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WO2015065159A1 - 이차 전지용 접착층 형성 방법 - Google Patents

이차 전지용 접착층 형성 방법 Download PDF

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WO2015065159A1
WO2015065159A1 PCT/KR2014/010522 KR2014010522W WO2015065159A1 WO 2015065159 A1 WO2015065159 A1 WO 2015065159A1 KR 2014010522 W KR2014010522 W KR 2014010522W WO 2015065159 A1 WO2015065159 A1 WO 2015065159A1
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WO
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adhesive layer
forming
mask
separator
polymer binder
Prior art date
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Ceased
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PCT/KR2014/010522
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English (en)
French (fr)
Inventor
유형균
진선미
이주성
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
LG Chem Ltd
Original Assignee
LG Chem Ltd
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Publication date
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Priority to JP2016527390A priority patent/JP6296260B2/ja
Priority to EP14856968.4A priority patent/EP2916373B1/en
Priority to US14/432,692 priority patent/US10193120B2/en
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    • Y02P70/50—Manufacturing or production processes characterised by the final manufactured product

Definitions

  • the present invention relates to a method for forming an adhesive layer for a secondary battery, and more particularly, to an adhesive layer forming method for forming an adhesive layer between a separator and an electrode of a secondary battery.
  • Lithium secondary batteries are widely used in various portable electronic devices such as personal computers, camcorders, portable telephones, portable CD players, PDAs, and the like because of their high energy density, high operating voltage, and excellent retention and life characteristics.
  • a lithium secondary battery in general, includes a cylindrical or rectangular case and an electrode assembly accommodated in the case together with an electrolyte.
  • the electrode assembly is a laminate of a positive electrode, a separator and a negative electrode, and has a winding structure or a stack structure in the form of a jelly-roll.
  • the electrode assembly composed of the anode / separator / cathode may be simply a stacked structure, but a plurality of electrodes (anode and cathode) may be laminated in a state where a separator is interposed therebetween and then bonded to each other by heating / pressurization. It may be. In this case, bonding of the electrode and the separator is achieved by heating / pressing the adhesive layer applied on the separator and the electrode in a state facing each other.
  • the separator is usually molded by an extrusion process using a polyolefin resin as a raw material, and a material such as a binder is coated in order to improve properties such as adhesion with an electrode.
  • the present invention has been proposed to solve such a conventional problem, the method for forming an adhesive layer to improve the ion transportability by minimizing the size of the adhesive layer bonding the separator and the electrode, the adhesive layer composite or electrode assembly formed with such an adhesive layer and the adhesive layer It is an object to provide a mold used for forming.
  • Method for forming an adhesive layer of a secondary battery for achieving the above object comprises the steps of manufacturing a mask having opening holes opened in the vertical direction; Etching the photoresist layer through the mask to form gap grooves corresponding to the openings of the mask in the photoresist layer; Pouring polydimethylsiloxane on the photoresist film on which the pore grooves are formed and curing, and separating the photoresist film and the cured polydimethylsiloxane to produce a polydimethylsiloxane mold having irregularities formed therein; Applying a polymer binder slurry to the polydimethylsiloxane mold having the uneven portion formed therein; And transferring the polymer binder slurry applied to the polydimethylsiloxane mold to the surface of the separator or the electrode of the secondary battery to form an adhesive layer on the surface of the separator or the electrode, in which a pore portion opened in the vertical direction is formed. It is done.
  • the openings have a regular arrangement, a mask having a regular pattern formed by the openings may be manufactured.
  • the uneven portion may include a protrusion formed to protrude at a position corresponding to the gap groove formed in the photosensitive film, and the uneven portion may be formed with a relatively indented groove in comparison with the protrusion.
  • the polymer binder slurry may be applied to the protrusion or the indentation groove.
  • the step of applying the polymer binder slurry, the step of applying the polymer binder slurry to the indentation groove, the step of forming the adhesive layer, the voids having the same pattern as the regular pattern formed by the opening holes are formed
  • An adhesive layer can be formed.
  • applying the polymer binder slurry may include applying the polymer binder slurry to the protrusions, and forming the adhesive layer, wherein a gap having a pattern opposite to a regular pattern formed by the opening holes is formed.
  • An adhesive layer can be formed.
  • the manufacturing of the mask may include manufacturing a mask having rectangular openings.
  • the opening hole may have a width * length specification of 0.5 ⁇ m * 0.5 ⁇ m to 2 ⁇ m * 2 ⁇ m.
  • the mask can be fabricated using a regular pattern designed in advance through the CAD.
  • the mask is a chrome mask.
  • the method further comprises performing O 2 plasma surface treatment or corona surface treatment of the polydimethylsiloxane mold prior to applying the polymer binder slurry.
  • the photoresist is photoetched to form a fine pattern.
  • the forming of the adhesive layer may include transferring the polymer binder slurry coated on the polydimethylsiloxane mold to a porous coating layer including inorganic particles formed on a surface of the separator of the secondary battery, and forming an adhesive layer having voids open in the vertical direction. It may be formed on the porous coating layer.
  • Adhesive layer composite according to another aspect of the present invention for achieving the above object the adhesive layer can be formed on the surface is opened in the vertical direction, the gap formed with a gap pattern having a regular pattern.
  • the adhesive layer composite may include an electrode of the secondary battery and the adhesive layer, and the adhesive layer may be formed on a surface of the electrode of the secondary battery.
  • the adhesive layer composite may include a separator of the secondary battery and the adhesive layer, and the adhesive layer may be formed on a surface of the separator of the secondary battery.
  • the adhesive layer may be formed on a porous coating layer including inorganic particles formed on a surface of the separator of the secondary battery.
  • the adhesive layer may include a binder region formed of the void portion and the binder polymer, and the void portion or the binder region may form a regular pattern.
  • the binder region or the void portion may have a regular rectangular shape when viewed from the top.
  • the binder region or the pore portion may have a vertical length of 0.5 ⁇ m * 0.5 ⁇ m to 2 ⁇ m * 2 ⁇ m.
  • the adhesive layer may have a thickness of 0.5 ⁇ m to 2 ⁇ m.
  • An electrode assembly according to another aspect of the present invention for achieving the above object may include the above-described adhesive layer composite.
  • Polydimethylsiloxane mold according to another aspect of the present invention for achieving the above object is a mold used to transfer the polymer binder slurry to the separator or electrode surface, characterized in that the irregularities having a regular pattern on the surface is formed .
  • the uneven portion may be formed by regularly repeating protrusions protruding in a direction perpendicular to the surface and indentation grooves indented in a direction perpendicular to the surface.
  • the height of the protrusion may be 0.5 ⁇ m to 2 ⁇ m.
  • the protrusions may have a width * length specification of 0.5 ⁇ m * 0.5 ⁇ m to 2 ⁇ m * 2 ⁇ m.
  • the present invention has the advantage of improving the quality of a secondary battery by improving the transferability of lithium ions by minimizing the size of the adhesive layer between the electrode and the separator that interferes with the lithium ion transferability, in particular, the surface area.
  • the present invention forms an adhesive layer having a regular fine pattern on the surface of the electrode or the separator, compared to the conventional technology of forming an adhesive coating layer using a binder material, it saves the adhesive layer raw material input in the secondary battery manufacturing process Therefore, there is an advantage in reducing the cost incurred in the manufacturing process of the secondary battery.
  • FIG. 1 is a flow chart illustrating a method of forming an adhesive layer on a secondary displacer, in accordance with an embodiment of the invention.
  • 2 to 5 is a view showing step by step the process of manufacturing a polydimethylsiloxane mold with irregularities formed in accordance with an embodiment of the present invention.
  • FIG. 6 is a view illustrating a chrome mask having opening holes opened in a vertical direction according to an embodiment of the present invention.
  • FIG. 7 is a view of the substrate on which the photosensitive film shown in FIG. 3 is formed.
  • FIG. 8 is a view from above of the PDMS mold shown in FIG. 5.
  • FIG. 9 is a view showing a polymer binder slurry applied to the PDMS mold.
  • FIG. 10 is a view of the PDMS mold shown in FIG. 9 from above.
  • FIG. 11 is a view showing an adhesive layer composite having an adhesive layer formed on a surface of an electrode of a secondary battery according to an embodiment of the present invention.
  • FIG. 12 is a view showing an adhesive layer composite having an adhesive layer formed on a surface of a separator of a secondary battery according to an embodiment of the present invention.
  • FIG. 13 is a view showing an electrode assembly including an adhesive layer composite according to an embodiment of the present invention.
  • FIG. 1 is a flowchart illustrating a method of forming an adhesive layer on a secondary battery according to an embodiment of the present invention.
  • 2 to 5 is a view showing step by step the process of manufacturing a polydimethylsiloxane mold with irregularities formed in accordance with an embodiment of the present invention.
  • FIG. 6 is a view illustrating a chrome mask having opening holes opened in a vertical direction according to an embodiment of the present invention.
  • a chrome mask 30 in which opening holes are designed in advance is manufactured.
  • the opening holes of the chrome mask 30 are manufactured using auto CAD.
  • the chrome mask 30 has a regular arrangement of the opening holes 32, so that a regular pattern may be formed by the opening holes 32.
  • the regular pattern of the chrome mask 30 may be formed by a regular arrangement of the opening 31 formed between the structure 31 and the structure of the chrome mask 30.
  • the opening hole 32 may have a rectangular shape, and when viewed from the top, may have a rectangular shape.
  • the opening hole 32 of the chromium mask 30 may have a length of 0.5 ⁇ m to 2 ⁇ m.
  • the thickness of the chrome mask 30 may be 0.5 ⁇ m to 2 ⁇ m, and the thickness of the opening hole 32 of the chrome mask 30 may also be 0.5 ⁇ m to 2 ⁇ m.
  • the opening hole 32 forming the regular pattern is formed in the size of the width, length, height of 2 ⁇ m * 2 ⁇ m * 2 ⁇ m or less, the size and opening of the opening hole 32 The spacing between the holes 32 is the same.
  • the photoresist film 20 is formed on the substrate 10, and the photochromic film 20 is disposed on the photoresist film 20.
  • a pattern corresponding to the pattern formed by the opening holes 32 of the 30 is formed in the photosensitive film 20. That is, as shown in FIG. 3, the exposed portion of the photosensitive film 20 is removed and the unexposed portion remains on the substrate 10. Therefore, the gap grooves 21 corresponding to the opening holes 32 of the mask 30 are formed in the photosensitive film 20.
  • a pattern corresponding to the pattern of the opening holes 32 of the chrome mask 30 is formed.
  • FIG. 7 is a view of the substrate on which the photosensitive film shown in FIG. 3 is formed. Referring to FIGS. 7 and 3, the same pattern as that formed by the opening hole 32 of the chrome mask 30 is removed from the photosensitive film 20 so that the opening 32 of the mask 30 is formed in the photosensitive film 20. The gaps 21 corresponding to the holes may be formed.
  • step S105 the polydimethylsiloxane (hereinafter referred to as 'PDMS') in the photoresist film 20 in which a regular pattern corresponding to the opening holes 32 of the mask 30 is formed by the gap grooves 21.
  • the process of pouring the 40 and curing the PDMS 40 is performed. That is, as shown in FIG. 4, after the upper surface of the photoresist film 20 is immersed and the PDMS 40 is poured to fill the gap grooves 21 formed between the photoresist films 20, the PDMS 40 is cured. Let's do it.
  • step S107 the cured PDMS is separated from the photosensitive film 20, thereby preparing a PDMS mold 50 in which the uneven parts 51 as illustrated in FIG. 5 are formed.
  • FIG. 8 is a view from above of the PDMS mold shown in FIG. 5. 8 and 5, the structure of the uneven portion formed in the PDMS mold 50 is shown.
  • the uneven portion 51 of the PDMS mold 50 has an inverse shape with the pattern formed on the substrate 10 by the photosensitive film 20 as compared with the pattern formed on the substrate 10 by the photosensitive film 20. This can be easily understood with reference to FIGS. 2 to 8.
  • the uneven portion 51 is formed on the surface of the PDMS mold 50.
  • the concave-convex portion 51 includes a protrusion 51a formed to protrude at a position corresponding to the cavity groove 21 formed in the photosensitive film 20.
  • the uneven portion 50 is formed with a recessed groove 51b relatively indented as compared with the protrusion 51a.
  • the uneven portion 51 having a regular pattern may be formed on the surface of the PDMS mold 50. More specifically, the uneven portion 51 is a protrusion 51a protruding in a direction perpendicular to the surface of the PDMS mold 50 and an indentation groove 51b indented in a direction perpendicular to the surface of the PDMS mold. This may be repeated regularly.
  • the height of the protrusion 51a may be 0.5 ⁇ m to 2 ⁇ m.
  • the height of the protrusion 51a may be determined by the thickness of the photosensitive film 20 described above.
  • the horizontal * vertical size of the protrusion 51a may be 0.5 ⁇ m * 0.5 ⁇ m to 2 ⁇ m * 2 ⁇ m.
  • the size of such protrusion 51a can be said to be substantially the same as the size of the above-mentioned void groove 21 of the photosensitive film 20.
  • the projection 51a of the PDMS mold 50 is formed in a horizontal * vertical * height is 2 ⁇ m * 2 ⁇ m * 2 ⁇ m standard, the interval between the protrusions 51a is formed to 2 ⁇ m do.
  • step S109 in order to remove the foreign matter and increase the adhesive force of the polymer binder slurry, the surface on which the uneven portion 51 is formed of the surface of the PDMS mold 50 is surface treated.
  • the PDMS mold 50 may be surface treated using an O 2 plasma surface treatment machine, or the PDMS mold 50 may be surface treated using a corona treatment machine.
  • step S111 a polymer binder slurry 62 is applied to adhere the electrode and the separator to the surface of the PDMS mold 50 having the fine pattern formed thereon.
  • the polymer binder slurry 62 is a mixture containing a binder polymer and a solvent.
  • the binder polymer may be polyvinylidene fluoride-co-hexafluoropropylene, polyvinylidene fluoride-co-trichloroethylene, polymethylmethacrylate , Polybutylacrylate, polyacrylonitrile, polyvinylpyrrolidone, polyvinylacetate, ethylene vinyl acetate copolymer (polyethylene-co-vinyl acetate), polyethylene oxide ( polyethylene oxide, polyarylate, cellulose acetate, cellulose acetate butyrate, cellulose acetate propionate, cyanoethylpullulan, cyano Ethylpolyvinyl alcohol (cyanoethylpolyv) inylalcohol, cyanoethylcellulose, cyanoethylsucrose, pullulan and carboxyl methyl cellulose can be used.
  • the solvent is not particularly limited in its kind but may be acetone, methyl ethyl ketone (MEK), toluene, ethyl acetate, butyl acetate, methanol, ethanol, isopropyl alcohol, water, hexane, cyclohexane Dimethyl formamide (DMF), dimethyl acetamide (DMAc), N-methyl-2-pyrrolidone (NMP) and mixtures of these solvents can be used.
  • MEK methyl ethyl ketone
  • DMF dimethyl acetamide
  • NMP N-methyl-2-pyrrolidone
  • the polymer binder slurry 62 is applied to any one of the protrusions 51a or the indentation grooves 51a formed in the PDMS mold 50.
  • the polymer binder slurry 62 may be applied to the protrusion 51a formed on the PDMS mold 50 using a roller or the like.
  • 9 is a view showing a polymer binder slurry applied to the PDMS mold.
  • FIG. 9A shows a state where the polymer binder slurry 62 is applied to the projection 51a.
  • the entire upper surface of the PDMS mold 50 is coated with the polymer binder slurry 62, and the polymer binder slurry 62 applied to the protrusions 51a of the PDMS mold 50 is removed to thereby indent the groove 51b. Only the polymer binder slurry 62 may be applied. 9B illustrates a state in which the polymer binder slurry 62 is applied to the indentation groove 51b.
  • FIG. 10 is a view of the PDMS mold shown in FIG. 9 from above.
  • FIG. 10 (a) illustrates a state in which the polymer binder slurry 62 is applied to the protrusion 51a of the PDMS mold 50, and in FIG. 10 (b), the polymer binder slurry 62 is the PDMS mold ( The figure applied to the indentation groove 51b of 50) is illustrated.
  • FIG. 10A may be referred to as a view of FIG. 9A from the top
  • FIG. 10B may be referred to as a view of FIG. 9B from the top.
  • step S113 after attaching the rear surface of the PDMS mold 50 (that is, the opposite side of the surface on which the protrusions are formed) to the flat plate or the roll, the polymer binder slurry 62 applied to the PDMS mold 50 is electrode or The surface of the separator is transferred.
  • the polymer binder slurry 62 applied to the PDMS mold 50 may be transferred to a porous coating layer including inorganic particles. That is, when the porous coating layer including the inorganic particles is formed on the surface of the separator of the secondary battery, the polymer binder slurry 62 coated on the PDMS mold 50 may be transferred to the porous coating layer.
  • the polymer binder slurry 62 applied to the PDMS mold 50 is transferred onto the electrode, the surface of the separator, or the porous coating layer formed in the PDMS mold 50, and thus, the void portion 61 having a regular pattern.
  • the adhesive layer is formed on the surface of the electrode, the separator, the porous coating layer.
  • the adhesive layer 60 includes a void portion 61 and a binder region 62 made of a binder polymer.
  • the binder region 62 refers to a portion where a solvent is removed from the polymer binder slurry 62 applied to a surface of an electrode or the like. Meanwhile, the void 61 or the binder region 62 may form a regular pattern.
  • the binder region 62 has a pattern in which the rectangular shape is regularly repeated when viewed from the top.
  • the binder region 62 may have a width * length specification of 0.5 ⁇ m * 0.5 ⁇ m to 2 ⁇ m * 2 ⁇ m.
  • the gap 61 has a pattern in which the rectangular shape is regularly repeated when viewed from the top.
  • the void portion 61 may have a horizontal * vertical size of 0.5 ⁇ m * 0.5 ⁇ m to 2 ⁇ m * 2 ⁇ m.
  • the thickness of the adhesive layer 60 may be 0.5 ⁇ m to 2 ⁇ m.
  • an adhesive layer composite having an adhesive layer having a regular pattern on the surface can be prepared. More specifically, an adhesive layer composite including an electrode and an adhesive layer of a secondary battery, and an adhesive layer composite including a separator and an adhesive layer of a secondary battery may be manufactured.
  • the adhesive layer composite includes an adhesive layer 60 in which an electrode 80 and a gap 61 of a secondary battery are formed.
  • the adhesive layer 60 is formed on the surface 80 of the electrode of the secondary battery constituting the adhesive layer composite.
  • the gap 61 is formed in the adhesive layer 60, and the gap 61 is open in the vertical direction.
  • such an adhesive layer composite may be combined with a separator or the like via the adhesive layer 60.
  • FIG. 11 illustrates an embodiment in which an adhesive layer is formed on a surface of an anode, an adhesive layer may be formed on a surface of a cathode.
  • the adhesive layer composite may include an adhesive layer 60 on which a separator 90 and a pore 61 of a secondary battery are formed.
  • the adhesive layer 60 is formed on a surface of the separator 90 of the secondary battery constituting the adhesive layer composite.
  • the adhesive layer composite may be combined with a separator or the like through the adhesive layer 60.
  • the porous coating layer may be further formed on the separator 90, in this case, the adhesive layer composite may be formed on the surface of the porous coating layer.
  • the adhesive layer 60 is shown as being formed on one surface of the surface of the electrode 80 and the surface of the separator 90, respectively, but the adhesive layer is formed on the other surface of each surface. Of course, it may be formed on both sides of the surface.
  • the pressure (that is, the transfer pressure) is preferably stronger than the conventional transfer pressure. That is, when the transfer plate or transfer roller transfers the polymer binder slurry 60, the transfer pressure applied to the surface of the electrode, the ceramic layer or the separator is preferably stronger than the transfer pressure applied when forming the existing adhesive layer. .
  • the transfer pressure is more preferably 0.3 Mpa or more.
  • FIG. 13 is a view showing an electrode assembly including an adhesive layer composite according to an embodiment of the present invention.
  • the cathode 70 and the separator 90, the anode 80 and the separator 90 are bonded to each other by a polymer binder slurry transferred in a regularly repeated pattern to form the electrode assembly A.
  • the electrode assembly A has one anode 70, a separator 90, and a cathode 80 sequentially bonded to each other, but the electrode assembly A includes two or more anodes 80, The separator 90 and the cathode 70 may be stacked while being sequentially bonded.
  • the present invention improves the transferability of lithium ions by minimizing the size of the adhesive layer between the electrode and the separator.
  • the present invention forms an adhesive layer having a regularly repeated pattern on the surface of the porous coating layer when the porous coating layer is formed on the surface of the electrode, the separator or the separator, compared with the conventional technology of forming an adhesive coating layer using a binder material.
  • the adhesive layer forming material introduced during the secondary battery manufacturing process is saved.

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Abstract

본 발명은 리튬 이온의 전달성을 방해하는 전극과 분리막 사이의 접착층의 크기를 최소화함으로써, 리튬 이온의 전달성을 향상시켜 이차 전지의 품질을 향상시킨다.

Description

이차 전지용 접착층 형성 방법
본 발명은 이차 전지용 접착층 형성 방법에 관한 것으로서, 더욱 상세하게는 이차 전지의 분리막과 전극 간의 접착층을 형성하는 접착층 형성 방법에 관한 것이다.
본 출원은 2013년 11월 04일자로 출원된 한국 특허출원 번호 제10-2013-0133077호 및 2014년 11월 04일자로 출원된 한국 특허출원 번호 제10-2014-0151949호에 대한 우선권주장출원으로서, 해당 출원의 명세서 및 도면에 개시된 모든 내용은 인용에 의해 본 출원에 원용된다.
리튬 이차전지는 에너지 밀도가 높고, 작동전압이 높을 뿐만 아니라 우수한 보존 및 수명특성을 보이는 등 많은 장점이 있어 개인용 컴퓨터, 캠코더, 휴대용 전화기, 휴대용 CD 플레이어, PDA 등 각종 휴대용 전자기기에 널리 사용되고 있다.
일반적으로 리튬 이차전지는 원통형 또는 각형의 케이스와, 전해질과 함께 상기 케이스에 수용되는 전극 조립체를 포함한다. 여기서, 전극 조립체는 양극, 분리막(Separator) 및 음극이 적층된 것으로서, 젤리-롤(Jelly-Roll) 형태의 권취 구조 또는 스택 구조를 갖는다.
양극/분리막/음극으로 이루어져 있는 전극조립체는, 단순히 적층된 구조로 이루어질 수도 있지만, 다수의 전극(양극 및 음극)들을 분리막이 개재된 상태에서 적층한 후 가열/가압에 의해 상호 결합시킨 구조로 이루어질 수도 있다. 이 경우, 전극과 분리막의 결합은 분리막 상에 도포된 접착층과 전극을 상호 대면한 상태에서 가열/가압함으로써 달성된다. 여기서, 분리막은 통상 폴리올레핀(polyolefine) 수지를 원료로 하는 압출 공정에 의해 성형되고, 전극과의 접착력 등과 같은 특성을 향상시키기 위하여 바인더 등의 물질이 코팅된다.
한편 분리막에 바인더 물질을 코팅하기 위하여, 종래에는 겔 폴리머(gel polymer) 코팅 기술, 전기 방사 기술 등이 이용되었다.
그런데 이러한 코팅 기술은, 분리막에 표면 전체에 바인더 물질을 코팅하는 것으로, 리튬 이온의 전달성을 방해하는 문제점이 있다. 즉, 분리막의 형성된 바인더 물질의 코팅층이 전극과 접착되고, 이에 따라 상기 코팅층은 전극에서 발생되는 리튬 이온의 전달성을 방해하는 요인으로 작용한다.
본 발명은 이러한 종래의 문제점을 해결하기 위하여 제안된 것으로, 분리막과 전극을 결합시키는 접착층의 사이즈를 최소화하여 이온 전달성을 향상시키는 접착층 형성 방법, 이러한 접착층이 형성된 접착층 복합체 또는 전극 조립체 및 상기 접착층을 형성하는데 사용되는 몰드를 제공하는데 그 목적이 있다.
본 발명의 다른 목적 및 장점들은 하기의 설명에 의해서 이해될 수 있으며, 본 발명의 실시예에 의해 보다 분명하게 알게 될 것이다. 또한, 본 발명의 목적 및 장점들은 특허 청구 범위에 나타낸 수단 및 그 조합에 의해 실현될 수 있음을 쉽게 알 수 있을 것이다.
상기 목적을 달성하기 위한 본 발명의 일 측면에 따른 이차 전지의 접착층을 형성하는 방법은, 상하 방향으로 개방된 개구홀들을 가지는 마스크를 제작하는 단계; 상기 마스크를 통해 감광막을 식각하여 상기 감광막에 상기 마스크의 개구홀들과 대응되는 공극홈들을 형성시키는 단계; 상기 공극홈들이 형성된 감광막 상에 폴리디메틸실록산을 붓고 경화시킨 후, 상기 감광막과 상기 경화된 폴리디메틸실록산을 분리하여 요철부가 형성된 폴리디메틸실록산 몰드를 제작하는 단계; 상기 요철부가 형성된 폴리디메틸실록산 몰드에 고분자 바인더 슬러리를 도포하는 단계; 및 상기 폴리디메틸실록산 몰드에 도포된 고분자 바인더 슬러리를 이차 전지의 분리막 또는 전극의 표면에 전사하여 상하 방향으로 개방된 공극부가 형성된 접착층을 상기 분리막 또는 상기 전극의 표면에 형성시키는 단계를 포함하는 것을 특징으로 한다.
상기 마스크를 제작하는 단계는, 상기 개구홀들이 규칙적인 배열을 가짐으로써, 상기 개구홀들에 의해 규칙적인 패턴이 형성된 마스크를 제작할 수 있다.
상기 요철부는, 상기 감광막에 형성된 공극홈과 대응되는 위치에 돌출되도록 형성된 돌기를 포함하고, 상기 요철부에는, 상기 돌기와 비교할 때 상대적으로 만입된 만입홈이 형성될 수 있다.
상기 고분자 바인더 슬러리를 도포하는 단계는, 상기 돌기 또는 상기 만입홈에 상기 고분자 바인더 슬러리를 도포할 수 있다.
일 예로, 상기 고분자 바인더 슬러리를 도포하는 단계는, 상기 만입홈에 상기 고분자 바인더 슬러리를 도포하고, 상기 접착층을 형성하는 단계는, 상기 개구홀들이 형성하는 규칙적인 패턴과 동일한 패턴을 갖는 공극부가 형성된 접착층을 형성시킬 수 있다.
다른 예로, 상기 고분자 바인더 슬러리를 도포하는 단계는, 상기 돌기에 상기 고분자 바인더 슬러리를 도포하고, 상기 접착층을 형성시키는 단계는, 상기 개구홀들이 형성하는 규칙적인 패턴과 반대되는 패턴을 갖는 공극부가 형성된 접착층을 형성시킬 수 있다.
상기 마스크를 제작하는 단계는, 직사각 형상의 개구홀들을 가지는 마스크를 제작할 수 있다.
상기 개구홀은, 가로 * 세로의 규격이 0.5 ㎛ * 0.5 ㎛ 내지 2 ㎛ * 2 ㎛ 일 수 있다.
캐드를 통해 사전에 설계된 규칙적인 패턴을 이용하여 상기 마스크가 제작될 수 있다.
바람직하게, 상기 마스크는 크롬 마스크이다.
더욱 바람직하게, 상기 방법은, 고분자 바인더 슬러리를 도포하는 단계 이전에, 상기 폴리디메틸실록산 몰드를 O2 플라즈마 표면 처리 또는 코로나 표면 처리를 수행하는 단계를 더 포함한다.
상기 감광막에 공극홈들을 형성시키는 단계는 상기 감광막을 광 식각하여 미세 패턴을 형성한다.
상기 접착층을 형성시키는 단계는, 상기 폴리디메틸실록산 몰드에 도포된 고분자 바인더 슬러리를 상기 이차 전지의 분리막 표면에 형성된 무기물 입자를 포함하는 다공성 코팅층에 전사하여, 상하 방향으로 개방된 공극부가 형성된 접착층을 상기 다공성 코팅층 상에 형성시킬 수 있다.
상기 목적을 달성하기 위한 본 발명의 다른 측면에 따른 접착층 복합체는, 상하 방향으로 개방되고, 규칙적인 패턴을 갖는 공극부가 형성된 접착층이 표면에 형성될 수 있다.
상기 접착층 복합체는, 이차 전지의 전극 및 상기 접착층을 포함하고, 상기 접착층은 상기 이차 전지의 전극의 표면에 형성될 수 있다.
상기 접착층 복합체는, 이차 전지의 분리막 및 상기 접착층을 포함하고, 상기 접착층은 상기 이차 전지의 분리막의 표면에 형성될 수 있다.
상기 접착층은, 상기 이차 전지의 분리막 표면에 형성된 무기물 입자를 포함하는 다공성 코팅층 상에 형성될 수 있다.
상기 접착층은, 상기 공극부 및 바인더 고분자로 이루어진 바인더 영역을 포함하고, 상기 공극부 또는 상기 바인더 영역은, 규칙적인 패턴을 형성할 수 있다.
상기 바인더 영역 또는 상기 공극부는, 상부에서 바라볼 때 직사각 형상이 규칙적으로 반복될 수 있다.
이때, 상기 바인더 영역 또는 상기 공극부는, 가로 * 세로의 규격이 0.5 ㎛ * 0.5 ㎛ 내지 2 ㎛ * 2 ㎛ 일 수 있다.
상기 접착층의 두께는, 0.5 ㎛ 내지 2 ㎛ 일 수 있다.
상기 목적을 달성하기 위한 본 발명의 또 다른 측면에 따른 전극 조립체는, 상술한 접착층 복합체를 포함할 수 있다.
상기 목적을 달성하기 위한 본 발명의 또 다른 측면에 따른 폴리디메틸실록산 몰드는, 분리막 또는 전극 표면에 고분자 바인더 슬러리를 전사하는데 사용되는 몰드로서, 표면에 규칙적인 패턴을 가지는 요철부가 형성된 것을 특징으로 한다.
상기 요철부는, 상기 표면과 수직한 방향으로 돌출된 돌기 및 상기 표면과 수직한 방향으로 만입된 만입홈이 규칙적으로 반복되어 형성될 수 있다.
상기 돌기의 높이는 0.5 ㎛ 내지 2 ㎛ 일 수 있다.
상기 돌기는, 가로 * 세로의 규격이 0.5 ㎛ * 0.5 ㎛ 내지 2 ㎛ * 2 ㎛ 일 수 있다.
본 발명은 리튬 이온의 전달성을 방해하는 전극과 분리막 사이의 접착층의 크기를, 특히 표면적을, 최소화함으로써, 리튬 이온의 전달성을 향상시켜 이차 전지의 품질을 향상시키는 장점이 있다.
또한, 본 발명은 규칙적인 미세한 패턴을 가지는 접착층을 전극 또는 분리막 표면에 형성시키기 때문에, 바인더 물질을 이용하여 접착 코팅층을 형성하는 종래의 기술과 비교하여, 이차 전지 제조과정에서 투입되는 접착층 원료를 절약하여 이차 전지의 제조공정에서 발생하는 비용도 절감시키는 이점이 있다.
본 명세서에 첨부되는 다음의 도면들은 본 발명의 바람직한 실시예를 예시하는 것이며, 발명을 실시하기 위한 구체적인 내용과 함께 본 발명의 기술사상을 더욱 이해시키는 역할을 하는 것이므로, 본 발명은 그러한 도면에 기재된 사항에만 한정되어 해석되어서는 아니 된다.
도 1은 본 발명의 실시예에 따른, 이차 전치에 접착층을 형성하는 방법을 설명하는 흐름도이다.
도 2 내지 도 5는 본 발명의 실시예에 따른, 요철부가 형성된 폴리디메틸실록산 몰드가 제작되는 과정을 단계적으로 도시한 도면이다.
도 6은 본 발명의 실시예에 따른, 상하 방향으로 개방된 개구홀들이 형성된 크롬 마스크를 나타낸 도면이다.
도 7은 도 3에 도시된 감광막이 형성된 기판을 상부에서 바라본 도면이다.
도 8은 도 5에 도시된 PDMS 몰드를 상부에서 바라본 도면이다.
도 9는 PDMS 몰드에 고분자 바인더 슬러리가 도포된 모습을 나타낸 도면이다.
도 10은 도 9에 도시된 PDMS 몰드를 상부에서 바라본 도면이다.
도 11은 본 발명의 실시예에 따른, 이차 전지의 전극의 표면에 접착층이 형성된 접착층 복합체를 나타내는 도면이다.
도 12는 본 발명의 실시예에 따른, 이차 전지의 분리막의 표면에 접착층이 형성된 접착층 복합체를 나타내는 도면이다.
도 13은 본 발명의 실시예에 따른, 접착층 복합체를 포함하는 전극 조립체를 나타내는 도면이다.
상술한 목적, 특징 및 장점은 첨부된 도면과 관련한 다음의 상세한 설명을 통하여 보다 분명해 질 것이며, 그에 따라 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자가 본 발명의 기술적 사상을 용이하게 실시할 수 있을 것이다. 또한, 본 발명을 설명함에 있어서 본 발명과 관련된 공지 기술에 대한 구체적인 설명이 본 발명의 요지를 불필요하게 흐릴 수 있다고 판단되는 경우에 그 상세한 설명을 생략하기로 한다. 이하, 첨부된 도면을 참조하여 본 발명에 따른 바람직한 일 실시예를 상세히 설명하기로 한다.
도 1은 본 발명의 실시예에 따른, 이차 전지에 접착층을 형성하는 방법을 설명하는 흐름도이다.
도 2 내지 도 5는 본 발명의 실시예에 따른, 요철부가 형성된 폴리디메틸실록산 몰드가 제작되는 과정을 단계적으로 도시한 도면이다.
도 6은 본 발명의 실시예에 따른, 상하 방향으로 개방된 개구홀들이 형성된 크롬 마스크를 나타낸 도면이다.
도 1 내지 도 6을 참조하면, S101 단계에서 사전에 설계된 개구홀들이 형성된 크롬 마스크(30)가 제작된다. 바람직하게, 크롬 마스크(30)의 개구홀들은 오토캐드(auto CAD)를 이용하여 제작된다.
바람직하게는, 상기 크롬 마스크(30)는, 상기 개구홀(32)들이 규칙적인 배열을 가짐으로써, 상기 개구홀(32)들에 의해 규칙적인 패턴이 형성될 수 있다.
상기 크롬 마스크(30)의 규칙적인 패턴은, 크롬 마스크(30)의 구조물(31)과 구조물 사이에 형성된 개구홀(32)의 규칙적인 배치에 의해 형성될 수 있다. 일 실시예에 따르면, 상기 개구홀(32)은, 직육면 형상을 가질 수 있고, 상부에서 바라볼 때, 직사각 형상일 수 있다.
바람직하게는, 상기 크롬 마스크(30)의 개구홀(32)은, 가로 * 세로의 규격이 0.5 ㎛ 내지 2 ㎛ 일 수 있다.
또한 바람직하게는, 상기 크롬 마스크(30)의 두께는, 0.5 ㎛ 내지 2 ㎛ 일 수 있으며, 상기 크롬 마스크(30)의 개구홀(32)의 두께도 0.5 ㎛ 내지 2 ㎛ 일 수 있다.
일 실시예에 따르면, 상기 규칙적인 패턴을 형성하는 개구홀(32)은 가로, 세로, 높이가 2㎛ * 2㎛ * 2㎛ 크기 이하의 사이즈로 형성되며, 개구홀(32)의 크기와 개구홀(32) 간의 간격이 동일하다.
S103 단계에서, 기판(10) 위에 감광막(20)을 형성시키고, 상기 제작한 크롬 마스크(30)를 감광막(20) 위에 배치시킨 상태에서, 광을 조사하는 광 식각 공정을 진행하여, 상기 크롬 마스크(30)의 개구홀(32)들이 형성하는 패턴과 대응되는 패턴을 상기 감광막(20)에 형성시킨다. 즉, 도 3에 도시된 바와 같이, 감광막(20)에서 노광된 부분은 제거되고 노광되지 않은 부분은 기판(10) 위에 남게 된다. 따라서, 감광막(20)에는 상기 마스크(30)의 개구홀(32)들과 대응되는 공극홈(21)들이 형성된다. 상기 크롬 마스크(30)의 개구홀들(32)의 패턴과 대응되는 패턴이 형성된다.
도 7은 도 3에 도시된 감광막이 형성된 기판을 상부에서 바라본 도면이다. 도 7 및 도 3을 참조하면, 크롬 마스크(30)의 개구홀(32)이 형성하는 패턴과 동일한 패턴이 감광막(20)으로부터 제거되어 감광막(20)에는 상기 마스크(30)의 개구홀(32)들과 대응되는 공극홈(21)들이 형성될 수 있다.
S105 단계에서, 상기 공극홈(21)들에 의해 상기 마스크(30)의 개구홀(32)들과 대응되는 규칙적인 패턴이 형성된 감광막(20)에 폴리디메틸실록산(polydimethylsiloxane : 이하 'PDMS'로 지칭함)(40)을 붓고 상기 PDMS(40)를 경화시키는 공정이 진행된다. 즉, 도 4에 도시된 바와 같이, 감광막(20)의 상면이 잠기고, 감광막(20)에 사이에 형성된 공극홈(21)이 채워지도록 PDMS(40)를 부은 후, 상기 PDMS(40)를 경화시킨다.
S107 단계에서, 경화된 PDMS를 감광막(20)으로부터 분리하여, 도 5와 같은 요철부(51)가 형성된 PDMS 몰드(mold)(50)를 제작한다. 도 8은 도 5에 도시된 PDMS 몰드를 상부에서 바라본 도면이다. 도 8 및 도 5를 참조하면, PDMS 몰드(50)에 형성된 요철부의 구조가 도시되어 있다. 상기 PDMS 몰드(50)의 요철부(51)는, 감광막(20)에 의해 기판(10)에 형성된 패턴과 비교할 때, 감광막(20)에 의해 기판(10)에 형성된 패턴과 역 형상을 갖는다고 할 수 있다.. 이는, 도 2 내지 도 8을 참조하면 쉽게 이해될 수 있다.
이러한 과정에 의하면, 상기 PDMS 몰드(50)의 표면에는 요철부(51)가 형성된다. 그리고, 상기 요철부(51)는, 도 5 및 도 8에 도시된 바와 같이, 상기 감광막(20)에 형성된 공극홈(21)과 대응되는 위치에 돌출되도록 형성된 돌기(51a)를 포함한다. 또한, 상기 요철부(50)에는, 도 5 및 도 8에 도시된 바와 같이, 상기 돌기(51a)와 비교할 때 상대적으로 만입된 만입홈(51b)이 형성된다.
즉, 상기 PDMS 몰드(50)의 표면에는 규칙적인 패턴을 가지는 요철부(51)가 형성될 수 있다. 보다 구체적으로는, 상기 요철부(51)는, 상기 PDMS 몰드(50)의 표면과 수직한 방향으로 돌출된 돌기(51a)와 상기 PDMS 몰드의 표면과 수직한 방향으로 만입된 만입홈(51b)이 규칙적으로 반복되어 형성될 수 있다.
여기서, 상기 돌기(51a)의 높이는, 0.5 ㎛ 내지 2 ㎛ 일 수 있다. 그리고, 상기 돌기(51a)의 높이는, 상술한 감광막(20)의 두께에 의해 결정될 수 있다.
또한, 상기 돌기(51a)의 가로 * 세로의 규격은, 0.5 ㎛ * 0.5 ㎛ 내지 2 ㎛ * 2 ㎛ 일 수 있다. 이러한 돌기(51a)의 규격은, 상술한 감광막(20)의 공극홈(21)의 규격과 실질적으로 동일하다고 할 수 있다.
일 실시예에 따르면, 상기 PDMS 몰드(50)의 돌기(51a)는 가로 * 세로 * 높이가 2㎛ * 2㎛ * 2㎛ 규격으로 형성되며, 상기 돌기(51a)들 간의 간격은 2㎛로 형성된다.
S109 단계에서, 이물질을 제거시키고 고분자 바인더 슬러리의 접착력을 증대시키기 위하여, 상기 PDMS 몰드(50)의 표면 중에서 상기 요철부(51)가 형성된 면을 표면 처리한다. 이때, O2 플라즈마 표면 처리기를 이용하여 상기 PDMS 몰드(50)를 표면 처리하거나, 코로나 처리기를 이용하여 상기 PDMS 몰드(50)를 표면 처리할 수 있다.
S111 단계에서, 미세 패턴이 형성된 PDMS 몰드(50)의 표면에 전극과 분리막을 접착시키기 위한 고분자 바인더 슬러리(62)를 도포한다.
상기 고분자 바인더 슬러리(62)는, 바인더 고분자와 용매가 포함된 혼합물이다.
상기 바인더 고분자로는 폴리비닐리덴 플루오라이드-헥사플루오로프로필렌 (polyvinylidene fluoride-co-hexafluoropropylene), 폴리비닐리덴 플루오라이드-트리클로로에틸렌 (polyvinylidene fluoride-co-trichloroethylene), 폴리메틸메타크릴레이트 (polymethylmethacrylate), 폴리부틸아크릴레이트 (polybutylacrylate), 폴리아크릴로니트릴 (polyacrylonitrile), 폴리비닐피롤리돈 (polyvinylpyrrolidone), 폴리비닐아세테이트 (polyvinylacetate), 에틸렌 비닐 아세테이트 공중합체 (polyethylene-co-vinyl acetate), 폴리에틸렌옥사이드 (polyethylene oxide), 폴리아릴레이트(polyarylate), 셀룰로오스 아세테이트 (cellulose acetate), 셀룰로오스 아세테이트 부틸레이트 (cellulose acetate butyrate), 셀룰로오스 아세테이트 프로피오네이트 (cellulose acetate propionate), 시아노에틸플루란 (cyanoethylpullulan), 시아노에틸폴리비닐알콜 (cyanoethylpolyvinylalcohol), 시아노에틸셀룰로오스 (cyanoethylcellulose), 시아노에틸수크로오스 (cyanoethylsucrose), 플루란 (pullulan) 및 카르복실 메틸 셀룰로오스 (carboxyl methyl cellulose) 등을 사용할 수 있다.
또한, 상기 용매로는 그 종류를 특별히 한정하는 것은 아니지만, 아세톤, 메틸에틸케톤(methyl ethyl ketone, MEK), 톨루엔, 에틸아세테이트, 부틸아세테이트, 메탄올, 에탄올, 이소프로필알콜, 물, 헥산, 사이클로헥산, 디메틸 포름아미드(dimethyl formamide, DMF), 디메틸 아세트아미드(dimethyl acetamide, DMAc), N-메틸-2-피롤리돈(N-methyl-2-pyrrolidone, NMP) 및 이들 용매의 혼합물 등을 사용할 수 있다.
바람직하게, PDMS 몰드(50)에 형성된 돌기(51a) 또는 만입홈(51a) 중 어느 하나의 그룹에 상기 고분자 바인더 슬러리(62)를 도포한다. 이때, 롤러 등을 이용하여 PDMS 몰드(50)에 형성된 돌기(51a)에 고분자 바인더 슬러리(62)를 도포할 수 있다. 도 9는 PDMS 몰드에 고분자 바인더 슬러리가 도포된 모습을 나타낸 도면이다. 도 9의 (a)는 돌기(51a)에 고분자 바인더 슬러리(62)가 도포된 상태를 나타낸다. 이와 달리, PDMS 몰드(50)의 상면 전체를 고분자 바인더 슬러리(62)로 도포하고, PDMS 몰드(50)의 돌기(51a)에 도포된 고분자 바인더 슬러리(62)를 제거함으로써, 만입홈(51b)에만 고분자 바인더 슬러리(62)가 도포되게 할 수도 있다. 도 9의 (b)는 만입홈(51b)에 고분자 바인더 슬러리(62)가 도포된 상태를 나타낸다.
도 10은 도 9에 도시된 PDMS 몰드를 상부에서 바라본 도면이다.
도 10의 (a)는 고분자 바인더 슬러리(62)가 PDMS 몰드(50)의 돌기(51a)에 도포된 모습을 예시하고 있으며, 도 10의 (b)는 고분자 바인더 슬러리(62)가 PDMS 몰드(50)의 만입홈(51b)에 도포된 모습을 예시한다. 여기서, 도 10의 (a)는 도 9의 (a)를 상부에서 바라본 도면이라고 할 수 있고, 도 10의 (b)는 도 9의 (b)를 상부에서 바라본 도면이라고 할 수 있다.
S113 단계에서, 평판 또는 롤에 상기 PDMS 몰드(50)의 후면(즉, 돌출부가 형성된 면의 반대 면)을 부착시킨 후, 상기 PDMS 몰드(50)에 도포된 고분자 바인더 슬러리(62)를 전극 또는 분리막의 표면 전사된다. 또한, 상기 PDMS 몰드(50)에 도포된 고분자 바인더 슬러리(62)는 무기물 입자를 포함하는 다공성 코팅층에 전사될 수도 있다. 즉, 이차 전지의 분리막 표면에 무기물 입자를 포함하는 다공성 코팅층이 형성된 경우, 상기 PDMS 몰드(50)에 도포된 고분자 바인더 슬러리(62)는 상기 다공성 코팅층에 전사될 수도 있다.
상기 PDMS 몰드(50)에 도포된 고분자 바인더 슬러리(62)는, PDMS 몰드(50)에서 형성된 전극, 분리막의 표면 또는 다공성 코팅층 상에 전사되며, 이에 따라, 규칙적인 패턴을 갖는 공극부(61)가 형성된 접착층이 상기 전극, 분리막, 다공성 코팅층의 표면에 형성된다. 여기서, 상기 접착층(60)은, 공극부(61) 및 바인더 고분자로 이루어진 바인더 영역(62)을 포함한다. 상기 바인더 영역(62)은 전극 등의 표면에 도포된 고분자 바인더 슬러리(62)로부터 용매가 제거된 부분을 의미한다. 한편, 상기 공극부(61) 또는 바인더 영역(62)은 규칙적인 패턴을 형성할 수 있다.
일 예로, 도 10(a)에 도시된 바와 같은 형태로 PDMS 몰드(50)에 고분자 바인더 슬러리(60)가 도포된 경우, 도 10(a)와 대응되는 형태의 접착층(60)이 형성된다. 따라서, 바인더 영역(62)은, 상부에서 바라볼 때 직사각 형상이 규칙적으로 반복되는 패턴을 갖는다. 바람직하게는, 상기 바인더 영역(62)은, 가로 * 세로의 규격이 0.5 ㎛ * 0.5 ㎛ 내지 2 ㎛ * 2 ㎛ 일 수 있다.
다른 예로, 도 10(b)에 도시된 바와 같은 형태로 PDMS 몰드(50)에 고분자 바인더 슬러리(62)가 도포된 경우, 도 10(b)와 대응되는 형태의 접착층(60)이 형성된다. 따라서, 공극부(61)는, 상부에서 바라볼 때 직사각 형상이 규칙적으로 반복되는 패턴을 갖는다. 바람직하게는, 상기 공극부(61)는, 가로 * 세로의 규격이 0.5 ㎛ * 0.5 ㎛ 내지 2 ㎛ * 2 ㎛ 일 수 있다.
또한 바람직하게는, 상기 접착층(60)의 두께는 0.5 ㎛ 내지 2 ㎛ 일 수 있다.
한편, 이를 통해, 표면에 규칙적인 패턴을 가지는 접착층이 형성된 접착층 복합체가 제조될 수 있다. 보다 구체적으로는, 이차 전지의 전극과 접착층을 포함하는 접착층 복합체, 이차 전지의 분리막과 접착층을 포함하는 접착층 복합체가 제조될 수 있다.
도 11은 본 발명의 실시예에 따른, 이차 전지의 전극의 표면에 접착층이 형성된 접착층 복합체를 나타내는 도면이다. 도 11을 참조하면, 상기 접착층 복합체는, 이차 전지의 전극(80) 및 공극부(61)가 형성된 접착층(60)을 포함한다. 그리고, 이러한 접착층 복합체를 구성하는 이차 전지의 전극의 표면(80)에는 상기 접착층(60)이 형성되어 있다. 상기 접착층(60)에는, 도 11에 도시된 바와 같이, 공극부(61)가 형성되어 있으며, 상기 공극부(61)는 상하 방향으로 개방된 형태를 띄고 있다. 한편, 이러한 접착층 복합체는, 접착층(60)을 매개로 분리막 등과 결합될 수 있다. 한편, 도 11에서는 양극의 표면에 접착층이 형성된 실시예를 도시하였으나, 음극의 표면에 접착층이 형성될 수도 있다.
도 12는 본 발명의 실시예에 따른, 이차 전지의 분리막의 표면에 접착층이 형성된 접착층 복합체를 나타내는 도면이다. 도 12를 참조하면, 상기 접착층 복합체는, 이차 전지의 분리막(90) 및 공극부(61)가 형성된 접착층(60)을 포함한다. 그리고, 이러한 접착층 복합체를 구성하는 이차 전지의 분리막(90)의 표면에는 상기 접착층(60)이 형성되어 있다. 이러한 접착층 복합체는, 접착층(60)을 매개로 분리막 등과 결합될 수 있다. 한편, 상술한 바와 같이, 상기 분리막(90) 위에는 다공성 코팅층이 더 형성될 수 있는데, 이 경우, 상기 접착층 복합체는 상기 다공성 코팅층의 표면에 형성될 수도 있다.
도 11 및 도 12에 도시된 실시예에서, 접착층(60)은, 각각 전극(80)의 표면 및 분리막(90)의 표면 중 일면에 형성된 것으로 도시되어 있으나, 상기 접착층은 각 표면의 타면에 형성될 수도 있으며, 표면의 양면 모두에 형성될 수도 있음은 물론이다.
한편, 상기 PDMS 몰드(50)에 도포된 고분자 바인더 슬러리(60)가 전사될 때, 그 압력(즉, 전사 압력)은 종래의 전사 압력보다 더 강한 것이 바람직하다. 즉, 전사 평판 또는 전사 롤러가 상기 고분자 바인더 슬러리(60)를 전사할 때, 전극, 세라믹층 또는 분리막의 표면에 인가되는 전사 압력은 기존의 접착층을 형성시킬 때 인가되는 전사 압력보다 강한 것이 바람직하다. 상기 전사 압력은 0.3Mpa 이상인 것이 더욱 바람직하다.
상기 전극, 분리막 또는 다공성 코팅층 표면에 전사된 고분자 바인더 슬러리(60)는, 가열/가압에 의해 분리막과 전극을 상호 결합시킨다.
도 13은 본 발명의 실시예에 따른, 접착층 복합체를 포함하는 전극 조립체를 나타내는 도면이다.
도 13에 도시된 바와 같이, 음극(70)과 분리막(90), 양극(80)과 분리막(90)은 규칙적으로 반복된 패턴으로 전사된 고분자 바인더 슬러리에 의해 서로 접합되어 전극 조립체(A)를 형성할 수 있다. 도 10에서 상기 전극 조립체(A)는, 각각 하나의 양극(70), 분리막(90) 및 음극(80)이 순차적으로 접합되어 있으나, 상기 전극 조립체(A)는, 2 이상의 양극(80), 분리막(90), 음극(70)이 순차적으로 접합되면서 적층될 수도 있다.
상술한 바와 같이, 본 발명은 전극과 분리막 사이의 접착층의 크기를 최소화함으로써, 리튬 이온의 전달성을 향상시킨다. 또한, 본 발명은 규칙적으로 반복된 패턴을 가지는 접착층을 전극, 분리막 또는 분리막 표면에 다공성 코팅층이 형성된 경우 다공성 코팅층의 표면에 형성시키기 때문에, 바인더 물질을 이용하여 접착 코팅층을 형성하는 종래의 기술과 비교하여, 이차 전지 제조과정에서 투입되는 접착층 형성 물질이 절약된다.
이상에서 설명한 본 발명은, 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자에게 있어 본 발명의 기술적 사상을 벗어나지 않는 범위 내에서 여러 가지 치환, 변형 및 변경이 가능하므로 전술한 실시예 및 첨부된 도면에 의해 한정되는 것이 아니다.

Claims (26)

  1. 상하 방향으로 개방된 개구홀들을 가지는 마스크를 제작하는 단계;
    상기 마스크를 통해 감광막을 식각하여 상기 감광막에 상기 마스크의 개구홀들과 대응되는 공극홈들을 형성시키는 단계;
    상기 공극홈들이 형성된 감광막 상에 폴리디메틸실록산을 붓고 경화시킨 후, 상기 감광막과 상기 경화된 폴리디메틸실록산을 분리하여 요철부가 형성된 폴리디메틸실록산 몰드를 제작하는 단계;
    상기 요철부가 형성된 폴리디메틸실록산 몰드에 고분자 바인더 슬러리를 도포하는 단계; 및
    상기 폴리디메틸실록산 몰드에 도포된 고분자 바인더 슬러리를 이차 전지의 분리막 또는 전극의 표면에 전사하여 상하 방향으로 개방된 공극부가 형성된 접착층을 상기 분리막 또는 상기 전극의 표면에 형성시키는 단계를 포함하는 접착층 형성 방법.
  2. 제 1 항에 있어서,
    상기 마스크를 제작하는 단계는,
    상기 개구홀들이 규칙적인 배열을 가짐으로써, 상기 개구홀들에 의해 규칙적인 패턴이 형성된 마스크를 제작하는 것을 특징으로 하는 접착층 형성 방법.
  3. 제 2 항에 있어서,
    상기 요철부는, 상기 감광막에 형성된 공극홈과 대응되는 위치에 돌출되도록 형성된 돌기를 포함하고, 상기 요철부에는, 상기 돌기와 비교할 때 상대적으로 만입된 만입홈이 형성되는 것을 특징으로 하는 접착층 형성 방법.
  4. 제 3 항에 있어서,
    상기 고분자 바인더 슬러리를 도포하는 단계는,
    상기 돌기 또는 상기 만입홈에 상기 고분자 바인더 슬러리를 도포하는 것을 특징으로 하는 접착층 형성 방법.
  5. 제 4 항에 있어서,
    상기 고분자 바인더 슬러리를 도포하는 단계는, 상기 만입홈에 상기 고분자 바인더 슬러리를 도포하고,
    상기 접착층을 형성시키는 단계는, 상기 개구홀들이 형성하는 규칙적인 패턴과 동일한 패턴을 갖는 공극부가 형성된 접착층을 형성시키는 것을 특징으로 하는 접착층 형성 방법.
  6. 제 4 항에 있어서,
    상기 고분자 바인더 슬러리를 도포하는 단계는, 상기 돌기에 상기 고분자 바인더 슬러리를 도포하고,
    상기 접착층을 형성시키는 단계는, 상기 개구홀들이 형성하는 규칙적인 패턴과 반대되는 패턴을 갖는 공극부가 형성된 접착층을 형성시키는 것을 특징으로 하는 접착층 형성 방법.
  7. 제 2 항에 있어서,
    상기 마스크를 제작하는 단계는,
    직사각 형상의 개구홀들을 가지는 마스크를 제작하는 것을 특징으로 하는 접착층 형성 방법.
  8. 제 7 항에 있어서,
    상기 개구홀은, 가로 * 세로의 규격이 0.5 ㎛ * 0.5 ㎛ 내지 2 ㎛ * 2 ㎛ 인 것을 특징으로 하는 접착층 형성 방법.
  9. 제 2 항에 있어서,
    상기 마스크를 제작하는 단계는,
    캐드를 통해 사전에 설계된 규칙적인 패턴을 이용하여 상기 마스크를 제작하는 것을 특징으로 하는 접착층 형성 방법.
  10. 제 1 항에 있어서,
    상기 마스크는 크롬 마스크인 것을 특징으로 하는 접착층 형성 방법.
  11. 제 1 항 내지 제 10 항 중 어느 한 항에 있어서,
    고분자 바인더 슬러리를 도포하는 단계 이전에,
    상기 폴리디메틸실록산 몰드를 O2 플라즈마 표면 처리 또는 코로나 표면 처리를 수행하는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 접착층 형성 방법.
  12. 제 1 항 내지 제 10 항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 감광막에 공극홈들을 형성시키는 단계는,
    상기 감광막을 광 식각하여 공극홈들을 형성하는 것을 특징으로 하는 접착층 형성 방법.
  13. 제 1 항 내지 제 10 항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 접착층을 형성시키는 단계는,
    상기 폴리디메틸실록산 몰드에 도포된 고분자 바인더 슬러리를 상기 이차 전지의 분리막 표면에 형성된 무기물 입자를 포함하는 다공성 코팅층에 전사하여, 상하 방향으로 개방된 공극부가 형성된 접착층을 상기 다공성 코팅층 상에 형성시키는 것을 특징으로 하는 접착층 형성 방법.
  14. 상하 방향으로 개방되고, 규칙적인 패턴을 갖는 공극부가 형성된 접착층이 표면에 형성된 것을 특징으로 하는 접착층 복합체.
  15. 제 14 항에 있어서,
    상기 접착층 복합체는, 이차 전지의 전극 및 상기 접착층을 포함하고,
    상기 접착층은, 상기 이차 전지의 전극의 표면에 형성된 것을 특징으로 하는 접착층 복합체.
  16. 제 14 항에 있어서,
    상기 접착층 복합체는, 이차 전지의 분리막 및 상기 접착층을 포함하고,
    상기 접착층은, 상기 이차 전지의 분리막의 표면에 형성된 것을 특징으로 하는 접착층 복합체.
  17. 제 16 항에 있어서,
    상기 접착층은, 상기 이차 전지의 분리막 표면에 형성된 무기물 입자를 포함하는 다공성 코팅층 상에 형성된 것을 특징으로 하는 접착층 복합체.
  18. 제 14 항에 있어서,
    상기 접착층은, 상기 공극부 및 바인더 고분자로 이루어진 바인더 영역을 포함하고,
    상기 공극부 또는 상기 바인더 영역은, 규칙적인 패턴을 형성하는 것을 특징으로 하는 접착층 복합체.
  19. 제 18 항에 있어서,
    상기 바인더 영역 또는 상기 공극부는, 상부에서 바라볼 때 직사각 형상이 규칙적으로 반복되는 것을 특징으로 접착층 복합체.
  20. 제 19 항에 있어서,
    상기 바인더 영역은 또는 상기 공극부는, 가로 * 세로의 규격이 0.5 ㎛ * 0.5 ㎛ 내지 2 ㎛ * 2 ㎛ 인 것을 특징으로 하는 접착층 복합체.
  21. 제 14 항에 있어서,
    상기 접착층의 두께는, 0.5 ㎛ 내지 2 ㎛ 인 것을 특징으로 하는 접착층 복합체.
  22. 제 14 항 내지 제 21 항 중 어느 한 항에 따른 접착층 복합체를 포함하는 전극 조립체.
  23. 분리막 또는 전극 표면에 고분자 바인더 슬러리를 전사하는데 사용되는 몰드로서,
    표면에 규칙적인 패턴을 가지는 요철부가 형성된 것을 특징으로 하는 폴리디메틸실록산 몰드.
  24. 제 23 항에 있어서,
    상기 요철부는, 상기 표면과 수직한 방향으로 돌출된 돌기 및 상기 표면과 수직한 방향으로 만입된 만입홈이 규칙적으로 반복되어 형성된 것을 특징으로 하는 폴리디메틸실록산 몰드.
  25. 제 24 항에 있어서,
    상기 돌기의 높이는, 0.5 ㎛ 내지 2 ㎛ 인 것을 특징으로 하는 폴리디메틸실록산 몰드.
  26. 제 24 항에 있어서,
    상기 돌기는, 가로 * 세로의 규격이 0.5 ㎛ * 0.5 ㎛ 내지 2 ㎛ * 2 ㎛ 인 것을 특징으로 하는 폴리디메틸실록산 몰드.
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