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WO2015198905A1 - 弾性波装置 - Google Patents

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WO2015198905A1
WO2015198905A1 PCT/JP2015/067197 JP2015067197W WO2015198905A1 WO 2015198905 A1 WO2015198905 A1 WO 2015198905A1 JP 2015067197 W JP2015067197 W JP 2015067197W WO 2015198905 A1 WO2015198905 A1 WO 2015198905A1
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idt electrode
wave device
metal
film
laminated
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PCT/JP2015/067197
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中川 亮
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Murata Manufacturing Co Ltd
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Murata Manufacturing Co Ltd
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    • HELECTRICITY
    • H03ELECTRONIC CIRCUITRY
    • H03HIMPEDANCE NETWORKS, e.g. RESONANT CIRCUITS; RESONATORS
    • H03H9/00Networks comprising electromechanical or electro-acoustic elements; Electromechanical resonators
    • H03H9/02Details
    • H03H9/125Driving means, e.g. electrodes, coils
    • H03H9/145Driving means, e.g. electrodes, coils for networks using surface acoustic waves

Definitions

  • the present invention relates to an acoustic wave device in which an IDT electrode is formed on a piezoelectric substrate.
  • Patent Document 1 discloses an acoustic wave device including a piezoelectric substrate and an IDT electrode provided on the piezoelectric substrate.
  • the IDT electrode is formed of an Al film.
  • Patent Document 2 discloses an acoustic wave device in which an IDT electrode including a Ti underlayer and an Al alloy film laminated on the Ti underlayer is provided on a piezoelectric substrate. According to Patent Document 2, the thickness of the Ti underlayer is a ratio of 25% to 60% with respect to the thickness of the IDT electrode.
  • the IDT electrode is composed of a light electrode material such as Al as in the elastic wave device of Patent Document 1, the linearity of the signal may be lowered.
  • the Q value may be deteriorated.
  • An object of the present invention is to provide an elastic wave device in which the linearity of a signal is high and the Q value is hardly deteriorated.
  • the present inventors have a piezoelectric substrate and an IDT electrode formed on the piezoelectric substrate, and the IDT electrode includes a metal heavier than Al and Al or an alloy containing Al. It is an elastic wave device formed by a metal film, and finds that the above-mentioned problem can be achieved by limiting the ratio of the metal film thickness heavier than the Al to the film thickness of the entire laminated metal film to a specific range, The present invention has been accomplished.
  • the acoustic wave device includes a piezoelectric substrate and an IDT electrode formed on the piezoelectric substrate, and the IDT electrode is laminated on a metal heavier than Al and a metal heavier than Al.
  • Al or an alloy containing Al is formed by a laminated metal film laminated in this order, and the ratio of the film thickness of the metal heavier than Al to the film thickness of the entire laminated metal film is 42% or more and 48% or less. It is.
  • the elastic wave device according to the present invention preferably further includes a dielectric film provided so as to cover the IDT electrode.
  • the metal heavier than Al is Ti.
  • the alloy containing Al is an alloy of Al and Cu.
  • the IDT electrode is formed of a laminated metal film containing a metal heavier than Al and Al or an alloy containing Al, and the film thickness of the entire laminated metal film is as follows.
  • the ratio of the film thickness of the metal heavier than Al is limited to a specific range.
  • FIG. 1A is a schematic front sectional view of an acoustic wave device according to an embodiment of the present invention
  • FIG. 1B is a schematic plan view showing the electrode structure
  • FIG. ) Is a schematic front sectional view in which an electrode portion is enlarged.
  • FIG. 2A and FIG. 2B are diagrams for explaining the behavior of the IDT electrode when affected by the moment of inertia caused by the elastic wave.
  • FIG. 3 is a diagram schematically showing the displacement of a certain position in the IDT electrode when affected by the moment of inertia.
  • FIGS. 4A and 4B are diagrams showing the results of reflection characteristics in an acoustic wave device having IDT electrodes of samples A to E obtained in the experimental example.
  • FIG. 5 is a diagram showing the measurement result of the nonlinear signal of the third harmonic in the acoustic wave device having the IDT electrodes of samples A to E obtained in the experimental example.
  • FIG. 6 is a diagram showing the measurement results of the third-order IMD nonlinear signal in the acoustic wave device having the IDT electrodes of Samples A to E obtained in the experimental example.
  • FIG. 1A is a schematic front sectional view of an acoustic wave device according to an embodiment of the present invention
  • FIG. 1B is a schematic plan view showing the electrode structure
  • FIG. ) Is a schematic front sectional view in which an electrode portion is enlarged.
  • the acoustic wave device 1 has a piezoelectric substrate 2. On the piezoelectric substrate 2, a dielectric film 3 and an IDT electrode 4 are laminated. The dielectric film 3 is formed so as to cover the IDT electrode 4.
  • a substrate made of a piezoelectric single crystal such as LiTaO 3 or LiNbO 3 can be used as the piezoelectric substrate 2.
  • a substrate made of piezoelectric ceramics may be used as the piezoelectric substrate 2.
  • the material constituting the dielectric film 3 is not particularly limited.
  • an appropriate material such as silicon oxide, silicon nitride, silicon oxynitride, aluminum nitride, tantalum oxide, titanium oxide, or alumina is used.
  • the electrode structure shown in FIG. 1B is formed on the piezoelectric substrate 2. That is, the IDT electrode 4 and reflectors 5 and 6 disposed on both sides of the IDT electrode 4 in the surface acoustic wave propagation direction are formed. Thus, a 1-port surface acoustic wave resonator is configured.
  • the electrode structure including the IDT electrode in the present invention is not particularly limited.
  • a filter may be configured by combining a plurality of resonators. Examples of such a filter include a ladder type filter, a longitudinally coupled resonator type filter, and a lattice type filter.
  • the IDT electrode 4 has first and second bus bars 4A and 4B and a plurality of first and second electrode fingers 4C and 4D.
  • the plurality of first and second electrode fingers 4C and 4D extend in a direction orthogonal to the elastic wave propagation direction.
  • the plurality of first electrode fingers 4C and the plurality of second electrode fingers 4D are interleaved with each other.
  • the plurality of first electrode fingers 4C are connected to the first bus bar 4A, and the plurality of second electrode fingers 4D are connected to the second bus bar 4B.
  • the electromechanical coupling coefficient of the elastic wave excited by the IDT electrode 4 can be adjusted by adjusting the thickness and composition of the dielectric film 3.
  • the dielectric film 3 may not be provided.
  • the IDT electrode 4 As a material constituting the IDT electrode 4, a metal heavier than Al and Al or an alloy containing Al are used.
  • the IDT electrode 4 is formed by laminating a metal heavier than Al and Al or an alloy containing Al laminated on the metal heavier than Al in this order.
  • the IDT electrode 4 includes a first metal film 4a formed of a metal heavier than Al, Al or A second metal film 4b formed of an alloy containing Al is formed by a laminated metal film 4c laminated in this order.
  • the IDT electrode 4 is made of Ti and an alloy made of Al and Cu laminated on the Ti.
  • the first metal film 4a is made of Ti
  • the second metal film 4b is made of an alloy made of Al and Cu.
  • the material constituting the first metal film 4a is not particularly limited as long as it is a metal heavier than Al, and besides Ti, for example, Pt, Au, Ag, Mo, W, Ni NiCr or the like can be used.
  • Ti for example, Pt, Au, Ag, Mo, W, Ni NiCr or the like.
  • the material constituting the second metal film 4b is not particularly limited as long as it is Al or an alloy containing Al.
  • the alloy containing Al an alloy made of Al and Cu, an alloy made of Al, Cu and Si, an alloy made of Al and Mg, and the like are used. When such an alloy is used, the power durability can be further improved.
  • the IDT electrode 4 is formed by laminating a metal heavier than Al and Al or an alloy containing Al laminated on the metal heavier than Al in this order. Thereby, the linearity of the signal of the elastic wave apparatus 1 is improved.
  • FIGS. 2A and 2B are diagrams for explaining the behavior of the IDT electrode 4 when affected by the moment of inertia caused by the elastic wave. More specifically, FIG. 2A shows a state where the IDT electrode 4 is not affected by the moment of inertia, and FIG. 2B shows a state where the IDT electrode 4 is affected by the moment of inertia. FIG. As shown in FIG. 2B, when the IDT electrode 4 is formed of a soft electrode material such as Al, it is affected by the moment of inertia in the direction opposite to the propagation direction of the elastic wave.
  • a soft electrode material such as Al
  • FIG. 3 is a diagram schematically showing the displacement of a certain position in the IDT electrode when affected by the moment of inertia.
  • an ideal displacement is indicated by a solid line
  • a displacement when influenced by the moment of inertia is indicated by a one-dot chain line. From FIG. 3, it can be seen that the signal linearity decreases when it is affected by the moment of inertia.
  • the IDT electrode 4 when the IDT electrode 4 vibrates due to the influence of elastic wave propagation, the IDT electrode 4 is affected by the moment of inertia. This moment of inertia is considered to be a factor that inhibits periodic vibration of the IDT electrode 4 and to generate a nonlinear signal, particularly when the IDT electrode 4 is a soft electrode material such as Al.
  • the influence of the moment of inertia increases as the position of the center of gravity P of the IDT electrode 4 becomes farther from the boundary surface 2a with the piezoelectric substrate 2 serving as a fulcrum.
  • the influence of the moment of inertia can be reduced. Thereby, the fall of the linearity of a signal can be suppressed.
  • the IDT electrode 4 is formed by laminating a metal heavier than Al and Al or an alloy containing Al laminated on the metal heavier than Al in this order. Thereby, the position of the center of gravity P of the IDT electrode 4 is brought close to the boundary surface 2a with the piezoelectric substrate 2, and as a result, a decrease in signal linearity of the acoustic wave device 1 is suppressed.
  • the ratio of the thickness of the first metal film 4a to the total thickness of the laminated metal film 4c is 42% or more and 48% or less. That is, the ratio of the film thickness of the metal heavier than Al to the total film thickness of the laminated metal film 4c is 42% or more and 48% or less. In terms of mass ratio, the ratio of the mass of the metal heavier than Al to the mass of the entire IDT electrode 4 is 55% or more and 61% or less.
  • the ratio of the thickness of the metal heavier than Al to the thickness of the entire laminated metal film is in the range of 42% or more and 48% or less.
  • an acoustic wave device having an IDT electrode in which a metal film made of Ti and an alloy metal film made of Al and Cu was laminated on a metal film made of Ti with the film thickness shown in Table 1 below. More specifically, an IDT electrode of Samples A to E shown in Table 1 below and a dielectric film made of a SiO 2 film are provided on the substrate so as to cover the IDT electrode. An elastic wave device was produced. In Table 1, the ratio of the Ti film thickness represents the ratio of the Ti film thickness to the entire IDT electrode film thickness.
  • FIGS. 4 (a) and 4 (b) show the reflection characteristics of the obtained acoustic wave devices having the IDT electrodes of Samples A to E.
  • the results are shown in FIGS. 4 (a) and 4 (b).
  • FIG. 4A shows the results of IDT electrodes of samples A to D
  • FIG. 4B shows the results of samples A and E.
  • the comparison result of the IDT electrode is shown.
  • FIG. 5 is a diagram showing the measurement results of the nonlinear signal of the third harmonic in the elastic wave device having the IDT electrodes of samples A to E.
  • FIG. 5 shows that the level of the nonlinear signal decreases as the film thickness of the alloy of Al and Cu decreases. That is, it can be seen that the level of the nonlinear signal decreases as the film thickness of Ti increases.
  • the sample E has an improved signal linearity of about 10 dBm with respect to the sample A. In Samples C to E, almost the same waveform is obtained, so that it can be seen that the effect of improving linearity is saturated when the thickness of Ti is increased to some extent. This also shows that the signal linearity can be improved when the ratio of the Ti film thickness to the film thickness of the entire IDT electrode is 42% or more.
  • FIG. 6 is a diagram showing the measurement results of the third-order IMD nonlinear signal in the acoustic wave device having the IDT electrodes of samples A to E.
  • the level of the nonlinear signal decreases as the film thickness of the alloy of Al and Cu decreases.
  • the linearity of the signal of sample E is improved by about 15 dBm with respect to sample A.
  • almost the same waveform is obtained in samples C to E. Therefore, when the ratio of the Ti film thickness to the film thickness of the entire IDT electrode is 42% or more, the signal linearity It can be seen that the property can be improved.

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Abstract

 信号の線形性が高く、Q値が劣化し難い、弾性波装置を提供する。 圧電基板2と、前記圧電基板2上に形成されたIDT電極4とを備え、前記IDT電極4が、Alより重い金属と、該Alより重い金属上に積層されたAl又はAlを含む合金とがこの順に積層された積層金属膜4cにより形成されており、前記積層金属膜4c全体の膜厚に対する前記Alより重い金属の膜厚の割合が、42%以上、48%以下である。

Description

弾性波装置
 本発明は、圧電基板上にIDT電極が形成されている弾性波装置に関する。
 従来、共振子や帯域フィルタとして弾性波装置が広く用いられている。
 例えば、下記特許文献1には、圧電基板と、該圧電基板上に設けられたIDT電極とを備える、弾性波装置が開示されている。特許文献1では、上記IDT電極はAl膜により形成されている。
 また、下記特許文献2には、圧電基板上に、Ti下地膜と、該Ti下地膜上に積層されたAl合金膜とを含むIDT電極が設けられた、弾性波装置が開示されている。特許文献2では、Ti下地膜の膜厚は、IDT電極の厚みに対して、25%~60%の比率であるとされている。
特開平2-295212号公報 特開2002-368568号公報
 特許文献1の弾性波装置のように、Alのような軽い電極材料により、IDT電極が構成される場合、信号の線形性が低下することがあった。
 また、特許文献2の弾性波装置のように、Al合金膜の下地膜として、Ti膜を形成した場合には、Q値が劣化することがあった。
 本発明の目的は、信号の線形性が高く、Q値が劣化し難い、弾性波装置を提供することにある。
 本願発明者らは、鋭意検討した結果、圧電基板と、上記圧電基板上に形成されたIDT電極とを備え、上記IDT電極が、Alより重い金属と、Al又はAlを含む合金とを含む積層金属膜により形成される弾性波装置であって、上記積層金属膜全体の膜厚に対する前記Alより重い金属の膜厚の割合を特定の範囲に限定することで、上記課題を達成できることを見出し、本発明を成すに至った。
 すなわち、本発明に係る弾性波装置は、圧電基板と、上記圧電基板上に形成されたIDT電極とを備え、上記IDT電極が、Alより重い金属と、該Alより重い金属上に積層されたAl又はAlを含む合金とがこの順に積層された積層金属膜により形成されており、上記積層金属膜全体の膜厚に対する上記Alより重い金属の膜厚の割合が、42%以上、48%以下である。
 本発明に係る弾性波装置は、好ましくは、上記IDT電極を被覆するように設けられた誘電体膜をさらに備える。
 本発明に係る弾性波装置は、好ましくは、上記Alより重い金属がTiである。
 本発明に係る弾性波装置は、好ましくは、上記Alを含む合金が、AlとCuとの合金である。
 本発明に係る弾性波装置では、上記のように、IDT電極が、Alより重い金属と、Al又はAlを含む合金とを含む積層金属膜により形成されており、上記積層金属膜全体の膜厚に対するAlより重い金属の膜厚の割合が特定の範囲に限定されている。
 従って、本発明によれば、信号の線形性が高く、かつQ値が劣化し難い、弾性波装置を提供することが可能となる。
図1(a)は、本発明の一実施形態に係る弾性波装置の模式的正面断面図であり、図1(b)は、その電極構造を示す模式的平面図であり、図1(c)は、電極部を拡大した模式的正面断面図である。 図2(a)及び図2(b)は、弾性波に起因する慣性モーメントの影響を受けた場合のIDT電極の挙動を説明するための図である。 図3は、慣性モーメントの影響を受けた場合のIDT電極内のある位置の変位を模式的に示す図である。 図4(a)及び図4(b)は、実験例で得られたサンプルA~EのIDT電極を有する弾性波装置における、反射特性の結果を示す図である。 図5は、実験例で得られたサンプルA~EのIDT電極を有する弾性波装置における、3次高調波の非線形信号の測定結果を示す図である。 図6は、実験例で得られたサンプルA~EのIDT電極を有する弾性波装置における、3次IMDの非線形信号の測定結果を示す図である。
 以下、図面を参照しつつ、本発明の具体的な実施形態を説明することにより、本発明を明らかにする。
 図1(a)は、本発明の一実施形態に係る弾性波装置の模式的正面断面図であり、図1(b)は、その電極構造を示す模式的平面図であり、図1(c)は、電極部を拡大した模式的正面断面図である。
 弾性波装置1は、圧電基板2を有する。圧電基板2上には、誘電体膜3及びIDT電極4が積層されている。誘電体膜3は、IDT電極4を被覆するように形成されている。
 圧電基板2としては、LiTaOやLiNbOなどの圧電単結晶からなる基板を用いることができる。また、圧電基板2として圧電セラミックスからなる基板を用いてもよい。
 誘電体膜3を構成する材料としては、特に限定されない。上記誘電体材料としては、酸化ケイ素、窒化ケイ素、酸窒化ケイ素、窒化アルミニウム、酸化タンタル、酸化チタン又はアルミナなどの適宜の材料が用いられる。
 図1(a)では略図的に示しているが、圧電基板2上には、図1(b)に示す電極構造が形成されている。すなわち、IDT電極4と、IDT電極4の弾性表面波伝搬方向両側に配置された反射器5,6が形成されている。それによって、1ポート型弾性表面波共振子が構成されている。もっとも、本発明におけるIDT電極を含む電極構造は特に限定されない。複数の共振子を組み合わせて、フィルタが構成されていてもよい。このようなフィルタとしては、ラダー型フィルタ、縦結合共振子型フィルタ、ラチス型フィルタ等が挙げられる。
 IDT電極4は、第1,第2のバスバー4A,4Bと、複数本の第1,第2の電極指4C,4Dとを有する。複数本の第1,第2の電極指4C,4Dは、弾性波伝搬方向と直交する方向に延びている。複数本の第1の電極指4Cと、複数本の第2の電極指4Dとは、互いに間挿し合っている。また、複数本の第1の電極指4Cは、第1のバスバー4Aに接続されており、複数本の第2の電極指4Dは、第2のバスバー4Bに接続されている。
 また、本発明においては、誘電体膜3の厚みや組成を調整することにより、IDT電極4で励振される弾性波の電気機械結合係数を調整することができる。もっとも、本発明において、誘電体膜3は設けなくともよい。
 IDT電極4を構成する材料としては、Alより重い金属と、Al又はAlを含む合金とが用いられる。IDT電極4は、Alより重い金属と、該Alより重い金属上に積層されたAl又はAlを含む合金とが、この順に積層されることにより形成されている。
 より具体的には、図1(c)に電極部を拡大した模式的正面断面図で示すように、IDT電極4は、Alより重い金属により形成される第1の金属膜4aと、Al又はAlを含む合金により形成される第2の金属膜4bとがこの順に積層された積層金属膜4cにより形成されている。
 本実施形態においては、IDT電極4は、Tiと、Ti上に積層されたAl及びCuからなる合金により形成されている。すなわち、本実施形態においては、第1の金属膜4aが、Tiにより形成されており、第2の金属膜4bが、Al及びCuからなる合金により形成されている。
 本実施形態のように、第1の金属膜4aを構成する材料としては、Alより重い金属であれば特に限定されず、Tiの他にも例えば、Pt、Au、Ag、Mo、W、Ni、NiCrなどを用いることができる。第1の金属膜4aを構成する材料として、このような材料を用いた場合、後述する信号の線形性をより一層高めることができる。
 また、第2の金属膜4bを構成する材料としては、Al又はAlを含む合金であれば、特に限定さない。Alを含む合金としては、AlとCuとからなる合金、AlとCuとSiとからなる合金、AlとMgとからなる合金などが用いられる。このような合金を用いた場合、より一層耐電力性を高めることができる。
 上述したように、IDT電極4は、Alより重い金属と、該Alより重い金属上に積層されたAl又はAlを含む合金とが、この順に積層されることにより形成されている。これにより、弾性波装置1の信号の線形性が高められている。
 これを、図2及び図3を参照して、より詳細に説明する。
 図2(a)及び図2(b)は、弾性波に起因する慣性モーメントの影響を受けた際のIDT電極4の挙動を説明するための図である。より詳細には、図2(a)は、IDT電極4が、慣性モーメントの影響を受けていない状態を示す図であり、図2(b)は、IDT電極4が、慣性モーメントの影響を受けている状態を示す図である。図2(b)に示すように、IDT電極4が、例えば、Alのように柔らかい電極材料により形成される場合、弾性波の伝播方向と逆方向に慣性モーメントの影響を受ける。
 図3は、慣性モーメントの影響を受けた場合のIDT電極内のある位置の変位を模式的に示す図である。図3においては、実線で理想的な変位を示しており、一点鎖線で慣性モーメントの影響を受けた場合の変位を示している。図3より、慣性モーメントの影響を受けた場合、信号の線形性が低下していることがわかる。
 このように、IDT電極4が弾性波伝搬の影響を受けて振動する場合、IDT電極4は慣性モーメントによる影響を受ける。この慣性モーメントは、特に、IDT電極4が、Alのように柔らかい電極材料の場合には、IDT電極4の周期的な振動の阻害要因となり、非線形信号が発生する原因になるものと考えられる。
 また、慣性モーメントによる影響は、IDT電極4の重心Pの位置が、支点となる圧電基板2との境界面2aから離れているほど大きい。言い換えれば、IDT電極4の重心Pの位置を、圧電基板2との境界面2aに近づけることができれば、慣性モーメントによる影響を低減することができる。これにより、信号の線形性の低下を抑制することができる。
 本実施形態においては、IDT電極4が、Alより重い金属と、該Alより重い金属上に積層されたAl又はAlを含む合金とが、この順に積層されることにより形成されている。これにより、IDT電極4の重心Pの位置が、圧電基板2との境界面2aに近づけられ、その結果、弾性波装置1の信号の線形性の低下が抑制されている。
 また、本実施形態において、積層金属膜4cの全体の膜厚に対する第1の金属膜4aの膜厚の割合は、42%以上、48%以下である。すなわち、積層金属膜4c全体の膜厚に対するAlより重い金属の膜厚の割合は、42%以上、48%以下である。なお、質量比で表すと、IDT電極4全体の質量に対するAlより重い金属の質量の割合が、55%以上、61%以下である。
 Alより重い金属の膜厚が薄すぎると、線形性が低下する。他方、Alより重い金属の膜厚が厚すぎるとQ値が劣化する。従って、本発明においては、積層金属膜全体の膜厚に対する上記Alより重い金属の膜厚の割合が、42%以上、48%以下の範囲内にある。
 次に、具体的な実験例につき説明する。
 まず、下記の表1に示す膜厚で、Tiからなる金属膜上に、AlとCuからなる合金の金属膜が積層されているIDT電極を有する弾性波装置を作製した。より詳細には、基板上に下記の表1に示すサンプルA~EのIDT電極と、該IDT電極を被覆するように設けられており、かつSiO膜からなる誘電体膜とが設けられている弾性波装置を作製した。なお、表1において、Tiの膜厚の割合は、IDT電極全体の膜厚に対するTiの膜厚の占める割合を示している。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000001
 次に、得られたサンプルA~EのIDT電極を有する弾性波装置について、反射特性を測定した。結果を、図4(a)及び図4(b)に示す。より詳細には、結果をより明確に示すために、図4(a)には、サンプルA~DのIDT電極の結果を示しており、図4(b)には、サンプルAとサンプルEのIDT電極の比較結果を示している。
 図4(a)及び図4(b)に示すように、サンプルEのIDT電極を用いた場合、サンプルA~DのIDT電極を用いた場合と比較して、共振点のQ値が劣化していることがわかる。サンプルEのように、IDT電極におけるAlとCuの合金の膜厚の割合が小さい場合、電極指抵抗が大きくなるためであると考えられる。また、IDT電極全体の膜厚に対するTiの膜厚の占める割合が、48%以下である場合、Q値の劣化が抑制されることが確認できた。
 次に、得られたサンプルA~Eの信号の線形性について測定を行った。図5は、サンプルA~EのIDT電極を有する弾性波装置における、3次高調波の非線形信号の測定結果を示す図である。
 図5より、AlとCuの合金の膜厚が小さくなるに従い、非線形信号のレベルが小さくなっていることがわかる。すなわち、Tiの膜厚が大きくなるに従い、非線形信号のレベルが小さくなっていることがわかる。特に、サンプルEは、サンプルAに対して10dBm程度、信号の線形性が改善されている。また、サンプルC~Eでは、ほぼ同様の波形が得られることから、Tiの膜厚がある程度大きくなると、線形性改善の効果が飽和することがわかる。また、このことから、IDT電極全体の膜厚に対するTiの膜厚の占める割合が、42%以上である場合、信号の線形性を改善し得ることがわかる。
 また、図6は、サンプルA~EのIDT電極を有する弾性波装置における、3次IMDの非線形信号の測定結果を示す図である。図6より、3次IMDにおいても、AlとCuの合金の膜厚が小さくなるに従い、非線形信号のレベルが小さくなっていることがわかる。また、3次IMDにおいては、サンプルEはサンプルAに対して、15dBm程度、信号の線形性が改善していることがわかる。さらに、3次IMDにおいても、サンプルC~Eでは、ほぼ同様の波形が得られることから、IDT電極全体の膜厚に対するTiの膜厚の占める割合が、42%以上である場合、信号の線形性を改善し得ることがわかる。
 図4~図6の結果から、サンプルC及びサンプルDのIDT電極を用いた場合、Q値を劣化させることなく、3次高調波及び3次IMDの信号の線形性を改善し得ることが確認できた。すなわち、IDT電極におけるTiの膜厚の割合を、42%以上、48%以下とすることで、Q値を劣化させることなく、3次高調波及び3次IMDの信号の線形性が高められることが確認できた。
1…弾性波装置
2…圧電基板
2a…境界面
3…誘電体膜
4…IDT電極
4a,4b…第1,第2の金属膜
4c…積層金属膜
4A,4B…第1,第2のバスバー
4C,4D…第1,第2の電極指
5,6…反射器
P…重心

Claims (4)

  1.  圧電基板と、
     前記圧電基板上に形成されたIDT電極とを備え、
     前記IDT電極が、Alより重い金属と、該Alより重い金属上に積層されたAl又はAlを含む合金とがこの順に積層された積層金属膜により形成されており、
     前記積層金属膜全体の膜厚に対する前記Alより重い金属の膜厚の割合が、42%以上、48%以下である、弾性波装置。
  2.  前記IDT電極を被覆するように設けられた誘電体膜をさらに備える、請求項1に記載の弾性波装置。
  3.  前記Alより重い金属がTiである、請求項1又は2に記載の弾性波装置。
  4.  前記Alを含む合金が、AlとCuとの合金である、請求項1~3のいずれか1項に記載の弾性波装置。
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