[go: up one dir, main page]

WO2015199035A1 - 放射線遮蔽ガラス及びそれを用いた合わせガラス - Google Patents

放射線遮蔽ガラス及びそれを用いた合わせガラス Download PDF

Info

Publication number
WO2015199035A1
WO2015199035A1 PCT/JP2015/067907 JP2015067907W WO2015199035A1 WO 2015199035 A1 WO2015199035 A1 WO 2015199035A1 JP 2015067907 W JP2015067907 W JP 2015067907W WO 2015199035 A1 WO2015199035 A1 WO 2015199035A1
Authority
WO
WIPO (PCT)
Prior art keywords
less
glass
radiation shielding
content
particularly preferably
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Ceased
Application number
PCT/JP2015/067907
Other languages
English (en)
French (fr)
Inventor
長壽　研
智基 柳瀬
篤 虫明
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Nippon Electric Glass Co Ltd
Original Assignee
Nippon Electric Glass Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Nippon Electric Glass Co Ltd filed Critical Nippon Electric Glass Co Ltd
Publication of WO2015199035A1 publication Critical patent/WO2015199035A1/ja
Anticipated expiration legal-status Critical
Ceased legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C3/00—Glass compositions
    • C03C3/04—Glass compositions containing silica
    • C03C3/062—Glass compositions containing silica with less than 40% silica by weight
    • C03C3/064—Glass compositions containing silica with less than 40% silica by weight containing boron
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C3/00—Glass compositions
    • C03C3/04—Glass compositions containing silica
    • C03C3/062—Glass compositions containing silica with less than 40% silica by weight
    • C03C3/064—Glass compositions containing silica with less than 40% silica by weight containing boron
    • C03C3/066—Glass compositions containing silica with less than 40% silica by weight containing boron containing zinc
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C3/00—Glass compositions
    • C03C3/04—Glass compositions containing silica
    • C03C3/076—Glass compositions containing silica with 40% to 90% silica, by weight
    • C03C3/083—Glass compositions containing silica with 40% to 90% silica, by weight containing aluminium oxide or an iron compound
    • C03C3/085—Glass compositions containing silica with 40% to 90% silica, by weight containing aluminium oxide or an iron compound containing an oxide of a divalent metal
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C3/00—Glass compositions
    • C03C3/04—Glass compositions containing silica
    • C03C3/076—Glass compositions containing silica with 40% to 90% silica, by weight
    • C03C3/083—Glass compositions containing silica with 40% to 90% silica, by weight containing aluminium oxide or an iron compound
    • C03C3/085—Glass compositions containing silica with 40% to 90% silica, by weight containing aluminium oxide or an iron compound containing an oxide of a divalent metal
    • C03C3/087—Glass compositions containing silica with 40% to 90% silica, by weight containing aluminium oxide or an iron compound containing an oxide of a divalent metal containing calcium oxide, e.g. common sheet or container glass
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C3/00—Glass compositions
    • C03C3/04—Glass compositions containing silica
    • C03C3/076—Glass compositions containing silica with 40% to 90% silica, by weight
    • C03C3/089—Glass compositions containing silica with 40% to 90% silica, by weight containing boron
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C3/00—Glass compositions
    • C03C3/04—Glass compositions containing silica
    • C03C3/076—Glass compositions containing silica with 40% to 90% silica, by weight
    • C03C3/089—Glass compositions containing silica with 40% to 90% silica, by weight containing boron
    • C03C3/091—Glass compositions containing silica with 40% to 90% silica, by weight containing boron containing aluminium
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C3/00—Glass compositions
    • C03C3/04—Glass compositions containing silica
    • C03C3/076—Glass compositions containing silica with 40% to 90% silica, by weight
    • C03C3/089—Glass compositions containing silica with 40% to 90% silica, by weight containing boron
    • C03C3/091—Glass compositions containing silica with 40% to 90% silica, by weight containing boron containing aluminium
    • C03C3/093—Glass compositions containing silica with 40% to 90% silica, by weight containing boron containing aluminium containing zinc or zirconium
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C3/00—Glass compositions
    • C03C3/04—Glass compositions containing silica
    • C03C3/076—Glass compositions containing silica with 40% to 90% silica, by weight
    • C03C3/095—Glass compositions containing silica with 40% to 90% silica, by weight containing rare earths
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C4/00—Compositions for glass with special properties
    • C03C4/08—Compositions for glass with special properties for glass selectively absorbing radiation of specified wave lengths
    • G—PHYSICS
    • G21—NUCLEAR PHYSICS; NUCLEAR ENGINEERING
    • G21F—PROTECTION AGAINST X-RADIATION, GAMMA RADIATION, CORPUSCULAR RADIATION OR PARTICLE BOMBARDMENT; TREATING RADIOACTIVELY CONTAMINATED MATERIAL; DECONTAMINATION ARRANGEMENTS THEREFOR
    • G21F1/00—Shielding characterised by the composition of the materials
    • G21F1/02—Selection of uniform shielding materials
    • G21F1/06—Ceramics; Glasses; Refractories
    • G—PHYSICS
    • G21—NUCLEAR PHYSICS; NUCLEAR ENGINEERING
    • G21F—PROTECTION AGAINST X-RADIATION, GAMMA RADIATION, CORPUSCULAR RADIATION OR PARTICLE BOMBARDMENT; TREATING RADIOACTIVELY CONTAMINATED MATERIAL; DECONTAMINATION ARRANGEMENTS THEREFOR
    • G21F3/00—Shielding characterised by its physical form, e.g. granules, or shape of the material

Definitions

  • the present invention relates to a radiation shielding glass and a laminated glass using the same, and more particularly to a radiation shielding window, a radiation shielding glass suitable for a radiation shielding partition, and a laminated glass using the same.
  • Patent Document 1 discloses a silicate glass containing BaO or SrO.
  • Patent Document 2 discloses a glass containing bismuth.
  • Patent Document 3 discloses a glass containing a rare earth metal oxide such as gadolinium oxide.
  • the lead-free glass described in Patent Document 1 contains BaO and SrO as described above, it cannot be said that the radiation shielding performance is sufficiently high.
  • lead-free glass described in Patent Document 2 include Bi 2 O 3 and of SiO 2 respectively 10 mol% or more, when the content of Bi 2 O 3 and SiO 2 increases both phase separation and devitrification occur As a result, the visible light transmittance of the glass tends to be lowered.
  • Bismuth is similar to the chemical properties of lead, as can be seen from the fact that it is located next to lead in the periodic table, so there are concerns about the burden on the human body and the environment.
  • the present invention has a technical problem to provide a radiation shielding glass that has high radiation shielding performance and can be produced at low cost even if the glass composition does not contain a large amount of lead.
  • the radiation shielding glass of the present invention has a glass composition of SiO 2 + Al 2 O 3 + B 2 O 3 30 to 80%, B 2 O 3 + ZnO 0.1 to 20%, TiO 2 + ZrO 2 as a glass composition. It contains 3 to 20% and PbO 0 to 5%.
  • SiO 2 + Al 2 O 3 + B 2 O 3 is the total amount of SiO 2 , Al 2 O 3 and B 2 O 3 .
  • TiO 2 + ZrO 2 refers to the total amount of ZrO 2 and TiO 2 .
  • the radiation shielding glass of the present invention preferably contains 0.01 to 10% by mass of ZrO 2 . In this way, it is possible to increase the liquid phase viscosity by increasing the temperature near the liquid phase temperature while improving the radiation shielding performance.
  • the radiation shielding glass of the present invention preferably contains 0.01 to 15% by mass of TiO 2 . In this way, radiation shielding performance can be improved.
  • the radiation shielding glass of the present invention does not substantially contain PbO, and the content of Bi 2 O 3 + La 2 O 3 + Gd 2 O 3 + Nb 2 O 5 + Ta 2 O 5 + WO 3 is 9 mass. % Or less is preferable. In this way, it is possible to reduce the batch cost while considering environmental requirements.
  • substantially free of means that the inclusion of an explicit component is avoided as much as possible, but the inclusion of an impurity level is allowed.
  • the content of an explicit component Is less than 0.5% by mass (preferably less than 0.1% by mass).
  • Bi 2 O 3 + La 2 O 3 + Gd 2 O 3 + Nb 2 O 5 + Ta 2 O 5 + WO 3 means Bi 2 O 3 , La 2 O 3 , Gd 2 O 3 , Nb 2 O 5 , Ta 2 O 5 and refers to the total amount of WO 3.
  • the radiation shielding glass of the present invention preferably further contains 0.1 to 15% by mass of B 2 O 3 .
  • the radiation shielding glass of the present invention preferably contains 0.1 to 15% by mass of ZnO.
  • the radiation shielding glass of the present invention has an X-ray transmittance of 30% or less in the thickness direction at a tube voltage of 50 kV.
  • X-ray transmittance in the thickness direction at a tube voltage of 50 kV refers to a value measured in accordance with the method described in JIS Z 4501.
  • the radiation shielding glass of the present invention preferably has a liquidus viscosity of 10 3.0 dPa ⁇ s or more.
  • liquid phase viscosity refers to a value obtained by measuring the viscosity of glass at the liquid phase temperature by a platinum ball pulling method.
  • Liquid phase temperature refers to the temperature at which crystals precipitate after passing through a standard sieve 30 mesh (500 ⁇ m), putting the glass powder remaining on 50 mesh (300 ⁇ m) into a platinum boat and holding it in a temperature gradient furnace for 24 hours. Refers to the measured value.
  • the radiation shielding glass of the present invention has a flat plate shape.
  • the radiation shielding glass of the present invention is preferably used for a radiation shielding window or a radiation shielding screen.
  • the radiation shielding member of the present invention is a laminated glass obtained by laminating a radiation shielding glass plate and a resin sheet, and the radiation shielding glass plate is preferably the radiation shielding glass described above.
  • the laminated glass of the present invention preferably has a thickness of 2.5 mm or more.
  • the radiation shielding glass of the present invention has a glass composition in terms of mass% of SiO 2 + Al 2 O 3 + B 2 O 3 30 to 80%, B 2 O 3 + ZnO 0.1 to 20%, TiO 2 + ZrO 2 3 to It contains 20% and PbO 0 to 5%.
  • the reason for limiting the content range of each component as described above will be described below.
  • % display represents the mass% except the case where there is particular notice.
  • the content of SiO 2 + Al 2 O 3 + B 2 O 3 is 30 to 80%.
  • the content of SiO 2 + Al 2 O 3 + B 2 O 3 decreases, it becomes difficult to form a glass network structure and vitrification becomes difficult. Further, the viscosity of the glass is excessively lowered, and it becomes difficult to ensure a high liquid phase viscosity. Therefore, the content of SiO 2 + Al 2 O 3 + B 2 O 3 is preferably 30% or more, 35% or more, 38% or more, 40% or more, 42% or more, 45% or more, 47% or more, Preferably it is 49% or more.
  • the content of SiO 2 + Al 2 O 3 + B 2 O 3 is preferably 80% or less, 75% or less, 70% or less, 65% or less, 60% or less, 57% or less, 55% or less, 53% or less. And particularly preferably 52% or less.
  • the content of SiO 2 is preferably 30 to 70%.
  • the content of SiO 2 is preferably 30% or more, 33% or more, 35% or more, 37% or more, 38% or more, 39% or more, and particularly preferably 40% or more.
  • the content of SiO 2 increases, radiation shielding performance, meltability, and moldability tend to decrease.
  • the content of SiO 2 is preferably 70% or less, 65% or less, 60% or less, 55% or less, 53% or less, 51% or less, less than 50%, 48% or less, 45% or less, especially Preferably it is 43% or less.
  • the content of Al 2 O 3 is preferably 0 to 20%.
  • the content of Al 2 O 3 is preferably 20% or less, 15% or less, 10% or less, or 8% or less, and particularly preferably 6% or less.
  • the content of Al 2 O 3 is reduced, lacks the balance of the glass composition, the glass is liable to devitrify reversed.
  • the content of Al 2 O 3 is preferably 0.1% or more, 0.5% or more, more than 1%, 3% or more and 4% or more, particularly preferably 5% or more.
  • the content of B 2 O 3 is preferably 0 to 15%.
  • the content of B 2 O 3 is preferably 15% or less, 12% or less, 10% or less, or 8% or less, and particularly preferably 6% or less.
  • the content of B 2 O 3 is preferably 0.1% or more, 1% or more, 2% or more, 3% or more, 4% or more, and particularly preferably 5% or more.
  • the mass ratio SiO 2 / (Al 2 O 3 + B 2 O 3 ) is preferably 2.5 to 4.6, 2.8 to 4.5, 3 to 3 in order to achieve both radiation shielding performance and devitrification resistance.
  • SiO 2 / (Al 2 O 3 + B 2 O 3 )” indicates a value obtained by dividing the content of SiO 2 by the total amount of Al 2 O 3 and B 2 O 3 .
  • the content of B 2 O 3 + ZnO, from the viewpoint of ensuring high liquidus viscosity is 0.1 to 20%, preferably from 0.5 to 18% 1-15% 2-12% 3 - 10% and 3.5 to 9%, particularly preferably 4 to 8%.
  • the content of ZnO is preferably 15% or less, 10% or less, 6% or less, 4% or less, 2% or less, 1% or less, 0.5% or less, and particularly preferably 0.1% or less. It is. However, when the content of ZnO decreases, it becomes difficult to ensure a high liquid phase viscosity.
  • the content of ZnO is preferably 0.1% or more, 0.5% or more, 1% or more, more than 1%, 1.5% or more, 2% or more. 2.5% or more, particularly preferably 3% or more.
  • the mass ratio ZnO / B 2 O 3 is preferably 0.1 to 1.2, 0.2 to 1.2, 0.3 to 1.1, 0 in order to achieve both radiation shielding performance and devitrification resistance. .4 to 1, 0.4 to 0.9, particularly preferably 0.5 to 0.8.
  • ZnO / B 2 O 3 refers to a value obtained by dividing the content of ZnO by the content of B 2 O 3 .
  • TiO 2 + ZrO 2 without soaring batch cost, it is effective to increase component radiation shielding performance.
  • the content of TiO 2 + ZrO 2 is preferably 3 to 20%, 4 to 14%, 5 to 11%, 5.5 to 10%, 6 to 9%, and particularly preferably 6.5 to 8%. %.
  • the content of TiO 2 + ZrO 2 is preferably 7.5% or less, 7% or less, 6.5% or less, and particularly preferably 6% or less. is there.
  • TiO 2 is a component that effectively increases the radiation shielding performance without increasing the batch cost.
  • the content of TiO 2 is preferably 0.01 to 15%, 0.1 to 15%, 1 to 12%, 2 to 10%, 3 to 9%, 3.5 to 8%, especially Preferably, it is 4 to 7%.
  • the content of TiO 2 increases, easily increases generation of Zr-containing devitrifying stones. Therefore, when it is desired to suppress the generation of Zr-containing devitrification beads, the content of TiO 2 is preferably 6% or less, 5.5% or less, 5% or less, 4.5% or less, particularly preferably 4%. It is as follows.
  • the mass ratio B 2 O 3 / TiO 2 is preferably 0.01 to 10, 0.1 to 5, 0.2 to 4, 0.3 to 3, in order to achieve both radiation shielding performance and devitrification resistance. It is 0.4 to 2, particularly preferably 0.5 to 1.5.
  • ZrO 2 is a component that effectively increases the radiation shielding performance without increasing the batch cost.
  • the content of ZrO 2 is preferably 0 to 10%, 0.01 to 10%, 0.1 to 8%, 0.5 to 7%, 1 to 6.5%, 2 to 6%. Particularly preferred is 2.5 to 5%.
  • the content of ZrO 2 is preferably 5% or less, 4% or less, 3.5% or less, 3% or less, particularly preferably 2.5% It is as follows.
  • PbO is a component that enhances radiation shielding performance, but from an environmental point of view, its content is preferably 5% or less, particularly preferably 1% or less. It is desirable that PbO is not substantially contained.
  • MgO + CaO + SrO + BaO + ZnO is preferably 25 to 60%, 30 to 55%, 32 to 50%, 34 to 49%, 36 to 47%, particularly preferably 38 to 45%. In this way, high radiation shielding performance, devitrification resistance, meltability, low density, and low thermal expansion coefficient can be achieved at a high level.
  • MgO + CaO + SrO + BaO + ZnO is the total amount of MgO, CaO, SrO, BaO and ZnO.
  • the mass ratio (MgO + CaO + SrO + BaO + ZnO) / CaO is preferably 2 or more, 3 or more, 4 or more, 5 or more, 6 or more, and particularly preferably 7 or more.
  • the mass ratio (MgO + CaO + SrO + BaO + ZnO) / CaO increases, radiation shielding performance, meltability, and Young's modulus tend to decrease.
  • the mass ratio (MgO + CaO + SrO + BaO + ZnO) / CaO is preferably 10 or less, 9.5 or less, 9 or less, 8.5 or less, 8 or less, and particularly preferably 7.5 or less.
  • “(MgO + CaO + SrO + BaO + ZnO) / CaO” indicates a value obtained by dividing the total amount of MgO, CaO, SrO, BaO and ZnO by the content of CaO.
  • the content of MgO + CaO is preferably 0 to 12%.
  • the content of MgO + CaO is preferably 10% or less, 7% or less, 6% or less, 4.6% or less, 4% or less, and particularly preferably 3.5% or less.
  • the content of MgO + CaO is preferably 0.1% or more, 0.5% or more, 1% or more, 2% or more, and particularly preferably 3% or more.
  • “MgO + CaO” is the total amount of MgO and CaO.
  • MgO is a component that increases the Young's modulus and decreases the high-temperature viscosity.
  • the content of MgO is preferably 10% or less, 5% or less, 3% or less, 2% or less, and particularly preferably 1% or less.
  • the CaO content is preferably 12% or less, 10% or less, 8% or less, 6% or less, 4% or less, 3.5% or less, 3% or less, particularly preferably 2.5% or less. It is.
  • the content of CaO is preferably 0.1% or more, 0.5% or more, 1% or more, and particularly preferably 2% or more.
  • the SrO content is preferably 20% or less, 15% or less, 13% or less, 12% or less, and particularly preferably 11% or less.
  • the content of SrO is preferably 0.1% or more, 1% or more, 3% or more, 5% or more, 7% or more, 8% or more, and particularly preferably 10% or more.
  • BaO is a component that enhances radiation shielding performance without extremely reducing the viscosity of glass among alkaline earth metal oxides.
  • the BaO content is preferably 50% or less, 45% or less, 40% or less, 35% or less, 32% or less, 30% or less, and particularly preferably 28% or less.
  • the content of BaO is preferably 0.1% or more, 1% or more, 5% or more, 10% or more, 12% or more, 15% or more, 17% or more, 20% or more, 23% or more, Particularly preferably, it is 25% or more.
  • Mass ratio (SrO + BaO + TiO 2 + ZrO 2) / (SiO 2 + Al 2 O 3 + B 2 O 3) is preferably 0.1 to 3.
  • the mass ratio (SrO + BaO + TiO 2 + ZrO 2 ) / (SiO 2 + Al 2 O 3 + B 2 O 3 ) decreases, it is difficult to improve the radiation shielding performance. Therefore, the mass ratio (SrO + BaO + TiO 2 + ZrO 2 ) / (SiO 2 + Al 2 O 3 + B 2 O 3 ) is preferably 0.1 or more, 0.3 or more, 0.4 or more, 0.5 or more, 0.6 These are 0.7 or more and 0.8 or more, and particularly preferably 0.9 or more.
  • the mass ratio (SrO + BaO + TiO 2 + ZrO 2 ) / (SiO 2 + Al 2 O 3 + B 2 O 3 ) is preferably 3 or less, 2 or less, 1.5 or less, 1.3 or less, 1.1 or less, Particularly preferably, it is 1 or less.
  • “SrO + BaO + TiO 2 + ZrO 2 ” is the total amount of SrO, BaO, TiO 2 and ZrO 2 . “(SrO + BaO + TiO 2 + ZrO 2 ) / (SiO 2 + Al 2 O 3 + B 2 O 3 )” indicates that the total amount of SrO, BaO, TiO 2 and ZrO 2 is the sum of SiO 2 , Al 2 O 3 and B 2 O 3 . Refers to the value divided by the quantity.
  • Li 2 O + Na 2 O + K 2 O is a component that lowers the viscosity of the glass and adjusts the coefficient of thermal expansion. However, when introduced in a large amount, the viscosity of the glass decreases too much, resulting in a high liquidus viscosity. It becomes difficult to secure. Therefore, the content of Li 2 O + Na 2 O + K 2 O is preferably 15% or less, 10% or less, 5% or less, 2% or less, 1% or less, and particularly preferably 0.5% or less. The content of each of Li 2 O, Na 2 O, and K 2 O is preferably 10% or less, 8% or less, 5% or less, 2% or less, 1% or less, and particularly preferably 0.5% or less. It is. It is desirable that each of Li 2 O, Na 2 O, and K 2 O is not substantially contained. “Li 2 O + Na 2 O + K 2 O” refers to the total amount of Li 2 O, Na 2 O and K 2 O.
  • As a fining agent 0 to 3% of one or more selected from the group of As 2 O 3 , Sb 2 O 3 , CeO 2 , SnO 2 , F, Cl, and SO 3 can be added.
  • As 2 O 3 and F, in particular As 2 O 3 are preferably not substantially contained from an environmental viewpoint.
  • Sb 2 O 3 , SnO 2 , SO 3 and Cl are preferable as the fining agent.
  • the content of Sb 2 O 3 is preferably 0 to 1%, 0.01 to 0.5%, particularly preferably 0.05 to 0.4%.
  • the content of SnO 2 is preferably 0 to 1%, 0.01 to 0.5%, particularly preferably 0.05 to 0.4%.
  • SnO 2 + SO 3 + Cl The content of SnO 2 + SO 3 + Cl is preferably 0 to 1%, 0.001 to 1%, 0.01 to 0.5%, and particularly preferably 0.01 to 0.3%. . “SnO 2 + SO 3 + Cl” refers to the total amount of SnO 2 , SO 3 and Cl.
  • Bi 2 O 3 + La 2 O 3 + Gd 2 O 3 + Nb 2 O 5 + Ta 2 O 5 + WO 3 is a component that increases radiation shielding performance, but is a component that increases batch cost. Therefore, the content of Bi 2 O 3 + La 2 O 3 + Gd 2 O 3 + Nb 2 O 5 + Ta 2 O 5 + WO 3 is preferably 9% or less, 6% or less, 3% or less, 2% or less, 1.5 %, 1% or less, less than 1%, particularly preferably 0.5% or less.
  • each of Bi 2 O 3, La 2 O 3, Gd 2 O 3, Nb 2 O 5, Ta 2 O 5, WO 3 is preferably 9% or less, 6% or less, 3% or less, It is 2% or less, 1.5%, 1% or less, less than 1%, particularly preferably 0.5% or less. It is desirable that each of Bi 2 O 3 , La 2 O 3 , Gd 2 O 3 , Nb 2 O 5 , Ta 2 O 5 , and WO 3 is not substantially contained.
  • the amount added is preferably 10%, 5% or less, particularly preferably 3% or less.
  • the radiation shielding glass of the present invention preferably has the following characteristics.
  • the X-ray transmittance in the thickness direction at a tube voltage of 50 kV is preferably 30% or less, 25% or less, 20% or less, and particularly preferably 10% or less.
  • the X-ray transmittance in the thickness direction at a tube voltage of 80 kV is preferably 50% or less, 35% or less, or 20% or less, and particularly preferably 10% or less.
  • the X-ray transmittance in the thickness direction at a tube voltage of 100 kV is preferably 60% or less, 40% or less, or 25% or less, and particularly preferably 10% or less.
  • the X-ray transmittance in the thickness direction at a tube voltage of 150 kV is preferably 80% or less, 60% or less, or 40% or less, and particularly preferably 20% or less. If the X-ray transmittance is too high, the radiation shielding performance is deteriorated, making it difficult to apply the radiation shielding window or the radiation shielding screen.
  • the density is preferably 3.0 g / cm 3 or more, 3.1 g / cm 3 or more, 3.2 g / cm 3 or more, and particularly preferably 3.3 g / cm 3 or more. If it does in this way, it will become easy to improve radiation shielding performance.
  • the “density” can be measured by a known Archimedes method.
  • the thermal expansion coefficient at 30 to 380 ° C. is preferably 30 ⁇ 10 ⁇ 7 / ° C. to 100 ⁇ 10 ⁇ 7 / ° C., 40 ⁇ 10 ⁇ 7 / ° C. to 90 ⁇ 10 ⁇ 7 / ° C., 60 ⁇ 10 ⁇ 7 / It is preferably from 85 ° C. to 85 ⁇ 10 ⁇ 7 / ° C., particularly preferably from 65 ⁇ 10 ⁇ 7 / ° C. to 80 ⁇ 10 ⁇ 7 / ° C. If it does in this way, it will become easy to match with the thermal expansion coefficient of various functional films, and it will become easy to prevent exfoliation etc. of various functional films.
  • the “coefficient of thermal expansion at 30 to 380 ° C.” can be measured with a dilatometer or the like.
  • the strain point is preferably 500 ° C. or higher, 550 ° C. or higher, 600 ° C. or higher, 620 ° C. or higher, and particularly preferably 640 ° C. or higher. If the strain point is too low, the glass tends to be thermally deformed.
  • the temperature at 10 4.0 dPa ⁇ s is preferably 1250 ° C. or lower, 1200 ° C. or lower, 1150 ° C. or lower, 1110 ° C. or lower, particularly preferably 1060 ° C. or lower.
  • the molding temperature can be lowered in molding by the float method or the like.
  • low-temperature operation becomes possible, and the refractory used in the molded part has a long life, and the manufacturing cost of the glass plate is likely to decrease.
  • the temperature at 10 2.5 dPa ⁇ s is preferably 1400 ° C. or lower, 1350 ° C. or lower, 1300 ° C. or lower, 1250 ° C. or lower, particularly preferably 1200 ° C. or lower. If it does in this way, since a meltability will improve, the glass excellent in foam quality will be easy to be obtained, and the manufacturing efficiency of glass will improve.
  • the temperature at 10 2.0 dPa ⁇ s is preferably 1200 ° C. or higher, 1220 ° C. or higher, 1240 ° C. or higher, 1250 ° C. or higher, particularly preferably 1260 ° C. or higher. In this way, since the molding temperature can be increased, devitrification during molding can be easily prevented.
  • the liquidus temperature is preferably 1200 ° C. or lower, 1150 ° C. or lower, 1130 ° C. or lower, 1100 ° C. or lower, 1050 ° C. or lower, 1030 ° C. or lower, particularly preferably 1000 ° C. or lower.
  • the liquid phase viscosity is preferably 10 3.0 dPa ⁇ s or more, 10 3.5 dPa ⁇ s or more, 10 4.0 dPa ⁇ s or more, 10 4.5 dPa ⁇ s or more, particularly preferably it is 10 4.6 dPa ⁇ s or more. If it does in this way, it will become difficult to devitrify glass at the time of shaping
  • the radiation shielding glass of the present invention is preferably a flat plate shape, that is, a glass plate. If it does in this way, it will become easy to apply to a radiation shielding window, a radiation shielding partition, etc.
  • the plate thickness is preferably 0.1 mm or more, 0.3 mm or more, 0.5 mm or more, 0.7 mm or more, 0.9 mm or more, 1.0 mm or more, 1.2 mm or more, 1.4 mm or more, particularly preferably Is 1.5 mm or more. The larger the plate thickness, the easier the glass shields radiation.
  • the radiation shielding glass of the present invention When the radiation shielding glass of the present invention is flat, at least one surface is preferably unpolished.
  • the theoretical strength of glass is inherently very high, but breakage often occurs even at a stress much lower than the theoretical strength. This is because a small defect called Griffith flow is generated on the surface in a post-molding process such as a polishing process. Therefore, if the surface is not polished, the original mechanical strength of the glass is hardly lost, and the glass plate is difficult to break. Further, if the surface is not polished, the polishing step can be omitted, and the manufacturing cost of the glass plate can be reduced.
  • the surface roughness Ra of at least one surface is preferably 10 mm or less, 5 mm or less, 3 mm or less, and particularly preferably 2 mm or less. If the surface roughness Ra is larger than 10 mm, the quality of the functional film formed on the surface tends to be lowered.
  • surface roughness Ra refers to a value measured by a method based on JIS B0601: 2001.
  • glass raw materials are prepared so as to have a desired glass composition, and a glass batch is prepared.
  • the glass batch is melted at 1000 to 1600 ° C. and clarified, and the obtained molten glass is formed into a flat plate shape having a predetermined plate thickness (for example, about 0.5 to 30 mm).
  • the radiation shielding glass of the present invention is preferably formed by a float method. In this way, a glass plate having a good surface quality can be manufactured at low cost and in large quantities. Further, it becomes easy to increase the size of the glass plate.
  • the radiation shielding glass of the present invention is preferably formed by a press method, a rollout method or an updraw method. If it does in this way, devitrification at the time of fabrication can be controlled.
  • the radiation shielding glass of the present invention is preferably formed by a casting method. If it does in this way, it will become easy to produce glass with large thickness.
  • the radiation shielding glass of the present invention is preferably formed by an overflow downdraw method. In this way, it is possible to manufacture a glass plate that is unpolished and has good surface quality at a low cost and in large quantities. Further, it becomes easy to increase the size and thickness of the glass plate.
  • processing annealing (slow cooling), cutting, polishing, etc.
  • processing annealing (slow cooling), cutting, polishing, etc.
  • the functional film include an antifogging film and an antireflection film.
  • a vapor deposition method such as a sputtering method, a CVD method, or a PVD method. According to these methods, the film thickness can be easily controlled.
  • the glass plate produced as described above may be laminated with a resin sheet or the like to form a laminated glass, for example.
  • Laminated glass can be produced, for example, by adhering a resin sheet between two glass plates.
  • a method for adhering the glass plate and the resin sheet for example, a method in which the resin sheet and the glass plate are thermocompression bonded, a liquid resin is applied to the glass plate and sandwiched, and then the liquid resin is applied by external stimulus such as heat or ultraviolet It is possible to employ a method of curing
  • the resin for example, polyvinyl butyral (PVB), ethylene-vinyl acetate, fluorine resin, or the like can be used.
  • PVB polyvinyl butyral
  • fluorine resin or the like
  • the thickness of a radiation shielding window or a radiation shielding partition can be enlarged easily.
  • the above-described method for manufacturing a laminated glass is an example, and the mode may be arbitrarily changed.
  • two or more glass plates may be alternately laminated with a resin sheet.
  • a resin sheet may be further laminated on the surface of the laminated glass. If the resin layer is formed on the outermost surface, the weather resistance of the laminated glass can be improved.
  • a method for producing a radiation shielding window After fixing glass of various shapes (for example, flat plate shape, block shape, laminated glass, etc.) to a metal frame, after fitting this metal frame into an opening provided in a concrete or iron wall, Fill with a joint preparation between the opening.
  • the glass fixed to a metal frame may be not only single but plural.
  • Table 1 shows an example of the present invention (sample A).
  • the obtained glass batch was supplied to a glass melting furnace and melted at 1400-1500 ° C. for 4 hours.
  • a predetermined annealing treatment was performed.
  • various characteristics of the obtained sample were evaluated.
  • the density ⁇ is a value measured by the well-known Archimedes method.
  • the thermal expansion coefficient ⁇ is a value obtained by measuring an average thermal expansion coefficient at 30 to 380 ° C. using a dilatometer.
  • a cylindrical sample having a diameter of 5 mm ⁇ 20 mm (the end surface is R-processed) was used.
  • the strain point Ps is a value measured based on the method described in ASTM C336-71. In addition, heat resistance becomes high, so that the strain point Ps is high.
  • the softening point Ta and the softening point Ts are values measured based on the method described in ASTM C338-93.
  • the temperatures at high temperature viscosities of 10 4.0 dPa ⁇ s, 10 3.0 dPa ⁇ s, 10 2.5 dPa ⁇ s, and 10 2.0 dPa ⁇ s are values measured by the platinum ball pulling method. In addition, it is excellent in meltability and moldability, so that these temperatures are low.
  • the liquid phase temperature TL passes through a standard sieve 30 mesh (500 ⁇ m), and the glass powder remaining in 50 mesh (300 ⁇ m) is placed in a platinum boat and held in a temperature gradient furnace for 24 hours to measure the temperature at which crystals precipitate. It is the value. Further, the liquid phase viscosity log ⁇ TL indicates a value obtained by measuring the viscosity of the glass at the liquid phase temperature by a platinum ball pulling method. The higher the liquidus viscosity and the lower the liquidus temperature, the better the devitrification resistance and moldability.
  • the obtained glass batch was put into a continuous kiln and melted at a temperature of 1300-1500 ° C. Then, the glass plate of the thickness of Table 2 was shape
  • surface roughness Ra is a value measured by a method based on JIS B0601: 2001.
  • Sample No. 4 is a laminated glass of a glass plate (plate thickness 1.070 mm) + resin layer (thickness 0.38 mm) + glass plate (plate thickness 1.648 mm).
  • Sample No. 5 is a glass plate (plate thickness 1.070 mm) + resin layer (thickness 0.38 mm) + glass plate (plate thickness 1.648 mm) + resin layer (thickness 0.38 mm) + glass plate (plate thickness 2.246 mm) Laminated glass.
  • the radiation shielding glass of the present invention can be used for, for example, a radiation shielding window or a radiation shielding screen, and in particular, can be used for an observation window in a radiation facility, an observation window of an analyzer that emits X-rays, and the like.

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Geochemistry & Mineralogy (AREA)
  • Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • General Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • High Energy & Nuclear Physics (AREA)
  • General Engineering & Computer Science (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Ceramic Engineering (AREA)
  • Glass Compositions (AREA)

Abstract

　放射線遮蔽ガラスであって、ガラス組成として、質量％換算で、ＳｉＯ２＋Ａｌ２Ｏ３＋Ｂ２Ｏ３　３０～８０％、Ｂ２Ｏ３＋ＺｎＯ　０．１～２０％、ＴｉＯ２＋ＺｒＯ２　３～２０％、ＰｂＯ　０～５％を含有する。

Description

放射線遮蔽ガラス及びそれを用いた合わせガラス
　本発明は、放射線遮蔽ガラス及びそれを用いた合わせガラスに関し、特に放射線遮蔽窓、放射線遮蔽衝立に好適な放射線遮蔽ガラス及びそれを用いた合わせガラスに関する。
　Ｘ線画像撮像装置等の放射線装置を取り扱う施設では、技師等が当該装置を操作する際、放射線被曝しないように、高い放射線遮蔽性能を有する特殊ガラスが用いられている。従来まで、このような特殊ガラスの主要成分として、放射鉛当量が高い鉛が使用されてきた。
　しかし、鉛は、環境負荷物質であるため、極力導入しないことが望まれている。
　このような事情に鑑み、近年、鉛を含まないガラス、所謂、無鉛ガラスが開発されるに至っている。例えば、特許文献１には、ＢａＯやＳｒＯを含むケイ酸塩ガラスが開示されている。特許文献２には、ビスマスを含むガラスが開示されている。特許文献３には、酸化ガドリニウム等の希土類金属酸化物を含むガラスが開示されている。
特開２００３－３１５４９０号公報 国際公開第２００７／０４３２８０号パンフレット 特開２００7－２９０８９９号公報
　ところが、従来の無鉛ガラスには、未だ改良の余地が残されていた。
　例えば、特許文献１に記載の無鉛ガラスは、上記の通り、ＢａＯとＳｒＯを含むものの、放射線遮蔽性能が十分に高いとは言えない。
　また、特許文献２に記載の無鉛ガラスは、Ｂｉ２Ｏ３とＳｉＯ２を各々１０モル％以上含むが、Ｂｉ２Ｏ３とＳｉＯ２の含有量が共に多くなると、分相や失透が生じて、ガラスの可視光透過性が低下し易くなる。また、ビスマスは、周期律表において鉛の隣に位置していることから分かるように、鉛の化学的特性と類似しており、このため人体や環境に対する負荷が懸念される。
　更に、特許文献３に記載の無鉛ガラスは、高価な希土類酸化物（Ｇｄ２Ｏ３等）を多量に含むため、原料コストが高騰するという問題がある。
　本発明は、ガラス組成中に鉛を多量に含まなくても、放射線遮蔽性能が高く、安価に作製可能な放射線遮蔽ガラスを提供することを技術的課題とする。
　本発明者等は、鋭意検討を行なった結果、ガラス組成を所定範囲に規制することにより、上記技術的課題を解決し得ることを見出し、本発明として提案するものである。すなわち、本発明の放射線遮蔽ガラスは、ガラス組成として、質量％換算で、ＳｉＯ２＋Ａｌ２Ｏ３＋Ｂ２Ｏ３　３０～８０％、Ｂ２Ｏ３＋ＺｎＯ　０．１～２０％、ＴｉＯ２＋ＺｒＯ２　３～２０％、ＰｂＯ　０～５％を含有することを特徴とする。ここで、「ＳｉＯ２＋Ａｌ２Ｏ３＋Ｂ２Ｏ３」は、ＳｉＯ２、Ａｌ２Ｏ３及びＢ２Ｏ３の合量である。「ＴｉＯ２＋ＺｒＯ２」は、ＺｒＯ２とＴｉＯ２の合量を指す。
　第二に、本発明の放射線遮蔽ガラスは、ＺｒＯ２を０．０１～１０質量％含むことが好ましい。このようにすれば、放射線遮蔽性能を高めつつ、液相温度付近の温度を高温化して、液相粘度を高めることができる。
　第三に、本発明の放射線遮蔽ガラスは、ＴｉＯ２を０．０１～１５質量％含むことが好ましい。このようにすれば、放射線遮蔽性能を高めることができる。
　第四に、本発明の放射線遮蔽ガラスは、実質的にＰｂＯを含有せず、且つＢｉ２Ｏ３＋Ｌａ２Ｏ３＋Ｇｄ２Ｏ３＋Ｎｂ２Ｏ５＋Ｔａ２Ｏ５＋ＷＯ３の含有量が９質量％以下であることが好ましい。このようにすれば、環境的要請に配慮しつつ、バッチコストを低減することができる。ここで、「実質的に～を含まない」とは、明示の成分の含有を可及的に避けるものの、不純物レベルの混入は許容する趣旨であり、具体的には、明示の成分の含有量が０．５質量％未満（好ましくは０．１％質量未満）の場合を指す。「Ｂｉ２Ｏ３＋Ｌａ２Ｏ３＋Ｇｄ２Ｏ３＋Ｎｂ２Ｏ５＋Ｔａ２Ｏ５＋ＷＯ３」は、Ｂｉ２Ｏ３、Ｌａ２Ｏ３、Ｇｄ２Ｏ３、Ｎｂ２Ｏ５、Ｔａ２Ｏ５及びＷＯ３の合量を指す。
　第五に、本発明の放射線遮蔽ガラスは、更に、Ｂ２Ｏ３を０．１～１５質量％含むことが好ましい。
　第六に、本発明の放射線遮蔽ガラスは、ＺｎＯを０．１～１５質量％含むことが好ましい。
　第七に、本発明の放射線遮蔽ガラスは、５０ｋＶの管電圧における厚み方向のＸ線透過率が３０％以下であることが好ましい。ここで、「５０ｋＶの管電圧における厚み方向のＸ線透過率」は、ＪＩＳ　Ｚ　４５０１に記載の方法に準拠して測定した値を指す。
　第八に、本発明の放射線遮蔽ガラスは、液相粘度が１０３．０ｄＰａ・ｓ以上であることが好ましい。ここで、「液相粘度」は、液相温度におけるガラスの粘度を白金球引き上げ法で測定した値を指す。「液相温度」は、標準篩３０メッシュ（５００μｍ）を通過し、５０メッシュ（３００μｍ）に残るガラス粉末を白金ボートに入れ、温度勾配炉中に２４時間保持した後、結晶の析出する温度を測定した値を指す。
　第九に、本発明の放射線遮蔽ガラスは、平板形状であることが好ましい。
　第十に、本発明の放射線遮蔽ガラスは、放射線遮蔽窓又は放射線遮蔽衝立に用いることが好ましい。
　第十一に、本発明の放射線遮蔽部材は、放射線遮蔽ガラス板と樹脂シートとを積層させてなる合わせガラスであって、放射線遮蔽ガラス板が、上記の放射線遮蔽ガラスであることが好ましい。
　第十二に、本発明の合わせガラスは、厚みが２．５ｍｍ以上であることが好ましい。
　本発明の放射線遮蔽ガラスは、ガラス組成として、質量％換算で、ＳｉＯ２＋Ａｌ２Ｏ３＋Ｂ２Ｏ３　３０～８０％、Ｂ２Ｏ３＋ＺｎＯ　０．１～２０％、ＴｉＯ２＋ＺｒＯ２　３～２０％、ＰｂＯ　０～５％を含有することを特徴とする。上記のように各成分の含有範囲を限定した理由を以下に説明する。なお、以下の含有範囲の説明において、％表示は、特に断りがある場合を除き、質量％を表す。
　ＳｉＯ２＋Ａｌ２Ｏ３＋Ｂ２Ｏ３の含有量は３０～８０％である。ＳｉＯ２＋Ａｌ２Ｏ３＋Ｂ２Ｏ３の含有量が少なくなると、ガラス網目構造を形成し難くなり、ガラス化が困難になる。またガラスの粘性が低下し過ぎて、高い液相粘度を確保し難くなる。よって、ＳｉＯ２＋Ａｌ２Ｏ３＋Ｂ２Ｏ３の含有量は、好ましくは３０％以上、３５％以上、３８％以上、４０％以上、４２％以上、４５％以上、４７％以上であり、特に好ましくは４９％以上である。一方、ＳｉＯ２＋Ａｌ２Ｏ３＋Ｂ２Ｏ３の含有量が多くなると、溶融性、成形性が低下し易くなり、また放射線遮蔽性能が低下し易くなる。よって、ＳｉＯ２＋Ａｌ２Ｏ３＋Ｂ２Ｏ３の含有量は、好ましくは８０％以下、７５％以下、７０％以下、６５％以下、６０％以下、５７％以下、５５％以下、５３％以下であり、特に好ましくは５２％以下である。
　ＳｉＯ２の含有量は３０～７０％が好ましい。ＳｉＯ２の含有量が少なくなると、ガラス網目構造を形成し難くなり、ガラス化が困難になる。またガラスの粘性が低下し過ぎて、高い液相粘度を確保し難くなる。よって、ＳｉＯ２の含有量は、好ましくは３０％以上、３３％以上、３５％以上、３７％以上、３８％以上、３９％以上であり、特に好ましくは４０％以上である。一方、ＳｉＯ２の含有量が多くなると、放射線遮蔽性能、溶融性、成形性が低下し易くなる。よって、ＳｉＯ２の含有量は、好ましくは７０％以下、６５％以下、６０％以下、５５％以下、５３％以下、５１％以下、５０％未満、４８％以下、４５％以下であり、特に好ましくは４３％以下である。
　Ａｌ２Ｏ３の含有量は０～２０％が好ましい。Ａｌ２Ｏ３の含有量が多くなると、ガラスに失透結晶が析出し易くなって、液相粘度が低下し易くなり、また放射線遮蔽性能が低下し易くなる。よって、Ａｌ２Ｏ３の含有量は、好ましくは２０％以下、１５％以下、１０％以下、８％以下であり、特に好ましくは６％以下である。なお、Ａｌ２Ｏ３の含有量が少なくなると、ガラス組成のバランスを欠いて、逆にガラスが失透し易くなる。よって、Ａｌ２Ｏ３の含有量は、好ましくは０．１％以上、０．５％以上、１％以上、３％以上、４％以上であり、特に好ましくは５％以上である。
　Ｂ２Ｏ３の含有量は０～１５％が好ましい。Ｂ２Ｏ３の含有量が多くなると、放射線遮蔽性能、ヤング率が低下し易くなる。よって、Ｂ２Ｏ３の含有量は、好ましくは１５％以下、１２％以下、１０％以下、８％以下であり、特に好ましくは６％以下である。なお、Ｂ２Ｏ３の含有量が少なくなると、液相温度が低下し易くなる。よって、Ｂ２Ｏ３の含有量は、好ましくは０．１％以上、１％以上、２％以上、３％以上、４％以上であり、特に好ましくは５％以上である。
　質量比ＳｉＯ２／（Ａｌ２Ｏ３＋Ｂ２Ｏ３）は、放射線遮蔽性能と耐失透性を両立させるため、好ましくは２．５～４．６、２．８～４．５、３～４．４、３．２～４．３、３．３～４．２、３．４～４．１であり、特に好ましくは３．５～４である。なお、「ＳｉＯ２／（Ａｌ２Ｏ３＋Ｂ２Ｏ３）」は、ＳｉＯ２の含有量をＡｌ２Ｏ３とＢ２Ｏ３の合量で除した値を指す。
　Ｂ２Ｏ３＋ＺｎＯの含有量は、高い液相粘度を確保する観点から、０．１～２０％であり、好ましくは０．５～１８％、１～１５％、２～１２％、３～１０％、３．５～９％であり、特に好ましくは４～８％である。
　ＺｎＯの含有量が多くなると、密度、熱膨張係数が高くなったり、ガラス組成の成分バランスを欠いて、耐失透性が低下したり、高温粘性が低下し過ぎて、高い液相粘度を確保し難くなる。よって、ＺｎＯの含有量は、好ましくは１５％以下、１０％以下、６％以下、４％以下、２％以下、１％以下、０．５％以下であり、特に好ましくは０．１％以下である。但し、ＺｎＯの含有量が少なくなると、高い液相粘度を確保し難くなる。よって、耐失透性の向上を優先させる場合、ＺｎＯの含有量は、好ましくは０．１％以上、０．５％以上、１％以上、１％超、１．５％以上、２％以上、２．５％以上であり、特に好ましくは３％以上である。
　質量比ＺｎＯ／Ｂ２Ｏ３は、放射線遮蔽性能と耐失透性の両立させるため、好ましくは０．１～１．２、０．２～１．２、０．３～１．１、０．４～１、０．４～０．９であり、特に好ましくは０．５～０．８である。なお、「ＺｎＯ／Ｂ２Ｏ３」は、ＺｎＯの含有量をＢ２Ｏ３の含有量で除した値を指す。
　ＴｉＯ２＋ＺｒＯ２は、バッチコストを高騰させずに、放射線遮蔽性能を効果的に高める成分である。しかし、ＴｉＯ２＋ＺｒＯ２の含有量が多くなると、耐失透性が低下し易くなる。よって、ＴｉＯ２＋ＺｒＯ２の含有量は、好ましくは３～２０％、４～１４％、５～１１％、５．５～１０％、６～９％であり、特に好ましくは６．５～８％である。なお、Ｚｒ含有失透ブツの発生を抑制したい場合、ＴｉＯ２＋ＺｒＯ２の含有量は、好ましくは７．５％以下、７％以下、６．５％以下であり、特に好ましくは６％以下である。
　ＴｉＯ２は、バッチコストを高騰させずに、放射線遮蔽性能を効果的に高める成分である。しかし、ＴｉＯ２の含有量が多くなると、ガラスが着色したり、耐失透性が低下し易くなる。よって、ＴｉＯ２の含有量は、好ましくは０．０１～１５％、０．１～１５％、１～１２％、２～１０％、３～９％、３．５～８％であり、特に好ましくは４～７％である。なお、ＴｉＯ２の含有量が多くなると、Ｚｒ含有失透ブツの発生を助長し易くなる。よって、Ｚｒ含有失透ブツの発生を抑制したい場合、ＴｉＯ２の含有量は、好ましくは６％以下、５．５％以下、５％以下、４．５％以下であり、特に好ましくは４％以下である。
　質量比Ｂ２Ｏ３／ＴｉＯ２は、放射線遮蔽性能と耐失透性の両立させるため、好ましくは０．０１～１０、０．１～５、０．２～４、０．３～３、０．４～２であり、特に好ましくは０．５～１．５である。
　ＺｒＯ２は、バッチコストを高騰させずに、放射線遮蔽性能を効果的に高める成分である。但し、ＺｒＯ２の含有量が多くなると、液相温度が低下し易くなる。よって、ＺｒＯ２の含有量は、好ましくは０～１０％、０．０１～１０％、０．１～８％、０．５～７％、１～６．５％、２～６％であり、特に好ましくは２．５～５％である。なお、Ｚｒ含有失透ブツの発生を抑制したい場合、ＺｒＯ２の含有量は、好ましくは５％以下、４％以下、３．５％以下、３％以下であり、特に好ましくは２．５％以下である。
　ＰｂＯは、放射線遮蔽性能を高める成分であるが、環境的観点から、その含有量は、好ましくは５％以下、特に好ましくは１％以下である。ＰｂＯは、実質的に含有しないことが望ましい。
　上記成分以外にも、例えば、以下の成分を添加してもよい。
　ＭｇＯ＋ＣａＯ＋ＳｒＯ＋ＢａＯ＋ＺｎＯの含有量は、好ましくは２５～６０％、３０～５５％、３２～５０％、３４～４９％、３６～４７％であり、特に好ましくは３８～４５％である。このようにすれば、高放射線遮蔽性能、耐失透性、溶融性、低密度、低熱膨張係数を高いレベルで達成することができる。なお、「ＭｇＯ＋ＣａＯ＋ＳｒＯ＋ＢａＯ＋ＺｎＯ」は、ＭｇＯ、ＣａＯ、ＳｒＯ、ＢａＯ及びＺｎＯの合量である。
　質量比（ＭｇＯ＋ＣａＯ＋ＳｒＯ＋ＢａＯ＋ＺｎＯ）／ＣａＯが小さくなると、密度、熱膨張係数が高くなり易く、その含有量が小さくなると、ガラス組成のバランスを欠いて、耐失透性が低下し易くなる。よって、質量比（ＭｇＯ＋ＣａＯ＋ＳｒＯ＋ＢａＯ＋ＺｎＯ）／ＣａＯは、好ましくは２以上、３以上、４以上、５以上、６以上であり、特に好ましくは７以上である。一方、質量比（ＭｇＯ＋ＣａＯ＋ＳｒＯ＋ＢａＯ＋ＺｎＯ）／ＣａＯが大きくなると、放射線遮蔽性能、溶融性、ヤング率が低下し易くなる。よって、質量比（ＭｇＯ＋ＣａＯ＋ＳｒＯ＋ＢａＯ＋ＺｎＯ）／ＣａＯは、好ましくは１０以下、９．５以下、９以下、８．５以下、８以下であり、特に好ましくは７．５以下である。なお、「（ＭｇＯ＋ＣａＯ＋ＳｒＯ＋ＢａＯ＋ＺｎＯ）／ＣａＯ」は、ＭｇＯ、ＣａＯ、ＳｒＯ、ＢａＯ及びＺｎＯの合量をＣａＯの含有量で除した値を指す。
　ＭｇＯ＋ＣａＯの含有量は０～１２％が好ましい。ＭｇＯ＋ＣａＯの含有量が１２％を超えると、ガラス組成のバランスを欠いて、耐失透性が低下し易くなる。よって、ＭｇＯ＋ＣａＯの含有量は、好ましくは１０％以下、７％以下、６％以下、４．６％以下、４％以下であり、特に好ましくは３．５％以下である。なお、ＭｇＯ＋ＣａＯの含有量が少なくなると、溶融性が低下し易くなる。よって、ＭｇＯ＋ＣａＯの含有量は、好ましくは０．１％以上、０．５％以上、１％以上、２％以上であり、特に好ましくは３％以上である。なお、「ＭｇＯ＋ＣａＯ」は、ＭｇＯとＣａＯの合量である。
　ＭｇＯは、ヤング率を高める成分であると共に、高温粘度を低下させる成分であるが、ＭｇＯを多量に含有させると、放射線遮蔽性能が低下し易くなり、液相温度が上昇して、耐失透性が低下し易くなったり、密度、熱膨張係数が高くなり易い。よって、ＭｇＯの含有量は、好ましくは１０％以下、５％以下、３％以下、２％以下であり、特に好ましくは１％以下である。
　ＣａＯの含有量が多くなると、密度、熱膨張係数が高くなり易く、その含有量が過剰になると、ガラス組成のバランスを欠いて、耐失透性が低下し易くなる。よって、ＣａＯの含有量は、好ましくは１２％以下、１０％以下、８％以下、６％以下、４％以下、３．５％以下、３％以下であり、特に好ましくは２．５％以下である。なお、ＣａＯの含有量が少なくなると、放射線遮蔽性能、溶融性、ヤング率が低下し易くなる。よって、ＣａＯの含有量は、好ましくは０．１％以上、０．５％以上、１％以上であり、特に好ましくは２％以上である。
　ＳｒＯの含有量が多くなると、放射線遮蔽性能が高くなるが、密度、熱膨張係数も高くなり易い。また、ＳｒＯの含有量が過剰になると、ガラス組成のバランスを欠いて、耐失透性が低下し易くなる。よって、ＳｒＯの含有量は、好ましくは２０％以下、１５％以下、１３％以下、１２％以下であり、特に好ましくは１１％以下である。なお、ＳｒＯの含有量が少なくなると、放射線遮蔽性能、溶融性が低下し易くなる。よって、ＳｒＯの含有量は、好ましくは０．１％以上、１％以上、３％以上、５％以上、７％以上、８％以上であり、特に好ましくは１０％以上である。
　ＢａＯは、アルカリ土類金属酸化物の中ではガラスの粘性を極端に低下させずに、放射線遮蔽性能を高める成分である。しかし、ＢａＯの含有量が多くなると、放射線遮蔽性能、密度、熱膨張係数が高くなり易く、液相粘度が低くなり易い。また、ＢａＯの含有量が多過ぎると、ガラス組成のバランスを欠いて、耐失透性が低下し易くなる。よって、ＢａＯの含有量は、好ましくは５０％以下、４５％以下、４０％以下、３５％以下、３２％以下、３０％以下であり、特に好ましくは２８％以下である。但し、ＢａＯの含有量が少なくなると、所望の放射線遮蔽性能を得難くなる上、高い液相粘度を確保し難くなる。よって、ＢａＯの含有量は、好ましくは０．１％以上、１％以上、５％以上、１０％以上、１２％以上、１５％以上、１７％以上、２０％以上、２３％以上であり、特に好ましくは２５％以上である。
　質量比（ＳｒＯ＋ＢａＯ＋ＴｉＯ２＋ＺｒＯ２）／（ＳｉＯ２＋Ａｌ２Ｏ３＋Ｂ２Ｏ３）は０．１～３が好ましい。質量比（ＳｒＯ+ＢａＯ＋ＴｉＯ２＋ＺｒＯ２）／（ＳｉＯ２＋Ａｌ２Ｏ３＋Ｂ２Ｏ３）が小さくなると、放射線遮蔽性能を高め難くなる。よって、質量比（ＳｒＯ＋ＢａＯ＋ＴｉＯ２＋ＺｒＯ２）／（ＳｉＯ２＋Ａｌ２Ｏ３＋Ｂ２Ｏ３）は、好ましくは０．１以上、０．３以上、０．４以上、０．５以上、０．６以上、０．７以上、０．８以上であり、特に好ましくは０．９以上である。一方、質量比（ＳｒＯ＋ＢａＯ＋ＴｉＯ２＋ＺｒＯ２）／（ＳｉＯ２＋Ａｌ２Ｏ３＋Ｂ２Ｏ３）が大きくなると、ガラス化が困難になると共に、ガラスの粘性が極端に低下して、高い液相粘度を確保し難くなる。よって、質量比（ＳｒＯ＋ＢａＯ＋ＴｉＯ２＋ＺｒＯ２）／（ＳｉＯ２＋Ａｌ２Ｏ３＋Ｂ２Ｏ３）は、好ましくは３以下、２以下、１．５以下、１．３以下、１．１以下であり、特に好ましくは１以下である。なお、「ＳｒＯ＋ＢａＯ＋ＴｉＯ２＋ＺｒＯ２」は、ＳｒＯ、ＢａＯ、ＴｉＯ２及びＺｒＯ２の合量である。「（ＳｒＯ＋ＢａＯ＋ＴｉＯ２＋ＺｒＯ２）／（ＳｉＯ２＋Ａｌ２Ｏ３＋Ｂ２Ｏ３）」は、ＳｒＯ、ＢａＯ、ＴｉＯ２及びＺｒＯ２の合量をＳｉＯ２、Ａｌ２Ｏ３及びＢ２Ｏ３の合量で除した値を指す。
　Ｌｉ２Ｏ＋Ｎａ２Ｏ＋Ｋ２Ｏは、ガラスの粘性を低下させる成分であり、また熱膨張係数を調整する成分であるが、多量に導入すると、ガラスの粘性が低下し過ぎて、高い液相粘度を確保し難くなる。よって、Ｌｉ２Ｏ＋Ｎａ２Ｏ＋Ｋ２Ｏの含有量は、好ましくは１５％以下、１０％以下、５％以下、２％以下、１％以下であり、特に好ましくは０．５％以下である。Ｌｉ２Ｏ、Ｎａ２Ｏ、Ｋ２Ｏのそれぞれの含有量は、好ましくは１０％以下、８％以下、５％以下、２％以下、１％以下であり、特に好ましくは０．５％以下である。Ｌｉ２Ｏ、Ｎａ２Ｏ、Ｋ２Ｏのそれぞれは、実質的に含有しないことが望ましい。なお、「Ｌｉ２Ｏ＋Ｎａ２Ｏ＋Ｋ２Ｏ」は、Ｌｉ２Ｏ、Ｎａ２Ｏ及びＫ２Ｏの合量を指す。
　清澄剤として、Ａｓ２Ｏ３、Ｓｂ２Ｏ３、ＣｅＯ２、ＳｎＯ２、Ｆ、Ｃｌ、ＳＯ３の群から選択された一種又は二種以上を０～３％添加することができる。但し、Ａｓ２Ｏ３及びＦ、特にＡｓ２Ｏ３は、環境的観点から、実質的に含有しないことが好ましい。特に、清澄剤として、Ｓｂ２Ｏ３、ＳｎＯ２、ＳＯ３及びＣｌが好ましい。Ｓｂ２Ｏ３の含有量は、好ましくは０～１％、０．０１～０．５％であり、特に好ましくは０．０５～０．４％である。ＳｎＯ２の含有量は、好ましくは０～１％、０．０１～０．５％であり、特に好ましくは０．０５～０．４％である。また、ＳｎＯ２＋ＳＯ３＋Ｃｌの含有量は、好ましくは０～１％、０．００１～１％、０．０１～０．５％であり、特に好ましくは０．０１～０．３％である。なお、「ＳｎＯ２＋ＳＯ３＋Ｃｌ」は、ＳｎＯ２、ＳＯ３及びＣｌの合量を指す。
　Ｂｉ２Ｏ３＋Ｌａ２Ｏ３＋Ｇｄ２Ｏ３＋Ｎｂ２Ｏ５＋Ｔａ２Ｏ５＋ＷＯ３は、放射線遮蔽性能を高める成分であるが、バッチコストを高める成分である。よって、Ｂｉ２Ｏ３＋Ｌａ２Ｏ３＋Ｇｄ２Ｏ３＋Ｎｂ２Ｏ５＋Ｔａ２Ｏ５＋ＷＯ３の含有量は、好ましくは９％以下、６％以下、３％以下、２％以下、１．５％、１％以下、１％未満であり、特に好ましくは０．５％以下である。なお、Ｂｉ２Ｏ３、Ｌａ２Ｏ３、Ｇｄ２Ｏ３、Ｎｂ２Ｏ５、Ｔａ２Ｏ５、ＷＯ３のそれぞれの含有量は、好ましくは９％以下、６％以下、３％以下、２％以下、１．５％、１％以下、１％未満であり、特に好ましくは０．５％以下である。Ｂｉ２Ｏ３、Ｌａ２Ｏ３、Ｇｄ２Ｏ３、Ｎｂ２Ｏ５、Ｔａ２Ｏ５、ＷＯ３のそれぞれは、実質的に含有しないことが望ましい。
　上記成分以外にも、他の成分を添加することができる。その添加量は、好ましくは１０％、５％以下であり、特に好ましくは３％以下である。
　本発明の放射線遮蔽ガラスは、以下の特性を有することが好ましい。
　５０ｋＶの管電圧における厚み方向のＸ線透過率は、好ましくは３０％以下、２５％以下、２０％以下であり、特に好ましくは１０％以下である。８０ｋＶの管電圧における厚み方向のＸ線透過率は、好ましくは５０％以下、３５％以下、２０％以下であり、特に好ましくは１０％以下である。１００ｋＶの管電圧における厚み方向のＸ線透過率は、好ましくは６０％以下、４０％以下、２５％以下であり、特に好ましくは１０％以下である。１５０ｋＶの管電圧における厚み方向のＸ線透過率は、好ましくは８０％以下、６０％以下、４０％以下であり、特に好ましくは２０％以下である。Ｘ線の透過率が高過ぎると、照射線遮蔽性能が低下して、放射線遮蔽窓又は放射線遮蔽衝立に適用し難くなる。
　密度は、好ましくは３．０ｇ／ｃｍ３以上、３．１ｇ／ｃｍ３以上、３．２ｇ／ｃｍ３以上であり、特に好ましくは３．３ｇ／ｃｍ３以上である。このようにすれば、放射線遮蔽性能を高め易くなる。なお、「密度」は、周知のアルキメデス法で測定可能である。
　３０～３８０℃における熱膨張係数は、好ましくは３０×１０－７／℃～１００×１０－７／℃、４０×１０－７／℃～９０×１０－７／℃、６０×１０－７／℃～８５×１０－７／℃であり、特に好ましくは６５×１０－７／℃～８０×１０－７／℃である。このようにすれば、各種機能膜の熱膨張係数に整合し易くなり、各種機能膜の剥離等を防止し易くなる。なお、「３０～３８０℃における熱膨張係数」は、ディラトメーター等で測定可能である。
　歪点は、好ましくは５００℃以上、５５０℃以上、６００℃以上、６２０℃以上であり、特に好ましくは６４０℃以上である。歪点が低過ぎると、ガラスが熱変形し易くなる。
　本発明の放射線遮蔽ガラスにおいて、１０４．０ｄＰａ・ｓにおける温度は、好ましくは１２５０℃以下、１２００℃以下、１１５０℃以下、１１１０℃以下であり、特に好ましくは１０６０℃以下である。このようにすれば、フロート法等による成形において、成形温度を低下させることが可能になる。結果として、低温操業が可能になり、成形部に使用されている耐火物が長寿命化して、ガラス板の製造コストが低下し易くなる。
　本発明の放射線遮蔽ガラスにおいて、１０２．５ｄＰａ・ｓにおける温度は、好ましくは１４００℃以下、１３５０℃以下、１３００℃以下、１２５０℃以下であり、特に好ましくは１２００℃以下である。このようにすれば、溶融性が向上するため、泡品位に優れたガラスが得られ易く、ガラスの製造効率が向上する。
　１０２．０ｄＰａ・ｓにおける温度は、好ましくは１２００℃以上、１２２０℃以上、１２４０℃以上、１２５０℃以上であり、特に好ましくは１２６０℃以上である。このようにすれば、成形温度を高温化し得るため、成形時の失透を防止し易くなる。
　液相温度は、好ましくは１２００℃以下、１１５０℃以下、１１３０℃以下、１１００℃以下、１０５０℃以下、１０３０℃以下であり、特に好ましくは１０００℃以下である。また、液相粘度は、好ましくは１０３．０ｄＰａ・ｓ以上、１０３．５ｄＰａ・ｓ以上、１０４．０ｄＰａ・ｓ以上、１０４．５ｄＰａ・ｓ以上であり、特に好ましくは１０４．６ｄＰａ・ｓ以上である。このようにすれば、成形時にガラスが失透し難くなり、フロート法等でガラス板を成形し易くなる。
　本発明の放射線遮蔽ガラスは、平板形状、つまりガラス板であることが好ましい。このようにすれば、放射線遮蔽窓や放射線遮蔽衝立等に適用し易くなる。板厚は、好ましくは０．１ｍｍ以上、０．３ｍｍ以上、０．５ｍｍ以上、０．７ｍｍ以上、０．９ｍｍ以上、１．０ｍｍ以上、１．２ｍｍ以上、１．４ｍｍ以上であり、特に好ましくは１．５ｍｍ以上である。板厚が大きい程、ガラスが放射線を遮蔽し易くなる。
　本発明の放射線遮蔽ガラスは、平板形状の場合、少なくとも一方の表面が未研磨であることが好ましい。ガラスの理論強度は、本来非常に高いのであるが、理論強度よりも遥かに低い応力でも破壊に至ることが多い。これは、表面にグリフィスフローと呼ばれる小さな欠陥が成形後の工程、例えば研磨工程等で生じるからである。よって、表面を未研磨とすれば、ガラス本来の機械的強度を損ない難くなるため、ガラス板が破壊し難くなる。また、表面を未研磨とすれば、研磨工程を省略できるため、ガラス板の製造コストを低廉化することができる。
　本発明の放射線遮蔽ガラスにおいて、少なくとも一方の表面（但し、有効面）の表面粗さＲａは、好ましくは１０Å以下、５Å以下、３Å以下であり、特に好ましくは２Å以下である。表面粗さＲａが１０Åより大きいと、その表面に形成される機能膜の品位が低下し易くなる。ここで、「表面粗さＲａ」は、ＪＩＳ　Ｂ０６０１：２００１に準拠した方法で測定した値を指す。
　次に、本発明の放射線遮蔽ガラスの製造方法を例示すると、まず所望のガラス組成になるように、ガラス原料を調合して、ガラスバッチを作製する。次いで、このガラスバッチを１０００～１６００℃で溶融した上で、清澄した後、得られた溶融ガラスを所定の板厚（例えば０．５～３０ｍｍ程度）の平板形状に成形する。
　本発明の放射線遮蔽ガラスは、フロート法で成形されてなることが好ましい。このようにすれば、表面品位が良好なガラス板を安価、且つ大量に製造することができる。また、ガラス板の大型化を図り易くなる。
　本発明の放射線遮蔽ガラスは、プレス法、ロールアウト法又はアップドロー法で成形されてなることも好ましい。このようにすれば、成形時の失透を抑制することができる。
　本発明の放射線遮蔽ガラスは、キャスト法で成形されてなることも好ましい。このようにすれば、厚みが大きいガラスを作製し易くなる。
　本発明の放射線遮蔽ガラスは、オーバーフローダウンドロー法で成形されてなることも好ましい。このようにすれば、未研磨で表面品位が良好なガラス板を安価、且つ大量に製造することができる。また、ガラス板の大型化、薄板化を図り易くなる。
　その後、必要に応じて、アニール（徐冷）、切断、研磨等の加工処理を施し、表面に機能性膜を形成する。なお、機能性膜として、防曇性膜、反射防止膜等を例示できる。機能性膜の形成には、スパッタ法、ＣＶＤ法、ＰＶＤ法等の蒸着法を用いることが好ましい。これらの方法によれば、膜厚の制御を容易に行うことができる。
　上記のようにして作製されたガラス板は、例えば、樹脂シート等と積層して、合わせガラスとしてもよい。合わせガラスは、例えば、二枚のガラス板で樹脂シートを挟み込むようにして貼着することで作製することができる。ガラス板と樹脂シートを貼着する方法として、例えば、樹脂シートとガラス板とを熱圧着する方法、液状樹脂をガラス板に塗布して挟み込んだ後に、熱や紫外線等の外部刺激によって当該液状樹脂を硬化させる方法等を採用することができる。樹脂として、例えば、ポリビニルブチラール（ＰＶＢ）、エチレン－酢酸ビニル、フッ素樹脂等を用いることができる。なお、合わせガラスとすれば、放射線遮蔽窓や放射線遮蔽衝立の厚みを容易に大きくすることができる。
　なお、上記の合わせガラスの作製方法は一例であり、その態様は任意に変更してもよい。例えば、二枚以上のガラス板を樹脂シートと交互に積層してもよい。また、合わせガラスの表面に更に樹脂シートを積層してもよい。最表面に樹脂層を形成すれば、合わせガラスの耐候性を高めることができる。
　次に、放射線遮蔽窓の作製方法を例示する。各種形状（例えば、平板形状、ブロック状、合わせガラス等）のガラスを金枠に固定した上で、この金枠をコンクリートや鉄の壁に設けられた開口部に嵌め込んだ後、金枠と開口部との間に目地剤等を充填する。なお、金枠に固定するガラスは、単数だけでなく、複数でもよい。
　以下、実施例に基づいて、本発明を詳細に説明する。なお、以下の実施例は単なる例示である。本発明は、以下の実施例に何ら限定されない。
　表１は、本発明の実施例（試料Ａ）を示している。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000001
　まず、表１に記載のガラス組成になるように、ガラス原料を調合した後、得られたガラスバッチをガラス溶融炉に供給して１４００～１５００℃で４時間溶融した。次に、得られた溶融ガラスをカーボン板の上に流し出して平板形状に成形した後、所定のアニール処理を行った。最後に、得られた試料（試料Ａ）について、種々の特性を評価した。
　密度ρは、周知のアルキメデス法によって測定した値である。
　熱膨張係数αは、ディラトメーターを用いて、３０～３８０℃における平均熱膨張係数を測定した値である。測定試料として、φ５ｍｍ×２０ｍｍの円柱状試料（端面はＲ加工されている）を用いた。
　歪点Ｐｓは、ＡＳＴＭ　Ｃ３３６－７１に記載の方法に基づいて測定した値である。なお、歪点Ｐｓが高い程、耐熱性が高くなる。
　軟化点Ｔａ、軟化点Ｔｓは　ＡＳＴＭ　Ｃ３３８－９３に記載の方法に基づいて測定した値である。
　高温粘度１０４．０ｄＰａ・ｓ、１０３．０ｄＰａ・ｓ、１０２．５ｄＰａ・ｓ及び１０２．０ｄＰａ・ｓにおける温度は、白金球引き上げ法で測定した値である。なお、これらの温度が低い程、溶融性、成形性に優れる。
　液相温度ＴＬは、標準篩３０メッシュ（５００μｍ）を通過し、５０メッシュ（３００μｍ）に残るガラス粉末を白金ボートに入れ、温度勾配炉中に２４時間保持して、結晶の析出する温度を測定した値である。また、液相粘度ｌｏｇηＴＬは、液相温度におけるガラスの粘度を白金球引き上げ法で測定した値を指す。なお、液相粘度が高く、液相温度が低い程、耐失透性、成形性に優れる。
　表１に記載の材質について、ガラス原料を調合した後、得られたガラスバッチを連続窯に投入し、１３００～１５００℃の温度で溶融した。続いて、得られた溶融ガラスに対して、オーバーフローダウンドロー法により、表２に記載の板厚のガラス板を成形した。得られたガラス板に対して、表面粗さＲａを測定したところ、その値は、何れも２Åであった。なお、表面粗さＲａは、ＪＩＳ　Ｂ０６０１：２００１に準拠した方法で測定した値である。
　更に、上記のガラス板を複数用意し、ガラス板とガラス板の間にＰＶＢフィルムを介装した後、熱圧着することにより合わせガラスを得た。なお、試料Ｎｏ．４は、ガラス板（板厚１．０７０ｍｍ）＋樹脂層（厚み０．３８ｍｍ）＋ガラス板（板厚１．６４８ｍｍ）の合わせガラスである。試料Ｎｏ．５は、ガラス板（板厚１．０７０ｍｍ）＋樹脂層（厚み０．３８ｍｍ）＋ガラス板（板厚１．６４８ｍｍ）＋樹脂層（厚み０．３８ｍｍ）＋ガラス板（板厚２．２４６ｍｍ）の合わせガラスである。
　表２の試料Ｎｏ．１～５について、ＪＩＳ　Ｚ　４５０１に記載の方法に準拠して、管電圧５０ｋＶ、８０ｋＶ，１００ｋＶ、１５０ｋＶにおける厚み方向のＸ線透過率を測定した。その結果を表２に示す。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000002
　表２から明らかなように、試料Ｎｏ．１～５は、放射線遮蔽性能が高かった。
　［実施例２］では、［実施例１］に記載のガラスＡを用いて、放射線遮蔽性能を評価したが、表３～１３に記載のガラス（試料Ｎｏ．６～１１４）でも良好な放射線遮蔽性能を有すると考えられる。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000003
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000004
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000005
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000006
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000007
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000008
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000009
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000010
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000011
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000012
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000013
　本発明の放射線遮蔽ガラスは、例えば、放射線遮蔽窓又は放射線遮蔽衝立に利用可能であり、特に放射線施設における観察窓、Ｘ線を発する分析機器の観察窓等に利用可能である。

Claims (12)

  1. 　ガラス組成として、質量％換算で、ＳｉＯ２＋Ａｌ２Ｏ３＋Ｂ２Ｏ３　３０～８０％、Ｂ２Ｏ３＋ＺｎＯ　０．１～２０％、ＴｉＯ２＋ＺｒＯ２　３～２０％、ＰｂＯ　０～５％を含有することを特徴とする放射線遮蔽ガラス。
  2. 　ＺｒＯ２を０．０１～１０質量％含むことを特徴とする請求項１に記載の放射線遮蔽ガラス。
  3. 　ＴｉＯ２を０．０１～１５質量％含むことを特徴とする請求項１又は２に記載の放射線遮蔽ガラス。
  4. 　実質的にＰｂＯを含有せず、且つＢｉ２Ｏ３＋Ｌａ２Ｏ３＋Ｇｄ２Ｏ３＋Ｎｂ２Ｏ５＋Ｔａ２Ｏ５＋ＷＯ３の含有量が９質量％以下であることを特徴とする請求項１～３の何れかに記載の放射線遮蔽ガラス。
  5. 　更に、Ｂ２Ｏ３を０．１～１５質量％含むことを特徴とする請求項１～４の何れかに記載の放射線遮蔽ガラス。
  6. 　ＺｎＯを０．１～１５質量％含むことを特徴とする請求項１～５の何れかに記載の放射線遮蔽ガラス。
  7. 　５０ｋＶの管電圧における厚み方向のＸ線透過率が３０％以下であることを特徴とする請求項１～６の何れか一項に記載の放射線遮蔽ガラス。
  8. 　液相粘度が１０３．０ｄＰａ・ｓ以上であることを特徴とする請求項１～７の何れか一項に記載の放射線遮蔽ガラス。
  9. 　平板形状であることを特徴とする請求項１～８の何れか一項に記載の放射線遮蔽ガラス。
  10. 　放射線遮蔽窓又は放射線遮蔽衝立に用いることを特徴とする請求項１～９の何れか一項に記載の放射線遮蔽ガラス。
  11. 　放射線遮蔽ガラス板と樹脂シートとを積層させてなる合わせガラスであって、
    　放射線遮蔽ガラス板が、請求項１～１０の何れか一項に記載の放射線遮蔽ガラスであることを特徴とする合わせガラス。
  12. 　厚みが２．５ｍｍ以上であることを特徴とする請求項１１に記載の合わせガラス。
PCT/JP2015/067907 2014-06-23 2015-06-22 放射線遮蔽ガラス及びそれを用いた合わせガラス Ceased WO2015199035A1 (ja)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2014-127917 2014-06-23
JP2014127917A JP2016008146A (ja) 2014-06-23 2014-06-23 放射線遮蔽ガラス及びそれを用いた合わせガラス

Publications (1)

Publication Number Publication Date
WO2015199035A1 true WO2015199035A1 (ja) 2015-12-30

Family

ID=54938117

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
PCT/JP2015/067907 Ceased WO2015199035A1 (ja) 2014-06-23 2015-06-22 放射線遮蔽ガラス及びそれを用いた合わせガラス

Country Status (2)

Country Link
JP (1) JP2016008146A (ja)
WO (1) WO2015199035A1 (ja)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN111403069A (zh) * 2018-12-13 2020-07-10 苏州嘉乐威企业发展有限公司 一种辐射防护组合物、辐射防护材料和辐射防护制品

Families Citing this family (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE102017200413A1 (de) * 2016-02-02 2017-08-03 Schott Ag Röntgen- und Gamma-Strahlen abschirmendes Glas

Citations (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS56134535A (en) * 1980-02-19 1981-10-21 Corning Glass Works Lead-free x ray absorption glass
JPS58120537A (ja) * 1982-01-14 1983-07-18 Asahi Glass Co Ltd 陰極線管パネルガラス
JPS60151248A (ja) * 1984-01-18 1985-08-09 Nippon Sheet Glass Co Ltd Ｘ線吸収ガラス
JPS62288134A (ja) * 1986-06-06 1987-12-15 Nippon Electric Glass Co Ltd 陰極線管パネルガラス
JPS63215533A (ja) * 1987-02-27 1988-09-08 Nippon Electric Glass Co Ltd 陰極線管パネルガラス
JP2002343274A (ja) * 2001-05-15 2002-11-29 Asahi Glass Co Ltd カラー陰極線管用ガラスパネルおよび陰極線管
JP2005067902A (ja) * 2003-08-21 2005-03-17 Nippon Electric Glass Co Ltd 投写管用陰極線管パネル
JP2011162435A (ja) * 2010-02-12 2011-08-25 Schott Ag バリウム−フリー及び鉛−フリーのｘ線不透過性ガラス及びその使用
JP2012254920A (ja) * 2011-05-18 2012-12-27 Nippon Electric Glass Co Ltd ガラス

Patent Citations (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS56134535A (en) * 1980-02-19 1981-10-21 Corning Glass Works Lead-free x ray absorption glass
JPS58120537A (ja) * 1982-01-14 1983-07-18 Asahi Glass Co Ltd 陰極線管パネルガラス
JPS60151248A (ja) * 1984-01-18 1985-08-09 Nippon Sheet Glass Co Ltd Ｘ線吸収ガラス
JPS62288134A (ja) * 1986-06-06 1987-12-15 Nippon Electric Glass Co Ltd 陰極線管パネルガラス
JPS63215533A (ja) * 1987-02-27 1988-09-08 Nippon Electric Glass Co Ltd 陰極線管パネルガラス
JP2002343274A (ja) * 2001-05-15 2002-11-29 Asahi Glass Co Ltd カラー陰極線管用ガラスパネルおよび陰極線管
JP2005067902A (ja) * 2003-08-21 2005-03-17 Nippon Electric Glass Co Ltd 投写管用陰極線管パネル
JP2011162435A (ja) * 2010-02-12 2011-08-25 Schott Ag バリウム−フリー及び鉛−フリーのｘ線不透過性ガラス及びその使用
JP2012254920A (ja) * 2011-05-18 2012-12-27 Nippon Electric Glass Co Ltd ガラス

Cited By (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN111403069A (zh) * 2018-12-13 2020-07-10 苏州嘉乐威企业发展有限公司 一种辐射防护组合物、辐射防护材料和辐射防护制品
CN111403066A (zh) * 2018-12-13 2020-07-10 苏州嘉乐威企业发展有限公司 一种辐射防护组合物、辐射防护材料和辐射防护制品
CN111403060A (zh) * 2018-12-13 2020-07-10 苏州嘉乐威企业发展有限公司 一种辐射防护组合物、辐射防护材料和辐射防护制品
CN111403067A (zh) * 2018-12-13 2020-07-10 苏州嘉乐威企业发展有限公司 一种辐射防护组合物、辐射防护材料和辐射防护制品
CN111403068A (zh) * 2018-12-13 2020-07-10 苏州嘉乐威企业发展有限公司 一种辐射防护组合物、辐射防护材料和辐射防护制品
CN111403062A (zh) * 2018-12-13 2020-07-10 苏州嘉乐威企业发展有限公司 一种辐射防护组合物、辐射防护材料和辐射防护制品
CN111403064A (zh) * 2018-12-13 2020-07-10 苏州嘉乐威企业发展有限公司 一种辐射防护组合物、辐射防护材料和辐射防护制品

Also Published As

Publication number Publication date
JP2016008146A (ja) 2016-01-18

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CN102015566B (zh) 强化玻璃及其制造方法
JP5850401B2 (ja) 強化ガラス板
JP5557168B2 (ja) 強化ガラス基板の製造方法及び強化ガラス基板
CN102099308B (zh) 强化玻璃及玻璃
JP5875133B2 (ja) 強化ガラス基板
JP5605736B2 (ja) 強化ガラス及びその製造方法
CN101679105B (zh) 强化玻璃基板及其制造方法
JP5589252B2 (ja) 強化ガラス基板
CN104114511B (zh) 强化玻璃基板的制造方法及强化玻璃基板
JP2012254920A (ja) ガラス
WO2007138986A1 (ja) 強化ガラス及びその製造方法
CN104058589B (zh) 高度折射的薄玻璃
JP2015164893A (ja) 中間的な熱膨張係数を有するガラス
JP7486446B2 (ja) ガラス
CN102143922B (zh) 玻璃
CN103492331A (zh) 高折射率玻璃
JP2025156434A (ja) ガラスおよび化学強化ガラス
JP2025105785A (ja) 宇宙太陽光発電用ガラス基板
JPWO2019131528A1 (ja) カバーガラス
JPWO2013047246A1 (ja) ＣｄＴｅ太陽電池用ガラス基板およびそれを用いた太陽電池
JP7389400B2 (ja) 無アルカリガラス板
JP4790300B2 (ja) ガラス
JP5413817B2 (ja) 強化ガラス基板及びガラス並びに強化ガラス基板の製造方法
WO2015199035A1 (ja) 放射線遮蔽ガラス及びそれを用いた合わせガラス
WO2014208522A1 (ja) 無アルカリガラス

Legal Events

Date Code Title Description
121 Ep: the epo has been informed by wipo that ep was designated in this application

Ref document number: 15811932

Country of ref document: EP

Kind code of ref document: A1

NENP Non-entry into the national phase

Ref country code: DE

122 Ep: pct application non-entry in european phase

Ref document number: 15811932

Country of ref document: EP

Kind code of ref document: A1