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WO2015174792A1 - 신규한 화합물 및 이를 포함하는 유기발광소자 - Google Patents

신규한 화합물 및 이를 포함하는 유기발광소자 Download PDF

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WO2015174792A1
WO2015174792A1 PCT/KR2015/004921 KR2015004921W WO2015174792A1 WO 2015174792 A1 WO2015174792 A1 WO 2015174792A1 KR 2015004921 W KR2015004921 W KR 2015004921W WO 2015174792 A1 WO2015174792 A1 WO 2015174792A1
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WO
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group
compound
layer
deuterium
halogen
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PCT/KR2015/004921
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함호완
김봉기
안현철
김성훈
조지은
김동준
배유진
임동환
이형진
안자은
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Dongjin Semichem Co Ltd
Original Assignee
Dongjin Semichem Co Ltd
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    • H10K85/6576—Polycyclic condensed heteroaromatic hydrocarbons comprising only sulfur in the heteroaromatic polycondensed ring system, e.g. benzothiophene

Definitions

  • the present invention relates to a novel compound and an organic light emitting device comprising the same, and more particularly to a compound useful as a hole injection, a hole transport material, or a hole transport auxiliary material.
  • an organic light emitting device capable of low voltage driving with a self-luminous type has a superior viewing angle, contrast ratio, and the like, and is lighter and thinner than a liquid crystal display (LCD), which is the mainstream of flat panel display devices.
  • LCD liquid crystal display
  • the material used as the organic material layer in the organic light emitting device may be largely classified into light emitting materials, hole injection materials, hole transport materials, hole transport auxiliary materials, electron transport materials, electron injection materials and the like according to functions.
  • the present invention has a HOMO energy level easy hole injection, has a high LUMO energy level that can block electrons, excellent hole transport characteristics, hole injection layer of the organic light emitting device, It is an object of the present invention to provide a novel compound capable of having excellent low voltage, high efficiency, high Tg stability and long life when applied to a hole transport layer or a hole transport auxiliary layer.
  • Ar each independently represents a C 6-50 aryl group which is optionally substituted with deuterium, halogen, amino group, nitrile group, nitro group; Or a C 2-50 heteroaryl group unsubstituted or substituted with deuterium, a halogen, an amino group, a nitrile group, a nitro group,
  • R 1 and R 2 are each independently hydrogen; heavy hydrogen; C 1-30 alkyl group unsubstituted or substituted with deuterium, halogen, amino group, nitrile group, nitro group; C 2-30 alkenyl groups unsubstituted or substituted with deuterium, halogen, amino, nitrile, and nitro groups; C 2-30 alkynyl group which is unsubstituted or substituted with deuterium, halogen, amino group, nitrile group, nitro group; A C 1-30 alkoxy group unsubstituted or substituted with deuterium, halogen, amino, nitrile or nitro group; C 6-30 aryloxy group which is unsubstituted or substituted with deuterium, halogen, amino, nitrile or nitro group; C 6-50 aryl group which is optionally substituted with deuterium, halogen, amino group, nitrile group, nitro group; Or a C 2-50 heteroaryl group unsub
  • o is an integer from 0 to 3
  • p and q are each independently an integer of 1-4.
  • the present invention provides an organic light emitting device comprising the compound represented by the formula (1).
  • the compound of the present invention has a HOMO energy level that is easy to inject holes, has a high LUMO energy level that can block electrons, excellent hole transport characteristics, hole injection layer, hole transport layer or hole transport auxiliary layer of the organic light emitting device It can have stability and long life due to excellent low voltage, high efficiency and high Tg.
  • FIG. 1 schematically illustrates a cross section of an OLED according to an embodiment of the invention.
  • the compound of the present invention is characterized by represented by the following formula (1).
  • Ar each independently represents a C 6-50 aryl group which is optionally substituted with deuterium, halogen, amino group, nitrile group, nitro group; Or a C 2-50 heteroaryl group unsubstituted or substituted with deuterium, a halogen, an amino group, a nitrile group, a nitro group,
  • R 1 and R 2 are each independently hydrogen; heavy hydrogen; C 1-30 alkyl group unsubstituted or substituted with deuterium, halogen, amino group, nitrile group, nitro group; C 2-30 alkenyl groups unsubstituted or substituted with deuterium, halogen, amino, nitrile, and nitro groups; C 2-30 alkynyl group which is unsubstituted or substituted with deuterium, halogen, amino group, nitrile group, nitro group; A C 1-30 alkoxy group unsubstituted or substituted with deuterium, halogen, amino, nitrile or nitro group; C 6-30 aryloxy group which is unsubstituted or substituted with deuterium, halogen, amino, nitrile or nitro group; C 6-50 aryl group which is optionally substituted with deuterium, halogen, amino group, nitrile group, nitro group; Or a C 2-50 heteroaryl group unsub
  • o is an integer from 0 to 3
  • p and q are each independently an integer of 1-4.
  • Compound of Formula 1 according to the present invention has a HOMO energy level easy hole injection, has a high LUMO energy level that can block electrons, excellent hole transport characteristics, hole injection layer, hole transport layer, Alternatively, when applied to the hole transport auxiliary layer, it can have stability and long life due to excellent low voltage, high efficiency, and high Tg.
  • the compound of the present invention can be prepared through the following process.
  • the target compound is a compound represented by Formula 1, and Ar, R 1 , R 2 , o, p, q are as defined in Formula 1.
  • the present invention also provides an organic light emitting device comprising the compound represented by Chemical Formula 1 in an organic material layer.
  • the compound of the present invention is preferably used alone as a hole injection material, a hole transport material, or a hole transport auxiliary material, or may be used together with a known hole injection, hole transport material, or hole transport auxiliary material.
  • the organic light emitting device of the present invention includes one or more organic material layers including the compound represented by Chemical Formula 1, and as an example, a method of manufacturing the organic light emitting device will be described below.
  • the organic light emitting device includes an organic material layer such as a hole injection layer (HIL), a hole transport layer (HTL), an emission layer (EML), an electron transport layer (ETL), an electron injection layer (EIL) between an anode and a cathode. It may contain one or more. In addition, it may further include a hole transport auxiliary layer between the hole transport layer and the light emitting layer.
  • HIL hole injection layer
  • HTL hole transport layer
  • EML emission layer
  • ETL electron transport layer
  • EIL electron injection layer
  • an anode is formed by depositing a material for an anode electrode having a high work function on the substrate.
  • the substrate may be a substrate used in a conventional organic light emitting device, it is particularly preferable to use a glass substrate or a transparent plastic substrate excellent in mechanical strength, thermal stability, transparency, surface smoothness, ease of handling, and waterproof.
  • the anode electrode material transparent and excellent indium tin oxide (ITO), indium zinc oxide (IZO), tin oxide (SnO 2 ), zinc oxide (ZnO), and the like may be used.
  • the anode electrode material may be deposited by a conventional anode forming method, and specifically, may be deposited by a deposition method or a sputtering method.
  • the hole injection layer material may be formed on the anode by vacuum deposition, spin coating, casting, Langmuir-Blodgett (LB), etc., but it is easy to obtain a uniform film quality and also pinholes. It is preferable to form by the vacuum evaporation method in that it is hard to generate
  • the deposition conditions vary depending on the compound used as the material of the hole injection layer, the structure and thermal properties of the desired hole injection layer, and generally, a deposition temperature of 50-500 ° C., It is preferable to select appropriately from a vacuum degree of 10 -8 to 10 -3 torr, a deposition rate of 0.01 to 100 kPa / sec, and a layer thickness of 10 kPa to 5 mu m.
  • the compound represented by Formula 1 of the present invention may be used alone or a known hole injection layer material may be used.
  • a phthalocyanine compound or starburst such as copper phthalocyanine disclosed in US Pat. No. 4,356,429.
  • TCTA 4,4 ', 4 "-tri (N-carbazolyl) triphenylamine
  • m-MTDATA (4,4', 4" -tris (3-methylphenylamino) triphenylamine)
  • m-MTDAPB 4,4 ', 4 "-tris (3-methylphenylamino) phenoxybenzene
  • HI-406 N 1 , N 1 '-(biphenyl-4,4'-diyl) bis (N 1-(naphthalen- 1 -yl) -N 4 , N 4 -diphenylbenzene-1,4-diamine) and the like can be used as the hole injection layer material.
  • the hole transport layer material may be formed on the hole injection layer by a method such as vacuum deposition, spin coating, cast, LB, etc., but it is easy to obtain a uniform film quality and is difficult to generate pin holes. It is preferable to form by a vapor deposition method.
  • the deposition conditions vary depending on the compound used, but in general, the hole transport layer is preferably selected in the same condition range as the formation of the hole injection layer.
  • the hole transport layer material may be a compound represented by the formula (1) of the present invention may be used alone or a mixture of known hole transport layer materials.
  • the known hole transport layer material includes carbazole derivatives such as N-phenylcarbazole and polyvinylcarbazole, N, N'-bis (3-methylphenyl) -N, N'-diphenyl- [1, Having an aromatic condensed ring such as 1-biphenyl] -4,4'-diamine (TPD) and N.N'-di (naphthalen-1-yl) -N, N'-diphenyl benzidine ( ⁇ -NPD) Conventional amine derivatives and the like can be used.
  • carbazole derivatives such as N-phenylcarbazole and polyvinylcarbazole, N, N'-bis (3-methylphenyl) -N, N'-diphenyl- [1, Having an aromatic condensed ring such as 1-biphenyl] -4,
  • the light emitting layer material may be formed on the hole transport layer by a method such as vacuum deposition, spin coating, casting, LB, etc., but the vacuum deposition method is easy to obtain a uniform film quality and hard to generate pin holes. It is preferable to form by.
  • the deposition conditions vary depending on the compound used, but in general, it is preferable to select within the same condition range as the formation of the hole injection layer.
  • the light emitting layer material may be used as a known host or dopant.
  • a fluorescent dopant may be IDE102 or IDE105 available from Idemitsu, or BD142 (N 6 , N 12 -bis (3,4-dimethylphenyl) -N 6 , N 12 -dimethycrylicene- 6,12-diamine) can be used as green phosphorescent dopant Ir (ppy) 3 (tris (2-phenylpyridine) iridium), blue phosphorescent dopant F2Irpic (iridium (III) bis [4,6- Difluorophenyl) -pyridinato-N, C2 '] picolinate), a red phosphorescent dopant RD61 from UDC, and the like can be co-vacuum deposited (doped).
  • the doping concentration of the dopant is not particularly limited, but the dopant is preferably doped at 0.01 to 15 parts by weight based on 100 parts by weight of the host.
  • the hole suppression material HBL
  • HBL hole suppression material
  • the hole-suppressing material that can be used at this time is not particularly limited, but any one of the well-known ones used as the hole-inhibiting material can be selected and used.
  • an oxadiazole derivative, a triazole derivative, a phenanthroline derivative, or the hole-inhibiting material described in Japanese Patent Laid-Open No. 11-329734 (A1) can be cited.
  • Oxy-2-methylquinolinolato) -aluminum biphenoxide), a phenanthrolines-based compound e.g., BCP (vasocuproin) from UDC
  • BCP vasocuproin
  • An electron transport layer is formed on the light emitting layer formed as above, wherein the electron transport layer is formed by a vacuum deposition method, a spin coating method, a casting method, or the like, and is preferably formed by a vacuum deposition method.
  • the electron transport layer material functions to stably transport electrons injected from the electron injection electrode, and the type thereof is not particularly limited, and examples thereof include quinoline derivatives, especially tris (8-quinolinolato) aluminum (Alq 3). ), Or ET4 (6,6 '-(3,4-dimethyl-1,1-dimethyl-1H-silol-2,5-diyl) di-2,2'-bipyridine).
  • an electron injection layer (EIL) which is a material having a function of facilitating injection of electrons from the cathode, may be stacked on the electron transport layer, and the electron injection layer material may be LiF, NaCl, CsF, Li 2 O, BaO, or the like. The substance of can be used.
  • the deposition conditions of the electron transport layer are different depending on the compound used, it is generally preferable to select within the same condition range as the formation of the hole injection layer.
  • an electron injection layer material may be formed on the electron transport layer, wherein the electron transport layer is formed of a conventional electron injection layer material by a vacuum deposition method, a spin coating method, a casting method, and the like. It is preferable to form by.
  • a cathode forming metal is formed on the electron injection layer by a method such as vacuum deposition or sputtering and used as a cathode.
  • the cathode forming metal may be a metal having low work function, an alloy, an electrically conductive compound, and a mixture thereof. Specific examples include lithium (Li), magnesium (Mg), aluminum (Al), aluminum-lithium (Al-Li), calcium (Ca), magnesium-indium (Mg-In), magnesium-silver (Mg-Ag), and the like. There is this.
  • a transmissive cathode using ITO or IZO may be used to obtain the front light emitting device.
  • the organic light emitting device of the present invention may further include a hole transport auxiliary layer between the hole transport layer and the light emitting layer.
  • the hole transport auxiliary layer may be formed through a known method as described in Korean Unexamined Patent Publication No. 10-2010-0015029, and preferably, using the compound 1 of the present invention as a hole transport auxiliary material, a hole transport auxiliary layer Can be formed.
  • the organic light emitting device of the present invention is not only an anode, a hole injection layer, a hole transport layer, a light emitting layer, an electron transport layer, an electron injection layer, an organic light emitting device of the cathode structure, but also the structure of an organic light emitting device of various structures, 1 It is also possible to form a layer or two intermediate layers.
  • the organic light emitting device of the present invention further includes a hole transport auxiliary layer.
  • each organic material layer formed according to the present invention can be adjusted according to the required degree, preferably 10 to 1,000 nm, more preferably 20 to 150 nm.
  • the present invention has an advantage that the organic material layer including the compound represented by Formula 1 has a uniform surface and excellent shape stability because the thickness of the organic material layer can be adjusted in molecular units.
  • the organic light emitting device of the present invention has improved hole injection and hole transport characteristics, and at the same time has electron blocking characteristics, and excellent device characteristics such as excellent low voltage, high efficiency, stability due to high Tg, and long life.
  • An organic light emitting device was manufactured according to the structure of FIG. 1.
  • the organic light emitting element is stacked in the order of the hole injection electrode 11 / hole injection layer 12 / hole transport layer 13 / light emitting layer 14 / electron transfer layer 15 / electron injection electrode 16 from below.
  • the hole injection layer 12, the hole transport layer 13, the light emitting layer 14, and the electron transport layer 15 of Examples and Comparative Examples used the following materials.
  • a glass substrate coated with an indium tin oxide (ITO) 1500 ⁇ thick thin film was washed by distilled water ultrasonically. After washing the distilled water, ultrasonic cleaning with a solvent such as isopropyl alcohol, acetone, methanol, etc. is dried, transferred to a plasma cleaner, and then the substrate is cleaned for 5 minutes by using an oxygen plasma.
  • Compound 1 250 Hz was formed into a hole injection layer HT01 600 Hz and a hole transport layer using the evaporator.
  • the light emitting layer was doped with 5% of BH01: BD01 to form 300 ⁇ .
  • ET01: Liq (1: 1) 300 ⁇ was formed into an electron transport layer, and then Liq 10 ⁇ and aluminum (Al) 1000 ⁇ were formed and the device was encapsulated in a glove box to produce an organic light emitting device.
  • a device was manufactured in the same manner as in Example 1, except that the hole transport layer of Example 1 was used as an NPB.
  • a device was manufactured in the same manner as in Example 1, except that the hole transport layer of Ref. 1 was used.
  • a device was manufactured in the same manner as in Example 1, except that the hole transport layer of Ref. 2 was used.
  • a device was manufactured in the same manner as in Example 1, except that the hole transport layer of Ref. 3 was used.
  • Example 1 Op. V mA / cm2 Cd / A lm / w CIEx CIEy LT95 (hr)
  • Example 1 4.10 10 6.09 5.02 0.141 0.112 34
  • Example 2 4.05 10 6.05 5.00 0.141 0.112 35
  • Example 3 4.04 10 6.25 5.25 0.142 0.111 38
  • Example 4 4..00 10 6.22 5.30 0.139 0.111 39
  • Example 5 3.89 10 6.83 5.95 0.138 0.110 47
  • Example 6 4.00 10 6.30 5.40 0.140 0.111 38
  • Example 8 4.01 10 6.30 5.27 0.140 0.110 42
  • Example 9 4.02 10 6.33 5.40 0.138 0.112 41
  • Example 10 4.00 10 6.29 5.29 0.141 0.111 42
  • Example 11 4.00 10 6.35 5.35 0.142 0.111 40
  • Example 12 4.01 10 6.40 5.35 0.141 0.111 45
  • Example 13 3.88 10 6.88 5.90 0.140 0.111 48
  • Example 14 4.04 10
  • Examples 1 to 15 of the present invention was confirmed to have excellent physical properties in all aspects compared to Comparative Examples 1 to 4.
  • the compound represented by Formula 1 of the present invention has a high LUMO to effectively block electrons in the light emitting layer, and the hole injection from the hole injection layer forms a smooth HOMO, and also has a great effect on efficiency and lifespan due to excellent hole mobility. It seems to have given.
  • the compound of the present invention has a HOMO energy level that is easy to inject holes, has a high LUMO energy level that can block electrons, excellent hole transport characteristics, hole injection layer, hole transport layer or hole transport auxiliary layer of the organic light emitting device It can have stability and long life due to excellent low voltage, high efficiency and high Tg.

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Abstract

본 발명의 신규한 화합물은 정공주입이 용이한 HOMO 에너지 레벨을 가지며, 전자를 차단할 수 있는 높은 LUMO 에너지 레벨을 가지며, 정공수송 특성이 우수하고, 유기발광소자에 정공주입층, 정공수송층 또는 정공수송보조층에 적용시 우수한 저전압, 고효율, 높은 Tg로 인한 안정성 및 장수명을 가지게 할 수 있다.

Description

신규한 화합물 및 이를 포함하는 유기발광소자
본 발명은 신규한 화합물 및 이를 포함하는 유기발광소자에 관한 것으로, 특히 정공주입, 정공수송물질, 또는 정공수송보조물질로 유용한 화합물에 관한 것이다.
최근, 자체 발광형으로 저전압 구동이 가능한 유기발광소자는, 평판 표시소자의 주류인 액정디스플레이(LCD, liquid crystal display)에 비해, 시야각, 대조비 등이 우수하고 백라이트가 불필요하여 경량 및 박형이 가능하며 소비전력 측면에서도 유리하고 색 재현 범위가 넓어, 차세대 표시소자로서 주목을 받고 있다.
유기발광소자에서 유기물 층으로 사용되는 재료는 크게 기능에 따라, 발광 재료, 정공주입 재료, 정공수송 재료, 정공수송보조재료, 전자수송 재료, 전자주입 재료 등으로 분류될 수 있다.
현재까지 이러한 유기발광소자에 사용되는 정공주입정공수송 재료에는 카바졸 골격을 가지는 아민 유도체가 많이 연구되었으나 보다 높은 구동전압, 낮은 효율 및 짧은 수명으로 인해 실용화하는 데에 많은 어려움이 있었다. 따라서 우수한 특성을 갖는 물질을 이용하여 저전압 구동, 고휘도 및 장수명을 갖는 유기발광소자를 개발하려는 노력이 지속되어 왔다.
상기와 같은 문제점을 해결하기 위해, 본 발명은 정공주입이 용이한 HOMO 에너지 레벨을 가지며, 전자를 차단할 수 있는 높은 LUMO 에너지 레벨을 가지며, 정공수송 특성이 우수하고, 유기발광소자의 정공주입층, 정공수송층 또는 정공수송보조층에 적용시 우수한 저전압, 고효율, 높은 Tg로 인한 안정성 및 장수명을 가지게 할 수 있는 신규한 화합물을 제공하는 것을 목적으로 한다.
본 발명은 또한 상기 화합물을 포함하여 정공주입 및 정공수송 특성이 향상되고, 동시에 전자차단 특성을 가지며, 우수한 저전압, 고효율, 높은 Tg로 인한 안정성 및 장수명을 가지는 유기발광소자를 제공하는 것을 목적으로 한다.
상기 목적을 달성하기 위해 본 발명은 하기 화학식 1로 표시되는 화합물을 제공한다:
[화학식 1]
Figure PCTKR2015004921-appb-I000001
상기 화학식 1에서,
Ar은 각각 독립적으로 중수소, 할로겐, 아미노기, 니트릴기, 니트로기로 치환되거나 치환되지 않은 C6-50의 아릴기; 또는 중수소, 할로겐, 아미노기, 니트릴기, 니트로기로 치환되거나 치환되지 않은 C2-50의 헤테로아릴기이고,
R1 및 R2는 각각 독립적으로 수소; 중수소; 중수소, 할로겐, 아미노기, 니트릴기, 니트로기로 치환되거나 치환되지 않은 C1-30의 알킬기; 중수소, 할로겐, 아미노기, 니트릴기, 니트로기로 치환되거나 치환되지 않은 C2-30의 알케닐기; 중수소, 할로겐, 아미노기, 니트릴기, 니트로기로 치환되거나 치환되지 않은 C2-30의 알키닐기; 중수소, 할로겐, 아미노기, 니트릴기, 니트로기로 치환되거나 치환되지 않은 C1-30의 알콕시기; 중수소, 할로겐, 아미노기, 니트릴기, 니트로기로 치환되거나 치환되지 않은 C6-30의 아릴옥시기; 중수소, 할로겐, 아미노기, 니트릴기, 니트로기로 치환되거나 치환되지 않은 C6-50의 아릴기; 또는 중수소, 할로겐, 아미노기, 니트릴기, 니트로기로 치환되거나 치환되지 않은 C2-50의 헤테로아릴기이며, R1 및 R2는 서로 고리를 형성할 수 있으며,
o는 0 내지 3의 정수이고,
p, q는 각각 독립적으로 1 내지 4의 정수이다.
또한, 본 발명은 상기 화학식 1로 표시되는 화합물을 포함하는 유기발광소자를 제공한다.
본 발명의 화합물은 정공주입이 용이한 HOMO 에너지 레벨을 가지며, 전자를 차단할 수 있는 높은 LUMO 에너지 레벨을 가지며, 정공수송 특성이 우수하고, 유기발광소자의 정공주입층, 정공수송층 또는 정공수송보조층에 적용시 우수한 저전압, 고효율, 높은 Tg로 인한 안정성 및 장수명을 가지게 할 수 있다.
도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 OLED의 단면을 개략적으로 도시한 것이다.
도면의 부호
10 : 기판
11 : 양극
12 : 정공주입층
13 : 정공수송층
14 : 발광층
15 : 전자전달층
16: 음극
본 발명의 화합물은 하기 화학식 1로 표시되는 것을 특징으로 한다.
[화학식 1]
Figure PCTKR2015004921-appb-I000002
상기 화학식 1에서,
Ar은 각각 독립적으로 중수소, 할로겐, 아미노기, 니트릴기, 니트로기로 치환되거나 치환되지 않은 C6-50의 아릴기; 또는 중수소, 할로겐, 아미노기, 니트릴기, 니트로기로 치환되거나 치환되지 않은 C2-50의 헤테로아릴기이고,
R1 및 R2는 각각 독립적으로 수소; 중수소; 중수소, 할로겐, 아미노기, 니트릴기, 니트로기로 치환되거나 치환되지 않은 C1-30의 알킬기; 중수소, 할로겐, 아미노기, 니트릴기, 니트로기로 치환되거나 치환되지 않은 C2-30의 알케닐기; 중수소, 할로겐, 아미노기, 니트릴기, 니트로기로 치환되거나 치환되지 않은 C2-30의 알키닐기; 중수소, 할로겐, 아미노기, 니트릴기, 니트로기로 치환되거나 치환되지 않은 C1-30의 알콕시기; 중수소, 할로겐, 아미노기, 니트릴기, 니트로기로 치환되거나 치환되지 않은 C6-30의 아릴옥시기; 중수소, 할로겐, 아미노기, 니트릴기, 니트로기로 치환되거나 치환되지 않은 C6-50의 아릴기; 또는 중수소, 할로겐, 아미노기, 니트릴기, 니트로기로 치환되거나 치환되지 않은 C2-50의 헤테로아릴기이며, R1 및 R2는 서로 고리를 형성할 수 있으며,
o는 0 내지 3의 정수이고,
p, q는 각각 독립적으로 1 내지 4의 정수이다.
본 발명에 있어서, 상기 화학식 1로 표시되는 화합물의 바람직한 예는 다음과 같다:
Figure PCTKR2015004921-appb-I000003
Figure PCTKR2015004921-appb-I000004
Figure PCTKR2015004921-appb-I000005
Figure PCTKR2015004921-appb-I000006
Figure PCTKR2015004921-appb-I000007
Figure PCTKR2015004921-appb-I000008
Figure PCTKR2015004921-appb-I000009
본 발명에 따른 화학식 1의 화합물은 정공주입이 용이한 HOMO 에너지 레벨을 가지며, 전자를 차단할 수 있는 높은 LUMO 에너지 레벨을 가지며, 정공수송 특성이 우수하고, 유기발광소자의 정공주입층, 정공수송층, 또는 정공수송보조층에 적용시 우수한 저전압, 고효율, 높은 Tg로 인한 안정성 및 장수명을 가지게 할 수 있다.
또한 본 발명의 화합물은 다음과 같은 과정을 거쳐 제조될 수 있다.
[반응식 1]
Figure PCTKR2015004921-appb-I000010
상기 반응식에서, 목적화합물은 화학식 1로 표시되는 화합물이며, Ar, R1, R2, o, p, q는 화학식 1에서 정의한 바와 같다.
또한, 본 발명은 상기 화학식 1로 표시되는 화합물을 유기물층에 포함하는 유기발광소자를 제공한다. 이때, 본 발명의 화합물은 바람직하기로는 정공주입물질, 정공수송물질, 또는 정공수송보조물질로 단독으로 사용되거나 또는 공지의 정공주입, 정공수송물질, 또는 정공수송보조물질과 함께 사용될 수 있다.
또한 본 발명의 유기발광소자는 상기 화학식 1로 표시되는 화합물을 포함하는 1층 이상의 유기물층을 포함하는 바, 일예로 상기 유기발광소자의 제조방법을 설명하면 다음과 같다.
상기 유기발광소자는 애노드(anode)와 캐소드(cathod) 사이에 정공주입층(HIL), 정공수송층(HTL), 발광층(EML), 전자수송층(ETL), 전자주입층(EIL) 등의 유기물층을 1 개 이상 포함할 수 있다. 또한 상기 정공수송층과 발광층 사이에 정공수송보조층을 더욱 포함할 수 있다.
먼저, 기판 상부에 높은 일함수를 갖는 애노드 전극용 물질을 증착시켜 애노드를 형성한다. 이때, 상기 기판은 통상의 유기발광소자에서 사용되는 기판을 사용할 수 있으며, 특히 기계적 강도, 열적 안정성, 투명성, 표면평활성, 취급용이성, 및 방수성이 우수한 유리 기판 또는 투명 플라스틱 기판을 사용하는 것이 좋다. 또한, 애노드 전극용 물질로는 투명하고 전도성이 우수한 산화인듐주석(ITO), 산화인듐아연(IZO), 산화주석(SnO2), 산화아연(ZnO) 등을 사용할 수 있다. 상기 애노드 전극용 물질은 통상의 애노드 형성방법에 의해 증착할 수 있으며, 구체적으로 증착법 또는 스퍼터링법에 의해 증착할 수 있다.
그 다음, 상기 애노드 전극 상부에 정공주입층 물질을 진공증착법, 스핀코팅법, 캐스트법, LB(Langmuir-Blodgett)법 등과 같은 방법에 의해 형성할 수 있지만, 균일한 막질을 얻기 쉽고, 또한 핀정공이 발생하기 어렵다는 등의 점에서 진공증착법에 의해 형성하는 것이 바람직하다. 상기 진공증착법에 의해 정공주입층을 형성하는 경우 그 증착조건은 정공주입층의 재료로서 사용하는 화합물, 목적하는 정공주입층의 구조 및 열적특성 등에 따라 다르지만, 일반적으로 50-500 ℃의 증착온도, 10-8 내지 10-3 torr의 진공도, 0.01 내지 100 Å/sec의 증착속도, 10 Å 내지 5 ㎛의 층 두께 범위에서 적절히 선택하는 것이 바람직하다.
상기 정공주입층 물질은 본 발명의 화학식 1로 표시되는 화합물이 단독으로 사용되거나 또는 공지의 정공주입층 물질이 사용될 수 있으며, 일예로 미국특허 제4,356,429호에 개시된 구리 프탈로시아닌 등의 프탈로시아닌 화합물 또는 스타버스트형 아민 유도체류인 TCTA(4,4',4"-트리(N-카바졸릴)트리페닐아민), m-MTDATA(4,4',4"-트리스(3-메틸페닐아미노)트리페닐아민), m-MTDAPB(4,4',4"-트리스(3-메틸페닐아미노)페녹시벤젠), HI-406(N1,N1'-(비페닐-4,4'-디일)비스(N1-(나프탈렌-1-일)-N4,N4-디페닐벤젠-1,4-디아민) 등을 정공주입층 물질로 사용할 수 있다.
다음으로 상기 정공주입층 상부에 정공수송층 물질을 진공증착법, 스핀코팅법, 캐스트법, LB법 등과 같은 방법에 의해 형성할 수 있지만, 균일한 막질을 얻기 쉽고, 핀정공이 발생하기 어렵다는 점에서 진공증착법에 의해 형성하는 것이 바람직하다. 상기 진공증착법에 의해 정공수송층을 형성하는 경우 그 증착조건은 사용하는 화합물에 따라 다르지만 일반적으로 정공주입층의 형성과 거의 동일한 조건 범위에서 선택하는 것이 좋다.
또한, 상기 정공수송층 물질은 본 발명의 화학식 1로 표시되는 화합물이 단독으로 사용되거나 또는 공지의 정공수송층 물질이 혼합되어 사용될 수 있다. 구체적으로, 상기 공지의 정공수송층 물질로는 N-페닐카바졸, 폴리비닐카바졸 등의 카바졸 유도체, N,N'-비스(3-메틸페닐)-N,N'-디페닐-[1,1-비페닐]-4,4'-디아민(TPD), N.N'-디(나프탈렌-1-일)-N,N'-디페닐 벤지딘(α-NPD) 등의 방향족 축합환을 가지는 통상의 아민 유도체 등이 사용될 수 있다.
그 후, 상기 정공수송층 상부에 발광층 물질을 진공증착법, 스핀코팅법, 캐스트법, LB법 등과 같은 방법에 의해 형성할 수 있지만, 균일한 막질을 얻기 쉽고, 핀정공이 발생하기 어렵다는 점에서 진공증착법에 의해 형성하는 것이 바람직하다. 상기 진공증착법에 의해 발광층을 형성하는 경우 그 증착조건은 사용하는 화합물에 따라 다르지만 일반적으로 정공주입층의 형성과 거의 동일한 조건 범위에서 선택하는 것이 좋다. 또한, 상기 발광층 재료는 공지의 호스트 또는 도펀트로 사용할 수 있다. 일예로 형광 도펀트로는 이데미츠사(Idemitsu사)에서 구입 가능한 IDE102 또는 IDE105, 또는 BD142(N6,N12-비스(3,4-디메틸페닐)-N6,N12-디메시틸크리센-6,12-디아민)를 사용할 수 있으며, 인광 도펀트로는 녹색 인광 도펀트 Ir(ppy)3(트리스(2-페닐피리딘) 이리듐), 청색 인광 도펀트인 F2Irpic(이리듐(Ⅲ) 비스[4,6-다이플루오로페닐)-피리디나토-N,C2'] 피콜린산염), UDC사의 적색 인광 도펀트 RD61 등이 공동 진공증착(도핑)될 수 있다. 도펀트의 도핑농도는 특별히 제한되지 않으나, 호스트 100 중량부 대비 도펀트가 0.01 내지 15 중량부로 도핑되는 것이 바람직하다.
또한, 발광층에 인광 도펀트와 함께 사용할 경우에는 삼중항 여기자 또는 정공이 전자수송층으로 확산되는 현상을 방지하기 위하여 정공억제재료(HBL)를 추가로 진공증착법 또는 스핀코팅법에 의해 적층시키는 것이 바람직하다. 이때 사용할 수 있는 정공억제물질은 특별히 제한되지는 않으나, 정공억제재료로 사용되고 있는 공지의 것에서 임의의 것을 선택해서 이용할 수 있다. 예를 들면, 옥사디아졸 유도체나 트리아졸 유도체, 페난트롤린 유도체, 또는 일본특개평 11-329734(A1)에 기재되어 있는 정공억제재료 등을 들 수 있으며, 대표적으로 Balq(비스(8-하이드록시-2-메틸퀴놀리놀나토)-알루미늄 비페녹사이드), 페난트롤린(phenanthrolines)계 화합물(예: UDC사 BCP(바쏘쿠프로인)) 등을 사용할 수 있다.
상기와 같이 형성된 발광층 상부에는 전자수송층이 형성되는데, 이때 상기 전자수송층은 진공증착법, 스핀코팅법, 캐스트법 등의 방법으로 형성되며, 특히 진공증착법에 의해 형성하는 것이 바람직하다.
상기 전자수송층 재료는 전자주입전극으로부터 주입된 전자를 안정하게 수송하는 기능을 하는 것으로서 그 종류가 특별히 제한되지는 않으며, 예를 들어 퀴놀린 유도체, 특히 트리스(8-퀴놀리놀라토)알루미늄(Alq3), 또는 ET4(6,6'-(3,4-디메시틸-1,1-디메틸-1H-실올-2,5-디일)디-2,2'-비피리딘)을 사용할 수 있다. 또한, 전자수송층 상부에 캐소드로부터 전자의 주입을 용이하게 하는 기능을 가지는 물질인 전자주입층(EIL)이 적층될 수 있으며, 전자주입층 물질로는 LiF, NaCl, CsF, Li2O, BaO 등의 물질을 이용할 수 있다.
또한, 상기 전자수송층의 증착조건은 사용하는 화합물에 따라 다르지만, 일반적으로 정공주입층의 형성과 거의 동일한 조건 범위에서 선택하는 것이 좋다.
그 뒤, 상기 전자수송층 상부에 전자주입층 물질을 형성할 수 있으며, 이때 상기 전자수송층은 통상의 전자주입층 물질을 진공증착법, 스핀코팅법, 캐스트법 등의 방법으로 형성되며, 특히 진공증착법에 의해 형성하는 것이 바람직하다.
마지막으로 전자주입층 상부에 캐소드 형성용 금속을 진공증착법이나 스퍼터링법 등의 방법에 의해 형성하고 캐소드로 사용한다. 여기서 캐소드 형성용 금속으로는 낮은 일함수를 가지는 금속, 합금, 전기전도성 화합물, 및 이들의 혼합물을 사용할 수 있다. 구체적인 예로는 리튬(Li), 마그네슘(Mg), 알루미늄(Al), 알루미늄-리튬(Al-Li), 칼슘(Ca), 마그네슘-인듐(Mg-In), 마그네슘-은(Mg-Ag) 등이 있다. 또한, 전면 발광소자를 얻기 위하여 ITO, IZO를 사용한 투과형 캐소드를 사용할 수도 있다.
또한 본 발명의 유기발광소자는 상기 정공수송층과 발광층 사이에 정공수송보조층을 더욱 포함할 수 있다. 상기 정공수송보조층은 대한민국공허공개 제10-2010-0015029호에 기재된 것과 같은 공지의 방법을 통하여 형성될 수 있으며, 바람직하게는 본 발명의 화합물 1을 정공수송보조물질로 사용하여 정공수송보조층을 형성할 수 있다.
본 발명의 유기발광소자는 애노드, 정공주입층, 정공수송층, 발광층, 전자수송층, 전자주입층, 캐소드 구조의 유기발광소자 뿐만 아니라, 다양한 구조의 유기발광소자의 구조가 가능하며, 필요에 따라 1층 또는 2층의 중간층을 더 형성하는 것도 가능하다. 바람직하기로 본 발명의 유기발광소자는 정공수송보조층을 더욱 포함한다.
상기와 같이 본 발명에 따라 형성되는 각 유기물층의 두께는 요구되는 정도에 따라 조절할 수 있으며, 바람직하게는 10 내지 1,000 ㎚이며, 더욱 바람직하게는 20 내지 150 ㎚인 것이 좋다.
또한 본 발명은 상기 화학식 1로 표시되는 화합물을 포함하는 유기물층은 유기물층의 두께를 분자 단위로 조절할 수 있기 때문에 표면이 균일하며, 형태안정성이 뛰어난 장점이 있다.
본 발명의 유기발광소자는 정공주입 및 정공수송 특성이 향상되고, 동시에 전자차단 특성을 가지며, 우수한 저전압, 고효율, 높은 Tg로 인한 안정성 및 장수명 등의 우수한 소자 특성을 가진다.
이하 본 발명의 이해를 돕기 위하여 바람직한 실시예를 제시한다. 그러나 하기의 실시예는 본 발명을 더욱 쉽게 이해하기 위하여 제공되는 것일 뿐, 실시예에 의하여 본 발명의 내용이 한정되는 것은 아니다.
중간체 1-1의 합성
Figure PCTKR2015004921-appb-I000011
질소 기류 하에서 (4-bromophenyl)hydrazine hydrochloride 25 g을 아세트산 700 ml으로 녹인 후, 여기에 3,3-dimethyl-2,3-dihydro-1H-inden-1-one 25 g을 넣은 후 실온에서 1시간 교반 후 12시간동안 환류 교반하였다. 실온으로 냉각시킨 후, 아세트산을 농축하여 생성된 고체를 필터링한 후 MC와 헥산으로 재결정하여 중간체 1-1 31.53 g (수율 52%)을 얻었다.
중간체 1-2의 합성
Figure PCTKR2015004921-appb-I000012
질소 기류 하에서 (3-bromophenyl)hydrazine hydrochloride 25 g을 아세트산 700 ml으로 녹인 후, 여기에 3,3-dimethyl-2,3-dihydro-1H-inden-1-one 25 g을 넣은 후 실온에서 1시간 교반 후 12시간동안 환류 교반하였다. 실온으로 냉각시킨 후, 아세트산을 농축하여 생성된 고체를 필터링한 후 MC와 헥산으로 재결정하여 중간체 1-1 29.71 g (수율 49%)을 얻었다.
목적 화합물 합성을 위해 OP의 준비는 상기 단계를 거쳐 합성하였다.
일례로 아래 OP1의 합성법을 제시한다.
Figure PCTKR2015004921-appb-I000013
둥근바닥플라스크에 N-phenylnaphthalen-1-amine 10 g, 1-bromo-4-iodobenzene 18.0 g, t-BuONa 6.5 g, Pd2(dba)3 1.7 g, (t-Bu)3P 2.6 ml를 톨루엔 100 ml에 녹인 후 50 ℃로 교반하였다. TLC로 반응을 확인하고 물을 첨가 후 반응을 종결하였다. 유기층을 EA로 추출하고 감압여과한 후 컬럼정제하여 중간체 OP1 7.6 g (수율 45%)를 얻었다.
상기 OP1 7.5 g bis(pinacolato)diboron 6.62 g, Pd(dppf)Cl2 0.07 g, KOAc 5.9 g을 톨루엔 80 ml에 녹인 후 환류 교반하였다. TLC로 반응을 확인하고 물을 첨가 후 반응을 종결하였다. 유기층을 EA로 추출하고 감압여과한 후 컬럼정제하여 중간체 OP2 6.8 g (수율 81%)을 얻었다.
하기 OP1부터 OP9 중간체는 상기 OP1과 같은 방법으로 합성하였다.
Figure PCTKR2015004921-appb-I000014
화합물 1의 합성
Figure PCTKR2015004921-appb-I000015
둥근바닥플라스크에 중간체 1-1 2.0 g, di([1,1'-biphenyl]-4-yl)amine 2.0 g, t-BuONa 0.74 g, Pd2(dba)3 0.20 g, (t-Bu)3P 0.25 ml를 톨루엔 30 ml에 녹인 후 환류 교반하였다. TLC로 반응을 확인하고 물을 첨가 후 반응을 종결하였다. 유기층을 EA로 추출하고 감압여과한 후 컬럼정제하여 화합물1 1.90g (수율 59%)를 얻었다.
m/z: 628.29 (100.0%), 629.29 (51.2%), 630.29 (13.0%), 631.30 (2.1%)
화합물 2의 합성
Figure PCTKR2015004921-appb-I000016
di([1,1'-biphenyl]-4-yl)amine을 N-([1,1'-biphenyl]-4-yl)-9,9-dimethyl-9H-fluoren-2-amine으로 반응한 것을 제외하고는 화합물 1과 동일한 방법으로 화합물 2를 합성하였다. (수율 63%)
m/z: 668.32 (100.0%), 669.32 (54.8%), 670.33 (14.6%), 671.33 (2.5%)
화합물 3의 합성
Figure PCTKR2015004921-appb-I000017
둥근바닥플라스크에 중간체 1-1 2.0 g, OP1 2.60 g, 1,4-dioxan 30 ml에 녹이고 K2CO3(2M) 7.7 ml와 Pd(PPh3)4 0.18 g을 넣은 후 환류 교반하였다. TLC로 반응을 확인하고 물을 첨가 후 반응을 종결시켰다. 유기층을 MC로 추출하고 감압여과한 후 컬럼정제하여 화합물 3 1.83 g (수율 59%)를 얻었다.
m/z: 602.27 (100.0%), 603.28 (49.1%), 604.28 (11.8%), 605.28 (1.9%)
화합물 4의 합성
Figure PCTKR2015004921-appb-I000018
OP1을 OP2로 반응한 것을 제외하고는 화합물 3과 동일한 방법으로 화합물 4를 합성하였다. (수율 60%)
m/z: 704.32 (100.0%), 705.32 (58.1%), 706.33 (16.4%), 707.33 (3.0%)
화합물 5의 합성
Figure PCTKR2015004921-appb-I000019
OP1을 OP3로 반응한 것을 제외하고는 화합물 3과 동일한 방법으로 화합물 5를 합성하였다. (수율 65%)
m/z: 744.35 (100.0%), 745.35 (61.3%), 746.36 (18.3%), 747.36 (3.6%)
화합물 6의 합성
Figure PCTKR2015004921-appb-I000020
OP1을 OP6으로 반응한 것을 제외하고는 화합물 3과 동일한 방법으로 화합물 6을 합성하였다. (수율 58%)
m/z: 780.35 (100.0%), 781.35 (64.6%), 782.36 (20.3%), 783.36 (4.2%)
화합물 7의 합성
Figure PCTKR2015004921-appb-I000021
OP1을 OP7로 반응한 것을 제외하고는 화합물 3과 동일한 방법으로 화합물 7을 합성하였다. (수율 58%)
m/z: 820.38 (100.0%), 821.39 (67.6%), 822.39 (22.5%), 823.39 (5.1%)
화합물 8의 합성
Figure PCTKR2015004921-appb-I000022
OP1을 OP8로 반응한 것을 제외하고는 화합물 3과 동일한 방법으로 화합물 8을 합성하였다. (수율 52%)
m/z: 704.32 (100.0%), 705.32 (58.1%), 706.33 (16.4%), 707.33 (3.0%)
화합물 9의 합성
Figure PCTKR2015004921-appb-I000023
OP1을 OP9로 반응한 것을 제외하고는 화합물 3과 동일한 방법으로 화합물 9를 합성하였다. (수율 50%)
m/z: 744.35 (100.0%), 745.35 (61.3%), 746.36 (18.3%), 747.36 (3.6%)
화합물 10의 합성
Figure PCTKR2015004921-appb-I000024
둥근바닥플라스크에 중간체 1-2 2.0 g, di([1,1'-biphenyl]-4-yl)amine 2.0 g, t-BuONa 0.74 g, Pd2(dba)3 0.20 g, (t-Bu)3P 0.25 ml를 톨루엔 30 ml에 녹인 후 환류 교반하였다. TLC로 반응을 확인하고 물을 첨가 후 반응을 종결하였다. 유기층을 EA로 추출하고 감압여과한 후 컬럼정제하여 화합물 10을 1.78 g (수율 55%)를 얻었다.
화합물 11의 합성
Figure PCTKR2015004921-appb-I000025
di([1,1'-biphenyl]-4-yl)amine을 N-([1,1'-biphenyl]-4-yl)-9,9-dimethyl-9H-fluoren-2-amine으로 반응한 것을 제외하고는 화합물 10과 동일한 방법으로 화합물 11을 합성하였다. (수율 55%)
m/z: 668.32 (100.0%), 669.32 (54.8%), 670.33 (14.6%), 671.33 (2.5%)
화합물 12의 합성
Figure PCTKR2015004921-appb-I000026
둥근바닥플라스크에 중간체 1-2 2.0 g, OP2 3.08 g, 1,4-dioxan 30 ml에 녹이고 K2CO3(2M) 7.7 ml와 Pd(PPh3)4 0.18 g을 넣은 후 환류 교반하였다. TLC로 반응을 확인하고 물을 첨가 후 반응을 종결시켰다. 유기층을 MC로 추출하고 감압여과한 후 컬럼정제하여 화합물 12를 2.0 g (수율 55%)을 얻었다.
m/z: 704.32 (100.0%), 705.32 (58.1%), 706.33 (16.4%), 707.33 (3.0%)
화합물 13의 합성
Figure PCTKR2015004921-appb-I000027
OP2를 OP3으로 반응한 것을 제외하고는 화합물 12와 동일한 방법으로 화합물 13을 합성하였다. (수율 52%)
m/z: 744.35 (100.0%), 745.35 (61.3%), 746.36 (18.3%), 747.36 (3.6%)
화합물 14의 합성
Figure PCTKR2015004921-appb-I000028
OP2를 OP6으로 반응한 것을 제외하고는 화합물 12와 동일한 방법으로 화합물 14를 합성하였다. (수율 50%)
m/z: 780.35 (100.0%), 781.35 (64.6%), 782.36 (20.3%), 783.36 (4.2%)
화합물 15의 합성
Figure PCTKR2015004921-appb-I000029
OP2를 OP7로 반응한 것을 제외하고는 화합물 12와 동일한 방법으로 화합물 15를 합성하였다. (수율 53%)
m/z: 820.38 (100.0%), 821.39 (67.6%), 822.39 (22.5%), 823.39 (5.1%)
유기발광소자의 제조
도 1에 기재된 구조에 따라 유기발광소자를 제조하였다. 유기발광소자는 아래로부터 정공주입전극(11)/정공주입층(12)/정공수송층(13)/발광층(14)/전자전달층(15)/전자주입전극(16) 순으로 적층되어 있다.
실시예 및 비교예의 정공주입층(12), 정공전달층(13), 발광층(14), 전자전달층(15)는 아래과 같은 물질을 사용하였다.
Figure PCTKR2015004921-appb-I000030
유기발광소자의 제조
실시예 1
인듐틴옥사이드(ITO)가 1500 Å 두께가 박막 코팅된 유리 기판을 증류수 초음파로 세척하였다. 증류수 세척이 끝나면 이소프로필알코올, 아세톤, 메탄올 등의 용제로 초음파 세척을 하고 건조시킨 후 플라즈마 세정기로 이송 시킨 다음 산소 플라즈마를 이용하여 상기 기판을 5분간 세정 한 후 ITO 기판 상부에 열 진공 증착기(thermal evaporator)를 이용하여 정공주입층 HT01 600 Å, 정공수송층으로 화합물 1 250 Å를 제막하였다. 다음으로 상기 발광층으로 BH01:BD01 5%로 도핑하여 300 Å 제막하였다. 다음으로 전자전달층으로 ET01 : Liq(1:1) 300 Å 제막한 후 Liq 10 Å, 알루미늄(Al) 1000 Å 제막하고, 이 소자를 글로브 박스에서 밀봉(Encapsulation)함으로써 유기발광소자를 제작하였다.
실시예 2 내지 실시예 15
실시예 1과 같은 방법으로 정공주입층 및 정공전달층을 각각 화합물 2 내지 15를 사용하여 제막한 유기발광소자를 제작하였다.
비교예 1
상기 실시예 1의 정공전달층을 NPB로 사용한 것을 제외하고는 동일한 방법으로 소자를 제작하였다.
비교예 2
상기 실시예 1의 정공전달층을 Ref.1로 사용한 것을 제외하고는 동일한 방법으로 소자를 제작하였다.
비교예 3
상기 실시예 1의 정공전달층을 Ref.2로 사용한 것을 제외하고는 동일한 방법으로 소자를 제작하였다.
비교예 4
상기 실시예 1의 정공전달층을 Ref.3으로 사용한 것을 제외하고는 동일한 방법으로 소자를 제작하였다.
유기발광소자의 성능평가
키슬리 2400 소스 메져먼트 유닛(Kiethley 2400 source measurement unit) 으로 전압을 인가하여 전자 및 정공을 주입하고 코니카 미놀타(Konica Minolta) 분광복사계(CS-2000)를 이용하여 빛이 방출될 때의 휘도를 측정함으로써, 실시예 및 비교예의 유기발광소자의 성능을 인가전압에 대한 전류 밀도 및 휘도를 대기압 조건하에 측정하여 평가하였으며, 그 결과를 표 1에 나타내었다.
표 1
Op. V mA/cm2 Cd/A lm/w CIEx CIEy LT95(hr)
실시예1 4.10 10 6.09 5.02 0.141 0.112 34
실시예2 4.05 10 6.05 5.00 0.141 0.112 35
실시예3 4.04 10 6.25 5.25 0.142 0.111 38
실시예4 4.00 10 6.22 5.30 0.139 0.111 39
실시예5 3.89 10 6.83 5.95 0.138 0.110 47
실시예6 4.00 10 6.30 5.40 0.140 0.111 38
실시예7 3.92 10 6.80 5.90 0.140 0.110 45
실시예8 4.01 10 6.30 5.27 0.140 0.110 42
실시예9 4.02 10 6.33 5.40 0.138 0.112 41
실시예10 4.00 10 6.29 5.29 0.141 0.111 42
실시예11 4.00 10 6.35 5.35 0.142 0.111 40
실시예12 4.01 10 6.40 5.35 0.141 0.111 45
실시예13 3.88 10 6.88 5.90 0.140 0.111 48
실시예14 4.04 10 6.31 5.42 0.140 0.110 44
실시예15 3.90 10 6.82 5.85 0.140 0.110 50
비교예1 5.03 10 5.35 4.24 0.143 0.120 13
비교예2 5.12 10 5.18 4.11 0.145 0.121 7
비교예3 4.41 10 5.68 4.70 0.141 0.113 25
비교예4 4.50 10 5.59 4.62 0.142 0.114 21
상기 표 1에 나타나는 바와 같이 본 발명의 실시예 1 내지 15는 비교예 1 내지 4에 비하여 모든 면에서 물성이 우수함을 확인할 수 있었다. 이는 본 발명의 화학식 1로 표시되는 화합물이 발광층내 전자를 효과적으로 차단할 수 있도록 높은 LUMO를 가지며, 정공주입층으로부터 정공 주입이 원활한 HOMO를 형성하고, 또한 우수한 홀 모빌리티로 인해 효율 및 수명 향상에 큰 영향을 준 것으로 파악된다.
본 발명의 화합물은 정공주입이 용이한 HOMO 에너지 레벨을 가지며, 전자를 차단할 수 있는 높은 LUMO 에너지 레벨을 가지며, 정공수송 특성이 우수하고, 유기발광소자의 정공주입층, 정공수송층 또는 정공수송보조층에 적용시 우수한 저전압, 고효율, 높은 Tg로 인한 안정성 및 장수명을 가지게 할 수 있다.

Claims (5)

  1. 하기 화학식 1로 표시되는 화합물:
    [화학식 1]
    Figure PCTKR2015004921-appb-I000031
    상기 화학식 1에서,
    Ar은 각각 독립적으로 중수소, 할로겐, 아미노기, 니트릴기, 니트로기로 치환되거나 치환되지 않은 C6-50의 아릴기; 또는 중수소, 할로겐, 아미노기, 니트릴기, 니트로기로 치환되거나 치환되지 않은 C2-50의 헤테로아릴기이고,
    R1 및 R2는 각각 독립적으로 수소; 중수소; 중수소, 할로겐, 아미노기, 니트릴기, 니트로기로 치환되거나 치환되지 않은 C1-30의 알킬기; 중수소, 할로겐, 아미노기, 니트릴기, 니트로기로 치환되거나 치환되지 않은 C2-30의 알케닐기; 중수소, 할로겐, 아미노기, 니트릴기, 니트로기로 치환되거나 치환되지 않은 C2-30의 알키닐기; 중수소, 할로겐, 아미노기, 니트릴기, 니트로기로 치환되거나 치환되지 않은 C1-30의 알콕시기; 중수소, 할로겐, 아미노기, 니트릴기, 니트로기로 치환되거나 치환되지 않은 C6-30의 아릴옥시기; 중수소, 할로겐, 아미노기, 니트릴기, 니트로기로 치환되거나 치환되지 않은 C6-50의 아릴기; 또는 중수소, 할로겐, 아미노기, 니트릴기, 니트로기로 치환되거나 치환되지 않은 C2-50의 헤테로아릴기이며, R1 및 R2는 서로 고리를 형성할 수 있으며,
    o는 0 내지 3의 정수이고,
    p, q는 각각 독립적으로 1 내지 4의 정수이다.
  2. 제1항에 있어서,
    하기 화학식들 중 어느 하나로 표시되는 것을 특징으로 하는 화합물:
    Figure PCTKR2015004921-appb-I000032
    Figure PCTKR2015004921-appb-I000033
    Figure PCTKR2015004921-appb-I000035
    Figure PCTKR2015004921-appb-I000036
    Figure PCTKR2015004921-appb-I000037
    Figure PCTKR2015004921-appb-I000038
  3. 하기 반응식 1로 표시되는 화학식 1의 제조방법:
    [반응식 1]
    Figure PCTKR2015004921-appb-I000039
    상기 반응식에서, 목적화합물은 화학식 1로 표시되는 화합물이며, Ar, R1, R2, o, p, q는 화학식 1에서 정의한 바와 같다.
  4. 애노드(anode), 캐소드(cathode) 및 두 전극 사이에 제1항 기재의 화합물을 함유하는 1층 이상의 유기물층을 포함하는 유기발광소자.
  5. 제4항에 있어서,
    상기 유기물층이 정공주입층, 정공수송층 또는 정공수송보조층인 것을 특징으로 하는 유기발광소자.
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