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WO2016027733A1 - 光反射フィルム、光反射フィルムの製造方法、光反射フィルムの加飾成型加工方法、合わせガラス及び曲面形状体 - Google Patents

光反射フィルム、光反射フィルムの製造方法、光反射フィルムの加飾成型加工方法、合わせガラス及び曲面形状体 Download PDF

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WO2016027733A1
WO2016027733A1 PCT/JP2015/072742 JP2015072742W WO2016027733A1 WO 2016027733 A1 WO2016027733 A1 WO 2016027733A1 JP 2015072742 W JP2015072742 W JP 2015072742W WO 2016027733 A1 WO2016027733 A1 WO 2016027733A1
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WO
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layer
light
film
reflecting film
light reflecting
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PCT/JP2015/072742
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English (en)
French (fr)
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陽明 森田
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Konica Minolta Inc
Original Assignee
Konica Minolta Inc
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Publication date
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Definitions

  • the present invention relates to a light reflecting film, a method for producing the light reflecting film, a method for decorating and forming the light reflecting film, a laminated glass, and a curved shape body. More specifically, it improves the self-healing deterioration of the stretched part when stretched into a curved shape and bonded, and has excellent scratch resistance and light resistance, its production method, and the addition of the light reflecting film.
  • the present invention relates to a decorative molding method, a laminated glass, and a curved body.
  • the base material when used outdoors, the base material is required to have scratch resistance and light resistance. Therefore, it is common to form a hard coat layer on a substrate.
  • an ultraviolet (UV) absorber or a light stabilizer also referred to as HALS in this application
  • a normal hard coat material cannot withstand long-term sunlight irradiation outdoors, There arises a problem that the substrate is deteriorated and the optical reflectance is lowered.
  • Patent Document 1 maintains a stretchability by providing a self-healing surface protective layer containing an actinic radiation curable polymer containing a hard coat agent, a light stabilizer and a UV absorber on a decorative film.
  • a technique for providing light resistance is disclosed.
  • the light reflecting member is bonded to the curved shape body described above, the light reflecting member is stretched into a curved shape, so that the self-healing property of the stretched portion is less than the self-healing property of the unstretched portion. There existed a problem that it deteriorated and the scratch resistance of the said part became inadequate.
  • the present invention has been made in view of the above-mentioned problems and situations, and the problem to be solved is to improve the deterioration of the self-restoring property of the stretched portion when stretched and pasted into a curved surface shape, and to have scratch resistance and light resistance. It is providing the light reflection film excellent in property, the manufacturing method of the said light reflection film, the decoration shaping
  • the present inventor is a light reflecting film in which a self-healing layer is formed on a light reflector having at least a base film and a light reflecting layer in the process of examining the cause of the above problems.
  • the degree of repair of the self-healing layer defined by the following formula is a specific value or more, and further, a curved surface shape by a light reflecting film provided with a buffer layer between the light reflector and the self-healing layer It was found that a light reflecting film excellent in scratch resistance and light resistance can be obtained by improving the deterioration of the self-restoring property of the stretched part when stretched and bonded.
  • the said buffer layer contains the polymer polymerized from the monomer composition containing at least 1 sort (s) chosen from an ultraviolet-stable monomer and at least 1 sort (s) chosen from an ultraviolet absorptive monomer, The said buffer before performing a decorative molding process 2.
  • molding process is 3 mass% or less,
  • Item 4 The light reflecting film according to any one of Items 1 to 3, wherein the light reflecting film has a light reflectance of 50% or more in a light wavelength range of 450 to 650 nm.
  • a method for producing a light reflecting film comprising: applying a self-healing layer on the buffer layer without applying an aging treatment after being applied to the substrate and then thermally cured.
  • a laminated glass comprising the light reflecting film according to item 4 sandwiched between two laminated glass constituting members.
  • a curved surface body comprising the light reflecting film according to Item 5.
  • the self-healing deterioration of the stretched part when stretched into a curved surface shape and pasted is improved, and the light reflecting film excellent in scratch resistance and light resistance, and the method for producing the light reflecting film ,
  • a decorative molding method of the light reflecting film, a laminated glass and a curved body can be provided.
  • a self-healing polymer can repair its elastic deformation against external stress, and can be self-healing even if there are fine scratches on the surface.
  • Self-healing containing the polymer as a surface protective layer By forming the layer, an excellent effect in impact resistance and scratch resistance can be expected. On the other hand, if the self-healing layer is plastically deformed, the deformation such as the scratch cannot be repaired.
  • the present invention is characterized in that the elasticity of the self-healing layer is controlled within a specific range, and further, a buffer layer is provided between the light reflector and the self-healing layer.
  • the self-healing layer and the buffer layer absorb the deformation stress from the base material side generated by stretching when joining, so that the base material side of the self-healing layer is not plasticized and the self-healing performance of the stretched part does not deteriorate I found.
  • the buffer layer according to the present invention contains a polymer having light stability and light absorption for ultraviolet rays, and further specifies the ratio of uncured monomer to the entire polymer in the buffer layer before and after the decorative molding process. It has been found that the elastic deformation region of the self-healing layer can be further expanded by adjusting the amount range.
  • Sectional drawing which shows the structure of the light reflection film of this invention Sectional drawing which showed an example of the structure of the light reflection film which comprises an infrared reflective layer Sectional drawing which showed another example of the structure of the light reflection film which comprises an infrared reflective layer Sectional drawing which shows the structure of the light reflection film which comprises a film mirror Sectional drawing which shows another structure of the light reflection film which comprises a film mirror
  • the light reflecting film of the present invention is a light reflecting film in which a self-healing layer is formed on a light reflector having at least a base film and a light reflecting layer, and the self-healing layer defined by the above formula is repaired.
  • the degree (A) is 0.02 or more, and a buffer layer is provided between the light reflection layer and the self-healing layer.
  • the buffer layer includes a monomer composition containing at least one selected from UV-stable monomers and at least one selected from UV-absorbing monomers. It contains a polymerized polymer, and the proportion of the uncured monomer in the buffer layer before the decorative molding process is 5% by mass or more, during the decorative molding process, the light reflecting film is stretched into a curved shape Then, it is preferable from the viewpoint that the buffer layer absorbs the deformation stress from the base material at the time of pasting and suppresses plastic deformation of the self-healing layer.
  • the ratio of the uncured monomer in the buffer layer after the decorative molding process is 3% by mass or less.
  • the buffer layer may be easily cracked. Therefore, this is a preferred embodiment from the viewpoint of improving the scratch resistance of the buffer layer itself.
  • the light reflection film having a light reflectance in the light wavelength range of 1000 to 1500 nm is preferably 50% or more as a heat-shielding film for window pasting, and a preferred embodiment as an infrared reflection film.
  • the light reflectance of the light reflection film in the light wavelength range of 450 to 650 nm is 50% or more, it is possible to provide a solar heat reflection film or a decorative film having a metallic luster. It is.
  • the method for producing a light reflecting film for producing the light reflecting film of the present invention includes applying a buffer layer coating solution for forming the buffer layer on the light reflector and then thermally curing it without performing an aging treatment.
  • a buffer layer coating solution for forming the buffer layer on the light reflector By the manufacturing method of forming a self-repair layer on the buffer layer, the proportion of the uncured monomer in the buffer layer before the decorative molding process can be controlled to a specific value or more, and the light reflecting film is curved Even if it extends
  • an adhesive layer or an adhesive layer is formed on the surface opposite to the self-repairing layer with respect to the light reflecting film, and the light reflecting film is bonded to the adhesive layer or the adhesive layer. It is preferable to bond the substrate on the substrate while thermoforming at a temperature of 80 ° C. or higher.
  • the buffer layer after being deformed into a curved surface shape is a self-healing layer by further thermosetting a part of the uncured polymer in the buffer layer and controlling the ratio to a specific value or less by setting the temperature to the temperature or higher. This is preferable from the viewpoint of deformation following the deformation of the external stress and suppressing the occurrence of cracks in the buffer layer itself.
  • the light reflecting film of the present invention is sandwiched between two laminated glass components to form a laminated glass.
  • the light reflecting film of the present invention is preferably provided on a curved substrate to form a curved body.
  • is used to mean that the numerical values described before and after it are included as a lower limit value and an upper limit value.
  • the light reflecting film of the present invention is a light reflecting film in which a self-healing layer is formed on a light reflector comprising at least a base film and a light reflecting layer, and the self-healing layer is defined by the following formula:
  • the degree (A) is 0.02 or more, and a buffer layer is provided between the light reflector and the self-healing layer.
  • the degree of repair (A) is a value obtained by the above-defined formula through an indentation depth setting load-unloading test, and is performed by the following method as an example.
  • FIG. 1 shows a load test force-indentation depth curve (indentation depth setting load-unloading test when the indenter is pushed in at the indentation depth, which is obtained by measuring the light reflecting film according to the present embodiment. is a graph showing an example of the resulting curve) to calculate the h 1 and h 2.
  • FIG. 1A represents a load test force-indentation depth curve with an unloading holding time of 0 seconds, and calculates h 1 .
  • Figure 1B load test force at unloading retention time of 60 seconds - represents the depth curve Push calculates the h 2.
  • a dynamic ultra-small hardness meter DUH-211S (manufactured by Shimadzu Corporation) can be used and measured under the following measurement conditions.
  • Indenter shape Triangular pyramid indenter (edge angle 115 °) Measurement environment: temperature 23 ° C, relative humidity 50% Maximum test load: 196.13mN Loading speed: 6.662 mN / 10 seconds Unloading speed: 6.662 mN / 10 seconds
  • the magnitude of the degree of repair (A) obtained by the above formula indicates self-healing properties, and is 0.02 or more. It can be said that it has the self-repairing property as referred to in the present application. That is, the value of the residual depth h 2 with respect to the residual depth h 1 is smaller, the more the difference is large, it said elastic self-healing layer is high, indicating that the self-repairing large degree.
  • the indentation depth setting load-repair degree (A) of the unloading test is preferably in the range of 0.02 to 0.90, and preferably in the range of 0.20 to 0.70. If it is in a range not exceeding 0.90, it is possible to achieve both hard coat properties and a degree of self-repair.
  • FIG. 2 shows the minimum configuration of the light reflecting film RF of the present invention.
  • the light reflecting film RF of the present invention is a light reflector 1 having a light reflecting layer 3 on at least one surface of a base film 2, a self-healing layer 5 on the surface having the light reflecting layer, and the light reflector 1 and the self
  • the buffer layer 4 is disposed between the repair layer 5 and the repair layer 5.
  • each functional layer may be provided on each of the respective layers and on the self-healing layer, and an adhesive layer or a self-healing layer 5 may be provided on the surface opposite to the self-healing layer 5 of the base film 2. It is also preferable to form an adhesive layer and bond the light reflecting film to the substrate.
  • the self-healing layer according to the present invention has a degree of repair (A) determined by an indentation depth setting load-unloading test of 0.02 or more when indented by the microhardness meter. It is characterized by being.
  • the degree of repair (A) is preferably in the range of 0.02 to 0.90, and preferably in the range of 0.20 to 0.70. If it is 0.02 or more, the self-healing layer can exhibit the self-healing property of the present application, and if it is within 0.90, the mechanical film strength such as hard coat property is excellent.
  • the self-healing layer according to the present invention is a layer mainly composed of an actinic radiation curable resin that is cured through a crosslinking reaction upon irradiation with actinic rays (also referred to as actinic energy rays) such as ultraviolet rays and electron beams. preferable.
  • actinic energy rays also referred to as actinic energy rays
  • ultraviolet rays and electron beams preferable.
  • an actinic radiation curable resin that can be used in the self-healing layer according to the present invention a component containing a monomer having an ethylenically unsaturated double bond is preferably used, and actinic radiation such as ultraviolet rays or electron beams is irradiated. This is cured to form an actinic radiation curable resin layer.
  • actinic radiation such as ultraviolet rays or electron beams
  • an active energy ray curable resin having an epoxy skeleton, or an active energy ray curable resin having an alkyl chain skeleton or an alkylene oxide skeleton is preferable.
  • Examples of the active energy ray-curable resin having an epoxy skeleton include epoxy (meth) acrylate.
  • the epoxy (meth) acrylate is obtained by reacting the tricarboxylic acid represented by the following (i) or (ii) with the (meth) acrylate having a monooxirane ring represented by the following (iii) or (iv): It is.
  • the tricarboxylic acid represented by (i) and the tricarboxylic acid represented by (ii) can be used alone or in combination.
  • the (meth) acrylate having a monooxirane ring represented by (iii) and the (meth) acrylate having a monooxirane ring represented by (iv) can be used alone or in combination.
  • R represents hydrogen or a hydroxy group.
  • a, b and d are integers of 0 to 8
  • c is an integer of 0 to 9
  • 0 ⁇ a + b + c + d ⁇ 9 and [a ⁇ d or (a d and b ⁇ c)].
  • R represents hydrogen or a methyl group
  • n represents an integer of 1 to 5
  • m represents an integer of 1 to 3.
  • R represents hydrogen or a methyl group, and s represents an integer of 1 to 10.
  • Epoxy (meth) acrylate has a good balance between the soft segment and the hard segment, and it is easy to obtain characteristics that easily relieve external stress.
  • trimellitic acid (ii) examples include 1,2,4-trimellitic acid, 1,3,5-trimellitic acid and 1,2,3-trimellitic acid.
  • Examples of the active energy ray-curable resin having an alkyl chain skeleton or an alkylene oxide skeleton include, for example, a (meth) acrylate having one hydroxy group and three or more (meth) acryloyl groups in the molecule having 2 to 4 carbon atoms.
  • Urethane (meth) acrylate obtained by reacting (meth) acrylate having the alkylene oxide skeleton (following (P1)) obtained by adding 1 to 20 moles of the above alkylene oxide with polyisocyanate (following (P2)) Can be mentioned.
  • Examples of the (meth) acrylate having one hydroxy group and three or more (meth) acryloyl groups in the molecule include pentaerythritol tri (meth) acrylate, diglycerin tri (meth) acrylate, and ditrimethylolpropane tri (meth).
  • Examples include acrylate, xylitol tetra (meth) acrylate, triglycerin tetra (meth) acrylate, dipentaerythritol penta (meth) acrylate, and sorbitol penta (meth) acrylate.
  • (meth) acrylates having one hydroxy group and 3 to 5 (meth) acryloyl groups in the molecule are preferred, such as pentaerythritol tri (meth) acrylate, xylitol tetra (meth) acrylate, and triglycerin tetra.
  • (Meth) acrylate and dipentaerythritol penta (meth) acrylate are mentioned. More preferred are pentaerythritol tri (meth) acrylate and dipentaerythritol penta (meth) acrylate.
  • alkylene oxide having 2 to 4 carbon atoms can be used. Specific examples include ethylene oxide, propylene oxide, butylene oxide, tetrahydrofuran and the like. These alkylene oxides may be used alone or in combination of two or more, and when two or more are used in combination, they may be subjected to addition polymerization in a random or block form. Of these, tetrahydrofuran is preferred, and the average number of moles of alkylene oxide added is 1 to 20, preferably 2 to 12.
  • the method for producing the (meth) acrylate (P1) component having an alkylene oxide skeleton can be carried out in the same manner as in ordinary ring-opening polymerization. For example, after charging a reaction vessel with (meth) acrylate and catalyst having one hydroxy group and three or more (meth) acryloyl groups in the molecule, a polymerization inhibitor and an organic solvent as necessary, Is substituted with an inert gas such as nitrogen gas, and alkylene oxide is injected to carry out addition polymerization.
  • the reaction temperature is usually ⁇ 30 to 120 ° C., preferably 0 to 80 ° C., more preferably 20 to 60 ° C.
  • reaction rate When it is lower than ⁇ 30 ° C., the reaction rate is slow, and when it is higher than 120 ° C., side reactions or polymerization may proceed excessively or the product may be colored.
  • the reaction time is usually 0.3 to 20 hours, more preferably 1 to 10 hours.
  • Polyisocyanate (P2) is an aliphatic, alicyclic or aromatic isocyanate containing at least two or more isocyanate groups in the molecule.
  • the bifunctional isocyanate include 1,4-tolylene diisocyanate, 2,4-tolylene diisocyanate, 2,6-tolylene diisocyanate, 1,3-xylylene diisocyanate, 1,5-naphthalene diisocyanate, 4,
  • aromatic and cycloaliphatic diisocyanates such as aromatic diisocyanates such as 4′-diphenylmethane diisocyanate, trimethylene diisocyanate, hexamethylene diisocyanate, 1,4-cyclohexane diisocyanate, dicyclohexylmethane diisocyanate, isophorone diisocyanate, and norbornane diisocyanate.
  • trifunctional isocyanate examples include 1,4-tolylene diisocyanate, 2,4-tolylene diisocyanate, 2,6-tolylene diisocyanate, 1,3-xylylene diisocyanate, hexamethylene diisocyanate, dicyclohexylmethane diisocyanate, isophorone.
  • polyfunctional isocyanate include isocyanate compounds obtained by reacting the diisocyanate with a polyol or polyamine.
  • trifunctional isocyanates modified by polycondensation of aliphatic diisocyanates and alicyclic diisocyanates, aliphatic diisocyanates and alicyclic diisocyanate monomers are preferred, such as hexamethylene diisocyanate, dicyclohexylmethane diisocyanate, isophorone diisocyanate and norbornane diisocyanate.
  • Aliphatic and alicyclic diisocyanates and trifunctional isocyanates obtained by modifying these diisocyanates with isocyanurates are more preferred.
  • These polyisocyanates may be used alone or in combination of two or more.
  • PE3A pentaerythritol triacrylate
  • PE4A pentaerythritol tetraacrylate
  • EO ethylene oxide
  • adsorbent KYOWARD 1000: manufactured by Kyowa Chemical Industry Co., Ltd.
  • the resulting viscous liquid has a hydroxy group value of 106 mgKOH / g, and when calculated from the hydroxy group value, a methacrylic acid having a number average molecular weight of 430 obtained by adding 3 mol of EO to PE3A is obtained, and EO3 mol of PE3A
  • the mass ratio of the adduct / PE4A mixture was 77/23.
  • the actinic radiation curable resin includes an ultraviolet curable acrylate resin, an ultraviolet curable urethane acrylate resin, an ultraviolet curable polyester acrylate resin, an ultraviolet curable epoxy acrylate resin, and an ultraviolet curable polyol.
  • ultraviolet curable acrylate resin an ultraviolet curable urethane acrylate resin
  • ultraviolet curable polyester acrylate resin an ultraviolet curable epoxy acrylate resin
  • ultraviolet curable epoxy resins examples thereof include acrylate resins and ultraviolet curable epoxy resins.
  • polyrotaxane can be used as the other actinic radiation curable resin in the self-healing layer according to the present invention.
  • polytaloxane for example, SM3405P, SM1315P, SA3405P, SA2405P, SA1315P, SM3400C, SA3400C, SA2400C (above, manufactured by Advanced Soft Materials Co., Ltd.) and the like can be preferably used.
  • thermosetting resin similarly, as a commercially available product of polyrotaxane, for example, SH3400P, SH2400P, SH1310P, and thermosetting elastomer, for example, SH3400S, SH3400M (above, manufactured by Advanced Soft Materials Co., Ltd.) are preferable. It can also be used.
  • the self-healing layer preferably contains a photopolymerization initiator to accelerate the curing of the actinic radiation curable resin.
  • Specific examples of the photopolymerization initiator include alkylphenone series, acetophenone, benzophenone, hydroxybenzophenone, Michler ketone, ⁇ -amyloxime ester, thioxanthone, and derivatives thereof. In particular, it is not limited to these.
  • photopolymerization initiators Commercially available products may be used as such photopolymerization initiators, and preferred examples include Irgacure 184, Irgacure 907, Irgacure 651 and the like manufactured by BASF Japan.
  • the self-healing layer may contain additives such as silicone surfactants, fluorine surfactants, anionic surfactants, fluorine-siloxane graft compounds, fluorine compounds, and acrylic copolymers.
  • Fine particles In order to improve the slipperiness of the surface of the self-healing layer, it may further contain fine particles (matting agent) as necessary.
  • the fine particles may be inorganic fine particles or organic fine particles.
  • inorganic fine particles include silicon dioxide (silica), titanium dioxide, aluminum oxide, zirconium oxide, calcium carbonate, calcium carbonate, talc, clay, calcined kaolin, calcined calcium silicate, hydrated calcium silicate, aluminum silicate, Examples include magnesium silicate and calcium phosphate.
  • silicon dioxide and zirconium oxide are preferable, and silicon dioxide is more preferable in order to reduce the increase in haze of the obtained film.
  • Examples of the fine particles of silicon dioxide include Aerosil R972, R972V, R974, R812, 200, 200V, 300, R202, OX50, TT600, NAX50 (manufactured by Nippon Aerosil Co., Ltd.), Seahoster KE-P10, KE-P30, KE-P50, KE-P100 (manufactured by Nippon Shokubai Co., Ltd.) and the like are included.
  • Aerosil R972V, NAX50, Seahoster KE-P30 and the like are particularly preferable because the friction coefficient is reduced while keeping the turbidity of the obtained self-repairing layer low.
  • the primary particle diameter of the fine particles is preferably in the range of 5 to 50 nm, more preferably in the range of 7 to 20 nm.
  • a larger primary particle size has a greater effect of improving the slipperiness, but the transparency tends to decrease. Therefore, the fine particles may be contained as secondary aggregates having a particle diameter in the range of 0.05 to 0.3 ⁇ m.
  • the size of the primary particles or the secondary aggregates of the fine particles is determined by observing the primary particles or secondary aggregates with a transmission electron microscope at a magnification of 500 to 2 million times, and 100 particles of primary particles or secondary aggregates. It can obtain
  • the content of the fine particles is preferably in the range of 0.05 to 1.0% by mass, more preferably in the range of 0.1 to 0.8% by mass with respect to the resin forming the self-healing layer. .
  • the self-healing layer can be formed by diluting the above-described components with a solvent to form a self-healing layer composition, which is applied to the light reflector through the buffer layer described later, dried and cured by the following method. preferable.
  • ketones methyl ethyl ketone, acetone, etc.
  • acetate esters methyl acetate, ethyl acetate, butyl acetate, etc.
  • alcohols ethanol, methanol
  • propylene glycol monomethyl ether cyclohexanone, methyl isobutyl ketone, etc.
  • the dry thickness of the self-healing layer is preferably in the range of an average layer thickness of 5 to 30 ⁇ m, more preferably in the range of 10 to 20 ⁇ m. Within this range, self-repairing properties can be exhibited and scratch resistance is also improved.
  • a gravure coater As a method for applying the self-healing layer, known methods such as a gravure coater, a dip coater, a reverse coater, a wire bar coater, a die coater, and an ink jet method can be used.
  • the self-healing layer layer composition After applying the self-healing layer layer composition, it may be dried and cured (irradiated with active rays (also referred to as UV curing treatment)), and if necessary, may be heat treated after UV curing.
  • the heat treatment temperature after UV curing is preferably 80 ° C. or higher, more preferably 100 ° C. or higher, and particularly preferably 120 ° C. or higher.
  • the drying temperature in the range of 15 to 70 ° C. for 15 seconds after the coating step is in the range of 60 to 120 ° C. in the range of 15 to 36 seconds, and after 36 seconds to less than 40 seconds.
  • the drying temperature is desirably in the range of 30 to 80 ° C.
  • Irradiation conditions vary depending on each lamp, but the irradiation amount of active rays is usually in the range of 30 to 1000 mJ / cm 2 , preferably in the range of 70 to 300 mJ / cm 2 .
  • oxygen removal for example, substitution with an inert gas such as nitrogen purge
  • the cured state of the surface can be controlled by adjusting the removal amount of the oxygen concentration.
  • the buffer layer according to the present invention is preferably a monomer composition comprising at least one selected from UV-stable monomers and at least one selected from UV-absorbing monomers from the viewpoint of improving light resistance.
  • the ratio of the uncured monomer in the buffer layer before the decorative molding process is 5% by mass or more.
  • the proportion of the uncured monomer in the buffer layer before the decorative molding process is preferably in the range of 5 to 80% by mass, and more preferably in the range of 5 to 60% by mass.
  • the buffering property is increased by setting it to 5% by mass or more, the stress relaxation when bonding to a curved body is good, and if it is 80% by mass or less, it is more effective in preventing plasticization of the self-healing layer. It is.
  • the ratio of the uncured monomer in the buffer layer after the decorative molding process is preferably 3% by mass or less.
  • the buffer layer is cured and deformation of the buffer layer can be suppressed when an external stress is applied, and the optical reflectance can be prevented from deteriorating.
  • the polymer that can be used in the buffer layer is preferably a polymerizable acrylic polymer that is polymerized from a monomer composition that includes at least one selected from UV-stable monomers and at least one selected from UV-absorbing monomers.
  • the UV-stable monomer as used in the present invention refers to a compound generally referred to as HALS (hindered amine light stabilizer), and is preferably an UV-stable monomer represented by the following general formulas (1) and (2).
  • the polymer preferably has a polymerizable double bond in the side chain of a polymer obtained by radical polymerization of a monomer composition containing at least one selected from the monomers.
  • R 1 represents a hydrogen atom or a cyano group.
  • R 2 and R 3 each independently represents a hydrogen atom or a methyl group.
  • R 4 represents a hydrogen atom or a hydrocarbon group having 1 to 18 carbon atoms.
  • X represents an oxygen atom or an imino group.
  • R 1 represents a hydrogen atom or a cyano group.
  • R 2 and R 3 each independently represent a hydrogen atom or a methyl group.
  • X represents an oxygen atom or an imino group.
  • the polymer which concerns on this invention contains at least 1 sort (s) chosen from the monomer composition that the monomer composition is represented by the following general formulas (3) and (4), and the monomer represented by (5). Is preferred.
  • R 5 represents a hydrogen atom or a hydrocarbon group having 1 to 8 carbon atoms.
  • R 6 represents a lower alkylene group.
  • R 7 represents a hydrogen atom or a methyl group.
  • Y represents hydrogen, halogen, or carbon number.
  • 1 to 8 represents a hydrocarbon group, a lower alkoxy group, a cyano group or a nitro group.
  • R 8 represents an alkylene group having 2 or 3 carbon atoms;
  • R 9 represents a hydrogen atom or a methyl group.
  • R 10 represents a hydrogen atom or a methyl group.
  • the polymerizable acrylic polymer used in the buffer layer according to the present invention includes a monomer composition containing at least one selected from ultraviolet-stable monomers represented by the general formulas (1) and (2) and a monomer having a functional group It is preferable to produce a polymer obtained by radical polymerization of a product by reacting a compound having a functional group that reacts with the functional group and a polymerizable double bond.
  • the polymerizable acrylic polymer used for the buffer layer exhibits excellent light resistance by containing the UV-stable monomer having the specific structure. Although such an action has not yet been fully elucidated, it is likely that the N-oxy radical generated by oxidation of the N-substituent of the piperidine skeleton traps the alkyl radical generated in the photoinitiation reaction of the polymer. It is presumed that this is the main effect.
  • the problem of bleeding out of the polymerization composition of the ultraviolet stabilizer can be solved.
  • the polymer since it has a polymerizable double bond in the side chain, it becomes a self-crosslinkable polymer and is excellent in scratch resistance.
  • it since it is an acrylic polymer, it is easy to balance physical properties depending on the length of the side chain alkyl group of the monomer to be copolymerized and the presence or absence of an aromatic ring.
  • the polymerizable acrylic polymer exhibits a remarkable synergistic effect in terms of light resistance when used in combination with an ultraviolet-absorbing monomer having a specific structure represented by the general formulas (3) and (4).
  • an unsaturated monomer having a specific structure may be further contained. Since the unsaturated monomer has a sterically bulky substituent, it has the effect of reducing the internal strain of the coating film in a curing method that tends to cause internal strain in the coating film, such as curing with an electron beam or ultraviolet light. Further, long-term light resistance is further improved without causing cracks in the coating film.
  • the substituent represented by R 1 is a hydrogen atom or a cyano group
  • the substituent represented by R 2 or R 3 Each group is independently composed of a hydrogen atom or a methyl group
  • the substituent represented by R 4 is composed of a hydrogen atom or a hydrocarbon group having 1 to 18 carbon atoms
  • the substituent represented by X is an oxygen atom or imino group It is a piperidine composed of a group.
  • substituent represented by R 4 include a hydrogen atom, methyl group, ethyl group, propyl group, isopropyl group, butyl group, isobutyl group, t-butyl group, pentyl group, hexyl group, heptyl group, Chain hydrocarbon groups such as octyl, nonyl, decyl, undecyl, dodecyl, tridecyl, tetradecyl, pentadecyl, hexadecyl, heptadecyl, octadecyl; cyclopropyl, cyclopentyl, cyclohexyl, cyclo An alicyclic hydrocarbon group such as a heptyl group and a cyclooctyl group; an aromatic hydrocarbon group such as a phenyl group, a tolyl group, a xylyl group, a benzy
  • UV-stable monomer represented by the general formula (1) examples include 4- (meth) acryloyloxy-2,2,6,6-tetramethylpiperidine, 4- (meth) acryloylamino-2. , 2,6,6-tetramethylpiperidine, 4- (meth) acryloyloxy-1,2,2,6,6-pentamethylpiperidine, 4- (meth) acryloylamino-1,2,2,6,6 -Pentamethylpiperidine, 4-cyano-4- (meth) acryloylamino-2,2,6,6-tetramethylpiperidine, 4-crotonoyloxy-2,2,6,6-tetramethylpiperidine, 4-croto Noylamino-2,2,6,6-tetramethylpiperidine and the like may be used, and only one of these may be used, or two or more may be used in appropriate mixture.
  • the ultraviolet-stable monomer of General formula (1) is not limited to these compounds.
  • UV-stable monomer represented by the general formula (2) examples include 1- (meth) acryloyl-4- (meth) acryloylamino-2,2,6,6-tetramethylpiperidine, (Meth) acryloyl-4-cyano-4- (meth) acryloylamino-2,2,6,6-tetramethylpiperidine, 1-crotonoyl-4-crotoyloxy-2,2,6,6-tetramethylpiperidine These may be used, and only one of these may be used, or two or more may be appropriately mixed and used.
  • the ultraviolet-stable monomer of General formula (2) is not limited to these.
  • R 5 is composed of a hydrogen atom or a hydrocarbon group having 1 to 8 carbon atoms
  • R 6 is composed of a lower alkylene group
  • R 7 is composed of a hydrogen atom or a methyl group
  • Y is benzotriazole composed of hydrogen, halogen, a hydrocarbon group having 1 to 8 carbon atoms, a lower alkoxy group, a cyano group or a nitro group.
  • the substituent represented by R 5 is specifically a hydrogen atom, methyl group, ethyl group, propyl group, isopropyl group, butyl group, isobutyl group, t-butyl group, pentyl group, hexyl group, Chain hydrocarbon group such as heptyl group, octyl group; cycloaliphatic hydrocarbon group such as cyclopropyl group, cyclopentyl group, cyclohexyl group, cycloheptyl group, cyclooctyl group; phenyl group, tolyl group, xylyl group, benzyl group , An aromatic hydrocarbon group such as a phenethyl group, and the substituent represented by R 6 is specifically an alkylene group having 1 to 6 carbon atoms, and includes a methylene group, an ethylene group, a propylene group, and a butylene group.
  • Linear alkylene groups such as pentylene group and hexylene group, isopropylene group, isobutylene group, s-butylene, t-butylene group, isopentylene group,
  • a branched alkylene group such as a pentylene group, and the substituent represented by Y is hydrogen; halogen such as fluorine, chlorine, sulfur, or iodine; methyl group, ethyl group, propyl group, isopropyl group, butyl group Chain hydrocarbon groups such as isobutyl group, t-butyl group, pentyl group, hexyl group, heptyl group and octyl group: cycloaliphatic groups such as cyclopropyl group, cyclopentyl group, cyclohexyl group, cycloheptyl group and cyclooctyl group Hydrocarbon group: Aromatic hydrocarbon group such as phenyl group, to
  • ultraviolet absorbing monomer represented by the general formula (3) examples include 2- [2′-hydroxy-5 ′-(methacryloyloxymethyl) phenyl] -2H-benzotriazole, 2-[[2 '-Hydroxy-5'-(methacryloyloxyethyl) phenyl]]-2H-benzotriazole, 2- [2'-hydroxy-3'-t-butyl-5 '-(methacryloyloxyethyl) phenyl] -2H-benzo Triazole, 2- [2'-hydroxy-5'-t-butyl-3 '-(methacryloyloxyethyl) phenyl] -2H-benzotriazole, 2- [2'-hydroxy-5'-(methacryloyloxyethyl) phenyl ] -5-chloro-2H-benzotriazole, 2- [2'-hydroxy-5 '-(methacryloyloxyethyl) ) Ph
  • the substituent represented by R 8 is composed of an alkylene group having 2 or 3 carbon atoms, and a hydrogen atom represented by R 9 or Benzotriazoles composed of a methyl group.
  • the substituent represented by R 8 is specifically an ethylene group, trimethylene group, propylene group or the like.
  • Examples of the ultraviolet absorbing monomer represented by the general formula (4) include 2- [2′hydroxy-5 ′-( ⁇ -methacryloyloxyethoxy) -3′-t-butylphenyl] -4-t- Examples include but are not limited to butyl-2H-benzotriazole. These ultraviolet-absorbing monomers represented by the general formula (4) may be used alone or in combination of two or more.
  • the substituent represented by R 10 is composed of a hydrogen atom or a methyl group, and the substituent represented by Z has a substituent. It is an unsaturated monomer composed of a cycloalkyl group.
  • the substituent represented by Z is a cyclohexyl group, a methylcyclohexyl group, a t-butylcyclohexyl group, a cyclododecyl group, or the like.
  • the unsaturated monomer represented by the general formula (5) used in the present invention include cyclohexyl (meth) acrylate, methylcyclohexyl (meth) acrylate, t-butylcyclohexyl (meth) acrylate, cyclododecyl ( (Meth) acrylate etc. are mentioned, These 1 type (s) or 2 or more types can be used.
  • the polymerizable acrylic polymer used in the present invention may be a copolymer made of an acrylic monomer as a main monomer and other copolymerizable unsaturated monomers.
  • acrylic monomers used in the present invention include acrylic carboxylic acids such as (meth) acrylic acid; methyl (meth) acrylate, ethyl (meth) acrylate, n-propyl (meth) acrylate, isopropyl (meth) acrylate, n -(Meth) acrylic acid esters such as butyl (meth) acrylate, t-butyl (meth) acrylate, 2-ethylhexyl (meth) acrylate, lauryltridecyl (meth) acrylate; 2-hydroxyethyl (meth) acrylate, 2- Hydroxypropyl (meth) acrylate, caprolactone-modified hydroxy (meth) acrylate (for example, “Placcel FM” manufactured by Daicel Corporation), (meth) acrylic acid monoester of ester diol obtained from phthalic acid and propylene glycol, etc.
  • acrylic carboxylic acids such as (meth) acrylic acid; methyl
  • copolymerizable unsaturated monomers include, for example, halogen-containing unsaturated monomers such as vinyl chloride and vinylidene chloride; aromatic unsaturated monomers such as styrene, ⁇ -methylstyrene and vinyltoluene; vinyl esters such as vinyl acetate; A vinyl ether etc. are mentioned, These 1 type (s) or 2 or more types can be used as needed.
  • the use amount of various monomers is not particularly limited, but the total use amount of the UV-stable monomers represented by the general formulas (1) and (2) is from 0.1 to the total amount of the polymer composition. It is desired to be 30% by mass. The more preferred range is preferably 0.5% by mass, more preferably 1% by mass as the lower limit side. The other upper limit is preferably 20% by mass, more preferably 15% by mass. When the total amount of the UV-stable monomer is within this range, the light resistance of the polymerizable acrylic polymer is sufficient.
  • the total amount of UV-absorbing monomers represented by the general formulas (3) and (4) is 0.1 to 30% by mass with respect to the total amount of the polymer composition.
  • the more preferred range is preferably 0.5% by mass, more preferably 1% by mass as the lower limit side.
  • the other upper limit is preferably 20% by mass, more preferably 15% by mass.
  • the synergistic effect with the UV-stable monomer is sufficient, and the light resistance is also sufficient.
  • the amount of the unsaturated monomer represented by the general formula (5) is desirably 5 to 80% by mass with respect to the total amount of the polymer composition.
  • the more preferable range is described.
  • the lower limit is preferably 10% by mass, and more preferably 15% by mass.
  • the other upper limit is preferably 70% by mass, more preferably 50% by mass. Within this range, cracks are hardly generated during curing, light resistance is sufficient, and there is no possibility that the cured coating film becomes brittle.
  • the polymerizable acrylic polymer of the present invention is obtained by radical polymerization of a monomer composition containing at least one selected from ultraviolet-stable monomers represented by the general formulas (1) and (2) and a monomer having a functional group.
  • the obtained polymer can be produced by reacting a functional group that reacts with the functional group and a compound having a polymerizable double bond.
  • the functional group used for introducing a polymerizable double bond include an epoxy group, an oxazoline group, an isocyanate group, an acid amide group (aminocarbonyl group), a carboxy group, a hydroxy group, and an amino group.
  • copolymerizable monomer having these functional groups include glycidyl (meth) acrylate, 2-isopropenyl-2-oxazoline, 4-epoxycyclohexylmethyl (meth) acrylate, ethyl isocyanate (meth) acrylate, N— Acrylamide, N-methoxymethylacrylamide, N-butoxymethylacrylamide, itaconic acid diamide, fumaric acid amide, phthalic acid amide, (meth) acrylate, itaconic acid, fumaric acid, maleic acid, 2-hydroxyethyl (meth) acrylate, 2 -Hydroxypropyl (meth) acrylate, dimethylaminoethyl (meth) acrylate, t-butylaminoethyl (meth) acrylate and the like.
  • compounds used for introducing a polymerizable functional group include compounds having a carboxy group such as (meth) acrylic acid and itaconic acid when the functional group is an epoxy group or an oxazoline group;
  • a carboxy group such as (meth) acrylic acid and itaconic acid when the functional group is an epoxy group or an oxazoline group
  • an isocyanate group a hydroxy group-containing monomer such as 2-hydroxyethyl (meth) acrylate, 2-hydroxypropyl (meth) acrylate, 4-hydroxybutyl (meth) acrylate
  • Epoxy group-containing monomers such as glycidyl (meth) acrylate, 2-isopropenyl-2-oxazoline, 4-epoxycyclohexylmethyl (meth) acrylate, 2-hydroxyethyl (meth) acrylate, 2-hydroxypropyl (meth) acrylate, 4 -Hydroxybutyl (meth) acryl Hydroxy group-containing
  • the double bond equivalent of the acrylic polymer of the present invention is preferably 200 to 3000, preferably 300 to 1500, and more preferably 350 to 1000.
  • the double bond equivalent is 3000 or less, hardness and scratch resistance are sufficient.
  • it is 200 or more, cracks hardly occur in the cured coating film over time, and light resistance is improved.
  • the polymerization method for copolymerizing the monomer components is not particularly limited, and conventionally known polymerization methods can be employed.
  • polymerization methods such as solution polymerization, dispersion polymerization, suspension polymerization, and emulsion polymerization can be used.
  • Solvents that can be used when polymerizing monomer components using the solution polymerization method include toluene, xylene, and other high-boiling aromatic solvents; ester solvents such as butyl acetate, ethyl acetate, and cellosolve acetate; methyl ethyl ketone, Examples thereof include ketone solvents such as methyl isobutyl ketone.
  • the solvent which can be used is not limited to these solvents. These solvents may be used alone or in combination of two or more. Note that the amount of the solvent used may be appropriately determined in consideration of the concentration of the product.
  • a polymerization initiator is used when the monomer composition is copolymerized.
  • the polymerization initiator include 2,2'-azobis- (2-methylbutyronitrile), t-butylperoxy-2-ethylhexanoate, 2,2'-azobisisobutyronitrile, benzoylper Examples thereof include usual radical polymerization initiators such as oxide and di-t-butyl peroxide.
  • the amount of the polymerization initiator used should be appropriately determined from the required characteristic values of the polymer and is not particularly limited, but is preferably in the range of 0.01 to 50% by mass with respect to the total amount of the monomer components, More preferably, it is in the range of 0.05 to 20% by mass.
  • the reaction temperature is not particularly limited, but is preferably in the range of room temperature to 200 ° C, more preferably 40 to 140 ° C.
  • reaction time suitably so that a polymerization reaction may be completed according to the composition of the monomer composition to be used, the kind of polymerization initiator, etc.
  • a curing agent As other components for forming the buffer layer, a curing agent, a curing accelerator, other additives, and the like can be used. Details thereof are described in, for example, materials as described in JP-A-2009-269984. However, the present invention is not limited to this.
  • the buffer layer is preferably formed by dissolving the polymer and, if necessary, various additives in an organic solvent or the like to form a buffer layer coating solution, and coating the coating solution on the light reflector. Coating can be performed by methods such as dipping, spraying, brushing, curtain flow coater, roll coating, spin coating, bar coating, and the like.
  • the layer thickness of the buffer layer is not particularly limited, but is preferably in the range of 1 to 10 ⁇ m, and preferably in the range of 3 to 7 ⁇ m. Within the above range, the buffer layer can relieve the stress from the outside of the self-healing layer, and by expanding the elastic deformation region of the self-healing layer, the self-healing property can be improved even for stronger external stresses. Scratch resistance can be improved while maintaining.
  • the curing of the polymerizable acrylic polymer is preferably performed by heating, and the buffer layer coating solution is applied onto the light reflector and then thermally cured. It is preferable to cure in a temperature range of 80 to 200 ° C. by appropriately adjusting the ratio of the kind of polymer, curing agent, curing accelerator and the like. A temperature range of 80 to 150 ° C is more preferable, and a temperature range of 80 to 120 ° C is more preferable.
  • the time for heat curing is appropriately adjusted, but it is preferably within the range of 0.5 to 10 minutes from the viewpoint of adjusting the ratio of the uncured monomer and maintaining the mechanical strength of the buffer layer.
  • the buffer layer according to the present invention has an effect of expanding the elastic deformation region of the self-healing layer that the ratio of the uncured monomer to the buffer layer before the decorative molding process is 5% by mass or more.
  • the monomer component should be intentionally left.
  • the temperature and time of the thermosetting are preferably controlled within the above range, and a self-healing layer can be formed on the buffer layer without performing a post-heating step such as aging after thermosetting. preferable.
  • a buffer layer coating solution for forming the buffer layer is applied on the light reflector, and then thermally cured, and then the buffer layer is not subjected to an aging treatment. It is preferable to form a self-healing layer thereon.
  • the aging treatment refers to heating at a relatively low temperature for a long time after the buffer layer is formed, and since it is performed by a combination of heating temperature and heating time, it cannot be generally described, but for example 35 to 50 A heat treatment performed within a range of 0.5 to 7 days at a temperature in the range of ° C.
  • the light reflecting film may be subjected to an aging treatment with the intention of promoting the curing of the self-healing layer after forming the self-healing layer, but in that case, the buffer layer before the decorative molding process is uncured. It is preferable to carry out under relatively mild aging treatment conditions such that the monomer ratio is 5% by mass or more.
  • the proportion of the uncured monomer before the decorative molding process is preferably in the range of 5 to 80% by mass, and more preferably in the range of 5 to 60% by mass. 5% by mass or more increases buffering properties, so stress relaxation when bonding to a curved body is good. If it is 80% by mass or less, it is more effective in preventing plasticization of the self-healing layer. Is.
  • the proportion of the uncured monomer after the decorative molding is preferably 3% by mass or less, and the temperature during the decorative molding is preferably 80 ° C. or higher in order to control to the range, 80 It is preferably carried out in a temperature range of ⁇ 200 ° C. A temperature range of 80 to 150 ° C is more preferable, and a temperature range of 80 to 120 ° C is more preferable. It is preferable that the time for the decorative molding is appropriately adjusted so as to be the proportion of the uncured monomer.
  • the proportion of the uncured monomer after the decorative molding is preferably controlled to 0.1 to 3% by mass or less. More preferably, it is in the range of 0.0 mass%. If the proportion of the uncured monomer after decorative molding is 0.1% by mass or more, scratch resistance after molding is high, and if it is 3% by mass or less, light resistance after molding is improved.
  • the elastic deformation region of the self-healing layer can be further expanded, for example, the light reflection of the present invention Even during the decorative molding process where the film is stretched into a curved surface and bonded, it absorbs deformation stress from the base material after molding and after molding, and the scratch resistance of the stretched part of the self-healing layer deteriorates It is presumed that this can be suppressed.
  • the content of the uncured monomer in the buffer layer can be measured by the following method.
  • the light reflecting film sample is cut, and the ATR (Attenuated Total Reflection) of the buffer layer is measured.
  • ATR Attenuated Total Reflection
  • FT / IR-4100 manufactured by JASCO Corporation
  • R1 Reflected light intensity at 2270 cm ⁇ 1 : This is the peak of the isocyanate bond and the peak of the uncured component.
  • R2 Reflected light intensity of 2950 cm ⁇ 1 : This is the peak of the C—H bond, and the peak of the material itself (which does not change with curing / uncuring).
  • thermosetting resin 100% of uncured monomer at the stage where the solvent is volatilized after application.
  • thermosetting resin is completely cured and the uncured monomer is 0%.
  • the ratio MM of the uncured monomer can be obtained by the following equation.
  • (Ratio MM (mass%) of uncured monomer) (R1 / R2-B) / (AB) ⁇ 100
  • (R1 / R2-B) represents a value obtained by subtracting the base strength from R1 / R2 at the time of measurement.
  • (AB) indicates total monomer amount (total amount of polymer and monomer).
  • (R1 / R2-B) / (AB) is (uncured monomer amount) / (total monomer amount) at the time of measurement.
  • the light reflector according to the present invention is formed by laminating the buffer layer and the self-healing layer according to the present invention as an upper layer.
  • the light reflecting film preferably has a light reflectance of 50% or more in a light wavelength range of 1000 to 1500 nm.
  • the light reflectance in the light wavelength range of 450 to 650 nm is preferably 50% or more.
  • the former is a film generally referred to as an infrared reflective film that selectively reflects infrared light
  • the latter is a reflective film (also called a film mirror) that selectively reflects visible light or a glossy film (a metallic glossy film). Also referred to as)), and there are various types of films.
  • the infrared reflection film for pasting windows the reflection film (film mirror) for solar heat reflection film, and the metallic glossy film, which are preferred embodiments as the light reflector according to the present invention, will be described in detail.
  • the visible light transmittance measured by JIS R3106 is preferably 60% or more, and more Preferably it is 70% or more, More preferably, it is 80% or more. Further, the reflectance from the near infrared region to the infrared region having a wavelength of 1000 to 1500 nm is preferably 50% or more, more preferably 70% or more, still more preferably 80% or more, and 90% The above is particularly preferable.
  • Reflectance was measured in a 1000-1500 nm region of an infrared reflection film using a spectrophotometer (using an integrating sphere, manufactured by Hitachi High-Technologies Corporation, U-4000 type) in an environment of 23 ° C. and 55% RH. The rate is measured, the average reflectance is obtained, and this is taken as the infrared reflectance.
  • the total thickness of the infrared reflective film is not particularly limited, but is in the range of 100 to 1500 ⁇ m, preferably in the range of 100 to 1000 ⁇ m, more preferably in the range of 100 to 700 ⁇ m. Preferably, it is in the range of 100 to 500 ⁇ m.
  • the infrared reflective film preferably has an infrared reflective layer having a function of reflecting 80% or more, more preferably 90% or more of light within the light wavelength range of 1000 to 1500 nm as the functional layer.
  • the infrared reflective layer includes a high refractive index reflective layer containing a first water-soluble binder resin and first metal oxide particles, a second water-soluble binder resin, and a second metal oxide.
  • the low-refractive-index reflective layers containing particles are alternately laminated to selectively reflect light having a specific wavelength.
  • These layer configurations in the present invention are not particularly limited as long as at least the transparent base film and the light reflection layer 3 are included, and an appropriate layer configuration can be selected according to each purpose. .
  • 3 and 4 are cross-sectional views showing an example of the configuration of the light reflecting film of the present invention having an infrared reflecting layer.
  • the infrared reflective layer includes a high refractive index reflective layer containing a first water-soluble binder resin and first metal oxide particles, and a low refractive index containing a second water-soluble binder resin and second metal oxide particles. It is a preferable aspect that the configuration shown in FIG. 3 is a reflective layer laminate in which refractive index reflective layers are alternately laminated and light of a specific wavelength is selectively reflected.
  • a reflective layer laminate ML1 in which two water-soluble binder resins and low-refractive-index infrared ray reflective layers containing second metal oxide particles are alternately laminated is composed of n layers of infrared reflective layers T 1 to T n from the transparent substrate 2 side.
  • An example of the configuration is a high refractive index layer in the range of .50.
  • the refractive index as used in the field of this invention is the value measured in the environment of 25 degreeC.
  • FIG. 4 is a schematic cross-sectional view showing an example of a configuration having an infrared reflective layer composed of a polymer layer laminate, which is an infrared reflective film.
  • the reflective layer laminate ML ⁇ b> 2 is configured as an infrared reflective layer on the base film 2 by laminating two kinds of polymer films having different materials.
  • PEN 1 formed of a polyethylene naphthalate film
  • PEN n ⁇ 1 , PMMA n , and PEN n are laminated to form a reflective layer laminate ML2.
  • the total number of laminated films is preferably in the range of 150 to 1000 layers.
  • the contents described in US Pat. No. 6,049,419 can be referred to.
  • various functional layers may be provided as necessary in addition to the above constituent layers.
  • the light reflective film of the present invention is the uppermost layer of the ML1 or ML2, directly or through other functional layers on T n or PEN n, a buffer layer 4 and the self-repairing layer 5 according to the present invention They are formed in this order.
  • Examples of the substrate film applicable to the light reflector according to the present invention include a transparent resin film.
  • “Transparent” in the present invention means that the average light transmittance in the visible light region is 50% or more, preferably 60% or more, more preferably 70% or more, and particularly preferably 80% or more.
  • the thickness of the base film is preferably in the range of 30 to 200 ⁇ m, more preferably in the range of 30 to 100 ⁇ m, and still more preferably in the range of 35 to 70 ⁇ m. If the thickness of the transparent resin film is 30 ⁇ m or more, wrinkles or the like are less likely to occur during handling, and if the thickness is 200 ⁇ m or less, for example, when a laminated glass is produced, a curved glass surface when bonded to a glass substrate The follow-up to is improved.
  • the transparent resin film is preferably a biaxially oriented polyester film, but an unstretched or at least one stretched polyester film can also be used.
  • a stretched film is preferable from the viewpoint of strength improvement and thermal expansion suppression.
  • a stretched film is more preferable.
  • the transparent resin film preferably has a thermal shrinkage within a range of 0.1 to 3.0% at a temperature of 150 ° C. from the viewpoint of preventing generation of wrinkles of the light reflecting film and cracking of the infrared reflecting layer.
  • the content is more preferably in the range of 1.5 to 3.0%, further preferably 1.9 to 2.7%.
  • the transparent resin film applicable to the present invention is not particularly limited as long as it is transparent.
  • a polyolefin film for example, polyethylene, polypropylene, etc.
  • a polyester film for example, polyethylene terephthalate).
  • Polyethylene naphthalate, etc. polyvinyl chloride, triacetyl cellulose film and the like can be used, and polyester film and triacetyl cellulose film are preferable.
  • the polyester film (hereinafter simply referred to as “polyester”) is not particularly limited, but is preferably a polyester having a film-forming property having a dicarboxylic acid component and a diol component as main components.
  • the main constituent dicarboxylic acid components include terephthalic acid, isophthalic acid, phthalic acid, 2,6-naphthalenedicarboxylic acid, 2,7-naphthalenedicarboxylic acid, diphenylsulfone dicarboxylic acid, diphenyl ether dicarboxylic acid, diphenylethanedicarboxylic acid, Examples thereof include cyclohexane dicarboxylic acid, diphenyl dicarboxylic acid, diphenyl thioether dicarboxylic acid, diphenyl ketone dicarboxylic acid, and phenylindane dicarboxylic acid.
  • diol component examples include ethylene glycol, propylene glycol, tetramethylene glycol, cyclohexanedimethanol, 2,2-bis (4-hydroxyphenyl) propane, 2,2-bis (4-hydroxyethoxyphenyl) propane, bis ( 4-Hydroxyphenyl) sulfone, bisphenol fluorene hydroxyethyl ether, diethylene glycol, neopentyl glycol, hydroquinone, cyclohexanediol and the like.
  • polyesters having these as main components from the viewpoints of transparency, mechanical strength, dimensional stability, etc., dicarboxylic acid components such as terephthalic acid, 2,6-naphthalenedicarboxylic acid, diol components such as ethylene glycol and 1 Polyester having 1,4-cyclohexanedimethanol as the main constituent is preferred.
  • polyesters mainly composed of polyethylene terephthalate and polyethylene naphthalate, copolymerized polyesters composed of terephthalic acid, 2,6-naphthalenedicarboxylic acid and ethylene glycol, and mixtures of two or more of these polyesters are mainly used. Polyester as a constituent component is preferable.
  • particles may be contained within a range that does not impair transparency.
  • particles that can be used for the transparent resin film include inorganic particles such as calcium carbonate, calcium phosphate, silica, kaolin, talc, titanium dioxide, alumina, barium sulfate, calcium fluoride, lithium fluoride, zeolite, and molybdenum sulfide.
  • organic particles such as crosslinked polymer particles and calcium oxalate.
  • the method of adding particles include a method of adding particles in a polyester as a raw material, a method of adding directly to an extruder, and the like. Well, you may use two methods together.
  • additives may be added in addition to the above particles as necessary. Examples of such additives include stabilizers, lubricants, cross-linking agents, anti-blocking agents, antioxidants, dyes, pigments, and ultraviolet absorbers.
  • the transparent resin film can be produced by a conventionally known general method.
  • an unstretched transparent resin film that is substantially amorphous and not oriented can be produced by melting a resin as a material with an extruder, extruding it with an annular die or a T-die, and rapidly cooling it.
  • the unstretched transparent resin film is uniaxially stretched, tenter-type sequential biaxial stretching, tenter-type simultaneous biaxial stretching, tubular simultaneous biaxial stretching, and other known methods such as transparent resin film flow (vertical axis) direction.
  • a stretched transparent resin film can be produced by stretching in the direction perpendicular to the flow direction of the transparent resin film (horizontal axis).
  • the draw ratio in this case can be appropriately selected according to the resin that is the raw material of the transparent resin film, but is preferably 2 to 10 times in the vertical axis direction and the horizontal axis direction.
  • the transparent resin film is preferably coated with the undercoat layer coating solution in-line on one or both sides during the film forming process.
  • resins used in the undercoat layer coating solution useful in the present invention include polyester resins, acrylic-modified polyester resins, polyurethane resins, acrylic resins, vinyl resins, vinylidene chloride resins, polyethyleneimine vinylidene resins, polyethyleneimine resins, and polyvinyl alcohol resins. , Modified polyvinyl alcohol resin, gelatin and the like, and any of them can be preferably used.
  • the undercoat layer can be coated by a known method such as roll coating, gravure coating, knife coating, dip coating or spray coating.
  • the coating amount of the undercoat layer is preferably about 0.01 to 2 g / m 2 (dry state).
  • a reflective layer laminate ML1 in which an infrared reflective layer containing a water-soluble binder resin and metal oxide particles described with reference to FIG. 3 is laminated, or FIG. 4 is used.
  • Polymer layer laminate ML2 described above, and an infrared reflective layer having a different refractive index and containing a water-soluble binder resin and metal oxide particles is particularly preferable.
  • the reflective layer laminate may have at least one infrared reflective layer. From the viewpoint of exhibiting an excellent heat insulating effect against solar radiation and electromagnetic wave transmission, the reflective layer laminate as illustrated in FIG. It is a particularly preferred embodiment.
  • a high refractive index infrared reflective layer (hereinafter also referred to as a high refractive index layer) containing the first water-soluble binder resin and the first metal oxide particles on at least one surface side of the base film.
  • the thickness of the high refractive index layer per layer is preferably in the range of 20 to 800 nm, and more preferably in the range of 50 to 350 nm. Further, the thickness per layer of the low refractive index layer is preferably in the range of 20 to 800 nm, and more preferably in the range of 50 to 350 nm.
  • the high refractive index layer and the low refractive index layer may have a clear interface between them or may be gradually changed.
  • the metal oxide concentration profile of the reflection layer laminate formed by alternately laminating the high refractive index layer and the low refractive index layer is etched from the surface to the depth direction by using a sputtering method, and an XPS surface analyzer
  • the atomic composition ratio can be measured by sputtering at a rate of 0.5 nm / min with the outermost surface of 0 nm.
  • the boundary can be confirmed by a tomographic photograph taken with an electron microscope (TEM).
  • the XPS surface analyzer is not particularly limited and any model can be used.
  • ESCALAB-200R manufactured by VG Scientific, Inc. can be used.
  • Mg is used for the X-ray anode, and measurement is performed at an output of 600 W (acceleration voltage: 15 kV, emission current: 40 mA).
  • the reflective layer laminate preferably has a total number of high refractive index layers and low refractive index layers in the range of 6 to 100 layers, more preferably in the range of 8 to 40 layers. And more preferably in the range of 9 to 30 layers.
  • the difference in refractive index between the adjacent high refractive index layer and low refractive index layer is preferably 0.1 or more, more preferably 0.3 or more, still more preferably 0.35 or more, and particularly preferably 0. .4 or more.
  • the outermost layer and the lowermost layer a configuration outside the above preferred range may be used.
  • the functional layer for example, the uppermost layer adjacent to the buffer layer according to the present invention is also preferably a low refractive index layer containing silicon dioxide in the range of 10 to 60% by mass as metal oxide particles.
  • the first and second water-soluble binder resins contained in the high refractive index layer or the low refractive index layer are preferably polyvinyl alcohol. Moreover, it is preferable that the saponification degree of the polyvinyl alcohol contained in the high refractive index layer is different from the saponification degree of the polyvinyl alcohol contained in the low refractive index layer. Furthermore, the first metal oxide particles contained in the high refractive index layer are preferably titanium oxide particles, and more preferably titanium oxide particles surface-treated with a silicon-containing hydrated oxide. .
  • the high refractive index layer contains the first water-soluble binder resin and the first metal oxide particles, and may contain a curing agent, other binder resin, a surfactant, and various additives as necessary. Good.
  • the refractive index of the high refractive index layer is preferably 1.80 to 2.50, more preferably 1.90 to 2.20.
  • the first water-soluble binder resin is the temperature at which the water-soluble binder resin is most dissolved, and is filtered through a G2 glass filter (maximum pores 40 to 50 ⁇ m) when dissolved in water at a concentration of 0.5% by mass. In this case, the mass of the insoluble matter filtered out is within 50% by mass of the added water-soluble binder resin.
  • the weight average molecular weight of the first water-soluble binder resin is preferably in the range of 1,000 to 200,000. Further, it is more preferably within the range of 3000 to 40000.
  • the weight average molecular weight as used in the present invention can be measured by a known method, for example, static light scattering, gel permeation chromatography (GPC), time-of-flight mass spectrometry (TOF-MASS), etc. In the present invention, it is measured by a gel permeation chromatography method which is a generally known method.
  • GPC gel permeation chromatography
  • TOF-MASS time-of-flight mass spectrometry
  • the content of the first water-soluble binder resin in the high refractive index layer is preferably within the range of 5 to 50% by mass with respect to the solid content of 100% by mass of the high refractive index layer. It is more preferable to be within the range.
  • hydrophilic high molecular compound can be employ
  • the high refractive index layer and the low refractive index layer preferably contain two or more types of polyvinyl alcohol having different saponification degrees.
  • polyvinyl alcohol as a water-soluble binder resin used in the high refractive index layer is polyvinyl alcohol (A)
  • polyvinyl alcohol as a water-soluble binder resin used in the low refractive index layer is polyvinyl alcohol (B). That's it.
  • each refractive index layer contains a plurality of polyvinyl alcohols having different saponification degrees and polymerization degrees
  • the polyvinyl alcohol having the highest content in each refractive index layer is changed to polyvinyl alcohol (A ) And polyvinyl alcohol (B) in the low refractive index layer.
  • the “degree of saponification” is the ratio of hydroxy groups to the total number of acetyloxy groups (derived from vinyl acetate as a raw material) and hydroxy groups in polyvinyl alcohol.
  • the difference in the absolute value of the saponification degree between the polyvinyl alcohol (A) and the polyvinyl alcohol (B) is preferably 3 mol% or more, and more preferably 5 mol% or more. If it is such a range, since the interlayer mixing state of a high refractive index layer and a low refractive index layer will become a preferable level, it is preferable. Moreover, although the difference of the saponification degree of polyvinyl alcohol (A) and polyvinyl alcohol (B) is so preferable that it is separated, it is 20 mol% or less from the viewpoint of the solubility to water of polyvinyl alcohol. It is preferable.
  • the saponification degree of polyvinyl alcohol (A) and polyvinyl alcohol (B) is preferably 75 mol% or more from the viewpoint of solubility in water.
  • the polymerization degree of the two types of polyvinyl alcohols having different saponification degrees is preferably 1000 or more, particularly preferably those having a polymerization degree in the range of 1500 to 5000, more preferably in the range of 2000 to 5000. Those are more preferably used. This is because when the polymerization degree of polyvinyl alcohol is 1000 or more, there is no cracking of the coating film, and when it is 5000 or less, the coating solution is stabilized.
  • Degree of polymerization (P) refers to a viscosity average degree of polymerization, measured according to JIS K6726 (1994), and measured in water at 30 ° C. after completely resaponifying and purifying PVA. From the intrinsic viscosity [ ⁇ ] (cm 3 / g), it is determined by the following formula.
  • the polyvinyl alcohol (A) having a low saponification degree is used for the high refractive index layer and polyvinyl alcohol (B) having a high saponification degree is used for the low refractive index layer
  • the polyvinyl alcohol ( A) is preferably contained in the range of 40 to 100% by mass, more preferably in the range of 60 to 95% by mass, based on the total mass of all polyvinyl alcohols in the layer.
  • the polyvinyl alcohol (B) is preferably contained in the range of 40 to 100% by mass, more preferably in the range of 60 to 95% by mass with respect to the total mass of all polyvinyl alcohols in the low refractive index layer.
  • the polyvinyl alcohol (A) is preferably contained in the range of 40 to 100% by mass, more preferably in the range of 60 to 95% by mass, based on the total mass of all polyvinyl alcohols in the layer.
  • the polyvinyl alcohol (B) is preferably contained in the range of 40 to 100% by mass, more preferably in the range of 60 to 95% by mass with respect to the total mass of all polyvinyl alcohols in the low refractive index layer.
  • the polyvinyl alcohol (A) and (B) used in the present invention may be a synthetic product or a commercially available product.
  • Examples of commercially available products used as the polyvinyl alcohol (A) and (B) include, for example, PVA-102, PVA-103, PVA-105, PVA-110, PVA-117, PVA-120, PVA-124, PVA -203, PVA-205, PVA-210, PVA-217, PVA-220, PVA-224, PVA-235 (manufactured by Kuraray Co., Ltd.), JC-25, JC-33, JF-03, JF-04 , JPF-05, JP-03, JP-04, JP-05, JP-45 (above, manufactured by Nippon Vinegar Poval Co., Ltd.) and the like.
  • first metal oxide particles applicable to the high refractive index layer metal oxide particles having a refractive index of 2.0 or more and 3.0 or less are preferable. More specifically, for example, titanium oxide, zirconium oxide, zinc oxide, synthetic amorphous silica, colloidal silica, alumina, colloidal alumina, lead titanate, red lead, yellow lead, zinc yellow, chromium oxide, second oxide Examples include iron, iron black, copper oxide, magnesium oxide, magnesium hydroxide, strontium titanate, yttrium oxide, niobium oxide, europium oxide, lanthanum oxide, zircon, and tin oxide. In addition, composite oxide particles composed of a plurality of metals, core / shell particles whose metal structure changes into a core / shell shape, and the like can also be used.
  • the high refractive index layer includes metal oxide fine particles having a high refractive index such as titanium and zirconium, that is, titanium oxide fine particles and / or zirconia oxide. It is preferable to contain fine particles.
  • titanium oxide is more preferable from the viewpoint of the stability of the coating liquid for forming the high refractive index layer.
  • the rutile type tetragonal type
  • the weather resistance of the high refractive index layer and adjacent layers is higher, and the refractive index is higher. To preferred.
  • core / shell particles are used as the first metal oxide particles in the high refractive index layer, due to the interaction between the silicon-containing hydrated oxide of the shell layer and the first water-soluble binder resin, From the effect of suppressing interlayer mixing between the high refractive index layer and the adjacent layer, core / shell particles in which titanium oxide particles are coated with a silicon-containing hydrated oxide are more preferable.
  • the content of the first metal oxide particles is in the range of 15 to 80% by mass with respect to 100% by mass of the solid content of the high refractive index layer, a difference in refractive index from the low refractive index layer is imparted. It is preferable from the viewpoint. Further, it is more preferably in the range of 20 to 77% by mass, and further preferably in the range of 30 to 75% by mass.
  • content in case metal oxide particles other than the said core-shell particle are contained in a high refractive index layer will not be specifically limited if it is a range which can have the effect of this invention.
  • the volume average particle diameter of the first metal oxide particles applied to the high refractive index layer is preferably 30 nm or less, more preferably in the range of 1 to 30 nm, and in the range of 5 to 15 nm. Is more preferable.
  • a volume average particle size in the range of 1 to 30 nm is preferable from the viewpoint of low visible light transmittance and low haze.
  • the volume average particle size of the first metal oxide particles is a method of observing the particles themselves using a laser diffraction scattering method, a dynamic light scattering method, or an electron microscope, or appears on the cross section or surface of the refractive index layer.
  • the particle diameter of 1000 arbitrary particles is measured by a method of observing the particle image with an electron microscope, and particles having particle diameters of d1, d2,.
  • a curing agent In order to cure the first water-soluble binder resin applied to the high refractive index layer, a curing agent can also be used.
  • the curing agent that can be used together with the first water-soluble binder resin is not particularly limited as long as it causes a curing reaction with the water-soluble binder resin.
  • polyvinyl alcohol is used as the first water-soluble binder resin
  • boric acid and its salt are preferable as the curing agent.
  • the content of the curing agent in the high refractive index layer is preferably 1 to 10% by mass and more preferably 2 to 6% by mass with respect to 100% by mass of the solid content of the high refractive index layer.
  • the total amount of the curing agent used is preferably in the range of 1 to 600 mg per gram of polyvinyl alcohol, and more preferably in the range of 100 to 600 mg per gram of polyvinyl alcohol. .
  • the low refractive index layer includes a second water-soluble binder resin and second metal oxide particles, and further includes a curing agent, a surface coating component, a particle surface protective agent, a binder resin, a surfactant, various additives, and the like. May be included.
  • the refractive index of the low refractive index layer is preferably in the range of 1.10 to 1.60, more preferably in the range of 1.30 to 1.50.
  • Polyvinyl alcohol is preferably used as the second water-soluble binder resin applied to the low refractive index layer. Furthermore, it is more preferable that polyvinyl alcohol (B) different from the saponification degree of polyvinyl alcohol (A) present in the high refractive index layer is used for the low refractive index layer.
  • polyvinyl alcohol (A) and polyvinyl alcohol (B) such as a preferable weight average molecular weight of 2nd water-soluble binder resin here, is demonstrated by the water-soluble binder resin of the said high refractive index layer. The description is omitted here.
  • the content of the second water-soluble binder resin in the low refractive index layer is preferably in the range of 20 to 99.9% by mass with respect to 100% by mass of the solid content of the low refractive index layer, and 25 to 80 More preferably, it is in the range of mass%.
  • silica silicon dioxide
  • specific examples thereof include synthetic amorphous silica and colloidal silica.
  • acidic colloidal silica sol is more preferably used, and colloidal silica sol dispersed in an organic solvent is more preferably used.
  • hollow fine particles having pores inside the particles can be used as the second metal oxide particles applied to the low refractive index layer, particularly silica (silicon dioxide). The hollow fine particles are preferred.
  • the second metal oxide particles (preferably silicon dioxide) applied to the low refractive index layer preferably have an average particle size in the range of 3 to 100 nm.
  • the average particle size of primary particles of silicon dioxide dispersed in a primary particle state is more preferably in the range of 3 to 50 nm, and in the range of 3 to 40 nm. Is more preferably 3 to 20 nm, and most preferably 4 to 10 nm.
  • grains it is preferable from a viewpoint with few hazes and excellent visible light transmittance
  • the low refractive index layer according to the present invention may further include a curing agent.
  • a curing agent such as boric acid and its salt and / or borax are preferred as the curing agent when polyvinyl alcohol is used as the second water-soluble binder resin applied to the low refractive index layer.
  • boric acid and its salts known ones can be used.
  • the content of the curing agent in the low refractive index layer is preferably in the range of 1 to 10% by mass and preferably in the range of 2 to 6% by mass with respect to 100% by mass of the solid content of the low refractive index layer. It is more preferable.
  • the method for forming the reflective layer laminate is preferably formed by applying a wet coating method, and further, a high refractive index including a first water-soluble binder resin and first metal oxide particles on a transparent substrate.
  • a production method including a step of wet-coating the coating solution for the refractive index layer and the coating solution for the low refractive index layer containing the second water-soluble binder resin and the second metal oxide particles is preferable.
  • the wet coating method is not particularly limited, and for example, roll coating method, rod bar coating method, air knife coating method, spray coating method, slide curtain coating method, or US Pat. No. 2,761,419, US patent. Examples thereof include a slide hopper coating method and an extrusion coating method described in Japanese Patent No. 2,761,791.
  • a sequential multilayer application method or a simultaneous multilayer application method may be used as a method of applying a plurality of layers in a multilayer manner.
  • the polymer layer laminate which is another example of the light reflector according to the present invention, includes a plurality of first polymer layers having a first refractive index and second polymer layers having a second refractive index, and infrared reflection. Form a layer.
  • the first polymer layer and the second polymer layer are laminated on top of each other to form a polymer layer laminate.
  • the polymer material constituting the first and second polymer layers include polyester, acrylic, a blend or copolymer of polyester acrylic, and examples thereof include polyethylene-2,6-naphthalate (PEN) and naphthalene dicarboxylic copolyester (coPEN).
  • PEN polyethylene-2,6-naphthalate
  • coPEN naphthalene dicarboxylic copolyester
  • PMMA Polymethyl methacrylate
  • PBN polybutylene-2,6-naphthalate
  • PET polyethylene terephthalate
  • naphthalene dicarboxylic acid derivative diol copolymer
  • polyether ether ketone syndiotc polystyrene resin (SPS), etc.
  • Specific combinations of the first polymer layer and the second polymer layer include combinations of PEN / PMMA, PET / PMMA, PEN /
  • PEN 1 formed of a polyethylene naphthalate film
  • PMM 1 PEN 2
  • PMMM 2 PEN 3
  • PEN 3 formed of a polymethyl methacrylate film
  • a polymer layer laminate ML2 is formed by laminating with PMMA 3 (omitted), PEN n-1 , PMMA n , and PEN n .
  • the total number of films to be laminated is not particularly limited, but is preferably in the range of about 150 to 1000 layers.
  • the film mirror which is a light reflector according to the present invention, preferably has a reflectance of 50% or more, more preferably 70% or more, and 80% in the light wavelength range of 450 to 650 nm in the visible light region. More preferably, it is more preferably 90% or more.
  • the reflectance is a spectrophotometer (using an integrating sphere, manufactured by Hitachi High-Technologies Corporation, model U-4000), and the reflectance in the region of 450 to 650 nm of the film mirror is measured at 23 ° C. and 55% RH. The average reflectance is measured to obtain the visible light reflectance.
  • the minimum functional configuration of the film mirror MF is that a metal reflective layer (for example, silver reflective layer) 7 is formed on the base film 2, and the buffer layer 4 according to the present invention is formed thereon. And a self-healing layer 5 is provided.
  • a metal reflective layer for example, silver reflective layer
  • the film mirror MF is preferably provided with various functional layers in practice.
  • an anchor layer 6 may be provided between the base film 2 and the metal reflective layer 7, and the metal reflective layer
  • a resin coating layer 8 containing a corrosion inhibitor or an antioxidant on the light incident side of 7, and it is also preferable to provide an adhesive layer 9 on the resin coating layer 8, and an acrylic resin layer 10 is further formed thereon. It is also a more preferable aspect to provide.
  • the adhesive layer 11 and the release sheet 12 are formed on the surface of the base film opposite to the side on which the metal layer is provided, and bonded to the substrate.
  • the total thickness of the film mirror is preferably in the range of 75 to 250 ⁇ m, more preferably in the range of 90 to 230 ⁇ m, and still more preferably in the range of 100 to 220 ⁇ m, from the viewpoint of mirror deflection prevention, regular reflectance, handling properties, and the like. Is within.
  • polyester films such as polyethylene terephthalate, norbornene resin films, cellulose ester films, and acrylic films are preferable. It is particularly preferable to use a polyester film such as polyethylene terephthalate or an acrylic film.
  • the thickness of the transparent resin film is preferably set to an appropriate thickness according to the type and purpose of the resin. For example, it is generally in the range of 10 to 300 ⁇ m. The range is preferably 20 to 200 ⁇ m, more preferably 30 to 100 ⁇ m.
  • An anchor layer consists of resin and makes a base film and a metal reflective layer contact
  • the resin material used for the anchor layer is not particularly limited as long as it satisfies the above conditions of adhesion, heat resistance, and smoothness, polyester resin, acrylic resin, melamine resin, epoxy resin, Polyamide resins, vinyl chloride resins, vinyl chloride vinyl acetate copolymer resins and the like can be used alone or a mixed resin thereof. From the viewpoint of weather resistance, a mixed resin of a polyester resin and a melamine resin is preferable, and an isocyanate or the like is further used. It is more preferable to use a thermosetting resin mixed with a curing agent.
  • a method for forming the anchor layer conventionally known coating methods such as a gravure coating method in which a predetermined resin material is applied and applied, a reverse coating method, a die coating method and the like can be used.
  • the thickness of the anchor layer is preferably in the range of 0.01 to 3 ⁇ m, more preferably in the range of 0.1 to 1 ⁇ m.
  • the metal reflective layer is a layer made of a metal or the like having a function of reflecting 50% or more of visible light (range of 450 to 650 nm).
  • the surface reflectance of the metal reflective layer is preferably 80% or more, more preferably 90% or more.
  • This reflective layer is preferably formed of a material containing any element selected from the element group consisting of Al, Ag, Cr, Cu, Ni, Ti, Mg, Rh, Pt, and Au.
  • aluminum (Al) or silver (Ag) is preferably the main component from the viewpoint of reflectivity, and two or more such metal thin films may be formed.
  • the metal reflection layer may be referred to as a silver reflection layer.
  • the thickness of the silver reflective layer is preferably in the range of 10 to 200 nm, more preferably in the range of 30 to 150 nm, from the viewpoint of reflectivity and the like.
  • a wet method or a dry method can be used as a method for forming this reflective layer.
  • a typical example of the wet method is a plating method, in which a film is formed by depositing a metal from a solution. Specific examples include silver mirror reaction.
  • the dry method there is a vacuum film forming method, and concrete examples include a resistance heating vacuum deposition method, an electron beam heating vacuum deposition method, an ion plating method, an ion beam assisted vacuum deposition. Method and sputtering method.
  • a vapor deposition method capable of a roll-to-roll method for continuously forming a film is preferably used in the present invention.
  • a method of forming a silver reflective layer by silver vapor deposition is preferably used.
  • the thickness of the silver reflective layer is set in the range of 30 to 300 nm, for example, the functional film having the silver reflective layer can be used as a film mirror. More preferably, it is in the range of 80 to 200 nm from the viewpoint of durability.
  • the layer thickness of the silver reflective layer in the above range, it is possible to suppress a decrease in reflectance in the visible light region due to light transmission or light scattering due to unevenness on the surface. .
  • the resin coat layer is provided on the light incident side of the silver reflective layer, and is preferably adjacent to the silver reflective layer.
  • the resin coat layer preferably contains a silver corrosion inhibitor or antioxidant and imparts a function of preventing corrosion and deterioration of the silver reflective layer.
  • the resin coat layer may consist of only one layer or a plurality of layers.
  • the thickness of the resin coat layer is preferably in the range of 1 to 10 ⁇ m, more preferably in the range of 2 to 8 ⁇ m.
  • the binder for the resin coating layer the following resins can be preferably used.
  • an acrylic resin having high resistance to ultraviolet rays is preferable from the viewpoint of light resistance.
  • the corrosion inhibitor it is preferable to have an adsorptive group for silver.
  • corrosion refers to a phenomenon in which metal (silver) is chemically or electrochemically eroded or deteriorated by the environmental material surrounding it (see JIS Z0103-2004).
  • the optimum content of the corrosion inhibitor varies depending on the compound used, but is generally preferably in the range of 0.1 to 1.0 g / m 2 .
  • Corrosion inhibitors having an adsorptive group for silver include amines and derivatives thereof, compounds having a pyrrole ring, compounds having a triazole ring such as benzotriazole, compounds having a pyrazole ring, compounds having a thiazole ring, and having an imidazole ring It is desirable to be selected from at least one of a compound, a compound having an indazole ring, a copper chelate compound, a compound having a thiol group, a thiourea, a naphthalene group, or a mixture thereof.
  • an ultraviolet absorber may also serve as a corrosion inhibitor. It is also possible to use a silicone-modified resin. It does not specifically limit as a silicone modified resin.
  • Examples of commercially available products include LA31 from ADEKA Corporation and Tinuvin 234 from BASF Japan Corporation.
  • the antioxidant which is a corrosion inhibitor having antioxidant ability
  • a hindered amine light stabilizer and a nickel ultraviolet stabilizer can be preferably used as the light stabilizer.
  • JP2012-232538A the compounds described in paragraphs (0046) to (0053) of JP2012-232538A can be preferably used.
  • the optimum content of the antioxidant varies depending on the compound to be used, but generally it is preferably in the range of 0.1 to 1.0 g / m 2 .
  • the adhesive layer is not particularly limited as long as it has a function of improving the adhesion between the layers.
  • the thickness of the adhesive layer is preferably in the range of 0.01 to 10 ⁇ m, more preferably in the range of 0.1 to 10 ⁇ m, from the viewpoints of adhesion, smoothness, reflectance of the reflector, and the like.
  • the resin is not particularly limited as long as it satisfies the above adhesiveness and smoothness conditions, polyester resin, urethane resin, acrylic resin, melamine resin, epoxy resin Resin, polyamide resin, vinyl chloride resin, vinyl chloride vinyl acetate copolymer resin or the like can be used alone or a mixed resin thereof. From the viewpoint of weather resistance, a mixed resin of a polyester resin and a melamine resin is preferable. It is more preferable to use a thermosetting resin mixed with a curing agent such as isocyanate. As a method for forming the adhesive layer, conventionally known coating methods such as a gravure coating method, a reverse coating method, and a die coating method can be used.
  • the adhesive layer when the adhesive layer is a metal oxide, the adhesive layer can be formed by depositing, for example, silicon oxide, aluminum oxide, silicon nitride, aluminum nitride, lanthanum oxide, lanthanum nitride, or the like by various vacuum film forming methods.
  • a film can be formed by resistance heating vacuum deposition, electron beam heating vacuum deposition, ion plating, ion beam assisted vacuum deposition, sputtering, or the like.
  • the acrylic resin layer is preferably a layer containing an ultraviolet absorber for the purpose of preventing deterioration of the film mirror caused by sunlight or ultraviolet rays.
  • the acrylic resin layer is preferably provided on the light incident side of the resin base material, and is preferably provided on the light incident side of the metal reflective layer.
  • the buffer layer according to the present invention has an ultraviolet absorbing ability, it may also serve as an acrylic resin layer, and it is also preferable to contain an ultraviolet absorber different from the buffer layer in the acrylic resin layer.
  • the acrylic resin layer is a layer using an acrylic resin as a binder, and the thickness of the acrylic resin layer is preferably in the range of 1 to 200 ⁇ m.
  • acrylic resin layer Sumipex Technoloy S001G 75 ⁇ m (manufactured by Sumitomo Chemical Co., Ltd.), which is an acrylic film containing a commercially available ultraviolet absorber, can be preferably used.
  • Metallic glossy film It is also preferable to use a metallic glossy film as the light reflector according to the present invention.
  • the metallic glossy film which is a light reflector according to the present invention preferably has a reflectance in the visible light region of a light wavelength range of 450 to 650 nm of 50% or more, more preferably 70% or more, More preferably, it is 80% or more, and particularly preferably 90% or more.
  • a metallic glossy film Although it is not particularly limited as a metallic glossy film, as a preferred example thereof, two polyester films are bonded together via an adhesive layer to constitute a base film, and the two polyester films are respectively A layer mainly composed of polyester A composed of polyethylene terephthalate or polyethylene naphthalate and a layer mainly composed of polyester B containing 25 to 35 mol% of cyclohexanedimethanol component with respect to the acid component are regular in the thickness direction. It is preferable that the film is a metallic glossy film using a base film in which the total number of layers is at least 500 layers and 600 layers or less.
  • the in-plane average refractive index difference between the layer mainly composed of polyester A and the layer mainly composed of polyester B is 0.03 or more. More preferably, it is 0.05 or more, More preferably, it is 0.1 or more. When the refractive index difference is smaller than 0.03, sufficient reflectance may not be obtained.
  • a polyester film to be bonded as a base film is laminated with 500 or more layers of layers composed of polyester A (layer A) and layers composed of polyester B (layer B) alternately.
  • it is 500 layers or more, it is possible to have a reflectance of 70% or more in the target reflection band, and two polyester films are bonded together, and the target reflection wavelength is set in the region of 350 to 750 nm. By doing so, a laminated film having a metallic appearance can be obtained.
  • the number of layers is preferably 600 layers or less.
  • the method of controlling the number of layers from 500 layers to 600 layers is possible by changing the feed block.
  • infrared transmittance and visible light reflectance are included. Can be balanced within the scope of the object of the present invention.
  • the metallic glossy film has an average reflectance at a light wavelength of 350 to 750 nm in the range of 70 to 100%.
  • the average transmittance in the light wavelength range of 900 to 1000 nm is preferably in the range of 85 to 100%, and two polyester films described later are bonded together.
  • One of the polyester films to be bonded has an average reflectance of 70 to 100% at an optical wavelength of 350 to 570 nm and an average transmittance of 85 to 100% at an optical wavelength of 620 to 1000 nm.
  • the other one is that the average reflectance at light wavelengths of 570 to 750 nm is preferably in the range of 70 to 100%, and the average transmittances at light wavelengths of 350 to 550 nm and 900 to 1000 nm are preferably in the range of 85 to 100%.
  • the average reflectance at a light wavelength of 350 to 750 nm is in the range of 70 to 100%
  • the average transmittance at a light wavelength of 900 to 1000 nm is in the range of 85 to 100%. Can be achieved.
  • the thickness of the metallic glossy film is preferably in the range of 100 to 300 ⁇ m from the viewpoint of handleability. It is desirable that the thickness is 100 ⁇ m or more in order to prevent wrinkling during molding, improve handling properties, and prevent washout of the decorative film. When the thickness is 300 ⁇ m or less, curling wrinkles are not strong, and it takes less time and effort to set the sheet on the molding apparatus frame, and the productivity is high.
  • the metallic glossy film can form a buffer layer and a self-healing layer according to the present invention on the surface of the polyester film having the above-described configuration, and can prevent cracks in the cured film due to surface hardness and stress such as bending.
  • the metallic glossy film includes a hard coat layer, an antistatic layer, an abrasion resistant layer, an antireflection layer, a color correction layer, an ultraviolet absorption layer, a printing layer, a transparent layer.
  • Functional layers such as a conductive layer, a gas barrier layer, a hologram layer, a release layer, an adhesive layer, an emboss layer, an adhesive layer, and a release layer may be appropriately formed.
  • a method for producing a polyester film in which at least 500 layers of a layer mainly composed of polyester A and a layer mainly composed of polyester B used in a metallic glossy film are laminated is described below.
  • a laminated film in which at least 500 layers of a layer mainly composed of polyester A and a layer mainly composed of polyester B used in a metallic glossy film are laminated is described below.
  • polyester A and polyester B are prepared in the form of pellets. If necessary, the pellets are pre-dried in hot air or under vacuum and supplied to an extruder. In the extruder, the resin heated and melted to the melting point or higher is made uniform in the amount of resin extruded by a gear pump or the like, and foreign matters or denatured resin are removed through a filter or the like.
  • Polyester A and polyester B sent out from different flow paths using these two or more extruders are then fed into the multilayer laminating apparatus.
  • a multi-layer laminating apparatus a multi-manifold die, a field block, a static mixer, or the like can be used. Moreover, you may combine these arbitrarily. Among them, a multi-manifold die or a feed block that can individually control the layer thickness for each layer is preferable. Further, in order to control the thickness of each layer with high accuracy, a feed block provided with fine slits for adjusting the flow rate of each layer by electric discharge machining or wire electric discharge machining with a machining accuracy of 0.1 mm or less is preferable.
  • the roughness of the wall surface is preferably 0.4 S or less, or the contact angle with water at room temperature is 30 ° or more.
  • polyester film for use in the metallic glossy film of the present invention it is important to have an optimum laminate configuration according to the spectral characteristics of the metallic glossy film to be designed. It is particularly preferable to perform film formation with a feed block having fine slits corresponding to the band.
  • the molten laminate formed in the desired layer configuration in this way is then formed into a desired shape with a die and then discharged.
  • dye is extruded on cooling bodies, such as a casting drum, and is cooled and solidified, and a casting film is obtained.
  • a wire-like, tape-like, needle-like or knife-like electrode it is brought into close contact with a cooling body such as a casting drum by electrostatic force and rapidly cooled and solidified, or from a slit-like, spot-like, or planar device.
  • a method in which air is blown out and brought into close contact with a cooling body such as a casting drum and rapidly cooled and solidified, and a method in which the nip roll is brought into close contact with the cooling body and rapidly solidified is preferable.
  • the casting film thus obtained is preferably biaxially stretched as necessary.
  • Biaxial stretching refers to stretching in the longitudinal direction and the width direction. Stretching may be performed sequentially biaxially or simultaneously in two directions.
  • the reflection wavelength region can be expressed as designed.
  • the mass per unit area of the adhesive layer formed on one side of the polyester film is preferably about 1 to 30 g / m 2 .
  • an adhesive layer having a thickness of 1 to 30 ⁇ m can be obtained.
  • Weak adhesive strength is less than 1 g / m 2, peeled easily, if more than 30 g / m 2, drying property is lowered, likely to be poor appearance.
  • the coating method for forming the curable adhesive layer is gravure coater, gravure reverse coater, lip coater, flexo coater, blanket coater, roll coater, knife coater, air knife coater, kiss touch coater, kiss touch reverse coater, comma Coating methods such as a coater, comma reverse coater, and micro reverse coater can be used.
  • an adhesive is applied to one side of the polyester film, and then another polyester film is laminated with a laminate nip roller. At this time, it is preferable to heat-treat at 40 to 120 ° C. after applying an adhesive on one side of the polyester film, and at a nip pressure of 0.2 to 1.0 MPa on a laminate nip roller heated to 40 to 120 ° C. It is preferable to laminate the second polyester.
  • the sheet In the transport zone from pasting to winding, usually there are multiple mechanisms for detecting defects and / or for absorbing tension of the sheet when adjusting tension and switching the winding roller. In order to suppress the shift in the width direction of the sheet, the sheet is conveyed at an appropriate contact angle in each conveyance roller.
  • the adhesive After passing through a plurality of transport rollers, it is wound on a sheet winding core, and the resulting laminated film is wound on a roll for 20 to 60 ° C. for 24 to 168 hours for the purpose of curing the adhesive. I do. If the temperature of the heat treatment is 20 ° C. or more and the heat treatment time is 24 hours or more, the adhesive is sufficiently cured, sufficient adhesive strength can be obtained, and the film bonded in the subsequent process may be misaligned. Does not occur. Further, if the heat treatment time is 168 hours or less at 60 ° C. or less, there is not much squeezing trace of the rolled sheet, which is suitable as a decoration application.
  • Decorative molding processing method and use of light reflecting film [4.1] Decorative molding processing method
  • the light reflecting film of the present invention adheres to the surface opposite to the self-healing layer with respect to the light reflecting film. It is preferable to perform a decorative molding processing method in which a layer or an adhesive layer is formed, and the light reflecting film is bonded onto the substrate via the adhesive layer or the adhesive layer while being thermoformed at a temperature of 80 ° C. or higher.
  • the substrate is preferably a plastic material (housing) from which a curved body can be obtained.
  • the uncured monomer of the buffer layer is crosslinked and polymerized by a decorative molding process in which the light reflecting film of the present invention is bonded to the substrate while being thermoformed at a temperature of 80 ° C. or more, and the content of the uncured monomer Is 3% by mass or less, the strength of the buffer layer itself is improved, and the scratch resistance of the self-healing layer can be further improved.
  • the preferred temperature is in the range of 80 to 200 ° C, more preferably in the range of 80 to 150 ° C, and particularly preferably in the range of 80 to 120 ° C.
  • the adhesive layer is a constituent layer for adhering and fixing the light reflecting film of the present invention to the substrate.
  • the adhesive layer is not particularly limited as long as it can adhere the light reflecting film to the substrate.
  • a dry laminating agent, a wet laminating agent, an adhesive, a heat sealing agent, a hot melt agent, or the like may be used. it can.
  • a polyester resin, a urethane resin, a polyvinyl acetate resin, an acrylic resin, a nitrile rubber, or the like may be used.
  • the laminating method in which the adhesive layer is provided on the back surface of the base film is not particularly limited, and for example, a roll-type continuous method is preferable from the viewpoint of economy and productivity.
  • the thickness of the pressure-sensitive adhesive layer is usually preferably in the range of about 1 to 50 ⁇ m from the viewpoint of the pressure-sensitive adhesive effect, the drying speed and the like.
  • Specific materials used for the adhesive layer include, for example, “SK Dyne Series” manufactured by Soken Chemical Co., Ltd., “Oribain BPW Series”, “BPS Series” manufactured by Toyo Ink Co., Ltd., “Arcon” “Superester” “High Pale” manufactured by Arakawa Chemical Co., Ltd. An adhesive can be suitably used.
  • the adhesive layer is covered with the release sheet until the film mirror is adhered to the substrate, and it is preferable to maintain the adhesive strength of the adhesive layer.
  • the adhesive layer is a corrosion inhibitor, amines and derivatives thereof, compounds having a pyrrole ring, compounds having a triazole ring such as benzotriazole, compounds having a pyrazole ring, compounds having a thiazole ring, compounds having an imidazole ring, indazole It is also preferable to contain a compound having a ring, a copper chelate compound, a compound having a mercapto group, thioureas, at least one kind of naphthalene, or a mixture thereof.
  • Adhesive layer Moreover, although it does not restrict
  • An adhesive made of a urethane resin is cured by combining and reacting a polyol having a hydroxyl group at the terminal and a polyisocyanate, or a urethane prepolymer having an isocyanate group at the terminal and a polyol, and functions as an adhesive. .
  • polyether polyol examples include polyoxyethylene polyol, polyoxypropylene polyol, polyoxyethylene-propylene copolymer polyol, polytetramethylene polyol and the like alone or a mixture thereof.
  • Polyester polyols include dicarboxylic acids (such as adipic acid, succinic acid, maleic acid, and phthalic acid) and glycols (such as ethylene glycol, propylene glycol, 1,4-butylene glycol, 1,6-hexane glycol, and neopentyl glycol).
  • Polyols such as polyethylene adipate, polybutylene adipate, polyhexamethylene adipate, polypropylene adipate, polyethylene-propylene adipate, and the like, and polylactone polyols such as polycaprolactone polyol alone or A mixture thereof, polycarbonate polyol and the like can be mentioned.
  • Polyisocyanates include aromatic polyisocyanates such as 2,4-tolylene diisocyanate, xylene diisocyanate, 2,6-tolylene diisocyanate, 4,4-diphenylmethane diisocyanate, polymethylene polyphenylene polyisocyanate, carbodiimide-modified MDI, and naphthalene diisocyanate. Hexamethylene diisocyanate, isophorone diisocyanate, 4,4-dicyclohexylmethane diisocyanate, and alicyclic polyisocyanate. The above polyisocyanates can be used alone or as a mixture thereof.
  • various additives such as a viscosity modifier, a leveling agent, an anti-gelling agent, an antioxidant, a heat stabilizer, a light stabilizer, an ultraviolet absorber, a lubricant, and a pigment are used.
  • a viscosity modifier such as a viscosity modifier, a leveling agent, an anti-gelling agent, an antioxidant, a heat stabilizer, a light stabilizer, an ultraviolet absorber, a lubricant, and a pigment
  • Dyes, organic or inorganic fine particles, fillers, antistatic agents, nucleating agents, and the like may be blended.
  • laminated glass of the present invention is preferably produced by sandwiching the infrared reflective film, which is the light reflective film of the present invention, between two glass constituent members.
  • the laminated glass of this invention is arrange
  • the two glass substrates may be the same type of glass substrate or different types of glass substrates.
  • the laminated glass constituent member may be a flat laminated glass constituent member or a curved glass constituent member used for a windshield of a car.
  • the infrared reflective film having a buffer layer and a self-healing layer according to the present invention is excellent in application to a curved glass component.
  • the laminated glass constituting member according to the present invention preferably has a visible light transmittance of 70% or more, particularly when used as a car window glass.
  • the visible light transmittance can be measured using, for example, a spectrophotometer (U-4000 type, manufactured by Hitachi High-Technologies Corporation) using JIS R3106 (1998) “Transmissivity / Reflectivity / Solar Heat Acquisition Rate of Sheet Glasses”. It can be measured in accordance with the “Test method”.
  • Examples of the laminated glass include inorganic glass (hereinafter also simply referred to as glass) and organic glass (resin glazing).
  • examples of the inorganic glass include float plate glass, heat ray absorbing plate glass, polished plate glass, mold plate glass, netted plate glass, lined plate glass, and colored glass such as green glass.
  • the organic glass is a synthetic resin glass substituted for inorganic glass.
  • examples of the organic glass (resin glazing) include a polycarbonate plate and a poly (meth) acrylic resin plate.
  • Examples of the poly (meth) acrylic resin plate include a polymethyl (meth) acrylate plate.
  • inorganic glass is preferred from the viewpoint of safety when it is damaged by an external impact.
  • the kind of inorganic glass is not particularly limited, but usually soda lime silica glass is preferably used. In this case, it may be a colorless transparent glass or a colored transparent glass.
  • the outdoor glass substrate close to the incident light is preferably colorless transparent glass.
  • the glass substrate of the indoor side far from the incident light side is a green-colored colored transparent glass or dark colored transparent glass.
  • the green colored transparent glass preferably has ultraviolet absorption performance and infrared absorption performance.
  • the green colored transparent glass is not particularly limited, for example, soda lime silica glass containing iron is preferable.
  • a soda lime silica glass containing 0.3 to 1 mass% of total iron in terms of Fe 2 O 3 in a soda lime silica base glass is preferable.
  • the mass of FeO (divalent iron) is all in terms of Fe 2 O 3. It is preferably 20 to 40% by mass of iron.
  • soda lime silica glass having the following composition substantially. SiO 2 : 65 to 75% by mass, Al 2 O 3 : 0.1 to 5% by mass, Na 2 O + K 2 O: 10 to 18% by mass, CaO: 5 to 15% by mass, MgO: 1 to 6% by mass, terms of Fe 2 O 3 were total iron 0.3 to 1 mass%, the total cerium CeO 2 in terms and / or TiO 2: 0.5 ⁇ 2% by weight.
  • the dark transparent glass is not particularly limited, but, for example, soda lime silica glass containing iron at a high concentration is preferable.
  • both the indoor side glass base material and the outdoor side glass base material is 1.5 to 3.0 mm.
  • the indoor side glass base material and the outdoor side glass base material can have the same thickness or different thicknesses.
  • both the indoor side glass base material and the outdoor side glass base material may have a thickness of 2.0 mm or a thickness of 2.1 mm.
  • the total thickness of the laminated glass is reduced by setting the thickness of the indoor glass substrate to less than 2 mm and the thickness of the outdoor glass plate to 2 mm or more.
  • the indoor glass substrate and the outdoor glass substrate may be flat or curved. Since vehicles, particularly automobile windows, are often curved, the shape of the indoor side glass substrate and the outdoor side glass substrate is often curved. In this case, the infrared reflective layer laminate is provided on the concave surface side of the outdoor glass substrate. Furthermore, if necessary, three or more glass substrates can be used.
  • the method for producing the laminated glass of the present invention is not particularly limited. For example, after sandwiching the infrared reflecting film of the present invention between the laminated glass constituent members G1 and G2, it is passed through a pressing roll (also referred to as a nip roll) or sucked under reduced pressure in a rubber bag. The air remaining between the glass constituent members G1 and G2 and the infrared reflective film according to the present invention is degassed. Thereafter, it is pre-adhered at about 70 to 110 ° C. to obtain a laminate. Next, the laminate is put in an autoclave or pressed and pressed at about 120 to 150 ° C. and a pressure of 1 to 1.5 MPa. In this way, a laminated glass can be obtained.
  • a pressing roll also referred to as a nip roll
  • the air remaining between the glass constituent members G1 and G2 and the infrared reflective film according to the present invention is degassed. Thereafter, it is pre-adhered at about 70 to
  • the laminated glass can be used for automobiles, railway vehicles, aircraft, ships, buildings, and the like. Laminated glass can be used for other purposes.
  • the laminated glass is preferably laminated glass for buildings or vehicles.
  • the laminated glass can be used for an automobile windshield, side glass, rear glass, roof glass, or the like.
  • the light reflecting film of the present invention can be suitably used for surface decoration applications of plastic casings used for home appliances, OA equipment, mobile phones, automobile interiors, and the like.
  • a curved shape body having a high design property such as addition of metallic luster or a complicated pattern can be molded by the following molding method on a member having a curved shape.
  • the light reflecting film of the present invention includes the buffer layer and the self-healing layer according to the present invention, the surface of the curved shape body is hardly scratched and has excellent characteristics such as high light resistance.
  • the molding method is mainly a method of in-mold molding of the resin used for the substrate and the light reflecting film of the present invention by injection molding. ) Etc. can also be used. In-mold molding is further classified into in-mold lamination and in-mold transfer, and is appropriately selected.
  • Example 1 Light reflector: Preparation of infrared reflective film >> [Light Reflector 1: Production of Infrared Reflecting Film 1] A polyethylene terephthalate film (manufactured by Toyobo Co., Ltd., Cosmo Shine A4300, double-sided adhesive bonding, abbreviated as PET) was used as the transparent substrate film.
  • An infrared reflective film 1 in which refractive index layers were alternately laminated was produced as follows (corresponding to FIG. 3).
  • undercoat layer coating solution was applied to a transparent base film so as to be 15 ml / m 2 with an extrusion coater, and after passing through a 50 ° C. no-air zone (1 second), The substrate was dried at 120 ° C. for 30 seconds to obtain a support with an undercoat layer.
  • ⁇ Preparation of deionized gelatin> Ocein from which lime was removed by performing lime treatment, water washing and neutralization treatment was extracted in hot water at 55 to 60 ° C. to obtain ossein gelatin.
  • the obtained ossein gelatin aqueous solution was subjected to both ion exchanges in a mixed bed of anion exchange resin (Diaion PA-31G) and cation exchange resin (Diaion PK-218).
  • the obtained colloidal silica dispersion L1 was heated to 45 ° C., and 4.0% by mass of polyvinyl alcohol (B) as a polyvinyl alcohol (manufactured by Nippon Vinyl Bipo-Poval Co., Ltd., JP-45: polymerization) 4500, saponification degree 86.5 to 89.5 mol%) and 760 parts of an aqueous solution were sequentially added with stirring. Thereafter, 40 parts of a 1% by weight betaine surfactant (manufactured by Kawaken Fine Chemical Co., Ltd., Sofazoline (registered trademark) LSB-R) aqueous solution was added to prepare a coating solution L1 for a low refractive index layer.
  • B polyvinyl alcohol
  • betaine surfactant manufactured by Kawaken Fine Chemical Co., Ltd., Sofazoline (registered trademark) LSB-R
  • the base-treated titanium compound was suspended in pure water so that the concentration when converted to TiO 2 was 20 g / L. Therein, it was added with TiO 2 amount to stirring 0.4 mole% citric acid. After that, when the temperature of the mixed sol solution reaches 95 ° C., concentrated hydrochloric acid is added so that the hydrochloric acid concentration becomes 30 g / L. The mixture is stirred for 3 hours while maintaining the liquid temperature at 95 ° C. A liquid was prepared.
  • the pH and zeta potential of the obtained titanium oxide sol solution were measured, the pH was 1.4 and the zeta potential was +40 mV. Moreover, when the particle size was measured with a Zetasizer Nano manufactured by Malvern, the monodispersity was 16%.
  • titanium oxide sol solution was dried at 105 ° C. for 3 hours to obtain titanium oxide powder fine particles.
  • the powder fine particles were subjected to X-ray diffraction measurement using JDX-3530 type manufactured by JEOL Datum Co., Ltd. and confirmed to be rutile titanium oxide fine particles.
  • the volume average particle diameter of the fine particles was 10 nm.
  • a 20.0 mass% titanium oxide sol aqueous dispersion containing rutile-type titanium oxide fine particles having a volume average particle diameter of 10 nm was added to 4 kg of pure water to obtain a sol solution serving as core particles.
  • Preparation of coating liquid H1 for high refractive index layer 28.9 parts of a sol solution containing core / shell particles as the first metal oxide particles having a solid content concentration of 20.0% by mass obtained above, and 10.5 parts of a 1.92% by mass citric acid aqueous solution. And 2.0 parts of an aqueous solution of 10% by weight polyvinyl alcohol (manufactured by Kuraray Co., Ltd., PVA-103: polymerization degree 300, saponification degree 98.5 mol%) and 9.0 parts of a 3% by weight aqueous boric acid solution. By mixing, a core-shell particle dispersion H1 was prepared.
  • Infrared reflective film 2 composed of this multilayer polymer was prepared from coPEN and PETG ((PET co-polymerization, copolyester: manufactured by Eastman Chemicals), which comprises 90% PEN and 10%. Of about 446 layers having a substantially linear layer thickness gradient from layer to layer through the extrudate using the feedblock method (described in US Pat. No. 3,801,429). An optical layer was formed.
  • PETG PET co-polymerization, copolyester: manufactured by Eastman Chemicals
  • each layer was 6 ⁇ m for the transparent resin film, and the total layer thickness was 36 ⁇ m including the infrared light reflective multilayer film layer.
  • a buffer layer and a self-healing layer were formed on the light reflection layer of the infrared reflection film 1 produced as described above, and a light reflection film 101 was produced.
  • buffer layer ⁇ Acrylic polymer polymerized from a monomer composition containing a UV-stable monomer and a UV-absorbing monomer> 200 parts of butyl acetate is charged into a 1 liter flask equipped with a stirrer, a dripping port, a thermometer, a cooling pipe and a nitrogen gas inlet, and nitrogen gas is introduced and heated to 90 ° C. while stirring.
  • 4-methacryloyloxy-2,2,6,6-tetramethylpiperidine 45 parts as UV-stable monomer, 90 parts glycidyl methacrylate, 165 parts butyl methacrylate, and 2,2′-azobis (2 -Methylbutyronitrile) 1.5 parts of the mixture are added dropwise to the charge over a period of 4 hours, followed by heating for an additional 2 hours. Next, the temperature was raised to 110 ° C. while blowing a mixed gas of nitrogen and oxygen, and a mixture of 51 parts of acrylic acid, 0.51 part of tetraphenylphosphonium bromide as an esterification catalyst, and 0.05 part of methoquinone as a polymerization inhibitor. Is added dropwise over 30 minutes. After dropping, the mixture is further reacted for 6 hours to obtain a 65% solution of an acrylic polymer having an acryloyl group in the side chain. The acid value of this obtained solution was 15 mg KOH, and the number average molecular weight was 14,300.
  • the following self-healing layer composition 1 was filtered through a polypropylene filter having a pore diameter of 0.4 ⁇ m without aging treatment on the formed buffer layer. Nitrogen is applied to the surface of the buffer layer using a micro gravure coater and dried at a constant rate drying zone temperature of 80 ° C. and a reduced rate drying zone temperature of 80 ° C., so that the atmosphere has an oxygen concentration of 1.0 vol% or less.
  • an ultraviolet lamp was used to cure the coating layer with an illuminance of the irradiated part of 100 mW / cm 2 , an irradiation amount of 0.3 J / cm 2 (300 mJ / cm 2 ), and a dry layer thickness of 20 ⁇ m. Formed. Winding and roll-shaped light reflecting film 101 were produced.
  • AUP-787 (manufactured by Tokushi Co., Ltd.) 100 parts by weight Methyl ethyl ketone 50 parts by weight Propylene glycol monomethyl ether 30 parts by weight BYK-381 (surfactant: manufactured by Big Chemie Japan) 1 part by mass
  • AUP-787 is a resin composition containing urethane acrylate, a photopolymerization initiator and methyl ethyl ketone.
  • Light reflecting films 102 to 107 were produced in the same manner except that the drying temperature and time of the buffer layer were adjusted to change to the uncured monomer content shown in Table 1.
  • ⁇ Preparation of light reflecting film 108> In the production of the light reflecting film 104, a buffer layer was applied and cured by heating, followed by aging treatment at 35 ° C. for 3 days. Thereafter, a light reflecting film 108 was produced in the same manner except that a self-healing layer was formed. did.
  • ⁇ Preparation of Light Reflecting Film 109 Comparative Example>
  • a comparative light reflection film 109 was produced in the same manner except that the buffer layer was not provided and the following hard coat layer composition was used for forming the self-healing layer.
  • ⁇ Preparation of Light Reflecting Film 116 Comparative Example>
  • a light reflection film 116 of a comparative example was produced in the same manner except that the infrared reflection film 2 was used as a light reflector.
  • Indenter shape Triangular pyramid indenter (edge angle 115 °) Measurement environment: temperature 23 ° C, relative humidity 50% Maximum test load: 196.13mN Loading speed: 6.662 mN / 10 seconds Unloading speed: 6.662 mN / 10 seconds (3) Quantification of uncured monomer in buffer layer The content of uncured monomer in the buffer layer before and after molding is determined by the following method. The results obtained are shown in Table 2.
  • the sample of the light reflecting film was cut, and ATR (Attenuated Total Reflection) of the buffer layer that came out was 400 ⁇ 1 to 6000 cm ⁇ 1 using FT / IR-4100 (manufactured by JASCO Corporation). Measured in the wave number range. The reflected light intensity at the following wave numbers was obtained.
  • R1 the reflected light intensity of 2270 cm -1
  • R2 By calculating the reflected light intensity R1 / R2 of 2950 cm -1, was quantified uncured component.
  • A R1 / R2 after application of buffer layer; 100% of uncured monomer
  • B After coating the buffer layer, R1 / R2 after curing at 150 ° C. for 30 min; uncured monomer 0%. From the above measurement data, the ratio MM of uncured monomer was determined by the following equation.
  • Stretch molding of the light reflecting film 101 The light reflecting film was bonded to a glass curved surface of ⁇ 100 mm at a molding processing temperature of 150 ° C. Similarly, the light reflecting films 102 to 108 and 110 to 115 were respectively molded according to the combinations shown in Table 2 while changing the molding temperature to 150 ° C., 120 ° C., 80 ° C., and 70 ° C.
  • Scratch resistance test reciprocating abrasion tester (manufactured by Shinto Scientific Co., Ltd., HEIDON-14DR) using a steel mounting wool (# 0000) as a wear member, the surface of each film mirror under a load of 500 g / cm 2 It was reciprocated 10 times at a speed of 10 mm / sec. The wound after the test was evaluated according to the following criteria.
  • UV reflection was performed at 150 mW for 96 hours using an I-superior UV tester manufactured by Iwasaki Electric under an environment of 65 ° C., and then the regular reflectance was measured. Changes in infrared reflectance before and after the acceleration test were evaluated using the following indices.
  • Reflection decrease is 0 to less than 1% ⁇ : Reflectance decrease is less than 1 to 3% ⁇ : Reflectance decrease is less than 3 to 5% ⁇ : Reflectance decrease is 5% or more
  • Table 2 The configuration and the evaluation results are shown in Table 2 below.
  • the light reflecting films 101 to 108 and 110 to 115 of the present invention provided with a buffer layer and a self-healing layer are superior in scratch resistance after being stretch-molded into a curved shape with respect to Comparative Examples 109 and 116. I understand that. Further, it was found that the light reflecting film of the present invention was excellent in light resistance due to the layer structure obtained by blending a UV-stable monomer and UV-absorbing monomer into a buffer layer to form a polymer and thermosetting.
  • the structure of the light reflector 1 was superior in both scratch resistance and light resistance.
  • the light reflecting film 108 formed with the self-healing layer after aging treatment after providing the buffer layer is slightly inferior to the light reflecting film 104 with the self-healing layer continuously formed. It was.
  • Example 2 Light reflector: Production of film mirror and metallic gloss film >> [Light Reflector 3: Production of Film Mirror]
  • a biaxially stretched polyester film (polyethylene terephthalate film, thickness 25 ⁇ m) was used as the transparent substrate film.
  • a polyester resin Polyethylene terephthalate film, thickness 25 ⁇ m
  • a melamine resin manufactured by Super Becamine J-820 DIC Co., Ltd.
  • the obtained resin was coated by a gravure coating method to form an anchor layer having a thickness of 0.1 ⁇ m, and a silver reflecting layer having a thickness of 100 nm was formed on the anchor layer as a silver reflecting layer by a vacuum deposition method. Furthermore, a resin in which a polyester resin and a TDI (tolylene diisocyanate) isocyanate are mixed at a resin solid content ratio of 10: 2 on the silver reflective layer is coated by a gravure coating method to have a thickness of 3.0 ⁇ m. The resin coat layer 8 was formed, and the film mirror which is a light reflector was produced (refer FIG. 5B).
  • polyester A polyethylene terephthalate having an intrinsic viscosity of 0.8 was used.
  • Polyester B used 30 mol% cyclohexanedimethanol as an acid component and 30 mol% spiroglycol copolymerized polyethylene terephthalate as a diol component. These polyester A and polyester B were dried and then fed to an extruder.
  • the merged polyester A and polyester B are supplied to a static mixer, and one slit plate having 275 slits and 274 slit plates are alternately arranged in the thickness direction comprising 275 layers of polyester A and 274 layers of polyester B.
  • the 549-layer feed block which is a structure using one sheet, was joined to form a laminate in which 549 layers were alternately stacked in the thickness direction.
  • the breakdown of the laminated structure is a laminated body having an inclined structure in which polyester A is composed of 275 layers and polyester B is laminated alternately in the thickness direction.
  • the thus obtained laminate consisting of 549 layers was supplied to a T-die and formed into a sheet shape, and then rapidly cooled and solidified on a casting drum maintained at a surface temperature of 25 ° C. while applying electrostatic force.
  • the obtained cast film was heated with a roll group set at 85 ° C. to 100 ° C., and stretched 3.2 times in the longitudinal direction, and then the aqueous coating (X) mixed with the following composition was applied to this uniaxially stretched film. did.
  • Water-based paint (X) composition -Aqueous dispersion of acrylic urethane copolymer resin (a): “Sannaron” WG-658 (solid content concentration 30% by mass) manufactured by Shannan Synthetic Chemical Co., Ltd. -Aqueous dispersion of isocyanate compound (b): “Elastolon” E-37 (solid content concentration: 28% by mass) manufactured by Daiichi Kogyo Seiyaku Co., Ltd.
  • Epoxy compound (c) “CR-5L” manufactured by DIC Corporation (solid content concentration: 100% by mass)
  • An aqueous dispersion of a composition comprising the compound (d-1) having a polythiophene structure and the compound (d-2) having an anion structure: In 1887 parts by mass of an aqueous solution containing 20.8 parts by mass of polystyrene sulfonic acid, which is a compound having an anion structure, 49 parts by mass of a 1% by mass iron (III) sulfate aqueous solution, and 3,4- 8.8 parts by mass of ethylenedioxythiophene and 117 parts by mass of a 10.9% by mass peroxodisulfuric acid aqueous solution were added.
  • -Aqueous solvent pure water
  • the uniaxially stretched film coated with the aqueous coating agent (X) was guided to a tenter, preheated with hot air at 100 ° C., and stretched 3.3 times in the width direction at a temperature of 110 ° C.
  • the stretched film was heat-treated with hot air having a relaxation rate of 3% and 150 ° C. in a tenter, gradually cooled to room temperature, and wound up.
  • a first film having a thickness of 52 ⁇ m was obtained.
  • a second film having a thickness of 71 ⁇ m was obtained in the same manner as described above except for the thickness of the polyester film.
  • the following adhesive was applied to the obtained first film at a wet thickness of 7 g / m 2 , dried at a drying temperature of 70 ° C. to 90 ° C. at a speed of 20 m / min, and then the second film and nip pressure 0.4 MPa, temperature 40 Lamination was carried out with a nip roll at 0 ° C.
  • the sheet was wound after pasting, but the sheet winding part was equipped with an AC voltage application type (corona discharge type) static eliminator that generates an ionic current (ion current measuring instrument static elimination monitor SW001) of ⁇ 0.3 ⁇ A or more. did.
  • AC voltage application type corona discharge type
  • ionic current ion current measuring instrument static elimination monitor SW001
  • a buffer layer and a self-healing layer described in Table 3 were formed on the light reflecting layer of the light reflector 4 produced in the same manner as the light reflecting films 110 to 116 of Example 1, and the light reflecting films 209 to 215 was produced.
  • a spectrophotometer U-4000 type manufactured by Hitachi High-Technologies Corporation was used for the sample before and after the acceleration test using the Isuperki UV Tester manufactured by Iwasaki Electric Co., Ltd., and the light wavelength of each light reflecting film was 450
  • the average reflectance in the ⁇ 650 nm region was measured at 10 points at equal intervals in the width direction of the film in an environment of 23 ° C. and 55% RH to obtain the average value, and this was taken as the visible light reflectance (%).
  • the change in visible light reflectance was evaluated according to the above criteria.
  • the light reflecting films 201 to 207 and 209 to 214 of the present invention that reproduce Example 1 and provided with a buffer layer are superior to Comparative Examples 208 and 215 in scratch resistance after being stretch-molded into a curved shape. I understand that. It was also found that the buffer layer was excellent in light resistance due to the layer constitution obtained by blending the UV-stable monomer and UV-absorbing monomer and thermosetting.
  • the structure of the light reflector 3 was superior in both scratch resistance and light resistance.
  • the light reflecting film 207 formed with the self-healing layer by aging treatment after providing the buffer layer is reproduced to be slightly inferior to the light reflecting film 203 with the self-healing layer continuously formed. It was done.
  • Example 3 Provide of laminated glass ⁇ Laminated glasses 301 to 309 were produced using the light reflecting films 101 to 109 produced above.
  • a polyvinyl butyral film having a thickness of 380 ⁇ m was provided as a polyvinyl acetal resin film on the side of the light reflecting films 101 to 109 where the self-healing layer was not applied.
  • the laminated glass using the light reflecting films 101 to 108 of the present invention is superior in scratch resistance during processing to the laminated glass using the comparative light reflecting film 109, and the buffer layer and the self-healing layer according to the present invention. It has been found that the elasticity increases by providing the material and has excellent resistance to generation of heat wrinkles during processing.
  • the light reflecting film of the present invention improves the self-healing property of the stretched part when stretched into a curved surface and bonded, and has excellent scratch resistance and light resistance.
  • Film mirrors and metallic glossy films, light reflecting films provided on laminated glass, home appliances, OA equipment, mobile phones, and surface decoration films for plastic casings used in automobile interiors, etc. Can do.

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Abstract

 本発明の課題は、曲面形状に延伸されて貼合された際の延伸部の自己修復性を改善し、耐傷性及び耐光性に優れた光反射フィルム、当該光反射フィルムの製造方法、当該光反射フィルムの加飾成型加工方法、合わせガラス及び曲面形状体を提供することである。 本発明の光反射フィルムは、少なくとも基材フィルムと光反射層を具備する光反射体上に自己修復層が形成された光反射フィルムであって、下記式で定義される前記自己修復層の修復度(A)が、0.02以上であり、さらに前記光反射体と前記自己修復層との間に緩衝層を設けたことを特徴とする。 A=(h-h)/hmax h:除荷保持時間0秒で測定したときの残留深さ(μm) h:除荷保持時間60秒で測定したときの残留深さ(μm) hmax:設定押し込み深さ(μm)

Description

光反射フィルム、光反射フィルムの製造方法、光反射フィルムの加飾成型加工方法、合わせガラス及び曲面形状体
 本発明は、光反射フィルム、光反射フィルムの製造方法、光反射フィルムの加飾成型加工方法、合わせガラス及び曲面形状体に関する。より詳しくは、曲面形状に延伸されて貼合された際の延伸部の自己修復性の劣化を改善し、耐傷性及び耐光性に優れた光反射フィルム、その製造方法、当該光反射フィルムの加飾成型加工方法、合わせガラス及び曲面形状体に関する。
 光反射部材において、屋外で使用する際、基材の耐傷性及び耐光性が求められている。そのため、基材上にハードコート層を形成するのが一般的である。しかし、通常のハードコート材料に単純に紫外線(UV)吸収剤や光安定剤(本願では、HALSともいう。)を入れるだけでは、屋外での長期の太陽光照射等に耐えることができず、基材が劣化して光学反射率が低下するという問題が発生する。
 また一方で、自動車の窓などの曲面形状体に光反射部材を用いることへの要望がある。上記曲面形状体に光反射部材を貼合すると、光反射部材が曲面部で延伸されるため、通常のハードコート材料では貼合時、及び貼合後の残留応力で、ハードコート層の割れが発生するという問題がある。
 特許文献1には、加飾フィルム上に、ハードコート剤、光安定剤及びUV吸収剤を含有する活性線硬化性ポリマーを含有する自己修復可能な表面保護層を設けることで、延伸性を保ちながら、耐光性を持たせる技術が開示されている。しかしながら、この構成では、前述した曲面形状体に光反射部材を貼合すると、光反射部材が曲面形状に延伸されることで、延伸部の自己修復性が未延伸部の自己修復性に対して劣化し、当該部分の耐傷性が不十分になるという問題があった。
特開2012-206375号公報
 本発明は、上記問題・状況に鑑みてなされたものであり、その解決課題は、曲面形状に延伸されて貼合された際の延伸部の自己修復性の劣化を改善し、耐傷性及び耐光性に優れた光反射フィルム、当該光反射フィルムの製造方法、当該光反射フィルムの加飾成型加工方法、合わせガラス及び曲面形状体を提供することである。
 本発明者は、上記課題を解決すべく、上記問題の原因等について検討する過程において、少なくとも基材フィルムと光反射層を具備する光反射体上に自己修復層が形成された光反射フィルムであって、下記式で定義される前記自己修復層の修復度が特定の値以上であり、さらに前記光反射体と前記自己修復層との間に緩衝層を設けた光反射フィルムによって、曲面形状に延伸されて貼合された際の延伸部の自己修復性の劣化を改善し、耐傷性及び耐光性に優れた光反射フィルムが得られることを見出した。
 すなわち、本発明に係る上記課題は、以下の手段により解決される。
 1.少なくとも基材フィルムと光反射層を具備する光反射体上に自己修復層が形成された光反射フィルムであって、下記式で定義される前記自己修復層の修復度(A)が、0.02以上であり、さらに前記光反射体と前記自己修復層との間に緩衝層を設けたことを特徴とする光反射フィルム。
   A=(h-h)/hmax
   h:除荷保持時間0秒で測定したときの残留深さ(μm)
   h:除荷保持時間60秒で測定したときの残留深さ(μm)
   hmax:設定押し込み深さ(μm)
 2.前記緩衝層が、紫外線安定性モノマーから選ばれる少なくとも1種と紫外線吸収性モノマーから選ばれる少なくとも1種とを含むモノマー組成物から重合されたポリマーを含有し、加飾成型加工する前の当該緩衝層における未硬化モノマーの割合が、5質量%以上であることを特徴とする第1項に記載の光反射フィルム。
 3.前記加飾成型加工した後の前記緩衝層における前記未硬化モノマーの割合が、3質量%以下であることを特徴とする第2項に記載の光反射フィルム。
 4.前記光反射フィルムの光波長1000~1500nmの範囲の光反射率が、50%以上であることを特徴とする第1項から第3項までのいずれか一項に記載の光反射フィルム。
 5.前記光反射フィルムの光波長450~650nmの範囲の光反射率が、50%以上であることを特徴とする第1項から第3項までのいずれか一項に記載の光反射フィルム。
 6.第1項から第5項までのいずれか一項に記載の光反射フィルムを製造する光反射フィルムの製造方法であって、前記緩衝層を形成するための緩衝層塗布液を前記光反射体上に塗布し、次いで熱硬化した後にエージング処理を施すことなく、当該緩衝層上に自己修復層を形成することを特徴とする光反射フィルムの製造方法。
 7.第1項から第5項までのいずれか一項に記載の光反射フィルムの加飾成型加工方法であって、
 前記光反射フィルムに対して自己修復層とは反対側の面に粘着層又は接着層を形成し、当該光反射フィルムを前記粘着層又は接着層を介して基板上に80℃以上の温度で熱成型しながら貼合することを特徴とする光反射フィルムの加飾成型加工方法。
 8.第4項に記載の光反射フィルムを、2枚の合わせガラス構成部材で挟持してなることを特徴とする合わせガラス。
 9.第5項に記載の光反射フィルムを具備したことを特徴とする曲面形状体。
 本発明の上記手段により、曲面形状に延伸されて貼合された際の延伸部の自己修復性の劣化を改善し、耐傷性及び耐光性に優れた光反射フィルム、当該光反射フィルムの製造方法、当該光反射フィルムの加飾成型加工方法、合わせガラス及び曲面形状体を提供することができる。
 本発明の効果の発現機構ないし作用機構については、明確にはなっていないが、以下のように推察している。
  自己修復性を有するポリマーは、外部応力に対して、その弾性変形を修復することができ、表面に細かい擦り傷ができても自己修復が可能であり、表面保護層として当該ポリマーを含有する自己修復層を形成することによって、耐衝撃性、耐傷性に優れた効果を期待できる。一方で、自己修復層が塑性変形してしまうと、上記擦り傷等の変形を修復することはできない。
 自動車の窓のような曲面形状体に光反射フィルムを貼合する際、曲面部においては光反射フィルムが延伸されてしまう。前述の特許文献1のような構成では、基材フィルムと一緒に自己修復層が延伸されるため、様々な曲面形状に貼合することは可能だが、当該構成においては、延伸部の耐傷性(自己修復性)が、非延伸部の耐傷性に対して劣り、延伸部が傷つきやすいという問題があった。
 これは、曲面形状に貼合する際、自己修復層に基材側から大きな変形応力がかかるため、延伸部において、自己修復層の基材側の一部が塑性化してしまい、それによって層厚方向の弾性変形領域が減少するため、自己修復性能を劣化させてしまうものと推察された。
 本発明では、自己修復層の弾性を特定の範囲に制御し、さらに光反射体と自己修復層との間に緩衝層を設けることが特徴であるが、当該構成によれば、曲面形状に貼合する際の延伸で生ずる基材側からの変形応力を当該自己修復層及び緩衝層が吸収することで、自己修復層の基材側が塑性化せず、延伸部の自己修復性能が劣化しないことを見出した。
 その結果、曲面形状に成型後も、所望の耐傷性を実現することができるようになったものと推察される。
 さらに、本発明に係る緩衝層に、紫外線に対する光安定性及び光吸収性を有するポリマーを含有させ、さらに加飾成型加工前後の当該緩衝層中の当該ポリマー全体に対する未硬化モノマーの割合を特定の量範囲に調整することによって、自己修復層の弾性変形領域をさらに広げることができることを見出した。本発明に係る緩衝層を加えることによって、前記光反射フィルムが曲面形状に延伸されるような加飾成型加工時においても、成型時又は成型後の基材からの変形応力を吸収し、自己修復層の耐傷性を維持しながら、紫外線による耐光性劣化の発生も抑えることができ、耐傷性及び耐光性に優れるものと推察される。
を算出するための、除荷保持時間0秒での負荷試験力-押しこみ深さ曲線 を算出するための、除荷保持時間60秒での負荷試験力-押しこみ深さ曲線 本発明の光反射フィルムの構成を示す断面図 赤外線反射層を具備する光反射フィルムの構成の一例を示した断面図 赤外線反射層を具備する光反射フィルムの構成の別の一例を示した断面図 フィルムミラーを具備する光反射フィルムの構成を示す断面図 フィルムミラーを具備する光反射フィルムの別の構成を示す断面図
 本発明の光反射フィルムは、少なくとも基材フィルムと光反射層を具備する光反射体上に自己修復層が形成された光反射フィルムであって、前記式で定義される前記自己修復層の修復度(A)が、0.02以上であり、さらに前記光反射層と前記自己修復層との間に、緩衝層を設けたことを特徴とする。この特徴は、請求項1から請求項9までの請求項に係る発明に共通する技術的特徴である。
 本発明の実施態様としては、本発明の効果発現の観点から、前記緩衝層が、紫外線安定性モノマーから選ばれる少なくとも1種と紫外線吸収性モノマーから選ばれる少なくとも1種とを含むモノマー組成物から重合されたポリマーを含有し、さらに加飾成型加工する前の当該緩衝層における未硬化モノマーの割合が5質量%以上であることが、加飾成型加工時において、光反射フィルムを曲面形状に延伸して貼合する際の基材からの変形応力を、当該緩衝層が吸収し、自己修復層の塑性変形を抑制する観点から、好ましい。
 さらに、加飾成型加工した後の前記緩衝層における前記未硬化モノマーの割合が3質量%以下であることが、加飾成型加工後において、外部からの変形応力を自己修復層及び当該緩衝層が吸収する際に、緩衝層自体が柔軟すぎると緩衝層の割れが生じやすくなることもあるため、緩衝層自体の耐傷性を向上する観点から、好ましい実施態様である。
 前記光反射フィルムの光波長1000~1500nmの範囲の光反射率が、50%以上であることが、窓貼り用の遮熱フィルムとして好適であり、赤外線反射フィルムとして好ましい態様である。
 また、前記光反射フィルムの光波長450~650nmの範囲の光反射率が、50%以上であることが、太陽熱反射フィルムや、金属光沢を有した加飾フィルムを提供することができ、好ましい態様である。
 本発明の光反射フィルムを製造する光反射フィルムの製造方法は、前記緩衝層を形成するための緩衝層塗布液を前記光反射体上に塗布し、次いで熱硬化した後にエージング処理を施すことなく、当該緩衝層上に自己修復層を形成する製造方法によって、加飾成型加工前の緩衝層における未硬化モノマーの割合を特定の値以上に制御することができ、当該光反射フィルムを曲面形状に延伸して貼合しても、基材からの変形応力を当該緩衝層が効果的に吸収することができ、自己修復層の耐傷性の劣化を抑制できる。
 本発明の光反射フィルムの加飾成型加工方法は、前記光反射フィルムに対して自己修復層とは反対側の面に粘着層又は接着層を形成し、当該光反射フィルムを前記粘着層又は接着層を介して基板上に80℃以上の温度で熱成型しながら貼合することが、好ましい。当該温度以上にすることにより、緩衝層中の未硬化ポリマーの一部をさらに熱硬化してその割合を特定の値以下に制御することによって、曲面形状に変形した後の緩衝層が自己修復層の外部応力に対する変形に追随して変形し、緩衝層自体の割れ等の発生を抑える観点から、好ましい。
 本発明の光反射フィルムを、2枚の合わせガラス構成部材で挟持して合わせガラスとすることが好ましい。
 また、本発明の光反射フィルムは、曲面形状の基板に具備して曲面形状体を形成することも好ましい。
 以下、本発明とその構成要素、及び本発明を実施するための形態・態様について詳細な説明をする。なお、本願において、「~」は、その前後に記載される数値を下限値及び上限値として含む意味で使用する。
 ≪本発明の光反射フィルムの概要≫
 本発明の光反射フィルムは、少なくとも基材フィルムと光反射層を具備する光反射体上に自己修復層が形成された光反射フィルムであって、下記式で定義される前記自己修復層の修復度(A)が0.02以上であり、さらに前記光反射体と前記自己修復層との間に、緩衝層を設けたことを特徴とする。
   A=(h-h)/hmax
   h:除荷保持時間0秒で測定したときの残留深さ(μm)
   h:除荷保持時間60秒で測定したときの残留深さ(μm)
   hmax:設定押し込み深さ(μm)
 ここで、修復度(A)は、押し込み深さ設定負荷-除荷試験によって前記定義された式によって求められる値であり、一例として、以下の方法によって行われる。
 図1は、本実施形態に係る光反射フィルムを測定することによって得られる、押し込み深さで圧子を押し込んだときの負荷試験力-押しこみ深さ曲線(押し込み深さ設定負荷-除荷試験により得られた曲線)の一例を示すグラフであり、h及びhを算出する。
 図1Aは、除荷保持時間0秒での負荷試験力-押しこみ深さ曲線を表し、hを算出する。
 図1Bは、除荷保持時間60秒での負荷試験力-押しこみ深さ曲線を表し、hを算出する。
 〈押し込み深さ設定負荷-除荷試験〉
 ビッカース圧子及び稜線同士の角度が115度の三角錐圧子を用いた微小硬度計を用いて、光反射フィルム表面について、設定された押し込み深さhmax(μm)で圧子を押し込んだときの負荷試験力-押しこみ深さ曲線を作成する。そして、光反射フィルムについて除荷保持時間0秒又は60秒で測定した際に求められる残留深さ(h、h)より、A=(h-h)/hmax)を算出する。以上の測定を試料の異なる箇所で5回行い、その平均値を求め、修復度(A)とする。
 具体的な測定条件の一例としては、ダイナミック超微小硬度計DUH-211S(島津製作所社製)を用い、下記の測定条件で測定することができる。
 圧子形状:三角錐圧子(稜間角115°)
 測定環境:温度23℃、相対湿度50%
 最大試験荷重:196.13mN
 荷重速度:6.662mN/10秒
 除荷速度:6.662mN/10秒
 前記式で得られた修復度(A)の大きさは、自己修復性を示しており、0.02以上であれば、本願でいう自己修復性を有するといえる。すなわち、残留深さhに対して残留深さhの値が小さく、その差が大きいほど、自己修復層の弾性が高いといえ、自己修復度が大きいことを表す。
 前記押し込み深さ設定負荷-除荷試験の修復度(A)は、0.02~0.90の範囲内であることが好ましく、0.20~0.70の範囲内であることが好ましい。0.90を超えない範囲であるとハードコート性と自己修復度の両立を図ることができる。
 <本発明の光反射フィルムの具体的な構成>
 図2に本発明の光反射フィルムRFの最小構成を示す。
 本発明の光反射フィルムRFは、基材フィルム2の少なくとも一方の面に光反射層3を有する光反射体1の、光反射層のある面に自己修復層5、及び光反射体1と自己修復層5との間に緩衝層4を配置する構成である。
 それぞれの各層間及び自己修復層上には、図示はしないが必要に応じて機能性層を有することもでき、また基材フィルム2の自己修復層5とは反対側の面に、粘着層又は接着層を形成して、光反射フィルムを基板に貼合することも好ましい。
 以下、各構成層について詳細に説明する。
 〔1〕自己修復層
 本発明に係る自己修復層は、前記微小硬度計により押し込まれた際の押し込み深さ設定負荷-除荷試験によって求められた修復度(A)が、0.02以上であることを特徴とする。前記修復度(A)は、0.02~0.90の範囲内であることが好ましく、0.20~0.70の範囲内であることが好ましい。0.02以上であれば、自己修復層が本願の自己修復性を発現することができ、0.90以内であれば、ハードコート性等の機械的膜強度に優れる。
 本発明に係る自己修復層は、紫外線や電子線のような活性線(活性エネルギー線ともいう。)照射により、架橋反応を経て硬化する活性線硬化性樹脂を主たる成分とする層であることが好ましい。
 本発明に係る自己修復層に用いることのできる活性線硬化性樹脂としては、エチレン性不飽和二重結合を有するモノマーを含む成分が好ましく用いられ、紫外線や電子線のような活性線を照射することによって硬化させて活性線硬化性樹脂層が形成される。中でも自己修復性を発現できる観点から、エポキシ骨格を有する活性エネルギー線硬化型樹脂、又はアルキル鎖骨格又はアルキレンオキサイド骨格を有する活性エネルギー線硬化型樹脂が好ましい。
 エポキシ骨格を有する活性エネルギー線硬化型樹脂としては例えばエポキシ(メタ)アクリレートが挙げられる。
 エポキシ(メタ)アクリレートとしては、下記(i)又は(ii)で示されるトリカルボン酸と、下記(iii)又は(iv)で示されるモノオキシラン環を有する(メタ)アクリレートとを反応させてなるものである。
 (i)で示されるトリカルボン酸と(ii)で示されるトリカルボン酸とは、それぞれ単独で用いることができ、また併用することもできる。(iii)で示されるモノオキシラン環を有する(メタ)アクリレートと(iv)で示されるモノオキシラン環を有する(メタ)アクリレートとは、それぞれ単独で用いることができ、また併用することもできる。
 (i):下記一般式(a)で表される脂肪族トリカルボン酸
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000001
 ただし、Rは水素又はヒドロキシ基を表す。a、b及びdは0~8の整数、cは0~9の整数であり、0≦a+b+c+d≦9かつ〔a<d又は(a=dかつb≦c)〕である。
 (ii):トリメリット酸 
 (iii):下記一般式(b)で表されるモノオキシラン環を有する脂肪族(メタ)アクリレート
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000002
 ただし、Rは水素又はメチル基、nは1~5の整数、mは1~3の整数を表す。
 (iv):下記一般式(c)で表されるモノオキシラン環を有する脂環族(メタ)アクリレート
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000003
 ただし、Rは水素又はメチル基、sは1~10の整数を表す。 
 エポキシ(メタ)アクリレートはソフトセグメントとハードセグメントとのバランスがよく、外部応力を緩和しやすい特性が得られやすい。
 (i)のトリカルボン酸としては、1,2,4-ブタントリカルボン酸(Rは水素、a=0、b=0、c=1及びd=0)、1,3,5-ヘキサントリカルボン酸(Rは水素、a=0、b=1、c=2及びd=0)、1,2,4-ペンタントリカルボン酸(Rは水素、a=0、b=0、c=1及びd=1)、1,2,5-ペンタントリカルボン酸(Rは水素、a=0、b=0、c=2及びd=0)、1,3,4-ペンタントリカルボン酸(Rは水素、a=0、b=1、c=0及びd=1)、1,2,5-ペンタントリカルボン酸(Rは水素、a=0、b=1、c=1及びd=0)、1,2,6-ヘキサントリカルボン酸(Rは水素、a=0、b=0、c=3及びd=0)、1,2,4-ヘキサントリカルボン酸(Rは水素、a=0、b=0、c=1及びd=2)、1,4,5-ヘキサントリカルボン酸(Rは水素、a=0、b=2、c=0及びd=1)、1,3,4-ヘキサントリカルボン酸(Rは水素、a=0、b=1、c=0及びd=2)、1,3,6-ヘキサントリカルボン酸(Rは水素、a=0、b=1、c=2及びd=0)、2,3,5-ヘキサントリカルボン酸(Rは水素、a=1、b=0、c=1及びd=1)、1,4,8-オクタントリカルボン酸(Rは水素、a=0、b=2、c=3及びd=0)、1,5,10-ノナントリカルボン酸(Rは水素、a=0、b=3、c=3及びd=0)、1,6,12-ドデカントリカルボン酸(Rは水素、a=0、b=4、c=5及びd=0)、クエン酸(Rはヒドロキシ基、a=b=c=d=0)等が挙げられる。
 (ii)のトリメリット酸としては、1,2,4-トリメリット酸のほか、1,3,5-トリメリット酸及び1,2,3-トリメリット酸が挙げられる。
 (iii)のモノオキシラン環を有する脂肪族(メタ)アクリレートとしては、4-ヒドロキシブチルアクリレートモノグリシジルエーテル〔4-HBAGE、一般式(b)においてn=4、m=1の化合物〕、2-ヒドロキシエチルアクリレートモノグリシジルエーテル〔2-HEAGE、一般式(b)においてn=2、m=1の化合物〕等が挙げられる。
 (iv)の一般式(c)で表されるモノオキシラン環を有する脂環族(メタ)アクリレートとしては、脂環式エポキシ基含有アクリレート(s=6)等が挙げられる。
 以下に、合成例を挙げる。
 (合成例1)
 撹拌機、温度計及びコンデンサーを備えた四ツ口フラスコにトルエン415.8質量部、1,2,4-ブタントリカルボン酸(酸価:886)100質量部、4-ヒドロキシブチルアクリレートモノグリシジルエーテル〔日本化成(株)製、4-HBAGE〕315.8質量部、ハイドロキノンモノメチルエーテル0.1質量部を仕込み100℃まで昇温した。その後、1,2,4-トリカルボン酸が完全に溶解したことを確認し、TPP(トリフェニルホスフィン)2質量部を仕込み、同温度で24時間保持して反応を終了した。その結果、固形分50質量%、酸価4.2mgKOH/g(固形分換算)のエポキシアクリレートが得られた。収率は96.1%であった。
 アルキル鎖骨格又はアルキレンオキサイド骨格を有する活性エネルギー線硬化型樹脂としては、例えば、分子内に1個のヒドロキシ基及び3個以上の(メタ)アクリロイル基を有する(メタ)アクリレートに炭素数2~4のアルキレンオキサイドを1~20モル付加して得られるアルキレンオキサイド骨格を有する(メタ)アクリレート(下記(P1))と、ポリイソシアネート(下記(P2))とを反応させて得られるウレタン(メタ)アクリレートを挙げることができる。
 分子内に1個のヒドロキシ基及び3個以上の(メタ)アクリロイル基を有する(メタ)アクリレートとしては、ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、ジグリセリントリ(メタ)アクリレート、ジトリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、キシリトールテトラ(メタ)アクリレート、トリグリセリンテトラ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ(メタ)アクリレート、ソルビトールペンタ(メタ)アクリレートなどが挙げられる。
 これらのうち、分子内に1個のヒドロキシ基及び3~5個の(メタ)アクリロイル基を有する(メタ)アクリレートが好ましく、ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、キシリトールテトラ(メタ)アクリレート、トリグリセリンテトラ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ(メタ)アクリレートが挙げられる。さらに好ましくはペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ(メタ)アクリレートである。
 付加重合に用いるアルキレンオキサイドの種類としては、炭素数2~4のアルキレンオキサイドを使用することができる。具体例としては、エチレンオキサイド、プロピレンオキサイド、ブチレンオキサイド、テトラヒドロフランなどが挙げられる。これらアルキレンオキサイドは、単独で用いても2種以上を併用してもよく、2種以上を併用する場合にはランダム状又はブロック状に付加重合してもよい。これらのうち、テトラヒドロフランが好ましく、アルキレンオキサイドの平均付加モル数は1~20であり、2~12であることが好ましい。
 アルキレンオキサイド骨格を有する(メタ)アクリレート(P1)成分の製造方法としては、通常の開環重合と同様の方法で行うことができる。例えば、反応容器に分子内に1個のヒドロキシ基及び3個以上の(メタ)アクリロイル基を有する(メタ)アクリレート及び触媒、必要に応じて重合禁止剤及び有機溶剤を仕込んだ後、反応容器内を窒素ガスなどの不活性ガスで置換し、アルキレンオキサイドを圧入して付加重合させる。反応温度としては通常-30~120℃であり、好ましくは0~80℃、より好ましくは20~60℃である。-30℃より低い場合には反応速度が遅くなり、120℃ より高い場合には副反応又は重合が進行し過ぎたり、生成物が着色するおそれがある。反応時間としては通常0.3~20時間であり、より好ましくは1~10時間である。
 ポリイソシアネート(P2)は、分子内に少なくとも2個以上のイソシアネート基を含有する脂肪族、脂環式及び芳香族イソシアネートである。2官能イソシアネートの具体例としては、1,4-トリレンジイソシアネート、2,4-トリレンジイソシアネート、2,6-トリレンジイソシアネート、1,3-キシリレンジイソシアネート、1,5-ナフタレンジイソシアネート、4,4’-ジフェニルメタンジイソシアネートなどの芳香族ジイソシアネート、トリメチレンジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネート、1,4-シクロヘキサンジイソシアネート、ジシクロヘキシルメタンジイソシアネート、イソホロンジイソシアネート、ノルボルナンジイソシアネートなどの脂肪族及び脂環式ジイソシアネートが挙げられる。3官能イソシアネートの具体例としては、1,4-トリレンジイソシアネート、2,4-トリレンジイソシアネート、2,6-トリレンジイソシアネート、1,3-キシリレンジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネート、ジシクロヘキシルメタンジイソシアネート、イソホロンジイソシアネート、ノルボルナンジイソシアネートなどのジイソシアネートを重縮合してイソシアヌレート変性させたイソシアヌレート体、前記ジイソシアネートをアダクト変性させたアダクト体、前記ジイソシアネートとグリセリンやトリメチロールプロパンなどの三価アルコールをビウレット変性させたビウレット体が挙げられる。多官能イソシアネートの具体例としては、前記ジイソシアネートとポリオール又はポリアミンとの反応により得られるイソシアネート化合物が挙げられる。
 これらのうち、脂肪族ジイソシアネート及び脂環式ジイソシアネート、脂肪族ジイソシアネート及び脂環式ジイソシアネートモノマーを重縮合して変性した3官能イソシアネートが好ましく、ヘキサメチレンジイソシアネート、ジシクロヘキシルメタンジイソシアネート、イソホロンジイソシアネート、ノルボルナンジイソシアネートなどの脂肪族及び脂環式ジイソシアネート及びこれらジイソシアネートのイソシアヌレート変性させた3官能イソシアネートがより好ましい。これらポリイソシアネートは、単独で用いても2種以上を併用してもよい。
 以下に、合成例を挙げる。
 撹拌装置、温度計、圧力ゲージを備えたステンレス製オートクレーブに、ペンタエリスリトールトリアクリレート(以下、「PE3A」という)/ペンタエリスリトールテトラアクリレート(以下、「PE4A」という)混合物(質量比で70/30の混合物、ヒドロキシ基価:137mgKOH/g)307質量部、ハイドロキノンモノメチルエーテル0.1質量部、四塩化スズ3.2質量部を投入し、反応系内を窒素ガスで置換した。次に、エチレンオキサイド(以下、「EO」という)100質量部を45℃にてゲージ圧が0.1~0.3MPaとなるよう維持しながら3時間かけて導入し、同温度で2時間反応を継続した。さらに、45℃にて減圧して30分間保持した後、常圧に戻して冷却することにより粘調性液体402質量部を得た。その後、吸着剤(キョーワード1000:協和化学工業(株)製)を投入し、空気を吹き込みながら70℃にて撹拌した後、吸着剤を濾別することにより粘調性液体370部を得た。得られた粘調性液体のヒドロキシ基価は106mgKOH/gであり、ヒドロキシ基価から算出すると、PE3AにEOが3モル付加した数平均分子量430の(メタ)アクリレートが得られ、PE3AのEO3モル付加物/PE4A混合物の質量比は77/23であった。
 また活性線硬化性樹脂としては、上記した樹脂以外に、紫外線硬化性アクリレート系樹脂、紫外線硬化性ウレタンアクリレート系樹脂、紫外線硬化性ポリエステルアクリレート系樹脂、紫外線硬化性エポキシアクリレート系樹脂、紫外線硬化性ポリオールアクリレート系樹脂、及び紫外線硬化性エポキシ樹脂等を挙げることができる。
 中でも、本発明に係る自己修復層には、他の活性線硬化性樹脂としてポリロタキサンを用いることができる。当該ポリタロキサンの市販品として、例えばSM3405P、SM1315P、SA3405P、SA2405P、SA1315P、SM3400C、SA3400C、SA2400C(以上、アドバンスト・ソフトマテリアルズ(株)製)等を好ましく用いることができる。
 さらに、熱硬化性樹脂ではあるが同様にポリロタキサンの市販品として、例えばSH3400P、SH2400P、SH1310P、熱硬化性エラストマーとして、例えばSH3400S、SH3400M(以上、アドバンスト・ソフトマテリアルズ(株)製)等を好ましく用いることもできる。
 (光重合開始剤)
 また、自己修復層には、活性線硬化性樹脂の硬化促進のため、光重合開始剤を含有することが好ましい。光重合開始剤量としては、質量比で、光重合開始剤:活性線硬化性樹脂=20:100~0.01:100で含有することが好ましい。光重合開始剤としては、具体的には、具体的には、アルキルフェノン系、アセトフェノン、ベンゾフェノン、ヒドロキシベンゾフェノン、ミヒラーケトン、α-アミロキシムエステル、チオキサントン等及び、これらの誘導体を挙げることができるが、特にこれらに限定されるものではない。
 このような光重合開始剤は市販品を用いてもよく、例えば、BASFジャパン(株)製のイルガキュア184、イルガキュア907、イルガキュア651等が好ましい例示として挙げられる。
 (添加剤)
 自己修復層には、シリコーン系界面活性剤、フッ素系界面活性剤、アニオン界面活性剤、フッ素-シロキサングラフト化合物、フッ素系化合物、アクリル共重合物等の添加剤を含有させてもよい。
 (微粒子)
 自己修復層表面の滑り性を高めるため、必要に応じて微粒子(マット剤)をさらに含有してもよい。
 微粒子は、無機微粒子であっても有機微粒子であってもよい。無機微粒子の例には、二酸化ケイ素(シリカ)、二酸化チタン、酸化アルミニウム、酸化ジルコニウム、炭酸カルシウム、炭酸カルシウム、タルク、クレイ、焼成カオリン、焼成ケイ酸カルシウム、水和ケイ酸カルシウム、ケイ酸アルミニウム、ケイ酸マグネシウム及びリン酸カルシウムなどが含まれる。中でも、二酸化ケイ素や酸化ジルコニウムが好ましく、得られるフィルムのヘイズの増大を少なくするためには、より好ましくは二酸化ケイ素である。
 二酸化ケイ素の微粒子の例には、アエロジルR972、R972V、R974、R812、200、200V、300、R202、OX50、TT600、NAX50(以上日本アエロジル(株)製)、シーホスターKE-P10、KE-P30、KE-P50、KE-P100(以上日本触媒(株)製)などが含まれる。中でも、アエロジルR972V、NAX50、シーホスターKE-P30などが、得られる自己修復層の濁度を低く保ちつつ、摩擦係数を低減させるため特に好ましい。
 微粒子の一次粒子径は、5~50nmの範囲であることが好ましく、7~20nmの範囲であることがより好ましい。一次粒子径が大きい方が、滑り性を高める効果は大きいが、透明性が低下しやすい。そのため、微粒子は、粒子径0.05~0.3μmの範囲の二次凝集体として含有されていてもよい。微粒子の一次粒子又はその二次凝集体の大きさは、透過型電子顕微鏡にて倍率50~200万倍で一次粒子又は二次凝集体を観察し、一次粒子又は二次凝集体100個の粒子径の平均値として求めることができる。
 微粒子の含有量は、自己修復層を形成する樹脂に対して0.05~1.0質量%の範囲であることが好ましく、0.1~0.8質量%の範囲であることがより好ましい。
 (溶剤)
 自己修復層は、上記した成分を、溶剤で希釈して自己修復層組成物として、以下の方法で後述する緩衝層を介して光反射体上に塗布、乾燥、硬化して形成されることが好ましい。
 溶剤としては、ケトン(メチルエチルケトン、アセトンなど)及び/又は酢酸エステル(酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ブチルなど)、アルコール(エタノール、メタノール)、プロピレングリコールモノメチルエーテル、シクロヘキサノン、メチルイソブチルケトンなどが好ましい。自己修復層のドライ層厚は、平均層厚5~30μmの範囲が好ましく、より好ましくは10~20μmの範囲である。この範囲内であれば、自己修復性を発現することができ、耐傷性も向上する。
 自己修復層の塗布方法としては、グラビアコーター、ディップコーター、リバースコーター、ワイヤーバーコーター、ダイコーター、インクジェット法等の公知の方法を用いることができる。
 (自己修復層形成方法)
 自己修復層層組成物を塗布後、乾燥し、硬化(活性線を照射(UV硬化処理ともいう。))し、更に必要に応じて、UV硬化後に加熱処理しても良い。UV硬化後の加熱処理温度としては80℃以上が好ましく、更に好ましくは100℃以上であり、特に好ましくは120℃以上である。このような高温でUV硬化後の加熱処理を行うことで、膜強度に優れた自己修復層を得ることができる。
 乾燥は、前記塗布工程後15秒未満の間の乾燥温度が15~70℃の範囲であり、15秒以上36秒未満の乾燥温度が60~120℃の範囲であり、36秒以後40秒未満の乾燥温度が30~80℃の範囲であることが望ましい。
 照射条件は、それぞれのランプによって異なるが、活性線の照射量は、通常30~1000mJ/cmの範囲、好ましくは70~300mJ/cmの範囲である。また、UV硬化処理では酸素による反応阻害を防止するため、酸素除去(例えば、窒素パージ等の不活性ガスによる置換)を行うこともできる。酸素濃度の除去量を調整することで、表面の硬化状態を制御できる。
 活性線を照射する際には、光学反射体に張力を付与しながら行うと、平面性が向上し好ましい。
 〔2〕緩衝層
 本発明に係る緩衝層は、耐光性を向上する観点から、好ましくは紫外線安定性モノマーから選ばれる少なくとも1種と紫外線吸収性モノマーから選ばれる少なくとも1種とを含むモノマー組成物から重合されたポリマーからなり、同時に自己修復層の弾性領域を拡大するために、加飾成型加工する前の緩衝層における未硬化モノマーの割合が、5質量%以上であることを特徴とする。加飾成型加工する前の緩衝層における未硬化モノマーの割合は5~80質量%の範囲内であることが好ましく、5~60質量%の範囲内であることがより好ましい。5質量%以上にすることで緩衝性が高くなる為、曲面体に貼合する時の応力緩和が良好で、80質量%以下であれば自己修復層の塑性化を防ぐ上で、より効果的である。
 また、前記加飾成型加工した後の前記緩衝層における前記未硬化モノマーの割合は、3質量%以下であることが好ましい。3質量%以下にすることで緩衝層が硬化し、外部応力がかかった時に緩衝層の変形を抑制することができ、光学反射率が劣化することを防ぐことができる。
 緩衝層に用いることのできるポリマーは、紫外線安定性モノマーから選ばれる少なくとも1種と紫外線吸収性モノマーから選ばれる少なくとも1種とを含むモノマー組成物から重合された重合性アクリルポリマーであることが好ましく、緩衝層に当該化合物を用いることで、自己修復層に紫外線吸収剤や光安定剤を添加して用いることよりも、自己修復層の自己修復性及び耐傷性を高めながら、光反射フィルム全体の耐光性を向上することができる。
 本発明でいう紫外線安定性モノマーは、一般にHALS(ヒンダードアミン系光安定剤)と呼称される化合物をいい、下記一般式(1)及び(2)で表される紫外線安定性モノマーであることが好ましく、当該モノマーから選ばれる少なくとも1種を含むモノマー組成物をラジカル重合してなるポリマーの側鎖に重合性二重結合を有することが好ましい。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000004
(式中、Rは水素原子又はシアノ基を表す。R、Rはそれぞれ独立して水素原子又はメチル基を表す。R は水素原子又は炭素数1~18の炭化水素基を表し、Xは酸素原子又はイミノ基を表す。)
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000005
(式中、Rは水素原子又はシアノ基を表す。R、Rはそれぞれ独立して水素原子又はメチル基を表す。Xは酸素原子又はイミノ基を表す。)
 また本発明に係るポリマーは、モノマー組成物が下記一般式(3)、(4)で表される紫外線吸収性モノマー、及び(5)で表されるモノマーから選ばれる少なくとも1種を含有することが好ましい。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000006
(式中、Rは水素原子又は炭素数1~8の炭化水素基を表す。Rは低級アルキレン基を表す。Rは水素原子又はメチル基を表す。Yは水素、ハロゲン、炭素数1~8の炭化水素基、低級アルコキシ基、シアノ基又はニトロ基を表す。)
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000007
(式中、Rは炭素数2又は3のアルキレン基を表す。Rは水素原子又はメチル基を表す。)
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000008
(式中、R10は水素原子又はメチル基を表す。Zは置換基を有してもよいシクロアルキル基を表す。)
 本発明に係る緩衝層に用いられる重合性アクリルポリマーは、一般式(1)及び(2)で表される紫外線安定性モノマーから選ばれる少なくとも1種と、官能基を有するモノマーとを含むモノマー組成物をラジカル重合して得られたポリマーに、該官能基と反応する官能基及び重合性二重結合を有する化合物を反応させて製造することが好ましい。
 緩衝層に用いられる重合性アクリルポリマーは、上記特定構造の紫外線安定性モノマーを含有していることによって、優れた耐光性を示す。かかる作用については未だ十分には解明されていないが、おそらく、ピペリジン骨格のN-置換基が酸化されて生成するN-オキシラジカルによって、ポリマーの光開始反応で生じるアルキルラジカルが捕捉されることが当該作用の主ではないかと推測される。
 また従来と同様に重合可能な紫外線安定剤を使用することによって、紫外線安定剤の重合組成物からのブリードアウトといった問題を解消することもできる。さらに、当該ポリマーは側鎖に重合性二重結合を有するので、自己架橋性ポリマーとなり、耐傷性に優れる。またアクリルポリマーであることから、共重合されるモノマーの側鎖アルキル基の長さや芳香環の有無により物性バランスをとりやすい。
 また、上記重合性アクリルポリマーは、一般式(3)、(4)で表される特定構造を有する紫外線吸収性モノマーを併用することにより耐光性の点において著しい相乗効果を奏する。さらに特定構造の不飽和モノマーをさらに含有してもよい。当該不飽和モノマーは、立体的に嵩高い置換基を持つために、電子線又は紫外線による硬化のような塗膜に内部ひずみを生じやすい硬化方法において、塗膜の内部ひずみを緩和させる効果があり、塗膜にクラックを生じさせることなく、長期耐光性がさらに向上する。
 本発明で用いられる一般式(1)、(2)の紫外線安定性モノマーにおいて、式中、R1 で示される置換基は水素原子又はシアノ基で構成され、R2 、R3 で示される置換基はそれぞれ独立して水素原子又はメチル基で構成され、R4 で示される置換基が水素原子又は炭素数1~18の炭化水素基で構成され、Xで示される置換基が酸素原子又はイミノ基で構成されるピペリジン類である。
 上記Rで示される置換基とは、具体的には水素原子、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、t-ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、ノニル基、デシル基、ウンデシル基、ドデシル基、トリデシル基、テトラデシル基、ペンタデシル基、ヘキサデシル基、ヘプタデシル基、オクタデシル基など鎖式炭化水素基;シクロプロピル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、シクロヘプチル基、シクロオクチル基などの脂環式炭化水素基;フェニル基、トリル基、キシリル基、ベンジル基、フェネチル基などの芳香族炭化水素基などである。
 前記一般式(1)で表される紫外線安定性モノマーとしては、具体的には4-(メタ)アクリロイルオキシ-2,2,6,6-テトラメチルピペリジン、4-(メタ)アクリロイルアミノ-2,2,6,6-テトラメチルピペリジン、4-(メタ)アクリロイルオキシ-1,2,2,6,6-ペンタメチルピペリジン、4-(メタ)アクリロイルアミノ-1,2,2,6,6-ペンタメチルピペリジン、4-シアノ-4-(メタ)アクリロイルアミノ-2,2,6,6-テトラメチルピペリジン、4-クロトノイルオキシ-2,2,6,6-テトラメチルピペリジン、4-クロトノイルアミノ-2,2,6,6-テトラメチルピペリジンなどが挙げられ、これらの1種のみを用いてもよく、また2種以上を適宜混合して用いてもよい。もちろん一般式(1)の紫外線安定性モノマーはこれら化合物に限定されるものではない。
 前記一般式(2)で表される紫外線安定性モノマーとして、具体的には、1-(メタ)アクリロイル-4-(メタ)アクリロイルアミノ-2,2,6,6-テトラメチルピペリジン、1-(メタ)アクリロイル-4-シアノ-4-(メタ)アクリロイルアミノ-2,2,6,6-テトラメチルピペリジン、1-クロトノイル-4-クロトイルオキシ-2,2,6,6-テトラメチルピペリジンなどが挙げられ、これら1種のみを用いてもよく、また2種以上を適宜混合して用いてもよい。なお一般式(2)の紫外線安定性モノマーはこれらに限定されるものではない。
 本発明における前記一般式(3)で表される紫外線吸収性モノマーは、式中、Rは水素原子又は炭素数1~8の炭化水素基で構成され、Rは低級アルキレン基で構成され、Rは水素原子又はメチル基で構成され、Yは水素、ハロゲン、炭素数1~8の炭化水素基、低級アルコキシ基、シアノ基又はニトロ基で構成されるベンゾトリアゾール類である。
 上記式中、Rで表される置換基は、具体的には水素原子、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、t-ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基などの鎖式炭化水素基;シクロプロピル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、シクロヘプチル基、シクロオクチル基などの脂環式炭化水素基;フェニル基、トリル基、キシリル基、ベンジル基、フェネチル基などの芳香族炭化水素基であり、R6 で表される置換基は、具体的には炭素数1~6のアルキレン基であって、メチレン基、エチレン基、プロピレン基、ブチレン基、ペンチレン基、ヘキシレン基などの直鎖状アルキレン基及びイソプロピレン基、イソブチレン基、s-ブチレン、t-ブチレン基、イソペンチレン基、ネオペンチレン基などの分枝鎖状アルキレン基であり、Yで表される置換基は、水素;フッ素、塩素、シュウ素、ヨウ素などのハロゲン;メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、t-ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基などの鎖式炭化水素基:シクロプロピル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、シクロヘプチル基、シクロオクチル基などの脂環式炭化水素基:フェニル基、トリル基、キシリル基、ベンジル基、フェネチル基などの芳香族炭化水素基;メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、ブトキシ基、ペントキシ基、ヘプトキシ基など炭素数1~6の低級アルコキシ基;シアノ基;ニトロ基である。
 前記一般式(3)で表される紫外線吸収性モノマーとしては、具体的には2-[2′-ヒドロキシ-5′-(メタクリロイルオキシメチル)フェニル]-2H-ベンゾトリアゾール、2-[[2′-ヒドロキシ-5′-(メタクリロイルオキシエチル)フェニル]]-2H-ベンゾトリアゾール、2-[2′-ヒドロキシ-3′-t-ブチル-5′-(メタクリロイルオキシエチル)フェニル]-2H-ベンゾトリアゾール、2-[2′-ヒドロキシ-5′-t-ブチル-3′-(メタクリロイルオキシエチル)フェニル]-2H-ベンゾトリアゾール、2-[2′-ヒドロキシ-5′-(メタクリロイルオキシエチル)フェニル]-5-クロロ-2H-ベンゾトリアゾール、2-[2′-ヒドロキシ-5′-(メタクリロイルオキシエチル)フェニル]-5-メトキシ-2H-ベンゾトリアゾール、2-[2′-ヒドロキシ-5′-(メタクリロイルオキシエチル)フェニル]-5-シアノ-2H-ベンゾトリアゾール、2-[2′-ヒドロキシ-5′-(メタクリロイルオキシエチル)フェニル]-t-ブチル-2H-ベンゾトリアゾール、2-[2′-ヒドロキシ-5′-(メタクリロイルオキシエチル)フェニル]-5-ニトロ-2H-ベンゾトリアゾールなどが挙げられるが、特にこれらに限定されるものではない。一般式(3)で表されるこれら紫外線吸収性モノマーは1種類のみを用いてもよく、また2種類以上を適宜混合して用いてもよい。
 また前記一般式(4)で表される紫外線吸収性モノマーは、式中、Rで表される置換基は炭素数2又は3のアルキレン基で構成され、R で表される水素原子又はメチル基で構成されるベンゾトリアゾール類である。
 上記式中、Rで表される置換基は、具体的にはエチレン基、トリメチレン基、プロピレン基などである。
 前記一般式(4)で表される紫外線吸収性モノマーとしては、例えば、2-〔2′ヒドロキシ-5′-(β-メタクリロイルオキシエトキシ)-3′-t-ブチルフェニル〕-4-t-ブチル-2H-ベンゾトリアゾールが挙げられるが、特にこれに限定されるものではない。一般式(4)で表されるこれら紫外線吸収性モノマーは1種類のみを用いてもよく、また2種類以上を適宜混合してもよい。
 本発明に用いられる一般式(5)に表される不飽和モノマーは、式中、R10で示される置換基が水素原子又はメチル基で構成され、Zで示される置換基が置換基を有してもよいシクロアルキル基で構成される不飽和モノマーである。
 上記式中、Zで表される置換基は、シクロヘキシル基、メチルシクロヘキシル基、t-ブチルシクロヘキシル基、シクロドデシル基などである。
 本発明に用いられる一般式(5)に表される不飽和モノマーとしては、具体的には、シクロヘキシル(メタ)アクリレート、メチルシクロヘキシル(メタ)アクリレート、t-ブチルシクロヘキシル(メタ)アクリレート、シクロドデシル(メタ)アクリレートなどが挙げられ、これらの1種又は2種以上が使用できる。
 本発明に用いられる重合性アクリルポリマーは、アクリル系モノマーを主たるモノマーとし、その他の共重合可能な不飽和モノマーとの共重合ポリマーであってもよい。
 本発明で使用するアクリル系モノマーとしては、(メタ)アクリル酸などのアクリル系カルボン酸;メチル(メタ)アクリレート、エチル(メタ)アクリレート、n-プロピル(メタ)アクリレート、イソプロピル(メタ)アクリレート、n-ブチル(メタ)アクリレート、t-ブチル(メタ)アクリレート、2-エチルヘキシル(メタ)アクリレート、ラウリルトリデシル(メタ)アクリレート等の(メタ)アクリル酸エステル;2-ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、2-ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート、カプロラクトン変性ヒドロキシ(メタ)アクリレート(例えば、(株)ダイセル製「プラクセルFM」)、フタル酸とプロピレングリコールから得られるエステルジオールの(メタ)アクリル酸モノエステルなどのヒドロキシ基含有(メタ)アクリル酸エステル;(メタ)アクリロニトリル、(メタ)アクリルアミド、N-メチロールアクリルアミド、N-ブトキシメチルアクリルアミド、ジアセトンアクリルアミド、2-スルホン酸エチル(メタ)アクリレート、イミド(メタ)アクリレート及びその塩などのその他アクリル系モノマーなどを挙げることができ、これらの1種又は2種以上が使用される。これらの中でも、光反射体とのとの密着性の点からイミド(メタ)アクリレートを好適に使用することができる。
 その他の共重合可能な不飽和モノマーとしては、例えば塩化ビニル、塩化ビニリデンなどのハロゲン含有不飽和モノマー;スチレン、α-メチルスチレン、ビニルトルエンなどの芳香族不飽和モノマー;酢酸ビニルなどのビニルエステル;ビニルエーテルなどが挙げられ、必要に応じてこれらの1種又は2種以上が使用できる。
 各種モノマーの使用量は、特に限定されるものではないが、一般式(1)、(2)で表される紫外線安定性モノマーの合計使用量は、ポリマー組成物全量に対して0.1~30質量%とすることが望まれる。より好ましい範囲について述べると、下限側として好ましくは0.5質量%、さらに好ましくは1質量%である。他方上限側として好ましくは20質量%、さらに好ましくは15質量%である。紫外線安定性モノマーの合計使用量がこの範囲内であれば、重合性アクリルポリマーの耐光性が十分となる。
 一般式(3)、(4)で表される紫外線吸収性モノマーの合計使用量は、ポリマー組成物全量に対して0.1~30質量%とすることが望まれる。より好ましい範囲について述べると、下限側として好ましくは0.5質量%、さらに好ましくは1質量%である。他方上限側として好ましくは20質量%、さらに好ましくは15質量%である。この範囲内であれば、紫外線安定性モノマーとの相乗効果が十分となり、耐光性も十分となる。また、着色の原因となるおそれもない。
 一般式(5)で表される不飽和モノマーの使用量は、ポリマー組成物全量に対して5~80質量%とすることが望まれる。より好ましい範囲について述べると、下限側として好ましくは10質量%、さらに好ましくは15質量%である。他方上限側として好ましくは70質量%、さらに好ましくは50質量%である。この範囲内であれば、硬化の際にクラックが生じにくく、耐光性が十分となり、硬化塗膜が脆くなるおそれもない。
 本発明の重合性アクリルポリマーは、一般式(1)及び(2)で表される紫外線安定性モノマーから選ばれる少なくとも1種と、官能基を有するモノマーとを含むモノマー組成物をラジカル重合して得られたポリマーに、該官能基と反応する官能基及び重合性二重結合を有する化合物を反応させて製造することができる。
 重合性二重結合を導入するために用いる官能基の具体例としては、エポキシ基、オキサゾリン基、イソシアネート基、酸アミド基(アミノカルボニル基)、カルボキシ基、ヒドロキシ基、アミノ基等が挙げられる。これらの官能基を有する共重合可能なモノマーの具体例は、グリシジル(メタ)アクリレート、2-イソプロペニル-2-オキサゾリン、4-エポキシシクロヘキシルメチル(メタ)アクリレート、エチルイソシアネート(メタ)アクリレート、N-アクリルアミド、N-メトキシメチルアクリルアミド、N-ブトキシメチルアクリルアミド、イタコン酸ジアミド、フマル酸アミド、フタル酸アミド、(メタ)アクリレート、イタコン酸、フマル酸、マレイン酸、2-ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、2-ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート、ジメチルアミノエチル(メタ)アクリレート、t-ブチルアミノエチル(メタ)アクリレート等が挙げられる。
 重合性官能基を導入するために用いられる化合物の具体例としては、官能基がエポキシ基、オキサゾリン基の場合には、(メタ)アクリル酸、イタコン酸等のカルボキシ基を有する化合物;官能基がイソシアネート基の場合には、2-ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、2-ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート、4-ヒドロキシブチル(メタ)アクリレート等のヒドロキシ基含有モノマー;官能基がカルボキシ基の場合には、グリシジル(メタ)アクリレート、2-イソプロペニル-2-オキサゾリン、4-エポキシシクロヘキシルメチル(メタ)アクリレート等のエポキシ基含有モノマー、2-ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、2-ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート、4-ヒドロキシブチル(メタ)アクリレート等のヒドロキシ基含有モノマー;官能基がヒドロキシ基の場合には、エチルイソシアネート(メタ)アクリレート等のイソシアネート基含有モノマー、(メタ)アクリレート、イタコン酸等のカルボキシ基含有モノマー;官能基が酸アミド基の場合には、グリシジル(メタ)アクリレート、4-エポキシシクロヘキシルメチル(メタ)アクリレート、2-ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート等のエポキシ基又はヒドロキシ基含有モノマー;官能基がアミノ基の場合には、(メタ)アクリル酸等のカルボキシ基含有モノマー等が挙げられる。
 本発明のアクリルポリマーの二重結合当量は、200~3000がよく、好ましくは300~1500、さらに好ましくは350~1000がよい。二重結合当量が3000以下であれば、硬度、耐傷性が十分となる。200以上であると、経時的に硬化塗膜にクラックが生じにくく、耐光性が向上する。
 またモノマー成分を共重合させる際の重合方法は、特に限定されるものではなく、従来公知の重合方法が採用され得る。例えば、溶液重合、分散重合、懸濁重合、乳化重合などの重合方法が使用できる。溶液重合法を用いてモノマー成分を重合させる場合に用いることができる溶媒としては、トルエン、キシレン、その他高沸点の芳香族系溶媒;酢酸ブチル、酢酸エチル、セロソルブアセテートなどのエステル系溶媒;メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトンなどのケトン系溶媒などが挙げられる。もちろん使用し得る溶媒がこれら溶媒に限定されるものではない。これら溶媒は1種のみを使用してもよいし、2種以上を混合して使用してもよい。なお、溶媒の使用量は生成物の濃度などを考慮し適宜定めればよい。
 またモノマー組成物を共重合させる際には重合開始剤を用いる。重合開始剤としては、例えば2,2′-アゾビス-(2-メチルブチロニトリル)、t-ブチルパーオキシ-2-エチルヘキサノエート、2,2′-アゾビスイソブチロニトリル、ベンゾイルパーオキサイド、ジ-t-ブチルパーオキサイドなどの通常のラジカル重合開始剤が挙げられる。重合開始剤の使用量は、要求されるポリマーの特性値などから適宜決定されるべきものであり、特に限定はないが、モノマー成分全量に対して0.01~50質量%の範囲が好ましく、より好ましくは0.05~20質量%の範囲である。
 反応温度は、特に限定されるものではないが、室温~200℃の範囲が好ましく、40~140℃がより好ましい。なお反応時間は、用いるモノマー組成物の組成や重合開始剤の種類などに応じて、重合反応が完結するように適宜設定すればよい。
 (緩衝層のその他の成分)
 緩衝層を形成するその他の成分として、硬化剤、硬化促進剤、その他添加剤等を用いることができ、それらの詳細については、例えば、特開2009-269984号公報に記載されているような材料を挙げることができるが、これに限定されるものではない。
 (緩衝層の形成方法)
 緩衝層の形成は、上記ポリマー及び必要に応じて各種添加剤を有機溶剤等に溶解して緩衝層塗布液とし、当該塗布液を光反射体上に塗布することが好ましい。塗布は、浸漬、吹き付け、刷毛塗り、カーテンフローコーター、ロールコート、スピンコート、バーコートなどの方法により行うことができる。
 緩衝層の層厚は特に制限されるものではないが、1~10μmの範囲内であることが好ましく、3~7μmの範囲内であることが好ましい。上記範囲内であれば、自己修復層の外部からの応力を緩衝層で緩和することができ、自己修復層の弾性変形領域を広げることで、より強い外部応力に対しても、自己修復性を保ちながら、耐傷性が向上できる。
 前記重合性アクリルポリマーの硬化は、加熱することによって行うことが好ましく、前記緩衝層塗布液を光反射体上に塗布し、次いで熱硬化する。ポリマーの種類、硬化剤、硬化促進剤等の割合を適宜調整することにより、80~200℃の温度範囲で硬化することが好ましい。80~150℃の温度範囲であることがより好ましく、80~120℃の温度範囲であることがさらに好ましい。熱硬化の時間は適宜調整されるものであるが、0.5~10分の範囲内であることが、未硬化モノマーの割合の調整と緩衝層の機械的強度を維持する上で好ましい。
 本発明に係る緩衝層は、加飾成型加工前の当該緩衝層に未硬化モノマーの割合が、5質量%以上であることが、自己修復層の弾性変形領域を広げることに効果があり、特に加飾成型加工前及び本発明の光反射フィルムが曲面形状に延伸され、貼合されるような加飾成型時のハンドリングにおける耐傷性を向上する観点からは、モノマー成分を意図的に残留させることが好ましく、前記熱硬化の温度及び時間を上記の範囲内で制御することが好ましく、熱硬化した後にエージング等の後加熱工程を施すことなく、当該緩衝層上に自己修復層を形成することが好ましい。
 すなわち、本発明の光反射フィルムの製造方法は、前記緩衝層を形成するための緩衝層塗布液を前記光反射体上に塗布し、次いで熱硬化した後にエージング処理を施すことなく、当該緩衝層上に自己修復層を形成することが好ましい。ここでいう、エージング処理とは、緩衝層を形成した後に比較的低温で長時間加熱することをいい、加熱温度や加熱時間の組み合わせによって行われるため、一概にはいえないが、例えば35~50℃の範囲の温度で、0.5~7日の範囲内で行われる加熱処理をいう。
 また、自己修復層を形成した後に当該自己修復層の硬化を促進する意図で、光反射フィルムにエージング処理を行ってもよいが、その場合において、加飾成型加工前の当該緩衝層に未硬化モノマーの割合が5質量%以上となるような、比較的マイルドなエージング処理条件で行うことが好ましい。
 加飾成型加工前の未硬化モノマーの割合は、5~80質量%の範囲内であることが好ましく、5~60質量%の範囲内であることがより好ましい。5質量%以上にすることで緩衝性が高くなる為、曲面形状体に貼合する時の応力緩和が良好で、80質量%以下であれば自己修復層の塑性化を防ぐ上で、より効果的である。
 さらに、加飾成型後の当該未硬化モノマーの割合は、3質量%以下であることが好ましく、当該範囲に制御するのに、加飾成型時の温度は80℃以上で行うことが好ましく、80~200℃の温度範囲で行うことが好ましい。80~150℃の温度範囲であることがより好ましく、80~120℃の温度範囲であることがさらに好ましい。加飾成型の時間は上記未硬化モノマーの割合になるように適宜調整されることが好ましい。
 上記の温度及び時間の範囲内で加飾成型を行うことによって、加飾成型後の当該未硬化モノマーの割合は、0.1~3質量%以下に制御することが好ましく、0.1~1.0質量%の範囲内であることが、より好ましい。加飾成型後の当該未硬化モノマーの割合が0.1質量%以上であれば成型後の耐傷性が高く、3質量%以下であれば成型後の耐光性が向上する。
 加飾成型工程前後の緩衝層中の未硬化モノマーの割合を、以上のような特定の範囲に調整することによって、自己修復層の弾性変形領域をさらに広げることができ、例えば本発明の光反射フィルムが曲面形状に延伸され、貼合されるような加飾成型加工時においても、成型時、及び成型後の基材からの変形応力を吸収し、自己修復層の延伸部の耐傷性の劣化を抑制することができるものと推察される。
 <緩衝層中の未硬化モノマーの定量方法>
  緩衝層中の未硬化モノマーの含有量は、以下の方法で測定できる。
 光反射フィルム試料を切削し、緩衝層のATR(Attenuated Total Reflection:全反射測定法)を測定する。ATR装置としては、一例として、FT/IR-4100(日本分光(株)製)を用いることができる。
 (方法とデータ処理)
 光反射フィルム試料を切削し、出てきた緩衝層の固形分をATRとして400-1~6000cm-1の波数の範囲で測定する。それぞれ以下の波数の反射光強度R1及びR2が得られる。
 R1:2270cm-1の反射光強度:これはイソシアネート結合のピークであり、未硬化成分のピークである。
 R2:2950cm-1の反射光強度:これは、C-H結合のピークであり、材料そのもの(硬化/未硬化で変化しない)のピークである。
 R1/R2を算出することで、未硬化成分を定量することができる。
 ここで、
 A:緩衝層塗布後のR1/R2;熱硬化性樹脂は塗布後溶媒が揮発した段階では未硬化モノマー100%である。
 B:緩衝層塗布後、150℃、30minの硬化処理後のR1/R2;熱硬化性樹脂が完全に硬化して未硬化モノマー0%である。
 以上のデータから、未硬化モノマーの割合MMは次式で求めることができる。
 (未硬化モノマーの割合MM(質量%))=(R1/R2-B)/(A-B)×100
 上式で、(R1/R2-B)とは、測定時のR1/R2からベース強度を引いた値を表す。
 (A-B)とは、全モノマー量(ポリマー及びモノマーの合算量)を示す。
 したがって、(R1/R2-B)/(A-B)は、測定時における(未硬化モノマー量)/(全モノマー量)である。
 〔3〕光反射体
 本発明に係る光反射体は、その上層として本発明に係る緩衝層及び自己修復層を積層して光反射フィルムとする。当該光反射フィルムとして、光波長1000~1500nmの範囲の光反射率が、50%以上であることが好ましい。また別の形態の光反射フィルムとして、光波長450~650nmの範囲の光反射率が、50%以上であることが好ましい。
 前者は一般に赤外光を選択的に反射する赤外線反射フィルムと総称されるフィルムであり、後者は可視光を選択的に反射する反射フィルム(フィルムミラーともいう。)又は光沢フィルム(金属光沢調フィルムともいう。)と総称されるフィルムであり、それぞれに様々な種類がある。
 以下、本発明に係る光反射体として好ましい実施態様である、窓貼り用の赤外線反射フィルム、太陽熱反射フィルム用の反射フィルム(フィルムミラー)及び金属光沢調フィルムについて詳細に説明する。
 〔3.1〕赤外線反射フィルム
 本発明に係る光反射体である赤外線反射フィルムの光学特性としては、JIS R3106(1998)で測定される可視光透過率として、好ましくは60%以上であり、より好ましくは70%以上であり、さらに好ましくは80%以上である。また、波長1000~1500nmの近赤外から赤外領域の反射率が、50%以上であることが好ましく、70%以上であることがより好ましく、80%以上であることがさらに好ましく、90%以上であることが特に好ましい。反射率は、分光光度計(積分球使用、(株)日立ハイテクノロジーズ製、U-4000型)を用い、23℃、55%RHの環境下、赤外反射フィルムの1000~1500nmの領域における反射率を測定し、その平均反射率を求め、これを赤外反射率とする。
 また、赤外線反射フィルムの総厚としては、特に制限はないが、100~1500μmの範囲内であり、好ましくは100~1000μmの範囲内であり、さらに好ましくは100~700μmの範囲内であり、特に好ましくは100~500μmの範囲内である。
 赤外線反射フィルムの代表的な構成例について、図を交えて説明する。
 赤外線反射フィルムは、機能性層として1000~1500nmの光波長範囲内の光を80%以上、さらに好ましくは90%以上反射する機能を有する赤外線反射層を有することが好ましい。また、好ましくは、当該赤外線反射層が、第1の水溶性バインダー樹脂と第1の金属酸化物粒子を含有する高屈折率反射層と、第2の水溶性バインダー樹脂と第2の金属酸化物粒子を含有する低屈折率反射層とを交互に積層し、特定の波長の光を選択的に反射する反射層積層体である構成である。
 本発明におけるこれらの層構成は、少なくとも透明基材フィルムと光反射層3を有していれば、特に限定されるものではなく、それぞれの目的に応じて適正な層構成を選択することができる。
 図3及び図4は赤外線反射層を具備する、本発明の光反射フィルムの構成の例を示した断面図である。
 前記赤外線反射層は、第1の水溶性バインダー樹脂と第1の金属酸化物粒子を含有する高屈折率反射層と、第2の水溶性バインダー樹脂と第2の金属酸化物粒子を含有する低屈折率反射層とを交互に積層し、特定の波長の光を選択的に反射する反射層積層体である図3で示す構成であることが好ましい態様である。
 図3に示す赤外線反射フィルムWFでは、基材フィルム2上に、赤外線反射層として、第1の水溶性バインダー樹脂と第1の金属酸化物粒子を含有する高屈折率の赤外線反射層と、第2の水溶性バインダー樹脂と第2の金属酸化物粒子を含有する低屈折率の赤外光線反射層とを交互に積層した反射層積層体ML1を有している。反射層積層体ML1は、透明基材2側から赤外線反射層T~Tのn層で構成され、例えば、T、T、T、(中略)、Tn-2、Tを屈折率が1.10~1.60の範囲内にある低屈折率層で構成し、T、T、T、(中略)、Tn-1を屈折率が1.80~2.50の範囲内にある高屈折率層とする構成が一例として挙げられる。本発明でいう屈折率とは、25℃の環境下で測定した値である。
 図4は、赤外線反射フィルムで、ポリマー層積層体により構成される赤外線反射層を有する構成の一例を示す概略断面図である。
 図4に示す赤外線反射フィルムWFでは、基材フィルム2上に、赤外線反射層として反射層積層体ML2が、それぞれ素材の異なる2種のポリマーフィルムを積層して構成されている。構成の一例としては、透明基材2側から、ポリエチレンナフタレートフィルムで形成されているPEN、ポリメチルメタアクリレートフィルムで形成されているPMMA、PEN、PMMA、PEN、PMMA、(中略)、PENn-1、PMMA、PENと積層して反射層積層体ML2が形成されている。積層されるフィルム総数は150~1000層の範囲内であることが好ましい。これらポリマー層積層体の詳細については、例えば、米国特許公報第6049419号明細書に記載の内容を参考とすることができる。
 本発明に係る赤外線反射フィルムとしては、上記の構成層のほかに、必要に応じて、各種機能層を設けてもよい。
 また、本発明の光反射フィルムは、上記ML1又はML2の最上層である、T若しくはPEN上に直接又は他の機能層を介して、本発明に係る緩衝層4及び自己修復層5がこの順に形成されるものである。
 <基材フィルム>
 本発明に係る光反射体に適用可能な基材フィルムとしては、透明樹脂フィルム等を挙げることができる。本発明でいう「透明」とは、可視光領域における平均光線透過率が50%以上であることをいい、好ましくは60%以上、より好ましくは70%以上、特に好ましくは80%以上である。
 基材フィルムの厚さは、30~200μmの範囲内であることが好ましく、より好ましくは30~100μmの範囲内であり、更に好ましくは35~70μmでの範囲内である。透明樹脂フィルムの厚さが30μm以上であれば、取り扱い中にシワ等が発生しにくくなり、また厚さが200μm以下であれば、例えば合わせガラス作製時、ガラス基材と貼り合わせる際のガラス曲面への追従性がよくなる。
 透明樹脂フィルムは、二軸配向ポリエステルフィルムであることが好ましいが、未延伸又は少なくとも一方に延伸されたポリエステルフィルムを用いることもできる。強度向上、熱膨張抑制の点から延伸フィルムが好ましい。特に、本発明の光反射フィルムを具備した合わせガラスを、自動車のフロントガラスとして用いられる際に、延伸フィルムがより好ましい。
 透明樹脂フィルムは、光反射フィルムのシワの生成や赤外線反射層の割れを防止する観点から、温度150℃において、熱収縮率が0.1~3.0%の範囲内であることが好ましく、1.5~3.0%の範囲内であることがより好ましく、1.9~2.7%であることがさらに好ましい。
 本発明に適用可能な透明樹脂フィルムとしては、上述のように、透明であれば特に制限されることはないが、例えば、ポリオレフィンフィルム(例えば、ポリエチレン、ポリプロピレン等)、ポリエステルフィルム(例えば、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート等)、ポリ塩化ビニル、トリアセチルセルロースフィルム等を用いることができ、好ましくはポリエステルフィルム、トリアセチルセルロースフィルムである。
 ポリエステルフィルム(以降、単にポリエステルと称す。)としては、特に限定されるものではないが、ジカルボン酸成分とジオール成分を主要な構成成分とするフィルム形成性を有するポリエステルであることが好ましい。主要な構成成分のジカルボン酸成分としては、テレフタル酸、イソフタル酸、フタル酸、2,6-ナフタレンジカルボン酸、2,7-ナフタレンジカルボン酸、ジフェニルスルホンジカルボン酸、ジフェニルエーテルジカルボン酸、ジフェニルエタンジカルボン酸、シクロヘキサンジカルボン酸、ジフェニルジカルボン酸、ジフェニルチオエーテルジカルボン酸、ジフェニルケトンジカルボン酸、フェニルインダンジカルボン酸などを挙げることができる。また、ジオール成分としては、エチレングリコール、プロピレングリコール、テトラメチレングリコール、シクロヘキサンジメタノール、2,2-ビス(4-ヒドロキシフェニル)プロパン、2,2-ビス(4-ヒドロキシエトキシフェニル)プロパン、ビス(4-ヒドロキシフェニル)スルホン、ビスフェノールフルオレンジヒドロキシエチルエーテル、ジエチレングリコール、ネオペンチルグリコール、ハイドロキノン、シクロヘキサンジオールなどを挙げることができる。これらを主要な構成成分とするポリエステルの中でも透明性、機械的強度、寸法安定性などの点から、ジカルボン酸成分として、テレフタル酸や2,6-ナフタレンジカルボン酸、ジオール成分として、エチレングリコールや1,4-シクロヘキサンジメタノールを主要な構成成分とするポリエステルが好ましい。中でも、ポリエチレンテレフタレートやポリエチレンナフタレートを主要な構成成分とするポリエステルや、テレフタル酸と2,6-ナフタレンジカルボン酸とエチレングリコールからなる共重合ポリエステル、及びこれらのポリエステルの2種以上の混合物を主要な構成成分とするポリエステルが好ましい。
 本発明に透明樹脂フィルムを用いる場合、取り扱いを容易にするために、透明性を損なわない範囲内で粒子を含有させてもよい。当該透明樹脂フィルムに採用可能な粒子の例としては、炭酸カルシウム、リン酸カルシウム、シリカ、カオリン、タルク、二酸化チタン、アルミナ、硫酸バリウム、フッ化カルシウム、フッ化リチウム、ゼオライト、硫化モリブデン等の無機粒子や、架橋高分子粒子、シュウ酸カルシウム等の有機粒子を挙げることができる。また粒子を添加する方法としては、原料とするポリエステル中に粒子を含有させて添加する方法、押出機に直接添加する方法等を挙げることができ、このうちいずれか一方の方法を採用してもよく、二つの方法を併用してもよい。本発明では必要に応じて上記粒子のほかにも添加剤を加えてもよい。このような添加剤としては、例えば、安定剤、潤滑剤、架橋剤、ブロッキング防止剤、酸化防止剤、染料、顔料、紫外線吸収剤などが挙げられる。
 透明樹脂フィルムは、従来公知の一般的な方法により製造することが可能である。例えば、材料となる樹脂を押出機により溶融し、環状ダイやTダイにより押し出して急冷することにより、実質的に無定形で配向していない未延伸の透明樹脂フィルムを製造することができる。また、未延伸の透明樹脂フィルムを一軸延伸、テンター式逐次二軸延伸、テンター式同時二軸延伸、チューブラー式同時二軸延伸などの公知の方法により、透明樹脂フィルムの流れ(縦軸)方向、又は透明樹脂フィルムの流れ方向と直角(横軸)方向に延伸することにより延伸透明樹脂フィルムを製造することができる。この場合の延伸倍率は、透明樹脂フィルムの原料となる樹脂に合わせて適宜選択することできるが、縦軸方向及び横軸方向にそれぞれ2~10倍が好ましい。
 透明樹脂フィルムは、製膜過程で片面又は両面にインラインで下引層塗布液を塗布することが好ましい。本発明に有用な下引層塗布液に使用する樹脂としては、ポリエステル樹脂、アクリル変性ポリエステル樹脂、ポリウレタン樹脂、アクリル樹脂、ビニル樹脂、塩化ビニリデン樹脂、ポリエチレンイミンビニリデン樹脂、ポリエチレンイミン樹脂、ポリビニルアルコール樹脂、変性ポリビニルアルコール樹脂及びゼラチン等が挙げられ、いずれも好ましく用いることができる。上記の下引層は、ロールコート、グラビアコート、ナイフコート、ディップコート、スプレーコート等の公知の方法によりコーティングすることができる。上記の下引層の塗布量としては、0.01~2g/m(乾燥状態)程度が好ましい。
 <赤外線反射層>
 赤外線反射層の代表的な構成としては、前記図3を用いて説明した水溶性バインダー樹脂と金属酸化物粒子を含有する赤外線反射層が多層積層された反射層積層体ML1、又は図4を用いて説明したポリマー層積層体ML2が挙げられ、特に水溶性バインダー樹脂と金属酸化物粒子を含有する屈折率の異なる赤外線反射層が好ましい。
 <反射層積層体:ML1>
 反射層積層体は、少なくとも1層の赤外線反射層を有していればよいが、日射に対する優れた断熱効果、電磁波透過性を発現させる観点からは、図3で例示したような反射層積層体であることが、特に好ましい態様である。
 すなわち、基材フィルム上の少なくとも一つの面側に、第1の水溶性バインダー樹脂と第1の金属酸化物粒子を含有する高屈折率の赤外線反射層(以下、高屈折率層ともいう。)と、第2の水溶性バインダー樹脂と第2の金属酸化物粒子を含有する低屈折率の赤外線反射層(以下、低屈折率層ともいう。)を、交互に積層した反射層積層体を有する構成である。
 反射層積層体において、高屈折率層の1層当たりの厚さは、20~800nmの範囲内であることが好ましく、50~350nmの範囲内であることがより好ましい。また、低屈折率層の1層当たりの厚さは、20~800nmの範囲内であることが好ましく、50~350nmの範囲内であることがより好ましい。
 ここで、1層あたりの各層の厚さを測定する場合、高屈折率層と低屈折率層は、これらの間に明確な界面をもっていても、徐々に変化していてもよい。界面が徐々に変化している場合には、それぞれの層が混合し屈折率が連続的に変化する領域中で、最大屈折率-最小屈折率=Δnとした場合、2層間の最小屈折率+Δn/2の地点を層界面とみなす。
 高屈折率層と低屈折率層とを交互に積層して形成された反射層積層体の金属酸化物濃度プロファイルは、スパッタ法を用いて表面から深さ方向へエッチングを行い、XPS表面分析装置を用いて、最表面を0nmとして、0.5nm/minの速度でスパッタし、原子組成比を測定することができる。また、反射層積層体を切断して、切断面をXPS表面分析装置で原子組成比を測定することにより求めることも可能である。混合領域において、金属酸化物の濃度が不連続に変化している場合には、電子顕微鏡(TEM)で撮影した断層写真により、その境界を確認することができる。
 XPS表面分析装置としては、特に制限はなく、いかなる機種も使用することができるが、例えば、VGサイエンティフィックス社製ESCALAB-200Rを用いることができる。X線アノードにはMgを用い、出力600W(加速電圧15kV、エミッション電流40mA)で測定する。
 反射層積層体は、生産性の観点から、好ましい高屈折率層及び低屈折率層の総層数の範囲としては、6~100層の範囲内であり、より好ましくは8~40層の範囲内であり、さらに好ましくは9~30層の範囲内である。
 反射層積層体は、高屈折率層と低屈折率層との屈折率の差を大きく設計することが、少ない層数で近赤外線反射率を高くすることができるという観点から好ましい。したがって、隣接する高屈折率層と低屈折率層との屈折率差は0.1以上が好ましく、より好ましくは0.3以上であり、さらに好ましくは0.35以上であり、特に好ましくは0.4以上である。ただし、最表層や最下層に関しては、上記好適な範囲外の構成であってもよい。
 赤外線反射層においては、透明樹脂フィルムに対する密着性の観点から、透明樹脂フィルムに隣接する最下層が低屈折率層である層構成が好ましい。また、機能性層、例えば本発明に係る緩衝層に隣接する最上層も、金属酸化物粒子として二酸化ケイ素を10~60質量%の範囲内で含有する低屈折率層であることが好ましい。
 また、高屈折率層又は低屈折率層に含まれる第1及び第2の水溶性バインダー樹脂は、ポリビニルアルコールであることが好ましい。また、高屈折率層に含まれるポリビニルアルコールのケン化度と、低屈折率層に含まれるポリビニルアルコールのケン化度とは異なることが好ましい。さらに、高屈折率層に含まれる第1の金属酸化物粒子は、酸化チタン粒子であることが好ましく、更には、含ケイ素の水和酸化物で表面処理された酸化チタン粒子であることが好ましい。
 [高屈折率層]
 高屈折率層は、第1の水溶性バインダー樹脂及び第1の金属酸化物粒子を含有し、必要に応じて、硬化剤、その他のバインダー樹脂、界面活性剤、及び各種添加剤等を含んでもよい。
 高屈折率層の屈折率は、好ましくは1.80~2.50であり、より好ましくは1.90~2.20である。
 〈第1の水溶性バインダー樹脂〉
 第1の水溶性バインダー樹脂とは、該水溶性バインダー樹脂が最も溶解する温度で、0.5質量%の濃度に水に溶解させた際、G2グラスフィルター(最大細孔40~50μm)で濾過した場合に濾別される不溶物の質量が、加えた該水溶性バインダー樹脂の50質量%以内であるものをいう。
 第1の水溶性バインダー樹脂の重量平均分子量は、1000~200000の範囲内であることが好ましい。更には、3000~40000の範囲内がより好ましい。
 本発明でいう重量平均分子量は、公知の方法によって測定することができ、例えば、静的光散乱、ゲルパーミエーションクロマトグラフィ法(GPC)、飛行時間型質量分析法(TOF-MASS)などによって測定することができ、本発明では一般的な公知の方法であるゲルパーミエーションクロマトグラフィ法によって測定している。
 高屈折率層における第1の水溶性バインダー樹脂の含有量は、高屈折率層の固形分100質量%に対して、5~50質量%の範囲内であることが好ましく、10~40質量%の範囲内であることがより好ましい。
 高屈折率層に適用する第1の水溶性バインダー樹脂としては、特に制限はないが、上述の親水性高分子化合物を好適に採用でき、その中でも、ポリビニルアルコールであることが特に好ましい。また、後述する低屈折率層に存在する水溶性バインダー樹脂も、ポリビニルアルコールであることが好ましい。
 高屈折率層と低屈折率層においては、それぞれケン化度の異なる2種以上のポリビニルアルコールを含むことが好ましい。ここで、区別するために、高屈折率層で用いる水溶性バインダー樹脂としてのポリビニルアルコールをポリビニルアルコール(A)とし、低屈折率層で用いる水溶性バインダー樹脂としてのポリビニルアルコールをポリビニルアルコール(B)という。なお、各屈折率層が、ケン化度や重合度が異なる複数のポリビニルアルコールを含む場合には、各屈折率層中で最も含有量の高いポリビニルアルコールをそれぞれ高屈折率層におけるポリビニルアルコール(A)、及び低屈折率層におけるポリビニルアルコール(B)と称する。
 ここでいう「ケン化度」とは、ポリビニルアルコール中のアセチルオキシ基(原料の酢酸ビニル由来のもの)とヒドロキシ基との合計数に対するヒドロキシ基の割合のことである。
 ポリビニルアルコール(A)とポリビニルアルコール(B)とのケン化度の絶対値の差は、3mol%以上であることが好ましく、5mol%以上であることがより好ましい。このような範囲であれば、高屈折率層と低屈折率層との層間混合状態が好ましいレベルになるため好ましい。また、ポリビニルアルコール(A)とポリビニルアルコール(B)とのケン化度の差は、離れていれば離れているほど好ましいが、ポリビニルアルコールの水への溶解性の観点から、20mol%以下であることが好ましい。
 また、ポリビニルアルコール(A)及びポリビニルアルコール(B)のケン化度は、水への溶解性の観点で、75mol%以上であることが好ましい。
 また、ケン化度の異なる2種のポリビニルアルコールの重合度は、1000以上のものが好ましく用いられ、特に、重合度が1500~5000の範囲内のものがより好ましく、2000~5000の範囲内のものがさらに好ましく用いられる。ポリビニルアルコールの重合度が、1000以上であると塗布膜のひび割れがなく、5000以下であると塗布液が安定するからである。
 本願でいう「重合度(P)」とは、粘度平均重合度を指し、JIS K6726(1994)に準じて測定され、PVAを完全に再ケン化し、精製した後、30℃の水中で測定した極限粘度[η](cm/g)から、下式により求められるものである。
   P=(〔η〕×10/8.29)(1/0.62)
 本発明では、屈折率の異なる層間ではケン化度の異なる2種のポリビニルアルコールがそれぞれ用いられることが好ましい。
 例えば、高屈折率層に低ケン化度のポリビニルアルコール(A)を用い、低屈折率層に高ケン化度のポリビニルアルコール(B)を用いる場合には、高屈折率層中のポリビニルアルコール(A)が層中の全ポリビニルアルコール類の全質量に対し、40~100質量%の範囲内で含有されることが好ましく、60~95質量%の範囲内がより好ましく、低屈折率層中のポリビニルアルコール(B)が低屈折率層中の全ポリビニルアルコール類の全質量に対し、40~100質量%の範囲内で含有されることが好ましく、60~95質量%の範囲内がより好ましい。また、高屈折率層に高ケン化度のポリビニルアルコール(A)を用い、低屈折率層に低ケン化度のポリビニルアルコール(B)を用いる場合には、高屈折率層中のポリビニルアルコール(A)が層中の全ポリビニルアルコール類の全質量に対し、40~100質量%の範囲内で含有されることが好ましく、60~95質量%の範囲内がより好ましく、低屈折率層中のポリビニルアルコール(B)が低屈折率層中の全ポリビニルアルコール類の全質量に対し、40~100質量%の範囲内で含有されることが好ましく、60~95質量%の範囲内がより好ましい。含有量が40質量%以上であると、層間混合が抑制され、界面の乱れが小さくなるという効果が顕著に現れる。一方、含有量が100質量%以下であれば、塗布液の安定性が向上する。
 本発明で用いられるポリビニルアルコール(A)及び(B)は、合成品を用いてもよいし市販品を用いてもよい。ポリビニルアルコール(A)及び(B)として用いられる市販品の例としては、例えば、PVA-102、PVA-103、PVA-105、PVA-110、PVA-117、PVA-120、PVA-124、PVA-203、PVA-205、PVA-210、PVA-217、PVA-220、PVA-224、PVA-235(以上、株式会社クラレ製)、JC-25、JC-33、JF-03、JF-04、JF-05、JP-03、JP-04、JP-05、JP-45(以上、日本酢ビ・ポバール株式会社製)等が挙げられる。
 〈第1の金属酸化物粒子〉
 高屈折率層に適用可能な第1の金属酸化物粒子としては、屈折率が2.0以上、3.0以下である金属酸化物粒子が好ましい。さらに具体的には、例えば、酸化チタン、酸化ジルコニウム、酸化亜鉛、合成非晶質シリカ、コロイダルシリカ、アルミナ、コロイダルアルミナ、チタン酸鉛、鉛丹、黄鉛、亜鉛黄、酸化クロム、酸化第二鉄、鉄黒、酸化銅、酸化マグネシウム、水酸化マグネシウム、チタン酸ストロンチウム、酸化イットリウム、酸化ニオブ、酸化ユーロピウム、酸化ランタン、ジルコン、酸化スズなどが挙げられる。また複数の金属で構成された複合酸化物粒子やコア・シェル状に金属構成が変化するコア・シェル粒子等を用いることもできる。
 透明でより屈折率の高い高屈折率層を形成するために、高屈折率層には、チタン、ジルコニウム等の高屈折率を有する金属の酸化物微粒子、すなわち、酸化チタン微粒子及び/又は酸化ジルコニア微粒子を含有させることが好ましい。これらの中でも、高屈折率層を形成するための塗布液の安定性の観点から、酸化チタンがより好ましい。また、酸化チタンの中でも、特にアナターゼ型よりルチル型(正方晶形)の方が、触媒活性が低いために、高屈折率層や隣接した層の耐候性が高くなり、さらに屈折率が高くなることから好ましい。
 また、高屈折率層に、第1の金属酸化物粒子としてコア・シェル粒子を用いた場合では、シェル層の含ケイ素の水和酸化物と第1の水溶性バインダー樹脂との相互作用により、高屈折率層と隣接層の層間混合が抑制される効果から、酸化チタン粒子が含ケイ素の水和酸化物で被覆されたコア・シェル粒子がさらに好ましい。
 第1の金属酸化物粒子の含有量が高屈折率層の固形分100質量%に対して、15~80質量%の範囲内であると、低屈折率層との屈折率差を付与するという観点で好ましい。さらに、20~77質量%の範囲内であることがより好ましく、30~75質量%の範囲内であることがさらに好ましい。なお、当該コア・シェル粒子以外の金属酸化物粒子が、高屈折率層に含有される場合の含有量は、本発明の効果を奏することができる範囲であれば特に限定されるものではない。
 高屈折率層に適用する第1の金属酸化物粒子の体積平均粒径は、30nm以下であることが好ましく、1~30nmの範囲内であることがより好ましく、5~15nmの範囲内であるのがさらに好ましい。体積平均粒径が1~30nmの範囲内であれば、ヘイズが少なく可視光透過性に優れる観点で好ましい。
 第1の金属酸化物粒子の体積平均粒径とは、粒子そのものをレーザー回折散乱法、動的光散乱法、又は電子顕微鏡を用いて観察する方法や、屈折率層の断面や表面に現れた粒子像を電子顕微鏡で観察する方法により、1000個の任意の粒子の粒径を測定し、それぞれd1、d2・・・di・・・dkの粒径を持つ粒子がそれぞれn1、n2・・・ni・・・nk個存在する粒子状の金属酸化物の集団において、粒子1個当りの体積をviとした場合に、体積平均粒径mv={Σ(vi・di)}/{Σ(vi)}で表される体積で重み付けされた平均粒径である。
 〈硬化剤〉
 高屈折率層に適用する第1の水溶性バインダー樹脂を硬化させるため、硬化剤を使用することもできる。
 第1の水溶性バインダー樹脂と共に用いることができる硬化剤としては、当該水溶性バインダー樹脂と硬化反応を起こすものであれば特に制限はない。例えば、第1の水溶性バインダー樹脂として、ポリビニルアルコールを用いる場合では、硬化剤として、ホウ酸及びその塩が好ましい。
 高屈折率層における硬化剤の含有量は、高屈折率層の固形分100質量%に対して、1~10質量%であることが好ましく、2~6質量%であることがより好ましい。
 特に、第1の水溶性バインダー樹脂としてポリビニルアルコールを使用する場合の上記硬化剤の総使用量は、ポリビニルアルコール1g当たり1~600mgの範囲が好ましく、ポリビニルアルコール1g当たり100~600mgの範囲がより好ましい。
 [低屈折率層]
 低屈折率層は、第2の水溶性バインダー樹脂及び第2の金属酸化物粒子を含み、更は、硬化剤、表面被覆成分、粒子表面保護剤、バインダー樹脂、界面活性剤、各種添加剤等を含んでもよい。
 低屈折率層の屈折率は、好ましくは1.10~1.60の範囲内であり、より好ましくは1.30~1.50の範囲内である。
 〈第2の水溶性バインダー樹脂〉
 低屈折率層に適用する第2の水溶性バインダー樹脂として、ポリビニルアルコールが好ましく用いられる。さらに、前記高屈折率層に存在するポリビニルアルコール(A)のケン化度とは異なるポリビニルアルコール(B)が、低屈折率層に用いられることがより好ましい。なお、ここでの第2の水溶性バインダー樹脂の好ましい重量平均分子量等、ポリビニルアルコール(A)及びポリビニルアルコール(B)についての説明は、上記高屈折率層の水溶性バインダー樹脂にて説明されており、ここでは説明を省略する。
 低屈折率層における第2の水溶性バインダー樹脂の含有量は、低屈折率層の固形分100質量%に対して、20~99.9質量%の範囲内であることが好ましく、25~80質量%の範囲内であることがより好ましい。
 〈第2の金属酸化物粒子〉
 低屈折率層に適用する第2の金属酸化物粒子としては、シリカ(二酸化ケイ素)を用いることが好ましく、具体的な例として合成非晶質シリカ、コロイダルシリカ等が挙げられる。これらのうち、酸性のコロイダルシリカゾルを用いることがより好ましく、有機溶媒に分散させたコロイダルシリカゾルを用いることがさらに好ましい。また、屈折率をより低減させるためには、低屈折率層に適用する第2の金属酸化物粒子として、粒子の内部に空孔を有する中空微粒子を用いることができ、特にシリカ(二酸化ケイ素)の中空微粒子が好ましい。
 低屈折率層に適用する第2の金属酸化物粒子(好ましくは二酸化ケイ素)は、その平均粒径が3~100nmの範囲内であることが好ましい。一次粒子の状態で分散された二酸化ケイ素の一次粒子の平均粒径(塗布前の分散液状態での粒径)は、3~50nmの範囲内であることがより好ましく、3~40nmの範囲内であることがさらに好ましく、3~20nmであることが特に好ましく、4~10nmの範囲内であることが最も好ましい。また、二次粒子の平均粒径としては、30nm以下であることが、ヘイズが少なく可視光透過性に優れる観点で好ましい。
 〈硬化剤〉
 本発明に係る低屈折率層において、前記高屈折率層と同様に、硬化剤をさらに含むことができる。特に、低屈折率層に適用する第2の水溶性バインダー樹脂としてポリビニルアルコールを用いた場合の硬化剤としては、ホウ酸及びその塩及び/又はホウ砂が好ましい。また、ホウ酸及びその塩以外にも公知のものが使用できる。
 低屈折率層における硬化剤の含有量は、低屈折率層の固形分100質量%に対して、1~10質量%の範囲内であることが好ましく、2~6質量%の範囲内であることがより好ましい。
 [反射層積層体の形成方法]
 反射層積層体の形成方法は、湿式塗布方式を適用して形成することが好ましく、更には、透明基材上に、第1の水溶性バインダー樹脂及び第1の金属酸化物粒子を含む高屈折率層用塗布液と、第2の水溶性バインダー樹脂及び第2の金属酸化物粒子を含む低屈折率層用塗布液と、を湿式塗布する工程を含む製造方法が好ましい。
 湿式塗布方法は、特に制限されず、例えば、ロールコーティング法、ロッドバーコーティング法、エアナイフコーティング法、スプレーコーティング法、スライド型カーテン塗布法、又は米国特許第2,761,419号明細書、米国特許第2,761,791号明細書などに記載のスライドホッパー塗布法、エクストルージョンコート法などが挙げられる。また、複数の層を重層塗布する方式としては、逐次重層塗布方式でもよいし、同時重層塗布方式でもよい。
 <ポリマー積層体:ML2>
 本発明に係る光反射体の別の一例であるポリマー層積層体は、第1屈折率を有する第1ポリマー層と、第2屈折率を有する第2ポリマー層とを多数積層して、赤外線反射層を形成する。
 第1ポリマー層及び第2ポリマー層は、互いの上部に積層され、ポリマー層積層体を形成する。第1及び第2ポリマー層を構成するポリマー材料としは、ポリエステル、アクリル、ポリエステルアクリルのブレンド又はコポリマー等が挙げられ、例えば、ポリエチレン-2,6-ナフタレート(PEN)、ナフタレンジカルボンコポリエステル(coPEN)、ポリメチルメタアクリレート(PMMA)、ポリブチレン-2,6-ナフタレート(PBN)、ポリエチレンテレフタレート(PET)、ナフタレンジカルボン酸誘導体、ジオールコポリマー、ポリエーテルエーテルケトン、シンジオタックポリスチレン樹脂(SPS)等が挙げられ、具体的な第1ポリマー層と第2ポリマー層との組み合わせとしては、PEN/PMMA、PET/PMMA、PEN/coPEN、PEN/SPS、PET/SPS等の組み合わせを挙げることができる。
 ポリマー層積層体の具体的な構成例としては、前記図4で説明したように、それぞれ素材の異なる2種のポリマーフィルムを積層して構成されている。具体的には、図4に示すように、下面側から、ポリエチレンナフタレートフィルムで形成されているPEN、ポリメチルメタアクリレートフィルムで形成されているPMM、PEN、PMMM、PEN、PMMA、(中略)、PENn-1、PMMA、PENと積層してポリマー層積層体ML2が形成されている。
 積層されるフィルム総数は、特に制限はないが、おおむね150~1000層の範囲内であることが好ましい。
 これらポリマー層積層体の詳細については、米国特許公報第6049419号明細書に記載の内容を参考とすることができる。
 〔3.2〕フィルムミラー
 本発明に係る光反射体として、可視光領域の光を反射するフィルムミラーの概要を説明する。
 本発明に係る光反射体であるフィルムミラーは、可視光領域である光波長450~650nmの範囲の反射率が50%以上であることが好ましく、70%以上であることがより好ましく、80%以上であることがさらに好ましく、90%以上であることが特に好ましい。反射率は、分光光度計(積分球使用、(株)日立ハイテクノロジーズ製、U-4000型)を用い、23℃、55%RHの環境下、フィルムミラーの450~650nmの領域における反射率を測定し、その平均反射率を求め、これを可視光反射率とする。
 フィルムミラーMFの機能上の最小構成は、図5Aに示すように、基材フィルム2上に金属反射層(例えば、銀反射層)7を形成し、その上に、本発明に係る緩衝層4及び自己修復層5を設ける構成である。
 フィルムミラーMFには、実際上様々な機能層を設けることが好ましく、例えば図5Bで示すように、基材フィルム2と金属反射層7の間にアンカー層6を設けてもよく、金属反射層7の光入射側に腐食防止剤や酸化防止剤を含有する樹脂コート層8を設けることも好ましく、樹脂コート層8上に接着層9を設けることも好ましく、さらにその上層にアクリル樹脂層10を設けることもより好ましい態様である。
 また、基材フィルムの金属層を設ける側と反対の面に、粘着層11及び剥離シート12を形成し、基板と貼合する。
 フィルムミラー全体の厚さは、ミラーのたわみ防止、正反射率、取扱い性等の観点から75~250μmの範囲内が好ましく、より好ましくは90~230μmの範囲内、更に好ましくは100~220μmの範囲内である。
 以下、フィルムミラーを構成する各構成層について順次説明する。
 [基材フィルム]
 前述の赤外線反射フィルムで用いた透明樹脂フィルムを用いることが好ましく、詳細は前述のとおりである。
 中でも、ポリカーボネート系フィルム、ポリエチレンテレフタレート等のポリエステル系フィルム、ノルボルネン系樹脂フィルム、及びセルロースエステル系フィルム、アクリルフィルムが好ましい。特にポリエチレンテレフタレート等のポリエステル系フィルム又はアクリルフィルムを用いることが好ましい。
 透明樹脂フィルムの厚さは、樹脂の種類及び目的等に応じて適切な厚さにすることが好ましい。例えば、一般的には、10~300μmの範囲である。好ましくは20~200μmの範囲であり、より好ましくは30~100μmの範囲である。
 [アンカー層]
 アンカー層は、樹脂からなり、基材フィルムと金属反射層とを密着させるものである。アンカー層に使用する樹脂材料は、上記の密着性、耐熱性、及び平滑性の条件を満足するものであれば特に制限はなく、ポリエステル系樹脂、アクリル系樹脂、メラミン系樹脂、エポキシ系樹脂、ポリアミド系樹脂、塩化ビニル系樹脂、塩化ビニル酢酸ビニル共ポリマー系樹脂等の単独又はこれらの混合樹脂が使用でき、耐候性の点からポリエステル系樹脂とメラミン系樹脂の混合樹脂が好ましく、さらにイソシアネート等の硬化剤を混合した熱硬化型樹脂とすればより好ましい。
 アンカー層の形成方法としては、所定の樹脂材料を塗布、塗工するグラビアコート法、リバースコート法、ダイコート法等、従来公知のコーティング方法が使用できる。
 アンカー層の厚さは、0.01~3μmの範囲が好ましく、より好ましくは0.1~1μmの範囲である。
 [金属反射層]
 金属反射層は、可視光(450~650nmの範囲)を50%以上反射する機能を有する金属等からなる層である。
 金属反射層の表面反射率は好ましくは80%以上、さらに好ましくは90%以上である。この反射層は、Al、Ag、Cr、Cu、Ni、Ti、Mg、Rh、Pt及びAuからなる元素群の中から選ばれるいずれかの元素を含む材料により形成されることが好ましい。中でも、反射率の観点からアルミニウム(Al)又は銀(Ag)を主成分としていることが好ましく、このような金属の薄膜を二層以上形成するようにしてもよい。
 本発明においては金属反射層として、銀を主成分とする銀反射層を用いることが特に好ましい(以下、金属反射層を銀反射層という場合がある。)。
 銀反射層の厚さは、反射率等の観点から、10~200nmの範囲が好ましく、より好ましくは30~150nmの範囲である。
 この反射層の形成法としては、湿式法及び乾式法のどちらも使用することができる。湿式法の代表例としては、めっき法があり、溶液から金属を析出させ膜を形成する方法である。具体例を挙げるとすれば、銀鏡反応などがある。一方、乾式法の代表例としては、真空製膜法があり、具体的に例示するとすれば、抵抗加熱式真空蒸着法、電子ビーム加熱式真空蒸着法、イオンプレーティング法、イオンビームアシスト真空蒸着法、スパッタ法などがある。とりわけ、本発明には連続的に製膜するロールtoロール方式が可能な蒸着法が好ましく用いられる。例えば、フィルムミラーの製造方法において、銀反射層を銀蒸着によって形成する手法が好ましく用いられる。
 なお、上記したように銀反射層の厚さを、例えば30~300nmの範囲とすれば、その銀反射層を有する機能性フィルムをフィルムミラーとして使用することが可能になる。より好ましくは耐久性の観点から、80~200nmの範囲である。銀反射層の層厚を上記範囲とすることにより、光の透過や、表面に凹凸が生じることによる光の散乱等を原因とする可視光領域での反射率の低下を抑えることが可能となる。
 [樹脂コート層]
 樹脂コート層は、銀反射層の光入射側に設けられており、銀反射層に隣接していることが好ましい。
 樹脂コート層は、銀の腐食防止剤又は酸化防止剤を含有し、銀反射層の腐食、劣化を防止する機能を付与することも好ましい。
 樹脂コート層は、1層のみからなっていてもよいし、複数層からなっていてもよい。樹脂コート層の厚さは、1~10μmの範囲が好ましく、より好ましくは2~8μmの範囲である。
 樹脂コート層のバインダーとしては、以下の樹脂を好ましく用いることができる。例えば、セルロースエステル、ポリエステル、ポリカーボネート、ポリアリレート、ポリスルホン(ポリエーテルスルホンも含む)系、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート等のポリエステル、ポリエチレン、ポリプロピレン、セロファン、セルロースジアセテート、セルローストリアセテート、セルロースアセテートプロピオネート、セルロースアセテートブチレート、ポリ塩化ビニリデン、ポリビニルアルコール、エチレンビニルアルコール、シンジオタクティックポリスチレン系、ポリカーボネート、ノルボルネン系、ポリメチルペンテン、ポリエーテルケトン、ポリエーテルケトンイミド、ポリアミド、フッ素樹脂、ナイロン、ポリメチルメタクリレート、アクリル樹脂等を挙げることができる。中でも、耐光性の観点から紫外線に耐性の高いアクリル樹脂が好ましい。
 腐食防止剤としては、銀に対する吸着性基を有することが好ましい。ここで、「腐食」とは、金属(銀)がそれをとり囲む環境物質によって、化学的又は電気化学的に浸食されるか若しくは材質的に劣化する現象をいう(JIS Z0103-2004参照)。
 なお、腐食防止剤の含有量は、使用する化合物によって最適量は異なるが、一般的には0.1~1.0g/mの範囲内であることが好ましい。
 銀に対する吸着性基を有する腐食防止剤としては、アミン類及びその誘導体、ピロール環を有する化合物、ベンゾトリアゾール等トリアゾール環を有する化合物、ピラゾール環を有する化合物、チアゾール環を有する化合物、イミダゾール環を有する化合物、インダゾール環を有する化合物、銅キレート化合物類、チオール基を有する化合物、チオ尿素類、ナフタレン系の少なくとも1種又はこれらの混合物から選ばれることが望ましい。
 ベンゾトリアゾール等の化合物においては、紫外線吸収剤が腐食防止剤を兼ねる場合もある。また、シリコーン変性樹脂を用いることも可能である。シリコーン変性樹脂として特に限定されない。
 これらの化合物については、特開2012-232538号公報段落(0061)~(0073)に記載の化合物を好ましく用いることができる。
 市販品の例としては、株式会社ADEKAのLA31、BASFジャパン株式会社のチヌビン234などが挙げられる。
 また、酸化防止能を有する腐食防止剤である酸化防止剤としては、フェノール系酸化防止剤、チオール系酸化防止剤、ホスファイト系酸化防止剤を使用することが好ましい。また、光安定剤としてヒンダードアミン系光安定剤、ニッケル系紫外線安定剤を好ましく使用することができる。
 これらの化合物については、特開2012-232538号公報段落(0046)~(0053)に記載の化合物を好ましく用いることができる。
 酸化防止剤の含有量は、使用する化合物によって最適量は異なるが、一般的には0.1~1.0g/mの範囲内であることが好ましい。
 [接着層]
 接着層は、層同士の接着性を高める機能があるものであれば特に限定はない。接着層の厚さは、密着性、平滑性、反射材の反射率等の観点から、0.01~10μmの範囲が好ましく、より好ましくは0.1~10μmの範囲である。
 接着層が樹脂である場合、樹脂として、上記の密着性、平滑性の条件を満足するものであれば特に制限はなく、ポリエステル系樹脂、ウレタン系樹脂、アクリル系樹脂、メラミン系樹脂、エポキシ系樹脂、ポリアミド系樹脂、塩化ビニル系樹脂、塩化ビニル酢酸ビニル共ポリマー系樹脂等の単独又はこれらの混合樹脂が使用でき、耐候性の点からポリエステル系樹脂とメラミン系樹脂の混合樹脂が好ましく、さらにイソシアネート等の硬化剤を混合した熱硬化型樹脂とすればより好ましい。接着層の形成方法は、グラビアコート法、リバースコート法、ダイコート法等、従来公知のコーティング方法が使用できる。
 また、接着層が金属酸化物である場合、例えば酸化シリコン、酸化アルミニウム、窒化シリコン、窒化アルミニウム、酸化ランタン、窒化ランタン等を各種真空製膜法によって製膜することで接着層を形成できる。例えば、抵抗加熱式真空蒸着法、電子ビーム加熱式真空蒸着法、イオンプレーティング法、イオンビームアシスト真空蒸着法、スパッタ法などによる製膜が可能である。
 [アクリル樹脂層]
 アクリル樹脂層は、例えば、太陽光や紫外線によるフィルムミラーの劣化防止の目的で紫外線吸収剤を含有してなる層であることが好ましい。アクリル樹脂層は、樹脂基材よりも光入射側に設けることが好ましく、金属反射層よりも光入射側に設けることが好ましい。
 本発明に係る緩衝層は紫外線吸収能を有することから、アクリル樹脂層と兼ねてもよく、また緩衝層とは異なる紫外線吸収剤をアクリル樹脂層に含有させることも好ましい。
 アクリル樹脂層はバインダーとしてアクリル樹脂を用いる層であり、アクリル樹脂層の厚さは、1~200μmの範囲であることが好ましい。
 アクリル樹脂層としては、市販の紫外線吸収剤を含有したアクリルフィルムである、スミペックス テクノロイ S001G 75μm(住友化学株式会社製)等が好ましく用いることができる。
 〔3.3〕金属光沢調フィルム
 本発明に係る光反射体として、金属光沢調フィルムを用いることも好ましい。
 本発明に係る光反射体である金属光沢調フィルムは、可視光領域である光波長450~650nmの範囲の反射率が50%以上であることが好ましく、70%以上であることがより好ましく、80%以上であることがさらに好ましく、90%以上であることが特に好ましい。
 金属光沢調フィルムとして特に制限されるものではないが、その好ましい一例としては、2枚のポリエステルフィルムが接着層を介して貼り合わせられ基材フィルムを構成し、当該2枚のポリエステルフィルムが、それぞれ、ポリエチレンテレフタレート若しくはポリエチレンナフタレートからなるポリエステルAを主成分とする層と、シクロヘキサンジメタノール成分を酸成分に対して25~35mol%含むポリエステルBを主成分とする層とが厚さ方向に規則的に積層されたポリエステルフィルムであって、合計の層数が少なくとも500層以上、600層以下である基材フィルムを用いてなる金属光沢調フィルムであることが好ましい。
 前記ポリエステルAを主成分とする層と、前記ポリエステルBを主成分とする層とは、面内平均屈折率差が、0.03以上であることが好ましい。より好ましくは、0.05以上であり、更に好ましくは0.1以上である。屈折率差が0.03より小さい場合には、十分な反射率が得られないことがある。
 基材フィルムとして貼り合わせられるポリエステルフィルムがポリエステルAからなる層(A層)と、ポリエステルBからなる層(B層)が交互に500層以上積層されていることが重要である。500層以上であると、目標とする反射帯域において70%以上の反射率を有することが可能となり、2枚それぞれのポリエステルフィルムを貼り合わせ、目標とする反射波長を、350~750nmの領域に設定することで金属調の外観を有する積層フィルムを得ることができる。
 また、装置の大型化や層数が多くなりすぎることによる積層精度の低下に伴う波長選択性の低下を考慮すると、層数が600層以下であることが好ましい。500層から600層に層数を制御する方法は、フィードブロックを変更することによって可能であり、500層から600層の範囲に層数が含まれる場合、赤外線の透過率と可視光の反射率を本発明の目的の範囲でバランスさせることができる。
 金属光沢調フィルムは、さらに光波長350~750nmの平均反射率が、70~100%の範囲内であることがより好ましい。
 また、光波長900~1000nmの範囲の平均透過率が85~100%の範囲内であることが好ましく、後述する二つのポリエステルフィルムを貼り合わせてなる。
 貼り合わせるポリエステルフィルムの一つは、光波長350~570nmの平均反射率が70~100%の範囲内、光波長620~1000nmの平均透過率が85~100%の範囲内であるものであり、他の一つは、光波長570~750nmの平均反射率が70~100%の範囲内、光波長350~550nmと900~1000nmの平均透過率が85~100%の範囲内であることが好ましい。これら二つのポリエステルフィルムを貼り合わせることで光波長350~750nmの平均反射率が70~100%の範囲内、光波長900~1000nmの平均透過率が85~100%の範囲内であることを同時に達成することができる。
 また、金属光沢調フィルムの厚さは100~300μmの範囲内であることが、取り扱い性の観点から好ましい。成型時のシワ防止及び、ハンドリング性の向上、及び、加飾フィルムのウォッシュアウト防止のため100μm以上あることが望ましい。厚さが300μm以下であると、巻き癖が強くなく、成型装置枠へのシートセットの際に手間がかからなく生産性が高い。
 金属光沢調フィルムは、前記構成のポリエステルフィルムの表面上に本発明に係る緩衝層及び自己修復層を形成し、表面硬度と折り曲げなどの応力による硬化膜へのクラックを防止することができる。
 また、金属光沢調フィルムは、本発明に係る緩衝層及び自己修復層以外に、ハードコート層、帯電防止層、耐摩耗性層、反射防止層、色補正層、紫外線吸収層、印刷層、透明導電層、ガスバリア層、ホログラム層、剥離層、粘着層、エンボス層、接着層、離形層などの機能性層を適宜形成してもよい。
 金属光沢調フィルムを製造する好ましい製造方法を以下に説明する。
 まず、金属光沢調フィルムに用いられる前記ポリエステルAを主成分とする層と前記ポリエステルBを主成分とする層とを少なくとも500層以上積層したポリエステルフィルム(以下積層フィルムと記す)の製造方法を以下に説明する。
 2種類のポリエステルA及びポリエステルBをペレットなどの形態で用意する。ペレットは、必要に応じて、事前乾燥を熱風中又は真空下で行い、押出機に供給される。押出機内において、融点以上に加熱溶融された樹脂は、ギヤポンプ等で樹脂の押出量を均一化され、フィルター等を介して異物や変性した樹脂などを取り除く。
 これらの2台以上の押出機を用いて異なる流路から送り出されたポリエステルA及びポリエステルBは次に多層積層装置に送り込まれる。多層積層装置としては、マルチマニホールドダイやフィールドブロックやスタティックミキサー等を用いることができる。また、これらを任意に組み合わせても良い。中でも、各層ごとの層厚さを個別に制御できるマルチマニホールドダイ若しくはフィードブロックが好ましい。さらに各層の厚さを精度良く制御するためには、加工精度0.1mm以下の放電加工、ワイヤー放電加工にて、各層の流量を調整する微細スリットを設けたフィードブロックが好ましい。また、この際、樹脂温度の不均一性を低減するため、熱媒循環方式による加熱が好ましい。また、フィードブロック内の壁面抵抗を抑制するため、壁面の粗さを0.4S以下にするか、室温下における水との接触角が30°以上であると良い。
 本発明の金属光沢調フィルムに用いるポリエステルフィルムを得るためには、設計する金属光沢調フィルムの分光特性に応じて、最適な積層構成とすることが重要であるが、前記記載の調整を各波長帯域に対応した微細スリットを有するフィードブロックにて製膜を行うことが特に好ましい。
 このようにして所望の層構成に形成した溶融積層体は、次にダイにて目的の形状に成形された後、吐出される。そして、ダイから吐出された多層に積層されたシートは、キャスティングドラム等の冷却体上に押し出され、冷却固化され、キャスティングフィルムが得られる。この際、ワイヤー状、テープ状、針状又はナイフ状等の電極を用いて、静電気力によりキャスティングドラム等の冷却体に密着させ急冷固化させる方法や、スリット状、スポット状、面状の装置からエアーを吹き出してキャスティングドラム等の冷却体に密着させ急冷固化させる方法、ニップロールにて冷却体に密着させ急冷固化させる方法が好ましい。
 このようにして得られたキャスティングフィルムは、必要に応じて二軸延伸することが好ましい。二軸延伸とは、長手方向及び幅方向に延伸することをいう。延伸は、逐次二軸延伸しても良いし、同時に二方向に延伸してもよい。
 次に、接着剤を介して2枚のポリエステルフィルムが貼り合わせられてなるが、接着剤を介して貼り合わせた場合、熱融着などに比べて、加熱によるポリエステルBの結晶化が進むのを防ぐことができ、反射波長領域を設計のとおりに発現させることができる。
 金属光沢調フィルムを製造する製造方法において前記ポリエステルフィルムの片面に形成する接着剤層の単位面積当たりの質量は約1~30g/mであることが好ましい。かかる単位面積当たりの質量とすることで、1~30μmの厚さの接着層が得られる。1g/m未満であると接着力が弱く、剥離しやすくなり、30g/mより多い場合、乾燥性が低下し、外観不良となりやすい。また、異物の押し痕が残りやすく、意匠性の低下につながるため好ましくない。
 硬化型接着剤層を形成する際の塗工方式は、グラビアコーター、グラビアリバースコーター、リップコーター、フレキソコーター、ブランケットコーター、ロールコーター、ナイフコーター、エアナイフコーター、キスタッチコーター、キスタッチリバースコーター、コンマコーター、コンマリバースコーター、マイクロリバースコーターなどの塗工方式を用いることができる。
 貼り合わせ工程は、前記ポリエステルフィルムの片面に接着剤を塗布した後、他のポリエステルフィルムをラミネートニップローラーで貼り合わせる。このとき、前記ポリエステルフィルムの片面に接着剤を塗布した後、40~120℃で熱処理することが好ましく、40~120℃に加熱したラミネートニップローラー上で0.2~1.0MPaのニップ圧力で第2のポリエステルをラミネートすることが好ましい。
 貼り合わせた後、巻取りまでの搬送ゾーンでは、欠点を検出する機構及び/又は、張力の調整や巻取りローラーの切り替えの際のシートのたるみを吸収するための機構等のために、通常複数の搬送ローラーが用いられ、シートの幅方向のずれを抑制するために各搬送ローラーにおいては、適当な接触角度をもってシートが搬送される。
 複数の搬送ローラーを通過させた後にシート巻取りコア上に巻取り、接着剤の硬化を目的に、得られた積層フィルムをロールに巻き取った状態で、20~60℃、24~168時間熱処理を行う。かかる熱処理の温度が、20℃以上であり熱処理の時間が24時間以上であれば接着剤の硬化が十分であり、十分な接着強度が得られ、後の工程で貼り合わせたフィルムにズレ等が生じない。また、60℃以下で熱処理の時間が168時間以下であれば、ロールとなったシートの巻き締まり痕が余り付かず、加飾用途としては適する。
 〔4〕光反射フィルムの加飾成型加工方法及び用途
 〔4.1〕加飾成型加工方法
 本発明の光反射フィルムは、当該光反射フィルムに対して自己修復層とは反対側の面に粘着層又は接着層を形成し、当該光反射フィルムを前記粘着層又は接着層を介して基板上に80℃以上の温度で熱成型しながら貼合する加飾成型加工方法を行うことが好ましい。
 ここでいう基板とは、好ましくは曲面形状体を得ることができるプラスチック材料(筐体)である。
 本発明の光反射フィルムを、基板上に80℃以上の温度で熱成型しながら貼合する加飾成型加工によって、緩衝層の未硬化モノマーが架橋して重合し、当該未硬化モノマーの含有量が3質量%以下となることにより、緩衝層自体の強度が向上し、自己修復層の耐傷性をより向上することができる。
 好ましい温度は、80~200℃の範囲内であり、80~150℃の範囲内であることがより好ましく、80~120℃の範囲内であることが特に好ましい。
 [粘着層]
 粘着層は、本発明の光反射フィルムを基板に接着し、固定するための構成層である。
 この粘着層としては、光反射フィルムを基板に接着することができるものであれば特に制限されず、例えばドライラミネート剤、ウエットラミネート剤、粘着剤、ヒートシール剤、ホットメルト剤などを用いることができる。また、ポリエステル系樹脂、ウレタン系樹脂、ポリ酢酸ビニル系樹脂、アクリル系樹脂、ニトリルゴムなどを用いてもよい。
 基材フィルムの裏面に粘着層を設けるラミネート方法は特に制限されず、例えばロール式で連続的に行う方法が経済性及び生産性の点から好ましい。
 粘着層の厚さは、粘着効果、乾燥速度等の観点から、通常1~50μm程度の範囲であることが好ましい。
 粘着層に用いる具体的な材料としては、例えば、綜研化学社製「SKダインシリーズ」、東洋インキ社製Oribain BPWシリーズ、BPSシリーズ、荒川化学社製「アルコン」「スーパーエステル」「ハイペール」等の粘着剤を好適に用いることができる。
 なお、フィルムミラーを基板に接着するまで、粘着層は剥離シートで覆われており、粘着層の粘着力を保つようにすることが好ましい。
 粘着層には腐食防止剤である、アミン類及びその誘導体、ピロール環を有する化合物、ベンゾトリアゾール等トリアゾール環を有する化合物、ピラゾール環を有する化合物、チアゾール環を有する化合物、イミダゾール環を有する化合物、インダゾール環を有する化合物、銅キレート化合物類、メルカプト基を有する化合物、チオ尿素類、ナフタレン系の少なくとも1種又はこれらの混合物を含有させることも好ましい。
 [接着層]
 また、本発明において接着剤として特に制限されるものではないが、ウレタン系樹脂からなる接着剤が好ましい。ウレタン系樹脂からなる接着剤とは、末端にヒドロキシ基を持つポリオールとポリイソシアネート、又は末端にイソシアネート基を持つウレタンプレポリマーとポリオールを組み合わせ反応させることで硬化し、接着剤として機能するものである。
 ポリオールとしては、ポリエーテルポリオール、ポリエステルポリオール、その他のポリオールが使用できる。例えば、ポリエーテルポリオールとしては、ポリオキシエチレンポリオール、ポリオキシプロピレンポリオール、ポリオキシエチレン-プロピレン共重合ポリオール、ポリテトラメチレンポリオールなどの単独又はそれらの混合物が挙げられる。ポリエステルポリオールとしては、ジカルボン酸(アジピン酸、コハク酸、マレイン酸、フタル酸など)とグリコール(エチレングリコール、プロピレングリコール、1,4-ブチレングリコール、1,6-ヘキサングリコール、ネオペンチルグリコールなど)とを重縮合させ得られたポリオール、例えば、ポリエチレンアジペート、ポリブチレンアジペート、ポリヘキサメチレンアジペート、ポリプロピレンアジペート、ポリエチレン-プロピレンアジペート等のポリオールがあり、また、ポリラクトンポリオール、例えば、ポリカプロラクトンポリオールの単独又はそれらの混合物、ポリカーボネートポリオールなどが挙げられる。
 ポリイソシアネートとしては、2,4-トリレンジイソシアネート、キシレンジイソシアネート、2,6-トリレンジイソシアネート、4,4-ジフェニルメタンジイソシアネート、ポリメチレンポリフェニレンポリイソシアネート、カルボジイミド変性MDI、ナフタレンジイソシアネートなどの芳香族系ポリイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネート、イソホロンジイソシアネート、4,4-ジシクロヘキシルメタンジイソシアネート及び脂環式系ポリイソシアネートが挙げられる。上記ポリイソシアネートは単独又はそれらの混合物として使用できる。
 また、本発明において用いられる接着剤層には各種の添加剤、例えば粘度調整剤、レベリング剤、ゲル化防止剤、酸化防止剤、耐熱安定剤、耐光安定剤、紫外線吸収剤、易滑剤、顔料、染料、有機又は無機の微粒子、充填剤、耐電防止剤、核剤などが配合されてもよい。
 〔4.2〕合わせガラス
 本発明の合わせガラスは、本発明の光反射フィルムである前記赤外線反射フィルムを、2枚のガラス構成部材で挟持して作製することが好ましい。
 すなわち、本発明の合わせガラスは、入射光側から、一方のガラス構成部材、赤外線反射フィルムWF、他方のガラス基材の順で配置される。なお、2枚のガラス基材は、同一の種類のガラス基材であってもよく、異なった種類のガラス基材であってもよい。 
 合わせガラス構成部材は、平板状の合わせガラス構成部材であっても、また車のフロントガラスに使用されるような曲面形状のガラス構成部材であってもよい。特に本発明に係る緩衝層及び自己修復層を有する赤外線反射フィルムは、曲面形状のガラス構成部材への適用に優れる。
 本発明に係る合わせガラス構成部材は、特に、車の窓ガラスとして用いられる場合において、可視光透過率が70%以上であることが好ましい。なお、可視光透過率は、例えば、分光光度計((株)日立ハイテクノロジーズ製、U-4000型)を用いて、JIS R3106(1998)「板ガラス類の透過率・反射率・日射熱取得率の試験方法」に準拠して、測定することができる。
 [ガラス構成部材]
 合わせガラスとしては、無機ガラス(以下、単にガラスともいう。)及び有機ガラス(樹脂グレージング)が挙げられる。無機ガラスとしては、フロート板ガラス、熱線吸収板ガラス、磨き板ガラス、型板ガラス、網入り板ガラス、線入り板ガラス、及び、グリーンガラス等の着色ガラス等が挙げられる。上記有機ガラスは、無機ガラスに代用される合成樹脂ガラスである。上記有機ガラス(樹脂グレージング)としては、ポリカーボネート板及びポリ(メタ)アクリル樹脂板等が挙げられる。上記ポリ(メタ)アクリル樹脂板としては、ポリメチル(メタ)アクリレート板等が挙げられる。本発明においては、外部から衝撃が加わって破損した際の安全性の観点からは、無機ガラスであることが好ましい。
 無機ガラスの種類は、特に限定されないが、通常、ソーダライムシリカガラスが好適に用いられる。この場合、無色透明ガラスであってよく、有色透明ガラスであってもよい。
 また、2枚のガラス基材のうち、入射光に近い室外側のガラス基材は、無色透明ガラスであることが好ましい。また、入射光側から遠い室内側のガラス基材は、グリーン系有色透明ガラス又は濃色透明ガラスであることが好ましい。グリーン系有色透明ガラスは、紫外線吸収性能及び赤外線吸収性能を有することが好ましい。これらを用いることにより、室外側でできるだけ日射エネルギーを反射することができ、さらに合わせガラスの日射透過率を小さくすることができるからである。
 グリーン系有色透明ガラスは特に限定されないが、例えば、鉄を含有するソーダライムシリカガラスが好適に挙げられる。例えば、ソーダライムシリカ系の母ガラスに、Fe換算で、全鉄0.3~1質量%を含有するソーダライムシリカガラスである。さらに、近赤外領域の波長の光の吸収は全鉄のうちの2価の鉄による吸収が支配的であるため、FeO(2価の鉄)の質量が、Fe換算で、全鉄の20~40質量%であることが好ましい。
 紫外線吸収性能を付与するためには、ソーダライムシリカ系の母ガラスにセリウム等を加える方法が挙げられる。具体的には、実質的に以下の組成のソーダライムシリカガラスを用いるのが好ましい。SiO:65~75質量%、Al:0.1~5質量%、NaO+KO:10~18質量%、CaO:5~15質量%、MgO:1~6質量%、Fe換算した全鉄:0.3~1質量%、CeO換算した全セリウム及び/又はTiO:0.5~2質量%。
 また、濃色透明ガラスは、特に限定されないが、例えば、鉄を高濃度で含有するソーダライムシリカガラスが好適に挙げられる。
 本発明の合わせガラスを車両等の窓に用いるにあたって、室内側ガラス基材及び室外側ガラス基材の厚さは、ともに1.5~3.0mmであることが好ましい。この場合、室内側ガラス基材及び室外側ガラス基材を等しい厚さにすることも、異なる厚さにすることもできる。合わせガラスを自動車窓に用いるにあたっては、例えば、室内側ガラス基材及び室外側ガラス基材を、ともに2.0mmの厚さにしたり、2.1mmの厚さにしたりすることが挙げられる。また、合わせガラスを自動車窓に用いるにあたっては、例えば、室内側ガラス基材の厚さを2mm未満、室外側ガラス板の厚さを2mm以上とすることで、合わせガラスの総厚さを小さくし、かつ車外側からの外力に抗することができる。室内側ガラス基材及び室外側ガラス基材は、平板状でも湾曲状でもよい。車両、特に自動車窓は湾曲していることが多いため、室内側ガラス基材及び室外側ガラス基材の形状は湾曲形状であることが多い。この場合、赤外線反射層積層体は室外側ガラス基材の凹面側に設けられる。さらに、必要に応じて3枚以上のガラス基材を用いることもできる。
 本発明の合わせガラスの製造方法は特に限定されない。例えば、合わせガラス構成部材G1及びG2の間に、本発明の赤外線反射フィルムを挟持した後、押圧ロール(ニップロールともいう。)に通したり、又はゴムバックに入れて減圧吸引したりして、合わせガラス構成部材G1及びG2と、本発明に係る赤外線反射フィルムとの間に残留する空気を脱気する。その後、約70~110℃で予備接着して積層体を得る。次に、積層体をオートクレーブに入れたり、又はプレスしたりして、約120~150℃及び1~1.5MPaの圧力で圧着する。このようにして、合わせガラスを得ることができる。
 上記合わせガラスは、自動車、鉄道車両、航空機、船舶及び建築物等に使用できる。合わせガラスは、これらの用途以外にも使用できる。上記合わせガラスは、建築用又は車両用の合わせガラスであることが好ましい。上記合わせガラスは、自動車のフロントガラス、サイドガラス、リアガラス又はルーフガラス等に使用できる。
 〔4.3〕曲面形状体
 本発明の光反射フィルムは、家電、OA機器、携帯電話及び自動車の内装などに使用されているプラスチックの筐体の表面加飾用途に好適に用いることができる。
 特に、形状が曲面形状である部材に対して、下記の成型法により、金属光沢の付加や複雑な模様等の意匠性の高い曲面形状体を成型することができる。
 本発明の光反射フィルムは、本発明に係る緩衝層と自己修復層を具備しているため、曲面形状体の表面が傷が付きにくく、また耐光性も高いという優れた特徴を有する。
 成形方法としては、基板に用いる樹脂と本発明の光反射フィルムとを、射出成形によるインモールド成形する方法が主であるが,成形品に後から貼合、転写させる真空・圧着法(オーバーレイ法)等も利用することができる。また、インモールド成形はさらにインモールドラミネーションとインモールド転写に分類され、適宜選択される。
 以下、実施例を挙げて本発明を具体的に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。なお、実施例において「部」又は「%」の表示を用いるが、特に断りがない限り「質量部」又は「質量%」を表す。
 実施例1
 《光反射体:赤外線反射フィルムの作製》
 [光反射体1:赤外線反射フィルム1の作製]
 透明基材フィルムとして厚さ50μmのポリエチレンテレフタレートフィルム(東洋紡株式会社製、コスモシャインA4300、両面昜接着処理、略称:PET)を用いた。
 次いで、光反射層として、第1の水溶性バインダー樹脂と第1の金属酸化物粒子とを含む高屈折率層、及び第2の水溶性バインダー樹脂と第2の金属酸化物粒子とを含む低屈折率層を交互に積層した、赤外線反射フィルム1を以下のように作製した(図3に対応。)。
 (1)下引き層の形成
 透明基材フィルムに下記下引き層塗布液をエクストルージョンコーターで15ml/mとなるように塗布し、塗布後50℃の無風ゾーン(1秒)を経た後、120℃で30秒乾燥し、下引き層付き支持体を得た。
 〈下引き層塗布液の調製〉
 脱イオン化ゼラチン                    10g
 純水                          30ml
 酢酸                           20g
 下記架橋剤                0.2モル/gゼラチン
 下記ノニオン系フッ素含有界面活性剤           0.2g
 メタノール/アセトン=2/8の有機溶媒で1000mlにし、下引き層塗布液とした。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000009
 〈脱イオン化ゼラチンの作製〉
 石灰処理、水洗、中和処理を行い、石灰を除去したオセインを55~60℃の熱水中で抽出処理を行い、オセインゼラチンを得た。得られたオセインゼラチン水溶液を、アニオン交換樹脂(ダイヤイオンPA-31G)とカチオン交換樹脂(ダイヤイオンPK-218)の混合ベッドで両イオン交換を行った。
 (2)赤外線反射層の形成
 重層塗布可能なスライドホッパー塗布装置(スライドコーター)を用い、下記低屈折率層用塗布液L1及び高屈折率層用塗布液H1を45℃に保温しながら、45℃に加温した、上記の下引層塗布済み支持体に、低屈折率層及び高屈折率層のそれぞれの乾燥時の層厚が130nmになるように、また最下層及び最上層を低屈折率層になるようにして、低屈折率層10層、高屈折率層8層を交互に計18層の同時重層塗布を行った。
 塗布直後、5℃の冷風を5分間吹き付けてセットさせた。その後、80℃の温風を吹き付けて乾燥させて、18層からなる赤外線反射層を形成した。
 〔低屈折率層用塗布液L1の調製〕
 まず、10質量%の第2の金属酸化物粒子としてのコロイダルシリカ(日産化学工業株式会社製、スノーテックス(登録商標)OXS)水溶液680部と、4.0質量%のポリビニルアルコール(株式会社クラレ製、PVA-103:重合度300、ケン化度98.5mol%)水溶液30部と、3.0質量%のホウ酸水溶液150部とを混合し、分散した。純水を加え、全体として1000部のコロイダルシリカ分散液L1を調製した。
 次いで、得られたコロイダルシリカ分散液L1を45℃に加熱し、その中に4.0質量%のポリビニルアルコール(B)としてのポリビニルアルコール(日本酢ビ・ポバール株式会社製、JP-45:重合度4500、ケン化度86.5~89.5mol%)水溶液760部とを順次に、撹拌しながら添加した。その後、1質量%のベタイン系界面活性剤(川研ファインケミカル株式会社製、ソフダゾリン(登録商標)LSB-R)水溶液40部を添加し、低屈折率層用塗布液L1を調製した。
 〔高屈折率層用塗布液H1の調製〕
 (コア・シェル粒子のコアとするルチル型酸化チタンの調製)
 水中に、酸化チタン水和物を懸濁させ、TiOに換算した時の濃度が100g/Lになるように、酸化チタンの水性懸濁液を調製した。10L(リットル)の該懸濁液に、30Lの水酸化ナトリウム水溶液(濃度10モル/L)を撹拌しながら加えた後、90℃に加熱し、5時間熟成させた。次いで、塩酸を用いて中和し、濾過後水を用いて洗浄した。 なお、上記反応(処理)において、原料である酸化チタン水和物は、公知の手法に従い、硫酸チタン水溶液を熱加水分解処理によって得られたものである。
 純水中に、上記塩基処理したチタン化合物をTiOに換算した時の濃度が20g/Lになるように、懸濁させた。その中に、TiO量に対し0.4モル%のクエン酸を撹拌しながら加えた。その後、加熱し、混合ゾル液の温度が95℃になるところで、塩酸濃度が30g/Lになるように濃塩酸を加えた、液温を95℃に維持しながら、3時間撹拌させ、酸化チタンゾル液を調製した。
 上記のように、得られた酸化チタンゾル液のpH及びゼータ電位を測定したところ、pHは1.4であり、ゼータ電位は+40mVであった。また、マルバーン社製ゼータサイザーナノにより粒径測定を行ったところ、単分散度は16%であった。
 さらに、酸化チタンゾル液を105℃で3時間乾燥させ、酸化チタンの粉体微粒子を得た。日本電子データム株式会社製、JDX-3530型を用いて、該粉体微粒子をX線回折測定し、ルチル型の酸化チタン微粒子であることが確認された。また、該微粒子の体積平均粒径は10nmであった。
 そして、純水4kgに、得られた体積平均粒径10nmのルチル型の酸化チタン微粒子を含む20.0質量%の酸化チタンゾル水系分散液を添加して、コア粒子となるゾル液を得た。
 (シェル被覆によるコア・シェル粒子の調製)
 2kgの純水に、10.0質量%の酸化チタンゾル水系分散液0.5kgを加え、90℃に加熱した。次いで、SiOに換算した時の濃度が2.0質量%であるように調製したケイ酸水溶液1.3kgを徐々に添加し、オートクレーブ中、175℃で18時間加熱処理を行い、さらに濃縮して、コア粒子としてはルチル型構造を有する酸化チタンであり、被覆層としてはSiOであるコア・シェル粒子(平均粒径:10nm)のゾル液(固形分濃度20質量%)を得た。
 (高屈折率層用塗布液H1の調製)
 上記で得られた固形分濃度20.0質量%の第1の金属酸化物粒子としてのコア・シェル粒子を含むゾル液28.9部と、1.92質量%のクエン酸水溶液10.5部と、10質量%のポリビニルアルコール(株式会社クラレ製、PVA-103:重合度300、ケン化度98.5mol%)水溶液2.0部と、3質量%のホウ酸水溶液9.0部とを混合して、コア・シェル粒子分散液H1を調製した。
 次いで、コア・シェル分散液H1を撹拌しながら、純水16.3部及び5.0質量%のポリビニルアルコール(A)としてのポリビニルアルコール(株式会社クラレ製、PVA-124:重合度2400、ケン化度98~99mol%)水溶液33.5部を加えた。更に、1質量%のベタイン系界面活性剤(川研ファインケミカル株式会社製、ソフダゾリン(登録商標)LSB-R)水溶液0.5部を添加し、純水を用いて全体として1000部の高屈折率層用塗布液H1を調製した。
 [光反射体2:赤外線反射フィルム2の作製]
 特表2008-528313号公報の実施例を参考に、透明基材フィルムとして厚さ6μmのポリエチレンテレフタレートフィルムの上に、約446層を有する赤外線反射多層フィルムを共押出法により作製した(図4に対応。)。
 この多層ポリマーで構成される赤外線反射フィルム2は、coPEN及びPETG((PET 共重合、コポリエステル:イーストマン・ケミカルズ(Eastman Chemicals)製)から作製した。このcoPENは、90%のPEN及び10%のPETの出発モノマーを用いて重合した。フィードブロック法(米国特許第3801429号明細書に記載。)を使用し、その押出物を通じて層から層へほぼ線形の層厚勾配を有する約446層の光学層を形成した。
 各層厚は透明樹脂フィルムが6μm、赤外光反射多層フィルム層を含め、総層厚は36μmであった。
 ≪光反射フィルムの作製≫
 <光反射フィルム101の作製>
 上記作製した赤外線反射フィルム1の光反射層上に、下記工程にしたがって緩衝層及び自己修復層を形成して、光反射フィルム101を作製した。
 (1)緩衝層の形成
 〈紫外線安定性モノマー及び紫外線吸収性モノマーを含むモノマー組成物から重合されたアクリルポリマー〉
 撹拌機、滴下口、温度計、冷却管及び窒素ガス導入口を備えた1リットルのフラスコに酢酸ブチル200部を仕込み、窒素ガスを導入し、撹拌しながら90℃に加熱する。紫外線安定性単量体としての4-メタクリロイルオキシ-2,2,6,6-テトラメチルピペリジン45部、グリシジルメタクリレート90部、ブチルメタクリレート165部、及び開始剤としての2,2'-アゾビス(2-メチルブチロニトリル)1.5部の混合物を4時間かけて仕込物に滴下し、滴下後さらに2時間加熱する。次に、窒素と酸素の混合ガスを吹き込みながら110℃に昇温し、アクリル酸51部、エステル化触媒としてのテトラフェニルホスホニウムブロマイド0.51部、重合禁止剤としてのメトキノン0.05部の混合物を30分かけて滴下する。滴下後さらに6時間反応させて側鎖にアクリロイル基を有するアクリルポリマーの65%溶液を得る。この得られた溶液の酸価は15mgKOHで、数平均分子量は14300であった。
 〈緩衝層の形成〉
 上記アクリルポリマー溶液を、上記赤外線反射フィルム1の赤外線反射層上に、乾燥層厚が5μmになるように塗布して、80℃、0.25分間の乾燥を行い、緩衝層を形成した。
 (2)自己修復層の形成
 次いで、形成した緩衝層上に、エージング処理をせずに、連続して下記の自己修復層組成物1を孔径0.4μmのポリプロピレン製フィルターで濾過したものを、マイクログラビアコーターを用いて緩衝層の表面に塗布し、恒率乾燥区間温度80℃、減率乾燥区間温度80℃で乾燥の後、酸素濃度が1.0体積%以下の雰囲気になるように窒素パージしながら、紫外線ランプを用い照射部の照度が100mW/cmで、照射量を0.3J/cm(300mJ/cm)として塗布層を硬化させ、ドライ層厚20μmの自己修復層を形成した。巻取り、ロール状の光反射フィルム101を作製した。
 [自己修復層組成物1]
  AUP-787(株式会社トクシキ製)       100質量部
  メチルエチルケトン                 50質量部
  プロピレングリコールモノメチルエーテル       30質量部
  BYK-381(界面活性剤:ビックケミー・ジャパン社製)
                             1質量部
 なお、AUP-787は、ウレタンアクリレート、光重合開始剤及びメチルエチルケトンを含有した樹脂組成物である。
 <光反射フィルム102~107の作製>
 緩衝層の乾燥温度、時間を調整して表1に記載の未硬化モノマー含有量に変化させた以外は同様にして、光反射フィルム102~107を作製した。
 <光反射フィルム108の作製>
 光反射フィルム104の作製において、緩衝層を塗布して加熱硬化した後に、35℃、3日のエージング処理を行い、その後、自己修復層を形成した以外は同様にして、光反射フィルム108を作製した。
 <光反射フィルム109の作製:比較例>
 光反射フィルム103において、緩衝層を設けず、かつ自己修復層の形成に、下記ハードコート層組成物を用いた以外は同様にして、比較の光反射フィルム109を作製した。
 [ハードコート層組成物]
 ジペンタエリスリトールペンタ及びヘキサアクリレート(NKエステルA
-9550、新中村化学工業(株)製)         100質量部
 イルガキュア184(BASFジャパン(株)製)     5質量部
 BYK-381                     1質量部
 プロピレングリコールモノメチルエーテル        10質量部
 酢酸メチル                      45質量部
 メチルエチルケトン                  45質量部
 <光反射フィルム110~115の作製>
 上記光反射フィルム101~108の作製において、赤外線反射フィルム1の代わりに、赤外線反射フィルム2を光反射体として用いた以外は同様にして、光反射フィルム110~115を作製した。
 <光反射フィルム116の作製:比較例>
 光反射フィルム109の作製において、赤外線反射フィルム2を光反射体として用いた以外は同様にして、比較例の光反射フィルム116を作製した。
 ≪光反射フィルムの評価≫
 (1)可視光透過率及び近赤外~赤外領域反射率の測定
 赤外線反射フィルム1及び2の光波長450~650nmの範囲の透過率及び光波長1000~1500nmの範囲の反射率を、分光光度計(積分球使用、(株)日立ハイテクノロジーズ製、U-4000型)を用い、23℃、55%RHの環境下、平均透過率と平均反射率を測定した。結果を表1に示す。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000010
 (2)微小硬度パラメータh、h及び自己修復層の修復度(A)の測定
 上記作製した各光反射フィルムについて、ビッカース圧子及び稜線同士の角度が115度の三角錐圧子を用いた微小硬度計を用いて、各機能性光学フィルム表面について、設定した押し込み深さhmax(μm)で圧子を押し込んだときの負荷試験力-押しこみ深さ曲線を作成した。そして、各機能性光学フィルムについて除荷保持時間0秒又は60秒で測定した際に求められる残留深さ(h、h)(図1参照。)より、A=(h-h)/hmax)により算出した。以上の測定を試料の異なる箇所で5回行い、その平均値を求め、修復度(A)とした。得られた結果を表2に示した。
 具体的な測定条件は、ダイナミック超微小硬度計DUH-211S(島津製作所社製)を用い、下記の測定条件で測定した。
 圧子形状:三角錐圧子(稜間角115°)
 測定環境:温度23℃、相対湿度50%
 最大試験荷重:196.13mN
 荷重速度:6.662mN/10秒
 除荷速度:6.662mN/10秒
 (3)緩衝層中の未硬化モノマーの定量
 緩衝層中の成型加工前後の未硬化モノマーの含有量を、以下の方法で測定し、得られた結果を表2に示した。
 (定量方法とデータ処理)
 光反射フィルム試料を切削し、出てきた緩衝層のATR(Attenuated Total Reflection:全反射測定法)を、FT/IR-4100(日本分光(株)製)を用いて400-1~6000cm-1の波数の範囲で測定した。それぞれ以下の波数における反射光強度を得た。
 R1:2270cm-1の反射光強度
 R2:2950cm-1の反射光強度
 R1/R2を算出することで、未硬化成分を定量した。
 ここで、
 A :緩衝層塗布後のR1/R2;未硬化モノマー100%
 B :緩衝層塗布後、150℃、30min硬化処理後のR1/R2;未硬化モノマー0%とし、上記測定データから、未硬化モノマーの割合MMを、次式で求めた。
 (未硬化モノマーの割合MM(質量%))=(R1/R2-B)/(A-B)×100
 (4)耐傷性
 上記作製した各光反射フィルムをモデル的に曲面形状に延伸、貼合した後、下記方法にて耐傷性を測定した。
 光反射フィルム101を延伸成型:φ100mmのガラス曲面に、成型加工温度150℃で光反射フィルムを貼合した。同様に、光反射フィルム102~108、110~115について、成型加工温度150℃、120℃、80℃及び70℃に変化させて、表2の組み合わせにてそれぞれ成型加工した。
 耐傷性試験:往復摩耗試験機(新東科学(株)製、HEIDON-14DR)を用い、摩耗材としてスチールウール(#0000)を取り付け、荷重500g/cmの条件で各フィルムミラーの表面を速度10mm/secで10回往復させた。その試験後の傷を下記基準で評価した。
 ◎:傷が全く付かない
 ○:傷が僅かにあるが、目立たない
 △:傷が目視できるが、実用上は許容内
 ×:傷が明らかに目視でき、表面に傷の凹凸が形成され許容外
 (5)耐光性
 上記作製した各光反射フィルムについて、10cm角に切り出し、耐光性の評価として各試料を下記加速試験を行い、赤外線反射率の変化を下記の方法により測定した。
 屋外環境を想定して、65℃の環境下で、岩崎電気製アイスーパーUVテスターを用いて150mW、96時間の紫外線照射を行った後、正反射率を測定した。加速試験前後での赤外線反射率の変化を以下の指標で評価した。
 〈赤外線反射率の測定〉
 分光光度計として、U-4000型((株)日立ハイテクノロジーズ製)を用い、各光反射フィルムの光波長1000~1500nmの領域における反射率を23℃・55%RHの環境下、反射面の法線に対して、入射光の入射角を5°の正反射率をフィルムの幅手方向に等間隔で10点の測定を行い、その平均値を求め、これを赤外線反射率(%)とした。
 ◎:反射率低下が、0~1%未満
 ○:反射率低下が、1~3%未満
 △:反射率低下が、3~5%未満
 ×:反射率低下が、5%以上
 光反射フィルムの構成及び上記評価結果を下記表2に記載した。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000011
 表2から、緩衝層及び自己修復層を設けた本発明の光反射フィルム101~108及び110~115は、比較例109及び116に対して、曲面形状に延伸成型した後の耐傷性に優れていることが分かる。また、緩衝層に紫外線安定性モノマー及び紫外線吸収性モノマーを配合してポリマーとし、熱硬化した層構成によって、本発明の光反射フィルムは耐光性にも優れていることが分かった。
 光反射体(赤外線反射フィルム)1と2の比較では、耐傷性及び耐光性ともに、光反射体1の構成の方が優れていた。
 また、緩衝層を設けた後に、エージング処理し、自己修復層を形成した光反射フィルム108は、連続して自己修復層を形成した光反射フィルム104に対して、耐傷性がやや劣ることが分かった。
 実施例2
 《光反射体:フィルムミラー及び金属調光沢フィルムの作製》
 [光反射体3:フィルムミラーの作製]
 透明基材フィルムとして、二軸延伸ポリエステルフィルム(ポリエチレンテレフタレートフィルム、厚さ25μm)を用いた。上記ポリエチレンテレフタレートフィルムの片面に、ポリエステル樹脂(ポリエスター SP-181 日本合成化学工業(株)製)、メラミン樹脂(スーパーベッカミンJ-820 DIC(株)製)、TDI系イソシアネート(2,4-トリレンジイソシアネート)、HDMI(登録商標)系イソシアネート(1,6-ヘキサメチレンジイソシアネート)を樹脂固形分比率で20:1:1:2に、固形分濃度10質量%となるようにトルエン中に混合した樹脂を、グラビアコート法によりコーティングして、厚さ0.1μmのアンカー層を形成し、アンカー層上に、銀反射層として、真空蒸着法により厚さ100nmの銀反射層を形成した。更に、上記銀反射層上に、ポリエステル系樹脂とTDI(トリレンジイソシアネート)系イソシアネートを樹脂固形分比率で10:2に混合した樹脂を、グラビアコート法によりコーティングして、厚さ3.0μmの樹脂コート層8を形成し、光反射体であるフィルムミラーを作製した(図5B参照。)。
 [光反射体4:金属光沢調フィルムの作製]
 特開2014-108570号公報実施例を参考にして、以下の工程によって金属調光沢フィルムを作製した。
 ポリエステルAとして、固有粘度0.8のポリエチレンテレフタレートを用いた。またポリエステルBは、酸成分としてシクロヘキサンジメタノール30mol%、ジオール成分としてスピログリコール30mol%共重合ポリエチレンテレフタレートを用いた。これらポリエステルA及びポリエステルBは、それぞれ乾燥した後、押出機に供給した。
 ポリエステルA及びポリエステルBは、それぞれ、押出機にて280℃の溶融状態とし、ギヤポンプにて吐出比がポリエステルA組成物/ポリエステルB組成物=1.66/1になるように計量しながら、フィルターを介した後、フィードブロックにて合流させた。合流したポリエステルA及びポリエステルBは、スタティックミキサーに供給し、ポリエステルAが275層、ポリエステルBが274層からなる厚さ方向に交互にスリット数275個のスリット板1枚と、274個のスリット板1枚を用いた構成である549層フィードブロックにて合流させて、厚さ方向に交互に549層積層された積層体とした。但し、用いた各スリット板において、両端部に位置した厚膜層を形成するスリット巾が、全て一定とし、長さのみ変化させた。なお、スリット長の変化の割合は、0.59とした。また、積層構造の内訳は、ポリエステルAが275層、ポリエステルBが274層からなる厚さ方向に交互に積層された傾斜構造を有する積層体とした。
 このようにして得られた計549層からなる積層体をTダイに供給しシート状に成形した後、静電印加しながら、表面温度25℃に保たれたキャスティングドラム上で急冷固化した。
 得られたキャストフィルムは、85℃から100℃に設定したロール群で加熱し、縦方向に3.2倍延伸後、この一軸延伸フィルムに、下記組成で混合した水系塗剤(X)を塗布した。
 (水系塗剤(X)組成)
 ・アクリルウレタン共重合樹脂(a)の水分散体:山南合成化学(株)製“サンナロン”WG-658(固形分濃度30質量%)
 ・イソシアネート化合物(b)の水分散体:第一工業製薬(株)製“エラストロン”E-37(固形分濃度28質量%)
 ・エポキシ化合物(c):DIC(株)製“CR-5L”(固形分濃度100質量%)
 ・ポリチオフェン構造を有する化合物(d-1)及び陰イオン構造を有する化合物(d-2)からなる組成物の水分散体:
 陰イオン構造を有する化合物であるポリスチレンスルホン酸を20.8質量部含む1887質量部の水溶液中に、1質量%硫酸鉄(III)水溶液49質量部、チオフェン構造を有する化合物である3,4-エチレンジオキシチオフェン8.8質量部、及び10.9質量%のペルオキソ二硫酸水溶液117質量部を加えた。この混合物を18℃で、23時間撹拌した。次いで、この混合物に、154質量部の陽イオン交換樹脂及び232質量部の陰イオン交換樹脂を加えて、2時間撹拌した後、イオン交換樹脂を濾別して、ポリ(3,4-エチレンジオキシチオフェン)とポリスチレンスルホン酸からなる組成物(d-1)+(d-2)の水分散体を得た。なお、ポリチオフェン構造を有する化合物と陰イオン構造を有する化合物の質量比(ポリチオフェン構造を有する化合物/陰イオン構造を有する化合物)は、4/6である。また、得られたポリチオフェン構造を有する化合物及び陰イオン構造を有する化合物からなる組成物(d-1)+(d-2)の水分散体の固形分濃度は1.3質量%である。
 ・水系溶媒(G):純水
 上記した(a)~(d-2)の水分散体を固形分質量比で、(a)/(b)/(c)/(d-1)+(d-2)=100/100/75/25となるように、かつ水系塗剤(X)の固形分濃度が3質量%となるように(X)を混合し濃度調整した。
 水系塗剤(X)を塗布した一軸延伸フィルムをテンターに導き、100℃の熱風で予熱後、110℃の温度で幅方向に3.3倍延伸した。延伸したフィルムは、テンター内でリラックス率3%及び150℃の熱風にて熱処理を行い、室温まで徐冷後、巻き取った。厚さ52μmである第1フィルムを得た。
 ポリエステルフィルムの厚さ以外は上記と同様にして、厚さ71μmである第2フィルムを得た。
 得られた第1フィルムに下記接着剤をウェット厚さで7g/m塗布し、乾燥温度70℃から90℃で速度20m/minで乾燥後、第2フィルムとニップ圧力0.4MPa、温度40℃でニップロールで張り合わせを行った。
 (接着剤)
 三井化学ポリウレタン株式会社製ウレタンプレポリマー溶液“タケラック A-971”5質量部、“タケネート A-3”0.5質量部を酢酸エチル5質量部に溶解させたものを用いた。
 張り合わせ後の搬送工程で、搬送ロールとシートの接触角度が、60~180°となる直径100mm搬送ロール17本に、距離Lが80mm、距離Dが20mmとなる位置に0.2mmφタングステンをバネで両端部を把持して接地した。
 貼り合わせ後にシートを巻き取ったが、シート巻取り部にはイオン電流(イオン電流測定器 除電モニターSW001)が±0.3μA以上を発生する交流式電圧印加方式(コロナ放電式)除電器を設置した。
 ≪光反射フィルムの作製≫
 <光反射フィルム201~208の作製>
 上記作製した光反射体3の光反射層(樹脂コート層)上に、実施例1の光反射フィルム102~109と同様にして、表3記載の緩衝層及び自己修復層を形成して、それぞれ光反射フィルム201~208を作製した。
 <光反射フィルム209~215の作製>
 上記作製した光反射体4の光反射層上に、実施例1の光反射フィルム110~116と同様にして、表3記載の緩衝層及び自己修復層を形成して、それぞれ光反射フィルム209~215を作製した。
 ≪光反射フィルムの評価≫
 実施例1と同様にして、可視光反射率(表1に記載)、微小硬度パラメータh、h及び自己修復層の修復度(A)、加飾成型加工前後の未硬化モノマー割合、耐傷性、及び耐光性を評価した。
 ただし、耐光性では、岩崎電気製アイスーパーUVテスターを用いた加速試験前後の試料について、分光光度計U-4000型((株)日立ハイテクノロジーズ製)を用い、各光反射フィルムの光波長450~650nmの領域における平均反射率を、23℃・55%RHの環境下フィルムの幅手方向に等間隔で10点の測定を行いその平均値を求め、これを可視光反射率(%)として、当該可視光反射率の変化を前記基準にしたがって評価した。
 光反射フィルムの構成及び上記評価結果を下記表3に記載した。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000012
 実施例1を再現し、緩衝層を設けた本発明の光反射フィルム201~207及び209~214は、比較例208及び215に対して、曲面形状に延伸成型した後の耐傷性に優れていることが分かる。また、緩衝層に紫外線安定性モノマー及び紫外線吸収性モノマーを配合して熱硬化した層構成により、耐光性にも優れていることが分かった。
 光反射体3と4の比較では、耐傷性及び耐光性ともに、光反射体3の構成の方が優れていた。
 また、緩衝層を設けた後に、エージング処理し、自己修復層を形成した光反射フィルム207は、連続して自己修復層を形成した光反射フィルム203に対して、耐傷性がやや劣ることが再現された。
 実施例3
 ≪合わせガラスの作製≫
 上記作製した光反射フィルム101~109を用いて、合わせガラス301~309を作製した。
 光反射フィルム101~109の自己修復層を塗布していない側に、ポリビニルアセタール系樹脂膜として、それぞれ厚さが380μmのポリビニルブチラール膜を付与した。
 〔合わせガラスの作製〕
 室内側ガラスとして、厚さ3mmの平面状のグリーンガラス(可視光透過率Tv:81%、日射透過率Te:63%)、上記作製した光反射フィルム1~108、室外側ガラスとして、厚さ3mmの平面状のクリアガラス(可視光透過率Tv:91%、日射透過率Te:86%)をこの順で積層し、ガラスのエッジ部からはみ出した余剰部分を除去した後、150℃で30分間加熱し、加圧脱気して合わせ処理を行い、合わせガラス301を作製した。同様にして表4記載の温度で合わせ処理を行い、合わせガラス302~309を作製した。
 ≪合わせガラスの評価≫
 合わせガラスとして下記耐傷性に加えて、熱シワの評価を行った。
 (1)耐傷性
 合わせガラス加工において、光反射フィルム表面の加工時の傷のつきやすさについて、それぞれ作製した10枚の合わせガラスを目視で観察し以下の基準で評価した。
 ◎:傷なし
 ○:傷が僅かにあるがルーペで確認できるレベル
 △:傷が確認できるレベル
 ×:傷が多く、全体に曇ったレベル 
 (2)熱シワ
 合わせガラスを目視観察し、下記評価基準で加工時の熱シワの発生を評価した。
 ◎:熱シワなし
 ○:シワが僅かにあるがルーペで確認できるレベル
 △:目視でシワが確認できるレベル
 ×:シワが視野を妨げるレベル
 以上の評価結果を表4に示す。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000013
 本発明の光反射フィルム101~108を用いた合わせガラスは、比較の光反射フィルム109を用いた合わせガラスに対して、加工時の耐傷性に優れ、かつ本発明に係る緩衝層及び自己修復層を設けることで弾性が増し、加工時の熱シワの発生にも優れた耐性を有することが分かった。
 本発明の光反射フィルムは、曲面形状に延伸されて貼合された際の延伸部の自己修復性を改善し、耐傷性及び耐光性に優れていることから、赤外線反射フィルム、光反射体としてのフィルムミラー及び金属光沢調フィルム、合わせガラスに具備される光反射フィルム、家電、OA機器、携帯電話及び自動車の内装などに使用されるプラスチックの筐体の表面加飾フィルム等に好適に用いることができる。
 RF 光反射フィルム
 1 光反射体
 2 基材フィルム
 3 光反射層
 4 緩衝層
 5 自己修復層
 L 光源
 WF 赤外線反射フィルム
 MF フィルムミラー
 6 アンカー層
 7 金属層
 8 樹脂コート層
 9 接着層
 10 アクリル樹脂層
 11 粘着層
 12 剥離シート

Claims (9)

  1.  少なくとも基材フィルムと光反射層を具備する光反射体上に自己修復層が形成された光反射フィルムであって、下記式で定義される前記自己修復層の修復度(A)が、0.02以上であり、さらに前記光反射体と前記自己修復層との間に緩衝層を設けたことを特徴とする光反射フィルム。
       A=(h-h)/hmax
       h:除荷保持時間0秒で測定したときの残留深さ(μm)
       h:除荷保持時間60秒で測定したときの残留深さ(μm)
       hmax:設定押し込み深さ(μm)
  2.  前記緩衝層が、紫外線安定性モノマーから選ばれる少なくとも1種と紫外線吸収性モノマーから選ばれる少なくとも1種とを含むモノマー組成物から重合されたポリマーを含有し、加飾成型加工する前の当該緩衝層における未硬化モノマーの割合が、5質量%以上であることを特徴とする請求項1に記載の光反射フィルム。
  3.  前記加飾成型加工した後の前記緩衝層における前記未硬化モノマーの割合が、3質量%以下であることを特徴とする請求項2に記載の光反射フィルム。
  4.  前記光反射フィルムの光波長1000~1500nmの範囲の光反射率が、50%以上であることを特徴とする請求項1から請求項3までのいずれか一項に記載の光反射フィルム。
  5.  前記光反射フィルムの光波長450~650nmの範囲の光反射率が、50%以上であることを特徴とする請求項1から請求項3までのいずれか一項に記載の光反射フィルム。
  6.  請求項1から請求項5までのいずれか一項に記載の光反射フィルムを製造する光反射フィルムの製造方法であって、前記緩衝層を形成するための緩衝層塗布液を前記光反射体上に塗布し、次いで熱硬化した後にエージング処理を施すことなく、当該緩衝層上に自己修復層を形成することを特徴とする光反射フィルムの製造方法。
  7.  請求項1から請求項5までのいずれか一項に記載の光反射フィルムの加飾成型加工方法であって、
     前記光反射フィルムに対して自己修復層とは反対側の面に粘着層又は接着層を形成し、当該光反射フィルムを前記粘着層又は接着層を介して基板上に80℃以上の温度で熱成型しながら貼合することを特徴とする光反射フィルムの加飾成型加工方法。
  8.  請求項4に記載の光反射フィルムを、2枚の合わせガラス構成部材で挟持してなることを特徴とする合わせガラス。
  9.  請求項5に記載の光反射フィルムを具備したことを特徴とする曲面形状体。
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