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WO2017061325A1 - 被覆切削工具 - Google Patents

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WO2017061325A1
WO2017061325A1 PCT/JP2016/078875 JP2016078875W WO2017061325A1 WO 2017061325 A1 WO2017061325 A1 WO 2017061325A1 JP 2016078875 W JP2016078875 W JP 2016078875W WO 2017061325 A1 WO2017061325 A1 WO 2017061325A1
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WO
WIPO (PCT)
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layer
compound
atomic
cutting tool
coated cutting
Prior art date
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Ceased
Application number
PCT/JP2016/078875
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English (en)
French (fr)
Inventor
雄亮 平野
茂揮 田中
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Tungaloy Corp
Original Assignee
Tungaloy Corp
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Publication date
Application filed by Tungaloy Corp filed Critical Tungaloy Corp
Priority to US15/765,955 priority Critical patent/US11084103B2/en
Priority to JP2017544467A priority patent/JP6601694B2/ja
Priority to EP16853479.0A priority patent/EP3360631B1/en
Publication of WO2017061325A1 publication Critical patent/WO2017061325A1/ja
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    • C23C28/40Coatings including alternating layers following a pattern, a periodic or defined repetition
    • C23C28/42Coatings including alternating layers following a pattern, a periodic or defined repetition characterized by the composition of the alternating layers
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    • C23C30/005Coating with metallic material characterised only by the composition of the metallic material, i.e. not characterised by the coating process on hard metal substrates
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
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    • B23BTURNING; BORING
    • B23B2222/00Materials of tools or workpieces composed of metals, alloys or metal matrices
    • B23B2222/28Details of hard metal, i.e. cemented carbide
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B23MACHINE TOOLS; METAL-WORKING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • B23BTURNING; BORING
    • B23B2224/00Materials of tools or workpieces composed of a compound including a metal
    • B23B2224/08Aluminium nitride

Definitions

  • the present invention relates to a coated cutting tool.
  • a coated cutting tool including a base material made of cemented carbide, cermet, cBN, or the like, and a coating layer such as a TiN layer or a TiAlN layer provided on the surface thereof is provided. Widely used.
  • Patent Document 1 proposes a coated cutting tool in which a composite nitride of Ti and Al having a Ti / Al ratio of 20/80 to 60/40 is formed on the surface of a substrate.
  • Patent Document 2 and Patent Document 3 include a layer containing Ti nitride, carbonitride, nitride oxide or carbonitride oxide with an appropriate amount of Si, and a nitride and carbon containing Ti and Al as main components.
  • a coating film in which layers made of nitride, nitride oxide or carbonitride oxide are alternately laminated has been proposed.
  • the single layer film having a large Al content described in Patent Document 1 has a problem that the wear resistance is not sufficient.
  • a single-layer film having a large Ti content is excellent in wear resistance, but has a problem that crater wear resistance is inferior due to insufficient oxidation resistance.
  • the coating film in which TiSi-based layers and the like described in Patent Document 2 and Patent Document 3 are alternately laminated has high residual compressive stress, and therefore peels off after forming the coating film or causes chipping in the cutting process. There is a problem that it is easy.
  • the present invention has been made to solve these problems, and provides a coated cutting tool that is excellent in wear resistance and fracture resistance and can be processed well over a long period of time, particularly in high-speed and high-feed machining. It is.
  • the present inventor conducted research on extending the tool life of the coated cutting tool, and found that the following configuration can improve the wear resistance and fracture resistance. As a result, it has been found that the tool life of the coated cutting tool can be extended, and the present invention has been completed.
  • the gist of the present invention is as follows.
  • a coated cutting tool including a substrate and a coating layer formed on the surface of the substrate, wherein the coating layer includes two or more compound layers having different compositions alternately in two layers.
  • the alternating laminated structure is laminated as described above, and the alternating laminated structure is represented by the following formula (1): (Ti x M y Si z) N (1)
  • M represents at least one element selected from the group consisting of Zr, Hf, V, Nb, Ta, Cr, Mo, W, and Al
  • x represents an element represented by Ti and M, Si
  • y represents the atomic ratio of the element represented by M with respect to the sum of the elements represented by Ti and M and Si
  • z represents the Ti and M.
  • Represents the atomic ratio of Si to the sum of elements and Si, and satisfies 0.20 ⁇ x ⁇ 0.50, 0.20 ⁇ y ⁇ 0.50, 0.03 ⁇ z ⁇ 0.30, and x + y + z 1. .
  • Represents the atomic ratio of Si to the sum of elements and Si, and satisfies 0.20 ⁇ a ⁇ 0.49, 0.21 ⁇ b ⁇ 0.50, 0.04 ⁇ c ⁇ 0.30, and a + b + c 1. .
  • the absolute value of the difference between the amount of the specific metal element with respect to the amount of the total metal elements contained in the other compound layers constituting the alternately laminated structure is greater than 0 atomic% and less than 5 atomic%
  • the coated cutting tool has a cutting edge at a crossing ridge line between a rake face and a flank face, and the content ratio of Ti in the alternating laminated structure on the rake face on an atomic basis is Ti r, and the flank when the content ratio of at Ti atomic standard of the alternate laminated structure in the surface was Ti f, the ratio of Ti f for Ti r [Ti f / Ti r ] is 1.05 to 1.20, The coated cutting tool according to [1] or [2].
  • the coating layer includes a lower layer between the base material and the alternate laminated structure, and the lower layer includes Ti, Zr, Hf, V, Nb, Ta, Cr, Mo, W, A single layer or a laminate of a compound comprising at least one element selected from the group consisting of Al, Si and Y and at least one element selected from the group consisting of C, N, O and B, and
  • the coated cutting tool according to any one of [1] to [3], wherein the average thickness of the layer is 0.1 ⁇ m or more and 3.5 ⁇ m or less.
  • the coating layer has an upper layer on the surface of the alternately laminated structure, and the upper layer includes Ti, Zr, Hf, V, Nb, Ta, Cr, Mo, W, Al, Si, and Y.
  • a single layer or a laminate of a compound comprising at least one element selected from the group consisting of and at least one element selected from the group consisting of C, N, O and B, and the average thickness of the upper layer Is a coated cutting tool according to any one of [1] to [4], which is 0.1 ⁇ m or more and 3.5 ⁇ m or less.
  • the coated cutting tool of the present invention is excellent in wear resistance and fracture resistance, particularly in high-speed and high-feed machining, and therefore has an effect that it can be satisfactorily processed over a long period of time.
  • the coated cutting tool of this embodiment includes a base material and a coating layer formed on the surface of the base material.
  • the base material in this embodiment is not particularly limited as long as it can be used as a base material for a coated cutting tool.
  • the substrate include cemented carbide, cermet, ceramics, cubic boron nitride sintered body, diamond sintered body, and high speed steel.
  • the base material is any one of cemented carbide, cermet, ceramics, and cubic boron nitride sintered body because the wear resistance and fracture resistance are further improved.
  • the coated cutting tool of the present embodiment has a cutting edge at the intersecting ridge line between the rake face and the flank face.
  • Specific examples of the coated cutting tool include milling or turning cutting edge exchangeable cutting inserts, drills, and end mills.
  • the average thickness of the entire coating layer when the average thickness of the entire coating layer is 1.0 ⁇ m or more, the wear resistance tends to be further improved. On the other hand, when the average thickness of the entire coating layer is 15 ⁇ m or less, the fracture resistance tends to be further improved. Therefore, it is preferable that the average thickness of the whole coating layer is 1.0 ⁇ m or more and 15 ⁇ m or less. Among these, from the same viewpoint as described above, the average thickness of the entire coating layer is more preferably 1.5 ⁇ m or more and 6.5 ⁇ m or less.
  • the coating layer of the present embodiment has an alternately laminated structure in which two or more compound layers having different compositions are alternately laminated. With such an alternately laminated structure, the hardness of the coating layer is increased, so that the wear resistance is improved.
  • the alternately laminated structure of this embodiment may be a structure in which two or more compound layers having different compositions are periodically laminated, or two or more compound layers may be periodically laminated in two or more layers. It may be a structure.
  • “difference in composition” means that between two compound layers, the amount of a specific metal element (unit: atomic%) relative to the amount of all metal elements contained in the compound layer and other compound layers The difference between the amount of the specific metal element (unit: atomic%) and the amount of the total metal element contained in is larger than 0 atomic%.
  • the “specific element” may be any metal element contained in any compound layer, and the Si element is included in the metal element.
  • One type of the compound layer constituting the alternately laminated structure of the present embodiment is a layer containing a compound having a composition represented by the following formula (1), and is preferably a layer comprising the compound.
  • M represents at least one element selected from the group consisting of Zr, Hf, V, Nb, Ta, Cr, Mo, W, and Al
  • x is represented by Ti and M.
  • Represents the atomic ratio of Ti with respect to the sum of the element (hereinafter also referred to simply as “M element”) and Si, y represents the atomic ratio of the M element with respect to the sum of Ti, M element and Si, and z represents Ti Represents the atomic ratio of Si with respect to the sum of M element and Si, and 0.20 ⁇ x ⁇ 0.50, 0.20 ⁇ y ⁇ 0.50, 0.03 ⁇ z ⁇ 0.30, and x + y + z 1. Satisfied.
  • the compound layer having a composition represented by the following formula (2) by increasing the Ti content Combined with the effect based on the atomic ratio (a) of Ti the decrease in wear resistance can be further suppressed.
  • the atomic ratio (x) of Ti is 0.50 or less, the content of M element or Si is relatively increased, so that Ti in the compound layer having the composition represented by the following formula (2) Combined with the effect based on the atomic ratio (a), the reduction in oxidation resistance and heat resistance can be further suppressed.
  • the M element content in the compound layer having the composition represented by the following formula (2) is increased by increasing the content of the M element ( Combined with the effect based on b), the reduction in oxidation resistance and heat resistance can be further suppressed.
  • the atomic ratio (y) of the M element is 0.50 or less, the content of Ti is relatively increased, so the atoms of the M element in the compound layer having the composition represented by the following formula (2) Combined with the effect based on the ratio (b), it is possible to further suppress a decrease in friction resistance.
  • the Si content in the compound layer having the composition represented by the following formula (2) is increased by increasing the Si content. Combined with the effect based on this, it is possible to further suppress the decrease in oxidation resistance and heat resistance.
  • the atomic ratio (z) of Si is 0.30 or less, the content of Ti is relatively increased. Therefore, the atomic ratio of Si in the compound layer having the composition represented by the following formula (2) ( Combined with the effect based on c), it is possible to further suppress a decrease in friction resistance. From the same viewpoint, it is preferable that 0.24 ⁇ x ⁇ 0.50, 0.25 ⁇ y ⁇ 0.50, and 0.10 ⁇ z ⁇ 0.26. Further, when the M element constituting the compound layer is at least one selected from the group consisting of Zr, Hf, V, Nb, Ta, Cr, Mo, W and Al, oxidation resistance and wear resistance are obtained. improves.
  • another type of compound layer constituting the alternately laminated structure of the present embodiment is a layer containing a compound having a composition represented by the following formula (2), and is preferably a layer made of the compound.
  • M represents at least one element selected from the group consisting of Zr, Hf, V, Nb, Ta, Cr, Mo, W, and Al
  • a represents Ti, M element, and Si.
  • B represents the atomic ratio of M element to the total of Ti, M element and Si
  • c represents the atomic ratio of Si to the total of Ti, M element and Si
  • the atomic ratio (a) of Ti is 0.50 or less, the content of M element or Si is relatively increased, so that Ti in the compound layer having the composition represented by the above formula (1) Combined with the effect based on the atomic ratio (x), the reduction in oxidation resistance and heat resistance can be further suppressed.
  • the atomic ratio (b) of the M element is 0.21 or more, the content of the M element increases, so that the atomic ratio of the M element in the compound layer having the composition represented by the above formula (1) ( Combined with the effect based on y), the reduction in oxidation resistance and heat resistance can be further suppressed.
  • the atomic ratio (b) of the M element is 0.50 or less
  • the content of Ti is relatively increased, so the atoms of the M element in the compound layer having the composition represented by the above formula (1) Combined with the effect based on the ratio (y), it is possible to further suppress a decrease in friction resistance.
  • the atomic ratio (c) of Si is 0.04 or more, the Si content in the compound layer having the composition represented by the above formula (1) is increased by increasing the Si content. Combined with the effect based on this, it is possible to further suppress the decrease in oxidation resistance and heat resistance.
  • the atomic ratio (c) of Si is 0.30 or less, the Ti content is relatively increased, and therefore the atomic ratio of Si in the compound layer having the composition represented by the above formula (1) ( Combined with the effect based on z), it is possible to further suppress the decrease in friction resistance. From the same viewpoint, it is preferable that 0.20 ⁇ a ⁇ 0.47, 0.25 ⁇ b ⁇ 0.50, and 0.08 ⁇ c ⁇ 0.30. Further, when the element constituting the compound layer is at least one selected from the group consisting of Zr, Hf, V, Nb, Ta, Cr, Mo, W, Al and Si, oxidation resistance and wear resistance are obtained. improves.
  • the type of the metal element contained in the compound layer constituting the alternating laminated structure of the present embodiment is preferably at least partly the same as the type of the metal element contained in the other compound layer constituting the alternating laminated structure, More preferably, they are all the same. That is, it is more preferable that the plurality of compound layers constituting the alternately laminated structure are composed of the same kind of metal elements. Furthermore, the amount of a specific metal element (unit: atomic%) with respect to the total amount of metal elements contained in the compound layer constituting the alternate layer structure and other compound layers constituting the alternate layer structure adjacent to the compound layer.
  • the absolute value (hereinafter also referred to as “absolute value of compositional difference”) of the difference from the above-mentioned specific metal element amount (unit: atomic%) with respect to the total metal element content is larger than 0 atomic%. And less than 5 atomic%. That is, the difference between the ratio of the specific metal element contained in the compound layer constituting the alternating multilayer structure and the ratio of the specific metal element contained in the other compound layer constituting the alternating multilayer structure adjacent to the compound layer Is greater than 0 atomic% and less than 5 atomic%.
  • the “ratio of the specific metal element” here means the ratio (unit: atomic%) of the number of atoms of the specific metal element contained in the compound layer to the total number of atoms of the metal element contained in the compound layer. To do. Further, the “specific metal element” may be at least one of the metal elements contained in the compound layer, but the absolute value of each of the metal elements contained in the compound layer is preferably in the relationship described above.
  • the interface between the two compound layers is not deteriorated without decreasing the adhesion between a compound layer constituting the alternate laminated structure and another compound layer adjacent to the compound layer.
  • the crystal lattice mismatch becomes smaller. Therefore, since it is possible to suppress an increase in the residual compressive stress of the alternately laminated structure, it is possible to suppress peeling between layers of the alternately laminated structure, particularly at a high speed and in a high feed processing. As a result, the chipping resistance of the coated cutting tool is improved.
  • the ratio of the specific metal element contained in the compound layer constituting the alternating multilayer structure and the ratio of the specific metal element contained in the other compound layer constituting the alternating multilayer structure adjacent to the compound layer are examples of the specific metal element contained in the compound layer constituting the alternating multilayer structure and the ratio of the specific metal element contained in the other compound layer constituting the alternating multilayer structure adjacent to the compound layer.
  • the absolute value of the difference is preferably 1 atomic% or more and 4 atomic% or less.
  • the difference between the ratio of the specific metal element contained in the compound layer constituting the alternating multilayer structure and the ratio of the specific metal element contained in the other compound layer constituting the alternating multilayer structure adjacent to the compound layer That the absolute value of is 0 atomic% means a single layer. Since the single layer has a lower hardness than the alternately laminated structure, the single layer is inferior in wear resistance.
  • the composition of the compound layer when the composition of the compound layer is expressed as (Ti 0.45 Al 0.40 Si 0.15 ) N, the atomic ratio of Ti to the whole of Ti, Al, and Si is 0.45, and Ti and Al
  • the atomic ratio of Al to the whole of Si and Si is 0.40, and the atomic ratio of Si to the whole of Ti, Al, and Si is 0.15. That is, the amount of Ti, which is a specific metal element with respect to the amount of all metal elements, that is, Ti, Al, and Si, is 45 atomic%, and is the specific metal element with respect to the amount of all metal elements, that is, Ti, Al, and Si.
  • the amount of Al is 40 atomic%, and the amount of all metal elements, that is, the specific metal element Si with respect to the amounts of Ti, Al, and Si is 15 atomic%.
  • the absolute value of the difference between the above-mentioned ratio of the specific metal element contained in the compound layer and the percentage of the specific metal element contained in another compound layer adjacent to the compound layer exceeds 0 atomic% “Large and less than 5 atomic%” will be described in more detail.
  • the alternate stacked structure is constituted by a (Ti 0.45 Al 0.45 Si 0.05 ) N layer and a (Ti 0.43 Al 0.47 Si 0.05 ) N layer
  • two compounds All kinds of metal elements contained in the layer are the same. This is because the two compound layers both contain Ti, Al, and Si.
  • the difference in the ratio of the number of Ti atoms contained in the two compound layers is 2 atomic%.
  • the difference in the proportion of the number of Al atoms contained in the two compound layers is 2 atomic%. Each of these values is less than 5 atomic percent. Therefore, the above condition that “the absolute value of the difference is greater than 0 atomic% and less than 5 atomic%” is satisfied.
  • the alternate stacked structure includes (Ti 0.35 Al 0.25 Cr 0.25 Si 0.15 ) N layer and (Ti 0.37 Al 0.22 Cr 0.28 Si 0.13 ) N.
  • the types of metal elements contained in the two compound layers are all the same. This is because the two compound layers both contain Ti, Al, Cr, and Si as metal elements.
  • the difference in the ratio of the number of Ti atoms contained in the two compound layers is 3 atomic%.
  • the difference in the proportion of the number of Al atoms contained in the two compound layers is 3 atomic%.
  • the difference in the ratio of the number of Cr atoms contained in the two compound layers is 3 atomic%.
  • the difference in the ratio of the number of Si atoms contained in the two layers is 2 atomic%. Each of these values is less than 5 atomic percent. Therefore, the above condition that “the absolute value of the difference is greater than 0 atomic% and less than 5 atomic%” is satisfied.
  • FIG. 1 is a schematic diagram showing an example of a cross-sectional structure of the coated cutting tool of the present invention.
  • the coated cutting tool 8 includes a substrate 1 and a coating layer 7 formed on the surface of the substrate 1.
  • the coating layer 7 is formed by laminating a lower layer 2, which will be described later, an alternating laminated structure 6, and an upper layer 5, which will be described later, in order from the substrate 1 side.
  • the alternating laminated structure 6 is formed by alternately laminating the A layer 3 which is a compound layer and the B layer 4 having a different composition from the A layer 3 in order from the lower layer 2 side to the upper layer 5 side.
  • the A layer 3 and the B layer 4 are arranged in order from the lower layer 2 side to the upper layer 5 side, from the A layer 3, the B layer 4, the A layer 3, the B layer 4, the A layer 3, and the B layer 4.
  • the number of repetitions is five.
  • the A layer 3 is a compound layer containing a compound having the composition represented by the above formula (1)
  • the B layer 4 is a compound layer containing a compound having the composition represented by the above formula (2).
  • the A layer 3 is a compound layer containing a compound having the composition represented by the above formula (2)
  • the B layer 4 is a compound layer containing a compound having the composition represented by the above formula (1). May be.
  • the coating layer 7 includes both the lower layer 2 and the upper layer 5, but the coating layer may include only the lower layer 2 and the upper layer 5, or may not include both. .
  • the alternating laminated structure further includes a C layer which is a compound layer having a composition different from that of the compound layer in addition to the A layer and the B layer as described above.
  • the A layer is a compound layer containing a compound having the composition represented by the above formula (1)
  • the B layer is a compound layer containing a compound having a composition represented by the above formula (2).
  • the stacking order of the A layer, the B layer, and the C layer is not particularly limited.
  • the order of the A layer, the B layer, and the C layer the order of the B layer, the A layer, and the C layer.
  • a layer, C layer, B layer order, B layer, C layer, A layer order, C layer, A layer, B layer order, or C layer, B layer, A layer order. May be.
  • the C layer is located between the A layer and the B layer, from the viewpoint of improving the adhesion between the A layer and the B layer, Ti, Zr, Hf, V, Nb, Ta, Cr, Mo, W, It is preferable to include a compound consisting of at least one element selected from the group consisting of Al, Si and Y and at least one element selected from the group consisting of C, N, O and B.
  • the C layer it is preferable that at least a part of the type of the metal element and the compound layer of any one of the A layer and the B layer are the same, and it is more preferable that all are the same.
  • the C layer contains the specific metal element at a ratio between the ratio of the specific metal element contained in the A layer and the ratio of the specific metal element contained in the B layer.
  • the alternate layered structure in addition to the A layer, the B layer, and the C layer, has one or more compound layers having different compositions from those compound layers. You may have. However, in the case of such an alternately laminated structure, it is preferable to laminate each compound layer so that the A layer and the B layer are adjacent to each other.
  • the one or more compound layers having different compositions from the A layer, B layer and C layer are layers having different compositions, and these layers are in close contact with the A layer, B layer and C layer.
  • the compound layers other than the A layer and the B layer are preferably the same as at least a part of the kind of the metal element and the compound layer of any one of the A layer and the B layer, and all the same More preferred.
  • Each of the compound layers other than the A layer and the B layer has a ratio of a specific metal element contained in one of the two compound layers sandwiching the compound layer and a ratio of the specific metal element contained in the other.
  • the specific metal element in such a ratio as to be between.
  • the crystal lattice mismatch at the interface between the compound layers is reduced without lowering the adhesion between adjacent compound layers. Therefore, since it is possible to suppress an increase in the residual compressive stress of the alternately laminated structure, the fracture resistance is improved particularly in high speed and high feed processing.
  • the average thickness of each of the compound layers constituting the alternately laminated structure when the average thickness of each of the compound layers constituting the alternately laminated structure is 1 nm or more, it becomes easier to form a compound layer having a uniform thickness.
  • the average thickness of each of the compound layers constituting the alternating laminated structure when the average thickness of each of the compound layers constituting the alternating laminated structure is 50 nm or less, the hardness of the alternating laminated structure is further increased. Therefore, the average thickness of the compound layers constituting the alternate stacked structure is 1 nm or more and 50 nm or less, and preferably 2 nm or more and 50 nm or less.
  • the average thickness of the alternately laminated structure when the average thickness of the alternately laminated structure is 1.0 ⁇ m or more, the wear resistance is further improved, and when it is 15 ⁇ m or less, the fracture resistance is further improved. Therefore, the average thickness of the alternately laminated structure is 1.0 ⁇ m or more and 15 ⁇ m or less. Among these, the average thickness of the alternately laminated structure is preferably 1.5 ⁇ m or more and 6.0 ⁇ m or less.
  • the Ti-based content ratio of Ti in the alternate laminated structure on the rake face is Ti r
  • the Ti-based content ratio of Ti in the alternate laminated structure on the flank face is Ti f .
  • the ratio of Ti f for Ti r is, if it is 1.05 to 1.20, because more excellent balance between wear resistance and chipping resistance preferable.
  • Ti f / Ti r is 1.05 or more
  • the content ratio of Ti on the flank surface is increased, so that a decrease in wear resistance can be further suppressed.
  • the effect of reducing internal stress in the alternately laminated structure on the rake face tends to increase.
  • Ti f / Ti r is preferably 1.05 or more and 1.20 or less, and more preferably 1.07 or more and 1.14 or less.
  • the coating layer of this embodiment may be comprised only by an alternating laminated structure, when it has a lower layer between a base material and an alternating laminated structure (namely, lower layer of an alternating laminated structure), an alternating lamination with a base material will be carried out. This is preferable because the adhesion to the structure is further improved.
  • the lower layer is composed of at least one element selected from the group consisting of Ti, Zr, Hf, V, Nb, Ta, Cr, Mo, W, Al, Si, and Y from the same viewpoint as above.
  • the lower layer has a composition different from that of the compound layer in the alternately laminated structure.
  • the lower layer may be a single layer or a multilayer of two or more layers.
  • the average thickness of the lower layer is 0.1 ⁇ m or more and 3.5 ⁇ m or less because the adhesion between the substrate and the coating layer tends to be further improved.
  • the average thickness of the lower layer is more preferably 0.1 ⁇ m or more and 3.0 ⁇ m or less, and further preferably 0.1 ⁇ m or more and 2.5 ⁇ m or less.
  • the covering layer of the present embodiment may have an upper layer on the opposite side (that is, the surface of the alternately laminated structure) to the substrate having the alternately laminated structure.
  • the upper layer is composed of at least one element selected from the group consisting of Ti, Zr, Hf, V, Nb, Ta, Cr, Mo, W, Al, Si and Y, and a group consisting of C, N, O and B It is more preferable to include a compound composed of at least one element selected from the above, since the wear resistance is further improved. From the same viewpoint as described above, the upper layer is composed of at least one element selected from the group consisting of Ti, Nb, Cr and Al and at least one type selected from the group consisting of C, N, O and B.
  • the composition of the upper layer is different from that of the compound layer in the alternately laminated structure.
  • the upper layer may be a single layer or a multilayer of two or more layers.
  • the average thickness of the upper layer is 0.1 ⁇ m or more and 3.5 ⁇ m or less because it tends to further improve the wear resistance. From the same viewpoint, the average thickness of the upper layer is more preferably 0.2 ⁇ m or more and 3.0 ⁇ m or less.
  • the method for manufacturing the coating layer in the coated cutting tool of the present embodiment is not particularly limited.
  • the coating layer can be obtained by sequentially forming each compound layer in the alternate stacked structure described above by physical vapor deposition such as ion plating, arc ion plating, sputtering, and ion mixing.
  • the coating layer formed by the arc ion plating method has high adhesion to the substrate. Therefore, among these, the arc ion plating method is preferable.
  • the manufacturing method of the coated cutting tool of this embodiment will be described using a specific example.
  • the manufacturing method of the coated cutting tool of this embodiment is not specifically limited as long as the configuration of the coated cutting tool can be achieved.
  • the base material processed into a tool shape is accommodated in a reaction container of a physical vapor deposition apparatus, and a metal evaporation source is installed in the reaction container. Thereafter, the reaction vessel is evacuated until the pressure becomes 1.0 ⁇ 10 ⁇ 2 Pa or less, and the substrate is heated by the heater in the reaction vessel until the temperature becomes 600 ° C. to 700 ° C. After heating, argon (Ar) gas is introduced into the reaction vessel, and the pressure in the reaction vessel is set to 0.5 Pa to 5.0 Pa.
  • Ar argon
  • the substrate is heated by adjusting the temperature of the heater so that the temperature becomes 250 ° C. or more and 500 ° C. or less, and then nitrogen (N 2 ) gas and Ar gas are introduced into the reaction vessel. Thereafter, the pressure in the reaction vessel is set to 2.0 to 4.0 Pa, and a bias voltage of ⁇ 40 to ⁇ 150 V is applied to the substrate.
  • each layer can be formed in the surface of a base material by evaporating the metal evaporation source according to the metal component of each layer by arc discharge.
  • two or more kinds of metal evaporation sources placed at distant positions are simultaneously evaporated by arc discharge, thereby forming each compound layer constituting the alternately laminated structure. be able to.
  • each compound layer constituting the alternately laminated structure can be controlled by adjusting the number of rotations of the turntable to which the base material in the reaction vessel is fixed.
  • the compound layer which comprises an alternate laminated structure can also be formed by evaporating two or more types of metal evaporation sources by arc discharge alternately. In this case, by adjusting the arc discharge time of the metal evaporation source, it is possible to control the thickness of each compound layer constituting the alternate laminated structure.
  • the mixing ratio of N 2 gas and Ar gas may be adjusted. More specifically, the higher the negative bias voltage is applied (for example, ⁇ 150 V is higher than ⁇ 40 V), the Ti content ratio on the surface facing the metal evaporation source increases. On the other hand, the Ti content ratio of the surface not facing the metal evaporation source is low.
  • Ti f / Ti r is set to a predetermined value by adjusting the bias voltage and the mixing ratio of N 2 gas and Ar gas introduced into the reaction vessel so that the surface facing the metal evaporation source becomes a flank. The value can be
  • the thickness of each layer constituting the coating layer in the coated cutting tool of the present embodiment can be measured, for example, from the cross-sectional structure of the coated cutting tool using a transmission electron microscope (TEM). More specifically, in the coated cutting tool, the thickness of each layer at three or more cross sections in the vicinity of a position of 50 ⁇ m from the edge of the edge of the surface facing the metal evaporation source toward the center of the surface. Measure.
  • the arithmetic average value of the thickness of each obtained layer can be defined as the average thickness of each layer in the coated cutting tool.
  • composition of each layer constituting the coating layer in the coated cutting tool of the present embodiment is determined from the cross-sectional structure of the coated cutting tool of the present embodiment by using an energy dispersive X-ray analyzer (EDS) or a wavelength dispersive X-ray analyzer (WDS). ) Or the like.
  • EDS energy dispersive X-ray analyzer
  • WDS wavelength dispersive X-ray analyzer
  • the ratio of Ti f to Ti r in the alternate laminated structure of the present embodiment was measured from the cross-sectional structure of the coated cutting tool of the present embodiment using an EDS attached to the TEM. Can be sought. More specifically, the Ti content of each layer (for example, the A layer and the B layer) constituting the alternate laminated structure in the vicinity of the position of 50 ⁇ m from the cutting edge ridge line portion of the flank to the center of the flank. Each ratio is measured. The Ti content ratio is measured at three or more cross sections for each layer.
  • a value obtained by arithmetically averaging the Ti content ratios in the A layer and the B layer is defined as a Ti content ratio Ti f in the alternately laminated structure.
  • Ti content ratio Ti r of the alternately laminated structure in the vicinity of the position of 50 ⁇ m from the edge of the rake face toward the center of the rake face is obtained. From the obtained Ti f and Ti r, it can be calculated the ratio of Ti f [Ti f / Ti r ] for Ti r.
  • Example 1 As a base material, a cemented carbide having a composition of 93.0WC-7.0Co (more than mass%) was prepared by processing into an ISO standard SEEN1203AGTN-shaped insert. A metal evaporation source was arranged in the reaction vessel of the arc ion plating apparatus so as to have the composition of each layer shown in Table 1 and Table 2. The prepared base material was fixed to a jig for a rotary table in the reaction vessel. At this time, the base material was installed so that the surface facing the metal evaporation source became a flank.
  • the inside of the reaction vessel was evacuated until the pressure became 5.0 ⁇ 10 ⁇ 3 Pa or less.
  • the substrate was heated with a heater in the reaction vessel until the temperature reached 600 ° C. After heating, Ar gas was introduced into the reaction vessel so that the pressure was 5.0 Pa.
  • the substrate After evacuation, the substrate is heated until its temperature reaches 400 ° C., and N 2 gas and Ar gas are introduced into the reaction vessel under the conditions shown in Tables 3 and 4 so that the pressure becomes 3.0 Pa. Adjusted.
  • the A layer and the B layer shown in Table 1 and Table 2 were alternately formed to obtain an alternately laminated structure.
  • a bias voltage is applied to the substrate under the conditions shown in Tables 3 and 4, and the A layer metal evaporation source and the B layer metal evaporation source are simultaneously evaporated by arc discharge with an arc current of 120 A.
  • a layer and B layer were formed alternately.
  • the thickness of the A layer and the thickness of the B layer were controlled by adjusting the number of rotations of the rotary table in the range of 1 to 5 rpm.
  • the “absolute value of compositional difference” in the table is the “absolute value of compositional difference” between the A layer and the B layer (the same applies hereinafter).
  • each layer is formed on the surface of the base material so as to have the predetermined average thickness shown in Table 1 and Table 2, the heater is turned off and the sample temperature is 100 ° C. or lower, and then the sample is taken from the reaction vessel. Was taken out.
  • the average thickness of each layer of the obtained sample is three points in the vicinity of a position of 50 ⁇ m from the edge of the edge of the surface (flank) facing the metal evaporation source of the coated cutting tool toward the center of the surface.
  • the cross section was observed by TEM, the thickness of each layer was measured, and the arithmetic average value was calculated.
  • the composition of each layer of the obtained sample was obtained by using EDS in a cross section in the vicinity of a position of 50 ⁇ m from the edge of the edge of the surface (flank) facing the metal evaporation source of the coated cutting tool toward the center of the surface. Measured. The results are also shown in Tables 1 and 2.
  • the composition ratio of the metal element of each layer of Table 1 and Table 2 shows the atomic ratio of each metal element with respect to the whole metal element in the compound which comprises each layer.
  • the value obtained by arithmetically averaging the Ti content ratio in the A layer and the Ti content ratio in the B layer (both atomic basis) obtained at this time is the Ti content ratio Ti f in the alternate laminated structure on the flank face. It was.
  • the alternate laminated structure on the rake face from the value measured using EDS in the cross section near the position of 50 ⁇ m from the edge of the rake face toward the center of the face. to determine the content ratio Ti r in the Ti.
  • the value obtained by the arithmetic mean of the content ratio (both atomic basis) of Ti in a content ratio and B layer of Ti in the A layer was Ti r.
  • the results of Ti f / Ti r are shown in Table 5 and Table 6.
  • Tables 7 and 8 show the results of the cutting test.
  • Example 2 As a base material, a cemented carbide having a composition of 93.0WC-7.0Co (more than mass%) was prepared by processing into an ISO standard SEEN1203AGTN-shaped insert. A metal evaporation source was arranged in the reaction vessel of the arc ion plating apparatus so as to have the composition of each layer shown in Table 9. The prepared base material was fixed to a jig for a rotary table in the reaction vessel.
  • the inside of the reaction vessel was evacuated until the pressure became 5.0 ⁇ 10 ⁇ 3 Pa or less.
  • the substrate was heated with a heater in the reaction vessel until the temperature reached 600 ° C. After heating, Ar gas was introduced into the reaction vessel so that the pressure was 5.0 Pa.
  • the substrate was heated until its temperature reached 400 ° C., N 2 gas was introduced into the reaction vessel, and the inside of the reaction vessel was adjusted to 3.0 Pa.
  • lower layers shown in Table 9 of Inventions 18 to 21 were formed. Specifically, a lower layer was formed by applying a bias voltage of ⁇ 50 V to the substrate and evaporating the metal evaporation source by arc discharge with an arc current of 120 A. After forming the lower layer, the inside of the reaction vessel was evacuated until the pressure became 5.0 ⁇ 10 ⁇ 3 Pa or less.
  • the reaction vessel After evacuation, N 2 gas and Ar gas were introduced into the reaction vessel under the conditions shown in Table 10, and the inside of the reaction vessel was adjusted to 3.0 Pa. Next, the A layer and the B layer shown in Table 9 of the inventive products 18 to 21 were formed. Specifically, a bias voltage is applied to the substrate under the conditions shown in Table 10, and the A layer metal evaporation source and the B layer metal evaporation source are simultaneously evaporated by arc discharge with an arc current of 120 A, B layers were formed alternately. At this time, the thickness of the A layer and the thickness of the B layer were controlled by adjusting the number of rotations of the rotary table in the range of 1 to 5 rpm.
  • the reaction vessel was evacuated until the pressure became 5.0 ⁇ 10 ⁇ 3 Pa or less. After evacuation, N 2 gas was introduced into the reaction vessel, and the inside of the reaction vessel was adjusted to 3.0 Pa. Next, for inventive products 18 to 21, a bias voltage of ⁇ 50 V was applied to the base material, and the metal evaporation source was evaporated by arc discharge with an arc current of 120 A to form the upper layer shown in Table 9.
  • the heater was turned off, and the sample temperature was 100 ° C. or lower, and then the sample was taken out from the reaction vessel.
  • the average thickness of each layer of the obtained sample is three points in the vicinity of a position of 50 ⁇ m from the edge of the edge of the surface (flank) facing the metal evaporation source of the coated cutting tool toward the center of the surface.
  • the cross section was observed by TEM, the thickness of each layer was measured, and the arithmetic average value was calculated.
  • the composition of each layer of the obtained sample is such that EDS is measured in a cross section in the vicinity of the position from the edge of the edge of the surface (flank) facing the metal evaporation source of the coated cutting tool to 50 ⁇ m toward the center of the surface. And measured.
  • Table 9 The results are also shown in Table 9.
  • the composition ratio of the metal element of each layer of Table 9 shows the atomic ratio of each metal element with respect to the whole metal element in the compound which comprises each layer.
  • the value obtained by arithmetically averaging the Ti content ratio in the A layer and the Ti content ratio in the B layer (both atomic basis) obtained at this time is the Ti content ratio Ti in the alternately laminated structure on the flank surface. f .
  • alternate laminating on the rake face from the value measured using EDS in the cross section in the vicinity of the position from the edge of the rake face to the center of the face up to 50 ⁇ m. It was determined content ratio Ti r of Ti in the structure.
  • the value obtained by the arithmetic mean of the content ratio (both atomic basis) of Ti in a content ratio and B layer of Ti in the A layer was Ti r.
  • the results of the Ti f / Ti r shown in Table 11.
  • the coated cutting tool of the present invention has a high industrial utility value because the tool life can be extended as compared with the conventional one by being excellent in wear resistance and fracture resistance particularly in high speed and high feed processing.

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Abstract

基材と前記基材の表面に形成された被覆層とを含む被覆切削工具であって、前記被覆層は、組成の異なる2種又は3種以上の化合物層を交互に各2層以上積層した交互積層構造を有し、前記交互積層構造は、下記式(1): (TiSi)N (1) [式中、MはZr、Hf、V、Nb、Ta、Cr、Mo、WおよびAlからなる群より選ばれる少なくとも1種の元素を表し、xはTiとMで表される元素とSiとの合計に対するTiの原子比を表し、yはTiと前記Mで表される元素とSiとの合計に対する前記Mで表される元素の原子比を表し、zはTiと前記Mで表される元素とSiとの合計に対するSiの原子比を表し、0.20≦x≦0.50、0.20≦y≦0.50、0.03≦z≦0.30、x+y+z=1を満足する。] で表される組成を有する化合物を含む化合物層と、下記式(2): (TiSi)N (2) [式中、MはZr、Hf、V、Nb、Ta、Cr、Mo、WおよびAlからなる群より選ばれる少なくとも1種の元素を表し、aはTiとMで表される元素とSiとの合計に対するTiの原子比を表し、bはTiと前記Mで表される元素とSiとの合計に対する前記Mで表される元素の原子比を表し、cはTiと前記Mで表される元素とSiとの合計に対するSiの原子比を表し、0.20≦a≦0.49、0.21≦b≦0.50、0.04≦c≦0.30、a+b+c=1を満足する。] で表される組成を有する化合物を含む化合物層とから構成され、前記交互積層構造を構成する化合物層に含まれる全金属元素の量に対する特定の金属元素の量と、当該化合物層に隣接した前記交互積層構造を構成する他の化合物層に含まれる全金属元素の量に対する前記特定の金属元素の量と、の差の絶対値が、0原子%を超えて大きく、かつ、5原子%未満であり、前記化合物層のそれぞれの平均厚さは、1nm以上50nm以下であり、前記交互積層構造の平均厚さは、1.0μm以上15μm以下である、被覆切削工具。

Description

被覆切削工具
 本発明は、被覆切削工具に関するものである。
 近年、切削加工の高能率化に伴い、従来よりも工具寿命の長い切削工具が求められている。このため、工具材料の要求性能として、工具寿命に直結する耐摩耗性および耐欠損性の向上が一段と重要になっている。そこで、これらの特性を向上させるため、超硬合金、サーメット、cBNなどからなる基材と、その表面に備えられるTiN層、TiAlN層などの被覆層を1層または2層以上含む被覆切削工具が広く用いられている。
 このような被覆層の特性を改善するための様々な技術が提案されている。例えば、特許文献1には、Ti/Alの比が20/80~60/40の範囲内のTiとAlの複合窒化物を基材の表面に形成した被覆切削工具が提案されている。
 また、特許文献2および特許文献3には、Tiの窒化物、炭窒化物、窒酸化物または炭窒酸化物にSiを適量含有した層と、TiおよびAlを主成分とする窒化物、炭窒化物、窒酸化物または炭窒酸化物からなる層とを交互に積層した被覆膜が提案されている。
特開平8-168904号公報 特開2000-334606号公報 特開2000-334607号公報
 加工能率を高めるために従来よりも切削条件が厳しくなる傾向の中で、これまでよりも工具寿命を延長することが求められている。しかしながら、上記特許文献1に記載のAlの含有量が多い単層膜は、耐摩耗性が十分ではないという問題がある。一方、Tiの含有量が多い単層膜は、耐摩耗性に優れるものの、耐酸化性が不十分であるため、耐クレーター摩耗性が劣るという問題がある。
 特許文献2および特許文献3に記載のTiSi系の層などを交互に積層した被覆膜は、残留圧縮応力が高いため、被覆膜を形成した後に剥離したり、切削加工において、チッピングを生じやすかったりするという問題がある。
 本発明は、これらの問題を解決するためになされたものであり、特に高速かつ高送り加工において、耐摩耗性および耐欠損性に優れ、長期間にわたって良好に加工できる被覆切削工具を提供することである。
 本発明者は被覆切削工具の工具寿命の延長について研究を重ねたところ、以下の構成にすると、耐摩耗性および耐欠損性を向上させることが可能となることを見出した。そして、その結果、被覆切削工具の工具寿命を延長することができることを見出し、本発明を完成するに至った。
 すなわち、本発明の要旨は以下の通りである。
[1]基材と前記基材の表面に形成された被覆層とを含む被覆切削工具であって、前記被覆層は、組成の異なる2種又は3種以上の化合物層を交互に各2層以上積層した交互積層構造を有し、前記交互積層構造は、下記式(1):
 (TiSi)N  (1)
[式中、MはZr、Hf、V、Nb、Ta、Cr、Mo、WおよびAlからなる群より選ばれる少なくとも1種の元素を表し、xはTiとMで表される元素とSiとの合計に対するTiの原子比を表し、yはTiと前記Mで表される元素とSiとの合計に対する前記Mで表される元素の原子比を表し、zはTiと前記Mで表される元素とSiとの合計に対するSiの原子比を表し、0.20≦x≦0.50、0.20≦y≦0.50、0.03≦z≦0.30、x+y+z=1を満足する。]
で表される組成を有する化合物を含む化合物層と、下記式(2):
 (TiSi)N  (2)
[式中、MはZr、Hf、V、Nb、Ta、Cr、Mo、WおよびAlからなる群より選ばれる少なくとも1種の元素を表し、aはTiとMで表される元素とSiとの合計に対するTiの原子比を表し、bはTiと前記Mで表される元素とSiとの合計に対する前記Mで表される元素の原子比を表し、cはTiと前記Mで表される元素とSiとの合計に対するSiの原子比を表し、0.20≦a≦0.49、0.21≦b≦0.50、0.04≦c≦0.30、a+b+c=1を満足する。]
で表される組成を有する化合物を含む化合物層とから構成され、前記交互積層構造を構成する化合物層に含まれる全金属元素の量に対する特定の金属元素の量と、当該化合物層に隣接した前記交互積層構造を構成する他の化合物層に含まれる全金属元素の量に対する前記特定の金属元素の量と、の差の絶対値が、0原子%を超えて大きく、かつ、5原子%未満であり、前記化合物層のそれぞれの平均厚さは、1nm以上50nm以下であり、前記交互積層構造の平均厚さは、1.0μm以上15μm以下である、被覆切削工具。
[2]前記交互積層構造を構成する前記化合物層に含まれる全金属元素の量に対する特定の金属元素の量と、当該化合物層に隣接した前記交互積層構造を構成する前記他の化合物層に含まれる全金属元素の量に対する前記特定の金属元素の量と、の差の絶対値が、1原子%以上4原子%以下である、請求項1に記載の被覆切削工具。
[3]前記被覆切削工具は、すくい面と逃げ面との交差稜線に切刃を有し、前記すくい面における前記交互積層構造中のTiの原子基準での含有比率をTiとし、前記逃げ面における前記交互積層構造中のTiの原子基準での含有比率をTiとしたとき、Tiに対するTiの比[Ti/Ti]が、1.05以上1.20以下である、[1]または[2]に記載の被覆切削工具。
[4]前記被覆層は、前記基材と前記交互積層構造との間に、下部層を有し、前記下部層は、Ti、Zr、Hf、V、Nb、Ta、Cr、Mo、W、Al、SiおよびYからなる群より選ばれる少なくとも1種の元素と、C、N、OおよびBからなる群より選ばれる少なくとも1種の元素とからなる化合物の単層または積層であり、前記下部層の平均厚さは、0.1μm以上3.5μm以下である、[1]~[3]のいずれか1つに記載の被覆切削工具。
[5]前記被覆層は、前記交互積層構造の表面に、上部層を有し、前記上部層は、Ti、Zr、Hf、V、Nb、Ta、Cr、Mo、W、Al、SiおよびYからなる群より選ばれる少なくとも1種の元素と、C、N、OおよびBからなる群より選ばれる少なくとも1種の元素とからなる化合物の単層または積層であり、前記上部層の平均厚さは、0.1μm以上3.5μm以下である、[1]~[4]のいずれか1つに記載の被覆切削工具。
[6]前記被覆層全体の平均厚さは、1.0μm以上15μm以下である、[1]~[5]のいずれか1つに記載の被覆切削工具。
[7]前記基材は、超硬合金、サーメット、セラミックスまたは立方晶窒化硼素焼結体のいずれかである、[1]~[6]のいずれか1つに記載の被覆切削工具。
 本発明の被覆切削工具は、特に高速かつ高送り加工において、耐摩耗性および耐欠損性に優れるので、長期間にわたって良好に加工できるという効果を奏する。
本発明の被覆切削工具の一例を示す模式図である。
 以下、必要に応じて図面を参照しつつ、本発明を実施するための形態(以下、単に「本実施形態」という。)について詳細に説明するが、本発明は下記本実施形態に限定されるものではない。本発明は、その要旨を逸脱しない範囲で様々な変形が可能である。本実施形態の被覆切削工具は、基材とその基材の表面に形成された被覆層とを含む。本実施形態における基材は、被覆切削工具の基材として用いられ得るものであれば、特に限定はされない。基材の例として、超硬合金、サーメット、セラミックス、立方晶窒化硼素焼結体、ダイヤモンド焼結体、および高速度鋼を挙げることができる。それらの中でも、基材が、超硬合金、サーメット、セラミックスおよび立方晶窒化硼素焼結体のいずれかであると、耐摩耗性および耐欠損性に一層優れるので、さらに好ましい。
 本実施形態の被覆切削工具は、すくい面と逃げ面との交差稜線に切刃を有する。被覆切削工具の種類として、具体的には、フライス加工用または旋削加工用刃先交換型切削インサート、ドリル、およびエンドミルを挙げることができる。
 本実施形態の被覆切削工具において、被覆層全体の平均厚さが、1.0μm以上であると耐摩耗性が更に向上する傾向がみられる。一方、被覆層全体の平均厚さが15μm以下であると、耐欠損性が更に向上する傾向がみられる。そのため、被覆層の全体の平均厚さは、1.0μm以上15μm以下であることが好ましい。その中でも、上記と同様の観点から、被覆層全体の平均厚さは1.5μm以上6.5μm以下であるとより好ましい。
 本実施形態の被覆層は、組成の異なる2種又は3種以上の化合物層を交互に各2層以上積層した交互積層構造を有する。このような交互積層構造を有すると、被覆層の硬さが高くなるため、耐摩耗性が向上する。本実施形態の交互積層構造は、組成の異なる2種の化合物層を周期的に各2層以上積層した構造であってもよく、3種以上の化合物層を周期的に各2層以上積層した構造であってもよい。本明細書において、「組成の異なる」とは、2つの化合物層の間で、化合物層に含まれる全金属元素の量に対する特定の金属元素の量(単位:原子%)と、他の化合物層に含まれる全金属元素の量に対するその特定の金属元素の量(単位:原子%)との差が0原子%を超えて大きいことをいう。上記「特定の元素」は、いずれかの化合物層に含まれる金属元素のいずれであってもよく、Si元素は金属元素に包含される。
 本実施形態の交互積層構造を構成する化合物層の1種は、下記式(1)で表される組成を有する化合物を含む層であり、その化合物からなる層であると好ましい。
 (TiSi)N  (1)
ここで、式(1)中、MはZr、Hf、V、Nb、Ta、Cr、Mo、WおよびAlからなる群より選ばれる少なくとも1種の元素を表し、xはTiとMで表される元素(以下、単に「M元素」ともいう。)とSiとの合計に対するTiの原子比を表し、yはTiとM元素とSiとの合計に対するM元素の原子比を表し、zはTiとM元素とSiとの合計に対するSiの原子比を表し、0.20≦x≦0.50、0.20≦y≦0.50、0.03≦z≦0.30、x+y+z=1を満足する。本実施形態のこの化合物層における、Tiの原子比(x)が、0.20以上であると、Tiの含有量が多くなることにより、下記式(2)で表される組成を有する化合物層におけるTiの原子比(a)に基づく効果と相俟って、耐摩耗性の低下をさらに抑制できる。一方、Tiの原子比(x)が0.50以下であると、相対的にM元素またはSiの含有量が増加するため、下記式(2)で表される組成を有する化合物層におけるTiの原子比(a)に基づく効果と相俟って、耐酸化性および耐熱性の低下をさらに抑制できる。M元素の原子比(y)が、0.20以上であると、M元素の含有量が多くなることにより、下記式(2)で表される組成を有する化合物層におけるM元素の原子比(b)に基づく効果と相俟って、耐酸化性および耐熱性の低下をさらに抑制できる。一方、M元素の原子比(y)が0.50以下であると、相対的にTiの含有量が増加するため、下記式(2)で表される組成を有する化合物層におけるM元素の原子比(b)に基づく効果と相俟って、耐摩擦性の低下をさらに抑制できる。Siの原子比(z)が、0.03以上であると、Siの含有量が多くなることにより、下記式(2)で表される組成を有する化合物層におけるSiの原子比(c)に基づく効果と相俟って、耐酸化性および耐熱性の低下をさらに抑制できる。一方、Siの原子比(z)が0.30以下であると、相対的にTiの含有量が増加するため、下記式(2)で表される組成を有する化合物層におけるSiの原子比(c)に基づく効果と相俟って、耐摩擦性の低下をさらに抑制できる。同様の観点から、0.24≦x≦0.50、0.25≦y≦0.50、0.10≦z≦0.26であると好ましい。また、この化合物層を構成するM元素は、Zr、Hf、V、Nb、Ta、Cr、Mo、WおよびAlからなる群より選ばれる少なくとも1種であると、耐酸化性や耐摩耗性が向上する。
 また、本実施形態の交互積層構造を構成する化合物層の他の1種は、下記式(2)で表される組成を有する化合物を含む層であり、その化合物からなる層であると好ましい。
 (TiSi)N  (2)
ここで、式(2)中、MはZr、Hf、V、Nb、Ta、Cr、Mo、WおよびAlからなる群より選ばれる少なくとも1種の元素を表し、aはTiとM元素とSiとの合計に対するTiの原子比を表し、bはTiとM元素とSiとの合計に対するM元素の原子比を表し、cはTiとM元素とSiとの合計に対するSiの原子比を表し、0.20≦a≦0.49、0.21≦b≦0.50、0.04≦c≦0.30、a+b+c=1を満足する。
本実施形態のこの化合物層における、Tiの原子比(a)が、0.20以上であると、Tiの含有量が多くなることにより、上記式(1)で表される組成を有する化合物層におけるTiの原子比(x)に基づく効果と相俟って、耐摩耗性の低下をさらに抑制できる。一方、Tiの原子比(a)が0.50以下であると、相対的にM元素またはSiの含有量が増加するため、上記式(1)で表される組成を有する化合物層におけるTiの原子比(x)に基づく効果と相俟って、耐酸化性および耐熱性の低下をさらに抑制できる。M元素の原子比(b)が、0.21以上であると、M元素の含有量が多くなることにより、上記式(1)で表される組成を有する化合物層におけるM元素の原子比(y)に基づく効果と相俟って、耐酸化性および耐熱性の低下をさらに抑制できる。一方、M元素の原子比(b)が0.50以下であると、相対的にTiの含有量が増加するため、上記式(1)で表される組成を有する化合物層におけるM元素の原子比(y)に基づく効果と相俟って、耐摩擦性の低下をさらに抑制できる。Siの原子比(c)が、0.04以上であると、Siの含有量が多くなることにより、上記式(1)で表される組成を有する化合物層におけるSiの原子比(z)に基づく効果と相俟って、耐酸化性および耐熱性の低下をさらに抑制できる。一方、Siの原子比(c)が0.30以下であると、相対的にTiの含有量が増加するため、上記式(1)で表される組成を有する化合物層におけるSiの原子比(z)に基づく効果と相俟って、耐摩擦性の低下をさらに抑制できる。同様の観点から、0.20≦a≦0.47、0.25≦b≦0.50、0.08≦c≦0.30であると好ましい。また、化合物層を構成する元素は、Zr、Hf、V、Nb、Ta、Cr、Mo、W、AlおよびSiからなる群より選ばれる少なくとも1種であると、耐酸化性や耐摩耗性が向上する。
 本実施形態の交互積層構造を構成する化合物層に含まれる金属元素の種類は、該交互積層構造を構成する他の化合物層に含まれる金属元素の種類と少なくとも一部が同一であると好ましく、全て同一であるとより好ましい。つまり、交互積層構造を構成する複数の化合物層は、互いに同一の種類の金属元素で構成されるとより好ましい。さらに、交互積層構造を構成する化合物層に含まれる全金属元素の量に対する特定の金属元素の量(単位:原子%)と、当該化合物層に隣接した交互積層構造を構成する他の化合物層に含まれる全金属元素の量に対する上記特定の金属元素の量(単位:原子%)との差の絶対値(以下、「組成差の絶対値」ともいう。)は、0原子%を超えて大きく、かつ、5原子%未満である。すなわち、交互積層構造を構成する化合物層に含まれる特定の金属元素の割合と、その化合物層に隣接した交互積層構造を構成する他の化合物層に含まれる上記特定の金属元素の割合との差の絶対値が、0原子%を超えて大きく、かつ、5原子%未満である。ここでいう「特定の金属元素の割合」とは、化合物層に含まれる金属元素全体の原子数に対する、その化合物層に含まれる特定の金属元素の原子数の割合(単位:原子%)を意味する。また、「特定の金属元素」は化合物層に含まれる金属元素のうち少なくとも1種であればよいが、化合物層に含まれる金属元素の各々について、上記絶対値が上述の関係にあると好ましい。
 交互積層構造がこのような構成であると、交互積層構造を構成するある化合物層と、その化合物層に隣接する他の化合物層との密着性が低下することなく、2種の化合物層の界面における結晶格子の不整合が小さくなる。そのため、交互積層構造の残留圧縮応力が高くなるのを抑制することができるので、特に高速で、かつ高送り加工において、交互積層構造の層と層の間における剥離を抑制することができる。その結果、被覆切削工具の耐欠損性が向上する。その中でも、交互積層構造を構成する化合物層に含まれる特定の金属元素の割合と、その化合物層に隣接した交互積層構造を構成する他の化合物層に含まれる上記特定の金属元素の割合との差の絶対値が、1原子%以上4原子%以下であると、好ましい。なお、交互積層構造を構成する化合物層に含まれる特定の金属元素の割合と、その化合物層に隣接した交互積層構造を構成する他の化合物層に含まれる上記特定の金属元素の割合との差の絶対値が、0原子%であるということは、単層を意味する。単層は、交互積層構造よりも硬さが低いため、耐摩耗性に劣る。
 本実施形態において化合物層の組成を(Ti0.45Al0.40Si0.15)Nと表記する場合は、TiとAlとSiの全体に対するTiの原子比が0.45、TiとAlとSiの全体に対するAlの原子比が0.40、TiとAlとSiの全体に対するSiの原子比が0.15であることを表す。すなわち、全金属元素、つまりTiとAlとSi、の量に対する特定の金属元素であるTiの量が45原子%、全金属元素、つまりTiとAlとSi、の量に対する特定の金属元素であるAlの量が40原子%、全金属元素、つまりTiとAlとSiの量に対する特定の金属元素であるSiの量が15原子%であることを意味する。
 上記の「化合物層に含まれる特定の金属元素の割合と、その化合物層に隣接した他の化合物層に含まれる上記特定の金属元素の割合との差の絶対値が、0原子%を超えて大きく、かつ、5原子%未満である」について、さらに詳しく説明する。例えば、交互積層構造が、(Ti0.45Al0.45Si0.05)N層と、(Ti0.43Al0.47Si0.05)N層によって構成される場合、2つの化合物層に含まれる金属元素の種類は全て同一である。なぜなら、2つの化合物層は、ともにTiとAlとSiとを含むからである。この場合、2つの化合物層に含まれるTiの原子数の割合の差は、2原子%である。また、2つの化合物層に含まれるAlの原子数の割合の差は、2原子%である。これらの値は、それぞれ5原子%未満である。したがって、「差の絶対値が、0原子%を超えて大きく、かつ、5原子%未満」という上記の条件が満たされている。
 また、例えば、交互積層構造が、(Ti0.35Al0.25Cr0.25Si0.15)N層と、(Ti0.37Al0.22Cr0.28Si0.13)N層によって構成される場合、2つの化合物層に含まれる金属元素の種類は全て同一である。なぜなら、2つの化合物層は、ともに金属元素としてTiとAlとCrとSiとを含むからである。この場合、2つの化合物層に含まれるTiの原子数の割合の差は、3原子%である。また、2つの化合物層に含まれるAlの原子数の割合の差は、3原子%である。さらに、2つの化合物層に含まれるCrの原子数の割合の差は、3原子%である。そして、2つの層に含まれるSiの原子数の割合の差は、2原子%である。これらの値は、それぞれ5原子%未満である。したがって、「差の絶対値が、0原子%を超えて大きく、かつ、5原子%未満」という上記の条件が満たされている。
 本実施形態において組成の異なる2種の化合物層を1層ずつ形成した場合、「繰り返し数」は1回である。図1は本発明の被覆切削工具の断面組織の一例を示す模式図であるが、以下、これを利用して繰り返し数について説明する。この被覆切削工具8は、基材1と、基材1の表面に形成された被覆層7とを備える。被覆層7は、基材1側から順に、後述の下部層2と、交互積層構造6と、後述の上部層5とを積層してなる。交互積層構造6は、下部層2側から上部層5側に向かって順に、それぞれ化合物層であるA層3と、A層3とは組成の異なるB層4とを交互に積層してなり、A層3及びB層4をそれぞれ4層ずつ有する。この場合、繰り返し数は、4回となる。また、例えば、A層3およびB層4を、下部層2側から上部層5側に向かって順に、A層3、B層4、A層3、B層4、A層3、B層4、A層3、B層4、A層3、B層4と、A層3を5層、B層4を5層それぞれ形成した場合、繰り返し数は、5回となる。ここで、A層3が上記式(1)で表される組成を有する化合物を含む化合物層であって、B層4が上記式(2)で表される組成を有する化合物を含む化合物層であってもよい。あるいは、A層3が上記式(2)で表される組成を有する化合物を含む化合物層であって、B層4が上記式(1)で表される組成を有する化合物を含む化合物層であってもよい。また、図1において、被覆層7は下部層2および上部層5の両方を備えるが、被覆層が下部層2および上部層5のいずれかのみを備えてもよく、両方備えていなくてもよい。
 また、本実施形態の別の一態様において、組成の異なる3種の化合物層から構成される交互積層構造を有する被覆切削工具について簡単に説明する。このような被覆切削工具において、交互積層構造は、上記のようなA層およびB層に加えて、それらの化合物層と組成の異なる化合物層であるC層を更に有する。A層を上記式(1)で表される組成を有する化合物を含む化合物層とし、B層を上記式(2)で表される組成を有する化合物を含む化合物層とする。この場合、A層、B層およびC層の積層順は特に限定されず、例えば、基材側から順に、A層、B層、C層の順、B層、A層、C層の順、A層、C層、B層の順、B層、C層、A層の順、C層、A層、B層の順、あるいは、C層、B層、A層の順、のいずれであってもよい。C層は、A層とB層との間に位置するため、A層とB層との密着性を向上させる観点から、Ti、Zr、Hf、V、Nb、Ta、Cr、Mo、W、Al、SiおよびYからなる群より選ばれる少なくとも1種の元素と、C、N、OおよびBからなる群より選ばれる少なくとも1種の元素とからなる化合物を含むと好ましい。特に、C層が、A層およびB層のいずれかの化合物層と金属元素の種類の少なくとも一部が同一であると好ましく、全てが同一であるとより好ましい。また、C層が、A層に含まれる特定の金属元素の割合とB層に含まれる上記特定の金属元素の割合の間になるような割合で、上記特定の金属元素を含むと好ましい。これらにより、互いに隣接する化合物層間の密着性が低下することなく、それらの化合物層の界面における結晶格子の不整合が小さくなる。そのため、交互積層構造の残留圧縮応力が高くなるのを抑制することができるので、特に高速かつ高送り加工において、耐欠損性が向上する。
 さらに、本実施形態のさらに別の一態様において、交互積層構造が、上記A層、B層およびC層に加えて、それらの化合物層と組成の異なる他の1種又は2種以上の化合物層を有してもよい。ただし、そのような交互積層構造である場合は、A層およびB層を隣接させるように、各化合物層を積層することが好ましい。上記A層、B層およびC層と組成の異なる他の1種又は2種以上の化合物層は、互いに組成の異なる層であり、それらの層は、A層、B層およびC層との密着性を向上させる観点から、Ti、Zr、Hf、V、Nb、Ta、Cr、Mo、W、Al、SiおよびYからなる群より選ばれる少なくとも1種の元素と、C、N、OおよびBからなる群より選ばれる少なくとも1種の元素とからなる化合物を含むと好ましい。この場合において、特に、A層およびB層以外の化合物層が、A層およびB層のいずれかの化合物層と金属元素の種類の少なくとも一部が同一であると好ましく、全てが同一であるとより好ましい。また、A層およびB層以外の各化合物層は、その化合物層を挟む2種の化合物層のうち、一方に含まれる特定の金属元素の割合と他方に含まれる上記特定の金属元素の割合の間になるような割合で、上記特定の金属元素を含むと好ましい。これらにより、互いに隣接する化合物層間の密着性が低下することなく、それらの化合物層の界面における結晶格子の不整合が小さくなる。そのため、交互積層構造の残留圧縮応力が高くなるのを抑制することができるので、特に高速かつ高送り加工において、耐欠損性が向上する。
 本実施形態において、交互積層構造を構成する化合物層のそれぞれの平均厚さが1nm以上であると、均一な厚さの化合物層を形成することがより容易となる。一方、交互積層構造を構成する化合物層のそれぞれの平均厚さが50nm以下であると、交互積層構造の硬さが更に高まる。そのため、交互積層構造を構成する化合物層の平均厚さは1nm以上50nm以下であり、2nm以上50nm以下であると好ましい。
 本実施形態において、交互積層構造の平均厚さは、1.0μm以上であると耐摩耗性が更に向上し、15μm以下であると耐欠損性が更に高まる。そのため、交互積層構造の平均厚さは、1.0μm以上15μm以下である。その中でも、交互積層構造の平均厚さは1.5μm以上6.0μm以下であると好ましい。
 本実施形態の交互積層構造において、すくい面における交互積層構造中のTiの原子基準での含有比率をTiとし、逃げ面における交互積層構造中のTiの原子基準での含有比率をTiとする。交互積層構造は、Tiに対するTiの比[Ti/Ti]が、1.05以上1.20以下であると、耐摩耗性と耐欠損性のバランスに一層優れるので好ましい。Ti/Tiが1.05以上であると、逃げ面におけるTiの含有比率が大きくなるため、耐摩耗性の低下をより抑制することができる。また、すくい面における交互積層構造中の内部応力を低減する効果が大きくなる傾向にある。一方、Ti/Tiが1.20以下である被覆切削工具は、その作製容易性の観点から好ましい。そのため、Ti/Tiは、1.05以上1.20以下であることが好ましく、1.07以上1.14以下であることがより好ましい。
 本実施形態の被覆層は、交互積層構造だけで構成されてもよいが、基材と交互積層構造との間(すなわち、交互積層構造の下層)に下部層を有すると、基材と交互積層構造との密着性が更に向上するため、好ましい。その中でも、下部層は、上記と同様の観点から、Ti、Zr、Hf、V、Nb、Ta、Cr、Mo、W、Al、SiおよびYからなる群より選ばれる少なくとも1種の元素と、C、N、OおよびBからなる群より選ばれる少なくとも1種の元素とからなる化合物を含むと好ましく、TiおよびAlからなる群より選ばれる少なくとも1種の元素と、C、N、OおよびBからなる群より選ばれる少なくとも1種の元素とからなる化合物を含むとより好ましく、TiおよびAlからなる群より選ばれる少なくとも1種の元素と、N元素とからなる化合物を含むと更に好ましい。ただし、下部層は、交互積層構造における化合物層と組成が異なる。また、下部層は単層であってもよく2層以上の多層であってもよい。
 本実施形態において、下部層の平均厚さが0.1μm以上3.5μm以下であると、基材と被覆層との密着性が更に向上する傾向を示すため、好ましい。同様の観点から、下部層の平均厚さは、0.1μm以上3.0μm以下であるとより好ましく、0.1μm以上2.5μm以下であると更に好ましい。
 本実施形態の被覆層は、交互積層構造の基材とは反対側(すなわち、交互積層構造の表面)に上部層を有してもよい。上部層は、Ti、Zr、Hf、V、Nb、Ta、Cr、Mo、W、Al、SiおよびYからなる群より選ばれる少なくとも1種の元素と、C、N、OおよびBからなる群より選ばれる少なくとも1種の元素とからなる化合物を含むと、耐摩耗性に一層優れるので、さらに好ましい。また、上記と同様の観点から、上部層は、Ti、Nb、CrおよびAlからなる群より選ばれる少なくとも1種の元素と、C、N、OおよびBからなる群より選ばれる少なくとも1種の元素とからなる化合物を含むとより好ましく、Ti、Nb、CrおよびAlからなる群より選ばれる少なくとも1種の元素と、Nとからなる化合物を含むとさらに好ましい。ただし、上部層は、交互積層構造における化合物層と組成が異なる。また、上部層は単層であってもよく2層以上の多層であってもよい。
 本実施形態において、上部層の平均厚さが0.1μm以上3.5μm以下であると、耐摩耗性に更に優れる傾向を示すため好ましい。同様の観点から、上部層の平均厚さは、0.2μm以上3.0μm以下であるとより好ましい。
 本実施形態の被覆切削工具における被覆層の製造方法は、特に限定されるものではない。例えば、被覆層は、イオンプレーティング法、アークイオンプレーティング法、スパッタ法、およびイオンミキシング法などの物理蒸着法によって、上記で説明した交互積層構造における各化合物層を順に形成することで得られる。特に、アークイオンプレーティング法によって形成された被覆層は、基材との密着性が高い。したがって、これらの中では、アークイオンプレーティング法が好ましい。
 本実施形態の被覆切削工具の製造方法について、具体例を用いて説明する。なお、本実施形態の被覆切削工具の製造方法は、当該被覆切削工具の構成を達成し得る限り、特に制限されるものではない。
 まず、工具形状に加工した基材を物理蒸着装置の反応容器内に収容し、金属蒸発源を反応容器内に設置する。その後、反応容器内をその圧力が1.0×10-2Pa以下になるまで真空引きし、反応容器内のヒーターにより基材をその温度が600℃~700℃になるまで加熱する。加熱後、反応容器内にアルゴン(Ar)ガスを導入して、反応容器内の圧力を0.5Pa~5.0Paとする。圧力0.5Pa~5.0PaのArガス雰囲気にて、基材に-350V~-500Vのバイアス電圧を印加し、反応容器内のタングステンフィラメントに40A~50Aの電流を流す条件下で、基材の表面にArガスによるイオンボンバードメント処理を施す。基材の表面にイオンボンバードメント処理を施した後、反応容器内をその圧力が1.0×10-2Pa以下になるまで真空引きする。
 次いで、基材をその温度が250℃以上500℃以下になるように、ヒーターの温度を調整して加熱した後、窒素(N)ガスとArガスを反応容器内に導入する。その後、反応容器内の圧力を2.0~4.0Paにして、基材に-40~-150Vのバイアス電圧を印加する。そして、各層の金属成分に応じた金属蒸発源をアーク放電により蒸発させることによって、基材の表面に各層を形成することができる。この際、基材を固定したテーブルを回転させながら、離れた位置に置かれた2種類以上の金属蒸発源を同時にアーク放電により蒸発させることにより、交互積層構造を構成する各化合物層を形成することができる。この場合、反応容器内の基材を固定した回転テーブルの回転数を調整することによって、交互積層構造を構成する各化合物層の厚さを制御することができる。あるいは、2種類以上の金属蒸発源を交互にアーク放電により蒸発させることによって、交互積層構造を構成する化合物層を形成することもできる。この場合、金属蒸発源のアーク放電時間をそれぞれ調整することによって、交互積層構造を構成する各化合物層の厚さを制御することができる。
 本実施形態の交互積層構造におけるTiに対するTiの比[Ti/Ti]を所定の値にするには、交互積層構造を形成する時に、バイアス電圧、並びに、反応容器内に導入するNガスとArガスの混合割合を調整するとよい。より具体的には、より高い負のバイアス電圧を印加するほど(例えば、-150Vの方が-40Vよりも高い)、金属蒸発源に対向する面のTiの含有比率が高くなる。一方、金属蒸発源に対向していない面のTiの含有比率は、低くなる。また、反応容器内に導入するNガスとArガスの混合割合について、Arガスの割合を高くし、交互積層構造を形成すると、金属蒸発源に対向する面のTiの含有比率が高くなる。金属蒸発源に対向する面が逃げ面となるように設置し、バイアス電圧、並びに、反応容器内に導入するNガスとArガスの混合割合を調整することにより、Ti/Tiを所定の値にすることができる。
 本実施形態の被覆切削工具における被覆層を構成する各層の厚さは、例えば、被覆切削工具の断面組織から、透過型電子顕微鏡(TEM)を用いて測定することができる。より具体的には、被覆切削工具において、金属蒸発源に対向する面の刃先稜線部から、当該面の中心部に向かって50μmの位置の近傍における、3箇所以上の断面での各層の厚さを測定する。得られた各層の厚さの相加平均値を、被覆切削工具における各層の平均厚さと定義することができる。
 本実施形態の被覆切削工具における被覆層を構成する各層の組成は、本実施形態の被覆切削工具の断面組織から、エネルギー分散型X線分析装置(EDS)や波長分散型X線分析装置(WDS)などを用いた測定により決定することができる。
 また、本実施形態の交互積層構造におけるTiに対するTiの比、[Ti/Ti]は、本実施形態の被覆切削工具の断面組織から、TEMに付属したEDSを用いた測定により、求めることができる。より具体的には、逃げ面の刃先稜線部から、当該逃げ面の中心部に向かって50μmの位置の近傍における、交互積層構造を構成する各層(例えば上記A層およびB層)のTiの含有比率をそれぞれ測定する。なお、Tiの含有比率の測定は、各層について3箇所以上の断面で行う。被覆層がA層およびB層を有する場合、A層およびB層におけるTiの含有比率を相加平均した値を交互積層構造中のTiの含有比率Tiとする。同様に、すくい面の刃先稜線部から、当該すくい面の中心部に向かって50μmの位置の近傍における交互積層構造のTiの含有比率Tiを求める。得られたTiおよびTiから、Tiに対するTiの比[Ti/Ti]を算出することができる。
 以下、実施例によって本発明を更に詳細に説明するが、本発明はこれらの実施例に限定されるものではない。
(実施例1)
 基材として、ISO規格SEEN1203AGTN形状のインサートに加工し、93.0WC-7.0Co(以上質量%)の組成を有する超硬合金を用意した。アークイオンプレーティング装置の反応容器内に、表1および表2に示す各層の組成になるよう金属蒸発源を配置した。用意した基材を、反応容器内の回転テーブルの治具に固定した。このとき、金属蒸発源に対向する面が逃げ面となるように基材を設置した。
 その後、反応容器内をその圧力が5.0×10-3Pa以下になるまで真空引きした。真空引きした後、反応容器内のヒーターにより、基材をその温度が600℃になるまで加熱した。加熱後、反応容器内にその圧力が5.0PaになるようにArガスを導入した。
 圧力5.0PaのArガス雰囲気にて、基材に-450Vのバイアス電圧を印加して、反応容器内のタングステンフィラメントに45Aの電流を流す条件下で、基材の表面にArガスによるイオンボンバードメント処理を30分間施した。イオンボンバードメント処理終了後、反応容器内をその圧力が5.0×10-3Pa以下になるまで真空引きした。
 真空引き後、基材をその温度が400℃になるまで加熱し、表3および表4に示す条件でNガスおよびArガスを反応容器内に導入し、その圧力が3.0Paになるように調整した。
 次いで、発明品1~17および比較品1~9について、表1および表2に示すA層およびB層を交互に形成して交互積層構造を得た。詳細には、表3および表4に示す条件で基材にバイアス電圧を印加して、A層の金属蒸発源とB層の金属蒸発源とを同時にアーク電流120Aのアーク放電により蒸発させて、A層およびB層を交互に形成した。このとき、A層の厚さおよびB層の厚さは、回転テーブルの回転数を1~5rpmの範囲で調整することで制御した。なお、表中の「組成差の絶対値」は、A層とB層との間の「組成差の絶対値」である(以下同様。)。
 一方、比較品10においては、基材に-50Vのバイアス電圧を印加して、アーク電流120Aのアーク放電により金属蒸発源を蒸発させて、表2に示す単層の化合物層を形成した。
 基材の表面に、表1および表2に示す所定の平均厚さになるよう各層を形成した後に、ヒーターの電源を切り、試料温度が100℃以下になった後で、反応容器内から試料を取り出した。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000001
 
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000002
 
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000003
 
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000004
 
 得られた試料の各層の平均厚さは、被覆切削工具の金属蒸発源に対向する面(逃げ面)の刃先稜線部から当該面の中心部に向かって50μmの位置の近傍において、3箇所の断面をTEM観察し、各層の厚さを測定し、その相加平均値を計算することで求めた。得られた試料の各層の組成は、被覆切削工具の金属蒸発源に対向する面(逃げ面)の刃先稜線部から当該面の中心部に向かって50μmの位置の近傍の断面において、EDSを用いて測定した。それらの結果も、表1および表2に示した。なお、表1および表2の各層の金属元素の組成比は、各層を構成する化合物における金属元素全体に対する各金属元素の原子比を示す。また、このとき得られたA層におけるTiの含有比率とB層におけるTiの含有比率(いずれも原子基準)を相加平均した値を、逃げ面における交互積層構造中のTiの含有比率Tiとした。同様に、得られた被覆切削工具において、すくい面の刃先稜線部から当該面の中心部に向かって50μmの位置の近傍の断面において、EDSを用いて測定した値から、すくい面における交互積層構造中のTiの含有比率Tiを求めた。A層におけるTiの含有比率とB層におけるTiの含有比率(いずれも原子基準)を相加平均した値をTiとした。Ti/Tiの結果を、表5および表6に示す。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000005
 
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000006
表中の「*」は、(Ti0.50Al0.50)N単層における、Ti/Tiを求めた。
 得られた試料を用いて、以下の切削試験1および切削試験2を行い、耐欠損性および耐摩耗性を評価した。
[切削試験1 耐摩耗性試験]
被削材:SKD61、
被削材形状:100mm×250mm×100mmの直方体、
切削速度:250m/min、
送り:0.25mm/tooth、
切り込み:1.5mm、
クーラント:無し、
評価項目:逃げ面摩耗幅が0.3mmに至ったときを工具寿命とし、工具寿命に至るまでの加工長を測定した。
[切削試験2 耐欠損性試験]
被削材:SKD61、
被削材形状:100mm×250mm×100mmの直方体(但し、正面フライス加工を行う直方体の100mm×250mmの面に直径φ40mmの穴が6箇所明けられている。)、
切削速度:200m/min、
送り:0.20mm/tooth、
切り込み:2.0mm、
クーラント:有り、
評価項目:試料が欠損(試料の切れ刃部に欠けが生じる)したとき、または逃げ面摩耗幅が0.3mmに至ったときを工具寿命とし、工具寿命に至るまでの加工長を測定した。
 切削試験の結果を表7および表8に示す。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000007
 
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000008
 
 表7および表8の結果から明らかなように、耐摩耗性試験において、発明品の加工長は全て8.5m以上であるが、比較品の加工長は8.5m以下であった。したがって、発明品の耐摩耗性は、比較品と比べ、同等以上であることが分かった。また、耐欠損性試験において、発明品の耐欠損性試験の加工長は4.0m以上であるが、比較品の加工長は3.2m以下であった。したがって、発明品の耐欠損性は、比較品よりも優れることが分かった。以上の結果より、発明品は、耐摩耗性および耐欠損性に優れるため、工具寿命が長くなっていることが分かった。
(実施例2)
 基材として、ISO規格SEEN1203AGTN形状のインサートに加工し、93.0WC-7.0Co(以上質量%)の組成を有する超硬合金を用意した。アークイオンプレーティング装置の反応容器内に、表9に示す各層の組成になるよう金属蒸発源を配置した。用意した基材を、反応容器内の回転テーブルの治具に固定した。
 その後、反応容器内をその圧力が5.0×10-3Pa以下になるまで真空引きした。真空引きした後、反応容器内のヒーターにより、基材をその温度が600℃になるまで加熱した。加熱後、反応容器内にその圧力が5.0PaになるようにArガスを導入した。
 圧力5.0PaのArガス雰囲気にて、基材に-450Vのバイアス電圧を印加して、反応容器内のタングステンフィラメントに45Aの電流を流す条件下で、基材の表面にArガスによるイオンボンバードメント処理を30分間施した。イオンボンバードメント処理終了後、反応容器内をその圧力が5.0×10-3Pa以下になるまで真空引きした。
 真空引き後、基材をその温度が400℃になるまで加熱し、Nガスを反応容器内に導入し、反応容器内を3.0Paになるように調整した。
 次いで、発明品18~21の表9に示す下部層を形成した。詳細には、基材に-50Vのバイアス電圧を印加して、アーク電流120Aのアーク放電により金属蒸発源を蒸発させて下部層を形成した。下部層を形成した後、反応容器内をその圧力が5.0×10-3Pa以下になるまで真空引きした。
 真空引き後、表10に示す条件でNガスとArガスとを反応容器内に導入し、反応容器内を3.0Paになるように調整した。次いで、発明品18~21の表9に示すA層とB層を形成した。詳細には、表10に示す条件で基材にバイアス電圧を印加して、A層の金属蒸発源とB層の金属蒸発源とを同時にアーク電流120Aのアーク放電により蒸発させて、A層とB層とを交互に形成した。このときA層の厚さおよびB層の厚さは、回転テーブルの回転数を1~5rpmの範囲で調整することで制御した。
 交互積層構造を形成した後、反応容器内をその圧力が5.0×10-3Pa以下になるまで真空引きした。真空引き後、Nガスを反応容器内に導入し、反応容器内が3.0Paになるように調整した。次いで、発明品18~21について、基材に-50Vのバイアス電圧を印加して、アーク電流120Aのアーク放電により金属蒸発源を蒸発させて、表9に示す上部層を形成した。
 基材の表面に、表9に示す所定の厚さまで各層を形成した後に、ヒーターの電源を切り、試料温度が100℃以下になった後で、反応容器内から試料を取り出した。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000009
 
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000010
 
 得られた試料の各層の平均厚さは、被覆切削工具の金属蒸発源に対向する面(逃げ面)の刃先稜線部から当該面の中心部に向かって50μmの位置の近傍において、3箇所の断面をTEM観察し、各層の厚さを測定し、その相加平均値を計算することで求めた。得られた試料の各層の組成は、被覆切削工具の金属蒸発源に対向する面(逃げ面)の刃先稜線部から当該面の中心部に向かって50μmまでの位置の近傍の断面において、EDSを用いて測定した。それらの結果も、表9に示した。なお、表9の各層の金属元素の組成比は、各層を構成する化合物における金属元素全体に対する各金属元素の原子比を示す。また、このとき得られた、A層におけるTiの含有比率とB層におけるTiの含有比率(いずれも原子基準)を相加平均した値を、逃げ面における交互積層構造中のTiの含有比率Tiとした。同様に、得られた被覆切削工具において、すくい面の刃先稜線部から当該面の中心部に向かって50μmまでの位置の近傍の断面において、EDSを用いて測定した値から、すくい面における交互積層構造中のTiの含有比率Tiを求めた。A層におけるTiの含有比率とB層におけるTiの含有比率(いずれも原子基準)を相加平均した値をTiとした。Ti/Tiの結果を、表11に示す。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000011
 
 得られた試料を用いて、実施例1と同様の切削試験を行い、評価した。切削試験の結果を表12に示す。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000012
 
 表12に示す結果より、耐摩耗性試験において、発明品の加工長は全て9.0m以上であるが、実施例1における比較品の加工長は8.5m以下であった。したがって、発明品の耐摩耗性は、比較品よりも優れることが分かった。また、耐欠損性試験において、発明品の耐欠損性試験の加工長は、5.7m以上であるが、実施例1における比較品の加工長は3.2m以下であった。したがって、発明品の耐欠損性は、比較品よりも優れることが分かった。これらのことから、発明品は、上部層および下部層を有したとしても、耐摩耗性および耐欠損性に優れ、工具寿命が長くなっていることが分かった。
 本発明の被覆切削工具は、特に高速で、かつ高送り加工において耐摩耗性および耐欠損性に優れることにより、従来よりも工具寿命を延長できるので、産業上の利用価値が高い。
 1…基材、2…下部層、3…A層、4…B層、5…上部層、6…交互積層構造、7…被覆層、8…被覆切削工具。
 

Claims (7)

  1.  基材と前記基材の表面に形成された被覆層とを含む被覆切削工具であって、前記被覆層は、組成の異なる2種又は3種以上の化合物層を交互に各2層以上積層した交互積層構造を有し、
     前記交互積層構造は、下記式(1):
     (TiSi)N  (1)
    [式中、MはZr、Hf、V、Nb、Ta、Cr、Mo、WおよびAlからなる群より選ばれる少なくとも1種の元素を表し、xはTiとMで表される元素とSiとの合計に対するTiの原子比を表し、yはTiと前記Mで表される元素とSiとの合計に対する前記Mで表される元素の原子比を表し、zはTiと前記Mで表される元素とSiとの合計に対するSiの原子比を表し、0.20≦x≦0.50、0.20≦y≦0.50、0.03≦z≦0.30、x+y+z=1を満足する。]
    で表される組成を有する化合物を含む化合物層と、下記式(2):
     (TiSi)N  (2)
    [式中、MはZr、Hf、V、Nb、Ta、Cr、Mo、WおよびAlからなる群より選ばれる少なくとも1種の元素を表し、aはTiとMで表される元素とSiとの合計に対するTiの原子比を表し、bはTiと前記Mで表される元素とSiとの合計に対する前記Mで表される元素の原子比を表し、cはTiと前記Mで表される元素とSiとの合計に対するSiの原子比を表し、0.20≦a≦0.49、0.21≦b≦0.50、0.04≦c≦0.30、a+b+c=1を満足する。]
    で表される組成を有する化合物を含む化合物層とから構成され、
     前記交互積層構造を構成する化合物層に含まれる全金属元素の量に対する特定の金属元素の量と、当該化合物層に隣接した前記交互積層構造を構成する他の化合物層に含まれる全金属元素の量に対する前記特定の金属元素の量と、の差の絶対値が、0原子%を超えて大きく、かつ、5原子%未満であり、
     前記化合物層のそれぞれの平均厚さは、1nm以上50nm以下であり、前記交互積層構造の平均厚さは、1.0μm以上15μm以下である、被覆切削工具。
  2.  前記交互積層構造を構成する前記化合物層に含まれる全金属元素の量に対する特定の金属元素の量と、当該化合物層に隣接した前記交互積層構造を構成する前記他の化合物層に含まれる全金属元素の量に対する前記特定の金属元素の量と、の差の絶対値が、1原子%以上4原子%以下である、請求項1に記載の被覆切削工具。
  3.  前記被覆切削工具は、すくい面と逃げ面との交差稜線に切刃を有し、
     前記すくい面における前記交互積層構造中のTiの原子基準での含有比率をTiとし、
     前記逃げ面における前記交互積層構造中のTiの原子基準での含有比率をTiとしたとき、
     Tiに対するTiの比[Ti/Ti]が、1.05以上1.20以下である、請求項1または2に記載の被覆切削工具。
  4.  前記被覆層は、前記基材と前記交互積層構造との間に、下部層を有し、
     前記下部層は、Ti、Zr、Hf、V、Nb、Ta、Cr、Mo、W、Al、SiおよびYからなる群より選ばれる少なくとも1種の元素と、C、N、OおよびBからなる群より選ばれる少なくとも1種の元素とからなる化合物の単層または積層であり、
     前記下部層の平均厚さは、0.1μm以上3.5μm以下である、請求項1~3のいずれか1項に記載の被覆切削工具。
  5.  前記被覆層は、前記交互積層構造の表面に、上部層を有し、
     前記上部層は、Ti、Zr、Hf、V、Nb、Ta、Cr、Mo、W、Al、SiおよびYからなる群より選ばれる少なくとも1種の元素と、C、N、OおよびBからなる群より選ばれる少なくとも1種の元素とからなる化合物の単層または積層であり、
     前記上部層の平均厚さは、0.1μm以上3.5μm以下である、請求項1~4のいずれか1項に記載の被覆切削工具。
  6.  前記被覆層全体の平均厚さは、1.0μm以上15μm以下である、請求項1~5のいずれか1項に記載の被覆切削工具。
  7.  前記基材は、超硬合金、サーメット、セラミックスまたは立方晶窒化硼素焼結体のいずれかである、請求項1~6のいずれか1項に記載の被覆切削工具。
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