WO2017141643A1 - Heat-shielding glass - Google Patents
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- B32B17/06—Layered products essentially comprising sheet glass, or glass, slag, or like fibres comprising glass as the main or only constituent of a layer, next to another layer of a specific material
Definitions
- the present invention relates to a thermal barrier glass having a coating film.
- Such a heat insulating glass is configured by, for example, installing a coating film having a heat insulating property on one surface of a glass plate.
- Patent Document 1 describes a thermal barrier glass provided with a multilayer coating film composed of two layers of an antimony-containing tin oxide layer and a fluorine-containing tin oxide layer on a base layer.
- the heat shielding property of the heat shielding glass can be improved by forming a multilayer coating film on the glass plate.
- the heat shielding glass may require various properties in addition to the heat shielding properties. For example, depending on the place of application of the heat shield glass, design properties, transparency, and the like may be required for the heat shield glass.
- the present invention has been made in view of such a background, and an object of the present invention is to provide a thermal barrier glass having good thermal barrier properties and having a haze value significantly suppressed.
- a heat-shielding glass having a glass plate having first and second surfaces facing each other, and a coating film provided on the first surface of the glass plate,
- the coating film includes a base layer, and a first layer and a second layer disposed on the base layer, and the first layer includes the base layer and the second layer.
- the total thickness of the first layer and the second layer is 340 nm or more, In the coating layer surface of the thermal barrier glass, measured in the region of 8 [mu] m ⁇ 8 [mu] m, an average power spectral density between the frequency 1 [mu] m -1 ⁇ 2 [mu] m -1 is 6 ⁇ 10 6 nm 4 or less, Thermal barrier glass is provided.
- FIG. 1 It is sectional drawing which showed roughly the example of 1 structure of the thermal insulation glass by one Embodiment of this invention. It is the graph which compared and showed the evaluation result of the frequency dependence of the power spectrum density in the thermal insulation glass 2 and the thermal insulation glass 7.
- FIG. It is the graph which showed collectively the relationship between the average P value and haze value which were obtained in each heat insulation glass.
- FIG. 1 schematically shows a cross section of a heat insulating glass (hereinafter referred to as “first heat insulating glass”) according to an embodiment of the present invention.
- the first thermal barrier glass 100 has a first side 102 and a second side 104.
- the first heat shield glass 100 includes a glass plate 110 and a coating film 120.
- the first side 102 of the first thermal barrier glass 100 corresponds to the glass plate 110 side
- the second side 104 of the first thermal barrier glass 100 corresponds to the coating film 120 side.
- the glass plate 110 has a first surface 112 and a second surface 114.
- the coating film 120 is provided on the first surface 112 side of the glass plate 110.
- the coating film 120 is configured by laminating a base layer 130, a first layer 140, and a second layer 150 in this order.
- the coating film 120 is not limited to such a three-layer structure, and may be composed of four or more layers.
- the underlayer 130 of the coating film 120 has a layer containing, for example, silicon oxide or tin oxide.
- the first layer 140 and the second layer 150 of the coating film 120 are both composed of a layer containing tin oxide.
- One of the first layer 140 and the second layer 150 contains tin oxide containing antimony, and the other of the first layer 140 and the second layer 150 contains tin oxide containing fluorine. Moreover, it is preferable that the 1st layer 140 and the 2nd layer 150 contain 50 mass% or more of tin oxides, for example, 60 mass% or more.
- the first thermal barrier glass 100 is The total thickness of the first layer 140 and the second layer 150 is 340 nm or more;
- the average power spectral density between frequencies 1 ⁇ m ⁇ 1 and 2 ⁇ m ⁇ 1 (hereinafter referred to as “average P value”) measured in the region of 8 ⁇ m ⁇ 8 ⁇ m is 6 ⁇ 10 6 nm 4 or less. It has the characteristic that
- the total thickness of the first layer 140 and the second layer 150 exhibiting heat-shielding properties is sufficiently thick at 340 nm or more. Therefore, the first heat insulating glass 100 can exhibit a sufficient heat insulating property.
- the average P value measured in the region of 8 [mu] m ⁇ 8 [mu] m is 6 ⁇ 10 6 nm 4 below.
- the first heat-shielding glass 100 is significantly suppressed from being clouded or clouded.
- the first heat-insulating glass 100 can provide a heat-insulating glass exhibiting good heat-insulating properties and having a significantly reduced haze value.
- the surface of the coating film in the heat shielding glass has a form in which fine irregularities are distributed on a two-dimensional plane.
- Each form of these irregularities can be represented by a two-dimensional function h (x, y) of coordinates (x, y).
- f x and f y are frequency in the x and y directions, respectively, having the dimensions of reciprocal length.
- ⁇ is a circumference ratio
- i is an imaginary unit (for details, refer to WO2014 / 097807).
- a function H 2 (f x , f y ) obtained by squaring the two-dimensional function H (f x , f y ) represented by the expression (1) is also called a two-dimensional power spectrum. This represents the spatial frequency distribution of the unevenness.
- the unit of the two-dimensional power spectrum is (length) 6 , for example, nm 6 or the like.
- the two-dimensional power spectrum H 2 (f x , f y ) is dependent on only the distance f from the origin (0, 0). It can be represented by (f).
- the two-dimensional power spectrum H 2 (f x , f y ) is displayed in polar coordinates based on the equation (2).
- ⁇ is a declination angle in Fourier space.
- the one-dimensional power spectrum I (f) can be obtained by calculating the rotational average of the two-dimensional power spectrum displayed in polar coordinates based on the equation (3).
- the power spectral density (PSD) in the present application is obtained by dividing the one-dimensional power spectrum I (f) by the area to be evaluated (8 ⁇ m ⁇ 8 ⁇ m), and therefore the unit is (length) 4 , for example, nm 4 .
- the two-dimensional function h (x, y) can be measured using a device that can obtain three-dimensional information of the surface shape, such as a confocal microscope, an interference microscope, and an atomic force microscope. Further, the two-dimensional power spectrum H 2 (f x , f y ) and the one-dimensional power spectrum I (f) are calculated from the measured two-dimensional function h (x, y) using various analysis softwares. Can do. Furthermore, the power spectral density (PSD) can be calculated from the calculated one-dimensional power spectrum I (f).
- PSD power spectral density
- the power spectrum may be calculated.
- image processing software examples include, for example, commercially available SPIP (registered trademark) image analysis software (Image Metrology).
- the power spectral density (PSD) of the thermal barrier glass was evaluated using SPIP (registered trademark) image analysis software (version 6.4.2). The average P value was calculated from the obtained PSD-frequency relationship.
- the g value is a solar heat gain rate, and the heat directly transmitted to the other side (second side) with respect to the total solar heat incident from one side (first side) of the heat shielding glass ( (Transmission heat) and the heat absorbed in the heat insulating glass and then released to the second side.
- SC is a shielding coefficient.
- the g value can be measured according to ISO 9050: 2003.
- the heat shielding property of the heat shielding glass was evaluated using this shielding coefficient SC.
- each member that constitutes thermal barrier glass (Each member that constitutes thermal barrier glass) Next, each member which comprises the 1st thermal insulation glass 100 which has the above characteristics is demonstrated in detail.
- the first layer 140 includes antimony-containing tin oxide
- the second layer 150 includes fluorine-containing tin oxide.
- the glass plate 110 may be made of, for example, soda lime glass, borosilicate glass, non-alkali glass, or aluminosilicate glass.
- the glass plate 110 may be transparent or colored.
- the color of the colored glass plate 110 is not particularly limited, but the color of the glass plate 110 may be, for example, green or blue.
- the thickness of the glass plate 110 is not particularly limited, but the thickness is, for example, in the range of 2 mm to 12 mm.
- the glass plate 110 is preferably a tempered glass, particularly a chemically tempered glass, because the plate thickness can be reduced.
- the underlayer 130 has a role of suppressing diffusion of predetermined elements between the glass plate 110 and the first layer 140 and a role of adjusting the appearance color of the heat shielding glass 100.
- the underlayer 130 may be composed of, for example, a layer mainly composed of silicon oxide or a layer mainly composed of tin oxide.
- the layer mainly composed of the material A means that the material A is contained in an amount of 50% by mass or more in the target layer.
- the underlayer 130 may be silicon oxide (SiO x ) or tin oxide (SnO x ).
- the foundation layer 130 may be made of silicon oxycarbide (SiOC).
- the underlayer 130 does not necessarily need to be composed of a single layer, and the underlayer 130 may be composed of two or more layers.
- the foundation layer 130 may be composed of two layers of tin oxide and silicon oxide.
- the thickness of the underlayer 130 is, for example, in the range of 10 nm to 100 nm.
- the installation method of the foundation layer 130 is not particularly limited.
- the underlayer 130 is formed by, for example, physical vapor deposition (for example, vacuum deposition, ion plating, and sputtering), chemical vapor deposition (for example, thermal CVD, plasma CVD, and photo CVD), and the like. You may comprise by the method selected from the ion beam sputtering method etc.
- the first layer 140 has tin oxide containing antimony.
- the first layer 140 may be made of tin oxide containing antimony.
- the content of antimony with respect to the first layer 140 is, for example, in the range of 1% by mass to 15% by mass, and 6% by mass to 10% by mass. A range is preferable.
- the amount of doping can be measured by, for example, XRF (fluorescence X-ray analysis).
- the thickness of the first layer 140 is, for example, in the range of 50 nm to 500 nm, preferably in the range of 150 nm to 350 nm, and more preferably in the range of 170 nm to 250 nm.
- the installation method of the first layer 140 is not particularly limited.
- the first layer 140 is formed by, for example, physical vapor deposition (for example, vacuum vapor deposition, ion plating, and sputtering), chemical vapor deposition (for example, thermal CVD, plasma CVD, and photo CVD). , And a method selected from ion beam sputtering and the like.
- the second layer 150 includes tin oxide containing fluorine.
- the second layer 150 may be made of tin oxide containing fluorine.
- the thickness of the second layer 150 is, for example, in the range of 50 nm to 500 nm, preferably in the range of 150 nm to 350 nm, and more preferably in the range of 170 to 250 nm.
- the total thickness of the first layer 140 and the second layer 150 is 340 nm or more, and preferably 360 nm to 420 nm.
- the installation method of the second layer 150 is not particularly limited.
- the second layer 150 may be formed by, for example, physical vapor deposition (for example, vacuum vapor deposition, ion plating, and sputtering), chemical vapor deposition (for example, thermal CVD, plasma CVD, and photo CVD). , And a method selected from ion beam sputtering and the like.
- the first heat blocking glass 100 is measured in the region of 8 [mu] m ⁇ 8 [mu] m on the second side 104, the average power spectrum density between the frequency 1 ⁇ m -1 ⁇ 2 ⁇ m -1 (average P values) Is 6 ⁇ 10 6 nm 4 or less.
- the haze value measured in the first thermal barrier glass 100 decreases as the average P value decreases.
- the average P value is preferably 5 ⁇ 10 6 nm 4 or less.
- the thermal insulation glass whose average P value is 6 ⁇ 10 6 nm 4 or less is, for example, (I)
- the film formation temperature is set to 580 ° C. or less, and (ii) the unevenness of the underlayer 130 is suppressed as much as possible (for example, arithmetic average roughness) Ra ⁇ 10 nm), Etc. can be obtained.
- these (i) and (ii) are merely examples, and heat shielding glass having an average P value of 6 ⁇ 10 6 nm 4 or less can be obtained by other methods.
- the haze value is, for example, 0.8% or less.
- the haze value is preferably 0.7% or less.
- the shielding coefficient is preferably SC ⁇ 0.6, and particularly preferably SC ⁇ 0.55.
- the shielding coefficient SC can vary greatly depending on whether the glass plate 110 is colored or not.
- the aforementioned preferred range is a value when the glass plate 110 is uncolored.
- Examples 1 to 4 are Examples, and Examples 5 to 7 are Comparative Examples.
- Example 1 Thermal barrier glass was manufactured by the following method.
- a transparent uncolored glass plate was prepared.
- a coating film was formed on the surface (first surface) of the glass plate.
- the coating film has a three-layer structure as shown in FIG.
- the underlayer was a SiOC layer (target thickness: 58 nm) and formed by a normal pressure CVD method.
- the arithmetic average roughness (Ra) of the underlayer after film formation was about 9.3 nm.
- the first layer was an antimony-doped tin oxide layer.
- the first layer was formed by a normal pressure CVD method.
- a raw material gas a mixture gas obtained by diluting monobutyltin chloride (MBTC), water, and antimony trichloride (SbCl 3 ) with air was used.
- the target thickness of the first layer was 185 nm.
- the second layer was a fluorine-doped tin oxide layer.
- the second layer was formed by a normal pressure CVD method.
- a source gas a gas obtained by diluting a mixed gas obtained by vaporizing monobutyltin chloride (MBTC), water, and hydrogen fluoride with air was used.
- the temperature of the glass plate in forming the second layer was about 550 ° C.
- the target thickness of the second layer was 182 nm. Therefore, the total thickness of the first layer and the second layer is about 367 nm.
- thermal barrier glass 1 a thermal barrier glass (hereinafter referred to as thermal barrier glass 1) was produced.
- Example 2 to Example 7 In the same manner as in Example 1, thermal insulation glass 2 to thermal insulation glass 7 were produced. However, in these examples, the color of the glass plate, the configuration of the coating film, the surface roughness of the underlayer, the film thickness of the first layer and the second layer, and / or the film formation temperature of the second layer The conditions different from those in Example 1 were adopted.
- Table 1 below summarizes the manufacturing conditions for each of the heat shield glasses 1-7.
- this measurement was performed by irradiating light from the glass plate side of each heat shielding glass (that is, the opposite side of the coating film).
- the frequency dependence of the PSD is evaluated by measuring the surface morphology of each thermal barrier glass using an atomic force microscope and then using SPIP (registered trademark) image analysis software (version 6.4.2). The analysis was carried out. The average P value was calculated from the obtained frequency-PSD relationship.
- FIG. 2 shows, as an example, evaluation results of the frequency dependence of PSD in the heat shielding glasses 2 and 6.
- the horizontal axis is frequency
- the vertical axis is PSD.
- the average power spectral density that is, the average P value in the frequency region of 1 ⁇ m ⁇ 1 to 2 ⁇ m ⁇ 1 is calculated.
- FIG. 3 collectively shows the relationship between the average P value and the haze value obtained in each heat shielding glass.
- the numbers in the plots represent the numbers of the heat shielding glass.
- FIG. 3 shows that the average P value has a positive correlation with the haze value. Further, in the heat glass 7 barrier average P value exceeds 6.0 ⁇ 10 6 nm 4, haze value exceeds 0.8%, it is found to have no less good transparency. On the other hand, in the heat shield glasses according to the heat shield glasses 1 to 4, the average P value is suppressed to 6.0 ⁇ 10 6 nm 4 or less, and further to 5.0 ⁇ 10 6 nm 4 or less. As a result, it can be seen that the haze value is suppressed to 0.8% or less, and further 0.7 or less.
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Abstract
Description
本発明は、コーティング膜を有する遮熱ガラスに関する。 The present invention relates to a thermal barrier glass having a coating film.
近年の省エネルギー意識の高まりから、建物の窓ガラスおよび車両のガラス部材等に、遮熱性を有する遮熱ガラスを適用する例が増えている。そのような遮熱ガラスは、例えば、ガラス板の一方の表面に遮熱性を有するコーティング膜を設置することにより構成される。 Due to the recent increase in energy conservation awareness, there are an increasing number of cases in which heat-insulating glass having heat-insulating properties is applied to window glass of buildings and glass members of vehicles. Such a heat insulating glass is configured by, for example, installing a coating film having a heat insulating property on one surface of a glass plate.
さらに最近では、遮熱ガラスによる遮熱効果に対する要求の高まりを受け、さらなる遮熱性を発揮する遮熱ガラスに対する研究、開発が進められている。 More recently, in response to the increasing demand for heat-shielding effects of heat-shielding glass, research and development on heat-shielding glass that exhibits further heat-shielding properties are being promoted.
一般に、遮熱ガラスの遮熱性を高めるためには、コーティング膜を多層構造にすることが効果的である。例えば、特許文献1には、下地層の上に、アンチモン含有酸化スズ層およびフッ素含有酸化スズ層の2層で構成された多層コーティング膜を備える遮熱ガラスが記載されている。
Generally, it is effective to make the coating film a multi-layer structure in order to improve the heat shielding property of the heat shielding glass. For example,
前述のように、ガラス板の上に多層コーティング膜を形成することにより、遮熱ガラスの遮熱性を高めることができるという報告がある。 As described above, it has been reported that the heat shielding property of the heat shielding glass can be improved by forming a multilayer coating film on the glass plate.
しかしながら、遮熱ガラスには、遮熱性の他にも、各種特性が要求される場合がある。例えば、遮熱ガラスの適用場所によっては、遮熱ガラスに対して、意匠性や透明性などが要求される場合がある。 However, the heat shielding glass may require various properties in addition to the heat shielding properties. For example, depending on the place of application of the heat shield glass, design properties, transparency, and the like may be required for the heat shield glass.
しかしながら、特許文献1に記載の遮熱ガラスでは、遮熱性以外の特性について十分に考慮されているとは言い難い。例えば、多層コーティング膜を厚くすればするほど、遮熱性は向上する傾向にあるが、その場合、遮熱ガラスの透明性が低下して、ヘイズ値が上昇してしまう可能性がある。
However, in the heat shielding glass described in
本発明は、このような背景に鑑みなされたものであり、本発明では、良好な遮熱性を有するとともに、ヘイズ値が有意に抑制された遮熱ガラスを提供することを目的とする。 The present invention has been made in view of such a background, and an object of the present invention is to provide a thermal barrier glass having good thermal barrier properties and having a haze value significantly suppressed.
本発明では、
相互に対向する第1および第2の表面を有するガラス板と、前記ガラス板の前記第1の表面に設けられたコーティング膜と、を有する遮熱ガラスであって、
前記コーティング膜は、下地層と、該下地層の上部に配置された第1の層および第2の層とを有し、前記第1の層は、前記下地層と前記第2の層との間に配置され、
前記第1の層および前記第2の層のいずれか一方は、アンチモンを含む酸化スズを含み、前記第1の層および前記第2の層の他方は、フッ素を含む酸化スズを含み、
前記第1の層と前記第2の層の合計厚さは、340nm以上であり、
当該遮熱ガラスの前記コーティング膜側の表面において、8μm×8μmの領域で測定される、周波数1μm-1~2μm-1の間の平均パワースペクトル密度は、6×106nm4以下である、遮熱ガラスが提供される。
In the present invention,
A heat-shielding glass having a glass plate having first and second surfaces facing each other, and a coating film provided on the first surface of the glass plate,
The coating film includes a base layer, and a first layer and a second layer disposed on the base layer, and the first layer includes the base layer and the second layer. Placed between
Either one of the first layer and the second layer contains tin oxide containing antimony, and the other of the first layer and the second layer contains tin oxide containing fluorine,
The total thickness of the first layer and the second layer is 340 nm or more,
In the coating layer surface of the thermal barrier glass, measured in the region of 8 [mu] m × 8 [mu] m, an average power spectral density between the frequency 1 [mu] m -1 ~ 2 [mu] m -1 is 6 × 10 6 nm 4 or less, Thermal barrier glass is provided.
本発明では、良好な遮熱性を有するとともに、ヘイズ値が有意に抑制された遮熱ガラスを提供することができる。 In the present invention, it is possible to provide a heat insulating glass having a good heat insulating property and having a haze value significantly suppressed.
(本発明の一実施形態による遮熱ガラス)
以下、図1を参照して、本発明の一実施形態について説明する。
(Thermal shielding glass according to one embodiment of the present invention)
Hereinafter, an embodiment of the present invention will be described with reference to FIG.
図1には、本発明の一実施形態による遮熱ガラス(以下、「第1の遮熱ガラス」と称する)の断面を模式的に示す。 FIG. 1 schematically shows a cross section of a heat insulating glass (hereinafter referred to as “first heat insulating glass”) according to an embodiment of the present invention.
図1に示すように、第1の遮熱ガラス100は、第1の側102および第2の側104を有する。また、第1の遮熱ガラス100は、ガラス板110と、コーティング膜120とを有する。第1の遮熱ガラス100の第1の側102は、ガラス板110の側に対応し、第1の遮熱ガラス100の第2の側104は、コーティング膜120の側に対応する。
As shown in FIG. 1, the first
ガラス板110は、第1の表面112および第2の表面114を有する。コーティング膜120は、ガラス板110の第1の表面112の側に設けられる。
The
コーティング膜120は、下地層130と、第1の層140と、第2の層150とをこの順番に積層することにより構成される。ただし、後述するように、コーティング膜120は、そのような3層構造には限られず、4層以上で構成されてもよい。
The
コーティング膜120の下地層130は、例えば、酸化ケイ素または酸化スズを含む層を有する。
The
コーティング膜120の第1の層140および第2の層150は、いずれも酸化スズを含む層で構成される。
The
第1の層140および第2の層150のいずれか一方は、アンチモンを含む酸化スズを含み、第1の層140および第2の層150の他方は、フッ素を含む酸化スズを含む。また、第1の層140および第2の層150は、酸化スズを50質量%以上、例えば60質量%以上含むことが好ましい。
One of the
ここで、第1の遮熱ガラス100は、
第1の層140と第2の層150の合計厚さが340nm以上であり、
第2の側104において、8μm×8μmの領域で測定される、周波数1μm-1~2μm-1の間の平均パワースペクトル密度(以下、「平均P値」という)が6×106nm4以下である
という特徴を有する。
Here, the first
The total thickness of the
On the
第1の遮熱ガラス100では、遮熱性を発揮する第1の層140と第2の層150の合計厚さが340nm以上と、十分に厚くなっている。従って、第1の遮熱ガラス100では、十分な遮熱性を発揮することができる。
In the first heat-shielding
また、第1の遮熱ガラス100では、8μm×8μmの領域で測定される平均P値が6×106nm4以下である。この場合、以降に詳しく示すように、第1の遮熱ガラス100に曇りや濁りが生じることが有意に抑制される。
Further, in the first
このような特徴により、第1の遮熱ガラス100では、良好な遮熱性を示すとともに、ヘイズ値が有意に抑制された遮熱ガラスを提供することができる。
Due to such characteristics, the first heat-insulating
(パワースペクトル密度について)
ここで、本願におけるパワースペクトル密度(PSD)の測定方法について説明する。
(About power spectral density)
Here, the measuring method of the power spectral density (PSD) in this application is demonstrated.
一般に、遮熱ガラスにおけるコーティング膜の表面は、二次元の平面上に微細な凹凸が分布された形態を有する。これらの凹凸のそれぞれの形態は、座標(x,y)の二次元関数h(x,y)で表すことができる。 Generally, the surface of the coating film in the heat shielding glass has a form in which fine irregularities are distributed on a two-dimensional plane. Each form of these irregularities can be represented by a two-dimensional function h (x, y) of coordinates (x, y).
この二次元関数h(x,y)をフーリエ変換すると、以下の(1)式で表される二次元関数H(fx,fy)が得られる: When the two-dimensional function h (x, y) is Fourier transformed, a two-dimensional function H (f x , f y ) expressed by the following equation (1) is obtained:
(1)式で表される二次元関数H(fx,fy)を二乗して得られる関数H2(fx,fy)は、二次元パワースペクトルとも呼ばれ、この関数は、前述の凹凸の空間周波数分布を表す。二次元パワースペクトルの単位は、(長さ)6であり、例えばnm6等で表される。 A function H 2 (f x , f y ) obtained by squaring the two-dimensional function H (f x , f y ) represented by the expression (1) is also called a two-dimensional power spectrum. This represents the spatial frequency distribution of the unevenness. The unit of the two-dimensional power spectrum is (length) 6 , for example, nm 6 or the like.
コーティング膜表面の凹凸は等方的であると考えられるため、二次元パワースペクトルH2(fx,fy)は、原点(0,0)からの距離fのみに依存する一次元パワースペクトルI(f)で表すことができる。まず、二次元パワースペクトルH2(fx,fy)を(2)式に基づいて極座標で表示する。 Since the unevenness of the coating film surface is considered to be isotropic, the two-dimensional power spectrum H 2 (f x , f y ) is dependent on only the distance f from the origin (0, 0). It can be represented by (f). First, the two-dimensional power spectrum H 2 (f x , f y ) is displayed in polar coordinates based on the equation (2).
前記二次元関数h(x,y)は、例えば、共焦点顕微鏡、干渉顕微鏡、および原子間力顕微鏡のような、表面形状の三次元情報が得られる装置を用いて測定することができる。また、二次元パワースペクトルH2(fx,fy)および一次元パワースペクトルI(f)は、測定された二次元関数h(x,y)から、各種解析ソフトウェア等を用いて計算することができる。さらに、計算された一次元パワースペクトルI(f)から、パワースペクトル密度(PSD)を算出することができる。 The two-dimensional function h (x, y) can be measured using a device that can obtain three-dimensional information of the surface shape, such as a confocal microscope, an interference microscope, and an atomic force microscope. Further, the two-dimensional power spectrum H 2 (f x , f y ) and the one-dimensional power spectrum I (f) are calculated from the measured two-dimensional function h (x, y) using various analysis softwares. Can do. Furthermore, the power spectral density (PSD) can be calculated from the calculated one-dimensional power spectrum I (f).
あるいは、共焦点顕微鏡、原子間力顕微鏡、干渉顕微鏡、走査型電子顕微鏡、および走査型透過電子顕微鏡など、各種三次元画像解析装置に導入されている三次元画像解析ソフトウェアを使用して、パワースペクトル密度(PSD)を算出してもよい。 Alternatively, using the 3D image analysis software installed in various 3D image analyzers such as confocal microscope, atomic force microscope, interference microscope, scanning electron microscope, and scanning transmission electron microscope, the power spectrum The density (PSD) may be calculated.
そのような画像処理ソフトウェアの一例として、例えば、市販のSPIP(登録商標)イメージ解析ソフトウェア(Image Metrology社)が挙げられる。 Examples of such image processing software include, for example, commercially available SPIP (registered trademark) image analysis software (Image Metrology).
本願では、遮熱ガラスのパワースペクトル密度(PSD)は、SPIP(登録商標)イメージ解析ソフトウェア(バージョン6.4.2)を使用して評価した。また、得られたPSD-周波数関係から、平均P値を算定した。 In this application, the power spectral density (PSD) of the thermal barrier glass was evaluated using SPIP (registered trademark) image analysis software (version 6.4.2). The average P value was calculated from the obtained PSD-frequency relationship.
(遮熱ガラスの遮熱性能について)
次に、遮熱ガラスの遮熱性能について、簡単に説明する。
(About heat insulation performance of heat insulation glass)
Next, the heat insulation performance of the heat insulation glass will be briefly described.
一般に、遮熱ガラスの遮熱性能は、以下の(4)式で表すことができる:
SC=g値/0.88 (4)式
ここで、g値は日射熱取得率であり、遮熱ガラスの一方の側(第1の側)から入射される全太陽熱に対する、他方の側(第2の側)まで直接透過される熱(透過熱)と、遮熱ガラスの内部で吸収され、その後第2の側に放出される熱との総和の割合で表される。また、SCは遮蔽係数である。g値は、ISO9050:2003に準拠して測定することができる。
In general, the heat insulation performance of the heat insulation glass can be expressed by the following equation (4):
SC = g value / 0.88 (4) Formula
Here, the g value is a solar heat gain rate, and the heat directly transmitted to the other side (second side) with respect to the total solar heat incident from one side (first side) of the heat shielding glass ( (Transmission heat) and the heat absorbed in the heat insulating glass and then released to the second side. SC is a shielding coefficient. The g value can be measured according to ISO 9050: 2003.
本願では、この遮蔽係数SCを用いて、遮熱ガラスの遮熱性を評価した。 In the present application, the heat shielding property of the heat shielding glass was evaluated using this shielding coefficient SC.
(遮熱ガラスを構成する各部材)
次に、前述のような特徴を有する第1の遮熱ガラス100を構成する各部材について、より詳しく説明する。
(Each member that constitutes thermal barrier glass)
Next, each member which comprises the 1st
なお、以下の説明では、明確化のため、各部材を表す際に、図1に示した参照符号を使用する。また、説明の簡略化のため、ここでは、一例として、第1の遮熱ガラス100において、第1の層140がアンチモン含有酸化スズを含み、第2の層150がフッ素含有酸化スズを含みものと仮定する。
In the following description, for the sake of clarity, reference numerals shown in FIG. 1 are used to represent each member. For the sake of simplification of description, here, as an example, in the first
(ガラス板110)
ガラス板110は、例えば、ソーダライムガラス、ホウケイ酸ガラス、無アルカリガラス、またはアルミノシリケートガラス等で構成されても良い。
(Glass plate 110)
The
また、ガラス板110は、透明なものであっても、着色されたものであっても良い。着色されたガラス板110の色は、特に限られないが、ガラス板110の色は、例えば、緑色または青色等であっても良い。
Further, the
ガラス板110の厚さは、特に限られないが、厚さは、例えば、2mm~12mmの範囲である。ガラス板110は、強化されたガラス、特に化学強化されたガラスであれば板厚が薄くできるため好ましい。
The thickness of the
(コーティング膜120)
(下地層130)
下地層130は、ガラス板110と第1の層140の間で、所定の元素が相互に拡散することを抑制する役割、および遮熱ガラス100の外観上の色を調整する役割を有する。
(Coating film 120)
(Underlayer 130)
The
下地層130は、例えば、酸化ケイ素を主体とする層、または酸化スズを主体とする層で構成されてもよい。ここで、本願において「材料Aを主体とする(層)」とは、対象とする層内に、材料Aが50質量%以上含まれることを意味する。
The
例えば、下地層130は、酸化ケイ素(SiOx)または酸化スズ(SnOx)であっても良い。あるいは、下地層130は、酸炭化ケイ素(SiOC)で構成されてもよい。
For example, the
なお、下地層130は、必ずしも単一の層で構成される必要はなく、下地層130は、2層以上で構成されてもよい。例えば、下地層130は、酸化スズと酸化ケイ素の2層で構成されてもよい。
The
下地層130の厚さは、例えば、10nm~100nmの範囲である。
The thickness of the
下地層130の設置方法は、特に限られない。下地層130は、例えば、物理的蒸着法(例えば真空蒸着法、イオンプレーティング法、およびスパッタリング法等)、化学的蒸着法(例えば熱CVD法、プラズマCVD法、および光CVD法等)、ならびにイオンビームスパッタリング法等から選定された方法により、構成されてもよい。
The installation method of the
(第1の層140)
第1の層140は、アンチモンを含む酸化スズを有する。例えば、第1の層140は、アンチモンを含む酸化スズで構成されてもよい。
(First layer 140)
The
第1の層140がアンチモン含有酸化スズで構成される場合、第1の層140に対するアンチモンの含有量は、例えば、1質量%~15質量%の範囲であり、6質量%~10質量%の範囲であることが好ましい。ドープ量は、例えばXRF(蛍光X線分析)等により測定することができる。
When the
第1の層140の厚さは、例えば、50nm~500nmの範囲であり、150nm~350nmの範囲が好ましく、170nm~250nmの範囲がより好ましい。
The thickness of the
第1の層140の設置方法は、特に限られない。第1の層140は、例えば、物理的蒸着法(例えば真空蒸着法、イオンプレーティング法、およびスパッタリング法等)、化学的蒸着法(例えば熱CVD法、プラズマCVD法、および光CVD法等)、ならびにイオンビームスパッタリング法等から選定された方法により、構成されてもよい。
The installation method of the
(第2の層150)
第2の層150は、フッ素を含む酸化スズを有する。例えば、第2の層150は、フッ素を含む酸化スズで構成されてもよい。
(Second layer 150)
The
第2の層150の厚さは、例えば、50nm~500nmの範囲であり、150nm~350nmの範囲が好ましく、170~250nmの範囲がより好ましい。
The thickness of the
なお、前述のように、第1の層140と第2の層150の合計厚さは、340nm以上であり、360nm~420nmであることが好ましい。
As described above, the total thickness of the
第2の層150の設置方法は、特に限られない。第2の層150は、例えば、物理的蒸着法(例えば真空蒸着法、イオンプレーティング法、およびスパッタリング法等)、化学的蒸着法(例えば熱CVD法、プラズマCVD法、および光CVD法等)、ならびにイオンビームスパッタリング法等から選定された方法により、構成されてもよい。
The installation method of the
(第1の遮熱ガラス100)
前述のように、第1の遮熱ガラス100は、第2の側104の8μm×8μmの領域で測定される、周波数1μm-1~2μm-1の間の平均パワースペクトル密度(平均P値)が6×106nm4以下であるという特徴を有する。
(First heat shield glass 100)
As described above, the first
この平均P値が小さくなるほど、第1の遮熱ガラス100において測定されるヘイズ値が低下する。平均P値は、5×106nm4以下であることが好ましい。
The haze value measured in the first
なお、平均P値が6×106nm4以下の遮熱ガラスは、例えば、
(i)第2の層150をCVD法で成膜する際に、成膜温度を580℃以下にすること、および
(ii)下地層130の凹凸をできる限り抑制すること(例えば算術平均粗さRa<10nm)、
等により得ることができる。ただし、これら(i)、(ii)は単なる一例であって、その他の方法でも、平均P値が6×106nm4以下の遮熱ガラスを得ることができる。
In addition, the thermal insulation glass whose average P value is 6 × 10 6 nm 4 or less is, for example,
(I) When the
Etc. can be obtained. However, these (i) and (ii) are merely examples, and heat shielding glass having an average P value of 6 × 10 6 nm 4 or less can be obtained by other methods.
第1の遮熱ガラス100において、ヘイズ値は、例えば、0.8%以下である。ヘイズ値は、0.7%以下であることが好ましい。
In the first
また、第1の遮熱ガラス100において、遮蔽係数は、SC<0.6であることが好ましく、特に、SC<0.55であることが好ましい。
Further, in the first heat-shielding
ただし、この遮蔽係数SCは、ガラス板110の着色有無の状態によって大きく変化し得ることに留意する必要がある。前述の好ましい範囲は、ガラス板110が無着色の場合の値である。
However, it should be noted that the shielding coefficient SC can vary greatly depending on whether the
以下、本発明の実施例について説明する。なお、以下の記載において、例1~例4は実施例であり、例5~例7は比較例である。 Hereinafter, examples of the present invention will be described. In the following description, Examples 1 to 4 are Examples, and Examples 5 to 7 are Comparative Examples.
(例1)
以下の方法で、遮熱ガラスを製造した。
(Example 1)
Thermal barrier glass was manufactured by the following method.
まず、透明な無着色ガラス板を準備した。次に、このガラス板の表面(第1の表面)にコーティング膜を形成した。コーティング膜の構成は、前述の図1に示すような3層構造とした。 First, a transparent uncolored glass plate was prepared. Next, a coating film was formed on the surface (first surface) of the glass plate. The coating film has a three-layer structure as shown in FIG.
下地層は、SiOC層(目標厚さ58nm)とし、常圧のCVD法により成膜した。成膜後の下地層の算術平均粗さ(Ra)は、約9.3nmであった。 The underlayer was a SiOC layer (target thickness: 58 nm) and formed by a normal pressure CVD method. The arithmetic average roughness (Ra) of the underlayer after film formation was about 9.3 nm.
次に、下地層の上に、第1の層を成膜した。第1の層は、アンチモンドープされた酸化スズ層とした。第1の層は、常圧のCVD法により成膜した。原料ガスとして、モノブチル塩化スズ(MBTC)、水、および三塩化アンチモン(SbCl3)を気化させた混合ガスを、空気で希釈したものを使用した。第1の層の目標厚さは、185nmとした。 Next, a first layer was formed on the base layer. The first layer was an antimony-doped tin oxide layer. The first layer was formed by a normal pressure CVD method. As a raw material gas, a mixture gas obtained by diluting monobutyltin chloride (MBTC), water, and antimony trichloride (SbCl 3 ) with air was used. The target thickness of the first layer was 185 nm.
次に、第1の層の上に、第2の層を成膜した。第2の層は、フッ素ドープされた酸化スズ層とした。第2の層は、常圧のCVD法により成膜した。原料ガスとして、モノブチル塩化スズ(MBTC)、水、およびフッ化水素を気化させた混合ガスを、空気で希釈したものを使用した。第2の層の成膜の際のガラス板の温度は約550℃とした。 Next, a second layer was formed on the first layer. The second layer was a fluorine-doped tin oxide layer. The second layer was formed by a normal pressure CVD method. As a source gas, a gas obtained by diluting a mixed gas obtained by vaporizing monobutyltin chloride (MBTC), water, and hydrogen fluoride with air was used. The temperature of the glass plate in forming the second layer was about 550 ° C.
第2の層の目標厚さは、182nmとした。従って、第1の層と第2の層の合計厚さは、約367nmである。 The target thickness of the second layer was 182 nm. Therefore, the total thickness of the first layer and the second layer is about 367 nm.
これにより、遮熱ガラス(以下、遮熱ガラス1と称する)が製造された。 Thereby, a thermal barrier glass (hereinafter referred to as thermal barrier glass 1) was produced.
(例2~例7)
例1と同様の方法により、遮熱ガラス2~遮熱ガラス7を製造した。ただし、これらの例では、ガラス板の色味、コーティング膜の構成、下地層の表面粗さ、第1の層および第2の層の膜厚、ならびに/または第2の層の成膜温度として、実施例1の場合とは異なる条件を採用した。
(Example 2 to Example 7)
In the same manner as in Example 1,
以下の表1には、各遮熱ガラス1~7の製造条件をまとめて示した。 Table 1 below summarizes the manufacturing conditions for each of the heat shield glasses 1-7.
前述のように製造された各遮熱ガラスを用いて、以下の評価を行った。
The following evaluation was performed using each heat-shielding glass manufactured as described above.
(遮熱性の評価)
各遮熱ガラスについて、Perkin Elmer製分光光度計Lambda950を用いて分光測定し、ISO9050:2003に準拠した方法で、遮蔽係数SCを算出した。
(Evaluation of thermal insulation)
About each heat insulation glass, it measured spectrophotometrically using the spectrophotometer Lambda950 made from Perkin Elmer, and the shielding coefficient SC was computed by the method based on ISO9050: 2003.
なお、この測定は、各遮熱ガラスのガラス板の側(すなわちコーティング膜の反対側)から光を照射して実施した。 In addition, this measurement was performed by irradiating light from the glass plate side of each heat shielding glass (that is, the opposite side of the coating film).
以下の表2の「SC」の欄には、各遮熱ガラスにおいて得られた遮蔽係数SCをまとめて示す。 In the column of “SC” in Table 2 below, the shielding coefficient SC obtained for each heat shielding glass is shown together.
各遮熱ガラスについて、コーティング膜側の表面の8μm×8μmの領域において、パワースペクトル密度(PSD)の周波数依存性を評価した。また、得られた結果から、周波数1μm-1~2μm-1の間の平均パワースペクトル密度(平均P値)を算定した。
About each thermal insulation glass, the frequency dependence of power spectral density (PSD) was evaluated in the area | region of 8 micrometers x 8 micrometers of the surface by the side of a coating film. Further, from the obtained results, an average power spectral density (average P value) between
PSDの周波数依存性の評価は、原子間力顕微鏡を用いて各遮熱ガラスの表面形態を測定した後、これをSPIP(登録商標)イメージ解析ソフトウェア(バージョン6.4.2)を使用して解析することにより実施した。また、得られた周波数-PSDの関係から、平均P値を算定した。 The frequency dependence of the PSD is evaluated by measuring the surface morphology of each thermal barrier glass using an atomic force microscope and then using SPIP (registered trademark) image analysis software (version 6.4.2). The analysis was carried out. The average P value was calculated from the obtained frequency-PSD relationship.
図2には、一例として、遮熱ガラス2および6におけるPSDの周波数依存性の評価結果を示す。図2において、横軸は周波数であり、縦軸はPSDである。
FIG. 2 shows, as an example, evaluation results of the frequency dependence of PSD in the
このような周波数-PSDの関係から、周波数1μm-1~2μm-1の領域における平均パワースペクトル密度、すなわち平均P値が算定される。 From such a frequency-PSD relationship, the average power spectral density, that is, the average P value in the frequency region of 1 μm −1 to 2 μm −1 is calculated.
前述の表2の「平均P値」の欄には、各遮熱ガラスにおいて得られた平均P値の結果をまとめて示した。 In the column of “average P value” in the above-mentioned Table 2, the results of average P values obtained for each heat shielding glass are shown together.
(ヘイズ値の評価)
各遮熱ガラスについて、ヘイズメータを用いてヘイズ値を測定した。
(Evaluation of haze value)
About each heat insulation glass, the haze value was measured using the haze meter.
前述の表2の「ヘイズ値」の欄には、各遮熱ガラスにおいて得られたヘイズ値をまとめて示した。 In the “Haze value” column in Table 2 above, the haze values obtained for each heat-shielding glass are shown together.
(結果)
表2に示すように、遮熱性の評価の結果、遮熱ガラス5では、遮蔽係数SCが0.64となり、あまり良好な遮熱性が得られないことがわかった。これは、遮熱ガラス5は、他の遮熱ガラスに比べて、第1の層と第2の層の合計厚さが薄いためであると思われる。すなわち、遮熱ガラス5は、第1の層と第2の層の合計厚さが290nmしかなく、その結果、十分な遮熱性を発揮することができなかったものと考えられる。従って、遮蔽係数SCが0.6を下回るような十分な遮熱性を得るには、第1の層と第2の層は、少なくとも合計で340nm以上の厚さが必要であると考えられる。
(result)
As shown in Table 2, as a result of the evaluation of the heat shielding property, it was found that the
図3には、各遮熱ガラスにおいて得られた、平均P値とヘイズ値の関係をまとめて示す。図3において、プロットの数字は、遮熱ガラスの番号を表している。 FIG. 3 collectively shows the relationship between the average P value and the haze value obtained in each heat shielding glass. In FIG. 3, the numbers in the plots represent the numbers of the heat shielding glass.
この図3から、平均P値は、ヘイズ値と正の相関があることがわかる。また、平均P値が6.0×106nm4を超える遮熱ガラス7では、ヘイズ値が0.8%を超え、あまり良好な透明性を有しないことがわかる。これに対して、遮熱ガラス1~遮熱ガラス4に係る遮熱ガラスでは、平均P値が6.0×106nm4以下、さらには5.0×106nm4以下に抑制されており、その結果、ヘイズ値が0.8%以下、さらには0.7以下まで抑制されていることがわかる。
FIG. 3 shows that the average P value has a positive correlation with the haze value. Further, in the
これらの結果から、遮熱ガラス1~遮熱ガラス4では、良好な遮熱性を発揮するとともに、ヘイズ値が有意に抑制されることが確認された。
From these results, it was confirmed that the heat-shielding
本願は、2016年2月17日に出願した日本国特許出願2016-028393号に基づく優先権を主張するものであり、同日本国出願の全内容を本願に参照により援用する。 This application claims priority based on Japanese Patent Application No. 2016-028393 filed on February 17, 2016, the entire contents of which are incorporated herein by reference.
100 第1の遮熱ガラス
102 第1の側
104 第2の側
110 ガラス板
112 第1の表面
114 第2の表面
120 コーティング膜
130 下地層
140 第1の層
150 第2の層
DESCRIPTION OF
Claims (7)
前記コーティング膜は、下地層と、該下地層の上部に配置された第1の層および第2の層とを有し、前記第1の層は、前記下地層と前記第2の層との間に配置され、
前記第1の層および前記第2の層のいずれか一方は、アンチモンを含む酸化スズを含み、前記第1の層および前記第2の層の他方は、フッ素を含む酸化スズを含み、
前記第1の層と前記第2の層の合計厚さは、340nm以上であり、
当該遮熱ガラスの前記コーティング膜側の表面において、8μm×8μmの領域で測定される、周波数1μm-1~2μm-1の間の平均パワースペクトル密度は、6×106nm4以下である、遮熱ガラス。 A heat-shielding glass having a glass plate having first and second surfaces facing each other, and a coating film provided on the first surface of the glass plate,
The coating film includes a base layer, and a first layer and a second layer disposed on the base layer, and the first layer includes the base layer and the second layer. Placed between
Either one of the first layer and the second layer contains tin oxide containing antimony, and the other of the first layer and the second layer contains tin oxide containing fluorine,
The total thickness of the first layer and the second layer is 340 nm or more,
In the coating layer surface of the thermal barrier glass, measured in the region of 8 [mu] m × 8 [mu] m, an average power spectral density between the frequency 1 [mu] m -1 ~ 2 [mu] m -1 is 6 × 10 6 nm 4 or less, Thermal barrier glass.
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Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN117412935A (en) * | 2021-05-31 | 2024-01-16 | Agc株式会社 | Base material with laminated film |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPWO2022114038A1 (en) * | 2020-11-27 | 2022-06-02 | ||
| JP7283530B1 (en) * | 2021-12-28 | 2023-05-30 | Agc株式会社 | Substrate with laminated film |
Citations (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2001002449A (en) * | 1999-04-22 | 2001-01-09 | Nippon Sheet Glass Co Ltd | Low-emissivity glass and glass article using the same |
| JP2001114534A (en) * | 1999-10-20 | 2001-04-24 | Nippon Sheet Glass Co Ltd | Glass plate with metal oxide film, method for producing the glass plate and multi-layer glass using the glass plate |
| JP2001199744A (en) * | 1999-03-19 | 2001-07-24 | Nippon Sheet Glass Co Ltd | Low radiation glass and glass article using the low radiation glass |
| WO2014112415A1 (en) * | 2013-01-16 | 2014-07-24 | 旭硝子株式会社 | Method for manufacturing glass substrate with laminated film |
-
2016
- 2016-02-17 JP JP2016028393A patent/JP2019064837A/en active Pending
-
2017
- 2017-01-24 WO PCT/JP2017/002338 patent/WO2017141643A1/en not_active Ceased
Patent Citations (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2001199744A (en) * | 1999-03-19 | 2001-07-24 | Nippon Sheet Glass Co Ltd | Low radiation glass and glass article using the low radiation glass |
| JP2001002449A (en) * | 1999-04-22 | 2001-01-09 | Nippon Sheet Glass Co Ltd | Low-emissivity glass and glass article using the same |
| JP2001114534A (en) * | 1999-10-20 | 2001-04-24 | Nippon Sheet Glass Co Ltd | Glass plate with metal oxide film, method for producing the glass plate and multi-layer glass using the glass plate |
| WO2014112415A1 (en) * | 2013-01-16 | 2014-07-24 | 旭硝子株式会社 | Method for manufacturing glass substrate with laminated film |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN117412935A (en) * | 2021-05-31 | 2024-01-16 | Agc株式会社 | Base material with laminated film |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2019064837A (en) | 2019-04-25 |
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Legal Events
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| 121 | Ep: the epo has been informed by wipo that ep was designated in this application |
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| NENP | Non-entry into the national phase |
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| 122 | Ep: pct application non-entry in european phase |
Ref document number: 17752907 Country of ref document: EP Kind code of ref document: A1 |
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| NENP | Non-entry into the national phase |
Ref country code: JP |