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WO2015197299A1 - Carbonfasern mit modifizierter oberfläche sowie verfahren zur modifizierung einer carbonfaseroberfläche und verwendung der carbonfaser - Google Patents

Carbonfasern mit modifizierter oberfläche sowie verfahren zur modifizierung einer carbonfaseroberfläche und verwendung der carbonfaser Download PDF

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WO2015197299A1
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plasma
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Siemens AG
Siemens Corp
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    • D06M2101/40—Fibres of carbon

Definitions

  • the invention relates to carbon fibers, in particular those used for carbon fiber composite plastics (CFKs).
  • CFRKs carbon fiber composite plastics
  • the surface of the carbon fibers in particular plays a decisive role, because the connection of the carbon fiber to the matrix and thus the stability of the fiber-reinforced material is decisively influenced by the molecular conditions of the carbon fiber surface.
  • Carbon fiber to the matrix resin is still too weak even after treatment with sizing.
  • the fiber-reinforced composite plastics thereby lose the required stiffness and strength.
  • the known thin size is often used in preforming processes, as well as in braiding and guiding on deflection rollers rubbed off the fiber. Not a good adhesion of the matrix material to the carbon fiber will then take place during incorporation into the matrix at these locations because the graphite ⁇ similar surface that is non-polar and no "anchor points" such as the hydroxide formed by anodic oxidation and / or oxidation marks there, the treated carbon fiber, meets the matrix material
  • Carbon fiber composite plastic overall, because the matrix resin adheres poorly in places of low polarity.
  • the invention is a devisflä ⁇ chenmod e carbon fiber having a siloxane Umman- telung.
  • the invention relates to a process for the surface modification of a carbon fiber, in which a carbon fiber with a siloxane-containing sheath is produced via a plasma coating.
  • siloxane-containing coating here is a thin, to 500 ⁇ maximum ⁇ thick coating of SiO x referred to, which is amorphous, ie glassy.
  • surface-modified carbon fiber refers to a carboxylic ⁇ fiber whose original graphite Similar upper ⁇ surface modified by a method, that is to implementation-with a coating material is activated.
  • the modification is carried out by anodic oxidation, whereas according to the invention, the modification is carried out by plasma.
  • the surface of a carbon fiber before the loading is preferably modified coating, advantageously fourth acti ⁇ plasma.
  • the carbon fibers are not, or not only anodized after their production, but in a plasma at ⁇ play as activated in an atmospheric plasma.
  • the plasma is wholly or partly generated with silane-containing precursors and thereby coated the carbon fiber with a glassy layer.
  • AD plasma atmospheric pressure or normal pressure plasma
  • Activation unlike an activated plasma coating, lasts only a few hours and does not increase the density of polar groups on the surface of the surface
  • Carbon fiber This can be demonstrated by measuring the wetting ability of Owens, Wendt, Rabel and Kälble.
  • the contact angle of 61 ° for the poorly wettable untreated carbon fiber surface decreases to less than 10 ° for the plasma activated carbon fiber surfaces.
  • the water droplet spreads comparatively quickly and wets the surface.
  • the activation of the carbon fiber surface and the coating are carried out in a single plasma treatment, in particular when the precursors for the plasma coating are activated with air.
  • the surface of the carbon fiber is charged, ionized and / or radicals are formed.
  • the ionized plasma gases combine with surface atoms.
  • the following molecular groups are formed:
  • the new surface molecules react with each other to form an amorphous siloxane layer.
  • the siloxane layer can be controlled by the speed of the nozzle or by changing the process parameters such as precursor quantity, plasma power, nozzle geometry, etc.
  • the layer thicknesses produced are in the nanometer range, are therefore thinner than lym, in particular they are below 500 nm, for example in the range of 10 to 300 nm, in particular 20 to 200 nm and preferably in the range of 50 to 150 nm.
  • the siloxane layer formed by plasma adheres very well to the carbon fiber surface.
  • An adjoining epoxy coating leads to a better adhesion of the epoxy coating on the siloxane layer than on the conventional anodically oxidized carbon fiber surface.
  • amorphous SiO x layer with similar siloxane precursors eg HMDSO, TEOS, VTMS.
  • ge ⁇ Switzerland is according to this method on the carbon fiber surface, an amorphous SiO x - layer, the harder, that is, for example, accelerated processing conditions in the carbon fiber-processing
  • oxygen is present on the surface in functional groups such as -C-OR and -COOR
  • the oxygen content at the surface increases to more than 30% through the plasma coating, preferably by using material mixtures containing more than 50%, by using highly TEOS-containing material mixtures. at.
  • the concentration of acid ⁇ material in the near-surface layer of approximately 5 nm is detected by XPS photoelectron spectroscopy.
  • the significantly increased concentration of polar groups leads to increased wetting and adhesion of the size, a thermoplastic matrix and / or a resin matrix.
  • the invention proposes for the first time a thin but hard plasma coating with amorphous, ie vitreous, siloxane on a carbon fiber. This gives the carbon fiber a surface that can be worked like a glass fiber surface.

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Abstract

Die Erfindung betrifft Carbonfasern, insbesondere solche, die für Carbonfaserverbundkunststoffe (CFKs) eingesetzt werden. Durch die Erfindung wird erstmals eine dünne aber harte Plasmabeschichtung mit amorphem, also glasartigem Siloxan auf einer Carbonfaser vorgeschlagen. Dadurch erhält die Carbonfaser eine Oberfläche, die wie eine Glasfaseroberfläche zu bearbeiten ist.

Description

Beschreibung
Carbonfasern mit modifizierter Oberfläche sowie Verfahren zur Modifizierung einer Carbonfaseroberfläche und Verwendung der Carbonfaser
Die Erfindung betrifft Carbonfasern, insbesondere solche, die für Carbonfaserverbundkunststoffe (CFKs) eingesetzt werden. Bei der Einarbeitung der Carbonfasern in Faserverbundkunststoffe spielt insbesondere die Oberfläche der Carbonfasern eine entscheidende Rolle, weil die Anbindung der Carbonfaser an die Matrix und damit die Stabilität des faserverstärkten Materials von den molekularen Gegebenheiten der Carbonfaser- Oberfläche entscheidend beeinflusst wird.
Bekannt ist, die Carbonfasern anodisch zu oxidieren und anschließend diese mit einer Schlichte auf Epoxidbasis zu be¬ schichten. Die Schlichte ist relativ dünn (<100nm) . Durch die anodische Oxidation wird die unpolare Graphitähnliche Ober¬ fläche zunächst aktiviert. Dabei werden beispielsweise Gra¬ phitoxide und Graphit-Hydroxide gebildet. Diese oberflächen¬ aktivierten Carbonfasern werden dann nasschemisch mit einer epoxidhaltigen Lacklösung beschichtet und können in Rovings von bis zu 60 000 Filamenten geführt werden.
Trotz dieser Behandlung kommt es immer noch vor, dass bei Bruchtests, insbesondere zur Prüfung der Eignung von Carbonfaser verstärkten Werkstoffen für hochbelastete Bauteile, festgestellt wird, dass die Carbonfaser sich leicht aus der Matrix ziehen lässt. Dies zeigt, dass die Anbindung der
Carbonfaser an das Matrixharz auch nach der Behandlung mit Schlichte noch zu schwach ist. Die Faserverstärkten Verbundkunststoffe verlieren dadurch die erforderliche Steifigkeit und Festigkeit.
Die bekannte dünne Schlichte wird oftmals bei Preform- prozessen, wie auch beim Flechten und Führen auf Umlenkrollen von der Faser abgerieben. An diesen Stellen findet dann bei der Einarbeitung in die Matrix keine gute Anhaftung des Matrixmaterials an die Carbonfaser statt, weil dort die Graphit¬ ähnliche Oberfläche, die unpolar ist und keine „Ankerpunkte" wie die durch anodische Oxidation gebildeten Hydroxid- und/ oder Oxidpunkte der behandelten Carbonfaser, auf das Matrixmaterial trifft. Diese Stellen schwächen den gebildeten
Carbonfaser-Verbundkunststoff insgesamt, weil das Matrixharz an Stellen geringer Polarität nur schlecht haftet.
Daher ist es Aufgabe der vorliegenden Erfindung, oberflächenmodifizierte Carbonfasern zur Einarbeitung in Carbonfaserverstärkte Kunststoffe zur Verfügung zu stellen, sowie ein Verfahren zur Oberflächenmodifizierung von Carbonfasern zu schaffen.
Diese Aufgabe wird durch den Gegenstand der vorliegenden Er¬ findung, wie er in der Beschreibung und den Ansprüchen offenbart wird, gelöst.
Dementsprechend ist Gegenstand der Erfindung eine oberflä¬ chenmodifizierte Carbonfaser, die eine siloxanhaltigen Umman- telung aufweist. Außerdem ist Gegenstand der Erfindung ein Verfahren zur Oberflächenmodifikation einer Carbonfaser, bei dem über eine Plasmabeschichtung eine Carbonfaser mit einer siloxanhaltigen Ummantelung hergestellt wird.
Als siloxanhaltige Beschichtung wird hier eine dünne, bis ma¬ ximal 500 nm dicke Beschichtung aus SiOx bezeichnet, die amorph, also glasartig vorliegt.
Als „oberflächenmodifizierte Carbonfaser" wird eine Carbon¬ faser bezeichnet, deren ursprüngliche Graphitähnliche Ober¬ fläche durch ein Verfahren modifiziert, das heißt zur Umset- zung mit einem Beschichtungsmaterial aktiviert wird. Nach dem Stand der Technik wird die Modifizierung durch anodische Oxidation ausgeführt, wohingegen gemäß der Erfindung die Modifizierung durch Plasma durchgeführt wird. Bevorzugt wird die Oberfläche einer Carbonfaser vor der Be- schichtung modifiziert, vorteilhafterweise über Plasma akti¬ viert .
So werden die Carbonfasern nach ihrer Herstellung nicht oder nicht nur anodisch oxidiert, sondern in einem Plasma, bei¬ spielsweise in einem Atmosphären-Plasma, aktiviert. Vorteilhafterweise wird das Plasma ganz oder teilweise mit silanhaltigen Precursoren erzeugt und dadurch die Carbonfaser mit einer glasartigen Schicht überzogen.
Alternativ oder ergänzend dazu kann auch eine reine Aktivie- rung mit einem AD-Plasma (Atmosphärendruck oder Normaldruck- Plasma) unter Stickstoff N2/Luft erfolgen.
Die Aktivierung bleibt im Gegensatz zu einer aktivierten Plasmabeschichtung nur wenige Stunden bestehen und erhöht nicht die Dichte an polaren Gruppen auf der Oberfläche der
Carbonfaser. Nachweisbar ist dies über die Messung der Benet- zungsfähigkeit nach Owens, Wendt, Rabel und Kälble. Demnach sinkt der Kontaktwinkel von 61° bei der schlecht benetzbaren, unbehandelten Carbonfaser-Oberfläche auf weniger al 10° bei den durch Plasmaaktivierung behandelten Carbonfaser-Oberflächen. Das heißt, dass auf der plasmaaktivierten Oberfläche der Carbonfaser der Wassertropfen vergleichsweise schnell spreizt und die Oberfläche benetzt. Nach einer vorteilhaften Ausführungsform der Erfindung werden die Aktivierung der Carbonfaseroberfläche und die Beschich- tung in einer einzigen Plasmabehandlung durchgeführt, insbesondere dann, wenn die Prekursoren für die Plasmabeschichtung mit Luft aktiviert werden.
Während der Aktivierung im Plasma wird die Oberfläche der Carbonfaser aufgeladen, ionisiert und/oder es bilden sich Radikale. Die ionisierten Plasmagase verbinden sich mit Ober- flächenatomen . Dabei entstehen je nach Ionisationsgas folgende Molekülgruppen:
-C-O,
-COH,
-C-N,
-C-NH,
-C-00
diese reagieren dann mit den ionisierten Fragmenten der
Silan-Prekursoren zu -C-O-Si-R (R=0, OH, OSi, OSiOH,...) .
In einer Folgereaktion reagieren die neuen Oberflächenmoleküle miteinander zu einer amorphen Siloxanschicht . Die Siloxan- schicht kann durch Geschwindigkeit der Düse oder Änderung der Prozessparameter wie Prekursormenge, Plasmaleistung, Düsenge- ometrie etc. gesteuert werden.
Die erzeugten Schichtdicken liegen im Nanometerbereich, sind also dünner als lym, insbesondere liegen sie unter 500nm, beispielsweise im Bereich von 10 bis 300nm, insbesondere bei 20 bis 200 nm und bevorzugt im Bereich von 50 bis 150 nm.
Im Folgenden wird die Erfindung anhand von Beispielen, wie eine Modifikation der Carbonfaseroberfläche beispielsweise mit AD-Plasma durchgeführt werden kann, näher erläutert:
Beispiel 1 :
Plasmaaktivierung und/oder dünne Plasmabeschichtung der
Carbonfaser-Oberfläche:
Durch die chemische Bindung von aktivierten Atomen auf der Carbonfaser-Oberfläche mit den ionisierten Silanfragmenten wird eine gute Haftung der Siloxanschicht erreicht. Beispiel 2 :
Nasschemische Beschichtung der bereits durch Beispiel 1 mit amorphem Siloxan modifizierten Carbonfaseroberfläche mit Epo- xidhaltigen Lacken analog zur Glasfaserbeschichtung.
Die durch Plasma, insbesondere durch AD-Plasma gebildete Siloxanschicht haftet sehr gut auf der Carbonfaseroberfläche. Eine daran anschließende Epoxidbeschichtung führt zu einer besseren Haftung der Epoxidbeschichtung auf der Siloxanschicht als wie bisher auf der herkömmlich anodisch oxidier- ten Carbonfaseroberfläche.
Beispiel 3:
Erhöhung der Schichtdicke der Plasmabeschichtung durch Änderung der Prozessparameter oder über eine weitere Plasmabeschichtung auf der amorphen SiOx - Schicht mit ähnlichen siloxanisierten Prekursoren (z.B. HMDSO, TEOS, VTMS) .
Auch ohne zusätzliche nasschemische Beschichtung, wie sie ge¬ mäß Beispiel 2 durchgeführt wird, befindet sich gemäß diesem Verfahren auf der Carbonfaseroberfläche eine amorphe SiOx - Schicht, die härteren, also beispielsweise beschleunigten Verarbeitungsbedingungen bei der Carbonfaser-Verarbeitung
(Flechten, Aufrollen etc. ) standhält. Dies insbesondere des¬ halb, weil eine amorphe SiOx - Schicht härter als die organi¬ sche Epoxidharzschicht ist, die nach dem Stand der Technik auf der Carbonfaser aufgebracht wird und im Beispiel 1 we- sentlich zur Schichtdicke beiträgt und die äußerste Ummante- lung der Carbonfaser bildet.
Während bei anodisch oxidierten Fasern Sauerstoff an der Oberfläche in funktionellen Gruppen, wie -C-OR und -COOR vorliegt, steigt der Sauerstoffgehalt an der Oberfläche durch die Plasmabeschichtung auf ca. 30% vorzugsweise durch den Einsatz von stark TEOS haltigen Materialmischungen auf über 50% an. Die funktionellen Gruppen sind -COR, -COOR, C=0 sowie -Si(-0)3 und Si(-0)4 - Gruppen. Die Konzentration an Sauer¬ stoff in der oberflächennahen Schicht von ca. 5 nm wird mit XPS Photoelektronen-Spektroskopie nachgewiesen.
Die deutlich erhöhte Konzentration an polaren Gruppen führt zu einer erhöhten Benetzung und Haftung der Schlichte, einer thermoplastischen Matrix und/oder einer Harzmatrix.
Durch die Erfindung wird erstmals eine dünne, aber harte Plasmabeschichtung mit amorphem, also glasartigem Siloxan auf einer Carbonfaser vorgeschlagen. Dadurch erhält die Carbonfaser eine Oberfläche, die wie eine Glasfaseroberfläche zu bearbeiten ist.

Claims

Patentansprüche
1. Carbonfaser mit modifizierter Oberfläche, die eine
siloxanhaltige Beschichtung in einer Schichtdicke kleiner lym aufweist.
2. Carbonfaser nach Anspruch 1, die zusätzlich weitere Be- schichtungen aufweist.
3. Carbonfaser nach Anspruch 2, die zwei Lagen Beschichtung hat, wobei die siloxanhaltige Beschichtung zwischen der
Carbonfaser und einer nasschemisch applizierten Beschichtung liegt .
4. Carbonfaser nach Anspruch 3, wobei auf der siloxanhaltigen Beschichtung eine Beschichtung aus einem Epoxidharz liegt.
5. Carbonfaser nach einem der vorstehenden Ansprüche, wobei auf der ersten und dünnen siloxanhaltigen Beschichtung zumin- dest eine weitere siloxanhaltige Beschichtung vorgesehen ist.
6. Verfahren zur Oberflächenmodifikation einer Carbonfaser, bei dem über eine Plasmabeschichtung eine Carbonfaser mit einer siloxanhaltigen Beschichtung hergestellt wird.
7. Verfahren nach Anspruch 6, das unter Atmosphärenplasma durchgeführt wird.
8. Verfahren nach Anspruch 6 oder 7, wobei in einem Plasma- behandlungsschritt die Modifizierung der Carbonfaser-Oberfläche und die Beschichtung mit der amorphen siloxanhaltigen Beschichtung erfolgt.
9. Verwendung einer Carbonfaser nach einem der Ansprüche 1 bis 5 zur Herstellung eines Faserverbundkunststoffes.
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