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WO2018051444A1 - マスクシート、蒸着マスク、表示パネルの製造方法 - Google Patents

マスクシート、蒸着マスク、表示パネルの製造方法 Download PDF

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WO2018051444A1
WO2018051444A1 PCT/JP2016/077185 JP2016077185W WO2018051444A1 WO 2018051444 A1 WO2018051444 A1 WO 2018051444A1 JP 2016077185 W JP2016077185 W JP 2016077185W WO 2018051444 A1 WO2018051444 A1 WO 2018051444A1
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WO
WIPO (PCT)
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width
vapor deposition
mask
intermediate portion
sheet
Prior art date
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Ceased
Application number
PCT/JP2016/077185
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English (en)
French (fr)
Inventor
山渕　浩二
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Sharp Corp
Original Assignee
Sharp Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
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Publication date
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Priority to CN201680089235.XA priority patent/CN109689920A/zh
Priority to US16/062,640 priority patent/US20180366649A1/en
Priority to PCT/JP2016/077185 priority patent/WO2018051444A1/ja
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Ceased legal-status Critical Current

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    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/04—Coating on selected surface areas, e.g. using masks
    • C23C14/042—Coating on selected surface areas, e.g. using masks using masks
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
    • C23C14/24—Vacuum evaporation
    • H—ELECTRICITY
    • H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
    • H10K71/00—Manufacture or treatment specially adapted for the organic devices covered by this subclass
    • H10K71/10—Deposition of organic active material
    • H10K71/16—Deposition of organic active material using physical vapour deposition [PVD], e.g. vacuum deposition or sputtering
    • H10K71/164—Deposition of organic active material using physical vapour deposition [PVD], e.g. vacuum deposition or sputtering using vacuum deposition
    • H—ELECTRICITY
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    • H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
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    • H10K71/166—Deposition of organic active material using physical vapour deposition [PVD], e.g. vacuum deposition or sputtering using selective deposition, e.g. using a mask
    • H—ELECTRICITY
    • H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
    • H10K59/00—Integrated devices, or assemblies of multiple devices, comprising at least one organic light-emitting element covered by group H10K50/00
    • H10K59/10—OLED displays
    • H10K59/12—Active-matrix OLED [AMOLED] displays
    • H—ELECTRICITY
    • H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
    • H10K71/00—Manufacture or treatment specially adapted for the organic devices covered by this subclass

Definitions

  • the present invention relates to a mask sheet for vapor deposition and the like.
  • an organic substance is vapor-deposited on a substrate through a vapor deposition mask having a plurality of through holes, thereby forming an organic pattern corresponding to the plurality of through holes.
  • a plurality of mask sheets are fixed to a frame (frame). Specifically, alignment of the vapor deposition mask with respect to the frame body is performed in a state where tension is applied to the mask sheet, and the mask sheet is welded to the frame body (see Patent Document 1).
  • a mask sheet according to one embodiment of the present invention is a vapor deposition mask sheet having a first direction as a longitudinal direction, and includes a first side end capable of being gripped and an intermediate portion having a plurality of through holes. Between the first side end portion and the intermediate portion, a first narrow width portion whose width in the second direction orthogonal to the first direction is smaller than the intermediate portion, or two facing the second direction It includes two edge patterns whose thickness is made smaller than the maximum thickness of the intermediate portion along the edge.
  • FIG. 1 shows a vapor deposition mask according to Embodiment 1, wherein (a) is a plan view of the vapor deposition mask, (b) is a cc cross-sectional view of the vapor deposition mask, (c) is an ff cross-sectional view of the vapor deposition mask, and (d) ) Is a plan view showing a method of stretching the mask sheet. It is a flowchart which shows the preparation methods of a vapor deposition mask.
  • FIG. 3 shows another vapor deposition mask according to Embodiment 1, wherein (a) is a plan view of the vapor deposition mask, (b) is a cc cross-sectional view of the vapor deposition mask, and (c) is a ff cross-sectional view of the vapor deposition mask. is there.
  • FIG. 5 shows still another vapor deposition mask according to Embodiment 1, wherein (a) is a plan view of the vapor deposition mask, (b) is a cc cross-sectional view of the vapor deposition mask, and (c) is a ff cross-sectional view of the vapor deposition mask. It is.
  • FIG. 1 shows another vapor deposition mask according to Embodiment 1, wherein (a) is a plan view of the vapor deposition mask, (b) is a cc cross-sectional view of the vapor deposition mask, and (c) is a ff cross-sectional view of the vapor deposition mask. It is.
  • FIG. 4 shows a vapor deposition mask according to Embodiment 2, wherein (a) is a plan view of the vapor deposition mask, (b) is a cc cross-sectional view of the vapor deposition mask, (c) is a ff cross-sectional view of the vapor deposition mask, and (d) ) Is a plan view showing a method of stretching the mask sheet.
  • 1A and 1B show a conventional vapor deposition mask, wherein FIG. 1A is a plan view of the vapor deposition mask, FIG. 1B is a cross-sectional view taken along the line cc of the vapor deposition mask, and FIG.
  • FIG. 1A is a flowchart showing an outline of a method for manufacturing an OLED (organic light emitting diode) panel
  • FIG. 1B is a cross-sectional view showing a configuration of an OLED display.
  • a TFT array layer 4 including, for example, a thin film transistor, a signal line, and an anode
  • a vapor deposition mask is prepared (see Sa to Sg in FIG. 4 described later), and an OLED element layer 7 (including an electrical functional layer, a light emitting layer, and a cathode) is formed in step S2.
  • Step S2 includes a vapor deposition process using a vapor deposition mask.
  • a vapor deposition step for example, as shown in FIG. 2, a mask sheet 10 having a plurality of through holes is brought into close contact with a substrate 5 including a TFT array layer, and vaporized particles Z (vaporized or sublimated by a vapor deposition source 70 under vacuum are used.
  • vaporized particles Z vaporized or sublimated by a vapor deposition source 70 under vacuum are used.
  • an organic light emitting material is vapor-deposited on the substrate 5 through the mask sheet 10, thereby forming a vapor deposition pattern corresponding to the through hole of the mask sheet 10.
  • step S3 the OLED sealing layer 8 is formed.
  • step S4 the substrate is divided into a plurality of OLED panels, and in step S5, the OLED panel is provided with a functional layer 9 having a polarization and touch sensor function and a driver circuit to form an OLED display.
  • FIG. 3 shows a vapor deposition mask according to Embodiment 1, showing the vapor deposition mask according to Embodiment 1, wherein (a) is a plan view of the vapor deposition mask, and (b) is a cc cross-sectional view of the vapor deposition mask. (C), ff sectional drawing of a vapor deposition mask, (d) is a top view which shows the stretching method of a mask sheet
  • the vapor deposition mask 20 includes a frame (frame body) 12 and a plurality of cover sheets (crosslinked sheets) 11 a and 11 b that are spanned in the D1 direction (lateral direction) of the frame 12.
  • a plurality of support sheets 13 spanned in the D2 direction (vertical direction) of the frame 12 and a plurality of mask sheets 10 are provided.
  • FIG. 3 only one mask sheet 10 is illustrated for convenience of explanation, but in reality, as many mask sheets 10 are provided as the number of gaps between adjacent cover sheets.
  • FIG.3 (b) the position of the cover sheet
  • the mask sheet 10 is a strip-shaped evaporation mask sheet (divided sheet) divided into strips, and is made of, for example, an invar material, and has a thickness of, for example, 10 ⁇ m to 100 ⁇ m.
  • the mask sheet 10 includes two side end portions G1 and G2 that can be gripped, and an intermediate portion M.
  • a plurality of effective portions Aa in which a plurality of through holes (vapor deposition holes through which particles to be deposited pass) are formed are arranged in the longitudinal direction (D1 direction), and each effective portion Aa is an OLED panel. It corresponds to one sheet.
  • the length in the D2 direction orthogonal to the D1 direction is defined as the width (sheet width) of each part.
  • the mask sheet 10 includes a narrow width portion K1 between the side end portion G1 and the intermediate portion M, and the narrow width portion K2 between the side end portion G2 and the intermediate portion M.
  • the width Wk (length in the D2 direction) of the narrow portions K1 and K2 is smaller than the width Wm of the intermediate portion.
  • the two edges E1 ⁇ e1 facing in the D2 direction in the narrow width portion K1 are located more inside in the D2 direction than the two edges E3 ⁇ e3 facing in the D2 direction in the intermediate portion M.
  • the intermediate portion M includes an effective portion Aa and a non-effective portion surrounding the effective portion Aa.
  • the width Wg of the side end portions G1 and G2 is smaller than the width Wm of the intermediate portion, and is larger than the width Wa of the effective portion. Is also big.
  • the mask sheet 10 and the frame body 12 are welded at the welded portion Y provided in the narrow width portions K1 and K2.
  • the welded portion Y that overlaps with the narrow width portion K1 extends from one edge E1 to the other edge e1 of two edges facing the D2 direction in the narrow width portion K1. That is, the welding length Ly, which is the length of the welded portion Y in the D2 direction, is equal to the width Wk of the narrow width portions K1 and K2, more specifically, the minimum width of the narrow width portions K1 and K2. Further, the welding length Ly is equal to the width Wg of the side end portions G1 and G2. Further, the welding length Ly is equal to or greater than the width Wa of the effective portion Aa.
  • the welding length Ly is determined from the width Wm of the intermediate portion, the overlapping width of one edge E3 of the intermediate portion M and the cover sheet 11a, and the overlapping width of the other edge e3 of these two edges and the cover sheet 11b. And the value obtained by subtracting.
  • each edge part of cover sheet 11a * 11b is engage
  • the support sheet 13, the cover sheets 11a and 11b, and the mask sheet 10 are fixed (welded) to the frame 12 in this order from the vapor deposition source side.
  • each end of the support sheet 13 is fitted into a recess provided in the frame 12 and welded (step Sa), and the cover sheets 11a and 11b are further welded. These end portions are fitted and welded to the recesses H of the frame 12 so as not to be exposed from the openings (step Sb).
  • each of the side end portions G1 and G2 has a shape in which the central portion is cut out, and the portions located on both sides of the cutout of the side end portion G1 are sandwiched between the grippers D1 and D2.
  • the portions located on both sides of the notch of the side end G2 are sandwiched between the grippers D3 and D4.
  • one of the two edges E3 along the longitudinal direction of the intermediate portion M is overlapped with the cover sheet 11a, and the other e3 is overlapped with the cover sheet 11b.
  • step Sd the tension applied to the mask sheet is adjusted by the grippers D1 to D4, and precise alignment is performed (step Sd).
  • the mask sheet is welded to the frame using a laser (step Se).
  • frame 12 is formed in multiple numbers.
  • the outermost two welding spots are formed in the vicinity of the two edges E1 and e1 of the mask sheet, so that the welding length Ly is reduced to the width Wk (specifically, the minimum width) of the narrow width portion K1.
  • the width Wk specifically, the minimum width
  • step Sf When the welding is completed, the grippers D1 to D4 of the side ends G1 and G2 are released (step Sf). By repeating the above, when all the mask sheets have been stretched on the frame 12, unnecessary portions outside the welded portion are cut (step Sg).
  • FIG. 8A and 8B show a conventional vapor deposition mask, in which FIG. 8A is a plan view of the vapor deposition mask, FIG. 8B is a cross-sectional view taken along the line cc of the vapor deposition mask, and FIG. .
  • the width of the mask sheet is a uniform value (WS) in each part, so that the tension T by the gripper is also applied to the four corners located on the end part of the carver sheet. Take it.
  • the four corners are located on the opening of the frame recess (on the end of the carver sheet), so welding is not possible, and the welding length is longer than the sheet width (WS). Get smaller. Therefore, when the gripper is released after welding, the tension state of the mask sheet is changed, and inward stress is applied to the four corners, and the position of the through hole of the effective portion may be shifted or deformed.
  • the welded portion Y is provided in the narrow width portions K1 and K2, and the weld length Ly is set to the width Wk (specifically, the minimum width) of the narrow width portions K1 and K2.
  • the welding length Ly is substantially matched with the sheet width in the welded portion Y). If it carries out like this, the change of the tension state of a mask sheet
  • FIG. 5A and 5B show another vapor deposition mask according to the first embodiment.
  • FIG. 5A is a plan view of the vapor deposition mask
  • FIG. 5B is a cross-sectional view taken along the line cc of the vapor deposition mask
  • FIG. It is f sectional drawing.
  • FIG.5 (b) the position of the cover sheet
  • the mask sheet 10 includes a constricted narrow width portion K1 between the side end portion G1 and the intermediate portion M, and the constricted shape between the side end portion G2 and the intermediate portion M.
  • the narrow portion K2 is provided.
  • the width WK of the narrow portions K1 and K2 is smaller than the width Wm of the intermediate portion.
  • the two edges E1 ⁇ e1 facing in the D2 direction in the narrow width portion K1 are located more inside in the D2 direction than the two edges E3 ⁇ e3 facing in the D2 direction in the intermediate portion M.
  • width Wg of the side end portions G1 and G2 is the same as the width Wm of the intermediate portion and is larger than the width Wa of the effective portion.
  • the mask sheet 10 and the frame body 12 are welded at the welded portion Y provided in the narrow width portions K1 and K2.
  • the welded portion Y overlapping the narrow width portion K1 extends from one edge E1 to the other edge e1 of two edges facing the D2 direction in the narrow width portion K1. That is, the welding length Ly that is the length of the welded portion Y in the D2 direction is substantially equal to the minimum width WK of the narrow width portions K1 and K2. Further, the welding length Ly is smaller than the width Wg of the side end portions G1 and G2. Further, the welding length Ly is equal to or greater than the width Wa of the effective portion Aa.
  • the welding length Ly is determined from the width Wm of the intermediate portion, the overlapping width of one edge E3 of the intermediate portion M and the cover sheet 11a, and the overlapping width of the other edge e3 of these two edges and the cover sheet 11b. Or less than the value obtained by subtracting.
  • the welded portion Y is provided in the narrow-shaped narrow portions K1 and K2, and the weld length Ly is substantially matched with the minimum width WK of the narrow portions K1 and K2 (the weld length Ly is set to the sheet in the welded portion Y).
  • FIG. 6A and 6B show still another vapor deposition mask according to the first embodiment.
  • FIG. 6A is a plan view of the vapor deposition mask
  • FIG. 6B is a cross-sectional view taken along the line cc of the vapor deposition mask
  • FIG. FIG. 6B the position of the cover sheet 11a (not included in the cross section) is indicated by a broken line.
  • the mask sheet 10 includes two narrow-width portions K1 (side end portions side) and a narrow-width portion k1 (intermediate portion) between the side end portion G1 and the intermediate portion M. Part side). Further, between the side end portion G2 and the intermediate portion M, two narrow-width portions K2 (side end portions side) and a narrow width portion k2 (intermediate portion side) having a constricted shape are provided.
  • the width Wk of the narrow portions K1 and K2 and the width Wk ′ of the narrow portions k1 and k2 are smaller than the width Wm of the intermediate portion.
  • the two edges E1 and e1 facing in the D2 direction in the narrow width portion K1 are located on the inner side with respect to the D2 direction than the two edges E3 and e3 facing in the D2 direction in the intermediate portion M, and D2 in the narrow width portion k1.
  • the two edges E1 ′ and e1 ′ facing each other are located on the inner side with respect to the direction D2 than the two edges E3 and e3.
  • width Wg of the side end portions G1 and G2 is the same as the width Wm of the intermediate portion and is larger than the width Wa of the effective portion.
  • the vapor deposition mask 20 is provided between the welded portion Y provided between the two narrow portions K1 and k1 and between the two narrow portions K2 and k2.
  • the mask sheet 10 and the frame body 12 are welded to the welded portion Y.
  • the weld length Ly which is the length of the weld Y in the D2 direction, is equal to the minimum width WK of the narrow portion K1 and the minimum width WK 'of the narrow portion k1. Further, the welding length Ly is smaller than the width Wg of the side end portions G1 and G2. Further, the welding length Ly is equal to or greater than the width Wa of the effective portion Aa.
  • the welding length Ly is determined from the width Wm of the intermediate portion, the overlapping width of one edge E3 of the intermediate portion M and the cover sheet 11a, and the overlapping width of the other edge e3 of these two edges and the cover sheet 11b. Or less than the value obtained by subtracting.
  • two narrow portions (K1 ⁇ k1 or K2 ⁇ k2) are provided on both sides in the D1 direction of the welded portion Y, although the weld length Ly is smaller than the sheet width in the welded portion Y.
  • the tension applied to the portion located outside the welded portion Y as viewed in the direction D2 can be reduced as much as possible, and the change in the tension state of the mask sheet that occurs when the gripper is released after welding can be suppressed.
  • Ly is made larger than WK and WK ′, the external stress of the weld Y can be effectively reduced. If Ly is made smaller than WK and WK ′, the mask sheet 10 is relatively thin. If the outer stress of the welded portion Y can be effectively reduced and Ly is made larger than WK and smaller than WK ′, the outer stress of the welded portion Y can be reduced while maintaining the rigidity of the mask sheet 10.
  • the cover sheets 11a and 11b are located above the support sheet 13 (mask sheet side), but the vertical relationship between the cover sheet and the support sheet can be reversed (the support sheet is the upper side). In this case, the same effect as described above can be obtained.
  • FIG. 7A and 7B show a vapor deposition mask according to the second embodiment, where FIG. 7A is a plan view of the vapor deposition mask, FIG. 7B is a cross-sectional view taken along the line cc of the vapor deposition mask, and FIG. FIG. 4D is a plan view showing a mask sheet stretching method.
  • FIG.7 (b) the position of the cover sheet
  • the thickness is larger than the maximum thickness of the intermediate portion along two sheet edges Ea and Eb facing in the width direction between the side end portion G1 and the intermediate portion M.
  • Two reduced edge patterns Pa ⁇ Pb are formed, and the thickness is smaller than the maximum thickness of the intermediate portion along the two sheet edges Ea ⁇ Eb facing in the width direction between the side end portion G2 and the intermediate portion M.
  • the two edge patterns pa and pb thus formed are formed.
  • the interval Wp between the two edge patterns (Pa ⁇ Pb or pa ⁇ pb) is larger than the effective portion width Wa). Further, the width Wg of the side end portions G1 and G2 is the same as the width Wm of the intermediate portion and is larger than the width Wa of the effective portion.
  • the vapor deposition mask 20 is provided between the welded portion Y provided between the two edge patterns Pa and Pb and between the two edge patterns pa and pb.
  • the mask sheet 10 and the frame body 12 are welded to the welded portion Y.
  • the weld length Ly which is the length in the D2 direction of the weld Y, is equal to the interval Wp between the two edge patterns (Pa ⁇ Pb or pa ⁇ pb), It is smaller than the width Wg of the parts G1 and G2 and the width Wm of the intermediate part.
  • the welding length Ly is determined from the width Wm of the intermediate portion, the overlapping width of one edge Ea of the intermediate portion M and the cover sheet 11a, and the overlapping width of the other edge Eb of these two edges and the cover sheet 11b. Or less than the value obtained by subtracting.
  • the welding length Ly is smaller than the sheet width in the welded portion Y
  • two edge patterns (Pa ⁇ Pb or pa ⁇ pb) are provided on both sides of the welded portion Y in the D2 direction.
  • the tension applied to the portion located outside the weld Y as viewed in the direction D2 can be reduced, and the change in the tension state of the mask sheet that occurs when the grippers D1 to D4 in FIG. Can do.
  • a plurality of line patterns Lp having a thickness smaller than the maximum thickness of the intermediate part M are radially formed between the welded part Y and the intermediate part M toward the intermediate part M. Since it is provided to extend, it is possible to further suppress the change in the tension state of the mask sheet that occurs when the gripper is released after welding.
  • the line pattern Lp only needs to have a thickness smaller than the maximum thickness of the intermediate portion M, and may have a slit shape (a state of being completely penetrated and having no thickness).
  • the mask sheet of aspect 1 is a vapor deposition mask sheet having a first direction (D1) as a longitudinal direction, and a gripable first side end (G1) and an intermediate portion (M) having a plurality of through holes. ), And a width (Wk) that is a length in a second direction (D2) orthogonal to the first direction is smaller than the middle portion between the first side end portion and the middle portion. (K1) or two edge patterns (Pa ⁇ Pb) having a thickness smaller than the maximum thickness of the intermediate portion along the two edges (Ea ⁇ Eb) facing in the second direction.
  • the two edges (E1 ⁇ e1) facing the second direction in the first narrow portion are more inward with respect to the second direction than the two edges (E3 ⁇ e3) facing the second direction in the intermediate portion.
  • the intermediate portion includes an effective portion (Aa) in which a plurality of through holes are formed, and an ineffective portion surrounding the effective portion.
  • the width (Wg) of the first side end portion is smaller than the width (Wm) of the intermediate portion and larger than the width (Wa) of the effective portion.
  • the first narrow portion has a constricted shape
  • the minimum width (WK) of the first narrow portion is larger than the width (Wa) of the effective portion
  • the width (Wg) of the first side end portion Smaller than).
  • a plurality of linear patterns (Lp) having a thickness smaller than the maximum thickness of the intermediate portion are provided between the first side end portion and the intermediate portion so as to extend radially toward the intermediate portion. It has been.
  • the interval (Wp) between the two edge patterns is larger than the width (Wa) of the effective portion.
  • the second narrow width part (K2) having a smaller width than the intermediate part between the grippable second side end part (G2) and the intermediate part, or two edges facing the second direction
  • Two edge patterns (pa ⁇ pb) having a thickness smaller than the maximum thickness of the intermediate portion along (Ea ⁇ Eb) are included.
  • the plurality of through holes are vapor deposition holes through which particles to be vapor deposited pass.
  • the vapor deposition mask of aspect 10 includes the mask sheet (10) and a frame on which the mask sheet is fixed.
  • the mask sheet and the frame are welded at the welded portion (Y) provided in the first narrow width portion or the welded portion (Y) provided between the two edge patterns. .
  • the length (Ly) in the second direction of the welded portion is equal to the width of the first narrow width portion.
  • the length of the welded portion in the second direction is equal to the minimum width of the first narrow width portion.
  • the length in the second direction of the weld is equal to the width of the first side end.
  • the length of the welded portion in the second direction is not less than the width of the effective portion provided in the intermediate portion.
  • the first and second cross-linked sheets (11a and 11b) are provided over the frame, and one of the two edges (E3) facing the second direction in the intermediate portion is overlapped with the first cross-linked sheet.
  • the other (e3) is overlaid on the second cross-linked sheet.
  • the length in the second direction of the welded portion is determined from the width of the intermediate portion, the overlapping width of one of the two edges of the intermediate portion and the first bridging sheet, and the two edges of the intermediate portion. Or less and a value obtained by subtracting the overlapping width of the second cross-linked sheet.
  • each end of the first and second cross-linked sheets is fitted into a recess provided in the frame so as not to be exposed from the opening.
  • the manufacturing method of the display panel of aspect 19 includes the vapor deposition process using the said vapor deposition mask.
  • the present invention is not limited to the above-described embodiments, and embodiments obtained by appropriately combining technical means disclosed in different embodiments are also included in the technical scope of the present invention. Furthermore, a new technical feature can be formed by combining the technical means disclosed in each embodiment.

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Abstract

第１方向（Ｄ１）を長手方向とする蒸着用のマスクシートであって、グリップ可能な第１側端部（Ｇ１）と、複数の貫通孔を有する中間部（Ｍ）とを備え、前記第１側端部および中間部の間に、第１方向と直交する第２方向（Ｄ２）の長さである幅（Ｗｋ）が中間部よりも小さい第１狭幅部（Ｋ１）、あるいは、前記第２方向に向かい合う２つのエッジに沿って厚みが中間部の最大厚みよりも小さくされた２つのエッジパターンを含む。

Description

マスクシート、蒸着マスク、表示パネルの製造方法
　本発明は、蒸着用のマスクシート等に関する。
　例えばＯＬＥＤ（有機発光ダイオード）パネルの製造工程では、有機物を、複数の貫通孔を有する蒸着マスク越しに基板に蒸着させることで、複数の貫通孔に対応する有機物のパターンを形成する。
　蒸着工程では、複数のマスクシートを枠体（フレーム）に固定して使用する。具体的には、マスクシートに張力を与えた状態で蒸着マスクの枠体に対する位置合わせを行い、マスクシートを枠体に溶接する（特許文献１参照）。
日本国公開特許公報「特開２０１５－１２７４４６号（公開日：２０１５年７月９日）」
　発明者は、蒸着マスクの枠体に対する位置合わせのときの蒸着マスクの張力状態と、溶接後の蒸着マスクの張力状態とが異なることで、溶接後に蒸着マスクの貫通孔が枠体に対して位置ずれしたり変形したりするおそれがあることを見出した。
　本発明の一形態にかかるマスクシートは、第１方向を長手方向とする蒸着用のマスクシートであって、グリップ可能な第１側端部と、複数の貫通孔を有する中間部とを備え、前記第１側端部および中間部の間に、第１方向と直交する第２方向の長さである幅が中間部よりも小さい第１狭幅部、あるいは、前記第２方向に向かい合う２つのエッジに沿って厚みが中間部の最大厚みよりも小さくされた２つのエッジパターンを含む。
　マスクシートを枠体に溶接した後にマスクシートの貫通孔が枠体に対して位置ずれしたり変形したりするおそれを低減することができる。
（ａ）はＯＬＥＤパネルの製造方法を示すフローチャートであり、（ｂ）はＯＬＥＤディスプレイの構成を示す断面図である。 ＯＬＥＤパネルの蒸着工程を示す模式図である。 実施形態１に係る蒸着マスクを示すもので、（ａ）は蒸着マスクの平面図、（ｂ）は蒸着マスクのｃ－ｃ断面図、（ｃ）は蒸着マスクのｆ－ｆ断面図、（ｄ）はマスクシートの架張手法を示す平面図である。 蒸着マスクの作製方法を示すフローチャートである。 実施形態１に係る別の蒸着マスクを示すもので、（ａ）は蒸着マスクの平面図、（ｂ）は蒸着マスクのｃ－ｃ断面図、（ｃ）は蒸着マスクのｆ－ｆ断面図である。 実施形態１に係るさらに別の蒸着マスクを示すもので、（ａ）は蒸着マスクの平面図、（ｂ）は蒸着マスクのｃ－ｃ断面図、（ｃ）は蒸着マスクのｆ－ｆ断面図である。 実施形態２に係る蒸着マスクを示すもので、（ａ）は蒸着マスクの平面図、（ｂ）は蒸着マスクのｃ－ｃ断面図、（ｃ）は蒸着マスクのｆ－ｆ断面図、（ｄ）はマスクシートの架張手法を示す平面図である。 従来の蒸着マスクを示すもので、（ａ）は蒸着マスクの平面図、（ｂ）は蒸着マスクのｃ－ｃ断面図、（ｃ）は蒸着マスクのｆ－ｆ断面図である。
　以下に、図１～図８に基づき、本発明の実施形態を説明する。以下において、「等しい」と記載した場合には、完全に等しくなくとも技術常識や効果等に鑑みて略等しいあるいは実質的に等しいといえる場合を含むものとする。同様に、「一致する」と記載した場合には、完全に一致していなくとも技術常識や効果等に鑑みて、略一致するあるいは実質的に一致するといえる場合を含むものとする。
　図１（ａ）は、ＯＬＥＤ（有機発光ダイオード）パネルの製造方法の概略を示すフローチャートであり、（ｂ）はＯＬＥＤディスプレイの構成を示す断面図である。図１（ａ）（ｂ）に示すように、ステップＳ１で基板２にＴＦＴアレイ層４（例えば、薄膜トランジスタ、信号線、陽極を含む）を形成する。また、別途、蒸着マスクを作製しておき（後述、図４のＳa～Ｓｇ参照）、ステップＳ２でＯＬＥＤ素子層７（例えば、電気的機能層、発光層、陰極を含む）を形成する。
　ステップＳ２には、蒸着マスクを用いた蒸着工程が含まれる。この蒸着工程では、例えば図２のように、ＴＦＴアレイ層を含む基板５に複数の貫通孔を有するマスクシート１０を密着させ、真空下において、蒸着源７０で気化あるいは昇華させた蒸着粒子Ｚ（例えば、有機発光材）をマスクシート１０越しに基板５に蒸着させることで、マスクシート１０の貫通孔に対応する蒸着パターンを形成する。
　ステップＳ３ではＯＬＥＤ封止層８を形成する。ステップＳ４では基板の分断化を行って複数のＯＬＥＤパネルとし、ステップＳ５で、ＯＬＥＤパネルに偏光およびタッチセンサ機能を有する機能層９やドライバ回路を設け、ＯＬＥＤディスプレイとする。
　〔実施形態１〕
　図３は、実施形態１に係る蒸着マスクを示すもので、実施形態１に係る蒸着マスクを示すもので、（ａ）は蒸着マスクの平面図、（ｂ）は蒸着マスクのｃ－ｃ断面図、（ｃ）は蒸着マスクのｆ－ｆ断面図、（ｄ）はマスクシートの架張手法を示す平面図である。
　図３に示すように、実施形態１に係る蒸着マスク２０は、フレーム（枠体）１２と、フレーム１２のＤ１方向（横方向）に架けられる複数のカバーシート（架橋シート）１１ａ・１１ｂと、フレーム１２のＤ２方向（縦方向）に架けられる複数のサポートシート１３と、複数のマスクシート１０とを備える。図３では、説明の便宜上、マスクシート１０を１枚だけ記載しているが、実際は、隣り合うカバーシートの間隙の数だけマスクシート１０が設けられる。図３（ｂ）では、（断面に含まれない）カバーシート１１ａの位置を破線で示している。
　マスクシート１０は、短冊状に分割された短冊状の蒸着用マスクシート（ディバイデッドシート）であって、例えば、インバー材等により構成され、その厚さは、例えば、１０μｍ～１００μｍである。マスクシート１０は、グリップ可能な２つの側端部Ｇ１・Ｇ２と、中間部Ｍとを備える。中間部Ｍには、複数の貫通孔（蒸着対象となる粒子を通過させる蒸着孔）が形成された有効部Ａａが長手方向（Ｄ１方向）に複数並べられており、各有効部ＡａがＯＬＥＤパネル１枚分に相当する。マスクシート１０では、Ｄ１方向に直交するＤ２方向の長さを各部の幅（シート幅）とする。
　図３（ａ）に示されるように、マスクシート１０は、側端部Ｇ１および中間部Ｍの間に狭幅部Ｋ１を備え、側端部Ｇ２および中間部Ｍの間に狭幅部Ｋ２を備える。狭幅部Ｋ１・Ｋ２の幅Ｗｋ（Ｄ２方向の長さ）は中間部の幅Ｗｍよりも小さい。例えば、狭幅部Ｋ１においてＤ２方向に向かい合う２つのエッジＥ１・ｅ１は、中間部ＭにおいてＤ２方向に向かい合う２つのエッジＥ３・ｅ３よりも、Ｄ２方向に関して内側に位置している。
　また、中間部Ｍは、有効部Ａａと、有効部Ａａを取り囲む非有効部とからなり、側端部Ｇ１・Ｇ２の幅Ｗｇは、中間部の幅Ｗｍよりも小さく、有効部の幅Ｗａよりも大きい。
　図３（ａ）～（ｃ）に示されるように、蒸着マスク２０では、狭幅部Ｋ１・Ｋ２に設けられた溶接部Ｙにおいてマスクシート１０と枠体１２とが溶接されている。
　図３（ｃ）に示すように、例えば狭幅部Ｋ１と重畳する溶接部Ｙは、狭幅部Ｋ１においてＤ２方向に向かい合う２つのエッジの一方Ｅ１から他方ｅ１にまで至る。すなわち、溶接部ＹのＤ２方向の長さである溶接長Ｌｙは、狭幅部Ｋ１・Ｋ２の幅Ｗｋ、より具体的には、狭幅部Ｋ１・Ｋ２の最小幅に等しい。また、溶接長Ｌｙは、側端部Ｇ１・Ｇ２の幅Ｗｇに等しい。また、溶接長Ｌｙは有効部Ａａの幅Ｗａ以上である。
　図３（ａ）～（ｃ）に示されるように、蒸着マスク２０のマスクシート１０は、中間部ＭにおいてＤ２方向に向かい合う２つのエッジの一方Ｅ３がカバーシート１１ａに重ねられるとともに、他方ｅ３がカバーシート１１ｂに重ねられた状態で溶接部Ｙがフレーム１２に溶接される。ここでは、溶接長Ｌｙが、中間部の幅Ｗｍから、中間部Ｍの２つのエッジの一方Ｅ３とカバーシート１１ａとの重畳幅と、これら２つのエッジの他方ｅ３とカバーシート１１ｂとの重畳幅とを減じて得られる値以下としている。
　なお、カバーシート１１ａ・１１ｂの各端部は、フレーム１２に設けられた凹部Ｈに、その開口から露出しないように嵌め込まれ、サポートシート１３の端部も、フレーム１２に設けられた、カバーシート１１よりも下の凹部に、その開口から露出しないように嵌め込まれる。これにより、蒸着源側から、サポートシート１３、カバーシート１１ａ・１１ｂ、マスクシート１０の順にフレーム１２に固定（溶接）される。
　蒸着マスクの作製方法は図４のとおりである。図３（ａ）～（ｃ）および図４に示すように、サポートシート１３の各端部をフレーム１２に設けられた凹部に嵌め込んで溶接し（ステップＳａ）、さらに、カバーシート１１ａ・１１ｂの各端部を、フレーム１２の凹部Ｈに、その開口から露出しないように嵌め込んで溶接する（ステップＳｂ）。
　次いで、マスクシートをグリッパＤ１～Ｄ４に装着した上でフレーム１２上に配置する（ステップＳｃ）。図３（ｄ）に示すように、側端部Ｇ１・Ｇ２それぞれは、中央部が切り欠かれた形状であり、側端部Ｇ１の切り欠きの両側に位置する部分をグリッパＤ１・Ｄ２に挟み、側端部Ｇ２の切り欠きの両側に位置する部分をグリッパＤ３・Ｄ４に挟み込む。ここでは、中間部Ｍの長手方向に沿う２つのエッジの一方Ｅ３をカバーシート１１ａに重ね、他方ｅ３をカバーシート１１ｂに重ねる。
　次いで、グリッパＤ１～Ｄ４によりマスクシートにかかる張力を調整し、精密な位置合わせを行う（ステップＳｄ）。位置合わせが完了すれば、レーザを用いて、マスクシートをフレームに溶接する（ステップＳｅ）。これにより、図３（ｃ）に示すように、マスクシート１０およびフレーム１２の融解による溶接スポットが複数形成される。ここでは、最外側の２つの溶接スポットを、マスクシートの２つのエッジＥ１・ｅ１近傍に形成することで、溶接長Ｌｙを、狭幅部Ｋ１の幅Ｗｋ（具体的には最小幅）に略一致させている。
　溶接が完了すれば、両側端部Ｇ１・Ｇ２のグリッパＤ１～Ｄ４を解除する（ステップＳｆ）。以上を繰り返して、マスクシート全枚をフレーム１２に張り終えたら、溶接箇所外側の不要部分をカットする（ステップＳｇ）。
　図８は、従来の蒸着マスクを示すもので、（ａ）は蒸着マスクの平面図、（ｂ）は蒸着マスクのｃ－ｃ断面図、（ｃ）は蒸着マスクのｆ－ｆ断面図である。
　従来の蒸着マスクでは、図８（ａ）に示すように、マスクシートの幅が各部で均一な値（ＷＳ）であるため、カーバーシートの端部上に位置する四隅にもグリッパによる張力Ｔがかかる。しかしながら、図８（ｂ）（ｃ）に示すように、この四隅はフレーム凹部の開口上（カーバーシートの端部上）に位置するため溶接ができず、溶接長がシート幅（ＷＳ）よりも小さくなる。したがって、溶接後にグリッパを解除すると、マスクシートの張力状態が変化して四隅に内向きの応力がかかり、有効部の貫通孔の位置がずれたり、変形したりするおそれがある。
　一方、実施形態１（図３）のマスクシート１０では、狭幅部Ｋ１・Ｋ２に溶接部Ｙを設け、溶接長Ｌｙを、狭幅部Ｋ１・Ｋ２の幅Ｗｋ（具体的には最小幅）に略一致させている（溶接長Ｌｙを溶接部Ｙにおけるシート幅にほぼ一致させている）。こうすれば、溶接後のグリッパ解除時に生じる、マスクシートの張力状態の変化を抑制することができ、有効部Ａａの貫通孔の位置がずれたり、変形したりするおそれを低減することができる。この効果は、溶接長Ｌｙを側端部Ｇ１・Ｇ２の幅Ｗｇに等しくしたり、溶接長Ｌｙを有効部Ａａの幅Ｗａ以上とすることでより高めることができる。
　図５は、実施形態１に係る別の蒸着マスクを示すもので、（ａ）は蒸着マスクの平面図、（ｂ）は蒸着マスクのｃ－ｃ断面図、（ｃ）は蒸着マスクのｆ－ｆ断面図である。図５（ｂ）では、（断面に含まれない）カバーシート１１ａの位置を破線で示している。
　図５（ａ）に示されるように、マスクシート１０は、側端部Ｇ１および中間部Ｍの間に括れ形状の狭幅部Ｋ１を備え、側端部Ｇ２および中間部Ｍの間に括れ形状の狭幅部Ｋ２を備える。狭幅部Ｋ１・Ｋ２の幅ＷＫは中間部の幅Ｗｍよりも小さい。例えば、狭幅部Ｋ１においてＤ２方向に向かい合う２つのエッジＥ１・ｅ１は、中間部ＭにおいてＤ２方向に向かい合う２つのエッジＥ３・ｅ３よりも、Ｄ２方向に関して内側に位置している。
　また、側端部Ｇ１・Ｇ２の幅Ｗｇは、中間部の幅Ｗｍと同一で、有効部の幅Ｗａよりも大きい。
　図５（ａ）～（ｃ）に示されるように、蒸着マスク２０では、狭幅部Ｋ１・Ｋ２に設けられた溶接部Ｙにおいてマスクシート１０と枠体１２とが溶接されている。
　図５（ａ）（ｃ）に示すように、例えば狭幅部Ｋ１と重畳する溶接部Ｙは、狭幅部Ｋ１においてＤ２方向に向かい合う２つのエッジの一方Ｅ１から他方ｅ１にまで至る。すなわち、溶接部ＹのＤ２方向の長さである溶接長Ｌｙは、狭幅部Ｋ１・Ｋ２の最小幅ＷＫに略等しい。また、溶接長Ｌｙは、側端部Ｇ１・Ｇ２の幅Ｗｇよりも小さい。また、溶接長Ｌｙは有効部Ａａの幅Ｗａ以上である。
　図５（ａ）～（ｃ）に示されるように、蒸着マスク２０のマスクシート１０は、中間部ＭにおいてＤ２方向に向かい合う２つのエッジの一方Ｅ３がカバーシート１１ａに重ねられるとともに、他方ｅ３がカバーシート１１ｂに重ねられた状態で溶接部Ｙがフレーム１２に溶接される。ここでは、溶接長Ｌｙが、中間部の幅Ｗｍから、中間部Ｍの２つのエッジの一方Ｅ３とカバーシート１１ａとの重畳幅と、これら２つのエッジの他方ｅ３とカバーシート１１ｂとの重畳幅とを減じて得られる値以下とされている。
　このように、括れ形状の狭幅部Ｋ１・Ｋ２に溶接部Ｙを設け、溶接長Ｌｙを、狭幅部Ｋ１・Ｋ２の最小幅ＷＫに略一致させる（溶接長Ｌｙを、溶接部Ｙにおけるシート幅に可能な限り近づけ、実質的に前記シート幅に一致させる）ことで、溶接後のグリッパ解除時に生じる、マスクシートの張力状態の変化を抑制することができ、有効部Ａａの貫通孔の位置がずれたり、変形したりするおそれを低減することができる。
　図６は、実施形態１に係るさらに別の蒸着マスクを示すもので、（ａ）は蒸着マスクの平面図、（ｂ）は蒸着マスクのｃ－ｃ断面図、（ｃ）は蒸着マスクのｆ－ｆ断面図である。図６（ｂ）では、（断面に含まれない）カバーシート１１ａの位置を破線で示している。
　図６（ａ）に示されるように、マスクシート１０は、側端部Ｇ１および中間部Ｍの間に、括れ形状の２つの狭幅部Ｋ１（側端部側）および狭幅部ｋ１（中間部側）を備える。また、側端部Ｇ２および中間部Ｍの間に、括れ形状の２つの狭幅部Ｋ２（側端部側）および狭幅部ｋ２（中間部側）を備える。
　狭幅部Ｋ１・Ｋ２の幅Ｗｋおよび狭幅部ｋ１・ｋ２の幅Ｗｋ’は中間部の幅Ｗｍよりも小さい。例えば、狭幅部Ｋ１においてＤ２方向に向かい合う２つのエッジＥ１・ｅ１は、中間部ＭにおいてＤ２方向に向かい合う２つのエッジＥ３・ｅ３よりも、Ｄ２方向に関して内側に位置し、狭幅部ｋ１においてＤ２方向に向かい合う２つのエッジＥ１’・ｅ１’は、前記２つのエッジＥ３・ｅ３よりも、Ｄ２方向に関して内側に位置している。
　また、側端部Ｇ１・Ｇ２の幅Ｗｇは、中間部の幅Ｗｍと同一で、有効部の幅Ｗａよりも大きい。
　図６（ａ）～（ｃ）に示されるように、蒸着マスク２０では、２つの狭幅部Ｋ１・ｋ１間に設けられた溶接部Ｙと、２つの狭幅部Ｋ２・ｋ２間に設けられた溶接部Ｙとにおいてマスクシート１０と枠体１２とが溶接されている。
　図６（ａ）（ｃ）に示すように、溶接部ＹのＤ２方向の長さである溶接長Ｌｙは、狭幅部Ｋ１の最小幅ＷＫおよび狭幅部ｋ１の最小幅ＷＫ’に等しい。また、溶接長Ｌｙは、側端部Ｇ１・Ｇ２の幅Ｗｇよりも小さい。また、溶接長Ｌｙは有効部Ａａの幅Ｗａ以上である。
　図６（ａ）～（ｃ）に示されるように、蒸着マスク２０のマスクシート１０は、中間部ＭにおいてＤ２方向に向かい合う２つのエッジの一方Ｅ３がカバーシート１１ａに重ねられるとともに、他方ｅ３がカバーシート１１ｂに重ねられた状態で溶接部Ｙがフレーム１２に溶接される。ここでは、溶接長Ｌｙが、中間部の幅Ｗｍから、中間部Ｍの２つのエッジの一方Ｅ３とカバーシート１１ａとの重畳幅と、これら２つのエッジの他方ｅ３とカバーシート１１ｂとの重畳幅とを減じて得られる値以下とされている。
　図６のマスクシート１０では、溶接長Ｌｙが溶接部Ｙにおけるシート幅よりも小さくなるものの、溶接部ＹのＤ１方向の両側に２つの狭幅部（Ｋ１・ｋ１あるいはＫ２・ｋ２）を設けることで、Ｄ２方向にみて溶接部Ｙよりも外側に位置する部分にかかる張力を極力小さくすることができ、溶接後のグリッパ解除時に生じる、マスクシートの張力状態の変化を抑制することができる。
　なお、Ｌｙを、ＷＫおよびＷＫ’よりも大きくすれば、溶接部Ｙの外側応力を効果的に低減でき、Ｌｙを、ＷＫおよびＷＫ’よりも小さくすれば、マスクシート１０が比較的薄い場合に溶接部Ｙの外側応力を効果的に低減でき、Ｌｙを、ＷＫよりも大きくＷＫ’よりも小さくすれば、マスクシート１０の剛性を保ちつつ、溶接部Ｙの外側応力を低減することができる。
　実施形態１では、カバーシート１１ａ・１１ｂがサポートシート１３よりも上側（マスクシート側）に位置するが、カバーシートとサポートシートの上下関係を逆にする（サポートシートを上側とする）こともでき、この場合も前記と同様の効果が得られる。
　〔実施形態２〕
　図７は、実施形態２に係る蒸着マスクを示すもので、（ａ）は蒸着マスクの平面図、（ｂ）は蒸着マスクのｃ－ｃ断面図、（ｃ）は蒸着マスクのｆ－ｆ断面図、（ｄ）はマスクシートの架張手法を示す平面図である。図７（ｂ）では、（断面に含まれない）カバーシート１１ａの位置を破線で示している。
　実施形態２のマスクシート１０では、図７のように、側端部Ｇ１および中間部Ｍの間に、幅方向に向かい合う２つのシートエッジＥａ・Ｅｂに沿って厚みが中間部の最大厚みよりも小さくされた２つのエッジパターンＰａ・Ｐｂが形成され、側端部Ｇ２および中間部Ｍの間に、幅方向に向かい合う２つのシートエッジＥａ・Ｅｂに沿って厚みが中間部の最大厚みよりも小さくされた２つのエッジパターンｐａ・ｐｂが形成されている。
　２つのエッジパターン（Ｐａ・Ｐｂあるいはｐａ・ｐｂ）の間隔Ｗｐは有効部の幅Ｗａ）よりも大きい。また、側端部Ｇ１・Ｇ２の幅Ｗｇは、中間部の幅Ｗｍと同一で、有効部の幅Ｗａよりも大きい。
　図７（ａ）～（ｃ）に示されるように、蒸着マスク２０では、２つのエッジパターンＰａ・Ｐｂの間に設けられた溶接部Ｙと、２つのエッジパターンｐａ・ｐｂの間に設けられた溶接部Ｙとにおいてマスクシート１０と枠体１２とが溶接されている。
　図７（ａ）（ｃ）に示すように、溶接部ＹのＤ２方向の長さである溶接長Ｌｙは、２つのエッジパターン（Ｐａ・Ｐｂあるいはｐａ・ｐｂ）の間隔Ｗｐに等しく、側端部Ｇ１・Ｇ２の幅Ｗｇおよび中間部の幅Ｗｍよりも小さい。
　図７（ａ）～（ｃ）に示されるように、蒸着マスク２０のマスクシート１０は、中間部ＭにおいてＤ２方向に向かい合う２つのエッジの一方Ｅａがカバーシート１１ａに重ねられるとともに、他方Ｅｂがカバーシート１１ｂに重ねられた状態で溶接部Ｙがフレーム１２に溶接される。ここでは、溶接長Ｌｙが、中間部の幅Ｗｍから、中間部Ｍの２つのエッジの一方Ｅａとカバーシート１１ａとの重畳幅と、これら２つのエッジの他方Ｅｂとカバーシート１１ｂとの重畳幅とを減じて得られる値以下とされている。
　図７のマスクシート１０では、溶接長Ｌｙが溶接部Ｙにおけるシート幅よりも小さくなるものの、溶接部ＹのＤ２方向の両側に２つのエッジパターン（Ｐａ・Ｐｂあるいはｐａ・ｐｂ）を設けることで、Ｄ２方向にみて溶接部Ｙよりも外側に位置する部分にかかる張力を小さくすることができ、図７（ｄ）のグリッパＤ１～Ｄ４解除時に生じる、マスクシートの張力状態の変化を抑制することができる。
　さらに、実施形態２のマスクシート１０では、溶接部Ｙと中間部Ｍとの間に、厚みが中間部Ｍの最大厚みよりも小さい複数の線条パターンＬｐが、中間部Ｍに向けて放射状に伸びるように設けられているため、溶接後のグリッパ解除時に生じる、マスクシートの張力状態の変化をさらに抑制することができる。なお、線条パターンＬｐは、厚みが中間部Ｍの最大厚みよりも小さければよく、スリット形状（完全に貫かれて厚みがない状態）でも構わない。
　〔まとめ〕
　態様１のマスクシートは、第１方向（Ｄ１）を長手方向とする蒸着用のマスクシートであって、グリップ可能な第１側端部（Ｇ１）と、複数の貫通孔を有する中間部（Ｍ）とを備え、前記第１側端部および中間部の間に、第１方向と直交する第２方向（Ｄ２）の長さである幅（Ｗｋ）が中間部よりも小さい第１狭幅部（Ｋ１）、あるいは、前記第２方向に向かい合う２つのエッジ（Ｅａ・Ｅｂ）に沿って厚みが中間部の最大厚みよりも小さくされた２つのエッジパターン（Ｐａ・Ｐｂ）を含む。
　態様２では、第１狭幅部において第２方向に向かい合う２つのエッジ（Ｅ１・ｅ１）は、中間部において第２方向に向かい合う２つのエッジ（Ｅ３・ｅ３）よりも、第２方向に関して内側に位置する。
　態様３では、前記中間部は、複数の貫通孔が形成された有効部（Ａａ）と、有効部を取り囲む非有効部とを含む。
　態様４では、前記第１側端部の幅（Ｗｇ）は、中間部の幅（Ｗｍ）よりも小さく、有効部の幅（Ｗａ）よりも大きい。
　態様５では、前記第１狭幅部は括れ形状であって、第１狭幅部の最小幅（ＷＫ）が、有効部の幅（Ｗａ）よりも大きく、第１側端部の幅（Ｗｇ）よりも小さい。
　態様６では、前記第１側端部と中間部との間に、中間部の最大厚みよりも小さな厚みをもつ複数の線条パターン（Ｌｐ）が、中間部に向けて放射状に伸びるように設けられている。
　態様７では、前記２つのエッジパターンの間隔（Ｗｐ）が有効部の幅（Ｗａ）よりも大きい。
　態様８では、グリップ可能な第２側端部（Ｇ２）および上記中間部の間に、中間部よりも幅が小さい第２狭幅部（Ｋ２）、あるいは、前記第２方向に向かい合う２つのエッジ（Ｅａ・Ｅｂ）に沿って厚みが中間部の最大厚みよりも小さくされた２つのエッジパターン（ｐａ・ｐｂ）を含む。
　態様９では、前記複数の貫通孔は、蒸着対象となる粒子を通過させる蒸着孔である。
　態様１０の蒸着マスクは、前記マスクシート（１０）と、このマスクシートが固定される枠体とを備える。
　態様１１では、前記第１狭幅部に設けられた溶接部（Ｙ）、あるいは、前記２つのエッジパターンの間に設けられた溶接部（Ｙ）においてマスクシートと枠体とが溶接されている。
　態様１２では、前記溶接部の第２方向の長さ（Ｌｙ）が、第１狭幅部の幅に等しい。
　態様１３では、前記溶接部の第２方向の長さが、第１狭幅部の最小幅に等しい。
　態様１４では、前記溶接部の第２方向の長さが、第１側端部の幅に等しい。
　態様１５では、前記溶接部の第２方向の長さが、中間部に設けられる有効部の幅以上である。
　態様１６では、前記枠体に架ける第１および第２架橋シート（１１ａ・１１ｂ）を備え、中間部において第２方向に向かい合う２つのエッジの一方（Ｅ３）が前記第１架橋シートに重ねられるとともに、他方（ｅ３）が前記第２架橋シートに重ねられている。
　態様１７では、前記溶接部の第２方向の長さが、中間部の幅から、前記中間部の２つのエッジの一方と前記第１架橋シートとの重畳幅と、前記中間部の２つのエッジの他方と前記第２架橋シートとの重畳幅とを減じて得られる値以下とされている。
　態様１８では、前記第１および第２架橋シートの各端部は、枠体に設けられた凹部に、その開口から露出しないように嵌め込まれている。
　態様１９の表示パネルの製造方法は、前記蒸着マスクを用いた蒸着工程を含む。
　本発明は上述した実施形態に限定されるものではなく、異なる実施形態にそれぞれ開示された技術的手段を適宜組み合わせて得られる実施形態についても本発明の技術的範囲に含まれる。さらに、各実施形態にそれぞれ開示された技術的手段を組み合わせることにより、新しい技術的特徴を形成することができる。
　１０　マスクシート
　１１ａ・１１ｂ　カバーシート
　１２　フレーム
　２０　蒸着マスク
　Ｍ　中間部
　Ｇ１・Ｇ２　側端部
　Ｄ１～Ｄ４　グリッパ
　Ｈ　（フレームの）凹部
　Ｋ１・Ｋ２・ｋ１・ｋ２　狭幅部
　Ａａ　有効部
　Ｐａ・Ｐｂ・ｐａ・ｐｂ　エッジパターン
　Ｌｐ　線条パターン
　Ｅ１・ｅ１　狭幅部におけるエッジ
　Ｅ３・ｅ３　中間部におけるエッジ
 
 
 
 
 
 
 

Claims (19)

  1. 　第１方向を長手方向とする蒸着用のマスクシートであって、
    　グリップ可能な第１側端部と、複数の貫通孔を有する中間部とを備え、
    　前記第１側端部および中間部の間に、第１方向と直交する第２方向の長さである幅が中間部よりも小さい第１狭幅部、あるいは、前記第２方向に向かい合う２つのエッジに沿って厚みが中間部の最大厚みよりも小さくされた２つのエッジパターンを含むマスクシート。
  2. 　第１狭幅部において第２方向に向かい合う２つのエッジは、中間部において第２方向に向かい合う２つのエッジよりも、第２方向に関して内側に位置する請求項１記載のマスクシート。
  3. 　前記中間部は、複数の貫通孔が形成された有効部と、有効部を取り囲む非有効部とを含む請求項１記載のマスクシート。
  4. 　前記第１側端部の幅は、中間部の幅よりも小さく、有効部の幅よりも大きい請求項３記載のマスクシート。
  5. 　前記第１狭幅部は括れ形状であって、第１狭幅部の最小幅が、有効部の幅よりも大きく、第１側端部の幅よりも小さい請求項３記載のマスクシート。
  6. 　前記第１側端部と中間部との間に、中間部の最大厚みよりも小さな厚みをもつ複数の線条パターンが、中間部に向けて放射状に伸びるように設けられている請求項１記載のマスクシート。
  7. 　前記２つのエッジパターンの間隔が有効部の幅よりも大きい請求項１記載のマスクシート。
  8. 　グリップ可能な第２側端部および上記中間部の間に、中間部よりも幅が小さい第２狭幅部、あるいは、前記第２方向に向かい合う２つのエッジに沿って厚みが中間部の最大厚みよりも小さくされた２つのエッジパターンを含む請求項１に記載のマスクシート。
  9. 　前記複数の貫通孔は、蒸着対象となる粒子を通過させる蒸着孔である請求項１～８のいずれか１項に記載のマスクシート。
  10. 　請求項１に記載のマスクシートと、このマスクシートが固定される枠体とを備える蒸着マスク。
  11. 　前記第１狭幅部に設けられた溶接部、あるいは、前記２つのエッジパターンの間に設けられた溶接部においてマスクシートと枠体とが溶接されている請求項１０に記載の蒸着マスク。
  12. 　前記溶接部の第２方向の長さが、第１狭幅部の幅に等しい請求項１１に記載の蒸着マスク。
  13. 　前記溶接部の第２方向の長さが、第１狭幅部の最小幅に等しい請求項１２に記載の蒸着マスク。
  14. 　前記溶接部の第２方向の長さが、第１側端部の幅に等しい請求項１１に記載の蒸着マスク。
  15. 　前記溶接部の第２方向の長さが、中間部に設けられる有効部の幅以上である請求項１１に記載の蒸着マスク。
  16. 　前記枠体に架ける第１および第２架橋シートを備え、中間部において第２方向に向かい合う２つのエッジの一方が前記第１架橋シートに重ねられるとともに、他方が前記第２架橋シートに重ねられている請求項１１記載の蒸着マスク。
  17. 　前記溶接部の第２方向の長さが、中間部の幅から、前記中間部の２つのエッジの一方と前記第１架橋シートとの重畳幅と、前記中間部の２つのエッジの他方と前記第２架橋シートとの重畳幅とを減じて得られる値以下とされている請求項１６記載の蒸着マスク。
  18. 　前記第１および第２架橋シートの各端部は、枠体に設けられた凹部に、その開口から露出しないように嵌め込まれている請求項１６に記載の蒸着マスク。
  19. 　請求項１０～１８のいずれか１項に記載の蒸着マスクを用いた蒸着工程を含む表示パネルの製造方法。
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