[go: up one dir, main page]

WO2016185714A1 - マグネトロンスパッタリング装置用の回転式カソードユニット - Google Patents

マグネトロンスパッタリング装置用の回転式カソードユニット Download PDF

Info

Publication number
WO2016185714A1
WO2016185714A1 PCT/JP2016/002409 JP2016002409W WO2016185714A1 WO 2016185714 A1 WO2016185714 A1 WO 2016185714A1 JP 2016002409 W JP2016002409 W JP 2016002409W WO 2016185714 A1 WO2016185714 A1 WO 2016185714A1
Authority
WO
WIPO (PCT)
Prior art keywords
target
path
passage
fluid circulation
cylindrical body
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Ceased
Application number
PCT/JP2016/002409
Other languages
English (en)
French (fr)
Inventor
修司 齋藤
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Ulvac Inc
Original Assignee
Ulvac Inc
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Ulvac Inc filed Critical Ulvac Inc
Priority to CN201680028805.4A priority Critical patent/CN107614743B/zh
Priority to JP2017518765A priority patent/JP6205527B2/ja
Priority to KR1020177036221A priority patent/KR102053286B1/ko
Publication of WO2016185714A1 publication Critical patent/WO2016185714A1/ja
Anticipated expiration legal-status Critical
Ceased legal-status Critical Current

Links

Images

Classifications

    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
    • C23C14/34—Sputtering
    • C23C14/3407—Cathode assembly for sputtering apparatus, e.g. Target
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
    • C23C14/34—Sputtering
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
    • C23C14/34—Sputtering
    • C23C14/35—Sputtering by application of a magnetic field, e.g. magnetron sputtering
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
    • H01J37/32—Gas-filled discharge tubes
    • H01J37/34—Gas-filled discharge tubes operating with cathodic sputtering
    • H01J37/3411—Constructional aspects of the reactor
    • H01J37/3414—Targets

Definitions

  • the present invention relates to a rotary cathode unit used in a magnetron sputtering apparatus.
  • This type of rotary cathode unit is known from Patent Document 1, for example.
  • This conventional example includes a cylindrical target, a drive block for rotationally driving the target, and a fluid circulation means having a fluid circulation passage for circulating a fluid as cooling water or compressed air.
  • the driving block is provided with a fluid inlet and outlet, and a first forward path of the fluid circulation passage leading to the inlet and a first return path of the fluid circulation path leading to the outlet are provided therein.
  • a pipe is provided in the target, and the space between the target and the pipe constitutes the second forward path of the fluid circulation path that leads to the first forward path, and the internal space of the pipe leads to the first return path.
  • a second return path of the fluid circulation passage is configured.
  • a cap body that closes the end opening of the target is attached to the end of the target on the drive block side.
  • a fluid passage is formed in the cap body, and an inflow opening that allows inflow of fluid from the second forward passage to the fluid passage is partially formed at an outer edge thereof so that the second forward passage and the second return passage communicate with each other. I have to.
  • the cooling water is supplied to the fluid circulation path so that the second forward path and the second return path in the target are filled with the cooling water, and the target is rotated by the drive block. Accordingly, the target is cooled by heat exchange with the cooling water flowing from the second forward path to the second backward path through the inflow opening of the cap body that rotates integrally therewith.
  • the pushed cooling water flows from the inflow opening of the cap body into the fluid passage in the cap body, flows through the fluid passage to the downstream end of the second return path, and is drained from the target. Along with this, the water level in the second forward path decreases downward in the vertical direction. At this time, in the above-mentioned conventional example, the cooling water flows only through the fluid passage of the cap body to the second return path only while the inflow opening of the rotating cap body is submerged, so that the water level is lowered. Accordingly, there is a problem in that the cooling water drainage speed decreases and it takes time to drain the cooling water.
  • the present invention provides a rotary cathode unit for a magnetron sputtering apparatus configured to be able to discharge cooling water remaining in a target as quickly and reliably as possible. It is what.
  • a rotary cathode unit for a magnetron sputtering apparatus of the present invention comprising a cylindrical target, a drive block for rotationally driving the target, and a fluid circulation means having a fluid circulation passage for circulating the fluid.
  • a drive block that rotates along the axial direction of the target, an outer cylindrical body that is arranged concentrically with the inner cylindrical body and is connected to one end in the axial direction of the target, and rotationally drives the outer cylindrical body.
  • the internal space of the inner cylinder constitutes the first forward path of the fluid circulation path
  • the space between the inner cylinder and the outer cylinder constitutes the first return path of the fluid circulation path
  • the target is extrapolated to a tubular body extending in the axial direction, and a second forward path of a fluid circulation path communicating with the first forward path and a second backward path of a fluid circulation path communicating with the first backward path are disposed in the tubular body.
  • a disc-shaped regulation plate that closes the right end opening of the target is fixed to the left side of the outer cylinder, with the side from the target to the drive block on the right side and the side from the drive block to the target on the left side.
  • a communication path extending in the radial direction from the outer edge of the restriction plate to a position facing the first return path is formed on the surface, and the flow of fluid between the second return path and the first return path is restricted by this communication path, and the diameter of the communication path It is characterized by comprising a detecting means for detecting the attitude of the regulating plate whose direction tip is directed downward in the vertical direction.
  • a rotary cathode unit is set in a vacuum chamber, and electric power having a negative potential is applied to the target while rotating the target at a predetermined rotational speed via a drive block in a vacuum atmosphere.
  • the target is sputtered.
  • cooling water as a fluid is circulated in the fluid circulation passage, and the target is cooled by heat exchange with the cooling water. Then, when the rotary cathode unit is removed from the vacuum chamber for maintenance including target replacement, the target is drained prior to this.
  • the drive block stops the rotational driving of the target, or the water draining operation is performed.
  • the posture of the restricting plate is changed so that the radial tip of the communication path is directed downward in the vertical direction based on the detection result of the detection means, and held in this state. Then, instead of supplying the cooling water to the first forward path, compressed air is supplied to the first forward path.
  • the cooling water in the fluid circulation passage is sequentially pushed by the compressed air, and is discharged through the first forward path in the drive block, the second forward path in the target, the second return path in the target, and the first return path in the drive block. Is done.
  • the water level in the second return path in the target decreases downward in the vertical direction, but the fluid inlet to the communication path of the restriction plate (that is, the outer edge of the restriction plate) is always in the lowest position in the vertical direction. Therefore, a path through which only compressed air preferentially passes is not formed until all the cooling water in the second return path is pushed out, and the cooling water in the fluid circulation passage is surely removed. .
  • the inlet of the communication path is substantially submerged, so that the cooling water can be drained to the first return path as quickly as possible with the compressed air.
  • the restriction plate for restricting the flow of fluid is provided in the component of the driving means for rotationally driving the target and the posture can be controlled at the time of draining operation, it remains in the target. Cooling water can be discharged as quickly and reliably as possible.
  • the driving means includes a motor and a belt wound between the driving shaft of the motor and the outer peripheral surface of the outer cylinder, and is provided on a pulley on which the belt is wound. What is necessary is just to comprise the said detection means with the attached sensor. Thereby, when performing draining operation, the structure for always making the front-end
  • FIG. 1 The figure explaining the structure of the rotation cathode unit for sputtering devices of this invention.
  • the fragmentary sectional view which expands and shows the principal part of a rotation cathode unit.
  • the perspective view explaining a control board.
  • the rotary cathode unit RC includes a cylindrical target Tg that is vertically opposed to a substrate W that is a film formation target in a vacuum chamber (not shown), and a clamp Cp at the right end of the target Tg. And a support block Sb connected to the left end of the target Tg via a clamp Cp.
  • the support block Sb is provided with a driven shaft 12 supported by a bearing 11 so as to rotatably support one end of the target Tg.
  • the target Tg includes a cylindrical backing tube 21 and a cylindrical target material 22 joined to the backing tube 21 via a bonding material (not shown) such as indium or tin.
  • a bonding material such as indium or tin.
  • As the target material 22 a material appropriately selected from metals and metal compounds according to the composition of the film to be formed on the substrate W is used.
  • the backing tube 21 is extrapolated to an outer tube 23 as a tubular body extending substantially over the entire length of the target Tg in the left-right direction, and an inner tube 24 as a tubular body is provided concentrically within the outer tube 23. Yes. Openings at both ends in the left and right direction of the outer tube 23 are respectively closed by cap bodies 25, and axial through holes 25 a are respectively formed in the cap bodies 25.
  • the inner space of the inner pipe 24 is the second forward path 26 of the fluid circulation passage Fp that constitutes the fluid circulation means Fu that circulates the fluid that is the cooling water or the compressed air during the sputtering of the target material 22 or during the draining operation.
  • the space between the outer tube 23 and the inner tube 24 forms a second return path 27 of the fluid circulation passage Fp.
  • a magnet unit having a known structure is incorporated in the space between the outer tube 23 and the inner tube 24, and the target material 22 is sputtered between the substrate W and the target Tg.
  • a leakage magnetic field is generated so that a line passing through a position where the vertical component of the magnetic field becomes zero extends along substantially the entire axial length of the target material 22 and closes in a racetrack shape.
  • the tubular body a double tube structure in which the inner tube 24 and the outer tube 23 are concentrically arranged is exemplified, but the tube body is not limited to this, and the second outbound path 26 while supporting the target Tg. Any form can be used as long as the second return path 27 can be provided.
  • the drive block Db includes a housing 41, and an inner cylindrical body 42 extending in the left-right direction is provided upright on the right inner wall of the housing 41. It is connected to.
  • An outer cylinder 43 is disposed around the inner cylinder 42 fixed to the housing 41 so as to be concentric with the inner cylinder 42.
  • An annular recess 43 a that is recessed in the radial direction is formed on the inner peripheral surface of the outer cylinder 43, and the recess 43 a contacts the outer surface of the inner cylinder 42 and the inner surface of the outer cylinder 43, respectively. Then, a brush 44 for electrically connecting the two is fitted.
  • the inner space of the inner cylinder 42 forms the first forward path 45 of the fluid circulation passage Fp, and the space between the inner cylinder 42 and the outer cylinder 43 constitutes the first return path 46 of the fluid circulation path Fp.
  • the brush 44 is provided with a through hole 44 a penetrating in the left-right direction so as to constitute a part of the first return path 46.
  • the outer cylinder 43 is rotatably supported by a support member 5 inserted in the housing 41 via a plurality of bearings 51. Oil seals 52 are externally inserted into the outer cylinder 43 so as to be positioned on both sides of the bearing 51 in the left-right direction.
  • the drive block Db is provided with drive means 6 that rotationally drives the outer cylinder 43 and rotationally drives the target Tg connected thereto.
  • the driving means 6 includes a motor 61 and a belt 63 wound around a pulley 62 provided on a driving shaft of the motor 61 and an outer peripheral surface of the outer cylinder 43.
  • the pulley 62 is provided with a sensor 64 as a detecting means, and as will be described later, the sensor 64 has a notch 48c, which is a distal end in the radial direction of the communication path 48e, of a regulating plate 48 that is directed downward in the vertical direction.
  • the posture is detected. Since a well-known sensor can be used as the sensor 64, a detailed description including a method for detecting the attitude of the regulating plate 48 is omitted.
  • a detection means what detects the rotation angle and origin position of a motor, ie, a well-known sensor, an encoder, etc. according to the kind of motor 61 used can also be used, for example, rotation drive of the motor 61 is carried out. When the motor is stopped, the motor 61 is stopped in a state in which the motor is returned to the origin position, and at this time, the notch 48c may be set to be in the posture of the regulating plate 48 directed downward in the vertical direction.
  • a conductive flange 47 is attached to the left end of the outer cylinder 43 in a liquid-tight manner, and is connected to the backing tube 21 via the flange 47 by a clamp Cp.
  • the target Tg is rotationally driven integrally with the outer cylinder 43 at a predetermined rotational speed.
  • a restricting plate 48 is attached to the left end of the outer cylinder 43 so as to be in close contact with the left side of the flange 47 and close the right end opening of the backing tube 21.
  • the restriction plate 48 is provided with a central opening 48 a through which the inner cylinder body 42 is inserted, and three through holes 48 b are formed around the central opening 48 a.
  • the restricting plate 48 is fixed to the left end of the outer cylinder 43 by a bolt (not shown) together with the flange 47 through the through hole 48b.
  • a notch 48c that forms a predetermined gap with the inner peripheral surface of the backing tube 21 is partially formed on the outer edge of the regulating plate 48, and a fluid inlet is defined by the notch 48c.
  • a groove portion 48 d extending in the radial direction from the notch 48 c to a position facing the first return path 46 is formed in the right surface of the restriction plate 48, and a communication path 48 e is formed between the groove portion 48 d and the left side surface of the flange 47. Try to form.
  • the length of the notch 48c, the gap between the inner peripheral surface of the backing tube 21 and the width of the groove 48d are the flow rate of cooling water circulated during sputtering and the supply of compressed air for the draining operation described later.
  • the width of the groove 48d may be formed in a tapered shape that tapers from the outer edge toward the first return path 46.
  • the restriction plate 48 restricts the flow of fluid between the second return path 27 and the first return path 46.
  • the housing 41 is provided with an original forward path 71 and an original return path 72 inside, and an electrically conductive main pipe 7 whose tip is connected to the inner cylindrical body 42.
  • the original forward path 71 communicates with the first forward path 45 in the inner cylinder 42
  • the original return path 72 communicates with the first return path 46
  • the main pipe 7 is connected to the chiller unit Ch.
  • a branch pipe 81 is connected to the main pipe 7, and is connected to a compressor 8 having a known structure via an on-off valve 82.
  • the fluid circulation passage Fp, the chiller unit Ch, and the compressor 8 constitute the fluid circulation means Fu of this embodiment.
  • an output cable 9 from a sputter power source (not shown) is connected to the main tube 7.
  • the inner cylinder 42 is electrically connected to the outer cylinder 43 via the brush 44, and the outer cylinder 43 is electrically connected to the backing tube 21 and eventually the target material 22 via the flange 47 (that is, the inner cylinder 42 42 and the target material 22 have the same potential).
  • a predetermined electric power having a negative potential is applied to the target material 22 via the output cable 9 from the sputtering power source while the outer cylinder 43 is rotated by the motor 61 to drive the target Tg.
  • the target material 22 can be sputtered.
  • cooling water is circulated in the fluid circulation path Fp by the chiller unit Ch, and the target material 22 is cooled by heat exchange with the cooling water.
  • the target material 22 is eroded by sputtering, it is necessary to periodically remove and replace the rotary cathode unit RC, and the operation of draining the cooling water remaining in the target Tg prior to the replacement. (Draining operation) is performed.
  • the notch 48c which is the distal end in the radial direction of the communication path 48e, assumes the posture of the regulating plate 48 that is directed downward in the vertical direction, according to the detection result from the sensor 64. I have to.
  • the water supply from the chiller unit Ch is stopped, the on-off valve 82 is opened, and the compressed air from the compressor 8 is supplied to the original forward path 71.
  • the water is drained through the first return path 72 through the first forward path 45 in the drive block Db, the second forward path 26 in the target Tg, the second return path 27 in the target Tg, and the first return path 46 in the drive block Db.
  • the water level in the second return path 27 is lowered downward in the vertical direction, but the fluid inlet as the notch 48c of the restriction plate 48 is always located at the lowest position in the vertical direction.
  • a path through which only compressed air preferentially passes is not formed until all the cooling water in the return path 27 is pushed out, and the cooling water in the fluid circulation path Fp is reliably removed.
  • the inlet of the communication path is substantially submerged, so that the cooling water and the compressed air are transferred to the first return path 46 through the communication path 48e as quickly as possible. It can be drained. Therefore, the cooling water remaining in the target Tg can be discharged as quickly and reliably as possible.
  • the regulation plate 48 is fixed to the outer cylinder 43 on the drive block Db side, the regulation plate 48 is attached to the outer cylinder 43 even if the clamp Cp is removed and the target Tg is removed from the drive block Db. It remains. For this reason, after completion of maintenance such as target replacement, for example, an operation is performed in which the position of the restriction plate 48 is readjusted so that the notch 48c is oriented downward in the vertical direction at the detection position of the sensor 64, for example. This can be eliminated and maintenance can be improved.
  • the present invention is not limited to the above.
  • the notch 48c which is the radial tip of the communication path 48e, is set to the posture of the regulating plate 48 that is directed downward in the vertical direction.
  • the motor 61 is rotated in accordance with the detection value of the detection means 64 to cut out the notch 48c.
  • the position of the restricting plate 48 may be oriented downward in the vertical direction.
  • RC Rotary cathode unit, Db ... Drive block, Fp ... Fluid circulation passage, Fu ... Fluid circulation means, Tg ... Target, 42 ... Inner cylinder, 43 ... Outer cylinder (cylinder), 45 ... First forward path ( Fluid circulation path), 46 ... first return path (fluid circulation path), 48 ... regulator plate, 48e ... communication path (fluid circulation path), 23 ... outer tube (pipe), 61 ... motor (drive means), 64 ... Sensor (detection means).

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Plasma & Fusion (AREA)
  • Analytical Chemistry (AREA)
  • Physical Vapour Deposition (AREA)

Abstract

ターゲットＴｇ内に残留する冷却水を可及的速やかかつ確実に排出することができるように構成したマグネトロンスパッタリング装置用の回転式カソードユニットＲＣを提供する。　ターゲットを回転駆動する駆動ブロックＤｂの内筒体４２の内部空間を流体循環通路Ｆｐの第１往路４６、内筒体と外筒体４３との間の空間を第１復路４７とする、ターゲット内の管体２３，２４に、第１往路に連通する第２往路２６と、第１復路に連通する第２復路２７とを設ける。外筒体の左側部分に、ターゲットの右端開口を閉塞する円盤状の規制板４８を固定し、規制板の右側の面に規制板の外縁から第１復路を臨む位置まで径方向にのびる連通路４８ｅを形成し、連通路により第２復路と第１復路との間における流体の流れを規制する。連通路の径方向先端が鉛直方向下方を指向する規制板の姿勢を検出する検出手段６４を備える。

Description

マグネトロンスパッタリング装置用の回転式カソードユニット
　本発明は、マグネトロンスパッタリング装置に用いられる回転式カソードユニットに関する。
　この種の回転式カソードユニットは例えば特許文献１で知られている。この従来例のものは、円筒状のターゲットと、このターゲットを回転駆動する駆動ブロックと、冷却水または圧縮空気たる流体を循環させる流体循環通路を有する流体循環手段とを備える。駆動ブロックには、流体の流入口と流出口とが設けられ、その内部には、流入口に通じる流体循環通路の第１往路と流出口に通じる流体循環通路の第１復路とが設けられている。他方、ターゲット内には管体が設けられ、ターゲットと管体との間の空間が第１往路に通じる流体循環通路の第２往路を構成すると共に、管体の内部空間が第１復路に通じる流体循環通路の第２復路を構成するようにしている。
　ターゲットの駆動ブロック側の端部にはターゲットの端部開口を閉塞するキャップ体が装着されている。キャップ体内には流体通路が形成され、その外縁には、第２往路から流体通路への流体の流入を許容する流入開口が部分的に形成され、第２往路と第２復路とが連通するようにしている。そして、ターゲットに電力投入してターゲットをスパッタリングする間、ターゲット内の第２往路と第２復路とが冷却水で満たされるように流体循環通路に冷却水が供給され、駆動ブロックによるターゲットの回転に伴ってこれと一体に回転するキャップ体の流入開口を通して第２往路から第２復路へと流れる冷却水との熱交換でターゲットが冷却される。
　ところで、ターゲットはスパッタリングにより侵食されていくため、定期的に交換する必要があり、このとき、メンテナンス性等を考慮すれば、ターゲット内に残留する冷却水を確実に排水（水抜き）しておく必要がある。上記従来例のものでは、スパッタリング時と同様、ターゲットを回転させながら、冷媒循環路内に冷却水にかえて圧縮空気を供給し、ターゲット内に残留する冷却水を排水するようにしている（水抜き操作）。ここで、ターゲットの軸線が水平となる姿勢である場合において水抜き操作を行うと、第２復路の上流端から供給される圧縮空気により第２往路内に残留する冷却水が先ず押され、この押された冷却水がキャップ体の流入開口からキャップ体内の流体通路に流入し、この流体通路を経て第２復路の下流端へと流れてターゲットから排水される。これに伴って第２往路内の水位が鉛直方向下方へと低下していく。このとき、上記従来例のものでは、回転するキャップ体の流入開口が水没している間だけしか、冷却水がキャップ体の流体通路を経て第２復路へと流れないため、水位が低下するのに従い、冷却水の排水速度が低下し、冷却水の排水に時間を要するという問題がある。
米国特許公開２０１０／２４３４２８号
　本発明は、以上の点に鑑み、ターゲット内に残留する冷却水を可及的速やかかつ確実に排出することができるように構成したマグネトロンスパッタリング装置用の回転式カソードユニットを提供することをその課題とするものである。
　上記課題を解決するために、筒状のターゲットと、ターゲットを回転駆動する駆動ブロックと、流体を循環させる流体循環通路を有する流体循環手段とを備える本発明のマグネトロンスパッタリング装置用の回転式カソードユニットは、駆動ブロックが、ターゲットの軸線方向に沿ってのびる内筒体と、内筒体と同心に配置されてターゲットの軸線方向一端が連結される外筒体と、この外筒体を回転駆動する駆動手段とを有し、内筒体の内部空間が流体循環通路の第１往路を構成すると共に、内筒体と外筒体との間の空間が流体循環通路の第１復路を構成し、ターゲットがその軸線方向に亘ってのびる管体に外挿され、管体内に、第１往路に連通する流体循環通路の第２往路と、第１復路に連通する流体循環通路の第２復路とが設けられ、ターゲットから駆動ブロックに向かう側を右側、駆動ブロックからターゲットに向かう側を左側として、外筒体の左側部分に、ターゲットの右端開口を閉塞する円盤状の規制板が固定され、規制板の右側の面に規制板の外縁から第１復路を臨む位置まで径方向にのびる連通路が形成されてこの連通路により第２復路と第１復路との間における流体の流れが規制され、連通路の径方向先端が鉛直方向下方を指向する規制板の姿勢を検出する検出手段を備えることを特徴とする。
　本発明によれば、真空チャンバに回転式カソードユニットをセットし、真空雰囲気中で駆動ブロックを介して所定の回転速度でターゲットを回転駆動させながら、ターゲットに負の電位を持った電力を投入することでターゲットがスパッタリングされる。スパッタリング中、流体循環通路に流体としての冷却水を循環させ、冷却水との熱交換でターゲットが冷却される。そして、ターゲット交換を含むメンテナンス等のため、真空チャンバから回転式カソードユニットを取り外す場合、これに先立ってターゲット内の水抜き操作が行われる。
　ここで、本発明では、連通路の径方向先端が鉛直方向下方を指向する規制板の姿勢を検知する検出手段を備えるため、駆動ブロックによりターゲットの回転駆動を停止するときや、水抜き操作を行う直前に、検出手段の検出結果に基づいて連通路の径方向先端が鉛直方向下方を指向するように規制板の姿勢が変えられ、この状態で保持される。そして、第１往路への冷却水の供給に代えて、この第１往路に圧縮空気を供給する。これにより、圧縮空気で流体循環通路内の冷却水が順次押され、駆動ブロック内の第１往路、ターゲット内の第２往路、ターゲット内の第２復路及び駆動ブロック内の第１復路を経て排水される。このとき、ターゲット内の第２復路内の水位が鉛直方向下方へと低下していくが、規制板の連通路への流体の流入口（即ち、規制板の外縁）が常時鉛直方向最下方に位置しているため、第２復路内の冷却水の全てが押し出されるまで圧縮空気のみが優先的に通過する経路が形成されることがなく、流体循環通路内の冷却水が確実に除去される。しかも、ターゲット内の第２復路内の水位が低下しても、連通路の流入口はほぼ水没しているため、冷却水を圧縮空気と共に可及的速やか第１復路へと排水することができる。このように本発明では、ターゲットを回転駆動する駆動手段の構成部品に流体の流れを規制する規制板を設けると共に、水抜き操作に際してはその姿勢を制御できる構成を採用したため、ターゲット内に残留する冷却水を可及的速やかかつ確実に排出することができる。
　本発明において、前記駆動手段は、モータとこのモータの駆動軸と外筒体の外周面との間に巻き掛けられるベルトとを備え、この駆動軸に設けられてベルトが巻き掛けられるプーリ―に付設したセンサで前記検知手段を構成すればよい。これにより、水抜き操作を行うときには常に規制板の先端が鉛直方向下方を向く姿勢にするための構成が簡単に実現できる。
本発明のスパッタリング装置用の回転カソードユニットの構成を説明する図。 回転カソードユニットの要部を拡大して示す部分断面図。 規制板を説明する斜視図。
　以下、図面を参照して、本発明のマグネトロンスパッタリング装置用の回転式カソードユニットの実施形態を説明する。以下において、図１に示す回転式カソードユニットの水平姿勢で図外の真空チャンバに設置されるものとし、これを基準として鉛直方向としての「上」、「下」並びに「右」、「左」と言った方向を示す用語を用いるものとする。
　図１を参照して、回転式カソードユニットＲＣは、図外の真空チャンバ内で成膜対象物たる基板Ｗに上下方向で対向配置される円筒状のターゲットＴｇと、ターゲットＴｇの右端にクランプＣｐを介して連結される駆動ブロックＤｂと、ターゲットＴｇの左端にクランプＣｐを介して連結される支持ブロックＳｂとを備えている。支持ブロックＳｂには、軸受１１で支承された被動軸１２が設けられ、ターゲットＴｇの一端を回転自在に支持するようになっている。ターゲットＴｇは、筒状のバッキングチューブ２１と、バッキングチューブ２１にインジウムやスズなどのボンディング材（図示せず）を介して接合される筒状のターゲット材２２とで構成される。ターゲット材２２としては、基板Ｗに成膜しようする膜の組成に応じて金属や金属化合物の中から適宜選択されたものが用いられる。
　バッキングチューブ２１は、ターゲットＴｇの軸方向たる左右方向略全長に亘ってのびる管体としての外管２３に外挿され、外管２３内には同心に管体としての内管２４が設けられている。外管２３の左右方向両端の開口はキャップ体２５で夫々閉塞され、キャップ体２５には軸方向の透孔２５ａが夫々開設されている。そして、内管２４の内部空間が、ターゲット材２２のスパッタリング中や水抜き操作の際に、冷却水または圧縮空気たる流体を循環させる流体循環手段Ｆｕを構成する流体循環通路Ｆｐの第２往路２６を構成し、外管２３と内管２４との間の空間が流体循環通路Ｆｐの第２復路２７を構成する。なお、特に図示して説明しないが、例えば外管２３と内管２４との間の空間に公知の構造を持つ磁石ユニットを組み込み、ターゲット材２２のスパッタリング中、基板ＷとターゲットＴｇとの間の間に磁場の垂直成分がゼロとなる位置を通る線がターゲット材２２の軸方向略全長に沿ってのびてレーストラック状に閉じるように漏洩磁場を発生させるようにしている。また、管体として、内管２４と外管２３とを同心に配置した二重管構造のものを例示したが、これに限定されるものではなく、ターゲットＴｇを支持しつつ第２往路２６と第２復路２７とを設けることができるものであればその形態は問わない。
　駆動ブロックＤｂは、図２に示すように、ハウジング４１を備え、ハウジング４１の右内壁には左右方向にのびる内筒体４２が立設され、内筒体４２の左端が内管２４に液密に連結されている。ハウジング４１に固定の内筒体４２の周囲には、この内筒体４２と同心に外筒体４３が配置されている。外筒体４３の内周面には、径方向にくぼむ環状の凹部４３ａが形成され、この凹部４３ａには、内筒体４２の外表面と外筒体４３の内表面とに夫々接触して両者を電気的に接続するブラシ４４が嵌着されている。この場合、内筒体４２の内部空間が流体循環通路Ｆｐの第１往路４５を形成し、内筒体４２と外筒体４３との間の空間が流体循環通路Ｆｐの第１復路４６を構成する。なお、ブラシ４４には左右方向に貫通する貫通孔４４ａが開設され、第１復路４６の一部を構成するようにしている。
　外筒体４３は、複数の軸受５１を介してハウジング４１に内挿された支持部材５で回転自在に支持されている。外筒体４３には、軸受５１の左右方向両側に位置させてオイルシール５２が外挿されている。また、駆動ブロックＤｂには、外筒体４３を回転駆動してこれに連結されるターゲットＴｇを回転駆動する駆動手段６が設けられている。駆動手段６は、モータ６１と、モータ６１の駆動軸に設けたプーリ―６２と外筒体４３の外周面との間に巻き掛けられるベルト６３とを備える。また、プーリ―６２には、検知手段としてのセンサ６４が付設され、センサ６４により、後述するように、連通路４８ｅの径方向先端である切欠き４８ｃが鉛直方向下方を指向する規制板４８の姿勢が検出されるようにしている。センサ６４としては公知のものが利用できるため、規制板４８の姿勢の検出方法を含め、詳細な説明は省略する。なお、検知手段としては、モータの回転角や原点位置を検出するもの、即ち、使用されるモータ６１の種類に応じて公知のセンサやエンコーダ等を用いることもでき、例えば、モータ６１の回転駆動が停止されると、原点位置に復帰した状態でモータ６１が停止され、このとき、切欠き４８ｃが鉛直方向下方を指向する規制板４８の姿勢になるように設定してもよい。
　また、外筒体４３の左端には、導電性のフランジ４７が液密に取り付けられ、このフランジ４７を介してクランプＣｐによりバッキングチューブ２１と連結されている。これにより、モータ６１を駆動して外筒体４３を回転駆動すると、この外筒体４３と一体にターゲットＴｇが所定の回転数で回転駆動される。外筒体４３の左端にはまた、フランジ４７の左側に密着させてバッキングチューブ２１の右端開口を閉塞するように規制板４８が取り付けられている。図３も参照して、規制板４８には、内筒体４２が挿通される中央開口４８ａが開設され、その周囲に３個の透孔４８ｂが開設されている。そして、この透孔４８ｂを通して規制板４８がフランジ４７と共にボルト（図示せず）により外筒体４３の左端に固定されている。
　また、規制板４８の外縁には、バッキングチューブ２１の内周面との間で所定の隙間を形成する切欠き４８ｃが部分的に形成され、この切欠き４８ｃで流体の流入口が区画される。規制板４８の右側の面には、切欠き４８ｃから第１復路４６を臨む位置まで径方向にのびる溝部４８ｄが凹設され、この溝部４８ｄとフランジ４７の左側面との間で連通路４８ｅを形成するようにしている。この場合、切欠き４８ｃの長さ、バッキングチューブ２１の内周面との間の隙間及び溝部４８ｄの幅とは、スパッタリング中に循環させる冷却水の流量や後述の水抜き操作の圧縮空気の供給圧等に応じて適宜設定され、また、溝部４８ｄの幅は、外縁から第１復路４６に向かって先細りなテーパ状に形成してもよい。この規制板４８により第２復路２７と第１復路４６との間における流体の流れが規制される。
　ハウジング４１には、内部に元往路７１と元復路７２とが夫々設けられ、先端が内筒体４２に接続される導電性の元管７が設けられている。そして、元往路７１が内筒体４２内の第１往路４５に連通し、元復路７２が第１復路４６に連通し、元管７がチラーユニットＣｈに接続されている。また、元管７には分岐管８１が接続され、開閉弁８２を介して公知の構造を持つコンプレッサー８に接続されている。この場合、流体循環通路Ｆｐ、チラーユニットＣｈ並びにコンプレッサー８が本実施形態の流体循環手段Ｆｕを構成する。また、元管７には、図外のスパッタ電源からの出力ケーブル９が接続されている。内筒体４２が、ブラシ４４を介して外筒体４３と導通し、この外筒体４３が、フランジ４７を介してバッキングチューブ２１、ひいてはターゲット材２２に導通している（つまり、内筒体４２とターゲット材２２とが同電位となる）。これにより、モータ６１により外筒体４３を回転駆動してターゲットＴｇを回転駆動しながら、スパッタ電源からの出力ケーブル９を介してターゲット材２２に例えば負の電位を持った所定電力を投入することでターゲット材２２をスパッタリングすることができ、スパッタリング中には、チラーユニットＣｈにより流体循環通路Ｆｐ内に冷却水を循環させ、冷却水との熱交換でターゲット材２２が冷却される。
　ここで、上記ターゲット材２２はスパッタリングにより侵食されていくため、定期的に回転式カソードユニットＲＣを取り外して交換する必要があり、この交換に先立ってターゲットＴｇ内に残留する冷却水を排水する操作（水抜き操作）が行われる。本実施形態では、モータ６１が停止されるとき、センサ６４からの検出結果に応じて、連通路４８ｅの径方向先端である切欠き４８ｃが鉛直方向下方を指向する規制板４８の姿勢になるようにしている。そして、水抜き操作に際しては、チラーユニットＣｈからの給水が停止され、開閉弁８２を開弁してコンプレッサー８からの圧縮空気が元往路７１に供給する。これにより、駆動ブロックＤｂ内の第１往路４５、ターゲットＴｇ内の第２往路２６、ターゲットＴｇ内の第２復路２７及び駆動ブロックＤｂ内の第１復路４６を経て元復路７２を介して排水される。
　このとき、第２復路２７内の水位が鉛直方向下方へと低下していくが、規制板４８の切欠き４８ｃとしての流体の流入口を常時鉛直方向最下方に位置させているため、第２復路２７内の冷却水の全てが押し出されるまで圧縮空気のみが優先的に通過する経路が形成されることがなく、流体循環通路Ｆｐ内の冷却水が確実に除去される。しかも、第２復路２７内の水位が低下しても、連通路の流入口はほぼ水没しているため、冷却水を圧縮空気と共に可及的速やかに連通路４８ｅを経て第１復路４６へと排水することができる。従って、ターゲットＴｇ内に残留する冷却水を可及的速やかかつ確実に排出することができる。また、駆動ブロックＤｂ側にて外筒体４３に規制板４８を固定しているため、クランプＣｐを外して駆動ブロックＤｂからターゲットＴｇを取り外しても、規制板４８は外筒体４３に取り付けられたままである。このため、ターゲット交換等のメンテナンス終了後に、例えばセンサ６４の検出位置にて切欠き４８ｃが鉛直方向下方を指向する規制板４８の姿勢になるように規制板４８の位置を再調節するといった作業を不要にでき、メンテナンス性を向上できる。
　以上、本発明の実施形態について説明したが、本発明は上記のものに限定されるものではない。上記実施形態では、原点位置に復帰した状態でモータ６１が停止されたとき、連通路４８ｅの径方向先端である切欠き４８ｃが鉛直方向下方を指向する規制板４８の姿勢になるように設定されているものを例に説明したが、スパッタリング装置の作動を集中制御する制御ユニットに水抜き操作の指示があった場合に、検出手段６４の検出値に応じてモータ６１を回転させて切欠き４８ｃが鉛直方向下方を指向する規制板４８の姿勢にするようにしてもよい。
　ＲＣ…回転式カソードユニット、Ｄｂ…駆動ブロック、Ｆｐ…流体循環通路、Ｆｕ…流体循環手段、Ｔｇ…ターゲット、４２…内筒体、４３…外筒体（筒体）、４５…第１往路（流体循環通路）、４６…第１復路（流体循環通路）、４８…規制板、４８ｅ…連通路（流体循環通路）、２３…外管（管体）、６１…モータ（駆動手段）、６４…センサ（検出手段）。

Claims (2)

  1. 　筒状のターゲットと、ターゲットを回転駆動する駆動ブロックと、流体を循環させる流体循環通路を有する流体循環手段とを備えるマグネトロンスパッタリング装置用の回転式カソードユニットであって、
    　駆動ブロックが、ターゲットの軸線方向に沿ってのびる内筒体と、内筒体と同心に配置されてターゲットの軸線方向一端が連結される外筒体と、この外筒体を回転駆動する駆動手段とを有し、内筒体の内部空間が流体循環通路の第１往路を構成すると共に、内筒体と外筒体との間の空間が流体循環通路の第１復路を構成し、ターゲットがその軸線方向に亘ってのびる管体に外挿され、管体内に、第１往路に連通する流体循環通路の第２往路と、第１復路に連通する流体循環通路の第２復路とが設けられるものにおいて、
    　ターゲットから駆動ブロックに向かう側を右側、駆動ブロックからターゲットに向かう側を左側として、外筒体の左側部分に、ターゲットの右端開口を閉塞する円盤状の規制板が固定され、規制板の右側の面に規制板の外縁から第１復路を臨む位置まで径方向にのびる連通路が形成されてこの連通路により第２復路と第１復路との間における流体の流れが規制され、連通路の径方向先端が鉛直方向下方を指向する規制板の姿勢を検出する検出手段を備えることを特徴とするマグネトロンスパッタリング装置用の回転式カソードユニット。
  2. 　前記駆動手段は、モータとこのモータの駆動軸と外筒体の外周面との間に巻き掛けられるベルトとを備え、この駆動軸に設けられてベルトが巻き掛けられるプーリ―に付設したセンサで前記検知手段を構成したことを特徴とする請求項１記載のマグネトロンスパッタリング装置用の回転式カソードユニット。
PCT/JP2016/002409 2015-05-19 2016-05-17 マグネトロンスパッタリング装置用の回転式カソードユニット Ceased WO2016185714A1 (ja)

Priority Applications (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN201680028805.4A CN107614743B (zh) 2015-05-19 2016-05-17 磁控溅射装置用的旋转阴极单元
JP2017518765A JP6205527B2 (ja) 2015-05-19 2016-05-17 マグネトロンスパッタリング装置用の回転式カソードユニット
KR1020177036221A KR102053286B1 (ko) 2015-05-19 2016-05-17 마그네트론 스퍼터링 장치용 회전식 캐소드 유닛

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2015-102213 2015-05-19
JP2015102213 2015-05-19

Publications (1)

Publication Number Publication Date
WO2016185714A1 true WO2016185714A1 (ja) 2016-11-24

Family

ID=57319871

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
PCT/JP2016/002409 Ceased WO2016185714A1 (ja) 2015-05-19 2016-05-17 マグネトロンスパッタリング装置用の回転式カソードユニット

Country Status (5)

Country Link
JP (1) JP6205527B2 (ja)
KR (1) KR102053286B1 (ja)
CN (1) CN107614743B (ja)
TW (1) TWI634223B (ja)
WO (1) WO2016185714A1 (ja)

Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN109943817A (zh) * 2017-12-20 2019-06-28 佳能特机株式会社 溅射装置及其使用方法
JP6646798B1 (ja) * 2018-10-17 2020-02-14 株式会社アルバック 接触式給電装置及び接触ユニット
WO2020079881A1 (ja) * 2018-10-17 2020-04-23 株式会社アルバック 接触式給電装置及び接触ユニット
CN111316397A (zh) * 2017-08-16 2020-06-19 零件喷涂公司 用于具有磁性靶材的溅射源的磁力释放
JPWO2022059278A1 (ja) * 2020-09-16 2022-03-24

Families Citing this family (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN111455326A (zh) * 2020-06-11 2020-07-28 中国航发航空科技股份有限公司 一种用于降低靶材冷却时间的真空电弧镀装置
KR102828506B1 (ko) * 2020-10-08 2025-07-03 가부시키가이샤 알박 회전식 캐소드 유닛용 구동 블록

Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH05230634A (ja) * 1992-02-20 1993-09-07 Kobe Steel Ltd アークイオンプレーティング装置
WO2007108313A1 (ja) * 2006-03-22 2007-09-27 Kabushiki Kaisha Kobe Seiko Sho アークイオンプレーティング方法及びこれに用いられるターゲット
JP2008066240A (ja) * 2006-09-11 2008-03-21 Shin Meiwa Ind Co Ltd プラズマガンのチャンバへの取り付け構造
US20100200395A1 (en) * 2009-02-06 2010-08-12 Anton Dietrich Techniques for depositing transparent conductive oxide coatings using dual C-MAG sputter apparatuses
US20100243428A1 (en) * 2009-03-27 2010-09-30 Sputtering Components, Inc. Rotary cathode for magnetron sputtering apparatus
WO2013076966A1 (ja) * 2011-11-22 2013-05-30 株式会社神戸製鋼所 プラズマ発生源及びこれを備えた真空プラズマ処理装置

Family Cites Families (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN2808932Y (zh) * 2005-03-14 2006-08-23 深圳南玻南星玻璃加工有限公司 大功率溅射镀膜源
DE112008000252T5 (de) * 2007-01-26 2009-12-17 Osaka Vacuum, Ltd. Sputter-Verfahren und Sputter-Vorrichtung
EP2360290A1 (en) * 2010-02-11 2011-08-24 Applied Materials, Inc. Method for producing an ITO layer and sputtering system
JP2012149339A (ja) * 2010-12-28 2012-08-09 Canon Anelva Corp スパッタリング装置、及び電子デバイスの製造方法
CN202181345U (zh) * 2011-06-20 2012-04-04 肇庆市前沿真空设备有限公司 真空磁控溅射的旋转靶装置
KR101079621B1 (ko) * 2011-06-30 2011-11-03 박경일 타겟과 백킹 플레이트의 비접착식 체결구조

Patent Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH05230634A (ja) * 1992-02-20 1993-09-07 Kobe Steel Ltd アークイオンプレーティング装置
WO2007108313A1 (ja) * 2006-03-22 2007-09-27 Kabushiki Kaisha Kobe Seiko Sho アークイオンプレーティング方法及びこれに用いられるターゲット
JP2008066240A (ja) * 2006-09-11 2008-03-21 Shin Meiwa Ind Co Ltd プラズマガンのチャンバへの取り付け構造
US20100200395A1 (en) * 2009-02-06 2010-08-12 Anton Dietrich Techniques for depositing transparent conductive oxide coatings using dual C-MAG sputter apparatuses
US20100243428A1 (en) * 2009-03-27 2010-09-30 Sputtering Components, Inc. Rotary cathode for magnetron sputtering apparatus
WO2013076966A1 (ja) * 2011-11-22 2013-05-30 株式会社神戸製鋼所 プラズマ発生源及びこれを備えた真空プラズマ処理装置

Cited By (12)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN111316397A (zh) * 2017-08-16 2020-06-19 零件喷涂公司 用于具有磁性靶材的溅射源的磁力释放
CN111316397B (zh) * 2017-08-16 2021-05-25 零件喷涂公司 用于具有磁性靶材的溅射源的磁力释放
CN109943817A (zh) * 2017-12-20 2019-06-28 佳能特机株式会社 溅射装置及其使用方法
JP2019108602A (ja) * 2017-12-20 2019-07-04 キヤノントッキ株式会社 スパッタ装置及びその使用方法
CN109943817B (zh) * 2017-12-20 2023-04-11 佳能特机株式会社 溅射装置及其使用方法
JP6646798B1 (ja) * 2018-10-17 2020-02-14 株式会社アルバック 接触式給電装置及び接触ユニット
WO2020079881A1 (ja) * 2018-10-17 2020-04-23 株式会社アルバック 接触式給電装置及び接触ユニット
KR20210071946A (ko) * 2018-10-17 2021-06-16 가부시키가이샤 아루박 접촉식 급전장치 및 접촉유닛
US11462873B2 (en) 2018-10-17 2022-10-04 Ulvac, Inc. Contact-type power supply apparatus and contact unit
KR102666846B1 (ko) 2018-10-17 2024-05-20 가부시키가이샤 아루박 접촉식 급전장치 및 접촉유닛
JPWO2022059278A1 (ja) * 2020-09-16 2022-03-24
JP7303393B2 (ja) 2020-09-16 2023-07-04 株式会社アルバック 回転式カソードユニット用の駆動ブロック

Also Published As

Publication number Publication date
TW201708584A (zh) 2017-03-01
KR20180006977A (ko) 2018-01-19
CN107614743B (zh) 2019-10-22
CN107614743A (zh) 2018-01-19
JPWO2016185714A1 (ja) 2017-11-02
KR102053286B1 (ko) 2019-12-06
JP6205527B2 (ja) 2017-09-27
TWI634223B (zh) 2018-09-01

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP6205527B2 (ja) マグネトロンスパッタリング装置用の回転式カソードユニット
US8182662B2 (en) Rotary cathode for magnetron sputtering apparatus
US10049863B2 (en) Sputtering target with backside cooling grooves
KR101712962B1 (ko) 냉각장치를 갖춘 진공펌프
CN107210571B (zh) 接触式供电装置
KR20050063078A (ko) 공작기계의 주축 내장형 스핀들 모터의 냉각장치
TWI710022B (zh) 氣體供給機構及半導體製造系統
JP2010075815A (ja) 遠心分離機
JP2010221360A (ja) 工作機械
JP7096287B2 (ja) 真空機器内の状態情報を求める方法
KR102354877B1 (ko) 스퍼터 장치 및 그 사용 방법
JP2004028164A (ja) ロータリジョイント
JP4847136B2 (ja) 真空処理装置
KR101778602B1 (ko) 플라즈마 증착 장치용 전극 본체 구동수단
KR102540118B1 (ko) 모터장치 및 윤활제 공급방법
JP6653968B2 (ja) 水中電動ポンプ
CN113164974A (zh) 连续离心机以及连续离心机的空气排出方法
CN106544633B (zh) 磁控管的传动机构及磁控溅射设备
US20240066650A1 (en) Dental drilling device having passive air curtain spindle
JP2006336034A (ja) 真空処理装置
JP4257177B2 (ja) 水素冷却回転電機の軸受装置
KR20050113411A (ko) 반도체 제조설비
KR20240069614A (ko) 스핀들 유닛 및 가공 장치
JP2008075724A (ja) スピンドル装置
KR20160119905A (ko) 마그넷 어셈블리 조립상태 점검방법 및 기판처리장치

Legal Events

Date Code Title Description
121 Ep: the epo has been informed by wipo that ep was designated in this application

Ref document number: 16796109

Country of ref document: EP

Kind code of ref document: A1

ENP Entry into the national phase

Ref document number: 2017518765

Country of ref document: JP

Kind code of ref document: A

NENP Non-entry into the national phase

Ref country code: DE

ENP Entry into the national phase

Ref document number: 20177036221

Country of ref document: KR

Kind code of ref document: A

122 Ep: pct application non-entry in european phase

Ref document number: 16796109

Country of ref document: EP

Kind code of ref document: A1