-2 0.0 g, 132.7 mmol)을 증류된 다이메틸뇨름아마이드 (DMF) (400ml)에 녹인다. 이를 0°C로 넁각시키고, 여기에 나트륨 하이드리드 (sodium hydride) (3.5 g, 145.9 mmol) 를 천천히 적가하였다. 20분동안 교반한 뒤 10CTC에서 1시간동안 교반하였다. 반옹이 종료된 후 상온으로 넁각하고, 에탄올 (Ethanol) 100 ml을 천천히 넣었다. 위 흔합물을 감압증류 하여 얻은 흔합물을 클로로포름, 에틸아세테이트로 재결정하여 화합물 P-3(30.3 g, 수율 81 %;MS:[M+H]+=280)을 얻었다.
Figure imgf000083_0001
P'3 P-4
화합물 P-3(30.0 g, 106.6 隱 ol)을 테트라하이드로퓨란 (300 ml)에 녹인 후, 78°C로 온도를 낮추고 1.7 M 터셔리-부틸리튬 (t-BuLi)(62.7 ml, 106.6 誦 ol)을 천천히 가하였다. 동일 온도에서 한 시간 동안 교반한 후 트리아이소프로필보레이트 (B(0iPr)3)(28.3 ml, 213.1 醒 ol)을 가하고, 상온으로 은도를 서서히 올리면서 3시간동안 교반하였다. 반응 흔합물에 2 N 염산수용액 (200 ml)을 가하고 1.5 시간 동안 상온에서 교반하였다. 생성된 침전물을 거르고 물과 에틸에테르 (ethyl ether)로 차례로 씻은 후 진공 건조하였다. 건조후 에틸에테르에 분산시켜 두 시간 동안 교반한 후 여과하고 건조하여 화합물 P-4(24.4 g, 수율 93 ; MS:[M+H]+=247)을 제조하였다.
Figure imgf000083_0002
P-4 P-5 화합물 P-4(20.0 g, 81.2 mmol)과 2-chloro-4,6_diphenyl-l,3,5- triazine(21.8 g, 81.2 匪 ol)을 테트라하이드로퓨란 (250 ml)에 분산시킨 후, 2M 탄산칼륨수용액 (aq. K2C03)(33.6 ml, 243.5 醒 ol)을 첨가하고 테트라키스트리페닐포스피노팔라듐 [Pd(PPh3)4](1.9 g, 2 mol%)을 넣은 후 4시간 동안 교반 환류하였다. 상온으로 온도를 낮추고 생성된 고체를 여과하였다ᅳ 여과된 고체를 테트라하이드로퓨란과 에틸아세테이트로 재결정하고 여과한 뒤, 건조하여 화합물 P-5(32.4 g, 수율 92 %; MS:[M+H]+=434)를 제조하였다.
Figure imgf000084_0001
화합물 P-5(30 g, 69.2 隱 ol) 비스 (피나콜라토)디보론 (Bis(pinacolato)diborone)(19.3 g, 76.1 mmol) 포타슘아세테이트 (potassium acetate) (20.4 g, 207.5 mmol), 테트라키스트리페닐포스피노팔라듐 (0) [Pd(PPh3)4](1.6 g, 2 η )1¾)을 테트라하이드로퓨란 (300 ml) 에 넣고 12시간 동안 환류시켰다. 반웅이 종료된 후 상온으로 식힌 뒤 감압 증류하여 용매를 제거하였다. 이것을 클로로포름 (Chloroform)에 녹이고 물로 3회 씻어낸 뒤 유기층을 분리하여 황산 마그네슘 (Magnesium sulfate)으로 건조하였다. 이를 감압 증류하여 화합물 P-6(34.5 g, 수율 95 %; MS: [M+H]+=526)을 제조하였다.
Figure imgf000084_0002
화합물 P-6(20.0 g, 38.1 mmol)과 2-브로모페난트렌 (2- bromophenanthrene)(9.8 g, 38.1 mmol)을 테트라하이드로퓨란 (250 ml)에 분산시킨 후, 2M 탄산칼륨수용액 (aq. K2C03)(57.2 ml, 114.3 mmol)을 첨가하고 테트라키스트리페닐포스피노팔라듐 [Pd(PPh3)4](1.4 g, 2 mol%)을 넣은 후 5시간 동안 교반 환류하였다. 상온으로 온도를 낮추고 생성된 고체를 여과하였다. 여과된 고체를 클로로포름과 에틸아세테이트로 재결정하고 여과한 뒤, 건조하여 화합물 1(17.8 g, 수율 81 %; MS:[M+H]+=576)을 제조하였다.
Figure imgf000085_0001
2-브로모페난트렌 (2-bromophenanthrene) 대신 9-브로모페난트렌 (9- bromophenanthrene)(9.8 g, 38.1 mmol)를 사용한 것 외에는 합성예 1—1과 동일한 방법으로 화합물 2(18.4g, 수율 84 ; MS:[M+H]+=576) 을 제조하였다.
Figure imgf000085_0002
2-브로모페난트렌 (2-bromophenanthrene ) 대신
페닐나프탈렌 (l-brotno-4-phenylnaphthalene)(10.8 g, 38
것 외에는 합성예 1-1과 동일한 방법으로 화합물 3(18
MS:[M+H]+=602) 을 제조하였다.
Figure imgf000086_0001
P-6
2-브로모페난트렌 (2-bromophenanthrene) 대신 2-브로모트리페닐렌 (2- bromotriphenylene)(11.7 g, 38.1 mmol)를 사용한 것 외에는 합성예 1-1과 동일한 방법으로 화합물 4(2ᄂ0 g, 수율 88 %; MS:[M+H]+=626) 을 제조하였다.
Figure imgf000086_0002
2-브로모페난트렌 (2-bromophenanthrene) 대신 9-(4- 브로모페닐)페난트렌(9-(4ᅳ13 厦)1)1 1^1)1)1 11£1 11^1 )(12.7 g, 38.1 mmol)를 사용한 것 외에는 합성예 1-1과 동일한 방법으로 화합물 11(19.9 g, 수율 80 %; MS:[M+H]+=652) 을 제조하였다. 합성예 1-6: 화합물 12의 제조
Figure imgf000087_0001
il합물 12
2-브로모페난트렌 (2-bromophenanthrene) 대신 9-(2_브로모 -[1, 1'- 바이페닐] -2-일)페난트렌 (9-(21 -bromo- [1,1' -bi phenyl ] _2—
yl)phenanthrene)(15.6 g, 38.1 mmol)를 사용한 것 외에는 합성예 1—1과 동일한 방법으로 화합물 12(22.5 g, 수율 81 ; MS:[M+H]+=728) 을 제조하였다.
Figure imgf000087_0002
2-브로모페난트렌 (2-bromophenanthrene) 대신 7_(4-브로모페닐) -10- 페닐플로란텐 (7-(4-bromophenyl)— 10— phenylf luoranthene)(16.5 g, 38.1 隱 ol)을 사용한 것 외에는 합성예 1-1과 동일한 방법으로 화합물 13(21.8 g, 수율 76 %; MS:[M+H]+=752) 을 제조하였다. 합성예 1-8: 화합물 25의 제조
Figure imgf000088_0001
- 25
2-브로모페난트렌 (2-bromophenanthr ene ) 대신 ( (4- 브로모페닐)메탄트리일)트리벤젠 (( (4- bromophenyl )methanetriyl )tribenzene)(15.2 g, 38.1 隱 ol)을 사용한 것 외에는 합성예 1-1과 동일한 방법으로 화합물 25(24.3 g, 수율 89 MS:[M+H]+=718) 을 제조하였다.
Figure imgf000088_0002
2-브로모페난트렌 (2-bromophenanthrene) 대신 4-브로모 -1,1' :3',1 터페닐 (4-bromo-l,l' :3' ,1' '-terpheny 1)(11.8 g, 38.1 mmol)을 사용한 외에는 합성예 1-1과 동일한 방법으로 화합물 26(19.9 g, 수율 83 MS:[M+H]+=628) 을 제조하였다. 합성예 1-10: 화합물 28의 제조
Figure imgf000089_0001
2-브로모페난트렌 (2-bromophenanthrene) 대신 4-브로모 -5 '―페닐- 1,1' :3' ,1' '-터페닐 (4-bromo-5' -phenyl L,l':3' ,1' ' -ter phenyl ) (14.7 g, 38.1 隱 ol)을 사용한 것 외에는 합성예 1-1과 동일한 방법으로 화합물 28(21.7 g, 수율 81 %; MS:[M+H]+=704) 을 제조하였다.
Figure imgf000089_0002
2-브로모페난트렌 (2-bromophenanthrene) 대신 4'' '-브로모- 1,1':3',1' ' :4' ',1' ' '-쿼터페닐 (4' ' '-bromo-1,1':3',1' ':4' 1,1' ' '― quaterphenyl)(14.7 g, 38.1 隱 ol)을 사용한 것 외에는 합성예 1—1과 동일한 방법으로 화합물 46(22.3 g, 수율 83 ; MS: [M+H]+=704) 을 제조하였다. 합성예 1-12: 화합물 55의 제초
Figure imgf000090_0001
P-6 화합울 55
2-브로모페난트렌 (2-bromophenanthrene) 대신 3-브로모 -1, 1' :4', 1' '- 터페닐 (3-brom으 1,1' :4' ,1' '-terphenyl)(11.8 g, 38.1 mmol)을 사용한 것 외에는 합성예 1-1과 동일한 방법으로 화합물 55(20.6 g, 수율 86 ; MS:[M+H]+= 628) 을 제조하였다. -13: 화합물 57의 제조
Figure imgf000090_0002
2-브로모페난트렌 (2-bromophenanthrene) 대신 9-(3- 브로모페닐)페난트렌 (9-(3-bromophenyl)phenanthrene)(12.7 g, 38.1 mmol)를 사용한 것 외에는 합성예 1-1과 동일한 방법으로 화합물 57(20.4 g, 수율 82 ; MS:[M+H]+=652) 을 제조하였다. 합성예 1-14: 화합물 62의 제조
Figure imgf000091_0001
2-브로모페난트렌 (2-bromophenanthrene) 대신 3-브로모 5'—페닐- 1,1':3',1' '―터페닐^-! ^ 으^- 니1 :3',1' '-terphenyl)(14.7 g, 38.1 匪 ol)을 사용한 것 외에는 합성예 1-1과 동일한 방법으로 화합물 62(22.3 g, 수율 83 %; MS: [M+H]+=704) 을 제조하였다.
Figure imgf000091_0002
화합을 65
2-브로모페난트렌 (2— broniophenanthrene) 대신 5'-브로모- 1,1' :3' ,1' ':3' ' ,1' 1 '-쿼터페닐 (5'— bromo— 1,1':3',1' ':3' ' ,1' 1 '―
quaterphenyl)(14.7 g, 38.1 醒 ol)을 사용한 것 외에는 합성예 1-1과 동일한 방법으로 화합물 65(21.7 g, 수율 81 %; MS:[M+H]+=704) 을 제조하였다. 합성예 1-16: 화합물 66의 제조
Figure imgf000092_0001
화합물 66
2-브로모페난트렌 (2-bromophenanthrene) 대신 2—브로모-
1,1':3',1' ' :3' ' ,1' 1 '-쿼터페닐 (2-bromo-l,l':3',1' ':3' ' 1' 1 '―
quaterphenyl)(14.7 g, 38.1 mmol)을 사용한 것 외에는 합성예 1-1과 동일한 방법으로 화합물 66(20.6 g, 수율 77 %; MS:[M+H]+=704) 을 제조하였다.
Figure imgf000092_0002
화합을樹
2-브로모페난트렌 (2-bromophenanthrene) 대신 4,4' ,4' '-((4- 브로모페닐)메탄트리일)트리스 (메틸벤젠) (44' ,4' '-((4- bromopheny 1 )methanet r iy 1 ) t r i s (methyl benzene) ) ( 16.9 g, 38.1 ol)을 사용한 것 외에는 합성예 1-1과 동일한 방법으로 화합물 68(22.9 g, 수율 79 %; MS:[M+H]+=760) 을 제조하였다.
Figure imgf000093_0001
2—브로모페난트렌 (2— bromophenanthrene) 대신 5 '-(4-브로모페닐) )― 1,1':3',1' '-터페닐 -2,2' ',3,3' ',4,4' ',5,5' ',6,6' '—디 10
( 5 ' - ( 4-br omopheny 1 )-1,1' :3' , 1 ' '—terphenyl—
2,2" ,3,3" ,4,4' 1 ,5,5" ,6,6' '-dl0)(15.1 g, 38.1 mmol)을 사용한 것 외에는 합성예 1-1과 동일한 방법으로 화합물 72(20.7 g, 수율 76 %; MS:[M+H]+=714) 을 제조하였다.
Figure imgf000093_0002
합물 81
2-브로모페난트렌 (2-bromophenanthrene) 대신 3—(3_ 브로모페닐)페난트렌 (3-(3-bromophenyl)phenanthrene)(12.7 g, 38.1 隱 ol)를 사용한 것 외에는 합성예 1-1과 동일한 방법으로 화합물 81(18.9 g, 수율 76 %; MS:[M+H]+=652) 을 제조하였다. -20: 화합물 59의 제조
Figure imgf000094_0001
2-브로모페난트렌 (2— bromophenanthrene) 대신 2-(3- 브로모페닐)트리페닐렌 (3-(2-(3-bromophenyl)triphenylene)(14.6 g, 38.1 匪 ol)를 사용한 것 외에는 합성예 1-1과 동일한 방법으로 화합물 59(19.5 g, 수율 73 %; MS:[M+H]+=702) 을 제조하였다.
Figure imgf000094_0002
2—브로모페난트렌 (2-bromophenanthrene) 대신 5'-브로모-
1,1' :3',1' '-터페닐 (5'— bromo-1,1' :3' ,1' '― terphenyl)(11.8 g, 38.1 mmol)을 사용한 것 외에는 합성예 1-1과 동일한 방법으로 화합물 45(19.4 g, 수율 81 %; MS:[M+H]+= 628) 을 제조하였다. 합성예 1-22: 화합물 54의 제조
Figure imgf000095_0001
2-브로모페난트렌 (2-bromophenanthrene) 대신 5'-브로모-
1,1':3',1' ':4' ',Ι' ' '-쿼터페닐 (5'-bromo-l,l' :3',1' ' :4' ',1' ' '- quaterphenyl)(14.7 g, 38.1 mmol)을 사용한 것 외에는 합성예 1-1과 동일한 방법으로 화합물 54(21.2 g, 수율 79 %; MS:[M+H]+=704) 을 제조하였다.
Figure imgf000095_0002
화합울 29
2—브로모페난트렌 (2-bromophenanthrene) 대신 2-브로모 -1,1'- 비페닐 (2-bromo-l,l'-biphenyl)(8.9 g, 38.1 圆 ol)을 사용한 것 외에는 합성예 1-1과 동일한 방법으로 화합물 29(15.6 g, 수율 74 ; MS: [M+H]+=552) 을 제조하였다. 합성예 2: 중간체 화합물 P-8의 제조
Figure imgf000096_0001
P-4 P-7
화합물 P-4(40.0 g, 162.3 mmol)과 2-([l,l'-biphenyl]-4-yl)-4- ch 1 or ο-6-pheny l-l,3,5-triazine(55.8 g, 162.3 mmol)을 테트라하이드로퓨란 (500 ml)에 분산시킨 후, 2M 탄산칼륨수용액 (aq. K2C03)(67.2 ml, 486.9 隱 ol)을 첨가하고 테트라키스트리페닐포스피노팔라듐 [Pd(PPh3)4](3.8 g, 2 ηω1¾)을 넣은 후 4시간 동안 교반 환류하였다. 상온으로 온도를 낮추고 생성된 고체를 여과하였다ᅳ 여과된 고체를 테트라하이드로퓨란과 에틸아세테이트로 재결정하고 여과한 뒤, 건조하여 화합물 P-7(73.7 g, 수율 89 %; MS:[M+H
Figure imgf000096_0002
비스 (피나콜라토)디보론 (Bis(pinacolato)diborone)(38.6 g, 152.13 mmol) 포타슴아세테이트 (potassium acetate)(40.7 g, 414.9 mmol) , 테트라키스트리페닐포스피노팔라듐 (0) [Pd(PPh3)4](3.2 g, 2 mol%)을 테트라하이드로퓨란 (600 ml) 에 넣고 12시간 동안 환류시켰다. 반응이 종료된 후 상온으로 식힌 뒤 감압 증류하여 용매를 제거하였다. 이것을 클로로포름 (Chloroform)에 녹이고 물로 3회 씻어낸 뒤 유기층을 분리하여 황산 마그네슴 (Magnesium sulfate)으로 건조하였다. 이를 감압 증류하여 화합물 P-8(75.7 g, 수율 91 %; MS:[M+H]+=602)을 제조하였다.
Figure imgf000097_0001
P-8
화합물 P-6 대신 화합물 P-8(22.9 g, 38.1 画 ol), 2- 브로모페난트렌 (2-bromophenanthrene) 대신 2-(3-브로모페닐)나프탈렌 (2- (3-bromopheny 1 )naphthal ene) ( 10.8 g, 38.1 mmol)을 사용한 것 외에는 합성예 1-1과 동일한 방법으로 화합물 9(19.9 g, 수율 77 ; MS:[M+H]+= 678) 을 제조하였다.
Figure imgf000097_0002
화합물 P-6 대신 화합물 P-8(22.9 g, 38.1 mmol ) , 브로모페난트렌 (2-bromophenanthrene) 대신 4ᅳ브로모 -1,1' :4',] 터페닐 (4-bromo-l,l':4',1' '-terphenyl )(11.8 g, 38.1 mmol)을 사용한 외에는 합성예 1-1과 동일한 방법으로 화합물 27(21.2 g, 수율 79 MS:[M+H]+= 704) 을 제조하였다.
Figure imgf000098_0001
화합물 P-4(40.0 g, 162.3 mmol)과 2-([l,l'-biphenyl]-3-yl)-4- chloro-6-phenyl-l,3,5-triazine(55.8 g, 162.3 mmol)을 테트라하이드로퓨란 (500 ml)에 분산시킨 후, 2M 탄산칼륨수용액 (aq. K2C03)(67.2 ml, 486.9 讓 ol)을 첨가하고 테트라키스트리페닐포스피노팔라듐 [Pd(PPh3)4](3.8 g, 2 mol%)을 넣은 후 4시간 동안 교반 환류하였다. 상온으로 온도를 낮추고 생성된 고체를 여과하였다. 여과된 고체를 테트라하이드로퓨란과 에틸아세테이트로 재결정하고 여과한 뒤, 건조하여 화합물 P-9(69.5 g, 수율 84 ; MS:[M+H]+=510)를 제조하였다.
Figure imgf000099_0001
P-9
화합물 P-9(70.5 g, 138.3 腿 ol) 비스 (피나콜라토)디보론 (Bis(pinacolato)diborone)(38.6 g, 152.13 mmol) 포타슘아세테이트 (potassium acetate)(40.7 g, 414.9 mmol), 테트라키스트리페닐포스피노팔라듐 (0) [Pd(PPh3)4](3.2 g, 2 mol«을 테트라하이드로퓨란 (600 ml) 에 넣고 12시간 동안 환류시켰다. 반웅이 종료된 후 상은으로 식힌 뒤 감압 증류하여 용매를 제거하였다. 이것을 클로로포름 (Chloroform)에 녹이고 물로 3회 씻어낸 뒤 유기층을 분리하여 황산 마그네슘 (Magnesium sulfate)으로 건조하였다. 이를 감압 증류하여 화합물 P-KK73.5 g, 수율 88 %; MS:[M+H]+=602)을 제조하였다.
Figure imgf000099_0002
P-10
화합물 P-6 대신 화합물 P-KK22.9 g, 38.1 讓 ol), 2- 브로모페난트렌 (2-bromophenanthrene) 대신 2-브로모트리페닐렌 (2- bromotriphenylene)(11.7 g, 38.1 mmol)을 사용한 것 외에는 합성예 1—1과 동일한 방법으로 화합물 6(20.3 g, 수율 76 %; MS:[M+H]+= 702) 제조하였다.
Figure imgf000100_0001
화합물 P-6 대신 화합물 P-10(22.9 g, 38.1 mmol), 2— 브로모페난트렌 ( 2-bromophenant hr ene ) 대신 4-브로모 -1,1' :4' ,1' '-터페닐- 2' ',3' ',4' ' ,5' ',6' '-디 5(4-bromo-l,l :4' , 1 ' ' -terphenyl -
2' ',3' ' ,4' ' ,5' ',6' '― d5)(12.0 g, 38.1 mmol)을 사용한 것 외에는 합성예 1-1과 동일한 방법으로 화합물 36(21.1 g, 수율 78 ', MS:[M+H]+= 709) 을 제조하였다.
Figure imgf000100_0002
브로모페난트렌 (2-bromophenanthrene) 대신 ( 1— [ 1, 1 '비페닐 ] -2-일)— 4- 브로모니프탈렌 (l-([l,l'-biphenyl]— 2-yl)-4-bromonaphthalene)(13.7 g, 38.1 mmol)을 사용한 것 외에는 합성예 1-1과 동일한 방법으로 화합물 49(20.4 g, 수율 71 ; MS:[M+H]+= 754) 을 제조하였다.
Figure imgf000101_0001
화합물 P-6 대신 화합물 P-10(22.9 g, 38.1 mmol), 브로모페난트렌 (2-bromophenanthrene) 대신 4-브로모 -1, 1 ' :4', 1 ' 터페닐 (4-broir -l,l' :4' ,1' '-terpheny 1)(11.8 g, 38.1 mmol)을 사용한 외에는 합성예 1-1과 동일한 방법으로 화합물 61(19.8 g, 수율 74 MS:[M+H]+= 704) 을 제조하였다. 합성예 3-5: 화합물 70의 제조
Figure imgf000102_0001
화합물 P-6 대신 화합물 P-10(22.9 g, 38.1 mmol), 2- 브로모페난트렌 (2-bromophenanthrene) 대신 6'-브로모-
1,1':3',1' ':4' ',Ι' ' '—쿼터페닐 (6'-bromo— 1,1':3',1' ':4' ',1' ' '- quater phenyl )(14.7 g, 38.1 隱 ol)을 사용한 것 외에는 합성예 1—1과 동일한 방법으로 화합물 70(20.2 g, 수율 68 ; MS:[M+H]+= 780) 을 제조하였다.
Figure imgf000102_0002
5-클로로 -2-메록시페닐보론산 ( (5-chloro-2-methoxypheny 1 )boroni c acid)(62.2 g, 333.5 隱 ol) 대신 (2-메특시페닐)보론산 ((2- methoxypheny 1 )boroni c acid)(50.7 g, 333.5 mmol)을 사용한 것 외에는 합성예 1과 동일한 방법으로 화합물 Q- 81.6 g, 수율 87 %;MS:[M+H]+=280)을 얻었다.
Figure imgf000103_0001
Q-1 Q-2
화합물 P-K85.0 g, 269.4 mmol) 대신 화합물 Q_l(75.7 g, 269.4 mmol) 을 사용한 것 외에는 합성예 1과 동일한 방법으로 화합물 Q-2(71.2 g, 수율 99 >;MS:[M+H]+=266)을 얻었다.
Figure imgf000103_0002
Q-2 Q-3
화합물 P-2(80.0 g, 265.3 匪 ol) 대신 화합물 Q-2(70.9 g, 265.3 mmol) 을 사용한 것 외에는 합성예 1과 동일한 방법으로 화합물 Q— 3(62.3 g, 수율 95 %;MS:[M+H]+=246)을 얻었다.
Figure imgf000103_0003
Q'3 Q-4
화합물 Q-3(40 g, 161.9 隱 ol)를 아세트산 (acetic acid) 200 ml에 용해시킨다. 여기에 요오드 (4.16 g, 81.0 匪 ol), 요오드산 (6.3 g, 36.0 mmol), 황산 (10 ml)을 넣고 65°C에서 3 h 동안 교반하였다. 반응이 종료된 후 상온으로 식히고, 물을 첨가한다. 생성된 고체를 필터하고 물로 세척한 뒤 를루엔과 에틸아세테이트로 재결정하여 화합물 Q-4(50.1 g, 수율 83 %; MS: [M+H] +=372 )을 얻었다. 합성예 4-1: 중간체 화합물 Q-5의 제조
Figure imgf000104_0001
Q-5
화합물 Q-4(30 g, 80.4 mmol), 4,4,5,5-tetramethyl-2-(triphenylen- 2-y 1 ) - 1 , 3 , 2-d i oxabor o 1 ane (28.5 g, 80.4 mmol) 를 테트라하이드로퓨란 (THF)300 ml에 녹였다. 여기에 탄산나트륨 (Na2C03) 2 M 용액 (120 mL), 테트라키스 (트리페닐포스핀)팔라듐 (0) [Pd(PPh3)4](1.9 g, 2 mol%)을 넣고 6 시간 환류시켰다. 반웅이 끝난 후 상온으로 냉각시키고, 생성된 흔합물을 물과 를루엔으로 3회 추출하였다. 를루엔층을 분리한 뒤 황산마그네슘 (magnesium sulfate)으로 건조하여 여과한 여액을 감압증류하여 얻은 흔합물을 클로로품, 에틸아세테이트를 이용해 재결정 하여 화합물 Q— 5(28.9 g, 수율 76 WIS: [M+H]+=473)을 얻었다.
Figure imgf000104_0002
Q-5
Q-6
화합물 Q-5(25 g, 52.8 隨 ol) 비스 (피나콜라토)디보론 (Bis(pinacolato)diborone)(14.9 g, 58.1 mmol) 포타슴아세테이트 (potassium acetate) (15.5 g, 158.4 mmol), 테트라키스트리페닐포스피노팔라듐 (0) [Pd(PPh3)4] (1.2 g, 2 mol%)을 테트라하이드로퓨란 (300 ml) 에 넣고 12시간 동안 환류시켰다. 반웅이 종료된 후 상온으로 식힌 뒤 감압 증류하여 용매를 제거하였다. 이것을 클로로포름 (Chloroform)에 녹이고 물로 3회 씻어낸 뒤 유기층을 분리하여 황산 마그네슘 (Magnesium sulfate)으로 건조하였다. 이를 감압 증류하여 화합물 Q-6C25.0 g, 수율 91 %; MS:[M+H]+=521)을 제조하였다.
Figure imgf000105_0001
화합물 P-6 대신 2,4-diphenyl-6-(3-(4,4,5,5-tetramethyl-l,3,2- d i oxabor o 1 an-2-y 1 ) heny l)-l,3,5-triazine(16.6 g, 38.1 mmol ) , 2— 브로모페난트렌 (2-bromophenanthrene) 대신 화합물 Q-5(18.0 g, 38.1 mmol) 을 사용한 것 외에는 합성예 1-1과 동일한 방법으로 화합물 7(19.0 g, 수율 71 ; MS:[M+H]+= 702) 을 제조하였다.
Figure imgf000105_0002
화합물 P-6 대신 화합물 Q-6(19.8 g, 38.
브로모페난트렌 (2-bromophenanthrene) 대신
( d i benzo [b,d] fur an— 4— y 1 )一 6— pheny 1 - 1 , 3 , 5-t r i az i ne ( 13.6 g 사용한 것 외에는 합성예 1-1과 동일한 방법으로 화합물 8(19.9 g, 수을 73 %; MS:[M+H]+= 716) 을 제조하였다.
Figure imgf000106_0001
화합물 P-6 대신 화합물 Q-6 19.8 g, 38.1 mmol), 2- 브로모페난트렌 (2-bromophenanthrene) 대신 2-chloro-4-
( d i benzo [ b , d] t h i ophen-3-y 1 ) -6-pheny 1 - 1 , 3 , 5-t r i az i ne ( 14.2 g, 38.1 匪 ol)을 사용한 것 외에는 합성예 1-1과 동일한 방법으로 화합물 19(19.5 g, 수율 70 %; MS:[M+H]+= 732) 을 제조하였다.
Figure imgf000106_0002
Q-6 화합물 48 화합물 P-6 대신 화합물 Q-6 19.8 g, 38.1 瞧 ol), 2- 브로모페난트렌 (2-bromophenanthrene) 대신 4- (4_ch lor으 6— phenyl— 1, 3,5— t r i az i η-2-y 1 ) -9-pheny 1 -9H-car bazo 1 e ( 16.5 g, 38.1 mmol)을 사용한 것 외에는 합성예 1-1과 동일한 방법으로 화합물 48(22.3 g, 수율 74 ; MS:[M+H]+= 791) 을 제조하였다.
Figure imgf000107_0001
화합울 58 화합물 P-6 대신 화합물 Q-6(19.8 g, 38.1 mmol), 2- 브로모페난트렌 (2-bromophenanthrene) 대신 2-(2-bromophenyl )-4-
(dibenzo[b,d]furan— 4— yl)— 6— phenyl— 1,3,5— tr.iazi g, 38.1 mmol)을 사용한 것 외에는 합성예 1-1과 동일한 방법으로 화합물 58(18.7 g, 수율 62 %; MS:[M+H]+= 792) 을 제조하였다.
Figure imgf000107_0002
4,4,5,5-tetramethyl-2-(triphenylen-2-yl)-l,3,2- dioxaborolane(28.5 g, 80.4 mmol) 대신 4,4,5,5_tetramethyl-2- ( henant hr en-2-y l)-l,3,2-dioxaborolane(24.5 g, 80.4 mmol) 를 사용한 것 외에는 합성예 4-1과 동일한 방법으로 화합물 Q-7(20.0 g, 수율 59 %; MS:[M+H]+= 423) 을 제조하였다.
Figure imgf000108_0001
Q-7 화합물 Q_5(25 g, 52.8匪 ol) 대신 화합물 Q_7(22.4 g, 52.8隱 ol)을 사용한 것 외에는 합성예 4-2와 동일한 방법으로 화합물 Q-8(21.6 g, 수율 87 %; MS:[M+H]+= 471) 을 제조하였다.
Figure imgf000108_0002
화합물 P-6 대신 화합물 Q-8U7.9 g, 38.1 mmol), 2- 브로모페난트렌 (2-bromophenanthrene) 대신 2— (4-chlorophenyl )-4- ( d i benzo [ b , d ] f ur an-4-y 1 ) -6-pheny l-l,3,5-triazine(16.5 g, 38.1 mmol)을 사용한 것 외에는 합성예 1-1과 동일한 방법으로 화합물 10(18.4 g, 수율 65 %; MS:[M+H]+= 742) 을 제조하였다. 합성예 5-4: 화합물 15의 제조
Figure imgf000109_0001
Q-8 화합을 15
화합물 P-6 대신 화합물 Q-8 17.9 g, 38.1 mmol), 2- 브로모페난트렌 (2-bromophenanthrene) 대신 2-chloro-4-(4-(9,9-dimethyl- 9H- f 1 uor en- 1-y 1 ) heny 1 ) -6-pheny l-l,3,5-triazine(17.5 g, 38.1 mmol)을 사용한 것 외에는 합성예 1-1과 동일한 방법으로 화합물 15(15.8 g, 수율 54 %; MS: [M+H]+= 768) 을 제조하였다.
Figure imgf000109_0002
Q-9
4,4,5,5-tetramethyl-2-(triphenylen-2-yl)-l,3,2- d i oxabor 0 lane (28.5 g, 80.4 mmol) 대신 4,4,5,5-tetramethyl-2- ( henant hr en-9-y 1 ) - 1 , 3 , 2-d i oxabor o 1 ane (24.5 g, 80.4 mmol ) 를 사용한 것 외에는 합성예 4-1과 동일한 방법으로 화합물 Q-9(20.8 g, 수율 61 %; MS:[M+H]+= 423) 을 제조하였다. 합성예 6-2: 중간체 화합물 Q-10의 제조
Figure imgf000110_0001
Q-9 d-10
화합물 Q_5(25 g, 52.8 mmol) 대신 화합물 Q-7(22.4 g, 52.8 mmol)을 사용한 것 외에는 합성예 4-2와 동일한 방법으로 화합물 Q-10(21.1 g, 수율 85 %; MS:[M+H]+= 471) 을 제조하였다.
Figure imgf000110_0002
화합물 P— 6 대신 화합물 Q-8 17.9 g, 38.1 mmol), 2- 브로모페난트렌 (2-broiTOphenanthrene) 대신 2-(3-chlorophenyl )— 4- ( d i benzo [ b , d ] f ur an-3-y 1 ) -6-pheny l-l,3,5-triazine(16.6 g, 38.1 mmol)을 사용한 것 외에는 합성예 1-1과 동일한 방법으로 화합물 50(14.4 g, 수율 51 ; MS:[M+H]+= 742) 을 제조하였다.
Figure imgf000110_0003
4,4,5,5-tetramethyl-2-(triphenylen-2-yl)-l,3,2- di oxaboro lane (28.5 g, 80.4 mmol) 대신 2— (chrysen-S-y -HS.S- tetramethyl-l ^-dioxaborolane S g, 80.4 mraol) 를 사용한 것 외에는 합성예 4-1과 동일한 방법으로 화합물 Q-1K23.6 g, 수율 62 %; MS:[M+H]+= 473) 을 제조하였다.
Figure imgf000111_0001
Q-11 Q -12
화합물 Q-5(25.0 g, 52.8 匪 ol) 대신 화합물 Q-ll(25.0 g, 52.8 mmol)을 사용한 것 외에는 합성예 4-2와 동일한 방법으로 화합물 Q-12(22.5 g, 수율 82 %; MS:[M+H]+= 521) 을 제조하였다.
Figure imgf000111_0002
화합물 14
화합물 P-6 대신 화합물 Q— 12(17.9 g, 38.1 mmol), 2- 브로모페난트렌 (2-bromophenanthrene) 대신 2-(2-chlorophenyl )-4- (dibenzo [b , d] f uran-l-y 1 )-6-phenyl-l , 3 , 5-t r i azine( 16.5 g, 38.1 瞧 ol)을 사용한 것 외에는 합성예 1-1과 동일한 방법으로 화합물 14(14.5 g, 수율 48 %; MS:[M+H]+= 792) 을 제조하였다.
Figure imgf000112_0001
Q-13
4,4,5,5-tetramethyl-2-(triphenylen-2-yl)-l,3,2- dioxaborolane(28.5 g, 80.4 隱 ol) 대신 4,4,5,5-tetramethyl-2-(4- ( henant hr en-9-y 1 ) heny 1 ) - 1 , 3 , 2-d i oxabor o 1 ane (30.6 g, 80.4 mmol ) 를 사용한 것 외에는 합성예 4-1과 동일한 방법으로 화합물 Q-13(29.3 g, 수율 73 ; MS:[M+H]+= 499) 을 제조하였다.
Figure imgf000112_0002
화합물 Q-5(25.0 g, 52.8 匪 ol) 대신 화합물 Q-13(26.4 g, 52.8 隱 ol)을 사용한 것 외에는 합성예 4-2와 동일한 방법으로 화합물 Q-14(24.5 g, 수율 85 %; MS:[M+H]+= 547) 을 제조하였다. 합성예 8-3: 화합물 17의 제조
Figure imgf000113_0001
Q-14
화합울 17
화합물 P-6 대신 화합물 Q-14(20.8 g, 38.1 mmol), 2- 브로모페난트렌 (2-bromophenanthrene) 대신 2-([l,l'-biphenyl]-2-yl)-4- chloro-6-phenyl-l,3,5-triazine(13.1 g, 38.1 隱 ol)을 사용한 것 외에는 합성예 1-1과 동일한 방법으로 화합물 17(18.9 g, 수율 68 ; MS:[M+H]+= 728) 을 제조하였다.
Figure imgf000113_0002
Q-15
4,4,5,5-tetramethyl-2-(triphenylen-2-yl)-l,3,2- dioxaborolane(28.5 g, 80.4 隱 ol) 대신 2-( [1, 1 ' -biphenyl ]— 4-yl )- 4,4,5,5-tetramethyl-l,3,2-dioxaborolane(22.5 g, 80.4 mmol) 를 사용한 것 외에는 합성예 4-1과 동일한 방법으로 화합물 Q-15(25.7 g, 수율 80 ¾; MS:[M+H]+= 399) 을 제조하였다. 합성예 9-2: 중간체 화합물 Q-16의 제조
Figure imgf000114_0001
Q-15 Q-16
화합물 Q-5(25.0 g, 52.8 醒 ol) 대신 화합물 Q-13(21.1 g, 52.8 瞧 ol)을 사용한 것 외에는 합성예 4-2와 동일한 방법으로 화합물 Q-16(20.3 g, 수율 86 %; MS:[M+H]+= 447) 을 제조하였다.
Figure imgf000114_0002
화합울 30
화합물 P-6 대신 화합물 Q-16U7.0 g, 38.1 mmol), 2- 브로모페난트렌 (2— bromophenanthrene) 대신 2-chloro_4-(3—
(dibenzo [b,d] furan-l-yl ) henyl ) -6-pheny 1-1 ,3,5-triazine(16.5 g, 38.1 瞧 ol)을 사용한 것 외에는 합성예 1-1과 동일한 방법으로 화합물 30(18.9 g 수율 69 ; MS:[M+H]+= 718) 을 제조하였다. 합성예 9-4: 화합물 39의 제조
Figure imgf000115_0001
화합물 P-6 대신 화합물 Q-16 17.0 g, 38.1 mmol), 2- 브로모페난트렌 (2-bromophenantlirene) 대신 2-([1,1' :3',1' '-terphenyl]- 5 ' -y 1 ) -4-ch 1 or ο-6-pheny 1 - 1 , 3 , 5-t r i az i ne ( 16.0 g, 38.1 mmol)을 사용한 것 외에는 합성예 1-1과 동일한 방법으로 화합물 39(17.4 g, 수율 65 ; MS:[M+H]+= 704) 을 제조하였다.
Figure imgf000115_0002
화합물 P-6 대신 화합물 Q-16 17.0 g, 38.1 mmol), 2- 브로모페난트렌 (2-bromophenanthrene) 대신 2-(3-chlorophenyl ^ ^-(g^- cl i me t hy 1 -9H- f 1 uoren-3-y 1 ) heny 1 ) -6-pheny l-l,3,5-triazine(20.4 g, 38.1 mmol)을 사용한 것 외에는 합성예 1-1과 동일한 방법으로 화합물 44(19.4 g 수율 62 %; MS:[M+H]+= 820) 을 제조하였다.
Figure imgf000116_0001
화 울 63
화합물 P-6 대신 화합물 Q— 16(17.0 g, 38.1 mmol), 2- 브로모페난트렌 (2— bromophenanthrene) 대신 2— ([1,1' :3',1' '-terphenyl]-4— y 1 ) -4-ch 1 or ο-6-pheny 1 - 1 , 3 , 5- 1 r i az i ne ( 16.0 g, 38.1 隱 ol)을 사용한 것 외에는 합성예 1-1과 동일한 방법으로 화합물 63(17.4 g, 수율 65 %; MS:[M+H]+= 704) 을 제조하였다.
Figure imgf000116_0002
화합물 P-6 대신 화합물 Q-16(17.0 g, 38.1 隱 ol), 2- 브로모페난트렌 (2— bromophenanthrene) 대신 2-chloro_4-(3-
( d i benzo [ b , d ] f ur an-4-y 1 ) heny 1 ) -6-pheny 1-1,3,5-triazine (16.5 g, 38.1 mmol)을 사용한 것 외에는 합성예 1-1과 동일한 방법으로 화합물 64(17.5 g, 수율 64 %; MS:[M+H]+= 718) 을 제조하였다. 합성예 9-8: 화합물 74의 제조
화합물 P-6 대신 화합물 Q-16(17.0 g, 38.1 醒 ol), 2— 브로모페난트렌 (2-bromophenan1;hrene) 대신 2-(4-chlon)phenyl)-4— ( d i benzo [ b , d ] t h i ophen-2-y 1 ) -6-pheny 1-1,3,5-triazine (17.1 g, 38.1 mmol)을 사용한 것 외에는 합성예 1-1과 동일한 방법으로 화합물 74(17.3 g, 수율.62 %; MS:[M+H]+= 734) 을 제조하였다.
Figure imgf000117_0002
Q-17
4,4,5,5-tetramethyl-2-(triphenylen-2-yl)-l,3,2- dioxaborolane(28.5 g, 80.4 瞧 ol) 대신 6'— chloro— 1,1' :3',1' ' :4' ',1' ' '一 quater henyl (27.4 g, 80.4 mmol) 를 사용한 것 외에는 합성예 4-1과 동일한 방법으로 화합물 Q-17(28.0 g, 수율 63 ; MS:[M+H]+= 551) 을 제조하였다. 합성예 10-2: 중간체 화합물 Q-18의 제조
Figure imgf000118_0001
CM 7 Q-18 화합물 Q_5(25.0 g, 52.8 mmol) 대신 화합물 Q-17(29.1 g, 52.8 隱 ol)을 사용한 것 외에는 합성예 4-2와 동일한 방법으로 화합물 Q-18(25.9 g, 수율 82 %; MS:[M+H]+= 599) 을 제조하였다.
Figure imgf000118_0002
화합물 P-6 대신 화합물 Q-18(22.8 g, 38.1 隱 ol), 2- 브로모페난트렌 (2— bromophenanthrene) 대신 4-chloro— 2,6- diphenylpyrimidine(10.2 g, 38.1 誦 ol)을 사용한 것 외에는 합성예 1-1과 동일한 방법으로 화합물 31(18.2 g, 수율 68 %; MS:[M+H]+= 703) 을 제조하였다. 합성예 11-1: 중간체 화합물 Q-19의 제조
Figure imgf000119_0001
Q-19
4,4,5,5-tetramethyl-2-(triphenylen-2-yl)-l,3,2- dioxaborolane(28.5 g, 80.4 mmol) 대신 2-( [1, 1' :2', 1' '— terphenyl]-2- yl)-4,4,5,5-tetramethyl-l,3,2-dioxaborolane(28.6 g, 80.4 mmol) 를 사용한 것 외에는 합성예 4-1과 동일한 방법으로 화합물 Q-19(25.2 g, 수율 66 %; MS:[M+H]+= 475) 을 제조하였다.
Figure imgf000119_0002
Q-20
Q-19
화합물 Q-5(25.0 g, 52.8 mmol) 대신 화합물 Q-19(25.1 g, 52.8 醒 ol)을 사용한 것 외에는 합성예 4-2와 동일한 방법으로 화합물 Q-20(22.1 g, 수율 80 %; MS:[M+H]+= 523) 을쩨조하였다. 합성예 11-3: 화합물 32의 제조
Figure imgf000120_0001
51합울 32
화합물 p-6 대신 화합물 Q-20C19.9 g, 38.1 mmol), 2- 브로모페난트렌 (2-bromophenanthrene) 대신 2-chloro-4-(naphthalen-l— yl )- 6-pheny 1 -1 , 3 , 5-t r i az i ne ( 12.1 g, 38.1 mmol)을 사용한 것 외에는 합성예 1-1과 동일한 방법으로 화합물 32(15.8 g, 수율 61 ; MS:[M+H]+= 678) 을 제조하였다.
Figure imgf000120_0002
4,4,5,5-tetramethyl-2-(triphenylen-2-yl)-l,3,2- dioxaborolane(28.5 g, 80.4 mmol) 대신 [1,1' :4',1' '-terphenyl]_3- ylboronic acid(22.0 g, 80.4 醒 ol) 를 사용한 것 외에는 합성예 4-1과 동일한 방법으로 화합물 Q-2K27.1 g, 수율 71 ; MS:[M+H]+= 475) 을 제조하였다. 합성예 12-2:중간체 화합물 Q-22의 제조
Figure imgf000121_0001
화합물 Q_5(25.0 g, 52.8 mmol) 대신 화합물 Q-21(25.1 g, 52.8 誦 ol)을 사용한 것 외에는 합성예 4-2와 동일한 방법으로 화합물 Q-22(21.5 g, 수율 78 %; MS:[M+H]+= 523) 을 제조하였다.
Figure imgf000121_0002
화 if울 33
화합물 P— 6 대신 화합물 Q-22U9.9 g, 38.1 mmol), 2- 브로모페난트렌 (2-bromophenanthrene) 대신 2-chloro— 4-
(dibenzo[b , d] furan-l-yl )-6-pheny 1-1 , 3 , 5~tr i azine( 13.6 g, 38.1 mmol)을 사용한 것 외에는 합성예 1-1과 동일한 방법으로 화합물 33(18.8 g, 수율 69 ; MS:[M+H]+= 718) 을 제조하였다. 합성예 12-4: 화합물 67의 제조
Figure imgf000122_0001
화 ϋ튤 67
화합물 Ρ-6 대신 화합물 Q-22(19.9 g, 38.1 匪 ol), 2- 브로모페난트렌 (2-bromophenanthrene) 대신 2_chloro-4_
(dibenzo[b,d]fur an-2-y 1 ) -6-pheny l-l,3,5-triazine(13.6 g, 38.1 mmol)을 사용한 것 외에는 합성예 1-1과 동일한 방법으로 화합물 67(17.2 g, 수율 63 %; MS:[M+H]+= 718) 을 제조하였다.
Figure imgf000122_0002
4,4,5,5-tetramethyl-2-(triphenylen-2-yl)-l,3,2- dioxaborolane(28.5 g, 80.4 mmol) 대신 [1,1' :3',1' '-terphenyl]-3_ ylboronic acid(22.0 g, 80.4 匪 ol) 를 사용한 것 외에는 합성예 4-1과 동일한 방법으로 화합물 Q-23(24.5 g, 수율 64 %; MS:[M+H]+= 475) 을 제조하였다. 합성예 13-2: 중간체 화합물 Q-24의 제조
Figure imgf000123_0001
화합물 Q-5(25.0 g, 52.8 mmol) 대신 화합물 Q-23(25.1 g, 52.8 mmol)을 사용한 것 외에는 합성예 4-2와 동일한 방법으로 화합물 Q— 24(20.7 g, 수율 75 %; MS:[M+H]+= 523) 을 제조하였다.
Figure imgf000123_0002
화합물 P-6 대신 화합물 Q-24 19.9 g, 38.1 mmol), 2- 브로모페난트렌 (2-bromophenan1;hrene) 대신 2-(4-chlorophenyl ^S- diphenyl-U^-tr iazine(13.1 g, 38.1 mmol)을 사용한 것 외에는 합성예 1-1과 동일한 방법으로 화합물 34(19.6 g, 수율 73 %; MS:[M+H]+= 704) 을 제조하였다. 합성예 13-4: 화합물 69의 제조
Figure imgf000124_0001
화합물 69
화합물 P-6 대신 화합물 Q-24(19.9 g, 38.1 mmol), 2- 브로모페난트렌 (2-bromophenanthrene) 대신 2-(3— chlorophenyl ^ ^- diphenyl-U^-triazine lS.1 g, 38.1 睡 ol)을 사용한 것 외에는 합성예 1-1과 동일한 방법으로 화합물 69(18.8 g, 수율 70 ; MS:[M+H]+= 704) 을 제조하였다.
Figure imgf000124_0002
4,4,5,5-tetramethyl-2-(triphenylen-2-yl)-l,3,2- d i oxabor o 1 ane (28.5 g, 80.4 mmol ) 대신 [ 1 , 1 ' -b i pheny 1 ] -3-y 1 bor on i c acid(15.9 g, 80.4 mmol) 를 사용한 것 외에는 합성예 4-1과 동일한 방법으로 화합물 Q-25(21.8 g, 수율 68 %; MS:[M+H]+= 399) 을 제조하였다. 합성예 14-2: 중간체 화합물 Q-26의 제조
Figure imgf000125_0001
화합물 Q_5(25.0 g, 52.8 mmol) 대신 화합물 Q-25(21.1 g, 52.8 mmol)을 사용한 것 외에는 합성예 4-2와 동일한 방법으로 화합물 Q_26(16.5 g, 수율 70 ; MS:[M+H]+= 447) 을 제조하였다.
Figure imgf000125_0002
화합울 35
화합물 P-6 대신 화합물 Q-26(19.9 g, 38.1 瞧 ol), 2- 브로모페난트렌 (2-bromophenanthrene) 대신 2-( [1, 1 ' :2 ', Γ '— terphenyl ]-3- y 1 ) -4-ch 1 or ο-6-pheny 1 - 1 , 3 , 5-t r i az i ne ( 16.0 g, 38.1 mmol)을 사용한 것 외에는 합성예 1-1과 동일한 방법으로 화합물 35(17.4 g, 수율 65 %; MS:[M+H]+= 704) 을 제조하였다. 합성예 14-4: 화합물기의 제조
Figure imgf000126_0001
화합물 P-6 대신 화합물 Q-26(19.9 g, 38.1 mmol), 2- 브로모페난트렌 (2-broiTK)phenanthrene) 대신 2-([1,1' :3',1' '-terphenyl]一 3- y 1 ) -4-ch 1 or ο-6-pheny 1 - 1 , 3 , 5-t r i az i ne ( 16.0 g, 38.1 隱 ol)을 사용한 것 외에는 합성예 1-1과 동일한 방법으로 화합물 71(15.8 g, 수율 59 %; MS:[M+H]+= 704) 을 제조하였다.
Figure imgf000126_0002
Q-27
4,4,5,5-tetramethyl-2-(triphenylen-2-yl)-l,3,2- dioxaborolane(28.5 g, 80.4 mmol ) 대신 (4-(triphenylen_2ᅳ yDphenyOboronic acid(28.0 g, 80.4 誦 ol) 를 사용한 것 외에는 합성예 4-1과 동일한 방법으로 화합물 Q-27(27.4 g, 수율 62 %; MS:[M+H]+= 549) 을 제조하였다. 8의
Figure imgf000127_0001
Q-27 Q-28
화합물 Q-5(25.0 g, 52.8 mmol) 대신 화합물 Q-27(29.0 g, 52.8 mmol)을 사용한 것 외에는 합성예 4-2와 동일한 방법으로 화합물 Q-28(26.1 g, 수율 83 %; MS:[M+H]+= 597) 을 제조하였다.
Figure imgf000127_0002
화합물 P-6 .대산 화합물 Q-28U9.9 g, 38.1 mmol), 2- 브로모페난트렌 (2-bromoplienanthrene) 대신 2-(4-chlorophenyl ^ S- diphenyl-HS-triazineaS.1 g, 38.1 醒 ol)을 사용한 것 외에는 합성예 1-1과 동일한 방법으로 화합물 47(20.2 g, 수율 68 ; MS:[M+H]+= 778) 을 제조하였다. 합성예 16-1: 중간체 화합물 Q-29의 제조
Figure imgf000128_0001
Q-29
4,4,5,5-tetramethyl-2-(triphenylen-2-yl)-l,3,2- d i oxabor o 1 ane ( 28.5 g, 80.4 mmol ) 대신 chr y s en-2-y 1 bor on i c acid(21.9 g, 80.4 腿 ol) 를 사용한 것 외에는 합성예 4-1과 동일한 방법으로 화합물 Q- 29(22.5 g, 수율 59 %; MS:[M+H]+= 473) 을 제조하였다.
Figure imgf000128_0002
화합물 Q_5(25.0 g, 52.8 mmol) 대신 화합물 Q-29(25.0 g, 52.8 mmol)을 사용한 것 외에는 합성예 4-2와 동일한 방법으로 화합물 Q-30(23.9 g, 수율 87 %; MS:[M+H]+= 521) 을 제조하였다. 합성예 16-3: 화합물 51의 제조
Figure imgf000129_0001
화합물 P-6 대신 화합물 Q-30(19.8 g, 38.1 mmol), 2- 브로모페난트렌 (2-bromophenanthrene) 대신 2-chloro-4—
(dibenzo[b , d] thiophen-2-yl )—6— phenyl— 1 ,3,5-tr iazine(14.2 g, 38.1 mmol)을 사용한 것 외에는 합성예 1-1과 동일한 방법으로 화합물 51(17.0 g 수율 61 %; MS:[M+H]+= 732) 을 제조하였다.
Figure imgf000129_0002
Q-31
4,4,5,5-tetramethyl-2-(triphenylen-2-yl)-l,3,2- d i oxabor o l ane (28.5 g, 80.4 mmol ) 대신 (3al,5al— dihydropyren— 1一 yDboronic acid(19.9 g, 80.4 mmol) 를 사용한 것 외에는 합성예 4—1과 동일한 방법으로 화합물 Q-3K22.8 g, 수율 63 %; MS:[M+H]+= 449) 을 제조하였다. 합성예 17-2: 중간체 화합물 Q-32의 제조
Figure imgf000130_0001
화합물 Q-5(25.0 g, 52.8 隱 ol) 대신 화합물 Q_31(23.7 g, 52.8 mmol)을 사용한 것 외에는 합성예 4-2와 동일한 방법으로 화합물 Q-32(22.3 g, 수율 85 %; MS:[M+H]+= 497) 을 제조하였다.
Figure imgf000130_0002
화합물 P-6 대신 화합물 Q-32(18.9 g, 38.1 mmol), 2- 브로모페난트렌 (2-bromophenanthrene) 대신 2-chloro-4-(9,9-dimethyl-9H- f luoren— l—yl)—6— phenyl— 1,3,5— triazine(14.6 g, 38.1 匪 ol)을 사용한 것 외에는 합성예 1-1과 동일한 방법으로 화합물 52(17.0 g, 수율 62 ; MS:[M+H]+= 718) 을 제조하였다. 합성예 18-1: 중간체 화합물 Q-33의 제조
Figure imgf000131_0001
Q-33
4,4,5,5-tetramethyl-2-(triphenylen-2-yl)-l,3,2- dioxaborolane(28.5 g, 80.4 mmol ) 대신 (3_tr itylphenyl )boronic acid(29.3 g, 80.4 mmol) 를 사용한 것 외에는 합성예 4—1과 동일한 방법으로 화합물 Q-33C27.3 g, 수율 60 %; MS:[M+H]+= 565) 을 제조하였다.
Figure imgf000131_0002
Q-33 Q"34
화합물 Q-5(25.0 g, 52.8 瞧 ol) 대신 화합물 Q-33(13.4 g, 52.8 隱 ol)을 사용한 것 외에는 합성예 4-2와 동일한 방법으로 화합물 Q-34(28.1 g, 수율 87 ; MS:[M+H]+= 613) 을 제조하였다.
Figure imgf000131_0003
브로모페난트렌 (2-bromophenanthrene) 대신 2— chloro-4-(9,9-dimethyl-9H- f luoren-4-yl )-6-phenyl-l,3,5— triazine(14.6 g, 38.1 隱 o 을 사용한 것 외에는 합성예 1-1과 동일한 방법으로 화합물 56(20.3 g, 수율 64 %; MS:[M+H]+= 834) 을 제조하였다.
Figure imgf000132_0001
Q-35
4,4,5,5-tetramethyl-2-(triphenylen-2-yl)-l,3,2- dioxaborolane(28.5 g, 80.4 mmol) 대신 [1, 1 ' :4', 1 ' 1 -terphenyl ]-4- ylboronic acid(22.0 g, 80.4 隱 ol) 를 사용한 것 외에는 합성예 4-1과 동일한 방법으로 화합물 Q-35(21.0 g, 수율 55 %; MS:[M+H]+= 475) 을 제조하였다.
Figure imgf000132_0002
g, 수율 89 %; MS:[M+H]+= 523) 을 제조하였다.
Figure imgf000133_0001
화합물 P-6 대신 화합물 Q-36 19.9 g, 38.1 隱 ol), 2- 브로모페난트렌 (2-bromophenanthrene) 대신 4-chloro_2,6- diphenylpyrimidine(10.2 g, 38.1 mmol)을 사용한 것 외에는 합성예 1-1과 동일한 방법으로 화합물 75(16.0 g, 수율 67 %; MS:[M+H]+= 627) 을 제조하였다.
Figure imgf000133_0002
R-1
1—브로모 -3-아이오도벤젠 (l-bromo-3-iodobenzene)(50 g, 176.7醒 ol) 2-브로모싸이오페놀 (2-Bromothiophenol)(40.1 g, 212.0 mmol) 을 에탄을 (EtOH) 500ml에 분산시키고 Na0H(9.2g, 229.7 mmol) 을 넣은 뒤, 6시간동안 환류시켰다. 반응이 종료된 후 상은으로 식히고, 물을 넣고 추출하여 얻은 유기층을 감압증류한 흔합물을 시리카겔에 필터하여 화합물 R-K48.6 g, 수율 80 %; MS:[M+H]+= 342) 을 제조하였다. .
Figure imgf000134_0001
화합물 R-U40.0 g, 116.3 mmol)을 다이클로로메탄 (DCM) 500 ml에 녹인 뒤, DDQ(2,3-dichloro— 5,6ᅳ dicyano-1,4— berizoquinone)(31.6 g, 140.0 隱 ol)을 넣고 상온에서 24시간동안 교반하였다. 반응이 종료된 후 과량의 물을 이용하여 3회 추출한다. 유기층을 황산마그네슘 (magnesium sulfate)로 건조한 뒤 감압증류하여 얻은 흔합물을 숏컬럼으로 정제하여 화합물 R- 2(21.7 g, 수율 71 %; MS:[M+H]+= 262) 을 제조하였다.
Figure imgf000134_0002
R-2 R-3
화합물 R-2(20 g, 76.0 匪 ol)을 테트라하이드로퓨란 (250 ml)에 녹인 후, -78°C로 온도를 낮추고 1.7 M 터셔리-부틸리튬 (t-BuLi)(44.7 ml, 76.0 mmol)을 천천히 가하였다. 동일 온도에서 한 시간 동안 교반한 후 트리아이소프로필보레이트 (B(0iPr)3)(20.1 ml, 152.0 隱 ol)을 가하고, 상온으로 온도를 서서히 을리면서 3시간동안 교반하였다. 반웅 흔합물에 2 N 염산수용액 (100 ml)을 가하고 1.5 시간 동안 상온에서 교반하였다. 생성된 침전물을 거르고 물과 에틸에테르 (ethyl ether)로 차례로 씻은 후 진공 건조하였다. 건조 후 에틸에테르에 분산시켜 두 시간 동안 교반한 후 여과하고 건조하여 화합물 R-3CL5.1 g, 수율 87 %; MS: [M+H]+=229)을 제조하였다.
Figure imgf000135_0001
화합물 R-3 15.0 g, 65.8 mmol)과 2-ch lor c)-4,6-di phenyl -1, 3,5- triazine(17.6 g, 162.3 mmol)을 테트라하이드로퓨란 (200 ml)에 분산시킨 후, 2M 탄산칼륨수용액 (aq. K2C03)(98.7 ml, 197.4 mmol)을 첨가하고 테트라키스트리페닐포스피노팔라듐 [Pd(PPh3)4](1.5 g, 2 mol%)을 넣은 후 5시간 동안 교반 환류하였다. 상은으로 온도를 낮추고 생성된 고체를 여과하였다. 여과된 고체를 테트라하이드로퓨란과 에틸아세테이트로 재결정하고 여과한 뒤, 건조하여 화합물 R-4(24.1 g, 수율 88 %; MS:[M+H]+=416)를 제조하였다.
Figure imgf000135_0002
화합물 R-4(40 g, 96.3 mmol)을 클로로포름 (350mL)에 녹이고, 아세트산 (350mL)을 첨가한 후, 0°C하에서 Br2(5.2 mL, 101.1 mmol)을 적가하였다. 얻어진 흔합물을 상온으로 올려 5시간 동안 교반시킨다. 반웅이 종료 된 후 반응액을 농축시키고 에탄을로 재결정하여 화합물 R- 5(34.3 g, 수율 72 %; MS:[M+H]+=494)를 제조하였다.
Figure imgf000136_0001
화합물 R-5(40 g, 80.9 mmol) 비스 (피나콜라토)디보론 (Bis(pinacolato)diborone)(24.7 g,97.1 瞧 ol) 포타슘아세테이트 (potassium acetate)(33.5 g, 242.7 mmol), 테트라키스트리페닐포스피노팔라듐 (0) [Pd(PPh3)4](1.9 g, 2 mol¾>)을 테트라하이드로퓨란 (500 ml) 에 넣고 12시간 동안 환류시켰다. 반웅이 종료된 후 상온으로 식힌 뒤 감압 증류하여 용매를 제거하였다. 이것을 클로로포름 (Chloroform)에 녹이고 물로 3회 씻어낸 뒤 유기층을 분리하여 황산 마그네슴 (Magnesium sulfate)으로 건조하였다. 이를 감압 증류하여 화합물 R-6(39.9 g, 수율 91 %; MS: [M+H]+=542)을 제조하였다.
Figure imgf000136_0002
화합물 P-6 대신 화합물 R-6(20.6 g, 38.1 mmol), 2- 브로모페난트렌 (2— bromophenanthrene) 대신 3-bromof luoranthene( 10.7 g, 38.1 mmol)을 사용한 것 외에는 합성예 1-1과 동일한 방법으로 화합물 5(17.9 g, 수율 76 %; MS: [M+H]+= 616) 을 제조하였다. 합성예 20-2: 화합물 53의 제조
Figure imgf000137_0001
화합물 P-6 대신 화합물 R-6(20.6 g' 38.1 mmol), 2- 브로모페난트렌 (2-bromophenanthrene) 대신 3-(6-bromonaphthalen-2- yl)phenanthrene(14.6 g, 38.1 mmol)을 사용한 것 외에는 합성예 1—1과 동일한 방법으로 화합물 53(18.9 g, 수율 69 %; MS:[M+H]+= 718) 을 제조하였다.
Figure imgf000137_0002
2-ch 1 or 0-4 , 6-di pheny 1 -1 , 3 , 5-t r i az ine ( 17.6 g' 162.3 mmol) 대신 2- ( [ 1, 1 '— b i pheny 1 ] -2-yl )—4_ch 1 or o_6— pheny 1— l,3,5—triazine(55.8 g, 162.3 mmol) 을 사용한 것 외에는 합성예 20 의 화합물 R-4의 제조법과 동일한 방법으로 화합물 S-K68.6 g, 수율 86 %; MS:[M+H]+= 492) 을 제조하였다.
Figure imgf000138_0001
화합물 R_4(40 g, 96.3 mmol) 대신 화합물 S-l(47.3 g, 96.3隱 ol)을 사용한 것 외에는 합성예 20 의 화합물 R-5의 제조법과 동일한 방법으로 화합물 S_2(50.5 g, 수율 92 %; MS:[M+H]+= 492) 을 제조하였다.
Figure imgf000138_0002
화합물 73
화합물 P-6 대신 화합물 S-2(20.6 g, 38.1 隱 ol), 2- 브로모페난트렌 (2-bromophenanthrene) 대신 [.1,1' :4',1' '-terphenyl]-2'— ylboronic acid(10.4 g, 38.1 瞧 ol)을 사용한 것 외에는 합성예 1-1과 동일한 방법으로 화합물 78(14.8 g, 수율 54 ; MS:[M+H]+= 720) 을 제조하였다. 합성예 22: 중간체 화합물 S-4의 제조
Figure imgf000139_0001
2-ch 1 or 0-4 , 6-di pheny 1 -1 , 3 , 5-t r i az i ne ( 17.6 g, 162.3 隱 ol) 대신 2- ( [ 1, 1 ' -b i pheny 1 ] -3-y 1 ) -4-ch 1 oro-6-pheny 1-1,3,5-tr iazine(55.8 g, 162.3 匪 ol) 을 사용한 것 외에는 합성예 20 의 화합물 R-4의 제조법과 동일한 방법으로 화합물 S-3(71.0 g, 수율 89 %; MS:[M+H]+= 492) 을 제조하였다.
Figure imgf000139_0002
화합물 R-4(40 g, 96.3隱 ol) 대신 화합물 S-3(47.3 g, 96.3隱 ol)을 사용한 것 외에는 합성예 20 의 화합물 R— 5의 제조법과 동일한 방법으로 화합물 S-4(49.4 g, 수율 90 %; MS:[M+H]+= 570) 을 제조하였다. 합성예 22-1: 화합물 79의 제조
Figure imgf000140_0001
화합울 79
화합물 P-6 대신 화합물 S-4(21.7 g, 38.1 mmol), 2- 브로모페난트렌 (2-bromophenanthrene) 대신 (4'-phenyl-[l, 1':3',1' '- terphenyl]-4-yl)boronic acid(13.3 g, 38.1 誦 ol)을 사용한 것 외에는 합성예 1-1과 동일한 방법으로 화합물 79(20.6 g, 수율 68 %; MS:[M+H]+= 796) 을 제조하였다.
Figure imgf000140_0002
2-chloro-4,6-diphenyl-l,3,5-triazine(17.6 g, 162.3 mmol) 대신 2- chloro-4,6-diphenylpyrimidine(43.3 g, 162.3 mmol) 을 사용한 것 외에는 합성예 20 의 화합물 R-4의 제조법과 동일한 방법으로 화합물 S-5(57.9 g, 수율 86 %; MS:[M+H]+= 415) 을 제조하였다.
Figure imgf000141_0001
화합물 R_4(40 g, 96.3 mmol) 대신 화합물 S-3(39.9 g, 96.3醒 ol)을 사용한 것 외에는 합성예 20 의 화합물 R-5의 제조법과 동일한 방법으로 화합물 Sᅳ 6(41.3 g, 수율 87 %; MS:[M+H]+= 493) 을 제조하였다.
Figure imgf000141_0002
화합물 P-6 대신 화합물 S-6U8.8 g, 38.1 匪 ol), 2- 브로모페난트렌 (2-bromophenanthrene) 대신 [1,1' :3' ,1' ' :3' ' ,1' 1 '- quaterphenyl]-4-ylboronic acid(13.3 g, 38.1 隱 ol)을 사용한 것 외에는 합성예 1-1과 동일한 방법으로 화합물 43(18.4 g, 수율 67 ; MS:[M+H]+= 719) 을 제조하였다. 합성예 23-2: 화합물 80의 제조
Figure imgf000142_0001
화합물 P-6 대신 화합물 S-6(18.8 g, 38.1 隱 ol), 2- 브로모페난트렌 (2-bromophenanthrene) 대신 [1, 1' :2', 1' ' :4' 1 , 1' ' quaterphenyl]-4' ' '-ylboronic acid(13.3 g, 38.1 mm이)을 사용한 것 외에는 합성예 1-1과 동일한 방법으로 화합물 80(17.8 g, 수율 65 %; MS:[M+H]+= 719) 을 제조하였다.
Figure imgf000142_0002
S-7
2-ch 1 or 0-4 , 6-d i heny l-l,3,5-triazine(17.6 g, 162.3醒 ol) 대신 2- (4-chl oropheny 1 )-4-(dibenzo[b,d]thi ophen— 2— y 1 ) -6-pheny 1-1,3,5- triazine(73.0 g, 162.3 mmol) 을 사용한 것 외에는 합성예 20 의 화합물 R— 4의 제조법과 동일한 방법으로 화합물 S-7(80.5 g, 수율 83 %; MS:[M+H]+= 598) 을 제조하였다.
Figure imgf000143_0001
S-7 S-8
화합물 R_4(40 g, 96.3 mmol) 대신 화합물 S_7(57.6 g, 96.3 匪 ol)을 사용한 것 외에는 합성예 20 의 화합물 R-5의 제조법과 동일한 방법으로 화합물 S-8(52.8 g, 수율 81 %; MS:[M+H]+= 676) 을 제조하였다.
Figure imgf000143_0002
화합물 P-6 대신 화합물 S-8(18.8 g, 38.1 隱 ol), 2- 브로모페난트렌 (2-bromophenanthrene) 대신 4,4,5,5-tetramethyl-2-(10_ pheny 1 henant hr en-9-y l)-l,3,2-dioxaborol ane (14.5 g, 38.1 匪 ol)을 사용한 것 외에는 합성예 1-1과 동일한 방법으로 화합물 18(17.5 g, 수율 54 %; MS:[M+H]+= 850) 을 제조하였다. 합성예 25: 중간체 화합물 S-10의 제조
Figure imgf000144_0001
S-9
2-ch 1 or 0-4 , 6-d i phenyl -1 , 3 , 5-t r i az i ne ( 17.6 g, 162.3 mmol) 대신 2- chloro— 4— (dibenz이 b,d] furan-l-yl )—6— phenyl— 1,3,5— triazine(58.1 g, 162.3 mmol) 을 사용한 것 외에는 합성예 20 의 화합물 R-4의 제조법과 동일한 방법으로 화합물 S-9(71.4 g, 수율 87 %; MS:[M+H]+= 506) 을 제조하였다.
Figure imgf000144_0002
화합물 R-4(40 g, 96.3隱 ol) 대신 화합물 S— 9(48.7 g, 96.3瞧 ol)을 사용한 것 외에는 합성예 20 의 화합물 R-5의 제조법과 동일한 방밥으로 화합물 S-10 6.2 g, 수율 82 %; MS:[M+H]+= 584) 을 제조하였다. 합성예 25-1: 화합물 20의 제조
Figure imgf000145_0001
5-10
화합울 20
화합물 P-6 대신 화합물 S-10(34.5 g, 38.1 隱 ol), 2- 브로모페난트렌 (2-bromophenanthrene) 대신 t r i pheny 1 en-2-y 1 bor on i c acid(10.4 g, 38.1 mmol)을 사용한 것 외에는 합성예 1-1과 동일한 방법으로 화합물 20(18.7 g, 수율 67 %; MS: [M+H]+= 732) 을 제조하였다.
Figure imgf000145_0002
2-chloro-4,6-diphenyl-l,3,5-triazine(17.6 g, 162.3 腿 ol) 대신 2- ([l,l'-biphenyl]-4-yl-2',3' ,4' ,5' ,6'-d5)-4-chloro-6- phenylpyrimidine(56.5 g, 162.3 瞧 ol) 을 사용한 것 외에는 합성예 20 의 화합물 R-4의 제조법과 동일한 방법으로 화합물 S= 1(71.6 g, 수율 89 ; MS: [M+H]+= 496) 을 제조하였다.
Figure imgf000146_0001
화합물 R-4(40 g, 96.3 mmol) 대신 화합물 S-ll(47.7 g, 96.3 mmol)을 사용한 것 외에는 합성예 20 의 화합물 R-5의 제조법과 동일한 방법으로 화합물 S-12(47.0 g, 수율 85 %; MS:[M+H]+= 574) 을 제조하였다.
Figure imgf000146_0002
화합물 P-6 대신 화합물 S—12(21.9 g, 38.1 mmol), 2- 브로모페난트렌 (2_bromophenanthrene) 대신 t r i pheny 1 en-2-y 1 bor on i c acid(10.4 g, 38.1 mmol)을 사용한 것 외에는 합성예 1-1과 동일한 방법으로 화합물 24(19.5 g, 수율 71 %; MS:[M+H]+= 722) 을 제조하였다. 합성예 27-1: 중간체 화합물 Q-37의 제조
Figure imgf000147_0001
Q-37
4,4,5,5-tetramethyl-2-(triphenylen-2-yl)-l,3,2- d i oxabor o 1 ane (28.5 g, 80.4 mmol ) 대신 (3— (tr iphenylsi lyl )phenyl )boronic acid(30.6 g, 80.4 mmol) 를 사용한 것 외에는 합성예 4-1과 동일한 방법으로 화합물 Q-37(30.6 g, 수율 60 %; MS:[M+H]+= 581) 을 제조하였다.
Figure imgf000147_0002
화합물 Q— 5(25.0 g, 52.8 匪 ol) 대신 화합물 Q— 37(30.7 g, 52.8 mmol)을 사용한 것 외에는 합성예 4-2와 동일한 방법으로 화합물 Q-38(28.5 g, 수율 86 %; MS:[M+H]+= 629) 을 제조하였다.
Figure imgf000147_0003
화합물 P-6 대신 화합물 Q-38(24.0 g, 38.1 瞧 o 브로모페난트렌 (2-bromophenanthrene) 대신 2-chloro— 4-
(dibenzo[b,d]thi ophen-2-y 1 ) -6-pheny I— 1,3,5— triazine (14.2 g, 38.1 mmol)을 사용한 것 외에는 합성예 1-1과 동일한 방법으로 화합물 38(19.2 g, 수율 60 %; MS:[M+H]+= 840) 을 제조하였다.
Figure imgf000148_0001
S-13
2-ch 1 or 0-4 , 6-di phenyl -1 , 3 , 5-t r i az i ne ( 17.6 g, 162.3 隱 ol) 대신 2- chloro-4-(di benzo [b,d] furan-3-yl )— 6— phenyl—l,3,5—triazine(58.1 g, 162.3 mmol) 을 사용한 것 외에는 합성예 20 의 화합물 R-4의 제조법과 동일한 방법으로 화합물 S-13(71.4 g, 수율 87 %; MS:[M+H]+= 506) 을 제조하였다.
Figure imgf000148_0002
S-13
S-14
화합물 R-4(40 g, 96.3 隱 ol) 대신 화합물 S-13(48.7 g, 96.3 mmol)을 사용한 것 외에는 합성예 20 의 화합물 R-5의 제조법과 동일한 방법으로 화합물 S-14(50.1 g, 수율 89 %; MS:[M+H]+= 584) 을 제조하였다.
Figure imgf000149_0001
S-14 &합물 41
화합물 P-6 대신 화합물 S-14(21.9 g, 38.1 圆 ol), 2- 브로모페난트렌 (2-bromophenanthrene) 대신 [1,1' :2',1' '-terphenyl]-3- ylboronic acid(10.4 g, 38.1 mmol)을 사용한 것 외에는 합성예 1-1과 동일한 방법으로 화합물 41(19.3 g, 수율 69 %; MS:[M+H]+= 734) 을 제조하였다.
Figure imgf000149_0002
2-chloro-4,6-diphenyl-l,3,5-triazine(17.6 g, 162.3匪 ol) 대신 2- ch 1 oro-4- ( d i benzo [b,d]thi ophen-4-y 1 )—6— pheny 1-1,3,5-tr iazine(60.7 g, 162.3 隱 ol) 을 사용한 것 외에는 합성예 20 의 화합물 R-4의 제조법과 동일한 방법으로 화합물 S_15(78.7 g, 수율 93 %; MS:[M+H]+= 522) 을 제조하였다.
Figure imgf000150_0001
화합물 R-4(40 g, 96.3 mmol) 대신 화합물 S-15(50.2 g, 96.3 mmol)을 사용한 것 외에는 합성예 20 의 화합물 R-5의 제조법과 동일한 방법으로 화합물 S_16(50.3 g, 수율 87 ; MS:[M+H]+= 600) 을 제조하였다.
Figure imgf000150_0002
화합물 P-6 대신 화합물 S-16(22.9 g, 38.1 mmol), 2- 브로모페난트렌 (2-bromophenanthrene) 대신 [1,1' :3',1' '—terphenyl]— 3- ylboronic acid(10.4 g, 38.1 mmol)을 사용한 것 외에는 합성예 1-1과 동일한 방법으로 화합물 42(20.6 g, 수율 72 %; MS:[M+H]+= 750) 을 제조하였다. 합성예 30: 화합물 23의 제조
Figure imgf000151_0001
화합물 6(20 g, 28.5隱 ol)을 테트라하이드로퓨란 (500 ml)에 녹인 후, -78 °C 로 온도를 낮추고 1.7 M 터셔리-부틸리륨 (t-BuLi)(16.8 ml, 28.5 隱 ol)을 천천히 가하였다. 동일 온도에서 한 시간 동안 교반한 후 과량의 0를 적가하여 반응을 종료시킨다. 상온으로 온도를 서서히 올리고, 유기층을 분리한 뒤 황산마그네슘으로 건조하여 감압증류한다. 얻어진 흔합물을 컬럼크로마토그래피를 이용하여 핵산 /에틸아세테이트 (10:1)로 정제하여 화합물 23(9.6 g, 수율 48 ; MS:[M+H]+= 703)을 제조하였다.
Figure imgf000151_0002
화합물 6 대신 화합물 8(20.4 g, 28.5 瞧 ol), 1.7 M 터셔리- 부틸리튬 (t-BuLi)(33.5 ml, 57.0 瞧 ol) 을 사용한 것 외에는 합성예 30과 동일한 방법으로 화합물 60(8.6 g, 수율 42 %; MS:[M+H]+= 718) 을 제조하였다. 합성예 32-1: 중간체 화합물 Q-39의 제조
Figure imgf000152_0001
화합물 P-6 대신 화합물 Q-36(19.9 g, 38.1 mmol), 2- 브로모페난트렌 (2-bromophenanthrene) 대신 2-(4-chlorophenyl ^A^- diphenyl-l^.S-triazine lS.1 g, 38.1 mmol)을 사용한 것 외에는 합성예 1-1과 동일한 방법으로 화합물 Q-39(22.0 g, 수율 82 %; MS:[M+H]+= 704) 을 제조하였다.
Figure imgf000152_0002
합성예 30과 동일한 방법으로 화합물 73(9.9 gᅳ 수율 49 %; MS:[M+H]+= 705) 을 제조하였다. 합성예 33: 중간체 화합물 T-7의 제조
Figure imgf000153_0001
T-1
5-클로로 2—메특시페닐보론산 ((5— chloro-2-methoxyphenyl)boronic acid)(62.2 g, 333.5 mmol) 대신 4-클로로 -2-메록시페닐보론산 ((4—chloro— 2-methoxyphenyl )boronic acid)(62.2 g, 333.5 mmol) 을 사용한 것 외에는 합성예 1의 P-1의 제조와 동일한 방법으로 화합물 T-U65.3 g, 수율 62 ; MS:[M+H]+=314) 을 제조하였다.
Figure imgf000153_0002
T-1 T-2
화합물 P-K50.0 g, 158.5匪 ol)대신 화합물 T-l(50.0 g, 158.5醒 ol) 을 사용한 것 외에는 합성예 1의 P-2의 제조와 동일한 방법으로 화합물 T- 2(43.0 g, 수율 90 %; MS:[M+H]+=300) 을 제조하였다.
Figure imgf000153_0003
T-2 T^3
화합물 P-2 (40.0 g, 132.7 醒 ol) 대신 화합물 T— 2(40.0 g, 132.7 誦 ol) 을 사용한 것 외에는 합성예 1의 P-3의 제조와 동일한 방법으로 화합물 T-3(30.6 g, 수율 82 ;MS:[M+H]+=280) 을 제조하였다.
Figure imgf000153_0004
Τ-3 Τ-4
화합물 P-3(30.0 g, 106.6 隱 ol) 대신 화합물 T-3(30.0 g, 106.6 誦 ol) 을 사용한 것 외에는 합성예 1의 P-4의 제조와 동일한 방법으로 화합물 T-4(25.0 g, 수율 95 ; MS:[M+H]+=247)을 제조하였다.
Figure imgf000154_0001
T-4 T-5
화합물 P— 4(20.0 g, 81.2腿 ol) 대신 화합물 T_4(20.0 g, 81.2醒 ol) 을 사용한 것 외에는 합성예 1의 P-5의 제조와 동일한 방법으로 화합물 T- 5(31.7 g, 수율 90 %; MS:[M+H]+=434)를 제조하였다.
Figure imgf000154_0002
T-6
화합물 P— 4(20.0 g, 81.2匪 ol) 대신 화합물 T-4(20.0 g, 81.2 mmol), 2-ch 1 or 0-4, 6_d i pheny 1-1,3, 5-triazine 대신 2—ch 1 oro-4- (9,9-dimethyl -9H- f 1 uor en-2-y 1 ) -6-pheny 1 - 1 , 3 , 5- 1 r i az i ne ( 31.1 g, 81.2 瞧 ol) 을 사용한 것 외에는 합성예 1의 P-5의 제조와 동일한 방법으로 화합물 T-6(37.1 g, 수율 83 ; MS:[M+H]+=550)를 제조하였다.
Figure imgf000155_0001
화합물 P— 4(20.0 g, 81.2 薩 ol) 대신 화합물 T-4(20.0 g, 81.2 mmol), 2-ch 1 oro-4 , 6-d i heny 1-1,3,5-triazine 대신 2-(2— chlorophenylXS- diphenyl-l,3,5-triazine(27.9 g, 81.2 mmol) 을 사용한 것 외에는 합성예 1의 p-5의 제조와 동일한 방법으로 화합물 T-7(29.4 g, 수율 71 %; MS:[M+H]+=510)를 제조하였다.
Figure imgf000155_0002
화합물 P-6 대신 화합물 T-5C16.5 g, 38.1 mmol), 2- 브로모페난트렌 (2-bromophenanthrene) 대신 [1,1' :3',1' ' :4' ',1' ' '- quaterphenyl ]-4-ylboronic acid(13.3 g, 38.1 隱 ol)을 사용한 것 외에는 합성예 1-1과 동일한 방법으로 화합물 76(23.9 g, 수율 89 ; MS: [M+H]+= 704) 을 제조하였다. 합성예 33-2: 화합물 40의 제조
Figure imgf000156_0001
화합물 P-6 대신 화합물 T-6(21.0 g, 38.1 mmol), 2- 브로모페난트렌 (2-bromophenanthrene) 대신 (4—
(tr iphenylsi lyl )phenyl )boronic acid(14.5 g, 38.1 画 ol)을 사용한 것 외에는 합성예 1-1과 동일한 방법으로 화합물 40(26.6 g, 수율 82 %; MS:[M+H]+= 850) 을 제조하였다.
Figure imgf000156_0002
화합물 P-6 대신 화합물 T-7 19.4 g, 38.1 mmol), 2- 브로모페난트렌 (2— bromophenanthrene) 대신 f 1 uor ant hen-3-y 1 bor on i c acid(9.4 g, 38.1 mmol)을 사용한 것 외에는 합성예 1-1과 동일한 방법으로 화합물 21(22.1 g, 수율 86 %; MS:[M+H]+= 676) 을 제조하였다. 합성예 34: 중간체 화합물 ϋ-8의 제조
Figure imgf000157_0001
1 , 3-dibromo-2-methoxybenzene( 113.2 g, 426.4 mmol)을 테트라하이드로퓨란 (1000 ml)에 녹인 후, -78°C로 온도를 낮추고 1.7 M 터셔리-부틸리튬 (t-BuLi)(251.7 ml, 426.4 mmol)을 천천히 가하였다. 동일 온도에서 한 시간 동안 교반한 후 트리아이소프로필보레이트 (B(0iPr)3)(113.2 ml, 852.4 mmol)을 가하고, 상온으로 온도를 서서히 을리면서 3시간동안 교반하였다. 반응 흔합물에 2 N 염산수용액 (800 ml)을 가하고 1.5 시간 동안 상온에서 교반하였다. 생성된 침전물을 거르고 물과 에틸에테르 (ethyl ether)로 차례로 씻은 후 진공 건조하였다. 건조 후 클로로포름과 에틸아세테이트로 재결정하고 건조하여 (3_bromo— 2— methoxyphenyl )boronic acid(89.6 g, 수율 91 %; MS:[M+H]+=230)을 제조하였다.
Figure imgf000157_0002
U-1
브로모 -3-플루오로 -2-요오드벤젠 ( l-bromo-3-f 1 uoro-2- i odobenzene ) 대신 1-클로로-3-플루'오로-2-요오드벤젠(1-(±101"으3에1101"0-2- i odobenzene )(85.5 g, 333.5 mmol), 5-클로로 -2—메특시페닐보론산 ((5- chloro-2-methoxyphenyl )boronic acid) 대신 3一브로모— 2— 메특시페닐보론산 (3-bromo— 2-methoxyphenyl)boronic acid) (77.0 g, 333.5 mmol) 을 사용한 것 외에는 합성예 1의 P-1의 제조와 동일한 방법으로 화합물 U-K55.8 g, 수율 53 %; MS:[M+H]+=314) 을제조하였다.
Figure imgf000157_0003
화합물 P-K50.0 g, 158.5隱 ol)대신 화합물 U-l( 50.0 g, 158.5 mmol) 을 사용한 것 외에는 합성예 1의 P-2의 제조와 동일한 방법으로 화합물 U- 2(39.7 g, 수율 83 %; MS:[M+H]+=300) 을 제조하였다.
Figure imgf000158_0001
화합물 P-2(40.0 g, 132.7 匪 ol) 대신 화합물 U_2(40.0 g, 132.7 隱 ol) 을 사용한 것 외에는 합성예 1의 P-3의 제조와 동일한 방법으로 화합물 U-3(31.4 g, 수율 84 %;MS:[M+H]+=280) 을 제조하였다.
Figure imgf000158_0002
화합물 P-3(30.0 g, 106.6 瞧 ol) 대신 화합물 U-3(30.0 g, 106.6 隱 ol) 을 사용한 것 외에는 합성예 1의 P-4의 제조와 동일한 방법으로 화합물 U-4(25.5 g, 수율 97 %; MS:[M+H]+=247)을 제조하였다.
Figure imgf000158_0003
화합물 P-4(20.0 g, 81.2隱 ol) 대신 화합물 U-4(20.0 g, 81.2醒 ol) 2-ch 1 oro-4, 6— d i pheny 1-1,3, 5-triazine 대신 tri pheny 1 en-2-y 1 boron i c acid(22.1 g, 81.2 瞧 ol) 을 사용한 것 외에는 합성예 1의 P-5의 제조와 동일한 방법으로 화합물 U-5(31.1 g, 수율 86 %; MS:[M+H]+=445)를 제조하였다.
Figure imgf000159_0001
화합물 Q_5(25.0 g, 52.8 聽 ol) 대신 화합물 Ih5(22.6 g, 52.8 mmol)을 사용한 것 외에는 합성예 4-2와 동일한 방법으로 화합물 U-6(24.7 g, 수율 90 %; MS:[M+H]+= 521) 을 제조하였다.
Figure imgf000159_0002
화합물 P-4 대신 화합물 U-4(20.0 g, 81.2 mmol), 2-chloro— 4,6_ diphenyl-l,3,5-tr iazine 대신 [1,1':4' ,1' '-terphenyl]-4-ylboronic acid(22.3 g, 81.2 瞧 ol) 을 사용한 것 외에는 합성예 1의 P-5의 제조와 동일한 방법으로 화합물 U-7(30.8 g, 수율 88 %; MS:[M+H]+=431)를 제조하였다.
Figure imgf000159_0003
화합물 Q-5 대신 화합물 U-7(22.8 g, 52.8隱 ol)을 사용한 것 외에 합성예 4-2와 동일한 방법으로 화합물 U-8(24.3 g, 수율 88 %; MS:[M+H] 523) 을 제조하였다. 합성예 34-1: 화합물 22의 제조
Figure imgf000160_0001
화합물 P-6 대신 화합물 U-6 19.8 g, 38.1 mmol), 2- 브로모페난트렌 (2-br이 nophenanthrene) 대신 2-( [1, Γ— biphenyl ]-4-yl )-4- chloro-6-phenyl-l,3,5-triazine(13.1 g, 38.1 瞧 ol)을 사용한 것 외에는 합성예 1—1과 동일한 방법으로 화합물 22(35.4 g, 수율 93 %; MS:[M+H]+= 702) 을 제조하였다.
Figure imgf000160_0002
화합물 P-6 대신 화합물 U— 8(19.9 g, 38.1 mmol), 2- 브로모페난트렌 (2-bromophenanthrene) 대신 2-chloro-4-
( d i benzo [ b , d] f ur an-2-y 1 ) -6-pheny 1 - 1 , 3 , 5- 1 r i az i ne ( 13.6 g, 38.1 圆 ol)을 사용한 것 외에는 합성예 1-1과 동일한 방법으로 화합물 77(24.9 g, 수율 91 %; MS:[M+H]+= 718) 을 제조하였다. 합성예 35: 중간체 화합물 W-8의 제조
Figure imgf000161_0001
2-br omo- 1 , 3~d i met hoxybenzene (92.6 g, 426.4 mmol)을 테트라하이드로퓨란 (1000 ml)에 녹인 후, -78°C로 은도를 낮추고 1.7 M 터셔리-부틸리튬 (t-BuLi)(251.7 ml, 426.4 mmol)을 천천히 가하였다. 동일 온도에서 한 시간 동안 교반한 후 트리아이소프로필보레이트 (B(0iPr)3)(113.2 ml, 852.4 匪 ol)을 가하고, 상온ᅳ으로 온도를 서서히 을리면서 3시간동안 교반하였다. 반응 흔합물에 2 N 염산수용액 (800 ml)을 가하고 1.5 시간 동안 상온에서 교반하였다. 생성된 침전물을 거르고 물과 에틸에테르 (ethyl ether)로 차례로 씻은 후 진공 건조하였다. 건조 후 클로로포름과 에틸아세테이트로 재결정하고 건조하여 (2,6-dimethoxyphenyl)boronic acid(63.6 g, 수율 82 ; MS: [M+H]+=183)을 제조하였다.
Figure imgf000161_0002
브로모 -3-플루오로 -2-요오드벤젠 ( l-bromo-3- f 1 uoro-2- i odobenzene ) 대신 1-클로로 -3-플루오로 -2-요오드벤젠 (l-chloro-3-fluoro— 2— iodobenzene)(85.5 g, 333.5 mmol), 5-클로로 -2-메록시페닐보론산 ((5- ch 1 oro-2-me t hoxypheny Dboronic acid) 대신 (2,6— dimet hoxypheny 1 ) bor on i c acid(60.7 g, 333.5 mmol) 을 사용한 것 외에는 합성예 1의 P-1의 제조와 동일한 방법으로 화합물 W- 35.6 g, 수율 40 % MS: [M+H]+=267) 을 제조하였다.
Figure imgf000162_0001
화합물 P-K50.0 g, 158.5 mmol)대신 화합물 W-l(42.3 g, 158.5 ■ol), 보론트리브로마이드 (boron tr ibromide)(31.6 ml , 332.9 mmol) 을 사용한 것 외에는 합성예 1의 P-2의 제조와 동일한 방법으로 화합물 W- 2(33.3 g, 수율 88 %; MS:[M+H]+=239) 을 제조하였다.
Figure imgf000162_0002
W-2 W-3
화합물 P-2(40.0 g, 132.7 圆 ol) 대신 화합물 W— 2(31.7 g, 132.7 mmol) 을 사용한 것 외에는 합성예 1의 P-3의 제조와 동일한 방법으로 화합물 W-3(23.5 g, 수율 81 %;MS:
Figure imgf000162_0003
을 제조하였다.
Figure imgf000162_0004
W-3 W-4
화합물 W-3 (20.0 g, 91.5 mmol)을 아세토나이트릴 (250 ml)에 분산 시킨뒤 칼슘카보네이트 (51.2 g, 109.8 mmol)와 Nonaf luorobutanesulfonyl fluoride(41.6 g, 137.3 隱 ol)을 넣었다. 위 흔합물을 80°C에서 1시간 동안 교반하였다. 반웅물을 상온으로 식힌 뒤 필터하여 에탄을과 물로 씻어준뒤 건조하여 화합물 W-4(38.9 g' 수율 85 %; MS:[M+H]+=500)을 얻었다.
Figure imgf000163_0001
화합물 P-4 대신 화합물 W-4(40.7 g, 81.2 醒 ol), 2-chloro-4,6- di pheny 1-1, 3, 5-tr iazine 대신 t r i pheny 1 en-2-y 1 bor on i c acid(22.1 g, 81.2 mmol) 을 사용한 것 외에는 합성예 1의 P-5의 제조와 동일한 방법으로 화합물 W-5(21.6 g, 수율 62 %; MS:[M+H]+=429)를 제조하였다.
Figure imgf000163_0002
화합물 Q-5 대신 화합물 W-5(22.6 g, 52.8圆 ol)을 사용한 것 외에는 합성예 4-2와 동일한 방법으로 화합물 W-6(23.4 g, 수율 85 %; MS:[M+H]+= 521) 을 제조하였다.
Figure imgf000164_0001
화합물 P-4 대신 화합물 W— 4(40.7 g, 81.2 腿 ol), 2-chloro-4,6- diphenyl-1,3, 5-triazine 대신 [1,1':4' ,1' ' -terphenyl ]-3-ylboronic acid(22.3 g, 81.2 mmol) 을 사용한 것 외에는 합성예 1의 P—5의 제조와 동일한 방법으로 화합물 W-7(22.0 g, 수율 63 .%; MS:[M+H]+=431)를 제조하였다.
Figure imgf000164_0002
합성예 4-2와 동일한 방법으로 화합물 W-8(22.1 g, 수율 80 %; MS:[M+H]+= 523) 을 제조하였다. 합성예 35-1: 화합물 16의 제조
Figure imgf000165_0001
화합물 p-6 대신 화합물 W-6(19.8 g, 38.1 腿 ol), 2- 브로모페난트렌 (2-bromophenanthrene) 대신 2-(4-chlorophenyl)_4,6- diphenyl-l,3,5-triazine(13.1 g, 38.1 隱 ol)을 사용한 것 외에는 합성예
1-1과 동일한 방법으로 화합물 16(19.5 g, 수율 73 ; MS: [M+H]+= 702) 을 제조하였다.
화합물 P— 6 대신 화합물 W-8 19.9 g, 38.1 mmol), 2- 브로모페난트렌 (2-bromophenanthrene) 대신 2-chloro-4,6_diphenyl-l,3,5- triazine(10.2 g, 38.1 匪 ol)을 사용한 것 외에는 합성예 1—1과 동일한 방법으로 화합물 37(15.5 g, 수율 65 %; MS:[M+H]+ = 628) 을 제조하였다.
Figure imgf000165_0003
2-클로로디밴조티오펜 50g(23.0 mmol)올 클로로포름 300mL 에 희석한 후 브로민 18mL(0.34mol)를 서서히 투입하여 실은에서 12시간 교반시켰다. 반웅이 종결된 후 석출된 고체를 여과하고, 이를 다시 과량의 클로로포름에 가온하여 녹인 후 20%의 소듐티오설페이트 수용액으로 세척하여 유기층을 분리하였다. 이를 다시 탄산수소나트륨 포화 수용액으로 세척하여 유기층을 분리하고, 무수황산마그네슴으로 수분을 건조하여 감압 농축하였다. 농축한 화합물에 에틸아세테이트 300mL을 넣고 환류 교반하여 슬러리하고 이를 실온으로 식혀서 여과하였다. 질소하에 건조하여 연한 갈색의 화합물 X- 1을 (32 g, 수율 47%; MS:[M+H]+ = 296) 을 제조하였다.
Figure imgf000166_0001
화합물 X-1 48 g(0.16mol)을 1,4-다이옥산 500mL에 녹인 후 Bis(pinacolato)diboron 49 g(0.19mol)을 투입하였다. 흔합물을 교반 하면서 포타슘아세테이트 31.4 g(0.32mol)를 첨가하고 가온 하여 환류 시켰다. 환류 교반 상태에서 디벤질리덴아세톤팔라듐 2.7 g(0.005mol) 과 트리시클로핵실포스핀 2.7 g(O.Olmol)을 첨가하고 12시간 환류 교반시켰다. 반웅 종결 후 반웅물을 실온으로 냉각하여 물로 세척 후 클로로포름으로 2회 추출하였다. 모아진 유기층을 다시 한번 물로 세척 후 무수황산마그네슘으로 수분을 제거하고 여과하여 농축하였다. 농축한 물질을 소량의 에틸아세테이트와 과량의 핵산 흔합용액으로 가열 교반 하고 여과하여 흰색의 화합물 X-2를 (43 gᅳ 수율 78%; MS:[M+H]+ = 345) 을 제조하였다.
Figure imgf000167_0001
화합물 X-2 10g(0.03mol)과 2-chloro-4,6-diphenyl-l,3,5-triazine 8.4 g(0.03mol)을 1,4-dioxane 100 mL에투입하여 녹인 후 K3P04 19g(0.09mol)을 투입하여 환류 상태에서 교반 시켰다. 이 흔합물에 디벤질리덴아세톤팔라듐 570mg(0.001mol) 과 트리시클로핵실포스핀 560mg(0.002mol)을 첨가하고 12시간 환류 교반시켰다. 반웅 종결 후 반응물을 실온으로 냉각하여 물로 세척하고 에틸아세테이트로 2회 추출하여 무수황산마그네슘으로 수분을 제거하고 여과하여 소량의 에틸아세테이트가 남도록 감압 농축하였다. 농축한 화합물에 아세톤을 과량 투입하여 슬러리 후 여과하여 흰색의 화합물 X-3을 (11 g, 수율 83%; MS:[M+H]+ = 150) 을 제조하였다.
Figure imgf000167_0002
10g(0.022mol )과 t r i pheny 1 en-2-y 1 bor on i c acid 6.0g(0.022mol)을 1,4-dioxane 80mL에 희석하고 K3P04 13.9g(0.066mol))을 흔합용액에 투입 후 가온하여 환류 상태에서 교반시켰다. 이 흔합물에 디벤질리덴아세
톤팔라듐 3801 (0.66隱01)과 트리시클로핵실포스핀 370mg(1.3mmol)을 첨가하고 12시간 환류 교반시켰다. 반웅 종결 후 반웅물을 실온으로 넁각하여 석출된 고체를 여과하고, 이를 클로로포름에 녹인 후 물로 2회 세척하고 모아진 유기층을 무수황산마그네슘으로 수분을 제거하고 여과하여 클로로포름과 에틸아세테이트를 흔합액으로 사용하여 재결정하는 방법으로 정제하여 흰색의 화합물 A를 (9.6 g, 수율 68%; MS:[M+H]+ = 642) 을 제조하였다.
Figure imgf000168_0001
화합물 P-4 대신 화합물 Q-3(20.1 g, 81.2 mmol), 2-chloro-4,6- diphenyl-1 ,3,5-tr iazine 대신 (4_(4,6-diphenylᅳ l,3,5-triazin-2_ yl)phenyl)boronic acid(28.7 g, 81.2 mmol) 을 사용한 것 외에는 합성예 1의 P-5의 제조와 동일한 방법으로 화합물 B(35.5 g, 수율 92 %; MS:[M+H]+=476)를 제조하였다.
Figure imgf000168_0002
4,6-Dibromodibenzofuran(20 g, 61.4 mmol) , [1,1':4' ,1' '- terphenyl]ᅳ 3ᅳ ylboronic acid(17.6 g, 61.4 隱 ol)을 테트라하이드로퓨란 (400 ml)에 분산시킨 후, 2M 탄산칼륨수용액 (aq. K2C03)(92.1 ml, 184.2 隱 ol)을 첨가하고 테트라키스트리페닐포스피노팔라듐 [Pd(PPh3)4](1.4 g, 2 mol¾ 을 넣은 후 3시간 동안 교반 환류하였다. 상은으로 온도를 낮추고 생성된 흔합물을 물과 를루엔으로 추출한 뒤 유기층을 황산마그네슘 (MgS04)로 건조한 뒤 감압증류 하였다. 얻어진 흔합물을 컬럼크로마토그피로 실리카겔에서 핵산:에틸아세테이트 (15:1)로 정제하여 화합물 X-4(54.3 g, 수율 62 %; MS:[M+H]+=475)를 제조하였다.
Figure imgf000169_0001
화합물 Q-5(25.0 g, 52.8 腿 ol) 대신 화합물 X-4(25.1 g, 52.8 mmol)을 사용한 것 외에는 합성예 4-2와 동일한 방법으로 화합물 Χ-5(25·4 g, 수율 92 %; MS:[M+H]+= 523) 을 제조하였다.
Figure imgf000169_0002
화합물 P-6 대신 화합물 X-5(19.9 g, 38.1 隱 ol), 2- 브로모페난트렌 (2-bromophenanthrene) 대신 2-chloro-4,6-diphenyl-l,3,5- triazine(10.2 g, 38.1 mmol)을 사용한 것 외에는 합성예 1-1과 동일한 방법으로 화합물 CC19.9 g, 수율 83 %; MS:[M+H]+= 628) 을 제조하였다. 합성예 39: 화합물 D의 제조
Figure imgf000169_0003
화합물 P-3 대신 4-br omod i benzo [ b , d ] f ur an ( 26.3 g, 106.6 mmol) 을 사용한 것 외에는 합성예 1의 P-4의 제조와 동일한 방법으로 dibenzo[b,d]furan-4-ylboronic acid(21.2 g, 수율 94 %; MS:[M+H]+= 213)을 제조하였다.
Figure imgf000169_0004
화합물 P-4 대신 4-bromodibenzo[b , d] thi ophene(21.4 g, 81.2 mmol), 2-ch 1 or 0-4 , 6-d i phenyl -1 , 3 , 5-t r i az i ne 대신 dibenzo[b,d] furan-4- ylboronic acid(17.2 g, 81.2 mmol) 을 사용한 것 외에는 합성예 1의 P-5의 제조와 동일한 방법으로 화합물 X-6(25.3 g, 수율 89 ; MS:[M+H]+=351)를 제조하였다.
Figure imgf000170_0001
화합물 R-4 대신 화합물 X-6(25.0 g, 71.3 mmol), 클로로포름 (200 ml), 아세트산 (200 ml), Br2(3.8 mL, 74.9 隨 ol)을 사용한 것 외에는 합성예 20 의 화합물 R-5의 제조법과 동일한 방법으로 얻은 흔합물을 컬럼크로마토그래피로 실리카겔에서 핵산:에틸아세테이트 (10:1)로 정제하여 화합물 Χ-7(14·4 g, 수율 47 %; MS:[M+H]+= 428) 을 제조하였다.
Figure imgf000170_0002
화합물 Q-5 대신 화합물 X-7(22.7 g, 52.8 mmol)을 사용한 것 외에는 합성예 4-2와 동일한 방법으로 화합물 X-8(23.9 g, 수율 95 %; MS:[M+H]+= 477) 을 제조하였다.
Figure imgf000171_0001
화합물 P-6 대신 화합물 X-8(18.2 g' 38.1 mmol), 2- 브로모페난트렌 (2-broiTK)phenan1:hrene) 대신 2—chloro—4,6-diphenyl-l,3,5- triazine(10.2 g, 38.1 mmol)올 사용한 것 외에는 합성예 1-1과 동일한 방법으로 화합물 D 19.7 g, 수율 89 %; MS:[M+H]+= 582) 을 제조하였다.
Figure imgf000171_0002
2-클로로디벤조티오펜 대신 2-클로로디벤조퓨란 (46.6 g, 230.0 mmol)을 사용한 것 외에는 합성예 36 의 X-1의 제조법과 동일한 방법으로 화합물 X-9(56.3 g, 수율 87 %; MS:[M+H]+= 280) 을 제조하였다.
Figure imgf000171_0003
화합물 P-4 대신 화합물 X-9(22.9 g, 81.2 mmol), 2-chloro-4,6- diphenylᅳ 1,3,5ᅳ triazine 대신 phenyl boron ic acid(17.3 g, 81.2 mmol ) 을 사용한 것 외에는 합성예 1의 P-5의 제조와 동일한 방법으로 화합물 Xᅳ 10(21.7 g, 수율 96 %; MS:[M+H]+=279)를 제조하였다.
Figure imgf000172_0001
화합물 P-6 대신 화합물 X-10(10.6 g, 38.1 匪 ol), 2- 브로모페난트렌 (2— bromophenanthrene) 대신 t r i pheny 1 en-2-y 1 boron i c acid(10.4 g, 38.1 誦 ol)을 사용한 것 외에는 합성예 1-1과 동일한 방법으로 화합물 E(15.6 g, 수율 87 %; MS:[M+H]+= 471) 을 제조하였다.
Figure imgf000172_0002
X-11
화합물 P-4 대신 di benzo [b , d] f uran-4-yl boron i c acid(17.2 g, 81.2 瞧 ol), 2-chloro-4,6-di henyl-l,3,5-tr iazine 대신 2_chloro_4,6_ diphenyl-l,3,5-triazine(21.7 g, 81.2 mmol) 을 사용한 것 외에는 합성예 1의 와 제조와 동일한 방법으로 화합물 X-ll(29.0 g, 수율 89 %; MS:[M+H]+=400)를 제조하였다.
Figure imgf000172_0003
화합물 R-4 대신 화합물 X-12(28.5 g, 71.3 醒 ol), 클로로포름 (200 ml), 아세트산 (200 ml), Br2(3.8 mL, 74.9隱 ol)을 사용한 것 외에는 합성예 20 의 화합물 R-5의 제조법과 동일한 방법으로 얻은 흔합물을 컬럼크로마토그래피로 실리카겔에서 핵산:에틸아세테이트 (10:1)로 정제하여 화합물 X-12(23.5 g, 수율 69 ; MS:[M+H]+= 478) 을 제조하였다.
Figure imgf000173_0001
화합물 P-6 대신 화합물 X-12U8.2 g, 38.1 mmol), 2- 브로모페난트렌 (2— bromophenanthrene) 대신 t r i pheny 1 en-2-y 1 bor on i c acid(10.4 g, 38.1 隱 ol)을 사용한 것 외에는 합성예 1-1과 동일한 방법으로 화합물 F(21.7 g, 수율 91 ; MS:[M+H]+= 626) 을 제조하였다.
Figure imgf000173_0002
화합물 P-6 대신 화합물 X-12 18.2 g, 38.1 mmol), 2- 브로모페난트렌 (2— bromophenanthrene) 대신 [1,1'一 biphenyl]— 4— ylboronic acid(7.5 g, 38.1 隱 ol)을 사용한 것 외에는 합성예 1-1과 동일한 방법으로 화합물 GC19.8 g, 수율 94 %; MS:[M+H]+= 552) 을 제조하였다.
Figure imgf000174_0001
2-브로모페난트렌 (2-bromophenanthrene) 대신 2-브로모 -9,9- 다이메틸 -9H-플루오렌 (2-bromo-9,9-dime1;hyl-9H-fhK)rene)(10.4 g, 38.1 mmol)를 사용한 것 외에는 합성예 1-1과 동일한 방법으로 화합물 H(16.2 g, 수율 72 ; MS:[M+H]+=560) 을 제조하였다. 실시예 1
IT0( indium tin oxide)가 1,300 A의 두께로 박막 코팅된 유리 기판을 세제를 녹인 증류수에 넣고 초음파로 세척하였다. 이때, 세제로는 피셔사 (Fischer Co.) 제품을 사용하였으며, 증류수로는 밀리포어사 (Millipore Co.) 제품의 필터 (Filter)로 2차로 걸러진 증류수를 사용하였다. IT0를 30분간 세척한 후 증류수로 2회 반복하여 초음파 세척을 10분간 진행하였다. 증류수 세척이 끝난 후, 이소프로필알콜, 아세톤, 메탄올의 용제로 초음파 세척을 하고 건조시킨 후 플라즈마 세정기로 수송시켰다. 또한, 산소 플라즈마를 이용하여 상기 기판을 5분간 세정한 후 진공 증착기로 기판을 수송시켰다.
상기와 같이 준비된 ΠΌ 투명 전극 위에 하기와 같은 HI-1 화합물을 50A의 두께로 열 진공 증착하여 정공 주입층을 형성하였다.
상기 정공 주입층 위에 HT-1 화합물을 250 A의 두께로 열 진공 증착하여 정공 수송층을 형성하고, HT-1 증착막 위에 HT-2 화합물을 50 A 두께로 진공 증착하여 전자 저지층을 형성하였다.
이어서, 상기 HT-2 증착막 위에 상기 합성예 1-1에서 제조한 화합물 1과 1¾의 중량비로 인광 도펀트 YGD-1을 공증착하여 400 A 두께의 발광층을 형성하였다.
상기 발광층 위에 ET-1 물질을 250 A의 두께로 진공 증착하고, 추가로 ET-2 물질을 100 A 두께로 2% 중량비의 Li과 공증착하여 전자 수송층 및 전자 주입층을 형성하였다. 상기 전자 주입층 위에 1000A 두께로 알루미늄을 증착하여 음극을 형성하였다.
상기의 과정에서 유기물의. 증착속도는 0.4 ~ 0.7 A /sec를 유지하였고, 알루미늄은 2 A/sec의 증착 속도를 유지하였으며, 증착시 진공도는 1 X 10— 7 ~ 5 X 10— 8 torr를 유지하였다.
Figure imgf000176_0001
Figure imgf000176_0002
LZ900/LlOZW^/13d 실시예 2 내지 실시예 49
발광층 형성시 인광 호스트 물질 및 도편트 함량을 하기 표 1 내지 3과 같이 변경하였다는 점을 제외하고는, 상기 실시예 1과 동일한 방법을 이용하여 실시예 2 내지 49의 유기 발광 소자를 각각 제작하였다. 비교예 1 내지 비교예 10
발광층 형성시 인광호스트 물질 및 도펀트 함량을 하기 표 3과 같이 변경하였다는 점을 제외하고는, 상기 실시예 1과 동일한 방법을 이용하여 비교예 1 내지 10의 유기 발광 소자를 각각 제작하였다. 이때 비교예에 사용된 호스트 물질 A 내지 I는 하기와 같다.
Figure imgf000178_0001
소자에 전류를 인가하여, 전압, 효율, 휘도, 색좌표 및 수명을 측정하고 그 결과를 하기 표 1 내지 3에 나타내었다. 이때, T95은 광밀도 50 mA/cm2에서의 초기 휘도를 100%로 하였을 때, 휘도가 95¾로 감소되는데 소요되는 시간을 의미한다.
【표 1】
호스트: 도펀트 전압 (V) 효율 (Cd/A) 색좌표 수명 (T95, h)
No.
(두께, A)도펀트함량 (@10mA/cm2) (@10mA/cm2) (x,y) (@50mA/cm2) 실시예 화합물 1:YGD—1
2.99 62.8 (0.46,0.54) 47.5 1 (400)12%
실시예 화합물 2:YGD-1
2.99 64.1 (0.46,0.53) 50.5 2 (400)12%
실시예 화합물 3:YGD-1
2.97 65.0 (0.46,0.52) 47.0 3 (400)16%
실시예 화합물 4:YGD-1
3.15 62.8 (0.46,0.53) 78.6 4 (400)12%
실시예 화합물 5:YGD-1
3.11 53.8 (0.47,0.52) 46.4 5 (400)14%
실시예 화합물 6:YGD— 1
3.23 62.7 (0.47,0.53) 49.9 6 (400)12%
실시예 화합물 7:YGD-1
3.20 . 63.1 (0.46,0.53) 50.3 7 (400)12%
실시예 화합물 8:YGD-1
3.30 55.7 (0.47,0.52) 87.9 8 (400)16%
실시예 화합물 9:YGD-1
2.97 64.2 (0.46,0.54) 70.5 9 (400)16%
실시예 화합물 10:YGD-1
3.12 60.3 (0.47,0.53) 47.7 10 (400)16%
실시예 화합물 11:YGD-1
2.89 63.0 (0.46,0.53) 69.8 11 (400)16%
실시예 화합물 14:YGD-1
3.08 56.1 (0.45,0.54) 47.6 12 (400)16%
실시예 화합물 15:YGD-1
3.00 63.0 (0.46,0.53) 47.1 13 (400)12%
실시예 화합물 16:YGD-1
3.28 . 63.2 (0.46,0.53) 41.8 14 (400)12%
실시예 화합물 12:YGD-1
3.55 65.9 (0.46,0.52) 126.2 15 (200:200)16%
실시예 화합물 13:PH-1:YGD-1
3.51 67.2 (0.46,0.53) 116.0 16 (160:240)16%
실시예 화합물4:1 -2:¥01)一1
3.57 67.7 (0.46,0.53) 191.9 17 (160:240)12%
실시예 화합물 Γ7:ΡΗ— 2:YGD-1
3.53 67.8 (0.47,0.53) 125.1 18 (200:200)16%
실시예 화합물18:1 -2:丫6[)一1
3.56 70.2 (0.45,0.53) 132.8 19 (160:240)12%
실시예 화합물 19:PH-2:YGD-1
3.50 68.9 (0.46,0.53) 352.0
20 - (200:200)15% 【표 2]
Figure imgf000180_0001
(두께, A)도편트함량 (@10mA/cm2) (@10mA/cm2) (x,y) (@50mA/cmz) 실시예 화합물 40:PH— 3:YGD— 1
3.61 62.6 (0.44,0.54) 102.8
41 (200:200)16%
실시예 화합물 41:PH-2:YGD-1
3.48 65.1 (0.47,0.53) 272.1 42 (160:240)16%
실시예 화합물 42:PH 2:YGD-1
3.52 67.7 (0.45,0.54) 326.1 43 (160:240)12%
실시예 화합물 43:PH-3:YGD-1
3.55 62.4 (0.45,0.53) 239.8 44 (160:240)12%
실시예 화합물 44:PH-3:YGD-1
3.60 60.0 (0.46,0.52) 154.2 45 (200:200)16%
실시예 화합물 46:PH-1:YGD-1
3.62 64.68 (0.45,0.53) 175.3 46 (160:240)16%
실시예 화합물 28:PH-2:YGD-1
3.51 67.9 (0.45,0.54) 330.2 47 (160:240)16%
실시예 화합물 81:PH-2:YGD-1
3.53 65.3 (0.47,0.54) 289.6 48 (160:240)12%
실시예 화합물 45:PH-2:YGD— 1
3.50 68.1 (0.45,0.52) 349.8 49 (160:240)12%
비교예 화합물 A:YGD-1
3.21 61.9 (0.46,0.53) 25.9 1 (400)12%
비교예 화합물 B:YGD-1
3.17 56.2 (0.47,0.52) 27.3 2 (400)12%
비교예 화합물 C:YGD-1
2.92 62.2 (0.48,0.50) 20.3 3 (400)12%
비교예 화합물 D:YGD-1
3.11 67.3 (0.48,0.53) 26.2 4 (400)12%
비교예 화합물 E:YGD-1
4.73 28.11 (0.47,0.51) 22.2
5 (400)12%
비교예 화합물 F:YGD-1
3.15 53.2 (0.48,0.50) 27.5 6 (400)12%
비교예 화합물 G:YGD-1
3.14 52.7 (0.49,0.50) 26.9 7 (400)12%
비교예 화합물 H:YGD-1
' 3.14 56.8 (0.49,0.50) 28.9 8 (400)12%
비교예 화합물 I:YGD-1
3.0 60 (0.46,0.53) 31.5 9 (400)12%
비교예 화합물 A:PH— 1:YGD-1
3.63 64.3 (0.47,0.53) 63.2 10 (160:240)16% 실시예 50
상기 실시예 1과 같이 준비된 ΠΌ 투명 전극 위에 하기와 같은 HI-1 화합물을 150A의 두께로 열 진공 증착하여 정공 주입층을 형성하였다.
상기 정공 주입층 위에 HT-1 화합물을 1150A의 두께로' 열 진공증착하고, 순차적으로 HT-3 화합물을 500 A 두께로 진공 증착하여 정공 수송층을 형성하였다.
이어서, 상기 정공수송층 위에 상기 합성예 15-3에서 제조한 화합물 47과 5%의 중량비로 인광 도펀트 GD-1을 공증착하여 400 A 두께의 발광층을 형성하였다.
상기 발광층 위에 ET-3 물질을 50A의 두께로 진공 증착하여 정공저지층을 형성하고, 상기 정공저지층 위에 ET-4 물질 및 LiQ를 1 : 1의 중량비로 진공증착하여 250A의 전자 수송층을 형성하였다. 상기 전자 수송층 위에 순차적으로 10 A 두께의 리륨 프루라이드 (UF)를 증착하고, Mg을 10 >의 중량비로 Ag와 증착하여 200 A 두께로 전자주입층을 형성하였다. 이 위에 1000A 두께로 알루미늄을 증착하여 음극을 형성하였다.
상기의 과정에서 유기물의 증착속도는 0.4 ~ 0.7 A/sec를 유지하였고, 음극의 리튬플루오라이드는 0.3 A/sec , 알루미늄은 2 A/sec의 증착 속도를 유지하였으며 , 증착시 진공도는 1 X 10— 7 ~ 5 x 10"8 torr를
Figure imgf000182_0001
실시예 51 내지 실시예 90
발광층 형성시 인광 호스트 물질 및 도펀트 함량을 하기 표 4 및 5와 변경하였다는 점올 제외하고는, 상기 실시예 50과 동일한 방법을 이용하여 실시예 51 내지 90의 유기 발광 소자를 각각 제작하였다. 비교예 11 내지 비교예 19
발광층 형성시 인광 호스트 물질 및 도펀트 함량을 하기 표 6과 같이 변경하였다는 점을 제외하고는, 상기 실시예 50과 동일한 방법을 이용하여 비교예 11 내지 19의 유기 발광 소자를 각각 제작하였다. 이때 비교예에 사용된 호스트 물질 A 내지 I는 상술한 바와 같다. 실험예 2
상기 실시예 50 내지 90 및 비교예 11 내지 19에서 제작된 유기 발광 소자에 전류를 인가하여, 전압, 효율, 휘도, 색좌표 및 수명을 측정하고 그 결과를 하기 표 4 내지 6에 나타내었다. 이때, T95은 광밀도 20 mA/cm2에서의 초기 휘도를 100%로 하였을 때, 휘도가 95%로 감소되는데 소요되는 시간을 의미한다.
【표 4】
Figure imgf000183_0001
61 (400)5%
실시예 화합물 56:GD-1
3.99 52.4 (0.347,0.612) 51.3 62 (400)10%
실시예 화합물 4:PH-2:GD一 1
3.71 55.1 (0.351,0.609) 110.2 63 (200:200)5%
실시예 화합물 57:PH-3:GD-1
4.07 52.9 (0.348,0.612) 79.9 64 (200:200)5%
실시예 화합물 58:PH-1:GD-1
4.2 51.7 (0.347,0.610) 88.7 65 (200:200)5%
실시예 화합물 6:PH-2:GD-1
4.21 53.4 (0.347,0.613) 100.1 66 (200:200)5%
실시예 화합물 50:PH-2:GD-1
4.17 58.1 (0.348,0.612) 78.9 67 (160:240)7%
실시예 화합물 60:PH-2:GD-1
4.23 51.7 (0.347,0.611) 89.2 68 (160:240)5%
실시예 화합물 61:PH— 3:GD-1
4.11 54.2 (0.351,0.613) 106.2 69 (200:200)5%
실시예 화합물 62:PH-2:GD-1
4.22 51.9 (0.351,0.613) 170.7 70 (160:240)5%
【표 5】
호스트: 도펀트 전압 (V) 효율 (Cd/A) 색좌표 수명 (T95, h)
No.
(두께, A)도편트함량 (@ 10mA/ cm2) (@10mA/cm2) (x,y) (@20mA/cm2) 실시예 화합물 63:PH-3:GD-1
. 4.31 54.2 (0.349,0.613) 134.9 71 (200:200)5%
실시예 화합물 64:PH-1:GD-1
4.30 54.3 (0.347,0.612) 135.4 72 (160:240)7%
실시예 화합물 65:PH-2:GD-1
4.19 52.9 (0.351,0.613) 170.9 73 (200:200)5%
실시예 화합물66: ¾-1 1)-1
3.92 52.3 (0.351,0.613) 171.4 74 (160:240)10%
실시예 화합물 67:PH-2:GD-1
4.12 .54.9 (0.350,0.611) 128.2 75 (200:200)5%
실시예 화합물 68:PH-1:GD-1
3.76 56.8 (0.352,0.609) 104 76 (160:240)5%
실시예 화합물 69:PH-2:GD-1
4.10 55.1 (0.351,0.613) 103.2 77 (160:240)7%
실시예 화합물 70:PH-1:GD-1
4.17 56.53 (0.351,0.613) 104.5 78 (160:240)5%
실시예 화합물 71:PH-3:GD-1
4.24 54.6 (0.346,0.612) 137.9 79 (200:200)7%
실시예 화합물 72:PH— 2:GD-1
4.32 56.1 (0.350,0.612) 158.8 80 (200:200)5%
실시예 화합물 73:PH-2:GD-1
4.42 51.24 (0.346,0.611) 102.5 81 (160:240)5%
실시예 화합물 74:PH— 2:GD-1
4.13 54.7 (0.350,0.611) 119.9 82 (160:240)10%
실시예 화합물 75:PH— 3:GD一 1
4.43 50.35 (0.346,0.613) 95.2 83 (200:200)7% 실시예 화합물 76:PH-3:GE L
4.14 52.8 (0.346,0.612) 105.7
84 (160:240)10%
실시예 화합물 77:PH-1:GD-1
4.35 56.4 (0.347,0.611) 62.9 85 (200:200)5%
실시예 화합물78:^-1:61)一1
3.92 54 (0.352,0.609) 81.2 86 (200:200)5%
실시예 화합물 79:PH-3:GD-1
4.16 56.13 (0.351,0.613) 104.3 87 (160:240)5%
실시예 화합물 80:PH— 1:GD-1
4.32 50.89 (0.346,0.611) 100.4 88 (160:240)5%
실시예 화합물 59:PH-1:GD— 1
4.29 53.7 (0.347,0.614) 92.6 89 (160:240)6%
실시예 화합물 45:PH-1:GD-1
4.31 57.3 (0.350,0.611) 168.1 90 (160:240)7%
【표 6]
Figure imgf000185_0001
상기 표 1 내지 6에서 보는 바와 같이, 본 발명에 따른 화합물을 인광 호스트 물질로 사용하여 제조된 유기 발광 소자의 경우에 비교예의 유기 발광 소자에 비하여 구동전압, 전류효율 및 수명 측면에서 우수한 성능을 나타냄을 확인할 수 있다. 특히, 실시예에 따른 유기 발광 소자는 통상적으로 사용되는 인광 호스트 물질인 화합물 I를 사용한 비교예 9 및 19에 따른 유기 발광 소자에 비하여 최소 150% 이상의 수명증가를 나타내었다. 또한, 실시예 4, 8 및 50에 따른 유기 발광 소자는 본 발명에 따른 화합물과 트리아지닐기의 치환 위치가 상이한 화합물 A 및 F를 각각 사용한 비교예 1, 6, 11 및 16에 따른 유기 발광 소자에 비하여 약 250% 이상의 수명 증가를 나타내었다. 그리고, 실시예 28에 따른 유기 발광 소자 또한, 화합물 C를 사용한 비교예 3에 따른 유기 발광 소자에 비하여 약 370% 이상의 수명 증가를 나타내었으며, 실시예 30 및 31에 따른 유기 발광 소자 또한, 화합물 G를 사용한 비교예 7에 따른 유기 발광 소자에 비하여 약 250% 이상의 수명 증가를 나타내었다. 추가적으로, 트리아지닐기가 포함되지 않은 화합물 E를 사용한 비교예 5에 따른 유기 발광 소자의 구동전압, 전류효율 및 수명은 실시예에 따른 유기 발광 소자에 비해 현저히 낮음을 알 수 있었다. 또한, 디메틸플루오레닐기가 치환된 화합물 H를 사용한 비교예 8 및 18에 따른 유기 발광 소자도 실시예에 따른 유기 발광 소자에 비하여 현저히 낮은 수명을 나타냄을 알 수 있는 데, 이는 소자 제작 시 또는 구동 중에 디메틸플루오레닐에 의한 라디칼이 형성됨에 따라 생성되는 불순물의 발생으로 인한 것으로 여겨진다.
[부호의 설명】
기판
Figure imgf000186_0001
발광층
정공 주입층 정공 수송층
발광층 전자 수송층

Claims

【청구범위】
【청구항 1]
하기 화학식 1로 표시되는 화합물:
Figure imgf000187_0001
상기 화학식 1에서,
Xi은 0또는 S이고,
Li 및 L2는 각각 독립적으로, 단일 결합; 치환 또는 비치환된 C6-60 아릴렌; 또는 치환 또는 비치환된 0 , N , Si 및 S로 구성되는 군으로부터 선택되는 헤테로원자를 1개 이상 포함하는 d-60 헤테로아릴렌이고,
- Yi 내지 Y3는 각각 독립적으로, Ν 또는 CR3이되, 내지 Y3 중 적어도 하나는 Ν이고
Arla및 Arlb는 각각 독립적으로, 치환 또는 비치환된 C660 아릴; 또는 치환 또는 비치환된 N , 0 및 S로 구성되는 군으로부터 선택되는 헤테로원자를 1개 내지 3개 포함하는 d-60 헤테로아릴이고,
Ar2는 치환 또는 비치환된 C6-60 아릴이고,
Ri 내지 R3는 각각 독립적으로, 수소; 중수소; 할로겐; 시아노; 니트로; 아미노; 치환 또는 비치환된 60 알킬; 치환 또는 비치환된 d-60 할로알킬 ; 치환 또는 비치환된 d-60 알콕시 ; 치환 또는 비치환된 Cwo 할로알콕시 ; 치환 또는 비치환된 C3-60 사이클로알킬; 치환 또는 비치환된
C2-60 알케닐; 치환 또는 비치환된 C660 아릴 ; 치환 또는 비치환된 C6-60 아릴옥시; 또는 치환 또는 비치환된 N , 0 및 S로 구성되는 군으로부터 선택되는 헤테로원자를 1개 이상 포함하는 d-60 헤테로아릴이고,
nl 및 n2는 각각 독립적으로, 0 내지 3의 정수이다.
【청구항 2】
제 1항에 있어서,
Li 및 L2는 각각 독립적으로, 단일 결합; 치환 또는 비치환된 페닐렌; 치환 또는 비치환된 나프틸렌; 또는 치환 또는 비치환된 바이페닐릴렌인, 화합물.
【청구항 3]
제 1항에 있어서,
Li 및 L2는 각각 독립적으로, 단일 결합, 또는 하기로 구성되는 군으로
Figure imgf000188_0001
【청구항 4]
제 1항에 있어서,
^은 N이고, Y2는 Ν이고, Υ3는 Ν이거나;
^은 Ν이고, Υ2는 Ν이고, Υ3는 CH이거나;
^은 Ν이고, Υ2는 CH이고, Υ3는 Ν이거나;
^은^이고, Υ2는 CH이고, Υ3는 CH이거나; 또는 Yi은 CH이고, Y2는 CH이고, Y3는 Ν인 , 화합물 .
【청구항 5]
제 1항에 있어서,
Arla 및 는 각각 독립적으 하기로 구성되는 군으로부터 선택되는 어느 하나인, 화합물:
Figure imgf000189_0001
상기에서,
¾는 0, S, NZ4 , 또는 CZ5Z6이고,
Zi 내지 ¾은 각각 독립적으로, 수소; 증수소; 할로겐; 시아노; 니트로; 아미노; 치환 또는 비치환된 d-20 알킬 ; 치환 또는 비치환된 d-20 할로알킬 ; 치환 또는 비치환된 C6-20 아릴 ; 또는 치환 또는 비치환된 N, 0 및 S로 구성되는 군으로부터 선택되는 헤테로원자를 1개 이상 포함하는 d-20 헤테로아릴이고,
cl은 0 내지 5의 정수이고,
c2는 0 내지 4의 정수이고,
c3는 0 내지 3의 정수이다.
【청구항 6】
제 5항에 있어서,
Arla 및 Arlb는 각각 독립적으로, 하기로 구성되는 군으로부터 선택되는 어느 하나인, 화합물: 681
Figure imgf000190_0001
LZ900/LlOZW^/13d Ζ1^9ΐΟ/8ΐΟΖ OAV
Figure imgf000191_0001
【청구항 7]
제 1항에 있어서,
Ar2는 하기로 구성되는 군으로부터 선택되는 어느 하나인, 화합물: T6T
Figure imgf000192_0001
LZ900/LlOZW^/13d Ζ1^9ΐΟ/8ΐΟΖ OAV
Figure imgf000193_0001
상기에서,
Zn 내지 Ζ14는 각각 독립적으로, 수소; 중수소; 할로겐; 시아노; 니트로 ; 아미노; 치환 또는 비치환된 d-60 알킬 ; 치환 또는 비치환된 d-60 할로알킬; Si (Qi) (Q2) (Q3) ; C(Q4) (Q5) (Q6) 및 C6-60 아릴이고,
여기서, ¾ 내지 Q6은 각각 독립적으로, 수소; 중수소; 할로겐; 시아노 ; 니트로 ; 아미노; 치환 또는 비치환된 d-20 알킬 ; 또는 치환 또는 비치환된 C6-20 아릴 0 1고,
cll은 0 내지 5의 정수이고,
cl2는 0 내지 7의 정수이고,
cl3는 0 내지 9의 정수이고,
cl4는 0 내지 4의 정수이고,
cl5는 0 내지 3의 정수이고,
cl6은 0 내지 11의 정수이고
cl7은 0 내지 9의 정수이고,
cl8은 0 내지 6의 정수이고,
cl9는 0 내지 12의 정수이다
【청구항 8】
게 7항에 있어서,
Ar2는 하기로 구성되는 군으로부터 선택되 어느 하나인, 화합물: £61
Figure imgf000194_0001
LZ900/LlOZW^/13d Ζ1^9ΐΟ/8ΐΟΖ OAV f6l
Figure imgf000195_0001
LZ900/LlOZW^/13d Ζ1^9ΐΟ/8ΐΟΖ OAV
Figure imgf000196_0001
【청구항 9]
제 1항에 있어서,
Ri 및 R2는 각각 독립적으로, 수소; 중수소; 시아노; 또는 치환 또 비치환된 ( 10 알킬인, 화합물 .
【청구항 10]
제 1항에 있어서,
상기 화합물은 하기 화합물로 구성되는 군으로부터 선택되는 어 하나인, 화합물: 961
Figure imgf000197_0001
LZ900/LlOZW^/13d Ζ1^9ΐΟ/8ΐΟΖ OAV Λ6Ι
Figure imgf000198_0001
LZ900/LlOZW^/13d Ζ1^9ΐΟ/8ΐΟΖ OAV 861
Figure imgf000199_0001
LZ900/LlOZW^/13d Ζ1^9ΐΟ/8ΐΟΖ OAV 661
Figure imgf000200_0001
LZ900/LlOZW^/13d Ζ1^9ΐΟ/8ΐΟΖ OAV ooz
Figure imgf000201_0001
LZ900/LlOZW^/13d Ζ1^9ΐΟ/8ΐΟΖ OAV
Figure imgf000202_0001
LZ900/LlOZW^/13d Ζ1^9ΐΟ/8ΐΟΖ OAV zoz
Figure imgf000203_0001
LZ900/LlOZW^/13d Ζ1^9ΐΟ/8ΐΟΖ OAV
Figure imgf000204_0001
LZ900/LlOZW^/13d Ζ1^9ΐΟ/8ΐΟΖ OAV
Figure imgf000205_0001
LZ900/LlOZW^/13d Ζ1^9ΐΟ/8ΐΟΖ OAV 0Z
Figure imgf000206_0001
LZ900/LlOZW^/13d Ζ1^9ΐΟ/8ΐΟΖ OAV 90Z
Figure imgf000207_0001
LZ900/LlOZW^/13d Ζ1^9ΐΟ/8ΐΟΖ OAV LOZ
Figure imgf000208_0001
LZ900/LlOZW^/13d Ζ1^9ΐΟ/8ΐΟΖ OAV 80Z
Figure imgf000209_0001
LZ900/LlOZW^/13d Ζ1^9ΐΟ/8ΐΟΖ OAV
Figure imgf000210_0001
LZ900/LlOZW^/13d Ζ1^9ΐΟ/8ΐΟΖ OAV
Figure imgf000211_0001
LZ900/LlOZW^/13d Ζ1^9ΐΟ/8ΐΟΖ OAV
Figure imgf000212_0001
LZ900/LlOZW^/13d Ζ1^9ΐΟ/8ΐΟΖ OAV
Figure imgf000213_0001
LZ900/LlOZW^/13d Ζ1^9ΐΟ/8ΐΟΖ OAV
Figure imgf000214_0001
LZ900/LlOZW^/13d Ζ1^9ΐΟ/8ΐΟΖ OAV
Figure imgf000215_0001
SIC
Figure imgf000216_0001
LZ900/LlOZW^/13d Ζ1^9ΐΟ/8ΐΟΖ OAV
Figure imgf000217_0001
LZ900/LlOZW^/13d Ζ1^9ΐΟ/8ΐΟΖ OAV LIZ
Figure imgf000218_0001
LZ900/LlOZW^/13d Ζ1^9ΐΟ/8ΐΟΖ OAV 21Z
Figure imgf000219_0001
LZ900/LlOZW^/13d Ζ1^9ΐΟ/8ΐΟΖ OAV 61 Z
Figure imgf000220_0001
LZ900/LlOZW^/13d Ζ1^9ΐΟ/8ΐΟΖ OAV ozz
Figure imgf000221_0001
LZ900/LlOZW^/13d Ζ1^9ΐΟ/8ΐΟΖ OAV
Figure imgf000222_0001
LZ900/LlOZW^/13d Ζ1^9ΐΟ/8ΐΟΖ OAV zzz
Figure imgf000223_0001
LZ900/LlOZW^/13d Ζ1^9ΐΟ/8ΐΟΖ OAV
Figure imgf000224_0001
LZ900/LlOZW^/13d Ζ1^9ΐΟ/8ΐΟΖ OAV
Figure imgf000225_0001
LZ900/LlOZW^/13d Ζ1^9ΐΟ/8ΐΟΖ OAV
LZ900/LlOZW^/13d Ζ1^9ΐΟ/8ΐΟΖ OAV
Figure imgf000227_0001
LZ900/LlOZW^/13d Ζ1^9ΐΟ/8ΐΟΖ OAV LZZ
Figure imgf000228_0001
LZ900/LlOZW^/13d Ζ1^9ΐΟ/8ΐΟΖ OAV ZZ
Figure imgf000229_0001
LZ900/LlOZW^/13d Ζ1^9ΐΟ/8ΐΟΖ OAV
Figure imgf000230_0001
LZ900/LlOZW^/13d Ζ1^9ΐΟ/8ΐΟΖ OAV
Figure imgf000231_0001
LZ900/LlOZW^/13d Ζ1^9ΐΟ/8ΐΟΖ OAV
Figure imgf000232_0001
LZ900/LlOZW^/13d Ζ1^9ΐΟ/8ΐΟΖ OAV
Figure imgf000233_0001
LZ900/LlOZW^/13d Ζ1^9ΐΟ/8ΐΟΖ OAV
Figure imgf000234_0001
LZ900/LlOZW^/13d Ζ1^9ΐΟ/8ΐΟΖ OAV
Figure imgf000235_0001
LZ900/LlOZW^/13d Ζ1^9ΐΟ/8ΐΟΖ OAV £Z
Figure imgf000236_0001
LZ900/LlOZW^/13d Ζ1^9ΐΟ/8ΐΟΖ OAV 9£Z
Figure imgf000237_0001
LZ900/LlOZW^/13d Ζ1^9ΐΟ/8ΐΟΖ OAV LZZ
Figure imgf000238_0001
LZ900/LlOZW^/13d Ζ1^9ΐΟ/8ΐΟΖ OAV £Z
Figure imgf000239_0001
LZ900/LlOZW^/13d Ζ1^9ΐΟ/8ΐΟΖ OAV
Figure imgf000240_0001
LZ900/LlOZW^/13d Ζ1^9ΐΟ/8ΐΟΖ OAV
Figure imgf000241_0001
LZ900/LlOZW^/13d Ζ1^9ΐΟ/8ΐΟΖ OAV IfZ
Figure imgf000242_0001
LZ900/LlOZW^/13d Ζ1^9ΐΟ/8ΐΟΖ OAV
Figure imgf000243_0001
Figure imgf000243_0002
LZ900/LlOZW^/13d Ζ1^9ΐΟ/8ΐΟΖ OAV
Figure imgf000244_0001
LZ900/LlOZW^/13d Ζ1^9ΐΟ/8ΐΟΖ OAV
Figure imgf000245_0001
LZ900/LlOZW^/13d Ζ1^9ΐΟ/8ΐΟΖ OAV
Figure imgf000246_0001
LZ900/LlOZW^/13d Ζ1^9ΐΟ/8ΐΟΖ OAV
Figure imgf000247_0001
LZ900/LlOZW^/13d Ζ1^9ΐΟ/8ΐΟΖ OAV
Figure imgf000248_0001
LZ900/LlOZW^/13d Ζ1^9ΐΟ/8ΐΟΖ OAV
Figure imgf000249_0001
LZ900/LlOZW^/13d Ζ1^9ΐΟ/8ΐΟΖ OAV
Figure imgf000250_0001
【청구항 HI
게 1 전극; 상기 제 1 전극과 대향하여 구비된 제 2 전극; 및 상기 제 1 전극과 상기 제 2 전극 사이에 구비된 1층 이상의 유기물 층을 포함하는 유기 발광 소자로서 , 상기 유기물 층 중 1층 이상은 제 1항 내지 제 10항 중 어느 하나의 항에 따른 화합물을 포함하는 것인, 유기 발광소자.
【청구항 12】
제 11항에 있어서,
상기 화합물을 포함하는 유기물층은 발광층인, 유기 발광 소자. 【청구항 13]
제 12항에 있어서,
상기 화합물은 호스트 물질로 사용되는, 유기 발광 소자.
PCT/KR2017/006274 2016-07-20 2017-06-15 신규한 헤테로 고리 화합물 및 이를 이용한 유기발광 소자 Ceased WO2018016742A1 (ko)

Priority Applications (5)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN201780004123.4A CN108368078B (zh) 2016-07-20 2017-06-15 杂环化合物和包含其的有机发光器件
US15/771,066 US11903311B2 (en) 2016-07-20 2017-06-15 Heterocyclic compound and organic light emitting device comprising the same
EP17831215.3A EP3480194B1 (en) 2016-07-20 2017-06-15 Heterocyclic compounds and organic light-emitting devices using same
JP2019502221A JP7210856B2 (ja) 2016-07-20 2017-06-15 新規なヘテロ環式化合物およびこれを利用した有機発光素子
US17/842,520 US12167689B2 (en) 2016-07-20 2022-06-16 Heterocyclic compound and organic light emitting device comprising the same

Applications Claiming Priority (4)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR10-2016-0092202 2016-07-20
KR20160092202 2016-07-20
KR1020170075029A KR101849747B1 (ko) 2016-07-20 2017-06-14 신규한 헤테로 고리 화합물 및 이를 이용한 유기발광 소자
KR10-2017-0075029 2017-06-14

Related Child Applications (2)

Application Number Title Priority Date Filing Date
US15/771,066 A-371-Of-International US11903311B2 (en) 2016-07-20 2017-06-15 Heterocyclic compound and organic light emitting device comprising the same
US17/842,520 Continuation US12167689B2 (en) 2016-07-20 2022-06-16 Heterocyclic compound and organic light emitting device comprising the same

Publications (1)

Publication Number Publication Date
WO2018016742A1 true WO2018016742A1 (ko) 2018-01-25

Family

ID=60993133

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
PCT/KR2017/006274 Ceased WO2018016742A1 (ko) 2016-07-20 2017-06-15 신규한 헤테로 고리 화합물 및 이를 이용한 유기발광 소자

Country Status (1)

Country Link
WO (1) WO2018016742A1 (ko)

Cited By (32)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2019506729A (ja) * 2016-11-16 2019-03-07 エルジー・ケム・リミテッド 有機発光素子
JP2019034933A (ja) * 2017-08-10 2019-03-07 東ソー株式会社 縮合環化合物、その製法、及びその製造中間体
WO2019190101A1 (ko) * 2018-03-29 2019-10-03 덕산네오룩스 주식회사 유기전기소자용 화합물, 이를 이용한 유기전기소자 및 그 전자 장치
WO2019229011A1 (de) 2018-05-30 2019-12-05 Merck Patent Gmbh Zusammensetzung für organische elektronische vorrichtungen
CN112055740A (zh) * 2018-05-04 2020-12-08 德山新勒克斯有限公司 用于有机电子元件的化合物、使用所述化合物的有机电子元件及其电子装置
WO2021033724A1 (ja) * 2019-08-19 2021-02-25 出光興産株式会社 化合物、有機エレクトロルミネッセンス素子用材料、有機エレクトロルミネッセンス素子及び電子機器
US11084806B2 (en) 2016-07-12 2021-08-10 Samsung Sdi Co., Ltd. Compound for organic optoelectronic device, composition for organic optoelectronic device, organic optoelectronic device, and display device
JP2021521254A (ja) * 2018-08-22 2021-08-26 エルジー・ケム・リミテッド 新規な化合物およびこれを利用した有機発光素子
US11158817B2 (en) 2017-01-05 2021-10-26 Samsung Sdi Co., Ltd. Compound for organic optoelectronic device, composition for organic optoelectronic device and organic optoelectronic device and display device
US11264574B2 (en) 2016-07-29 2022-03-01 Samsung Sdi Co., Ltd. Composition for organic optoelectronic element, organic optoelectronic element, and display device
WO2022149476A1 (ja) * 2021-01-08 2022-07-14 出光興産株式会社 化合物、有機エレクトロルミネッセンス素子用材料、有機エレクトロルミネッセンス素子及び電子機器
US11469378B2 (en) * 2018-06-11 2022-10-11 Lg Display Co., Ltd. Electroluminescent compound and electroluminescent device including the same
EP4122934A1 (en) 2021-11-25 2023-01-25 Beijing Summer Sprout Technology Co., Ltd. Organic electroluminescent material and device
US11678572B2 (en) 2016-06-29 2023-06-13 Samsung Sdi Co., Ltd. Compound for organic optoelectronic device, composition for organic optoelectronic device, organic optoelectronic device and display apparatus
US11691966B2 (en) * 2017-09-29 2023-07-04 Duk San Neolux Co., Ltd. Compound for organic electronic element, organic electronic element using the same, and an electronic device thereof
US11706975B2 (en) 2016-06-29 2023-07-18 Samsung Sdi Co., Ltd. Compound for organic optoelectronic device, composition for organic optoelectronic device, organic optoelectronic device and display apparatus
US11706977B2 (en) 2018-01-11 2023-07-18 Samsung Electronics Co., Ltd. Heterocyclic compound, composition including the same, and organic light-emitting device including the heterocyclic compound
US11856843B2 (en) 2018-03-29 2023-12-26 Duk San Neolux Co., Ltd. Compound for organic electric element, organic electric element using the same, and electronic device therefor
WO2024121133A1 (de) 2022-12-08 2024-06-13 Merck Patent Gmbh Organische elektronische vorrichtung und spezielle materialien für organische elektronische vorrichtungen
WO2024132993A1 (de) 2022-12-19 2024-06-27 Merck Patent Gmbh Materialien für elektronische vorrichtungen
WO2024194264A1 (de) 2023-03-20 2024-09-26 Merck Patent Gmbh Materialien für organische elektrolumineszenzvorrichtungen
EP4254526A4 (en) * 2020-11-26 2024-10-30 SFC Co., Ltd. ORGANIC ELECTROLUMINESCENT DEVICE COMPRISING A NOVEL ORGANIC COMPOUND IN AN EMISSION LAYER
WO2025045816A1 (en) 2023-08-29 2025-03-06 Merck Patent Gmbh Materials for organic electroluminescent devices
WO2025045851A1 (de) 2023-08-30 2025-03-06 Merck Patent Gmbh Materialien für organische lichtemittierende vorrichtungen
WO2025045842A1 (de) 2023-08-30 2025-03-06 Merck Patent Gmbh Materialien für organische lichtemittierende vorrichtungen
WO2025045843A1 (de) 2023-08-30 2025-03-06 Merck Patent Gmbh Materialien für organische lichtemittierende vorrichtungen
WO2025073675A1 (en) 2023-10-04 2025-04-10 Merck Patent Gmbh Materials for organic electroluminescent devices
WO2025104058A1 (de) 2023-11-16 2025-05-22 Merck Patent Gmbh Materialien für organische elektronische vorrichtungen
WO2025119821A1 (en) 2023-12-05 2025-06-12 Merck Patent Gmbh Material composition for organic electroluminescent devices
WO2025168515A1 (de) 2024-02-06 2025-08-14 Merck Patent Gmbh Materialien für organische elektronische vorrichtungen
WO2025195961A1 (de) 2024-03-19 2025-09-25 Merck Patent Gmbh Organische lichtemittierende vorrichtungen
WO2025228800A1 (de) 2024-04-30 2025-11-06 Merck Patent Gmbh Materialien für organische elektronische vorrichtungen

Citations (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20000051826A (ko) 1999-01-27 2000-08-16 성재갑 신규한 착물 및 그의 제조 방법과 이를 이용한 유기 발광 소자
WO2003012890A2 (de) 2001-07-20 2003-02-13 Novaled Gmbh Lichtemittierendes bauelement mit organischen schichten
KR20150074603A (ko) * 2013-12-24 2015-07-02 희성소재 (주) 플루오렌계 화합물 및 이를 이용한 유기발광소자
JP5831654B1 (ja) * 2015-02-13 2015-12-09 コニカミノルタ株式会社 芳香族複素環誘導体、それを用いた有機エレクトロルミネッセンス素子、照明装置及び表示装置
WO2016015810A1 (de) * 2014-07-29 2016-02-04 Merck Patent Gmbh Materialien f?r organische elektrolumineszenzvorrichtungen
KR20160028524A (ko) * 2014-05-05 2016-03-11 메르크 파텐트 게엠베하 유기 발광 소자용 재료
US20170054087A1 (en) * 2015-08-17 2017-02-23 Universal Display Corporation Organic electroluminescent materials and devices

Patent Citations (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20000051826A (ko) 1999-01-27 2000-08-16 성재갑 신규한 착물 및 그의 제조 방법과 이를 이용한 유기 발광 소자
WO2003012890A2 (de) 2001-07-20 2003-02-13 Novaled Gmbh Lichtemittierendes bauelement mit organischen schichten
KR20150074603A (ko) * 2013-12-24 2015-07-02 희성소재 (주) 플루오렌계 화합물 및 이를 이용한 유기발광소자
KR20160028524A (ko) * 2014-05-05 2016-03-11 메르크 파텐트 게엠베하 유기 발광 소자용 재료
WO2016015810A1 (de) * 2014-07-29 2016-02-04 Merck Patent Gmbh Materialien f?r organische elektrolumineszenzvorrichtungen
JP5831654B1 (ja) * 2015-02-13 2015-12-09 コニカミノルタ株式会社 芳香族複素環誘導体、それを用いた有機エレクトロルミネッセンス素子、照明装置及び表示装置
US20170054087A1 (en) * 2015-08-17 2017-02-23 Universal Display Corporation Organic electroluminescent materials and devices

Cited By (42)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US11678572B2 (en) 2016-06-29 2023-06-13 Samsung Sdi Co., Ltd. Compound for organic optoelectronic device, composition for organic optoelectronic device, organic optoelectronic device and display apparatus
US11706975B2 (en) 2016-06-29 2023-07-18 Samsung Sdi Co., Ltd. Compound for organic optoelectronic device, composition for organic optoelectronic device, organic optoelectronic device and display apparatus
US11084806B2 (en) 2016-07-12 2021-08-10 Samsung Sdi Co., Ltd. Compound for organic optoelectronic device, composition for organic optoelectronic device, organic optoelectronic device, and display device
US11264574B2 (en) 2016-07-29 2022-03-01 Samsung Sdi Co., Ltd. Composition for organic optoelectronic element, organic optoelectronic element, and display device
JP2019506729A (ja) * 2016-11-16 2019-03-07 エルジー・ケム・リミテッド 有機発光素子
US11800730B2 (en) 2016-11-16 2023-10-24 Lg Chem, Ltd. Organic light emitting device
US11158817B2 (en) 2017-01-05 2021-10-26 Samsung Sdi Co., Ltd. Compound for organic optoelectronic device, composition for organic optoelectronic device and organic optoelectronic device and display device
JP7127418B2 (ja) 2017-08-10 2022-08-30 東ソー株式会社 縮合環化合物、その製法、及びその製造中間体
JP2019034933A (ja) * 2017-08-10 2019-03-07 東ソー株式会社 縮合環化合物、その製法、及びその製造中間体
US11691966B2 (en) * 2017-09-29 2023-07-04 Duk San Neolux Co., Ltd. Compound for organic electronic element, organic electronic element using the same, and an electronic device thereof
US11706977B2 (en) 2018-01-11 2023-07-18 Samsung Electronics Co., Ltd. Heterocyclic compound, composition including the same, and organic light-emitting device including the heterocyclic compound
US11856843B2 (en) 2018-03-29 2023-12-26 Duk San Neolux Co., Ltd. Compound for organic electric element, organic electric element using the same, and electronic device therefor
WO2019190101A1 (ko) * 2018-03-29 2019-10-03 덕산네오룩스 주식회사 유기전기소자용 화합물, 이를 이용한 유기전기소자 및 그 전자 장치
CN112055740A (zh) * 2018-05-04 2020-12-08 德山新勒克斯有限公司 用于有机电子元件的化合物、使用所述化合物的有机电子元件及其电子装置
CN112055740B (zh) * 2018-05-04 2023-12-05 德山新勒克斯有限公司 用于有机电子元件的化合物、使用所述化合物的有机电子元件及其电子装置
WO2019229011A1 (de) 2018-05-30 2019-12-05 Merck Patent Gmbh Zusammensetzung für organische elektronische vorrichtungen
US11469378B2 (en) * 2018-06-11 2022-10-11 Lg Display Co., Ltd. Electroluminescent compound and electroluminescent device including the same
JP7230307B2 (ja) 2018-08-22 2023-03-01 エルジー・ケム・リミテッド 新規な化合物およびこれを利用した有機発光素子
US12096686B2 (en) 2018-08-22 2024-09-17 Lg Chem, Ltd. Compound and organic light emitting device comprising the same
JP2021521254A (ja) * 2018-08-22 2021-08-26 エルジー・ケム・リミテッド 新規な化合物およびこれを利用した有機発光素子
US12435073B2 (en) 2019-08-19 2025-10-07 Idemitsu Kosan Co., Ltd. Compound, material for organic electroluminescent element, organic electroluminescent element, and electronic device
WO2021033724A1 (ja) * 2019-08-19 2021-02-25 出光興産株式会社 化合物、有機エレクトロルミネッセンス素子用材料、有機エレクトロルミネッセンス素子及び電子機器
EP4254526A4 (en) * 2020-11-26 2024-10-30 SFC Co., Ltd. ORGANIC ELECTROLUMINESCENT DEVICE COMPRISING A NOVEL ORGANIC COMPOUND IN AN EMISSION LAYER
WO2022149476A1 (ja) * 2021-01-08 2022-07-14 出光興産株式会社 化合物、有機エレクトロルミネッセンス素子用材料、有機エレクトロルミネッセンス素子及び電子機器
JPWO2022149476A1 (ko) * 2021-01-08 2022-07-14
JP7411122B2 (ja) 2021-01-08 2024-01-10 出光興産株式会社 化合物、有機エレクトロルミネッセンス素子用材料、有機エレクトロルミネッセンス素子及び電子機器
KR20230129418A (ko) 2021-01-08 2023-09-08 이데미쓰 고산 가부시키가이샤 화합물, 유기 전기발광 소자용 재료, 유기 전기발광소자 및 전자 기기
CN116724036A (zh) * 2021-01-08 2023-09-08 出光兴产株式会社 化合物、有机电致发光元件用材料、有机电致发光元件和电子设备
EP4122934A1 (en) 2021-11-25 2023-01-25 Beijing Summer Sprout Technology Co., Ltd. Organic electroluminescent material and device
WO2024121133A1 (de) 2022-12-08 2024-06-13 Merck Patent Gmbh Organische elektronische vorrichtung und spezielle materialien für organische elektronische vorrichtungen
WO2024132993A1 (de) 2022-12-19 2024-06-27 Merck Patent Gmbh Materialien für elektronische vorrichtungen
WO2024194264A1 (de) 2023-03-20 2024-09-26 Merck Patent Gmbh Materialien für organische elektrolumineszenzvorrichtungen
WO2025045816A1 (en) 2023-08-29 2025-03-06 Merck Patent Gmbh Materials for organic electroluminescent devices
WO2025045851A1 (de) 2023-08-30 2025-03-06 Merck Patent Gmbh Materialien für organische lichtemittierende vorrichtungen
WO2025045843A1 (de) 2023-08-30 2025-03-06 Merck Patent Gmbh Materialien für organische lichtemittierende vorrichtungen
WO2025045842A1 (de) 2023-08-30 2025-03-06 Merck Patent Gmbh Materialien für organische lichtemittierende vorrichtungen
WO2025073675A1 (en) 2023-10-04 2025-04-10 Merck Patent Gmbh Materials for organic electroluminescent devices
WO2025104058A1 (de) 2023-11-16 2025-05-22 Merck Patent Gmbh Materialien für organische elektronische vorrichtungen
WO2025119821A1 (en) 2023-12-05 2025-06-12 Merck Patent Gmbh Material composition for organic electroluminescent devices
WO2025168515A1 (de) 2024-02-06 2025-08-14 Merck Patent Gmbh Materialien für organische elektronische vorrichtungen
WO2025195961A1 (de) 2024-03-19 2025-09-25 Merck Patent Gmbh Organische lichtemittierende vorrichtungen
WO2025228800A1 (de) 2024-04-30 2025-11-06 Merck Patent Gmbh Materialien für organische elektronische vorrichtungen

Similar Documents

Publication Publication Date Title
WO2018016742A1 (ko) 신규한 헤테로 고리 화합물 및 이를 이용한 유기발광 소자
JP7205037B2 (ja) 新規なヘテロ環式化合物およびこれを利用した有機発光素子
JP7088446B2 (ja) 新規な化合物およびこれを利用した有機発光素子
KR102134383B1 (ko) 유기 발광 소자
KR102446400B1 (ko) 유기 발광 소자
JP7187752B2 (ja) 新規な化合物およびこれを利用した有機発光素子
WO2019031679A1 (ko) 유기 발광 소자
KR20200085232A (ko) 신규한 화합물 및 이를 이용한 유기 발광 소자
WO2019017734A1 (ko) 신규한 헤테로 고리 화합물 및 이를 이용한 유기 발광 소자
WO2018164511A1 (ko) 유기 발광 소자
KR101626524B1 (ko) 유기발광 화합물 및 이를 포함하는 유기전계발광소자
CN113166107B (zh) 有机化合物及包含其的有机电致发光元件
KR20180068869A (ko) 유기 발광 소자
KR102225488B1 (ko) 신규한 화합물 및 이를 이용한 유기발광 소자
KR20200034626A (ko) 신규한 헤테로 고리 화합물 및 이를 이용한 유기 발광 소자
KR20210001936A (ko) 신규한 화합물 및 이를 포함하는 유기발광 소자
KR101627695B1 (ko) 유기발광 화합물 및 이를 포함하는 유기전계발광소자
KR102235480B1 (ko) 신규한 헤테로 고리 화합물 및 이를 이용한 유기발광 소자
CN112119081B (zh) 新的化合物和包含其的有机发光器件
KR20200004255A (ko) 신규한 화합물 및 이를 이용한 유기발광 소자
KR101983340B1 (ko) 헤테로고리 화합물 및 이를 이용하는 유기발광소자
WO2018093015A1 (ko) 유기 발광 소자
CN112074512B (zh) 新的化合物和包含其的有机发光器件
KR20190021128A (ko) 유기발광 화합물 및 이를 포함하는 유기전계발광소자
KR20200135228A (ko) 신규한 화합물 및 이를 이용한 유기발광 소자

Legal Events

Date Code Title Description
WWE Wipo information: entry into national phase

Ref document number: 15771066

Country of ref document: US

121 Ep: the epo has been informed by wipo that ep was designated in this application

Ref document number: 17831215

Country of ref document: EP

Kind code of ref document: A1

ENP Entry into the national phase

Ref document number: 2019502221

Country of ref document: JP

Kind code of ref document: A

NENP Non-entry into the national phase

Ref country code: DE

ENP Entry into the national phase

Ref document number: 2017831215

Country of ref document: EP

Effective date: 20190129