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WO2018092227A1 - ターゲット生成装置交換用台車、ターゲット生成装置交換システム、及びターゲット生成装置交換方法 - Google Patents

ターゲット生成装置交換用台車、ターゲット生成装置交換システム、及びターゲット生成装置交換方法 Download PDF

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WO2018092227A1
WO2018092227A1 PCT/JP2016/084029 JP2016084029W WO2018092227A1 WO 2018092227 A1 WO2018092227 A1 WO 2018092227A1 JP 2016084029 W JP2016084029 W JP 2016084029W WO 2018092227 A1 WO2018092227 A1 WO 2018092227A1
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WO
WIPO (PCT)
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generation device
target
target generation
chamber
side interface
Prior art date
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Ceased
Application number
PCT/JP2016/084029
Other languages
English (en)
French (fr)
Inventor
敏博 西坂
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Gigaphoton Inc
Original Assignee
Gigaphoton Inc
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Gigaphoton Inc filed Critical Gigaphoton Inc
Priority to PCT/JP2016/084029 priority Critical patent/WO2018092227A1/ja
Publication of WO2018092227A1 publication Critical patent/WO2018092227A1/ja
Priority to US16/379,363 priority patent/US10698316B2/en
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Ceased legal-status Critical Current

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    • G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/70008—Production of exposure light, i.e. light sources
    • G03F7/70033—Production of exposure light, i.e. light sources by plasma extreme ultraviolet [EUV] sources
    • G—PHYSICS
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    • G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
    • G—PHYSICS
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    • G21K5/08—Holders for targets or for other objects to be irradiated
    • H—ELECTRICITY
    • H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05G—X-RAY TECHNIQUE
    • H05G2/00—Apparatus or processes specially adapted for producing X-rays, not involving X-ray tubes, e.g. involving generation of a plasma
    • H—ELECTRICITY
    • H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05G—X-RAY TECHNIQUE
    • H05G2/00—Apparatus or processes specially adapted for producing X-rays, not involving X-ray tubes, e.g. involving generation of a plasma
    • H05G2/001—Production of X-ray radiation generated from plasma
    • H05G2/002—Supply of the plasma generating material
    • H05G2/0027—Arrangements for controlling the supply; Arrangements for measurements

Definitions

  • the present disclosure relates to a target generation device replacement carriage, a target generation device replacement system, and a target generation device replacement method.
  • an LPP laser produced
  • DPP discharge produced plasma
  • JP 2009-6802 A Special table 2011-508122 gazette JP 2008-11820 A Japanese Patent Application Laid-Open No. 2014-10954
  • a target generating device replacement cart comprises: A. A linear movement mechanism that holds a target generation device that outputs a target material and linearly moves the target material in an output direction of the target material; and B. A positioning unit that positions the linear movement mechanism with respect to a mounting unit of a chamber in which the target generation device is mounted.
  • a target generation device exchange system comprises: A. Target generator replacement cart, including the following A1 and A2: A1. A linear movement mechanism that holds the target generation device that outputs the target material and moves it linearly in the output direction of the target material; A2. A positioning unit for positioning the linear movement mechanism with respect to the mounting unit of the chamber in which the target generation device is mounted; B. A chamber-side interface that is provided in the mounting portion and to which the target generation device is detachably fixed.
  • a target generator replacement method includes the following steps: A. Fixing a target generation device that outputs a target material to a linear movement mechanism provided on a target generation device replacement carriage; B. Positioning the target generator replacement carriage relative to the chamber in which the target generator is mounted; C. D. driving the linear movement mechanism to join the target generating device to the chamber; Releasing the fixation between the linear movement mechanism and the target generation device;
  • FIG. 1 is a schematic diagram illustrating a configuration of an EUV light generation apparatus according to a comparative example.
  • FIG. 2 is a cross-sectional view illustrating a configuration of the target generation device.
  • FIG. 3 is an explanatory view for explaining a chamber moving device with respect to the exposure apparatus.
  • 4A and 4B are diagrams for explaining a method of attaching the target generation device.
  • FIG. 4A shows a state before attachment
  • FIG. 4B shows a state after attachment.
  • FIG. 5 is a schematic diagram illustrating a configuration of the target generation device replacement system according to the first embodiment.
  • FIG. 6A is a plan view of the cart side interface as seen from the ⁇ Y direction.
  • FIG. 6B is a cross-sectional view taken along the line AA in FIG. 6A.
  • FIG. 7A is a plan view of the housing and the position adjustment mechanism as seen from the ⁇ Y direction.
  • FIG. 7B is a sectional view taken along line BB in FIG. 7A.
  • FIG. 8A is a plan view of the chamber side interface and the target generation device as seen from the ⁇ Y direction.
  • 8B is a cross-sectional view taken along the line CC in FIG. 8A.
  • FIG. 8C is an enlarged view of the vicinity of the chamber side interface in FIG. 8B.
  • FIG. 9 is a flowchart for explaining the replacement procedure of the target generation device.
  • FIG. 10 is a diagram illustrating a method for adjusting the linear movement mechanism.
  • FIG. 11 is a diagram illustrating a state in which the target generation device is fixed to the cart side interface.
  • FIG. 12 is a diagram showing a state in which the carriage is positioned with respect to the chamber.
  • FIG. 13 is a diagram illustrating a state where the target generation device is fitted to the chamber-side interface.
  • FIG. 14 is a diagram illustrating a state where the cart side interface is separated from the target generation device.
  • FIG. 15 is a diagram illustrating a state in which the carriage is retracted from the chamber.
  • FIG. 16 is a schematic diagram illustrating a configuration of an EUV light generation apparatus according to the second embodiment.
  • FIG. 17 is a schematic diagram illustrating a configuration of a target generation device exchanging system according to the second embodiment.
  • the EUV light generation apparatus 1 employs a laser-generated plasma (LPP) system that generates EUV light by irradiating a target material with a laser beam and exciting it. ing.
  • the EUV light generation apparatus 1 includes a chamber 10, a driver laser 11, a target generation apparatus 12, and a control unit 13.
  • the chamber 10 is a container that can be sealed.
  • the driver laser 11 is an oscillation amplification type laser device that generates a driving pulse laser beam 11a used for exciting a target material.
  • the target generation device 12 is configured to supply a target material into the chamber 10.
  • the target generation device 12 is connected to the chamber 10 via a mounting portion 16 provided in the chamber 10.
  • the state of the target material may be solid, liquid, or gas.
  • the target generation device 12 may supply the target material into the chamber 10 in any known manner such as a jet or droplet. In this comparative example, the target generation device 12 supplies the target material into the chamber 10 as the droplet DL.
  • the target generation device 12 uses, for example, molten tin (Sn) as a target material.
  • the material of the target substance is not limited to tin, and may be terbium, gadolinium, lithium, xenon, or may include a combination of two or more materials.
  • the wall of the chamber 10 is provided with at least one through hole.
  • the through hole is blocked by the window 17.
  • the pulse laser beam 11 a output from the driver laser 11 passes through the window 17.
  • an EUV collector mirror 20 having a spheroidal reflecting surface is disposed inside the chamber 10.
  • the EUV collector mirror 20 has first and second focal points.
  • the EUV collector mirror 20 is arranged such that its first focal point is located in the plasma generation region 21 and its second focal point is located in the intermediate focal point (IF) 22.
  • a through hole 23 is provided at the center of the EUV collector mirror 20.
  • a laser beam condensing mirror 24 is further provided.
  • the pulse laser beam 11 a incident from the driver laser 11 through the window 17 into the chamber 10 is reflected by the laser beam condensing mirror 24 and passes through the through hole 23.
  • the EUV light generation apparatus 1 includes a connection unit 25 that allows communication between the inside of the chamber 10 and the inside of the exposure apparatus 2 described later.
  • the connection portion 25 is formed in a substantially conical shape with a diameter that decreases from the plasma generation region 21 toward the intermediate focusing point 22.
  • a wall 26 in which an aperture 25a is formed is provided at the distal end portion of the connection portion 25. The wall 26 is disposed so that the aperture 25a is positioned at the intermediate condensing point 22.
  • the control unit 13 is connected to the driver laser 11 and the target generation device 12, and synchronizes the output timing of the pulse laser beam 11 a by the driver laser 11 and the output timing of the droplet DL by the target generation device 12. .
  • the EUV light generation apparatus 1 includes an etchant gas supply device 14 and an exhaust device 15 connected to the chamber 10.
  • the EUV light generation apparatus 1 includes a chamber base 10 a that matches the shape of the chamber 10.
  • the chamber stage 10a holds the chamber 10 in a posture in which the optical axis of the EUV light emitted from the EUV collector mirror 20 is inclined with respect to the direction of gravity. This is because the optical axis of the exposure apparatus 2 is oblique with respect to the direction of gravity. If an inclined mirror is provided in the EUV light generation apparatus 1 so that the optical axis of the EUV light coincides with the optical axis of the exposure apparatus 2, the chamber 10 need not be inclined. However, since the reflectance of the EUV light by the tilt mirror is about 60%, the use efficiency of the EUV light is reduced by providing the tilt mirror. Therefore, the chamber 10 is tilted without providing the tilt mirror.
  • the chamber 10 is correctly held in a posture in which the optical axis of the EUV light coincides with the optical axis of the exposure apparatus 2 by being fitted to the chamber stage 10a.
  • the optical axis direction of the EUV light emitted from the EUV collector mirror 20 is referred to as the Z direction
  • the output direction of the droplet DL output from the target generation device 12 is referred to as the Y direction.
  • the Z direction and the Y direction are orthogonal to each other.
  • a direction orthogonal to each of the Z direction and the Y direction is referred to as an X direction.
  • the X direction is orthogonal to the direction of gravity.
  • the mounting unit 16 is provided in the chamber 10 so as to hold the target generation device 12 in a posture in which the Y direction that is the output direction of the droplet DL is not parallel to the gravity direction and is not orthogonal. Yes.
  • the pulse laser beam 11 a output from the driver laser 11 passes through the window 17 and enters the chamber 10.
  • the pulse laser beam 11 a is reflected by the laser beam condensing mirror 24, passes through the through hole 23, and is condensed on the plasma generation region 21.
  • the target generator 12 outputs the droplet DL toward the plasma generation region 21.
  • the droplet DL is irradiated with at least one pulse included in the pulsed laser light 11a.
  • the droplet DL irradiated with the pulse laser beam 11a is turned into plasma, and radiation light is emitted from the plasma.
  • the EUV light included in the emitted light is selectively reflected by the EUV collector mirror 20.
  • the EUV light reflected by the EUV collector mirror 20 is collected at the intermediate focusing point 22 and output to the exposure apparatus 2.
  • a cleaning operation for removing the debris is appropriately performed.
  • This cleaning operation may be performed during the EUV light generation operation, or may be performed in a state where the EUV light generation operation is stopped.
  • an etching gas is supplied into the chamber 10 from the etchant gas supply device 14.
  • the etching gas preferably contains hydrogen.
  • the stannane generated by the reaction of the etching gas with debris or the like, or the etching gas that has not reacted with the debris or the like is exhausted by the exhaust device 15.
  • the exhaust device 15 maintains the inside of the chamber 10 at a low pressure.
  • the target generation device 12 includes a tank 30, a nozzle 31, a lid 32, a pipe 33 a, a heater 35, a temperature sensor 36, and a piezo element 37. And including.
  • the tank 30 is a cylindrical member formed of, for example, molybdenum, and stores a target material therein.
  • the nozzle 31 is made of, for example, molybdenum, and is connected to one end of the tank 30.
  • a nozzle hole 31 a for outputting the target material as a droplet DL is formed at the tip of the nozzle 31.
  • the lid 32 is made of, for example, molybdenum and connected to the other end of the tank 30.
  • the lid 32 has a disk shape and is joined to the end of the tank 30 via an O-ring 32a. Further, the lid 32 is formed with a gas flow path 32b for circulating an inert gas. Further, a flange 34 provided at the end of the pipe 33a is connected to the lid 32 via an O-ring 34a.
  • the pipe 33a communicates with the gas flow path 32b.
  • the pipe 33a is connected to a pipe 33b connected to a pressure regulator (not shown) via a joint 38.
  • An inert gas is supplied into the tank 30 from a gas cylinder included in the pressure regulator via the pipe 33b, the pipe 33a, and the gas flow path 32b.
  • the lid 32 and the end of the tank 30 constitute a connecting portion 39 connected to a cart side interface 141 described later.
  • the heater 35 is provided on the outer peripheral surface of the tank 30, and the target material made of tin in the tank 30 is melted by heating the tank 30.
  • the temperature sensor 36 is disposed in the vicinity of the nozzle 31 on the outer peripheral surface of the tank 30 and detects the temperature of the tank 30 near the installation position of the temperature sensor 36.
  • the piezo element 37 is provided on the outer peripheral surface of the nozzle 31 and applies vibration to the nozzle 31.
  • the heater 35, the temperature sensor 36, and the piezo element 37 are connected to the control unit 13 described above.
  • the control unit 13 controls the temperature of the heater 35 based on the temperature detection signal output from the temperature sensor 36 so as to keep the target material in the tank 30 at a predetermined temperature. Further, the control unit 13 controls the pressure regulator to pressurize the inside of the tank 30 to a predetermined pressure with an inert gas, thereby causing the target material made of molten tin to be output from the nozzle hole 31a.
  • the pressure in the tank 30 at this time is, for example, about 40 MPa.
  • control unit 13 supplies the piezoelectric element 37 with electric power having a predetermined waveform, vibrates the nozzle 31, and disturbs the target material output from the nozzle hole 31a, thereby generating a droplet DL.
  • the speed, interval, and generation frequency of the droplet DL are controlled by the pressure in the tank 30 and the waveform applied to the piezo element 37.
  • the exposure apparatus 2 includes a mask irradiation unit 40 and a workpiece irradiation unit 41.
  • the mask irradiation unit 40 illuminates the EUV light incident from the EUV light generation apparatus 1 on the mask pattern of the mask table MT via the reflection optical system.
  • the workpiece irradiation unit 41 forms an image of the EUV light reflected from the mask table MT on a workpiece such as a semiconductor wafer (not shown) disposed on the workpiece table WT via a reflection optical system.
  • the exposure apparatus 2 exposes the mask pattern on the workpiece by simultaneously translating the mask table MT and the workpiece table WT.
  • a moving mechanism 42 for moving the chamber 10 and a positioning mechanism 43 for positioning the chamber 10 with respect to the exposure apparatus 2 are provided.
  • the positioning mechanism 43 positions the chamber stage 10 a so that the chamber 10 is positioned at a predetermined position where the optical axis of the EUV light emitted from the EUV light generation apparatus 1 coincides with the optical axis of the mask irradiation unit 40.
  • a state where the chamber 10 is positioned at a predetermined position that coincides with the optical axis of the mask irradiation unit 40 is indicated by a solid line.
  • the moving mechanism 42 moves the chamber 10 between the position positioned by the positioning mechanism 43 and the maintenance area where maintenance is possible.
  • the moving mechanism 42 includes, for example, a rail (not shown) and a slider slidably provided on the rail.
  • the moving mechanism 42 may be provided with wheels in place of the slider.
  • FIG. 3 the state in which the chamber 10 is moved to the maintenance area is indicated by a broken line.
  • One of maintenance performed in the maintenance area is replacement of the target generation device 12.
  • the target generation device 12 needs to be replaced when all of the target material stored in the tank 30 is output from the nozzle 31 or when the remaining amount becomes a predetermined amount or less.
  • the chamber 10 In order to replace the target generation device 12, the chamber 10 is first moved to the maintenance area by the moving mechanism. Then, in the maintenance area, the target generation device 12 currently mounted on the mounting portion 16 of the chamber 10 is removed.
  • FIG. 4 is a diagram for explaining a method of attaching the target generation device 12.
  • the target generation device 12 When the target generation device 12 is attached to the mounting portion 16 of the chamber 10, first, as shown in FIG. 4A, the target generation device 12 filled with the target material in the tank 30 is suspended by the crane 44. The crane 44 is disposed around the chamber 10 in the maintenance area. In a state where the target generation device 12 is suspended by the crane 44, the operator attaches the target generation device 12 to the attachment portion 16 as shown in FIG. Then, the operator fixes the target generation device 12 to the mounting portion 16 with a bolt or the like (not shown) while maintaining airtightness between the target generation device 12 and the mounting portion 16 by an O-ring (not shown).
  • the chamber 10 in which the target generation device 12 has been replaced as described above is moved to a position positioned by the positioning mechanism 43 by the moving mechanism 42.
  • the operation time of the EUV light generation apparatus 1 depends on the capacity of the tank 30 of the target generation apparatus 12, it is necessary to increase the capacity of the tank 30 in order to extend the operation time.
  • the capacity of the tank 30 is about 800 cc at present, it is considered that the capacity of the tank 30 is about 3200 cc in order to extend the operation time.
  • the current capacity of the tank 30 is about 800 cc and the weight is 95 kg.
  • the capacity of the tank 30 is about 3200 cc due to the above circumstances, the weight is about 300 kg.
  • the tank 30 has a large capacity and its weight increases, there is a limit to the method of replacing the target generation device 12 that is performed while the operator holds the target generation device 12 suspended by the crane 44 in an auxiliary manner. There is a problem that it becomes difficult.
  • generation apparatus exchange system which concerns on 1st Embodiment of this indication is demonstrated.
  • it replaces with the crane 44 demonstrated in the comparative example, and a target production
  • the configuration of the EUV light generation apparatus is substantially the same as the configuration of the EUV light generation apparatus 1 according to the comparative example.
  • the same parts as those in the comparative example are denoted by the same reference numerals, and description thereof will be omitted as appropriate.
  • FIG. 5 schematically illustrates the configuration of a target generation device exchange system 100 according to the first embodiment.
  • the target generation device replacement system 100 includes a target generation device replacement carriage 110 and a chamber-side interface 120.
  • the target generation device replacement system 100 is simply referred to as the replacement system 100
  • the target generation device replacement cart 110 is simply referred to as the cart 110.
  • each part of the cart 110 and the chamber side interface 120 is preferably formed of a nonmagnetic material.
  • the nonmagnetic material include stainless steel such as SUS316.
  • the carriage 110 includes a gantry 130 and a linear movement mechanism 140.
  • the linear movement mechanism 140, the chamber side interface 120, and the mounting portion 16 described above are shown in a cross-sectional view cut along a YZ plane parallel to the Y direction and the Z direction described above.
  • the gantry 130 includes a flat table 131, a plurality of frames 132, and a base 133.
  • the flat table 131 is supported by a plurality of frames 132.
  • the plurality of frames 132 are supported by the base 133.
  • the table 131 is supported by a plurality of frames 132 such that the upper surface is substantially parallel to the Y direction and the X direction described above.
  • a plurality of sliders 134 are provided on the base 133.
  • the moving mechanism 42 for moving the chamber 10 includes a base 42a installed on the floor and one or a plurality of linear rails 42b installed on the base 42a.
  • the linear rail 42b extends in a horizontal plane orthogonal to the direction of gravity and in a direction orthogonal to the X direction.
  • the linear rail 42b is provided with the above-described chamber base 10a so as to be movable, and the chamber 10 can be moved between the position positioned by the positioning mechanism 43 and the maintenance area.
  • the slider 134 provided on the carriage 110 is slidably engaged with the linear rail 42b.
  • the moving mechanism 42 allows the carriage 110 to move in a horizontal plane perpendicular to the direction of gravity and in a direction perpendicular to the X direction.
  • the carriage 110 may be provided with wheels that engage with the linear rail 42 b instead of the slider 134.
  • the carriage 110 is provided with a positioning portion 137 for positioning the carriage 110 with respect to the chamber 10.
  • the positioning part 137 is attached to the frame 132, for example.
  • the positioning unit 137 comes into contact with the chamber base 10 a so that the carriage 110 is positioned with respect to the chamber 10.
  • FIG. 5 shows a state in which the carriage 110 is positioned by the positioning unit 137 with respect to the chamber 10 arranged in the maintenance area.
  • the moving mechanism 42 functions as a cart moving mechanism that moves the cart 110.
  • One or more linear rails 135 are provided on the upper surface of the table 131.
  • the linear rail 135 is substantially parallel to the Y direction.
  • a gap is formed between the table 131 and the linear rail 135.
  • a shim 136 that is a rail adjustment member for adjusting the angle of the linear rail 135 can be inserted into and removed from the gap.
  • the angle and height of the linear rail 135 can be finely adjusted by changing the thickness and number of shims 136 inserted into the gap, the insertion position, and the like.
  • a linear movement mechanism 140 is connected to the linear rail 135 so as to be linearly movable along the Y direction. That is, the gantry 130 holds the linear movement mechanism 140 movably by the linear rail 135.
  • the linear movement mechanism 140 includes a carriage side interface 141, a housing 142, and a movement support part 143. As will be described in detail later, the target generation device 12 described in the comparative example is detachably fixed to the cart side interface 141.
  • the cart side interface 141 is held by the housing 142.
  • the housing 142 is connected to the movement support part 143.
  • the movement support part 143 is provided with a plurality of sliders 144.
  • the slider 144 is slidably engaged with the linear rail 135.
  • the movement support part 143 is movable in the Y direction.
  • One end of a linear member 145 such as a chain or a wire is connected to the end of the movement support portion 143.
  • the other end of the linear member 145 is connected to the winch 147 via a pulley 146 provided at the upper end of the table 131 of the carriage 110.
  • the linear member 145, the pulley 146, and the winch 147 constitute a drive unit of the linear movement mechanism 140.
  • the winch 147 is attached to the frame 132 of the gantry 130, for example.
  • the winch 147 is provided with a handle 148 for winding the linear member 145. By rotating the handle 148, the linear moving mechanism 140 can be raised or lowered along the linear rail 135. Note that an electric winch may be used instead of the manually wound winch 147.
  • the chamber-side interface 120 is an annular member provided at the opening end of the mounting portion 16 of the chamber 10, and the target generating device 12 is detachably fixed.
  • An annular fitting portion 149 provided in the target generation device 12 is fitted to the chamber side interface 120.
  • FIGS. 6A and 6B are diagrams showing the configuration of the dolly side interface 141.
  • FIG. 6A is a plan view of the cart side interface 141 viewed from the ⁇ Y direction.
  • 6B is a cross-sectional view taken along the line AA in FIG. 6A.
  • the cart side interface 141 includes a bottomed cylindrical portion 141a and an annular portion 141b formed at the open end of the cylindrical portion 141a.
  • the cylindrical portion 141a and the annular portion 141b are substantially rotationally symmetric with respect to the central axis L parallel to the Y direction.
  • Two pin holes 141c and four through holes 141d are formed in the cylindrical portion 141a. Note that the pin hole 141c does not have to penetrate the annular portion 141b.
  • the pin hole 141c is formed at a position away from the central axis L.
  • a guide pin 39a formed in the target generation device 12 is inserted into the pin hole 141c.
  • the guide pins 39a are provided at positions corresponding to the respective pin holes 141c on the upper surface of the connection portion 39 of the target generation device 12.
  • the target generating device 12 is positioned with respect to the rotation direction about the central axis L by the guide pin 39a.
  • the fixing bolt 150 is inserted into the through hole 141d.
  • a tapped hole 39b is formed in the connection portion 39 of the target generating device 12 at a position corresponding to the through hole 141d.
  • the bogie-side interface 141 and the connecting portion 39 are fastened by screwing the bolt 150 into the tap hole 39b through the through hole 141d.
  • the fitting part 141e is formed in the surface at the side of the target production
  • the fitting portion 141e is concave and includes a surface perpendicular to the Y direction.
  • the upper end portion of the connection portion 39 is fitted to the fitting portion 141e.
  • the position in the Y direction that is the moving direction of the linear moving mechanism 140 is positioned by the fitting portion 141e.
  • the aforementioned annular fitting portion 149 is formed at the lower end portion of the connecting portion 39.
  • the fitting portion 149 is formed integrally with the connection portion 39 or is formed as a separate body. When the fitting part 149 is formed as a separate body, the fitting part 149 is fixed to the connection part 39 in a state where airtightness is ensured.
  • FIGS. 7A and 7B show the housing 142 and the position adjusting mechanism for the dolly side interface 141.
  • FIG. 7A is a plan view of the housing 142 and the position adjusting mechanism as seen from the ⁇ Y direction.
  • FIG. 7B is a sectional view taken along line BB in FIG. 7A.
  • the housing 142 includes a cylindrical portion 142a having a bottom, and a bowl-shaped portion 142b having a rectangular outer shape formed at the opening end of the cylindrical portion 142a.
  • the cylindrical portion 142a is substantially rotationally symmetric with respect to the central axis L.
  • the housing 142 includes a bush 142c that is a sliding holding portion that holds the carriage-side interface 141 so as to be slidable in the Y direction.
  • the aforementioned moving support portion 143 has an L-shaped cross section, and an opening 143a into which the cart side interface 141 is inserted is formed.
  • the hook-shaped portion 142b is disposed on the peripheral edge of the opening 143a and is fixed to the movement support portion 143 by four fixing bolts 151.
  • the cylindrical portion 141a of the cart side interface 141 is inserted into the cylindrical portion 142a of the housing 142 via the bush 142c.
  • the cylindrical portion 141 a is fastened to the housing 142 by two rotation fixing bolts 152.
  • an arc-shaped slot 142d is formed at the bottom of the cylindrical portion 142a.
  • a tap hole 141f is formed at the bottom of the cylindrical portion 141a.
  • the rotation fixing bolt 152 is screwed into the tap hole 141f through the slot 142d.
  • the rotation fixing bolt 152 When the rotation fixing bolt 152 is in a loosened state, the carriage-side interface 141 can be rotated around the central axis L.
  • the rotation fixing bolt 152 may be fastened with the cart side interface 141 at a desired rotation angle with respect to the housing 142.
  • the rotation fixing bolt 152 and the slot 142d constitute a rotation adjusting mechanism that rotates the cart side interface 141 around the central axis L.
  • a through-type tap hole 142e is formed at a position corresponding to the central axis L at the bottom of the cylindrical portion 142a.
  • a push bolt 153 is screwed into the tap hole 142e via a fixing nut 154.
  • the front end portion of the push bolt 153 comes into contact with the cylindrical portion 141 a of the cart side interface 141.
  • the screwing amount of the push bolt 153 By adjusting the screwing amount of the push bolt 153, the position of the carriage side interface 141 in the Y direction can be adjusted. Since the Y direction is the moving direction of the linear moving mechanism 140, this adjustment is not essential.
  • the housing 142 is configured with a translation adjustment mechanism that translates the cart side interface 141 in the X direction and the Z direction orthogonal to the Y direction.
  • the housing 142 is provided with a first translation adjustment mechanism 160a, a second translation adjustment mechanism 160b, and a third translation adjustment mechanism 160c.
  • the first to third translational adjustment mechanisms 160a to 160c each include a support member 161, a push bolt 162, and a protrusion 163.
  • the first translation adjustment mechanism 160a and the second translation adjustment mechanism 160b are disposed to face each other in the X direction so as to sandwich the housing 142 from both sides.
  • the third translational adjustment mechanism 160c is disposed at one end of the housing 142 in the Z direction.
  • the support member 161 is in contact with and supported by the end of the bowl-shaped portion 142b of the housing 142.
  • the protruding portion 163 is integrally formed with the movement support portion 143, and a tap hole 163a is formed.
  • the push bolt 162 is screwed into the tap hole 163a, and the tip portion is in contact with the support member 161.
  • FIGS. 8A, 8B, and 8C show a state where the target generation device 12 is removed from the cart side interface 141 and fixed to the chamber side interface 120.
  • FIG. FIG. 8A is a plan view of the chamber side interface 120 and the target generation device 12 as viewed from the ⁇ Y direction.
  • 8B is a cross-sectional view taken along the line CC in FIG. 8A.
  • FIG. 8C is an enlarged view of the vicinity of the chamber-side interface 120 in FIG. 8B.
  • the chamber-side interface 120 has a substantially annular shape in which a hollow portion 121 is formed.
  • the tank 30 or the like of the target generation device 12 is inserted into the hollow portion 121.
  • a fitting portion 122 is integrally formed on the upper surface of the chamber side interface 120.
  • the fitting part 122 is fitted into a fitting part 149 formed in the target generation device 12.
  • the fitting portion 122 and the fitting portion 149 have a convex portion formed on one side and a concave portion formed on the other side so as to be fitted to each other.
  • the target generator 12 is positioned in the Y direction by fitting the fitting portion 149 into the fitting portion 122 of the chamber side interface 120.
  • a pin hole 149a is formed in the fitting portion 149.
  • a pin hole 122 a is formed in the fitting portion 122 at a position corresponding to the pin hole 149 a of the fitting portion 149.
  • the positioning pin 170 is inserted into the pin hole 149a and the pin hole 122a. Thereby, the position regarding the rotation direction around the central axis L of the target generation device 12 is positioned.
  • a through hole 39c is formed in the connection part 39 of the target generation device 12.
  • a through hole 149b is formed in the fitting portion 149 at a position corresponding to the through hole 39c.
  • a tapped hole 122b is formed in the fitting portion 122 at a position corresponding to the through hole 149b.
  • the target generator 12 is fixed to the chamber side interface 120 by screwing the fixing bolt 171 into the tap hole 122b via the through hole 39c and the through hole 149b.
  • an O-ring groove 149c is formed at a joint portion between the target generation device 12 and the fitting portion 149.
  • An O-ring 172 is accommodated in the O-ring groove 149c.
  • an O-ring groove 122 c is formed at the joint between the fitting portion 149 and the fitting portion 122.
  • An O-ring 173 is accommodated in the O-ring groove 122c. The O-ring 172 and the O-ring 173 maintain the airtightness inside the chamber 10 when the target generation device 12 is fixed to the chamber-side interface 120.
  • the linear movement mechanism 140 is adjusted in advance (step S1). Specifically, as shown in FIG. 10, first, the dummy member 180 of the target generation device 12 is attached to the chamber-side interface 120 of the chamber 10 arranged in the maintenance area.
  • the dummy member 180 has the same shape as the connection part 39 of the target generation device 12, and a guide pin 181 is formed on the upper surface.
  • the guide pin 181 is disposed at the same position as the guide pin 39 a formed on the connection portion 39.
  • the carriage 110 is moved to bring the positioning portion 137 into contact with the chamber base 10a. Then, by operating the winch 147 and driving the linear movement mechanism 140, the movement support portion 143 is lowered along the Y direction, and the carriage-side interface 141 is brought close to the dummy member 180. In this state, the positions of the carriage-side interface 141 and the housing 142 are adjusted by the aforementioned rotation adjustment mechanism and translation adjustment mechanism so that the guide pin 181 enters the pin hole 141c of the carriage-side interface 141.
  • the winch 147 is operated to lower the movement support portion 143, and the angle and height of the linear rail 135 are finely adjusted so that the upper end portion of the dummy member 180 is fitted to the fitting portion 141e of the cart side interface 141. I do. As described above, this fine adjustment is performed by inserting and removing the shim 136 which is a rail adjustment member.
  • the carriage-side interface 141 and the linear rail 135 included in the linear movement mechanism 140 are positioned with respect to the chamber-side interface 120 of the chamber 10.
  • the adjustment of the linear movement mechanism 140 may be performed in a state where the target generation device 12 is attached to the chamber side interface 120 without using the dummy member 180.
  • step S2 it is appropriately determined whether or not the target generation apparatus 12 needs to be replaced. For example, when the remaining amount of the target material stored in the tank 30 of the target generation device 12 becomes a predetermined amount or less, it is determined that replacement is necessary.
  • the target generator 12 is exchanged (YES in step S2), the chamber 10 is moved to the maintenance area by the moving mechanism 42. And the used target production
  • the new target generation device 12 is fixed to the cart side interface 141 (step S4). Thereby, the target generation device 12 is held by the moving mechanism 42 in a posture in which the target generation device 12 is mounted on the mounting portion 16 of the chamber 10.
  • the target generating device 12 is fixed to the cart side interface 141 by inserting a guide pin 39a into the pin hole 141c and inserting the fixing bolt 151 into the tap hole 39b through the through hole 141d. This is done by screwing. This operation may be performed in a state where the carriage 110 is connected to the moving mechanism 42, but the carriage 110 to which the new target generation device 12 is attached is transported from another place and connected to the moving mechanism 42. Also good.
  • step S5 the carriage 110 on which the target generation device 12 is mounted is moved by the moving mechanism 42, and the carriage 110 is moved relative to the chamber 10 by bringing the positioning unit 137 into contact with the chamber stage 10 a.
  • Positioning is performed (step S5).
  • the winch 147 is operated and the linear moving mechanism 140 is driven to lower the target generating device 12 along the Y direction, that is, to move toward the chamber 10 side.
  • FIG. Joining to the interface 120 (step S6).
  • the fitting portion 149 of the target generation device 12 is fitted to the fitting portion 122 of the chamber side interface 120.
  • the positioning pin 170 is inserted in the pin hole 122a of the fitting portion 122 in advance, and when the fitting portion 122 and the fitting portion 149 are fitted, the positioning pin 170 is a pin of the fitting portion 149. It is inserted into the hole 149a. Since the position adjustment of the linear movement mechanism 140 is performed in step S1, the target generation device 12 is accurately fitted to the chamber side interface 120 only by lowering the target generation device 12.
  • step S7 the cart side interface 141 is released from the target generation device 12 (step S7). Specifically, the fixing bolt 150 screwed into the tap hole 39b is removed in step S4. Then, by operating the winch 147 and driving the linear movement mechanism 140, as shown in FIG. 14, the carriage-side interface 141 is moved to the side opposite to the chamber 10, and is separated from the target generator 12 (step S8). .
  • step S9 the fixing bolt 171 is screwed into the tap hole 122b to fix the target generating device 12 to the chamber side interface 120 (step S9).
  • the target generation device 12 is fixed to the mounting portion 16 of the chamber 10 via the chamber side interface 120.
  • the carriage 110 is moved by the moving mechanism 42 and retracted from the chamber 10 (step S ⁇ b> 10).
  • the carriage 110 may be disconnected from the moving mechanism 42 and moved to another location.
  • the replacement work is completed by connecting an interface (not shown) to the target generation device 12.
  • This interface includes electrical wiring to the joint 38, the heater 35, the temperature sensor 36, the piezo element 37, and the like.
  • the EUV light generation apparatus 1 is moved to a position connected to the exposure apparatus 2 by the moving mechanism 42 and operates.
  • the replacement operation is performed again according to the above procedure.
  • generation apparatus 12 in step S3 should just perform the attachment procedure of the above-mentioned target production
  • the carriage 110 is positioned in the chamber 10 and the fixation of the target generation device 12 to the chamber side interface 120 is released. Then, the carriage-side interface 141 is joined to the target generation device 12 by driving the linear movement mechanism 140 and lowering the carriage-side interface 141. In this state, the target generation device 12 is fixed to the cart side interface 141.
  • the linear moving mechanism 140 is driven to raise the target generating device 12 together with the cart side interface 141, and the target generating device 12 is separated from the chamber 10. And after moving the trolley
  • the target generation device 12 it is possible to connect the target generation device 12 to the chamber 10 by mounting the target generation device 12 on the linear movement mechanism 140 of the carriage 110 and driving the linear movement mechanism 140. And thereby, even if it is a case where the tank 30 of the target production
  • the target generation device 12 is exchanged for the EUV light generation device 1a in which the arrangement of the mounting portion 16 of the chamber 10 is different from that of the EUV light generation device 1 of the second embodiment.
  • the same parts as those of the first embodiment are denoted by the same reference numerals, and description thereof will be omitted as appropriate.
  • FIG. 16 schematically illustrates a configuration of an EUV light generation device 1a according to the second embodiment.
  • the EUV light generation apparatus 1a is the same as the EUV light generation apparatus 1 according to the first embodiment except that the position of the mounting portion 16 provided with respect to the chamber 10 is different.
  • the mounting portion 16 is formed at a position rotated 90 degrees around the Z direction that is the optical axis direction of the EUV light from the position in the first embodiment.
  • the mounting unit 16 is provided in the chamber 10 so as to hold the target generation device 12 in a posture in which the output direction of the droplet DL is a horizontal direction orthogonal to the direction of gravity.
  • the output direction of the droplet DL output from the target generation device 12 is the X direction.
  • FIG. 17 schematically shows a configuration of a target generation device exchange system 200 according to the second embodiment.
  • FIG. 17 is a view of the EUV light generation apparatus 1a as viewed from the E direction shown in FIG.
  • the target generation device replacement system 200 includes a target generation device replacement carriage 210 and a chamber-side interface 120.
  • the chamber side interface 120 has the same configuration as that of the first embodiment.
  • the carriage 210 includes a gantry 230 and a linear movement mechanism 140.
  • the linear movement mechanism 140 has the same configuration as that of the first embodiment. In FIG. 17, the linear movement mechanism 140 and the mounting portion 16 are shown in a cross-sectional view cut along a plane parallel to the gravity direction and the X direction.
  • the gantry 230 includes a flat table 231, a plurality of frames 232, and a base 233. Unlike the first embodiment, the flat table 231 is supported by a plurality of frames 232 such that the upper surface is a horizontal plane perpendicular to the direction of gravity. The base 233 that supports the plurality of frames 232 is held by the plurality of sliders 134 as in the first embodiment. The gantry 230 is slidable along the linear rail 42b.
  • the carriage 210 is provided with a positioning portion 237 similar to that of the first embodiment.
  • the positioning part 237 is attached to the frame 232, for example.
  • the positioning unit 237 comes into contact with the chamber base 10 a so that the carriage 210 is positioned with respect to the chamber 10.
  • one or more linear rails 135 are provided on the upper surface of the table 231.
  • the linear rail 135 is substantially parallel to the X direction.
  • the angle and height of the linear rail 135 can be finely adjusted by the shim 136.
  • a linear movement mechanism 140 is connected to the linear rail 135 so as to be movable in the X direction.
  • the linear movement mechanism 140 includes a carriage side interface 141, a housing 142, and a movement support part 143. Since the linear movement mechanism 140 has the same configuration as that of the first embodiment, detailed description thereof is omitted.
  • the moving support part 143 is slidably engaged with the linear rail 135 via a plurality of sliders 144.
  • the movement support part 143 is movable in the X direction.
  • One end of a linear member 145 is connected to the end of the movement support portion 143.
  • the linear member 145 is, for example, a ball screw.
  • the pulley 146 and the winch 147 shown in the first embodiment are not provided, and a bearing 246 and a handle 247 are provided instead.
  • the other end of the linear member 145 is connected to the handle 247 via a bearing 246.
  • the linear member 145, the bearing 246, and the handle 247 constitute a drive unit of the linear movement mechanism 140.
  • the linear movement mechanism 140 can be moved along the linear rail 135 by rotating the handle 148.
  • the same pulley and winch as in the first embodiment may be provided.
  • the method for replacing the target generation device 12 by the target generation device replacement system 200 for the EUV light generation device 1a is the first implementation except that the moving direction of the target generation device 12 by the linear movement mechanism 140 is different. It is the same as the form. A description of the replacement procedure of the target generation device 12 is omitted.

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Abstract

ターゲット生成装置交換用台車は、以下を備える：Ａ．ターゲット物質を出力するターゲット生成装置を保持し、ターゲット物質の出力方向へ直線的に移動させる直線移動機構；及び、Ｂ．直線移動機構を、ターゲット生成装置が装着されるチャンバの装着部に対して位置決めする位置決め部。ターゲット生成装置交換用台車は、さらに以下を備える：Ｃ．直線移動機構を駆動する駆動部。ターゲット生成装置交換用台車は、さらに以下を備える：Ｄ．直線移動機構を保持する架台。ここで、位置決め部は、架台に設けられている。

Description

ターゲット生成装置交換用台車、ターゲット生成装置交換システム、及びターゲット生成装置交換方法
　本開示は、ターゲット生成装置交換用台車、ターゲット生成装置交換システム、及びターゲット生成装置交換方法に関する。
　近年、半導体プロセスの微細化に伴って、半導体プロセスの光リソグラフィにおける転写パターンの微細化が急速に進展している。次世代においては、２０ｎｍ以下の微細加工が要求されるようになる。このため、波長１３ｎｍ程度の極端紫外（ＥＵＶ：extreme ultraviolet）光を生成するための装置と縮小投影反射光学系とを組み合わせた露光装置の開発が期待されている。
　ＥＵＶ光生成装置としては、ターゲット物質にレーザ光を照射することによって生成されるプラズマが用いられるＬＰＰ（laser produced plasma）式の装置と、放電によって生成されるプラズマが用いられるＤＰＰ（discharge produced plasma）式の装置と、軌道放射光が用いられるＳＲ（synchrotron radiation）式の装置との３種類の装置が提案されている。
特開２００９－６８０２号公報 特表２０１１－５０８１２２号公報 特開２００８－１１８０２０号公報 特開２０１４－１０９５４号公報
概要
　本開示の１つの観点に係るターゲット生成装置交換用台車は、以下を備える：
　Ａ．ターゲット物質を出力するターゲット生成装置を保持し、ターゲット物質の出力方向へ直線的に移動させる直線移動機構；及び
　Ｂ．直線移動機構を、ターゲット生成装置が装着されるチャンバの装着部に対して位置決めする位置決め部。
　本開示の１つの観点に係るターゲット生成装置交換システムは、以下を備える：
　Ａ．ターゲット生成装置交換用台車であって、以下のＡ１及びＡ２を含む：
　　Ａ１．ターゲット物質を出力するターゲット生成装置を保持し、ターゲット物質の出力方向へ直線的に移動させる直線移動機構；
　　Ａ２．直線移動機構を、ターゲット生成装置が装着されるチャンバの装着部に対して位置決めする位置決め部；
　Ｂ．装着部に設けられ、ターゲット生成装置が着脱自在に固定されるチャンバ側インターフェイス。
　本開示の１つの観点に係るターゲット生成装置交換方法は、以下のステップを含む：
　Ａ．ターゲット生成装置交換用台車に設けられた直線移動機構に、ターゲット物質を出力するターゲット生成装置を固定するステップ；
　Ｂ．ターゲット生成装置交換用台車をターゲット生成装置が装着されるチャンバに対して位置決めするステップ；
　Ｃ．直線移動機構を駆動して、ターゲット生成装置をチャンバに接合するステップに接合するステップ；及び
　Ｄ．直線移動機構とターゲット生成装置との固定を解除するステップ。
　本開示のいくつかの実施形態を、単なる例として、添付の図面を参照して以下に説明する。
図１は、比較例に係るＥＵＶ光生成装置の構成を示す概略図である。 図２は、ターゲット生成装置の構成を示す断面図である。 図３は、露光装置に対するチャンバの移動機を説明する説明図である。 図４は、ターゲット生成装置の取り付け方法を説明する図であり、図４Ａは取り付け前の状態を示し、図４Ｂは取り付け後の状態を示す。 図５は、第１の実施形態に係るターゲット生成装置交換システムの構成を示す概略図である。 図６Ａは、台車側インターフェイスを、－Ｙ方向から見た平面図である。 図６Ｂは、図６Ａ中のＡ－Ａ線に沿った断面図である。 図７Ａは、ハウジング及び位置調整機構を、－Ｙ方向から見た平面図である。 図７Ｂは、図７Ａ中のＢ－Ｂ線に沿った断面図である。 図８Ａは、チャンバ側インターフェイス及びターゲット生成装置を、－Ｙ方向から見た平面図である。 図８Ｂは、図８Ａ中のＣ－Ｃ線に沿った断面図である。 図８Ｃは、図８Ｂにおけるチャンバ側インターフェイス付近の拡大図である。 図９は、ターゲット生成装置の交換手順を説明するフローチャートである。 図１０は、直線移動機構の調整方法を説明する図である。 図１１は、ターゲット生成装置を台車側インターフェイスに固定した状態を示す図である。 図１２は、チャンバに対して台車を位置決めした状態を示す図である。 図１３は、ターゲット生成装置をチャンバ側インターフェイスに嵌合させた状態を示す図である。 図１４は、台車側インターフェイスをターゲット生成装置から離した状態を示す図である。 図１５は、台車をチャンバから退避させた状態を示す図である。 図１６は、第２の実施形態に係るＥＵＶ光生成装置の構成を示す概略図である。 図１７は、第２の実施形態に係るターゲット生成装置交換システムの構成を示す概略図である。
実施形態
　＜内容＞
　１．比較例
　　１．１　ＥＵＶ光生成装置
　　　１．１．１　構成
　　　１．１．２　動作
　　１．２　ターゲット生成装置
　　　１．２．１　構成
　　　１．２．２　動作
　　１．３　チャンバの移動機構
　　１．４　ターゲット生成装置の交換方法
　　１．５　課題
　２．第１の実施形態
　　２．１　構成
　　　２．１．１　ターゲット生成装置交換システム
　　　２．１．２　台車側インターフェイス
　　　２．１．３　台車側インターフェイスの調整機構
　　　２．１．４　チャンバ側インターフェイス
　　２．２　動作
　　２．３　効果
　３．第２の実施形態
　　３．１　構成
　　　３．１．１　ＥＵＶ光生成装置
　　　３．１．２　ターゲット生成装置交換システム
　　３．２　動作
　以下、本開示の実施形態について、図面を参照しながら詳しく説明する。以下に説明される実施形態は、本開示のいくつかの例を示すものであって、本開示の内容を限定するものではない。また、各実施形態で説明される構成及び動作の全てが本開示の構成及び動作として必須であるとは限らない。なお、同一の構成要素には同一の参照符号を付して、重複する説明を省略する。
　１．比較例
　　１．１　ＥＵＶ光生成装置
　　　１．１．１　構成
　ＥＵＶ光生成装置１は、レーザビームをターゲット物質に照射して励起させることによりＥＵＶ光を生成するレーザ生成プラズマ（ＬＰＰ）方式を採用している。図１において、ＥＵＶ光生成装置１は、チャンバ１０と、ドライバレーザ１１と、ターゲット生成装置１２と、制御部１３と、を含んでいる。
　チャンバ１０は、密閉可能な容器である。ドライバレーザ１１は、ターゲット物質を励起させるために用いられる駆動用のパルスレーザ光１１ａを生成する発振増幅型レーザ装置である。ターゲット生成装置１２は、ターゲット物質をチャンバ１０内部に供給するよう構成されている。ターゲット生成装置１２は、チャンバ１０に設けられた装着部１６を介してチャンバ１０に接続される。
　ターゲット物質の状態は、固体、液体、気体の何れでも良い。ターゲット生成装置１２は、ターゲット物質を、噴流や液滴等の公知の何れの態様でチャンバ１０内に供給しても良い。本比較例では、ターゲット生成装置１２は、ターゲット物質を液滴ＤＬとしてチャンバ１０内に供給する。ターゲット生成装置１２は、ターゲット物質として、例えば、溶融された錫（Ｓｎ）を用いる。ターゲット物質の材料は、錫に限られず、テルビウム、ガドリニウム、リチウム、キセノンであってもよく、さらには、２つ以上の材料の組合せを含んでもよい。
　チャンバ１０の壁には、少なくとも１つの貫通孔が設けられている。その貫通孔は、ウインドウ１７によって塞がれている。ドライバレーザ１１から出力されるパルスレーザ光１１ａは、ウインドウ１７を透過する。チャンバ１０の内部には、例えば、回転楕円面形状の反射面を有するＥＵＶ集光ミラー２０が配置される。ＥＵＶ集光ミラー２０は、第１及び第２の焦点を有する。ＥＵＶ集光ミラー２０の表面には、例えば、モリブデンとシリコンとが交互に積層された多層反射膜が形成される。ＥＵＶ集光ミラー２０は、例えば、その第１の焦点がプラズマ生成領域２１に位置し、その第２の焦点が中間集光点（ＩＦ）２２に位置するように配置されている。ＥＵＶ集光ミラー２０の中央部には貫通孔２３が設けられている。
　チャンバ１０の内部には、さらにレーザ光集光ミラー２４が設けられている。ドライバレーザ１１からウインドウ１７を介してチャンバ１０の内部に入射したパルスレーザ光１１ａは、レーザ光集光ミラー２４により反射されて貫通孔２３を通過する。
　また、ＥＵＶ光生成装置１は、チャンバ１０の内部と、後述する露光装置２の内部とを連通させる接続部２５を含む。接続部２５は、プラズマ生成領域２１から中間集光点２２に向かうに従って径が小さくなる略円錐状に形成されている。接続部２５の先端部には、アパーチャ２５ａが形成された壁２６が設けられる。壁２６は、アパーチャ２５ａが中間集光点２２に位置するように配置されている。
　制御部１３は、ドライバレーザ１１とターゲット生成装置１２とに接続されており、ドライバレーザ１１によるパルスレーザ光１１ａの出力のタイミングと、ターゲット生成装置１２による液滴ＤＬの出力のタイミングとを同期させる。
　また、ＥＵＶ光生成装置１は、チャンバ１０に接続されたエッチンガス供給装置１４及び排気装置１５を含んでいる。
　さらに、ＥＵＶ光生成装置１は、チャンバ１０の形状に合わせたチャンバ台１０ａを含む。チャンバ台１０ａは、ＥＵＶ集光ミラー２０から射出されるＥＵＶ光の光軸が重力方向に対して斜めの姿勢にチャンバ１０を保持する。これは、露光装置２の光軸が重力方向に対して斜めであるためである。仮に、ＥＵＶ光生成装置１内に傾斜ミラーを設けて、ＥＵＶ光の光軸を露光装置２の光軸と一致させれば、チャンバ１０を傾斜させる必要はない。しかし、傾斜ミラーによるＥＵＶ光の反射率は約６０％であるので、傾斜ミラーを設けることによりＥＵＶ光の利用効率が低下してしまうので、傾斜ミラーは設けず、チャンバ１０を傾斜させている。
　チャンバ１０は、チャンバ台１０ａに嵌まることにより、ＥＵＶ光の光軸が露光装置２の光軸と一致する姿勢で正しく保持される。
　以下、ＥＵＶ集光ミラー２０から射出されるＥＵＶ光の光軸方向をＺ方向、ターゲット生成装置１２から出力される液滴ＤＬの出力方向をＹ方向と言う。Ｚ方向とＹ方向とは直交している。また、Ｚ方向とＹ方向とのそれぞれに直交する方向をＸ方向と言う。Ｘ方向は、重力方向に直交している。
　本比較例では、装着部１６は、液滴ＤＬの出力方向であるＹ方向が、重力方向に非平行でかつ非直交となる姿勢でターゲット生成装置１２を保持するようにチャンバ１０に設けられている。
　　　１．１．２　動作
　図１を参照して、ＥＵＶ光生成装置１の動作を説明する。ドライバレーザ１１から出力されたパルスレーザ光１１ａは、ウインドウ１７を透過してチャンバ１０内に入射する。パルスレーザ光１１ａは、レーザ光集光ミラー２４で反射されて貫通孔２３を通過し、プラズマ生成領域２１に集光される。
　ターゲット生成装置１２は、液滴ＤＬをプラズマ生成領域２１に向けて出力する。液滴ＤＬには、パルスレーザ光１１ａに含まれる少なくとも１つのパルスが照射される。パルスレーザ光１１ａが照射された液滴ＤＬはプラズマ化し、そのプラズマから放射光が放射される。放射光に含まれるＥＵＶ光は、ＥＵＶ集光ミラー２０によって選択的に反射される。ＥＵＶ集光ミラー２０によって反射されたＥＵＶ光は、中間集光点２２で集光され、露光装置２に出力さる。
　また、上記の動作を繰り返すと、チャンバ１０内のＥＵＶ集光ミラー２０等に液滴ＤＬのデブリ等が徐々に堆積されるので、適宜、デブリを除去するためのクリーニング動作が行われる。このクリーニング動作は、ＥＵＶ光の生成動作中に行われてもよいし、ＥＵＶ光の生成動作を停止した状態で行われてもよい。クリーニング動作には、エッチンガス供給装置１４からチャンバ１０内にエッチングガスが供給される。液滴ＤＬが錫の場合には、エッチングガスが水素を含むことが好ましい。エッチングガスがデブリ等と反応して生成されたスタナンや、デブリ等と反応しなかったエッチングガスは、排気装置１５により排気される。排気装置１５は、チャンバ１０内を低圧に維持する。
　　１．２　ターゲット生成装置
　　　１．２．１　構成
　図２において、ターゲット生成装置１２は、タンク３０と、ノズル３１と、蓋３２と、配管３３ａと、ヒータ３５と、温度センサ３６と、ピエゾ素子３７と、を含む。タンク３０は、例えば、モリブデンにより形成された筒状の部材であって、内部にターゲット物質を収容している。ノズル３１は、例えば、モリブデンにより形成され、タンク３０の一端に接続されている。ノズル３１の先端部には、ターゲット物質を液滴ＤＬとして出力するためのノズル孔３１ａが形成されている。
　蓋３２は、例えば、モリブデンにより形成され、タンク３０の他端に接続されている。蓋３２は、円盤状であって、Ｏリング３２ａを介してタンク３０の端部に接合されている。また、蓋３２には、不活性ガスを流通させるためのガス流路３２ｂが形成されている。さらに、蓋３２には、配管３３ａの端部に設けられたフランジ３４が、Ｏリング３４ａを介して接続されている。配管３３ａは、ガス流路３２ｂに連通している。配管３３ａは、継ぎ手３８を介して、図示しない圧力調整器に接続された配管３３ｂに接続されている。圧力調整器に含まれるガスボンベから配管３３ｂ、配管３３ａ、及びガス流路３２ｂを介して、タンク３０内に不活性ガスが供給される。
　蓋３２とタンク３０の端部とが、後述する台車側インターフェイス１４１に接続される接続部３９を構成している。
　ヒータ３５は、タンク３０の外周面に設けられており、タンク３０を加熱することにより、タンク３０内の錫からなるターゲット物質を溶融させる。温度センサ３６は、タンク３０の外周面におけるノズル３１の近傍に配置されており、タンク３０の温度センサ３６の設置位置近傍の温度を検出する。ピエゾ素子３７は、ノズル３１の外周面に設けられており、ノズル３１に振動を与える。ヒータ３５、温度センサ３６、及びピエゾ素子３７は、前述の制御部１３に接続されている。
　　　１．２．２　動作
　制御部１３は、温度センサ３６から出力される温度の検出信号に基づいて、タンク３０内のターゲット物質を所定温度に保つようにヒータ３５の温度を制御する。また、制御部１３は、圧力調整器を制御することにより、タンク３０内を不活性ガスによって所定圧力まで加圧することにより、溶融された錫からなるターゲット物質をノズル孔３１ａから出力させる。このときのタンク３０内の圧力は、例えば約４０ＭＰａである。
　さらに、制御部１３は、ピエゾ素子３７に所定波形の電力を供給してノズル３１に振動を与え、ノズル孔３１ａから出力されたターゲット物質に擾乱を与えることにより、液滴ＤＬを生成させる。液滴ＤＬの速度、間隔、生成周波数は、タンク３０内の圧力と、ピエゾ素子３７に与えられる波形によって制御される。
　　１．３　チャンバの移動機構
　前述のようにＥＵＶ光生成装置１を斜めに設置した場合には、ＥＵＶ光生成装置１のメンテナンスのために、チャンバ１０又はチャンバ１０の一部を取り外し、メンテナンス領域へ移動することが容易でなくなる。このため、チャンバ１０を露光装置２に対して位置決めされた位置からメンテナンス領域へ移動させるための移動機構が設けられる。
　図３において、露光装置２は、マスク照射部４０とワークピース照射部４１とを含む。マスク照射部４０は、ＥＵＶ光生成装置１から入射したＥＵＶ光を、反射光学系を介してマスクテーブルＭＴのマスクパターン上に照明させる。ワークピース照射部４１は、マスクテーブルＭＴから反射されたＥＵＶ光を、反射光学系を介してワークピーステーブルＷＴ上に配置された図示しない半導体ウエハ等のワークピースに結像させる。露光装置２は、マスクテーブルＭＴとワークピーステーブルＷＴとを同時に平行移動させることにより、マスクパターンをワークピースに露光させる。
　チャンバ１０を移動させるための移動機構４２と、チャンバ１０を露光装置２に対して位置決めするための位置決め機構４３とが設けられている。位置決め機構４３は、ＥＵＶ光生成装置１から射出されるＥＵＶ光の光軸がマスク照射部４０の光軸と一致する所定位置にチャンバ１０が位置決めされるように、チャンバ台１０ａを位置決めする。図３には、チャンバ１０が、マスク照射部４０の光軸と一致する所定位置に位置決めされた状態が、実線で示されている。
　移動機構４２は、位置決め機構４３によって位置決めされた位置と、メンテナンス可能なメンテナンス領域との間で、チャンバ１０を移動させる。移動機構４２は、例えば、図示しないレールと、レールに摺動自在に設けられたスライダとにより構成されている。なお、移動機構４２には、スライダに代えて、車輪が設けられていてもよい。図３には、チャンバ１０がメンテナンス領域に移動された状態が、破線で示されている。
　　１．４　ターゲット生成装置の交換方法
　メンテナンス領域で行われるメンテナンスの一つに、ターゲット生成装置１２の交換がある。ターゲット生成装置１２は、タンク３０内に収容されたターゲット物質が全てノズル３１から出力されるか、或いは残量が所定量以下となった場合に、交換する必要がある。
　ターゲット生成装置１２を交換するには、まず、移動機構４２によりチャンバ１０をメンテナンス領域に移動させる。そして、メンテナンス領域において、チャンバ１０の装着部１６に現在装着されているターゲット生成装置１２を取り外す。
　図４は、ターゲット生成装置１２の取り付け方法を説明する図である。ターゲット生成装置１２をチャンバ１０の装着部１６に取り付ける際には、まず、図４Ａに示すように、クレーン４４により、タンク３０内にターゲット物質が充填されたターゲット生成装置１２を吊り下げる。クレーン４４は、メンテナンス領域におけるチャンバ１０の周辺に配置されている。クレーン４４によりターゲット生成装置１２を吊り下げた状態で、作業者は、ターゲット生成装置１２を補助的に保持しながら、図４Ｂに示すように、ターゲット生成装置１２を装着部１６に装着する。そして、作業者は、図示しないＯリング等により、ターゲット生成装置１２と装着部１６との間の気密性を保持しながら、ターゲット生成装置１２を装着部１６に、図示しないボルト等で固定する。
　以上のようにターゲット生成装置１２の交換が行われたチャンバ１０は、移動機構４２により、位置決め機構４３によって位置決めされる位置に移動される。
　　１．５　課題
　ＥＵＶ光生成装置１の稼働時間を可能な限り延長することが望まれている。ＥＵＶ光生成装置１の稼働時間は、ターゲット生成装置１２のタンク３０の容量に依存するので、稼働時間を延長するためには、タンク３０を大容量化する必要がある。例えば現在は、タンク３０の容量は約８００ｃｃであるが、稼働時間を延長するために、タンク３０の容量を約３２００ｃｃとすることが考えられている。
　また、ＥＵＶ光生成装置１からのＥＵＶ光の高出力化が望まれている。ＥＵＶ光を高出力化するためには、ドライバレーザ１１からのパルスレーザ光１１ａを高出力化する必要がある。パルスレーザ光１１ａが高出力化されると、プラズマ生成領域２１において液滴ＤＬにパルスレーザ光１１ａが照射されることにより生じたプラズマからの飛散物の影響範囲が大きくなる。この飛散物の影響範囲が大きくなると、次にプラズマ生成領域２１に飛来する液滴ＤＬの軌道を乱し、プラズマ生成領域２１においてパルスレーザ光１１ａにより当該液滴ＤＬが適正に照射されない恐れがある。この結果、ＥＵＶ光の出力が不安定化する。これを抑制するためには、液滴ＤＬの間隔を広げることが考えられる。単純に液滴ＤＬの間隔を広げると、ＥＵＶ光の発光時間間隔が長くなるため、これを抑制するために、不活性ガスによるタンク３０内の圧力を高め、液滴ＤＬを高速化する必要がある。タンク３０内を高圧化するには、タンク３０の耐圧性能を向上させるために、タンク３０の壁の厚みを増加させる必要がある。この結果、タンク３０の重量が増加する。
　例えば現在のタンク３０の容量は約８００ｃｃであり、重量は９５ｋｇであるが、上記事情によってタンク３０の容量を約３２００ｃｃとした場合には、重量は約３００ｋｇとなる。このようにタンク３０が大容量化して重量が増加した場合には、クレーン４４により吊り下げたターゲット生成装置１２を作業者が補助的に保持しながら行うターゲット生成装置１２の交換方法には限界があり、困難となるといった課題が生じる。
　２．第１の実施形態
　次に、本開示の第１の実施形態に係るターゲット生成装置交換システムについて説明する。第１の実施形態では、比較例において説明したクレーン４４に代えて、ターゲット生成装置交換システムを用いてターゲット生成装置が交換される。ＥＵＶ光生成装置の構成は、比較例に係るＥＵＶ光生成装置１の構成とほぼ同一である。以下では、比較例の構成要素と同じ部分については、同一の符号を付し、適宜説明を省略する。
　　２．１　構成
　　　２．１．１　ターゲット生成装置交換システム
　図５は、第１の実施形態に係るターゲット生成装置交換システム１００の構成を概略的に示す。図５において、ターゲット生成装置交換システム１００は、ターゲット生成装置交換用台車１１０と、チャンバ側インターフェイス１２０と、を含む。以下、ターゲット生成装置交換システム１００を単に交換システム１００と称し、ターゲット生成装置交換用台車１１０を単に台車１１０と称する。
　チャンバ１０に磁場を利用したミティゲーション機構が組み合わされる場合、台車１１０及びチャンバ側インターフェイス１２０の各部は、非磁性材料で形成されていることが好ましい。この非磁性材料としては、ステンレス、例えばＳＵＳ３１６が挙げられる。
　台車１１０は、架台１３０と、直線移動機構１４０と、を含む。図５では、直線移動機構１４０、チャンバ側インターフェイス１２０、及び前述の装着部１６を、前述のＹ方向及びＺ方向に平行なＹＺ平面で切断した断面図で示している。
　架台１３０は、平板状のテーブル１３１と、複数のフレーム１３２と、ベース１３３と、を含む。平板状のテーブル１３１は、複数のフレーム１３２により支持されている。複数のフレーム１３２は、ベース１３３により支持されている。テーブル１３１は、上面が前述のＹ方向及びＸ方向とほぼ平行となるように、複数のフレーム１３２により支持されている。ベース１３３には、複数のスライダ１３４が設けられている。
　前述のチャンバ１０を移動させるための移動機構４２は、床上に設置されたベース４２ａと、このベース４２ａ上に設置された１つ又は複数のリニアレール４２ｂと、を含む。リニアレール４２ｂは、重力方向に直交する水平平面内で、かつＸ方向に直交する方向に延在している。リニアレール４２ｂには、前述のチャンバ台１０ａが移動自在に設けられており、チャンバ１０を、位置決め機構４３によって位置決めされた位置と、メンテナンス領域との間で移動させることを可能とする。
　台車１１０に設けられたスライダ１３４は、リニアレール４２ｂに摺動自在に係合している。移動機構４２により、台車１１０は、重力方向に直交する水平面内で、かつＸ方向に直交する方向に移動可能となっている。なお、台車１１０には、スライダ１３４に代えて、リニアレール４２ｂと係合する車輪が設けられていてもよい。
　また、台車１１０には、台車１１０をチャンバ１０に対して位置決めするための位置決め部１３７が設けられている。位置決め部１３７は、例えば、フレーム１３２に取り付けられている。位置決め部１３７は、チャンバ台１０ａに当接することで、台車１１０がチャンバ１０に対して位置決めされる。図５は、メンテナンス領域に配置されたチャンバ１０に対して、台車１１０が位置決め部１３７によって位置決めされた状態を示している。このように、移動機構４２は、台車１１０を移動させる台車移動機構として機能する。
　テーブル１３１の上面には、１つ又は複数のリニアレール１３５が設けられている。リニアレール１３５は、Ｙ方向とほぼ平行である。テーブル１３１とリニアレール１３５との間には隙間が形成されている。この隙間には、リニアレール１３５の角度を調整するためのレール調整部材であるシム１３６が挿脱可能となっている。隙間に挿入するシム１３６の厚みや枚数、挿入位置等を変更することにより、リニアレール１３５の角度や高さを微調整することができる。
　リニアレール１３５には、直線移動機構１４０がＹ方向に沿って直線的に移動自在に接続されている。すなわち、架台１３０は、リニアレール１３５によって直線移動機構１４０を移動自在に保持する。直線移動機構１４０は、台車側インターフェイス１４１と、ハウジング１４２と、移動支持部１４３と、を含む。詳しくは後述するが、台車側インターフェイス１４１には、比較例において説明したターゲット生成装置１２が着脱自在に固定される。台車側インターフェイス１４１は、ハウジング１４２により保持されている。ハウジング１４２は、移動支持部１４３に接続されている。
　移動支持部１４３には、複数のスライダ１４４が設けられている。スライダ１４４は、リニアレール１３５に摺動自在に係合している。移動支持部１４３は、Ｙ方向に移動可能である。移動支持部１４３の端部には、チェーンやワイヤ等の線状部材１４５の一端が接続されている。線状部材１４５の他端は、台車１１０のテーブル１３１の上端部に設けられたプーリ１４６を介してウィンチ１４７に接続されている。線状部材１４５、プーリ１４６、及びウィンチ１４７は、直線移動機構１４０の駆動部を構成している。
　ウィンチ１４７は、例えば、架台１３０のフレーム１３２に取り付けられている。ウィンチ１４７には、線状部材１４５を巻き取るためのハンドル１４８が設けられている。ハンドル１４８を回転させることにより、直線移動機構１４０をリニアレール１３５に沿って上昇または下降させることができる。なお、手巻き式のウィンチ１４７に代えて、電動式のウィンチを用いてもよい。
　チャンバ側インターフェイス１２０は、チャンバ１０の装着部１６の開口端部に設けられた環状の部材であり、ターゲット生成装置１２が着脱自在に固定される。チャンバ側インターフェイス１２０には、ターゲット生成装置１２に設けられた環状の嵌合部１４９が嵌合される。
　　　２．１．２　台車側インターフェイス
　図６Ａ及び図６Ｂは、台車側インターフェイス１４１の構成を示す図である。図６Ａは、台車側インターフェイス１４１を、－Ｙ方向から見た平面図である。図６Ｂは、図６Ａ中のＡ－Ａ線に沿った断面図である。
　台車側インターフェイス１４１は、有底の円筒状部１４１ａと、円筒状部１４１ａの開口端部に形成された円環状部１４１ｂと、を含んで構成されている。円筒状部１４１ａ及び円環状部１４１ｂは、Ｙ方向に平行な中心軸Ｌに関してほぼ回転対称である。円筒状部１４１ａには、２つのピン穴１４１ｃと、４つの貫通孔１４１ｄとが形成されている。なお、ピン穴１４１ｃは、円環状部１４１ｂを貫通していなくてもよい。
　ピン穴１４１ｃは、中心軸Ｌから離れた位置に形成されている。ピン穴１４１ｃには、ターゲット生成装置１２に形成されたガイドピン３９ａが挿通される。ガイドピン３９ａは、ターゲット生成装置１２の接続部３９の上面における各ピン穴１４１ｃに対応する位置に設けられている。ターゲット生成装置１２は、ガイドピン３９ａにより、中心軸Ｌを中心とした回転方向に関する位置が位置決めされる。
　貫通孔１４１ｄには、固定ボルト１５０が挿通される。ターゲット生成装置１２の接続部３９には、貫通孔１４１ｄに対応する位置に、タップ穴３９ｂが形成されている。ボルト１５０を、貫通孔１４１ｄを介してタップ穴３９ｂに螺合させることにより、台車側インターフェイス１４１と接続部３９とが締結される。
　また、円環状部１４１ｂのターゲット生成装置１２側の面には、嵌合部１４１ｅが形成されている。嵌合部１４１ｅは、凹状であって、Ｙ方向に垂直な面を含む。嵌合部１４１ｅには、接続部３９の上端部が嵌合する。ターゲット生成装置１２は、嵌合部１４１ｅにより、直線移動機構１４０の移動方向であるＹ方向に関する位置が位置決めされる。接続部３９の下端部には、前述の環状の嵌合部１４９が形成されている。嵌合部１４９は、接続部３９に一体的に形成されるか、或いは別体として形成されている。嵌合部１４９を別体として形成する場合には、気密性を確保した状態で嵌合部１４９を接続部３９に固定する。
　　　２．１．３　台車側インターフェイスの調整機構
　図７Ａ及び図７Ｂは、ハウジング１４２と、台車側インターフェイス１４１の位置調整機構とを示す。図７Ａは、ハウジング１４２及び位置調整機構を、－Ｙ方向から見た平面図である。図７Ｂは、図７Ａ中のＢ－Ｂ線に沿った断面図である。
　ハウジング１４２は、有底の円筒状部１４２ａと、円筒状部１４２ａの開口端部に形成された外形が矩形状の鍔状部１４２ｂと、を含む。円筒状部１４２ａは、中心軸Ｌに関してほぼ回転対称である。また、ハウジング１４２は、台車側インターフェイス１４１をＹ方向に摺動可能に保持する摺動保持部であるブッシュ１４２ｃを含む。
　前述の移動支持部１４３は、断面がＬ字状であって、台車側インターフェイス１４１が挿入される開口１４３ａが形成されている。鍔状部１４２ｂは、開口１４３ａの周縁部に配置され、４つの固定ボルト１５１によって移動支持部１４３に固定されている。
　台車側インターフェイス１４１の円筒状部１４１ａは、ハウジング１４２の円筒状部１４２ａ内にブッシュ１４２ｃを介して挿入されている。円筒状部１４１ａは、２つの回転固定ボルト１５２によってハウジング１４２に締結されている。具体的には、円筒状部１４２ａの底部には、弧状のスロット１４２ｄが形成されている。円筒状部１４１ａの底部には、タップ穴１４１ｆが形成されている。
　回転固定ボルト１５２は、スロット１４２ｄを介してタップ穴１４１ｆに螺合している。回転固定ボルト１５２を緩めた状態とすると、台車側インターフェイス１４１を、中心軸Ｌの周りに回転させることができる。台車側インターフェイス１４１の回転角度を調整するには、台車側インターフェイス１４１をハウジング１４２に対して所望の回転角度とした状態で、回転固定ボルト１５２を締結すればよい。回転固定ボルト１５２とスロット１４２ｄとが、中心軸Ｌの周りに台車側インターフェイス１４１を回転させる回転調整機構を構成している。
　また、円筒状部１４２ａの底部には、中心軸Ｌに対応する位置に貫通式のタップ穴１４２ｅが形成されている。タップ穴１４２ｅには、押しボルト１５３が、固定ナット１５４を介して螺合されている。押しボルト１５３の先端部は、台車側インターフェイス１４１の円筒状部１４１ａに当接する。押しボルト１５３のねじ込み量を調整することで、台車側インターフェイス１４１のＹ方向への位置調整を行うことができる。なお、Ｙ方向は、直線移動機構１４０の移動方向であるので、この調整は必須ではない。
　また、ハウジング１４２には、台車側インターフェイス１４１をＹ方向に直交するＸ方向及びＺ方向へ並進移動させる並進調整機構が構成されている。図７Ａに示すように、ハウジング１４２には、第１の並進調整機構１６０ａ、第２の並進調整機構１６０ｂ、及び第３の並進調整機構１６０ｃが設けられている。第１～第３の並進調整機構１６０ａ～１６０ｃは、それぞれ支持部材１６１と、押しボルト１６２と、突出部１６３と、を含む。第１の並進調整機構１６０ａと第２の並進調整機構１６０ｂとは、ハウジング１４２を両側から挟み込むように、Ｘ方向に対向配置されている。第３の並進調整機構１６０ｃは、ハウジング１４２のＺ方向の一端に配置されている。
　支持部材１６１は、ハウジング１４２の鍔状部１４２ｂの端部に当接して支持している。突出部１６３は、移動支持部１４３に一体形成されており、タップ穴１６３ａが形成されている。押しボルト１６２は、タップ穴１６３ａに螺合し、先端部が支持部材１６１に当接している。前述の固定ボルト１５１を緩めた状態で、各押しボルト１６２のねじ込み量を調整することにより、移動支持部１４３に対するハウジング１４２及び台車側インターフェイス１４１の位置を、Ｘ方向及びＺ方向に調整することができる。固定ボルト１５１は、ハウジング１４２及び台車側インターフェイス１４１の位置を所望の位置に調整した状態で、再び締結される。
　　　２．１．４　チャンバ側インターフェイス
　図８Ａ、図８Ｂ、及び図８Ｃは、台車側インターフェイス１４１からターゲット生成装置１２を取り外し、チャンバ側インターフェイス１２０に固定した状態を示す。図８Ａは、チャンバ側インターフェイス１２０及びターゲット生成装置１２を、－Ｙ方向から見た平面図である。図８Ｂは、図８Ａ中のＣ－Ｃ線に沿った断面図である。図８Ｃは、図８Ｂにおけるチャンバ側インターフェイス１２０付近の拡大図である。
　チャンバ側インターフェイス１２０は、中空部１２１が形成されたほぼ環状である。中空部１２１には、ターゲット生成装置１２のタンク３０等が挿通される。チャンバ側インターフェイス１２０の上面には、嵌合部１２２が一体形成されている。嵌合部１２２は、ターゲット生成装置１２に形成された嵌合部１４９に嵌合する。嵌合部１２２と嵌合部１４９とは、互いに嵌合するように、一方に凸部が形成され、他方に凹部が形成されている。ターゲット生成装置１２は、嵌合部１４９がチャンバ側インターフェイス１２０の嵌合部１２２に嵌合することにより、Ｙ方向に関する位置が位置決めされる。
　また、嵌合部１４９には、ピン穴１４９ａが形成されている。嵌合部１２２には、嵌合部１４９のピン穴１４９ａに対応する位置に、ピン穴１２２ａが形成されている。ピン穴１４９ａ及びピン穴１２２ａには、位置決めピン１７０が挿入される。これにより、ターゲット生成装置１２の中心軸Ｌを中心とした回転方向に関する位置が位置決めされる。
　ターゲット生成装置１２の接続部３９には、貫通孔３９ｃが形成されている。嵌合部１４９には、貫通孔３９ｃに対応する位置に貫通孔１４９ｂが形成されている。嵌合部１２２には、貫通孔１４９ｂに対応する位置に、タップ穴１２２ｂが形成されている。固定ボルト１７１を、貫通孔３９ｃ及び貫通孔１４９ｂを介してタップ穴１２２ｂに螺合することにより、ターゲット生成装置１２がチャンバ側インターフェイス１２０に固定される。
　また、ターゲット生成装置１２と嵌合部１４９との接合部には、Ｏリング溝１４９ｃが形成されている。このＯリング溝１４９ｃにはＯリング１７２が収容されている。同様に、嵌合部１４９と嵌合部１２２との接合部には、Ｏリング溝１２２ｃが形成されている。このＯリング溝１２２ｃには、Ｏリング１７３が収容されている。Ｏリング１７２及びＯリング１７３によって、ターゲット生成装置１２がチャンバ側インターフェイス１２０に固定された際にチャンバ１０内部の気密性が保たれる。
　　２．２　動作
　次に、以上のように構成されたターゲット生成装置交換システム１００を用いたターゲット生成装置１２の交換方法について説明する。以下、図９に示すフローチャートを参照しながら、ターゲット生成装置１２の交換手順を説明する。
　ターゲット生成装置１２の交換を行う前に、事前に直線移動機構１４０の調整を行う（ステップＳ１）。具体的には、図１０に示すように、まず、メンテナンス領域に配置されたチャンバ１０のチャンバ側インターフェイス１２０に、ターゲット生成装置１２のダミー部材１８０を取り付ける。ダミー部材１８０は、ターゲット生成装置１２の接続部３９と同一形状であり、上面にガイドピン１８１が形成されている。ガイドピン１８１は、接続部３９に形成されたガイドピン３９ａと同一の位置に配置されている。
　次に、台車１１０を移動させ、位置決め部１３７をチャンバ台１０ａに当接させた状態とする。そして、ウィンチ１４７を操作し、直線移動機構１４０を駆動することにより移動支持部１４３をＹ方向に沿って下降させ、台車側インターフェイス１４１をダミー部材１８０に近接させる。この状態で、ガイドピン１８１が台車側インターフェイス１４１のピン穴１４１ｃに入るように、前述の回転調整機構及び並進調整機構により、台車側インターフェイス１４１及びハウジング１４２の位置を調整する。
　さらに、ウィンチ１４７を操作して移動支持部１４３を下降させ、台車側インターフェイス１４１の嵌合部１４１ｅにダミー部材１８０の上端部が嵌合するように、リニアレール１３５の角度や高さの微調整を行う。この微調整は、前述のように、レール調整部材であるシム１３６の挿脱により行う。
　以上により、直線移動機構１４０に含まれる台車側インターフェイス１４１及びリニアレール１３５がチャンバ１０のチャンバ側インターフェイス１２０に対して位置決めされる。なお、直線移動機構１４０の調整は、ダミー部材１８０を用いずに、ターゲット生成装置１２をチャンバ側インターフェイス１２０に取り付けた状態で行ってもよい。
　次に、稼働中のＥＵＶ光生成装置１において、ターゲット生成装置１２の交換が必要であるか否かの判断が適宜行われる（ステップＳ２）。例えば、ターゲット生成装置１２のタンク３０内に収容されたターゲット物質の残量が所定量以下となった場合に、交換が必要であると判断される。ターゲット生成装置１２を交換する場合（ステップＳ２でＹＥＳ）には、移動機構４２によりチャンバ１０をメンテナンス領域に移動させる。そして、使用済みのターゲット生成装置１２をチャンバ１０の装着部１６から取り外す（ステップＳ３）。
　次に、図１１に示すように、新たなターゲット生成装置１２を台車側インターフェイス１４１に固定する（ステップＳ４）。これにより、ターゲット生成装置１２は、チャンバ１０の装着部１６に装着される姿勢で移動機構４２に保持される。ターゲット生成装置１２の台車側インターフェイス１４１への固定は、図６Ａ及び図６Ｂに示すように、ピン穴１４１ｃにガイドピン３９ａを挿入し、固定ボルト１５１を、貫通孔１４１ｄを介してタップ穴３９ｂに螺合させることにより行われる。この作業は、台車１１０が移動機構４２に接続された状態で行われてもよいが、新たなターゲット生成装置１２を取り付けた台車１１０を他の場所から搬送して、移動機構４２に接続してもよい。
　次に、図１２に示すように、移動機構４２によりターゲット生成装置１２が装着された台車１１０を移動させ、位置決め部１３７をチャンバ台１０ａに当接させることにより、チャンバ１０に対して台車１１０を位置決めする（ステップＳ５）。この状態で、ウィンチ１４７を操作し、直線移動機構１４０を駆動することにより、ターゲット生成装置１２をＹ方向に沿って下降させ、すなわちチャンバ１０側へ移動させ、図１３に示すように、チャンバ側インターフェイス１２０に接合する（ステップＳ６）。
　このとき、ターゲット生成装置１２の嵌合部１４９が、チャンバ側インターフェイス１２０の嵌合部１２２に嵌合する。また、嵌合部１２２のピン穴１２２ａには、位置決めピン１７０が予め挿入されており、嵌合部１２２と嵌合部１４９とが嵌合する際に、位置決めピン１７０が嵌合部１４９のピン穴１４９ａに挿入される。ステップＳ１において直線移動機構１４０の位置調整が行われているので、ターゲット生成装置１２を下降させるだけで、ターゲット生成装置１２がチャンバ側インターフェイス１２０に正確に嵌合する。
　次に、ターゲット生成装置１２がチャンバ側インターフェイス１２０に嵌合した状態で、ターゲット生成装置１２から台車側インターフェイス１４１の固定を解除する（ステップＳ７）。具体的には、ステップＳ４においてタップ穴３９ｂに螺合した固定ボルト１５０を取り外す。そして、ウィンチ１４７を操作し、直線移動機構１４０を駆動することにより、図１４に示すように、台車側インターフェイス１４１をチャンバ１０とは反対側へ移動させ、ターゲット生成装置１２から離す（ステップＳ８）。
　次に、図８Ａ及び図８Ｂに示すように、固定ボルト１７１を、タップ穴１２２ｂに螺合することにより、ターゲット生成装置１２をチャンバ側インターフェイス１２０に固定する（ステップＳ９）。これにより、ターゲット生成装置１２は、チャンバ側インターフェイス１２０を介して、チャンバ１０の装着部１６に固定される。この後、図１５に示すように、移動機構４２により台車１１０を移動させ、チャンバ１０から退避させる（ステップＳ１０）。台車１１０は、移動機構４２から接続を解除し、他の場所に移動してもよい。
　そして、ターゲット生成装置１２に、図示しないインターフェイスを接続することにより交換作業が完了する。このインターフェイスには、前述の継ぎ手３８や、ヒータ３５、温度センサ３６、ピエゾ素子３７等への電気配線が含まれる。
　この後、ＥＵＶ光生成装置１は、移動機構４２によって露光装置２に接続される位置に移動されて稼働する。ターゲット生成装置１２の交換が必要となると、上記の手順で、再び交換作業が行われる。
　なお、ステップＳ３における使用済みのターゲット生成装置１２の取り外し作業は、上述のターゲット生成装置１２の取り付け手順を、逆の順序で行えばよい。簡単に説明すると、まず、台車１１０をチャンバ１０に位置決めし、ターゲット生成装置１２のチャンバ側インターフェイス１２０への固定を解除する。そして、直線移動機構１４０を駆動して台車側インターフェイス１４１を下降させることにより、ターゲット生成装置１２に台車側インターフェイス１４１を接合する。この状態で、ターゲット生成装置１２を台車側インターフェイス１４１に固定する。
　次に、直線移動機構１４０を駆動して、台車側インターフェイス１４１とともにターゲット生成装置１２を上昇させ、ターゲット生成装置１２をチャンバ１０から離す。そして、台車１１０を移動させ、チャンバ１０から離した後、台車側インターフェイス１４１からターゲット生成装置１２を取り外す。これにより、ターゲット生成装置１２の取り外し作業が完了する。
　　２．３　効果
　第１の実施形態では、台車１１０の直線移動機構１４０にターゲット生成装置１２を装着し、直線移動機構１４０を駆動することにより、ターゲット生成装置１２をチャンバ１０に接続することを可能とする。これにより、ターゲット生成装置１２のタンク３０が大容量化して重量が増加した場合であっても、作業者は容易にターゲット生成装置１２の交換作業を行うことができる。
　３．第２の実施形態
　次に、本開示の第２の実施形態に係るターゲット生成装置交換システムについて説明する。第２の実施形態では、第２の実施形態のＥＵＶ光生成装置１とは、チャンバ１０の装着部１６の配置が異なるＥＵＶ光生成装置１ａに対してターゲット生成装置１２を交換する。以下では、第１の実施形態の構成要素と同じ部分については、同一の符号を付し、適宜説明を省略する。
　　３．１　構成
　　　３．１．１　ＥＵＶ光生成装置
　図１６は、第２の実施形態に係るＥＵＶ光生成装置１ａの構成を概略的に示す。ＥＵＶ光生成装置１ａは、チャンバ１０に対して設けられる装着部１６の位置が異なること以外は、第１の実施形態に係るＥＵＶ光生成装置１と同様である。図１６において、装着部１６は、第１の実施形態における位置から、ＥＵＶ光の光軸方向であるＺ方向の周りに９０度回転した位置に形成されている。
　したがって、第２の実施形態では、装着部１６は、液滴ＤＬの出力方向が重力方向に直交する水平方向となる姿勢でターゲット生成装置１２を保持するようにチャンバ１０に設けられている。第２の実施形態では、ターゲット生成装置１２から出力される液滴ＤＬの出力方向は、Ｘ方向である。
　　　３．１．２　ターゲット生成装置交換システム
　図１７は、第２の実施形態に係るターゲット生成装置交換システム２００の構成を概略的に示す。図１７は、ＥＵＶ光生成装置１ａを、図１６に示すＥ方向から見た図である。ターゲット生成装置交換システム２００は、ターゲット生成装置交換用台車２１０と、チャンバ側インターフェイス１２０と、を含む。チャンバ側インターフェイス１２０は、第１の実施形態と同様の構成である。
　台車２１０は、架台２３０と、直線移動機構１４０と、を含む。直線移動機構１４０は、第１の実施形態と同様の構成である。図１７では、直線移動機構１４０及び装着部１６を、重力方向及びＸ方向に平行な平面で切断した断面図で示している。
　架台２３０は、平板状のテーブル２３１と、複数のフレーム２３２と、ベース２３３と、を含む。第１の実施形態とは異なり、平板状のテーブル２３１は、上面が重力方向に直交する水平面となるように、複数のフレーム２３２で支持されている。複数のフレーム２３２を支持するベース２３３は、第１の実施形態と同様に、複数のスライダ１３４に保持されている。架台２３０は、リニアレール４２ｂに沿って摺動自在とされている。
　台車２１０には、第１の実施形態と同様の位置決め部２３７が設けられている。位置決め部２３７は、例えば、フレーム２３２に取り付けられている。位置決め部２３７は、チャンバ台１０ａに当接することで、台車２１０がチャンバ１０に対して位置決めされる。
　テーブル２３１の上面には、第１の実施形態と同様に、１つ又は複数のリニアレール１３５が設けられている。本実施形態では、リニアレール１３５は、Ｘ方向とほぼ平行である。リニアレール１３５は、シム１３６によって角度や高さを微調整することができる。
　リニアレール１３５には、直線移動機構１４０がＸ方向に移動自在に接続されている。直線移動機構１４０は、台車側インターフェイス１４１と、ハウジング１４２と、移動支持部１４３と、を含む。直線移動機構１４０は、第１の実施形態と同様の構成であるので、詳細な説明は省略する。
　移動支持部１４３には、複数のスライダ１４４を介して、リニアレール１３５に摺動自在に係合している。移動支持部１４３は、Ｘ方向に移動可能である。移動支持部１４３の端部には、線状部材１４５の一端が接続されている。本実施形態では、線状部材１４５は、例えば、ボールねじである。第１の実施形態で示したプーリ１４６及びウィンチ１４７は設けられておらず、これらに代えて、軸受２４６及びハンドル２４７が設けられている。線状部材１４５の他端は、軸受２４６を介してハンドル２４７に接続されている。本実施形態では、線状部材１４５、軸受２４６、及びハンドル２４７が、直線移動機構１４０の駆動部を構成している。
　ハンドル１４８を回転させることにより、直線移動機構１４０をリニアレール１３５に沿って移動させることができる。なお、軸受２４６及びハンドル２４７に代えて、第１の実施形態と同様のプーリ及びウィンチを設けてもよい。
　　３．２　動作
　ＥＵＶ光生成装置１ａを対象としたターゲット生成装置交換システム２００によるターゲット生成装置１２の交換方法は、直線移動機構１４０によるターゲット生成装置１２の移動方向が異なること以外は第１の実施形態と同様である。ターゲット生成装置１２の交換手順の説明は省略する。
　上記の説明は、制限ではなく単なる例示を意図したものである。従って、添付の特許請求の範囲を逸脱することなく本開示の各実施形態に変更を加えることができることは、当業者には明らかであろう。
　本明細書及び添付の特許請求の範囲全体で使用される用語は、「限定的でない」用語と解釈されるべきである。例えば、「含む」又は「含まれる」という用語は、「含まれるものとして記載されたものに限定されない」と解釈されるべきである。「有する」という用語は、「有するものとして記載されたものに限定されない」と解釈されるべきである。また、本明細書及び添付の特許請求の範囲に記載される修飾句「１つの」は、「少なくとも１つ」又は「１又はそれ以上」を意味すると解釈されるべきである。

Claims (20)

  1. 　ターゲット生成装置交換用台車は、以下を備える：
    　Ａ．ターゲット物質を出力するターゲット生成装置を保持し、前記ターゲット物質の出力方向へ直線的に移動させる直線移動機構；及び
    　Ｂ．前記直線移動機構を、前記ターゲット生成装置が装着されるチャンバの装着部に対して位置決めする位置決め部。
  2. 　請求項１に記載のターゲット生成装置交換用台車であって、さらに以下を備える：
    　Ｃ．前記直線移動機構を駆動する駆動部。
  3. 　請求項２に記載のターゲット生成装置交換用台車であって、さらに以下を備える：
    　Ｄ．前記直線移動機構を保持する架台；
    　ここで、前記位置決め部は、前記架台に設けられている。
  4. 　請求項３に記載のターゲット生成装置交換用台車であって、
    　前記架台は、リニアレールによって前記直線移動機構を移動自在に保持する。
  5. 　請求項１に記載のターゲット生成装置交換用台車であって、
    　前記直線移動機構は、前記ターゲット生成装置が着脱自在に固定される台車側インターフェイスと、前記台車側インターフェイスを保持するハウジングと、を含む。
  6. 　請求項５に記載のターゲット生成装置交換用台車であって、
    　前記ハウジングは、前記直線移動機構の移動方向を中心軸として、前記台車側インターフェイスを回転させる回転調整機構を含む。
  7. 　請求項６に記載のターゲット生成装置交換用台車であって、
    　前記ハウジングは、前記移動方向に直交する方向へ前記台車側インターフェイスを並進移動させる並進調整機構を含む。
  8. 　請求項７に記載のターゲット生成装置交換用台車であって、
    　前記台車側インターフェイスには、前記ターゲット生成装置の一部が嵌合し、前記ターゲット生成装置の前記移動方向に関する位置を位置決めする嵌合部が形成されている。
  9. 　請求項８に記載のターゲット生成装置交換用台車であって、
    　前記台車側インターフェイスには、前記ターゲット生成装置に設けられたガイドピンが挿入され、前記ターゲット生成装置の前記移動方向を中心軸とした回転方向に関する位置を位置決めするピン穴が形成されている。
  10. 　請求項１に記載のターゲット生成装置交換用台車であって、
    　前記直線移動機構の移動方向は、重力方向に非平行でかつ非直交である。
  11. 　請求項１に記載のターゲット生成装置交換用台車であって、
    　前記直線移動機構の移動方向は、重力方向に直交する方向である。
  12. 　ターゲット生成装置交換システムは、以下を備える：
    　Ａ．ターゲット生成装置交換用台車であって、以下のＡ１及びＡ２を含む：
    　　Ａ１．ターゲット物質を出力するターゲット生成装置を保持し、前記ターゲット物質の出力方向へ直線的に移動させる直線移動機構；
    　　Ａ２．前記直線移動機構を、前記ターゲット生成装置が装着されるチャンバの装着部に対して位置決めする位置決め部；
    　Ｂ．前記装着部に設けられ、前記ターゲット生成装置が着脱自在に固定されるチャンバ側インターフェイス。
  13. 　請求項１２に記載のターゲット生成装置交換システムであって、
    　前記直線移動機構は、前記ターゲット生成装置が着脱自在に固定される台車側インターフェイスと、前記台車側インターフェイスを保持するハウジングと、を含む。
  14. 　請求項１３に記載のターゲット生成装置交換システムであって、
    　前記台車側インターフェイスには、前記ターゲット生成装置の一部が嵌合し、前記ターゲット生成装置の前記直線移動機構の移動方向に関する位置を位置決めする嵌合部が形成されている。
  15. 　請求項１４に記載のターゲット生成装置交換システムであって、
    　前記台車側インターフェイスには、前記ターゲット生成装置に設けられたガイドピンが挿入され、前記ターゲット生成装置の前記移動方向を中心軸とした回転方向に関する位置を位置決めするピン穴が形成されている。
  16. 　請求項１３に記載のターゲット生成装置交換システムであって、
    　前記チャンバ側インターフェイスには、前記ターゲット生成装置の一部が嵌合し、前記ターゲット生成装置の前記直線移動機構の移動方向に関する位置を位置決めする嵌合部が形成されている。
  17. 　請求項１６に記載のターゲット生成装置交換システムであって、
    　前記チャンバ側インターフェイスには、位置決めピンが挿入され、前記ターゲット生成装置の前記移動方向を中心軸とした回転方向に関する位置を位置決めするピン穴が形成されている。
  18. 　請求項１２に記載のターゲット生成装置交換システムであって、さらに以下を備える：
    　Ｃ．前記チャンバに対して前記ターゲット生成装置交換用台車を移動させる台車移動機構。
  19. 　ターゲット生成装置交換方法は、以下のステップを含む：
    　Ａ．ターゲット生成装置交換用台車に設けられた直線移動機構に、ターゲット物質を出力するターゲット生成装置を固定するステップ；
    　Ｂ．前記ターゲット生成装置交換用台車を前記ターゲット生成装置が装着されるチャンバに対して位置決めするステップ；
    　Ｃ．前記直線移動機構を駆動して、前記ターゲット生成装置を前記チャンバに接合するステップ；及び
    　Ｄ．前記直線移動機構と前記ターゲット生成装置との固定を解除するステップ。
  20. 　請求項１９に記載のターゲット生成装置交換方法は、さらに以下のステップを含む：
    　Ｅ．前記チャンバと前記ターゲット生成装置との固定を解除するステップ；
    　Ｆ．前記直線移動機構を駆動して、前記ターゲット生成装置を前記直線移動機構に接合するステップ；
    　Ｇ．前記ターゲット生成装置を前記直線移動機構に固定するステップ；及び
    　Ｈ．前記直線移動機構を駆動して、前記ターゲット生成装置を前記チャンバから離すステップ。
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