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WO2013147047A1 - 導電性インキ組成物、導電性パターンの製造方法及び導電性回路 - Google Patents

導電性インキ組成物、導電性パターンの製造方法及び導電性回路 Download PDF

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WO2013147047A1
WO2013147047A1 PCT/JP2013/059315 JP2013059315W WO2013147047A1 WO 2013147047 A1 WO2013147047 A1 WO 2013147047A1 JP 2013059315 W JP2013059315 W JP 2013059315W WO 2013147047 A1 WO2013147047 A1 WO 2013147047A1
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WO
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conductive
ink composition
conductive ink
compound
film
Prior art date
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PCT/JP2013/059315
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English (en)
French (fr)
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朋子 岡本
康弘 千手
嘉則 片山
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
DIC Corp
Original Assignee
DIC Corp
Dainippon Ink and Chemicals Co Ltd
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Publication date
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Priority to US14/388,733 priority patent/US10301488B2/en
Priority to JP2013539074A priority patent/JP5605516B2/ja
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Definitions

  • the present invention relates to a conductive ink composition for forming a conductive film, a method for producing a conductive pattern, and a conductive circuit.
  • Printing methods or etching methods are known as methods for forming conductive patterns such as conductive circuits and electrodes used in touch panels, electronic paper, and various electronic components.
  • a desired pattern can be mass-produced at a low cost, and conductivity can be easily imparted by drying or curing the printed coating film.
  • a heat curable conductive paste composition containing silver powder, a heat curable component, and a solvent, wherein the heat curable component comprises a blocked polyisocyanate compound and an epoxy resin.
  • a conductive paste composition containing a curing agent selected from the group consisting of amines, acid anhydrides and imidazoles is known (Patent Document 1).
  • the baking temperature is 150 ° C. and the isocyanate reaction catalyst is not contained, the curing temperature is high, and the baking time is long because the isocyanate blocking agent is MEK oxime.
  • Patent Document 2 Similar to the technique of Patent Document 1, this technique also has a problem that the baking condition is long at 130 ° C. for 30 minutes and no isocyanate reaction catalyst is contained, and the baking time is long because the isocyanate blocking agent is MEK oxime. was there.
  • a conductive paste composition containing an organic binder resin, a conductive powder, a colorant, an organic solvent, and a crosslinking agent, wherein the conductive powder contains a spherical powder with respect to its shape, and the content is the total amount of the conductive powder.
  • An electrically conductive paste composition with a content of 50 to 95% by mass based on the above is known (Patent Document 3). This technique also has the same problem as the above technique.
  • the problem to be solved by the present invention is that a conductive ink composition that can form a high-definition conductive pattern and can obtain a highly conductive pattern that can be fired at a lower temperature and in a shorter time.
  • the present invention relates to a conductive ink composition containing, as essential components, a conductive filler, an epoxy compound, a block polyisocyanate whose blocking agent is an active methylene compound and / or a pyrazole compound, a reaction catalyst for the block polyisocyanate, and an organic solvent.
  • the present invention also provides a method for producing a conductive pattern in which the conductive ink composition described above is applied to a non-heat resistant substrate and heated.
  • the present invention provides a conductive circuit including a conductive pattern in which a cured film of the conductive ink composition is formed on a non-heat resistant substrate.
  • the conductive ink composition of the present invention contains a block polyisocyanate whose blocking agent is either an active methylene compound or a pyrazole compound and a reaction catalyst of the blocked isocyanate, and can be fired at a lower temperature and in a shorter time. It became. As a result, even when a non-heat-resistant substrate such as PET film is used, a high-definition and high-conductivity conductive pattern can be produced with high productivity without causing deformation of the film. A conductive pattern can be formed.
  • Conductive filler A well-known thing can be used as a conductive filler used by this invention.
  • nickel, copper, gold, silver, aluminum, zinc, nickel, tin, lead, chromium, platinum, palladium, tungsten, molybdenum, etc., and an alloy or mixture of these two or more, or a compound of these metals is good. Examples include those having conductivity.
  • silver powder is preferable because it can easily realize stable conductivity and has good heat conduction characteristics.
  • silver powder When silver powder is used as the conductive filler of the present invention, it is preferable to use spherical silver powder having a median particle diameter (D50) of 0.1 to 10 ⁇ m as an average particle diameter, and more preferably 0.1 to 3 ⁇ m. . Within this range, the fluidity of the conductive ink composition can be further improved, and in a specific printing method such as flexographic printing, screen printing, gravure printing, or gravure offset printing, continuous printing on these printers is possible. Even when printed on, it is difficult to cause trouble, and it becomes easy to obtain a stable conductive pattern printed matter.
  • D50 median particle diameter
  • Examples of such silver powder include AG2-1C (manufactured by DOWA Electronics Co., Ltd., average particle diameter D50: 0.8 ⁇ m), SPQ03S (manufactured by Mitsui Metal Mining Co., Ltd., average particle diameter D50: 0.5 ⁇ m), EHD (Mitsui Metal Mining Co., Ltd., average particle size D50: 0.5 ⁇ m), Sylbest C-34 (Tokuriki Chemical Laboratory Co., Ltd., average particle size D50: 0.35 ⁇ m), AG2-1 (DOWA Electronics) And Sylbest AgS-050 (manufactured by Tokuru Chemical Laboratory, average particle diameter D50: 1.4 ⁇ m).
  • AG2-1C manufactured by DOWA Electronics Co., Ltd., average particle diameter D50: 0.8 ⁇ m
  • SPQ03S manufactured by Mitsui Metal Mining Co., Ltd., average particle diameter D50: 0.5 ⁇ m
  • EHD Mitsubishi Chemical Laboratory Co., Ltd., average particle size D50: 0.35 ⁇
  • an epoxy compound is used. Although it does not specifically limit as an epoxy resin to be used, It is preferable to use an aliphatic epoxy compound. Specifically, it is preferable to use epoxidized products such as glycidyl etherified products such as polyethylene glycol, polypropylene glycol, hexanediol, trimethylolpropane, glycerin, pentaerythritol, sorbitol, and alicyclic epoxy compounds. Of these, glycidyl etherified products such as polyethylene glycol, polypropylene glycol, and trimethylolpropane are more preferable.
  • the aliphatic epoxy compound is liquid or semi-solid at room temperature, the fluidity of the conductive ink composition can be improved, and in a specific printing method such as flexographic printing, screen printing, gravure printing, or gravure offset printing. Even in the case of continuous printing on these printing presses, troubles do not easily occur and it becomes easy to obtain a stable conductive pattern printed matter.
  • Some aromatic epoxy compounds are liquid or semi-solid, but are not preferred for safety reasons.
  • thermoplastic resins in the present invention, other known film-forming thermoplastic resins can be used as long as the effects of the present invention are not impaired.
  • other resins that can be used in the present invention include polyester resins, vinyl chloride resins, acetal resins, acrylic resins, polyester resins, polyurethane resins, and the like. These may be used alone or in combination of two or more. Or you may use as a copolymer based on these resin systems.
  • the block polyisocyanate compound used in the present invention in which the blocking agent is thermally dissociated to generate a free isocyanate group, is composed of a blocking agent and a polyisocyanate compound, and the blocking agent is either an active methylene compound or a pyrazole compound.
  • a blocked polyisocyanate is used.
  • Such a compound can be used without any particular limitation, but in particular, when a PET film is used as a base material as a plastic film, the temperature at which an isocyanate group is formed is 70 to 125 ° C. If a block polyisocyanate compound using a blocking agent is contained in the conductive ink composition, a conductive pattern can be formed on the PET film without causing warpage or the like.
  • the block polyisocyanate used in the present invention will be described in more detail. Although it does not specifically limit as a kind of block polyisocyanate compound, A dimer or a trimer by modification
  • the aromatic diisocyanate include 2,4-toluene diisocyanate, 2,6-triene diisocyanate, diphenylmethane-4,4′-diisocyanate, diphenylmethane-2,4′-diisocyanate, and dianisidine diisocyanate.
  • aliphatic diisocyanate examples include 1,4-tetramethylene diisocyanate, 1,5-pentamethylene diisocyanate, 1,6-hexamethylene diisocyanate (hereinafter HMDI), 2,2,4-trimethyl-1,6-hexamethylene. And diisocyanate.
  • alicyclic diisocyanate examples include lysine diisocyanate, isophorone diisocyanate (hereinafter referred to as IPDI), 1,3-bis (isocyanate methyl) -cyclohexane, 4,4′-dicyclohexylmethane diisocyanate and the like, and further by modification of these diisocyanates. A dimer or a trimer is mentioned.
  • modification method examples include burette formation and isocyanurate formation.
  • a terminal isocyanate group-containing compound obtained by reacting the above di- or polyisocyanate compound with an active hydrogen compound such as ethylene glycol, propylene glycol, trimethylolpropane, ethanolamine, polyester polyol, polyether polyol, polyamide, etc. It is done.
  • the blocking agent is either an active methylene compound or a pyrazole compound.
  • the active methylene compound includes Meldrum's acid, dialkyl malonate, alkyl acetoacetate, 2-acetoacetoxyethyl methacrylate, acetylacetone.
  • pyrazole compounds include pyrazole, 3,5-dimethylpyrazole, 3-methylpyrazole, 4-benzyl-3,5-dimethylpyrazole, 4-nitro-3,5-dimethylpyrazole, Examples include 4-bromo-3,5-dimethylpyrazole, 3-methyl-5-phenylpyrazole and the like. Of these, diethyl malonate, 3,5-dimethylpyrazole and the like are preferable.
  • duranate MF-K60B manufactured by Asahi Kasei Chemicals
  • Desmodur BL-3475 manufactured by Sumika Bayer Urethane Co., Ltd.
  • TRIXENE BI-7982 manufactured by Baxenden
  • An example of the mixed type of pyrazole compound is TRIXENE BI-7992 (manufactured by Vaxenden).
  • the block polyisocyanate compound may be used in an amount of 50 to 500 parts per 100 parts of the nonvolatile content of the epoxy compound in terms of mass. This is preferable from the viewpoint of improving the performance of the conductive pattern such as toughness and solvent resistance.
  • Such blocked polyisocyanate compounds that generate free isocyanate groups by thermal dissociation of the blocking agent are inherent absorptions based on isocyanate groups while monitoring the infrared absorption spectrum of polyisocyanate compounds having free isocyanate groups. It can be easily obtained by reacting the blocking agent until the spectrum disappears.
  • reaction catalyst for block polyisocyanate used in the present invention is not particularly limited, but the reaction catalyst for the blocked isocyanate is preferably an organic ammonium salt or an organic amidine salt. Specifically, tetraalkylammonium halides, tetraalkylammonium hydroxides, tetraalkylammonium organic acid salts, etc. are used for organic ammonium salts, and 1,8-diazabicyclo [5.4.0] undecene-7 is used for organic amidine salts.
  • DBU 1,5-diazabicyclo [4.3.0] nonene-5
  • DBN 1,5-diazabicyclo [4.3.0] nonene-5
  • phenol salt octylate, oleate, p-toluenesulfonate, and formate. it can.
  • DBU-octylate, DBN-octylate and the like are preferably used.
  • Commercially available products include TOYOCAT-TR20 (manufactured by Tosoh Corporation) for organic ammonium salts, U-CAT SA1, U-CAT SA102, U-CAT SA106, U-CAT SA506, U-CAT SA603, U-CAT for organic amidine salts.
  • SA1102 manufactured by San-Apro
  • San-Apro can be mentioned.
  • thermosetting resins and thermoplastic resins that can be used in the present invention are solid at 25 ° C. themselves, the fine line pattern is usually formed on the substrate after being dissolved in a liquid medium. It is necessary to apply and print. Therefore, when selecting the resin, it is necessary to consider the solubility in a liquid medium.
  • a liquid organic compound is used at 25 ° C. which dissolves the resin and has no reactivity with the resin.
  • organic compounds are so-called organic solvents, and there are no limitations on the type thereof, and examples thereof include ester-based, ketone-based, chlorine-based, alcohol-based, ether-based, hydrocarbon-based, and ether-ester based.
  • organic solvents include ester-based, ketone-based, chlorine-based, alcohol-based, ether-based, hydrocarbon-based, and ether-ester based.
  • examples thereof include acetate and propylene glycol monoalkyl ether acetate.
  • such an organic solvent preferably has a silicone blanket swelling ratio of 5 to 20%, and particularly preferably diethylene glycol monobutyl ether acetate.
  • ether ester organic solvents such as diethylene glycol monoethyl ether acetate.
  • the conductive ink composition of the present invention is prepared by mixing a conductive filler, an epoxy compound, a block polyisocyanate whose blocking agent is either an active methylene compound or a pyrazole compound, a reaction catalyst of the block polyisocyanate, and an organic solvent. can do.
  • a conductive filler an epoxy compound
  • a block polyisocyanate whose blocking agent is either an active methylene compound or a pyrazole compound
  • a reaction catalyst of the block polyisocyanate and an organic solvent.
  • organic solvent organic solvent
  • the content of the silver powder conductive filler in the conductive ink composition is preferably 60 to 95% by mass, and more preferably 70 to 90% by mass. Within this range, the density of the filler in the film is sufficient, good electrical conductivity can be obtained, and it becomes easy to prepare a fluid paste.
  • the content of the epoxy resin in the conductive ink composition is preferably 0.1 to 10% by mass, and more preferably 1 to 5% by mass. This range is preferable from the viewpoint of enhancing the performance of the conductive pattern such as conductivity finally obtained, adhesion to the substrate, and solvent resistance.
  • the content of the blocked isocyanate in the conductive ink composition is preferably 0.5 to 15% by weight as the nonvolatile content, more preferably 2 to 10% by weight. This range is preferable from the viewpoint of enhancing the performance of the conductive pattern such as conductivity finally obtained, adhesion to the substrate, and solvent resistance.
  • the content of the block polyisocyanate reaction catalyst in the conductive ink composition is preferably 0.05 to 3% by weight, more preferably 0.1 to 1% by weight. This range is preferable from the viewpoint of improving the performance of the conductive pattern such as conductivity and solvent resistance finally obtained.
  • the content of the organic solvent in the conductive ink composition is preferably 5 to 30% by mass, more preferably 7 to 15% by mass. In this range, the paste viscosity becomes more appropriate, and in gravure printing or gravure offset printing, a higher-definition conductive pattern can be formed without causing pinhole defects at the corners of the image lines or at the intersections of the matrix. Can be formed.
  • the conductive ink composition of the present invention may be appropriately mixed with various additives such as a dispersant, an antifoaming agent, a release agent, a leveling agent, and a plasticizer as necessary. it can.
  • the conductive ink composition of the present invention forms a conductive pattern by applying or printing on any substrate such as a plastic film, ceramic film, silicon wafer, glass or metal plate by any method. can do.
  • the conductive ink composition of the present invention can form a conductive pattern on an arbitrary substrate by, for example, printing by flexographic printing, screen printing, gravure printing, or gravure offset printing. .
  • Examples of the method for forming a conductive pattern from the conductive ink composition of the present invention include a method in which the conductive ink composition of the present invention is applied to a non-heat resistant substrate and heated. More preferably, by filling the intaglio with a conductive ink composition, transferring the filled ink composition to a blanket roll, and then transferring and applying the ink composition from the blanket roll to a non-conductive support.
  • This is a method of forming a conductive pattern by performing so-called gravure offset printing, in which a desired pattern is printed on the surface of a non-heat-resistant substrate, and then heating.
  • the intaglio printing plate at this time is a normal gravure plate, an intaglio plate formed by exposing, developing and washing a photosensitive resin on a glass plate, a glass plate, a metal plate, an intaglio plate formed by chemical etching and laser etching. Can be used.
  • the silicone blanket is a sheet having a layer structure such as a silicone rubber layer, a PET layer, or a sponge layer. Usually, it can be used in a state of being wound around a rigid cylinder called a blanket cylinder.
  • the silicone blanket is required to have transferability from an intaglio and transferability to a substrate.
  • it is necessary to absorb the liquid component in the conductive ink composition at a certain ratio on the blanket surface. If the absorption is insufficient, the conductive ink composition layer is likely to delaminate at the time of transfer to the substrate. Conversely, if the absorption exceeds a certain ratio, the conductive ink composition dries on the surface of the blanket, and the substrate There has been a problem that it is liable to cause a transfer failure.
  • the conductive ink composition has a viscosity of 1 to 50 Pa ⁇ s at 25 ° C., and the conductive pattern is continuously printed using the gravure offset printing method, the corner portion of the image line In addition, pinhole defects are likely to occur at the intersections of the matrix, a good conductive fine line pattern can be formed, and problems of inking to the intaglio and transfer from the intaglio to the blanket are less likely to occur.
  • the conductive pattern formed from the conductive ink composition of the present invention may be a solid line having a solid line width, but the characteristics when the conductive ink composition of the present invention is used are as described above. This is particularly remarkable when a line width image line thinner than the conventional one is provided on the substrate.
  • the conductive pattern from the conductive ink composition of the present invention can be formed at a lower temperature and in a shorter time than before, the characteristics of the conductive ink composition of the present invention are such as ceramic film, glass or metal plate. This is particularly prominent when a conductive pattern is formed on a general-purpose plastic film such as PET, which has a lower heat resistance and is more easily thermally deformed than a substrate having a high heat resistance. Therefore, in the conductive ink composition of the present invention, the conductive pattern in which the cured film is formed on the non-heat resistant substrate is preferably used as a conductive circuit formed on the non-heat resistant substrate. Can do.
  • the conductive ink composition of the present invention is excellent in adhesion to a transparent conductive film such as a transparent ITO electrode.
  • Examples of the final product include a touch panel take-out electrode, a display take-out electrode, electronic paper, a solar cell, and other wiring products.
  • each raw material so as to have the parts by mass shown in Table 1 these raw materials are sufficiently mixed, and each conductive ink composition of the present invention which is an example and each conventional conductive ink which is a comparative example A composition was prepared.
  • the applicator was used to apply the conductive ink composition on the transparent conductive film (ITO film surface) so that the film thickness after drying was 4 ⁇ m, and dried at 125 ° C. for 10 minutes.
  • the measurement was performed by a four-terminal method using a Loresta GP MCP-T610 (manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation).
  • Classification 0 The edge of the cut is completely smooth, and there is no peeling to the eyes of any lattice.
  • Classification 1 The cross-cut part is not affected by more than 5%.
  • Classification 2 The cross-cut part is affected by more than 5% but not more than 15%.
  • Classification 3 It is more than 15% but not more than 35% that is affected by the crosscut part.
  • Classification 4 Exceeding 35% but not exceeding 65% is affected by the cross-cut portion.
  • Classification 5 Any of the degree of peeling that cannot be classified even in classification 4.
  • the conductive ink composition was inked on the intaglio plate made of glass with a doctor blade, and then pressed and brought into contact with the cylinder around which the blanket was wound, thereby transferring the desired pattern onto the blanket. Thereafter, the coating film on the blanket was pressed and transferred to a transparent conductive film as a base material to produce a conductive circuit having a line width of 40 ⁇ m to 100 ⁇ m.
  • a line having a line width of 40 ⁇ m was microscopically observed, and fine line reproducibility was evaluated according to the following criteria.
  • Silver powder AG-2-1C manufactured by DOWA Electronics Co., Ltd., average particle diameter D50: 0.8 ⁇ m
  • ESREC KS-10 Acetal resin with a molecular weight of 17,000 and a glass transition temperature (Tg) of 106 ° C.
  • the conductive ink compositions of Examples 1 to 6 containing an epoxy compound are satisfactory in volume resistivity, substrate adhesion, and printability.
  • the conductive ink composition of Comparative Example 1 containing no epoxy compound is in an unsatisfactory level in all items.
  • the conductive ink composition of Comparative Example 2 in which the blocking agent of the blocked isocyanate is not a low-temperature dissociable active methylene compound and / or a pyrazole compound has unsatisfactory levels of volume resistivity and base adhesion.
  • the volume resistivity and base adhesion are also unsatisfactory in the conductive ink composition of Comparative Example 3 that does not contain a blocked isocyanate reaction catalyst.
  • the conductive ink composition of the present invention can be used as a conductive silver paste for forming conductive patterns of various electric parts and electronic parts.

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Abstract

【課題】　高精細な導電性パターンが形成可能であり、より低温、より短時間での焼成が可能な高い導電性のパターンを得ることができる導電性インキ組成物を提供する。 【解決手段】　導電性フィラー、エポキシ化合物、ブロック剤が活性メチレン化合物及び／又はピラゾール化合物であるブロックポリイソシアネート、ブロックポリイソシアネートの反応触媒及び有機溶剤を必須成分として含有させることにより上記課題を解決した。 本発明の導電性インキ組成物は、より低温、より短時間での焼成が可能であり、より高精細の導電性パターンを印刷できる。

Description

導電性インキ組成物、導電性パターンの製造方法及び導電性回路
　本発明は、導電性皮膜を形成するための導電性インキ組成物、導電性パターンの製造方法及び導電性回路に関する。
　タッチパネル、電子ペーパー、及び各種電子部品に用いられる導電回路、電極等の導電パターン形成方法としては、印刷法またはエッチング法が知られている。
　エッチング法により導電パターンを形成する場合、各種金属膜を蒸着した基板上にフォトリソグラフィーによってパターン化されたレジスト膜を形成した後に、不要な蒸着金属膜を化学的あるいは電気化学的に溶解除去し、最後にレジスト膜を除去する必要がありその工程は非常に煩雑で量産性に乏しい。
　一方で印刷法では所望のパターンを低コストで大量生産を行うことが可能であり、さらに印刷塗膜を乾燥又は硬化させることによって容易に導電性を付与できる。
　これら印刷方式としては形成したいパターンの線幅、厚さ、生産速度に合わせてフレキソ印刷、スクリーン印刷、グラビア印刷、グラビアオフセット印刷、インクジェット等が提案されている。
　印刷パターンとしては電子デバイスの小型化、意匠性向上等の観点から線幅５０μｍ以下の高精細な導電パターンの形成が求められている。
　また電子デバイスの薄型化、軽量化、フレキシブル化への要求の高まりや、生産性の高いロール・ツー・ロール印刷に対応するために、プラスチックフィルム上に印刷して低温短時間の焼成で高い導電性、基材密着性、膜硬度などが得られる導電性インキが求められている。さらにプラスチックフィルムの中でも、安価で透明性の高いＰＥＴフィルムや、ＰＥＴフィルムの上にＩＴＯ膜が形成された透明導電フィルム上に印刷した際に、前記した物性が得られる導電性インキが求められている。
　このような状況の中、銀粉末と、加熱硬化性成分と、溶剤とを含有する加熱硬化型導電性ペースト組成物であって、前記加熱硬化性成分は、ブロック化ポリイソシアネート化合物と、エポキシ樹脂と、アミン系、酸無水物系及びイミダゾール系からなる群から選択される硬化剤とを含んだ導電性ペースト組成物が知られている（特許文献１）。しかしながら、焼成温度が１５０℃であり、イソシアネート反応触媒が含有されていないため硬化温度が高く、しかも、イソシアネートのブロック剤がＭＥＫオキシムのため焼成時間が長いという欠点があった。
　また、有機バインダー樹脂、導電粉末、着色剤、有機溶剤、および架橋剤を含有してなり、前記有機バインダー樹脂の数平均分子量が３０００～５００００の範囲である導電性ペースト組成物が知られている（特許文献２）。この技術も上記特許文献１の技術と同様に、焼成条件が１３０℃、３０分でイソシアネート反応触媒が入っていないため焼成時間が長く、イソシアネートのブロック剤がＭＥＫオキシムのため焼成時間が長いという問題があった。
　更に、有機バインダー樹脂、導電粉末、着色剤、有機溶剤、および架橋剤を含有する導電性ペースト組成物であって、導電粉末がその形状に関して球状粉末を含有し、その含有率が導電粉末全体量に対して５０～９５質量％である導電性ペースト組成物が知られている（特許文献３）。この技術も上記の技術と同様な問題があった。
特開２００２－１６１１２３ 特開２００９－２６５５８ 特開２００９－２４０６６
　したがって、本発明が解決しようとする課題は、高精細な導電性パターンが形成可能であり、より低温、より短時間での焼成が可能な高い導電性のパターンを得ることができる導電性インキ組成物を提供することにある。
　本発明者らは上記課題を解決すべく、鋭意研究の結果、特定のブロックポリイソシアネート化合物、及びブロックポリイソシアネートの反応触媒を用いることで上記課題が解決できることを見出し、本発明を完成させた。
　すなわち本発明は、導電性フィラー、エポキシ化合物、ブロック剤が活性メチレン化合物及び／又はピラゾール化合物であるブロックポリイソシアネート、ブロックポリイソシアネートの反応触媒及び有機溶剤を必須成分として含有する導電性インキ組成物を提供する。
　また、本発明は、上記の導電性インキ組成物を、非耐熱性基材上に塗布し加熱する導電性パターンの製造方法を提供する。
　更に、本発明は、上記の導電性インキ組成物の硬化皮膜が非耐熱性基材上に形成された導電性パターンを含む導電性回路を提供する。
　本発明の導電性インキ組成物は、ブロック剤が活性メチレン化合物又はピラゾール化合物の何れかであるブロックポリイソシアネート及びブロックイソシアネートの反応触媒を含有することにより、より低温、より短時間での焼成が可能となった。これによりＰＥＴフィルム等の非耐熱性基材を用いた場合であっても、フィルムの変形を引き起こすことなく、高精細且つ高導電性の導電パターンが高い生産性で製造することができ、高精細な導電性パターンが形成可能となった。
（導電性フィラー）
　本発明で使用する導電性フィラーとしては、公知の物が使用できる。例えば、ニッケル、銅、金、銀、アルミニウム、亜鉛、ニッケル、スズ、鉛、クロム、プラチナ、パラジウム、タングステン、モリブデン等、およびこれら２種以上の合金、混合体、あるいはこれら金属の化合物で良好な導電性を有するもの等が挙げられる。特に、銀粉は、安定した導電性を実現し易く、また熱伝導特性も良好なため好ましい。
（銀粉）
　本発明の導電性フィラーとして銀粉を用いる場合、平均粒径としてメジアン粒径（Ｄ５０）が０．１～１０μｍである球状銀粉末を用いることが好ましく、０．1～３μｍであることがより好ましい。この範囲であると、導電性インキ組成物の流動性を更に良好とすることができ、フレキソ印刷、スクリーン印刷、グラビア印刷、又はグラビアオフセット印刷といった特定印刷方法において、これら印刷機上での連続的に印刷した場合においても、トラブルが起こり難く安定的に良好な導電性パターン印刷物を得やすくなる。
　このような銀粉としては、例えば、ＡＧ２－１Ｃ（ＤＯＷＡエレクトロニクス（株）製、平均粒径Ｄ５０：０．８μｍ）、ＳＰＱ０３Ｓ（三井金属鉱山（株）製、平均粒径Ｄ５０：０．５μｍ）、ＥＨＤ（三井金属鉱山（株）製、平均粒径Ｄ５０：０．５μｍ）、シルベストＣ－３４（（株）徳力化学研究所製、平均粒径Ｄ５０：０．３５μｍ）、ＡＧ２－１（ＤＯＷＡエレクトロニクス（株）製、平均粒径Ｄ５０：１．３μｍ）、シルベストＡｇＳ－０５０（（株）徳力化学研究所製、平均粒径Ｄ５０：１．４μｍ）などが挙げられる。
（エポキシ化合物）
　本発明ではエポキシ化合物を使用する。使用するエポキシ樹脂としては、特に限定されるものではないが脂肪族のエポキシ化合物を使用することが好ましい。具体的には、ポリエチレングリコール、ポリプロピレングリコール、ヘキサンジオール、トリメチロールプロパン、グリセリン、ペンタエリスリトール、ソルビトール等のグリシジルエーテル化物等のエポキシ化物や、脂環式エポキシ化合物を使用することが好ましい。中でも、ポリエチレングリコール、ポリプロピレングリコール、トリメチロールプロパン等のグリシジルエーテル化物がより好ましい。
　脂肪族のエポキシ化合物は室温で液状または半固形であるため、導電性インキ組成物の流動性を良好とすることができ、フレキソ印刷、スクリーン印刷、グラビア印刷、又はグラビアオフセット印刷といった特定印刷方法において、これら印刷機上での連続的に印刷した場合においても、トラブルが起こり難く安定的に良好な導電性パターン印刷物を得やすくなる。芳香族のエポキシ化合物でも液状又は半固形のものは一部あるが、安全上の理由から使用は好ましくない。
　また該エポキシ化合物をブロックポリイソシアネートと併用することで、導電性に優れ、且つより強靱で耐溶剤性に優れた塗膜を得ることができる。
（その他の樹脂）
　本発明では本発明の効果を損なわない範囲でその他の公知の皮膜形成性の熱可塑性樹脂を用いることができる。本発明で用いることができるその他の樹脂としては、例えば、ポリエステル樹脂、塩化ビニル樹脂、アセタール樹脂、アクリル樹脂、ポリエステル樹脂、ポリウレタン樹脂等などが挙げられる。これらは単独で用いても良いし、二種以上を併用しても良い。又は、これらの樹脂系を基本とする共重合物として使用しても良い。
(ブロックポリイソシアネート)
　本発明に用いる、ブロック剤が熱解離して遊離イソシアネート基を発生するブロックポリイソシアネート化合物は、ブロック剤とポリイソシアネート化合物とから構成されたものであり、ブロック剤が活性メチレン化合物又はピラゾール化合物の何れかであるブロックポリイソシアネートを使用する。このような化合物であれば特に限定なく使用することができるが、特に、プラスチックフィルムとして、ＰＥＴフィルムを基材に用いる場合には、イソシアネート基が生成する際の温度が７０～１２５℃となる様なブロック剤を用いたブロックポリイソシアネート化合物を導電性インキ組成物に含有させるようにすれば、ＰＥＴフィルムに反り等を発生させることなく、その上に導電性パターンを形成させることができる。
　本発明で使用するブロックポリイソシアネートについて、更に詳細に説明する。ブロックポリイソシアネート化合物の種類としては特に限定されないが、芳香族、脂肪族、脂環族ジイソシアネート、ジイソシアネートの変性による２または３量体、末端イソシアネート基含有化合物などである。単独で使用しても併用しても良い。芳香族ジイソシアネートとしては、例えば、２，４－トルエンジイソシアネート、２，６－トリエンジイソシアネート、ジフェニルメタン－４，４’－ジイソシアネート、ジフェニルメタン－２，４’－ジイソシアネート、ジアニシジンジイソシアネートなどが挙げられる。脂肪族ジイソシアネートとしては、例えば、１，４－テトラメチレンジイソシアネート、１，５－ペンタメチレンジイソシアネート、１，６－ヘキサメチレンジイソシアネート（以下ＨＭＤＩ）、２，２，４－トリメチル－１，６－ヘキサメチレンジイソシアネートなどが挙げられる。
脂環族ジイソシアネートとしては、例えば、リジンジイソシアネート、イソホロンジイソシアネート（以下ＩＰＤＩ）、１，３－ビス（イソシアネートメチル）－シクロヘキサン、４，４’－ジシクロヘキシルメタンジイソシアネートなどが挙げられ、さらにこれらジイソシアネートの変性による２または３量体が挙げられる。変性の方法としてはビューレット化、イソシアヌレート化等が挙げられる。あるいは前述のジまたはポリイソシアネート化合物と例えばエチレングリコール、プロピレングリコール、トリメチロールプロパン、エタノールアミン、ポリエステルポリオール、ポリエーテルポリオール、ポリアミド等の活性水素化合物を反応させて得られる末端イソシアネート基含有化合物などが挙げられる。
　一方、ブロック剤としては、活性メチレン化合物又はピラゾール化合物の何れかであるが、具体的には、活性メチレン化合物としては、メルドラム酸、マロン酸ジアルキル、アセト酢酸アルキル、２－アセトアセトキシエチルメタクリレート、アセチルアセトン、シアノ酢酸エチル等が挙げられ、ピラゾール化合物としては、ピラゾール、３，５－ジメチルピラゾール、３－メチルピラゾール、４－ベンジル－３，５－ジメチルピラゾール、４－ニトロ－３，５－ジメチルピラゾール、４－ブロモ－３，５－ジメチルピラゾール、３－メチル－５－フェニルピラゾール等が挙げられる。中でもマロン酸ジエチル、３，５－ジメチルピラゾール等が好ましい。市販品としては、活性メチレン化合物ではデュラネートＭＦ－Ｋ６０Ｂ（旭化成ケミカルズ社製）、デスモジュールＢＬ－３４７５（住化バイエルウレタン社製）、ピラゾール化合物ではＴＲＩＸＥＮＥ　ＢＩ－７９８２（バクセンデン社製）、活性メチレンとピラゾール化合物の混合タイプではＴＲＩＸＥＮＥ　ＢＩ－７９９２（バクセンデン社製）が挙げられる。
　本発明の導電性インキ組成物の調製に当たって、ブロックポリイソシアネート化合物は、質量換算で、エポキシ化合物の不揮発分１００部当たり５０～５００部を用いるようにすることが、最終的に得られる導電性、強靭性、耐溶剤性などの導電性パターンの性能を高められる点から好ましい。
　このような、ブロック剤が熱解離して遊離イソシアネート基を発生するブロックポリイソシアネート化合物は、遊離イソシアネート基を有するポリイソシアネート化合物に対して、赤外線吸収スペクトルを監視しながら、イソシアナート基に基づく固有吸収スペクトルが消失するまで、ブロック剤を反応させていくことで、容易に得ることができる。
（ブロックポリイソシアネートの反応触媒）
　本発明で使用するブロックポリイソシアネートの反応触媒は、特に限定されるものではないが、ブロックイソシアネートの反応触媒が、有機アンモニウム塩又は有機アミジン塩であることが好ましい。具体的には、有機アンモニウム塩ではテトラアルキルアンモニウムハロゲン化物、テトラアルキルアンモニウム水酸化物、テトラアルキルアンモニウム有機酸塩、等、有機アミジン塩では１，８－ジアザビシクロ［５．４．０］ウンデセン－７（以下ＤＢＵ）、１，５－ジアザビシクロ［４．３．０］ノネン－５（以下ＤＢＮ）のフェノール塩、オクチル酸塩、オレイン酸塩、ｐ－トルエンスルホン酸塩、ギ酸塩を使用することができる。中でも、ＤＢＵ－オクチル酸塩、ＤＢＮ－オクチル酸塩等を使用することが好ましい。市販品としては、有機アンモニウム塩ではＴＯＹＯＣＡＴ－ＴＲ２０（東ソー社製）、有機アミジン塩ではＵ－ＣＡＴ　ＳＡ１、Ｕ－ＣＡＴ　ＳＡ１０２、Ｕ－ＣＡＴ　ＳＡ１０６、Ｕ－ＣＡＴ　ＳＡ５０６、Ｕ－ＣＡＴ　ＳＡ６０３、Ｕ－ＣＡＴ　ＳＡ１１０２（サンアプロ社製）が挙げられる。
（有機溶剤）
　本発明で使用可能な熱硬化性樹脂や熱可塑性樹脂としては、そのほとんどが、それ自体２５℃において固体であるため、通常は、液媒体に溶解等した上で、基材上に細線パターンを塗布したり印刷したりすることが必要となる。そのため、同樹脂の選択に当たっては、液媒体への溶解性を考慮することが必要である。
　このような観点から、本発明の導電性インキ組成物では、前記樹脂を溶解し、しかも樹脂との反応性を有さない２５℃において液体の有機化合物を使用する。
　このような有機化合物はいわゆる有機溶剤であり、その種類に制限はなく、エステル系、ケトン系、塩素系、アルコール系、エーテル系、炭化水素系、エーテルエステル系などが挙げられる。具体的には、例えば、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン、ｎ－ブタノール、ｉｓｏ－ブタノール、イソホロン、γ－ブチロラクトン、ＤＢＥ（インビスタジャパン製）、Ｎ－メチル－２－ピロリドン、エチルカルビトールアセテート、ブチルセロソルブアセテート、プロピレングリコールモノアルキルエーテルアセテートなどを挙げることができる。これらは、一種を単独で用いても、二種以上を併用しても良い。中でも、後記する印刷方法の種類にかかわらず、導電性パターンを容易に得るためには、この有機溶剤としては、沸点１００～２５０℃のものを用いることが、乾燥速度の点で好ましい。
　後記するように、グラビア印刷法またはグラビアオフセット印刷法を採用する場合には、このような有機溶剤が、シリコーンブランケット膨潤率が５～２０％であることが好ましく、特に好ましくは、ジエチレングリコールモノブチルエーテルアセテートやジエチレングリコールモノエチルエーテルアセテート等のエーテルエステル系有機溶剤である。
　本発明の導電性インキ組成物は、導電性フィラー、エポキシ化合物、ブロック剤が活性メチレン化合物又はピラゾール化合物の何れかであるブロックポリイソシアネート、ブロックポリイソシアネートの反応触媒及び有機溶剤を混合することで調製することができる。導電性インキ組成物の調製に当たっては、質量換算で、銀粉１００部当たり、エポキシ樹脂は不揮発分として０．１～１０部、有機溶剤は５～３０部を用いるようにすることが、最終的に得られる導電性パターンの性能を高められる点及び導電性パターン形成条件を緩和できる点から好ましい。
　銀粉　導電性フィラーの導電性インキ組成物中の含有率は、６０～９５質量％が好ましく、７０～９０質量％であればさらに好ましい。この範囲であると、皮膜中のフィラーの密度が十分であり良好な導電性を得ることができ、流動性のある、ペースト状に調製することが容易となる。
　エポキシ樹脂の導電性インキ組成物中の含有率は、０．１～１０質量％が好ましく、1～５質量％であればさらに好ましい。この範囲が、最終的に得られる導電性、基材への密着性、耐溶剤性などの導電性パターンの性能を高められる点から好ましい。
　ブロックイソシアネートの導電性インキ組成物中の含有量は、不揮発分として０．５～１５重量％が好ましく、２～１０重量％であればさらに好ましい。この範囲が、最終的に得られる導電性、基材への密着性、耐溶剤性などの導電性パターンの性能を高められる点から好ましい。
　ブロックポリイソシアネートの反応触媒の導電性インキ組成物中の含有量は、０．０５～３重量％が好ましく、０．１～１重量％であればさらに好ましい。この範囲が、最終的に得られる導電性、耐溶剤性などの導電性パターンの性能を高められる点から好ましい。
　有機溶媒の導電性インキ組成物中の含有率は、５～３０質量％が好ましく、７～１５質量％であればさらに好ましい。この範囲であると、ペースト粘度がより適正になり、特に、グラビア印刷又はグラビアオフセット印刷において、画線のコーナー部分やマトリックスの交差点にピンホール欠陥を起こすことなく、より高精細な導電性パターンを形成することができる。
　本発明の導電性インキ組成物には、上述の成分以外にも、必要に応じて、分散剤、消泡剤、剥離剤、レベリング剤、可塑剤などの各種添加剤を適宜適量配合することができる。
　本発明の導電性インキ組成物は、任意の方法で、例えば、プラスチックフィルム、セラミックフィルム、シリコンウエハ、ガラス又は金属プレートの何れかの基材上に、塗布または印刷することで導電性パターンを形成することができる。
　本発明の導電性インキ組成物は、任意の基材に、例えば、フレキソ印刷、スクリーン印刷、グラビア印刷、又はグラビアオフセット印刷の印刷方法にて印刷することで、導電性パターンを形成することができる。
　本発明の導電性インキ組成物からの導電性パターンの形成方法としては、本発明の導電性インキ組成物を、非耐熱性基材上に塗布し加熱する方法があげられる。より好ましくは、導電性インキ組成物を凹版に充填し、充填された該インキ組成物をブランケットロールへ転写した後、ブランケットロールから非導電性支持体等へ該インキ組成物を転写塗布することにより、非耐熱性基材等の表面に所望のパターンを印刷する、所謂グラビアオフセット印刷を行い、次いで加熱することにより導電性パターンを形成する方法である。
　この際の凹版印刷版としては、通常のグラビア版、ガラス板上の感光性樹脂を露光、現像、洗浄により形成した凹版、ガラス板、金属板、金属ロールをケミカルエッチングおよびレーザーエッチングにより形成した凹版が使用できる。
　また、シリコーンブランケットとしては、シリコーンゴム層、ＰＥＴ層、スポンジ層の様な層構造を有するシートである。通常、ブランケット胴と称される剛性のある円筒に巻きつけた状態で使用できる。
　本発明の導電性インキ組成物からの導電性パターン形成方法において、上記グラビアオフセット印刷方法を採用した場合、シリコーンブランケットには、凹版からの転写性、及び、基材への転写性が求められる。基材への十分な転写性を得るためには、ブランケット表面で、導電性インキ組成物中の液体成分を一定割合で吸収することが必要である。吸収が不十分であると基材への転写時に導電性インキ組成物層が層間剥離を起こし易く、逆に、一定割合を超えて吸収するとブランケット表面で導電性インキ組成物が乾燥し、基材への転写不良を起こし易いという問題があった。
　導電性インキ組成物の２５℃に於ける粘度を１～５０Ｐａ・ｓとすることで、グラビアオフセット印刷法を採用して連続的に導電性パターンの印刷を行う場合においては、画線のコーナー部分やマトリックスの交差点にピンホール欠陥を起こし易く、良好な導電性細線パターンを形成することができ、かつ、凹版へのインキング性、凹版からブランケットへの転移性の問題も生じ難くなる。
　本発明の導電性インキ組成物から形成させる導電性パターンは、ベタのような太い線幅の画線であっても良いが、本発明の導電性インキ組成物を用いた場合の特徴は、上記した様な従来よりも細い線幅画線を基材上に設ける際に、特に顕著に発揮される。
　また、本発明の導電性インキ組成物からの導電性パターンは、従来より低温かつ短時間で形成できることから、本発明の導電性インキ組成物の特徴は、セラミックフィルム、ガラス又は金属プレートの様な耐熱性の高い基材よりも、耐熱性がより低く熱変形しやすい、ＰＥＴのような汎用プラスチックフィルム上に導電性パターンを形成する際に、特に顕著に発揮される。したがって、本発明の導電性インキ組成物は、その硬化皮膜が非耐熱性基材上に形成された導電性パターンは、非耐熱性基材上に形成された導電性回路として好適に用いることとができる。
　こうして本発明の導電性インキ組成物を用いて、各種基材上に各種印刷方法にて印刷することで導電性パターンが設けられた基材は、導電性回路として、必要に応じて配線等を行うことで、各種の電気部品、電子部品とすることができる。具体的に本発明の導電性インキ組成物は、透明ＩＴＯ電極の様な透明導電フィルムへの密着性に優れている。
　最終製品としては、例えばタッチパネルの取り出し電極やディスプレイの取り出し電極、電子ペーパー、太陽電池、その他の配線品等が挙げられる。
　以下、実施例をもって本発明を具体的に説明する。ここで「％」は、特に断らない限り「質量％」である。
　各原料を表１に記載の質量部数となるように用いて、これら原料を充分に混合して、実施例である本発明の各導電性インキ組成物及び比較例である従来の各導電性インキ組成物を調製した。
　これらの各導電性インキ組成物について、以下の測定項目にて、導電性インキ組成物自体の特性及びそれから得られる導電性パターンの特性を評価した。その評価結果も以下の表１、表２にまとめて示した。
（体積抵抗率）
　アプリケーターを用いて透明導電フィルム上（ＩＴＯ膜面）に導電性インキ組成物を乾燥後の膜厚が４μｍになるように塗布し１２５℃で１０分乾燥させた。該インキ塗膜を用いて、ロレスタＧＰ　ＭＣＰ－Ｔ６１０（三菱化学社製）で四端子法にて測定した。
（基材密着性）
　前記の体積抵抗率の評価と同様にして作製したインキ塗膜を用いて、ＩＳＯ２４０９（Paints and varnishes－Cross-cut test）の手順で試験を実施し、以下の基準に従って評価をした。
　カッターナイフでインキ塗膜を貫通するように、インキ面に対して直交する縦横１１本の線を１ｍｍ間隔で引いて、切り込まれた１００個のマス目を覆う様にセロテープ（登録商標）を貼り、テープの端をつかみ０．５～１秒で引き剥がした。クロスカット部分のインキ塗膜を観察して、表面状態に応じて以下の分類０～５に分類し、分類０または分類１を合格とした。
分類０：カットの縁が完全に滑らかで、どの格子の目にもはがれがない。
分類１：クロスカット部で影響を受けるのは、５％を上回ることはない。
分類２：クロスカット部で影響を受けるのは、５％を超えるが１５％を上回ることはない。
分類３：クロスカット部で影響を受けるのは、１５％を超えるが３５％を上回ることはない。
分類４：クロスカット部で影響を受けるのは、３５％を超えるが６５％を上回ることはない。
分類５：分類４でも分類できないはがれ程度のいずれか。
（印刷適性）
　本発明の導電性インキ組成物を用いて、下記の方法によりグラビアオフセット印刷を行い、導電回路を作成した。
　ガラス製の凹版に導電性インキ組成物をドクターブレードによりインキングした後に、ブランケットを巻きつけたシリンダーに押圧、接触させ、所望のパターンをブランケット上に転移させた。その後、該ブランケット上の塗膜を基材である透明導電フィルムに押圧、転写させて線幅４０μｍ～１００μｍの導電回路を作成した。前記した導電回路のうち、線幅４０μｍラインを顕微観察し、細線再現性を以下の基準に従って評価をした。
　◎：　線の直線性に特に優れ、断線箇所なし
　○：　線の直線性に優れ、断線箇所なし
　×：　線の直線性に劣り、断線箇所あり
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000001
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000002
・銀粉
　ＡＧ－２－１Ｃ（ＤＯＷＡエレクトロニクス（株）製、平均粒径Ｄ５０：０．８μｍ）・エスレック　ＫＳ－１０：　分子量１７，０００、ガラス転移点温度（Ｔｇ）１０６℃のアセタール樹脂（積水化学工業社製）
・ソルバイン　ＡＬ：　数平均分子量２２，０００、ガラス転移点温度（Ｔｇ）７６℃で、塩化ビニル／酢酸ビニル／ビニルアルコールの共重合質量比が９３／２／５の塩化ビニル－酢酸ビニル共重合体（日信化学工業社製）
・ＴＲＩＸＥＮＥ　ＢＩ　７９８２：　ブロック剤が３，５－ジメチルピラゾールのブロックイソシアネート（バクセンデン社製）
・ＴＲＩＸＥＮＥ　ＢＩ　７９９２：　ブロック剤が３，５－ジメチルピラゾール及びマロン酸ジエチルのブロックイソシアネート（バクセンデン社製）
・コロネート　２５０７：　ブロック剤がＭＥＫオキシムタイプのブロックイソシアネート（日本ポリウレタン工業社製）
・デナコ－ル　ＥＸ－３２１：　トリメチロールプロパンポリグリシジルエーテル（ナガセケムテックス社製）
・デナコ－ル　ＥＸ－８３０：　ポリエチレングリコールジグリシジルエーテルナガセケムテックス社製）
・トーホーポリエチレングリコール４００：　ポリエチレングリコール（東邦化学工業社製）
・Ｕ－ＣＡＴ　ＳＡ　１０２：　ＤＢＵ－オクチル酸塩（サンアプロ社製）
・Ｕ－ＣＡＴ　ＳＡ　６０３：　ＤＢＵ－ギ酸塩（サンアプロ社製）
・キュアゾール　２Ｅ４ＭＺ：　２－エチル－４－メチルイミダゾール（四国化成社製）・ＢＤＧＡｃ：　ジエチレングリコールモノブチルエーテルアセテート
　表１，２の評価結果からわかる通り、エポキシ化合物を含有する実施例１～６の導電性インキ組成物は、体積抵抗率、基材密着性、印刷適性をいずれも満足できる水準であるのに対して、エポキシ化合物を含有しない比較例１の導電性インキ組成物は全ての項目で不満足の水準にあることが明白である。また、ブロックイソシアネートのブロック剤が低温解離性の活性メチレン化合物及び又はピラゾール化合物でない比較例２の導電性インキ組成物は、体積抵抗率、基剤密着性が不満足の水準にあることが明白である。さらに、ブロックイソシアネートの反応触媒を含まない比較例３の導電性インキ組成物においても、体積抵抗率、基剤密着性が不満足の水準にあることが明白である。
　本発明の導電性インキ組成物は、各種の電気部品・電子部品の導電性パターン形成用の導電性銀ペーストとして利用することができる。

Claims (7)

  1. 導電性フィラー、エポキシ化合物、ブロック剤が活性メチレン化合物及び／又はピラゾール化合物であるブロックポリイソシアネート、ブロックポリイソシアネートの反応触媒及び有機溶剤を必須成分として含有する導電性インキ組成物。
  2. ブロックイソシアネートの反応触媒が、有機アンモニウム塩又は有機アミジン塩である請求項１記載の導電性インキ組成物。
  3. 該導電性フィラーが、平均粒子径０．１～１０μｍの球状銀粉である請求項１記載の導電性インキ組成物。
  4. 該エポキシ化合物が、脂肪族のエポキシ化合物である請求項１記載の導電性インキ組成物。
  5. 該エポキシ化合物以外に、更に皮膜形成性の熱可塑性樹脂を含有する請求項１記載の導電性インキ組成物。
  6. 請求項１記載の導電性インキ組成物を、非耐熱性基材上に塗布し加熱する導電性パターンの製造方法。
  7. 請求項１記載の導電性インキ組成物の硬化皮膜が非耐熱性基材上に形成された導電性パターンを含む導電性回路。
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