WO2015147292A1 - Double fluid spraying device - Google Patents
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- B05B7/267—Apparatus in which liquids or other fluent materials from different sources are brought together before entering the discharge device a liquid and a gas being brought together before entering the discharge device the liquid and the gas being both under pressure
Definitions
- a two-fluid spray device includes a two-fluid nozzle that sprays an atomized fluid obtained by mixing a liquid and a gas, a liquid flow passage that supplies the liquid to the two-fluid nozzle, A liquid supply stop means provided in the liquid flow passage for stopping the supply of the liquid to the two-fluid nozzle; and the liquid in the liquid flow passage between the liquid supply stop means and the two-fluid nozzle. Liquid discharging means for discharging.
- FIG. 1 is a schematic configuration diagram of a system to which a two-fluid spray device according to an embodiment of the present invention is applied.
- FIG. 2 is a schematic configuration diagram showing a state during normal spraying in the two-fluid spraying device by the gas pressurization method of the present embodiment.
- FIG. 3 is a schematic configuration diagram illustrating a state in which stop control for preventing dripping is started in the two-fluid spray device of the present embodiment.
- FIG. 4 is a schematic configuration diagram showing a state in which the drain valve is opened during the pressure drop of the compressed gas in the two-fluid spray device of the present embodiment.
- FIG. 1 is a schematic configuration diagram of a system to which a two-fluid spray device according to an embodiment of the present invention is applied.
- FIG. 2 is a schematic configuration diagram showing a state during normal spraying in the two-fluid spraying device by the gas pressurization method of the present embodiment.
- FIG. 3 is a schematic configuration diagram illustrating
- the air conditioning control panel 39 detects the temperature and humidity in the clean room 31 with a detector.
- the air conditioning control panel 39 changes the command of the proportional control valve 41 of the chilled water supply system supplied to the cooling coil 34 built in the air conditioner 33 according to the difference between the detection result by the detector and the target value,
- the command of the proportional control valve 42 of the hot water supply system supplied to the heating coil 35 incorporated in the machine 33 is changed.
- the two-fluid spray header unit 36 having a plurality of two-fluid nozzles 9 and the atmosphere sprayed from the two-fluid spray header unit 36 are forcibly sent to the clean room 31.
- the fan 37 and the steam humidification unit 38 are provided.
- the steam humidification unit 38 is supplied with steam from a steam proportional control valve 43 installed outside the air conditioner 33.
- the two-fluid nozzle 9a includes two gas flow ejection units 91a and a liquid flow ejection unit 92a.
- the liquid flow ejecting unit 92a is provided to eject a liquid flow.
- the liquid output from the liquid flow ejecting unit 92a is a pressurized liquid in which the liquid is pressurized.
- the two gas flow ejecting units 91a are inclined in the direction of the liquid flow output from the liquid flow ejecting unit 92a, and eject the gas flow, respectively.
- the gas output from the gas flow injection unit 91a is a compressed gas in which the gas is compressed.
- Each of the two two-fluid nozzles 9b includes two gas flow ejection units 91b and a liquid flow ejection unit 92b.
- the two gas flows output from the two gas flow injection units 91b and the liquid flow output from the liquid flow injection unit 92b are all output in the same direction.
- the liquid flow is output from the liquid flow injection unit 92b so as to be sandwiched between the two gas flows output from the two gas flow injection units 91b.
- the two gas flows are output at high speed adjacent to the liquid flow, so that the liquid is atomized.
- the liquid pumped up by the siphon principle is supplied to the liquid flow ejection unit 92b.
- the gas supplied to the two gas flow ejection units 91b may be compressed or not compressed.
- the drainage system D branches off from the section between the valve 18 of the pressurized liquid piping 3 of the pressurized liquid supply system L and the two-fluid nozzle 9.
- the drainage system D discharges the liquid in the pressurized liquid pipe 19 to the outside.
- the drainage system D includes a drainage pipe 19 and a drainage valve 20.
- the drainage pipe 19 is a pipe branched from the pressurized liquid pipe 3.
- the drainage valve 20 is provided in the drainage pipe 19 and is located at a position lower than the injection part of the two-fluid nozzle 9.
- the drainage valve 20 is opened when the valve 18 is closed, so that the inside of the pressurized liquid pipe 19 is set to atmospheric pressure (or an external pressure connected to the drainage pipe 19), and the inside of the pressurized liquid pipe 19 is set. Drain the liquid. When the liquid is not discharged, the drain valve 20 is closed.
- FIG. 5 shows a state where the spraying operation of the two-fluid nozzle 9 is stopped.
- the drain valve 20 is closed.
- the drain valve 20 discharges an appropriate amount of liquid by opening a preset opening time Top.
- spraying can be stopped without causing dripping at the two-fluid nozzle 9.
- the liquid is a relatively valuable liquid such as pure water, it is desirable that the amount of discharged liquid is small.
- the gas in the pipe By configuring the gas in the pipe to be naturally discharged from the two-fluid nozzle 9, it is possible to prevent gas from being accumulated in the pipe of the pressurized liquid supply system L. Thereby, it can prevent taking time until gas escapes at the time of the next spraying start. Further, by preventing gas accumulation in the piping of the pressurized liquid supply system L, it is possible to reliably execute dripping prevention control when spraying is stopped.
- a configuration in which a liquid flow path in which the liquid header pipe 12 and the liquid buffer pipes 13 and 13e are integrally formed may be formed.
- the two-fluid nozzle 9 may be directly attached to the openings of the liquid buffer pipes 13 and 13 e without providing the pipe connection joint 14 and the pressurized liquid pipe 15.
Landscapes
- Nozzles (AREA)
Abstract
Description
本発明は、気体及び液体を混合して噴霧する二流体噴霧装置に関する。 The present invention relates to a two-fluid spray device that mixes and sprays gas and liquid.
噴霧システムにおいて、水を吸い上げるサイフォンの特性を持ったノズルと、ノズルが液体をくみ上げるための連続給水式タンクにより、二流体ノズルから液だれを防止しながら噴霧することが開示されている(特許文献1参照)。 In a spraying system, it is disclosed to spray while preventing dripping from a two-fluid nozzle by a nozzle having siphon characteristics for sucking water and a continuous water supply tank for the nozzle to pump liquid (Patent Document) 1).
二流体ノズルを用いる加湿器において、貯水室内の液体を少量に保持し、簡単な構成とすることが開示されている(特許文献2参照)。 In a humidifier using a two-fluid nozzle, it is disclosed that the liquid in the water storage chamber is held in a small amount and has a simple configuration (see Patent Document 2).
液だれを防止するために、気流が放出される風洞部と、風洞部を構成する排風開口部の直径範囲内に配設された噴霧ノズルとを備える噴霧装置が開示されている(特許文献3参照)。 In order to prevent dripping, a spray device is disclosed that includes a wind tunnel portion from which airflow is discharged and a spray nozzle disposed within a diameter range of a wind exhaust opening that forms the wind tunnel portion (Patent Document). 3).
複数のポンプを用いて液体の連続吐出を可能とする液体供給システムにおいて、各ポンプにおける液体吐出状態を安定化させ、高精度な吐出量制御を実現することが開示されている(特許文献4参照)。 In a liquid supply system that enables continuous liquid discharge using a plurality of pumps, it is disclosed that the liquid discharge state in each pump is stabilized and high-precision discharge amount control is realized (see Patent Document 4). ).
しかしながら、二流体噴霧装置の構造によっては、噴霧を停止した時に、液だれが発生することがある。例えば、液体の供給を停止した後に、液体流通路に残った圧縮空気が膨張して、液体が押出されることで、液だれが発生することがある。 However, depending on the structure of the two-fluid spray device, dripping may occur when spraying is stopped. For example, after the supply of the liquid is stopped, the compressed air remaining in the liquid flow path expands and the liquid is pushed out, so that dripping may occur.
本発明の目的は、液だれを防止することのできる二流体噴霧装置を提供することにある。 An object of the present invention is to provide a two-fluid spray device that can prevent dripping.
本発明の観点に従った二流体噴霧装置は、液体と気体とを混合して得られる霧化流体を噴霧する二流体ノズルと、前記二流体ノズルに前記液体を供給する液体流通路と、前記液体流通路に設けられ、前記二流体ノズルへの前記液体の供給を停止する液体供給停止手段と、前記液体供給停止手段と前記二流体ノズルとの間の前記液体流通路内にある前記液体を排出する液体排出手段とを備える。 A two-fluid spray device according to an aspect of the present invention includes a two-fluid nozzle that sprays an atomized fluid obtained by mixing a liquid and a gas, a liquid flow passage that supplies the liquid to the two-fluid nozzle, A liquid supply stop means provided in the liquid flow passage for stopping the supply of the liquid to the two-fluid nozzle; and the liquid in the liquid flow passage between the liquid supply stop means and the two-fluid nozzle. Liquid discharging means for discharging.
以下、実施形態について、図面を参照して説明する。 Hereinafter, embodiments will be described with reference to the drawings.
(実施形態)
図1を参照して、本実施形態に係る二流体噴霧装置が適用されるシステムの概要について説明する。なお、図面における同一部分には同一符号を付して重複する説明を適宜省略し、異なる部分について主に述べる。
(Embodiment)
With reference to FIG. 1, the outline | summary of the system with which the two-fluid spraying apparatus which concerns on this embodiment is applied is demonstrated. In addition, the same code | symbol is attached | subjected to the same part in drawing, the overlapping description is abbreviate | omitted suitably, and a different part is mainly described.
本体ユニット100は、二流体噴霧装置を構成するユニットである。クリーンルーム31内には、半導体製造装置32が設置される。クリーンルーム31内の温度及び湿度が所定値になるように、クリーンルーム31と空調機33との間で給気及び還気が行われる。
The
空調制御盤39は、クリーンルーム31内の温度及び湿度を検出器で検出する。空調制御盤39は、検出器による検出結果と目標値との差に応じて、空調機33に内蔵された冷却コイル34に供給する冷水供給系の比例制御弁41の指令を変更したり、空調機33に内蔵された加熱コイル35に供給する温水供給系の比例制御弁42の指令を変更したりする。
The air
これ以外の構成として、空調機33の内部には、複数の二流体ノズル9を備えた二流体噴霧ヘッダーユニット36、二流体噴霧ヘッダーユニット36から噴霧される雰囲気をクリーンルーム31に強制的に送るためのファン37、及び蒸気加湿ユニット38を備えている。蒸気加湿ユニット38には、空調機33の外部に設置された蒸気系の比例制御弁43からの蒸気が供給される。
As a configuration other than this, in the air conditioner 33, the two-fluid
二流体噴霧制御盤40には、空調制御盤39から蒸気加湿指令が与えられる。二流体噴霧制御盤40は、蒸気加湿指令に基づいて、比例制御弁43に指令を与える。二流体噴霧制御盤40には、加圧液体供給系L及び圧縮気体供給系Gが接続される。加圧液体供給系Lは、液体として、例えば、純水を供給する。圧縮気体供給系Gは、気体として、例えば、空気を供給する。加圧液体供給系Lからの加圧液体及び圧縮気体供給系Gからの圧縮気体は、それぞれ二流体噴霧ヘッダーユニット36の各二流体ノズル9に供給されるように配管が設けられている。
A steam humidification command is given to the two-fluid
二流体ノズル9は、液体と気体を混合させて、霧化された流体(霧化流体)を使用先に噴霧するノズルである。
The two-
図8及び図9を参照して、二流体ノズル9として、2つの形式の二流体ノズル9a,9bについて説明する。なお、ここでは、2つの形式の二流体ノズル9a,9bについて説明するが、その他の形式の二流体ノズルを本実施形態に係る二流体ノズル9として用いてもよい。
8 and FIG. 9, two types of two-
図8に示す逆圧方式(気体加圧方式)の二流体ノズル9aについて説明する。
A description will be given of the two-
二流体ノズル9aは、2つの気体流噴射部91a及び液体流噴射部92aを備える。液体流噴射部92aは、液体流を噴射するように設けられている。液体流噴射部92aが出力する液体は、液体が加圧された加圧液体である。2つの気体流噴射部91aは、液体流噴射部92aから出力される液体流の方向に傾けて、それぞれ気体流を噴射する。気体流噴射部91aが出力する気体は、気体が圧縮された圧縮気体である。2つの気体流噴射部91aからそれぞれ出力される気体流は、互いに衝突し、かつ液体流噴射部92aから出力される液体流に衝突する。液体流は、2つの気体流と衝突し、混合されることにより、霧化される。二流体ノズル9aは、内部に設けられた混合エリアで液体流と2つの気体流が混合される内部混合型のノズルである。液体が霧化されるのであれば、二流体ノズル9aの外部で混合されてもよい。二流体ノズル9aは、噴霧を停止させると、液体流噴射部92aから圧縮気体が逆流する逆圧方式のノズルである。気体加圧方式の二流体ノズル9aは、高水圧、高精度、及び高速応答であり、噴霧量を制御することができる。
The two-
図9に示すサイフォン特性を持つ二流体ノズル9bについて説明する。
A two-
2つの二流体ノズル9bは、それぞれ2つの気体流噴射部91b及び液体流噴射部92bを備える。2つの気体流噴射部91bから出力される2つの気体流及び液体流噴射部92bから出力される液体流は、全て同一方向に出力される。2つの気体流噴射部91bから出力される2つの気体流に挟まれるように、液体流噴射部92bから液体流が出力される。液体流に隣接して2つの気体流が高速に出力されることで、液体が霧化される。液体流噴射部92bには、サイフォンの原理により汲み上げられた液体が供給される。2つの気体流噴射部91bに供給される気体は、圧縮されていても、圧縮されていなくてもよい。また、2つの二流体ノズル9bから出力される液体を衝突させることで、霧化された液体の粒子がさらに細くなる。二流体ノズル9bは、気体が液体流噴射部92bから逆流(逆圧)しないノズルである。
Each of the two two-
本実施形態の二流体噴霧装置は、図2~図5に示すように、加圧液体供給系L、圧縮気体供給系G、及び排液系Dを備える。 The two-fluid spraying device of this embodiment includes a pressurized liquid supply system L, a compressed gas supply system G, and a drainage system D as shown in FIGS.
加圧液体供給系Lは、加圧液体供給源1、加圧液体供給源1からの加圧液体を二流体ノズル9に供給する加圧液体配管3、及び、加圧液体配管3の途中に設けられ、加圧液体供給源1からの加圧液体の通路を開閉する弁18(PW-2V)を備える。加圧液体供給源1は、例えば、加圧ポンプである。加圧液体供給源1は、二流体噴霧装置専用に設けてもよいし、工場内に配設されている別の目的の液体供給源などを利用してもよい。弁18は、例えば電磁弁である。
The pressurized liquid supply system L is in the middle of the pressurized liquid supply source 1, the pressurized
圧縮気体供給系Gは、圧縮気体供給源6、圧縮気体供給源6からの圧縮気体を二流体ノズル9に供給する圧縮気体配管22、圧縮気体配管22の途中に設けられ、圧縮気体供給源6からの圧縮気体の通路を開閉する弁23(PA-1V)、及び、弁23と二流体ノズル9との間に配設される気体圧力制御器7(A-EPR)を備える。弁23は、例えば電磁弁である。気体圧力制御器7は、二流体ノズル9に供給する圧縮気体の圧力を設定できる。気体圧力制御器7は、例えば、電空レギュレータである。
The compressed gas supply system G is provided in the middle of the compressed gas supply source 6, the compressed gas piping 22 that supplies the compressed gas from the compressed gas supply source 6 to the two-
排液系Dは、加圧液体供給系Lの加圧液体配管3の弁18と二流体ノズル9との間の区間から分岐する。排液系Dは、加圧液体配管19内の液体を外部に排出する。排液系Dは、排液管19及び排液弁20を備える。排液管19は、加圧液体配管3から分岐する配管である。排液弁20は、排液管19に設けられ、二流体ノズル9の噴射部よりも低い位置にある。排液弁20は、弁18を閉止した状態で開放状態にすることで、加圧液体配管19内を大気圧(又は、排液管19と繋がる外部の気圧)にし、加圧液体配管19内の液体を排出する。液体を排出しないときは、排液弁20は、閉止される。
The drainage system D branches off from the section between the
二流体噴霧制御盤40は、制御部21を備える。制御部21は、プログラム等に従って、マイクロプロセッサ等で演算処理を行う構成である。制御部21は、次のようにして、二流体ノズル9の噴霧を停止する。制御部21は、弁18を閉止することで二流体ノズル9への加圧液体の供給を停止する。制御部21は、弁18を閉止した状態で、二流体ノズル9に印加している圧縮気体の圧力を下げる。制御部21は、圧縮気体の圧力を下げ切る前に、排液弁20を開放し、加圧液体配管19内の液体圧力を大気圧に開放する。これにより、排液弁20と二流体ノズル9の噴射部との高低差によるサイフォンの原理と、二流体ノズル9に印加されている圧縮気体が加圧液体配管19を逆流する力の両方が働き、二流体ノズル9側から排液弁20の方向に加圧液体配管19内に液体が流れる。このようにして、制御部21は、加圧液体配管19内の液体を本来の流れの方向と逆方向に流して、二流体ノズル9の先端から液体が垂れる液だれが発生しないように噴霧を停止する。
The two-fluid
次に、二流体噴霧装置における液だれ防止をする制御について、噴霧をするときに行われる停止制御を主に説明する。なお、ここで説明する設定値等は、一例である。 Next, stop control performed when spraying will be mainly described as control for preventing dripping in the two-fluid spray device. Note that the setting values and the like described here are examples.
図6は、制御部21の制御を説明するためのタイムチャートである。具体的には、気体圧力制御器7から出力される圧力及び3つの弁18,20の開閉のタイミングの関係を示すタイムチャートである。時刻t1は、噴霧指令が停止され、かつ弁18が閉止したときである。時刻t2は、噴霧指令が再度与えられたときである。時刻t3は、弁18が開放されたときである。
FIG. 6 is a time chart for explaining the control of the
図2は、二流体ノズル9の通常の噴霧中の状態を示している。気体圧力制御器7から出力される気体の圧力は、350kPaに設定される。加圧液体供給源1から出力される液体の圧力は、330kPaに設定される。弁23及び弁18は開路状態である。排液弁20は閉止状態である。
FIG. 2 shows a state during normal spraying of the two-
図3は、二流体ノズル9の噴霧動作を停止する状態を示している。図3を参照して、二流体ノズル9の停止制御の開始について説明する。弁23は開路状態である。排液弁20は閉止状態である。液だれ防止制御開始指令により、弁18が閉止されて、加圧液体供給源1からヘッダ液体配管への液体の供給が停止される。これと同時に、気体圧力制御器7の出力圧力が350kPaから0kPaまで、図6に示すエア圧下降変化率制限に従って、圧縮気体配管22内の圧力が徐々に0kPaになる。
FIG. 3 shows a state where the spraying operation of the two-
図4は、排液弁20が開放される状態を説明するための図である。図3に示す圧縮気体の圧力の低下中に、排液弁20が開放される。具体的には、気体圧力制御器7の出力の圧力計測値が予め設定された開放許可圧力Pop(例えば、150kPa)になったときに、排液弁20が開放される。排液弁20が開放されると、加圧液体供給系Lに圧縮空気が逆流する逆圧が生じるとともに、サイフォンの原理により、ノズルヘッダ(弁18と二流体ノズル9との間の配管)内の液体が排液弁20から外部に放出される方向に引き込まれる。
FIG. 4 is a diagram for explaining a state in which the
ここでは、気体圧力制御器7の出力圧力がある程度下がった後に、排液弁20を開放しているが、弁18を閉止した後であれば、排液弁20をいつ開放してもよい。弁18を閉止した直後では、気体圧力制御器7の出力圧力がほとんど下がっていない。このため、排液弁20を開放すると、圧縮空気による逆圧が強く、必要以上に液体が排出される可能性がある。一方、気体圧力制御器7の出力圧力をほぼ下げ切ると、圧縮空気による逆圧が弱い。このとき、配管内に気体溜りがあると、逆圧が弱くなることにより、気体溜りが膨らむことで、二流体ノズル9で液だれをする可能性がある。二流体ノズル9が液だれをしないのであれば、気体圧力制御器7の出力圧力をなるべく低くして、排液弁20を開放するのが望ましい。
Here, the
図5は、二流体ノズル9の噴霧動作を停止する状態を示している。図4に示す状態において開放状態にある排液弁20を、ノズルヘッダ内の液体が程よく排出されたところで、排液弁20を閉止する。例えば、排液弁20は、予め設定された開放時間Top開放することで、適切な量の液体を排出する。このように液体を排出することで、二流体ノズル9で液だれを発生させることなく、噴霧を停止することができる。ここで、ノズルヘッダ内の液体を全て排出する必要はなく、二流体ノズル9の液だれが生じない最低限の液体が排出されればよい。液体が純水などの比較的貴重な液体の場合、液体の排出量は少ない方が望ましい。
FIG. 5 shows a state where the spraying operation of the two-
図7は、二流体ノズル9と加圧液体供給系Lの配管及び圧縮気体供給系Gの配管とを接続する構成を示す構成図である。この構成は、気体溜りが加圧液体供給系Lの配管内に局所的に留まらないように、気体が二流体ノズル9から自然に排出されるように設計されている。
FIG. 7 is a configuration diagram showing a configuration in which the two-
本体ユニット100の入力側には、気体供給配管101の接続口103及び液体供給配管102の接続口104が接続される。本体ユニット100の出力側には、気体ヘッダ配管(気体主流配管)11及び液体ヘッダ配管(液体主流通路)12が接続される。
The
気体ヘッダ配管11は、圧縮気体供給源6からの圧縮気体を二流体ノズル9に供給する圧縮気体供給系Gの圧縮気体配管22である。
The gas header pipe 11 is a
液体ヘッダ配管12及び液体バッファ配管(液体枝流通路)13,13eは、加圧液体供給源1からの加圧液体を二流体ノズル9に供給する加圧液体供給系Lの加圧液体配管19である。加圧液体の供給が停止されている状態では、液体ヘッダ配管12は、内部にある加圧液体が終端(下流)側から始端(上流)側に流れるような構造をしている。例えば、液体ヘッダ配管12は、直線的な配管が加圧液体を供給する方向に対して上り勾配の傾斜をしている構造である。
The
液体バッファ配管13eは、液体ヘッダ配管12の終端に、終端の高さより高い位置で、鉛直方向の上向きに開口部が位置するように接続される。液体ヘッダ配管12の終端部に液体バッファ配管13eを設けることで、液体ヘッダ配管12に気体溜りが残らないようにする。複数の液体バッファ配管13は、液体ヘッダ配管12の終端部以外の部位で、鉛直方向の上向きに開口部が位置するように接続される。液体バッファ配管13の終端の高さは、液体ヘッダ配管12の終端の高さより高い位置まで延びている。液体バッファ配管13は、少なくとも1つの二流体ノズル9に繋がる。なお、液体バッファ配管13,13eは、内部に気体の気泡が残らないように、凸型部分が無いような構造が望ましい。
The
配管接続用継手(マニホールド)14は、各液体バッファ配管13,13eの開口部に接続される。各加圧液体配管15の両端には、配管接続用継手14の上端部と二流体ノズル9の液体供給部が接続される。加圧液体配管15は、二流体ノズル9に加圧液体を供給する。例えば、加圧液体配管15は、可撓性のビニール管である。
The pipe connection joint (manifold) 14 is connected to the openings of the
このような構成により、二流体ノズル9の噴霧中又は噴霧を一時的に停止したときに、液体ヘッダ配管12の内部に空気溜りが出来難く、かつ、次回の噴霧再開時に速やかに配管内の気体が二流体ノズル9から吐出される。
With such a configuration, when the two-
本実施形態によれば、二流体ノズル9と二流体ノズル9への液体の供給を止める弁18との間にある液体を排出するための排液弁20を設け、噴霧を停止するときに、排液弁20から液体を排出することで、二流体ノズル9の液だれを防止することができる。
According to the present embodiment, the
排液弁20を二流体ノズル9の噴霧口よりも低い位置に設けることで、重力に加えて、サイフォンの原理を利用して、液体を排出することができる。サイフォンの原理を利用することで、二流体ノズル9を満たしている液体も、配管内に引き込んで排出することができる。
By providing the
気体圧力制御器7の出力圧力が下がり切る前に、排液弁20を開放することで、二流体ノズル9に掛かる圧縮空気による逆圧を利用して、配管内の液体を排出することができる。
By opening the
二流体ノズル9から配管内の気体が自然に排出されるように構成することで、加圧液体供給系Lの配管に気体溜りができるのを防止することができる。これにより、次回の噴霧開始時に、気体が抜けるまでに時間が掛かるのを防止することができる。また、加圧液体供給系Lの配管内の気体溜りを防止することで、噴霧停止時の液だれ防止制御を確実に実行することができる。
By configuring the gas in the pipe to be naturally discharged from the two-
例えば、加圧液体供給系Lの配管内に気体溜りがある場合、サイフォンの原理が働かない可能性がある。また、二流体ノズル9に圧縮気体による逆圧が掛かることで、二流体ノズル9からの液だれが抑えられている場合、気体圧力制御器7の出力圧力が下がると、逆圧により圧縮されていた気体溜りが膨らむことで、二流体ノズル9から液だれする可能性がある。従って、気体溜りを作らないようにすることで、これらのような液だれが発生する状態を無くすことができる。
For example, if there is a gas reservoir in the piping of the pressurized liquid supply system L, the siphon principle may not work. In addition, when the reverse pressure by the compressed gas is applied to the two-
本実施形態の二流体ノズル9として、図8に示す二流体ノズル9aを用いることで、欠点である液だれを抑制することができ、利点である高性能な噴霧制御を実現することができる。
By using the two-
なお、実施形態において、液体ヘッダ配管12及び液体バッファ配管13,13eが一体形成された液体流通路が形成された構成でもよい。また、配管接続用継手14、及び加圧液体配管15を設けずに、液体バッファ配管13,13eの開口部に二流体ノズル9を直付けしてもよい。
In the embodiment, a configuration in which a liquid flow path in which the
排液弁20は、二流体ノズル9の噴射部よりも低い位置で、二流体ノズル9への加圧液体の供給を停止する弁18と二流体ノズル9との間の液体を一部でも排出できる位置あれば、何処に設けられていてもよい。具体的には、二流体ノズル9よりも低い位置であれば、液体ヘッダ配管12、液体バッファ配管(液体枝流通路)13,13e、配管接続用継手14、及び加圧液体配管15のいずれの液体流通路に、排液弁20が設けられていてもよい。
The
なお、本発明は上記実施形態そのままに限定されるものではなく、実施段階ではその要旨を逸脱しない範囲で構成要素を変形して具体化できる。また、上記実施形態に開示されている複数の構成要素の適宜な組み合わせにより、種々の発明を形成できる。例えば、実施形態に示される全構成要素から幾つかの構成要素を削除してもよい。さらに、異なる実施形態にわたる構成要素を適宜組み合わせてもよい。 Note that the present invention is not limited to the above-described embodiment as it is, and can be embodied by modifying constituent elements without departing from the scope of the invention in the implementation stage. In addition, various inventions can be formed by appropriately combining a plurality of components disclosed in the embodiment. For example, some components may be deleted from all the components shown in the embodiment. Furthermore, constituent elements over different embodiments may be appropriately combined.
Claims (10)
前記二流体ノズルに前記液体を供給する液体流通路と、
前記液体流通路に設けられ、前記二流体ノズルへの前記液体の供給を停止する液体供給停止手段と、
前記液体供給停止手段と前記二流体ノズルとの間の前記液体流通路内にある前記液体を排出する液体排出手段と
を備えることを特徴とする二流体噴霧装置。 A two-fluid nozzle that sprays an atomized fluid obtained by mixing liquid and gas;
A liquid flow path for supplying the liquid to the two-fluid nozzle;
A liquid supply stop means provided in the liquid flow passage for stopping the supply of the liquid to the two-fluid nozzle;
A two-fluid spraying device comprising: a liquid discharging unit that discharges the liquid in the liquid flow path between the liquid supply stop unit and the two-fluid nozzle.
を特徴とする請求項1に記載の二流体噴霧装置。 2. The two-fluid spraying device according to claim 1, wherein the liquid discharging means flows and discharges the liquid in a direction opposite to a flow direction of supplying the liquid to the two-fluid nozzle.
を特徴とする請求項1に記載の二流体噴霧装置。 The two-fluid spraying device according to claim 1, wherein the liquid discharge unit is located at a position lower than the two-fluid nozzle.
を特徴とする請求項1に記載の二流体噴霧装置。 The two-fluid spraying device according to claim 1, wherein the liquid discharging means discharges the liquid using gravity.
を特徴とする請求項1に記載の二流体噴霧装置。 The two-fluid spraying device according to claim 1, wherein the liquid discharging means discharges the liquid using a siphon principle.
を特徴とする請求項1に記載の二流体噴霧装置。 The two-fluid spray device according to claim 1, wherein the gas is a compressed gas under pressure.
を備えることを特徴とする請求項6に記載の二流体噴霧装置。 The two-fluid spraying device according to claim 6, further comprising a gas pressure control unit that controls a pressure applied to the compressed gas.
を特徴とする請求項6に記載の二流体噴霧装置。 The two-fluid spray device according to claim 6, wherein the two-fluid nozzle is pressurized in a direction in which the compressed gas flows backward through the liquid flow path.
噴霧を停止するときに、前記液体流通路に設けられた弁を閉止して、前記二流体ノズルへの前記液体の供給を停止し、
前記弁の閉止後に、前記弁と前記二流体ノズルとの間の前記液体流通路内にある前記液体を排出すること
を含むことを特徴とする二流体噴霧装置の制御方法。 A control method for a two-fluid spraying device comprising a two-fluid nozzle for spraying an atomizing fluid obtained by mixing liquid and gas supplied from a liquid flow path,
When stopping spraying, close the valve provided in the liquid flow passage to stop the supply of the liquid to the two-fluid nozzle,
A control method for a two-fluid spraying device, comprising: discharging the liquid in the liquid flow path between the valve and the two-fluid nozzle after the valve is closed.
前記気体の圧力を下げた後に、前記液体の排出を行うこと
を特徴とする請求項9に記載の二流体噴霧装置の制御方法。 The gas is a compressed gas under pressure,
The method for controlling a two-fluid spray device according to claim 9, wherein the liquid is discharged after the pressure of the gas is lowered.
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